JP2000113962A - Ion generating device and electrophotographic recording device - Google Patents

Ion generating device and electrophotographic recording device

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JP2000113962A
JP2000113962A JP10294442A JP29444298A JP2000113962A JP 2000113962 A JP2000113962 A JP 2000113962A JP 10294442 A JP10294442 A JP 10294442A JP 29444298 A JP29444298 A JP 29444298A JP 2000113962 A JP2000113962 A JP 2000113962A
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Japan
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electrode
protective layer
substrate
image
ion generator
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Japanese (ja)
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Tsukasa Sugano
司 菅野
Shiro Ezaki
史郎 江崎
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Toshiba Lighting and Technology Corp
Toshiba AVE Co Ltd
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Toshiba Lighting and Technology Corp
Toshiba AVE Co Ltd
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  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ion generating device capable of generating sufficient ions while increasing the durability of an electrode. SOLUTION: This ion generating device is provided with an electric insulating substrate 1, first electrodes 2 formed on the substrate 1, a dielectric layer 3 covering the substrate 1 and the first electrodes 2, second electrodes 4 formed on the dielectric layer 3 at positions at least not overlapped on the first electrodes 2 partially, and protective layers 5 covering the second electrodes 4 so that the thickness of the second electrodes 4 is made thicker at the upper portion than at the side portions.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば画像形成等
に使用されるイオン発生装置および電子写真記録装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ion generator and an electrophotographic recording apparatus used for, for example, image formation.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、複写機やレーザプリンタ等の電子
写真記録装置の帯電装置等に用いられるイオン発生装置
として、セラミックス基板上にコロナ放電を誘起させる
ための電極を膜状に形成したものが開発されている。
2. Description of the Related Art In recent years, as an ion generator used for a charging device of an electrophotographic recording apparatus such as a copying machine or a laser printer, an electrode for inducing a corona discharge on a ceramic substrate in a film shape has been developed. Is being developed.

【0003】この種のイオン発生装置としては、例えば
特開平8−82980号公報に開示されるものが知られ
ている。このイオン発生装置は、セラミックス製の基板
上に誘電体層を挟んで2つの電極を薄膜技術により形成
する。そして、これら電極間に交流電圧を印加し、2つ
の電極間にコロナ放電を生起させて電極間近傍の空気を
イオン化させるものである。以下にこのイオン発生装置
について詳しく説明する。
As this type of ion generator, for example, one disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-82980 is known. In this ion generator, two electrodes are formed by a thin film technique on a ceramic substrate with a dielectric layer interposed therebetween. Then, an AC voltage is applied between these electrodes to generate corona discharge between the two electrodes to ionize the air near the electrodes. Hereinafter, the ion generator will be described in detail.

【0004】図7は、従来のイオン発生装置およびそれ
を帯電装置に使用した場合の電気配線を示す概念図であ
る。図において、基板101の上に第1電極102が薄
膜技術により形成されている。この第1電極102と基
板101は誘電体層103で覆われている。この誘電体
層103の上には第2電極104が薄膜技術により形成
され、このとき第1電極102の上方には第2電極10
4が位置しないように形成される。そして、誘電体層1
03と第2電極104は保護層108で覆われている。
FIG. 7 is a conceptual diagram showing a conventional ion generator and electric wiring when the ion generator is used for a charging device. In the figure, a first electrode 102 is formed on a substrate 101 by a thin film technique. The first electrode 102 and the substrate 101 are covered with a dielectric layer 103. A second electrode 104 is formed on the dielectric layer 103 by a thin film technique, and a second electrode 10
4 is formed so as not to be located. And the dielectric layer 1
03 and the second electrode 104 are covered with a protective layer 108.

【0005】このようにして形成されたイオン発生装置
は、図7に示すように感光体の帯電装置として電子写真
記録装置に組み込まれた状態においては、感光体105
に所定の間隔を設けて対向配置される。そして、高周波
電源106によって第1電極102と第2電極104と
の間に高周波電圧を印加し、図13における矢印で示す
ように第1電極と第2電極との間に周期的に極性の変化
する漏れ電界Eを発生させて両電極間の近傍の空気中す
なわちイオン発生装置の表面に正負イオンを発生させ
る。このとき、第2電極104と感光体105との間に
直流電源107より感光体105か零電位で第2電極1
04側か負となるバイアス電圧を印加すると、発生した
正負イオンのうちの負イオンが感光体105に引き寄せ
られて感光体105が一様に帯電される。
[0005] The ion generator thus formed is, as shown in FIG. 7, as a charging device for a photoreceptor, when it is incorporated in an electrophotographic recording apparatus.
Are arranged facing each other at a predetermined interval. Then, a high-frequency voltage is applied between the first electrode 102 and the second electrode 104 by the high-frequency power supply 106, and the polarity periodically changes between the first and second electrodes as indicated by the arrow in FIG. A positive and negative ion is generated in the air near the two electrodes, that is, on the surface of the ion generator. At this time, between the second electrode 104 and the photoconductor 105, the DC power supply 107 supplies the second electrode 1 with zero potential from the photoconductor 105.
When a negative bias voltage is applied to the 04 side, negative ions of the generated positive and negative ions are attracted to the photoconductor 105 and the photoconductor 105 is uniformly charged.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
イオン発生装置は、次の問題点を有する。
However, the above-mentioned ion generator has the following problems.

【0007】第1電極102と第2電極104との間へ
の高周波電圧の印加によって正負イオンか発生すると、
発生したイオンは感光体105だけでなく第1電極およ
び第2電極にも吸引されて保護層108に衝突し、この
衝突によるスパッタリング作用によってイオン発生装置
の表面の保護層108が削られる。このため、継続的な
使用によって第2電極104が露出し、銀系や銅系の導
電材料を主成分として第2電極104が形成されている
場合には、それの酸化や硫化等の腐食が進行しやすくな
る。またさらに、スパッタリング作用が第2電極104
にまで及ぶと電極が削られ、その結果、第2電極104
が断線することがある。そして、このようなスパッタリ
ング作用による保護層108の劣化は、特に第2電極1
04の縁部およびその近傍で発生し易いことが、本発明
者らの行った試験によって確認されている。
When a positive or negative ion is generated by applying a high frequency voltage between the first electrode 102 and the second electrode 104,
The generated ions are attracted not only to the photoreceptor 105 but also to the first electrode and the second electrode and collide with the protective layer 108. The protective layer 108 on the surface of the ion generator is scraped by the sputtering action caused by the collision. Therefore, when the second electrode 104 is exposed by continuous use and the second electrode 104 is formed mainly of a silver-based or copper-based conductive material, corrosion such as oxidation and sulfide of the second electrode 104 is prevented. It will be easier to progress. Further, the sputtering action is performed by the second electrode 104.
, The electrode is shaved, and as a result, the second electrode 104
May be disconnected. The deterioration of the protective layer 108 due to such a sputtering action is particularly caused by the second electrode 1.
It has been confirmed by tests conducted by the present inventors that it is likely to occur at and near the edge of 04.

【0008】ところで、図13の場合、第1電極102
は保護層108に加えて、さらに誘電体層103によっ
て覆われているためスパッタリングの問題はない。
By the way, in the case of FIG.
Is covered with the dielectric layer 103 in addition to the protective layer 108, so that there is no problem of sputtering.

【0009】また、上記のスパッタリング作用の問題を
回避するために、保護層108を厚くすると、その分だ
け第1電極102と第2電極104との間の浮遊容量が
大きくなり、保護層108を貫通する漏れ電界に対する
インピーダンスが大きくなってイオン電流か減少する。
この結果、十分なイオン発生量が得られなくなり、感光
体105を所望の電位に帯電させることができなくな
る。そして、十分なイオン発生量を得るために第1電極
102と第2電極104との間の印加電圧を高電圧にす
ると、保護層108がイオンによるスパッタリング作用
で削られ易くなるという問題が発生する。
When the thickness of the protective layer 108 is increased in order to avoid the above-mentioned problem of the sputtering effect, the floating capacitance between the first electrode 102 and the second electrode 104 increases by that much, and the protective layer 108 The impedance to the penetrating leakage electric field increases and the ionic current decreases.
As a result, a sufficient amount of ions cannot be obtained, and the photoconductor 105 cannot be charged to a desired potential. When the applied voltage between the first electrode 102 and the second electrode 104 is set to a high voltage in order to obtain a sufficient amount of generated ions, a problem occurs in that the protective layer 108 is easily chipped by the sputtering action of the ions. .

【0010】以上を要するに、保護層108を、十分な
イオン発生量を得ると同時に耐久性にも優れた厚さに設
定することは非常に困難なことであった。本発明は上記
問題点を回避し得るイオン発生装置および電子写真記録
装置を提供することを目的とする。
[0010] In short, it has been very difficult to set the protective layer 108 to have a sufficient ion generation amount and to have a thickness excellent in durability. An object of the present invention is to provide an ion generating apparatus and an electrophotographic recording apparatus which can avoid the above problems.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載のイオン
発生装置は、電気絶縁性の基板と、基板上に形成された
第1電極と、基板および第1電極を覆う誘電体層と、誘
電体層上に形成され少なくとも一部が第1電極重ならな
い位置に形成された第2電極と、第2電極の側方よりも
上方の部分が厚くなるように第2電極を覆う保護層とを
具備していることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an ion generator, comprising: an electrically insulating substrate; a first electrode formed on the substrate; a dielectric layer covering the substrate and the first electrode; A second electrode formed on the dielectric layer and formed at a position where at least a part thereof does not overlap the first electrode; and a protective layer covering the second electrode so that a portion above the side of the second electrode is thicker. It is characterized by having.

【0012】本請求項および以下の各請求項における各
構成は、特にことわらない限り次のとおり定義する。
Each component in the present claim and the following claims is defined as follows unless otherwise specified.

【0013】基板は、形成のし易さや適度なコストであ
る等の理由により、例えばアルミナ、窒化アルミニウム
または窒化珪素等のセラミックス材料により形成するの
が適当であるが、これらに限定されるものではなく、形
成方法も限定されない。
The substrate is suitably formed of a ceramic material such as alumina, aluminum nitride or silicon nitride for reasons such as ease of formation and moderate cost, but is not limited thereto. In addition, the forming method is not limited.

【0014】第1電極および第2電極は、例えば銀を主
成分とする(銀/パラジウム合金、銀/白金合金等)導
電ペーストをスクリーン印刷法で塗布し焼成することで
形成できるが、他に薄膜技術で形成してもよく、材料や
形成方法か特に限定されるものではない。そして、第1
電極と第2電極とは、異なる材料で異なる形成方法で形
成してもよい。また、第1電極は、基板上に直接に形成
されていても、他の部材を介して間接的に形成されてい
てもよい。
The first electrode and the second electrode can be formed by applying a conductive paste containing silver as a main component (silver / palladium alloy, silver / platinum alloy, etc.) by a screen printing method and firing it. It may be formed by a thin film technique, and the material and the forming method are not particularly limited. And the first
The electrode and the second electrode may be formed of different materials by different forming methods. In addition, the first electrode may be formed directly on the substrate, or may be formed indirectly via another member.

【0015】なお、第1電極または第2電極例えば有機
金属化合物を主成分とする導電ペーストで形成すれば、
これらの電極を非常に薄く形成することができ、電極表
面の凹凸が少なくなる結果、保護層の表面の凹凸も少な
くなって局部的に薄い部分が少なくなりスパッタリング
作用による保護層の耐久性が向上する。有機金化合物を
主成分とする導電ペーストを使用して電極を形成すれ
ば、約1μm程度の薄い膜に形成できることを確認して
いる。
If the first electrode or the second electrode is formed of a conductive paste containing an organometallic compound as a main component,
These electrodes can be formed very thin, and the unevenness on the surface of the electrode is reduced.As a result, the unevenness on the surface of the protective layer is also reduced, and the locally thin portion is reduced, thereby improving the durability of the protective layer due to the sputtering action. I do. It has been confirmed that a thin film of about 1 μm can be formed by forming an electrode using a conductive paste containing an organic gold compound as a main component.

【0016】保護層は、例えばホウ珪酸鉛ガラスペース
トによってスクリーン印刷法を用いて形成したガラス層
や、シリ力等の膜または樹脂(ポリイミド、エポキシま
たはシリコーン)等の膜とすることができるが、材料や
形成方法はこれに限定されるものではない。
The protective layer may be, for example, a glass layer formed by a screen printing method using a lead borosilicate glass paste, a film such as a sili force, or a film such as a resin (polyimide, epoxy or silicone). The material and the forming method are not limited to these.

【0017】保護層の第2電極の上方を覆う部分は、保
護層の耐久性を十分に確保するために、その厚さを2な
いし10μm程度とするのが好ましいがそうでなくても
よい。また、保護層の第2電極の側方を覆う部分は、ス
パッタリング作用を比較的受け難いため第2電極の上方
の部分ほど厚さをされないが、好ましくは1ないし2μ
m程度とするのがよい。
The portion of the protective layer that covers the upper part of the second electrode preferably has a thickness of about 2 to 10 μm in order to sufficiently secure the durability of the protective layer, but this is not essential. The portion of the protective layer that covers the side of the second electrode is not as thick as the portion above the second electrode because it is relatively insensitive to sputtering, but is preferably 1 to 2 μm.
m.

【0018】また、第2電極の周辺にまで保護層を形成
した場合には、第1電極と第2電極との間の浮遊容量を
必要十分に小さくするために、その部分の厚さを第2電
極の上方を覆う保護層の厚さの1/2以下の厚さとする
のが好ましい。なお、最も良いのは保護層は第2電極の
みを覆うように形成することである。
In the case where the protective layer is formed around the second electrode, the thickness of the protective layer is reduced to the necessary and sufficient level to reduce the stray capacitance between the first electrode and the second electrode. It is preferable that the thickness be equal to or less than half the thickness of the protective layer covering the upper part of the two electrodes. Note that it is best that the protective layer be formed so as to cover only the second electrode.

【0019】本発明のイオン発生装置によれば、第1電
極と第2電極との間に高周波電圧を印加すると、第1電
極と第2電極との間のコロナ放電によって両電極間の近
傍の空間に正負イオンが発生する。そして、本発明のイ
オン発生装置を例えば感光体を帯電させる帯電装置とし
て用いる場合には、本イオン発生装置を感光体に対向さ
せて第1電極または第2電極と感光体との間に例えば感
光体が零電位で電極側か負となるバイアス電圧を印加す
る。これにより、電極間近傍の空気中に発生した正負イ
オンのうちの負イオンが感光体に吸引されて感光体が一
様に帯電される。
According to the ion generator of the present invention, when a high-frequency voltage is applied between the first electrode and the second electrode, a corona discharge between the first electrode and the second electrode causes a change in the vicinity of the two electrodes. Positive and negative ions are generated in the space. When the ion generator of the present invention is used, for example, as a charging device for charging a photoreceptor, the ion generator is opposed to the photoreceptor, and a photoreceptor is provided between the first electrode or the second electrode and the photoreceptor. A bias voltage is applied so that the body is at zero potential or negative on the electrode side. Accordingly, the negative ions of the positive and negative ions generated in the air near the electrodes are attracted to the photoconductor and the photoconductor is uniformly charged.

【0020】このとき、第2電極の側方の部分に形成さ
れた保護層は、比較的薄いため浮遊容量を低くでき漏れ
電界を大きくできる。これにより、第1電極と第2電極
との間に流れるイオン電流を多くすることができ、十分
なイオン発生量を確保し得る。
At this time, the protective layer formed on the side portion of the second electrode is relatively thin, so that the stray capacitance can be reduced and the leakage electric field can be increased. Thereby, the ionic current flowing between the first electrode and the second electrode can be increased, and a sufficient amount of generated ions can be secured.

【0021】また、第2電極の上方の部分に形成された
保護層は、比較的厚いため、上記により発生したイオン
が、イオン発生装置と例えば感光体との間に印加された
バイアス電圧によって保護層に衝突しても、スパッタリ
ング作用に対する耐久性を十分に確保し得る。
Further, since the protective layer formed on the upper portion of the second electrode is relatively thick, the ions generated as described above are protected by a bias voltage applied between the ion generator and, for example, the photosensitive member. Even if it collides with the layer, the durability against the sputtering action can be sufficiently ensured.

【0022】なお、第2電極の周辺にも保護層を形成し
た場合には、この周辺の保護層の分だけ第1電極と第2
電極との間の浮遊容量が増すが、第2電極の側方の部分
に形成された保護層を薄くすることで、第1電極と第2
電極との間の全体的な浮遊容量を小さくすることが可能
である。
When a protective layer is also formed around the second electrode, the first electrode and the second electrode are formed by the protective layer around the second electrode.
The stray capacitance between the first electrode and the second electrode is increased by reducing the thickness of the protective layer formed on the side of the second electrode.
It is possible to reduce the overall stray capacitance between the electrodes.

【0023】請求項2に記載のイオン発生装置は、電気
絶縁性の基板と、基板上に形成された第1電極と、基板
上に第1電極と近接して形成された第2電極と、第1電
極および第2電極の側方よりも上方の部分が厚くなるよ
うに第1電極および第2電極を覆う保護層とを具備して
いることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an ion generator, comprising: an electrically insulating substrate; a first electrode formed on the substrate; a second electrode formed on the substrate in close proximity to the first electrode; A protection layer that covers the first electrode and the second electrode such that a portion above the side of the first electrode and the second electrode is thicker.

【0024】本発明において、第1電極と第2電極は、
基板上に直接に形成されていても、他の部材を介して間
接的に形成されていてもよい。
In the present invention, the first electrode and the second electrode are
It may be formed directly on the substrate or indirectly via another member.

【0025】保護層の第1電極または第2電極の上方を
覆う部分は、保護層の耐久性を十分に確保するために、
その厚さを2ないし10μm程度とするのが好ましいが
そうでなくてもよい。また、保護層の第1電極または第
2電極の側方を覆う部分は、スパッタリング作用を比較
的受け難いため第2電極の上方の部分ほど厚さをされな
いが、好ましくは1ないし2μm程度とするのがよい。
The portion of the protective layer that covers the first electrode or the second electrode is provided in order to ensure sufficient durability of the protective layer.
It is preferred that the thickness be about 2 to 10 μm, but this is not essential. Further, the portion of the protective layer covering the side of the first electrode or the second electrode is not so thick as the portion above the second electrode because it is relatively hard to receive the sputtering action, but is preferably about 1 to 2 μm. Is good.

【0026】また、第1電極または第2電極の周辺にま
で保護層を形成した場合には、第1電極と第2電極との
間の浮遊容量を必要十分に小さくするために、その部分
の厚さを第2電極の上方を覆う保護層の厚さの1/2以
下の厚さとするのが好ましい。なお、最も良いのは保護
層は第1電極および第2電極のみを覆うように形成する
ことである。
When a protective layer is formed around the first electrode or the second electrode, in order to reduce the stray capacitance between the first electrode and the second electrode to a necessary and sufficient extent, It is preferable that the thickness be equal to or less than half the thickness of the protective layer covering the upper part of the second electrode. Note that it is best that the protective layer be formed so as to cover only the first electrode and the second electrode.

【0027】本発明のイオン発生装置によれは、第1電
極と第2電極との間に高周波電圧を印加することによ
り、請求項1に記載のイオン発生装置と同様に例えば感
光体を一様に帯電することができる。
According to the ion generator of the present invention, a high-frequency voltage is applied between the first electrode and the second electrode, so that, for example, the photosensitive member is made uniform as in the ion generator according to the first aspect. Can be charged.

【0028】このとき、第1電極または第2電極の側方
の部分に形成された保護層は、比較的薄いため両電極間
の浮遊容量を低くでき漏れ電界を大きくできる。これに
より、第1電極と第2電極との間に流れるイオン電流を
多くすることができ、十分なイオン発生量を確保し得
る。
At this time, the protective layer formed on the side portion of the first electrode or the second electrode is relatively thin, so that the stray capacitance between the two electrodes can be reduced and the leakage electric field can be increased. Thereby, the ionic current flowing between the first electrode and the second electrode can be increased, and a sufficient amount of generated ions can be secured.

【0029】また、第1電極または第2電極の上方の部
分に形成された保護層は、比較的厚いため、上記により
発生したイオンが、イオン発生装置と例えば感光体との
間に印加されたバイアス電圧によって保護層に衝突して
も、スパッタリング作用に対する耐久性を十分に確保し
得る。
Since the protective layer formed on the portion above the first electrode or the second electrode is relatively thick, the ions generated as described above are applied between the ion generator and, for example, the photosensitive member. Even if the protective layer collides with the bias voltage, the durability against the sputtering action can be sufficiently ensured.

【0030】なお、各電極の周辺にも保護層を形成した
場合には、この周辺の保護層の分だけ第1電極と第2電
極との間の浮遊容量が増すが、第2電極の側方の部分に
形成された保護層を薄くすることで、第1電極と第2電
極との間の全体的な浮遊容量を小さくすることが可能で
ある。
When a protective layer is also formed around each electrode, the floating capacitance between the first electrode and the second electrode is increased by the amount of the protective layer around the protective layer. By reducing the thickness of the protective layer formed in the other part, it is possible to reduce the overall stray capacitance between the first electrode and the second electrode.

【0031】請求項3に記載の電子写真記録装置は、感
光体と、請求項1または2に記載のイオン発生装置を備
え感光体を一様に帯電させる帯電装置と、帯電装置によ
り帯電された前記感光体を露光して静電潜像を形成する
イメージ露光装置と、感光体に形成された静電糟像にト
ナーを付着させて現像する現像装置と、感光体に形成さ
れた現像画像を転写媒体に転写する転写装置と、転写媒
体上の転写画像を定着させる定着装置とを具備している
ことを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an electrophotographic recording apparatus, comprising: a photoreceptor; a charging device including the ion generator according to the first or second aspect for uniformly charging the photoreceptor; An image exposure device that exposes the photoconductor to form an electrostatic latent image, a developing device that attaches toner to the electrostatic image formed on the photoconductor and develops the image, and a developed image formed on the photoconductor. The image forming apparatus includes a transfer device that transfers the image to the transfer medium, and a fixing device that fixes the transferred image on the transfer medium.

【0032】本発明の電子写真記録装置によれば、感光
体に対する帯電、露光、現像、転写という電子写真の基
本的なプロセスを経て画像記録が行なわれる。そして、
感光体に対向させてイオン発生装置を配設し、第1電極
と第2電極との間に高周波電圧を印加することでイオン
を発生させる。そして、第2電極と感光体との間に例え
ば感光体が零電位で第2電極が負となるバイアス電圧を
印加することで両電極間近傍に発生した正負イオンのう
ちの負イオンか感光体に吸引されて感光体が帯電され
る。このとき、帯電装置は請求頃1または2に記載のイ
オン発生装置が有する作用を奏する。よって、感光体を
必要十分に帯電できると同時に、保護層の劣化に伴う電
極の損傷による帯電装置のトラブルを少なくできる。
According to the electrophotographic recording apparatus of the present invention, image recording is performed through basic processes of electrophotography such as charging, exposing, developing, and transferring a photosensitive member. And
An ion generator is provided so as to face the photoconductor, and a high frequency voltage is applied between the first electrode and the second electrode to generate ions. Then, by applying a bias voltage between the second electrode and the photoreceptor, for example, the photoreceptor is at zero potential and the second electrode is negative, negative ions of the positive and negative ions generated near the two electrodes or the photoreceptor And the photoreceptor is charged. At this time, the charging device has the function of the ion generator according to claim 1 or 2. Therefore, the photosensitive member can be charged sufficiently and at the same time, and at the same time, trouble of the charging device due to damage of the electrode due to deterioration of the protective layer can be reduced.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】本発明のイオン発生装置の第1の
実施の形態を図1ないし図3に基づいて説明する。図1
は本発明のイオン発生装置の第1の実施形態を示す正面
図である。図2は同じく背面図である。図3は図1にお
けるA一A線に沿う断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the ion generator of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG.
FIG. 1 is a front view showing a first embodiment of the ion generator of the present invention. FIG. 2 is a rear view. FIG. 3 is a sectional view taken along the line A-A in FIG.

【0034】図において1は基板である。この基板1上
には、第1電極2、誘電体層3、第2電極4および保護
層5が厚膜技術すなわちスクリーン印刷法によって順に
積層形成されている。そして、誘電体層3は第1電極2
および基板1の表面のほぼ全体を覆う。このとき第2電
極4は第1電極2の上方を覆うことなく形成され、第1
電極2と第2電極4との間に電極間隙Gが形成される。
そして、保護層5は、第2電極4を保護するのに必要な
厚さでこの第2電極4のみを覆っている。また、第1電
極2は第1端子2aと一体に形成され、第1電極2は6
本、第2電極は7本の歯を持つ櫛歯形状に形成されてい
る。第2電極4は第2端子4aと一体に形成され、これ
ら第1端子2aと第2端子4aによって各電極への給電
を行う。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a substrate. On this substrate 1, a first electrode 2, a dielectric layer 3, a second electrode 4, and a protective layer 5 are sequentially laminated by a thick film technique, that is, a screen printing method. And the dielectric layer 3 is the first electrode 2
And almost the entire surface of the substrate 1. At this time, the second electrode 4 is formed without covering the upper part of the first electrode 2,
An electrode gap G is formed between the electrode 2 and the second electrode 4.
The protective layer 5 covers only the second electrode 4 with a thickness necessary to protect the second electrode 4. The first electrode 2 is formed integrally with the first terminal 2a.
The book and the second electrode are formed in a comb shape having seven teeth. The second electrode 4 is formed integrally with the second terminal 4a, and power is supplied to each electrode by the first terminal 2a and the second terminal 4a.

【0035】また、基板1の第1電極2等が形成された
面の反対面には、本イオン発生装置自体を加熱するため
のヒータ7が形成されている。このヒータ7は、その発
熱によってイオン発生装置の第1電極2および第2電極
4が形成された面に付着している水分を取り除く作用が
ある。これによって、第1電極2および第2電極4との
間の漏れ電界によって、上記の水分を介して電流が流れ
るのを防止して、イオンの発生量に影響する大気中に発
生する漏れ電界の減少を防ぐことができる。
Further, a heater 7 for heating the ion generator itself is formed on the surface of the substrate 1 opposite to the surface on which the first electrode 2 and the like are formed. The heater 7 has an action of removing moisture adhering to the surface of the ion generator on which the first electrode 2 and the second electrode 4 are formed by the heat generated. This prevents a current from flowing through the moisture due to the leakage electric field between the first electrode 2 and the second electrode 4, and reduces the leakage electric field generated in the atmosphere which affects the amount of generated ions. Reduction can be prevented.

【0036】ここで、基板1は、アルミナセラミックス
を材料とする偏平の矩形部材であり、長さが約360m
m、幡が約8mmそして厚さか約0.65mmに形成さ
れている。第1電極2および第2電極4は、例えば銀/
白金合金を主成分とした導電性ペーストをスクリーン印
刷法で塗布した後に焼成して形成されている。そして、
第1電極2および第2電極4は、共に厚さは約5μmで
あり、幅は第1電極が約100μm、第2電極4が約2
00μmである。また、第1電極2と第2電極4は幅方
向における中心間距離が約600μmである。誘電体層
3は、例えばホウ珪酸鉛系ガラスを主成分とするガラス
パーストを第1電極2と同様に塗布および焼成して形成
したものであり、厚さ約30μmに形成されている。
The substrate 1 is a flat rectangular member made of alumina ceramic and has a length of about 360 m.
m, is about 8 mm thick and about 0.65 mm thick. The first electrode 2 and the second electrode 4 are, for example, silver /
It is formed by applying a conductive paste containing a platinum alloy as a main component by a screen printing method and then firing the paste. And
Each of the first electrode 2 and the second electrode 4 has a thickness of about 5 μm, a width of the first electrode of about 100 μm, and a width of the second electrode 4 of about 2 μm.
00 μm. Further, the center distance between the first electrode 2 and the second electrode 4 in the width direction is about 600 μm. The dielectric layer 3 is formed, for example, by applying and firing glass paste mainly composed of lead borosilicate glass in the same manner as the first electrode 2, and has a thickness of about 30 μm.

【0037】保護層5は、ホウ珪酸鉛系ガラスを主成分
とするガラスペーストを用いて印刷形成され、厚さは1
0μm以下に形成されている。このような保護層5は、
第2電極4だけを覆い、隣接する第2電極4間の中間部
分には設けられていない。この保護層5は、第2電極4
の側方の部分で約2μmで上方の部分では約8μmに形
成されている。
The protective layer 5 is formed by printing using a glass paste mainly composed of lead borosilicate glass and has a thickness of 1 mm.
It is formed to a thickness of 0 μm or less. Such a protective layer 5
It covers only the second electrode 4 and is not provided at an intermediate portion between the adjacent second electrodes 4. This protective layer 5 is formed on the second electrode 4
Is formed at about 2 μm at the side part and about 8 μm at the upper part.

【0038】このような保護層5の形成は、例えば次の
ように行われる。まず、保護層5の側方および上方を覆
うように上記ガラスペーストを印刷する。次にガラスペ
ーストの上方部分のみに同様にガラスペーストを印刷を
印刷する。そして、これらを焼成することで、第2電極
4の上方よりも側方の部分の方が厚さの小さい保護層が
形成できる。なお、各ガラスペーストを印刷する順序は
逆であってもよく、一層目を印刷した後にこの層のみを
先に焼成してもよい。
The formation of such a protective layer 5 is performed, for example, as follows. First, the glass paste is printed so as to cover the side and the upper side of the protective layer 5. Next, the printing of the glass paste is similarly performed only on the upper portion of the glass paste. Then, by firing these, a protective layer having a smaller thickness in the side portion than in the upper portion of the second electrode 4 can be formed. The order in which the glass pastes are printed may be reversed, and after printing the first layer, only this layer may be fired first.

【0039】また、他の方法として、まず、比較的粘度
の低いガラスペーストを第2電極4の上方部分にみに印
刷する。そして、このガラスペーストを十分溶融させる
ことができる温度で焼成し、溶融したガラスペーストの
だれを利用して、第2電極4の側方部分までガラスペー
ストを被着させることで、この側方部分に第2電極4の
上方部分よりも薄い保護層5を形成できる。このとき、
ガラスペーストには、例えばセラミックスなどのフィラ
ー材料が含まれていないのが好ましい。フィラー材料が
含まれるガラスペーストでは、比較的ピンホールが発生
しやすく、特に薄く形成したこの部分の保護層の電気絶
縁耐圧が得にくくなるからである。このことは、先に述
べた保護層5の形成方法においても同様に言えることで
ある。
As another method, first, a relatively low-viscosity glass paste is printed only on the upper portion of the second electrode 4. Then, the glass paste is fired at a temperature at which the glass paste can be sufficiently melted, and the glass paste is applied to the side portions of the second electrode 4 by using the molten glass paste. In addition, the protective layer 5 thinner than the upper part of the second electrode 4 can be formed. At this time,
It is preferable that the glass paste does not contain a filler material such as ceramics. This is because a glass paste containing a filler material is relatively likely to generate pinholes, and it is particularly difficult to obtain an electric withstand voltage of the thinly formed protective layer. This can be similarly applied to the method of forming the protective layer 5 described above.

【0040】なお、第2電極の側方の部分の少なくとも
一部が保護層が第2電極の上方の部分よりも薄く形成さ
れていれば、第2電極4間の全面に保護層を形成するよ
うにしてもよい。ただし、この場合は、第1電極と第2
電極との間の浮遊容量が第2電極4間の保護層が設けら
れた分だけ増加することとなり、それに応じたイオン電
流しか流すことができない。この実施形態においても、
前述の保護層5の形成方法を適用できる。
If at least a part of the side portion of the second electrode has the protective layer formed thinner than the portion above the second electrode, the protective layer is formed on the entire surface between the second electrodes 4. You may do so. However, in this case, the first electrode and the second electrode
The stray capacitance between the second electrode 4 and the electrode increases due to the provision of the protective layer between the second electrodes 4, and only an ion current corresponding to the increase can be passed. Also in this embodiment,
The method for forming the protective layer 5 described above can be applied.

【0041】また、ヒータ7は、例えば銀/パラジウム
合金を主成分とする導電性ペーストをスクリーン印刷法
により塗布した後に焼成して形成したものである。この
ヒータ7は、U字状をなしており、その両端部すなわち
墓板1の一端側には給電のためのヒータ端子7a、7b
が一体的に形成されている。なお、このヒータ7のU字
の状態において長さか約320mm程あり、長手方向寸
法が第1電極2および第2電極4のそれよりも大きくな
るように形成されるため、本イオン発生装置の表面にお
けるイオンの発生領域を均一に加熱できる。
The heater 7 is formed by applying a conductive paste containing, for example, a silver / palladium alloy as a main component by a screen printing method and then firing it. The heater 7 has a U-shape. Heater terminals 7a, 7b for power supply are provided at both ends thereof, that is, at one end of the tomb plate 1.
Are integrally formed. The length of the heater 7 in the U-shape is about 320 mm, and the heater 7 is formed so that its longitudinal dimension is larger than that of the first electrode 2 and the second electrode 4. Can uniformly heat the ion generation region.

【0042】そして、本実施の形態のイオン発生装置
を、例えは図示しない感光体を帯電させる帯電装置とし
て使用する場合には、感光体に対向させて配設して第2
電極4と感光体との間に感光体が零電位で第2電極側が
負となるバイアス電圧を印加する。そうして、発生した
正負イオンのうちの負イオンか感光体に吸引されて感光
体を一様に帯電することができる。
When the ion generator of the present embodiment is used as a charging device for charging a photoreceptor (not shown), for example,
A bias voltage is applied between the electrode 4 and the photoconductor so that the photoconductor has zero potential and the second electrode side is negative. As a result, the negative ions of the generated positive and negative ions are attracted to the photoconductor and the photoconductor can be uniformly charged.

【0043】本発明のイオン発生装置の第2の実施の形
態を図4に基づいて説明する。図4は本発明のイオン発
生装置の第2の実施形態を図3と同様に示す断面図であ
る。なお、第1の実施の形態と同一部分は同一符号で示
す。
A second embodiment of the ion generator according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the ion generator of the present invention, similarly to FIG. The same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals.

【0044】図において1は基板である。この基板1上
には、電気絶縁層8か形成されている。そして、電気絶
縁層8のさらに上には、第1電極2および第2電極4か
直接に形成され、これら第1電極2および第2電極4を
覆って保護層5が形成されている。これらの各層は、厚
膜技術すなわちスクリーン印刷法によって順に積層形成
されている。そして、電気絶縁層8は基板1の表面のほ
ぼ全体を覆うように形成される。そして、第1電極2と
第2電極4とは、等間隔の間隔を隔てて設けられ電極間
隙Gが形成される。そして、保護層5は、第1電極2お
よび第2電極4を保護するのに必要な厚さで第1電極2
および第2電極4のみを覆っているここで、墓板1は、
アルミナセラミツクスを材料とする偏平の矩形部材であ
り、長さが約360mm、幅が約8mmそして厚さが約
0.65mmに形成されている。電気絶縁層8は、例え
ばホウ珪酸鉛系ガラスを主成分とするガラスペーストを
スクリーン印刷法で塗布した後に焼成して形成されてお
り、厚さ約20μm程度となっている。第1電極2およ
び第2電極4は、例えば銀/白金合金を主成分とした導
電性ペーストをスクリーン印刷法で塗布した後に機成し
て形成されている。そして、第1電極2および第2電極
4は、共に厚さは約5μmであり、幅は第1電極2が7
0μmで第2電極4が100μmである。また、第1電
極2と第2電極4は幅方向における中心間距離が約70
0〃mである。保護層5はホウ珪酸鉛系ガラスを主成分
とするガラスペーストを用いて印刷形成され、厚さ10
μm以下に形成されている。なお、電気絶絶縁層は必ず
しも必要ない。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a substrate. An electric insulating layer 8 is formed on the substrate 1. Further, the first electrode 2 and the second electrode 4 are directly formed on the electric insulating layer 8, and the protective layer 5 is formed so as to cover the first electrode 2 and the second electrode 4. These layers are sequentially laminated by a thick film technique, that is, a screen printing method. The electrical insulating layer 8 is formed so as to cover almost the entire surface of the substrate 1. The first electrode 2 and the second electrode 4 are provided at equal intervals, and an electrode gap G is formed. The protective layer 5 has a thickness necessary to protect the first electrode 2 and the second electrode 4.
And only the second electrode 4 is covered here,
It is a flat rectangular member made of alumina ceramics, having a length of about 360 mm, a width of about 8 mm, and a thickness of about 0.65 mm. The electric insulating layer 8 is formed by applying a glass paste containing, for example, lead borosilicate glass as a main component by a screen printing method and then firing the glass paste, and has a thickness of about 20 μm. The first electrode 2 and the second electrode 4 are formed by applying a conductive paste containing, for example, a silver / platinum alloy as a main component by a screen printing method and then forming the paste. Each of the first electrode 2 and the second electrode 4 has a thickness of about 5 μm, and the width of the first electrode 2 is 7 μm.
The thickness of the second electrode 4 is 0 μm and 100 μm. The first electrode 2 and the second electrode 4 have a center-to-center distance of about 70 in the width direction.
0〃m. The protective layer 5 is formed by printing using a glass paste mainly composed of lead borosilicate glass and has a thickness of 10 mm.
It is formed to a size of μm or less. Note that the electrical insulation layer is not necessarily required.

【0045】本実施形態における保護層も基本的に上記
第1の実施形態における保護層5の形成方法と同様に形
成できる。異なるのは、第2電極4だけでなく、第1電
極2も同様に保護層で被覆する点である。
The protective layer in this embodiment can be formed basically in the same manner as the method for forming the protective layer 5 in the first embodiment. The difference is that not only the second electrode 4 but also the first electrode 2 is similarly covered with a protective layer.

【0046】なお、保護層5は、第1電極2および第2
電極4だけを覆うのではなく、図5に示すように第1電
極2と第2電極4の間の部分にまで亘って覆っていても
よい。
Note that the protective layer 5 comprises the first electrode 2 and the second electrode 2.
Instead of covering only the electrode 4, the electrode 4 may cover the portion between the first electrode 2 and the second electrode 4 as shown in FIG. 5.

【0047】このような構成において、第1電極2と第
2電極4との間に高周波電圧を印加すると、第1電極2
と第2電極4との間のコロナ放電によって電極間隙Gの
近傍の空気中に正負イオンが発生する。そして、上記実
施形態のイオン発生基坂と同様に、例えば感光体16を
帯電させることができる。
In such a configuration, when a high-frequency voltage is applied between the first electrode 2 and the second electrode 4, the first electrode 2
Positive and negative ions are generated in the air near the electrode gap G by corona discharge between the first electrode 4 and the second electrode 4. Then, for example, the photoconductor 16 can be charged similarly to the ion generating base slope in the above embodiment.

【0048】本発明の電子写真記録装置の一実施の形態
を図6に基づいて説明する。図6は本発明の電子写真記
録装置の実施形態の内部を示す概略側面図である。な
お、図1ないし図5に基づいて説明した部分と同一部分
は同一符号で示し説明も省略する。
One embodiment of the electrophotographic recording apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a schematic side view showing the inside of the embodiment of the electrophotographic recording apparatus of the present invention. The same parts as those described with reference to FIGS. 1 to 5 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0049】まず、転写媒体としての転写紙11を収納
する給紙装置12と図示しない排紙部とを連絡する通紙
経路13か設けられ、この通紙経路13中には定着装置
14を含む画像プロセス部15か設けられている。
First, a paper feed path 13 for connecting a paper feed device 12 for storing transfer paper 11 as a transfer medium and a discharge unit (not shown) is provided, and the paper feed path 13 includes a fixing device 14. An image processing unit 15 is provided.

【0050】画像プロセス部15は、感光ドラム構成の
感光体16を主体として構成される。この感光体16の
周囲には、帯電装置17、現像装置18、転写装置1
9、剥離装置20、クリーニング装置21が順に配設さ
れている。そして、帯電装置17と現像装置18との間
が露光位置EXとなり、画像プロセス部15には、その
露光位置EXにレーザビーム(以下、レーザ光という)
を照射する図示しないイメージ露光装置か設けられてい
る。
The image processing section 15 is mainly composed of a photosensitive drum 16 having a photosensitive drum configuration. Around the photoconductor 16, a charging device 17, a developing device 18, a transfer device 1
9, a peeling device 20, and a cleaning device 21 are arranged in this order. An exposure position EX is defined between the charging device 17 and the developing device 18, and the image processing unit 15 supplies a laser beam (hereinafter, referred to as a laser beam) to the exposure position EX.
An image exposure device (not shown) for irradiating the light is provided.

【0051】次に、画像プロセス部15の作用について
説明する。画像プロセス部15では、まず、帯電装置1
7の帯電によって感光体16を負の電荷で一様に帯電す
る。そして、感光体16は露光位置EXにおいて一様に
帯電されているため、この露光位置E×にイメージ露光
装置から画像情報に応じて光ビームを照射することで、
感光体16に静電潜像が形成される。ここで、感光体1
6は、光ビームが照射された部分だけ電気抵抗が低くな
るので、帯電している電荷か消去されて静電潜像が形成
される。現像装置18は、露光位置EXで感光体16に
形成された静電潜像にこの静電潜像と電位差を持つトナ
ーを付着させて顕像化する。転写装置19は、顕像化さ
れた感光体16上の現像画像を電位差によって吸引し、
その現像画像を転写紙11に転写させる剥離装置20
は、現像画像転写後の転写紙11を感光体16から剥離
させる。クリーニング装置21は、転写プロセス後の感
光体16に残留するトナーを掻き落とす等の方法でクリ
ーニングする。そして、定着装置14は、通紙経路13
中において転写装置19の下流側に配置されており、転
写装置19を通過した後の転写紙11に付着する未定着
トナーを加熱および加圧作用によって定着する。
Next, the operation of the image processing section 15 will be described. In the image processing unit 15, first, the charging device 1
7, the photosensitive member 16 is uniformly charged with negative charge. Since the photoreceptor 16 is uniformly charged at the exposure position EX, the light exposure is performed by irradiating the exposure position EX with a light beam from an image exposure apparatus in accordance with image information.
An electrostatic latent image is formed on the photoconductor 16. Here, photoconductor 1
In No. 6, since the electrical resistance is reduced only in the portion irradiated with the light beam, the charged electric charge is erased to form an electrostatic latent image. The developing device 18 visualizes the electrostatic latent image formed on the photoreceptor 16 by attaching toner having a potential difference to the electrostatic latent image on the photosensitive member 16 at the exposure position EX. The transfer device 19 sucks the developed image on the photoconductor 16 by a potential difference,
Peeling device 20 for transferring the developed image to transfer paper 11
Removes the transfer paper 11 after the transfer of the developed image from the photoconductor 16. The cleaning device 21 performs cleaning by, for example, scraping off toner remaining on the photoconductor 16 after the transfer process. Then, the fixing device 14 is connected to the paper passage path 13.
It is arranged on the downstream side of the transfer device 19 and fixes unfixed toner adhering to the transfer paper 11 after passing through the transfer device 19 by a heating and pressing action.

【0052】[0052]

【発明の効果】請求項1記載のイオン発生装置によれ
ば、第2電極の側方の部分に形成された保護層は、比較
的薄いため浮遊容量を低くでき漏れ電界を大きくでき
る。これにより、第1電極と第2電極との間に流れるイ
オン電流を多くすることができ、十分なイオン発生量を
確保し得る。また、第2電極の上方の部分に形成された
保護層は、比較的厚いため、上記により発生したイオン
が、イオン発生装置と例えば感光体との間に印加された
バイアス電圧によって保護層に衝突しても、スパッタリ
ング作用に対する耐久性を十分に確保し得る。
According to the ion generator of the first aspect, since the protective layer formed on the side of the second electrode is relatively thin, the floating capacitance can be reduced and the leakage electric field can be increased. Thereby, the ionic current flowing between the first electrode and the second electrode can be increased, and a sufficient amount of generated ions can be secured. In addition, since the protective layer formed on the upper portion of the second electrode is relatively thick, the ions generated as described above collide with the protective layer due to a bias voltage applied between the ion generator and the photoconductor, for example. Even so, the durability against the sputtering action can be sufficiently ensured.

【0053】請求項2に記載のイオン発生装置によれ
ば、第1電極または第2電極の側方の部分に形成された
保護層は、比較的薄いため両電極間の浮遊容量を低くで
き漏れ電界を大きくできる。これにより、第1電極と第
2電極との間に流れるイオン電流を多くすることがで
き、十分なイオン発生量を確保し得る。また、第1電極
または第2電極の上方の部分に形成された保護層は、比
較的厚いため、上記により発生したイオンが、イオン発
生装置と例えば感光体との間に印加されたバイアス電圧
によって保護層に衝突しても、スパッタリング作用に対
する耐久性を十分に確保し得る。
According to the ion generator of the second aspect, the protective layer formed on the side of the first electrode or the second electrode is relatively thin, so that the stray capacitance between the two electrodes can be reduced and the leakage can be reduced. The electric field can be increased. Thereby, the ionic current flowing between the first electrode and the second electrode can be increased, and a sufficient amount of generated ions can be secured. In addition, since the protective layer formed on the portion above the first electrode or the second electrode is relatively thick, the ions generated as described above are generated by the bias voltage applied between the ion generator and the photosensitive member, for example. Even if it collides with the protective layer, the durability against the sputtering action can be sufficiently ensured.

【0054】請求項3に記載の電子写真記録装置によれ
ば、感光体を帯電させるさめの帯電装置が請求頃1また
は2に記載のイオン発生装置が有する作用を奏するの
で、感光体を必要十分に帯電できると同時に、保護層の
劣化に伴う電極の損傷による帯電装置のトラブルを少な
くできる。
According to the electrophotographic recording apparatus of the third aspect, the charging device for charging the photoconductor has the function of the ion generator of the first or second aspect, so that the photoconductor is required and sufficient At the same time, the trouble of the charging device due to the damage of the electrode due to the deterioration of the protective layer can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のイオン発生装置の第1の実施形態を示
す正面図。
FIG. 1 is a front view showing a first embodiment of an ion generator of the present invention.

【図2】同じく背面図。FIG. 2 is a rear view of the same.

【図3】図1におけるA一A線に沿う断面図。FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 1;

【図4】本発明のイオン発生装置の第2の実施の形態を
図3と同様に示す断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the ion generator of the present invention, similarly to FIG.

【図5】本発明のイオン発生装置の第3の実施の形態を
図3と同様に示す断面図
FIG. 5 is a sectional view showing a third embodiment of the ion generator of the present invention, similarly to FIG. 3;

【図6】本発明の電子写真記録装置の実施形態の内部を
示す概略側面図。
FIG. 6 is a schematic side view showing the inside of an embodiment of the electrophotographic recording apparatus of the present invention.

【図7】従来のイオン発生装置およびそれを帯電装置に
使用した場合の電気配線を示す概念図。
FIG. 7 is a conceptual diagram showing a conventional ion generator and electric wiring when the ion generator is used for a charging device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1: 絶縁基板 2: 第1電極 3: 誘電体層 4: 第2電極 5: 保護層 14: 定着菱道 16: 感光体 17: 帯電装置 18: 現像装置 19: 転写装置 G:ギャップ 1: Insulating substrate 2: First electrode 3: Dielectric layer 4: Second electrode 5: Protective layer 14: Fixing diamond road 16: Photoconductor 17: Charging device 18: Developing device 19: Transfer device G: Gap

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江崎 史郎 東京都品川区東品川四丁目3番1号東芝ラ イテック株式会社内 Fターム(参考) 2H003 AA15 BB11 CC01 DD03 EE11 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Shiro Ezaki 4-3-1 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Toshiba Litec Corporation F-term (reference) 2H003 AA15 BB11 CC01 DD03 EE11

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電気絶縁性の基板と;基板上に形成された
第1電極と;基板および第1電極を覆う誘電体層と;誘
電体層上に形成され、少なくとも一部が第1電極に重な
らない位置に形成された第2電極と;第2電極の側方よ
りも上方の部分が厚くなるように第2電極を覆う保護層
と;を具備していることを特徴とするイオン発生装置。
A first electrode formed on the substrate; a dielectric layer covering the substrate and the first electrode; a first electrode formed on the dielectric layer and at least partially formed on the dielectric layer. A second electrode formed at a position not overlapping with the first electrode; and a protective layer covering the second electrode so that a portion above the side of the second electrode is thicker. apparatus.
【請求項2】電気絶縁性の基板と;基板上に形成された
第1電極と;基板上に第1電極と近接して形成された第
2電極と;第1電極および第2電極の側方よりも上方の
部分が厚くなるように第1電極および第2電極を覆う保
護層と;を具備していることを特徴とするイオン発生装
置。
An electrically insulating substrate; a first electrode formed on the substrate; a second electrode formed on the substrate in close proximity to the first electrode; and sides of the first electrode and the second electrode. A protective layer covering the first electrode and the second electrode so that a portion above the first electrode is thicker.
【請求項3】感光体と:請求項1または2に記載のイオ
ン発生装置を備え感光体を一様に帯電させる帯電装置
と;帯電装置により帯電された前記感光体を露光して静
電潜像を形成するイメージ露光装置と;感光体に形成さ
れた静電糟像にトナーを付着させて現像する現像装置
と;感光体に形成された現像画像を転写媒体に転写する
転写装置と;転写媒体上の転写画像を定着させる定着装
置と;を具備していることを特徴とする電子写真記録装
置。
3. A photoreceptor, comprising: a charging device provided with the ion generator according to claim 1 for uniformly charging the photoreceptor; and an electrostatic latent image formed by exposing the photoreceptor charged by the charging device. An image exposure device for forming an image; a developing device for applying toner to an electrostatic image formed on the photoconductor to develop the image; a transfer device for transferring a developed image formed on the photoconductor to a transfer medium; An electrophotographic recording apparatus, comprising: a fixing device for fixing a transferred image on a medium.
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