JPH10309900A - Laser coating removing method and laser treating apparatus - Google Patents

Laser coating removing method and laser treating apparatus

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JPH10309900A
JPH10309900A JP12124097A JP12124097A JPH10309900A JP H10309900 A JPH10309900 A JP H10309900A JP 12124097 A JP12124097 A JP 12124097A JP 12124097 A JP12124097 A JP 12124097A JP H10309900 A JPH10309900 A JP H10309900A
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JP
Japan
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laser
laser light
ultraviolet
laser beam
coating film
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP12124097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Hayashi
健一 林
Akira Tsunemi
明良 常見
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To effectively remove a coated film by emitting a laser beam of an infrared region to an object to be treated formed with a coated film on the surface, removing the film by ablation, and removing residue which could not have been removed by ablation for emitting the beam of an ultraviolet region. SOLUTION: Infrared laser beam 63 incident to a laser emitting head 10 is emitted to a surface of an object 1 to be treated via a laser transmission arm 62 to remove a coated film by ablation. In this case, a height from a surface of the object 1 to a condenser lens 23 is adjusted to regulate energy density, thereby always providing the ablation by suitable energy density. At this time, if a thin coated film remains on the surface, a laser beam generator is switched, an ultraviolet laser beam is incident to the head 10, the ultraviolet beam is used to similarly remove the thinly remained film by the ablation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いた
塗装除去方法及びその塗装除去方法に適したレーザ処理
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating removing method using laser light and a laser processing apparatus suitable for the coating removing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】航空機等の機体外板の塗装除去には、主
にメチレンクロライドと呼ばれる毒性の強い薬品が用い
られている。従来は、塗装表面にこの薬剤を吹き付け、
塗料を脆弱化させた後、手作業で塗装膜を機体外板表面
からかき落とすことによって除去していた。
2. Description of the Related Art A highly toxic chemical called methylene chloride is mainly used for removing paint on an outer body of an aircraft or the like. Conventionally, this agent is sprayed on the painted surface,
After weakening the paint, the paint film was manually removed by scraping off the surface of the fuselage skin.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の塗装膜除去
方法は危険であるばかりでなく、作業効率も低い。ま
た、除去物の回収及び廃棄処理にも問題がある。
The above-mentioned conventional method for removing a coating film is not only dangerous, but also has low working efficiency. There is also a problem in the collection and disposal of the removed material.

【0004】本発明の目的は、化学薬品を用いることな
く、塗装膜の除去が可能な塗装膜除去方法、及びその塗
装膜除去に適したレーザ処理装置を提供することであ
る。
An object of the present invention is to provide a paint film removing method capable of removing a paint film without using a chemical, and a laser processing apparatus suitable for removing the paint film.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、表面に塗装膜が形成された処理対象物の該表面に、
赤外領域のレーザ光を照射し、該塗装膜をアブレーショ
ンにより除去する工程と、前記処理対象物の表面に、紫
外領域のレーザ光を照射し、前記塗装膜のうち前記赤外
領域のレーザ光照射で除去できなかった除去残りを、ア
ブレーションにより除去する工程とを有する塗装除去方
法が提供される。
According to one aspect of the present invention, a surface of a processing target having a coating film formed on a surface thereof is provided with:
Irradiating a laser beam in an infrared region to remove the coating film by ablation, and irradiating a laser beam in an ultraviolet region to a surface of the object to be processed; Removing the remaining residue that could not be removed by irradiation by ablation.

【0006】本発明の他の観点によると、赤外領域のレ
ーザ光を出力する赤外レーザ光源と、紫外領域のレーザ
光を出力する紫外レ−ザ光源と、前記赤外レーザ光源か
ら出力された赤外レーザ光を集光もしくは発散させ、処
理対象物の表面に照射する第1のレンズと、前記紫外レ
ーザ光源から出力された紫外レーザ光を集光もしくは発
散させ、処理対象物の表面に照射する第2のレンズとを
有するレーザ処理装置が提供される。
According to another aspect of the present invention, an infrared laser light source for outputting laser light in an infrared region, an ultraviolet laser light source for outputting laser light in an ultraviolet region, and an output from the infrared laser light source are provided. A first lens for condensing or diverging the infrared laser light, and irradiating the surface of the processing object with the first lens, and condensing or diverging the ultraviolet laser light output from the ultraviolet laser light source to the surface of the processing object. A laser processing apparatus having an irradiating second lens is provided.

【0007】赤外レーザ光の照射のみでは、塗装膜が下
地表面上に薄く残り、この薄く残った塗装膜を除去しに
くい場合がある。紫外光を照射することにより、薄く残
った塗装膜を容易に除去することができる。
[0007] When only infrared laser light is applied, the coating film remains thin on the base surface, and it may be difficult to remove the thin remaining coating film. By irradiating with ultraviolet light, a thin remaining coating film can be easily removed.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施例によるレ
ーザ処理装置の概略斜視図を示す。処理対象物1の表面
にレーザ照射ヘッド10が接触している。レーザ照射ヘ
ッド10は、処理対象物1側に開口を有する箱型容器1
1と、その内部に収納された光学部品を含んで構成され
ている。箱型容器11の側面に透明窓12が取り付けら
れており、透明窓12を通して内部を目視観察すること
ができる。なお、箱型容器11自体を透明な材料で形成
してもよい。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. The laser irradiation head 10 is in contact with the surface of the processing target 1. The laser irradiation head 10 is a box-shaped container 1 having an opening on the processing object 1 side.
1 and optical components housed therein. A transparent window 12 is attached to a side surface of the box-shaped container 11, and the inside can be visually observed through the transparent window 12. Note that the box-shaped container 11 itself may be formed of a transparent material.

【0009】レーザ照射ヘッド10は、マニピュレータ
アーム50の先端に取り付けられている。マニピュレー
タアーム50は、マニピュレータ本体51により制御さ
れ、レーザ照射ヘッド10を処理対象物1の表面の所望
の位置に移動させ支持する。
[0009] The laser irradiation head 10 is attached to the tip of a manipulator arm 50. The manipulator arm 50 is controlled by the manipulator body 51 and moves and supports the laser irradiation head 10 to a desired position on the surface of the processing target 1.

【0010】レーザ光発生装置60から出力したレーザ
ビームが、ビーム整形用光学部品61、ビーム伝送用ア
ーム62を通ってレーザ照射ヘッド10内に導かれる。
A laser beam output from a laser light generator 60 is guided into a laser irradiation head 10 through a beam shaping optical component 61 and a beam transmission arm 62.

【0011】レーザ光発生装置60は、例えば横方向励
起大気圧型CO2 レーザ装置(TEA−CO2 レーザ装
置)である。TEA−CO2 レーザ装置は、波長9〜1
1μmのレーザビームをパルス的に出力する。
The laser light generator 60 is, for example, a laterally pumped atmospheric pressure type CO 2 laser device (TEA-CO 2 laser device). The TEA-CO 2 laser device has a wavelength of 9-1.
A 1 μm laser beam is output as a pulse.

【0012】ビーム整形用光学部品61は、レーザ光発
生装置60から出力したレーザビームの断面形状を所望
の形に整形する。例えば、矩形状の貫通孔を有するアパ
ーチャにより構成され、レーザビームの断面形状を矩形
状に整形する。
The beam shaping optical component 61 shapes the cross section of the laser beam output from the laser light generator 60 into a desired shape. For example, it is constituted by an aperture having a rectangular through-hole, and shapes the cross-sectional shape of the laser beam into a rectangular shape.

【0013】ビーム伝送用アーム62は、例えば複数の
関節を有する屈伸可能なアームであり、レーザ照射ヘッ
ド10の移動に追随し、ビーム整形用光学部品61を通
過したレーザビームをレーザ照射ヘッド10まで導く。
The beam transmitting arm 62 is, for example, a bendable arm having a plurality of joints. The beam transmitting arm 62 follows the movement of the laser irradiation head 10 and transmits the laser beam passing through the beam shaping optical component 61 to the laser irradiation head 10. Lead.

【0014】レーザ照射ヘッド10に、ガス導入管13
及びガス排気管15が取り付けられている。ガス導入管
13はガス供給装置14に接続されており、ガス供給装
置14からガス導入管13を通してレーザ照射ヘッド1
0内にガスが導入される。ガス排気管15はガス排気装
置16に接続されており、ガス排気装置16は、ガス排
気管15を通してレーザ照射ヘッド10内のガスを排気
する。
The laser irradiation head 10 has a gas introduction tube 13
And a gas exhaust pipe 15. The gas introduction pipe 13 is connected to a gas supply device 14, and is supplied from the gas supply device 14 through the gas introduction pipe 13.
Gas is introduced into 0. The gas exhaust pipe 15 is connected to a gas exhaust device 16, and the gas exhaust device 16 exhausts the gas in the laser irradiation head 10 through the gas exhaust pipe 15.

【0015】図2は、図1のレーザ照射ヘッド10の概
略断面図を示す。処理対象物1側の面が開口した箱型容
器11が、その開口の周囲を処理対象物1の表面にほぼ
接するように保持されている。箱型容器11の開口部と
対向する面に形成された貫通孔17にレーザ伝送用アー
ム62が連結されている。レーザ伝送用アーム62内を
伝送されたレーザビーム63が、貫通孔17を通って箱
型容器11内に導入される。
FIG. 2 is a schematic sectional view of the laser irradiation head 10 of FIG. A box-shaped container 11 having an open surface on the processing object 1 side is held so that the periphery of the opening is almost in contact with the surface of the processing object 1. A laser transmission arm 62 is connected to a through hole 17 formed on a surface of the box-shaped container 11 facing the opening. The laser beam 63 transmitted through the laser transmission arm 62 is introduced into the box-shaped container 11 through the through hole 17.

【0016】箱型容器11内に導入されたレーザビーム
は、ハーフミラー20及びホモジナイザ31を透過し偏
向器21及び22により反射され、集光レンズ23に入
射する。集光レンズ23により集光されたレーザビーム
は、処理対象物1の表面に照射される。
The laser beam introduced into the box-shaped container 11 passes through the half mirror 20 and the homogenizer 31, is reflected by the deflectors 21 and 22, and enters the condenser lens 23. The laser beam focused by the focusing lens 23 is applied to the surface of the processing target 1.

【0017】ハーフミラー20は、レーザビームの一部
を反射し、エネルギセンサ30に入射させる。エネルギ
センサ30は、レーザビームのエネルギを測定する。
The half mirror 20 reflects a part of the laser beam and makes it incident on the energy sensor 30. The energy sensor 30 measures the energy of the laser beam.

【0018】ホモジナイザ31は、レーザビームの断面
内の強度分布をほぼ一様にする。偏向器21及び22
は、それぞれレーザビームの照射位置を、処理対象物1
の表面内の相互に直交するY軸方向及びX軸方向に移動
させる。偏向器21及び22は、例えばガルバノミラー
により構成される。偏向器21及び22をガルバノミラ
ーとした場合、レーザ照射位置の移動速度を一定に保つ
ために、集光レンズ23をアークサインレンズとするこ
とが好ましい。偏向器21及び22によるレーザビーム
の偏向角が時間に比例して変化する場合には、同様の理
由から集光レンズ23をfθレンズとすることが好まし
い。なお、偏向器21及び22として回転ポリゴンミラ
ーを用いてもよい。また、fθレンズを用いた場合で
も、ガルバノミラーの角度変化が時間に対して非線形に
なるように動作させることにより、レーザ照射位置での
移動速度を一定に保つことが可能となる。
The homogenizer 31 makes the intensity distribution in the cross section of the laser beam substantially uniform. Deflectors 21 and 22
Indicates the irradiation position of the laser beam,
Are moved in the Y-axis direction and the X-axis direction which are orthogonal to each other in the surface of. The deflectors 21 and 22 are constituted by, for example, galvanomirrors. When the deflectors 21 and 22 are galvanomirrors, it is preferable that the condenser lens 23 be an arc sine lens in order to keep the moving speed of the laser irradiation position constant. When the deflection angle of the laser beam by the deflectors 21 and 22 changes in proportion to time, it is preferable that the condenser lens 23 be an fθ lens for the same reason. Note that rotating polygon mirrors may be used as the deflectors 21 and 22. Even when the fθ lens is used, the moving speed at the laser irradiation position can be kept constant by operating the galvanomirror so that the angle change becomes non-linear with respect to time.

【0019】集光レンズ23は、集光レンズ支持機構2
4により箱型容器11の側面に取り付けられている。集
光レンズ支持機構24は、処理対象物1の表面から集光
レンズ23までの高さを調節することができる。集光レ
ンズ23に、高さセンサ25が取り付けられている。高
さセンサ25は、処理対象物1の表面から集光レンズ2
3までの高さを検出し、高さ制御装置26に検出信号を
送出する。
The condenser lens 23 has a condenser lens support mechanism 2
4 attached to the side surface of the box-shaped container 11. The condenser lens support mechanism 24 can adjust the height from the surface of the processing target 1 to the condenser lens 23. A height sensor 25 is attached to the condenser lens 23. The height sensor 25 is provided between the surface of the processing target 1 and the condenser lens 2.
Detects a height up to 3 and sends a detection signal to the height controller 26.

【0020】高さ制御装置26には、予め高さ目標値が
記憶されている。高さ制御装置26は、高さセンサ25
から受信した検出信号に基づき、集光レンズ23の高さ
が目標値に近づくように集光レンズ支持機構24を制御
し、集光レンズ23の高さを調節する。
The height control unit 26 stores a height target value in advance. The height control device 26 includes a height sensor 25
And controls the condenser lens support mechanism 24 so that the height of the condenser lens 23 approaches the target value, and adjusts the height of the condenser lens 23 based on the detection signal received from.

【0021】箱型容器11内に、可視光レーザ装置32
が設置されている。可視光レーザ装置32は、例えばH
eNeレーザ装置等である。可視光レーザ装置32から
出力された可視レーザビームは、ハーフミラー20によ
り反射され、貫通孔17を通って入射したレーザビーム
と同一の光軸に沿って伝搬する。従って、可視レーザビ
ームは、処理対象物1の表面のうちTEA−CO2 レー
ザ光とほぼ同一の領域を照射する。このため、図1に示
す透明窓12を通してレーザビームの照射位置を目視観
察することができる。なお、可視レーザビームの代わり
に、可視光ビームを用いてもよい。
A visible light laser device 32 is provided in the box-shaped container 11.
Is installed. The visible light laser device 32 is, for example, H
An eNe laser device or the like. The visible laser beam output from the visible light laser device 32 is reflected by the half mirror 20 and propagates along the same optical axis as the laser beam incident through the through hole 17. Therefore, the visible laser beam irradiates a region of the surface of the processing target 1 that is substantially the same as the TEA-CO 2 laser beam. Therefore, the irradiation position of the laser beam can be visually observed through the transparent window 12 shown in FIG. Note that a visible light beam may be used instead of the visible laser beam.

【0022】箱型容器11内に、ノズル40と41が配
置されている。ノズル40と41は、箱型容器11の側
壁に取り付けられたガス導入管13に連通している。ノ
ズル40は、処理対象物1の表面のレーザビーム照射位
置及びその近傍にガスを噴出する。このガス流により、
処理対象物1の表面を冷却し、温度の上昇を抑制するこ
とができる。ノズル41は、集光レンズ23の処理対象
物1側の面に向かってガスを噴出する。このガス流によ
り、処理対象物1の表面からの飛散物が集光レンズ23
の表面に付着することを抑制することができる。
In the box-shaped container 11, nozzles 40 and 41 are arranged. The nozzles 40 and 41 communicate with the gas introduction pipe 13 attached to the side wall of the box-shaped container 11. The nozzle 40 ejects gas to the laser beam irradiation position on the surface of the processing target 1 and its vicinity. With this gas flow,
The surface of the processing object 1 can be cooled, and a rise in temperature can be suppressed. The nozzle 41 ejects gas toward the surface of the condenser lens 23 on the processing object 1 side. By this gas flow, scattered matter from the surface of the processing target 1 is collected by the condenser lens 23.
Can be suppressed from adhering to the surface of the substrate.

【0023】箱型容器11内に配置されたガス吸引口4
2が、箱型容器11の側壁に取り付けられたガス排気管
15に連通している。ガス吸引口42の先端は、処理対
象物1の表面のレーザ照射位置の方を向く。ガス吸引口
42は、箱型容器11内のガスを排気するとともに、レ
ーザ照射部分から飛散した除去物を排出することができ
る。
Gas suction port 4 arranged in box type container 11
2 communicates with a gas exhaust pipe 15 attached to the side wall of the box-shaped container 11. The tip of the gas suction port 42 faces the laser irradiation position on the surface of the processing target 1. The gas suction port 42 can exhaust the gas in the box-shaped container 11 and discharge the scattered matter scattered from the laser irradiation part.

【0024】ガス吸引口42の先端近傍に、色センサ4
3及び温度センサ44が取り付けられている。
The color sensor 4 is located near the tip of the gas suction port 42.
3 and a temperature sensor 44 are attached.

【0025】色センサ43は、例えば電荷結合型素子
(CCD)を含んで構成され、処理対象物1のレーザビ
ーム照射位置及びその近傍の色を検出する。色センサ4
3の出力信号は、色判定装置46に入力される。色判定
装置46には、予め判定基準となる基準色の範囲が記憶
されている。この基準色の範囲は、例えば色度図内に指
定されたある基準領域により特定される。
The color sensor 43 includes, for example, a charge-coupled device (CCD), and detects a laser beam irradiation position of the processing target 1 and a color in the vicinity thereof. Color sensor 4
The output signal of No. 3 is input to the color determination device 46. In the color determination device 46, a range of a reference color serving as a determination reference is stored in advance. The range of the reference color is specified by, for example, a certain reference area specified in the chromaticity diagram.

【0026】色判定装置46は、色センサ43により検
出された色が、基準色の範囲内であるか否か、すなわ
ち、基準色と一致または近似するか否かを判定する。例
えば、検出された色の色度図内の位置を求め、この位置
が色度図内の基準領域内か否かを判定する。
The color determination device 46 determines whether or not the color detected by the color sensor 43 is within the range of the reference color, that is, whether or not the color matches or approximates the reference color. For example, the position of the detected color in the chromaticity diagram is obtained, and it is determined whether or not this position is within the reference area in the chromaticity diagram.

【0027】塗装膜の下地表面の色と塗装膜の色とが異
なる場合、下地表面の色を含むある範囲を基準色の範囲
として設定しておくことにより、下地表面が露出したか
否かを判定することができる。
If the color of the undercoat surface of the paint film is different from the color of the paint film, a certain range including the undercoat surface color is set as a reference color range to determine whether the undercoat surface is exposed. Can be determined.

【0028】温度センサ44は、例えば放射温度計であ
り、処理対象物1の表面のレーザビーム照射位置及びそ
の近傍の温度を検出する。温度センサ44の出力信号
は、温度異常検出装置45に入力される。温度異常検出
装置45には、予め判定基準となる基準温度が記憶され
ている。
The temperature sensor 44 is, for example, a radiation thermometer, and detects a laser beam irradiation position on the surface of the processing object 1 and a temperature in the vicinity thereof. The output signal of the temperature sensor 44 is input to the temperature abnormality detection device 45. The temperature abnormality detection device 45 stores a reference temperature serving as a determination reference in advance.

【0029】温度異常検出装置45は、温度センサ44
により検出された温度と基準温度とを比較する。検出温
度が基準温度よりも高い場合には、異常処理を実行す
る。異常処理は、例えばレーザ光照射の停止等である。
The temperature abnormality detecting device 45 includes a temperature sensor 44
Is compared with the reference temperature. If the detected temperature is higher than the reference temperature, an abnormality process is performed. The abnormality processing is, for example, stopping laser beam irradiation.

【0030】次に、図1及び図2に示すレーザ処理装置
の動作を、処理対象物表面の塗装膜を除去する場合を例
にとって説明する。
Next, the operation of the laser processing apparatus shown in FIGS. 1 and 2 will be described by taking as an example a case where the coating film on the surface of the object to be processed is removed.

【0031】図2に示すレーザ照射ヘッド10に入射し
たレーザビームが、処理対象物1の表面に照射され、塗
装膜がアブレーションにより除去される。処理対処物1
の表面におけるレーザビームのエネルギ密度(フルエン
ス)が低すぎる場合には、塗装膜はアブレーションされ
ない。また、エネルギ密度が高すぎる場合には、塗装膜
の下地材料が損傷を受けてしまう。従って、レーザビー
ムのエネルギ密度を、下地材料が損傷を受けず、かつ塗
装膜がアブレーションされるような範囲に設定すること
が好ましい。なお、レーザ光発生装置60から出力され
たレーザビームのエネルギ密度が十分高い場合には、集
光レンズ23の代わりに発散レンズを用いる場合もあり
得る。
The laser beam incident on the laser irradiation head 10 shown in FIG. 2 is irradiated on the surface of the processing object 1, and the coating film is removed by ablation. Processing object 1
If the energy density (fluence) of the laser beam on the surface of the substrate is too low, the coating film is not ablated. On the other hand, if the energy density is too high, the base material of the coating film will be damaged. Therefore, it is preferable to set the energy density of the laser beam in a range where the underlying material is not damaged and the coating film is ablated. When the energy density of the laser beam output from the laser light generator 60 is sufficiently high, a diverging lens may be used instead of the condenser lens 23.

【0032】集光レンズ支持機構24により、処理対象
物1の表面から集光レンズ23までの高さを調節して照
射領域の面積を変えることにより、エネルギ密度を調節
することができる。エネルギ密度の好適な範囲は、下地
材料及び塗装膜の種類によって異なる。従って、予め異
なるエネルギ密度で予備実験を行い、好適なエネルギ密
度の範囲、すなわち好適な集光レンズ23の高さを決定
しておくことが好ましい。
The energy density can be adjusted by adjusting the height from the surface of the processing object 1 to the condenser lens 23 by the condenser lens support mechanism 24 to change the area of the irradiation area. The preferable range of the energy density differs depending on the type of the base material and the coating film. Therefore, it is preferable that preliminary experiments are performed in advance at different energy densities to determine a suitable energy density range, that is, a suitable height of the condenser lens 23.

【0033】高さ制御装置26に、集光レンズ23の好
適な高さを記憶させておく。高さ制御装置26が、高さ
センサ25により検出された高さと、予め記憶されてい
る好適な高さとを比較し、好適な高さに近づくように集
光レンズ支持機構24を制御する。この高さ制御によ
り、常時好適なエネルギ密度でアブレーションを行うこ
とができる。
The preferred height of the condenser lens 23 is stored in the height controller 26. The height controller 26 compares the height detected by the height sensor 25 with a suitable height stored in advance, and controls the condenser lens support mechanism 24 so as to approach the suitable height. With this height control, ablation can always be performed with a suitable energy density.

【0034】偏向器22により、レーザビームの照射位
置をX軸方向に掃引し、その後偏向器21によりY軸方
向に照射位置をずらす。再び偏向器22により照射位置
をX軸方向に掃引し、X軸方向に関して前回の掃引と同
じ範囲にレーザ光を照射する。この掃引を繰り返すこと
により、処理対象物1の表面のある領域の塗装膜をアブ
レーションにより除去することができる。
The irradiation position of the laser beam is swept by the deflector 22 in the X-axis direction, and then the irradiation position is shifted by the deflector 21 in the Y-axis direction. The irradiation position is again swept in the X-axis direction by the deflector 22, and the laser beam is irradiated in the same range as the previous sweep in the X-axis direction. By repeating this sweep, the coating film in a certain area on the surface of the processing target 1 can be removed by ablation.

【0035】図1に示すマニピュレータアーム50を駆
動してレーザ照射ヘッド10の位置を移動させ、上記X
軸及びY軸方向の掃引を繰り返し実行する。このように
して、処理対象物1の表面の広い領域の塗装膜をアブレ
ーションにより除去することができる。
The position of the laser irradiation head 10 is moved by driving the manipulator arm 50 shown in FIG.
The sweep in the axis and Y axis directions is repeatedly executed. In this manner, the coating film in a wide area on the surface of the processing target 1 can be removed by ablation.

【0036】レーザ照射ヘッド10を移動させると、処
理対象物1の表面の曲率の変化、凹凸等により、その表
面から集光レンズ23までの高さが変動する場合があ
る。この場合、高さセンサ25と高さ制御装置26によ
り、集光レンズ23の高さを一定に保つことができる。
このため、処理対象物1の表面におけるレーザ光のエネ
ルギ密度を一定に維持することができ、安定したアブレ
ーションを行うことが可能になる。
When the laser irradiation head 10 is moved, the height from the surface to the condensing lens 23 may fluctuate due to a change in the curvature of the surface of the processing object 1 or unevenness. In this case, the height of the condenser lens 23 can be kept constant by the height sensor 25 and the height control device 26.
Therefore, the energy density of the laser beam on the surface of the processing target 1 can be kept constant, and stable ablation can be performed.

【0037】なお、偏向器21による掃引方向と偏向器
22による掃引方向とは、必ずしも直交させる必要はな
い。両者の掃引方向が相互に交わる関係にあればよい。
The sweep direction by the deflector 21 and the sweep direction by the deflector 22 do not necessarily need to be orthogonal. It suffices that the two sweep directions cross each other.

【0038】また、上述の掃引方法では、偏向器21と
22を用いて2次元的に掃引する場合を説明したが、い
ずれか一方の偏向器のみを用いて1次元的に掃引を行っ
てもよい。この場合、図1に示すマニピュレータアーム
50により、掃引方向に交わる方向にレーザ照射ヘッド
10を移動させる。このようにして、処理対処物1の表
面の広い領域にレーザビームを照射することができる。
In the above-described sweeping method, a case has been described in which the two-dimensional sweep is performed using the deflectors 21 and 22, but the one-dimensional sweep may be performed using only one of the deflectors. Good. In this case, the laser irradiation head 10 is moved by the manipulator arm 50 shown in FIG. 1 in a direction crossing the sweep direction. In this manner, the laser beam can be applied to a wide area on the surface of the processing target 1.

【0039】ノズル40から処理対象物1の表面にガス
を吹き付けることにより、表面の温度上昇を抑制するこ
とができる。なお、吹き付けガスとして、処理対象物1
を酸化しないガス、例えばArガス、Heガス等の不活
性ガス、もしくはN2 ガス等を用いることが好ましい。
なお、耐酸化性の高い材料を処理する場合には、空気を
吹き付けてもよい。また、処理対象物1の表面から飛散
した除去物は、ガス吸引口42から排出される。
By blowing a gas from the nozzle 40 onto the surface of the processing object 1, a rise in surface temperature can be suppressed. In addition, the processing target 1
It is preferable to use a gas that does not oxidize, for example, an inert gas such as an Ar gas or a He gas, or an N 2 gas.
In the case of processing a material having high oxidation resistance, air may be blown. The removed matter scattered from the surface of the processing object 1 is discharged from the gas suction port 42.

【0040】レーザアブレーションによる塗装膜の除去
が行われている間も、温度異常検出装置45が、処理対
象物1の表面温度の正常性を監視している。処理対象物
1の表面温度が、予め設定されている基準温度を超える
と異常処理が実行される。異常処理は、例えば、レーザ
光照射の停止、警報の鳴動等である。なお、検出温度が
基準温度を超えた場合、レーザ光のパルス繰り返し周波
数を低下させてもよい。
The temperature abnormality detection device 45 monitors the normality of the surface temperature of the processing object 1 even during the removal of the coating film by laser ablation. When the surface temperature of the processing target 1 exceeds a preset reference temperature, abnormal processing is executed. The abnormality processing is, for example, stopping laser beam irradiation, sounding an alarm, or the like. When the detected temperature exceeds the reference temperature, the pulse repetition frequency of the laser light may be reduced.

【0041】このように、レーザアブレーションを利用
することにより、有毒な化学薬品を使用することなく塗
装膜の除去を行うことができる。
As described above, by using laser ablation, the coating film can be removed without using toxic chemicals.

【0042】アブレーション中に処理対象物1の表面温
度を監視しているため、温度上昇による処理対象物1の
損傷、変質等を防止することができる。
Since the surface temperature of the processing target 1 is monitored during the ablation, it is possible to prevent the processing target 1 from being damaged or deteriorated due to a rise in temperature.

【0043】国際航空輸送協会(IATA)の基準によ
ると、航空機の機体表面の塗装膜を除去する際に、機体
表面温度を80℃以下に維持しなければならない。例え
ば、温度異常検出装置に設定しておく基準温度を75℃
とすることにより、機体表面温度がIATA基準を満た
しているか否かを確認しながら塗装膜の除去を行うこと
ができる。
According to the International Air Transport Association (IATA) standards, the temperature of the aircraft surface must be kept below 80 ° C. when removing the paint film on the surface of the aircraft body. For example, the reference temperature set in the temperature abnormality detection device is 75 ° C.
By doing so, it is possible to remove the coating film while checking whether the body surface temperature satisfies the IATA standard.

【0044】また、色判定装置46で処理対象物1の表
面の色を観測しているため、塗装膜が完全に除去された
か否かを判定することができる。航空機の塗装膜は、通
常、接着及び防錆のためのプライマ層、及びその上に塗
布された化粧用のトップコート層の2層からなる。プラ
イマ層とトップコート層の色が異なる場合には、色判定
装置46により、トップコート層が除去されてプライマ
層が露出したことを検出することができる。
Further, since the color of the surface of the processing object 1 is observed by the color determination device 46, it can be determined whether or not the coating film has been completely removed. Aircraft coatings usually consist of two layers, a primer layer for adhesion and rust prevention, and a cosmetic topcoat layer applied thereon. When the colors of the primer layer and the top coat layer are different, the color determination device 46 can detect that the top coat layer has been removed and the primer layer has been exposed.

【0045】また、塗装膜の厚さにむらがある場合、全
面に同一の条件でレーザ照射を行ったのでは、塗装膜を
除去しきれない領域が生ずる。色判定装置46で下地表
面が露出したか否かを判定しながらレーザ照射を行うこ
とにより、塗装膜に厚さむらがある場合にも、除去残り
の発生を防止することができる。
In the case where the thickness of the coating film is uneven, if the entire surface is irradiated with the laser under the same conditions, an area where the coating film cannot be completely removed occurs. By performing laser irradiation while determining whether or not the base surface has been exposed by the color determination device 46, even if the coating film has uneven thickness, it is possible to prevent the removal remaining from occurring.

【0046】次に、図3を参照して塗装膜除去の実験結
果について説明する。実験には、アルミ板の表面上に航
空機の機体の塗装に使用される厚さ約80μmの塗装膜
を形成したサンプルを用いた。レーザ光発生装置60
は、繰り返し周波数100Hzでパルスレーザ光を出力
するTEA−CO2 レーザ装置である。処理対象物1の
表面におけるレーザビームのエネルギ密度は約5J/c
2 、照射領域の形状は、約14mm×1mmの長方形
である。このとき、アブレーション除去される領域は約
5mm×0.5mmの長方形状である。ショット間の移
動距離は約0.5mmである。また、レーザビーム照射
位置のX軸方向の掃引速度を25mm/sとした。
Next, referring to FIG. 3, a description will be given of an experimental result of removing the coating film. In the experiment, a sample in which a coating film having a thickness of about 80 μm used for coating an aircraft body was formed on an aluminum plate surface was used. Laser light generator 60
Is a TEA-CO 2 laser device that outputs pulsed laser light at a repetition frequency of 100 Hz. The energy density of the laser beam on the surface of the object 1 is about 5 J / c.
m 2 , the shape of the irradiation area is a rectangle of about 14 mm × 1 mm. At this time, the area to be ablated is a rectangle of about 5 mm × 0.5 mm. The moving distance between shots is about 0.5 mm. Further, the sweep speed of the laser beam irradiation position in the X-axis direction was set to 25 mm / s.

【0047】図3は、レーザビーム照射履歴を示す。ま
ず、矢印S1で示すように偏向器22によりX軸方向に
約5cm掃引する。次に、偏向器21によりY軸方向に
約0.5cmずらし、矢印S2で示すように再び偏向器
22によりX軸方向に関して同じ範囲を掃引する。さら
に、Y軸方向に約0.5cmずらし、矢印S3で示すよ
うにX軸方向に関して同じ範囲を掃引する。矢印S1〜
S3の掃引により、約5cm×1.5cmの長方形の領
域にレーザビームを照射することができる。矢印S1〜
S3の掃引を3回繰り返し実行する。その結果、アルミ
板表面の塗装膜がほぼ除去された。アルミ板の表面の損
傷は見られなかった。
FIG. 3 shows a laser beam irradiation history. First, as shown by the arrow S1, the beam is swept by about 5 cm in the X-axis direction by the deflector 22. Next, it is shifted by about 0.5 cm in the Y-axis direction by the deflector 21, and the same range is swept again by the deflector 22 in the X-axis direction as shown by the arrow S2. Further, it is shifted by about 0.5 cm in the Y-axis direction, and sweeps the same range in the X-axis direction as shown by an arrow S3. Arrow S1
By the sweep of S3, a rectangular area of about 5 cm × 1.5 cm can be irradiated with a laser beam. Arrow S1
The sweep of S3 is repeated three times. As a result, the coating film on the surface of the aluminum plate was almost removed. No damage was observed on the surface of the aluminum plate.

【0048】上記実験では、処理対象物表面の同一領域
に3回のレーザ照射を行った。レーザ照射回数を減らす
ことにより、塗装膜の下層部分を残し、上層部分のみを
除去することができる。航空機の機体表面の塗装膜は、
通常、接着及び防錆のためのプライマ層と、その上に塗
布された化粧のためのトップコート層からなる。レーザ
照射回数を調節することにより、例えばトップコート層
のみを除去することが可能になる。
In the above experiment, laser irradiation was performed three times on the same region of the surface of the processing object. By reducing the number of laser irradiations, it is possible to leave the lower layer of the coating film and remove only the upper layer. The coating film on the aircraft body surface is
It usually consists of a primer layer for adhesion and rust prevention, and a cosmetic topcoat layer applied thereon. By adjusting the number of laser irradiations, for example, only the top coat layer can be removed.

【0049】図1〜図3では、赤外レーザ光を照射して
塗装膜を除去する場合を説明したが、赤外レーザ光のみ
の照射では、塗装膜の一部が処理対象物の表面に薄く残
る場合がある。本願発明者らは、紫外レーザ光を照射す
ることにより、薄く残った塗装膜を除去できることを見
出した。
FIGS. 1 to 3 show the case where the coating film is removed by irradiating the infrared laser light. However, in the case of irradiating only the infrared laser light, a part of the coating film is on the surface of the object to be processed. May remain thin. The present inventors have found that by irradiating an ultraviolet laser beam, a thin remaining coating film can be removed.

【0050】図4は、赤外レーザ光及び紫外レーザ光を
照射するためのレーザ処理装置の概略を示す。赤外レー
ザ光発生装置60から出力された赤外レーザ光が、集光
レンズ23により集光され、処理対象物1の表面に照射
される。紫外レーザ光発生装置60Aから出力された紫
外レーザ光が、集光レンズ23Aにより集光され、処理
対象物1の表面に照射される。赤外レーザ光発生装置6
0から集光レンズ23までの機械的、光学的構成、及び
紫外レーザ光発生装置60Aから集光レンズ23Aまで
の機械的、光学的構成は、図1及び図2に示す構成と同
様である。
FIG. 4 schematically shows a laser processing apparatus for irradiating infrared laser light and ultraviolet laser light. The infrared laser light output from the infrared laser light generation device 60 is condensed by the condensing lens 23 and is irradiated on the surface of the processing target 1. The ultraviolet laser light output from the ultraviolet laser light generator 60A is condensed by the condenser lens 23A, and is irradiated on the surface of the processing target 1. Infrared laser light generator 6
The mechanical and optical configuration from 0 to the condenser lens 23 and the mechanical and optical configuration from the ultraviolet laser light generator 60A to the condenser lens 23A are the same as those shown in FIGS.

【0051】赤外レーザ光発生装置60としては、例え
ば、TEA−CO2 レーザ装置、Nd:YAGレーザ装
置、Nd:YLFレーザ装置、COレーザ装置、半導体
レーザ装置等が使用できる。
As the infrared laser light generator 60, for example, a TEA-CO 2 laser device, a Nd: YAG laser device, a Nd: YLF laser device, a CO laser device, a semiconductor laser device, or the like can be used.

【0052】紫外レーザ光発生装置60Aとしては、例
えば、KrFエキシマレーザ装置(発振波長248n
m)等が使用できる。また、YAGレーザ装置またはY
ALレーザ装置と波長変換用結晶との組み合わせによ
り、レーザ装置から出力されたレーザ光の高調波を用い
てもよい。
As the ultraviolet laser light generator 60A, for example, a KrF excimer laser device (oscillation wavelength 248 n
m) etc. can be used. Also, a YAG laser device or Y
A combination of an AL laser device and a wavelength conversion crystal may use a harmonic of a laser beam output from the laser device.

【0053】図4に示すレーザ処理装置を用い、赤外レ
ーザ光を照射して処理対象物1の表面の塗装膜をアブレ
ーション除去する。このとき、表面に薄く塗装膜が残る
場合がある。次に、紫外レーザ光を照射し、薄く残った
塗装膜をアブレーション除去する。図2に示す色センサ
43でレーザ照射部の色を観測することにより、塗装膜
が完全に除去されたか否かを判定することができる。薄
く残った塗装膜が完全に除去されるまで、パルス紫外レ
ーザ光を、複数パルス照射する。このとき、処理対象物
1の表面における紫外レーザ光のエネルギ密度を、塗装
膜の下地表面がアブレーションされない程度の値とする
ことが好ましい。
Using a laser processing apparatus shown in FIG. 4, the coating film on the surface of the processing object 1 is ablated and removed by irradiating infrared laser light. At this time, a thin coating film may remain on the surface. Next, an ultraviolet laser beam is irradiated to ablate and remove the thin remaining coating film. By observing the color of the laser irradiation part with the color sensor 43 shown in FIG. 2, it can be determined whether or not the coating film has been completely removed. A plurality of pulses of pulsed ultraviolet laser light are applied until the thin remaining coating film is completely removed. At this time, it is preferable that the energy density of the ultraviolet laser light on the surface of the processing target 1 be set to a value that does not ablate the base surface of the coating film.

【0054】赤外レーザ光のみの照射では、薄く残った
塗装膜を完全に除去することが困難であるが、紫外レー
ザ光を照射することにより、容易に除去することができ
る。
It is difficult to completely remove the thin remaining coating film by irradiation with only infrared laser light, but it can be easily removed by irradiation with ultraviolet laser light.

【0055】図4に示すレーザ処理装置を用いて、航空
機のアルミ製の機体表面上の塗装膜(厚さは80〜10
0μm、材質はポリウレタン)を除去した。波長10.
6μmのTEA−CO2 レーザ光を、図3の場合と同様
の条件で照射したところ、アルミ板の表面に薄く塗装膜
が残った。TEA−CO2 レーザ光の照射後、波長24
8nmのエキシマレーザ光をエネルギ密度1.7J/c
2 、繰り返し周波数10Hzの条件で照射したとこ
ろ、薄く残った塗装膜を綺麗に除去することができた。
なお、同一箇所を2〜3回ずつ照射した。このとき、ア
ルミ板の表面に損傷はなかった。
Using the laser processing apparatus shown in FIG. 4, a coating film (having a thickness of 80 to 10) on the surface of an aircraft aluminum body is used.
0 μm, made of polyurethane). Wavelength 10.
When a 6 μm TEA-CO 2 laser beam was irradiated under the same conditions as in FIG. 3, a thin coating film remained on the surface of the aluminum plate. After irradiation with TEA-CO 2 laser light, wavelength 24
8 nm excimer laser beam with energy density of 1.7 J / c
When irradiation was performed under the conditions of m 2 and a repetition frequency of 10 Hz, a thin remaining coating film could be removed cleanly.
The same location was irradiated two to three times. At this time, there was no damage on the surface of the aluminum plate.

【0056】図5は、図4に示すレーザ処理装置の変形
例を示す。赤外レーザ光発生装置60から出力された赤
外レーザ光は、ミラー65を透過し、紫外レーザ光発生
装置60Aから出力された紫外レーザ光は、ミラー65
により反射される。ミラー65を透過した赤外レーザ光
とミラー65により反射された紫外レーザ光は、同一の
光軸に沿って伝搬する。赤外レーザ光と紫外レーザ光と
は、ともに集光レンズ23により集光され、処理対象物
1の表面に照射される。
FIG. 5 shows a modification of the laser processing apparatus shown in FIG. The infrared laser light output from the infrared laser light generator 60 passes through the mirror 65, and the ultraviolet laser light output from the ultraviolet laser light generator 60A is
Is reflected by The infrared laser light transmitted through the mirror 65 and the ultraviolet laser light reflected by the mirror 65 propagate along the same optical axis. Both the infrared laser light and the ultraviolet laser light are condensed by the condensing lens 23 and are irradiated on the surface of the processing target 1.

【0057】紫外レーザ光発生装置60Aとミラー65
との間に、調整用光学系64が配置されている。調整用
光学系64は、集光レンズ23の色収差を解消し、赤外
レーザ光と紫外レーザ光との焦点位置の違いを補正す
る。調整用光学系64は、赤外レーザ光発生装置60と
紫外レーザ光発生装置60Aのうちいずれか一方に対応
して配置されていればよい。
The ultraviolet laser light generator 60A and the mirror 65
, An adjustment optical system 64 is arranged. The adjustment optical system 64 eliminates chromatic aberration of the condenser lens 23 and corrects a difference in focal position between the infrared laser light and the ultraviolet laser light. The adjustment optical system 64 only needs to be arranged corresponding to one of the infrared laser light generator 60 and the ultraviolet laser light generator 60A.

【0058】図5に示すレーザ処理装置を用いて塗装膜
の除去を行う場合には、赤外レーザ光を照射した後に紫
外レーザ光を照射してもよいし、2つのレーザ光を同時
に照射してもよい。2つのレーザ光を別々に照射する場
合には、レーザ光の各々の照射時に好適なエネルギ密度
になるように、集光レンズ23の高さを調節する。2つ
のレーザ光を同時に照射する場合には、例えば赤外レー
ザ光のエネルギ密度が好適な値になるように集光レンズ
23の高さを調節し、紫外レーザ光のエネルギ密度は、
調整用光学系64により調節する。このようにして、赤
外レーザ光と紫外レーザ光のエネルギ密度を、同時に好
適な値に設定することができる。
When the coating film is removed using the laser processing apparatus shown in FIG. 5, ultraviolet laser light may be irradiated after irradiating infrared laser light, or two laser lights may be simultaneously irradiated. You may. When irradiating two laser beams separately, the height of the condenser lens 23 is adjusted so that a suitable energy density is obtained at each irradiation of the laser beams. When irradiating two laser beams simultaneously, for example, the height of the condenser lens 23 is adjusted so that the energy density of the infrared laser beam becomes a suitable value, and the energy density of the ultraviolet laser beam becomes
The adjustment is performed by the adjustment optical system 64. In this way, the energy densities of the infrared laser light and the ultraviolet laser light can be simultaneously set to suitable values.

【0059】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
The present invention has been described in connection with the preferred embodiments.
The present invention is not limited to these. For example, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

【0060】[0060]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レーザアブレーションを利用することにより、化学薬品
を使用することなく、処理対象物の表面に形成された塗
装膜を除去することができる。また、赤外レーザ光を照
射した後または同時に紫外レーザ光を照射することによ
り、塗装膜を残すことなく綺麗に除去することができ
る。
As described above, according to the present invention,
By using laser ablation, the coating film formed on the surface of the processing object can be removed without using a chemical. In addition, by irradiating the ultraviolet laser light after or simultaneously with the irradiation with the infrared laser light, it is possible to remove the coating film without leaving the coating film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例によるレーザ処理装置の概略を
示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すレーザ照射ヘッドの概略を示す断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view schematically showing the laser irradiation head shown in FIG.

【図3】レーザビームの掃引の様子を説明するための図
である。
FIG. 3 is a diagram for explaining how a laser beam is swept.

【図4】赤外レーザ光と紫外レーザ光を照射可能なレー
ザ処理装置の概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram of a laser processing apparatus capable of irradiating infrared laser light and ultraviolet laser light.

【図5】図4に示すレーザ処理装置の変形例によるレー
ザ処理装置の概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram of a laser processing apparatus according to a modification of the laser processing apparatus shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 処理対象物 10 レーザ照射ヘッド 11 箱型容器 12 透明窓 13 ガス導入管 14 ガス供給装置 15 ガス排気管 16 ガス排気装置 17 貫通孔 20 ハーフミラー 21、22 偏向器 23、23A 集光レンズ 24 集光レンズ支持機構 25 高さセンサ 26 高さ制御装置 30 エネルギセンサ 31 ホモジナイザ 32 可視光レーザ装置 40、41 ノズル 42 ガス吸引口 43 色センサ 44 温度センサ 45 温度異常検出装置 46 色判定装置 50 マニピュレータアーム 51 マニピュレータ本体 60、60A レーザ光発生装置 61 ビーム整形用光学部品 62 レーザ伝送用アーム 63 レーザビーム 64 調整用光学系 65 ミラー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Processing object 10 Laser irradiation head 11 Box-shaped container 12 Transparent window 13 Gas introduction pipe 14 Gas supply device 15 Gas exhaust pipe 16 Gas exhaust device 17 Through hole 20 Half mirror 21, 22 Deflector 23, 23A Condensing lens 24 Collection Optical lens support mechanism 25 Height sensor 26 Height control device 30 Energy sensor 31 Homogenizer 32 Visible light laser device 40, 41 Nozzle 42 Gas suction port 43 Color sensor 44 Temperature sensor 45 Temperature abnormality detection device 46 Color judgment device 50 Manipulator arm 51 Manipulator body 60, 60A Laser light generator 61 Beam shaping optical component 62 Laser transmission arm 63 Laser beam 64 Adjustment optical system 65 Mirror

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に塗装膜が形成された処理対象物の
該表面に、赤外領域のレーザ光を照射し、該塗装膜をア
ブレーションにより除去する工程と、 前記処理対象物の表面に、紫外領域のレーザ光を照射
し、前記塗装膜のうち前記赤外領域のレーザ光照射で除
去できなかった除去残りを、アブレーションにより除去
する工程とを有する塗装除去方法。
A step of irradiating a laser beam in an infrared region on the surface of the processing object having a coating film formed on the surface to remove the coating film by ablation; Irradiating a laser beam in an ultraviolet region and removing remaining residues of the coating film, which could not be removed by the laser beam irradiation in the infrared region, by ablation.
【請求項2】 赤外領域のレーザ光を出力する赤外レー
ザ光源と、 紫外領域のレーザ光を出力する紫外レ−ザ光源と、 前記赤外レーザ光源から出力された赤外レーザ光を集光
もしくは発散させ、処理対象物の表面に照射する第1の
レンズと、 前記紫外レーザ光源から出力された紫外レーザ光を集光
もしくは発散させ、処理対象物の表面に照射する第2の
レンズとを有するレーザ処理装置。
2. An infrared laser light source for outputting laser light in an infrared region, an ultraviolet laser light source for outputting laser light in an ultraviolet region, and an infrared laser light output from the infrared laser light source. A first lens that emits or diverges light and irradiates the surface of the object to be processed; and a second lens that condenses or diverges ultraviolet laser light output from the ultraviolet laser light source and irradiates the surface of the object to be processed. A laser processing apparatus having:
【請求項3】 さらに、前記赤外レーザ光源から出力さ
れた赤外レーザ光と、前記紫外レーザ光源から出力され
た紫外レーザ光とが、同一光軸に沿って伝搬するように
2つのレーザ光を混合する混合光学系を有し、 前記第1のレンズが前記第2のレンズを兼ねる請求項2
に記載のレーザ処理装置。
3. The two laser lights so that the infrared laser light output from the infrared laser light source and the ultraviolet laser light output from the ultraviolet laser light source propagate along the same optical axis. And a mixing optical system that mixes the first and second lenses, wherein the first lens also functions as the second lens.
A laser processing apparatus according to claim 1.
【請求項4】 さらに、前記第1のレンズを支持し、前
記処理対象物の表面から前記第1のレンズまでの高さを
調節できる第1のレンズ支持機構を有する請求項3に記
載のレーザ処理装置。
4. The laser according to claim 3, further comprising a first lens support mechanism that supports the first lens and that can adjust a height from a surface of the processing target to the first lens. Processing equipment.
JP12124097A 1997-05-12 1997-05-12 Laser coating removing method and laser treating apparatus Withdrawn JPH10309900A (en)

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Cited By (3)

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