JPH10294163A - Ion generator and electrophotographic recording device - Google Patents

Ion generator and electrophotographic recording device

Info

Publication number
JPH10294163A
JPH10294163A JP10049597A JP10049597A JPH10294163A JP H10294163 A JPH10294163 A JP H10294163A JP 10049597 A JP10049597 A JP 10049597A JP 10049597 A JP10049597 A JP 10049597A JP H10294163 A JPH10294163 A JP H10294163A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating substrate
electrode
photoconductor
ion generator
ion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP10049597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsukasa Sugano
司 菅野
Shiro Ezaki
史郎 江崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Lighting and Technology Corp
Toshiba AVE Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
Toshiba AVE Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Lighting and Technology Corp, Toshiba AVE Co Ltd filed Critical Toshiba Lighting and Technology Corp
Priority to JP10049597A priority Critical patent/JPH10294163A/en
Publication of JPH10294163A publication Critical patent/JPH10294163A/en
Abandoned legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ion generator such that when it is applied to the charging device or transfer device of an electrophotographic recording device, a feeding structure to the ion generator does not project from both ends of a photoconductor. SOLUTION: Feeding patterns for a dielectric electrode 2 and an ion- generating electrode 4 which are formed on an insulating substrate 1 with a dielectric layer 3 between them are devised; i.e., feeding electrodes independently connected to the dielectric electrode 2 and the ion generating electrode 4 are provided on the back of the insulating substrate 1. Hence, a feeding structure for an ion generator does not project from both ends of a photoconductor, and miniaturization is achieved around the photoconductor.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、イオン発生装置、
電子写真プロセス装置および電子写真記録装置に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an ion generator,
The present invention relates to an electrophotographic process device and an electrophotographic recording device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、複写機やレーザプリンタ等の電子
写真記録装置においては、帯電装置や転写装置として、
タングステンワイヤ等を主体とするコロナチャージャが
一般に用いられている。ところが、このようなタングス
テンワイヤ等を主体とするコロナチャージャでは、大気
中の酸素分子をイオン化してオゾン(O3 ~ )を発生す
るという構造上、環境に対する配慮が必要となる程多く
のオゾンが発生してしまう。
2. Description of the Related Art Conventionally, in an electrophotographic recording apparatus such as a copying machine or a laser printer, a charging device or a transfer device is used as a charging device or a transfer device.
A corona charger mainly comprising a tungsten wire or the like is generally used. However, such a corona charger mainly composed of tungsten wire or the like ionizes oxygen molecules in the atmosphere to generate ozone (O 3 ~). Will occur.

【0003】これに対し、近年、誘電体層を挾んで絶縁
基板上に形成された2つの電極間に交流電圧を印加し、
2つ電極間の放電により付近の空気をイオン化させるイ
オン発生装置が開発されている。そして、例えば特開平
6−75457号公報や特開平8−82980号公報に
は、そのようなイオン発生装置を電子写真記録装置にお
ける帯電装置等に利用することが開示されている。この
ようなイオン発生装置の一例を図9に基づいて説明す
る。
On the other hand, in recent years, an AC voltage has been applied between two electrodes formed on an insulating substrate with a dielectric layer interposed therebetween.
2. Description of the Related Art An ion generator that ionizes nearby air by a discharge between two electrodes has been developed. For example, JP-A-6-75457 and JP-A-8-82980 disclose the use of such an ion generator as a charging device in an electrophotographic recording apparatus. An example of such an ion generator will be described with reference to FIG.

【0004】図9は、従来のイオン発生装置の一例を示
す縦断正面図である。まず、絶縁基板101の上にイオ
ン発生電極となる誘導電極102が膜状形成され、この
誘導電極102と共に絶縁基板101が誘電体層103
に覆われている。この誘電体層103の上には、誘導電
極となる一対のイオン発生電極104が膜状形成され、
これらのイオン発生電極104の間には誘導電極102
の直上に位置するギャップGが形成されている。このよ
うにして形成されたイオン発生装置は、電子写真記録装
置の感光体105に所定の間隔を開けて対向配置され使
用される。つまり、帯電装置として使用する場合、高周
波電源106によって誘導電極102とイオン発生電極
104との間に高周波電圧を印加すると、誘導電極10
2とイオン発生電極104との間の放電によってギャッ
プGの近傍に高密度の正負イオンが発生する。そして、
イオン発生電極104と感光体105との間に直流電源
107より負のバイアス電圧を印加すると、発生した正
負イオンのうちの負イオンが感光体105に作用し、こ
れにより感光体105が一様帯電される。この場合、感
光体105の帯電電位は、イオン発生電極104と感光
体105との間に印加するバイアス電圧を調節すること
によって設定可能である。そして、感光体105を帯電
させる際に発生するオゾン量は、タングステンワイヤ等
を主体とするコロナチャージャに比べて数分の1から数
10分の1と少なくなる。
FIG. 9 is a vertical sectional front view showing an example of a conventional ion generator. First, an induction electrode 102 serving as an ion generation electrode is formed on an insulating substrate 101 in a film form.
Covered in. On the dielectric layer 103, a pair of ion generating electrodes 104 serving as an induction electrode is formed in a film shape.
An induction electrode 102 is provided between these ion generating electrodes 104.
Is formed immediately above the gap G. The ion generator thus formed is used by being opposed to the photoconductor 105 of the electrophotographic recording apparatus at a predetermined interval. That is, when used as a charging device, when a high-frequency voltage is applied between the induction electrode 102 and the ion generation electrode 104 by the high-frequency power source 106, the induction electrode 10
A high density of positive and negative ions is generated near the gap G due to the discharge between the ion generating electrode 104 and the ion generating electrode 104. And
When a negative bias voltage is applied between the ion generating electrode 104 and the photoconductor 105 from the DC power supply 107, the negative ions of the generated positive and negative ions act on the photoconductor 105, thereby uniformly charging the photoconductor 105. Is done. In this case, the charging potential of the photoconductor 105 can be set by adjusting a bias voltage applied between the ion generating electrode 104 and the photoconductor 105. The amount of ozone generated when the photoconductor 105 is charged is reduced from several tenths to several tenths in comparison with a corona charger mainly comprising a tungsten wire or the like.

【0005】ここで、図9に例示するようなイオン発生
装置は、電子写真記録装置において帯電装置や転写装置
等として利用され、この場合には小型であるという利点
が活かされて感光体回りの小型化に寄与する。例えば帯
電装置として利用される場合、イオン発生装置は感光体
に対して1mm程度の間隔を開けて対向配置される。こ
の場合、イオン発生装置の保持構造としては、イオン発
生装置の長手方向両端部を保持部材に保持させるのが一
般的であるが、それではイオン発生装置の両端部を保持
する保持部材が感光体の両端から突出し、小型であると
いうイオン発生装置の利点が損なわれてしまう。また、
イオン発生装置はそれ自体ある程度の柔軟性を有するた
め、その両端を保持する構造では感光体とイオン発生装
置との対向間隔が場所によって変動し、均一な帯電等を
行なうことができなくなってしまう。その反面、イオン
発生装置の裏面を鋼体に貼付るような構造では、鋼体の
熱容量によってイオン発生装置の性能が劣化してしま
う。つまり、放熱による温度低下を原因として発生する
イオン濃度が低下し、また、放熱による温度分布の不均
一が生じて発生するイオン濃度の分布も不均一になると
いうような性能劣化が生ずる。このようなことから、従
来、図10に例示するような構造のイオン発生装置の保
持構造が考え出されている。図10は、ホルダと一体化
されたイオン発生装置の正面図である。図10に示すよ
うに、イオン発生装置は、誘導電極102とイオン発生
電極104とのパターンにより形成されたイオン発生面
108を表面側に向けられた状態でホルダ109に保持
されている。このホルダ109は、イオン発生装置の両
側部を一対の保持溝110で挿入保持する構造である。
また、イオン発生装置にはその裏面側に発熱パターン1
11が形成されており、この発熱パターン111を含む
イオン発生装置の裏面とホルダ109との間には放熱空
間112が形成されている。この放熱空間112は、イ
オン発生装置からホルダ109への熱伝導を妨げてイオ
ン発生装置の効率を維持するためのものである。
[0005] Here, an ion generator as exemplified in FIG. 9 is used as a charging device or a transfer device in an electrophotographic recording device. Contribute to downsizing. For example, when used as a charging device, the ion generating device is opposed to the photosensitive member at an interval of about 1 mm. In this case, as a holding structure of the ion generator, it is common to hold both ends in the longitudinal direction of the ion generator with a holding member. In this case, the holding members holding the both ends of the ion generator are provided on the photosensitive member. The advantages of the ion generator, which is protruded from both ends and is small, are lost. Also,
Since the ion generator itself has a certain degree of flexibility, in a structure that holds both ends of the ion generator, the facing distance between the photoconductor and the ion generator varies depending on the location, and uniform charging or the like cannot be performed. On the other hand, in a structure in which the back surface of the ion generator is attached to a steel body, the performance of the ion generator deteriorates due to the heat capacity of the steel body. In other words, performance degradation occurs such that the ion concentration generated due to the temperature decrease due to heat radiation decreases, and the temperature distribution due to heat radiation becomes non-uniform, so that the generated ion concentration distribution becomes non-uniform. For this reason, a holding structure of an ion generator having a structure as illustrated in FIG. 10 has been conventionally devised. FIG. 10 is a front view of the ion generator integrated with the holder. As shown in FIG. 10, the ion generator is held by a holder 109 with an ion generation surface 108 formed by a pattern of an induction electrode 102 and an ion generation electrode 104 facing the front side. The holder 109 has a structure in which both sides of the ion generator are inserted and held by a pair of holding grooves 110.
In addition, a heating pattern 1 is provided on the back side of the ion generator.
A heat radiation space 112 is formed between the holder 109 and the back surface of the ion generator including the heat generating pattern 111. The heat radiating space 112 prevents heat conduction from the ion generator to the holder 109 to maintain the efficiency of the ion generator.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】イオン発生装置におい
ては、誘導電極102およびイオン発生電極104のた
めの給電パターンが絶縁基板101の表面両端部に形成
されているのが一般的である。このため、給電パターン
に対する高周波電源106や直流電源107の接続はイ
オン発生装置の長手方向両端にならざるをえず、接続部
分が感光体の両端から突出し、小型であるというイオン
発生装置の利点が損なわれてしまう。
In an ion generator, power supply patterns for the induction electrode 102 and the ion generation electrode 104 are generally formed at both ends of the surface of the insulating substrate 101. For this reason, the connection of the high-frequency power supply 106 and the direct-current power supply 107 to the power supply pattern is inevitably made at both ends in the longitudinal direction of the ion generator, and the connection portion protrudes from both ends of the photoreceptor. Will be spoiled.

【0007】また、図10に例示するようなホルダ10
9によるイオン発生装置の保持構造が従来から考えられ
ているが、実際にはこのような保持構造によってイオン
発生装置を保持するのは困難である。つまり、ホルダ1
09の保持溝110でイオン発生装置を保持する場合、
保持溝110とイオン発生装置との嵌合が甘すぎると寸
法精度が出ず、嵌合がきつすぎるとイオン発生装置の絶
縁基板101が反ってやはり寸法精度が出ず、感光体と
の対向間隔を1mm程度に維持しなければならない帯電
装置への適用が不適当となる。しかも、イオン発生装置
は動作時に発熱によって膨張するため、保持溝110と
のリジットな嵌合は寸法精度を出す上で益々不適当であ
る。このようなことから、実際には図10に例示するよ
うなイオン発生装置の保持構造は実現困難である。この
ため、イオン発生装置の長手方向両端部を保持部材に保
持させた保持構造を取らざるをえないが、この場合には
保持部材が感光体の両端から突出し、小型であるという
イオン発生装置の利点が損なわれてしまう。
Further, a holder 10 as illustrated in FIG.
Although a holding structure of the ion generator according to No. 9 has been conventionally considered, it is difficult to actually hold the ion generator by such a holding structure. That is, the holder 1
When holding the ion generator in the holding groove 110 of 09,
If the fitting between the holding groove 110 and the ion generator is too loose, the dimensional accuracy will not be obtained. If the fitting is too tight, the insulating substrate 101 of the ion generator will be warped and the dimensional accuracy will not be obtained. Is improperly applied to a charging device which must maintain the value of about 1 mm. Moreover, since the ion generator expands due to heat generation during operation, rigid fitting with the holding groove 110 is more and more inappropriate in terms of dimensional accuracy. For this reason, it is actually difficult to realize an ion generator holding structure as illustrated in FIG. For this reason, it is inevitable to use a holding structure in which both ends in the longitudinal direction of the ion generator are held by a holding member. In this case, the holding member protrudes from both ends of the photoconductor and is small in size. The benefits are lost.

【0008】本発明の目的は、電子写真記録装置の帯電
装置や転写装置に適用した場合、イオン発生装置に対す
る給電構造およびイオン発生装置の保持構造が感光体の
両端から突出しないイオン発生装置を得ることである。
An object of the present invention is to provide an ion generator in which a power supply structure for an ion generator and a holding structure of the ion generator do not protrude from both ends of a photoreceptor when applied to a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording apparatus. That is.

【0009】本発明の別の目的は、電子写真記録装置の
帯電装置や転写装置に適用した場合、感光体との絶縁性
を確実にすることができるイオン発生装置を得ることで
ある。
Another object of the present invention is to provide an ion generator capable of ensuring insulation from a photoreceptor when applied to a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording apparatus.

【0010】本発明のさらに別の目的は、イオン発生装
置の保持構造の耐久性を高めることである。
Still another object of the present invention is to increase the durability of the holding structure of the ion generator.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1記載のイオン発
生装置は、絶縁性を有する絶縁基板と;絶縁基板上に形
成された誘導電極と;絶縁基板および誘導電極を覆う誘
電体層と;誘電体層上に形成され、誘導電極との間にギ
ャップを形成するイオン発生電極と;イオン発生電極を
覆う保護層と;絶縁基板の裏面に設けられ、それぞれ誘
導電極とイオン発生電極とに独立して接続された給電電
極と;を備える。したがって、誘導電極とイオン発生電
極との間に高周波電圧を印加すると、誘導電極とイオン
発生電極との間の放電によってギャップの近傍に高密度
の正負イオンが発生する。そこで、本発明のイオン発生
装置を例えば感光体を帯電させる帯電装置として用いる
場合には、ギャップを感光体に対向させてイオン発生電
極と感光体との間に負のバイアス電圧を印加する。これ
により、ギャップ近傍に発生した正負イオンのうちの負
イオンが感光体に作用して感光体が一様帯電される。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an ion generating apparatus comprising: an insulating substrate having an insulating property; an induction electrode formed on the insulating substrate; a dielectric layer covering the insulating substrate and the induction electrode; An ion generating electrode formed on the dielectric layer and forming a gap with the induction electrode; a protective layer covering the ion generating electrode; provided on the back surface of the insulating substrate, independent of the induction electrode and the ion generating electrode, respectively. And a power supply electrode connected to the power supply electrode. Therefore, when a high-frequency voltage is applied between the induction electrode and the ion generation electrode, high-density positive and negative ions are generated near the gap due to the discharge between the induction electrode and the ion generation electrode. Therefore, when the ion generator of the present invention is used, for example, as a charging device for charging a photoconductor, a negative bias voltage is applied between the ion generating electrode and the photoconductor with the gap facing the photoconductor. As a result, the negative ions of the positive and negative ions generated near the gap act on the photoconductor, and the photoconductor is uniformly charged.

【0012】そして、本発明のイオン発生装置では、給
電電極が絶縁基板の裏面に設けられているために給電電
極に対する給電構造がイオン発生装置の長手方向両端部
から突出しない。このため、電子写真記録装置の帯電装
置や転写装置に適用した場合、給電構造が感光体の両端
から突出せずに感光体回りの小型化が図られる。
In the ion generator of the present invention, since the power supply electrode is provided on the back surface of the insulating substrate, the power supply structure for the power supply electrode does not protrude from both longitudinal ends of the ion generator. Therefore, when the present invention is applied to a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording apparatus, the power supply structure does not protrude from both ends of the photoconductor, so that the size around the photoconductor can be reduced.

【0013】また、請求項2記載のイオン発生装置は、
絶縁性を有する絶縁基板と;絶縁基板上に形成された誘
電体層と;誘電体層上に複数間隔をおいて並設されて電
気的に接続された第1グループの電極と;誘電体層上に
複数間隔をおいて並設されて電気的に接続され、少なく
とも一部が第1グループの電極に近接する第2グループ
の電極と;電極を覆う保護層と;絶縁基板の裏面に設け
られ、それぞれ各グループの電極に独立して接続された
給電電極と;を備える。したがって、第1グループの電
極と第2グループの電極との間に高周波電圧を印加する
と、電極間の放電によって電極間に高密度の正負イオン
が発生する。そこで、本発明のイオン発生装置を例えば
感光体を帯電させる帯電装置として用いる場合には、電
極を感光体に対向させて電極と感光体との間に負のバイ
アス電圧を印加する。すると、このようなバイアス電圧
の印加によって、電極感に発生した正負イオンのうちの
負イオンが感光体に作用して感光体が一様帯電される。
Further, the ion generator according to claim 2 is
An insulating substrate having an insulating property; a dielectric layer formed on the insulating substrate; a first group of electrodes electrically connected in parallel at a plurality of intervals on the dielectric layer; A second group of electrodes that are electrically connected to each other at a plurality of intervals and that are at least partially adjacent to the first group of electrodes; a protective layer that covers the electrodes; And a feed electrode independently connected to each group of electrodes. Therefore, when a high-frequency voltage is applied between the electrodes of the first group and the electrodes of the second group, high-density positive and negative ions are generated between the electrodes due to discharge between the electrodes. Therefore, when the ion generator of the present invention is used, for example, as a charging device for charging a photoconductor, a negative bias voltage is applied between the electrode and the photoconductor with the electrode facing the photoconductor. Then, by the application of such a bias voltage, the negative ions of the positive and negative ions generated in the electrode sense act on the photoconductor, and the photoconductor is uniformly charged.

【0014】そして、本発明のイオン発生装置では、給
電電極が絶縁基板の裏面に設けられているために給電電
極に対する給電構造がイオン発生装置の長手方向両端部
から突出しない。このため、電子写真記録装置の帯電装
置や転写装置に適用した場合、給電構造が感光体の両端
から突出せずに感光体回りの小型化が図られる。
In the ion generator of the present invention, since the power supply electrode is provided on the back surface of the insulating substrate, the power supply structure for the power supply electrode does not protrude from both ends in the longitudinal direction of the ion generator. Therefore, when the present invention is applied to a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording apparatus, the power supply structure does not protrude from both ends of the photoconductor, so that the size around the photoconductor can be reduced.

【0015】ここで、請求項1または2記載の発明にお
いて、「絶縁基板」としては、例えばアルミナ等が用い
られ、この絶縁基板上に積層される各部は、例えばスク
リーン印刷により形成されている。「誘導電極」および
「イオン発生電極」あるいは「電極」は、例えば銀系
(銀/パラジウム、銀/白金等)や銅系の厚膜導体であ
る。「誘電体層」は、例えばガラス絶縁層(ホウ珪酸鉛
系ガラスやアルミナフィラーを含有するホウ珪酸鉛系ガ
ラス等)であり、その厚さは例えば20〜40μm程度
に形成されている。「保護層」としては、ガラス系(ホ
ウ珪酸鉛系ガラス、シリカ等)または樹脂系(ポリイミ
ド、エポキシ、シリコーン)等が用いられ、その厚さは
例えば10μm程度以下である。ここで、電極と給電電
極との接続は、例えば、絶縁基板にあらかじめ形成され
たスルーホールを介して容易になされる(請求項3)。
また、絶縁基板表面のイオン発生部以外に位置する導線
パターンを覆う絶縁体層をさらに備える場合には(請求
項4)、電子写真記録装置の帯電装置や転写装置に適用
した場合、感光体との絶縁性が確実に維持される。「イ
オン発生部」というのは、誘導電極とイオン発生電極と
の間のギャップ部分(請求項1)または第1グループの
電極と第2グループの電極との間の部分(請求項2)を
意味する。そして、絶縁体層は、例えば10〜60μm
の厚さで形成される。
Here, in the first or second aspect of the present invention, for example, alumina or the like is used as the "insulating substrate", and each part laminated on the insulating substrate is formed by, for example, screen printing. The “induction electrode” and the “ion generation electrode” or the “electrode” are, for example, silver-based (silver / palladium, silver / platinum, etc.) or copper-based thick film conductors. The “dielectric layer” is, for example, a glass insulating layer (lead borosilicate glass, lead borosilicate glass containing an alumina filler, or the like), and has a thickness of, for example, about 20 to 40 μm. As the “protective layer”, a glass type (lead borosilicate glass, silica, etc.) or a resin type (polyimide, epoxy, silicone) or the like is used, and its thickness is, for example, about 10 μm or less. Here, the connection between the electrode and the power supply electrode is easily made, for example, through a through-hole formed in advance on the insulating substrate.
In the case where the device further comprises an insulator layer covering the conductive wire pattern located on the surface of the insulating substrate other than the ion generating portion (claim 4), when applied to a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording device, the photoconductor becomes Is reliably maintained. The term "ion generating portion" means a gap portion between the induction electrode and the ion generating electrode (claim 1) or a portion between the first group of electrodes and the second group of electrodes (claim 2). I do. The insulator layer is, for example, 10 to 60 μm
It is formed with the thickness of.

【0016】請求項5記載のイオン発生装置は、絶縁性
を有する絶縁基板と;絶縁基板上に形成された誘導電極
と;絶縁基板および誘導電極を覆う誘電体層と;誘電体
層上に形成され、誘導電極との間にギャップを形成する
イオン発生電極と;イオン発生電極を覆う保護層と;絶
縁基板の一面側両側部と面接触する基準面とその絶縁基
板の他面側両側部に弾発的に点接触する複数個の保持爪
とを用いて絶縁基板を保持するホルダと;を備える。し
たがって、誘導電極とイオン発生電極との間に高周波電
圧を印加すると、誘導電極とイオン発生電極との間の放
電によってギャップの近傍に高密度の正負イオンが発生
する。そこで、本発明のイオン発生装置を例えば感光体
を帯電させる帯電装置として用いる場合には、ギャップ
を感光体に対向させてイオン発生電極と感光体との間に
負のバイアス電圧を印加する。これにより、ギャップ近
傍に発生した正負イオンのうちの負イオンが感光体に作
用して感光体が一様帯電される。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an ion generator, comprising: an insulating substrate having an insulating property; an induction electrode formed on the insulating substrate; a dielectric layer covering the insulating substrate and the induction electrode; An ion generating electrode forming a gap with the induction electrode; a protective layer covering the ion generating electrode; a reference surface in surface contact with one side of the insulating substrate and two sides of the other surface of the insulating substrate. A holder that holds the insulating substrate using a plurality of holding claws that resiliently make point contact. Therefore, when a high-frequency voltage is applied between the induction electrode and the ion generation electrode, high-density positive and negative ions are generated near the gap due to the discharge between the induction electrode and the ion generation electrode. Therefore, when the ion generator of the present invention is used, for example, as a charging device for charging a photoconductor, a negative bias voltage is applied between the ion generating electrode and the photoconductor with the gap facing the photoconductor. As a result, the negative ions of the positive and negative ions generated near the gap act on the photoconductor, and the photoconductor is uniformly charged.

【0017】そして、絶縁基板は、ホルダにおける基準
面で位置合わせされた状態で複数個の保持爪によって保
持される。この場合、保持爪には弾力性が備わっている
ため、多少の寸法誤差や発熱による絶縁基板の膨張等が
あっても、絶縁基板は基準面で位置合わせされて精度良
く支持される。このため、電子写真記録装置の帯電装置
や転写装置に適用したとしても、イオン発生面と感光体
との1mm程度の対向間隔が精度良く保たれる。したが
って、絶縁基板の長手方向両端部から突出物がない保持
構造が実現され、保持構造が感光体の両端から突出せず
に感光体回りの小型化が図られる。
The insulating substrate is held by the plurality of holding claws while being aligned with the reference surface of the holder. In this case, since the holding claws have elasticity, even if there is some dimensional error or expansion of the insulating substrate due to heat generation, the insulating substrate is aligned with the reference surface and supported with high accuracy. For this reason, even when the present invention is applied to a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording device, the facing distance of about 1 mm between the ion generating surface and the photosensitive member can be accurately maintained. Therefore, a holding structure having no protruding material from both ends in the longitudinal direction of the insulating substrate is realized, and the holding structure does not protrude from both ends of the photoconductor, so that the size around the photoconductor can be reduced.

【0018】また、請求項5記載のイオン発生装置は、
絶縁性を有する絶縁基板と;絶縁基板上に形成された誘
電体層と;誘電体層上に並設された複数の電極と;電極
を覆う保護層と;絶縁基板の一面側両側部と面接触する
基準面とその絶縁基板の他面側両側部に弾発的に点接触
する複数個の保持爪とを用いて絶縁基板を保持するホル
ダと;を備える。したがって、隣接する電極間に高周波
電圧を印加すると、電極間の放電によって電極間に高密
度の正負イオンが発生する。そこで、本発明のイオン発
生装置を例えば感光体を帯電させる帯電装置として用い
る場合には、電極を感光体に対向させて電極と感光体と
の間に負のバイアス電圧を印加する。すると、このよう
なバイアス電圧の印加によって、電極感に発生した正負
イオンのうちの負イオンが感光体に作用して感光体が一
様帯電される。
[0018] The ion generator according to claim 5 is characterized in that:
An insulating substrate having an insulating property; a dielectric layer formed on the insulating substrate; a plurality of electrodes arranged side by side on the dielectric layer; a protective layer covering the electrodes; A holder that holds the insulating substrate using a plurality of holding claws that resiliently make point contact with both sides of the other side of the insulating substrate. Therefore, when a high-frequency voltage is applied between adjacent electrodes, high-density positive and negative ions are generated between the electrodes due to discharge between the electrodes. Therefore, when the ion generator of the present invention is used, for example, as a charging device for charging a photoconductor, a negative bias voltage is applied between the electrode and the photoconductor with the electrode facing the photoconductor. Then, by the application of such a bias voltage, the negative ions of the positive and negative ions generated in the electrode sense act on the photoconductor, and the photoconductor is uniformly charged.

【0019】そして、絶縁基板は、ホルダにおける基準
面で位置合わせされた状態で複数個の保持爪によって保
持される。この場合、保持爪には弾力性が備わっている
ため、多少の寸法誤差や発熱による絶縁基板の膨張等が
あっても、絶縁基板は基準面で位置合わせされて精度良
く支持される。このため、電子写真記録装置の帯電装置
や転写装置に適用したとしても、イオン発生面と感光体
との1mm程度の対向間隔が精度良く保たれる。したが
って、絶縁基板の長手方向両端部から突出物がない保持
構造が実現され、保持構造が感光体の両端から突出せず
に感光体回りの小型化が図られる。
The insulating substrate is held by the plurality of holding claws in a state where the insulating substrate is positioned on the reference surface of the holder. In this case, since the holding claws have elasticity, even if there is some dimensional error or expansion of the insulating substrate due to heat generation, the insulating substrate is aligned with the reference surface and supported with high accuracy. For this reason, even when the present invention is applied to a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording device, the facing distance of about 1 mm between the ion generating surface and the photosensitive member can be accurately maintained. Therefore, a holding structure having no protruding material from both ends in the longitudinal direction of the insulating substrate is realized, and the holding structure does not protrude from both ends of the photoconductor, so that the size around the photoconductor can be reduced.

【0020】ここで、請求項5または6記載の発明にお
いて、「絶縁基板」としては、例えばアルミナ等が用い
られ、この絶縁基板上に積層される各部は、例えばスク
リーン印刷により形成されている。「誘導電極」および
「イオン発生電極」あるいは「電極」は、例えば銀系
(銀/パラジウム、銀/白金等)や銅系の厚膜導体であ
る。「誘電体層」は、例えばガラス絶縁層(ホウ珪酸鉛
系ガラスやアルミナフィラーを含有するホウ珪酸鉛系ガ
ラス等)であり、その厚さは例えば20〜40μm程度
に形成されている。「保護層」としては、ガラス系(ホ
ウ珪酸鉛系ガラス、シリカ等)または樹脂系(ポリイミ
ド、エポキシ、シリコーン)等が用いられ、その厚さは
例えば10μm程度以下である。「ホルダ」は、例えば
耐摩耗性に優れた樹脂により形成されている。これによ
り、ホルダの基準面と保持爪との間に絶縁基板をスライ
ド挿入するようなことを繰り返しても、保持爪が摩耗に
より劣化することがなく、保持爪の摩耗劣化による絶縁
基板の保持強度の低下が防止される。このような保持爪
の摩耗防止は、少なくとも保持爪の先端を耐摩耗性部材
によって形成することによっても実現される(請求項
7)。なお、ホルダをピーク材、PPS、液晶ポリマー
等により形成した場合には、耐摩耗性だけでなく耐熱性
にも優れて熱容量が少ない理想的なホルダが得られる。
「保持爪」は、絶縁基板長が例えば360mmであると
すると、例えば30mm毎に形成されている。「イオン
発生面」というのは、イオン発生電極間のギャップ部分
(請求項5)または電極と電極との間の部分(請求項
6)であるイオン発生部が形成されている面を意味す
る。このようなホルダと絶縁基板の裏面との間の隙間
は、例えば5mm程度である。
Here, in the invention according to claim 5 or 6, for example, alumina or the like is used as the "insulating substrate", and each part laminated on this insulating substrate is formed by, for example, screen printing. The “induction electrode” and the “ion generation electrode” or the “electrode” are, for example, silver-based (silver / palladium, silver / platinum, etc.) or copper-based thick film conductors. The “dielectric layer” is, for example, a glass insulating layer (lead borosilicate glass, lead borosilicate glass containing an alumina filler, or the like), and has a thickness of, for example, about 20 to 40 μm. As the “protective layer”, a glass type (lead borosilicate glass, silica, etc.) or a resin type (polyimide, epoxy, silicone) or the like is used, and its thickness is, for example, about 10 μm or less. The “holder” is made of, for example, a resin having excellent wear resistance. Thus, even if the insulating substrate is repeatedly slid and inserted between the reference surface of the holder and the holding claw, the holding claw does not deteriorate due to wear, and the holding strength of the insulating substrate due to the deterioration of the holding claw is reduced. Is prevented from decreasing. Such prevention of wear of the holding claws can also be realized by forming at least the tip of the holding claws with a wear-resistant member. When the holder is made of a peak material, PPS, liquid crystal polymer or the like, an ideal holder having excellent heat resistance as well as heat resistance and low heat capacity can be obtained.
The “holding claws” are formed, for example, every 30 mm, assuming that the length of the insulating substrate is, for example, 360 mm. The term "ion generating surface" means a surface on which an ion generating portion, which is a gap portion between the ion generating electrodes (claim 5) or a portion between the electrodes (claim 6), is formed. The gap between such a holder and the back surface of the insulating substrate is, for example, about 5 mm.

【0021】請求項8記載の電子写真記録装置は、請求
項1ないし7のいずれか一記載のイオン発生装置を、感
光体を帯電させる帯電装置として利用する電子写真記録
装置である。すなわち、この電子写真記録装置は、感光
体と;請求項1ないし7のいずれか一記載のイオン発生
装置により形成され、感光体を一様に帯電させる帯電装
置と;帯電装置により一様帯電された感光体を露光して
静電潜像を形成するイメージ露光装置と;感光体に形成
された静電潜像にトナーを付着させて現像する現像装置
と;感光体に形成された現像画像を転写媒体に転写する
転写装置と;転写媒体上の転写画像を定着する定着装置
と;を備える。
An electrophotographic recording apparatus according to an eighth aspect is an electrophotographic recording apparatus using the ion generator according to any one of the first to seventh aspects as a charging device for charging a photosensitive member. That is, the electrophotographic recording apparatus comprises: a photoreceptor; a charging device formed by the ion generator according to any one of claims 1 to 7 for uniformly charging the photoreceptor; An image exposing device that exposes the photoconductor to form an electrostatic latent image; a developing device that attaches toner to the electrostatic latent image formed on the photoconductor and develops the image; A transfer device for transferring to a transfer medium; and a fixing device for fixing a transferred image on the transfer medium.

【0022】請求項9記載の電子写真装置は、請求項1
ないし7のいずれか一記載のイオン発生装置を感光体に
形成された現像画像を転写媒体に転写する転写装置とし
て利用する電子写真記録装置である。すなわち、この電
子写真記録装置は、感光体と;感光体を一様に帯電させ
る帯電装置と;帯電装置により一様帯電された感光体を
露光して静電潜像を形成するイメージ露光装置と;感光
体に形成された静電潜像にトナーを付着させて現像する
現像装置と;請求項1ないし7のいずれか一記載のイオ
ン発生装置により形成され、感光体に形成された現像画
像を転写媒体に転写する転写装置と;転写媒体上の転写
画像を定着する定着装置と;を備える。
The electrophotographic apparatus according to the ninth aspect is the first aspect of the invention.
An electrophotographic recording apparatus using the ion generator according to any one of the above items 7 as a transfer device for transferring a developed image formed on a photoconductor to a transfer medium. That is, the electrophotographic recording apparatus includes: a photosensitive member; a charging device for uniformly charging the photosensitive member; and an image exposing device for exposing the photosensitive member uniformly charged by the charging device to form an electrostatic latent image. A developing device for applying toner to the electrostatic latent image formed on the photoconductor to develop the image; and a developing device formed by the ion generator according to any one of claims 1 to 7 and formed on the photoconductor. A transfer device for transferring to a transfer medium; and a fixing device for fixing a transferred image on the transfer medium.

【0023】したがって、請求項8または9記載の電子
写真記録装置によれば、感光体に対する帯電、露光、現
像、転写という電子写真の基本的なプロセスを経て画像
記録が行なわれる。この際、請求項8記載の発明では、
感光体の帯電位置でギャップを感光体に対向させてイオ
ン発生装置を配置し、誘導電極とイオン発生電極との間
または電極間に高周波電圧を印加する。これにより、誘
導電極とイオン発生電極との間または電極間の放電によ
ってギャップの近傍に高密度の正負イオンが発生する。
そして、イオン発生電極または電極と感光体との間に負
のバイアス電圧を印加することで、ギャップ近傍に発生
した正負イオンのうちの負イオンが感光体に作用して感
光体が一様帯電される。この際、帯電装置は、請求項1
ないし7のいずれか一記載のイオン発生装置が奏する作
用を奏する。また、請求項9記載の発明では、転写位置
でギャップを感光体に対向させてイオン発生装置を配置
し、誘導電極とイオン発生電極との間または電極間に高
周波電圧を印加する。これにより、誘導電極とイオン発
生電極との間または電極間の放電によってギャップの近
傍に高密度の正負イオンが発生する。そして、イオン発
生電極または電極と感光体との間に正のバイアス電圧を
印加することで、現像プロセスを経て感光体上に形成さ
れた現像画像が転写位置で転写媒体に転写される。この
際、転写装置は、請求項1ないし7のいずれか一記載の
イオン発生装置が奏する作用を奏する。
Therefore, according to the electrophotographic recording apparatus of the eighth or ninth aspect, the image recording is performed through the basic processes of electrophotography of charging, exposing, developing, and transferring the photosensitive member. At this time, in the invention according to claim 8,
An ion generator is arranged with a gap facing the photoconductor at the charging position of the photoconductor, and a high-frequency voltage is applied between the induction electrode and the ion generation electrode or between the electrodes. Accordingly, high-density positive and negative ions are generated in the vicinity of the gap due to discharge between the induction electrode and the ion generation electrode or between the electrodes.
Then, by applying a negative bias voltage between the ion generating electrode or the electrode and the photoconductor, negative ions of the positive and negative ions generated in the vicinity of the gap act on the photoconductor and the photoconductor is uniformly charged. You. In this case, the charging device is a first charging device.
8. The operation of the ion generator according to any one of 7 to 7 is achieved. In the ninth aspect of the present invention, the ion generator is disposed with the gap facing the photoconductor at the transfer position, and a high-frequency voltage is applied between the induction electrode and the ion generation electrode or between the electrodes. Accordingly, high-density positive and negative ions are generated in the vicinity of the gap due to discharge between the induction electrode and the ion generation electrode or between the electrodes. Then, by applying a positive bias voltage between the ion generating electrode or the electrode and the photoconductor, the developed image formed on the photoconductor through the developing process is transferred to the transfer medium at the transfer position. At this time, the transfer device has the function of the ion generator according to any one of claims 1 to 7.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】本発明のイオン発生装置の第1の
実施の形態を図1および図2に基づいて説明する。図1
はイオン発生装置の縦断正面図、図2はその平面図、図
3はその底面図、図4は図2および図3におけるA−
A’線断面図、図5はホルダに保持されたイオン発生装
置の正面図、図6はその一部を拡大して示す平面図であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the ion generator according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG.
2 is a vertical sectional front view of the ion generator, FIG. 2 is a plan view thereof, FIG. 3 is a bottom view thereof, and FIG.
FIG. 5 is a front view of the ion generator held by the holder, and FIG. 6 is a partially enlarged plan view showing the ion generator.

【0025】まず、絶縁性を有する絶縁基板1が設けら
れ、この絶縁基板1上には、誘導電極2、誘電体層3、
イオン発生電極4、および保護層5がスクリーン印刷に
よって順に積層形成されている。この場合、誘電体層3
は誘導電極2と共に絶縁基板1の表面全体を覆い、イオ
ン発生電極4は誘電体層3の上に形成されて誘導電極2
との間にギャップGを形成する。そして、イオン発生電
極4はこのイオン発生電極4および誘電体層3を覆う保
護層5によって保護されている。
First, an insulating substrate 1 having an insulating property is provided. On the insulating substrate 1, an induction electrode 2, a dielectric layer 3,
The ion generating electrode 4 and the protective layer 5 are sequentially laminated by screen printing. In this case, the dielectric layer 3
Covers the entire surface of the insulating substrate 1 together with the induction electrode 2, and the ion generating electrode 4 is formed on the dielectric layer 3
To form a gap G. The ion generating electrode 4 is protected by a protective layer 5 that covers the ion generating electrode 4 and the dielectric layer 3.

【0026】ここで、絶縁基板1は、アルミナを材料と
する長さ360mmの扁平の矩形部材である。誘導電極
2およびイオン発生電極4は、例えば銀系(銀/パラジ
ウム、銀/白金等)の導体により形成されている。誘電
体層3は、例えばガラス絶縁層(ホウ珪酸鉛系ガラスや
アルミナフィラーを含有するホウ珪酸鉛系ガラス等)で
あり、厚さ20〜40μm程度に形成されている。保護
層5は、ガラス系(ホウ珪酸鉛系ガラス、シリカ等)ま
たは樹脂系(ポリイミド、エポキシ、シリコーン)の材
料によって形成され、厚さ10μm程度以下に形成され
ている。
Here, the insulating substrate 1 is a flat rectangular member having a length of 360 mm and made of alumina. The induction electrode 2 and the ion generation electrode 4 are formed of, for example, a silver (silver / palladium, silver / platinum, etc.) conductor. The dielectric layer 3 is, for example, a glass insulating layer (such as a lead borosilicate glass or a lead borosilicate glass containing an alumina filler), and is formed to a thickness of about 20 to 40 μm. The protective layer 5 is formed of a glass (lead borosilicate glass, silica, etc.) or resin (polyimide, epoxy, silicone) material and is formed to a thickness of about 10 μm or less.

【0027】図2ないし図4に示すように、誘導電極2
およびイオン発生電極4は、絶縁基板1に形成されたス
ルーホール6を介して絶縁基板1の下面に配置された給
電電極2a,4aに接続されている。また、絶縁基板1
の下面には発熱体7が膜状形成されており、この発熱体
7の給電電極7aも絶縁基板1の下面に配置されてい
る。そして、絶縁基板1の上面においては、誘導電極2
とイオン発生電極4とによって形成されるイオン発生部
IG以外の位置に位置する誘導電極2とイオン発生電極
4との導線パターンを覆う絶縁体層8が設けられてい
る。
As shown in FIG. 2 to FIG.
The ion generating electrode 4 is connected to power supply electrodes 2 a and 4 a disposed on the lower surface of the insulating substrate 1 via through holes 6 formed in the insulating substrate 1. Also, the insulating substrate 1
A heating element 7 is formed in a film-like shape on the lower surface of the substrate 1. The power supply electrode 7a of the heating element 7 is also arranged on the lower surface of the insulating substrate 1. Then, on the upper surface of the insulating substrate 1, the induction electrode 2
An insulator layer 8 is provided to cover a conductive wire pattern of the induction electrode 2 and the ion generation electrode 4 located at a position other than the ion generation part IG formed by the ion generation part 4 and the ion generation part 4.

【0028】ついで、図5および図6に示すように、上
層および誘導電極2,4等が積層形成された絶縁基板1
は、ホルダ9に保持されている。このホルダ9は、絶縁
基板1と同じ長さである360mmの長さでピーク材に
より形成され、絶縁基板1の裏面両側部と面接触する基
準面9aと、絶縁基板1のイオン発生部IGが形成され
たイオン発生面両側部に弾発的に点接触する複数個の保
持爪9bとを備え、絶縁基板1の裏面との間に5mm程
度の微小な隙間である放熱空間9cを形成した状態で絶
縁基板1を保持する。ここで、保持爪9bは、2mm程
度の高さで(図5参照)30mm程度の間隔で形成され
た平面形状三角形状の部材であり(図6参照)、先端の
直径1mm程度の膨らみによって絶縁基板1を基準面9
aに押しつける。そこで、ホルダ9に絶縁基板1を取り
付けるには、ホルダ9の両端部と絶縁基板1の両端部と
が位置合わせされる位置まで基準面9aと保持爪9bと
の間に絶縁基板1を挿入する。これにより、絶縁基板1
は保持爪9bによって基準面9aに押しつけられたよう
な状態でホルダ9に保持される。そして、製造時や保守
時等にホルダ9に対する絶縁基板1の挿入動作が繰り返
されたとしても、ホルダ9は耐摩耗性に優れたピーク材
によって形成されているため、保持爪9bの先端部の摩
耗が生じにくく、保持爪9bによる絶縁基板1の保持力
が低下しない。しかも、ピーク材は耐熱性に優れている
ため、絶縁基板1の動作時の発熱によってホルダ9が損
傷を受けることがなく、また、ピーク材は熱容量が少な
いため、イオン発生効率が向上する。このようなイオン
発生効率の向上には、放熱空間9cが設けられているこ
とも寄与している。なお、ホルダ9のこのような特性
は、ホルダ9の材料としてPPSや液晶ポリマーを用い
た場合にも同様に得られる。また、保持爪9bの摩耗防
止という点に関しては、保持爪9bの先端に耐摩耗性部
材を固定した場合にも同様の効果が得られる。
Next, as shown in FIGS. 5 and 6, the insulating substrate 1 on which the upper layer and the induction electrodes 2 and 4 are laminated is formed.
Are held by the holder 9. The holder 9 is formed of a peak material having a length of 360 mm, which is the same length as the insulating substrate 1, and includes a reference surface 9 a that makes surface contact with both sides of the back surface of the insulating substrate 1, and an ion generating portion IG of the insulating substrate 1. A state in which a plurality of holding claws 9b that resiliently make point contact with both sides of the formed ion generating surface are provided, and a heat radiation space 9c that is a small gap of about 5 mm is formed between the holding claws 9b and the back surface of the insulating substrate 1. Hold the insulating substrate 1. Here, the holding claws 9b are planar triangular members formed at a height of about 2 mm (see FIG. 5) and at intervals of about 30 mm (see FIG. 6), and are insulated by a bulge having a diameter of about 1 mm at the tip. Substrate 1 with reference plane 9
a. Therefore, in order to attach the insulating substrate 1 to the holder 9, the insulating substrate 1 is inserted between the reference surface 9a and the holding claw 9b until both ends of the holder 9 and both ends of the insulating substrate 1 are aligned. . Thereby, the insulating substrate 1
Are held by the holder 9 in such a state that they are pressed against the reference surface 9a by the holding claws 9b. Even if the operation of inserting the insulating substrate 1 into the holder 9 is repeated at the time of manufacturing, maintenance, or the like, the holder 9 is formed of a peak material having excellent wear resistance. Wear is less likely to occur, and the holding force of the holding claws 9b of the insulating substrate 1 does not decrease. Moreover, since the peak material has excellent heat resistance, the holder 9 is not damaged by the heat generated during the operation of the insulating substrate 1, and the peak material has a small heat capacity, so that the ion generation efficiency is improved. The provision of the heat radiation space 9c also contributes to the improvement of the ion generation efficiency. Note that such characteristics of the holder 9 can be obtained similarly when PPS or a liquid crystal polymer is used as the material of the holder 9. Further, with respect to the prevention of abrasion of the holding claws 9b, the same effect can be obtained when a wear-resistant member is fixed to the tip of the holding claws 9b.

【0029】このような構成において、誘導電極2とイ
オン発生電極4との間に高周波電圧を印加すると、誘導
電極2とイオン発生電極4との間の放電によってギャッ
プGの近傍に高密度の正負イオンが発生する。そこで、
本実施の形態のイオン発生装置を、例えば図示しない感
光体を帯電させる帯電装置として用いる場合には、ギャ
ップGを感光体に対向させてイオン発生電極4と感光体
との間に負のバイアス電圧を印加する。すると、ギャッ
プG近傍に発生した正負イオンのうちの負イオンが感光
体に作用して感光体が一様帯電される。
In such a configuration, when a high-frequency voltage is applied between the induction electrode 2 and the ion generation electrode 4, high-density positive and negative charges are generated near the gap G by the discharge between the induction electrode 2 and the ion generation electrode 4. Ions are generated. Therefore,
When the ion generator of the present embodiment is used, for example, as a charging device for charging a photoconductor (not shown), a negative bias voltage is applied between the ion generating electrode 4 and the photoconductor with the gap G facing the photoconductor. Is applied. Then, the negative ions of the positive and negative ions generated near the gap G act on the photoconductor, and the photoconductor is uniformly charged.

【0030】ついで、本実施の形態のイオン発生装置で
は、各給電電極2a,4a,7aに対する給電構造およ
び絶縁基板1を保持するために保持構造が絶縁基板1の
長手方向両端部から突出しない。つまり、各給電電極2
a,4a,7aは絶縁基板1の裏面に形成されているた
めに各給電電極2a,4a,7aに対する給電構造が絶
縁基板1の長手方向両端部から突出することがない。ま
た、ホルダ9は絶縁基板1と同じ長さに形成されている
ため、同様に絶縁基板1の保持構造が絶縁基板1の長手
方向両端部から突出することがない。そして、各部に多
少の寸法誤差や発熱による絶縁基板1の膨張等があった
としても、絶縁基板1は基準面9aで位置合わせされて
保持爪9bにより精度良く支持されるため、絶縁基板1
はホルダ9によって精度良く保持される。したがって、
本実施の形態のイオン発生装置を例えば電子写真記録装
置の帯電装置や転写装置に適用した場合に、感光体との
微小ギャップを維持しながら、イオン発生装置に対する
給電構造やイオン発生装置の保持構造が感光体の両端部
から突出してしまうようなことがなく、感光体回りの小
型化が図られる。
Next, in the ion generator of the present embodiment, the power supply structure for each of the power supply electrodes 2a, 4a and 7a and the holding structure for holding the insulating substrate 1 do not protrude from both ends in the longitudinal direction of the insulating substrate 1. That is, each power supply electrode 2
Since a, 4a, and 7a are formed on the back surface of the insulating substrate 1, the power supply structure for the power supply electrodes 2a, 4a, and 7a does not protrude from both ends in the longitudinal direction of the insulating substrate 1. Further, since the holder 9 is formed to have the same length as the insulating substrate 1, similarly, the holding structure of the insulating substrate 1 does not protrude from both ends in the longitudinal direction of the insulating substrate 1. Even if there is some dimensional error in each part or expansion of the insulating substrate 1 due to heat generation, etc., the insulating substrate 1 is aligned on the reference surface 9a and is accurately supported by the holding claws 9b.
Is accurately held by the holder 9. Therefore,
When the ion generating device of the present embodiment is applied to, for example, a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording device, a power supply structure for the ion generating device or a holding structure of the ion generating device while maintaining a small gap with the photoconductor. Does not protrude from both ends of the photoconductor, and the size around the photoconductor can be reduced.

【0031】本発明のイオン発生装置の第2の実施の形
態を図7に基づいて説明する。図7はイオン発生装置の
縦断正面図である。第1の実施の形態と同一または相当
する部分は同一符号で示し説明も省略する。
A second embodiment of the ion generator according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a vertical sectional front view of the ion generator. Portions that are the same as or correspond to those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0032】本実施の形態のイオン発生装置は、電極が
第1の実施の形態のような誘導電極2とイオン発生電極
4とに分けられておらず、一括して電極10とされてい
る。つまり、絶縁性を有する絶縁基板1上に、所定の間
隔を開けて誘電体層3、電極10、および保護層5がス
クリーン印刷によって順に積層形成されている。そし
て、各電極10は1つおきに第1グループの電極10a
と第2グループの電極10bとに分けられ、第1グルー
プの電極10aと第2グループの電極10bとの間には
交流の高周波電源ESが接続されて高周波電圧が印加さ
れるようになっている。ここで、各部の材質は第1の実
施の形態のイオン発生装置と同様なのでその説明は省略
する。
In the ion generator of this embodiment, the electrodes are not divided into the induction electrode 2 and the ion generation electrode 4 as in the first embodiment, but are collectively used as the electrode 10. That is, the dielectric layer 3, the electrode 10, and the protective layer 5 are sequentially formed on the insulating substrate 1 having an insulating property at predetermined intervals by screen printing. And every other electrode 10 is a first group of electrodes 10a.
And an electrode 10b of a second group, and an AC high-frequency power supply ES is connected between the electrode 10a of the first group and the electrode 10b of the second group to apply a high-frequency voltage. . Here, since the material of each part is the same as that of the ion generator of the first embodiment, the description is omitted.

【0033】そして、本実施の形態のイオン発生装置
も、電極10に接続される図示しない給電電極が絶縁基
板1の裏面に設けられ、ホルダ9に保持されている。
In the ion generator of the present embodiment, a power supply electrode (not shown) connected to the electrode 10 is provided on the back surface of the insulating substrate 1 and held by the holder 9.

【0034】このような構成において、第1グループの
電極10aと第2グループの電極10bとの間に高周波
電源ESより高周波電圧を印加すると、第1グループの
電極10aと第2グループの電極10bとの各電極10
間に放電現象が生じ、この放電現象によって高密度の正
負イオンが発生する。そこで、本実施の形態のイオン発
生装置を、例えば図示しない感光体を帯電させる帯電装
置として用いる場合には、電極10を感光体に対向させ
て電極10と感光体との間に負のバイアス電圧を印加す
る。すると、電極10の近傍に発生した正負イオンのう
ちの負イオンが感光体に作用して感光体が一様帯電され
る。この際、本実施の形態のイオン発生装置も、電極1
0はイオン発生位置では端部が生じない無端パターンで
形成されているので、どこか1ヵ所または場所によって
は複数箇所で断線が生じても、パターン全体としての給
電が途絶えない。
In such a configuration, when a high frequency voltage is applied between the first group of electrodes 10a and the second group of electrodes 10b by the high frequency power supply ES, the first group of electrodes 10a and the second group of electrodes 10b Each electrode 10
A discharge phenomenon occurs in between, and this discharge phenomenon generates high-density positive and negative ions. Therefore, when the ion generator of the present embodiment is used, for example, as a charging device for charging a photoconductor (not shown), the electrode 10 is opposed to the photoconductor, and a negative bias voltage is applied between the electrode 10 and the photoconductor. Is applied. Then, the negative ions of the positive and negative ions generated near the electrode 10 act on the photoconductor, and the photoconductor is uniformly charged. At this time, the ion generator of the present embodiment also
Since 0 is formed in an endless pattern in which an end does not occur at the ion generation position, even if a disconnection occurs at one place or a plurality of places depending on the place, power supply as the whole pattern is not interrupted.

【0035】本発明の電子写真記録装置の一実施の形態
を図8に基づいて説明する。図8は電子写真記録装置を
示す概略側面図である。なお、図1ないし図6に基づい
て説明した部分と同一部分は同一符号で示し説明も省略
する。
One embodiment of the electrophotographic recording apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a schematic side view showing the electrophotographic recording apparatus. The same parts as those described with reference to FIGS. 1 to 6 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0036】まず、転写媒体としての転写紙11を収納
する給紙装置12と図示しない排紙部とを連絡する通紙
経路13が設けられ、この通紙経路13中には定着装置
14を含む画像プロセス部15が設けられている。
First, a paper feed path 13 is provided for connecting a paper feed device 12 for storing transfer paper 11 as a transfer medium and a discharge unit (not shown). The paper feed path 13 includes a fixing device 14. An image processing unit 15 is provided.

【0037】画像プロセス部15は、感光ドラム構成の
感光体16を主体として構成される。この感光体16の
周囲には、帯電装置17、現像装置18、転写装置1
9、剥離装置20、クリーニング装置21が順に配設さ
れている。そして、帯電装置17と現像装置18との間
が露光位置EXとなり、画像プロセス部15には、その
露光位置EXにレーザビーム(以下、レーザ光という)
を照射する図示しないイメージ露光装置が設けられてい
る。
The image processing section 15 is mainly composed of a photosensitive member 16 having a photosensitive drum configuration. Around the photoconductor 16, a charging device 17, a developing device 18, a transfer device 1
9, a peeling device 20, and a cleaning device 21 are arranged in this order. An exposure position EX is defined between the charging device 17 and the developing device 18, and the image processing unit 15 supplies a laser beam (hereinafter, referred to as laser light) to the exposure position EX.
An image exposure device (not shown) for irradiating light is provided.

【0038】ここで、帯電装置17、転写装置19およ
び剥離装置20として、第1の実施の形態に示されたイ
オン発生装置が用いられている。つまり、帯電装置17
では、ギャップGを感光体16に対向させてイオン発生
装置を配置し、イオン発生電極4と感光体16との間に
負のバイアス電圧を印加するようにする。これにより、
ギャップG近傍に発生した正負イオンのうちの負イオン
が感光体16に作用して感光体16が一様帯電される。
また、転写装置19では、ギャップGを感光体16に対
向させてイオン発生装置を配置し、イオン発生電極4と
感光体16との間に正のバイアス電圧を印加するように
する。これにより、現像装置18による現像プロセスを
経て感光体16上に形成された現像画像が転写位置で転
写紙11に転写される。そして、剥離装置20では、ギ
ャップGを感光体16に対向させてイオン発生装置を配
置し、イオン発生電極4と感光体16との間のバイアス
電圧を0にする。これにより、ギャップGに発生した正
負のイオンで転写紙11の電荷が除電され、転写紙11
が感光体16から剥離する。
Here, the ion generator described in the first embodiment is used as the charging device 17, the transfer device 19, and the peeling device 20. That is, the charging device 17
In this embodiment, an ion generator is arranged so that the gap G faces the photoconductor 16, and a negative bias voltage is applied between the ion generating electrode 4 and the photoconductor 16. This allows
The negative ions of the positive and negative ions generated in the vicinity of the gap G act on the photoconductor 16 to uniformly charge the photoconductor 16.
In the transfer device 19, an ion generator is arranged with the gap G facing the photoconductor 16, and a positive bias voltage is applied between the ion generation electrode 4 and the photoconductor 16. Thus, the developed image formed on the photoconductor 16 through the developing process by the developing device 18 is transferred to the transfer paper 11 at the transfer position. Then, in the peeling device 20, the ion generator is disposed with the gap G facing the photoconductor 16, and the bias voltage between the ion generating electrode 4 and the photoconductor 16 is set to zero. Thereby, the charge of the transfer paper 11 is eliminated by the positive and negative ions generated in the gap G, and the transfer paper 11
Is separated from the photoconductor 16.

【0039】次に、画像プロセス部15を構成する各部
のうち、一部はユニット化されて電子写真プロセス装置
22となっている。この電子写真プロセス装置22は、
感光体16、帯電装置17、転写装置19および剥離装
置20から構成されている。
Next, a part of each part constituting the image processing unit 15 is unitized to form an electrophotographic processing apparatus 22. This electrophotographic process device 22 includes:
It comprises a photoreceptor 16, a charging device 17, a transfer device 19 and a peeling device 20.

【0040】このような構成において、画像プロセス部
15では、帯電装置17の帯電によって感光体16をマ
イナス極性に一様に帯電する。そして、感光体16は露
光位置EXにおいて一様に帯電されているため、この露
光位置EXにイメージ露光装置から画像情報に応じて光
ビームを照射することで、感光体16に静電潜像が形成
される。つまり、感光体16では、その帯電電位との電
位差が光ビームの照射部分に生じ、この部分が静電潜像
となる。現像装置18は、露光位置EXで感光体16に
形成された静電潜像にこの静電潜像と電位差を持つトナ
ーを付着させて顕像化する。転写装置19は、顕像化さ
れた感光体16上の現像画像を電位差によって吸引し、
その現像画像を転写紙11に転写させる。剥離装置20
は、現像画像転写後の転写紙11を感光体16から剥離
させる。クリーニング装置21は、転写プロセス後の感
光体16に残留するトナーを掻き落す等の方法でクリー
ニングする。そして、定着装置14は、通紙経路13中
において転写装置19の下流側に配置されており、転写
装置19を通過した後の転写紙11に付着する未定着ト
ナーを加熱・加圧作用によって定着する。
In such a configuration, in the image processing section 15, the photosensitive member 16 is uniformly charged to a negative polarity by the charging of the charging device 17. Since the photoconductor 16 is uniformly charged at the exposure position EX, an electrostatic latent image is formed on the photoconductor 16 by irradiating the exposure position EX with a light beam from an image exposure apparatus according to image information. It is formed. That is, in the photoconductor 16, a potential difference from the charged potential is generated in a portion irradiated with the light beam, and this portion becomes an electrostatic latent image. The developing device 18 visualizes the electrostatic latent image formed on the photoreceptor 16 by attaching toner having a potential difference to the electrostatic latent image on the photosensitive member 16 at the exposure position EX. The transfer device 19 sucks the developed image on the photoconductor 16 by a potential difference,
The developed image is transferred to the transfer paper 11. Stripping device 20
Removes the transfer paper 11 after the transfer of the developed image from the photoconductor 16. The cleaning device 21 performs cleaning by, for example, scraping off toner remaining on the photoconductor 16 after the transfer process. The fixing device 14 is disposed downstream of the transfer device 19 in the paper passage path 13 and fixes unfixed toner adhering to the transfer paper 11 after passing through the transfer device 19 by a heating / pressing action. I do.

【0041】このように、本実施の形態の電子写真記録
装置によれば、感光体16に対する帯電、露光、現像、
転写という電子写真の基本的なプロセスを経て画像記録
が行なわれる。この際、帯電装置17、転写装置19お
よび剥離装置20において、第1の実施の形態に示され
たイオン発生装置の作用効果が奏される。つまり、感光
体16との微小ギャップを維持しながら、イオン発生装
置に対する給電構造やイオン発生装置の保持構造が感光
体16の両端部から突出してしまうようなことがなく、
感光体16回りの小型化が図られる。
As described above, according to the electrophotographic recording apparatus of the present embodiment, charging, exposure, development,
Image recording is performed through a basic process of electrophotography called transfer. At this time, in the charging device 17, the transfer device 19, and the peeling device 20, the operation and effect of the ion generating device described in the first embodiment are exerted. In other words, the power supply structure for the ion generator and the holding structure of the ion generator do not protrude from both ends of the photoconductor 16 while maintaining the minute gap with the photoconductor 16.
The size around the photoconductor 16 can be reduced.

【0042】なお、実施に当たっては、帯電装置17、
転写装置19および剥離装置20として、第2の実施の
形態に示されたイオン発生装置を用いるようにしても良
い。
In implementation, the charging device 17,
As the transfer device 19 and the peeling device 20, the ion generator described in the second embodiment may be used.

【0043】[0043]

【発明の効果】請求項1または2記載のイオン発生装置
は、イオン発生のための放電に寄与する電極(誘導電
極、イオン発生電極、電極)に対し、例えば絶縁基板に
形成されたスルーホールを介して(請求項3)接続され
る給電電極を絶縁基板の裏面に設けたので、絶縁基板の
長手方向端部から突出させることなく給電電極に対する
給電構造を設けることができ、したがって、電子写真記
録装置の帯電装置や転写装置に適用した場合に感光体の
両端からの給電構造の突出をなくして感光体回りの小型
化を図ることができる。
According to the first or second aspect of the present invention, the electrode (induction electrode, ion generation electrode, electrode) that contributes to the discharge for generating ions is provided with a through hole formed in, for example, an insulating substrate. Since the power supply electrode connected to the power supply electrode is provided on the back surface of the insulating substrate, a power supply structure for the power supply electrode can be provided without protruding from the longitudinal end of the insulating substrate. When the present invention is applied to a charging device or a transfer device of an apparatus, it is possible to eliminate the protrusion of the power supply structure from both ends of the photoconductor, thereby reducing the size around the photoconductor.

【0044】請求項4記載の発明は、請求項1または2
記載のイオン発生装置において、絶縁基板のイオン発生
部以外に位置する導線パターンを覆う絶縁体層を設けた
ので、電子写真記録装置の帯電装置や転写装置に適用し
た場合に感光体との絶縁性を確実に維持することができ
る。
The fourth aspect of the present invention provides the first or second aspect.
In the ion generating apparatus described above, an insulating layer is provided to cover the conductive wire pattern located on the insulating substrate other than the ion generating section, so that when applied to a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording device, the insulating property with the photoreceptor is improved. Can be reliably maintained.

【0045】請求項5または6記載のイオン発生装置
は、絶縁基板の一面側両側部と面接触する基準面とその
絶縁基板の他面側両側部に弾発的に点接触する複数個の
保持爪とにより絶縁基板をその裏面中央部と非接触状態
で保持するホルダを設けたので、各部に多少の寸法誤差
や発熱による絶縁基板の膨張等があったとしても絶縁基
板を基準面で位置合わせして精度良く支持し、電子写真
記録装置の帯電装置や転写装置に適用した場合に感光体
との微小ギャップを維持することができる。したがっ
て、絶縁基板の長手方向両端から突出物がない絶縁基板
の保持構造を実現することができ、電子写真記録装置の
帯電装置や転写装置に適用した場合に感光体の両端から
の保持構造の突出をなくして感光体回りの小型化を図る
ことができる。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the ion generator, wherein a plurality of holding surfaces which come into resilient point contact with both sides of the insulating substrate on the one side of the insulating substrate and two sides of the other side of the insulating substrate. A holder is provided to hold the insulating substrate in a non-contact state with the center of the back surface by means of claws, so that the insulating substrate can be positioned on the reference surface even if there is some dimensional error in each part or expansion of the insulating substrate due to heat generation. When the present invention is applied to a charging device or a transfer device of an electrophotographic recording apparatus, it is possible to maintain a small gap with the photoconductor. Therefore, it is possible to realize a holding structure of the insulating substrate having no protrusions from both ends in the longitudinal direction of the insulating substrate. And the size around the photoconductor can be reduced.

【0046】請求項5または6記載のイオン発生装置に
おいて、少なくとも保持爪の先端を耐摩耗性部材により
形成したので、ホルダの基準面と保持爪との間に絶縁基
板をスライド挿入するようなことを繰り返しても保持爪
の摩耗による劣化を防止することができ、したがって、
保持爪の摩耗劣化による絶縁基板の保持強度の低下を防
止して絶縁基板を確実に保持することができる。
In the ion generator according to claim 5 or 6, since at least the tip of the holding claw is formed of a wear-resistant member, the insulating substrate is slid and inserted between the reference surface of the holder and the holding claw. Can be prevented from being deteriorated due to wear of the holding claws.
A decrease in holding strength of the insulating substrate due to deterioration of the holding claws can be prevented, and the insulating substrate can be held securely.

【0047】そして、請求項1ないし7のいずれか一記
載のイオン発生装置は、電子写真記録装置における感光
体を帯電させる帯電装置(請求項8)、電子写真記録装
置における感光体に形成された現像画像を転写媒体に転
写する転写装置(請求項9)等に利用することができ、
これらの帯電装置や転写装置は、請求項1ないし7のい
ずれか一記載のイオン発生装置と同様の効果を奏する。
The ion generator according to any one of claims 1 to 7 is formed on a charging device for charging a photoreceptor in an electrophotographic recording device (claim 8) and on a photoreceptor in an electrophotographic recording device. It can be used in a transfer device (Claim 9) for transferring a developed image to a transfer medium, and the like.
These charging devices and transfer devices have the same effects as the ion generator of any one of claims 1 to 7.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のイオン発生装置の第1の実施の形態を
示す縦断正面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional front view showing a first embodiment of an ion generator of the present invention.

【図2】その平面図である。FIG. 2 is a plan view thereof.

【図3】その底面図である。FIG. 3 is a bottom view thereof.

【図4】図2および図3におけるA−A’線断面図であ
る。
FIG. 4 is a sectional view taken along line AA ′ in FIGS. 2 and 3;

【図5】ホルダに保持されたイオン発生装置の正面図で
ある。
FIG. 5 is a front view of the ion generator held by a holder.

【図6】その一部を拡大して示す平面図である。FIG. 6 is an enlarged plan view showing a part thereof.

【図7】本発明のイオン発生装置の第2の実施の形態を
示す縦断正面図である。
FIG. 7 is a vertical sectional front view showing a second embodiment of the ion generator of the present invention.

【図8】本発明の電子写真記録装置の一実施の形態を示
す側面図である。
FIG. 8 is a side view showing an embodiment of the electrophotographic recording apparatus of the present invention.

【図9】従来のイオン発生装置の一例を示す縦断正面図
である。
FIG. 9 is a vertical sectional front view showing an example of a conventional ion generator.

【図10】ホルダに保持されたイオン発生装置の正面図
である。
FIG. 10 is a front view of the ion generator held by the holder.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1: 絶縁基板 2: 誘導電極 3: 誘電体層 4: イオン発生電極 5: 保護層 14: 定着装置 16: 感光体 17: 帯電装置 18: 現像装置 19: 転写装置 G: ギャップ 1: Insulating substrate 2: Induction electrode 3: Dielectric layer 4: Ion generation electrode 5: Protective layer 14: Fixing device 16: Photoconductor 17: Charging device 18: Developing device 19: Transfer device G: Gap

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性を有する絶縁基板と;前記絶縁基
板上に形成された誘導電極と;前記絶縁基板および前記
誘導電極を覆う誘電体層と;前記誘電体層上に形成さ
れ、前記誘導電極との間にギャップを形成するイオン発
生電極と;前記イオン発生電極を覆う保護層と;前記絶
縁基板の裏面に設けられ、それぞれ前記誘導電極と前記
イオン発生電極とに独立して接続された給電電極と;を
備えることを特徴とするイオン発生装置。
An insulating substrate having an insulating property; an induction electrode formed on the insulating substrate; a dielectric layer covering the insulating substrate and the induction electrode; a dielectric layer formed on the dielectric layer; An ion generating electrode for forming a gap between the electrode and the electrode; a protective layer covering the ion generating electrode; a protective layer provided on the back surface of the insulating substrate, and independently connected to the induction electrode and the ion generating electrode, respectively. A power supply electrode; and an ion generator.
【請求項2】 絶縁性を有する絶縁基板と;前記絶縁基
板上に形成された誘電体層と;前記誘電体層上に複数間
隔をおいて並設されて電気的に接続された第1グループ
の電極と;前記誘電体層上に複数間隔をおいて並設され
て電気的に接続され、少なくとも一部が前記第1グルー
プの電極に近接する第2グループの電極と;前記電極を
覆う保護層と;前記絶縁基板の裏面に設けられ、それぞ
れ各グループの前記電極に独立して接続された給電電極
と;を備えることを特徴とするイオン発生装置。
An insulating substrate having an insulating property; a dielectric layer formed on the insulating substrate; and a first group electrically connected to the dielectric layer at a plurality of intervals. A second group of electrodes which are electrically connected in parallel at a plurality of intervals on the dielectric layer and at least a part of which is close to the first group of electrodes; and a protection covering the electrodes. A power supply electrode provided on a back surface of the insulating substrate and independently connected to the electrodes of each group.
【請求項3】 電極と給電電極との接続は絶縁基板に形
成されたスルーホールを介してなされていることを特徴
とする請求項1または2記載のイオン発生装置。
3. The ion generator according to claim 1, wherein the connection between the electrode and the power supply electrode is made through a through hole formed in the insulating substrate.
【請求項4】 絶縁基板表面のイオン発生部以外に位置
する導線パターンを覆う絶縁体層をさらに備えることを
特徴とする請求項1または2記載のイオン発生装置。
4. The ion generator according to claim 1, further comprising an insulator layer covering a conductive wire pattern located on the surface of the insulating substrate other than the ion generating portion.
【請求項5】 絶縁性を有する絶縁基板と;前記絶縁基
板上に形成された誘導電極と;前記絶縁基板および前記
誘導電極を覆う誘電体層と;前記誘電体層上に形成さ
れ、前記誘導電極との間にギャップを形成するイオン発
生電極と;前記イオン発生電極を覆う保護層と;前記絶
縁基板の一面側両側部と面接触する基準面とその絶縁基
板の他面側両側部に弾発的に点接触する複数個の保持爪
とを用いて前記絶縁基板を保持するホルダと;を備える
ことを特徴とするイオン発生装置。
5. An insulating substrate having an insulating property; an induction electrode formed on the insulating substrate; a dielectric layer covering the insulating substrate and the induction electrode; An ion generating electrode for forming a gap between the electrode and the electrode; a protective layer covering the ion generating electrode; a reference surface in surface contact with both sides of one surface of the insulating substrate; A holder for holding the insulating substrate using a plurality of holding claws that come into point contact with each other.
【請求項6】 絶縁性を有する絶縁基板と;前記絶縁基
板上に形成された誘電体層と;前記誘電体層上に並設さ
れた複数の電極と;前記電極を覆う保護層と;前記絶縁
基板の一面側両側部と面接触する基準面とその絶縁基板
の他面側両側部に弾発的に点接触する複数個の保持爪と
を用いて前記絶縁基板を保持するホルダと;を備えるこ
とを特徴とするイオン発生装置。
6. An insulating substrate having an insulating property; a dielectric layer formed on the insulating substrate; a plurality of electrodes arranged in parallel on the dielectric layer; a protective layer covering the electrodes; A holder that holds the insulating substrate using a reference surface that makes surface contact with both sides of the one surface side of the insulating substrate and a plurality of holding claws that resiliently make point contact with both sides of the other surface of the insulating substrate; An ion generator, comprising:
【請求項7】 少なくとも保持爪の先端は耐摩耗性部材
によって形成されていることを特徴とする請求項5また
は6記載のイオン発生装置。
7. The ion generator according to claim 5, wherein at least a tip of the holding claw is formed of a wear-resistant member.
【請求項8】 感光体と;請求項1ないし7のいずれか
一記載のイオン発生装置により形成され、前記感光体を
一様に帯電させる帯電装置と;前記帯電装置により一様
帯電された前記感光体を露光して静電潜像を形成するイ
メージ露光装置と;前記感光体に形成された静電潜像に
トナーを付着させて現像する現像装置と;前記感光体に
形成された現像画像を転写媒体に転写する転写装置と;
前記転写媒体上の転写画像を定着する定着装置と;を備
えることを特徴とする電子写真記録装置。
8. A photoconductor, a charging device formed by the ion generator according to claim 1, and configured to uniformly charge the photoconductor, wherein the charging device is uniformly charged by the charging device. An image exposure device that exposes a photoconductor to form an electrostatic latent image; a developing device that applies toner to the electrostatic latent image formed on the photoconductor to develop the image; and a developed image formed on the photoconductor A transfer device for transferring the image onto a transfer medium;
And a fixing device for fixing the transferred image on the transfer medium.
【請求項9】 感光体と;前記感光体を一様に帯電させ
る帯電装置と;前記帯電装置により一様帯電された前記
感光体を露光して静電潜像を形成するイメージ露光装置
と;前記感光体に形成された静電潜像にトナーを付着さ
せて現像する現像装置と;請求項1ないし7のいずれか
一記載のイオン発生装置により形成され、前記感光体に
形成された現像画像を転写媒体に転写する転写装置と;
前記転写媒体上の転写画像を定着する定着装置と;を備
えることを特徴とする電子写真記録装置。
9. A photoreceptor; a charging device for uniformly charging the photoreceptor; an image exposing device for exposing the photoreceptor uniformly charged by the charging device to form an electrostatic latent image; A developing device for attaching toner to the electrostatic latent image formed on the photoconductor to develop the electrostatic latent image, and a developed image formed on the photoconductor by the ion generator according to claim 1. A transfer device for transferring the image onto a transfer medium;
And a fixing device for fixing the transferred image on the transfer medium.
JP10049597A 1997-04-17 1997-04-17 Ion generator and electrophotographic recording device Abandoned JPH10294163A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10049597A JPH10294163A (en) 1997-04-17 1997-04-17 Ion generator and electrophotographic recording device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10049597A JPH10294163A (en) 1997-04-17 1997-04-17 Ion generator and electrophotographic recording device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10294163A true JPH10294163A (en) 1998-11-04

Family

ID=14275520

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10049597A Abandoned JPH10294163A (en) 1997-04-17 1997-04-17 Ion generator and electrophotographic recording device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10294163A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009300597A (en) * 2008-06-11 2009-12-24 Sharp Corp Ion generating element, charging device, and image forming apparatus
US8055157B2 (en) 2008-02-29 2011-11-08 Sharp Kabushiki Kaisha Ion generating element, charging device and image forming apparatus
KR101497301B1 (en) * 2009-03-18 2015-03-03 한라비스테온공조 주식회사 Heat exchanger

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8055157B2 (en) 2008-02-29 2011-11-08 Sharp Kabushiki Kaisha Ion generating element, charging device and image forming apparatus
JP2009300597A (en) * 2008-06-11 2009-12-24 Sharp Corp Ion generating element, charging device, and image forming apparatus
US8068768B2 (en) 2008-06-11 2011-11-29 Sharp Kabushiki Kaisha Ion generating element, charging device, and image forming apparatus
KR101497301B1 (en) * 2009-03-18 2015-03-03 한라비스테온공조 주식회사 Heat exchanger

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4536087B2 (en) Ion generating element, charging device and image forming apparatus
WO2005087496A1 (en) Printing head and image forming device provided with the printing head
KR950011879B1 (en) Ionographic image forming apparatus
US8055157B2 (en) Ion generating element, charging device and image forming apparatus
JPH118042A (en) Ion generation substrate and electrophotography recording device
JPH10294163A (en) Ion generator and electrophotographic recording device
CN101334618B (en) Charging device, image forming apparatus, control method of charging device
JPH11194581A (en) Ion generator and electrophotographic recorder
JPH0690568B2 (en) Electrophotographic charging device
US5974296A (en) Fixing device having plural trigger electrodes
US6246852B1 (en) Grid electrode for corona charger
US6070033A (en) Charging device for an electrophotographic imaging forming system utilizing thin film conducting members
JPH10213954A (en) Electrophotographic recorder
JPH10294162A (en) Ion generator and electrophotgraphic recording device
JP2555866B2 (en) Electrophotographic charging device
JPH09230672A (en) Electrostatic charging device
JP2000348847A (en) Ion generating device, electrifying device, transferring device, static eliminating device and image forming device
JP2000113962A (en) Ion generating device and electrophotographic recording device
JPH10198124A (en) Electrifier and its production
JP3579222B2 (en) Contact charging device
JPS62105163A (en) Ion generating device
JP2004037600A (en) Image forming apparatus
JPH1097119A (en) Ion generating device and image forming device provided with same ion generating device
JPH05224507A (en) Ion generator
JP2009009862A (en) Ion generating element, charging device, and image forming device

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20040413

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Effective date: 20040413

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040414

A521 Written amendment

Effective date: 20040413

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20040526

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Effective date: 20040526

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

A072 Dismissal of procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A073

Effective date: 20040714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061003

A762 Written abandonment of application

Effective date: 20061121

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762