JP2771923B2 - Semiconductor pressure sensor - Google Patents

Semiconductor pressure sensor

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JP2771923B2
JP2771923B2 JP4141509A JP14150992A JP2771923B2 JP 2771923 B2 JP2771923 B2 JP 2771923B2 JP 4141509 A JP4141509 A JP 4141509A JP 14150992 A JP14150992 A JP 14150992A JP 2771923 B2 JP2771923 B2 JP 2771923B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体圧力センサに
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor pressure sensor.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は従来の半導体圧力センサの一例を
示す断面図、図6は従来の半導体圧力センサにおける圧
力センサチップの一例を示す断面図である。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a sectional view showing an example of a conventional semiconductor pressure sensor, and FIG. 6 is a sectional view showing an example of a pressure sensor chip in a conventional semiconductor pressure sensor.

【0003】図において、1は圧力センサチップであ
り、この圧力センサチップ1は、表面にひずみゲージ抵
抗体が拡散形成されるとともに電極1bが形成され、さ
らに裏面に凹部1cが形成されたウエハ1a(例えば、
シリコン単結晶板)とガラス基板2(例えば、パイレッ
クスガラス)とを真空室内で陽極接合して構成され、凹
部1c内が真空に維持され基準圧となり、ウエハ1aの
薄い部分がダイヤフラムになっている。3はリードフレ
ームであり、このリードフレーム3には、外部との接合
を図るリード足3aが形成され、さらに実装を容易にで
きるようにリード足3aがフォーミングされている。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a pressure sensor chip. This pressure sensor chip 1 has a wafer 1a in which a strain gauge resistor is diffused and formed on the surface, an electrode 1b is formed, and a concave portion 1c is formed on the back surface. (For example,
A silicon single crystal plate) and a glass substrate 2 (for example, Pyrex glass) are formed by anodic bonding in a vacuum chamber. . Reference numeral 3 denotes a lead frame. The lead frame 3 is formed with a lead leg 3a for bonding to the outside, and the lead leg 3a is formed so as to facilitate mounting.

【0004】4は圧力センサチップ1を収納する下ケー
ス、5は円筒状の上ケース、6は電極1bとリードフレ
ーム3とを電気的に接続する金属細線からなるワイヤ、
7は圧力センサチップ1およびワイヤ6を保護するゲ
ル、8は圧力センサチップ1とリードフレーム3とを接
着固定する樹脂、9はリードフレーム3と下ケース4と
を接着固定する樹脂、10はリードフレーム3を下ケー
ス4と上ケース5との間に接着固定する樹脂、11は混
成集積回路を構成する実装基板としての厚膜基板、12
は厚膜基板11上に実装された実装部品、13は外部に
信号を引き出すためのリード足である。
[0004] 4 is a lower case for housing the pressure sensor chip 1, 5 is a cylindrical upper case, 6 is a wire made of a thin metal wire for electrically connecting the electrode 1 b and the lead frame 3,
7, a gel for protecting the pressure sensor chip 1 and the wire 6; 8, a resin for bonding and fixing the pressure sensor chip 1 to the lead frame 3; 9, a resin for bonding and fixing the lead frame 3 to the lower case 4; A resin for bonding and fixing the frame 3 between the lower case 4 and the upper case 5; 11, a thick film substrate as a mounting substrate constituting a hybrid integrated circuit;
Denotes a component mounted on the thick film substrate 11, and 13 denotes a lead leg for extracting a signal to the outside.

【0005】このように構成された従来の半導体圧力セ
ンサでは、外部雰囲気の圧力変化が上ケース5の開口部
を介して圧力センサチップ1に印加されると、ダイヤフ
ラムが変形し、ゲージ抵抗部にひずみが発生する。この
ため、ゲージ抵抗にはピエゾ抵抗効果により大きな変化
が起こり、圧力の変化をひずみゲージの抵抗値の変化と
して取り出している。
In the conventional semiconductor pressure sensor configured as described above, when a pressure change of the external atmosphere is applied to the pressure sensor chip 1 through the opening of the upper case 5, the diaphragm is deformed, and the pressure is changed to the gauge resistance portion. Distortion occurs. For this reason, a large change occurs in the gauge resistance due to the piezoresistance effect, and a change in pressure is taken out as a change in the resistance value of the strain gauge.

【0006】つぎに、上記従来の半導体圧力センサの製
造方法を図7乃至図9に基づいて説明する。まず、圧力
センサチップ1を保持するリードフレーム3の部位に樹
脂8を塗布し、圧力センサチップ1を載置し、樹脂8を
加熱硬化させ、リードフレーム3に圧力センサチップ1
を接着固定する。ついで、圧力センサチップ1の電極1
bとリードフレーム3とをワイヤ6で接続する。つぎ
に、下ケース4の底面に樹脂9を塗布し、リードフレー
ム3に接着固定された圧力センサチップ1を収納し、さ
らに上ケース5をかぶせ、下・上ケース4、5間に樹脂
10を塗布した後、樹脂9、10を加熱硬化させる。こ
こで、リードフレーム3は樹脂10により下ケース4と
上ケース5との間に挟持されて接着固定され、圧力セン
サチップ1が保持されたリードフレーム3の裏面が樹脂
9により下ケース4の底面に接着固定される。
Next, a method of manufacturing the above-described conventional semiconductor pressure sensor will be described with reference to FIGS. First, a resin 8 is applied to a portion of the lead frame 3 that holds the pressure sensor chip 1, the pressure sensor chip 1 is placed, and the resin 8 is cured by heating.
Adhesively fixed. Then, the electrode 1 of the pressure sensor chip 1
b and the lead frame 3 are connected by wires 6. Next, a resin 9 is applied to the bottom surface of the lower case 4, the pressure sensor chip 1 bonded and fixed to the lead frame 3 is housed, the upper case 5 is further covered, and the resin 10 is placed between the lower and upper cases 4 and 5. After the application, the resins 9 and 10 are cured by heating. Here, the lead frame 3 is sandwiched and fixed between the lower case 4 and the upper case 5 by the resin 10, and the back surface of the lead frame 3 holding the pressure sensor chip 1 is formed by the resin 9 on the bottom surface of the lower case 4. Adhesively fixed.

【0007】さらに、上ケース5の開口部からゲル7を
注入し加熱硬化させて、図8に示すように、圧力センサ
チップ1、ワイヤ6等を外部雰囲気から保護する構造と
する。そこで、リードフレーム3のリード足3aをフォ
ーミングして、図9に示すように、実装し易い構造とす
る。最後に、他の実装部品12とともに厚膜基板11上
に載置し、半田付けして実装する。その後、種々の特性
検査を実施し、外部引き出しのリード足13を取り付
け、組み立てを完了する。
Further, a gel 7 is injected from the opening of the upper case 5 and cured by heating, so that the pressure sensor chip 1, the wires 6 and the like are protected from the external atmosphere as shown in FIG. Therefore, the lead feet 3a of the lead frame 3 are formed to form a structure that is easy to mount as shown in FIG. Finally, it is mounted on the thick film substrate 11 together with the other mounting components 12, and is mounted by soldering. After that, various characteristic tests are performed, the lead legs 13 of the external drawer are attached, and the assembly is completed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体圧力セン
サは以上のように構成されているので、組み立て工程が
多くなり、各組み立て工程において検査が必要となると
ともに、不具合の発生が増加してしまい、組み立て作業
性、信頼性が低下するという課題があった。
Since the conventional semiconductor pressure sensor is constructed as described above, the number of assembling steps is increased, and inspection is required in each assembling step, and the occurrence of defects increases. However, there has been a problem that operability and reliability of assembly are reduced.

【0009】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、組み立て工程を削減でき、安価
で高信頼性の小型の半導体圧力センサを得ることを目的
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an inexpensive, highly reliable and small semiconductor pressure sensor which can reduce the number of assembly steps.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体圧
力センサは、ひずみゲイジ抵抗体が拡散形成されたウエ
ハとガラス基板とを陽極接合してなる圧力センサチップ
を実装基板上に実装してなる半導体圧力センサにおい
て、圧力センサチップ表面に電気的接続用バンプを形成
するとともに、圧力センサチップ表面の電気的に影響の
ない部位に耐振性補強用バンプを形成し、これらの電気
的接続用バンプおよび耐振性補強用バンプを半田接合し
て実装基板上に圧力センサチップを直接実装するもので
ある。
A semiconductor pressure sensor according to the present invention is obtained by mounting a pressure sensor chip formed by anodically bonding a wafer on which a strain gage resistor is diffusely formed and a glass substrate to a mounting substrate. For semiconductor pressure sensors, bumps for electrical connection are formed on the surface of the pressure sensor chip
Of the pressure sensor chip surface
A bump for vibration-proof reinforcement is formed in a non-existing portion, and the electrical connection bump and the bump for vibration-proof reinforcement are solder-bonded to directly mount the pressure sensor chip on a mounting substrate.

【0011】[0011]

【作用】この発明においては、圧力センサチップ表面に
電気的接続用バンプを形成し、この電気的接続用バンプ
を半田接合して実装基板上に直接圧力センサを実装して
いるので、圧力センサチップと実装基板との電気的接続
のため従来必要であったワイヤ、リードフレームが不要
となり、部品点数が減少して、組み立て工数の削減が図
られるとともに、信頼性の向上が図られる。さらに、圧
力センサチップ表面の電気的に影響のない部位に耐振性
補強用バンプを形成し、この耐振性補強用バンプを実装
基板に半田接合しているので、耐振性が向上し、高信頼
性が得られる。
According to the present invention, since the electrical connection bump is formed on the surface of the pressure sensor chip and the electrical connection bump is soldered and the pressure sensor is directly mounted on the mounting substrate, the pressure sensor chip is provided. Conventionally, wires and lead frames required for electrical connection with the mounting board are not required, so that the number of parts is reduced, the number of assembly steps is reduced, and the reliability is improved. In addition,
Vibration resistance on electrically unaffected areas on the surface of the force sensor chip
Form a bump for reinforcement and mount this bump for vibration resistance
Because it is soldered to the board, vibration resistance is improved and high reliability
Property is obtained.

【0012】[0012]

【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。図1はこの発明の一実施例を示す半導体圧力センサ
の断面図、図2および図3はそれぞれこの発明の一実施
例における圧力センサチップの斜視図および断面図であ
り、図において図5乃至図9に示した従来の半導体圧力
センサと同一または相当部分には同一符号を付し、その
説明を省略する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor pressure sensor showing one embodiment of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are a perspective view and a sectional view of a pressure sensor chip in one embodiment of the present invention, respectively. The same or corresponding parts as those of the conventional semiconductor pressure sensor shown in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0013】図において、20は圧力センサチップであ
り、この圧力センサチップ20は、表面にひずみゲージ
抵抗体が拡散形成されるとともに信号引き出し用の配線
20bが形成され、さらに裏面に凹部20cが形成され
たウエハ20a(例えば、シリコン単結晶板)とガラス
基板2(例えば、パイレックスガラス)とを真空室内で
陽極接合して構成され、凹部20c内が真空に維持され
基準圧となり、ウエハ20aの薄い部分がダイヤフラム
になっている。21は配線20bの端部に形成された電
気的接続用のバンプ、22は圧力センサチップ20がウ
エハ20aに著しく重いガラス基板2を接合して構成さ
れているのでその耐振性補強用としてウエハ20aの表
面の電気的に影響のない部位に形成されたバンプ、23
はケースである。
Referring to FIG. 1, reference numeral 20 denotes a pressure sensor chip. The pressure sensor chip 20 has a strain gauge resistor diffused and formed on the surface, a signal lead-out wiring 20b is formed, and a recess 20c is formed on the back surface. The wafer 20a (for example, a silicon single crystal plate) and the glass substrate 2 (for example, Pyrex glass) are anodically bonded in a vacuum chamber. The part is a diaphragm. Reference numeral 21 denotes a bump for electrical connection formed at the end of the wiring 20b. Reference numeral 22 denotes a wafer 20a for reinforcing the vibration resistance because the pressure sensor chip 20 is formed by bonding the extremely heavy glass substrate 2 to the wafer 20a. Bumps formed on portions of the surface of the substrate which are not electrically affected, 23
Is the case.

【0014】つぎに、上記実施例の製造方法を図4に基
づいて説明する。まず、回路パターン(図示せず)が形
成された厚膜基板11上に半田ペーストを印刷塗布す
る。ついで、圧力センサチップ20および他の実装部品
12を厚膜基板11上に載置し、半田リフロー等でバン
プ21、22と厚膜基板11上の電極部との半田接合を
行い、圧力センサチップ20および他の実装部品12を
厚膜基板11上に同時に実装する。つぎに、洗浄を行
い、圧力センサチップ20を収容するように厚膜基板1
1上にケース23を樹脂により接着固定する。最後に、
外部引き出しのリード足13を取り付けて、組み立てを
完了する。
Next, the manufacturing method of the above embodiment will be described with reference to FIG. First, a solder paste is printed on the thick film substrate 11 on which a circuit pattern (not shown) is formed. Then, the pressure sensor chip 20 and the other mounting parts 12 are mounted on the thick film substrate 11, and the bumps 21 and 22 and the electrode portions on the thick film substrate 11 are soldered by solder reflow or the like. 20 and other mounting components 12 are mounted on the thick film substrate 11 at the same time. Next, cleaning is performed, and the thick film substrate 1 is housed so as to accommodate the pressure sensor chip 20.
The case 23 is bonded and fixed on the top 1 with a resin. Finally,
Attach the lead feet 13 of the external drawer to complete the assembly.

【0015】ここで、上記実施例の半導体圧力センサの
動作は、先述の従来の半導体圧力センサと同様に動作す
る。また、ゴミ等による圧力センサチップ20の不具合
を防止するために、ウエハ20a表面に保護膜を塗布形
成している。
Here, the operation of the semiconductor pressure sensor of the above embodiment operates in the same manner as the aforementioned conventional semiconductor pressure sensor. In order to prevent the pressure sensor chip 20 from malfunctioning due to dust or the like, a protective film is formed on the surface of the wafer 20a by coating.

【0016】このように、上記実施例によれば、圧力セ
ンサチップ20表面に電気的接続用のバンプ21を形成
しているので、バンプ21と厚膜基板11上の電極部と
を半田接合して圧力センサチップ20を厚膜基板11上
に直接実装でき、組み立て工数を大幅に削減できる。さ
らに、圧力センサチップ20と厚膜基板11との電気的
接続のために従来必要であったワイヤ6、リードフレー
ム3等が不要となり、部品点数を削減できる。したがっ
て、組み立て作業性が向上し、低コスト化が図られ、高
信頼性が得られるとともに、小型化が図られる。
As described above, according to the above embodiment, since the bump 21 for electrical connection is formed on the surface of the pressure sensor chip 20, the bump 21 and the electrode portion on the thick film substrate 11 are soldered. As a result, the pressure sensor chip 20 can be directly mounted on the thick film substrate 11, and the number of assembly steps can be greatly reduced. Further, the wires 6 and the lead frame 3 which are conventionally required for the electrical connection between the pressure sensor chip 20 and the thick film substrate 11 become unnecessary, and the number of parts can be reduced. Therefore, assembling workability is improved, cost is reduced, high reliability is obtained, and downsizing is achieved.

【0017】また、圧力センサチップ20表面に耐振性
補強用のバンプ22を形成しているので、ウエハ20a
の耐振性が向上し、高信頼性が得られる。
Since bumps 22 for reinforcing vibration resistance are formed on the surface of the pressure sensor chip 20, the wafer 20a
Has improved vibration resistance and high reliability can be obtained.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、ひずみ
ゲイジ抵抗体が拡散形成されたウエハとガラス基板とを
陽極接合してなる圧力センサチップを実装基板上に実装
してなる半導体圧力センサにおいて、圧力センサチップ
表面に電気的接続用バンプを形成するとともに、圧力セ
ンサチップ表面の電気的に影響のない部位に耐振性補強
用バンプを形成し、電気的接続用バンプおよび耐振性補
強用バンプを半田接合して実装基板上に圧力センサチッ
プを直接実装しているので、圧力センサチップと実装基
板との電気的接続のため従来必要であったワイヤ、リー
ドフレームが不要となり、部品点数が減少し、組み立て
工数が削減し、低コスト化が図られ、耐振性が向上し、
信頼性の向上が図られるとともに小型化が図られるとい
う効果がある。
As described above, according to the present invention, a semiconductor pressure sensor having a pressure sensor chip formed by anodically bonding a wafer on which a strain gage resistor is formed by diffusion and a glass substrate is mounted on a mounting substrate. In the above, a bump for electrical connection is formed on the surface of the pressure sensor chip ,
Vibration-proof reinforcement of parts of the sensor chip surface that are not electrically affected
Bumps for electrical connection and vibration resistance
Since the pressure sensor chip is directly mounted on the mounting board by soldering the heavy use bumps , wires and lead frames, which were conventionally required for electrical connection between the pressure sensor chip and the mounting board, are no longer necessary, and parts The number of points is reduced, the number of assembly steps is reduced, the cost is reduced, the vibration resistance is improved,
There is an effect that the reliability is improved and the size is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例を示す半導体圧力センサの
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor pressure sensor showing one embodiment of the present invention.

【図2】この発明の半導体圧力センサにおける圧力セン
サチップの一実施例を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing one embodiment of a pressure sensor chip in the semiconductor pressure sensor of the present invention.

【図3】この発明の半導体圧力センサにおける圧力セン
サチップの一実施例を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing one embodiment of a pressure sensor chip in the semiconductor pressure sensor of the present invention.

【図4】この発明の一実施例を示す半導体圧力センサの
分解斜視図である。
FIG. 4 is an exploded perspective view of a semiconductor pressure sensor showing one embodiment of the present invention.

【図5】従来の半導体圧力センサの一例を示す断面図で
ある。
FIG. 5 is a sectional view showing an example of a conventional semiconductor pressure sensor.

【図6】従来の半導体圧力センサにおける圧力センサチ
ップの一例を示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing an example of a pressure sensor chip in a conventional semiconductor pressure sensor.

【図7】従来の半導体圧力センサの分解斜視図である。FIG. 7 is an exploded perspective view of a conventional semiconductor pressure sensor.

【図8】従来の半導体圧力センサの製造工程断面図であ
る。
FIG. 8 is a sectional view of a manufacturing process of a conventional semiconductor pressure sensor.

【図9】従来の半導体圧力センサの製造工程断面図であ
る。
FIG. 9 is a sectional view showing a manufacturing process of a conventional semiconductor pressure sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 ガラス基板 11 厚膜基板(実装基板) 20 圧力センサチップ 20a ウエハ 21 バンプ(電気的接続用バンプ) 2 Glass substrate 11 Thick film substrate (mounting substrate) 20 Pressure sensor chip 20a Wafer 21 Bump (Bump for electrical connection)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ひずみゲイジ抵抗体が拡散形成されたウ
エハとガラス基板とを陽極接合してなる圧力センサチッ
プを実装基板上に実装してなる半導体圧力センサにおい
て、前記圧力センサチップ表面に電気的接続用バンプを
形成するとともに、前記圧力センサチップ表面の電気的
に影響のない部位に耐振性補強用バンプを形成し、前記
電気的接続用バンプおよび前記耐振性補強用バンプを半
田接合して前記実装基板上に前記圧力センサチップを直
接実装したことを特徴とする半導体圧力センサ。
1. A semiconductor pressure sensor in which a pressure sensor chip formed by anodically bonding a wafer on which a strain gage resistor is diffusely formed and a glass substrate is mounted on a mounting substrate. Connection bump
Forming and electrically connecting the surface of the pressure sensor chip.
A vibration-proof reinforcing bump is formed at a portion that does not affect the above, and the pressure sensor chip is directly mounted on the mounting board by soldering the electrical connection bump and the vibration-proof reinforcing bump. Semiconductor pressure sensor.
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