JPH10321424A - Method and apparatus for trimming film surface - Google Patents

Method and apparatus for trimming film surface

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Publication number
JPH10321424A
JPH10321424A JP9124554A JP12455497A JPH10321424A JP H10321424 A JPH10321424 A JP H10321424A JP 9124554 A JP9124554 A JP 9124554A JP 12455497 A JP12455497 A JP 12455497A JP H10321424 A JPH10321424 A JP H10321424A
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JP
Japan
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trimming
fluid
film
jet
chip
Prior art date
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Pending
Application number
JP9124554A
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Japanese (ja)
Inventor
Takuya Hayashida
卓也 林田
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Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a deleterious effect of temperature rise during trimming in the trimming of film surface. SOLUTION: An apparatus and method consist of a high-pressure fluid generator pressurizing a fluid, a nozzle 13 which connects to the high-pressure fluid generator and injects a jet 16 of the fluid to a film surface at high speed, and a device for moving an injection point enabling an injection point on the film surface of the jet 16 to be moved. And the fluid is pure water, and abrasive of extremely small particle size is mixed with the fluid to grind the film surface formed on a chip surface by a jet of the high-speed fluid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、膜面のトリミング
方法並びに装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for trimming a film surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、チップ型抵抗器等の製造工程で
は、セラミックス等よりなるチップの表面に、酸化ルテ
ニウム等よりなる膜状抵抗体を形成し、膜状抵抗体をレ
ーザートリミング工程によって、上記膜状抵抗体の抵抗
値を所望の抵抗値に一致させる加工を行っている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the manufacturing process of a chip type resistor or the like, a film-shaped resistor made of ruthenium oxide or the like is formed on the surface of a chip made of a ceramic or the like, and the film-shaped resistor is formed by a laser trimming process. Processing is performed to match the resistance value of the film-shaped resistor to a desired resistance value.

【0003】図4は、単体のチップに関するレーザート
リミング工程の説明図であり、単体のチップaにはトリ
ミング中に膜状抵抗体bが過剰に除去されたり、膜状抵
抗体bが飛散したり、酸化したりするのを防止するた
め、予め薄いガラス被膜cを施している。
FIG. 4 is an explanatory view of a laser trimming step for a single chip. In a single chip a, the film resistor b is excessively removed during trimming or the film resistor b is scattered. In order to prevent oxidation or the like, a thin glass coating c is applied in advance.

【0004】その後、プローブdを介して膜状抵抗体b
の抵抗値を測定しながら、同測定値に基づくフィードバ
ック制御で制御されたレーザー光eによって、膜状抵抗
体bの一部を線状に除去してトリミング溝fを形成する
ことにより、単体のチップに所望の抵抗値を付与してい
る。
[0004] Thereafter, a film-like resistor b is connected via a probe d.
The laser light e controlled by the feedback control based on the measured value while measuring the resistance value of the film-shaped resistor b to linearly remove a part of the film-shaped resistor b to form a trimming groove f. A desired resistance value is given to the chip.

【0005】これに対し、大判のセラミックス基板の場
合には、格子状のブレーク溝を同セラミックス基板上に
形成し、同ブレーク溝で区画された各領域に形成された
膜状抵抗体に、それぞれレーザートリミングを行ってチ
ップを形成した後、上記セラミックス基板を単体のチッ
プに分割するという製造方式があり、この方式では、単
体チップと異なり、セラミックス基板の分割前に、各チ
ップの膜状抵抗体に対して一個ずつ順次トリミングを施
して行くことになる。
On the other hand, in the case of a large-sized ceramic substrate, a lattice-shaped break groove is formed on the ceramic substrate, and a film-shaped resistor formed in each area defined by the break groove is respectively provided. There is a manufacturing method in which the above ceramic substrate is divided into single chips after forming the chips by laser trimming. In this method, unlike the single chip, the film resistor of each chip is divided before dividing the ceramic substrate. Is sequentially trimmed one by one.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来のトリミング方法では、レーザー光eやその反射光が
目に入射すると視力を損なうなどの危険がある。
However, in the conventional trimming method described above, there is a danger that the visual acuity is impaired when the laser beam e or its reflected light enters the eyes.

【0007】また、レーザートリミングの際に、膜状抵
抗体bが過剰に除去されるのを防止するために、膜状抵
抗体の上面に薄いガラス被膜を施す必要があり、工程が
一段階増加して、コストアップにつながるという問題が
ある。
Further, in order to prevent the film resistor b from being excessively removed at the time of laser trimming, it is necessary to apply a thin glass film on the upper surface of the film resistor. Therefore, there is a problem that the cost is increased.

【0008】また、トリミングの際に飛散する膜状抵抗
体や上記ガラス被膜の滓が、ガラス被膜の上面に焼付い
て、洗浄等の処理では除去されずに残留するものがあ
り、これがチップを保護するコーテイングにピンホール
を発生させる原因になるという問題がある。
In addition, the film-like resistor and the scum of the glass coating scattered during trimming are baked on the upper surface of the glass coating and remain without being removed by washing or the like, and this protects the chip. There is a problem that this causes a pinhole to occur in the coating.

【0009】更に、レーザートリミング中に発生する熱
により、チップや膜状抵抗体が高温になって膜状抵抗体
の抵抗値が変動するため、抵抗値を精密に調整するのが
困難であった。
Further, since the heat generated during laser trimming causes the temperature of the chip or the film-shaped resistor to rise and the resistance of the film-shaped resistor to fluctuate, it is difficult to precisely adjust the resistance. .

【0010】かかる欠点を解消するために、トリミング
中の膜状抵抗体やチップの温度を測定し、同測定温度か
ら冷却後の抵抗値を推定してトリミング量を制御する方
法も考えられるが、現実の膜状抵抗体では温度抵抗係数
の個体差が大きいため、抵抗値調整の精度が得難い。
In order to solve such a drawback, a method of measuring the temperature of a film-shaped resistor or a chip during trimming and estimating a resistance value after cooling from the measured temperature to control the trimming amount can be considered. In an actual film-shaped resistor, since the individual difference of the temperature resistance coefficient is large, it is difficult to obtain the accuracy of the resistance value adjustment.

【0011】特に、前述した大判のセラミックス基板の
製造方式においては、分割前の各チップの膜状抵抗体に
対して順次トリミングを施して行くと、セラミックス基
板の温度が次第に上昇して調整抵抗値に大きな誤差が発
生しやすく、そのため、長いインターバルを設けてトリ
ミングするか、又は、セラミックス基板の冷却を要する
という問題がある。
In particular, in the above-described method of manufacturing a large-sized ceramic substrate, when the film-like resistor of each chip before division is sequentially trimmed, the temperature of the ceramic substrate gradually increases, and the adjusted resistance value increases. However, there is a problem that a large error is apt to occur, and it is necessary to perform trimming with a long interval or to cool the ceramic substrate.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明では、高
速流体のジェットにより、チップの表面に形成した膜面
を研削することを特徴とする膜面のトリミング方法を提
供せんとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above, the present invention provides a method of trimming a film surface formed by grinding a film surface formed on the surface of a chip with a high-speed fluid jet. .

【0013】また、次のような特徴を有するものであ
る。
[0013] The present invention has the following features.

【0014】上記流体が純水であること。The fluid is pure water.

【0015】上記流体に、粒度が極めて小さい研磨材を
混入すること。
[0015] Mixing an abrasive having an extremely small particle size into the fluid.

【0016】トリミング装置が、流体を高圧に加圧する
高圧流体発生装置と、同高圧流体発生装置に連通し高速
で流体のジェットを膜面に向かって噴出するノズルと、
上記ジェットの膜面への噴射点を移動可能とした噴射点
移動装置とを具備すること。
A high-pressure fluid generator for pressurizing the fluid to a high pressure, a nozzle communicating with the high-pressure fluid generator and jetting a jet of fluid at high speed toward the membrane surface;
An injection point moving device which is capable of moving an injection point of the jet onto the film surface.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態は、トリミン
グ対象の膜面を、チップ型抵抗器の膜状抵抗体とし、ト
リミングの目的を、上記膜状抵抗体の抵抗値調整として
おり、高速流体のジェットにより、膜状抵抗体の一部を
線状に除去してトリミング溝を形成して、膜状抵抗体の
抵抗値を所望の値に一致させるものであって、トリミン
グ中の膜状抵抗体の抵抗値を連続して測定し、この測定
値に基づいてジェット噴射点の移動をフィードバック制
御して、所望の抵抗値を得るようにしている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the embodiment of the present invention, the film surface to be trimmed is a film resistor of a chip type resistor, and the purpose of trimming is to adjust the resistance value of the film resistor. A part of the film-shaped resistor is linearly removed by a high-speed fluid jet to form a trimming groove so that the resistance value of the film-shaped resistor matches a desired value. The resistance value of the resistor is continuously measured, and based on the measured value, the movement of the jet injection point is feedback-controlled to obtain a desired resistance value.

【0018】上記ジェットに使用する流体には、上記フ
ィードバック制御のための抵抗値測定を阻害しない流
体、例えば、純水又は有機溶媒等の電気伝導性が極めて
低い液体、若しくは、空気、還元性又は不活性ガス等の
気体を用いることができ、更には、上記流体に粒度が極
めて小さい研磨剤を混入して、ジェットの研削能力を増
大することができる。
The fluid used for the jet may be a fluid that does not hinder the resistance measurement for the feedback control, for example, a liquid having extremely low electric conductivity such as pure water or an organic solvent, or air, reducing, or the like. A gas such as an inert gas can be used, and an abrasive having an extremely small particle size can be mixed into the fluid to increase the grinding ability of the jet.

【0019】このように、膜状抵抗体のトリミングに流
体ジェットを用いることにより、膜状抵抗体やチップの
温度上昇がなくなり、一定温度でトリミングを行うこと
ができ、高精度の抵抗値調整を行うことができる。
As described above, by using the fluid jet for trimming the film-shaped resistor, the temperature rise of the film-shaped resistor and the chip is prevented, the trimming can be performed at a constant temperature, and the resistance value can be adjusted with high precision. It can be carried out.

【0020】また、ジェットに純水や有機溶媒を用いる
場合には、トリミングと同時に膜状抵抗体及びチップの
洗浄が行うことができる。
When pure water or an organic solvent is used for the jet, the film resistor and the chip can be washed simultaneously with the trimming.

【0021】また、前記製造方式においても、セラミッ
クス基板が加熱されず、終始一定温度でのトリミングが
行われるので、最短時間のインターバルでトリミングを
行うことができ、高精度の抵抗値調整と量産性とを両立
させることができる。
Also in the above-mentioned manufacturing method, the ceramic substrate is not heated, and the trimming is always performed at a constant temperature. Therefore, the trimming can be performed in the shortest time interval. And can be compatible.

【0022】[0022]

【実施例】本発明の膜状抵抗体のトリミング方法を、大
判のセラミックス基板を用いて酸化ルテニウムから成る
膜状抵抗体を有するチップにトリミングを施す実施例に
ついて、図面を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method of trimming a film-shaped resistor according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings, in which an embodiment of trimming a chip having a film-shaped resistor made of ruthenium oxide using a large-sized ceramic substrate will be described.

【0023】図1は、トリミング工程前の未分割のセラ
ミックス基板1に、多数のチップ2を集合して形成した
チップ集合体3を示しており、セラミックス基板1に形
成した格子状のブレーク用スリット4で分割された区画
の表面に、それぞれ、ペースト状素材を印刷・焼成して
略矩形状の膜状抵抗体5を形成し、同膜状抵抗体5の対
向する両端部にそれぞれ導通した電極6,6 を形成してい
る。
FIG. 1 shows a chip assembly 3 formed by assembling a large number of chips 2 on an undivided ceramic substrate 1 before a trimming step. A grid-like break slit formed on the ceramic substrate 1 is shown in FIG. A substantially rectangular film-shaped resistor 5 is formed by printing and baking a paste-like material on the surface of each of the sections divided by 4, and electrodes respectively connected to opposing ends of the film-shaped resistor 5. 6,6.

【0024】かかるチップ集合体3を、製造の最終段階
に近い工程で、上記ブレーク用スリット4に沿って個々
のチップ2に分割して製品化するのであるが、これらの
チップ2の抵抗値は、ペースト状被膜素材の印刷厚さや
焼成温度等のばらつきによって、そのままでは使用でき
ない程度の偏差があり、この偏差をトリミング工程によ
って許容範囲内に調整し、その後、各チップ2毎に分割
し、側面電極を形成して、正確な抵抗値を有するチップ
型抵抗器として製品化する。
The chip assembly 3 is divided into individual chips 2 along the above-mentioned break slits 4 in a process close to the final stage of the production, and the chip 2 has a resistance value. There is a deviation that cannot be used as it is due to variations in the printing thickness and baking temperature of the paste-like coating material, and the deviation is adjusted within an allowable range by a trimming process, and then divided for each chip 2, An electrode is formed and commercialized as a chip-type resistor having an accurate resistance value.

【0025】なお、トリミングでは、増加方向の抵抗値
調整だけが可能であるため、上記チップ集合体3製造の
際に、トリミングによる調整代を見越して、膜状抵抗体
5の横幅やペースト状素材の印刷厚さ等を設定する。
In the trimming, only the adjustment of the resistance value in the increasing direction is possible. Therefore, in the manufacture of the chip assembly 3, the width of the film-shaped resistor 5 and the paste-like material are considered in anticipation of the adjustment allowance by the trimming. Set the print thickness and so on.

【0026】図2は、本実施例に用いるトリミング装置
10を示しており、同トリミング装置10は、チップ集合体
3を1ピッチ刻みで移動可能の搬送装置11と、高圧流体
発生装置12と、同高圧流体発生装置12と連通したノズル
13と、同ノズル13を支持し、かつ、2個のサーボモータ
14,15 に連動連結してノズル13からのジェット16の噴射
点17をX−Y方向に移動させるための噴射点移動装置18
と、チップ2の電極6,6 に導通可能のプローブ19を具備
してトリミング中の膜状抵抗体5の抵抗値を測定する抵
抗測定器20と、制御プログラムと、上記抵抗測定器20か
らの測定値と予め設定した目標値とに基づいて、各サー
ボモータ14,15 の作動と、ジェット16の噴射・停止をフ
ィードバック制御する演算部21と、演算部21からの信号
によりサーボモータ14,15 を駆動する駆動部22と、パタ
ーン認識用カメラ23及びモニタ24と、手動操作用のジョ
イスティック25と、吸引装置26とで構成されている。
FIG. 2 shows a trimming apparatus used in this embodiment.
10, a trimming device 10 includes a transfer device 11 capable of moving the chip assembly 3 at intervals of one pitch, a high-pressure fluid generator 12, and a nozzle communicating with the high-pressure fluid generator 12.
13 and two servo motors that support the nozzle 13 and
An injection point moving device 18 for moving the injection point 17 of the jet 16 from the nozzle 13 in the X and Y directions in conjunction with the nozzles 14 and 15
A resistance measuring device 20 including a probe 19 that can be connected to the electrodes 6 and 6 of the chip 2 for measuring the resistance value of the film-shaped resistor 5 during trimming; a control program; Based on the measured value and a preset target value, the operation of each of the servo motors 14 and 15 and the feedback control of the jet 16 injection / stop, and the servo motors 14 and 15 , A pattern recognition camera 23 and a monitor 24, a joystick 25 for manual operation, and a suction device 26.

【0027】高圧流体発生装置12は、純水を高圧に加圧
する高圧ポンプと、高圧ポンプからの圧力水を更に高圧
に加圧する昇圧器と、昇圧器からの高圧水の脈動を平滑
化するアキュムレータ等で構成されている。
The high-pressure fluid generator 12 includes a high-pressure pump for pressurizing pure water to a high pressure, a booster for further pressurizing the pressurized water from the high-pressure pump, and an accumulator for smoothing the pulsation of the high-pressure water from the booster. And so on.

【0028】ノズル13には細い噴出孔を形成しており、
上記高圧の純水を噴出口から高速のジェット16として噴
出し、同ジェット16を前記膜状抵抗体5の表面に略垂直
に噴射して、膜状抵抗体5を研削除去するように構成さ
れている。
The nozzle 13 has a thin ejection hole,
The high-pressure pure water is ejected from an ejection port as a high-speed jet 16, and the jet 16 is ejected substantially perpendicularly to the surface of the film-shaped resistor 5 to grind and remove the film-shaped resistor 5. ing.

【0029】吸引装置26は、吸引ポンプ27と、同吸引ポ
ンプ27に接続してトリミング中のチップ2に向かって開
口した吸引口28とで構成されており、上記ジェット16の
噴射によって発生する純水の飛沫や膜状抵抗体5の研削
屑等を吸引除去するようしている。
The suction device 26 is composed of a suction pump 27 and a suction port 28 connected to the suction pump 27 and opened toward the chip 2 being trimmed. Suction removal of water splashes and grinding debris of the film-shaped resistor 5 is performed.

【0030】次に、上記トリミング装置10を用いてのト
リミング工程について説明する。
Next, a trimming process using the trimming device 10 will be described.

【0031】図3は、トリミング装置10の搬送装置11に
セットされたチップ集合体3における単体の各チップ2
に対するトリミング工程を示しており、各チップ2の両
方の電極6,6 にトリミング装置10のプローブ19を圧接・
導通させて膜状抵抗体5の抵抗値を測定し、この測定値
に基づきジェットの噴射・停止及び噴射点17の移動をフ
ィードバック制御しながら、各チップ2の膜状抵抗体5
の一側縁から各電極6,6 間を横断する方向に、所望の抵
抗値よりも小さい一定の抵抗値に達するまで噴射点17を
移動させて第1トリミング溝29を形成し、次いで、一方
の電極6方向に、前述と略同様のフィードバック制御し
ながら、所望の抵抗値に達するまで噴射点17の移動を行
って第2トリミング溝30を形成し、次に搬送装置11で1
ピッチ分だけチップ集合体3を移動させて、隣接したチ
ップ2に対するトリミング工程を行い、かかるトリミン
グ工程を繰返すことにより、チップ集合体3の全てのチ
ップ2のトリミングを行う。
FIG. 3 shows a single chip 2 in the chip assembly 3 set in the transfer device 11 of the trimming device 10.
And a probe 19 of a trimming device 10 is pressed into contact with both electrodes 6 and 6 of each chip 2.
The resistance of the film-shaped resistor 5 is measured by conducting the current. Based on the measured value, the jetting / stopping of the jet and the movement of the jetting point 17 are feedback-controlled, and the film-shaped resistor 5 of each chip 2 is controlled.
The injection point 17 is moved in a direction traversing between the electrodes 6 and 6 from one side edge until reaching a constant resistance value smaller than a desired resistance value to form a first trimming groove 29, and then, In the direction of the electrode 6, the injection point 17 is moved to form the second trimming groove 30 until the desired resistance value is reached while performing feedback control substantially in the same manner as described above.
The chip assembly 3 is moved by the pitch, a trimming process is performed on the adjacent chips 2, and the trimming process is repeated to trim all the chips 2 of the chip assembly 3.

【0032】また、上記トリミング工程中、発生する飛
沫や研削屑は、吸引装置26の吸引口28から吸引除去され
るので、上記飛沫や研削屑が、抵抗値測定やパターン認
識用カメラ23の視野を阻害するのを防止している。
Also, during the trimming process, splashes and grinding debris generated are suctioned and removed from the suction port 28 of the suction device 26, so that the splashes and grinding debris are removed from the visual field of the camera 23 for resistance value measurement and pattern recognition. Is prevented from being hindered.

【0033】このようにして、全部のチップ2のトリミ
ングが終了したチップ集合体3に、トリミング後の膜状
抵抗体5を保護するためのガラスコーティング及び抵抗
値や精度等級等を示すマーキングなどの加工を施した
後、各チップ2間のブレーク用スリット4に沿って個々
に分割し、各チップ2の電極6,6 部分の端面及び裏面に
外部との導通のためのメッキ処理を施して、製品として
のチップ型抵抗器を製造する。
In this manner, the chip assembly 3 on which all the chips 2 have been trimmed is provided with a glass coating for protecting the film-like resistor 5 after trimming, and a marking indicating the resistance value, the accuracy class, and the like. After processing, the chip 2 is divided individually along the break slits 4 between the chips 2, and the end surfaces and the back surfaces of the electrodes 6, 6 of each chip 2 are subjected to plating treatment for conduction with the outside. Manufactures chip resistors as products.

【0034】上記のように、流体のジェットによって膜
状抵抗体5のトリミングを行うので、セラミックス基板
1や膜状抵抗体5が加熱されず、終始一定の温度でトリ
ミング工程を行うことができ、従って、膜状抵抗体5の
温度ドリフトがなく、精密な抵抗値調整を行うことがで
きる。
As described above, since the film resistor 5 is trimmed by the fluid jet, the ceramic substrate 1 and the film resistor 5 are not heated, and the trimming process can be performed at a constant temperature throughout. Accordingly, there is no temperature drift of the film-shaped resistor 5 and precise resistance value adjustment can be performed.

【0035】また、ジェット16に純水を用いているの
で、トリミングと同時にチップ2の洗浄が行うことがで
きる。
Further, since pure water is used for the jet 16, the chip 2 can be washed at the same time as trimming.

【0036】なお、上記ジェット16には、純水以外の流
体を使用することができ、上記フィードバック制御のた
めの抵抗値測定を阻害しない流体、例えば、油や有機溶
媒等の電気伝導性が極めて低い液体、若しくは、空気や
不活性ガス等の気体を用いることができ、更には、上記
流体に粒度の極めて小さい研磨材を混入して、研削能力
を向上させることができる。
It should be noted that a fluid other than pure water can be used for the jet 16, and a fluid which does not hinder the resistance measurement for the feedback control, such as an oil or an organic solvent, has an extremely high electric conductivity. A low liquid or a gas such as air or an inert gas can be used, and an abrasive having an extremely small particle size can be mixed into the fluid to improve the grinding ability.

【0037】上記実施例では、膜状抵抗体5を上方にし
てトリミング装置10にセットするようにしているが、上
記膜状抵抗体5を下方にしてトリミング装置10にセット
して、ジェット16を下方から膜状抵抗体5に噴射した
り、膜状抵抗体5を垂直にセットして、水平方向からジ
ェット16を膜状抵抗体5に噴射したり、膜状抵抗体5を
傾斜させてトリミング装置10にセットして、ジェット16
を膜状抵抗体5に略垂直に噴射したりして、飛沫や研削
屑を除去しやすくすることもできる。
In the above embodiment, the film resistor 5 is set in the trimming device 10 with the film resistor 5 facing upward. However, the jet 16 is set in the trimming device 10 with the film resistor 5 facing down. Jetting the film resistor 5 from below, setting the film resistor 5 vertically, jetting the jet 16 to the film resistor 5 from the horizontal direction, and trimming the film resistor 5 by inclining Set it on device 10 and jet 16
Can be sprayed substantially perpendicularly to the film-shaped resistor 5 to facilitate the removal of splashes and grinding debris.

【0038】また、上記実施例では、飛沫や研削屑を吸
引除去するようにしているが、高圧気体を吹付けて上記
飛沫や研削屑を除去することもできる。
Further, in the above embodiment, the droplets and grinding debris are removed by suction. However, the droplets and grinding debris can be removed by blowing high-pressure gas.

【0039】更に、上記実施例では、ジェットを膜面に
略垂直に噴射するようにしているが、チップ表面と膜面
との接着が弱い場合には、ジェットを傾斜させて膜面に
噴射することによって、膜面の剥離を防止することがで
きる。
Further, in the above-described embodiment, the jet is jetted substantially perpendicular to the film surface. However, when the adhesion between the chip surface and the film surface is weak, the jet is inclined and jetted to the film surface. Thereby, peeling of the film surface can be prevented.

【0040】なお、本発明は、上述したチップ型抵抗器
の膜状抵抗体のトリミングに限定されず、チップの表面
に形成した各種膜面のトリミングに適用可能である。
The present invention is not limited to the above-described trimming of the film-shaped resistor of the chip type resistor, but is applicable to the trimming of various film surfaces formed on the surface of the chip.

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明によれば次のような効果を得るこ
とができる。
According to the present invention, the following effects can be obtained.

【0042】請求項1記載の発明では、高速流体のジェ
ットにより、チップの表面に形成した膜面を研削するこ
とによって、終始一定の温度で膜面のトリミングを行う
ことができ、高精度のトリミングを行うことができる。
According to the first aspect of the present invention, the film surface formed on the chip surface is ground by a jet of a high-speed fluid, so that the film surface can be trimmed at a constant temperature all the time. It can be performed.

【0043】特に、大判のセラミック基板に多数のチッ
プを形成した状態で、順次各チップにトリミングを施行
しても、チップが終始一定温度を保持するので、熱によ
る悪影響を防止することができ、高い信頼性の製品を量
産することができる。
In particular, even when a large number of chips are formed on a large-sized ceramic substrate and the chips are successively trimmed, the chips maintain a constant temperature throughout, so that the adverse effects of heat can be prevented. Highly reliable products can be mass-produced.

【0044】なお、レーザートリミングでは、順次各チ
ップにトリミングを施行すると、次第にセラミック基板
が高温になり熱の悪影響を大きくうけることになる。
In the laser trimming, when each chip is sequentially trimmed, the temperature of the ceramic substrate gradually increases, and the adverse effect of heat is greatly affected.

【0045】請求項2記載の発明では、上記流体が純水
であるから、トリミングと同時にチップの洗浄が行われ
るので、洗浄工程を省略して製造コストを低減させた
り、次工程で行われる保護被膜コーテイングの信頼性を
工場することができる。
According to the second aspect of the present invention, since the fluid is pure water, the chip is cleaned at the same time as the trimming, so that the cleaning step is omitted to reduce the manufacturing cost or to protect the chip in the next step. The reliability of the coating film can be manufactured.

【0046】上記流体に、粒度が極めて小さい研磨材を
混入することによって、膜状抵抗体の研削能力を高め
て、効率的にトリミングを行うことができる。
By mixing an abrasive having an extremely small particle size into the fluid, the grinding ability of the film-shaped resistor can be increased and trimming can be performed efficiently.

【0047】請求項3記載の発明では、トリミング装置
が、流体を高圧に加圧する高圧流体発生装置と、同高圧
流体発生装置に連通し高速で流体のジェットを膜面に向
かって噴出するノズルと、上記ジェットの膜面への噴射
点を移動可能とした噴射点移動装置とを具備しているの
で、上述した流体のジェットによる膜面のトリミングを
実現することができる。
According to the third aspect of the present invention, the trimming device includes a high-pressure fluid generating device that pressurizes the fluid to a high pressure, and a nozzle that communicates with the high-pressure fluid generating device and jets a fluid jet at a high speed toward the membrane surface. And a jet point moving device that can move the jet point of the jet onto the film surface, so that the above-described trimming of the film surface by the fluid jet can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】チップ集合体の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a chip assembly.

【図2】トリミング装置の構成を示す斜視説明図であ
る。
FIG. 2 is a perspective explanatory view showing a configuration of a trimming device.

【図3】トリミング工程の斜視説明図である。FIG. 3 is an explanatory perspective view of a trimming step.

【図4】従来のレーザートリミング工程の斜視説明図で
ある。
FIG. 4 is an explanatory perspective view of a conventional laser trimming step.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 チップ 5 膜状抵抗体(膜面) 10 トリミング装置 12 高圧流体発生装置 13 ノズル 16 ジェット 17 噴射点 2 Chip 5 Membrane resistor (membrane surface) 10 Trimming device 12 High pressure fluid generator 13 Nozzle 16 Jet 17 Injection point

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高速流体のジェットにより、チップの表
面に形成した膜面を研削することを特徴とする膜面の膜
面のトリミング方法。
1. A method for trimming a film surface, wherein the film surface formed on the surface of the chip is ground by a jet of a high-speed fluid.
【請求項2】 上記流体が純水であることを特徴とする
請求項1記載の膜面のトリミング方法。
2. The method according to claim 1, wherein the fluid is pure water.
【請求項3】 上記流体に、粒度が極めて小さい研磨材
を混入することを特徴とする請求項1記載の膜面のトリ
ミング方法。
3. The method for trimming a film surface according to claim 1, wherein an abrasive having an extremely small particle size is mixed in said fluid.
【請求項4】 流体を高圧に加圧する高圧流体発生装置
と、同高圧流体発生装置に連通し高速で流体のジェット
を膜面に向かって噴出するノズルと、上記ジェットの膜
面への噴射点を移動可能とした噴射点移動装置とを具備
することを特徴とするトリミング装置。
4. A high-pressure fluid generator for pressurizing a fluid to a high pressure, a nozzle communicating with the high-pressure fluid generator and jetting a jet of fluid at high speed toward a membrane surface, and a jetting point of the jet onto the membrane surface. And an injection point moving device capable of moving the trimming device.
JP9124554A 1997-05-14 1997-05-14 Method and apparatus for trimming film surface Pending JPH10321424A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007055772A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Tokyo Metropolitan Univ Minute article conveying device

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