JPH10332780A - Semiconductor measuring apparatus - Google Patents

Semiconductor measuring apparatus

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JPH10332780A
JPH10332780A JP9136689A JP13668997A JPH10332780A JP H10332780 A JPH10332780 A JP H10332780A JP 9136689 A JP9136689 A JP 9136689A JP 13668997 A JP13668997 A JP 13668997A JP H10332780 A JPH10332780 A JP H10332780A
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JP
Japan
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probe
conductive probe
semiconductor
tube
base
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9136689A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihisa Okita
佳久 沖田
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP9136689A priority Critical patent/JPH10332780A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor measuring apparatus capable of performing a long time continuous measurement with high reliability. SOLUTION: A semiconductor measuring apparatus comprises a base body 101 capable of performing 3-axis movement, a conductive probe 102 with a proper elasticity and rigidity, a terminal 103 for electrical connection between the probe 102 and measuring apparatus 110, a heater 104 for overheating the probe 102, a terminal 105 for connecting the heater to a power supply 107 through a power control part 108, a thermo sensor 106 for detecting the temperature of the probe 102, and an A/D converter 109 for converting analog output signals to digital output signals of the thermo sensor 106. Also the power control part 108, A/D converter 109, and measuring apparatus 110 are connected to an electronic control device 11. Then the top end of the probe 102 is brought in contact with the measuring pad 122 of a semiconductor device 121 to be measured, and its electrical characteristics are measured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体測定装置に
係り、特に、高温下の半導体素子の特性測定に用いるマ
ニピュレータの構造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor measuring device and, more particularly, to a structure of a manipulator used for measuring characteristics of a semiconductor device at a high temperature.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、このような分野の技術としては、
例えば、以下に示すようなものがあった。図5はかかる
従来の半導体素子の特性測定に用いるマニピュレータの
概略構成図である。
2. Description of the Related Art Conventionally, techniques in such a field include:
For example, there are the following. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a conventional manipulator used for measuring characteristics of a semiconductor device.

【0003】この図において、半導体素子の特性測定に
用いるマニピュレータは、3軸(X軸:紙面の左右方
向、Y軸:紙面の前後方向、Z軸:紙面の上下方向)動
作が可能な基体501、適度な弾性と剛性を有する導電
性のプローブ502、プローブ502と測定機器(図示
なし)との電気的接続のための端子503から構成され
ている。
In FIG. 1, a manipulator used for measuring characteristics of a semiconductor device has a base 501 capable of operating in three axes (X axis: left and right direction on paper, Y axis: front and rear direction on paper, Z axis: vertical direction on paper). , A conductive probe 502 having appropriate elasticity and rigidity, and a terminal 503 for electrical connection between the probe 502 and a measuring device (not shown).

【0004】図示していないが、プローブ502の先端
を、被測定半導体素子の測定用パッドに接触させて、そ
の電気的特性を測定するようにしていた。
[0004] Although not shown, the tip of the probe 502 is brought into contact with a measuring pad of a semiconductor device to be measured to measure its electrical characteristics.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たマニピュレータにおいては、プローブ502が弾性と
導電性を有している必要があるため、金属製である。そ
のために高温下での半導体素子の特性を測定する際にプ
ローブ502が熱膨張し、長時間の特性変動を測定しよ
うとすると、プローブ502の先端が被測定半導体素子
の測定用パッドから外れてしまうことから、測定途中に
プローブ502を接触させ直す操作が必要となり、その
ためには、印加されている電圧を一旦オフにする必要が
あり、信頼性評価等、連続的に電圧を印加する必要のあ
る測定の障害となっていた。
However, in the above-described manipulator, the probe 502 needs to have elasticity and conductivity, and is made of metal. Therefore, when measuring the characteristics of the semiconductor element under a high temperature, the probe 502 thermally expands, and when trying to measure the characteristic fluctuation for a long time, the tip of the probe 502 comes off from the measuring pad of the semiconductor element to be measured. Therefore, an operation of re-contacting the probe 502 during the measurement is required. For this purpose, it is necessary to temporarily turn off the applied voltage, and it is necessary to continuously apply the voltage for reliability evaluation and the like. It was an obstacle to measurement.

【0006】本発明は、以上述べた従来のプローブの熱
膨張の問題を除去し、長時間に渡る連続測定を高信頼度
で行うことが可能な半導体測定装置を提供することを目
的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor measuring apparatus which eliminates the above-described problem of the thermal expansion of the conventional probe and can perform continuous measurement over a long period of time with high reliability.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 〔1〕半導体測定装置において、3軸動作が可能な基体
と、この基体に取り付けられる導電性のプローブと、こ
の導電性のプローブに接続される測定機器と、前記導電
性のプローブの温度調節機構とを設けるようにしたもの
である。
In order to achieve the above object, the present invention provides: (1) a semiconductor measuring device, a base capable of three-axis operation, a conductive probe attached to the base, A measuring instrument connected to the conductive probe and a temperature adjusting mechanism for the conductive probe are provided.

【0008】〔2〕半導体測定装置において、3軸動作
が可能な基体と、この基体に取り付けられる導電性のプ
ローブと、この導電性のプローブに接続される測定機器
と、前記導電性のプローブを過熱するためのヒーター
と、このヒーターに接続される電源と、前記導電性のプ
ローブの温度を検出するための温度センサーとを設ける
ようにしたものである。
[2] In the semiconductor measuring device, a base capable of three-axis operation, a conductive probe attached to the base, a measuring instrument connected to the conductive probe, and a conductive probe A heater for overheating, a power supply connected to the heater, and a temperature sensor for detecting the temperature of the conductive probe are provided.

【0009】〔3〕半導体測定装置において、3軸動作
が可能な基体と、この基体に取り付けられる導電性のプ
ローブと、この導電性のプローブに接続される測定機器
と、前記導電性のプローブを覆うように設けられたチュ
ーブと、このチューブへの冷却用ガス導入手段とを設け
るようにしたものである。 〔4〕半導体測定装置において、3軸動作が可能な基体
と、この基体に取り付けられる導電性のプローブと、こ
の導電性のプローブに接続される測定機器と、前記導電
性のプローブを覆うように設けられ、先端に上方に向か
って開口部を有するチューブと、このチューブへの冷却
用ガス導入手段とを設けるようにしたものである。
[3] In the semiconductor measuring device, a base capable of three-axis operation, a conductive probe attached to the base, a measuring instrument connected to the conductive probe, and a conductive probe A tube provided so as to cover and means for introducing a cooling gas to the tube are provided. [4] In the semiconductor measuring device, a base capable of three-axis operation, a conductive probe attached to the base, a measuring instrument connected to the conductive probe, and a cover for covering the conductive probe. A tube which is provided and has an opening at the tip upward is provided, and means for introducing a cooling gas to the tube are provided.

【0010】〔5〕半導体測定装置において、3軸動作
が可能な基体と、この基体に取り付けられる導電性のプ
ローブと、この導電性のプローブに接続される測定機器
と、前記導電性のプローブを覆うように設けられ、か
つ、絶縁性の支持体によって前記導電性のプローブと等
距離を保つ導電性のチューブと、このチューブへの冷却
用ガス導入手段とを設けるようにしたものである。
[5] In the semiconductor measuring device, a base capable of three-axis operation, a conductive probe attached to the base, a measuring instrument connected to the conductive probe, and a conductive probe A conductive tube which is provided so as to cover and is kept at an equal distance from the conductive probe by an insulating support, and means for introducing a cooling gas into the tube are provided.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。図1は本発明の
第1実施例を示す半導体測定装置の構成図である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor measuring device according to a first embodiment of the present invention.

【0012】この実施例の半導体測定装置は、3軸(X
軸:紙面の左右方向、Y軸:紙面の前後方向、Z軸:紙
面の上下方向)動作が可能な基体101と、適度な弾性
と剛性を有する導電性のプローブ102と、このプロー
ブ102と測定機器110との電気的接続のための端子
103と、前記プローブ102を過熱するためのヒータ
ー104と、このヒーター104に電源制御部108を
介して電源107に接続する端子105と、前記プロー
ブ102の温度を検出するための温度センサー106
と、この温度センサー106のアナログ出力信号をデジ
タル信号に変換するA/D変換器109とを備え、電源
制御部108、A/D変換器109、測定機器110は
それぞれ電子制御装置111へと接続されている。
The semiconductor measuring device of this embodiment has three axes (X
(Axis: left-right direction of paper surface, Y axis: front-back direction of paper surface, Z-axis: vertical direction of paper surface) Operable base 101, conductive probe 102 having appropriate elasticity and rigidity, and measurement with probe 102 A terminal 103 for electrical connection to a device 110; a heater 104 for overheating the probe 102; a terminal 105 for connecting the heater 104 to a power supply 107 via a power control unit 108; Temperature sensor 106 for detecting temperature
And an A / D converter 109 for converting an analog output signal of the temperature sensor 106 into a digital signal. The power control unit 108, the A / D converter 109, and the measuring device 110 are connected to the electronic control device 111, respectively. Have been.

【0013】そこで、プローブ102の先端を、被測定
半導体素子121の測定用パッド122に接触させて、
その電気的特性を測定する。このように、第1実施例に
よれば、プローブ102を過熱するためのヒーター10
4を設けるようにしたので、被測定半導体素子121の
高温下での特性変動を測定する場合には、予めプローブ
102をヒーター104で被測定半導体素子121と同
一温度に過熱し、その温度は温度センサー106、例え
ば、熱電対等を用いて、アナログ信号を引き出し、A/
D変換器109を介して、電子制御装置111へ取り込
み、制御可能にしておくことによって、特性測定中のプ
ローブ102の熱膨張がなくなり、長時間に渡って安定
に温度特性を測定することが可能となる。
Then, the tip of the probe 102 is brought into contact with the measuring pad 122 of the semiconductor device 121 to be measured,
Measure its electrical properties. As described above, according to the first embodiment, the heater 10 for overheating the probe 102 is used.
In order to measure the characteristic variation of the semiconductor device 121 under high temperature under high temperature, the probe 102 is preheated by the heater 104 to the same temperature as the semiconductor device 121 under measurement. An analog signal is extracted using a sensor 106, for example, a thermocouple or the like, and A /
By taking it into the electronic control unit 111 via the D converter 109 and making it controllable, the thermal expansion of the probe 102 during the characteristic measurement is eliminated, and the temperature characteristic can be measured stably for a long time. Becomes

【0014】次に、本発明の第2実施例について説明す
る。図2は本発明の第2実施例を示す半導体測定装置の
構成図である。なお、第1実施例と同様の測定機器、被
測定半導体素子などは省略されている。この実施例の半
導体測定装置は、3軸(X軸:紙面の左右方向、Y軸:
紙面の前後方向、Z軸:紙面の上下方向)動作が可能な
基体201と、適度な弾性と剛性を有する導電性のプロ
ーブ202と、このプローブ202と測定機器との電気
的接続のための端子203と、前記プローブ202を覆
うように設けられ、柔軟性を有するチューブ204と、
このチューブ204へのガス導入口205とから構成さ
れている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is a configuration diagram of a semiconductor measuring apparatus according to a second embodiment of the present invention. It should be noted that the same measuring instruments and semiconductor devices to be measured as those in the first embodiment are omitted. The semiconductor measuring device of this embodiment has three axes (X axis: left-right direction on the paper surface, Y axis:
(The front-back direction of the paper surface, Z-axis: the vertical direction of the paper surface) A base 201 capable of operation, a conductive probe 202 having appropriate elasticity and rigidity, and a terminal for electrical connection between the probe 202 and a measuring device 203, a flexible tube 204 provided to cover the probe 202,
And a gas inlet 205 to the tube 204.

【0015】このように、第2実施例によれば、プロー
ブ202を覆うチューブ204のガス導入口205から
冷却ガスを導入するようにしたので、被測定素子として
の半導体素子の高温下での特性変動を測定する際に、特
性測定中のプローブ202の熱膨張がなくなり、長時間
に渡って安定に温度特性を測定することができる。ま
た、第2実施例によれば、冷却ガスを柔軟性を有するチ
ューブ204に導入するようにしたので、プローブ20
2の被測定半導体素子の測定用パッドへの接触圧力の微
調整が可能となり、測定用パッドの寸法が小さい場合
や、Auなど柔らかい金属で形成されている場合、また
は金属膜が薄い場合等に、測定用パッドを損傷すること
なく測定が可能となる。
As described above, according to the second embodiment, since the cooling gas is introduced from the gas inlet 205 of the tube 204 covering the probe 202, the characteristics of the semiconductor device as the device to be measured at a high temperature are obtained. When measuring the fluctuation, the thermal expansion of the probe 202 during the characteristic measurement is eliminated, and the temperature characteristic can be stably measured for a long time. Also, according to the second embodiment, the cooling gas is introduced into the flexible tube 204, so that the probe 20
2. The fine adjustment of the contact pressure of the semiconductor device to be measured on the measuring pad is possible, when the size of the measuring pad is small, when it is formed of a soft metal such as Au, or when the metal film is thin. The measurement can be performed without damaging the measurement pad.

【0016】次に、本発明の第3実施例について説明す
る。図3は本発明の第3実施例を示す半導体測定装置の
構成図である。なお、第1実施例と同様の測定機器、被
測定半導体素子などの図示は省略されている。この実施
例の半導体測定装置は、3軸(X軸:紙面の左右方向、
Y軸:紙面の前後方向、Z軸:紙面の上下方向)動作が
可能な基体301と、適度な弾性と剛性を有する導電性
のプローブ302と、このプローブ302と測定機器と
の電気的接続のための端子303と、前記プローブ30
2を覆うように設けられ、先端に上方に向かって開口部
306を有するチューブ304と、このチューブ304
へのガス導入口305とから構成されている。
Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a configuration diagram of a semiconductor measuring apparatus according to a third embodiment of the present invention. It should be noted that illustrations of the same measuring instruments and semiconductor devices to be measured as in the first embodiment are omitted. The semiconductor measuring device of this embodiment has three axes (X-axis: left-right direction on paper,
(Y-axis: front-back direction of paper surface, Z-axis: up-down direction of paper surface) Base 301 capable of operation, conductive probe 302 having appropriate elasticity and rigidity, and electrical connection between probe 302 and measuring equipment Terminal 303 for connecting the probe 30
2, a tube 304 provided to cover the top 2 and having an opening 306 upward at the tip.
And a gas inlet 305 to the gas inlet.

【0017】このように、第3実施例によれば、プロー
ブ302を覆うチューブ304のガス導入口305から
冷却ガスを導入するようにしたので、被測定半導体素子
の高温下での特性変動を測定する際に、特性測定中のプ
ローブ302の熱膨張がなくなり、長時間に渡って安定
に温度特性を測定することができる。 また、第3実施
例によれば、チューブ304に導入された冷却ガスを上
方に向けた開口部306から放出するようにしたので、
冷却ガスによる被測定半導体素子の温度低下を防止する
ことができ、第2実施例よりも更に精度の高い温度特性
の測定が可能となる。
As described above, according to the third embodiment, since the cooling gas is introduced from the gas inlet 305 of the tube 304 covering the probe 302, the characteristic fluctuation of the semiconductor device under measurement at a high temperature is measured. In this case, the thermal expansion of the probe 302 during the characteristic measurement is eliminated, and the temperature characteristic can be stably measured for a long time. According to the third embodiment, the cooling gas introduced into the tube 304 is discharged from the opening 306 facing upward.
The temperature of the semiconductor element to be measured can be prevented from lowering due to the cooling gas, and the temperature characteristics can be measured with higher accuracy than in the second embodiment.

【0018】次に、本発明の第4実施例について説明す
る。図4は本発明の第4実施例を示す半導体測定装置の
構成図であり、図4(a)はその半導体測定装置の全体
構成図、図4(b)は図4(a)のA−A′線断面図で
ある。なお、第1実施例と同様の測定機器、被測定半導
体素子などの図示は省略されている。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a configuration diagram of a semiconductor measuring apparatus showing a fourth embodiment of the present invention, FIG. 4 (a) is an overall configuration diagram of the semiconductor measuring apparatus, and FIG. It is A 'line sectional drawing. It should be noted that illustrations of the same measuring instruments and semiconductor devices to be measured as in the first embodiment are omitted.

【0019】この実施例の半導体測定装置は、3軸(X
軸:紙面の左右方向、Y軸:紙面の前後方向、Z軸:紙
面の上下方向)動作が可能な基体401と、適度な弾性
と剛性を有する導電性のプローブ402と、このプロー
ブ402と測定機器との電気的接続のための端子403
と、前記プローブ402を覆うように設けられ、かつ、
絶縁性の支持体406によってプローブ402と等距離
を保つ導電性のチューブ404と、チューブ404への
ガス導入口405とから構成されている。
The semiconductor measuring device of this embodiment has three axes (X
(Axis: left-right direction on paper surface, Y axis: front-back direction on paper surface, Z-axis: up-down direction on paper surface) Operable base 401, conductive probe 402 having appropriate elasticity and rigidity, and measurement with probe 402 Terminal 403 for electrical connection with equipment
And provided so as to cover the probe 402, and
It comprises a conductive tube 404 which is kept at the same distance from the probe 402 by an insulating support 406, and a gas inlet 405 for the tube 404.

【0020】このように、第4実施例によれば、プロー
ブ402を覆うチューブ404のガス導入口405から
冷却ガスを導入するようにしたので、被測定素子として
の半導体素子の高温下での特性変動を測定する際に、特
性測定中のプローブ402の熱膨張がなくなり、長時間
に渡って安定に温度特性を測定することができる。ま
た、第4実施例によれば、冷却ガスを導入するチューブ
404を導電性材料とし、絶縁性の支持体406によっ
て、プローブ402から等距離を保つようにしたので、
等価的に同軸構造となり、特性インピーダンスを測定系
と整合することによって、高周波測定が可能となる。
As described above, according to the fourth embodiment, since the cooling gas is introduced from the gas inlet 405 of the tube 404 covering the probe 402, the characteristics of the semiconductor device as the device to be measured at a high temperature are obtained. When measuring the fluctuation, the thermal expansion of the probe 402 during the characteristic measurement is eliminated, and the temperature characteristic can be stably measured for a long time. According to the fourth embodiment, the tube 404 for introducing the cooling gas is made of a conductive material, and the insulating support 406 keeps the same distance from the probe 402.
High frequency measurement is possible by equivalently having a coaxial structure and matching the characteristic impedance with the measurement system.

【0021】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、それらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible based on the spirit of the present invention, and these are not excluded from the scope of the present invention.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、次のような効果を奏することができる。 (A)プローブを過熱するためのヒーターを設けるよう
にしたので、半導体素子の高温下での特性変動を測定す
る際には、予めプローブを被測定素子としての半導体素
子と同一温度に過熱しておくことによって、特性測定中
のプローブの熱膨張がなくなり、長時間に渡って安定に
温度特性を測定することが可能となる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. (A) Since a heater for heating the probe is provided, when measuring the characteristic fluctuation of the semiconductor element at a high temperature, the probe is heated in advance to the same temperature as the semiconductor element as the element to be measured. By doing so, the thermal expansion of the probe during the characteristic measurement is eliminated, and the temperature characteristic can be measured stably for a long time.

【0023】(B)プローブを覆うようなチューブにガ
ス導入口から冷却ガスを導入するようにしたので、半導
体素子の高温下での特性変動を測定する際に、特性測定
中のプローブの熱膨張がなくなり、長時間に渡って安定
に温度特性を測定することができる。また、冷却ガスを
柔軟性を有するチューブに導入するようにしたので、プ
ローブの被測定半導体素子の測定用パッドへの接触圧力
の微調整が可能となり、前記測定用パッドの寸法が小さ
い場合や、Auなど柔らかい金属で形成されている場
合、または金属膜が薄い場合等に、測定用パッドを損傷
することなく測定が可能となる。
(B) Since the cooling gas is introduced into the tube covering the probe from the gas inlet, the thermal expansion of the probe during the characteristic measurement when measuring the characteristic fluctuation at a high temperature of the semiconductor element. And the temperature characteristic can be stably measured over a long period of time. Further, since the cooling gas is introduced into the flexible tube, it is possible to finely adjust the contact pressure of the probe to the measurement pad of the semiconductor element to be measured, and when the dimensions of the measurement pad are small, When a soft metal such as Au is used, or when the metal film is thin, the measurement can be performed without damaging the measurement pad.

【0024】(C)プローブを覆うようなチューブにガ
ス導入口から冷却ガスを導入するようにしたので、半導
体素子の高温下での特性変動を測定する際に、特性測定
中のプローブの熱膨張がなくなり、長時間に渡って安定
に温度特性を測定することができる。また、チューブに
導入された冷却ガスを上方に向けた開口部から放出する
ようにしたので、冷却ガスによる被測定半導体素子の温
度低下を防止することができ、精度の高い温度特性の測
定が可能となる。
(C) Since the cooling gas is introduced into the tube covering the probe from the gas introduction port, the thermal expansion of the probe during the characteristic measurement when measuring the characteristic fluctuation at a high temperature of the semiconductor element is measured. And the temperature characteristic can be stably measured over a long period of time. In addition, since the cooling gas introduced into the tube is released from the upward opening, the temperature of the semiconductor device to be measured can be prevented from lowering due to the cooling gas, and highly accurate temperature characteristics can be measured. Becomes

【0025】(D)プローブを覆うようなチューブにガ
ス導入口から冷却ガスを導入するようにしたので、半導
体素子の高温下での特性変動を測定する際に、特性測定
中のプローブの熱膨張がなくなり、長時間に渡って安定
に温度特性を測定することができる。また、冷却ガスを
導入するチューブを導電性材料とし、絶縁性の支持体に
よって、プローブから等距離を保つようにしたので、等
価的に同軸構造となり、特性インピーダンスを測定系と
整合することによって、高周波測定が可能となる。
(D) Since the cooling gas is introduced into the tube covering the probe from the gas introduction port, the thermal expansion of the probe during the characteristic measurement when measuring the characteristic fluctuation at a high temperature of the semiconductor element is measured. And the temperature characteristic can be stably measured over a long period of time. In addition, since the tube for introducing the cooling gas is made of a conductive material and is kept at the same distance from the probe by the insulating support, it becomes an equivalent coaxial structure, and by matching the characteristic impedance with the measurement system, High frequency measurement becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例を示す半導体測定装置の構
成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor measuring device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例を示す半導体測定装置の構
成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a semiconductor measuring apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3実施例を示す半導体測定装置の構
成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a semiconductor measuring apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4実施例を示す半導体測定装置の構
成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a semiconductor measuring device showing a fourth embodiment of the present invention.

【図5】従来の半導体素子の特性測定に用いるマニピュ
レータの概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a conventional manipulator used for measuring characteristics of a semiconductor element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101,201,301,401 3軸動作が可能な
基体 102,202,302,402 適度な弾性と剛性
を有する導電性のプローブ 103,105,203,303,403 端子 104 ヒーター 106 温度センサー 107 電源 108 電源制御部 109 A/D変換器 110 測定機器 111 電子制御装置 121 被測定半導体素子 122 測定用パッド 204 柔軟性を有するチューブ 205,305,405 ガス導入口 304 チューブ 306 開口部 404 プローブと等距離を保つ導電性のチューブ 406 絶縁性の支持体
101, 201, 301, 401 Base capable of three-axis operation 102, 202, 302, 402 Conductive probe 103, 105, 203, 303, 403 with appropriate elasticity and rigidity Terminal 104 Heater 106 Temperature sensor 107 Power supply 108 Power supply control unit 109 A / D converter 110 Measuring device 111 Electronic control unit 121 Semiconductor device to be measured 122 Measurement pad 204 Flexible tube 205, 305, 405 Gas inlet 304 Tube 306 Opening 404 Equivalent distance to probe Keep conductive tube 406 Insulating support

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a)3軸動作が可能な基体と、(b)該
基体に取り付けられる導電性のプローブと、(c)該導
電性のプローブに接続される測定機器と、(d)前記導
電性のプローブの温度調節機構とを具備することを特徴
とする半導体測定装置。
(A) a base capable of three-axis operation; (b) a conductive probe attached to the base; (c) a measuring instrument connected to the conductive probe; and (d). A semiconductor measuring device comprising: a temperature control mechanism for the conductive probe.
【請求項2】(a)3軸動作が可能な基体と、(b)該
基体に取り付けられる導電性のプローブと、(c)該導
電性のプローブに接続される測定機器と、(d)前記導
電性のプローブを過熱するためのヒーターと、(e)該
ヒーターに接続される電源と、(f)前記導電性のプロ
ーブの温度を検出するための温度センサーとを具備する
ことを特徴とする半導体測定装置。
(A) a base capable of three-axis operation; (b) a conductive probe attached to the base; (c) a measuring device connected to the conductive probe; and (d). A heater for heating the conductive probe, (e) a power supply connected to the heater, and (f) a temperature sensor for detecting a temperature of the conductive probe. Semiconductor measuring device.
【請求項3】(a)3軸動作が可能な基体と、(b)該
基体に取り付けられる導電性のプローブと、(c)該導
電性のプローブに接続される測定機器と、(d)前記導
電性のプローブを覆うように設けられたチューブと、
(e)該チューブへの冷却用ガス導入手段とを具備する
ことを特徴とする半導体測定装置。
(A) a base capable of three-axis operation; (b) a conductive probe attached to the base; (c) a measuring device connected to the conductive probe; and (d). A tube provided to cover the conductive probe,
(E) a semiconductor measuring apparatus comprising: means for introducing a cooling gas into the tube.
【請求項4】(a)3軸動作が可能な基体と、(b)該
基体に取り付けられる導電性のプローブと、(c)該導
電性のプローブに接続される測定機器と、(d)前記導
電性のプローブを覆うように設けられ、先端に上方に向
かって開口部を有するチューブと、(e)該チューブへ
の冷却用ガス導入手段とを具備することを特徴とする半
導体測定装置。
(A) a base capable of three-axis operation; (b) a conductive probe attached to the base; (c) a measuring instrument connected to the conductive probe; and (d). A semiconductor measuring device, comprising: a tube provided to cover the conductive probe and having an opening at the tip upward, and (e) means for introducing a cooling gas to the tube.
【請求項5】(a)3軸動作が可能な基体と、(b)該
基体に取り付けられる導電性のプローブと、(c)該導
電性のプローブに接続される測定機器と、(d)前記導
電性のプローブを覆うように設けられ、かつ、絶縁性の
支持体によって前記導電性のプローブと等距離を保つ導
電性のチューブと、(e)該チューブへの冷却用ガス導
入手段とを具備することを特徴とする半導体測定装置。
(A) a base capable of three-axis operation; (b) a conductive probe attached to the base; (c) a measuring device connected to the conductive probe; and (d). A conductive tube provided so as to cover the conductive probe and kept at the same distance from the conductive probe by an insulating support; and (e) means for introducing a cooling gas into the tube. A semiconductor measuring device, comprising:
JP9136689A 1997-05-27 1997-05-27 Semiconductor measuring apparatus Withdrawn JPH10332780A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009192309A (en) * 2008-02-13 2009-08-27 Shinko Electric Ind Co Ltd Semiconductor inspection device
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