JPH10314548A - アンモニア処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】火力発電所処理設備，し尿処理設備，下水道処
理設備，食品製造設備，コークス炉製造設備等の排ガス
に含有するアンモニアおよび窒素酸化物を効率よく分解
処理するアンモニア処理装置の提供。 【解決手段】アンモニアおよび酸素および水蒸気を含有
する排ガス１を、前段および後段からなる二段触媒層で
処理するアンモニア処理装置において、前段触媒層３の
触媒がＴｉおよびＡｇを含み、かつ、Ｆｅ，Ｍｎ，Ｚ
ｎ，Ｍｏ，Ｖ，Ｗの一種以上を含み、後段触媒層６の触
媒がＴｉおよびＭｏ，Ｗの一種以上を含み、前段触媒層
出口ガス中のアンモニアおよび窒素酸化物濃度を検出す
る濃度センサ４，５を有し、該濃度センサの出力に基づ
き、窒素酸化物の濃度からアンモニア濃度を差し引いた
値が所定の濃度範囲になるように、前段触媒層の温度を
制御する制御手段を備えたアンモニア処理装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規なアンモニア含
有排ガス中に含まれるアンモニアを処理して窒素ガスと
水に変換して無害化するアンモニア処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】火力発電設備，し尿処理設備．下水処理
設備，食品製造設備，コークス炉ガス製造設備等から排
出される排ガス中のアンモニアは有害物質であったり、
配管系を腐食するなど悪影響（規制値：５ｐｐｍ以下）
が大きいため、排ガス中からアンモニアを除去すること
が研究されている。

【０００３】排ガス中のアンモニアを除去するためのシ
ステムとして、例えば、特開昭５４−１９７８８５７号
公報に記載されるように、アンモニアストリッピングガ
ス中のアンモニアを触媒により酸化分解する。酸化触媒
出口において、アンモニアおよび窒素酸化物濃度が等量
となるように監視して反応温度を制御している。生成し
た窒素酸化物（ＮＯ，ＮＯ₂：規制値５０ｐｐｍ以下、
Ｎ₂Ｏ：規制値はないがより提言の必要あり）を残留ア
ンモニアと共に還元触媒で反応させＮ₂とＨ₂Ｏに変換す
る。さらに還元触媒入口よりアンモニアを分注すること
が提案されている。

【０００４】

【化１】 ４ＮＨ₃＋６Ｏ₂ ⇒ ４ＮＯ＋ＮＯ₂＋６Ｈ₂Ｏ ４ＮＨ₃＋２ＮＯ＋２ＮＯ₂ ⇒ ４Ｎ₂＋６Ｈ₂Ｏ ４ＮＨ₃＋４ＮＯ＋Ｏ₂ ⇒ ４Ｎ₂＋６Ｈ₂Ｏ ２ＮＨ₃＋２Ｏ₂ ⇒ Ｎ₂Ｏ＋３Ｈ₂Ｏ 上記のように、従来用いられてきたアンモニア分解処理
方法は、残留アンモニアによりＮＯ，ＮＯ₂を無害化す
るが、残量Ｎ₂Ｏは除去されない。しかし、濃度比のア
ンバランスがあるとアンモニアおよび窒素酸化物が流出
する。特に、Ｎ₂Ｏが流出すると云う問題があるため、
アンモニアを分割することが提案されている。上記のア
ンモニア分解処理方法は、複雑な構造のためアンモニア
と窒素酸化物が流出すると云う問題があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来技術の問題点を解決し、特にアンモニア，酸素およ
び水蒸気を含有する排ガスを前段触媒層および後段触媒
層からなる二段触媒層によりアンモニアを分解処理する
アンモニア処理装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の要旨は次のとおりである。

【０００７】（１） アンモニアおよび酸素および水蒸
気を含有する排ガスを、前段および後段からなる二段触
媒層で処理するアンモニア処理装置において、前段触媒
層の触媒がＴｉおよびＡｇを含み、かつ、Ｆｅ，Ｍｎ，
Ｚｎ，Ｍｏ，Ｖ，Ｗの一種以上を含み、後段触媒層の触
媒がＴｉおよびＭｏ，Ｗの一種以上を含み、前段触媒層
出口ガス中のアンモニアおよび窒素酸化物濃度を検出す
る濃度センサを有し、該濃度センサの出力に基づき、窒
素酸化物の濃度からアンモニア濃度を差し引いた値が所
定の濃度範囲になるように、前段触媒層の温度を制御す
る制御手段を備えたアンモニア処理装置にある。

【０００８】（２） アンモニアおよび酸素および水蒸
気を含有する排ガスを、前段および後段からなる二段触
媒層で処理するアンモニア処理装置において、前段およ
び後段触媒層の触媒がＴｉおよびＡｇを含み、かつ、Ｆ
ｅ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｍｏ，Ｖ，Ｗの一種以上を含み、前段
触媒層出口ガス中のアンモニアおよび窒素酸化物濃度を
検出する濃度センサを有し、該濃度センサの出力に基づ
き、窒素酸化物の濃度からアンモニア濃度を差し引いた
値が所定の濃度範囲になるように、前段触媒層の温度を
制御する制御手段を備えたアンモニア処理装置にある。

【０００９】（３） 前記前段触媒層がアンモニア酸化
触媒であり、前記後段触媒層が窒素酸化還元触媒である
前記のアンモニア処理装置にある。

【００１０】本発明は、アンモニア，酸素および水蒸気
を含有する排ガスを上記の二段触媒層で処理し、前段触
媒層出口のガス中の未反応アンモニア濃度と窒素酸化物
濃度とを検出して、未反応アンモニア濃度に対する窒素
酸化物濃度が、常時、過剰となるよう前段触媒層の温度
を制御し、該前段触媒層出口のガス中の窒素酸化物濃度
を５０ｐｐｍ以下に制御することにある。

【００１１】なお、本発明のアンモニア処理装置の二段
触媒層は、３００〜６００℃の熱処理によって触媒活性
を容易に回復することができる。

【００１２】本発明は、火力発電設備,下水処理設備，
し尿処理設備，アミン製造設備，食品製造設備から排出
されるアンモニア含有排ガスを高効率で処理することが
でき、そのアンモニア濃度は１００〜３０,０００ｐｐ
ｍの範囲が好ましい。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明のアンモニア処理装置の前
段触媒層に使用される触媒の好ましい態様は、１００〜
３０,０００ｐｐｍのアンモニア，酸素および水蒸気を
含有する排ガスを酸化分解できる触媒であって、酸化物
担体として一種以上のチタニア，アルミナ，シリカ，ゼ
オライトを用い、その表面層に触媒活性成分としてのＡ
ｇおよびＦｅ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｍｏ，Ｖ，Ｗから構成され
る。

【００１４】また、前段触媒層および後段触媒層の触媒
の好ましい態様は、通常１０５００ｍ²／ｇの比表面積
を有するものである。比表面積の大きいものほどアンモ
ニアの分解が増大する傾向がみられる。

【００１５】前段触媒層の触媒は、排ガス中のアンモニ
アを除去後も、熱処理によって触媒活性は容易に回復す
ることができ、初期と同等の除去性能が得られる。

【００１６】排ガスを前段触媒層において酸化分解し、
アンモニアを処理した後、未反応アンモニア濃度に対し
窒素酸化物濃度が、常時５０ｐｐｍ以下の濃度となるよ
う前段触媒層温度を予熱器によって制御し、次いで、後
段触媒層に導入される。

【００１７】未反応アンモニアおよび窒素酸化物濃度比
の検出は、前段触媒層出口のアンモニアおよび窒素酸化
物の濃度センサの出力に基づいて予熱器の温度を制御
し、前段触媒層温度を制御する。

【００１８】本発明において、前段および後段の触媒層
に、異種の触媒の組み合わせが好ましいが同種の触媒の
組み合わせでもよい。

【００１９】前段触媒層出口のガス中の窒素酸化物は、
未反応アンモニア濃度に対し５０ｐｐｍ以下で、かつ、
過剰であることが望ましい。これ以外ではアンモニアお
よび窒素酸化物が流出する。

【００２０】二段触媒層に接触させる排ガスの温度は３
００〜６００℃の温度範囲であり、この範囲外ではアン
モニアおよび窒素酸化物の除去性能が低下する。好まし
くは３５０〜５００℃の温度範囲がよい。

【００２１】本発明において、二段触媒層に接触させる
排ガスは、ガス空間速度１,０００〜１００,０００ｈ~¹
の範囲が好ましいが、特に限定されない。また、排ガス
を二段触媒層に接触させる圧力は大気圧でよく、特に限
定されない。

【００２２】排ガス中の水蒸気濃度は５〜７０％、好ま
しくは１０〜５０％の範囲であり、この範囲外では排ガ
ス中のアンモニアおよび窒素酸化物の除去性能が低下す
る。

【００２３】前段触媒層の触媒はアンモニアの除去に用
いられるが、その反応は酸化分解反応である。また、後
段触媒層は窒素酸化物のアンモニアによる還元反応であ
る。窒素酸化物はアンモニアと１／１で反応し酸素の存
在下で無害なＮ₂とＨ₂Ｏに変換される。

【００２４】

【化２】 ４ＮＨ₃＋２ＮＯ＋２ＮＯ₂ ⇒ ４Ｎ₂＋６Ｈ₂Ｏ ４ＮＨ₃＋４ＮＯ＋Ｏ₂ ⇒ ４Ｎ₂＋６Ｈ₂Ｏ 次に、本発明を実施例および比較例に基づき説明する。

【００２５】

【実施例】

〔比較例 １〕ＮＨ₃渡度８０００ｐｐｍ、スチーム濃
度３０％、残空気からなるアンモニア含有ガスを反応温
度３４０℃、Ｐｔ／Ａｌ₂Ｏ₃触媒からなる酸化触媒層に
導入しＳＶ１０,０００／ｈで触媒層を通過させて酸化
させたところ未反応ＮＨ₃として２００ｐｐｍ、Ｎ０x２
４０ｐｐｍ、Ｎ₂Ｏ４,０００ｐｐｍ、残空気のガスが得
られた。

【００２６】このガスをＦｅ／Ａｌ₂Ｏ₃を含む反応温度
３５０℃の還元触媒層にＳＶ５,０００／ｈで通過させ
還元したところ、ＮＨ₃として５ｐｍ、ＮＯxとして５０
ｐｐｍ、Ｎ₂Ｏとして４０００ｐｐｍの処理ガスが得ら
れた。

【００２７】〔実施例 １〕図１は本発明のアンモニア
処理装置の一実施例を示すシステム概略図である。ＮＨ
₃含有排ガス１は予熟器２で予熱されて触媒層温度３２
０℃で前段触媒層３（酸化物担体，ＡｇおよびＦｅ触
媒）に導入される。前段触媒層３では酸化分解反応が進
行して触媒層温度は３７０℃となり、ガス中に未反応Ｎ
Ｈ₃，窒素およびＨ₂Ｏと、それ以外に大気汚染物質の窒
素酸化物が生成する。

【００２８】前段触媒層３の出口ガス中の未反応ＮＨ₃
濃度は４００ｐｐｍであり、窒素酸化物濃度（ＮＯ＋Ｎ
Ｏ₂として４４０ｐｐｍ）が生成する。前段触媒層３の
出口にはＮＨ₃センサおよび窒素酸化物センサ５が設置
されており、窒素酸化物濃度がＮＨ₃濃度に対し５０ｐ
ｐｍ以下で過剰となるように予熱器温度が制御され、後
段触媒層６（Ｔｉ担体とＭｏおよびＶ触媒）に導入され
る。なお、図２に予熱器の温度制御手段の概略フロー図
を示す。

【００２９】後段触媒層６ではＮＨ₃と窒素酸化物の還
元反応が進行しＨ₂Ｏと窒素に変換されるが環境規制値
以下のＮＨ₃および窒素酸化物も排出される。変換後の
排ガスはＮＨ₃としてｌｐｐｍ、ＮＯxとして１０ｐｐ
ｍ、Ｎ₂Ｏとして２０ｐｐｍ、Ｈ₂Ｏ、残空気からなる無
害化ガスとなつ排出口７から大気中に排出される。

【００３０】以上のごとく、実施例は比較例に比べて、
ＮＨ₃を添加することなく後段触媒層出口のＮＨ₃、ＮＯ
x、Ｎ₂Ｏ濃度を規制値以下に抑えることができる。特
に、Ｎ₂Ｏ渡度の生成は格段に低いことが判明した。

【００３１】〔実施例 ２〕０.５〜１.０ｍｍに破砕さ
れたチ夕二ア担体の粉末１０ｇを５００℃で焼成させ
る。このチ夕二ア担体１０ｇに硝酸銀（ＡｇＮＯ₃）３.
２９を１０ｍｌの蒸留水に溶解した溶液を含浸した。

【００３２】含浸後は１２０℃で１時間乾燥、５００℃
で１時間焼成した。焼成後のＡｇ付きチ夕二ア担体に硫
酸第一鉄（ＦｅＳＯ₄・７Ｈ₂Ｏ）０.２９ｇを蒸留水に
溶解した溶液を含浸した。含浸後は、１２０℃で１時間
乾燥、５００℃で２時間焼成し完成触媒とした。この触
媒はＴｉ−Ａｇ−Ｆｅであり、Ｔｉ／Ａｇ（モル比＝１
／０.１５）、Ｔｉ／Ｆｅ（モル比＝１／０.０５）であ
る。この触媒をＡとする。

【００３３】〔実施例 ３〕０.５〜１.０ｍｍに破砕さ
れたチ夕二ア担体の粉末１０ｇを５００℃で焼成させ
る。このチ夕二ア担体１０ｇに硝酸銀（ＡｇＮＯ₃）３.
６を１０ｍｌの蒸留水に溶解した溶液を含浸した。

【００３４】含浸後は１２０℃で１時間乾燥、５００℃
で１時間焼成した。焼成後のＡｇ付きチ夕二ア担体に硫
酸亜鉛(ＺｎＳＯ₄・７Ｈ₂Ｏ）０.３ｇを蒸留水に溶解し
た溶液を含浸した。含浸後は、１２０℃で１時間乾燥、
５００℃で２時間焼成し完成触媒とした。この触媒はＴ
ｉ−Ａｇ−Ｚｎであり、Ｔｉ／Ａｇ（モル比＝１／０.
１５）、Ｔｉ／Ｚｎ（モル比＝１／０.０５）である。
この触媒をＢとする。

【００３５】〔実施例 ４〕０.５〜１.０ｍｍに破砕さ
れたチ夕二ア担体の粉末１０ｇを５００℃で焼成させ
る。このチ夕二ア担体１０ｇに硝酸銀（ＡｇＮＯ₃）３.
２ｇを１０ｍｌの蒸留水に溶解した溶液を含浸した。

【００３６】含浸後は１２０℃で１時間乾燥、５００℃
で１時間焼成した。焼成後のＡｇ付きチ夕二ア担体にモ
リブデン酸アンモニウム〔(ＮＨ₄)₆Ｍｏ₇Ｏ₂₄・５Ｈ
₂Ｏ〕０.３ｇを蒸留水に溶解した溶液を含浸した。含浸
後は、１２０℃で１時間乾燥、５００℃で２時間焼成し
完成触媒とした。この触媒はＴｉ−Ａｇ−Ｍｏであり、
Ｔｉ／Ａｇ（モル比＝１／０.１５）、Ｔｉ／Ｍｏ（モ
ル比＝１／０.０５）である。この触媒をＣとする。

【００３７】〔実施例 ５〕０.５〜１.０ｍｍに破砕さ
れたチ夕二ア担体の粉末１０ｇを５００℃で焼成させ
る。このチ夕二ア担体１０ｇに硝酸銀（ＡｇＮＯ₃）３.
２ｇを１０ｍｌの蒸留水に溶解した溶液を含浸した。

【００３８】含浸後は１２０℃で１時間乾燥、５００℃
で１時間焼成した。焼成後のＡｇ付きチ夕二ア担体にバ
ナジン酸アンモニウム（ＮＨ₄ＶＯ₃）０.１２ｇを蒸留
水に溶解した溶液を含浸した。含浸後は、１２０℃で１
時間乾燥、５００℃で２時間焼成し完成触媒とした。こ
の触媒はＴｉ−Ａｇ−Ｖであり、Ｔｉ／Ａｇ（モル比＝
１／０.１５）、Ｔｉ／Ｖ（モル比＝１／０.０５）であ
る。この触媒をＤとする。

【００３９】〔実施例 ６〕０.５〜１.０ｍｍに破砕さ
れたチ夕二ア担体の粉末１０ｇを５００℃で焼成させ
る。このチ夕二ア担体１０ｇに硝酸銀（ＡｇＮＯ₃）３.
２ｇを１０ｍｌの蒸留水に溶解した溶液を含浸した。

【００４０】含浸後は１２０℃で１時間乾燥、５００℃
で１時間焼成した。焼成後のＡｇ付きチ夕二ア担体にタ
ングステン酸アンモニウム〔(ＮＨ₄)₁₀Ｗ₁₂Ｏ₄₁・５Ｈ₂
Ｏ）０.２５ｇを蒸留に溶解した溶液を含浸した。合浸
後は、１２０℃で１時間乾燥、５００℃で２時間焼成し
完成触媒とした。この触媒はＴｉ−Ａｇ−Ｗであり、Ｔ
ｉ／Ａｇ（モル比＝１／０.１５）、Ｔｉ／Ｗ（原子比
＝１／０.０５）である。この触媒をＥとする。

【００４１】〔比較例 ２〕０.５〜１.０ｍｍに破砕さ
れたアルミナ担体の粉末１０ｇを５００℃で乾燥させ
る。ジアミンニトロ白金〔Ｐｔ(ＮＯ₃)₂(ＮＨ₃)₂〕溶液
を用い、Ｐｔとして１％になるようにアルミナ担体１０
ｇに浸漬した。次いで、１２０℃で１時間乾燥、５００
℃で２時間焼成した。この触媒はＰｔ−Ａｌ（公知例触
媒）である。この触媒を比較例Ｘとする。

【００４２】〔実施例 ７〕前記実施例で得た触媒Ａ〜
Ｄおよび比較例触媒Ｘについて、内径１９ｍｍ×長さ３
００ｍｍの石英反応管内の中央部に設置した。ＮＨ₃の
模擬排ガスとして、ヘリウム中にＮＨ₃を混合して希釈
したガスを、前記石英反応管内に導入し、実施例触媒と
接触させた。

【００４３】触媒性能の指標として反応前後のＮＨ₃濃
度変化を測定した。ＮＨ₃濃度変化の測定には、ＮＨ₃検
知管（硫酸吸収剤）を用いた。反応条件は次のとおりで
ある。

【００４４】ＮＨ₃濃度：１０,０００ｐｐｍ、水蒸気渡
度：４０％、残り空気、反応温度：３７０℃、ガス空間
速度：３０,０００ｈ~¹（単位時間当り、単位触媒体積
当りのガスの供給量）、触媒量：１０ｍｌ。

【００４５】実施例７の方法により、触媒の性能比較を
行った結果を表１に示す。表から明らかなように実施例
触媒Ａ〜Ｅは比較例触媒Ｘに比べて触媒層出口のＮＨ₃
濃度とＮＯx濃度は１／１で排出されることが認められ
た。

【００４６】ＮＨ₃とＮＯxはＮＨ₃の添加の必要なく後
段触媒層で規制値以下に除去される。一方、Ｎ₂Ｏは後
段触媒層で除去されないため、前段触媒層で生成抑制す
る必要があり、実施例触媒Ａ〜Ｅは比較例２の触媒Ｘに
比べて格段に抑制効果があることが認められた。

【００４７】

【表１】

【００４８】〔実施例 ８〕ＴｉＯ₂スラリ１０ｇおよ
びモリブデン酸アンモニウム〔(ＮＨ₄)₆Ｍｏ₇０₂₄・４
Ｈ₂Ｏ〕０.７８ｇおよびメタバナジン酸アンモニウム
（ＮＨ₄ＶＯ₃）０.２１ｇを混合した。泥合スラリを１
２０℃で２時間乾燥し、次いで５００℃で２時間焼成し
て酸化物粉末を得る。この粉末にグラファイトを２％添
加してよく混練し、打錠機により５ｍｍ径×５ｍｍ高さ
に打錠して完成触媒とした。

【００４９】実験に際しては本触媒を０.５〜１.０ｍｍ
に破砕して使用した。この触媒はＴｉ−Ｍｏ−Ｖであ
り、Ｔｉ／Ｍｏ（モル比＝１／０.１２）、Ｔｉ／Ｖ
（モル比＝１／０.０５）である。この触媒をＦとす
る。

【００５０】〔実施例 ９〕ＴｉＯ₂スラリ１０ｇおよ
びモリブデン酸アンモニウム〔(ＮＨ₄)₆Ｍｏ₇０₂₄・４
Ｈ₂Ｏ〕０.７８ｇおよびタングステン酸アンモニウム
〔(ＮＨ₄)₁₀Ｗ₁₂Ｏ₄₁・５Ｈ₂Ｏ〕０.５ｇを混合した。

【００５１】混合スラリを１２０Ｃで２時間乾燥し、次
いで５００℃で２時間焼成して酸化物粉末を得る。この
粉末にグラファイトを２％添加してよく混練し、打錠機
により５ｍｍ径×５ｍｍ高さに打錠して完成触媒とし
た。実験に際しては本触媒を０.５〜１ｍｍに破砕して
使用した。

【００５２】この触媒はＴｉ−Ｍｏ−Ｗであり、Ｔｉ／
Ｍｏ（モル比＝ｌ／０.１２）、Ｔｉ／Ｗ（モル比＝１
／０.０５）である。この触媒をＧとする。

【００５３】〔比較例 ３〕ＴｉＯ₂スラリ１０ｇおよ
び硝酸鉄（ＦｅＮＯ₃・９Ｈ₂Ｏ）１.８４ｇを混合し
た。混合スラリを１２０℃で２時間乾燥し、次いで５０
０℃で２時間焼成して酸化物粉末を得る。この粉末にグ
ラファイトを２％添加してよく混練し、打錠機により５
ｍｍ径×５ｍｍ高さに打錠して完成触媒とした。実験に
際しては本触媒を０.５〜１ｍｍに破砕して使用した。

【００５４】この触媒はＴｉ−Ｆｅであり、Ｔｉ／Ｆｅ
（モル比＝１／０.１２）である。この触媒をＹとす
る。

【００５５】〔実施例 １０〕前記実施例で得た触媒
Ｆ，Ｇおよび比較例触媒Ｙについて内径１９ｍｍ×長さ
３００ｍｍの石英反応管内の中央部に設置した。後段触
媒層入口の反応条件は実施例１〜６で得られた排ガス出
口のＮＨ₃およびＮＯ濃度に模擬した。これにＨ₂Ｏを添
加して前記石英反応管内に導入し、実施例触媒と接触さ
せた。触媒性能の指標として反応前後のＮＨ₃およびＮ
Ｏ濃度変化を測定した。ＮＨ₃濃度変化の測定には、Ｎ
Ｈ₃検知管（硫酸吸収剤）を用い、ＮＯの濃度変化はＮ
Ｏ検知管（３,３'−ジメチルベンジジン吸収剤〕を用い
た。反応条件は次のとおりである。

【００５６】ＮＨ₃濃度：４００ｐｐｍ、ＮＯ濃度：４
３０ｐｐｍ、Ｎ₂Ｏ濃度：２０ｐｐｍ、水蒸気渡度：４
０％、残り空気、反応温度：３５０℃、ガス空間速度：
３０,０００ｈ~¹（単位時間当り、単位触媒体積当りの
ガスの供給量）、触媒量：１０ｍｌ。

【００５７】実施例１０の方法により、触媒の性能比較
を行った結果を表２に示す。表から明らかなように実施
例触媒Ｆ，Ｇは比較例２の触媒Ｙに比べて後段触媒層出
口ＮＨ₃、ＮＯ濃度およびＮ₂Ｏ濃度が規制値以下となる
ことがわかる。

【００５８】

【表２】

【００５９】

【発明の効果】本発明によれば、アンモニア含有排ガス
を前記二段触媒層に導入することにより、アンモニアお
よび窒素酸化物等の大気汚染物質が効率よく除去され、
環境浄化に寄与することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のアンモニア処理装置の一実施例を示す
システム概略図である。

【図２】本発明の予熱器温度の制御手段の概略フロー図
である。

【符号の説明】

１…アンモニア含有排ガス、２…予熱器、３…前段触媒
層、４…アンモニア濃度センサ、５…窒素酸化物濃度セ
ンサ、６…後段触媒層、７…無害化ガス排出口。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村井 行男 東京都千代田区内神田一丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 田中 明雄 東京都千代田区内神田一丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アンモニアおよび酸素および水蒸気を含
   有する排ガスを、前段および後段からなる二段触媒層で
   処理するアンモニア処理装置において、 前段触媒層の触媒がＴｉおよびＡｇを含み、かつ、Ｆ
   ｅ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｍｏ，Ｖ，Ｗの一種以上を含み、 後段触媒層の触媒がＴｉおよびＭｏ，Ｗの一種以上を含
   み、 前段触媒層出口ガス中のアンモニアおよび窒素酸化物濃
   度を検出する濃度センサを有し、該濃度センサの出力に
   基づき、窒素酸化物の濃度からアンモニア濃度を差し引
   いた値が所定の濃度範囲になるように、前段触媒層の温
   度を制御する制御手段を備えたことを特徴とするアンモ
   ニア処理装置。
2. 【請求項２】 アンモニアおよび酸素および水蒸気を含
   有する排ガスを、前段および後段からなる二段触媒層で
   処理するアンモニア処理装置において、 前段および後段触媒層の触媒がＴｉおよびＡｇを含み、
   かつ、Ｆｅ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｍｏ，Ｖ，Ｗの一種以上を含
   み、 前段触媒層出口ガス中のアンモニアおよび窒素酸化物濃
   度を検出する濃度センサを有し、該濃度センサの出力に
   基づき、窒素酸化物の濃度からアンモニア濃度を差し引
   いた値が所定の濃度範囲になるように、前段触媒層の温
   度を制御する制御手段を備えたことを特徴とするアンモ
   ニア処理装置。
3. 【請求項３】 前記前段触媒層がアンモニア酸化触媒で
   あり、前記後段触媒層が窒素酸化還元触媒である請求項
   １または２に記載のアンモニア処理装置。