JPH10332506A - Semiconductor pressure sensor - Google Patents

Semiconductor pressure sensor

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Publication number
JPH10332506A
JPH10332506A JP13698997A JP13698997A JPH10332506A JP H10332506 A JPH10332506 A JP H10332506A JP 13698997 A JP13698997 A JP 13698997A JP 13698997 A JP13698997 A JP 13698997A JP H10332506 A JPH10332506 A JP H10332506A
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JP
Japan
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semiconductor
substrate
sensor chip
semiconductor sensor
resin
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP13698997A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Ibara
伸行 茨
Masami Hori
正美 堀
Yasuaki Watabe
康明 渡部
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH10332506A publication Critical patent/JPH10332506A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the semiconductor pressure sensor with high reliability. SOLUTION: A semiconductor sensor chip 1 is mounted on a ceramic substrate 10. The semiconductor sensor chip 1 has piezoresistance formed on its pressure receiving diaphragm formed by forming a recessed part in the semiconductor substrate. The semiconductor sensor chip 1 and a bonding wire W are shielded by a light shield lid 40 from external light. The light shield lid 40 is adhered to the ceramic substrate 10 with an adhesive.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体圧力センサ
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor pressure sensor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体圧力センサは、例えば図2
4及び図25に示すように、半導体基板に凹所を設ける
ことによって形成された受圧ダイアフラムにピエゾ抵抗
が形成された半導体センサチップ1がセラミック基板1
0(プリント板)に実装されている。ここに、半導体セ
ンサチップ1表面の電極(図示せず)とセラミック基板
10に形成された電極13とはアルミニウム細線よりな
るボンディングワイヤWにより接続されている。また、
セラミック基板10には、半導体センサチップ1の出力
(差動出力)を増幅するための出力増幅回路が設けられ
ている。ここに、出力増幅回路は、セラミック基板10
に実装された増幅用IC30(演算増幅器)、セラミッ
ク基板10上に焼成により形成されたトリミング用の厚
膜抵抗R1,R2 などにより構成される。なお、厚膜抵
抗R1 ,R2 は、スクリーン印刷により印刷された抵抗
ペーストを焼成して形成される抵抗であり、図24中の
3,R4 は、出力増幅回路の一部を構成する厚膜抵抗
である。
2. Description of the Related Art A conventional semiconductor pressure sensor is, for example, shown in FIG.
As shown in FIG. 4 and FIG. 25, a semiconductor sensor chip 1 in which a piezoresistor is formed in a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate is a ceramic substrate 1.
0 (printed board). Here, the electrodes (not shown) on the surface of the semiconductor sensor chip 1 and the electrodes 13 formed on the ceramic substrate 10 are connected by bonding wires W made of fine aluminum wires. Also,
An output amplifier circuit for amplifying the output (differential output) of the semiconductor sensor chip 1 is provided on the ceramic substrate 10. Here, the output amplifier circuit is a ceramic substrate 10
, And thick film resistors R 1 and R 2 for trimming formed on the ceramic substrate 10 by firing. The thick film resistors R 1 and R 2 are formed by firing a resistor paste printed by screen printing, and R 3 and R 4 in FIG. 24 constitute a part of the output amplifier circuit. Thick film resistance.

【0003】半導体センサチップ1などが実装されたセ
ラミック基板10は、図26に示すような一面が開口し
た例えば樹脂製のボディ20に収納される。なお、ボデ
ィ20には、カバー(図示せず)が取着される。また、
図24中の21は半導体センサチップ1に設けられた凹
所及びセラミック基板10に穿孔された孔11に連通す
る圧力導入孔24である。
The ceramic substrate 10 on which the semiconductor sensor chip 1 and the like are mounted is housed in a body 20 made of, for example, resin having an open surface as shown in FIG. Note that a cover (not shown) is attached to the body 20. Also,
Reference numeral 21 in FIG. 24 denotes a pressure introducing hole 24 communicating with the recess provided in the semiconductor sensor chip 1 and the hole 11 formed in the ceramic substrate 10.

【0004】ところで、ボディ20には複数の金属製の
端子22が同時成形されており、出力増幅回路は、ボデ
ィ20に設けられた端子22に導電性ペースト(例え
ば、銀ペーストなど)や半田などにより接続される。こ
こに、端子22は、出力増幅回路の出力を外部へ取り出
すための端子や、出力増幅回路へ電源を供給するための
端子などを構成する。
A plurality of metal terminals 22 are formed on the body 20 at the same time, and the output amplifying circuit uses a conductive paste (for example, silver paste), solder, or the like on the terminals 22 provided on the body 20. Connected by Here, the terminal 22 constitutes a terminal for taking out the output of the output amplifier circuit to the outside, a terminal for supplying power to the output amplifier circuit, and the like.

【0005】また、その他の半導体圧力センサとして、
図27及び図28に示すように、半導体センサチップ1
とセラミック基板10との間にガラス台座5を介装した
ものもある。ここに、ガラス台座5には、半導体センサ
チップ1の凹所3及び圧力導入孔24に連通する孔6が
穿孔されている。なお、半導体センサチップ1は、半導
体基板に凹所3を設けることにより形成された受圧ダイ
アフラムの主表面にピエゾ抵抗が形成されており、ボン
ディングワイヤWによりセラミック基板10の導電部
(電極)と接続され、表面にシリコン樹脂7がコーティ
ングされている。また、図28中のCは出力増幅回路の
一部を構成するコンデンサである。また、図27(a)
中の33はセラミック基板10をボディ20に固定する
接着剤であり、同図中の34はセラミック基板10の導
電部と端子22の導通をとるための導電性ペーストであ
り、同図中の100は端子22をボディ20に一体成形
するためのフレームである。
Further, as another semiconductor pressure sensor,
As shown in FIGS. 27 and 28, the semiconductor sensor chip 1
In some cases, a glass pedestal 5 is interposed between the glass pedestal 5 and the ceramic substrate 10. Here, a hole 6 communicating with the recess 3 of the semiconductor sensor chip 1 and the pressure introducing hole 24 is formed in the glass pedestal 5. In the semiconductor sensor chip 1, a piezoresistor is formed on the main surface of a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess 3 in a semiconductor substrate, and is connected to a conductive portion (electrode) of a ceramic substrate 10 by a bonding wire W. The surface is coated with a silicone resin 7. C in FIG. 28 is a capacitor constituting a part of the output amplifier circuit. FIG. 27 (a)
Reference numeral 33 denotes an adhesive for fixing the ceramic substrate 10 to the body 20, reference numeral 34 denotes a conductive paste for establishing conduction between the conductive portion of the ceramic substrate 10 and the terminal 22, and reference numeral 100 denotes a conductive paste. Is a frame for integrally molding the terminal 22 with the body 20.

【0006】ボディ20の底面からはボディ20の内外
を連通する圧力導入孔24が穿孔された圧力導入用パイ
プ21が突出しており、また、セラミック基板10にも
孔11が形成され、半導体センサチップ1の受圧ダイア
フラムには、圧力導入パイプの圧力導入孔24からの圧
力が伝わるようになっている。また、ボディ20とボデ
ィ20に接着固定され半導体センサチップ1やセラミッ
ク基板10などを覆うカバー60とでケースが構成さ
れ、ボディ20には、半導体センサチップ1とカバー6
0との間の空間と、ケースの外部とを連通する大気導入
孔26が形成されている。
A pressure introducing pipe 21 having a pressure introducing hole 24 communicating between the inside and the outside of the body 20 projects from the bottom surface of the body 20, and a hole 11 is also formed in the ceramic substrate 10 so that a semiconductor sensor chip is formed. The pressure from the pressure introduction hole 24 of the pressure introduction pipe is transmitted to the first pressure receiving diaphragm. Further, a case is constituted by the body 20 and a cover 60 adhered and fixed to the body 20 and covering the semiconductor sensor chip 1 and the ceramic substrate 10. The body 20 includes the semiconductor sensor chip 1 and the cover 6.
An air introduction hole 26 is formed which communicates a space between 0 and the outside of the case.

【0007】この種の半導体圧力センサでは、センサ自
身の圧力に対する出力の大きさ(感度)のばらつきや、
周囲温度に対する特性の変化が大きいので要求精度に特
性を納めることが困難なことが多い。このため、組立後
にセンサの出力を一旦測定し、セラミック基板上10の
トリミング用の厚膜抵抗R1 ,R2 の抵抗値を計算によ
り求めた値(以下、所定値と称す)になるようにレーザ
でトリミングすることで、特性が所要の範囲又は目標値
に追い込むようにしている。トリミングの方法とには大
別して2種類あり、1つは厚膜抵抗の抵抗値を求めて上
記所定値になるように厚膜抵抗R1 ,R2 をトリミング
する抵抗トリミング、もう1つは出力増幅回路の出力電
圧をモニタしながら厚膜抵抗R1 ,R2 をトリミングし
て出力電圧を所定範囲または所定値に追い込むファンク
ショントリミングである。
[0007] In this type of semiconductor pressure sensor, variations in the magnitude (sensitivity) of the output with respect to the pressure of the sensor itself,
Since the change in the characteristics with respect to the ambient temperature is large, it is often difficult to control the characteristics to the required accuracy. For this reason, the output of the sensor is measured once after assembly, and the resistance values of the thick film resistors R 1 and R 2 for trimming on the ceramic substrate 10 are calculated (hereinafter, referred to as predetermined values). By trimming with a laser, the characteristics are driven to a required range or a target value. There are roughly two types of trimming methods. One is a resistor trimming for obtaining the resistance value of the thick film resistor and trimming the thick film resistors R 1 and R 2 so as to reach the predetermined value, and the other is an output. Function trimming is to trim the thick film resistors R 1 and R 2 while monitoring the output voltage of the amplifier circuit to drive the output voltage to a predetermined range or a predetermined value.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、厚膜抵抗R
1 ,R2 のトリミングには、いわゆるレーザトリミング
装置が使用される。ここに、レーザトリミング装置は、
一般的に小さなサイズの厚膜抵抗R1 ,R2 のトリミン
グを高精度に行うために、画像認識装置などを用いてセ
ラミック基板10の位置合わせを行うようになってい
る。この種の位置合わせは、セラミック基板10の厚膜
抵抗R1 ,R2 が形成された側の面(以下、この面をセ
ラミック基板10の前面と称す)にあらかじめ形成され
た位置合わせマークを検出することにより行われるの
で、セラミック基板10の前面に光を照射してセラミッ
ク基板10の前面全体を明るくする必要がある。なお、
画像認識装置を使用しない場合でも、モニタを見ながら
マニュアルで位置合わせを行う必要があるので、セラミ
ック基板10の前面に光を照射することが多い。
The thick film resistor R
1, the trimming of R 2, so-called laser trimming device is used. Here, the laser trimming device is
Generally, in order to perform high-precision trimming of the small-sized thick-film resistors R 1 and R 2 , the ceramic substrate 10 is aligned using an image recognition device or the like. This type of alignment is performed by detecting an alignment mark formed in advance on the surface of the ceramic substrate 10 on which the thick film resistors R 1 and R 2 are formed (hereinafter, this surface is referred to as the front surface of the ceramic substrate 10). Therefore, it is necessary to irradiate light to the front surface of the ceramic substrate 10 to brighten the entire front surface of the ceramic substrate 10. In addition,
Even when an image recognition device is not used, it is necessary to perform manual alignment while looking at a monitor, so that the front surface of the ceramic substrate 10 is often irradiated with light.

【0009】しかしながら、半導体圧力センサは、半導
体センサチップ1に光が照射されると半導体センサチッ
プ1自身が光起電力を発生し、この光起電力が出力増幅
回路で増幅されるので、微小な光起電力でも出力電圧と
しては大きな電圧として取り出される。このため、特に
ファクショントリミングを行う際の誤差が大きくなり、
トリミングができない場合もあった。同様に、抵抗トリ
ミングでも余分な電流が発生し、トリミング精度が低下
するという問題があった。
However, in the semiconductor pressure sensor, when the semiconductor sensor chip 1 is irradiated with light, the semiconductor sensor chip 1 itself generates photovoltaic power, which is amplified by an output amplifier circuit. Even photovoltaic power is taken out as a large output voltage. For this reason, the error especially when performing the fact trimming becomes large,
In some cases, trimming was not possible. Similarly, there is a problem that extra current is generated even in resistance trimming, and the trimming accuracy is reduced.

【0010】この種の問題を解決するために、従来は、
画像認識装置で正確な位置合わせが終了した後に位置合
わせ用の照明を消灯し、その後に、レーザ光によるトリ
ミングを行っているので、位置合わせ用照明のオンオフ
回数が多くなり、位置合わせ用照明の寿命が短くなって
しまい、レーザートリミング装置の維持費が高くなって
しまい、結果的に、製造装置の維持費を含めた製造コス
トが高くなってしまうという不具合があった。
In order to solve this kind of problem, conventionally,
After the accurate alignment is completed in the image recognition device, the illumination for the alignment is turned off, and then trimming is performed using a laser beam. The service life is shortened, the maintenance cost of the laser trimming device is increased, and as a result, the manufacturing cost including the maintenance cost of the manufacturing device is increased.

【0011】ところで、従来の半導体圧力センサは、セ
ンサの出力電圧、温度特性、増幅度などの調整を行う上
記トリミング用の厚膜抵抗の安定性及び信頼性を考慮し
てセラミック基板10にトリミング用の厚膜抵抗を焼成
しており、ボンディングワイヤWとしてアルミニウム細
線を使用している。これは、セラミック基板10は熱伝
導率が高いので、一般的に信頼性の高い金ワイヤをボン
ディングワイヤとして使用する場合、ボンディングパッ
ド部(電極)の温度を150℃程度まで上昇させるため
に、セラミック基板10を更に高温に加熱する必要があ
りからである。すなわち、セラミック基板10には、半
導体センサチップ1以外にも演算増幅器などの増幅用I
C30が存在するので、このような高温でのボンディン
グができず、金ワイヤに比べて低温でのワイヤボンディ
ングが可能なアルミニウム細線によりワイヤボンディン
グが行われるのである。
In the conventional semiconductor pressure sensor, the ceramic substrate 10 is used for trimming in consideration of the stability and reliability of the trimming thick film resistor for adjusting the output voltage, temperature characteristics, amplification degree, etc. of the sensor. And a thin aluminum wire is used as the bonding wire W. This is because the ceramic substrate 10 has a high thermal conductivity. In general, when a highly reliable gold wire is used as a bonding wire, the temperature of the bonding pad (electrode) is raised to about 150 ° C. This is because the substrate 10 needs to be heated to a higher temperature. That is, in addition to the semiconductor sensor chip 1, the ceramic substrate 10 has an amplification I / O such as an operational amplifier.
Since C30 is present, bonding at such a high temperature cannot be performed, and wire bonding is performed using an aluminum thin wire that can be bonded at a lower temperature than a gold wire.

【0012】しかしながら、アルミニウム細線は、金ワ
イヤに比べて腐蝕しやすく、高温、高湿度の環境下では
信頼性が低いという問題があった。また、金ワイヤ、ア
ルミニウム細線のいずれの場合でも、振動や衝撃により
ボンディングワイヤWが変形して断線してしまうことが
あるという不具合があった。また、従来構成の半導体圧
力センサでは、検出圧力が0.2kg/cm2 以下の微
圧になってくると、半導体センサチップ1の感度が低く
なるので、0.2kg/cm2 以下の圧力を検出したい
場合には、出力増幅回路の増幅ゲインを大きくする必要
がある。したがって、増幅用IC30のもつオフセット
電圧のドリフトがセンサのドリフトとして無視できなく
なってくるという不具合があった。特に、高湿度下にお
いて、増幅用IC30のオフセットドリフトは顕著に現
れる。なお、図26に示した従来構成のようにセラミッ
ク基板10の周囲にシリコンゲル90を封止したものも
あるが、シリコンゲル90は透湿性が高いため、高温高
湿ではほとんど効果がない。なお、図26及び図27中
の枠体110は、半導体センサチップ1へのシリコンゲ
ル90の流入を防ぐための部材である。
However, aluminum thin wires have a problem that they are more susceptible to corrosion than gold wires, and their reliability is low in a high-temperature, high-humidity environment. In addition, in either case of a gold wire or an aluminum thin wire, there is a problem that the bonding wire W may be deformed and disconnected due to vibration or impact. Further, in the semiconductor pressure sensor of the conventional configuration, when the detected pressure becomes a 0.2 kg / cm 2 or less fine pressure, the sensitivity of the semiconductor sensor chip 1 is lowered, the pressure of 0.2 kg / cm 2 or less If detection is desired, it is necessary to increase the amplification gain of the output amplifier circuit. Therefore, the drift of the offset voltage of the amplification IC 30 cannot be ignored as the drift of the sensor. In particular, under high humidity, offset drift of the amplification IC 30 appears remarkably. Although a silicon gel 90 is sealed around the ceramic substrate 10 as in the conventional configuration shown in FIG. 26, the silicon gel 90 has high moisture permeability, and thus has little effect at high temperature and high humidity. The frame 110 in FIGS. 26 and 27 is a member for preventing the silicon gel 90 from flowing into the semiconductor sensor chip 1.

【0013】本発明は上記事由に鑑みて為されたもので
あり、その目的は、信頼性の高い半導体圧力センサを提
供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor pressure sensor.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、半導体基板に凹所を設けること
によって形成された受圧ダイアフラムにピエゾ抵抗が形
成された半導体センサチップと、半導体センサチップが
実装されるとともに半導体センサチップの出力を増幅す
る増幅回路が形成された基板と、半導体センサチップの
電極とセラミック基板の電極とを接続するボンディング
ワイヤと、基板に形成され増幅回路の出力を調整するト
リミング用の抵抗とを備え、半導体センサチップが遮光
部材により遮光されて成ることを特徴とするものであ
り、トリミングを行う際に半導体センサチップに外光が
照射されることがないので、安定した特性調整ができ、
感度を高めることができるから、信頼性を高めることが
できる。また、基板の位置合わせ用照明の影響を受けず
に高精度にトリミングできるので、位置合わせ用照明の
オンオフ回数を減らすことができ、位置合わせ用照明の
寿命が長くなり、結果として、製造装置の維持費を含め
た製造コストを低減することができる。
In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a semiconductor sensor chip in which a piezoresistor is formed in a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate; A substrate on which the semiconductor sensor chip is mounted and on which an amplifier circuit for amplifying the output of the semiconductor sensor chip is formed; bonding wires connecting the electrodes of the semiconductor sensor chip and the electrodes of the ceramic substrate; A trimming resistor for adjusting the output, wherein the semiconductor sensor chip is shielded from light by a light-blocking member, so that the semiconductor sensor chip is not irradiated with external light when trimming is performed. Therefore, stable characteristic adjustment is possible,
Since the sensitivity can be increased, the reliability can be increased. In addition, since trimming can be performed with high precision without being affected by the illumination for positioning the substrate, the number of times of turning on and off the illumination for alignment can be reduced, and the life of the illumination for alignment is prolonged. Manufacturing costs including maintenance costs can be reduced.

【0015】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、遮光部材は、少なくとも半導体センサチップとボン
ディングワイヤとを覆うとともに通気孔が形成され一面
が開口した箱状の遮光蓋なので、基板へ遮光蓋を接着す
るだけで半導体センサチップの光起電力の発生を抑制す
ることができる。請求項3の発明は、請求項1又は請求
項2の発明において、遮光部材内に樹脂が充填されてい
るので、ボンディングワイヤが外気にふれるのを防止で
きるから、ボンディングワイヤの腐蝕を防止でき、さら
に、振動などの衝撃が加わった場合のボンディングワイ
ヤの変形や断線を防止することができ、信頼性を高める
ことができる。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the light-shielding member is a box-shaped light-shielding cover that covers at least the semiconductor sensor chip and the bonding wire, has a ventilation hole, and is open on one side. It is possible to suppress the generation of the photovoltaic force of the semiconductor sensor chip only by bonding the light shielding cover. According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, since the resin is filled in the light shielding member, the bonding wire can be prevented from being exposed to the outside air, so that the corrosion of the bonding wire can be prevented. Furthermore, deformation and disconnection of the bonding wire when an impact such as vibration is applied can be prevented, and reliability can be improved.

【0016】請求項4の発明は、半導体基板に凹所を設
けることによって形成された受圧ダイアフラムにピエゾ
抵抗が形成された半導体センサチップと、半導体センサ
チップが実装される基板と、半導体センサチップの電極
と基板の電極とを接続するボンディングワイヤと、少な
くとも半導体センサチップとボンディングワイヤとを覆
うように基板に取着される枠体とを備え、枠体の内側に
樹脂が充填されて成ることを特徴とするものであり、ボ
ンディングワイヤが外気にふれるのを防止できるから、
ボンディングワイヤの腐蝕を防止でき、さらに、振動な
どの衝撃が加わった場合のボンディングワイヤの変形や
断線を防止することができ、信頼性を高めることができ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor sensor chip in which a piezoresistor is formed in a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate, a substrate on which the semiconductor sensor chip is mounted, and a semiconductor sensor chip. A bonding wire for connecting the electrode and the electrode of the substrate, and a frame attached to the substrate so as to cover at least the semiconductor sensor chip and the bonding wire, wherein the inside of the frame is filled with resin. Because it can prevent the bonding wire from touching the outside air,
Corrosion of the bonding wire can be prevented, and deformation and disconnection of the bonding wire when an impact such as vibration is applied can be prevented, and reliability can be improved.

【0017】請求項5の発明は、半導体基板に凹所を設
けることによって形成された受圧ダイアフラムにピエゾ
抵抗が形成された半導体センサチップと、半導体センサ
チップの出力を増幅する増幅用ICが実装された基板
と、圧力導入口が適宜位置に形成され少なくとも半導体
センサチップと基板とが納装されるケースとを備え、基
板に接着され増幅用ICを封止する蓋部材が設けられて
成ることを特徴とするものであり、増幅用ICの耐湿性
が向上し、周囲環境の温度や湿度の変化による増幅用I
Cの特性変動を小さくすることができ、信頼性を高める
ことができる。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor sensor chip in which a piezoresistor is formed in a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate, and an amplifying IC for amplifying an output of the semiconductor sensor chip. And a case in which a pressure inlet is formed at an appropriate position and at least the semiconductor sensor chip and the substrate are provided, and a lid member that is adhered to the substrate and seals the amplification IC is provided. It is characterized by the fact that the moisture resistance of the amplification IC is improved, and the amplification IC due to changes in the ambient environment temperature and humidity.
The characteristic fluctuation of C can be reduced, and the reliability can be improved.

【0018】請求項6の発明は、請求項5の発明におい
て、蓋部材が、ケースの内周面から突設された枠状の突
起部により構成されてので、実施形態5の発明に比べて
部品点数を削減できるとともに組み立ても容易になる。
請求項7の発明は、請求項6の発明において、蓋部材と
基板とで囲まれる空間に連通し蓋部材と基板とが接着さ
れた後に封止された二次封止穴がケースに形成されてい
るので、該接着用の接着剤として一液タイプのものを使
用でき、蓋部材と基板とを接着した後の二次封止も容易
に行うことができる。
According to a sixth aspect of the present invention, as compared with the fifth aspect of the present invention, the lid member is constituted by a frame-shaped projection projecting from the inner peripheral surface of the case. The number of parts can be reduced, and assembling becomes easy.
According to a seventh aspect of the present invention, in the invention of the sixth aspect, a secondary sealing hole is formed in the case, which is communicated with a space surrounded by the lid member and the substrate, and is sealed after the lid member and the substrate are bonded. Therefore, a one-liquid type adhesive can be used as the bonding adhesive, and the secondary sealing after bonding the lid member and the substrate can be easily performed.

【0019】請求項8の発明は、請求項5又は請求項6
の発明において、蓋部材内に樹脂が充填されているの
で、さらに増幅用ICの耐湿性が向上し、周囲環境の温
度や湿度の変化による増幅用ICの特性変動を小さくす
ることができ、信頼性を高めることができる。請求項9
の発明は、請求項8の発明において、蓋部材には、基板
に接着されるときに樹脂のはみ出す方向を制御するガイ
ド溝が形成されているので、樹脂の過充填による樹脂の
はみ出し方向を制御できるから、ケースに設けられた圧
力導入孔や大気導入孔などへの樹脂の流れこみを防止す
ることができ、信頼性を高めることができる。
The invention of claim 8 is the invention of claim 5 or claim 6.
According to the invention, since the resin is filled in the lid member, the moisture resistance of the amplifier IC is further improved, and the characteristic fluctuation of the amplifier IC due to a change in ambient temperature or humidity can be reduced. Can be enhanced. Claim 9
According to the invention of claim 8, in the invention according to claim 8, since the guide groove for controlling the direction in which the resin protrudes when bonded to the substrate is formed, the direction in which the resin protrudes due to overfilling of the resin is controlled. As a result, it is possible to prevent resin from flowing into the pressure introduction hole, the air introduction hole, and the like provided in the case, and to improve reliability.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(実施形態1)本実施形態の半導体圧力センサの基本構
成は図24に示した従来構成と略同じであり、図1及び
図2に示すように、遮光性を有する材料により形成され
後面が開口した箱状の遮光蓋40を設けた点に特徴があ
る。ここに、遮光蓋40は、半導体センサチップ1とア
ルミニウム細線よりなるボンディングワイヤWとセラミ
ック基板10上に形成された電極13(ボンディングパ
ッド部)とを覆うようにセラミック基板10に取着され
る。なお、従来構成と同じ構成要素には同一の符号を付
して説明を省略し、相違する点についてのみ説明する。
(Embodiment 1) The basic configuration of a semiconductor pressure sensor of this embodiment is substantially the same as the conventional configuration shown in FIG. 24. As shown in FIG. 1 and FIG. It is characterized in that a box-shaped light shielding cover 40 is provided. Here, the light-shielding lid 40 is attached to the ceramic substrate 10 so as to cover the semiconductor sensor chip 1, the bonding wires W made of fine aluminum wires, and the electrodes 13 (bonding pad portions) formed on the ceramic substrate 10. Note that the same components as those in the conventional configuration are denoted by the same reference numerals, description thereof will be omitted, and only different points will be described.

【0021】遮光蓋40は、成形品であって、接着剤な
どによりセラミック基板10と接着される。また、遮光
蓋40は、セラミック基板10に接着された状態で遮光
蓋40の内側と外側との気圧が等しくなるように通気穴
41が適宜位置に形成されている。なお、通気穴41
は、半導体センサチップ1に外光が当たりにくい位置に
設ける必要がある。また、遮光蓋40は成形品に限らず
光を遮光できるものであればよい。
The light shielding cover 40 is a molded product, and is adhered to the ceramic substrate 10 by an adhesive or the like. In the light-shielding lid 40, ventilation holes 41 are formed at appropriate positions so that the inside and outside of the light-shielding lid 40 have the same atmospheric pressure in a state of being adhered to the ceramic substrate 10. In addition, the ventilation hole 41
Needs to be provided at a position where external light hardly hits the semiconductor sensor chip 1. The light-shielding lid 40 is not limited to a molded product, and may be any as long as it can shield light.

【0022】ところで、半導体センサチップ1の受圧ダ
イアフラムには、図3に示すようなブリッジ回路の抵抗
Ra,Rb,Rc,Rdを構成するピエゾ抵抗が形成さ
れ、セラミック基板10には厚膜抵抗R1 ,R2 が形成
されており、従来同様、厚膜抵抗R1 ,R2 の抵抗値を
トリミングで調整することで、出力増幅回路を含めたセ
ンサ全体としての出力を所定の範囲又は目標値に追い込
むようになっている。
By the way, a piezoresistor constituting the resistors Ra, Rb, Rc, Rd of the bridge circuit as shown in FIG. 3 is formed on the pressure receiving diaphragm of the semiconductor sensor chip 1, and the thick film resistor R is formed on the ceramic substrate 10. 1 and R 2 are formed, and the output of the entire sensor including the output amplifier circuit is adjusted to a predetermined range or a target value by adjusting the resistance values of the thick film resistors R 1 and R 2 by trimming as in the conventional case. I'm going to drive.

【0023】いま、ボディ20の圧力導入孔24を通し
て圧力が受圧ダイヤフラムに印加されていない状態での
出力増幅回路出力を一定値にする場合を考える。図3の
ブリッジ回路の出力端Vout1,Vout2間の電圧(差動出
力)は、半導体センサチップ1に圧力が印加されていな
い状態でも、抵抗のばらつきのため、零にならないこと
が多いので、センサの増幅出力をモニタしながら厚膜抵
抗R1 と厚膜抵抗R2とのうち少なくとも一方をレーザ
トリミングする。
Now, let us consider a case where the output of the output amplifier circuit when the pressure is not applied to the pressure receiving diaphragm through the pressure introducing hole 24 of the body 20 is set to a constant value. The voltage (differential output) between the output terminals Vout 1 and Vout 2 of the bridge circuit in FIG. 3 often does not become zero due to variation in resistance even when no pressure is applied to the semiconductor sensor chip 1. and laser trimming at least one of the thick film resistor R 1 and the thick film resistor R 2 while monitoring the amplified output of the sensor.

【0024】ここで、本実施形態では、半導体センサチ
ップ1を遮光蓋40により覆ってあるので、半導体セン
サチップ1に光起電力が発生するのを防止でき、トリミ
ング装置の画像認識等に用いる位置合わせ用照明の影響
を受けずに、高精度にトリミングすることができ、セン
サの感度を高精度化することができるから、センサの信
頼性を高めることができる。しかも、トリミング装置の
位置合わせ用の照明のオンオフ回数が減るので、位置合
わせ用照明の寿命が長くなり、結果として、製造装置の
維持費を含めた製造コストを低減することができる。
In this embodiment, since the semiconductor sensor chip 1 is covered with the light shielding cover 40, it is possible to prevent photoelectromotive force from being generated in the semiconductor sensor chip 1 and to use a position used for image recognition of the trimming device. The trimming can be performed with high accuracy without being affected by the illumination for alignment, and the sensitivity of the sensor can be improved. Therefore, the reliability of the sensor can be improved. In addition, since the number of times of turning on and off the illumination for positioning of the trimming device is reduced, the life of the illumination for alignment is prolonged, and as a result, manufacturing costs including maintenance costs of the manufacturing apparatus can be reduced.

【0025】(実施形態2)本実施形態の半導体圧力セ
ンサの基本構成は図1乃至図3に示した実施形態1と略
同じであって、図4及び図5に示すように遮光蓋40の
内側に、電気絶縁性を有し耐熱性、耐水性、耐振性など
に優れた保護剤46(例えばシリコンゲルなどの樹脂)
を充填した点に特徴がある。なお、実施形態1と同じ構
成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 2) The basic configuration of a semiconductor pressure sensor of this embodiment is substantially the same as that of Embodiment 1 shown in FIGS. 1 to 3, and as shown in FIGS. On the inside, a protective agent 46 (for example, a resin such as silicon gel) having electrical insulation and excellent heat resistance, water resistance, vibration resistance, etc.
The feature is that it is filled with. Note that the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0026】保護剤46は、遮光蓋40をセラミック基
板10に接着した後に、通気穴41から注入すればよ
い。本実施形態では、アルミニウム細線よりなるボンデ
ィングワイヤWが外気と直接触れることがなくなるの
で、高温、高湿の環境下で使用する場合でもボンディン
グワイヤWの腐蝕を防止でき、センサの信頼性が向上す
る。また、シリコンゲルは、柔軟性が高いので、衝撃を
吸収する緩衝剤の役割も果たし、振動や落下による衝撃
に対しても信頼性が向上する。
The protective agent 46 may be injected through the vent 41 after the light-shielding lid 40 is bonded to the ceramic substrate 10. In the present embodiment, since the bonding wire W made of a thin aluminum wire does not come into direct contact with the outside air, even when the bonding wire W is used in a high-temperature, high-humidity environment, corrosion of the bonding wire W can be prevented, and the reliability of the sensor is improved. . Further, since the silicone gel has high flexibility, it also plays a role of a shock absorbing agent and improves reliability against shocks due to vibrations and drops.

【0027】(実施形態3)本実施形態の半導体圧力セ
ンサの基本構成は図24及び図25に示した従来構成と
略同じであり、図6及び図7に示すように、半導体セン
サチップ1の側面及びボンディングワイヤWを囲むよう
な枠体47をセラミック基板10に接着剤により接着
し、枠体47の内側にシリコンゲルなどの保護剤46’
を充填した点に特徴がある。なお、従来構成とと同じ構
成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 3) The basic configuration of a semiconductor pressure sensor according to this embodiment is substantially the same as the conventional configuration shown in FIGS. 24 and 25, and as shown in FIGS. A frame 47 surrounding the side surface and the bonding wire W is bonded to the ceramic substrate 10 with an adhesive, and a protective agent 46 ′ such as silicon gel is provided inside the frame 47.
The feature is that it is filled with. The same components as those of the conventional configuration are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0028】本実施形態においても実施形態2と同様
に、アルミニウム細線よりなるボンディングワイヤWが
外気と直接触れることがなくなるので、高温、高湿の環
境下で使用する場合でもボンディングワイヤWの腐蝕を
防止でき、センサの信頼性が向上する。また、シリコン
ゲルは、柔軟性が高いので、衝撃を吸収する緩衝剤の役
割も果たし、振動や落下による衝撃に対しても信頼性が
向上する。
In the present embodiment, similarly to the second embodiment, the bonding wire W made of a thin aluminum wire does not come into direct contact with the outside air. Therefore, even when the bonding wire W is used in a high-temperature and high-humidity environment, the bonding wire W is not corroded. Can be prevented, and the reliability of the sensor is improved. Further, since the silicone gel has high flexibility, it also plays a role of a shock absorbing agent and improves reliability against shocks due to vibrations and drops.

【0029】(実施形態4)本実施形態の半導体圧力セ
ンサの基本構成は図27及び図28に示した従来構成と
略同じであり、図8に示すように、気密性を有する材料
により形成され後面が開口した箱状の除湿蓋50を、増
幅用IC30を覆うようにセラミック基板10に取着し
た点に特徴がある。なお、その他の構成については従来
構成と同じなので図示及び説明を省略する。
(Embodiment 4) The basic configuration of a semiconductor pressure sensor of this embodiment is substantially the same as the conventional configuration shown in FIGS. 27 and 28, and is formed of an airtight material as shown in FIG. It is characterized in that a box-shaped dehumidifying lid 50 having an open rear surface is attached to the ceramic substrate 10 so as to cover the IC 30 for amplification. The other configuration is the same as the conventional configuration, so that illustration and description are omitted.

【0030】除湿蓋50は、エポキシ系樹脂、シリコン
系樹脂などの接着剤によりセラミック基板10と接着さ
れる。また、除湿蓋50は、成形品またはセラミッック
などにより形成され、セラミック基板10に接着された
状態で所望の気密性を保てるものであればよい。また、
セラミック基板10には、増幅用IC30の実装位置に
対応付けてスルーホール12が形成されており、接着剤
として一液タイプのものを使用する場合の空気穴として
いる。スルーホール12は、除湿蓋50をセラミック基
板10に接着した後に、エポキシなどの接着剤にて封止
する。なお、このセラミック基板10にスルーホール1
2を設ける替わりに、除湿蓋50に通気穴を設けてもよ
い。
The dehumidifying lid 50 is bonded to the ceramic substrate 10 with an adhesive such as an epoxy resin or a silicon resin. Further, the dehumidifying lid 50 may be formed of a molded product or a ceramic, or the like, as long as it can maintain a desired airtightness in a state of being adhered to the ceramic substrate 10. Also,
A through hole 12 is formed in the ceramic substrate 10 in correspondence with the mounting position of the amplification IC 30, and serves as an air hole when a one-liquid type adhesive is used. The through hole 12 is sealed with an adhesive such as epoxy after bonding the dehumidifying lid 50 to the ceramic substrate 10. The ceramic substrate 10 has a through hole 1
Instead of providing 2, the dehumidifying lid 50 may be provided with a ventilation hole.

【0031】しかして、本実施形態では、増幅用IC3
0の耐湿性が飛躍的に向上し、オフセットのドリフトは
数μV程度に減少し、センサドリフトも数mVとなっ
て、使用上全く問題ないものとなる。 (実施形態5)本実施形態の半導体圧力センサの基本構
成は図27及び図28に示した従来構成と略同じあり、
図9に示すように、ボディ20の底面から突設された枠
状の仕切壁51及びボディ20の底面により形成される
IC収納室52が実施形態4における除湿蓋50を構成
した点に特徴があり、実施形態4に比べて部品点数を削
減できるとともに、組み立てが簡単になる。
In this embodiment, however, the amplification IC 3
The moisture resistance of 0 is remarkably improved, the offset drift is reduced to about several μV, and the sensor drift is also several mV, so that there is no problem in use. (Embodiment 5) The basic configuration of a semiconductor pressure sensor of this embodiment is substantially the same as the conventional configuration shown in FIGS.
As shown in FIG. 9, a feature is that a frame-shaped partition wall 51 protruding from the bottom surface of the body 20 and an IC storage chamber 52 formed by the bottom surface of the body 20 constitute the dehumidifying lid 50 in the fourth embodiment. In addition, the number of parts can be reduced as compared with the fourth embodiment, and the assembly is simplified.

【0032】本実施形態では、図10に示すように増幅
用IC30、半導体センサチップ1などが実装されたセ
ラミック基板10は、図11に示すように、ボディ20
の仕切壁51の上端面や圧力導入パイプ21aの上端面
やボディ20の適宜位置に塗られた接着剤33を介して
固定される。すなわち、セラミック基板10をボディ2
0に固定するのと同時に仕切壁51の上端面がセラミッ
ク基板10に接着される。
In the present embodiment, as shown in FIG. 10, the ceramic substrate 10 on which the amplifying IC 30, the semiconductor sensor chip 1, and the like are mounted, as shown in FIG.
Is fixed via an adhesive 33 applied to the upper end surface of the partition wall 51, the upper end surface of the pressure introducing pipe 21a, and an appropriate position of the body 20. That is, the ceramic substrate 10 is
At the same time as fixing to 0, the upper end surface of the partition wall 51 is adhered to the ceramic substrate 10.

【0033】しかして、本実施形態においても実施形態
4と同様に、増幅用ICの耐湿性が飛躍的に向上し、オ
フセットのドリフトは数μV程度に減少し、センサドリ
フトも数mVとなって、使用上全く問題ないものとな
る。 (実施形態6)本実施形態の半導体圧力センサの基本構
成は実施形態5と略同じであって、実施形態4で説明し
た通気穴としてのスルーホール12をセラミック基板1
0に設ける替わりに、図12に示すように、ボディ20
の外側からIC収納室52の内側に連通する通気穴29
を穿孔した点に特徴がある。ここに、通気穴29は、セ
ラミック基板10をボディ10に接着した後に、二次封
止する。
However, in this embodiment, similarly to the fourth embodiment, the moisture resistance of the amplifying IC is dramatically improved, the offset drift is reduced to about several μV, and the sensor drift is also several mV. And there is no problem in use. (Embodiment 6) The basic configuration of the semiconductor pressure sensor of this embodiment is substantially the same as that of Embodiment 5, and the through hole 12 as the ventilation hole described in Embodiment 4 is replaced with the ceramic substrate 1.
0, as shown in FIG.
Vent hole 29 communicating from outside to the inside of IC storage room 52
The feature is that it is perforated. Here, the ventilation holes 29 are secondarily sealed after the ceramic substrate 10 is bonded to the body 10.

【0034】しかして、本実施形態においても実施形態
4と同様に、ICの耐湿性が飛躍的に向上し、オフセッ
トのドリフトは数μV程度に減少し、センサドリフトも
数mVとなって、使用上全く問題ないものとなる。本実
施形態では、セラミック基板10にスルーホール12を
形成する工程をなくすことができるので、製造コストを
削減することができる。また、実施形態5のようにセラ
ミック基板10にスルーホール12を設けた場合に比べ
て二次封止が容易になるとともに、スルーホール12を
形成する工程をなくすことができ、製造コストを低減す
ることもできる。
In this embodiment, as in the case of the fourth embodiment, the moisture resistance of the IC is dramatically improved, the offset drift is reduced to about several μV, and the sensor drift is also several mV. Absolutely no problem. In the present embodiment, since the step of forming the through-holes 12 in the ceramic substrate 10 can be eliminated, the manufacturing cost can be reduced. Further, as compared with the case where the through hole 12 is provided in the ceramic substrate 10 as in the fifth embodiment, the secondary sealing is facilitated, and the step of forming the through hole 12 can be eliminated, thereby reducing the manufacturing cost. You can also.

【0035】(実施形態7)本実施形態の半導体圧力セ
ンサの基本構成は図27及び図28に示した従来構成と
略同じであり、図13に示すように、セラミック基板1
0に実装した増幅用IC30を樹脂71で封止を施した
点に特徴があり、本実施形態においても実施形態4と同
様に、増幅用IC30の耐湿性が飛躍的に向上し、オフ
セットのドリフトが数μV程度に減少し、センサドリフ
トも数mVとなって、使用上全く問題ないものとなる。
本実施形態では、セラミック基板10にスルーホール1
2を形成する工程をなくすことができるので、製造コス
トを削減することができる。
(Embodiment 7) The basic configuration of the semiconductor pressure sensor of this embodiment is substantially the same as the conventional configuration shown in FIGS. 27 and 28, and as shown in FIG.
This embodiment is characterized in that the amplification IC 30 mounted on the IC chip 0 is sealed with the resin 71. In this embodiment, similarly to the fourth embodiment, the moisture resistance of the amplification IC 30 is dramatically improved, and the offset drift is reduced. Is reduced to about several μV, and the sensor drift is also several mV, so that there is no problem in use.
In this embodiment, the through holes 1 are formed in the ceramic substrate 10.
Since the step of forming 2 can be eliminated, the manufacturing cost can be reduced.

【0036】なお、増幅用IC30のパッケージは、通
常のプラスチックパッケージ(例えば、いわゆるSOP
やSSOPなど)であって、封止用の樹脂は、エポキシ
系樹脂や、ウレタン系樹脂である。 (実施形態8)本実施形態の半導体圧力センサの基本構
成は図27および図28に示した従来構成と略同じあ
り、図14に示すように、増幅用IC30を囲む枠体7
2をセラミック基板10に接着し、枠体72で囲まれた
部分に樹脂71’を充填して増幅用IC30を封止した
点に特徴があり、増幅用IC30の耐湿性を高めること
ができる。ここに、枠体72は、成形品、セラミックな
どにより形成すればよいが、粘度の高い樹脂をディスペ
ンサにより塗って形成してもよい。
The package of the amplification IC 30 is a normal plastic package (for example, a so-called SOP).
, SSOP, etc.), and the sealing resin is an epoxy resin or a urethane resin. (Embodiment 8) The basic configuration of the semiconductor pressure sensor of the present embodiment is substantially the same as the conventional configuration shown in FIGS. 27 and 28, and as shown in FIG.
2 is adhered to the ceramic substrate 10, and the portion surrounded by the frame 72 is filled with the resin 71 'to seal the amplification IC 30. Thus, the moisture resistance of the amplification IC 30 can be improved. Here, the frame body 72 may be formed of a molded product, ceramic, or the like, but may be formed by applying a resin having high viscosity with a dispenser.

【0037】しかして、本実施形態においても実施形態
4と同様に、ICの耐湿性が飛躍的に向上し、オフセッ
トのドリフトが数μV程度に減少し、センサドリフトも
数mVとなって、使用上全く問題ないものとなる。とこ
ろで、本実施形態では、枠体72により樹脂71’の不
必要な拡がりを防止でき、封止用の樹脂71’による他
の部位への悪影響をなくすことができる。
In this embodiment, as in the case of the fourth embodiment, the humidity resistance of the IC is dramatically improved, the offset drift is reduced to about several μV, and the sensor drift is also several mV. Absolutely no problem. By the way, in this embodiment, the frame 72 can prevent the resin 71 ′ from being unnecessarily spread, and can eliminate the adverse effect of the sealing resin 71 ′ on other parts.

【0038】(実施形態9)本実施形態の半導体圧力セ
ンサの基本構成は図27及び図28に示した従来構成と
略同じであり、図15に示すように、一面が開口した箱
状の蓋体50によって、セラミック基板10に実装され
た増幅用IC30が覆われるとともに、蓋体50の内側
に樹脂71”が充填されている点に特徴がある。
(Embodiment 9) The basic configuration of a semiconductor pressure sensor of this embodiment is substantially the same as the conventional configuration shown in FIGS. 27 and 28, and as shown in FIG. It is characterized in that the amplification IC 30 mounted on the ceramic substrate 10 is covered by the body 50 and the resin 71 ″ is filled inside the lid body 50.

【0039】しかして、本実施形態においても実施形態
4と同様に、ICの耐湿性が飛躍的に向上し、オフセッ
トのドリフトは数μV程度に減少し、センサドリフトも
数mVとなって、使用上全く問題ないものとなる。な
お、蓋体50は、図16(a)に示すように樹脂71”
が適宜量だけ充填された後に、図16(b)に示すよう
にセラミック基板10に実装された増幅用IC30を覆
うように接着される。
In this embodiment, as in the case of the fourth embodiment, the moisture resistance of the IC is remarkably improved, the offset drift is reduced to about several μV, and the sensor drift is reduced to several mV. Absolutely no problem. The lid 50 is made of a resin 71 ″ as shown in FIG.
Is filled in an appropriate amount, and then bonded so as to cover the amplification IC 30 mounted on the ceramic substrate 10 as shown in FIG.

【0040】(実施形態10)本実施形態の半導体圧力
センサの基本構成は図27及び図28に示した従来構成
と略同じであり、図17に示すように、ボディ20の底
面から突設された枠状の仕切壁51及び底面により形成
されるIC収納室を設け、このIC収納室に樹脂77が
封止されたものであり、実施形態9における蓋体50が
ボディ20に一体形成されたものに相当する。
(Embodiment 10) The basic configuration of a semiconductor pressure sensor of this embodiment is substantially the same as the conventional configuration shown in FIGS. 27 and 28. As shown in FIG. An IC accommodating chamber formed by a frame-shaped partition wall 51 and a bottom surface is provided, and a resin 77 is sealed in the IC accommodating chamber. The lid 50 according to the ninth embodiment is integrally formed with the body 20. Equivalent to something.

【0041】すなわち、本実施形態では、図18に示す
ように増幅用IC30、半導体センサチップ1などが実
装されたセラミック基板10を、図19に示すようにI
C収納室に封止樹脂が適宜量だけ充填されるとともに所
定位置(圧力導入パイプ21aの上端面やボディ20の
周壁の形成された段部の一部)に接着剤33が塗布され
たボディ20に接着固定される。
That is, in the present embodiment, the ceramic substrate 10 on which the amplifying IC 30 and the semiconductor sensor chip 1 are mounted as shown in FIG.
The body 20 in which the C storage chamber is filled with an appropriate amount of the sealing resin and the adhesive 33 is applied to a predetermined position (the upper end surface of the pressure introducing pipe 21a or a part of the step formed with the peripheral wall of the body 20). Adhesively fixed.

【0042】しかして、本実施形態では、実施形態9に
比べて部品点数を削減できるとともに、組立が簡単にな
る。 (実施形態11)ところで、実施形態9の半導体圧力セ
ンサでは、蓋体50に樹脂71”を充填した後に該蓋体
50を増幅用IC30の上にかぶせる際に、樹脂71”
が蓋体50からはみ出してボディ20に形成された圧力
導入孔11や大気導入孔26が塞がれてしまう恐れがあ
った。
Thus, in the present embodiment, the number of components can be reduced as compared with the ninth embodiment, and the assembly is simplified. (Embodiment 11) By the way, in the semiconductor pressure sensor according to the ninth embodiment, when the cover 50 is covered with the resin 71 ″ after the cover 50 is placed on the amplification IC 30, the resin 71 ″ is used.
There is a possibility that the pressure-introducing hole 11 and the air-introducing hole 26 formed in the body 20 may protrude from the lid 50 and be closed.

【0043】本実施形態は、この種の不具合を解決する
ために、図20及び図21に示すように、蓋体50に、
樹脂71”がはみ出しても良い部分に樹脂71”のはみ
出し方向を制御する切欠部50a(ガイド溝)を形成し
た点に特徴がある。すなわち、本実施形態では、蓋体5
0の4つの側面のうち圧力導入孔11や大気導入孔26
の形成されている部位と対向していない2つの面に切欠
部50aを形成してある。しかして、本実施形態では、
蓋体50からはみ出そうとする樹脂71”のほとんどが
切欠部50aからはみ出すので、圧力導入孔11や大気
導入孔26が樹脂71”で塞がれるのを防止することが
できる。
In the present embodiment, as shown in FIGS. 20 and 21, a cover 50 is provided to solve this kind of problem.
It is characterized in that a notch 50a (guide groove) for controlling the direction in which the resin 71 "protrudes is formed in a portion where the resin 71" may protrude. That is, in the present embodiment, the lid 5
0, the pressure introduction hole 11 and the air introduction hole 26
Notches 50a are formed on two surfaces that are not opposed to the portion where the is formed. Thus, in this embodiment,
Since most of the resin 71 ″ that protrudes from the lid 50 protrudes from the notch 50 a, it is possible to prevent the pressure introduction hole 11 and the air introduction hole 26 from being blocked by the resin 71 ″.

【0044】(実施形態12)ところで、実施形態10
のようにIC収納室に予め樹脂77を充填した後にセラ
ミック基板10をボディに20に固着する場合にも、樹
脂77がIC収納室からはみ出してしまうので、はみ出
した樹脂77によって大気導入孔26が塞がれてしまう
恐れがあった。
(Embodiment 12) Embodiment 10
When the ceramic substrate 10 is fixed to the body 20 after the resin accommodating chamber is filled with the resin 77 in advance, the resin 77 protrudes from the IC accommodating chamber. There was a risk of being blocked.

【0045】本実施形態は、この種の不具合を解決する
ために、図22に示すように、IC収納室の仕切壁51
に、樹脂がはみ出しても良い部分に樹脂のはみ出し方向
を制御する切欠部51aを形成した点に特徴がある。す
なわち、本実施形態では、仕切壁51の4つの側面のう
ち大気導入孔26に近い面に直交する両側面に切欠部5
1を形成してある。しかして、本実施形態では、樹脂の
ほとんどが切欠部51からはみ出すので、大気導入孔2
6に樹脂が流れ込むのを防止することができる。
In this embodiment, as shown in FIG. 22, a partition wall 51 of an IC storage room is used to solve this kind of problem.
Another feature is that a notch 51a for controlling the direction in which the resin protrudes is formed in a portion where the resin may protrude. That is, in the present embodiment, the notches 5 are formed on both side surfaces of the four side surfaces of the partition wall 51 that are orthogonal to the surface near the air introduction hole 26.
1 is formed. In this embodiment, since most of the resin protrudes from the notch 51, the air introduction hole 2
6 can be prevented from flowing into the resin.

【0046】(実施形態13)ところで、上記各実施形
態では、半導体センサチップ1と増幅用IC30とのう
ちどちらかに1つについてセンサの信頼性を高めるため
の構成を備えているが、これらを組み合わせてもよく、
例えば、実施形態2と実施形態10とを組み合わせて図
23に示すような半導体圧力センサを構成してもよい。
すなわち、図23に示す半導体圧力センサでは、半導体
センサチップ1、ボンディングヤイヤWなどを遮光蓋4
0で覆うとともに保護剤46で封止し、また、ボディ2
0に一体形成された枠状の仕切壁51により構成される
IC収納室によって増幅用IC30を覆いIC収納室に
樹脂77を封止してある。したがって、本実施形態で
は、実施形態2で得られる効果と実施形態10で得られ
る効果の両方を得ることができる。
(Embodiment 13) In each of the above embodiments, one of the semiconductor sensor chip 1 and the amplifying IC 30 is provided with a configuration for improving the reliability of the sensor. May be combined,
For example, the semiconductor pressure sensor as shown in FIG. 23 may be configured by combining Embodiment 2 and Embodiment 10.
That is, in the semiconductor pressure sensor shown in FIG. 23, the semiconductor sensor chip 1, the bonding wire W, etc.
0 and sealed with a protective agent 46.
The amplifying IC 30 is covered by an IC storage chamber formed by a frame-shaped partition wall 51 integrally formed with the resin housing 77, and a resin 77 is sealed in the IC storage chamber. Therefore, in the present embodiment, both the effects obtained in the second embodiment and the effects obtained in the tenth embodiment can be obtained.

【0047】要するに、本実施形態では、半導体センサ
チップ1が遮光蓋40により遮光されているので、トリ
ミングを行う際に半導体センサチップ1に外光が照射さ
れることがなくなり、安定した特性調整ができ、感度を
高めることができるから、信頼性を高めることができ
る。また、セラミック基板10の位置合わせ用照明の影
響を受けずに高精度にトリミングできるので、位置合わ
せ用照明のオンオフ回数を減らすことができ、位置合わ
せ用照明の寿命が長くなり、結果として、製造装置の維
持費を含めた製造コストを低減することができる。しか
も、ボンディングワイヤWが外気にふれるのを防止でき
るから、ボンディングワイヤWの腐蝕を防止でき、さら
に、振動などの衝撃が加わった場合のボンディングワイ
ヤWの変形や断線を防止することができ、信頼性を高め
ることができる。さらに、増幅用IC30の耐湿性が向
上し、周囲環境の温度や湿度の変化による増幅用IC3
0の特性変動を小さくすることができ、信頼性を高める
ことができる
In short, in the present embodiment, since the semiconductor sensor chip 1 is shielded from light by the light shielding cover 40, the semiconductor sensor chip 1 is not irradiated with external light when trimming is performed, and stable characteristic adjustment can be performed. And the sensitivity can be increased, so that the reliability can be increased. In addition, since the trimming can be performed with high accuracy without being affected by the alignment lighting of the ceramic substrate 10, the number of times of turning on and off the alignment lighting can be reduced, and the life of the alignment lighting is prolonged. The manufacturing cost including the maintenance cost of the device can be reduced. Moreover, since the bonding wire W can be prevented from being exposed to the outside air, corrosion of the bonding wire W can be prevented, and furthermore, deformation and disconnection of the bonding wire W when an impact such as vibration is applied can be prevented. Can be enhanced. Furthermore, the moisture resistance of the amplification IC 30 is improved, and the amplification IC 30
0 characteristic fluctuation can be reduced, and reliability can be improved.

【0048】[0048]

【発明の効果】請求項1の発明は、半導体基板に凹所を
設けることによって形成された受圧ダイアフラムにピエ
ゾ抵抗が形成された半導体センサチップと、半導体セン
サチップが実装されるとともに半導体センサチップの出
力を増幅する増幅回路が形成された基板と、半導体セン
サチップの電極とセラミック基板の電極とを接続するボ
ンディングワイヤと、基板に形成され増幅回路の出力を
調整するトリミング用の抵抗とを備え、半導体センサチ
ップが遮光部材により遮光されているので、トリミング
を行う際に半導体センサチップに外光が照射されること
がなくなり、安定した特性調整ができ、感度を高めるこ
とができるから、信頼性を高めることができる。また、
基板の位置合わせ用照明の影響を受けずに高精度にトリ
ミングできるので、位置合わせ用照明のオンオフ回数を
減らすことができ、位置合わせ用照明の寿命が長くな
り、結果として、製造装置の維持費を含めた製造コスト
を低減することができるという効果がある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor sensor chip in which a piezoresistor is formed in a pressure-receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate; A substrate on which an amplifier circuit for amplifying the output is formed, a bonding wire connecting the electrode of the semiconductor sensor chip and the electrode of the ceramic substrate, and a trimming resistor formed on the substrate and adjusting the output of the amplifier circuit; Since the semiconductor sensor chip is shielded from light by the light shielding member, the semiconductor sensor chip is not irradiated with external light during trimming, stable characteristic adjustment can be performed, and sensitivity can be increased, so reliability can be improved. Can be enhanced. Also,
High-precision trimming can be performed without being affected by the substrate positioning illumination, so that the number of times the positioning illumination needs to be turned on and off can be reduced, and the life of the positioning illumination can be prolonged. There is an effect that the manufacturing cost including the above can be reduced.

【0049】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、遮光部材は、少なくとも半導体センサチップとボン
ディングワイヤとを覆うとともに通気孔が形成され一面
が開口した箱状の遮光蓋なので、基板へ遮光蓋を接着す
るだけで半導体センサチップの光起電力の発生を抑制す
ることができるという効果がある。請求項3の発明は、
請求項1又は請求項2の発明において、遮光部材内に樹
脂が充填されているので、ボンディングワイヤが外気に
ふれるのを防止できるから、ボンディングワイヤの腐蝕
を防止でき、さらに、振動などの衝撃が加わった場合の
ボンディングワイヤの変形や断線を防止することがで
き、信頼性を高めることができるという効果がある。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the light-shielding member is a box-shaped light-shielding cover that covers at least the semiconductor sensor chip and the bonding wire, has a ventilation hole, and is open on one side. There is an effect that generation of photoelectromotive force of the semiconductor sensor chip can be suppressed only by bonding the light shielding cover. The invention of claim 3 is
In the first or second aspect of the present invention, since the resin is filled in the light shielding member, it is possible to prevent the bonding wire from being exposed to the outside air, so that the bonding wire can be prevented from being corroded, and furthermore, shock such as vibration can be prevented. It is possible to prevent deformation and disconnection of the bonding wire when added, and it is possible to improve the reliability.

【0050】請求項4の発明は、半導体基板に凹所を設
けることによって形成された受圧ダイアフラムにピエゾ
抵抗が形成された半導体センサチップと、半導体センサ
チップが実装される基板と、半導体センサチップの電極
と基板の電極とを接続するボンディングワイヤと、少な
くとも半導体センサチップとボンディングワイヤとを覆
うように基板に取着される枠体とを備え、枠体の内側に
樹脂が充填されて成ることを特徴とするものであり、ボ
ンディングワイヤが外気にふれるのを防止できるから、
ボンディングワイヤの腐蝕を防止でき、さらに、振動な
どの衝撃が加わった場合のボンディングワイヤの変形や
断線を防止することができ、信頼性を高めることができ
るという効果がある。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor sensor chip in which a piezoresistor is formed in a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate, a substrate on which the semiconductor sensor chip is mounted, and a semiconductor sensor chip. A bonding wire for connecting the electrode and the electrode of the substrate, and a frame attached to the substrate so as to cover at least the semiconductor sensor chip and the bonding wire, wherein the inside of the frame is filled with resin. Because it can prevent the bonding wire from touching the outside air,
Corrosion of the bonding wire can be prevented, and furthermore, deformation and disconnection of the bonding wire when an impact such as vibration is applied can be prevented, so that reliability can be improved.

【0051】請求項5の発明は、半導体基板に凹所を設
けることによって形成された受圧ダイアフラムにピエゾ
抵抗が形成された半導体センサチップと、半導体センサ
チップの出力を増幅する増幅用ICが実装された基板
と、圧力導入口が適宜位置に形成され少なくとも半導体
センサチップと基板とが納装されるケースとを備え、基
板に接着され増幅用ICを封止する蓋部材が設けられて
成ることを特徴とするものであり、増幅用ICの耐湿性
が向上し、周囲環境の温度や湿度の変化による増幅用I
Cの特性変動を小さくすることができ、信頼性を高める
ことができるという効果がある。
According to a fifth aspect of the present invention, a semiconductor sensor chip having a piezoresistor formed in a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate, and an amplifying IC for amplifying an output of the semiconductor sensor chip are mounted. And a case in which a pressure inlet is formed at an appropriate position and at least the semiconductor sensor chip and the substrate are provided, and a lid member that is adhered to the substrate and seals the amplification IC is provided. It is characterized by the fact that the moisture resistance of the amplification IC is improved, and the amplification IC due to changes in the ambient environment temperature and humidity.
There is an effect that the characteristic fluctuation of C can be reduced and the reliability can be improved.

【0052】請求項6の発明は、請求項5の発明におい
て、蓋部材が、ケースの内周面から突設された枠状の突
起部により構成されてので、実施形態5の発明に比べて
部品点数を削減できるとともに組み立ても容易になると
いう効果がある。請求項7の発明は、請求項6の発明に
おいて、蓋部材と基板とで囲まれる空間に連通し蓋部材
と基板とが接着された後に封止された二次封止穴がケー
スに形成されているので、該接着用の接着剤として一液
タイプのものを使用でき、蓋部材と基板とを接着した後
の二次封止も容易に行うことができるという効果があ
る。
According to a sixth aspect of the present invention, as compared with the fifth aspect of the present invention, the lid member is constituted by a frame-shaped projection projecting from the inner peripheral surface of the case. This has the effect of reducing the number of parts and facilitating assembly. According to a seventh aspect of the present invention, in the invention of the sixth aspect, a secondary sealing hole is formed in the case, which is communicated with a space surrounded by the lid member and the substrate, and is sealed after the lid member and the substrate are bonded. Therefore, a one-liquid type adhesive can be used as the bonding adhesive, and the secondary sealing after bonding the lid member and the substrate can be easily performed.

【0053】請求項8の発明は、請求項5又は請求項6
の発明において、蓋部材内に樹脂が充填されているの
で、さらに増幅用ICの耐湿性が向上し、周囲環境の温
度や湿度の変化による増幅用ICの特性変動を小さくす
ることができ、信頼性を高めることができるという効果
がある。請求項9の発明は、請求項8の発明において、
蓋部材には、基板に接着されるときに樹脂のはみ出す方
向を制御するガイド溝が形成されているので、樹脂の過
充填による樹脂のはみ出し方向を制御できるから、ケー
スに設けられた圧力導入孔や大気導入孔などへの樹脂の
流れこみを防止することができ、信頼性を高めることが
できるという効果がある。
The invention of claim 8 is the invention of claim 5 or claim 6.
According to the invention, since the resin is filled in the lid member, the moisture resistance of the amplifier IC is further improved, and the characteristic fluctuation of the amplifier IC due to a change in ambient temperature or humidity can be reduced. There is an effect that the property can be improved. The invention according to claim 9 is the invention according to claim 8,
Since the cover member has a guide groove for controlling the direction in which the resin protrudes when it is bonded to the substrate, the direction in which the resin protrudes due to overfilling of the resin can be controlled. It is possible to prevent the resin from flowing into the air or the air introduction hole, and to improve the reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態1における半導体圧力センサのカバー
を取り外した状態を示し、(a)は平面図、(b)は断
面図である。
FIGS. 1A and 1B show a state where a cover of a semiconductor pressure sensor according to a first embodiment is removed, wherein FIG. 1A is a plan view and FIG.

【図2】同上における要部を示し、(a)は平面図、
(b)は断面図である。
FIG. 2 shows a main part of the above, (a) is a plan view,
(B) is a sectional view.

【図3】同上における要部回路図である。FIG. 3 is a main part circuit diagram in the same.

【図4】実施形態2における半導体圧力センサのカバー
を取り外した状態を示し、(a)は平面図、(b)は断
面図である。
4A and 4B show a state where a cover of a semiconductor pressure sensor according to a second embodiment is removed, wherein FIG. 4A is a plan view and FIG.

【図5】同上における要部を示し、(a)は平面図、
(b)は断面図である。
FIG. 5 shows a main part of the above, (a) is a plan view,
(B) is a sectional view.

【図6】実施形態3における半導体圧力センサのカバー
を取り外した状態を示し、(a)は平面図、(b)は断
面図である。
6A and 6B show a state in which a cover of the semiconductor pressure sensor according to the third embodiment is removed, wherein FIG. 6A is a plan view and FIG. 6B is a cross-sectional view.

【図7】同上における要部を示し、(a)は平面図、
(b)は断面図である。
FIGS. 7A and 7B show essential parts of the above, FIG.
(B) is a sectional view.

【図8】実施形態4における要部を示し、(a)は平面
図、(b)は断面図である。
8A and 8B show a main part in a fourth embodiment, where FIG. 8A is a plan view and FIG. 8B is a cross-sectional view.

【図9】実施形態5を示し、(a)はカバーを取り外し
た状態の平面図、(b)は断面図である。
9A and 9B show a fifth embodiment, in which FIG. 9A is a plan view with a cover removed, and FIG. 9B is a cross-sectional view.

【図10】同上の要部を示し、(a)は後面側から見た
概略外観斜視図、(b)は前面側から見た概略外観斜視
図である。
10A and 10B show essential parts of the above, wherein FIG. 10A is a schematic external perspective view seen from the rear side, and FIG. 10B is a schematic external perspective view seen from the front side.

【図11】同上におけるセラミック基板のボディへの組
み込み方の説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram of how the ceramic substrate is incorporated into a body in the above.

【図12】実施形態6を示し、(a)はカバーを取り外
した状態の平面図、(b)は断面図である。
12A and 12B show a sixth embodiment, in which FIG. 12A is a plan view with a cover removed, and FIG. 12B is a cross-sectional view.

【図13】実施形態7における要部を示し、(a)は平
面図、(b)は断面図である。
13A and 13B show a main part in a seventh embodiment, where FIG. 13A is a plan view and FIG. 13B is a cross-sectional view.

【図14】実施形態8における要部を示し、(a)は平
面図、(b)は断面図である。
14A and 14B show a main part in an eighth embodiment, where FIG. 14A is a plan view and FIG. 14B is a cross-sectional view.

【図15】実施形態9における要部を示し、(a)は平
面図、(b)は断面図である。
15A and 15B show a main part in a ninth embodiment, where FIG. 15A is a plan view and FIG. 15B is a cross-sectional view.

【図16】同上の組立工程の説明図である。FIG. 16 is an explanatory diagram of an assembling step of the embodiment.

【図17】実施形態10を示し、(a)はカバーを取り
外した状態の平面図、(b)は断面図である。
FIGS. 17A and 17B show the tenth embodiment, wherein FIG. 17A is a plan view with a cover removed, and FIG.

【図18】同上の要部を示し、(a)は背面側から見た
概略外観斜視図、(b)は前面側から見た概略外観斜視
図である。
18 (a) and 18 (b) are schematic perspective views of the essential parts of the above, as viewed from the rear side, and FIG. 18 (b) is a schematic perspective view of the external parts viewed from the front side.

【図19】同上におけるセラミック基板のボディへの組
み込み方の説明図である。
FIG. 19 is an explanatory diagram of how to incorporate the ceramic substrate into the body in the above.

【図20】実施形態11の要部を示し、(a)は平面
図、(b)は断面図である。
FIGS. 20A and 20B show a main part of the eleventh embodiment, wherein FIG. 20A is a plan view and FIG.

【図21】同上におけるセラミック基板のボディへの組
み込み方の説明図である。
FIG. 21 is an explanatory diagram of how to incorporate the ceramic substrate into the body in the above.

【図22】実施形態12におけるセラミック基板のボデ
ィへの組み込み方の説明図である。
FIG. 22 is an explanatory diagram of a method of incorporating a ceramic substrate into a body according to a twelfth embodiment.

【図23】実施形態13を示し、(a)はカバーを取り
外した状態の平面図、(b)は断面図である。
23 shows the thirteenth embodiment, (a) is a plan view with a cover removed, and (b) is a cross-sectional view. FIG.

【図24】従来例を示し、(a)はカバーを取り外した
状態の平面図、(b)はカバーを取り外した状態の断面
図である。
24A and 24B show a conventional example, in which FIG. 24A is a plan view with a cover removed, and FIG. 24B is a cross-sectional view with the cover removed.

【図25】同上の要部を示し、(a)は平面図、(b)
は正面図である。
25 (a) is a plan view, and FIG.
Is a front view.

【図26】同上におけるボディの外観斜視図である。FIG. 26 is an external perspective view of the body in the above.

【図27】他の従来例を示し、(a)はカバーを取り外
した状態の平面図、(b)は断面図である。
27A and 27B show another conventional example, in which FIG. 27A is a plan view with a cover removed, and FIG. 27B is a cross-sectional view.

【図28】同上の要部を示し、(a)は平面図、(b)
は正面図である。
28 (a) is a plan view, and FIG.
Is a front view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 センサチップ 10 セラミック基板 20 ボディ 24 圧力導入孔 30 増幅用IC 40 遮光蓋 41 通気穴 W ボンディングワイヤ R1 ,R2 厚膜抵抗1 sensor chip 10 ceramic substrate 20 body 24 the pressure introducing hole 30 for amplifying IC 40 shielding cover 41 vent W bonding wire R 1, R 2 film resistor

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成9年7月7日[Submission date] July 7, 1997

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0007[Correction target item name] 0007

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0007】この種の半導体圧力センサでは、センサ自
身の圧力に対する出力の大きさ(感度)のばらつきや、
周囲温度に対する特性の変化が大きいので要求精度に特
性を納めることが困難なことが多い。このため、組立後
にセンサの出力を一旦測定し、セラミック基板上10の
トリミング用の厚膜抵抗R1 ,R2 の抵抗値を計算によ
り求めた値(以下、所定値と称す)になるようにレーザ
でトリミングすることで、特性が所要の範囲又は目標値
に追い込むようにしている。トリミングの方法には大別
して2種類あり、1つは厚膜抵抗の抵抗値を求めて上記
所定値になるように厚膜抵抗R1 ,R2 をトリミングす
る抵抗トリミング、もう1つは出力増幅回路の出力電圧
をモニタしながら厚膜抵抗R1 ,R2 をトリミングして
出力電圧を所定範囲または所定値に追い込むファンクシ
ョントリミングである。
[0007] In this type of semiconductor pressure sensor, variations in the magnitude (sensitivity) of the output with respect to the pressure of the sensor itself,
Since the change in the characteristics with respect to the ambient temperature is large, it is often difficult to control the characteristics to the required accuracy. For this reason, the output of the sensor is measured once after assembly, and the resistance values of the thick film resistors R 1 and R 2 for trimming on the ceramic substrate 10 are calculated (hereinafter, referred to as predetermined values). By trimming with a laser, the characteristics are driven to a required range or a target value. There are roughly two types of trimming methods. One is a method of obtaining the resistance value of the thick film resistor and trimming the thick film resistors R 1 and R 2 so as to reach the predetermined value, and the other is an output amplification. This is a function trimming in which the thick film resistors R 1 and R 2 are trimmed while monitoring the output voltage of the circuit to drive the output voltage to a predetermined range or a predetermined value.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、半導体基板に凹所を設けること
によって形成された受圧ダイアフラムにピエゾ抵抗が形
成された半導体センサチップと、半導体センサチップが
実装されるとともに半導体センサチップの出力を増幅す
る増幅回路が形成された基板と、半導体センサチップの
電極とセラミック基板の電極とを接続するボンディング
ワイヤと、基板に形成され増幅回路の出力を調整するト
リミング用の抵抗とを備え、半導体センサチップが遮光
部材により遮光されて成ることを特徴とするものであ
り、トリミングを行う際に半導体センサチップに外光が
照射されることがないので、安定した特性調整ができ
調整の精度を高めることができるから、信頼性を高める
ことができる。また、基板の位置合わせ用照明の影響を
受けずに高精度にトリミングできるので、位置合わせ用
照明のオンオフ回数を減らすことができ、位置合わせ用
照明の寿命が長くなり、結果として、製造装置の維持費
を含めた製造コストを低減することができる。
In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a semiconductor sensor chip in which a piezoresistor is formed in a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate; A substrate on which the semiconductor sensor chip is mounted and on which an amplifier circuit for amplifying the output of the semiconductor sensor chip is formed; bonding wires connecting the electrodes of the semiconductor sensor chip and the electrodes of the ceramic substrate; A trimming resistor for adjusting the output, wherein the semiconductor sensor chip is shielded from light by a light-blocking member, so that the semiconductor sensor chip is not irradiated with external light when trimming is performed. Therefore, stable characteristic adjustment is possible ,
Since the accuracy of the adjustment can be improved , the reliability can be improved. In addition, since trimming can be performed with high precision without being affected by the illumination for positioning the substrate, the number of times of turning on and off the illumination for alignment can be reduced, and the life of the illumination for alignment is prolonged. Manufacturing costs including maintenance costs can be reduced.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0018[Correction target item name] 0018

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0018】請求項6の発明は、請求項5の発明におい
て、蓋部材が、ケースの内周面から突設された枠状の突
起部により構成されるので、実施形態5の発明に比べて
部品点数を削減できるとともに組み立ても容易になる。
請求項7の発明は、請求項6の発明において、蓋部材と
基板とで囲まれる空間に連通し蓋部材と基板とが接着さ
れた後に封止された二次封止穴がケースに形成されてい
るので、該接着用の接着剤として一液タイプのものを使
用でき、蓋部材と基板とを接着した後の二次封止も容易
に行うことができる。
According to a sixth aspect of the present invention, as compared with the fifth aspect of the present invention, the lid member is constituted by a frame-shaped protrusion projecting from the inner peripheral surface of the case. The number of parts can be reduced, and assembling becomes easy.
According to a seventh aspect of the present invention, in the invention of the sixth aspect, a secondary sealing hole is formed in the case, which is communicated with a space surrounded by the lid member and the substrate, and is sealed after the lid member and the substrate are bonded. Therefore, a one-liquid type adhesive can be used as the bonding adhesive, and the secondary sealing after bonding the lid member and the substrate can be easily performed.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0024[Correction target item name] 0024

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0024】ここで、本実施形態では、半導体センサチ
ップ1を遮光蓋40により覆ってあるので、半導体セン
サチップ1に光起電力が発生するのを防止でき、トリミ
ング装置の画像認識等に用いる位置合わせ用照明の影響
を受けずに、高精度にトリミングすることができ、調整
の精度を高めることができるから、センサの信頼性を高
めることができる。しかも、トリミング装置の位置合わ
せ用の照明のオンオフ回数が減るので、位置合わせ用照
明の寿命が長くなり、結果として、製造装置の維持費を
含めた製造コストを低減することができる。
In this embodiment, since the semiconductor sensor chip 1 is covered with the light shielding cover 40, it is possible to prevent photoelectromotive force from being generated in the semiconductor sensor chip 1 and to use a position used for image recognition of the trimming device. It can be trimmed with high accuracy without being affected by the lighting for alignment, and can be adjusted
Therefore , the reliability of the sensor can be increased. In addition, since the number of times of turning on and off the illumination for positioning of the trimming device is reduced, the life of the illumination for alignment is prolonged, and as a result, manufacturing costs including maintenance costs of the manufacturing apparatus can be reduced.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0048[Correction target item name] 0048

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0048】[0048]

【発明の効果】請求項1の発明は、半導体基板に凹所を
設けることによって形成された受圧ダイアフラムにピエ
ゾ抵抗が形成された半導体センサチップと、半導体セン
サチップが実装されるとともに半導体センサチップの出
力を増幅する増幅回路が形成された基板と、半導体セン
サチップの電極とセラミック基板の電極とを接続するボ
ンディングワイヤと、基板に形成され増幅回路の出力を
調整するトリミング用の抵抗とを備え、半導体センサチ
ップが遮光部材により遮光されているので、トリミング
を行う際に半導体センサチップに外光が照射されること
がなくなり、安定した特性調整ができ、調整の精度を高
めることができるから、信頼性を高めることができる。
また、基板の位置合わせ用照明の影響を受けずに高精度
にトリミングできるので、位置合わせ用照明のオンオフ
回数を減らすことができ、位置合わせ用照明の寿命が長
くなり、結果として、製造装置の維持費を含めた製造コ
ストを低減することができるという効果がある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor sensor chip in which a piezoresistor is formed in a pressure-receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate; A substrate on which an amplifier circuit for amplifying the output is formed, a bonding wire connecting the electrode of the semiconductor sensor chip and the electrode of the ceramic substrate, and a trimming resistor formed on the substrate and adjusting the output of the amplifier circuit; Since the semiconductor sensor chip is shielded from light by the light shielding member, the semiconductor sensor chip is not irradiated with external light during trimming, stable characteristic adjustment can be performed , and the adjustment accuracy can be improved.
Because it is Mel that, it is possible to improve the reliability.
In addition, since trimming can be performed with high precision without being affected by the illumination for positioning the substrate, the number of times of turning on and off the illumination for alignment can be reduced, and the life of the illumination for alignment is prolonged. There is an effect that manufacturing costs including maintenance costs can be reduced.

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0052[Correction target item name] 0052

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0052】請求項6の発明は、請求項5の発明におい
て、蓋部材が、ケースの内周面から突設された枠状の突
起部により構成されるので、実施形態5の発明に比べて
部品点数を削減できるとともに組み立ても容易になると
いう効果がある。請求項7の発明は、請求項6の発明に
おいて、蓋部材と基板とで囲まれる空間に連通し蓋部材
と基板とが接着された後に封止された二次封止穴がケー
スに形成されているので、該接着用の接着剤として一液
タイプのものを使用でき、蓋部材と基板とを接着した後
の二次封止も容易に行うことができるという効果があ
る。
According to a sixth aspect of the present invention, as compared with the fifth aspect of the present invention, the lid member is constituted by a frame-shaped projection projecting from the inner peripheral surface of the case. This has the effect of reducing the number of parts and facilitating assembly. According to a seventh aspect of the present invention, in the invention of the sixth aspect, a secondary sealing hole is formed in the case, which is communicated with a space surrounded by the lid member and the substrate, and is sealed after the lid member and the substrate are bonded. Therefore, a one-liquid type adhesive can be used as the bonding adhesive, and the secondary sealing after bonding the lid member and the substrate can be easily performed.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板に凹所を設けることによって
形成された受圧ダイアフラムにピエゾ抵抗が形成された
半導体センサチップと、半導体センサチップが実装され
るとともに半導体センサチップの出力を増幅する増幅回
路が形成された基板と、半導体センサチップの電極とセ
ラミック基板の電極とを接続するボンディングワイヤ
と、基板に形成され増幅回路の出力を調整するトリミン
グ用の抵抗とを備え、半導体センサチップが遮光部材に
より遮光されて成ることを特徴とする半導体圧力セン
サ。
A semiconductor sensor chip in which a piezoresistor is formed in a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate, and an amplifier circuit in which the semiconductor sensor chip is mounted and which amplifies the output of the semiconductor sensor chip. A substrate formed, a bonding wire connecting the electrodes of the semiconductor sensor chip and the electrodes of the ceramic substrate, and a trimming resistor formed on the substrate and adjusting the output of the amplifier circuit. A semiconductor pressure sensor characterized by being shielded from light.
【請求項2】 遮光部材は、少なくとも半導体センサチ
ップとボンディングワイヤとを覆うとともに通気孔が形
成され一面が開口した箱状の遮光蓋であることを特徴と
する半導体圧力センサ。
2. The semiconductor pressure sensor according to claim 1, wherein the light-shielding member is a box-shaped light-shielding lid that covers at least the semiconductor sensor chip and the bonding wire, has a ventilation hole, and is open on one side.
【請求項3】 遮光部材内に樹脂が充填されて成ること
を特徴とする請求項1又は請求項2記載の半導体圧力セ
ンサ。
3. The semiconductor pressure sensor according to claim 1, wherein the light shielding member is filled with a resin.
【請求項4】 半導体基板に凹所を設けることによって
形成された受圧ダイアフラムにピエゾ抵抗が形成された
半導体センサチップと、半導体センサチップが実装され
る基板と、半導体センサチップの電極と基板の電極とを
接続するボンディングワイヤと、少なくとも半導体セン
サチップとボンディングワイヤとを覆うように基板に取
着される枠体とを備え、枠体の内側に樹脂が充填されて
成ることを特徴とする半導体圧力センサ。
4. A semiconductor sensor chip in which a piezoresistor is formed in a pressure-receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate, a substrate on which the semiconductor sensor chip is mounted, electrodes of the semiconductor sensor chip, and electrodes of the substrate. And a frame attached to the substrate so as to cover at least the semiconductor sensor chip and the bonding wire, wherein the inside of the frame is filled with a resin. Sensor.
【請求項5】 半導体基板に凹所を設けることによって
形成された受圧ダイアフラムにピエゾ抵抗が形成された
半導体センサチップと、半導体センサチップの出力を増
幅する増幅用ICが実装された基板と、圧力導入口が適
宜位置に形成され少なくとも半導体センサチップと基板
とが納装されるケースとを備え、基板に接着され増幅用
ICを封止する蓋部材が設けられて成ることを特徴とす
る半導体圧力センサ。
5. A semiconductor sensor chip having a piezoresistor formed in a pressure receiving diaphragm formed by providing a recess in a semiconductor substrate, a substrate on which an amplifying IC for amplifying an output of the semiconductor sensor chip is mounted, and A semiconductor pressure, comprising: a case in which an inlet is formed at an appropriate position and at least a semiconductor sensor chip and a substrate are provided; and a lid member adhered to the substrate and sealing the amplification IC is provided. Sensor.
【請求項6】 蓋部材は、ケースの内周面から突設され
た枠状の突起部により構成されて成ることを特徴とする
請求項5記載の半導体圧力センサ。
6. The semiconductor pressure sensor according to claim 5, wherein the lid member is constituted by a frame-shaped projection projecting from an inner peripheral surface of the case.
【請求項7】 蓋部材と基板とで囲まれる空間に連通し
蓋部材と基板とが接着された後に封止された二次封止穴
がケースに形成されて成ることを特徴とする請求項6記
載の半導体圧力センサ。
7. A case in which a secondary sealing hole is formed in the case, which is communicated with a space surrounded by the lid member and the substrate and which is sealed after the lid member and the substrate are bonded. 7. The semiconductor pressure sensor according to 6.
【請求項8】 蓋部材内に樹脂が充填されて成ることを
特徴とする請求項5又は請求項6記載の半導体圧力セン
サ。
8. The semiconductor pressure sensor according to claim 5, wherein a resin is filled in the lid member.
【請求項9】 蓋部材には、基板に接着されるときに樹
脂のはみ出す方向を制御するガイド溝が形成されて成る
ことを特徴とする請求項8記載の半導体圧力センサ。
9. The semiconductor pressure sensor according to claim 8, wherein a guide groove for controlling a direction in which the resin protrudes when the cover member is adhered to the substrate is formed in the lid member.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008241264A (en) * 2007-03-23 2008-10-09 Sumitomo Electric Ind Ltd Outdoor apparatus provided with vacuum gauge
US7536917B2 (en) 2007-02-14 2009-05-26 Denso Corporation Pressure sensor
JP2010204069A (en) * 2009-03-06 2010-09-16 Advanced Telecommunication Research Institute International Method of manufacturing sensor

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