JPH10340594A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JPH10340594A
JPH10340594A JP15206197A JP15206197A JPH10340594A JP H10340594 A JPH10340594 A JP H10340594A JP 15206197 A JP15206197 A JP 15206197A JP 15206197 A JP15206197 A JP 15206197A JP H10340594 A JPH10340594 A JP H10340594A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
column
bit
line
semiconductor memory
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP15206197A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hironori Goko
博紀 郷古
Yoshio Sakata
義男 阪田
Hideki Kamoi
秀樹 鴨井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP15206197A priority Critical patent/JPH10340594A/en
Publication of JPH10340594A publication Critical patent/JPH10340594A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a high speed operation by confining the operation one cycle time only within a precharge on the data line of small load and a read-out outputted on the bit line by means of a precharge circuit onto each of the bit lines and selecting column switches, here provided that the bit lines of two pieces each are prepared on every row and are connected with the memory cells in the columnar direction to each other. SOLUTION: The first bit lines Bαi are connected with the memory cells of odd numbered columns A11-Amn, and the second bit lines Bβi are connected with the memory cells of even numbered columns A12 to Amn-1. The first precharge circuit 26 precharges onto the first bit lines Bdi, and the second precharge circuit 27 precharges onto the second bit lines, and the column switch 24 selects the first/second bit lines. Making use of the characteristics of sequential access, while the data of j-1 column is being read out in the row direction, the other bit lines are precharged beforehand to output the data of each of the rows of the j column.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ROM等の半導体
記憶装置に係り、詳細には、メモリの動作を制御するこ
とにより低消費電力化を図った半導体記憶装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device such as a ROM, and more particularly, to a semiconductor memory device in which power consumption is reduced by controlling the operation of a memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、情報処理装置等の膨大なデータ
量を扱うデータ処理システムでは、膨大なデータを記憶
するために大容量かつ低コストな半導体メモリが用いら
れる。
2. Description of the Related Art In general, in a data processing system such as an information processing apparatus which handles a huge amount of data, a large-capacity and low-cost semiconductor memory is used to store a huge amount of data.

【0003】ROM(read only memory)は、読み出し
専用の半導体メモリであり、マイクロプログラムや定数
など内容が変化しない固定情報を記憶するのに使用され
る。ROMには、あらかじめ情報を製造工程で書き込ん
でしまうマスクROMと、ユーザが情報を自由に書き込
むことができるPROM(programmabl ROM)がある。
A ROM (read only memory) is a read-only semiconductor memory, and is used to store fixed information such as microprograms and constants whose contents do not change. The ROM includes a mask ROM in which information is previously written in a manufacturing process and a PROM (programmable ROM) in which a user can freely write information.

【0004】図11は従来のROMにおける半導体記憶
装置の基本構成を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a basic configuration of a semiconductor memory device in a conventional ROM.

【0005】図11において、半導体記憶装置10は、
ROMセルA11〜Amn(m,nはともに正の整数)から
なるメモリセルアレー11、アドレス生成回路12、ワ
ード線アドレスデコーダ13、ビット線アドレスデコー
ダ14、カラムスイッチ15、ビット線プリチャージ回
路16、データ線プリチャージ回路17、及びセンスア
ンプ18を含んで構成される。
In FIG. 11, a semiconductor memory device 10 comprises:
A memory cell array 11 composed of ROM cells A11 to Amn (m and n are both positive integers), an address generation circuit 12, a word line address decoder 13, a bit line address decoder 14, a column switch 15, a bit line precharge circuit 16, It includes a data line precharge circuit 17 and a sense amplifier 18.

【0006】また、19はデータ線、B1〜Bmはビット
線、W1〜Wnはワード線、BPはビット線プリチャージ
信号、DPはデータ線プリチャージ信号、C1〜Cmはカ
ラム選択信号である。
Reference numeral 19 is a data line, B1 to Bm are bit lines, W1 to Wn are word lines, BP is a bit line precharge signal, DP is a data line precharge signal, and C1 to Cm are column selection signals.

【0007】図12は上記半導体記憶装置10の一連の
動作を示すタイミングチャートである。
FIG. 12 is a timing chart showing a series of operations of the semiconductor memory device 10.

【0008】図12において、プリチャージ期間になる
と、ビット線プリチャージ信号BP及びデータ線プリチ
ャージ信号DPがON(ハイレベルの時)となり、ビッ
ト線B1〜Bm及びデータ線19がプリチャージされる。
In FIG. 12, in a precharge period, a bit line precharge signal BP and a data line precharge signal DP are turned ON (when high level), and the bit lines B1 to Bm and the data line 19 are precharged. .

【0009】次にリード期間になると、例えばアドレス
生成回路12によってアドレス(i,j)が選択された
場合、ワード線アドレスデコーダ13によってワード線
WjがONとなってカラムスイッチ15が開き、ROM
セルA11〜Amn(m,nはともに正の整数)のデータが
ビット線B1〜Bmに出力される。同時に、カラム選択信
号CiがONとなり、ROMセルAijのデータDijがデ
ータ線19、センスアンプ18を通して出力され、1サ
イクルが終了する構成である。
Next, in the read period, for example, when the address (i, j) is selected by the address generation circuit 12, the word line Wj is turned on by the word line address decoder 13 to open the column switch 15, and the ROM
Data of cells A11 to Amn (m and n are both positive integers) are output to bit lines B1 to Bm. At the same time, the column selection signal Ci is turned ON, the data Dij of the ROM cell Aij is output through the data line 19 and the sense amplifier 18, and one cycle is completed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の半導体記憶装置の構成の動作では、1サイク
ルごとにビット線のプリチャージ及びデータの読み出
し、すなわちビット線のディスチャージを行っているた
め、一般に、ビット線には多数のメモリセルが接続され
ているので、負荷が大きい。
However, in the operation of such a conventional semiconductor memory device, the precharging of the bit line and the reading of the data, that is, the discharging of the bit line are performed every cycle. Generally, since a large number of memory cells are connected to the bit line, the load is large.

【0011】したがって、ROMにおいて、ビット線の
プリチャージや、ビット線へのデータの読み出し(ディ
スチャージ)にかかる時間が、動作速度限界に大きく依
存するという問題点があった。
Therefore, in the ROM, there is a problem that the time required for precharging the bit line and reading (discharging) data to the bit line greatly depends on the operating speed limit.

【0012】本発明は、1サイクルの間に行う動作を負
荷の小さいデータ線のプリチャージとデータの読み出し
のみとして、大幅な高速動作が達成できる半導体記憶装
置を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of achieving a significantly high-speed operation by performing only one cycle of precharging of a data line with a small load and reading of data.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体記憶
装置は、列を選択するn本のワード線と、n本のワード
線の中の1本を選択するワード線デコーダと、行を選択
するm個のカラムスイッチと、選択された列の記憶素子
に書き込まれているデータを転送するm本のビット線
と、ワード線及びビット線に接続されたm×nの記憶素
子と、ビット線をプリチャージするビット線プリチャー
ジ回路とを備えた半導体記憶装置において、各行にビッ
ト線を少なくとも2本ずつ用意し、第1のビット線は奇
数列目の記憶素子に接続するとともに、第2のビット線
は偶数列目の記憶素子に接続し、第1のビット線をプリ
チャージする第1のビット線プリチャージ回路と、第2
のビット線をプリチャージする第2のビット線プリチャ
ージ回路と、第1のビット線及び第2のビット線それぞ
れを選択するカラムスイッチとを備えて構成する。
A semiconductor memory device according to the present invention has n word lines for selecting a column, a word line decoder for selecting one of the n word lines, and a row for selecting a row. M column switches, m bit lines for transferring data written to the storage elements in the selected column, m × n storage elements connected to the word lines and bit lines, and bit lines And at least two bit lines are prepared for each row, the first bit line is connected to the odd-numbered column storage element, and the second bit line is connected to the second column. The bit lines are connected to the storage elements in the even columns, and a first bit line precharge circuit for precharging the first bit lines and a second bit line precharge circuit are provided.
, A second bit line precharge circuit for precharging the bit line and a column switch for selecting each of the first bit line and the second bit line.

【0014】本発明に係る半導体記憶装置は、行方向に
シーケンシャルにアドレス選択する場合、第1のビット
線を用いて、ワード線により選択された列の記憶素子の
データを順次外部に出力する第1の処理と、第1の処理
の間に、第2のビット線プリチャージ回路を用い、第2
のビット線をプリチャージした後、次の列のワード線に
より選択された記憶素子のデータを第2のビット線に読
み出しておく第2の処理とを備え、第1の処理と第2の
処理とを繰り返し動作させるようにしてもよい。
In the semiconductor memory device according to the present invention, when addresses are sequentially selected in the row direction, the first bit lines are used to sequentially output the data of the storage elements in the columns selected by the word lines to the outside. 1 between the first process and the first process, the second bit line precharge circuit is used.
And a second process of reading out data of the storage element selected by the word line of the next column to a second bit line after precharging the bit line of the next column. May be repeatedly operated.

【0015】本発明に係る半導体記憶装置は、列方向に
シーケンシャルにアドレス選択する場合、ワード線及び
カラムスイッチにより選択された第1のビット線に接続
されている記憶素子のデータを外部に出力する第1の処
理と、第1の処理の間に、第2のビット線プリチャージ
回路を用い、第2のビット線をプリチャージしておく第
2の処理とを備え、第1の処理と第2の処理とを繰り返
し動作させるようにしてもよい。
In the semiconductor memory device according to the present invention, when addresses are sequentially selected in the column direction, the data of the storage element connected to the word line and the first bit line selected by the column switch are output to the outside. A first process and a second process for precharging a second bit line using a second bit line precharge circuit between the first process and the first process are provided. The processing of step 2 may be repeatedly performed.

【0016】本発明に係る半導体記憶装置は、第1のビ
ット線の奇数行目をプリチャージする第1のビット線プ
リチャージ回路と、第1のビット線の偶数行目をプリチ
ャージする第2のビット線プリチャージ回路と、第2の
ビット線の奇数行目をプリチャージする第3のビット線
プリチャージ回路と、第2のビット線の偶数行目をプリ
チャージする第4のビット線プリチャージ回路とを備
え、列方向にシーケンシャルにアドレス選択する場合、
隣接する第1のビット線及び第2のビット線を、異なる
ビット線プリチャージ回路を用いてプリチャージして、
列の最後にアドレス選択された記憶素子に接続されるビ
ット線と、次の列の最初にアドレス選択される記憶素子
に接続されるビット線が、同じ第1のビット線、又は第
2のビット線である場合においても動作可能にしたもの
であってもよい。
In the semiconductor memory device according to the present invention, a first bit line precharge circuit for precharging an odd-numbered row of a first bit line and a second bit line for precharging an even-numbered row of the first bit line are provided. Bit line precharge circuit, a third bit line precharge circuit for precharging odd-numbered rows of the second bit line, and a fourth bit line precharge circuit for precharging even-numbered rows of the second bit line When a charge circuit is provided and addresses are sequentially selected in the column direction,
Precharging adjacent first bit lines and second bit lines using different bit line precharge circuits,
The bit line connected to the last addressed storage element in the column and the bit line connected to the first addressed storage element in the next column are the same first bit line or second bit. Even if it is a line, it may be made operable.

【0017】本発明に係る半導体記憶装置は、各行の第
1のビット線、及び第2のビット線をプリチャージする
ためのビット線プリチャージ回路を、それぞれのビット
線ごとに別々に設け、列方向にシーケンシャルにアドレ
ス選択する場合、次に使用されるビット線のみをプリチ
ャージするようにしてもよい。
In the semiconductor memory device according to the present invention, a bit line precharge circuit for precharging a first bit line and a second bit line in each row is separately provided for each bit line, and a column is provided. When addresses are sequentially selected in the direction, only the bit line to be used next may be precharged.

【0018】また、本発明に係る半導体記憶装置は、列
を選択するn本のワード線と、n本のワード線の中の1
本を選択するワード線デコーダと、行を選択するm個の
カラムスイッチと、選択された列の記憶素子に書き込ま
れているデータを転送するm本のビット線と、ワード線
及びビット線に接続されたm×nの記憶素子と、ビット
線をプリチャージするビット線プリチャージ回路とを備
えた半導体記憶装置において、各列にワード線を少なく
とも2本ずつ用意し、第1のワード線は前半の行のビッ
ト線に接続されている記憶素子に接続するとともに、第
2のワード線は後半の行のビット線に接続されている記
憶素子に接続し、n本の第1のワード線の中の1本を選
択する第1のワード線デコーダと、n本の第2のワード
線の中の1本を選択する第2のワード線デコーダと、前
半の行のビット線をプリチャージする第1のビット線プ
リチャージ回路と、後半の行のビット線をプリチャージ
する第2のビット線プリチャージ回路とを備えて構成す
る。
In the semiconductor memory device according to the present invention, n word lines for selecting a column and one of n word lines are selected.
A word line decoder for selecting a book, m column switches for selecting a row, m bit lines for transferring data written in a storage element in a selected column, and connection to a word line and a bit line And a bit line precharge circuit for precharging the bit lines, at least two word lines are prepared for each column, and the first word line is provided in the first half. And the second word line is connected to the storage elements connected to the bit lines of the latter row, and the second word line is connected to the storage elements connected to the bit lines of the second row. , A second word line decoder for selecting one of the n second word lines, and a first word line for precharging the bit lines of the first half row. Bit line precharge circuit and The bit lines of the second half of the line constituting a second bit line precharge circuit for precharging.

【0019】本発明に係る半導体記憶装置は、行方向に
シーケンシャルにアドレス選択する場合、第1のワード
線により選択された列の前半の行の記憶素子のデータを
順次外部に出力する第1の処理と、第1の処理が行なわ
れている間に、第2のワード線に接続されている後半の
行のビット線をプリチャージした後、第1の処理でアド
レス選択されている列で、第2のワード線に接続されて
いる記憶素子のデータを、後半の行のビット線に出力し
ておく第2の処理と、第2の処理が終了した後、該第2
の処理でビット線に出力しておいたデータを順次外部に
出力する第3の処理と、第3の処理が行われている間
に、第1のワード線に接続されている前半の行のビット
線をプリチャージした後、第2の処理でアドレス選択さ
れている次の列で、第1のワード線に接続されている記
憶素子のデータを、前半の行のビット線に出力しておく
第4の処理とを備え、第1の処理乃至第4の処理を繰り
返し動作させるようにしてもよい。
In the semiconductor memory device according to the present invention, when addresses are sequentially selected in the row direction, a first memory cell sequentially outputs the data of the memory elements in the first half row of the column selected by the first word line to the outside. After the process and the first process are performed, the bit lines in the latter half row connected to the second word line are precharged, and then, in the column whose address is selected in the first process, After the second process for outputting data of the storage element connected to the second word line to the bit line in the latter half row and the second process, the second process is performed.
A third process of sequentially outputting the data output to the bit lines in the process of (1) to the outside, and, while the third process is being performed, of the first half of the row connected to the first word line. After precharging the bit line, the data of the storage element connected to the first word line is output to the bit line of the first half row in the next column whose address is selected in the second processing. A fourth process may be provided, and the first to fourth processes may be repeatedly performed.

【0020】本発明に係る半導体記憶装置は、各行にビ
ット線を2本ずつ用意し、第1のビット線は奇数列目の
記憶素子に接続するとともに、第2のビット線は偶数列
目の記憶素子に接続し、第1のビット線をプリチャージ
する第1のビット線プリチャージ回路と、第2のビット
線をプリチャージする第2のビット線プリチャージ回路
と、第1のビット線及び第2のビット線それぞれを選択
するカラムスイッチとを備え、アドレス選択され、記憶
素子のデータを読み出し、外部へ出力している間に、こ
のときアドレス選択されている記憶素子に接続されてい
ない全てのビット線をプリチャージする第1の処理と、
第1の処理が終了した後、該第1の処理でプリチャージ
されたビット線に接続される何れかの記憶素子をアドレ
ス選択し、選択された記憶素子のデータを読み出し、外
部へ出力する第2の処理とを備え、第1の処理と第2の
処理を繰り返し動作させるようにしてもよい。
In the semiconductor memory device according to the present invention, two bit lines are prepared for each row, the first bit line is connected to the odd-numbered column storage element, and the second bit line is connected to the even-numbered column. A first bit line precharge circuit connected to the storage element and precharging the first bit line; a second bit line precharge circuit for precharging the second bit line; And a column switch for selecting each of the second bit lines. While the address is selected and the data of the storage element is read and output to the outside, all the data not connected to the storage element selected at this time are output. A first process of precharging the bit lines of
After the first process is completed, an address of any of the storage elements connected to the bit line precharged in the first process is selected, and the data of the selected storage element is read and output to the outside. The second process may be performed, and the first process and the second process may be repeatedly performed.

【0021】本発明に係る半導体記憶装置は、記憶素子
が、ROMセルであってもよい。
In the semiconductor memory device according to the present invention, the storage element may be a ROM cell.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施形態に
係る半導体記憶装置の構成図である。図1に示す半導体
記憶装置は、メモリセルアレーとしてマスクROMに適
用した例である。本実施形態に係る半導体記憶装置の説
明にあたり図11に示す半導体記憶装置と同一構成部分
には同一符号を付している。
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. The semiconductor memory device shown in FIG. 1 is an example in which the present invention is applied to a mask ROM as a memory cell array. In the description of the semiconductor memory device according to the present embodiment, the same components as those of the semiconductor memory device shown in FIG. 11 are denoted by the same reference numerals.

【0023】図1において、半導体記憶装置20は、m
本の行とn(m,nは整数)本の列からなるm×nのR
OMセルA11〜Amnからなるメモリセルアレー21、ア
ドレス生成回路22、ワード線アドレスデコーダ13、
ビット線アドレスデコーダ23、カラムスイッチ24、
ビット線プリチャージ回路25、データ線プリチャージ
回路17、及びセンスアンプ18を含んで構成される。
In FIG. 1, the semiconductor memory device 20 has
M × n R consisting of n rows and n (m and n are integers) columns
A memory cell array 21 composed of OM cells A11 to Amn, an address generation circuit 22, a word line address decoder 13,
Bit line address decoder 23, column switch 24,
It includes a bit line precharge circuit 25, a data line precharge circuit 17, and a sense amplifier 18.

【0024】また、19はデータ線、Bαi(iは1〜
mの任意の整数)は各行に2本ずつ設けたビット線のう
ちの第1のビット線、Bβiは各行に2本ずつ設けたビ
ット線のうちの第2のビット線、W1〜Wnはワード線、
BPαは第1のビット線Bαiのビット線プリチャージ
信号、BPβは第2のビット線Bβiのビット線プリチ
ャージ信号、DPはデータ線プリチャージ信号、Cα1
〜Cαmは第1のビット線Bαiのカラム選択信号、C
β1〜Cβmは第2のビット線Bβiのカラム選択信号で
ある。
Reference numeral 19 denotes a data line, and Bαi (i is 1 to
m is an arbitrary integer), a first bit line of two bit lines provided in each row, Bβi is a second bit line of two bit lines provided in each row, and W1 to Wn are words. line,
BPα is a bit line precharge signal for the first bit line Bαi, BPβ is a bit line precharge signal for the second bit line Bβi, DP is a data line precharge signal, Cα1
To Cαm are column selection signals of the first bit line Bαi;
β1 to Cβm are column selection signals for the second bit line Bβi.

【0025】上記ビット線プリチャージ回路25は、図
1破線部に示すように、PMOSトランジスタからなり
第1のビット線Bαiをプリチャージする第1のビット
線プリチャージ回路26と、PMOSトランジスタから
なり第2のビット線Bβiをプリチャージする第2のビ
ット線プリチャージ回路27とから構成される。
The bit line precharge circuit 25 comprises a PMOS transistor and a first bit line precharge circuit 26 for precharging the first bit line Bαi, as shown by the broken line in FIG. 1, and a PMOS transistor. And a second bit line precharge circuit 27 for precharging the second bit line Bβi.

【0026】すなわち、半導体記憶装置20は、列(ワ
ード線)を選択するn本のワード線Wnと、n本のワー
ド線Wnの中の1本を選択するワード線アドレスデコー
ダ13と、ワード線Wn及びビット線Bαi,Bβiに
接続されたm×nのROMセルA11〜Amn(記憶素子)
からなるメモリセルアレー21と、選択された列の記憶
素子に書き込まれているデータを転送するm本のビット
線を、各行に2本ずつ用意し、第1のビット線Bαiは
奇数列目のROMセルAix(xは1〜nのうちの奇数)
で表現されるROMセルに接続し、第2のビット線Bβ
iは偶数列目のROMセルAiy(yは1〜nのうちの偶
数)で表現されるROMセルに接続し、第1のビット線
Bαiをプリチャージする第1のビット線プリチャージ
回路26と、第2のビット線Bβiをプリチャージする
第2のビット線プリチャージ回路27と、第1のビット
線Bαi及び第2のビット線Bβiそれぞれを選択する
カラムスイッチ24とを備えて構成される。
That is, the semiconductor memory device 20 includes n word lines Wn for selecting a column (word line), a word line address decoder 13 for selecting one of the n word lines Wn, and a word line Wn. M × n ROM cells A11 to Amn (storage elements) connected to Wn and bit lines Bαi, Bβi
, And m bit lines for transferring data written in the storage elements of the selected column are prepared two by two in each row, and the first bit line Bαi is provided in the odd column. ROM cell Aix (x is an odd number from 1 to n)
And the second bit line Bβ
i is a first bit line precharge circuit 26 connected to a ROM cell represented by ROM cells Aiy (y is an even number from 1 to n) in an even column to precharge the first bit line Bαi; , A second bit line precharge circuit 27 for precharging the second bit line Bβi, and a column switch 24 for selecting each of the first bit line Bαi and the second bit line Bβi.

【0027】このように、本実施形態に係るROΜは、
m本の行とn本の列からなるm×nのメモリセルA11〜
Amnを備え、メモリセルA11〜Amnの各行にビット線が
2本ずつ(Bαi,Bβi)存在し、これらは列方向の
セルに対して1つおきに接続されている。すなわち、B
αiは1,3,5,…列目のセルに、Bβiは2,4,
6,…列目のセルに接続されている。また、ビット線プ
リチャージ信号BPα,BPβ及びカラム選択信号Cα
1〜Cαm,Cβ1〜Cβmは、ビット線Bαi,Bβiそ
れぞれ別々に設けられている。
Thus, ROΜ according to the present embodiment is:
m × n memory cells A11 to M × n of m rows and n columns
And two bit lines (Bαi, Bβi) in each row of the memory cells A11 to Amn, which are connected to every other cell in the column direction. That is, B
.alpha.i is the cell in the first, third, fifth,.
6, ... are connected to cells in the column. The bit line precharge signals BPα and BPβ and the column selection signal Cα
1 to Cαm and Cβ1 to Cβm are separately provided for the bit lines Bαi and Bβi, respectively.

【0028】以下、上述のように構成された半導体記憶
装置20の動作を説明する。
The operation of the semiconductor memory device 20 configured as described above will be described below.

【0029】図2は上記半導体記憶装置20の動作を示
すタイミングチャートであり、図1に示すROMが、A
11,A21,…,Am1,A12,A22,…,Am2,…のよう
に行方向にシーケンシャルにアクセスされる場合の動作
を示すタイミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart showing the operation of the semiconductor memory device 20. The ROM shown in FIG.
11, A21,..., Am1, A12, A22,..., Am2,.

【0030】この場合、ワード線はその列のメモリセル
のアクセスが完了するまでm回連続してONとなる。し
たがって、各行にビット線を2本ずつ用意し、それぞれ
を列方向のセルに対して1つおきに接続することによっ
て、j−1列目のデータが読み出されている間にあらか
じめj列目のビット線をプリチャージし、1〜m行目全
てのビット線にメモリセルのデータを読み出しておくよ
うにする。
In this case, the word line is continuously turned on m times until the access to the memory cell in the column is completed. Therefore, by preparing two bit lines in each row and connecting them to every other cell in the column direction, the j-th column is read in advance while the data in the (j-1) -th column is being read. Are precharged, and data of the memory cell is read out to all bit lines in the first to m-th rows.

【0031】まず、j−1列目のデータ読み出し期間
(図2の120の期間)にビット線プリチャージ信号B
PβがON(ハイレベル)することによってビット線B
β1〜Bβmがプリチャージされる。
First, the bit line precharge signal B is set in the data read period (the period 120 in FIG. 2) of the j-1st column.
When Pβ is turned ON (high level), the bit line B
β1 to Bβm are precharged.

【0032】次に、ビット線プリチャージ信号BPβが
OFF(ローレベル)となった後、ワード線WjがON
となり、j列目の全ての行のデータがビット線Bβ1〜
Bβmに出力される。j−1列目のデータ読み出しが終
了し、j列目のデータ読み出し期間(図2の121の期
間)になると、データ線プリチャージ信号DPがONと
なって、データ線がプリチャージされた後、カラム選択
信号Cβ1がONとなってあらかじめビット線Bβ1に出
力されていたデータがデータ線19、センスアンプ18
を通して外部に出力される。
Next, after the bit line precharge signal BPβ is turned off (low level), the word line Wj is turned on.
And the data of all the rows in the j-th column are bit lines Bβ1 to
Output to Bβm. When the data reading of the (j-1) -th column is completed and the data reading period of the j-th column is reached (period 121 in FIG. 2), the data line precharge signal DP is turned on and the data line is precharged. , The column selection signal Cβ1 is turned on and the data previously output to the bit line Bβ1 is changed to the data line 19 and the sense amplifier 18.
Output to the outside through

【0033】以下、順番に行が選択されていき、データ
が読み出されていく。
Thereafter, rows are selected in order, and data is read out.

【0034】j列目のデータ読み出し期間には、次のj
+1列目のデータ読み出しに備え、ビット線プリチャー
ジ信号BPαがONとなってBα1〜Bαmのプリチャー
ジが行なわれた後、j+1列目のワード線Wj+1がON
となり、以下同様の動作を繰り返す。
During the data reading period of the j-th column, the next j
In preparation for the data reading of the (+1) th column, the bit line precharge signal BPα is turned on to precharge Bα1 to Bαm, and then the word line Wj + 1 of the (j + 1) th column is turned on.
And the same operation is repeated thereafter.

【0035】図3は上記半導体記憶装置20の動作を示
すタイミングチャートであり、図1に示すROMが、A
11,A12,…,A1n,A21,A22,…,A2m,…,Amn
のように列方向にシーケンシャルにアクセスされる場合
の動作を示すタイミングチャートである。
FIG. 3 is a timing chart showing the operation of the semiconductor memory device 20. The ROM shown in FIG.
11, A12, ..., A1n, A21, A22, ..., A2m, ..., Amn
7 is a timing chart showing the operation when the data is sequentially accessed in the column direction as shown in FIG.

【0036】例えば、Ai(j-1)のデータが読み出されて
いる間(図3の141参照)にビット線プリチャージ信
号BPβがONとなり、ビット線Bβ1〜Bβmがあらか
じめプリチャージされる。Ai(j-1)のデータの読み出し
が終了すると、BPβはOFFとなり、データ線プリチ
ャージ信号DPがONとなってデータ線19がプリチャ
ージされた後、ワード線Wj及びカラム選択信号Cβi
がONとなって、Aijのデータが読み出される。
For example, while the data of Ai (j-1) is being read (see 141 in FIG. 3), the bit line precharge signal BPβ is turned on, and the bit lines Bβ1 to Bβm are precharged in advance. When the reading of the data of Ai (j-1) is completed, BPβ is turned off, the data line precharge signal DP is turned on and the data line 19 is precharged, and then the word line Wj and the column selection signal Cβi
Is turned ON, and the data of Aij is read.

【0037】なお、Aijの読み出し期間には、次のAi
(j+1)の読み出しに備え、BPα及びDPがONとな
り、ビット線Bα1〜Bαmがプリチャージされる。
During the reading period of Aij, the next Ai
In preparation for reading (j + 1), BPα and DP are turned ON, and the bit lines Bα1 to Bαm are precharged.

【0038】以下、同様の動作を繰り返す。Hereinafter, the same operation is repeated.

【0039】以上説明したように、第1の実施形態に係
る半導体記憶装置20は、ワード線Wn及びビット線B
αi,Bβiに接続されたm×nのROMセルA11〜A
mnからなるメモリセルアレー21と、選択された列のR
OMセルA11〜Amnに書き込まれているデータを転送す
るm本のビット線を、各行に2本ずつ用意し、第1のビ
ット線Bαiは奇数列目のROMセルA11〜Amnに接続
し、第2のビット線Bβiは偶数列目のROMセルA12
〜Amn-1に接続し、第1のビット線Bαiをプリチャー
ジする第1のビット線プリチャージ回路26と、第2の
ビット線Bβiをプリチャージする第2のビット線プリ
チャージ回路27と、第1のビット線Bαi及び第2の
ビット線Bβiそれぞれを選択するカラムスイッチ24
とを備え、シーケンシャルアクセスの特徴を利用し、ビ
ット線を各行に対して2本ずつ用意し、それを列方向の
メモリセルに対して交互に接続することによって、図2
に示すように行方向にシーケンシャルにアクセスする場
合、j−1列目のデータが読み出されている間に、あら
かじめもう一方のビット線をプリチャージし、j列目の
各行のデータをビット線に出力するようにしているの
で、毎回必要であった負荷の大きいビット線のプリチャ
ージ及びデータの読み出し動作が不要となり、1サイク
ルの間に行う動作は、負荷の小さいデータ線のプリチャ
ージとビット線まで出力されていたデータの読み出しの
みとなり、大幅な高速動作が可能になる。
As described above, the semiconductor memory device 20 according to the first embodiment includes the word line Wn and the bit line B
m × n ROM cells A11-A connected to αi, Bβi
mn and a memory cell array 21 of
Two m-bit lines for transferring data written in the OM cells A11 to Amn are prepared in each row, and the first bit line Bαi is connected to the odd-numbered column ROM cells A11 to Amn. The second bit line Bβi is connected to the ROM cell A12 of the even column.
, And a first bit line precharge circuit 26 for precharging the first bit line Bαi, a second bit line precharge circuit 27 for precharging the second bit line Bβi, A column switch 24 for selecting each of the first bit line Bαi and the second bit line Bβi
By using the feature of sequential access, two bit lines are prepared for each row and alternately connected to the memory cells in the column direction.
In the case of sequential access in the row direction as shown in (1), while the data in the (j-1) -th column is being read, the other bit line is precharged in advance, and the data in each row in the j-th column is stored in the bit line. , So that the precharging of the bit line with a large load and the data reading operation, which were required each time, are not required, and the operation performed during one cycle is performed by precharging the bit line with a small load and bit Only the data that has been output up to the line is read out, and a significant high-speed operation becomes possible.

【0040】また、図3に示すように列方向にシーケン
シャルにアクセスされる場合、ビット線Bαiを用いて
Ai(j-1)のデータが読み出されている間に、あらかじめ
j列目に接続されているビット線Bβiをプリチャージ
しておくことによって、毎回必要であったビット線のプ
リチャージが不要となり、1サイクルの間に必要な動作
は、データ線のプリチャージとメモリセルからのデータ
の読み出しのみとなるので、大幅な高速動作が可能にな
る。
When the data is sequentially accessed in the column direction as shown in FIG. 3, while the data of Ai (j-1) is being read using the bit line Bαi, the connection to the j-th column is performed in advance. By precharging the stored bit line Bβi, the precharging of the bit line that was required every time becomes unnecessary, and the operation required during one cycle is performed by precharging the data line and data from the memory cell. , It is possible to perform a significantly high-speed operation.

【0041】したがって、高速なメモリアクセスができ
ることとなり、データ処理装置等高速性を要求される情
報処理装置に適用して好適である。
Therefore, high-speed memory access can be performed, which is suitable for application to an information processing device such as a data processing device which requires high speed.

【0042】図4は本発明の第2の実施形態に係る半導
体記憶装置の構成図である。本実施形態に係る半導体記
憶装置の説明にあたり図1に示す半導体記憶装置と同一
構成部分には同一符号を付している。
FIG. 4 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. In the description of the semiconductor memory device according to the present embodiment, the same components as those of the semiconductor memory device shown in FIG.

【0043】図4において、半導体記憶装置30は、m
本の行とn本の列からなるm×nのROMセルA11〜A
mnからなるメモリセルアレー21、アドレス生成回路3
1、ワード線アドレスデコーダ13、ビット線アドレス
デコーダ23、カラムスイッチ24、ビット線プリチャ
ージ回路32、データ線プリチャージ回路17、及びセ
ンスアンプ18を含んで構成される。
In FIG. 4, the semiconductor memory device 30 has
M × n ROM cells A11 to A, each having two rows and n columns
mn memory cell array 21 and address generation circuit 3
1, a word line address decoder 13, a bit line address decoder 23, a column switch 24, a bit line precharge circuit 32, a data line precharge circuit 17, and a sense amplifier 18.

【0044】また、19はデータ線、Bαiは各行に2
本ずつ設けたビット線のうちの第1のビット線、Bβi
は各行に2本ずつ設けたビット線のうちの第2のビット
線、W1〜Wnはワード線、BPαAは第1のビット線B
αiの奇数行目のビット線プリチャージ信号、BPαB
は第1のビット線Bαiの偶数行目のビット線プリチャ
ージ信号、BPβAは第2のビット線Bβiの奇数行目
のビット線プリチャージ信号、BPβBは第2のビット
線Bβiの偶数行目のビット線プリチャージ信号、DP
はデータ線プリチャージ信号、Cα1〜Cαmは第1のビ
ット線Bαiのカラム選択信号、Cβ1〜Cβmは第2の
ビット線Bβiのカラム選択信号である。
19 is a data line, and Bαi is 2 in each row.
A first bit line among the bit lines provided one by one, Bβi
Is a second bit line of two bit lines provided in each row, W1 to Wn are word lines, BPαA is a first bit line B
bit line precharge signal of the odd-numbered row of αi, BPαB
Is a bit line precharge signal of an even line of the first bit line Bαi, BPβA is a bit line precharge signal of an odd line of the second bit line Bβi, and BPβB is an even line of the second bit line Bβi. Bit line precharge signal, DP
Is a data line precharge signal, Cα1 to Cαm are column selection signals for the first bit line Bαi, and Cβ1 to Cβm are column selection signals for the second bit line Bβi.

【0045】上記ビット線プリチャージ回路32は、図
4破線部に示すように、第1のビット線Bαiの奇数行
目をプリチャージする第1のビット線プリチャージ回路
33と、第1のビット線Bαiの偶数行目をプリチャー
ジする第1のビット線プリチャージ回路34と、第2の
ビット線Bβiの奇数行目をプリチャージする第2のビ
ット線プリチャージ回路35と、第2のビット線Bβi
の偶数行目をプリチャージする第2のビット線プリチャ
ージ回路36とから構成される。
The bit line precharge circuit 32 includes a first bit line precharge circuit 33 for precharging an odd-numbered row of the first bit line Bαi, as shown by a broken line in FIG. A first bit line precharge circuit 34 for precharging an even-numbered row of the line Bαi, a second bit line precharge circuit 35 for precharging an odd-numbered row of the second bit line Bβi, and a second bit Line Bβi
And a second bit line precharge circuit 36 for precharging the even-numbered row of.

【0046】このように、本実施形態に係るROΜは、
m本の行とn本の列からなるm×nのメモリセルA11〜
Amnを備え、ビット線プリチャージ信号がα側、β側そ
れぞれ2本ずつ、計4本存在し、BPαAは1,3,
5,7,…行目のα側のビット線、例えばBα1,Bα3
を、BPαBは2,4,6,8,…行目のα側のビット
線、例えばBα2,Bα4をプリチャージする。同様に、
BPβAは1,3,5,7,…行目のβ側のビット線、
例えばBβ1,Bβ3を、BPβBは2,4,6,8,…
行目のβ側のビット線、例えばBβ2,Bβ4をプリチャ
ージする構成となっている。
Thus, ROΜ according to the present embodiment is:
m × n memory cells A11 to M × n of m rows and n columns
Amn, and there are a total of four bit line precharge signals, two on each of the α and β sides.
Bit lines on the α side of the rows 5, 7,..., For example, Bα1, Bα3
BPαB precharges the bit lines on the α side in rows 2, 4, 6, 8,..., For example, Bα2, Bα4. Similarly,
BPβA is a bit line on the β side in rows 1, 3, 5, 7,.
For example, Bβ1, Bβ3, BPβB are 2, 4, 6, 8, ...
The bit lines on the β side of the row, for example, Bβ2 and Bβ4 are precharged.

【0047】以下、上述のように構成された半導体記憶
装置30の動作を説明する。
Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device 30 configured as described above will be described.

【0048】図5は上記半導体記憶装置30の動作を示
すタイミングチャートであり、図4に示すROMが、A
11,A12,…,A1n,A21,A22,…,A2m,…,Amn
のように列方向にシーケンシャルにアクセスされる場合
の動作を示すタイミングチャートである。
FIG. 5 is a timing chart showing the operation of the semiconductor memory device 30. The ROM shown in FIG.
11, A12, ..., A1n, A21, A22, ..., A2m, ..., Amn
7 is a timing chart showing the operation when the data is sequentially accessed in the column direction as shown in FIG.

【0049】前記第1の実施形態に係る半導体記憶装置
20のプリチャージ動作は、α側のプリチャージ信号
(前記図2のBPα)がONになると、α側全てのビッ
ト線がプリチャージされ、またβ側のプリチャージ信号
(前記図2のBPβ)がONになると、β側全てのビッ
ト線がプリチャージされるのに対し、本実施形態では、
図4のBPαAがONになると、Bα1,Bα3,Bα5,
…が、BPαBがONになると、Bα2,Bα4,Bα6,
…がそれぞれプリチャージされる。また、BPβAがO
Nになると、Bβ1,Bβ3,Bβ5,…が、BPβBがO
Nになると、Bβ2,Bβ4,Bβ6,…が、それぞれプ
リチャージされる。その他の動作は前記第1の実施形態
と同様である。
In the precharge operation of the semiconductor memory device 20 according to the first embodiment, when the precharge signal on the α side (BPα in FIG. 2) is turned on, all the bit lines on the α side are precharged. When the precharge signal on the β side (BPβ in FIG. 2) is turned on, all bit lines on the β side are precharged.
When BPαA in FIG. 4 is turned on, Bα1, Bα3, Bα5,
…, When BPαB is turned on, Bα2, Bα4, Bα6,
Are precharged respectively. BPβA is O
When it becomes N, Bβ1, Bβ3, Bβ5,.
When N, Bβ2, Bβ4, Bβ6,... Are precharged, respectively. Other operations are the same as those in the first embodiment.

【0050】以上説明したように、第2の実施形態に係
る半導体記憶装置30は、ビット線プリチャージ回路3
2が、第1のビット線Bαiの奇数行目をプリチャージ
する第1のビット線プリチャージ回路33と、第1のビ
ット線Bαiの偶数行目をプリチャージする第1のビッ
ト線プリチャージ回路34と、第2のビット線Bβiの
奇数行目をプリチャージする第2のビット線プリチャー
ジ回路35と、第2のビット線Bβiの偶数行目をプリ
チャージする第2のビット線プリチャージ回路36とか
ら構成され、列方向にシーケンシャルにアドレス選択し
ていく場合、隣接する第1のビット線及び第2のビット
線を、異なるビット線プリチャージ回路を用いてプリチ
ャージするようにしているので、第1の実施形態の効果
に加え、隣接するビット線同士が必ず異なるプリチャー
ジ信号でプリチャージされるため、1列目とn列目が同
じ側のビット線に接続されている場合でも、動作可能と
なる。
As described above, the semiconductor memory device 30 according to the second embodiment includes the bit line precharge circuit 3
2, a first bit line precharge circuit 33 for precharging an odd-numbered row of the first bit line Bαi, and a first bit line precharge circuit for precharging an even-numbered row of the first bit line Bαi 34, a second bit line precharge circuit 35 for precharging odd-numbered rows of the second bit line Bβi, and a second bit line precharge circuit for precharging even-numbered rows of the second bit line Bβi 36, and when sequentially selecting addresses in the column direction, the adjacent first bit line and second bit line are precharged using different bit line precharge circuits. In addition to the effects of the first embodiment, adjacent bit lines are always precharged with different precharge signals, so that the first column and the nth column are in contact with the same side bit line. Even if they are, it becomes operable.

【0051】例えば、図4の場合、α側のビット線は1
列目とn列目が同じ側のビット線に接続されているが、
本実施形態ではビット線プリチャージ信号BPαAがO
Nとなるとα側の奇数のビット線がプリチャージされ、
その隣の偶数のビット線はα側であってもBPαBがO
Nになるまでプリチャージされない。したがって、この
ように列が同じ側のビット線に接続されている場合で
も、動作可能となる。
For example, in the case of FIG. 4, the bit line on the α side is 1
The column and the n-th column are connected to the same side bit line,
In this embodiment, the bit line precharge signal BPαA is O
When it becomes N, the odd-numbered bit lines on the α side are precharged,
Even if the even-numbered bit line next to it is on the α side, BPαB is O
It is not precharged until it reaches N. Therefore, even when the columns are connected to the bit lines on the same side, operation becomes possible.

【0052】図6は本発明の第3の実施形態に係る半導
体記憶装置の構成図である。本実施形態に係る半導体記
憶装置の説明にあたり図4に示す半導体記憶装置と同一
構成部分には同一符号を付している。
FIG. 6 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention. In the description of the semiconductor memory device according to the present embodiment, the same components as those of the semiconductor memory device shown in FIG.

【0053】図6において、半導体記憶装置40は、m
本の行とn本の列からなるm×nのROMセルA11〜A
mnアレーからなるメモリセルアレー21、アドレス生成
回路41、ワード線アドレスデコーダ13、ビット線ア
ドレスデコーダ23、カラムスイッチ24、ビット線プ
リチャージ回路42、データ線プリチャージ回路17、
及びセンスアンプ18を含んで構成される。
In FIG. 6, the semiconductor memory device 40 has
M × n ROM cells A11 to A, each having two rows and n columns
a memory cell array 21 composed of a mn array, an address generation circuit 41, a word line address decoder 13, a bit line address decoder 23, a column switch 24, a bit line precharge circuit 42, a data line precharge circuit 17,
And a sense amplifier 18.

【0054】上記ビット線プリチャージ回路42は、各
行の第1のビット線Bαi、及び第2のビット線Bβi
をプリチャージするためのもので、それぞれのビット線
ごとに別々に設けて構成される。
The bit line precharge circuit 42 includes a first bit line Bαi and a second bit line Bβi of each row.
, And is provided separately for each bit line.

【0055】すなわち、本実施形態に係るROΜは、前
記第1、第2の実施形態と同様にm×nのメモリセルを
備え、アドレス生成回路41の出力BP1〜BP2mに示
すように、ビット線プリチャージ信号がそれぞれのビッ
ト線に一本ずつ、2m本存在する。
That is, the RO # according to the present embodiment includes m × n memory cells as in the first and second embodiments, and the bit lines are provided as shown in the outputs BP1 to BP2m of the address generation circuit 41. There are 2m precharge signals, one for each bit line.

【0056】以下、上述のように構成された半導体記憶
装置40の動作を説明する。
Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device 40 configured as described above will be described.

【0057】図7は上記半導体記憶装置40の動作を示
すタイミングチャートであり、図6に示すROMが、A
11,A12,…,A1n,A21,A22,…,A2m,…,Amn
のように列方向にシーケンシャルにアクセスされる場合
の動作を示すタイミングチャートである。ビット線プリ
チャージ信号BPはBP4までを示している。
FIG. 7 is a timing chart showing the operation of the semiconductor memory device 40. The ROM shown in FIG.
11, A12, ..., A1n, A21, A22, ..., A2m, ..., Amn
7 is a timing chart showing the operation when the data is sequentially accessed in the column direction as shown in FIG. The bit line precharge signal BP indicates up to BP4.

【0058】本実施形態では、次に使用されるビット線
のプリチャージ信号のみがONとなり、その他のビット
線はプリチャージされない。例えば、図7に示すよう
に、第1のビット線をプリチャージする場合、ビット線
プリチャージ信号BP1,BP2のみがONし、その他の
ビット線のビット線プリチャージ信号(図7ではBP
1,BP2)プリチャージされない。すなわち、前記第2
の実施形態の動作と同じである。
In this embodiment, only the precharge signal of the bit line to be used next is turned ON, and the other bit lines are not precharged. For example, as shown in FIG. 7, when precharging the first bit line, only the bit line precharge signals BP1 and BP2 are turned on, and the bit line precharge signals for the other bit lines (BP in FIG. 7).
1, BP2) Not precharged. That is, the second
The operation is the same as that of the embodiment.

【0059】このように、第3の実施形態に係る半導体
記憶装置40は、第1、第2のビット線を備えるROM
において、各行の第1のビット線、及び第2のビット線
をプリチャージするためのプリチャージ回路42を、そ
れぞれのビット線ごとに別々に設けているので、前記第
2の実施形態で説明した効果に加え、次に使用されるビ
ット線のみをプリチャージするため、余分なビット線の
プリチャージ動作がなくなり、より低消費電力となる。
As described above, the semiconductor memory device 40 according to the third embodiment includes a ROM having first and second bit lines.
In the above, since the precharge circuit 42 for precharging the first bit line and the second bit line of each row is separately provided for each bit line, the description has been given in the second embodiment. In addition to the effect, only the bit line to be used next is precharged, so that there is no extra precharge operation of the bit line, resulting in lower power consumption.

【0060】図8は本発明の第4の実施形態に係る半導
体記憶装置の構成図である。本実施形態に係る半導体記
憶装置の説明にあたり図1に示す半導体記憶装置と同一
構成部分には同一符号を付している。
FIG. 8 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention. In the description of the semiconductor memory device according to the present embodiment, the same components as those of the semiconductor memory device shown in FIG.

【0061】図8において、半導体記憶装置50は、m
本の行とn本の列からなるm×nのROMセルA11〜A
mnからなるメモリセルアレー21、アドレス生成回路5
1、ワード線アドレスデコーダA52、ワード線アドレ
スデコーダB53、ビット線アドレスデコーダ54、カ
ラムスイッチ55、ビット線プリチャージ回路56、デ
ータ線プリチャージ回路17、及びセンスアンプ18を
含んで構成される。
In FIG. 8, the semiconductor memory device 50 is
M × n ROM cells A11 to A, each having two rows and n columns
mn memory cell array 21 and address generation circuit 5
1, a word line address decoder A52, a word line address decoder B53, a bit line address decoder 54, a column switch 55, a bit line precharge circuit 56, a data line precharge circuit 17, and a sense amplifier 18.

【0062】上記ビット線プリチャージ回路56は、図
8破線部に示すように、PMOSトランジスタからなり
前半の行のビット線をプリチャージする第1のビット線
プリチャージ回路57と、後半の行のビット線をプリチ
ャージする第2のビット線プリチャージ回路58とから
構成される。
The bit line precharge circuit 56 includes a first bit line precharge circuit 57 composed of PMOS transistors for precharging the bit lines in the first half row, and a bit line precharge circuit 57 in the second half row, as shown by the broken line in FIG. And a second bit line precharge circuit 58 for precharging the bit lines.

【0063】すなわち、半導体記憶装置50は、各列に
ワード線を2本ずつ用意し、第1のワード線WAjは前
半の行のビット線に接続されているROMセルA11〜A
mn(記憶素子)からなるメモリセルアレー21に接続
し、第2のワード線WBjは後半の行のビット線に接続
されているROMセルA11〜Amnに接続し、n本の第1
のワード線WAjの中の1本を選択するワード線アドレ
スデコーダA52(第1のワード線デコーダ)と、n本
の第2のワード線WBjの中の1本を選択するワード線
アドレスデコーダB53(第2のワード線デコーダ)
と、前半の行のビット線をプリチャージする第1のビッ
ト線プリチャージ回路57と、後半の行のビット線をプ
リチャージする第2のビット線プリチャージ回路58か
ら構成される。
That is, the semiconductor memory device 50 prepares two word lines for each column, and the first word line WAj is connected to the ROM cells A11 to A11 connected to the bit lines in the first half row.
mn (storage element), and the second word line WBj is connected to the ROM cells A11 to Amn connected to the bit lines in the latter half of the row, and the n first word lines WBj are connected to the first half.
A word line address decoder A52 (first word line decoder) for selecting one of the word lines WAj, and a word line address decoder B53 for selecting one of the n second word lines WBj ( (Second word line decoder)
And a first bit line precharge circuit 57 for precharging the bit lines in the first half row, and a second bit line precharge circuit 58 for precharging the bit lines in the second half row.

【0064】このように、本実施形態に係るROΜは、
前記第1、第2、第3の実施形態と同様にm×nのメモ
リセルを備え、各列にワード線が2本ずつ(WAj,W
Bj)存在し、WΑjは1〜i行目のセルに、WBjは
i+1〜m行目のセルにそれぞれ接続されていて、それ
ぞれにワード線アドレスデコーダA52,B53が設け
られている。ビット線プリチャージ信号は2本(BP
A,BPB)存在し、ビット線プリチャージ信号BPAは
B1〜Biを、ビット線プリチャージ信号BPBはBi+1
〜Bmをプリチャージする構成となっている。
As described above, ROΜ according to the present embodiment is:
As in the first, second, and third embodiments, m × n memory cells are provided, and each column has two word lines (WAj, Wj).
Bj) exists, WΑj is connected to the cells in the first to i-th rows, WBj is connected to the cells in the i + 1 to m-th rows, respectively, and word line address decoders A52 and B53 are provided respectively. Two bit line precharge signals (BP
A, BPB), the bit line precharge signal BPA is B1 to Bi, and the bit line precharge signal BPB is Bi + 1.
~ Bm is precharged.

【0065】以下、上述のように構成された半導体記憶
装置50の動作を説明する。
Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device 50 configured as described above will be described.

【0066】図9は上記半導体記憶装置50の動作を示
すタイミングチャートである。
FIG. 9 is a timing chart showing the operation of the semiconductor memory device 50.

【0067】行方向にシーケンシャルにアクセスされる
場合において、1〜i行目のデータが読み出されている
間にi+1〜m行目のプリチャージ・ビット線へのデー
タの読み出しを行い、i+1〜m行目のデータが読み出
されている間に、次の列の1〜i行目のプリチャージ・
ビット線ヘのデータの読み出しを行う。
When the data is sequentially accessed in the row direction, data is read out to the precharge bit lines in the (i + 1) to m-th rows while the data in the first to i-th rows is being read. While the data in the m-th row is being read, the precharge
Read data to the bit line.

【0068】まず、A(i+1)(j-1)〜Am(j-1)の読み出し
期間(図9に示す420の期間)に、ビット線プリチャ
ージ信号BPAがON(ハイレベル)となり、ビット線
B1〜Biがプリチャージされる。
First, during the readout period of A (i + 1) (j-1) to Am (j-1) (period 420 shown in FIG. 9), the bit line precharge signal BPA turns ON (high level). , Bit lines B1 to Bi are precharged.

【0069】次に、ワード線アドレスデコーダA52に
よってWΑjがON(ハイレベル)となり、ROΜセル
A1j〜Aijのデータがビット線B1〜Biに出力される。
Next, W # j is turned ON (high level) by the word line address decoder A52, and the data of the RO # cells A1j-Aij is output to the bit lines B1-Bi.

【0070】上記A(i+1)(j-1)〜Am(j-1)の読み出し期
間が終了し、A1j〜Aijの読み出し期間(図9に示す4
21の期間)になると、データ線プリチャージ信号DP
がON(ハイレベル)となってデータ線19がプリチャ
ージされた後、カラム選択信号C1がON(ハイレベ
ル)となってあらかじめビット線B1に出力されていた
データがデータ線19、センスアンプ18を通して外部
に出力される。
The reading period of A (i + 1) (j-1) to Am (j-1) is completed, and the reading period of A1j to Aij (see FIG. 9).
21), the data line precharge signal DP
Becomes ON (high level) and the data line 19 is precharged, and then the column selection signal C1 becomes ON (high level) and the data previously output to the bit line B1 is replaced by the data line 19 and the sense amplifier 18. Output to the outside through

【0071】以下、順番に行が選択されていき、データ
が読み出されていく。A1j〜Aijの読み出し期間には、
ビット線プリチャージ信号BPBがON(ハイレベル)
となって、ビット線Bi+1〜Bmがプリチャージされ、以
下同様の動作を繰り返す。
Thereafter, the rows are sequentially selected, and the data is read. During the reading period of A1j to Aij,
Bit line precharge signal BPB is ON (high level)
, The bit lines Bi + 1 to Bm are precharged, and the same operation is repeated thereafter.

【0072】以上説明したように、第4の実施形態に係
る半導体記憶装置50は、各列にワード線を2本ずつ用
意し、第1のワード線WAjは前半の行のビット線に接
続されているROMセルA11〜Amnからなるメモリセル
アレー21に接続し、第2のワード線WBjは後半の行
のビット線に接続されているROMセルA11〜Amnに接
続し、n本の第1のワード線WAjの中の1本を選択す
るワード線アドレスデコーダA52と、n本の第2のワ
ード線WBjの中の1本を選択するワード線アドレスデ
コーダB53と、前半の行のビット線をプリチャージす
る第1のビット線プリチャージ回路57と、後半の行の
ビット線をプリチャージする第2のビット線プリチャー
ジ回路58とを備え、行方向にシーケンシャルにアドレ
ス選択されていく場合、第1のワード線WAjにより選
択された列の前半の行のROMセルA11〜Amnのデータ
を順次外部に出力する第1の処理と、第1の処理が行な
われている間に、第2のワード線WBjに接続されてい
る後半の行のビット線をプリチャージした後、第1の処
理でアドレス選択されている列で、第2のワード線WB
jに接続されているROMセルA11〜Amnのデータを、
後半の行のビット線に出力しておく第2の処理と、第2
の処理が終了した後、第2の処理でビット線に出力して
おいたデータを順次外部に出力する第3の処理と、第3
の処理が行われている間に、第1のワード線WAjに接
続されている前半の行のビット線をプリチャージした
後、第2の処理でアドレス選択されている次の列で、第
1のワード線WAjに接続されているROMセルA11〜
Amnのデータを、前半の行のビット線に出力しておく第
4の処理を備え、第1の処理から第4の処理を繰り返し
行うようにしているので、シーケンシャルアクセスの特
徴を利用し、ワード線を1〜i行目、i+1〜m行目で
分割することによって、1〜i行目のデータが読み出さ
れている間にあらかじめi+1〜m行目のビット線をプ
リチャージし、各行のデータをビット線に読み出してお
くことによって、大幅な高速動作が可能になる。
As described above, in the semiconductor memory device 50 according to the fourth embodiment, two word lines are prepared for each column, and the first word line WAj is connected to the bit line in the first half row. The second word line WBj is connected to the ROM cells A11 to Amn connected to the bit lines in the latter half row, and the n first cells are connected to the memory cell array 21 composed of the ROM cells A11 to Amn. A word line address decoder A52 for selecting one of the word lines WAj, a word line address decoder B53 for selecting one of the n second word lines WBj, and a bit line in the first half row are pre-selected. A first bit line precharge circuit 57 for charging and a second bit line precharge circuit 58 for precharging bit lines in the latter half of the row are provided, and when addresses are sequentially selected in the row direction. A first process for sequentially outputting the data of the ROM cells A11 to Amn in the first half row of the column selected by the first word line WAj to the outside, and a second process for performing the first process. After precharging the bit lines in the latter half row connected to the word line WBj of the second word line WBj, the second word line WB
j, the data of the ROM cells A11 to Amn connected to
A second process of outputting to the bit line of the latter half row;
After the end of the third process, a third process of sequentially outputting the data output to the bit lines in the second process to the outside,
Is performed, the bit line in the first half row connected to the first word line WAj is precharged, and then the first column is selected in the next column whose address is selected in the second process. ROM cells A11 to A11 connected to the word line WAj of
A fourth process for outputting the data of Amn to the bit line in the first half row is provided, and the first to fourth processes are repeatedly performed. By dividing the line into the first to i-th rows and the i + 1 to m-th rows, the bit lines in the (i + 1) to m-th rows are precharged in advance while the data in the first to i-th rows are being read. By reading data onto the bit line, a significantly high-speed operation can be performed.

【0073】図10は本発明の第5の実施形態に係る半
導体記憶装置の構成図である。本実施形態に係る半導体
記憶装置の説明にあたり図1に示す半導体記憶装置と同
一構成部分には同一符号を付している。
FIG. 10 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to the fifth embodiment of the present invention. In the description of the semiconductor memory device according to the present embodiment, the same components as those of the semiconductor memory device shown in FIG.

【0074】図10において、半導体記憶装置60は、
m本の行とn本の列からなるm×nのROMセルA11〜
Amnからなるメモリセルアレー21、アドレス生成回路
61、ワード線アドレスデコーダA62、ワード線アド
レスデコーダB63、ビット線アドレスデコーダ23、
カラムスイッチ24、ビット線プリチャージ回路64、
データ線プリチャージ回路17、及びセンスアンプ18
を含んで構成される。
In FIG. 10, a semiconductor memory device 60 includes:
m × n ROM cells A11 through m rows and n columns
Amn, a memory cell array 21, an address generation circuit 61, a word line address decoder A62, a word line address decoder B63, a bit line address decoder 23,
Column switch 24, bit line precharge circuit 64,
Data line precharge circuit 17 and sense amplifier 18
It is comprised including.

【0075】上記ビット線プリチャージ回路64は、図
10破線部に示すように、第1のビット線Bαiの奇数
行目をプリチャージする第1のビット線プリチャージ回
路65と、第1のビット線Bαiの偶数行目をプリチャ
ージする第1のビット線プリチャージ回路66と、第2
のビット線Bβiの奇数行目をプリチャージする第2の
ビット線プリチャージ回路67と、第2のビット線Bβ
iの偶数行目をプリチャージする第2のビット線プリチ
ャージ回路68とから構成される。
The bit line precharge circuit 64 includes a first bit line precharge circuit 65 for precharging an odd-numbered row of the first bit line Bαi, as shown by a broken line in FIG. A first bit line precharge circuit 66 for precharging even-numbered rows of the line Bαi;
A second bit line precharge circuit 67 for precharging an odd-numbered row of the bit line Bβi
and a second bit line precharge circuit 68 for precharging an even-numbered row of i.

【0076】このように、本実施形態に係るROΜは、
各列にワード線が2本ずつ(WΑj,WBj)存在し、
WΑjは1〜i行目のセルに、WBjはi+1〜m行目
のセルにそれぞれ接続されていて、それぞれにワード線
アドレスデコーダA62,B63が設けられている。ビ
ット線プリチャージ信号は4本(BPαA,BPαB,B
PβA,BPβB)存在し、BPαAはBα1〜Bαi
を、BPαBはBβ1〜Bβiを、BPβAはBαi+1〜B
αmを、BPβBはBβi+1〜Bβmをそれぞれプリチャー
ジする構成となっている。
As described above, ROΜ according to the present embodiment is:
There are two word lines (WΑj, WBj) in each column,
WΑj is connected to the cells in the first to i-th rows, and WBj is connected to the cells in the i + 1 to m-th rows, respectively, and word line address decoders A62 and B63 are provided respectively. There are four bit line precharge signals (BPαA, BPαB, B
PβA, BPβB), and BPαA is Bα1-Bαi
, BPαB represents Bβ1 to Bβi, and BPβA represents Bαi + 1 to Bβi.
αm and BPβB precharge Bβi + 1 to Bβm, respectively.

【0077】以下、上述のように構成された半導体記憶
装置60の動作を説明する。
Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device 60 configured as described above will be described.

【0078】基本的な動作は前記第1の実施形態に記載
した内容と同じであるが、本実施形態では、例えばAij
を読み出している期間に、プリチャージ信号BPαA,
BPβA,BPβBがON(ハイレベル)となり、BPα
Bによってプリチャージされるビット線以外の全てのビ
ット線(この場合、Bα1〜Bαm,Bβi+1〜Bβm)を
あらかじめプリチャージしておく。すなわち、Aijが読
み出されている期間に、Bα1〜Bαm,Bβi+1〜Bβm
をあらかじめプリチャージしておくようにする。
The basic operation is the same as that described in the first embodiment. In this embodiment, for example, Aij
During the reading of the precharge signal BPαA,
BPβA and BPβB are turned ON (high level) and BPα
All bit lines (Bα1 to Bαm, Bβi + 1 to Bβm in this case) other than the bit lines precharged by B are precharged in advance. That is, while Aij is being read, Bα1 to Bαm, Bβi + 1 to Bβm
Is pre-charged in advance.

【0079】以上説明したように、第5の実施形態に係
る半導体記憶装置60は、各列にワード線を2本ずつ用
意し、第1のワード線WAjは前半の行のビット線に接
続されているROMセルA11〜Amnからなるメモリセル
アレー21に接続し、第2のワード線WBjは後半の行
のビット線に接続されているROMセルA11〜Amnに接
続し、n本の第1のワード線WAjの中の1本を選択す
るワード線アドレスデコーダA52と、n本の第2のワ
ード線WBjの中の1本を選択するワード線アドレスデ
コーダB53とを備えるとともに、各行にビット線を2
本ずつ用意し、第1のビット線は奇数列目のROMセル
A11〜Amnに接続し、第2のビット線は偶数列目のRO
MセルA11〜Amnに接続し、第1のビット線をプリチャ
ージする第1のビット線プリチャージ回路65,66
と、第2のビット線をプリチャージする第2のビット線
プリチャージ回路67,68と、第1のビット線、第2
のビット線それぞれを選択するカラムスイッチ24とを
備え、アドレス選択され、ROMセルA11〜Amnのデー
タを読み出し、外部へ出力している間に、このときアド
レス選択されているROMセルA11〜Amnに接続されて
いない全てのビット線をプリチャージする第1の処理
と、第1の処理が終了した後、第1の処理でプリチャー
ジされたビット線に接続される何れかのROMセルA11
〜Amnをアドレス選択し、選択されたROMセルA11〜
Amnのデータを読み出し、外部へ出力する第2の処理と
を備え、第1の処理と第2の処理を繰り返し行うように
しているので、前記第1の実施形態の効果に加え、上記
のようにAijが読み出されている時に、Bα1〜Bαm,
Bβi+1〜Bβmをあらかじめプリチャージしておくた
め、次に選択されるROMセルがビット線Bα1〜Bα
m,Bβi+1〜Bβmに接続されているのであればシーケ
ンシャルにアドレス選択される場合以外のアクセス方法
でも高速動作が可能になる。
As described above, in the semiconductor memory device 60 according to the fifth embodiment, two word lines are prepared for each column, and the first word line WAj is connected to the bit line in the first half row. The second word line WBj is connected to the ROM cells A11 to Amn connected to the bit lines in the latter half row, and the n first cells are connected to the memory cell array 21 composed of the ROM cells A11 to Amn. A word line address decoder A52 for selecting one of the word lines WAj and a word line address decoder B53 for selecting one of the n second word lines WBj are provided. 2
The first bit line is connected to the odd-numbered column ROM cells A11 to Amn, and the second bit line is connected to the even-numbered column RO.
First bit line precharge circuits 65, 66 connected to M cells A11 to Amn to precharge the first bit line
And second bit line precharge circuits 67 and 68 for precharging the second bit line;
And a column switch 24 for selecting each of the bit lines. The address is selected, and while the data of the ROM cells A11 to Amn are read and output to the outside, the address of the ROM cells A11 to Amn selected at this time is stored in the ROM cells A11 to Amn. A first process for precharging all the bit lines that are not connected, and after the first process is completed, any one of the ROM cells A11 connected to the bit line precharged in the first process.
~ Amn is selected, and the selected ROM cell A11 ~
A second process for reading Amn data and outputting it to the outside is provided, and the first process and the second process are repeatedly performed. Therefore, in addition to the effects of the first embodiment, When Aij is read out, Bα1 to Bαm,
Since Bβi + 1 to Bβm are precharged in advance, the next selected ROM cell is bit lines Bα1 to Bα
m, Bβi + 1 to Bβm, high-speed operation is possible even with an access method other than the case where addresses are sequentially selected.

【0080】なお、上記各実施形態に係る半導体記憶装
置では、メモリセルアレーとしてROMセルアレーを用
いているが、記憶素子であれば何でもよく、例えばEP
ROMセルに適用してもよい。
In the semiconductor memory device according to each of the above embodiments, a ROM cell array is used as a memory cell array. However, any memory element may be used.
It may be applied to a ROM cell.

【0081】また、上記各実施形態では、半導体記憶装
置を、ROMの制御装置に適用に適用した例であるが、
どのような半導体記憶装置にも適用できることは言うま
でもない。
In each of the above embodiments, the semiconductor memory device is applied to a ROM control device.
It goes without saying that the present invention can be applied to any semiconductor memory device.

【0082】さらに、上記各実施形態に係る半導体記憶
装置が、各行にビット線を少なくとも2本ずつ備える
か、若しくは各列にワード線を少なくとも2本ずつ備え
て構成されるものであれば、どのような構成でもよく、
ビット線、ワード線、各種周辺回路等の個数、接続状態
等は上記各実施形態に限定されない。
Further, as long as the semiconductor memory device according to each of the above embodiments has at least two bit lines in each row or at least two word lines in each column, Such a configuration may be used,
The number of bit lines, word lines, various peripheral circuits and the like, the connection state, and the like are not limited to the above embodiments.

【0083】[0083]

【発明の効果】本発明に係る半導体記憶装置では、各行
にビット線を少なくとも2本ずつ用意し、第1のビット
線は奇数列目の記憶素子に接続するとともに、第2のビ
ット線は偶数列目の記憶素子に接続し、第1のビット線
をプリチャージする第1のビット線プリチャージ回路
と、第2のビット線をプリチャージする第2のビット線
プリチャージ回路と、第1のビット線及び第2のビット
線それぞれを選択するカラムスイッチとを備えて構成し
たので、毎回必要であった負荷の大きいビット線のプリ
チャージ及びデータの読み出し動作を不要にすることが
でき、1サイクルの間に行う動作は、負荷の小さいデー
タ線のプリチャージとビット線まで出力されていたデー
タの読み出しのみとなり、大幅な高速動作が実現でき
る。
In the semiconductor memory device according to the present invention, at least two bit lines are prepared for each row, the first bit line is connected to the odd-numbered column storage element, and the second bit line is connected to the even-numbered column. A first bit line precharge circuit that connects to the storage element in the column and precharges the first bit line, a second bit line precharge circuit that precharges the second bit line, Since a column switch for selecting each of the bit line and the second bit line is provided, it is possible to eliminate the need for the pre-charging and the data reading operation of the bit line having a large load, which is required each time. The operations performed during this period are only precharging of the data line with a small load and reading of data that has been output up to the bit line, and a significant high-speed operation can be realized.

【0084】また、本発明に係る半導体記憶装置では、
第1のビット線の奇数行目をプリチャージする第1のビ
ット線プリチャージ回路と、第1のビット線の偶数行目
をプリチャージする第2のビット線プリチャージ回路
と、第2のビット線の奇数行目をプリチャージする第3
のビット線プリチャージ回路と、第2のビット線の偶数
行目をプリチャージする第4のビット線プリチャージ回
路とを備え、列方向にシーケンシャルにアドレス選択す
る場合、隣接する第1のビット線及び第2のビット線
を、異なるビット線プリチャージ回路を用いてプリチャ
ージするように構成したので、隣接するビット線同士が
必ず異なるプリチャージ信号でプリチャージされるた
め、1列目とn列目が同じ側のビット線に接続されてい
る場合でも、動作可能となる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention,
A first bit line precharge circuit for precharging an odd row of the first bit line, a second bit line precharge circuit for precharging an even row of the first bit line, and a second bit 3rd to precharge odd lines of line
And a fourth bit line precharge circuit for precharging an even-numbered row of the second bit line. When an address is sequentially selected in the column direction, the adjacent first bit line And the second bit line is precharged using a different bit line precharge circuit, so that adjacent bit lines are always precharged with different precharge signals, so that the first column and the nth column Operation is possible even when the eyes are connected to the same bit line.

【0085】また、本発明に係る半導体記憶装置では、
各行の第1のビット線、及び第2のビット線をプリチャ
ージするためのビット線プリチャージ回路を、それぞれ
のビット線ごとに別々に設け、列方向にシーケンシャル
にアドレス選択する場合、次に使用されるビット線のみ
をプリチャージするように構成したので、次に使用され
るビット線のみのプリチャージとなるため、余分なビッ
ト線のプリチャージ動作がなくなり、より低消費電力を
図ることができる。
In the semiconductor memory device according to the present invention,
A bit line precharge circuit for precharging the first bit line and the second bit line of each row is separately provided for each bit line, and is used next when address is sequentially selected in the column direction. Since only the bit line to be used is precharged, only the bit line to be used next is precharged, so that an extra bit line precharge operation is eliminated and lower power consumption can be achieved. .

【0086】また、本発明に係る半導体記憶装置では、
各列にワード線を少なくとも2本ずつ用意し、第1のワ
ード線は前半の行のビット線に接続されている記憶素子
に接続するとともに、第2のワード線は後半の行のビッ
ト線に接続されている記憶素子に接続し、n本の第1の
ワード線の中の1本を選択する第1のワード線デコーダ
と、n本の第2のワード線の中の1本を選択する第2の
ワード線デコーダと、前半の行のビット線をプリチャー
ジする第1のビット線プリチャージ回路と、後半の行の
ビット線をプリチャージする第2のビット線プリチャー
ジ回路とを備えて構成したので、ワード線を1〜i行
目、i+1〜m行目で分割した場合、1〜i行目のデー
タが読み出されている間にあらかじめi+1〜m行目の
ビット線をプリチャージし、各行のデータをビット線に
読み出しておくことができ、大幅な高速動作が可能にな
る。
In the semiconductor memory device according to the present invention,
At least two word lines are prepared for each column. The first word line is connected to the storage element connected to the bit line in the first half row, and the second word line is connected to the bit line in the second half row. A first word line decoder connected to the connected storage element and selecting one of n first word lines, and selecting one of n second word lines. A second word line decoder, a first bit line precharge circuit for precharging the bit lines in the first half row, and a second bit line precharge circuit for precharging the bit lines in the second half row When the word line is divided into the first to i-th rows and the i + 1 to m-th rows, the bit lines in the (i + 1) to m-th rows are precharged while the data in the first to i-th rows are being read. And read the data of each row to the bit line Can, it is possible to significantly high-speed operation.

【0087】また、本発明に係る半導体記憶装置では、
各行にビット線を2本ずつ用意し、第1のビット線は奇
数列目の記憶素子に接続するとともに、第2のビット線
は偶数列目の記憶素子に接続し、第1のビット線をプリ
チャージする第1のビット線プリチャージ回路と、第2
のビット線をプリチャージする第2のビット線プリチャ
ージ回路と、第1のビット線及び第2のビット線それぞ
れを選択するカラムスイッチとを備え、アドレス選択さ
れ、記憶素子のデータを読み出し、外部へ出力している
間に、このときアドレス選択されている記憶素子に接続
されていない全てのビット線をプリチャージする第1の
処理と、第1の処理が終了した後、該第1の処理でプリ
チャージされたビット線に接続される何れかの記憶素子
をアドレス選択し、選択された記憶素子のデータを読み
出し、外部へ出力する第2の処理とを備え、第1の処理
と第2の処理を繰り返し動作させるように構成したの
で、シーケンシャルにアドレス選択される場合以外のア
クセス方法でも高速動作が可能になる。
In the semiconductor memory device according to the present invention,
Two bit lines are prepared for each row, the first bit line is connected to the odd-numbered column storage elements, the second bit line is connected to the even-numbered column storage elements, and the first bit line is connected to the odd-numbered column storage elements. A first bit line precharge circuit for precharging;
A second bit line precharge circuit for precharging the first bit line and a column switch for selecting each of the first bit line and the second bit line. A first process of precharging all bit lines that are not connected to the storage element whose address is selected at this time, and the first process after the first process is completed. And a second process for selecting an address of any of the storage elements connected to the bit line precharged in step 2, reading data of the selected storage element, and outputting the data to the outside. Is repeated, so that high-speed operation is possible even with an access method other than when addresses are sequentially selected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した第1の実施形態に係る半導体
記憶装置の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment to which the present invention is applied.

【図2】上記半導体記憶装置の行方向にシーケンシャル
にアドレス選択される場合の動作を示すタイミングチャ
ートである。
FIG. 2 is a timing chart showing an operation of the semiconductor memory device when addresses are sequentially selected in a row direction.

【図3】上記半導体記憶装置の列方向にシーケンシャル
にアドレス選択される場合の動作を示すタイミングチャ
ートである。
FIG. 3 is a timing chart showing an operation of the semiconductor memory device when addresses are sequentially selected in a column direction.

【図4】本発明を適用した第2の実施形態に係る半導体
記憶装置の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment to which the present invention is applied.

【図5】上記半導体記憶装置の列方向にシーケンシャル
にアドレス選択される場合の動作を示すタイミングチャ
ートである。
FIG. 5 is a timing chart showing an operation of the semiconductor memory device when an address is sequentially selected in a column direction.

【図6】本発明を適用した第3の実施形態に係る半導体
記憶装置の構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a third embodiment to which the present invention is applied.

【図7】上記半導体記憶装置の列方向にシーケンシャル
にアドレス選択される場合の動作を示すタイミングチャ
ートである。
FIG. 7 is a timing chart showing an operation when addresses are sequentially selected in a column direction of the semiconductor memory device.

【図8】本発明を適用した第4の実施形態に係る半導体
記憶装置の構成図である。
FIG. 8 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment to which the present invention is applied.

【図9】上記半導体記憶装置の行方向にシーケンシャル
にアドレス選択される場合の動作を示すタイミングチャ
ートである。
FIG. 9 is a timing chart showing an operation of the semiconductor memory device when addresses are sequentially selected in a row direction.

【図10】本発明を適用した第5の実施形態に係る半導
体記憶装置の構成図である。
FIG. 10 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment to which the present invention is applied.

【図11】従来のROMの構成を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a conventional ROM.

【図12】従来のROMの動作を示すタイミングチャー
トである。
FIG. 12 is a timing chart showing the operation of a conventional ROM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

13 ワード線アドレスデコーダ、17 データ線プリ
チャージ回路、18センスアンプ、19 データ線、2
0,30,40,50,60 半導体記憶装置、21
メモリセルアレー、22,31,41,51,61 ア
ドレス生成回路、23,32,54 ビット線アドレス
デコーダ、24,55 カラムスイッチ、25,42,
56,64 ビット線プリチャージ回路、26 第1の
ビット線プリチャージ回路、27 第2のビット線プリ
チャージ回路、33,34,65,66 第1のビット
線プリチャージ回路、35,36,67,68 第2の
ビット線プリチャージ回路、52,62 ワード線アド
レスデコーダA、53,63 ワード線アドレスデコー
ダB、57 第1のビット線プリチャージ回路、58
第2のビット線プリチャージ回路、Bαi 第1のビッ
ト線、Bβi 第2のビット線、W1〜Wn ワード線、
BPα 第1のビット線Bαiのビット線プリチャージ
信号、BPβ 第2のビット線Bβiのビット線プリチ
ャージ信号、DP データ線プリチャージ信号、Cα1
〜Cαm 第1のビット線Bαiのカラム選択信号、C
β1〜Cβm 第2のビット線Bβiのカラム選択信号
13 word line address decoder, 17 data line precharge circuit, 18 sense amplifier, 19 data line, 2
0, 30, 40, 50, 60 semiconductor memory devices, 21
Memory cell array, 22, 31, 41, 51, 61 address generation circuit, 23, 32, 54 bit line address decoder, 24, 55 column switch, 25, 42,
56, 64 bit line precharge circuit, 26 first bit line precharge circuit, 27 second bit line precharge circuit, 33, 34, 65, 66 first bit line precharge circuit, 35, 36, 67 , 68 Second bit line precharge circuit, 52, 62 Word line address decoder A, 53, 63 Word line address decoder B, 57 First bit line precharge circuit, 58
A second bit line precharge circuit, Bαi first bit line, Bβi second bit line, W1 to Wn word lines,
BPα Bit line precharge signal for first bit line Bαi, BPβ Bit line precharge signal for second bit line Bβi, DP data line precharge signal, Cα1
~ Cαm The column selection signal of the first bit line Bαi, C
β1 to Cβm A column selection signal for the second bit line Bβi

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 列を選択するn本(nは任意の整数)の
ワード線と、 n本のワード線の中の1本を選択するワード線デコーダ
と、 行を選択するm個(mは任意の整数)のカラムスイッチ
と、 選択された列の記憶素子に書き込まれているデータを転
送するm本のビット線と、 ワード線及びビット線に接続されたm×nの記憶素子
と、 ビット線をプリチャージするビット線プリチャージ回路
とを備えた半導体記憶装置において、 各行にビット線を少なくとも2本ずつ用意し、第1のビ
ット線は奇数列目の記憶素子に接続するとともに、第2
のビット線は偶数列目の記憶素子に接続し、 前記第1のビット線をプリチャージする第1のビット線
プリチャージ回路と、 前記第2のビット線をプリチャージする第2のビット線
プリチャージ回路と、 前記第1のビット線及び前記第2のビット線それぞれを
選択するカラムスイッチとを備えたことを特徴とする半
導体記憶装置。
1. An n (n is an arbitrary integer) word line for selecting a column, a word line decoder for selecting one of the n word lines, and an m (m is an integer) for selecting a row. An arbitrary integer) column switch, m bit lines for transferring data written in the storage elements of the selected column, m × n storage elements connected to the word lines and bit lines, and bits In a semiconductor memory device having a bit line precharge circuit for precharging a line, at least two bit lines are prepared in each row, and a first bit line is connected to a storage element in an odd column, and
A first bit line precharge circuit for precharging the first bit line, and a second bit line precharge circuit for precharging the second bit line. A semiconductor memory device comprising: a charge circuit; and a column switch for selecting each of the first bit line and the second bit line.
【請求項2】 上記請求項1記載の半導体記憶装置にお
いて、 行方向にシーケンシャルにアドレス選択する場合、前記
第1のビット線を用いて、ワード線により選択された列
の記憶素子のデータを順次外部に出力する第1の処理
と、 前記第1の処理の間に、前記第2のビット線プリチャー
ジ回路を用い、前記第2のビット線をプリチャージした
後、次の列のワード線により選択された記憶素子のデー
タを第2のビット線に読み出しておく第2の処理とを備
え、 前記第1の処理と前記第2の処理とを繰り返し動作させ
ることを特徴とする半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein, when an address is sequentially selected in a row direction, data of a storage element in a column selected by a word line is sequentially transmitted using said first bit line. Between the first processing to output to the outside and the first processing, the second bit line precharge circuit is used to precharge the second bit line, and then the next bit line is used for the next column. A second processing for reading data of a selected storage element to a second bit line, wherein the first processing and the second processing are repeatedly performed.
【請求項3】 上記請求項1又は2の何れかに記載の半
導体記憶装置において、 列方向にシーケンシャルにアドレス選択する場合、前記
ワード線及びカラムスイッチにより選択された第1のビ
ット線に接続されている記憶素子のデータを外部に出力
する第1の処理と、 前記第1の処理の間に、前記第2のビット線プリチャー
ジ回路を用い、前記第2のビット線をプリチャージして
おく第2の処理とを備え、 前記第1の処理と前記第2の処理とを繰り返し動作させ
ることを特徴とする半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein when address selection is performed sequentially in a column direction, the semiconductor memory device is connected to the first bit line selected by the word line and a column switch. Between the first process of outputting data of the storage element being stored to the outside and the first process, the second bit line is precharged by using the second bit line precharge circuit. A semiconductor memory device comprising: a second process, wherein the first process and the second process are repeatedly operated.
【請求項4】 上記請求項1、2又は3の何れかに記載
の半導体記憶装置において、 前記第1のビット線の奇数行目をプリチャージする第1
のビット線プリチャージ回路と、 前記第1のビット線の偶数行目をプリチャージする第2
のビット線プリチャージ回路と、 前記第2のビット線の奇数行目をプリチャージする第3
のビット線プリチャージ回路と、 前記第2のビット線の偶数行目をプリチャージする第4
のビット線プリチャージ回路とを備え、 列方向にシーケンシャルにアドレス選択する場合、隣接
する第1のビット線及び第2のビット線を、異なるビッ
ト線プリチャージ回路を用いてプリチャージして、 列の最後にアドレス選択された記憶素子に接続されるビ
ット線と、次の列の最初にアドレス選択される記憶素子
に接続されるビット線が、同じ第1のビット線、又は第
2のビット線である場合においても動作可能にしたこと
を特徴とする半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said first bit line is precharged to an odd-numbered row.
A second bit line for precharging an even-numbered row of the first bit line.
A third bit line for precharging an odd-numbered row of the second bit line.
And a fourth line for precharging an even-numbered row of the second bit line.
When address selection is performed sequentially in the column direction, adjacent first bit lines and second bit lines are precharged using different bit line precharge circuits. The bit line connected to the last addressed storage element and the bit line connected to the first addressed storage element in the next column are the same first bit line or second bit line A semiconductor memory device characterized by being operable even in the case of (1).
【請求項5】 上記請求項1、2又は3の何れかに記載
の半導体記憶装置において、 各行の第1のビット線、及び第2のビット線をプリチャ
ージするためのビット線プリチャージ回路を、それぞれ
のビット線ごとに別々に設け、 列方向にシーケンシャルにアドレス選択する場合、次に
使用されるビット線のみをプリチャージするようにした
ことを特徴とする半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a bit line precharge circuit for precharging a first bit line and a second bit line in each row is provided. A semiconductor memory device provided separately for each bit line, and when sequentially selecting addresses in the column direction, only the next used bit line is precharged.
【請求項6】 列を選択するn本(nは任意の整数)の
ワード線と、 n本のワード線の中の1本を選択するワード線デコーダ
と、 行を選択するm個(mは任意の整数)のカラムスイッチ
と、 選択された列の記憶素子に書き込まれているデータを転
送するm本のビット線と、 ワード線及びビット線に接続されたm×nの記憶素子
と、 ビット線をプリチャージするビット線プリチャージ回路
とを備えた半導体記憶装置において、 各列にワード線を少なくとも2本ずつ用意し、第1のワ
ード線は前半の行のビット線に接続されている記憶素子
に接続するとともに、第2のワード線は後半の行のビッ
ト線に接続されている記憶素子に接続し、 n本の第1のワード線の中の1本を選択する第1のワー
ド線デコーダと、 n本の第2のワード線の中の1本を選択する第2のワー
ド線デコーダと、 前半の行のビット線をプリチャージする第1のビット線
プリチャージ回路と、 後半の行のビット線をプリチャージする第2のビット線
プリチャージ回路とを備えたことを特徴とする半導体記
憶装置。
6. An n (n is an arbitrary integer) word line for selecting a column, a word line decoder for selecting one of the n word lines, and an m (m is an integer) for selecting a row. An arbitrary integer) column switch, m bit lines for transferring data written in the storage elements of the selected column, m × n storage elements connected to the word lines and bit lines, and bits In a semiconductor memory device having a bit line precharge circuit for precharging a line, at least two word lines are prepared in each column, and a first word line is connected to a bit line in a first half row. A first word line that connects to the elements and a second word line that connects to the storage elements that are connected to the bit lines in the second half row and selects one of the n first word lines A decoder and one of the n second word lines A second word line decoder, a first bit line precharge circuit for precharging the bit lines in the first half row, a second bit line precharge circuit for precharging the bit lines in the second half row, A semiconductor memory device comprising:
【請求項7】 上記請求項6記載の半導体記憶装置にお
いて、 行方向にシーケンシャルにアドレス選択する場合、前記
第1のワード線により選択された列の前半の行の記憶素
子のデータを順次外部に出力する第1の処理と、 前記第1の処理が行なわれている間に、前記第2のワー
ド線に接続されている後半の行のビット線をプリチャー
ジした後、前記第1の処理でアドレス選択されている列
で、第2のワード線に接続されている記憶素子のデータ
を、後半の行のビット線に出力しておく第2の処理と、 前記第2の処理が終了した後、該第2の処理でビット線
に出力しておいたデータを順次外部に出力する第3の処
理と、 前記第3の処理が行われている間に、前記第1のワード
線に接続されている前半の行のビット線をプリチャージ
した後、前記第2の処理でアドレス選択されている次の
列で、前記第1のワード線に接続されている記憶素子の
データを、前半の行のビット線に出力しておく第4の処
理とを備え、 前記第1の処理乃至前記第4の処理を繰り返し動作させ
ることを特徴とする半導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein, when addresses are sequentially selected in a row direction, data of storage elements in a first half row of a column selected by said first word line are sequentially sent to the outside. A first process for outputting, and while the first process is being performed, a bit line in a second half row connected to the second word line is precharged. A second process of outputting the data of the storage element connected to the second word line to the bit line of the latter half row in the column where the address is selected, and after the second process is completed. A third process for sequentially outputting data output to the bit line in the second process to the outside, and a third process for connecting to the first word line while the third process is being performed. After precharging the bit lines in the first half of A fourth process of outputting data of a storage element connected to the first word line to a bit line in the first half row in a next column whose address is selected in the second process. A semiconductor memory device, comprising: repeatedly operating the first processing to the fourth processing.
【請求項8】 上記請求項6又は7の何れかに記載の半
導体記憶装置において、 各行にビット線を2本ずつ用意し、前記第1のビット線
は奇数列目の記憶素子に接続するとともに、前記第2の
ビット線は偶数列目の記憶素子に接続し、 前記第1のビット線をプリチャージする第1のビット線
プリチャージ回路と、 前記第2のビット線をプリチャージする第2のビット線
プリチャージ回路と、 前記第1のビット線及び前記第2のビット線それぞれを
選択するカラムスイッチとを備え、 アドレス選択され、記憶素子のデータを読み出し、外部
へ出力している間に、このときアドレス選択されている
記憶素子に接続されていない全てのビット線をプリチャ
ージする第1の処理と、 前記第1の処理が終了した後、該第1の処理でプリチャ
ージされたビット線に接続される何れかの記憶素子をア
ドレス選択し、選択された記憶素子のデータを読み出
し、外部へ出力する第2の処理とを備え、 前記第1の処理と前記第2の処理を繰り返し動作させる
ことを特徴とする半導体記憶装置。
8. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein two bit lines are prepared for each row, and said first bit line is connected to a storage element in an odd column. A second bit line connected to the storage element in the even column, a first bit line precharge circuit for precharging the first bit line, and a second bit line for precharging the second bit line. A bit line precharge circuit, and a column switch for selecting each of the first bit line and the second bit line. While the address is selected, the data of the storage element is read and output to the outside. A first process of precharging all bit lines not connected to the storage element selected at this time, and after the first process is completed, the first process is performed. A second process of address-selecting any storage element connected to the bit line, reading data of the selected storage element, and outputting the data to the outside, wherein the first processing and the second processing are performed. A semiconductor memory device which is operated repeatedly.
【請求項9】 前記記憶素子は、ROMセルであること
を特徴とする請求項1、2、3、4、6、7又は8の何
れかに記載の半導体記憶装置。
9. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said memory element is a ROM cell.
JP15206197A 1997-06-10 1997-06-10 Semiconductor storage device Withdrawn JPH10340594A (en)

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JP15206197A JPH10340594A (en) 1997-06-10 1997-06-10 Semiconductor storage device

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JPH10340594A true JPH10340594A (en) 1998-12-22

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ID=15532209

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JP15206197A Withdrawn JPH10340594A (en) 1997-06-10 1997-06-10 Semiconductor storage device

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100630673B1 (en) * 2001-01-11 2006-10-02 삼성전자주식회사 Selective precharge circuit having feature the loading free of bit line

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Effective date: 20040907