KR20130013392A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An LCD(Liquid Crystal Display) device and a manufacturing method thereof are provided to increase the whole height of a first alignment mark by forming the first alignment mark by combing a lower alignment mark and an upper alignment mark. CONSTITUTION: A liquid crystal layer is formed between a first substrate(100) and a second substrate. A color filter is formed on the first substrate. A first alignment mark(161) is formed adjacent to the color filter. The first alignment mark includes a lower alignment mark(161a) and an upper align mark(161b). The upper alignment mark is formed on the lower alignment mark.

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{Liquid crystal display device and Method for manufacturing the same}Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 액정표시장치를 구성하는 컬러 필터 기판에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a color filter substrate constituting the liquid crystal display device.

액정표시장치는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Liquid crystal display devices have a wide variety of applications ranging from notebook computers, monitors, spacecrafts and aircraft to the advantages of low power consumption and low power consumption and being portable.

액정표시장치는 상부 기판, 하부 기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되며, 전계 인가 유무에 따라 액정층의 배열 상태가 조절되고 그에 따라 광의 투과도가 조절되어 화상이 표시되는 장치이다. The liquid crystal display device includes an upper substrate, a lower substrate, and a liquid crystal layer formed between the two substrates, and the arrangement state of the liquid crystal layer is adjusted according to whether an electric field is applied, and accordingly, the light transmittance is adjusted so that an image is displayed. to be.

이하, 도면을 참조로 하여 종래의 액정표시장치에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a conventional liquid crystal display device will be described with reference to the drawings.

도 1a는 종래의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도로서, 도 1a에서 알 수 있듯이, 종래의 일 실시예에 따른 액정표시장치는, 상부 기판(10), 하부 기판(20) 및 상기 양 기판(10, 20) 사이에 형성된 액정층(30)을 포함하여 이루어진다. FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment. As shown in FIG. 1A, a liquid crystal display according to an exemplary embodiment may include an upper substrate 10, a lower substrate 20, and And a liquid crystal layer 30 formed between the substrates 10 and 20.

상기 상부 기판(10) 상에는 광 누설을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(Black matrix)(12)가 형성되어 있고, 상기 블랙 매트릭스(12) 사이에 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(14)가 형성되어 있다. A black matrix 12 is formed on the upper substrate 10 to prevent light leakage, and red (R), green (G), and blue (B) are formed between the black matrices 12. The color filter 14 of is formed.

도 1b는 종래의 일 실시예에 따른 상부 기판(10)의 개략적인 평면도로서, 상기 상부 기판(10) 상에는 블랙 매트릭스(12) 및 컬러 필터(14)가 형성되어 있고, 상기 블랙 매트릭스(12) 주변 영역에 얼라인 마크(align mark)(16)가 형성되어 있다. FIG. 1B is a schematic plan view of an upper substrate 10 according to a conventional embodiment. A black matrix 12 and a color filter 14 are formed on the upper substrate 10, and the black matrix 12 is formed on the upper substrate 10. Align marks 16 are formed in the peripheral area.

상기 얼라인 마크(16)는 상기 컬러 필터(14)의 패턴 형성시 또는 컬럼 스페이서(미도시)의 패턴 형성시 상기 상부 기판(10)과 패턴 형성을 위한 마스크 사이의 얼라인을 위해 형성하는 것이다. 즉, 상기 상부 기판(10)에 얼라인 마크(16)를 형성하고, 상기 패턴 형성을 위한 마스크에도 얼라인 마크를 형성한 후, 상기 각각의 얼라인 마크를 일치시키는 공정을 통해서 상기 상부 기판(10)과 패턴 형성을 위한 마스크를 얼라인하게 된다. The alignment mark 16 is formed for alignment between the upper substrate 10 and a mask for forming a pattern when the color filter 14 is patterned or when a column spacer (not shown) is formed. . That is, the alignment mark 16 is formed on the upper substrate 10, the alignment mark is also formed on the mask for forming the pattern, and then the upper substrate ( 10) and the mask for pattern formation will be aligned.

상기 얼라인 마크(16)는 상기 블랙 매트릭스(12)와 동시에 형성한다. 즉, 상기 얼라인 마크(16)는 상기 블랙 매트릭스(12)와 동일한 재료로 동일한 층에 형성한다. 따라서, 상기 상부 기판(10) 상에 얼라인 마크(16)와 블랙 매트릭스(12)를 동시에 형성하고, 그 후, 상기 얼라인 마크(16)를 이용하여 컬러 필터(14) 및 컬럼 스페이서를 원하는 위치에 정확하게 패턴 형성하게 된다. The alignment mark 16 is formed simultaneously with the black matrix 12. That is, the alignment mark 16 is formed on the same layer of the same material as the black matrix 12. Therefore, the alignment mark 16 and the black matrix 12 are simultaneously formed on the upper substrate 10, and then the color mark 14 and the column spacer are desired by using the alignment mark 16. The pattern is formed accurately at the position.

이와 같이, 블랙 매트릭스(12)와 동일한 재료로 이루어진 얼라인 마크(16)가 형성된 경우에는, 링 조명을 이용하여 상기 얼라인 마크(16)를 읽을 수 있다. 즉, 블랙 매트릭스(12) 재료는 광투과를 차단하는 특성이 있기 때문에, 상기 얼라인 마크(16) 형성 영역으로 경사지게 광을 입사시키면 상기 얼라인 마크(16) 영역에서는 광이 투과하지 못하여 그 영역에서 블랙으로 표시된 형상을 읽을 수 있게 된다. In this way, when the alignment mark 16 made of the same material as the black matrix 12 is formed, the alignment mark 16 can be read using ring illumination. That is, since the material of the black matrix 12 has a property of blocking light transmission, when light is incident to the alignment mark forming region inclinedly, the light does not transmit in the alignment mark 16 region. You will be able to read the shapes marked in black at.

그러나, 최근에는 상기 상부 기판(10)에 블랙 매트릭스(12)를 형성하지 않는 방식이 제안된 바 있고, 그 경우에는 상기와 같은 링 조명을 이용할 수 없게 되는데, 그에 대해서 설명하면 다음과 같다. Recently, however, a method of not forming the black matrix 12 on the upper substrate 10 has been proposed, and in this case, such ring illumination cannot be used, which will be described below.

도 2a는 종래의 다른 실시예에 따른 상부 기판(10)의 개략적인 평면도로서, 도 2a에서 알 수 있듯이, 상기 상부 기판(10) 상에는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(14a, 14b, 14c)가 형성되어 있고, 상기 컬러 필터(14a, 14b, 14c) 주변 영역에 얼라인 마크(align mark)(16)가 형성되어 있다. FIG. 2A is a schematic plan view of an upper substrate 10 according to another conventional embodiment, and as shown in FIG. 2A, red (R), green (G), and blue (B) on the upper substrate 10. Color filters 14a, 14b, and 14c are formed, and alignment marks 16 are formed in the area around the color filters 14a, 14b, and 14c.

상기 얼라인 마크(16)는 상기 컬러 필터(14a, 14b, 14c) 중 처음 형성하는 컬러 필터, 예로서, 적색(R)의 컬러 필터(14a)와 동시에 형성함으로써 상기 적색(R)의 컬러 필터(14a)와 동일한 재료로 동일한 층에 형성한다. The alignment mark 16 is the first color filter formed among the color filters 14a, 14b, and 14c, for example, the color filter of the red color R by being formed simultaneously with the color filter 14a of the red color R. It is formed in the same layer by the same material as 14a.

따라서, 상기 상부 기판(10) 상에 상기 얼라인 마크(16)와 적색(R)의 컬러 필터(14a)를 동시에 형성하고, 그 후, 상기 얼라인 마크(16)를 이용하여 녹색(G) 및 청색(B)의 컬러 필터(14b, 14c) 및 컬럼 스페이서(미도시)를 원하는 위치에 정확하게 패턴 형성하게 된다. Accordingly, the alignment mark 16 and the color filter 14a of red (R) are simultaneously formed on the upper substrate 10, and then green (G) is formed using the alignment mark 16. And color filters 14b and 14c and column spacers (not shown) of blue (B) are accurately patterned at desired positions.

이와 같이, 컬러 필터(14a, 14b, 14c)와 동일한 재료로 이루어진 얼라인 마크(16)가 형성된 경우에는, 링 조명을 이용하여 상기 얼라인 마크(16)를 읽을 수 없게 된다. 즉, 컬러 필터(14a, 14b, 14c) 재료는 광투과를 차단하지 못하기 때문에, 광투과가 차단된 영역을 통해서 그 형상을 인식하는 링 조명을 이용할 수 없게 된다. In this way, when the alignment mark 16 made of the same material as the color filters 14a, 14b, 14c is formed, the alignment mark 16 cannot be read using ring illumination. That is, since the material of the color filters 14a, 14b, 14c does not block light transmission, ring illumination for recognizing its shape through the area where light transmission is blocked cannot be used.

따라서, 컬러 필터(14a, 14b, 14c)와 동일한 재료로 이루어진 얼라인 마크(16)가 형성된 경우에는 링 조명 대신에 동축 조명을 이용하여 상기 얼라인 마크(16)를 읽게 된다. 상기 동축 조명은 상기 얼라인 마크(16)에 광을 수직으로 입사시킨 후 수직으로 반사되는 광과 그렇지 않은 광을 읽어 상기 얼라인 마크(16)의 형상을 인식하게 된다. Thus, when the alignment mark 16 made of the same material as the color filters 14a, 14b, 14c is formed, the alignment mark 16 is read using coaxial illumination instead of ring illumination. The coaxial illumination is configured to recognize the shape of the alignment mark 16 by reading light that is vertically reflected and then light that is not reflected vertically after the light is incident vertically on the alignment mark 16.

도 2b는 도 2a에서 얼라인 마크(16)가 형성된 영역의 개략적인 단면도로서, 도 2b에서 알 수 있듯이, 상기 상부 기판(10) 상에는 컬러 필터와 동일한 재료로 이루어진 얼라인 마크(16)가 형성되어 있고, 상기 얼라인 마크(16) 상에 오버 코트층(17)이 형성되어 있고, 상기 오버 코트층(17) 상에 컬럼 스페이서층(18)이 형성되어 있다. FIG. 2B is a schematic cross-sectional view of the region in which the alignment mark 16 is formed in FIG. 2A, and as shown in FIG. 2B, an alignment mark 16 formed of the same material as the color filter is formed on the upper substrate 10. The overcoat layer 17 is formed on the alignment mark 16, and the column spacer layer 18 is formed on the overcoat layer 17.

상기 컬럼 스페이서층(18)은 마스크를 이용한 패터닝 공정에 의해서 컬럼 스페이서 패턴으로 형성되며, 이와 같은 패터닝 공정시 상기 상부 기판(10) 상에 형성된 얼라인 마크(16)와 상기 마스크에 형성된 얼라인 마크를 일치시켜 마스크에 대한 얼라인 공정을 수행하게 된다. The column spacer layer 18 is formed in a column spacer pattern by a patterning process using a mask, and in this patterning process, the alignment mark 16 formed on the upper substrate 10 and the alignment mark formed on the mask. The alignment process is performed on the mask by matching the.

동축 조명을 이용하여 상기 얼라인 마크(16)의 형상을 인식하는 동작을 설명하면, 상기 얼라인 마크(16)에 광을 수직으로 입사시키면 상기 얼라인 마크(16)의 수평한 중앙부 영역에서는 광이 수직으로 반사되므로 그 반사되는 광을 읽을 수 있게 되지만, 상기 얼라인 마크(16)의 경사진 좌우 단부 영역에서는 광이 수직으로 반사되지 않게 되어 그 반사되는 광을 읽을 수 없게 된다. Referring to the operation of recognizing the shape of the alignment mark 16 using coaxial illumination, when light is incident vertically on the alignment mark 16, the light is generated in the horizontal central region of the alignment mark 16. Since the light is reflected vertically, the reflected light can be read. However, in the inclined left and right end regions of the alignment mark 16, the light is not reflected vertically, so that the reflected light cannot be read.

따라서, 수직으로 입사된 광이 수직으로 반사된 영역은 화이트로 표시되고, 수직으로 입사된 광이 수직으로 반사되지 않는 영역은 블랙으로 표시된다.Therefore, an area where vertically incident light is vertically reflected is displayed in white, and an area where vertically incident light is not reflected vertically is displayed in black.

도 2c는 도 2b에 도시한 얼라인 마크(16)를 동축 조명을 이용하여 인식한 형상을 도시한 것으로서, 도 2c에서 알 수 있듯이, 얼라인 마크(16)는 블랙으로 표시되는 영역과 상기 블랙으로 표시되는 영역 내부에 화이트로 표시되는 영역이 있는데, 상기 블랙으로 표시되는 영역은, 전술한 도 2b에서 수직으로 입사된 광이 수직으로 반사되지 않는 영역, 즉, 얼라인 마크(16)의 경사진 좌우 단부에 해당하는 영역이고, 상기 화이트로 표시되는 영역은, 전술한 도 2b에서 수직으로 입사된 광이 수직으로 반사된 영역, 즉, 얼라인 마크(16)의 수평한 중앙부에 해당하는 영역이다. FIG. 2C illustrates a shape in which the alignment mark 16 illustrated in FIG. 2B is recognized using coaxial illumination. As shown in FIG. 2C, the alignment mark 16 is displayed in black and the black region. There is an area displayed in white inside the area indicated by, wherein the area indicated by black is an area in which light vertically incident in FIG. 2B is not vertically reflected, that is, the diameter of the alignment mark 16. An area corresponding to the left and right ends of the picture, and the area indicated by white is an area in which light incident vertically in FIG. 2B is vertically reflected, that is, an area corresponding to a horizontal center portion of the alignment mark 16. to be.

그러나, 이와 같이 동축 조명을 이용하여 얼라인 마크(16)를 읽는 종래의 방식은 상기 블랙으로 표시되는 영역이 선명하게 인식되지 못하여 컬럼 스페이서 패턴 형성시 마스크의 얼라인을 용이하게 수행할 수 없게 되는 문제점이 있다. However, in the conventional method of reading the alignment mark 16 using the coaxial illumination, the area indicated by the black is not clearly recognized so that the alignment of the mask cannot be easily performed when forming the column spacer pattern. There is a problem.

즉, 도 2b에서 알 수 있듯이, 상기 얼라인 마크(16)의 경사진 좌우 단부 영역에서는 수직으로 입사된 광이 수직으로 반사되지 않아야 그 영역이 블랙으로 표시될 수 있는데, 상기 얼라인 마크(16) 위에 형성된 오버 코트층(17) 및 컬럼 스페이서층(18)에 의해서 상기 경사가 줄어들어 소정량의 광이 수직으로 반사됨으로써 상기 블랙으로 표시되는 영역이 선명하지 않게 되는 문제가 있다. That is, as can be seen in FIG. 2B, in the inclined left and right end regions of the alignment mark 16, the vertically incident light may not be reflected vertically so that the region may be displayed in black. Since the inclination is reduced by the overcoat layer 17 and the column spacer layer 18 formed on the upper surface, the predetermined amount of light is reflected vertically, so that the area indicated by the black becomes unclear.

전술한 바와 같이, 컬럼 스페이서 패턴 형성을 위해서는 상기 얼라인 마크(16)와 마스크에 형성된 얼라인 마크를 일치시켜 마스크에 대한 얼라인 공정을 수행하게 되는데, 상기 상부 기판(10) 상에 형성된 얼라인 마크(16)의 형상이 선명하지 못할 경우 상기 마스크에 대한 얼라인을 용이하게 수행하지 못하게 된다. As described above, in order to form the column spacer pattern, an alignment process of the mask is performed by matching the alignment mark formed on the alignment mark 16 with the mask, which is formed on the upper substrate 10. If the shape of the mark 16 is not clear, the alignment of the mask may not be easily performed.

본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 동축 조명을 이용하여 기판 상에 형성된 얼라인 마크를 인식할 때 상기 얼라인 마크를 선명하게 인식할 수 있도록 하여 얼라인 공정을 용이하게 수행할 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been devised to solve the above-mentioned conventional problems, and the present invention enables the alignment process to be clearly recognized when the alignment mark formed on the substrate is recognized using coaxial illumination. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same that can be easily performed.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 서로 대향하는 제1 기판 및 제2 기판; 상기 제1 기판 및 제2 기판 사이에 형성된 액정층; 상기 제1 기판 상에 형성되며, 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터를 포함하여 이루어진 컬러 필터; 및 상기 컬러 필터의 주변 영역에 형성된 제1 얼라인 마크를 포함하여 이루어지며, 상기 제1 얼라인 마크는 하부 얼라인 마크 및 상기 하부 얼라인 마크 상에 형성된 상부 얼라인 마크를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치를 제공한다. The present invention, in order to achieve the above object, a first substrate and a second substrate facing each other; A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate; A color filter formed on the first substrate and including a first color filter, a second color filter, and a third color filter; And a first alignment mark formed in a peripheral area of the color filter, wherein the first alignment mark includes a lower alignment mark and an upper alignment mark formed on the lower alignment mark. A liquid crystal display device is provided.

본 발명은 또한, 제1 기판 상에 제1 컬러 필터, 제1 얼라인 마크를 구성하는 하부 얼라인 마크, 및 제2 얼라인 마크를 형성하는 공정; 상기 제1 기판 상에 제2 컬러 필터 및 상기 하부 얼라인 마크 상에 상부 얼라인 마크를 형성하는 공정; 상기 제1 기판 상에 제3 컬러 필터를 형성하는 공정; 상기 제1 기판 전체 면에 오버 코트층을 형성하는 공정; 상기 오버 코트층 상에 컬럼 스페이서층을 형성하는 공정; 상기 컬럼 스페이서층을 패터닝하여 컬럼 스페이서 패턴을 형성하는 공정; 및 액정층을 사이에 두고 상기 제1 기판 및 제2 기판을 합착하는 공정을 포함하여 이루어진 액정표시장치의 제조방법을 제공한다. The present invention also provides a process for forming a first color filter, a lower alignment mark constituting a first alignment mark, and a second alignment mark on a first substrate; Forming an upper alignment mark on the second color filter and the lower alignment mark on the first substrate; Forming a third color filter on the first substrate; Forming an overcoat layer on the entire surface of the first substrate; Forming a column spacer layer on the overcoat layer; Patterning the column spacer layer to form a column spacer pattern; And bonding the first substrate and the second substrate with the liquid crystal layer interposed therebetween.

본 발명은 또한, 제1 기판 상에 제1 컬러 필터, 제1 얼라인 마크를 구성하는 하부 얼라인 마크, 및 제2 얼라인 마크를 형성하는 공정; 상기 제1 기판 상에 제2 컬러 필터를 형성하는 공정; 상기 제1 기판 상에 제3 컬러 필터 및 상기 하부 얼라인 마크 상에 상부 얼라인 마크를 형성하는 공정; 상기 제1 기판 전체 면에 오버 코트층을 형성하는 공정; 상기 오버 코트층 상에 컬럼 스페이서층을 형성하는 공정; 상기 컬럼 스페이서층을 패터닝하여 컬럼 스페이서 패턴을 형성하는 공정; 및 액정층을 사이에 두고 상기 제1 기판 및 제2 기판을 합착하는 공정을 포함하여 이루어진 액정표시장치의 제조방법을 제공한다. The present invention also provides a process for forming a first color filter, a lower alignment mark constituting a first alignment mark, and a second alignment mark on a first substrate; Forming a second color filter on the first substrate; Forming an upper alignment mark on the third color filter and the lower alignment mark on the first substrate; Forming an overcoat layer on the entire surface of the first substrate; Forming a column spacer layer on the overcoat layer; Patterning the column spacer layer to form a column spacer pattern; And bonding the first substrate and the second substrate with the liquid crystal layer interposed therebetween.

본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다. The present invention has the following effects.

본 발명에 따르면, 하부 얼라인 마크 및 상부 얼라인 마크의 조합으로 이루어진 제1 얼라인 마크를 이용하기 때문에, 제1 얼라인 마크의 전체 높이가 증가되고, 따라서, 상기 제1 얼라인 마크 위에 오버 코트층 및 컬럼 스페이서층이 형성되어 있다 하더라도 상기 제1 얼라인 마크의 경사진 단부 영역에서의 경사도가 크게 줄어들지 않게 된다. 결국, 동축 조명을 이용하여 상기 얼라인 마크를 인식할 때 상기 얼라인 마크가 선명하게 되는 효과가 있다. According to the present invention, since using the first alignment mark made up of a combination of the lower alignment mark and the upper alignment mark, the overall height of the first alignment mark is increased, and therefore, over the first alignment mark. Even if the coat layer and the column spacer layer are formed, the inclination at the inclined end region of the first alignment mark is not greatly reduced. As a result, when the alignment mark is recognized by using coaxial illumination, the alignment mark is made clear.

도 1a는 종래의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도이고, 도 1b는 종래의 일 실시예에 따른 상부 기판의 개략적인 평면도이다.
도 2a는 종래의 다른 실시예에 따른 상부 기판의 개략적인 평면도이고, 도 2b는 도 2a에서 얼라인 마크가 형성된 영역의 개략적인 단면도이고, 도 2c는 도 2b에 도시한 얼라인 마크를 동축 조명을 이용하여 인식한 형상을 도시한 것이다.
도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 제1 기판(100)의 개략적인 평면도이고, 도 3b는 도 3a의 I-I라인의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 동축 조명의 개념도이다.
도 5는 도 3b에 도시한 제1 얼라인 마크(161)를 동축 조명을 이용하여 인식한 형상을 도시한 것이다.
도 6a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 제1 기판(100)의 개략적인 평면도이고, 도 6b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도이다.
도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 공정을 도시한 개략적인 공정 단면도이다.
도 8a 내지 도 8g는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 공정을 도시한 개략적인 공정 단면도이다.1A is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment, and FIG. 1B is a schematic plan view of an upper substrate according to an exemplary embodiment.
FIG. 2A is a schematic plan view of an upper substrate according to another conventional embodiment, FIG. 2B is a schematic cross-sectional view of an area where an alignment mark is formed in FIG. 2A, and FIG. 2C is a coaxial illumination of the alignment mark shown in FIG. 2B. Figure shows the recognized shape using.
3A is a schematic plan view of a first substrate 100 for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the II line of FIG. 3A.
4 is a conceptual diagram of coaxial illumination according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 illustrates a shape in which the first alignment mark 161 illustrated in FIG. 3B is recognized using coaxial illumination.
6A is a schematic plan view of a first substrate 100 for a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.
7A to 7G are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
8A to 8G are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 제1 기판(100)의 개략적인 평면도이고, 도 3b는 도 3a의 I-I라인의 단면도이다.3A is a schematic plan view of a first substrate 100 for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the I-I line of FIG. 3A.

도 3a에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 제1 기판(100) 상에는 제1 컬러 필터(140a), 제2 컬러 필터(140b), 및 제3 컬러 필터(140c)가 형성되어 있다. As shown in FIG. 3A, the first color filter 140a, the second color filter 140b, and the third color filter 140c are disposed on the first substrate 100 for the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention. Is formed.

상기 제1 컬러 필터(140a)는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 중 어느 하나의 컬러 필터로 이루어지고, 상기 제2 컬러 필터(140b)는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 중 다른 하나의 컬러 필터로 이루어지고, 상기 제3 컬러 필터(140c)는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 중 나머지 하나의 컬러 필터로 이루어질 수 있다. The first color filter 140a is formed of any one of red (R), green (G), and blue (B), and the second color filter 140b is red (R), green ( G) and the other one of the blue (B) color filters, and the third color filter 140c includes the other one of the red (R), green (G), and blue (B) color filters. Can be.

상기 제1 컬러 필터(140a), 제2 컬러 필터(140b), 및 제3 컬러 필터(140c)는 도시된 바와 같이 서로 접하도록 형성될 수도 있지만, 측면에서 서로 오버랩되도록 형성될 수도 있고, 경우에 따라서 서로 이격되도록 형성될 수도 있다. The first color filter 140a, the second color filter 140b, and the third color filter 140c may be formed to be in contact with each other as shown, but may be formed to overlap each other at the side, Therefore, they may be formed to be spaced apart from each other.

상기 제1 컬러 필터(140a), 제2 컬러 필터(140b), 및 제3 컬러 필터(140c)의 형성 위치는 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. 또한, 상기 제1 컬러 필터(140a), 제2 컬러 필터(140b), 및 제3 컬러 필터(140c) 이외에 제4 컬러 필터가 추가로 형성될 수도 있다. The position at which the first color filter 140a, the second color filter 140b, and the third color filter 140c are formed may be changed in various forms known in the art. In addition, a fourth color filter may be additionally formed in addition to the first color filter 140a, the second color filter 140b, and the third color filter 140c.

상기 제1 컬러 필터(140a), 제2 컬러 필터(140b), 및 제3 컬러 필터(140c)가 형성된 영역은 화상을 디스플레이하는 액티브(active) 영역에 해당한다. 이와 같은 액티브 영역의 주변 영역에는 제1 얼라인 마크(161)가 형성되어 있다. An area in which the first color filter 140a, the second color filter 140b, and the third color filter 140c are formed corresponds to an active area displaying an image. The first alignment mark 161 is formed in the peripheral area of the active area.

상기 제1 얼라인 마크(161)는 도시된 바와 같이 ＋자 형상으로 이루어질 수도 있지만, ×자 형상으로 이루어질 수도 있고, 그 외에 다양한 형태로 이루어질 수 있다. 상기 제1 얼라인 마크(161)의 구체적인 구성에 대해서는 그 단면을 도시한 도 3b를 참조하여 보다 상세히 설명하기로 한다. The first alignment mark 161 may be formed in a + -shape as shown, but may be formed in a X-shape, or may be formed in various other forms. A detailed configuration of the first alignment mark 161 will be described in more detail with reference to FIG. 3B showing a cross section thereof.

도 3b에서 알 수 있듯이, 제1 기판(100) 상에는 제1 얼라인 마크(161)가 형성되어 있고, 상기 제1 얼라인 마크(161) 상에 오버 코트층(170)이 형성되어 있고, 상기 오버 코트층(170) 상에 컬럼 스페이서층(180)이 형성된다. As shown in FIG. 3B, a first alignment mark 161 is formed on the first substrate 100, an overcoat layer 170 is formed on the first alignment mark 161. The column spacer layer 180 is formed on the overcoat layer 170.

상기 제1 얼라인 마크(161)는 하부 얼라인 마크(161a) 및 상부 얼라인 마크(161b)를 포함하여 이루어진다. The first alignment mark 161 includes a lower alignment mark 161a and an upper alignment mark 161b.

상기 하부 얼라인 마크(161a)는 전술한 제1 컬러 필터(140a)와 동시에 형성된다. 즉, 상기 하부 얼라인 마크(161a)는 상기 제1 컬러 필터(140a)와 동일한 재료로 형성된다. 여기서, 상기 제1 컬러 필터(140a)는 제조 공정상으로 상기 제2 컬러 필터(140b) 및 제3 컬러 필터(140c)보다 먼저 형성된 것이다.The lower alignment mark 161a is formed at the same time as the first color filter 140a described above. That is, the lower alignment mark 161a is formed of the same material as the first color filter 140a. Here, the first color filter 140a is formed earlier than the second color filter 140b and the third color filter 140c in a manufacturing process.

상기 상부 얼라인 마크(161b)는 상기 하부 얼라인 마크(161a) 상에 형성되는 것으로서, 전술한 제2 컬러 필터(140b) 또는 제3 컬러 필터(140c)와 동시에 형성된다. 즉, 상기 상부 얼라인 마크(161b)는 상기 제2 컬러 필터(140b) 또는 제3 컬러 필터(140c)와 동일한 재료로 형성된다. 여기서, 상기 제2 컬러 필터(140b)는 제조 공정상으로 상기 제3 컬러 필터(140b)보다 먼저 형성된 것이다. The upper alignment mark 161b is formed on the lower alignment mark 161a and is formed simultaneously with the above-described second color filter 140b or third color filter 140c. That is, the upper alignment mark 161b is formed of the same material as the second color filter 140b or the third color filter 140c. Here, the second color filter 140b is formed before the third color filter 140b in the manufacturing process.

상기 하부 얼라인 마크(161a)와 상기 상부 얼라인 마크(161b)의 폭은 동일한 것이 바람직하지만, 공정상 어느 정도의 오차 범위를 가질 수 있다. Although the widths of the lower alignment mark 161a and the upper alignment mark 161b are preferably the same, they may have a certain error range in the process.

상기 오버 코트층(170)은 상기 제1 얼라인 마크(161) 상에 형성된다. The overcoat layer 170 is formed on the first alignment mark 161.

상기 컬럼 스페이서층(180)은 마스크를 이용한 패터닝 공정에 의해서 최종적으로는 컬럼 스페이서 패턴으로 형성되며, 이와 같은 패터닝 공정시 상기 제1 기판(100) 상에 형성된 제1 얼라인 마크(161)와 상기 마스크에 형성된 얼라인 마크를 일치시켜 마스크에 대한 얼라인 공정을 수행하게 된다. The column spacer layer 180 is finally formed in a column spacer pattern by a patterning process using a mask, and the first alignment mark 161 and the first alignment mark 161 formed on the first substrate 100 during the patterning process. The alignment mark formed on the mask is matched to perform an alignment process on the mask.

이와 같은 본 발명에 따른 제1 얼라인 마크(161)의 형상은 동축 조명을 이용하여 인식할 수 있다. The shape of the first alignment mark 161 according to the present invention can be recognized using coaxial illumination.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 동축 조명(200)의 개념도이다. 4 is a conceptual diagram of a coaxial light 200 according to an embodiment of the present invention.

도 4에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 동축 조명(200)은 광원(210), 반사경(220), 렌즈(230), 및 카메라(240)를 포함하여 이루어진다. As can be seen in Figure 4, the coaxial illumination 200 according to an embodiment of the present invention comprises a light source 210, a reflector 220, a lens 230, and a camera 240.

상기 광원(210)에서 방출된 광은 상기 반사경(220)에서 반사된 후 상기 렌즈(230)를 통과하여 대상물(W)을 향하여 수직으로 입사하게 된다.The light emitted from the light source 210 is reflected by the reflector 220 and then passes through the lens 230 to enter the object W vertically.

이때, 상기 대상물(W)의 표면 상태에 따라서, 상기 입사된 광이 상기 대상물(W)에서 반사된 후 상기 렌즈(230)를 통과하여 상기 카메라(240)에서 인식될 수도 있고, 상기 입사된 광이 상기 대상물(W)에서 반사되지 않거나 또는 반사된다 하더라도 상기 카메라(240) 주변으로 반사되어 상기 카메라(240)에서 인식하지 못하게 될 수도 있다. In this case, the incident light may be recognized by the camera 240 after passing through the lens 230 after the incident light is reflected from the object W, depending on the surface state of the object W. Even if it is not reflected or reflected by the object W, it may be reflected around the camera 240 and may not be recognized by the camera 240.

이와 같이, 상기 대상물(W)을 향하여 수직으로 입사된 광이 상기 카메라(240)에서 인식될 경우에는 화이트로 표시되고, 상기 대상물(W)을 향하여 수직으로 입사된 광이 상기 카메라(240)에서 인식되지 못할 경우에는 블랙으로 표시되어, 결국, 화이트와 블랙의 조합에 의해서 상기 대상물(W)의 형상을 인식하게 된다. As such, when light incident vertically toward the object W is recognized by the camera 240, the light is displayed as white, and light incident vertically toward the object W is emitted by the camera 240. If it is not recognized, it is displayed in black, and finally, the shape of the object W is recognized by a combination of white and black.

이와 같은 동축 조명(200)을 이용하여 도 3b에 도시한 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 얼라인 마크(161)의 형상을 인식하는 과정을 설명하면 아래와 같다. Referring to the process of recognizing the shape of the first alignment mark 161 according to an embodiment of the present invention shown in Figure 3b using such a coaxial illumination 200 as follows.

도 3b에 따른 구조에서, 전술한 동축 조명을 이용하여 상기 제1 얼라인 마크(161) 위에 수직으로 광을 입사시키면, 상기 제1 얼라인 마크(161)의 수평한 중앙부 영역에서는 광이 수직으로 반사되므로 그 반사되는 광을 읽을 수 있게 되지만, 상기 제1 얼라인 마크(161)의 경사진 좌우 단부 영역에서는 광이 수직으로 반사되지 않게 되어 그 반사되는 광을 읽을 수 없게 된다. In the structure according to FIG. 3B, when light is incident vertically on the first alignment mark 161 using the above-described coaxial illumination, the light is vertically in the horizontal center region of the first alignment mark 161. Since the reflected light can be read, the light is not reflected vertically in the inclined left and right end regions of the first alignment mark 161, so that the reflected light cannot be read.

따라서, 수직으로 입사된 광이 수직으로 반사된 영역은 화이트로 표시되고, 수직으로 입사된 광이 수직으로 반사되지 않는 영역은 블랙으로 표시된다.Therefore, an area where vertically incident light is vertically reflected is displayed in white, and an area where vertically incident light is not reflected vertically is displayed in black.

도 5는 도 3b에 도시한 제1 얼라인 마크(161)를 동축 조명을 이용하여 인식한 형상을 도시한 것으로서, 도 5에서 알 수 있듯이, 동축 조명을 이용하여 인식한 형상은 블랙으로 표시되는 영역과 상기 블랙으로 표시되는 영역 내부에 화이트로 표시되는 영역이 있는데, 상기 블랙으로 표시되는 영역은, 전술한 도 3b에서 수직으로 입사된 광이 수직으로 반사되지 않는 영역, 즉, 제1 얼라인 마크(161)의 경사진 좌우 단부에 해당하는 영역이고, 상기 화이트로 표시되는 영역은, 전술한 도 3b에서 수직으로 입사된 광이 수직으로 반사된 영역, 즉, 제1 얼라인 마크(161)의 수평한 중앙부에 해당하는 영역이다. FIG. 5 illustrates a shape in which the first alignment mark 161 illustrated in FIG. 3B is recognized using coaxial illumination. As shown in FIG. 5, the shape recognized using coaxial illumination is displayed in black. There is an area displayed in white inside an area displayed in black and the area represented by black. The area displayed in black is an area in which light incident vertically in FIG. 3B is not vertically reflected, that is, a first alignment. An area corresponding to the inclined left and right ends of the mark 161, and the area indicated by white is an area where the light incident vertically in FIG. 3B is vertically reflected, that is, the first alignment mark 161. This is the area that corresponds to the horizontal center of.

여기서, 상기 제1 얼라인 마크(161)는 하부 얼라인 마크(161a) 및 상부 얼라인 마크(161b)의 조합으로 이루어지기 때문에 상기 제1 얼라인 마크(161)의 전체 높이가 증가되고, 따라서, 상기 제1 얼라인 마크(161) 위에 비록 오버 코트층(170) 및 컬럼 스페이서층(180)이 형성되어 있다 하더라도 상기 제1 얼라인 마크(161)의 경사진 단부 영역에서의 경사도가 크게 줄어들지 않게 된다. 결국, 상기 경사진 영역에서 수직으로 반사되는 광이 줄어들어 상기 블랙으로 표시되는 영역이 선명하게 된다. Here, since the first alignment mark 161 is made of a combination of the lower alignment mark 161a and the upper alignment mark 161b, the overall height of the first alignment mark 161 is increased, and thus Although the overcoat layer 170 and the column spacer layer 180 are formed on the first alignment mark 161, the inclination of the inclined end region of the first alignment mark 161 may be greatly reduced. Will not. As a result, light vertically reflected from the inclined region is reduced, so that the region displayed in black becomes clear.

도 6a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 제1 기판(100)의 개략적인 평면도이고, 도 6b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도로서, 도 6a의 I-I라인의 단면에 해당하는 것이다. 도 6a 및 도 6b는 컬럼 스페이서 패턴(180a, 180b)이 완성된 상태를 도시한 것이다. 6A is a schematic plan view of a first substrate 100 for a liquid crystal display according to another exemplary embodiment. FIG. 6B is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention. It corresponds to the cross section of the II line. 6A and 6B illustrate a state in which column spacer patterns 180a and 180b are completed.

도 6a에서 알 수 있듯이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 제1 기판(100) 상에는 제1 컬러 필터(140a), 제2 컬러 필터(140b), 및 제3 컬러 필터(140c)가 형성되어 있다. As shown in FIG. 6A, a first color filter 140a, a second color filter 140b, and a third color filter 140c are disposed on a first substrate 100 for a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention. Is formed.

상기 제1 컬러 필터(140a), 상기 제2 컬러 필터(140b), 및 상기 제3 컬러 필터(140c)의 구체적인 구성은 전술한 바와 동일하므로 반복 설명은 생략하기로 한다. 상기 제1 컬러 필터(140a), 제2 컬러 필터(140b), 및 제3 컬러 필터(140c)가 형성된 영역은 화상을 디스플레이하는 액티브(active) 영역에 해당한다. Since specific configurations of the first color filter 140a, the second color filter 140b, and the third color filter 140c are the same as described above, repeated descriptions thereof will be omitted. An area in which the first color filter 140a, the second color filter 140b, and the third color filter 140c are formed corresponds to an active area displaying an image.

상기 제1 컬러 필터(140a), 상기 제2 컬러 필터(140b), 및 상기 제3 컬러 필터(140c)가 형성된 액티브 영역 주변의 더미 영역에는 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a)이 형성되어 있고, 상기 액티브 영역 내에는 제2 컬럼 스페이서 패턴(180b)이 형성되어 있다. A first column spacer pattern 180a is formed in a dummy region around the active region in which the first color filter 140a, the second color filter 140b, and the third color filter 140c are formed. The second column spacer pattern 180b is formed in the active region.

상기 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a)은 액정표시장치의 셀갭을 유지하기 위한 스페이서(spacer)로 기능하는 것이 아니라 종래의 블랙 매트릭스와 같이 광이 누설되는 것을 차단하는 기능을 하는 것이다. 따라서, 상기 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a)은 광이 투과하지 못하는 재료로 이루어져 있다. The first column spacer pattern 180a does not function as a spacer for maintaining a cell gap of the liquid crystal display, but serves to block light leakage as in a conventional black matrix. Therefore, the first column spacer pattern 180a is made of a material that does not transmit light.

상기 제2 컬럼 스페이서 패턴(180b)은 액정표시장치의 셀갭을 유지하기 위한 스페이서(spacer)로 기능하는 것이다. The second column spacer pattern 180b serves as a spacer for maintaining a cell gap of the liquid crystal display.

상기 컬럼 스페이서 패턴(180a, 180b), 특히, 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a)의 주변 영역에는 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)가 형성되어 있다. First and second alignment marks 161 and 162 may be formed in the peripheral area of the column spacer patterns 180a and 180b, particularly, the first column spacer pattern 180a.

상기 제1 얼라인 마크(161) 및 상기 제2 얼라인 마크(162)는 서로 소정 거리를 두고 이격 형성되어 있다. 이와 같은 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)의 구체적인 구성에 대해서는 후술하기로 한다. The first alignment mark 161 and the second alignment mark 162 are spaced apart from each other by a predetermined distance. Detailed configurations of the first alignment mark 161 and the second alignment mark 162 will be described later.

상기 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)는 도시된 바와 같이 상기 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a)의 주변 영역에 형성되어 있는데, 이와 같은 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)는 최종적으로는 스크라이빙에 의해 제거됨으로써 최종 제품에는 포함되지 않을 수 있다. 즉, 상기 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)는 스크라이빙 라인의 외곽부에 형성됨으로써, 스크라이빙 공정에 의해 제거될 수 있다. The first align mark 161 and the second align mark 162 are formed in the peripheral area of the first column spacer pattern 180a as shown in the drawing. And the second alignment mark 162 may not be included in the final product by being finally removed by scribing. That is, the first align mark 161 and the second align mark 162 may be formed at an outer portion of the scribing line, and thus may be removed by a scribing process.

다만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 경우에 따라서, 상기 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)가 최종 제품에 포함될 수도 있다. 이 경우에, 상기 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)가 상기 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a)의 주변 영역에 형성되지 않고, 상기 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a) 영역에 형성될 수 있다. However, the present invention is not necessarily limited thereto, and in some cases, the first alignment mark 161 and the second alignment mark 162 may be included in the final product. In this case, the first align mark 161 and the second align mark 162 are not formed in the peripheral area of the first column spacer pattern 180a and the area of the first column spacer pattern 180a. Can be formed on.

상기 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)는 도시된 바와 같이 상기 제1 기판(100)의 상측 및 하측 중앙에 형성될 수도 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 상기 제1 기판(100)의 모서리에 형성될 수도 있다. 얼라인 공정의 정확성을 위해서 상기 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)는 각각 2개 이상 형성되는 것이 바람직하다. The first align mark 161 and the second align mark 162 may be formed in the upper and lower centers of the first substrate 100 as shown, but are not necessarily limited thereto. 1 may be formed at the edge of the substrate 100. At least two first and second alignment marks 161 and 162 may be formed in order to correct the alignment process.

또한, 상기 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162) 사이의 배치 모습도 다양하게 변경될 수 있다. In addition, arrangement of the first alignment mark 161 and the second alignment mark 162 may also be variously changed.

도 6b에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 제1 기판(100), 제2 기판(300), 및 상기 양 기판(100, 300) 사이에 형성된 액정층(400)을 포함하여 이루어진다. As shown in FIG. 6B, the liquid crystal display according to the present invention includes a first substrate 100, a second substrate 300, and a liquid crystal layer 400 formed between the substrates 100 and 300. .

상기 제1 기판(100) 상에는 제1 컬러 필터(140a), 제2 컬러 필터(140b), 및 제3 컬러 필터(140c)가 형성되어 있다. 또한, 상기 제1 내지 제3 컬러 필터(140a, 140b, 140c)의 주변 영역에는 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)가 형성되어 있다. The first color filter 140a, the second color filter 140b, and the third color filter 140c are formed on the first substrate 100. In addition, a first alignment mark 161 and a second alignment mark 162 are formed in the peripheral area of the first to third color filters 140a, 140b, and 140c.

상기 제1 얼라인 마크(161)는 전술한 바와 같이 하부 얼라인 마크(161a) 및 상부 얼라인 마크(161b)의 조합과 같은 다층의 구조로 이루어지는 반면에, 상기 제2 얼라인 마크(162)는 다층의 구조로 이루어지지 않고 단층의 구조로 이루어진다. As described above, the first alignment mark 161 has a multilayer structure such as a combination of the lower alignment mark 161a and the upper alignment mark 161b, while the second alignment mark 162 is used. Does not have a multi-layered structure, but a single-layered structure.

보다 구체적으로 설명하면, 상기 제1 얼라인 마크(161)는 상기 컬럼 스페이서 패턴(180a, 180b)을 형성할 때 이용되는 것으로서, 전술한 바와 같이 동축 조명을 이용하여 얼라인 공정을 수행할 때 선명한 형상을 얻어야 하므로 다층의 구조로 이루어진다. In more detail, the first alignment mark 161 is used to form the column spacer patterns 180a and 180b. As described above, the first alignment mark 161 is sharp when the alignment process is performed using coaxial illumination. Since the shape must be obtained, it is made of a multilayer structure.

그에 반하여, 상기 제2 얼라인 마크(162)는 상기 컬럼 스페이서 패턴(180a, 180b)을 형성할 때 이용되는 것이 아니라 상기 제2 컬러 필터(140b) 또는 제3 컬러 필터(140c)를 형성할 때 이용되는 것으로서, 비록 단층의 구조로 이루어져도 얼라인 공정을 수행할 때 선명한 형상을 얻을 수 있다. In contrast, the second alignment mark 162 is not used when forming the column spacer patterns 180a and 180b, but when forming the second color filter 140b or the third color filter 140c. As used, a clear shape can be obtained when the alignment process is performed even though the structure is a single layer.

즉, 전술한 도 3b에서 알 수 있듯이, 컬럼 스페이서 패턴(180a, 180b)을 형성할 때에는 오버 코트층(170) 및 컬럼 스페이서층(180)에 의해서 얼라인 마크의 좌우 단부 영역에서 경사도가 줄어들어 얼라인 마크가 선명하지 못하게 될 수 있지만, 제2 컬러 필터(140b) 또는 제3 컬러 필터(140c)를 형성할 때에는 아직 오버 코트층(170) 및 컬럼 스페이서층(180)이 형성되지 않은 상태이므로 그들에 의해 경사도가 줄어드는 문제가 생기지 않게 되며, 따라서, 상기 제2 얼라인 마크(162)가 단층의 구조로 이루어져 있어도 선명한 형상을 얻을 수 있다. That is, as shown in FIG. 3B, when the column spacer patterns 180a and 180b are formed, the inclination is reduced in the left and right end regions of the alignment mark by the overcoat layer 170 and the column spacer layer 180. Although the in mark may become unclear, the overcoat layer 170 and the column spacer layer 180 are not yet formed when the second color filter 140b or the third color filter 140c is formed. By this, the problem of decreasing the inclination does not occur. Therefore, even if the second alignment mark 162 has a single layer structure, a clear shape can be obtained.

전술한 바와 같이, 상기 제1 얼라인 마크(161)를 구성하는 하부 얼라인 마크(161a)는 상기 제1 컬러 필터(140a)와 동시에 형성되어 상기 제1 컬러 필터(140a)와 동일한 재료로 형성되며, 상기 제1 얼라인 마크(161)를 구성하는 상부 얼라인 마크(161b)는 상기 제2 컬러 필터(140b) 또는 제3 컬러 필터(140c)와 동시에 형성되어 상기 제2 컬러 필터(140b) 또는 제3 컬러 필터(140c)와 동일한 재료로 형성된다. As described above, the lower alignment mark 161a constituting the first alignment mark 161 is formed simultaneously with the first color filter 140a and is formed of the same material as the first color filter 140a. The upper alignment mark 161b constituting the first alignment mark 161 is formed simultaneously with the second color filter 140b or the third color filter 140c to form the second color filter 140b. Or the same material as the third color filter 140c.

또한, 상기 제2 얼라인 마크(162)는 상기 제1 컬러 필터(140a)와 동시에 형성되어 상기 제1 컬러 필터(140a)와 동일한 재료로 형성된다. In addition, the second alignment mark 162 is formed at the same time as the first color filter 140a and is formed of the same material as the first color filter 140a.

이와 같은, 상기 제1 얼라인 마크(161) 및 제2 얼라인 마크(162)의 기능에 대해서는 후술하는 제조 공정을 참조하면 보다 용이하게 이해할 수 있을 것이다. Such a function of the first alignment mark 161 and the second alignment mark 162 may be more easily understood with reference to the manufacturing process described later.

상기 제1 내지 제3 컬러 필터(140a, 140b, 140c) 및 제1 내지 제2 얼라인 마크(161, 162) 상에는 오버 코트층(170)이 형성되어 있고, 상기 오버 코트층(170) 상에는 제1 및 제2 컬럼 스페이서 패턴(180a, 180b)이 형성되어 있다. An overcoat layer 170 is formed on the first to third color filters 140a, 140b and 140c and the first to second alignment marks 161 and 162, and on the overcoat layer 170. First and second column spacer patterns 180a and 180b are formed.

상기 컬럼 스페이서 패턴(180a, 180b)은 상기 제1 내지 제3 컬러 필터(140a, 140b, 140c) 영역 주변 영역에 형성되는 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a) 및 상기 제1 내지 제3 컬러 필터(140a, 140b, 140c) 영역 내에 형성되는 제2 컬럼 스페이서 패턴(180b)으로 이루어진다. The column spacer patterns 180a and 180b may include the first column spacer pattern 180a and the first to third color filters 140a formed around a region around the first to third color filters 140a, 140b and 140c. And second column spacer patterns 180b formed in regions 140b and 140c.

또한, 상기 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a)의 주변 영역에 상기 제1 및 제2 얼라인 마크(161, 162)가 형성되며, 이와 같은 제1 및 제2 얼라인 마크(161, 162)는 스크라이빙 공정에 의해 제거될 수 있다. In addition, the first and second alignment marks 161 and 162 may be formed in the peripheral area of the first column spacer pattern 180a, and the first and second alignment marks 161 and 162 may be replaced by It can be removed by the crushing process.

상기 제2 기판(300) 상에는 도시하지는 않았지만, 서로 교차 배열되어 화소 영역을 정의하는 게이트 라인과 데이터 라인, 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 영역에 형성되어 스위칭 소자로서 기능하는 박막 트랜지스터, 상기 화소 영역에 형성되는 화소 전극, 및 상기 화소 전극과 함께 상기 액정층(400)을 구동하는 공통 전극을 포함하여 이루어진다. Although not shown on the second substrate 300, a thin film transistor which functions as a switching element by forming a gate line and a data line intersecting each other to define a pixel region, and an area where the gate line and the data line intersect, the pixel And a common electrode driving the liquid crystal layer 400 together with the pixel electrode formed in an area.

상기 제2 기판(300)을 구성하는 각각의 구성은 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경형성될 수 있다. Each of the components constituting the second substrate 300 may be modified in various forms known in the art.

도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 공정을 도시한 개략적인 공정 단면도이다. 7A to 7G are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

우선, 도 7a에서 알 수 있듯이, 제1 기판(100) 상에 제1 컬러 필터(140a), 제1 얼라인 마크를 구성하는 하부 얼라인 마크(161a), 및 제2 얼라인 마크(162)를 형성한다. First, as shown in FIG. 7A, the first color filter 140a, the lower alignment mark 161a constituting the first alignment mark, and the second alignment mark 162 are formed on the first substrate 100. To form.

상기 하부 얼라인 마크(161a) 및 제2 얼라인 마크(162)는 상기 제1 컬러 필터(140a)와 동일한 재료로 이루어진다. The lower alignment mark 161a and the second alignment mark 162 are made of the same material as the first color filter 140a.

다음, 도 7b에서 알 수 있듯이, 상기 제1 기판(100) 상에 제2 컬러 필터(140b) 및 제1 얼라인 마크를 구성하는 상부 얼라인 마크(161b)를 형성한다. Next, as shown in FIG. 7B, an upper alignment mark 161b constituting the second color filter 140b and the first alignment mark is formed on the first substrate 100.

상기 상부 얼라인 마크(161b)는 상기 하부 얼라인 마크(161a) 상에 형성하며, 따라서, 상기 하부 얼라인 마크(161a)와 상부 얼라인 마크(161b)로 이루어진 제1 얼라인 마크(161)가 완성된다. The upper alignment mark 161b is formed on the lower alignment mark 161a, and thus, the first alignment mark 161 including the lower alignment mark 161a and the upper alignment mark 161b. Is completed.

상기 상부 얼라인 마크(161b)는 상기 제2 컬러 필터(140b)와 동일한 재료로 이루어진다. The upper alignment mark 161b is made of the same material as the second color filter 140b.

여기서, 상기 제2 컬러 필터(140b) 및 제1 얼라인 마크를 구성하는 상부 얼라인 마크(161b)를 형성하는 공정은 상기 제2 얼라인 마크(162)를 이용하여 얼라인 공정을 수행한 후 진행할 수 있으며, 이와 같은 얼라인 공정은 동축 조명을 이용하여 수행할 수 있다. Here, the process of forming the second color filter 140b and the upper alignment mark 161b constituting the first alignment mark is performed after the alignment process using the second alignment mark 162. The alignment process may be performed by using coaxial illumination.

다음, 도 7c에서 알 수 있듯이, 상기 제1 기판(100) 상에 제3 컬러 필터(140c)를 형성한다. Next, as shown in FIG. 7C, a third color filter 140c is formed on the first substrate 100.

상기 제3 컬러 필터(140c)를 형성하는 공정은 상기 제1 얼라인 마크(161)를 이용하여 얼라인 공정을 수행한 후 진행할 수도 있고, 상기 제2 얼라인 마크(162)를 이용하여 얼라인 공정을 수행한 후 진행할 수도 있다. 이와 같은 얼라인 공정은 동축 조명을 이용하여 수행할 수 있다. The process of forming the third color filter 140c may be performed after performing the alignment process using the first alignment mark 161 or aligning using the second alignment mark 162. It may also proceed after carrying out the process. Such an alignment process may be performed using coaxial illumination.

다음, 도 7d에서 알 수 있듯이, 상기 제1 내지 제3 컬러 필터(140a, 140b, 140c), 및 제1 내지 제2 얼라인 마크(161, 162)를 포함한 기판 전체 면에 오버 코트층(170)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 7D, the overcoat layer 170 is formed on the entire surface of the substrate including the first to third color filters 140a, 140b, and 140c, and the first to second alignment marks 161 and 162. ).

다음, 도 7e에서 알 수 있듯이, 상기 오버 코트층(170) 상에 컬럼 스페이서층(180)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 7E, a column spacer layer 180 is formed on the overcoat layer 170.

다음, 도 7f에서 알 수 있듯이, 상기 컬럼 스페이서층(180)을 패터닝하여 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a) 및 제2 컬러 스페이서 패턴(180b)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 7F, the column spacer layer 180 is patterned to form a first column spacer pattern 180a and a second color spacer pattern 180b.

상기 컬럼 스페이서층(180)을 패터닝하는 공정은 상기 제1 얼라인 마크(161)를 이용하여 얼라인 공정을 수행한 후 진행할 수 있으며, 상기 얼라인 공정은 동축 조명을 이용하여 수행할 수 있다. The process of patterning the column spacer layer 180 may be performed after performing an alignment process using the first alignment mark 161, and the alignment process may be performed using coaxial illumination.

상기 컬럼 스페이서층(180)의 패터닝 공정은 하프톤 마스크를 이용하여 수행할 수 있다. The patterning process of the column spacer layer 180 may be performed using a halftone mask.

다음, 도 7g에서 알 수 있듯이, 액정층(400)을 사이에 두고 상기 제1 기판(100) 및 제2 기판(300)을 합착한다. Next, as shown in FIG. 7G, the first substrate 100 and the second substrate 300 are bonded to each other with the liquid crystal layer 400 therebetween.

상기 제2 기판(300) 상에는 전술한 바와 같이, 게이트 라인과 데이터 라인, 박막 트랜지스터, 화소 전극, 및 공통 전극이 형성되어 있다. As described above, a gate line and a data line, a thin film transistor, a pixel electrode, and a common electrode are formed on the second substrate 300.

상기 액정층(400)을 사이에 두고 상기 제1 기판(100) 및 제2 기판(300)을 합착하는 공정은 당업계에 공지된 진공주입법 또는 액정적하법을 이용하여 수행할 수 있다. The process of bonding the first substrate 100 and the second substrate 300 with the liquid crystal layer 400 therebetween may be performed using a vacuum injection method or a liquid crystal drop method known in the art.

한편, 도시하지는 않았지만, 상기 합착 공정 이후에 상기 합착 기판을 셀 단위로 분리하는 스크라이빙 공정을 추가로 수행할 수 있으며, 이와 같은 스크라이빙 공정에 의해서 상기 얼라인 마크(160)가 제거될 수 있다. Although not shown, a scribing process of separating the bonded substrate by cell units may be further performed after the bonding process, and the alignment mark 160 may be removed by the scribing process. Can be.

도 8a 내지 도 8g는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 공정을 도시한 개략적인 공정 단면도이다. 8A to 8G are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

우선, 도 8a에서 알 수 있듯이, 제1 기판(100) 상에 제1 컬러 필터(140a), 제1 얼라인 마크를 구성하는 하부 얼라인 마크(161a), 및 제2 얼라인 마크(162)를 형성한다. First, as shown in FIG. 8A, the first color filter 140a, the lower alignment mark 161a constituting the first alignment mark, and the second alignment mark 162 are formed on the first substrate 100. To form.

상기 하부 얼라인 마크(161a) 및 제2 얼라인 마크(162)는 상기 제1 컬러 필터(140a)와 동일한 재료로 이루어진다. The lower alignment mark 161a and the second alignment mark 162 are made of the same material as the first color filter 140a.

다음, 도 8b에서 알 수 있듯이, 상기 제1 기판(100) 상에 제2 컬러 필터(140b)를 형성한다. Next, as shown in FIG. 8B, a second color filter 140b is formed on the first substrate 100.

여기서, 상기 제2 컬러 필터(140b)를 형성하는 공정은 상기 하부 얼라인 마크(161a) 또는 제2 얼라인 마크(162)를 이용하여 얼라인 공정을 수행한 후 진행할 수 있으며, 이와 같은 얼라인 공정은 동축 조명을 이용하여 수행할 수 있다. In this case, the process of forming the second color filter 140b may be performed after performing an alignment process using the lower alignment mark 161a or the second alignment mark 162. The process can be carried out using coaxial illumination.

다음, 도 8c에서 알 수 있듯이, 상기 제1 기판(100) 상에 제3 컬러 필터(140c) 및 제1 얼라인 마크를 구성하는 상부 얼라인 마크(161b)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 8C, an upper alignment mark 161b constituting the third color filter 140c and the first alignment mark is formed on the first substrate 100.

상기 상부 얼라인 마크(161b)는 상기 하부 얼라인 마크(161a) 상에 형성하며, 따라서, 상기 하부 얼라인 마크(161a)와 상부 얼라인 마크(161b)로 이루어진 제1 얼라인 마크(161)가 완성된다. The upper alignment mark 161b is formed on the lower alignment mark 161a, and thus, the first alignment mark 161 including the lower alignment mark 161a and the upper alignment mark 161b. Is completed.

상기 상부 얼라인 마크(161b)는 상기 제3 컬러 필터(140c)와 동일한 재료로 이루어진다. The upper alignment mark 161b is made of the same material as the third color filter 140c.

상기 제3 컬러 필터(140c) 및 상부 얼라인 마크(161b)를 형성하는 공정은 상기 제2 얼라인 마크(162)를 이용하여 얼라인 공정을 수행한 후 진행할 수도 있으며, 이와 같은 얼라인 공정은 동축 조명을 이용하여 수행할 수 있다. The process of forming the third color filter 140c and the upper alignment mark 161b may be performed after performing the alignment process using the second alignment mark 162. Such an alignment process may be performed. This can be done using coaxial illumination.

다음, 도 8d에서 알 수 있듯이, 상기 제1 내지 제3 컬러 필터(140a, 140b, 140c), 및 제1 내지 제2 얼라인 마크(161, 162)를 포함한 기판 전체 면에 오버 코트층(170)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 8D, the overcoat layer 170 is formed on the entire surface of the substrate including the first to third color filters 140a, 140b, and 140c, and the first to second alignment marks 161 and 162. ).

다음, 도 8e에서 알 수 있듯이, 상기 오버 코트층(170) 상에 컬럼 스페이서층(180)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 8E, a column spacer layer 180 is formed on the overcoat layer 170.

다음, 도 8f에서 알 수 있듯이, 상기 컬럼 스페이서층(180)을 패터닝하여 제1 컬럼 스페이서 패턴(180a) 및 제2 컬러 스페이서 패턴(180b)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 8F, the column spacer layer 180 is patterned to form a first column spacer pattern 180a and a second color spacer pattern 180b.

상기 컬럼 스페이서층(180)을 패터닝하는 공정은 상기 제1 얼라인 마크(161)를 이용하여 얼라인 공정을 수행한 후 진행할 수 있으며, 상기 얼라인 공정은 동축 조명을 이용하여 수행할 수 있다. The process of patterning the column spacer layer 180 may be performed after performing an alignment process using the first alignment mark 161, and the alignment process may be performed using coaxial illumination.

상기 컬럼 스페이서층(180)의 패터닝 공정은 하프톤 마스크를 이용하여 수행할 수 있다. The patterning process of the column spacer layer 180 may be performed using a halftone mask.

다음, 도 8g에서 알 수 있듯이, 액정층(400)을 사이에 두고 상기 제1 기판(100) 및 제2 기판(300)을 합착한다. 이 공정은 전술한 바와 동일하므로, 반복 설명은 생략하기로 한다. Next, as shown in FIG. 8G, the first substrate 100 and the second substrate 300 are bonded to each other with the liquid crystal layer 400 therebetween. Since this process is the same as above-mentioned, repeated description is abbreviate | omitted.

100: 제1 기판 140a, 140b, 140c: 제1, 제2, 제3 컬러 필터
161: 제1 얼라인 마크 161a: 하부 얼라인 마크
161b: 상부 얼라인 마크 162: 제2 얼라인 마크
170: 오버 코트층 180a, 180b: 제1, 제2 컬럼 스페이서 패턴
180: 컬럼 스페이서층 200: 동축 조명
300: 제2 기판 400: 액정층100: first substrate 140a, 140b, 140c: first, second, third color filters
161: First alignment mark 161a: Lower alignment mark
161b: upper alignment mark 162: second alignment mark
170: overcoat layer 180a, 180b: first and second column spacer patterns
180: column spacer layer 200: coaxial illumination
300: second substrate 400: liquid crystal layer

Claims (10)

서로 대향하는 제1 기판 및 제2 기판;
상기 제1 기판 및 제2 기판 사이에 형성된 액정층;
상기 제1 기판 상에 형성되며, 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터를 포함하여 이루어진 컬러 필터; 및
상기 컬러 필터의 주변 영역에 형성된 제1 얼라인 마크를 포함하여 이루어지며,
상기 제1 얼라인 마크는 하부 얼라인 마크 및 상기 하부 얼라인 마크 상에 형성된 상부 얼라인 마크를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치. A first substrate and a second substrate facing each other;
A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate;
A color filter formed on the first substrate and including a first color filter, a second color filter, and a third color filter; And
It comprises a first alignment mark formed in the peripheral region of the color filter,
And the first alignment mark includes a lower alignment mark and an upper alignment mark formed on the lower alignment mark. 제1항에 있어서,
상기 하부 얼라인 마크는 상기 제1 컬러 필터와 동일한 재료로 이루어지고, 상기 상부 얼라인 마크는 상기 제2 컬러 필터 또는 제3 컬러 필터와 동일한 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The method of claim 1,
And the lower alignment mark is made of the same material as the first color filter, and the upper alignment mark is made of the same material as the second color filter or the third color filter. 제1항에 있어서,
상기 컬러 필터의 주변 영역에 상기 제1 얼라인 마크와 소정 거리를 두고 이격된 제2 얼라인 마크가 추가로 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The method of claim 1,
And a second alignment mark spaced apart from the first alignment mark by a predetermined distance in a peripheral area of the color filter. 제3항에 있어서,
상기 제2 얼라인 마크는 상기 제1 컬러 필터와 동일한 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The method of claim 3,
And the second alignment mark is made of the same material as the first color filter. 제1항에 있어서,
상기 컬러 필터 상에 형성된 오버 코트층 및 상기 오버 코트층 상에 형성된 광이 투과하지 못하는 재료로 이루어진 컬럼 스페이서 패턴을 추가로 포함하여 이루어지며,
상기 제1 얼라인 마크는 상기 컬럼 스페이서 패턴의 주변 영역에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The method of claim 1,
It further comprises a column spacer pattern formed of an overcoat layer formed on the color filter and a material that does not transmit light formed on the overcoat layer,
And the first alignment mark is formed in a peripheral area of the column spacer pattern. 제1 기판 상에 제1 컬러 필터, 제1 얼라인 마크를 구성하는 하부 얼라인 마크, 및 제2 얼라인 마크를 형성하는 공정;
상기 제1 기판 상에 제2 컬러 필터 및 상기 하부 얼라인 마크 상에 상부 얼라인 마크를 형성하는 공정;
상기 제1 기판 상에 제3 컬러 필터를 형성하는 공정;
상기 제1 기판 전체 면에 오버 코트층을 형성하는 공정;
상기 오버 코트층 상에 컬럼 스페이서층을 형성하는 공정;
상기 컬럼 스페이서층을 패터닝하여 컬럼 스페이서 패턴을 형성하는 공정; 및
액정층을 사이에 두고 상기 제1 기판 및 제2 기판을 합착하는 공정을 포함하여 이루어진 액정표시장치의 제조방법. Forming a first color filter, a lower alignment mark constituting the first alignment mark, and a second alignment mark on the first substrate;
Forming an upper alignment mark on the second color filter and the lower alignment mark on the first substrate;
Forming a third color filter on the first substrate;
Forming an overcoat layer on the entire surface of the first substrate;
Forming a column spacer layer on the overcoat layer;
Patterning the column spacer layer to form a column spacer pattern; And
A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising the step of bonding the first substrate and the second substrate with a liquid crystal layer interposed therebetween. 제1 기판 상에 제1 컬러 필터, 제1 얼라인 마크를 구성하는 하부 얼라인 마크, 및 제2 얼라인 마크를 형성하는 공정;
상기 제1 기판 상에 제2 컬러 필터를 형성하는 공정;
상기 제1 기판 상에 제3 컬러 필터 및 상기 하부 얼라인 마크 상에 상부 얼라인 마크를 형성하는 공정;
상기 제1 기판 전체 면에 오버 코트층을 형성하는 공정;
상기 오버 코트층 상에 컬럼 스페이서층을 형성하는 공정;
상기 컬럼 스페이서층을 패터닝하여 컬럼 스페이서 패턴을 형성하는 공정; 및
액정층을 사이에 두고 상기 제1 기판 및 제2 기판을 합착하는 공정을 포함하여 이루어진 액정표시장치의 제조방법. Forming a first color filter, a lower alignment mark constituting the first alignment mark, and a second alignment mark on the first substrate;
Forming a second color filter on the first substrate;
Forming an upper alignment mark on the third color filter and the lower alignment mark on the first substrate;
Forming an overcoat layer on the entire surface of the first substrate;
Forming a column spacer layer on the overcoat layer;
Patterning the column spacer layer to form a column spacer pattern; And
A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising the step of bonding the first substrate and the second substrate with a liquid crystal layer interposed therebetween. 제6항 또는 제7항에 있어서,
상기 컬럼 스페이서층을 패터닝하는 공정은, 상기 제1 얼라인 마크를 이용하여 얼라인 공정을 수행한 후 진행하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법. 8. The method according to claim 6 or 7,
The process of patterning the column spacer layer is performed after performing an alignment process using the first alignment mark. 제6항 또는 제7항에 있어서,
상기 하부 얼라인 마크 상에 상부 얼라인 마크를 형성하는 공정은 상기 제2 얼라인 마크를 이용하여 얼라인 공정을 수행한 후 진행하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법. 8. The method according to claim 6 or 7,
The process of forming the upper alignment mark on the lower alignment mark is performed after performing an alignment process using the second alignment mark. 제6항 또는 제7항에 있어서,
상기 합착 공정 이후에 합착 기판을 셀 단위로 분리하는 스크라이빙 공정을 추가로 수행하고, 상기 스크라이빙 공정에 의해서 상기 제1 얼라인 마크 및 제2 얼라인 마크가 제거되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법. 8. The method according to claim 6 or 7,
And a scribing process of separating the adhered substrate in units of cells after the bonding process, wherein the first alignment mark and the second alignment mark are removed by the scribing process. Method for manufacturing a display device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20160054620A1 (en) * 2013-03-22 2016-02-25 Boe Technology Group Co., Ltd. Color filter substrate and fabrication method thereof, display panel and display device
KR20200064217A (en) * 2018-11-28 2020-06-08 삼성디스플레이 주식회사 Flexible display apparatus and method of assembling the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160054620A1 (en) * 2013-03-22 2016-02-25 Boe Technology Group Co., Ltd. Color filter substrate and fabrication method thereof, display panel and display device
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