JPH10310841A - Ceramic coating material, its production and high temperature member using the same material - Google Patents

Ceramic coating material, its production and high temperature member using the same material

Info

Publication number
JPH10310841A
JPH10310841A JP11825897A JP11825897A JPH10310841A JP H10310841 A JPH10310841 A JP H10310841A JP 11825897 A JP11825897 A JP 11825897A JP 11825897 A JP11825897 A JP 11825897A JP H10310841 A JPH10310841 A JP H10310841A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
rare earth
earth metal
ceramic coating
coating material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11825897A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Ishiwatari
裕 石渡
Yoshiyasu Ito
義康 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11825897A priority Critical patent/JPH10310841A/en
Publication of JPH10310841A publication Critical patent/JPH10310841A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily form a ceramic coating layer composed of rare earth metal oxide having excellent characteristics on the surface of a metallic material formed body by heating a formed body composed of a mixture of high m.p. metal and rare earth metal to a specified temp., vapor-depositing the rare earth metal on the surface of the metallic formed body and executing oxidation. SOLUTION: A granular mixture of high m.p. metal such as W, Mo, Ta, Nb or the like and rare earth metal of 5 to 30%, by volume is formed into a crucible, wire rod or the like. This formed body is used as a cathode, arc discharge is generated between it and an anode, heating is executed to a temp. lower than the m.p. of the high m.p. metal and more than that of the rare earth metal or the oxide thereof to vapor-deposit the rare earth metal on the surface of the formed body, and oxidation is executed in the air to form a ceramic-coated layer composed of rare earth metal oxide on the surface of the formed body by the high m.p. metal. The ceramic coating metallic material excellent in adhesion and homogeneity and further excellent in corrosion- resistance, arc resistance and thermoelectron releasability by the molten metal can be obtd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は金属材料の表面にセ
ラミックスをコーティングしてなるセラミックコーティ
ング材料の製造および利用技術に関するものであり、特
に溶融金属耐食性、耐アーク特性および熱電子放出特性
等に優れたセラミックコーティング材料、その製造方法
および同材料を用いた高温部材に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for producing and utilizing a ceramic coating material in which a metal material is coated with a ceramic on the surface thereof, and particularly to a metal coating having excellent corrosion resistance, arc resistance, and thermionic emission characteristics. The present invention relates to a ceramic coating material, a manufacturing method thereof, and a high-temperature member using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属酸化物、特に希土類金属の酸化物は
概して酸化物生成自由エネルギーが小さく、化学的に安
定であり、溶融金属に対する耐食性にも優れていること
から、活性金属溶解用のるつぼ等の材料として適してい
ると考えられている。しかし、その反面で、脆性が大き
く、耐熱衝撃性に劣る等の欠点があるため、前記酸化物
自体を主体とする部材としては従来工業的に用いられて
いない。
2. Description of the Related Art Metal oxides, especially oxides of rare earth metals, generally have a low free energy of oxide formation, are chemically stable, and have excellent corrosion resistance to molten metal. It is considered to be suitable as such a material. However, on the other hand, it has disadvantages such as high brittleness and poor thermal shock resistance. Therefore, it has not been conventionally used industrially as a member mainly composed of the oxide itself.

【0003】したがって、このような酸化物を用いる場
合には高融点金属やグラファイト等の耐熱材料の基材の
表面に、スリップコーティングやプラズマ溶射等により
コーティングした形で、即ちコーティング材料の皮膜と
して適用されることが多い。特にプラズマ溶射は皮膜材
料である酸化物粉末を、高温のプラズマフレームにより
溶融させ、金属基材の表面に吹付けることによりコーテ
ィングを行う方法で、比較的短時間で厚さ数100μm
の皮膜を形成させることができ、また大気中でのコーテ
ィングが可能で、大形の部材や複雑形状の部材にも適用
できるという特性を有することから多用される傾向にあ
る。
[0003] Therefore, when such an oxide is used, it is applied as a coating of a coating material on the surface of a substrate of a heat-resistant material such as a high melting point metal or graphite by slip coating or plasma spraying. Often done. In particular, plasma spraying is a method in which an oxide powder, which is a coating material, is melted by a high-temperature plasma frame, and is coated by spraying it on the surface of a metal substrate.
It has a tendency to be widely used because it has a characteristic that it can form a film of the type described above, can be coated in the atmosphere, and can be applied to a large-sized member or a member having a complicated shape.

【0004】また、希土類金属や希土類金属の酸化物は
仕事関数が小さく、熱電子放出特性にも優れているた
め、高融点金属と複合化することによりアーク消耗電極
等に用いられ、また表面にコーティングすることにより
フィラメント等に用いられている。
[0004] Further, rare earth metals and oxides of rare earth metals have a small work function and are excellent in thermionic emission characteristics. Therefore, they are used for arc consumable electrodes and the like by being combined with a high melting point metal. It is used for filaments and the like by coating.

【0005】その際のコーティング方法としては、微細
なフィラメント等の表面に厚さ1μm以下の緻密な薄膜
のコーティングが可能な物理蒸着(PVD)や化学蒸着
(CVD)が用いられている。PVDは皮膜材料を加熱
および蒸発させ、その蒸気を金属基材の表面に蒸着させ
る方法であり、また、CVDは皮膜材料を構成する元素
を気体で供給し、金属基材の表面で反応させてコーティ
ングする方法である。いずれの方法においても緻密で、
密着性に優れた薄膜状のコーティング皮膜を形成できる
という特徴を有している。
As a coating method at that time, physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD) that can coat a fine thin film having a thickness of 1 μm or less on the surface of a fine filament or the like is used. PVD is a method in which a coating material is heated and evaporated, and the vapor is vapor-deposited on the surface of a metal substrate.In CVD, elements constituting the coating material are supplied as a gas and reacted on the surface of the metal substrate. It is a method of coating. Either way,
It has the feature that a thin film coating film with excellent adhesion can be formed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラズ
マ溶射により得られる皮膜は多孔質体であり、基材との
密着性が低いため、金属溶解時の熱応力により容易に剥
離や割れを生じるという欠点を有している。さらに、フ
ィラメントのような微細な製品の表面に、1μm以下の
薄膜をコーティングすることも困難である。一方、PV
DやCVDは皮膜形成速度が遅いため、コーティングに
多大な時間を要し、かつ、コーティングを真空チャンバ
ーや反応容器内で行う必要があるため、大形の部材には
適用できないという欠点を有している。
However, the coating obtained by plasma spraying is a porous material and has low adhesion to the substrate, so that it easily peels or cracks due to thermal stress during melting of the metal. have. Further, it is difficult to coat a thin film of 1 μm or less on the surface of a fine product such as a filament. On the other hand, PV
D and CVD have the disadvantages that they require a large amount of time for coating because the film formation rate is slow, and they cannot be applied to large-sized members because they must be performed in a vacuum chamber or reaction vessel. ing.

【0007】また、プラズマ溶射やPVDはパイプの内
面のように、陰になっている部分にコーティングするこ
とができない。なお、皮膜材料を気体の状態で供給する
CDVにおいては、パイプ内面のコーティングも可能で
あるが、供給した気体の上流側から下流側にかけて反応
が進むにつれ、徐々に気体中の反応元素の濃度が低下す
るため、均一な厚さの皮膜を形成させることが難しい。
[0007] In addition, plasma spraying or PVD cannot be applied to a shaded portion such as the inner surface of a pipe. In the case of a CDV in which the coating material is supplied in a gaseous state, it is possible to coat the inner surface of the pipe. However, as the reaction proceeds from the upstream side to the downstream side of the supplied gas, the concentration of the reaction element in the gas gradually decreases. Therefore, it is difficult to form a film having a uniform thickness.

【0008】一方、金属マトリクス中に金属酸化物等の
セラミック粒子を分散させた複合材料においては、表面
に露出した金属部が選択的に腐食を受けたり、逆にアー
ク放電に際しては熱電子放出特性に優れた希土類金属酸
化物粒子にアークスポットが形成されるため、希土類金
属酸化物粒子が選択的に損耗するという問題を有してい
る。
On the other hand, in a composite material in which ceramic particles such as a metal oxide are dispersed in a metal matrix, the metal portion exposed on the surface is selectively corroded, and conversely, the thermionic emission characteristic is obtained at the time of arc discharge. Since an arc spot is formed on the rare earth metal oxide particles having excellent heat resistance, there is a problem that the rare earth metal oxide particles are selectively worn.

【0009】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、第1の目的は、コーティング皮膜が容易に剥離
したり割れを生じることがなく、かつ損耗しにくいセラ
ミックコーティング材料を提供することにある。
The present invention has been made in view of such circumstances, and a first object of the present invention is to provide a ceramic coating material in which a coating film does not easily peel or crack, and is hardly worn. It is in.

【0010】また、第2の目的は、密着性および均質性
に優れた希土類金属または希土類金属酸化物のコーティ
ング皮膜を短時間で形成することができるセラミックコ
ーティング材料の製造方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method for producing a ceramic coating material capable of forming a coating film of a rare earth metal or a rare earth metal oxide having excellent adhesion and homogeneity in a short time. .

【0011】さらに第3の目的は、前記の優れた特性を
有するセラミックコーティング材料を用い、フィラメン
トのような微細製品から大形製品までに広く適用できる
高温部材を提供することにある。
It is a third object of the present invention to provide a high-temperature member which can be widely used from fine products such as filaments to large products by using the ceramic coating material having the above-mentioned excellent characteristics.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】希土類金属の酸化物は熱
電子放出性や溶融金属耐食性に優れていることから、発
明者においては、希土類金属または希土類金属の酸化物
を含有する高融点金属材料を、希土類金属または希土類
金属の酸化物の融点以上でありかつ高融点金属の融点以
下に加熱することにより、希土類金属を溶融蒸発させる
ことに着目した。その際、希土類金属の蒸気が発生し易
いように、減圧雰囲気が好ましく、また、マトリクスで
ある高融点金属の酸化抑制や化学的に安定な希土類金属
酸化物を還元し蒸発を容易にさせるために、水素等の還
元性ガスを添加することが好ましい。このようにして蒸
発した希土類金属の蒸気を金属材料表面に蒸着し、大気
中の酸素と結合させることにより、金属材料表面に希土
類金属酸化物のコーティングを容易に行うことができ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION Since rare earth metal oxides are excellent in thermionic emission properties and molten metal corrosion resistance, the inventors have invented a high melting point metal material containing a rare earth metal or an oxide of a rare earth metal. Was heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the rare earth metal or the oxide of the rare earth metal and equal to or lower than the melting point of the high melting point metal, thereby melting and evaporating the rare earth metal. At this time, a reduced-pressure atmosphere is preferable so that vapor of the rare earth metal is easily generated.Also, in order to suppress oxidation of the high melting point metal which is a matrix and reduce a chemically stable rare earth metal oxide to facilitate evaporation. It is preferable to add a reducing gas such as hydrogen. The vapor of the rare earth metal evaporated in this manner is deposited on the surface of the metal material and combined with oxygen in the atmosphere, so that the surface of the metal material can be easily coated with the rare earth metal oxide.

【0013】また、マトリクスである高融点金属に比べ
て希土類金属や希土類金属の酸化物は仕事関数が小さ
い。このことから、高融点金属と希土類金属もしくは希
土類金属の酸化物で構成された金属材料の表面に、アー
クを発生させることにより、高温のアークスポットを希
土類金属もしくは希土類金属酸化物に優先的に形成さ
せ、希土類金属の蒸発を促進させることにより、より短
時間で均一なコーティング皮膜を得ることができる。
The work function of the rare earth metal or the oxide of the rare earth metal is smaller than that of the refractory metal serving as the matrix. Therefore, by generating an arc on the surface of a metal material composed of a high melting point metal and a rare earth metal or a rare earth metal oxide, a high-temperature arc spot is preferentially formed on the rare earth metal or the rare earth metal oxide. By promoting the evaporation of the rare earth metal, a uniform coating film can be obtained in a shorter time.

【0014】また、希土類金属または希土類金属酸化物
とともに金属材料を構成するマトリクス金属としては、
希土類金属または希土類金属酸化物よりも融点が高く、
かつ蒸気圧が低い金属材料であるW、Mo、Ta、Nb
およびこれら金属の合金が好ましい。
The matrix metal constituting the metal material together with the rare earth metal or the rare earth metal oxide includes:
Melting point higher than rare earth metal or rare earth metal oxide,
W, Mo, Ta, Nb which are metal materials having low vapor pressure
And alloys of these metals are preferred.

【0015】熱電子放出性や溶融金属耐食性に優れた希
土類金属としては、Y、La、Ce、Nd、Sm、E
u、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、それらの合金、ま
たはそれらの酸化物が好ましい。これらの元素はいずれ
も酸化物生成自由エネルギーが小さく、上記コーティン
グの際の加熱工程や使用中に容易に酸化されるため、金
属マトリクス中への添加形態は金属の状態でも酸化物の
状態でも良い。
Rare earth metals excellent in thermionic emission properties and molten metal corrosion resistance include Y, La, Ce, Nd, Sm, and E.
u, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, their alloys, or their oxides are preferred. Each of these elements has a small oxide generation free energy and is easily oxidized during the heating step or use during the coating, and therefore, the form of addition to the metal matrix may be a metal state or an oxide state. .

【0016】一方、金属材料表面に均一な希土類金属酸
化物のコーティングを施すためには、その蒸気発生源で
ある希土類金属もしくは希土類金属の酸化物が、高融点
金属のマトリクス中に均一に分散していることが好まし
い。このような観点から、希土類金属もしくは希土類金
属酸化物は塊状、粒状または粉状でマトリクス金属中に
分散していることが効果的である。
On the other hand, in order to uniformly coat the surface of the metal material with the rare earth metal oxide, the rare earth metal or the oxide of the rare earth metal, which is the vapor generation source, is uniformly dispersed in the matrix of the high melting point metal. Is preferred. From such a viewpoint, it is effective that the rare earth metal or the rare earth metal oxide is dispersed in the matrix metal in the form of a lump, a particle, or a powder.

【0017】また、希土類金属の蒸気を効果的に発生さ
せる方法としては、被コーティング金属材料の表面のみ
を、1500℃以上の高温に短時間で加熱することが、
部材の変形抑制やコーティングコストの低減に有効であ
る。このような要求に適した加熱方法として、プラズ
マ、電子ビームおよびレーザビームが適している。
Further, as a method for effectively generating a rare earth metal vapor, only the surface of the metal material to be coated is heated to a high temperature of 1500 ° C. or more in a short time.
This is effective for suppressing deformation of members and reducing coating costs. As a heating method suitable for such a demand, a plasma, an electron beam, and a laser beam are suitable.

【0018】また、希土類金属または希土類金属酸化物
と高融点金属マトリクスが均一に混在した金属材料の製
造方法として、両原料粉末を予め混合して焼結する、粉
末焼結プロセスが有効である。この粉末焼結プロセスは
材料を溶融させることなく、比較的低温で製造が行える
ため、分散粒子と高融点金属マトリクスとの反応を抑制
する観点からも有効である。
As a method for producing a metal material in which a rare earth metal or a rare earth metal oxide and a high melting point metal matrix are uniformly mixed, a powder sintering process in which both raw material powders are mixed in advance and sintered is effective. Since this powder sintering process can be performed at a relatively low temperature without melting the material, it is also effective from the viewpoint of suppressing the reaction between the dispersed particles and the high melting point metal matrix.

【0019】また、焼結後の組成加工や溶融金属耐食性
の観点から、焼結体は真密度近くまで緻密化させること
が好ましく、このような緻密な焼結体をえる方法とし
て、ホットプレスまたはHIP等を用いた加圧焼結が有
望である。
Further, from the viewpoint of the composition processing after sintering and the corrosion resistance of molten metal, it is preferable that the sintered body be densified to near the true density. As a method for obtaining such a dense sintered body, hot pressing or Pressure sintering using HIP or the like is promising.

【0020】なお、低コストの量産化を考えた場合、ホ
ットプレスは単品生産になり、またガス圧を用いるHI
P焼結では、素材粉末を金属製のカプセルに真空封入す
る必要がある。しかしながら、一旦、焼結により焼結体
の相対密度が90%以上に緻密化できる場合には、焼結
体中に残留した気孔が外部とは通じていない閉気孔とな
るため、焼結体をそのままHIP処理に供することによ
り、ほぼ真密度まで緻密化させることが可能である。
In consideration of mass production at low cost, the hot press becomes a single product and the HI using the gas pressure is used.
In P sintering, it is necessary to vacuum-enclose the material powder in a metal capsule. However, once the relative density of the sintered body can be reduced to 90% or more by sintering, the pores remaining in the sintered body become closed pores not communicating with the outside. By directly subjecting to HIP processing, it is possible to densify almost to the true density.

【0021】また、高融点金属中に添加する希土類金属
または希土類金属の酸化物の体積としては、添加量が少
な過ぎると均一な被覆層が得られず、一方、多過ぎると
強度が低下するため、5体積%から50体積%が良い。
なお、素材表面を完全に被覆するためには5体積%以
上、また、高温強度部材として用いる場合には30体積
%以下が好ましい。
The volume of the rare earth metal or the oxide of the rare earth metal to be added to the refractory metal is too small to form a uniform coating layer, while if too large, the strength is reduced. 5% by volume to 50% by volume is preferred.
In order to completely cover the surface of the material, the content is preferably 5% by volume or more, and when used as a high-temperature strength member, the content is preferably 30% by volume or less.

【0022】さらに、前述したアーク処理過程や使用中
に表面の希土類金属酸化物コーティング層が損耗するた
め経年的に特性が劣化する。したがって、素材中に分散
した希土類金属または希土類酸化物が三次元的に連結し
たネットワーク構造を持たせることにより、使用中およ
び再度の加熱処理やアーク処理により、再び素材表面に
コーティング層を形成させることができる。
Furthermore, the characteristics of the coating deteriorate over time due to the wear of the rare earth metal oxide coating layer on the surface during the above-mentioned arc treatment and during use. Therefore, by providing a network structure in which the rare-earth metal or rare-earth oxide dispersed in the material has a three-dimensionally connected network, the coating layer can be formed again on the material surface during use and again by heating or arc treatment. Can be.

【0023】以上のように、高融点金属中に希土類金属
または希土類金属酸化物を分散させた素材表面に、希土
類金属酸化物のコーティング層を設けることにより、溶
融金属耐食性を著しく向上でき、このような部材は真空
中もしくは不活性ガス雰囲気中で活性金属を溶解する、
るつぼ等の材料として最適である。
As described above, by providing a rare earth metal oxide coating layer on the surface of a material in which a rare earth metal or a rare earth metal oxide is dispersed in a high melting point metal, the corrosion resistance of molten metal can be remarkably improved. Components dissolve active metals in vacuum or inert gas atmosphere,
Most suitable for crucibles and other materials.

【0024】同様に、熱電子放出特性に優れた希土類金
属酸化物でコーティングされた部材は、電極、フィラメ
ント等の高い熱電子放出特性が要求される部材としても
最適である。
Similarly, a member coated with a rare-earth metal oxide having excellent thermoelectron emission characteristics is most suitable as a member requiring high thermoelectron emission characteristics, such as an electrode or a filament.

【0025】以上の知見に基づき、請求項1の発明で
は、高融点金属と、希土類金属または希土類金属の酸化
物とを主成分とする金属材料の表面にセラミックスをコ
ーティングしたセラミックコーティング材料において、
前記金属材料を減圧雰囲気下で、その金属材料を構成す
る希土類金属または希土類金属酸化物の融点以上であ
り、かつ前記高融点金属の融点以下に加熱することによ
り、金属材料の表面を希土類金属酸化物を主成分とする
物質で被覆してなることを特徴とするセラミックコーテ
ィング材料を提供する。
Based on the above findings, according to the first aspect of the present invention, there is provided a ceramic coating material comprising a ceramic material coated on a surface of a metal material mainly composed of a high melting point metal and a rare earth metal or an oxide of a rare earth metal.
By heating the metal material under a reduced pressure atmosphere to a temperature equal to or higher than the melting point of the rare earth metal or the rare earth metal oxide constituting the metal material and equal to or lower than the melting point of the high melting point metal, the surface of the metal material is oxidized by the rare earth metal. Provided is a ceramic coating material characterized by being coated with a substance whose main component is a substance.

【0026】請求項2の発明では、請求項1記載のセラ
ミックコーティング材料において、金属材料を陰極と
し、他方の陽極との間に電圧を印加し、金属材料表面で
アーク放電を生じさせることにより、前記金属材料の表
面を、希土類金属酸化物を主成分とする物質で被覆して
なることを特徴とするセラミックコーティング材料を提
供する。
According to a second aspect of the present invention, in the ceramic coating material according to the first aspect, a metal material is used as a cathode, and a voltage is applied between the metal material and the other anode to generate an arc discharge on the surface of the metal material. A ceramic coating material is provided, wherein the surface of the metal material is coated with a substance containing a rare earth metal oxide as a main component.

【0027】請求項3の発明では、請求項1または2記
載のセラミックコーティング材料において、金属材料を
構成する高融点金属は、W、Mo、Ta、Nb、または
それらの合金であることを特徴とするセラミックコーテ
ィング材料を提供する。
According to a third aspect of the present invention, in the ceramic coating material according to the first or second aspect, the high melting point metal constituting the metal material is W, Mo, Ta, Nb, or an alloy thereof. A ceramic coating material is provided.

【0028】請求項4の発明では、請求項1から3まで
のいずれかに記載のセラミックコーティング材料におい
て、金属材料を構成する希土類金属は、Y、La、C
e、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、E
r、それらの合金、またはそれらの酸化物であることを
特徴とするセラミックコーティング材料を提供する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the ceramic coating material according to any one of the first to third aspects, the rare earth metal constituting the metal material is Y, La, C
e, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, E
r, their alloys, or their oxides.

【0029】請求項5の発明では、請求項1から4まで
のいずれかに記載のセラミックコーティング材料におい
て、希土類金属またはその酸化物は粒状、塊状または粉
状で、前記高融点金属中に分散したものであることを特
徴とするセラミックコーティング材料を提供する。
According to a fifth aspect of the present invention, in the ceramic coating material according to any one of the first to fourth aspects, the rare earth metal or an oxide thereof is dispersed in the high melting point metal in a granular, lump or powder form. A ceramic coating material is provided.

【0030】請求項6の発明では、請求項1から5まで
のいずれかに記載のセラミックコーティング材料におい
て、金属材料中の希土類金属または希土類金属の酸化物
の含有量が、2〜50体積%、好ましくは、5〜30体
積%であることを特徴とするセラミックコーティング材
料を提供する。
According to a sixth aspect of the present invention, in the ceramic coating material according to any one of the first to fifth aspects, the content of the rare earth metal or the oxide of the rare earth metal in the metal material is 2 to 50% by volume, Preferably, the ceramic coating material is provided in an amount of 5 to 30% by volume.

【0031】請求項7の発明では、請求項1から6まで
のいずれかに記載のセラミックコーティング材料におい
て、金属材料中の希土類金属または希土類酸化物が、三
次元的に連結したネットワーク構造を有することを特徴
セラミックコーティング材料を提供する。
According to a seventh aspect of the present invention, in the ceramic coating material according to any one of the first to sixth aspects, the rare earth metal or the rare earth oxide in the metal material has a three-dimensionally connected network structure. The feature is to provide ceramic coating material.

【0032】請求項8の発明では、高融点金属と、希土
類金属または希土類金属の酸化物とを主成分とする金属
材料の表面にセラミックスをコーティングしたセラミッ
クコーティング材料において、前記金属材料を減圧雰囲
気下で、その金属材料を構成する希土類金属または希土
類金属酸化物の融点以上であり、かつ前記高融点金属の
融点以下に加熱することにより、金属材料の表面を希土
類金属酸化物を主成分とする物質で被覆することを特徴
とするセラミックコーティング材料の製造方法を提供す
る。
According to the present invention, in a ceramic coating material in which ceramics are coated on the surface of a metal material mainly composed of a high melting point metal and a rare earth metal or an oxide of a rare earth metal, the metal material is subjected to a reduced pressure atmosphere. By heating the metal material to a temperature higher than the melting point of the rare earth metal or rare earth metal oxide constituting the metal material and lower than the melting point of the high melting point metal, the surface of the metal material is mainly composed of a rare earth metal oxide. The present invention provides a method for producing a ceramic coating material, characterized by being coated with:

【0033】請求項9の発明では、請求項8記載のセラ
ミックコーティング材料の製造方法において、金属材料
を加熱する方法として、プラズマ、電子ビームまたはレ
ーザビームを用いることを特徴するセラミックコーティ
ング材料の製造方法を提供する。
According to a ninth aspect of the present invention, in the method for producing a ceramic coating material according to the eighth aspect, a method of heating the metal material comprises using a plasma, an electron beam or a laser beam. I will provide a.

【0034】請求項10の発明では、請求項8記載のセ
ラミックコーティング材料の製造方法において、金属材
料を、粒状または粉状の希土類金属またはその酸化物
と、高融点金属の粉末との混合物の焼結により得ること
を特徴とするセラミックコーティング材料の製造方法を
提供する。
According to a tenth aspect of the present invention, in the method for producing a ceramic coating material according to the eighth aspect, the metal material is formed by firing a mixture of a granular or powdery rare earth metal or an oxide thereof and a powder of a high melting point metal. The present invention provides a method for producing a ceramic coating material obtained by sintering.

【0035】請求項11の発明では、請求項10記載の
セラミックコーティング材料の製造方法において、希土
類金属またはその酸化物と高融点金属との混合物を焼結
する際、ホットプレスまたはHIP処理を用いることを
特徴とするセラミックコーティング材料の製造方法を提
供する。
According to the eleventh aspect of the present invention, in the method for producing a ceramic coating material according to the tenth aspect, when sintering a mixture of a rare earth metal or an oxide thereof and a refractory metal, hot pressing or HIP processing is used. And a method for producing a ceramic coating material.

【0036】請求項12の発明では、請求項10記載の
セラミックコーティング材料の製造方法において、希土
類金属またはその酸化物と高融点金属との混合物を常圧
にて焼結した後、後処理として、HIP処理を施すこと
を特徴とするセラミックコーティング材料の製造方法を
提供する。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the method for producing a ceramic coating material according to the tenth aspect, after sintering a mixture of a rare earth metal or its oxide and a high melting point metal at normal pressure, Provided is a method for producing a ceramic coating material, which is characterized by performing HIP processing.

【0037】請求項13の発明では、請求項1から7ま
でのいずれかに記載のセラミックコーティング材料を用
いて構成したことを特徴とする電極、フィラメント、金
属溶解装置部材、蒸発装置部材、鋳造装置部材その他の
高温部材を提供する。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided an electrode, a filament, a member for a metal melting device, a member for an evaporating device, and a casting device, which are formed using the ceramic coating material according to any one of the first to seventh aspects. Components and other high temperature components are provided.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0039】第1実施形態(図1,2) 図1(a),(b),(c)は本発明の基本的実施形態
を示したものである。まず、図1(a)に示すように、
高融点金属のマトリクス1中に希土類金属または希土類
金属酸化物粒子2を分散させた素材を、減圧雰囲気下で
希土類金属または希土類金属酸化物の融点以上でありか
つ高融点金属の融点以下に加熱する。すると、図1
(b)に示すように、融点、蒸気圧の低い希土類金属ま
たは希土類金属酸化物が溶融および蒸発し、希土類金属
の蒸気3が発生する。その結果、図1(c)に示すよう
に、蒸発した希土類金属原子は素材表面に蒸着し、雰囲
気中の酸素と結合し安定な酸化物のコーティング皮膜4
が形成される。
First Embodiment (FIGS. 1 and 2) FIGS. 1A, 1B and 1C show a basic embodiment of the present invention. First, as shown in FIG.
A material in which rare-earth metal or rare-earth metal oxide particles 2 are dispersed in a high-melting-point metal matrix 1 is heated under a reduced-pressure atmosphere to a temperature higher than the melting point of the rare-earth metal or rare-earth metal oxide and lower than the melting point of the high-melting-point metal. . Then, Figure 1
As shown in (b), a rare earth metal or a rare earth metal oxide having a low melting point and a low vapor pressure is melted and evaporated to generate a rare earth metal vapor 3. As a result, as shown in FIG. 1 (c), the evaporated rare earth metal atoms are deposited on the surface of the material and combined with oxygen in the atmosphere to form a stable oxide coating film 4.
Is formed.

【0040】図2は、Wマトリクス中にY2 3 を分散
させた素材を、プラズマフレームを用いて30分間加熱
した後に、表面のW部をオージェ電子分光分析装置によ
り分析した結果の一例を示したグラフで、縦軸にオージ
ェピーク強度を現し、横軸に表面からの距離を現してい
る。この図2に示すように、加熱前のWマトリクス部に
は全くYが検出されないが、加熱後のW部には厚さ約1
0オングストロームに亘ってYとOとが検出された。こ
のことから、Wマトリクス部の表面がY2 3を主成分
とする酸化物により被覆されていることが明らかとなっ
た。
FIG. 2 shows an example of the result obtained by heating a material in which Y 2 O 3 is dispersed in a W matrix by using a plasma flame for 30 minutes and then analyzing the W portion on the surface by an Auger electron spectrometer. In the graph shown, the vertical axis represents the Auger peak intensity, and the horizontal axis represents the distance from the surface. As shown in FIG. 2, Y is not detected at all in the W matrix portion before heating, but the thickness of about 1 mm is observed in the W portion after heating.
Y and O were detected over 0 Å. From this, it became clear that the surface of the W matrix portion was covered with an oxide containing Y 2 O 3 as a main component.

【0041】第2実施形態(図3) 本実施形態では、図2に示したWマトリクス中にY2
3 を分散させた素材を、プラズマフレームを用いて30
分間加熱することにより試験片を得た(実施例1)。ま
た、同素材を陰極として強制的にアーク放電を生じさせ
ることにより試験片を得た(実施例2)。図3はこれら
の各試験片について、W部の表面をオージェ電子分光分
析装置により分析した結果を示すグラフである。
Second Embodiment (FIG. 3) In this embodiment, Y 2 O is included in the W matrix shown in FIG.
3 is dispersed using a plasma flame to 30
A test piece was obtained by heating for 1 minute (Example 1). A test piece was obtained by forcibly generating an arc discharge using the same material as a cathode (Example 2). FIG. 3 is a graph showing the results obtained by analyzing the surface of the W portion of each of these test pieces with an Auger electron spectrometer.

【0042】この図3より、いずれの試験片においても
Y層の存在が確認されたが、加熱のみの試験片(実施例
1)に比べてアーク処理した試験片(実施例2)の皮膜
厚さは著しく大きく、アーク処理により皮膜の成長が加
速されることがわかった。
From FIG. 3, it was confirmed that the Y layer was present in all the test pieces. However, the film thickness of the arc-treated test piece (Example 2) was larger than that of the test piece heated only (Example 1). The thickness was remarkably large, indicating that the arc treatment accelerated the growth of the film.

【0043】これは、W等の高融点金属に比べて希土類
金属や希土類酸化物の仕事関数が小さいため、アークが
希土類金属部や希土類金属酸化物部に優先的に生じるた
め、アーキングによる局部的な加熱により、図1(b)
に示した希土類金属または希土類金属酸化物の溶融蒸発
速度が増大するためである。
This is because the work function of a rare earth metal or a rare earth oxide is smaller than that of a high melting point metal such as W, and an arc is preferentially generated in a rare earth metal part or a rare earth metal oxide part. FIG. 1 (b)
This is because the rate of melt evaporation of the rare earth metal or rare earth metal oxide shown in (1) increases.

【0044】第3実施形態(図4) 本実施形態では、10体積%のY2 3 を添加したW,
Mo,Ta,Nb等、種々の高融点金属の複合材料につ
いて、同一条件でプラズマフレームにより加熱処理を行
った。図4はこの場合の皮膜厚さを測定した結果を示す
グラフである。
Third Embodiment (FIG. 4) In this embodiment, W, to which 10% by volume of Y 2 O 3 is added,
Heat treatment was performed on a composite material of various refractory metals such as Mo, Ta, and Nb using a plasma flame under the same conditions. FIG. 4 is a graph showing the result of measuring the film thickness in this case.

【0045】この図4に示すように、使用したマトリク
ス金属により皮膜厚さは異なるが、いずれの高融点金属
においても、加熱処理により試験片の表面にY2 3
主成分とする酸化物コーティングが可能なことが確認さ
れた。
As shown in FIG. 4, although the film thickness varies depending on the matrix metal used, any of the high-melting-point metals is subjected to heat treatment to form an oxide mainly composed of Y 2 O 3 on the surface of the test piece. It was confirmed that coating was possible.

【0046】第4実施形態 本実施形態では、マトリクス金属をWとし、分散粒子の
材質を種々変えた試験片について、同様なプラズマフレ
ームにより加熱を行った。この場合の皮膜厚さを測定し
た結果を、下記の表1に示す。
Fourth Embodiment In this embodiment, a test piece in which the matrix metal is W and the material of the dispersed particles is variously changed is heated by a similar plasma frame. The results of measuring the film thickness in this case are shown in Table 1 below.

【0047】この表1中で,○印は良好にコーティング
皮膜が得られた物を示し、△印は皮膜厚さが薄い物もし
くは皮膜厚さが不均一な物を示し、×印は皮膜の形成が
認められなかった物を示している。
In Table 1, ○ indicates that the coating film was successfully obtained, △ indicates that the coating thickness was small or non-uniform, and x indicates that the coating was good. The figure shows that no formation was observed.

【0048】上記試験結果より、希土類金属および希土
類金属酸化物を分散させたW合金は、いずれも分散した
希土類金属の酸化物の皮膜の形成が認められた。したが
って、このような加熱による希土類金属酸化物皮膜の形
成は、希土類金属または希土類金属酸化物に共通した特
性と考えられる。
From the above test results, formation of a film of the dispersed rare earth metal oxide was observed in each of the W alloys in which the rare earth metal and the rare earth metal oxide were dispersed. Therefore, formation of a rare earth metal oxide film by such heating is considered to be a property common to rare earth metals or rare earth metal oxides.

【0049】また、希土類金属を分散させた素材より
も、希土類金属酸化物を分散させた素材の方が、概して
良好な皮膜が得られる傾向があり、希土類金属で添加す
るよりも希土類酸化物で添加する方が好ましいと言え
る。
Also, a material in which a rare earth metal oxide is dispersed tends to obtain a better film in general than a material in which a rare earth metal is dispersed. It can be said that addition is more preferable.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】第5実施形態(図5) 本実施形態では、Y2 3 添加量が20体積%と一定
で、Y2 3 の大きさを変えた試験片を作成した。図5
は、この試験片について加熱処理を行い、各試験片の皮
膜厚さを5点測定した場合の最大値と最小値の値を示す
グラフである。
Fifth Embodiment (FIG. 5) In this embodiment, a test piece was prepared in which the addition amount of Y 2 O 3 was constant at 20% by volume and the size of Y 2 O 3 was changed. FIG.
Is a graph showing the maximum value and the minimum value in the case where the test piece was subjected to a heat treatment and the film thickness of each test piece was measured at five points.

【0052】この図5より、Y2 3 粒子径が小さい場
合には、いずれの測定位置においてもほぼ均一な厚さの
皮膜が得られるのに対し、Y2 3 粒子径が大きくなる
につれて、皮膜厚さの不均一性が顕著になる傾向がある
ことがわかる。これは、加熱によりコーティングされる
領域が分散した希土類金属もしくは希土類金属酸化物の
周囲に限定されるためである。
FIG. 5 shows that when the Y 2 O 3 particle diameter is small, a film having a substantially uniform thickness can be obtained at any measurement position, but as the Y 2 O 3 particle diameter increases, It can be seen that the nonuniformity of the film thickness tends to be remarkable. This is because the region to be coated by heating is limited around the dispersed rare earth metal or rare earth metal oxide.

【0053】したがって、希土類金属もしくは希土類金
属酸化物粒子は、できるだけ均一かつ微細に高融点金属
マトリクス中に分散されていることが好ましく、また分
散させる希土類金属または希土類酸化物の形態は塊状、
粒状または粉状が適している。
Therefore, it is preferable that the rare earth metal or rare earth metal oxide particles are dispersed as uniformly and finely as possible in the high melting point metal matrix.
Granular or powdery forms are suitable.

【0054】また、図5の結果から、分散する希土類金
属もしくは希土類金属酸化物粒子の大きさは、500μ
m以下が好ましいと言える。
From the results shown in FIG. 5, the size of the dispersed rare earth metal or rare earth metal oxide particles is 500 μm.
It can be said that m or less is preferable.

【0055】第6実施形態(図6) 本実施形態では、20体積%Y2 3 −W素材につい
て、種々の加熱方法により素材表面を一定時間加熱し
た。図6は、この加熱後の皮膜厚さの測定結果を示すグ
ラフである。
Sixth Embodiment (FIG. 6) In this embodiment, the surface of a 20 volume% Y 2 O 3 -W material was heated for a certain time by various heating methods. FIG. 6 is a graph showing the measurement results of the film thickness after the heating.

【0056】この図6より、形成される皮膜厚さはプラ
ズマフレーム、電子ビーム、レーザービーム、高周波加
熱、抵抗加熱の順に薄くなる傾向があることがわかる。
この結果は、素材表面の瞬間的温度が高い加熱方法が適
していることを示している。
FIG. 6 shows that the thickness of the formed film tends to decrease in the order of the plasma frame, the electron beam, the laser beam, the high-frequency heating, and the resistance heating.
This result indicates that a heating method in which the instantaneous temperature of the material surface is high is suitable.

【0057】したがって、短時間で希土類金属酸化物の
コーティング層を形成させるプロセスとしては、プラズ
マフレーム、電子ビーム、レーザービームが有効である
ことが明らかである。
Therefore, it is clear that a plasma flame, an electron beam, and a laser beam are effective as a process for forming a rare earth metal oxide coating layer in a short time.

【0058】第7実施形態(図7(a)〜(d)) 本実施形態は、下記の点に着目して実施したものであ
る。即ち、高融点金属中に希土類金属または希土類金属
酸化物が分散した素材の代表的な製造方法としては、溶
製法と粉末冶金法がある。前者はマトリクスである高融
点金属の融点以上に加熱し溶融させるため、添加した希
土類金属の一部はマトリクス中に固溶したり、脆い金属
間化合物相を形成する。
Seventh Embodiment (FIGS. 7 (a) to 7 (d)) This embodiment is implemented by focusing on the following points. That is, typical methods for producing a material in which a rare earth metal or a rare earth metal oxide is dispersed in a high melting point metal include a melting method and a powder metallurgy method. The former heats and melts at a temperature higher than the melting point of the high-melting-point metal that is the matrix, so that a part of the added rare-earth metal forms a solid solution in the matrix or forms a brittle intermetallic compound phase.

【0059】このような希土類金属を固溶した材料や金
属間化合物が生成した素材では、加熱処理を行ってもほ
とんど皮膜が形成されないことを確認している。また、
希土類金属酸化物の場合は高融点金属に比べて比重が著
しく小さいため、高融点金属の溶湯中に添加しても分離
または分解するため、均一な素材を製造することが不可
能である。したがって、本発明の材料の製造方法とし
て、溶製法は適していないと考えられる。
It has been confirmed that a film is hardly formed even when heat treatment is performed on such a material in which a rare-earth metal is dissolved or an intermetallic compound is formed. Also,
In the case of rare earth metal oxides, the specific gravity is remarkably smaller than that of the high melting point metal, so that even if added to a high melting point metal melt, it is separated or decomposed, so that it is impossible to produce a uniform material. Therefore, it is considered that the melting method is not suitable as a method for producing the material of the present invention.

【0060】一方、粉末冶金法はマトリクスの高融点金
属を溶かすことなく、融点の6割程度の加熱温度で製造
できるため、希土類金属または希土類金属酸化物と高融
点金属の反応が軽微であり、また、比重差も大きな問題
とならず本材料の製造方法として適していると言える。
On the other hand, the powder metallurgy method can be manufactured at a heating temperature of about 60% of the melting point without melting the high melting point metal of the matrix, so that the reaction between the rare earth metal or rare earth metal oxide and the high melting point metal is slight, Further, the difference in specific gravity does not cause a significant problem, and it can be said that the material is suitable as a method for producing the present material.

【0061】図7(a)〜(d)は、粉末焼結法による
高融点金属と希土類金属または希土類金属酸化物との複
合材料の製造方法を示す工程図である。まず、原料とな
る高融点金属の粉末5と希土類金属または希土類金属酸
化物粉末6とをボールミル7を用いて均一に混合する
(図7(a))。その際、高融点金属粉末の粒子径とし
ては焼結性や粉末充填性の観点から、1μm以上、10
μm以下が好ましい。
FIGS. 7A to 7D are process diagrams showing a method for producing a composite material of a high melting point metal and a rare earth metal or a rare earth metal oxide by a powder sintering method. First, the powder 5 of the high melting point metal as the raw material and the rare earth metal or rare earth metal oxide powder 6 are uniformly mixed by using a ball mill 7 (FIG. 7A). At this time, the particle size of the refractory metal powder should be 1 μm or more from the viewpoint of sinterability and powder filling property.
μm or less is preferred.

【0062】また、希土類金属粉末については、一部焼
結過程でマトリクスと反応することを考慮し、10μm
以上、1mm以下が好ましい。一方、希土類金属酸化物
粒子は脆く、ボールミルによる混合過程で粉砕されるた
め、原料粉末の粒子径は比較的裕度が大きいが、焼結後
の素材中の粗大な酸化物粒子は素材の強度を著しく低下
させるため、100μm以下が好ましい。
The rare earth metal powder has a thickness of 10 μm in consideration of reaction with the matrix during the sintering process.
More preferably, it is 1 mm or less. On the other hand, rare earth metal oxide particles are brittle and are ground during the mixing process by a ball mill, so the particle size of the raw material powder is relatively large, but the coarse oxide particles in the sintered material have the strength of the material. Is preferably 100 μm or less in order to significantly reduce the

【0063】ボールミルにより混合した粉末8は、プレ
ス機9により所定の形状に加圧成形する(図7
(b))。その後、得られた成形体10を真空中もしく
は不活性ガス雰囲気中で加熱することにより(図7
(c))、高融点金属マトリクス中に希土類金属または
希土類金属酸化物粒子が均一に分散した素材11を得る
(図7(d))。
The powder 8 mixed by the ball mill is pressure-formed into a predetermined shape by a press machine 9 (FIG. 7).
(B)). Thereafter, the obtained molded body 10 is heated in a vacuum or an inert gas atmosphere (FIG. 7).
(C)) A material 11 in which rare earth metal or rare earth metal oxide particles are uniformly dispersed in a high melting point metal matrix is obtained (FIG. 7 (d)).

【0064】第8実施形態(図7(e),(f),
(d)) 材料の組合せによっては、図7(a)〜(d)に示した
常圧焼結法では真密度近くまで緻密化した焼結体が得ら
れず、焼結体の内部に多数の気孔が残留する場合があ
る。特に溶融金属耐食性については、このような気孔を
介して溶融金属が内部に浸透し、耐食性を著しく損なう
可能性が高い。
Eighth Embodiment (FIGS. 7 (e), (f),
(D)) Depending on the combination of materials, the normal pressure sintering method shown in FIGS. 7A to 7D does not provide a dense sintered body close to the true density, and a large number of sintered bodies are formed inside the sintered body. Pores may remain. In particular, with respect to the molten metal corrosion resistance, there is a high possibility that the molten metal penetrates into the interior through such pores and significantly impairs the corrosion resistance.

【0065】したがって、残留気孔が著しく少ない焼結
体の製造方法としてホットプレスやHIPを用いた加圧
焼結法が効果的である。
Therefore, as a method for producing a sintered body having extremely small residual pores, a hot press or a pressure sintering method using HIP is effective.

【0066】本実施形態では、HIPによる素材の製造
方法は、ボールミルにより均一に混合した粉末8を金属
製のカプセル(キャン)12内に充填し、ベーキングに
より脱ガス処理を行った後、真空中でカプセル12を溶
接し真空封入を行う(図7(e))。次いで、金属カプ
セル12をHIP装置13内にセットし、加熱と加圧を
行うことにより真密度まで緻密化させる(図7
(f))。
In the present embodiment, the method for producing a material by HIP is such that a powder 8 uniformly mixed by a ball mill is filled in a metal capsule (can) 12, degassed by baking, and then vacuumed. Then, the capsule 12 is welded and vacuum sealed (FIG. 7 (e)). Next, the metal capsule 12 is set in the HIP device 13, and is heated and pressed to be densified to a true density (FIG. 7).
(F)).

【0067】その後、周囲のキャンを機械加工により除
去し、高融点金属マトリクス中に希土類金属または希土
類金属酸化物粒子が均一に分散した緻密な素材11を得
る(図7(d))。
Thereafter, the surrounding cans are removed by machining to obtain a dense material 11 in which rare earth metal or rare earth metal oxide particles are uniformly dispersed in a high melting point metal matrix (FIG. 7D).

【0068】第9実施形態(図8) 前記のHIPによる加圧焼結では、組織が非常に微細で
緻密な素材を製造可能であるが、製造コストが高いとい
う問題がある。一方、図8に示すように、常圧焼結後の
相対密度が88〜92%を境に、より高い相対密度を有する
焼結体では、焼結体中の残留気孔が外部と通じていない
閉気孔になる。
Ninth Embodiment (FIG. 8) In the pressure sintering by HIP described above, a material having a very fine structure and a fine material can be produced, but there is a problem that the production cost is high. On the other hand, as shown in FIG. 8, in the sintered body having a higher relative density after the relative density after normal pressure sintering is 88 to 92%, the residual pores in the sintered body do not communicate with the outside. It becomes a closed pore.

【0069】そこで、本実施形態では複雑な真空封入を
行わず、素材の焼結体をそのままの状態とし、HIP処
理を施した。これによりほぼ真密度まで緻密化できる。
Therefore, in the present embodiment, a complicated vacuum sealing was not performed, and the sintered body of the material was left as it was, and HIP processing was performed. Thereby, it can be densified almost to the true density.

【0070】本実施形態によれば、原料粉末の粒子径や
焼結条件の適正化を図ることにより、焼結体の密度を上
げることができ、これにより、低コストで緻密な素材を
提供することが可能になる。
According to the present embodiment, the density of the sintered body can be increased by optimizing the particle diameter of the raw material powder and the sintering conditions, thereby providing a dense material at low cost. It becomes possible.

【0071】第10実施形態(図9) 本実施形態では、Y2 3 −W系について、Y2 3
加量を変えた素材を製作した。図9は、この組成につい
て、加熱処理後の希土類金属酸化物皮膜の厚さと、曲げ
強度とを測定した結果を示している。
Tenth Embodiment (FIG. 9) In this embodiment, a Y 2 O 3 -W material was manufactured with a different amount of Y 2 O 3 added. FIG. 9 shows the results of measuring the thickness of the rare earth metal oxide film after the heat treatment and the bending strength of this composition.

【0072】この図9より、Y2 3 添加量が2体積%
程度から皮膜の形成が観察され、その後添加量の増加に
伴い希土類金属酸化物皮膜の厚さが増加するとともに、
膜厚の均一性も向上することが明らかとなった。
FIG. 9 shows that the addition amount of Y 2 O 3 was 2% by volume.
The formation of the film was observed from the extent, and then the thickness of the rare earth metal oxide film increased with the increase in the amount added,
It became clear that the uniformity of the film thickness was also improved.

【0073】したがって、コーティングの観点からはY
2 3 添加量は2体積%以上、皮膜厚さの均一性の観点
からは5体積%以上が好ましいと言える。
Thus, from a coating standpoint, Y
It can be said that the addition amount of 2 O 3 is preferably 2% by volume or more, and from the viewpoint of uniformity of the film thickness, 5% by volume or more is preferable.

【0074】一方、素材の曲げ強度はY2 3 添加量の
増加に伴い低下する傾向を示し、特にY2 3 添加量が
50体積%を超えると強度の低下が顕著になる。したが
って、強度特性の観点から、Y2 3 添加量は50体積%
以下が適正であり、高温強度部材としての用途を考えた
場合は30体積%以下が好ましい。
[0074] On the other hand, the bending strength of the material shows a tendency to decrease with the increase of Y 2 O 3 amount, decrease in strength becomes remarkable especially Y 2 O 3 amount exceeds 50 vol%. Therefore, from the viewpoint of strength characteristics, the amount of Y 2 O 3 added is 50% by volume.
The following is appropriate, and considering the use as a high-temperature strength member, the content is preferably 30% by volume or less.

【0075】第11実施形態(図10) 本実施形態では、10体積%Y2 3 −W合金素材と対
極との間に電圧を印加し、アーク放電電極として使用し
た場合のアーク電流の経時変化を測定した。図10はこ
の結果を示すもので、図中では放電初期の電流密度を基
準(100%)とし、その相対電流密度をプロットし
た。
Eleventh Embodiment (FIG. 10) In this embodiment, a voltage is applied between a 10 vol% Y 2 O 3 -W alloy material and a counter electrode, and the time of arc current when used as an arc discharge electrode. The change was measured. FIG. 10 shows this result. In the figure, the relative current density was plotted with the current density at the beginning of discharge as a reference (100%).

【0076】この図10より、Y2 3 を均一に分散し
た材料(実施例3)のアーク電流は、試験時間の増加と
ともに徐々に低下する傾向を示すことがわかる。これ
は、アーク放電により表面の熱電子放出特性に優れたY
2 3 が次第に損耗するためである。
FIG. 10 shows that the arc current of the material in which Y 2 O 3 is uniformly dispersed (Example 3) tends to gradually decrease as the test time increases. This is because Y is excellent in thermionic emission characteristics of the surface due to arc discharge.
This is because 2 O 3 is gradually worn.

【0077】一方、素材内部でY2 3 が三次元的に連
結したネットワーク構造を有した素材(実施例4)で
は、内部からY2 3 が供給され、アーク放電試験中に
おいても皮膜の形成が生じるため、ほとんどアーク電流
の低下は認められない。よつて、製造条件の適正化によ
り、このようなネットワーク組織の形成は経年劣化抑制
に極めて有効であることがわかる。
On the other hand, in the case of a material having a network structure in which Y 2 O 3 is three-dimensionally connected inside the material (Example 4), Y 2 O 3 is supplied from the inside, and even during the arc discharge test, the film is formed. Due to the formation, almost no decrease in arc current is observed. Thus, it can be understood that the formation of such a network structure is extremely effective in suppressing aging by optimizing the manufacturing conditions.

【0078】第12実施形態(図11) 本実施形態では、プラズマ溶射によりW表面にY2 3
をコーティングした試験片(従来例1)と、焼結後にプ
ラズマフレーム加熱処理を施した10体積%Y2 3
W合金の試験片(実施例1)とを作成した。図11は、
これらの試験片を1600℃の溶融イットリウム中に1
時間浸漬する試験を10回繰り返し、その後、腐食量を
測定した結果を示している。
Twelfth Embodiment (FIG. 11) In this embodiment, Y 2 O 3 is applied to the W surface by plasma spraying.
And a 10% by volume Y 2 O 3 − plasma-heated after sintering.
A test piece of W alloy (Example 1) was prepared. FIG.
These test pieces were placed in molten yttrium at 1600 ° C.
The test in which the test was immersed for 10 hours was repeated 10 times, and then the result of measuring the amount of corrosion was shown.

【0079】この図11に示すように、プラズマ溶射に
よりY2 3 をコーティングした試験片では、一回の浸
漬試験によりY2 3 コーティング層が剥離し、その結
果、約12μmの腐食による減肉が観察された。一方、
プラズマフレームにより加熱処理を施した試験片では腐
食深さが約2μmと、加熱処理を施さない試験片に比べ
て腐食深さが約1/6程度まで減少することが確認され
た。
As shown in FIG. 11, in the test piece coated with Y 2 O 3 by plasma spraying, the Y 2 O 3 coating layer was peeled off by a single immersion test, and as a result, a reduction due to corrosion of about 12 μm was obtained. Meat was observed. on the other hand,
It was confirmed that the corrosion depth of the test piece subjected to the heat treatment by the plasma flame was about 2 μm, which was reduced to about 1/6 compared to the test piece not subjected to the heat treatment.

【0080】したがって、本実施例の希土類金属酸化物
による表面コーティングは、金属部材の溶融金属耐食性
の向上に極めて有効であることがわかる。
Therefore, it is understood that the surface coating with the rare earth metal oxide of this embodiment is extremely effective for improving the corrosion resistance of the metal member to molten metal.

【0081】第13実施形態(図12) 本実施形態では、CVDによりW表面にY2 3 をコー
ティングした試験片(従来例5)と、焼結後にプラズマ
フレームにより加熱処理後アーキング処理を施した、Y
2 3 のネットワーク組織を有する20体積%Y2 3
−W合金試験片(実施例6)とを作成した。図12は、
これらの試料について、アーク放電特性を比較した結果
を示している。
Thirteenth Embodiment (FIG. 12) In the present embodiment, a test piece (conventional example 5) in which the W surface is coated with Y 2 O 3 by CVD, and after sintering, a heating treatment is performed by a plasma flame and then an arcing treatment is performed. Y
20% by volume having a network structure of the 2 O 3 Y 2 O 3
A -W alloy test piece (Example 6) was prepared. FIG.
The results of comparing the arc discharge characteristics of these samples are shown.

【0082】本実施形態では試験片を陰極とし、対極と
の間に一定の電圧を印加した。図12では、試験開始時
に測定されたアーク電流密度の経時変化を示している。
なお、図12の縦軸には20体積%Y2 3 −W合金試
験片において、試験開始時に測定された電流値を基準と
し(100%)、その値に対する相対電流密度をプロッ
トしてある。また、同図にはアーク放電による試験片の
損耗量を併せて示す。
In this embodiment, the test piece was used as a cathode, and a constant voltage was applied between the test piece and the counter electrode. FIG. 12 shows a change with time of the arc current density measured at the start of the test.
The vertical axis in FIG. 12 plots the relative current density with respect to the current value measured at the start of the test (100%) in a 20% by volume Y 2 O 3 -W alloy test piece. . The figure also shows the amount of wear of the test piece due to arc discharge.

【0083】この図12に示したように、アーク放電試
験の初期段階においては、アーク電流密度、損耗量とも
に、両者の間には顕著な差が認められない。しかし、試
験時間が1時間を過ぎた辺りから、CDVコーティング
材のアーク電流密度は、徐々に低下する傾向を示した。
また、それに伴い試験片の損耗量も増加する傾向を示し
た。
As shown in FIG. 12, in the initial stage of the arc discharge test, there is no remarkable difference between the arc current density and the wear amount. However, the arc current density of the CDV coating material showed a tendency to gradually decrease from about one hour after the test.
In addition, the amount of wear of the test piece also tended to increase.

【0084】このように、試験時間が長くなるにつれて
アーク電流が低下するのは、表面にコーティングされて
いたY2 3 が次第に損耗し、Wが表面に露出したため
である。また、一旦、Wのように仕事関数の大きい物質
にアークスポットが形成されると、その凸部にアーク集
中を生じ、損耗が急激に増加するためである。
As described above, the reason why the arc current decreases as the test time becomes longer is that Y 2 O 3 coated on the surface gradually wears out and W is exposed on the surface. In addition, once an arc spot is formed on a substance having a large work function such as W, arc concentration occurs on the convex portion, and wear increases rapidly.

【0085】一方、本実施形態によりY2 3 をコーテ
ィングした20体積%Y2 3 −W合金試験片では、終
始安定したアーク電流密度を示し、また、損耗量も著し
く少ないことが確認された。これは、アークにより表面
のY2 3 コーティング層が損耗すると同時に、内部か
らYもしくはY2 3 が表面に供給されるため、常に表
面がY2 3 により被覆されるためである。
On the other hand, it was confirmed that the 20% by volume Y 2 O 3 -W alloy test piece coated with Y 2 O 3 according to the present embodiment shows a stable arc current density throughout and has a remarkably small amount of wear. Was. This is because the Y 2 O 3 coating layer on the surface is worn away by the arc, and at the same time, Y or Y 2 O 3 is supplied to the surface from the inside, so that the surface is always covered with Y 2 O 3 .

【0086】[0086]

【発明の効果】以上で詳述したように、本発明に係るセ
ラミックコーティング材料によれば、コーティング皮膜
が容易に剥離したり割れを生じることがなく、かつ損耗
しにくい等の優れた特性を有するものとなる。
As described in detail above, according to the ceramic coating material of the present invention, the coating film has excellent characteristics such as not easily peeling or cracking and being hardly worn. It will be.

【0087】また、本発明に係るセラミックコーティン
グ材料の製造方法によれば、密着性および均質性に優れ
た希土類金属または希土類金属酸化物のコーティング皮
膜を短時間で形成することができる。
According to the method for producing a ceramic coating material of the present invention, a coating film of a rare earth metal or a rare earth metal oxide having excellent adhesion and homogeneity can be formed in a short time.

【0088】さらに本発明に係る高温部材によれば、前
記の優れた特性を有するセラミックコーティング材料
を、フィラメントのような微細製品から大形製品までに
広く適用することができる。
Further, according to the high temperature member according to the present invention, the ceramic coating material having the above-mentioned excellent characteristics can be widely applied to fine products such as filaments to large products.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a),(b),(c)は本発明の第1実施形
態を説明する図で、高融点金属表面への希土類金属酸化
物のコーティング方法の原理を示す模式図。
FIGS. 1 (a), 1 (b) and 1 (c) are views for explaining a first embodiment of the present invention, and are schematic views showing the principle of a method of coating a rare earth metal oxide on the surface of a high melting point metal.

【図2】本発明の第1実施形態を説明する図で、Y2
3 をコーティングしたY2 3−W合金における、表面
W部の深さ方向の元素分布を示す特性図。
FIG. 2 is a diagram illustrating a first embodiment of the present invention, in which Y 2 O
3 in coated Y 2 O 3 -W alloys, characteristic diagram showing element distributions along the depth direction of the surface W unit.

【図3】本発明の第2実施形態を説明する図で、加熱処
理した場合と加熱処理後アーク処理を施した場合のコー
ティング層の厚さを比較した特性図。
FIG. 3 is a diagram for explaining a second embodiment of the present invention, and is a characteristic diagram comparing the thickness of a coating layer in a case where a heating process is performed and in a case where an arc process is performed after a heating process.

【図4】本発明の第3実施形態を説明する図で、コーテ
ィング層の厚さに及ぼすマトリクス金属の影響を示した
特性図。
FIG. 4 is a diagram illustrating a third embodiment of the present invention, and is a characteristic diagram showing an influence of a matrix metal on a thickness of a coating layer.

【図5】本発明の第5実施形態を説明する図で、コーテ
ィング層の厚さに及ぼすY2 3 分散粒子の大きさの影
響を示した特性図。
FIG. 5 is a diagram for explaining a fifth embodiment of the present invention, and is a characteristic diagram showing the influence of the size of Y 2 O 3 dispersed particles on the thickness of a coating layer.

【図6】本発明の第6実施形態を説明する図で、コーテ
ィング層の厚さに及ぼす加熱方法の影響を示した特性
図。
FIG. 6 is a view for explaining a sixth embodiment of the present invention, and is a characteristic diagram showing an influence of a heating method on a thickness of a coating layer.

【図7】(a)〜(f)は本発明の第7および第8実施
形態を示す図で、コーティング材料の製造工程模式図。
FIGS. 7 (a) to 7 (f) are views showing a seventh and an eighth embodiment of the present invention, and are schematic views of a manufacturing process of a coating material.

【図8】本発明の第9実施形態を説明する図で、HIP
処理前後における焼結体の相対密度の比較を示した特性
図。
FIG. 8 is a diagram for explaining a ninth embodiment of the present invention;
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a comparison of the relative density of the sintered body before and after the treatment.

【図9】本発明の第10実施形態を説明する図で、コー
ティング層の厚さと曲げ強度に及ぼすY2 3 添加量の
影響を示した特性図。
FIG. 9 is a diagram for explaining a tenth embodiment of the present invention, and is a characteristic diagram showing the effect of the addition amount of Y 2 O 3 on the thickness and the bending strength of the coating layer.

【図10】本発明の第11実施形態を説明する図で、本
発明によりY2 3 が連続した組織を有する素材を用い
てコーティングした場合の、アーク電流密度の経時変化
を示した特性図。
FIG. 10 is a view for explaining an eleventh embodiment of the present invention. FIG. 10 is a characteristic diagram showing a change over time of an arc current density when coating is performed using a material having a continuous structure of Y 2 O 3 according to the present invention. .

【図11】本発明の第12実施形態を説明する図で、本
発明によりY2 3 をコーティングした材料におけるア
ーク電流密度の経時変化を示した特性図。
FIG. 11 is a diagram for explaining a twelfth embodiment of the present invention, and is a characteristic diagram showing a change with time of an arc current density in a material coated with Y 2 O 3 according to the present invention.

【図12】本発明の第13実施形態を説明する図で、本
発明によりY2 3 をコーティングした材料のアーク電
流密度と損耗量の経時変化を示した特性図。
FIG. 12 is a view for explaining a thirteenth embodiment of the present invention, and is a characteristic diagram showing a change with time of an arc current density and a wear amount of a material coated with Y 2 O 3 according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 マトリクス金属 2 分散粒子 3 金属蒸気 4 セラミックコーティング層 1 matrix metal 2 dispersed particles 3 metal vapor 4 ceramic coating layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C23C 4/06 C23C 4/06 30/00 30/00 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C23C 4/06 C23C 4/06 30/00 30/00 A

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高融点金属と、希土類金属または希土類
金属の酸化物とを主成分とする金属材料の表面にセラミ
ックスをコーティングしたセラミックコーティング材料
において、前記金属材料を減圧雰囲気下で、その金属材
料を構成する希土類金属または希土類金属酸化物の融点
以上であり、かつ前記高融点金属の融点以下に加熱する
ことにより、金属材料の表面を希土類金属酸化物を主成
分とする物質で被覆してなることを特徴とするセラミッ
クコーティング材料。
1. A ceramic coating material in which a ceramic material is coated on a surface of a metal material containing a high melting point metal and a rare earth metal or an oxide of a rare earth metal as a main component, the metal material is placed under a reduced pressure atmosphere. By heating to a melting point of the rare earth metal or the rare earth metal oxide constituting the above and not more than the melting point of the high melting point metal, the surface of the metal material is coated with a substance mainly composed of the rare earth metal oxide. A ceramic coating material, characterized in that:
【請求項2】 請求項1記載のセラミックコーティング
材料において、金属材料を陰極とし、他方の陽極との間
に電圧を印加し、金属材料表面でアーク放電を生じさせ
ることにより、前記金属材料の表面を、希土類金属酸化
物を主成分とする物質で被覆してなることを特徴とする
セラミックコーティング材料。
2. The ceramic coating material according to claim 1, wherein the metal material is used as a cathode, and a voltage is applied between the metal material and the other anode to cause an arc discharge on the metal material surface, thereby forming a surface of the metal material. Is coated with a substance containing a rare earth metal oxide as a main component.
【請求項3】 請求項1または2記載のセラミックコー
ティング材料において、金属材料を構成する高融点金属
は、W、Mo、Ta、Nb、またはそれらの合金である
ことを特徴とするセラミックコーティング材料。
3. The ceramic coating material according to claim 1, wherein the high melting point metal constituting the metal material is W, Mo, Ta, Nb, or an alloy thereof.
【請求項4】 請求項1から3までのいずれかに記載の
セラミックコーティング材料において、金属材料を構成
する希土類金属は、Y、La、Ce、Nd、Sm、E
u、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、それらの合金、ま
たはそれらの酸化物であることを特徴とするセラミック
コーティング材料。
4. The ceramic coating material according to claim 1, wherein the rare earth metal constituting the metal material is Y, La, Ce, Nd, Sm, E
A ceramic coating material, which is u, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, an alloy thereof, or an oxide thereof.
【請求項5】 請求項1から4までのいずれかに記載の
セラミックコーティング材料において、希土類金属また
はその酸化物は粒状、塊状または粉状で、前記高融点金
属中に分散したものであることを特徴とするセラミック
コーティング材料。
5. The ceramic coating material according to claim 1, wherein the rare earth metal or the oxide thereof is in the form of a particle, a lump or a powder, and is dispersed in the refractory metal. Characteristic ceramic coating material.
【請求項6】 請求項1から5までのいずれかに記載の
セラミックコーティング材料において、金属材料中の希
土類金属または希土類金属の酸化物の含有量が、2〜5
0体積%、好ましくは、5〜30体積%であることを特
徴とするセラミックコーティング材料。
6. The ceramic coating material according to claim 1, wherein the content of the rare earth metal or the oxide of the rare earth metal in the metal material is 2 to 5.
Ceramic coating material characterized by being 0% by volume, preferably 5 to 30% by volume.
【請求項7】 請求項1から6までのいずれかに記載の
セラミックコーティング材料において、金属材料中の希
土類金属または希土類酸化物が、三次元的に連結したネ
ットワーク構造を有することを特徴セラミックコーティ
ング材料。
7. The ceramic coating material according to claim 1, wherein the rare earth metal or the rare earth oxide in the metal material has a three-dimensionally connected network structure. .
【請求項8】 高融点金属と、希土類金属または希土類
金属の酸化物とを主成分とする金属材料の表面にセラミ
ックスをコーティングしたセラミックコーティング材料
において、前記金属材料を減圧雰囲気下で、その金属材
料を構成する希土類金属または希土類金属酸化物の融点
以上であり、かつ前記高融点金属の融点以下に加熱する
ことにより、金属材料の表面を希土類金属酸化物を主成
分とする物質で被覆することを特徴とするセラミックコ
ーティング材料の製造方法。
8. A ceramic coating material in which a ceramic material is coated on a surface of a metal material mainly composed of a high melting point metal and a rare earth metal or an oxide of a rare earth metal, the metal material is placed under a reduced pressure atmosphere. By heating to a melting point of the rare earth metal or the rare earth metal oxide constituting the above and the melting point of the high melting point metal or less, it is possible to coat the surface of the metal material with a substance mainly composed of the rare earth metal oxide. A method for producing a ceramic coating material.
【請求項9】 請求項8記載のセラミックコーティング
材料の製造方法において、金属材料を加熱する方法とし
て、プラズマ、電子ビームまたはレーザビームを用いる
ことを特徴するセラミックコーティング材料の製造方
法。
9. The method for manufacturing a ceramic coating material according to claim 8, wherein the method for heating the metal material uses plasma, an electron beam, or a laser beam.
【請求項10】 請求項8記載のセラミックコーティン
グ材料の製造方法において、金属材料を、粒状または粉
状の希土類金属またはその酸化物と、高融点金属の粉末
との混合物の焼結により得ることを特徴とするセラミッ
クコーティング材料の製造方法。
10. The method for producing a ceramic coating material according to claim 8, wherein the metal material is obtained by sintering a mixture of a granular or powdered rare earth metal or an oxide thereof and a powder of a high melting point metal. A method for producing a ceramic coating material.
【請求項11】 請求項10記載のセラミックコーティ
ング材料の製造方法において、希土類金属またはその酸
化物と高融点金属との混合物を焼結する際、ホットプレ
スまたはHIP処理を用いることを特徴とするセラミッ
クコーティング材料の製造方法。
11. The method for producing a ceramic coating material according to claim 10, wherein when a mixture of a rare earth metal or an oxide thereof and a refractory metal is sintered, hot pressing or HIP processing is used. Manufacturing method of coating material.
【請求項12】 請求項10記載のセラミックコーティ
ング材料の製造方法において、希土類金属またはその酸
化物と高融点金属との混合物を常圧にて焼結した後、後
処理として、HIP処理を施すことを特徴とするセラミ
ックコーティング材料の製造方法。
12. The method for producing a ceramic coating material according to claim 10, wherein a mixture of a rare earth metal or an oxide thereof and a refractory metal is sintered at normal pressure, and then subjected to HIP as a post-treatment. A method for producing a ceramic coating material, comprising:
【請求項13】 請求項1から7までのいずれかに記載
のセラミックコーティング材料を用いて構成したことを
特徴とする電極、フィラメント、金属溶解装置部材、蒸
発装置部材、鋳造装置部材その他の高温部材。
13. An electrode, a filament, a member for a metal melting device, a member for an evaporator, a member for a casting device, and other high-temperature members, wherein the member is formed using the ceramic coating material according to any one of claims 1 to 7. .
JP11825897A 1997-05-08 1997-05-08 Ceramic coating material, its production and high temperature member using the same material Pending JPH10310841A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11825897A JPH10310841A (en) 1997-05-08 1997-05-08 Ceramic coating material, its production and high temperature member using the same material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11825897A JPH10310841A (en) 1997-05-08 1997-05-08 Ceramic coating material, its production and high temperature member using the same material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10310841A true JPH10310841A (en) 1998-11-24

Family

ID=14732177

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11825897A Pending JPH10310841A (en) 1997-05-08 1997-05-08 Ceramic coating material, its production and high temperature member using the same material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10310841A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004044255A1 (en) * 2002-11-11 2004-05-27 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Electrode material for electric discharge machining and method for production thereof
JP2010261069A (en) * 2009-04-30 2010-11-18 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Spray deposit film and method for manufacturing the same
JP2017014573A (en) * 2015-07-01 2017-01-19 国立大学法人東北大学 Heat shielding film coating member and method for manufacturing heat shielding film, and bond coat powder
CN114160789A (en) * 2021-12-09 2022-03-11 西安交通大学 Method for enhancing performance of 3D printed metal product through surface coating of printing raw material

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004044255A1 (en) * 2002-11-11 2004-05-27 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Electrode material for electric discharge machining and method for production thereof
KR101080528B1 (en) 2002-11-11 2011-11-04 스미토모덴키고교가부시키가이샤 Electrode material for electric discharge machining and method for production thereof
JP2010261069A (en) * 2009-04-30 2010-11-18 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Spray deposit film and method for manufacturing the same
JP2017014573A (en) * 2015-07-01 2017-01-19 国立大学法人東北大学 Heat shielding film coating member and method for manufacturing heat shielding film, and bond coat powder
CN114160789A (en) * 2021-12-09 2022-03-11 西安交通大学 Method for enhancing performance of 3D printed metal product through surface coating of printing raw material

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4904341B2 (en) Coating method for manufacturing or reprocessing sputter targets and x-ray anodes
US7157148B2 (en) Heat-resistant coated member
JPS594825B2 (en) X-ray tube anode and its manufacturing method
US4752713A (en) Thermionic cathode of high emissive power for an electric tube, and process for its manufacture
EP1146979A4 (en) Method of producing a silicom/aluminum sputtering target
JP3848677B2 (en) Dispenser cathode and method of manufacturing dispenser cathode
JP2901049B2 (en) Al-Ti alloy target material for arc ion plating
JPH10310841A (en) Ceramic coating material, its production and high temperature member using the same material
US5407548A (en) Method for coating a substrate of low resistance to corrosion
KR20080044267A (en) Siox: si composite material compositions and methods of making same
JP4171916B2 (en) Heat-resistant covering material
JP4097972B2 (en) Target for physical vapor deposition and method for producing the same
JPH02213403A (en) Manufacture of sintered member
JP2004002938A (en) Target material for sputtering or ion plating and method of producing the same
JP5285868B2 (en) Magnetron stem manufacturing method
JPH07277861A (en) Oxide coated silicon carbide material and its production
JP4189676B2 (en) Heat-resistant covering material
JP2767972B2 (en) Method for producing TiAl-based intermetallic compound layer
JPH07102376A (en) Coating member and its production
JP2023535599A (en) hot parts
CN113088901B (en) Nickel-chromium alloy sputtering target material and hot isostatic pressing preparation method thereof
JPH03261646A (en) Corrosion-resistant material
JP4081574B2 (en) Method for manufacturing heat-resistant coated member
JP4716042B2 (en) Heat-resistant covering material
JPH0390561A (en) Vapor generator for active metal

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070410

A521 Written amendment

Effective date: 20070608

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080219