JPH10301143A - Alignment mark of liquid crystal display device - Google Patents

Alignment mark of liquid crystal display device

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JPH10301143A
JPH10301143A JP9110684A JP11068497A JPH10301143A JP H10301143 A JPH10301143 A JP H10301143A JP 9110684 A JP9110684 A JP 9110684A JP 11068497 A JP11068497 A JP 11068497A JP H10301143 A JPH10301143 A JP H10301143A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alignment mark
tft substrate
lens
microlens
forming material
Prior art date
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Pending
Application number
JP9110684A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Taniguchi
耕一 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH10301143A publication Critical patent/JPH10301143A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an alignment mark which enhances visibility without being formed separately and permits alignment with ease and precision. SOLUTION: This alignment mark aligns a TFT (thin film transistor) substrate and a micro lens array 33 forming a lens part 9 molded from a lens molding material different from a base glass 1. In this case, an on-substrate alignment mark of an arbitrary shape formed on the TFT substrate and an on-microlens alignment mark 35, which is formed into the micro lens array 33 by using a lens molding material 7 at a position corresponding to the on-TFT substrate alignment mark and of which an analog part 39 larger than the on- TFT substrate alignment mark is formed by excluding the lens molding material 7, are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カメラ一体型VT
Rや液晶プロジェクター装置等に用いる液晶表示装置の
アライメントマークに関し、更に詳しくは、マイクロレ
ンズを形成したマイクロレンズアレイと、各画素制御用
の薄膜トランジスタ(TFT)を形成したTFT基板と
をアライメントするためのものである。
The present invention relates to a camera-integrated VT.
More specifically, the present invention relates to an alignment mark of a liquid crystal display device used for a liquid crystal projector device or the like, and more specifically, to align a microlens array formed with microlenses with a TFT substrate formed with a thin film transistor (TFT) for controlling each pixel. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置には、高輝度化のために、
TFT基板にマイクロレンズアレイを貼り付けるものが
ある。図8、図9は二つの代表的なマイクロレンズアレ
イの製造方法を示す説明図である。図8に示すマイクロ
レンズアレイの製法では、基ガラス1の表面に、エッチ
ングによりレンズ部及びアライメントマーク部の凹部
3、5を形成する。次いで、これらの凹部3、5にレン
ズ形成材料(樹脂)7を流し込み、レンズ9及びマイク
ロレンズ側アライメントマーク11を形成した後、基ガ
ラス1の表面にカバーガラス13を貼り付けしてマイク
ロレンズアレイ15を完成させる。また、図9に示すマ
イクロレンズアレイの製法では、基ガラス1の表面に、
レンズ形成材料(樹脂)17を塗布し、この樹脂17を
型で押圧することにより、レンズ9及びマイクロレンズ
側アライメントマーク11を形成し、その表面にカバー
ガラス13を貼り付けしてマイクロレンズアレイ19を
完成させる。これらいずれの製法においても、製造コス
トを低減するため、レンズ9とマイクロレンズ側アライ
メントマーク11とは、同時に形成される。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display device, in order to increase luminance,
In some cases, a microlens array is attached to a TFT substrate. 8 and 9 are explanatory views showing a method for manufacturing two typical microlens arrays. In the method of manufacturing the microlens array shown in FIG. 8, the concave portions 3 and 5 of the lens portion and the alignment mark portion are formed on the surface of the base glass 1 by etching. Next, a lens-forming material (resin) 7 is poured into these concave portions 3 and 5 to form a lens 9 and a microlens-side alignment mark 11, and then a cover glass 13 is attached to the surface of the base glass 1 to form a microlens array. Complete No. 15. In the method of manufacturing the microlens array shown in FIG.
The lens 9 and the microlens-side alignment mark 11 are formed by applying a lens forming material (resin) 17 and pressing the resin 17 with a mold, and a cover glass 13 is attached to the surface of the lens 9 and the microlens array 19. To complete. In any of these manufacturing methods, the lens 9 and the microlens-side alignment mark 11 are formed simultaneously in order to reduce the manufacturing cost.

【0003】図10は従来のマイクロレンズ側アライメ
ントマークの図で(A)は図8及び図9のa矢視(B)
は(A)のb矢視(C)は(A)のc矢視を示し、図1
1はTFT基板側アライメントマークを形成したTFT
基板の平面図、図12はTFT基板側アライメントマー
クの拡大図、図13はマイクロレンズとTFT基板とを
貼り合わせたときの両アライメントマークの見え方を示
す説明図である。図10に示すようにマイクロレンズ側
アライメントマーク11は、樹脂からなるマーク部に直
交する二本の直線状部23、23を形成してなる。ま
た、図11、図12に示すようにTFT基板側アライメ
ントマーク25は、直交する二本の直線状部29、29
をTFT基板27に十字状に形成してなる。
FIG. 10 is a view of a conventional alignment mark on the microlens side, and FIG. 10A is a view taken in the direction of arrow a in FIGS. 8 and 9 (B).
FIG. 1 (A) shows the view in the direction of arrow b. FIG. 1 (C) shows the view in the direction of arrow c of FIG.
Reference numeral 1 denotes a TFT on which a TFT substrate-side alignment mark is formed.
FIG. 12 is a plan view of the substrate, FIG. 12 is an enlarged view of the alignment mark on the TFT substrate side, and FIG. 13 is an explanatory diagram showing how the two alignment marks look when the microlens and the TFT substrate are bonded together. As shown in FIG. 10, the microlens-side alignment mark 11 is formed by forming two linear portions 23, 23 orthogonal to the mark portion made of resin. As shown in FIGS. 11 and 12, the TFT substrate-side alignment mark 25 is formed by two orthogonal linear portions 29, 29.
Are formed on the TFT substrate 27 in a cross shape.

【0004】マイクロレンズアレイ15(又は19)と
TFT基板27との貼り合わせは、TFT基板27の表
面にマイクロレンズアレイ15を重ね、図13に示すよ
うにTFT基板側アライメントマーク25に、マイクロ
レンズ側アライメントマーク11を重ね合わせ、両者の
十字形状を一致させることによりアライメントを行う。
アライメントの終了したTFT基板27とマイクロレン
ズアレイ15は、UV接着剤で仮接着を行った後、熱プ
レス方式で加圧しながら150〜200°cで熱硬化さ
せ、貼り付けを終了する。
[0004] The bonding of the microlens array 15 (or 19) and the TFT substrate 27 is performed by stacking the microlens array 15 on the surface of the TFT substrate 27 and, as shown in FIG. The alignment is performed by overlapping the side alignment marks 11 and matching the cross shapes of both.
After the alignment, the TFT substrate 27 and the microlens array 15 are temporarily bonded with a UV adhesive, and then thermally cured at 150 to 200 ° C. while applying pressure by a hot press method to complete the bonding.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のアライメントマークは、レンズ形成材料にてマ
イクロレンズ側アライメントマーク11を形成していた
ので、TFT基板側アライメントマーク25とマイクロ
レンズ側アライメントマーク11とを重ね合わせたと
き、マイクロレンズ側アライメントマーク11を通過す
る光が屈折し、TFT基板側アライメントマーク25が
歪んだり、エッジがぼやけたりして見え、視認性の低下
によりTFT基板27と、マイクロレンズアレイ15と
のアライメントが容易且つ高精度に行えない問題があっ
た。一方、マイクロレンズ側アライメントマークを、マ
イクロレンズアレイ製造後に、TFT基板側アライメン
トマークと同様にクロム、アルミ等の金属により形成す
れば、視認性は向上するものの、マイクロレンズアレイ
製造とアライメントマーク形成の二重の工程が必要にな
るとともに、マイクロレンズアレイとアライメントマー
クとを別々に製作するので、マイクロレンズアレイとア
ライメントマークとの相対位置精度が低下する問題があ
った。本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、別途
に形成せずに視認性を高めることができ、容易且つ高精
度なアライメントが行えるアライメントマークの提供を
目的とするものである。
However, in the above-mentioned conventional alignment mark, the micro-lens alignment mark 11 is formed by using a lens forming material, so that the TFT substrate-side alignment mark 25 and the micro-lens alignment mark 11 are formed. When light is superimposed, light passing through the microlens-side alignment mark 11 is refracted, and the TFT substrate-side alignment mark 25 appears to be distorted or the edge is blurred. There was a problem that alignment with the lens array 15 could not be performed easily and with high accuracy. On the other hand, if the microlens-side alignment mark is formed of a metal such as chrome or aluminum similarly to the TFT substrate-side alignment mark after the production of the microlens array, the visibility is improved, but the production of the microlens array and the formation of the alignment mark are improved. A double process is required, and the microlens array and the alignment mark are separately manufactured, so that the relative position accuracy between the microlens array and the alignment mark is reduced. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an alignment mark which can improve visibility without separately forming the alignment mark and can perform easy and highly accurate alignment.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る液晶表示装置のアライメントマークは、
TFT基板と、基ガラスに該基ガラスと異なるレンズ形
成材料でレンズ部を形成したマイクロレンズアレイとを
アライメントする液晶表示装置のアライメントマークで
あって、前記TFT基板に形成した任意形状のTFT基
板側アライメントマークと、該TFT基板側アライメン
トマークに対応する位置で前記レンズ形成材料を用いて
前記マイクロレンズアレイに形成してあり且つ該TFT
基板側アライメントマークより大きい相似形部を前記レ
ンズ形成材料を除いて形成してあるマイクロレンズ側ア
ライメントマークとからなることを特徴とするものであ
る。また、アライメントマークは、TFT基板と、基ガ
ラスに該基ガラスと異なるレンズ形成材料でレンズ部を
形成したマイクロレンズアレイとをアライメントする液
晶表示装置のアライメントマークであって、前記TFT
基板に形成した少なくとも直線状部を有するTFT基板
側アライメントマークと、該TFT基板側アライメント
マークに対応する位置で前記レンズ形成材料を用いて前
記マイクロレンズアレイに形成してあり且つ前記直線状
部を対称に左右逆方向の傾斜辺で交わるV字状切欠部を
前記レンズ形成材料を除いて形成してあるマイクロレン
ズ側アライメントマークとからなるものであってもよ
い。更に、アライメントマークは、TFT基板と、基ガ
ラスに該基ガラスと異なるレンズ形成材料でレンズ部を
形成したマイクロレンズアレイとをアライメントする液
晶表示装置のアライメントマークであって、一つの直線
状部又は隣接する直線状部との成す角度が全て等しくな
るように交差させた複数の直線状部により前記TFT基
板に形成したTFT基板側アライメントマークと、該T
FT基板側アライメントマークに対応する位置で前記レ
ンズ形成材料を用いて前記マイクロレンズアレイに形成
してあり且つ前記TFT基板側アライメントマークによ
って等しい面積に分割される抜き穴部を前記レンズ形成
材料を除いて形成してあるマイクロレンズ側アライメン
トマークとからなることを特徴とするものであってもよ
い。
In order to achieve the above object, an alignment mark of a liquid crystal display device according to the present invention is provided.
An alignment mark of a liquid crystal display device for aligning a TFT substrate and a microlens array having a lens portion formed on a base glass with a lens forming material different from the base glass, the alignment mark being formed on the TFT substrate and having an arbitrary shape. An alignment mark formed on the microlens array using the lens-forming material at a position corresponding to the TFT substrate-side alignment mark;
A similar shape portion larger than the substrate-side alignment mark is formed by the micro-lens-side alignment mark formed excluding the lens-forming material. Further, the alignment mark is an alignment mark of a liquid crystal display device for aligning a TFT substrate and a microlens array in which a lens portion is formed on a base glass with a lens forming material different from the base glass.
A TFT substrate-side alignment mark having at least a linear portion formed on the substrate; and a microlens array formed at the position corresponding to the TFT substrate-side alignment mark using the lens-forming material, wherein the linear portion is formed. A V-shaped notch that symmetrically intersects at left and right opposite sides may be formed by a microlens-side alignment mark formed by removing the lens-forming material. Further, the alignment mark is an alignment mark of a liquid crystal display device for aligning a TFT substrate and a microlens array in which a lens portion is formed on a base glass with a lens forming material different from the base glass, and is one linear portion or A TFT substrate-side alignment mark formed on the TFT substrate by a plurality of linear portions that intersect so that the angles formed by adjacent linear portions are all equal;
A hole formed in the microlens array using the lens-forming material at a position corresponding to the FT substrate-side alignment mark and divided into equal areas by the TFT substrate-side alignment mark excluding the lens-forming material And a micro-lens side alignment mark formed by the above method.

【0007】このように構成したアライメントマークで
は、マイクロレンズ側アライメントマークに、レンズ形
成材料を除いた相似形部が形成され、アライメント時、
TFT基板側アライメントマークが、基ガラスとカバー
ガラスのみからなる相似形部に位置することになり、光
の屈折によるTFT基板側アライメントマークの歪みや
ぼやけがなくなる。また、V字状切欠部を形成したアラ
イメントマークでは、上述の作用と同様、光の屈折によ
るTFT基板側アライメントマークの歪みやぼやけがな
くなるとともに、TFT基板側アライメントマークの直
線状部と、V字状切欠部の傾斜辺との交点、及び直線状
部から左右の傾斜辺までの水平距離によるアライメント
が可能となる。更に、抜き穴部を形成したアライメント
マークでは、上述の作用と同様、光の屈折によるTFT
基板側アライメントマークの歪みやぼやけがなくなると
ともに、TFT基板側アライメントマークによって仕切
られた、抜き穴部に囲まれる面積の比によりアライメン
トが可能になる。
In the alignment mark configured as described above, a similar shape portion excluding the lens-forming material is formed on the microlens-side alignment mark.
Since the TFT substrate-side alignment mark is located in a similar shape portion composed of only the base glass and the cover glass, distortion and blur of the TFT substrate-side alignment mark due to refraction of light are eliminated. In addition, in the alignment mark having the V-shaped notch formed therein, the distortion and blurring of the alignment mark on the TFT substrate side due to the refraction of light are eliminated, and the linear portion of the alignment mark on the TFT substrate side and the V-shaped notch are formed. Alignment based on the intersection of the notch with the inclined side and the horizontal distance from the linear part to the left and right inclined sides is possible. Further, in the alignment mark in which the hole is formed, similar to the above-described operation, the TFT is formed by refraction of light.
Distortion and blurring of the substrate-side alignment mark are eliminated, and alignment becomes possible by the ratio of the area surrounded by the through-hole portion partitioned by the TFT substrate-side alignment mark.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るアライメント
マークの好適な実施の形態を図面を参照して詳細に説明
する。図1は本発明の第一実施形態に係るアライメント
マークを形成したマイクロレンズアレイの要部拡大図、
図2は本発明の第一実施形態に係るマイクロレンズ側ア
ライメントマークの図で(A)は図1のd矢視(B)は
(A)のe矢視(C)は(A)のf矢視を示し、図3は
図1のマイクロレンズアレイとTFT基板を貼り合わせ
たときのアライメントマークの見え方を示す説明図であ
る。この実施形態によるアライメントマーク31は、T
FT基板27(図11参照)に形成した従来と同様の例
えば十字状のTFT基板側アライメントマーク25と、
このTFT基板側アライメントマーク25に対応する位
置でマイクロレンズアレイ33に形成したマイクロレン
ズ側アライメントマーク35とからなる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of an alignment mark according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is an enlarged view of a main part of a microlens array on which an alignment mark according to a first embodiment of the present invention is formed,
2A and 2B are diagrams of the alignment mark on the microlens side according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2A is a view from arrow d in FIG. 1, FIG. FIG. 3 is an explanatory view showing how the alignment marks look when the microlens array of FIG. 1 and the TFT substrate are bonded together. The alignment mark 31 according to this embodiment has a T
A cross-shaped TFT substrate-side alignment mark 25 similar to the conventional one formed on an FT substrate 27 (see FIG. 11);
A microlens alignment mark 35 formed on the microlens array 33 at a position corresponding to the TFT substrate alignment mark 25.

【0009】マイクロレンズ側アライメントマーク35
は、例えば、図8に示した製法により、基ガラス1の表
面に、エッチングによりレンズ部及びアライメントマー
ク部の凹部3、37を形成し、これらの凹部3、37に
レンズ形成材料(樹脂)7を流し込み、レンズ部9及び
マイクロレンズ側アライメントマーク35を形成した
後、基ガラス1の表面にカバーガラス13を貼り付けし
て完成させる。
[0009] Microlens alignment mark 35
For example, the concave portions 3 and 37 of the lens portion and the alignment mark portion are formed by etching on the surface of the base glass 1 by the manufacturing method shown in FIG. 8, and the lens forming material (resin) 7 is formed in the concave portions 3 and 37. After the lens portion 9 and the microlens alignment mark 35 are formed, the cover glass 13 is attached to the surface of the base glass 1 to complete the process.

【0010】マイクロレンズアレイ33に形成したマイ
クロレンズ側アライメントマーク35は、TFT基板側
アライメントマーク25より大きい相似形部39を、樹
脂7を除いて形成してある。換言すれば、マイクロレン
ズアレイ33は、樹脂7からなる四つの同形状の四角形
部41を、相互の間隔が同間隔となるように四方に配置
することで、基ガラス1及びカバーガラス13からのみ
なる相似形部39を形成してある。従って、この相似形
部39には樹脂7が介在しないことから、進入した光は
屈折することなく透過する。
The microlens-side alignment mark 35 formed on the microlens array 33 has a similar portion 39 larger than the TFT substrate-side alignment mark 25 except for the resin 7. In other words, the microlens array 33 is formed by arranging four identically-shaped rectangular portions 41 made of the resin 7 on four sides so that the mutual intervals are the same, so that only the base glass 1 and the cover glass 13 are provided. A similar shaped portion 39 is formed. Accordingly, since the resin 7 does not intervene in the similar shaped portion 39, the entered light is transmitted without being refracted.

【0011】このように構成したアライメントマーク3
1を用いてアライメントを行うには、マイクロレンズア
レイ33をTFT基板27に重ね、図3に示すようにT
FT基板側アライメントマーク25に、マイクロレンズ
側アライメントマーク35の相似形部39が均等な間隔
を有して位置するようにアライメントする。
The alignment mark 3 constructed as described above
In order to perform the alignment using the microlens array 1, the microlens array 33 is overlaid on the TFT substrate 27, and as shown in FIG.
Alignment is performed so that the similar portions 39 of the microlens alignment marks 35 are positioned at equal intervals on the FT substrate alignment marks 25.

【0012】このアライメントマーク31では、TFT
基板側アライメントマーク25が、基ガラス1とカバー
ガラス13のみからなる相似形部39に位置することに
なり、従来のようにレンズ形成材料からなるマークに重
なった際に生ずる光の屈折によるTFT基板側アライメ
ントマーク25の歪みやぼやけがなくなり、TFT基板
側アライメントマーク25のエッジ部が鮮明に視認可能
となる。
In this alignment mark 31, a TFT
The substrate-side alignment mark 25 is located at the similar shape portion 39 composed of only the base glass 1 and the cover glass 13, and the TFT substrate is refracted by the light generated when the mark overlaps the mark composed of the lens forming material as in the related art. The distortion and blurring of the side alignment mark 25 are eliminated, and the edge of the TFT substrate side alignment mark 25 can be clearly recognized.

【0013】次に、本発明に係るアライメントマークの
第二の実施形態を図4〜図7に基づき説明する。図4は
本発明の第二実施形態に係るマイクロレンズ側アライメ
ントマークの図で(A)は平面(B)は(A)のg矢視
(C)は(A)のh矢視を示し、図5はマイクロレンズ
アレイとTFT基板を貼り合わせたときのアライメント
マークの見え方を示す説明図、図6は図5のj部拡大
図、図7は図5のk部拡大図である。この実施形態によ
るアライメントマーク51は、TFT基板27(図11
参照)に形成した従来と同様の例えば十字状のTFT基
板側アライメントマーク25と、このTFT基板側アラ
イメントマーク25に対応する位置でマイクロレンズア
レイに形成したマイクロレンズ側アライメントマーク5
3とからなる。マイクロレンズ側アライメントマーク5
3は、上述のアライメントマーク31と同様に、例え
ば、図8に示した製法により製作することができる。
Next, a second embodiment of the alignment mark according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIGS. 4A and 4B are views of a microlens-side alignment mark according to the second embodiment of the present invention, wherein FIG. 4A is a plan view, FIG. FIG. 5 is an explanatory view showing how the alignment mark looks when the microlens array and the TFT substrate are bonded together, FIG. 6 is an enlarged view of a part j in FIG. 5, and FIG. 7 is an enlarged view of a part k in FIG. The alignment mark 51 according to this embodiment is provided on the TFT substrate 27 (FIG. 11).
) Formed on the microlens array at a position corresponding to the TFT substrate-side alignment mark 25 in the same manner as in the related art.
3 Microlens alignment mark 5
3 can be manufactured by, for example, the manufacturing method shown in FIG.

【0014】マイクロレンズアレイに形成したマイクロ
レンズ側アライメントマーク53は、レンズ形成材料に
より正四角形状の基部55を形成してある。基部55の
各辺には、TFT基板側アライメントマーク25の直線
状部29、29を対称に左右逆方向の傾斜辺57、59
で交わるV字状切欠部61を、レンズ形成材料を除いて
形成してある。また、基部55の中央部には、十字状の
TFT基板側アライメントマーク25によって等しい面
積に分割される例えば基部55に対して90°回転させ
た正四角形の抜き穴部63を、レンズ形成材料を除いて
形成してある。従って、このV字状切欠部61、抜き穴
部63には樹脂7が介在していないことから、進入した
光は屈折することなく透過する。
The microlens-side alignment mark 53 formed on the microlens array has a square base 55 formed of a lens forming material. On each side of the base portion 55, the linear portions 29, 29 of the TFT substrate side alignment mark 25 are symmetrically inclined in left and right opposite sides 57, 59.
The V-shaped notch 61 intersecting with the mark is formed except for the lens forming material. In the center of the base 55, a square-shaped punched hole 63 that is divided into equal areas by the cross-shaped TFT substrate-side alignment marks 25 and that is rotated by 90 ° with respect to the base 55, for example, is formed of a lens forming material. It is formed excluding. Therefore, since the resin 7 does not intervene in the V-shaped cutout portion 61 and the hole 63, the entered light is transmitted without being refracted.

【0015】このように構成したアライメントマーク5
1を用いてアライメントを行うには、図5に示すように
TFT基板側アライメントマーク25にマイクロレンズ
側アライメントマーク53を重ね、図6に示すようにマ
イクロレンズ側アライメントマーク53のV字状切欠部
61と、TFT基板側アライメントマーク25の直線状
部29との位置関係によって行う。即ち、直線状部29
と傾斜辺57、59との交点PA 、PB が水平となり、
また、直線状部29の任意の位置で直線状部29から左
右の傾斜辺57、59までの水平距離LA 、LB が等し
くなるようにアライメントする。
The alignment mark 5 constructed as described above
In order to perform alignment using the alignment mark 1, the microlens alignment mark 53 is superimposed on the TFT substrate alignment mark 25 as shown in FIG. 5, and the V-shaped notch of the microlens alignment mark 53 is formed as shown in FIG. This is performed based on the positional relationship between 61 and the linear portion 29 of the alignment mark 25 on the TFT substrate side. That is, the linear portion 29
And the intersections P A and P B of the sloping sides 57 and 59 become horizontal,
Further, alignment is performed so that the horizontal distances L A and L B from the linear portion 29 to the left and right inclined sides 57 and 59 are equal at an arbitrary position of the linear portion 29.

【0016】また、このアライメントマーク51は、マ
イクロレンズ側アライメントマーク53の抜き穴部63
とTFT基板側アライメントマーク25との位置関係に
よってもアライメントが可能となる。即ち、マイクロレ
ンズ側アライメントマーク53の中央に形成した抜き穴
部63に、TFT基板側アライメントマーク25を重
ね、TFT基板側アライメントマーク25によって仕切
られた、抜き穴部63に囲まれる四つの面積SA
B 、SC 、SD が等しくなるようにアライメントす
る。
The alignment mark 51 is formed by a hole 63 of the micro lens side alignment mark 53.
Alignment is also possible depending on the positional relationship between the alignment mark 25 and the TFT substrate side alignment mark 25. That is, the TFT substrate-side alignment mark 25 is superimposed on the hole 63 formed in the center of the microlens-side alignment mark 53, and the four areas S surrounded by the hole 63 are separated by the TFT substrate-side alignment mark 25. A ,
S B, S C, aligned as S D are equal.

【0017】このアライメントマーク51では、上述の
アライメントマーク31と同様、TFT基板側アライメ
ントマーク25が、基ガラス1とカバーガラス13のみ
からなるV字状切欠部61及び抜き穴部63に位置する
ことになり、従来のようにレンズ形成材料からなるマー
クと重なった際に生ずる光の屈折によるTFT基板側ア
ライメントマーク25の歪みやぼやけがなくなり、TF
T基板側アライメントマーク25のエッジ部が鮮明に視
認可能となる。また、直線状部29と傾斜辺57、59
との交点PA 、PB 、直線状部29から傾斜辺57、5
9までの距離L A 、LB 、抜き穴部63に囲まれる四つ
の面積SA 、SB 、SC 、SD 等、異なる形状で複数箇
所のアライメントが可能になる。
In this alignment mark 51,
Like the alignment mark 31, the alignment on the TFT substrate side
Mark 25 is only base glass 1 and cover glass 13
Are located in the V-shaped notch 61 and the hole 63 made of
This means that a lens made of a lens-forming material
Of the TFT substrate due to the refraction of light that occurs when
The distortion and blur of the alignment mark 25 are eliminated, and the TF
Edge of T substrate alignment mark 25 is clearly visible
Will be acceptable. In addition, the linear portion 29 and the inclined sides 57 and 59
Intersection P withA, PB, The inclined sides 57, 5
Distance L to 9 A, LB, Four surrounded by holes 63
Area SA, SB, SC, SDEtc.
Location can be aligned.

【0018】なお、上述の第一実施形態において、TF
T基板側アライメントマーク25は、十字形に限定され
るものでなく、相似形部39と相似していれば、任意の
形状であっても、上述と同様の効果を奏する。また、上
述の第二実施形態のアライメントマーク31は、一つの
マイクロレンズ側アライメントマーク53にV字状切欠
部61と抜き穴部63とを形成したが、本発明によるア
ライメントマークは、それぞれV字状切欠部61のみ、
或いは抜き穴部63のみを単独で形成するものであって
もよい。更に、上述の第二実施形態において、TFT基
板側アライメントマーク25が十字状である場合を例に
説明したが、TFT基板側アライメントマーク25は、
隣接する直線状部との成す角度が全て等しくなるように
交差させた二本以上の複数の直線状部からなるものであ
ってもよい。
In the first embodiment, the TF
The T-substrate-side alignment mark 25 is not limited to the cross shape, and the same effects as described above can be obtained even if the T-substrate-side alignment mark 25 has any shape as long as it is similar to the similar shape portion 39. In the alignment mark 31 of the second embodiment described above, the V-shaped notch 61 and the punched hole 63 are formed in one microlens-side alignment mark 53. Only the notch 61,
Alternatively, only the hole 63 may be formed alone. Further, in the above-described second embodiment, the case where the TFT substrate side alignment mark 25 has a cross shape has been described as an example.
It may be composed of two or more linear portions that intersect so that the angles formed by adjacent linear portions are all equal.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
るアライメントマークによれば、マイクロレンズ側アラ
イメントマークに、レンズ形成材料を除いた相似形部を
形成したので、アライメント時、TFT基板側アライメ
ントマークが、基ガラスとカバーガラスのみからなる相
似形部に位置し、光の屈折によるTFT基板側アライメ
ントマークの歪みやぼやけがなくなり、TFT基板側ア
ライメントマークが鮮明に視認可能となる。この結果、
レンズ部と同時に形成したマスクロレンズ側アライメン
トマークを用い、容易且つ高精度なアライメントが行え
るようになる。また、V字状切欠部を形成したアライメ
ントマークによれば、上述の効果と同様、TFT基板側
アライメントマークが鮮明に視認可能となるとともに、
TFT基板側アライメントマークの直線状部と、V字状
切欠部の傾斜辺との交点、及び直線状部から左右の傾斜
辺までの水平距離によりアライメントが行える。更に、
抜き穴部を形成したアライメントマークによれば、上述
の効果と同様、TFT基板側アライメントマークが鮮明
に視認可能となるとともに、TFT基板側アライメント
マークによって仕切られた、抜き穴部に囲まれる面積の
比によりアライメントが行える。
As described above in detail, according to the alignment mark according to the present invention, since the microlens-side alignment mark is formed with a similar shape excluding the lens forming material, the alignment mark on the TFT substrate is not required during alignment. The alignment mark is located at a similar shape portion composed of only the base glass and the cover glass, and distortion and blurring of the alignment mark on the TFT substrate side due to refraction of light are eliminated, so that the alignment mark on the TFT substrate side can be clearly recognized. As a result,
Using the alignment mark on the musculo-lens side formed at the same time as the lens portion, easy and highly accurate alignment can be performed. In addition, according to the alignment mark having the V-shaped notch, the TFT substrate-side alignment mark can be clearly recognized, as in the above-described effect.
Alignment can be performed based on the intersection between the linear portion of the TFT substrate side alignment mark and the inclined side of the V-shaped cutout, and the horizontal distance from the linear portion to the left and right inclined sides. Furthermore,
According to the alignment mark having the hole formed therein, similarly to the effect described above, the alignment mark on the TFT substrate side can be clearly recognized, and the area surrounded by the hole separated by the alignment mark on the TFT substrate side can be reduced. Alignment can be performed by the ratio.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一実施形態に係るアライメントマー
クを形成したマイクロレンズアレイの要部拡大図であ
る。
FIG. 1 is an enlarged view of a main part of a microlens array on which an alignment mark is formed according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第一実施形態に係るマイクロレンズ側
アライメントマークの図である。
FIG. 2 is a diagram of a microlens-side alignment mark according to the first embodiment of the present invention.

【図3】図1のマイクロレンズアレイとTFT基板を貼
り合わせたときのアライメントマークの見え方を示す説
明図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing how an alignment mark looks when the microlens array of FIG. 1 is bonded to a TFT substrate.

【図4】本発明の第二実施形態に係るマイクロレンズ側
アライメントマークの図である。
FIG. 4 is a diagram of a microlens-side alignment mark according to a second embodiment of the present invention.

【図5】マイクロレンズアレイとTFT基板を貼り合わ
せたときのアライメントマークの見え方を示す説明図で
ある。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing how alignment marks look when a microlens array and a TFT substrate are bonded together.

【図6】図5のj部拡大図である。FIG. 6 is an enlarged view of a part j in FIG. 5;

【図7】図5のk部拡大図である。FIG. 7 is an enlarged view of a portion k in FIG. 5;

【図8】マイクロレンズアレイの製造方法を示す説明図
である。
FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating a method for manufacturing a microlens array.

【図9】マイクロレンズアレイの他の製造方法を示す説
明図である。
FIG. 9 is an explanatory view showing another method of manufacturing the microlens array.

【図10】従来のマイクロレンズ側アライメントマーク
の図である。
FIG. 10 is a diagram of a conventional microlens alignment mark.

【図11】TFT基板側アライメントマークを形成した
TFT基板の平面図である。
FIG. 11 is a plan view of a TFT substrate on which a TFT substrate-side alignment mark is formed.

【図12】TFT基板側アライメントマークの拡大図で
ある。
FIG. 12 is an enlarged view of a TFT substrate side alignment mark.

【図13】マイクロレンズとTFT基板とを貼り合わせ
たときの両アライメントマークの見え方を示す説明図で
ある。
FIG. 13 is an explanatory diagram showing the appearance of both alignment marks when a microlens and a TFT substrate are bonded together.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基ガラス 7、17 樹脂(レンズ形成材料)
9 レンズ部 25 TFT基板側アライメントマーク 27 TF
T基板 29 直線状部 31、51 アライメントマーク 33 マイクロレンズアレイ 35、53 マイクロレンズ側アライメントマーク 39 相似形部 57、59 傾斜辺 61 V字
状切欠部 63 抜き穴部
1 base glass 7, 17 resin (lens forming material)
9 Lens part 25 TFT substrate side alignment mark 27 TF
T-substrate 29 Linear part 31, 51 Alignment mark 33 Micro lens array 35, 53 Micro lens side alignment mark 39 Similar part 57, 59 Inclined side 61 V-shaped notch 63 Drilled hole

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 TFT基板と、基ガラスに該基ガラスと
異なるレンズ形成材料でレンズ部を形成したマイクロレ
ンズアレイとをアライメントする液晶表示装置のアライ
メントマークであって、 前記TFT基板に形成した任意形状のTFT基板側アラ
イメントマークと、 該TFT基板側アライメントマークに対応する位置で前
記レンズ形成材料を用いて前記マイクロレンズアレイに
形成してあり且つ該TFT基板側アライメントマークよ
り大きい相似形部を前記レンズ形成材料を除いて形成し
てあるマイクロレンズ側アライメントマークとからなる
ことを特徴とする液晶表示装置のアライメントマーク。
1. An alignment mark of a liquid crystal display device for aligning a TFT substrate and a microlens array in which a lens portion is formed on a base glass with a lens forming material different from the base glass, the alignment mark being formed on the TFT substrate. A TFT substrate-side alignment mark having a shape, and a similar-shaped portion formed on the microlens array using the lens-forming material at a position corresponding to the TFT substrate-side alignment mark and larger than the TFT substrate-side alignment mark. An alignment mark for a liquid crystal display device, comprising: a microlens-side alignment mark formed excluding a lens-forming material.
【請求項2】 TFT基板と、基ガラスに該基ガラスと
異なるレンズ形成材料でレンズ部を形成したマイクロレ
ンズアレイとをアライメントする液晶表示装置のアライ
メントマークであって、 前記TFT基板に形成した少なくとも直線状部を有する
TFT基板側アライメントマークと、 該TFT基板側アライメントマークに対応する位置で前
記レンズ形成材料を用いて前記マイクロレンズアレイに
形成してあり且つ前記直線状部を対称に左右逆方向の傾
斜辺で交わるV字状切欠部を前記レンズ形成材料を除い
て形成してあるマイクロレンズ側アライメントマークと
からなることを特徴とする液晶表示装置のアライメント
マーク。
2. An alignment mark of a liquid crystal display device for aligning a TFT substrate and a microlens array in which a lens portion is formed on a base glass with a lens forming material different from the base glass, wherein the alignment mark is formed on the TFT substrate. A TFT substrate-side alignment mark having a linear portion, and formed in the microlens array using the lens-forming material at a position corresponding to the TFT substrate-side alignment mark, and the linear portion is symmetrically reversed in left and right directions. A V-shaped cutout portion intersecting the inclined side of the microlens-side alignment mark formed excluding the lens-forming material.
【請求項3】 TFT基板と、基ガラスに該基ガラスと
異なるレンズ形成材料でレンズ部を形成したマイクロレ
ンズアレイとをアライメントする液晶表示装置のアライ
メントマークであって、 一つの直線状部又は隣接する直線状部との成す角度が全
て等しくなるように交差させた複数の直線状部により前
記TFT基板に形成したTFT基板側アライメントマー
クと、 該TFT基板側アライメントマークに対応する位置で前
記レンズ形成材料を用いて前記マイクロレンズアレイに
形成してあり且つ前記TFT基板側アライメントマーク
によって等しい面積に分割される抜き穴部を前記レンズ
形成材料を除いて形成してあるマイクロレンズ側アライ
メントマークとからなることを特徴とする液晶表示装置
のアライメントマーク。
3. An alignment mark of a liquid crystal display device for aligning a TFT substrate and a microlens array in which a lens portion is formed on a base glass with a lens forming material different from the base glass, wherein the alignment mark is one linear portion or an adjacent portion. A TFT substrate-side alignment mark formed on the TFT substrate by a plurality of linear portions that intersect so that the angles formed by the linear portions are all equal; and forming the lens at a position corresponding to the TFT substrate-side alignment mark. The microlens array is made of a material, and the microlens-side alignment mark is formed by removing the lens-forming material and forming a hole portion divided into equal areas by the TFT substrate-side alignment mark. An alignment mark for a liquid crystal display device.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100394285B1 (en) * 1999-10-29 2003-08-09 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Electro-optic panel and manufacturing method therefor electro-optic device, and electronic apparatus
WO2004034747A1 (en) * 2002-10-08 2004-04-22 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Method of forming alignment mark on glass sheet and alignment mark formed by the method
JP2004219932A (en) * 2003-01-17 2004-08-05 Seiko Epson Corp Electro-optic device, method of manufacturing electro-optic device and electronic equipment
JP2007121688A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Epson Imaging Devices Corp Method for manufacturing liquid crystal display device
JP2010002925A (en) * 2009-09-28 2010-01-07 Sony Corp Micro lens array substrate and its manufacturing method, liquid crystal panel, liquid crystal projector, display, and illuminator
US7715104B2 (en) 2004-03-26 2010-05-11 Sony Corporation Micro-lens array substrate and production method therefor
JP2011059230A (en) * 2009-09-08 2011-03-24 Seiko Epson Corp Microlens array and method of manufacturing the same
KR101204628B1 (en) * 2010-06-22 2012-11-23 삼성전기주식회사 Wafer lens and manufacturing method for wafer lens
KR101293376B1 (en) * 2011-03-24 2013-08-05 (주)엘지하우시스 Artificial marble containing color pattern and the method thereof
CN113238400A (en) * 2021-03-29 2021-08-10 绵阳惠科光电科技有限公司 Alignment mark, display device, and method for determining alignment mark

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100394285B1 (en) * 1999-10-29 2003-08-09 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Electro-optic panel and manufacturing method therefor electro-optic device, and electronic apparatus
US6621542B1 (en) 1999-10-29 2003-09-16 Seiko Epson Corporation Electro-optic panel, device, and apparatus having a mark on a planarized layer on an irregular surface
WO2004034747A1 (en) * 2002-10-08 2004-04-22 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Method of forming alignment mark on glass sheet and alignment mark formed by the method
JP2004219932A (en) * 2003-01-17 2004-08-05 Seiko Epson Corp Electro-optic device, method of manufacturing electro-optic device and electronic equipment
US7715104B2 (en) 2004-03-26 2010-05-11 Sony Corporation Micro-lens array substrate and production method therefor
US7978413B2 (en) 2004-03-26 2011-07-12 Sony Corporation Micro-lens array substrate and method for manufacturing thereof
JP2007121688A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Epson Imaging Devices Corp Method for manufacturing liquid crystal display device
JP2011059230A (en) * 2009-09-08 2011-03-24 Seiko Epson Corp Microlens array and method of manufacturing the same
JP2010002925A (en) * 2009-09-28 2010-01-07 Sony Corp Micro lens array substrate and its manufacturing method, liquid crystal panel, liquid crystal projector, display, and illuminator
KR101204628B1 (en) * 2010-06-22 2012-11-23 삼성전기주식회사 Wafer lens and manufacturing method for wafer lens
KR101293376B1 (en) * 2011-03-24 2013-08-05 (주)엘지하우시스 Artificial marble containing color pattern and the method thereof
CN113238400A (en) * 2021-03-29 2021-08-10 绵阳惠科光电科技有限公司 Alignment mark, display device, and method for determining alignment mark

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