JPH10293100A - 異物検査装置 - Google Patents
異物検査装置Info
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- JPH10293100A JPH10293100A JP11514097A JP11514097A JPH10293100A JP H10293100 A JPH10293100 A JP H10293100A JP 11514097 A JP11514097 A JP 11514097A JP 11514097 A JP11514097 A JP 11514097A JP H10293100 A JPH10293100 A JP H10293100A
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 異物が薄くて平板であったり、透明または半
透明であっても、これを確実に検出することができる異
物検査装置を提供すること。 【解決手段】 二次元方向に移動する検査ステージ5に
保持された基板4の検査対象面4aに向かってレーザ光
2を発するレーザ光源1と、このレーザ光源1と前記基
板4との間の光路中に設けられ、対物レンズ10、参照
面11、ビームスプリッタ12よりなるフリンジスキャ
ンを行う干渉計8と、前記検査対象面4aおよび参照面
11においてそれぞれ反射された後、前記対物レンズ1
0を通過した光を受光するための複数の受光素子13a
を二次元的に配置した光検出器13とからなり、相異な
る二つの受光素子の出力信号の位相差と基準値とを比較
することにより、前記検査対象面4aにおける異物1
8,19の有無を判別するようにした。
透明であっても、これを確実に検出することができる異
物検査装置を提供すること。 【解決手段】 二次元方向に移動する検査ステージ5に
保持された基板4の検査対象面4aに向かってレーザ光
2を発するレーザ光源1と、このレーザ光源1と前記基
板4との間の光路中に設けられ、対物レンズ10、参照
面11、ビームスプリッタ12よりなるフリンジスキャ
ンを行う干渉計8と、前記検査対象面4aおよび参照面
11においてそれぞれ反射された後、前記対物レンズ1
0を通過した光を受光するための複数の受光素子13a
を二次元的に配置した光検出器13とからなり、相異な
る二つの受光素子の出力信号の位相差と基準値とを比較
することにより、前記検査対象面4aにおける異物1
8,19の有無を判別するようにした。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、LSI
製造プロセスにおいて、半導体ウェハに回路パターンを
焼き付けるために用いられるレチクルやマスク、あるい
は、回路パターンが形成された製品ウェハ、さらには、
液晶用基板などの検査対象基板の表面に、異物が付着し
ているか否かおよびその付着場所を特定することができ
る異物検査装置に関する。
製造プロセスにおいて、半導体ウェハに回路パターンを
焼き付けるために用いられるレチクルやマスク、あるい
は、回路パターンが形成された製品ウェハ、さらには、
液晶用基板などの検査対象基板の表面に、異物が付着し
ているか否かおよびその付着場所を特定することができ
る異物検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】上記異物検査装置として、異物にレーザ
光が照射されたときの散乱光を検出する方式のものがあ
る。すなわち、この種の異物検査装置は、例えばレチク
ル上の異物からの散乱光とレチクル上のパターンからの
散乱光とでは偏光特性が大きく異なることを利用したも
ので、このような測定原理の異物検査装置としては、例
えば、特公平6−21879号公報や特公平7−767
53号公報などに詳しく説明されている。
光が照射されたときの散乱光を検出する方式のものがあ
る。すなわち、この種の異物検査装置は、例えばレチク
ル上の異物からの散乱光とレチクル上のパターンからの
散乱光とでは偏光特性が大きく異なることを利用したも
ので、このような測定原理の異物検査装置としては、例
えば、特公平6−21879号公報や特公平7−767
53号公報などに詳しく説明されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の散乱光を検出す
る方式の異物検査装置においては、かなり細かい異物で
あっても確実に検出することができるものの、異物が平
坦できわめて薄いものであったり、水垢のように極微小
の異物により構成されるものやレジスト残滓のように透
明あるいは半透明であるような場合、異物からの散乱光
がきわめて微弱となるため、それらの検出が困難となる
といった不都合がある。そして、特に、近年において
は、半導体デバイスの高集積化や形成されるパターンの
微細化技術が開発され、前述した異物をも確実に検出す
る技術の確立が要望されているところである。
る方式の異物検査装置においては、かなり細かい異物で
あっても確実に検出することができるものの、異物が平
坦できわめて薄いものであったり、水垢のように極微小
の異物により構成されるものやレジスト残滓のように透
明あるいは半透明であるような場合、異物からの散乱光
がきわめて微弱となるため、それらの検出が困難となる
といった不都合がある。そして、特に、近年において
は、半導体デバイスの高集積化や形成されるパターンの
微細化技術が開発され、前述した異物をも確実に検出す
る技術の確立が要望されているところである。
【0004】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、異物が薄くて平板であったり、
透明または半透明であっても、これを確実に検出するこ
とができる異物検査装置を提供することである。
たもので、その目的は、異物が薄くて平板であったり、
透明または半透明であっても、これを確実に検出するこ
とができる異物検査装置を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の異物検査装置は、二次元方向に移動する
検査ステージに保持された基板の検査対象面に向かって
レーザ光を発するレーザ光源と、このレーザ光源と前記
基板との間の光路中に設けられ、対物レンズ、参照面、
ビームスプリッタよりなるフリンジスキャンを行う干渉
計と、前記検査対象面および参照面においてそれぞれ反
射された後、前記対物レンズを通過した光を受光するた
めの複数の受光素子を二次元的に配置した光検出器とか
らなり、任意の相異なる二つの受光素子の出力信号の位
相差と基準値とを比較することにより、前記検査対象面
における異物の有無を判別するようにしている。
め、この発明の異物検査装置は、二次元方向に移動する
検査ステージに保持された基板の検査対象面に向かって
レーザ光を発するレーザ光源と、このレーザ光源と前記
基板との間の光路中に設けられ、対物レンズ、参照面、
ビームスプリッタよりなるフリンジスキャンを行う干渉
計と、前記検査対象面および参照面においてそれぞれ反
射された後、前記対物レンズを通過した光を受光するた
めの複数の受光素子を二次元的に配置した光検出器とか
らなり、任意の相異なる二つの受光素子の出力信号の位
相差と基準値とを比較することにより、前記検査対象面
における異物の有無を判別するようにしている。
【0006】この発明の異物検査装置においては、受光
素子全ての点における位相を求めるのではなく、任意の
相異なる二つの受光素子の出力信号の位相差と基準値と
を比較することにより、検査対象面における異物の有無
を判別するようにしているので、膨大なデータを求めた
り、これに基づいて計算するといったことが不要にな
り、リアルタイムに異物の有無判別を行うことができ
る。
素子全ての点における位相を求めるのではなく、任意の
相異なる二つの受光素子の出力信号の位相差と基準値と
を比較することにより、検査対象面における異物の有無
を判別するようにしているので、膨大なデータを求めた
り、これに基づいて計算するといったことが不要にな
り、リアルタイムに異物の有無判別を行うことができ
る。
【0007】
【発明の実施の形態】発明の実施の形態を図面を参照し
ながら説明する。図1は、この発明の異物検査装置を概
略的に示すもので、この図1において、1はレーザ光2
を発するレーザ光源、3はレーザ光2を90°の方向に
曲げるように配置された半透鏡で、レーザ光2が曲げら
れる方向には検査対象基板としての例えばレチクル4を
載置し、これを二次元方向に移動させる検査ステージ5
が設けられている。すなわち、この検査ステージ5は、
図示してない駆動機構により、矢印X方向(紙面の左右
方向)およびこれと直交する矢印Y方向(紙面に垂直な
方向)に移動できるように構成されている。6a,6b
はレーザ光源1と半透鏡3との間の光路7中に介装され
る集光用レンズである。
ながら説明する。図1は、この発明の異物検査装置を概
略的に示すもので、この図1において、1はレーザ光2
を発するレーザ光源、3はレーザ光2を90°の方向に
曲げるように配置された半透鏡で、レーザ光2が曲げら
れる方向には検査対象基板としての例えばレチクル4を
載置し、これを二次元方向に移動させる検査ステージ5
が設けられている。すなわち、この検査ステージ5は、
図示してない駆動機構により、矢印X方向(紙面の左右
方向)およびこれと直交する矢印Y方向(紙面に垂直な
方向)に移動できるように構成されている。6a,6b
はレーザ光源1と半透鏡3との間の光路7中に介装され
る集光用レンズである。
【0008】8は半透鏡3と検査ステージ5との間の光
路9中に介装されるフリンジスキャンを行うミロー(M
irau)タイプの干渉計で、対物レンズ10、参照面
11およびビームスプリッタ12よりなる。すなわち、
参照面11は、その検査ステージ5側が反射面に形成さ
れ、対物レンズ10のレチクル4の検査対象面4aに対
向し、かつ視野の邪魔をしないように設けられている。
また、ビームスプリッタ12は、入射した光を分割する
もので、図示してない駆動機構により検査ステージ5と
平行状態を維持しつつこれに対して近づいたり遠ざかる
ように矢印UまたV方向に移動するように構成されてい
る。
路9中に介装されるフリンジスキャンを行うミロー(M
irau)タイプの干渉計で、対物レンズ10、参照面
11およびビームスプリッタ12よりなる。すなわち、
参照面11は、その検査ステージ5側が反射面に形成さ
れ、対物レンズ10のレチクル4の検査対象面4aに対
向し、かつ視野の邪魔をしないように設けられている。
また、ビームスプリッタ12は、入射した光を分割する
もので、図示してない駆動機構により検査ステージ5と
平行状態を維持しつつこれに対して近づいたり遠ざかる
ように矢印UまたV方向に移動するように構成されてい
る。
【0009】13は前記光路9を逆方向に延長した光路
14中に設けられる光検出器としてのCCDカメラで、
その受光面は、図2に示すように、複数(n×n個)の
受光素子13aをX,Y方向に二次元的に配置してな
り、ビームスプリッタ12および対物レンズ10を通過
した光が前記受光素子のいずれかに入射するように構成
されている。図2において、(1 1)〜(n n)は
素子番号を示している。そして、図1において、15は
CCDカメラ13の出力信号に基づいて演算を行う演算
処理部である。
14中に設けられる光検出器としてのCCDカメラで、
その受光面は、図2に示すように、複数(n×n個)の
受光素子13aをX,Y方向に二次元的に配置してな
り、ビームスプリッタ12および対物レンズ10を通過
した光が前記受光素子のいずれかに入射するように構成
されている。図2において、(1 1)〜(n n)は
素子番号を示している。そして、図1において、15は
CCDカメラ13の出力信号に基づいて演算を行う演算
処理部である。
【0010】上記構成の異物検査装置において、レーザ
光源1から発せられたレーザ光2は半透鏡3を経て対物
レンズ10方向に導かれる。そして、対物レンズ10を
経た光は、ビームスプリッタ12で二分割され、一方の
光は検査ステージ5上のレチクル4に導かれ、他方の光
は参照面11に導かれる。そして、レチクル4の検査対
象面4aおよび参照面11においてそれぞれ反射した光
は、再びビームスプリッタ12を経て互いに交わって一
つの光となり、対物レンズ10および半透鏡3を経てC
CDカメラ13の受光面に入射する。
光源1から発せられたレーザ光2は半透鏡3を経て対物
レンズ10方向に導かれる。そして、対物レンズ10を
経た光は、ビームスプリッタ12で二分割され、一方の
光は検査ステージ5上のレチクル4に導かれ、他方の光
は参照面11に導かれる。そして、レチクル4の検査対
象面4aおよび参照面11においてそれぞれ反射した光
は、再びビームスプリッタ12を経て互いに交わって一
つの光となり、対物レンズ10および半透鏡3を経てC
CDカメラ13の受光面に入射する。
【0011】そして、前記検査対象面4aおよび参照面
11においてそれぞれ反射したが互いに交わることでC
CDカメラ13においては干渉像が結ばれ、この干渉像
の干渉縞を観測することができる。この干渉縞は、検査
対象面4aとビームスプリッタ12との距離と、ビーム
スプリッタ12と参照面11との距離との違い、つま
り、検査対象面4aで反射した光がビームスプリッタ1
2に至る光路長と、ビームスプリッタ12において反射
した光が参照面11に至る光路長との差に起因して発生
したものである。
11においてそれぞれ反射したが互いに交わることでC
CDカメラ13においては干渉像が結ばれ、この干渉像
の干渉縞を観測することができる。この干渉縞は、検査
対象面4aとビームスプリッタ12との距離と、ビーム
スプリッタ12と参照面11との距離との違い、つま
り、検査対象面4aで反射した光がビームスプリッタ1
2に至る光路長と、ビームスプリッタ12において反射
した光が参照面11に至る光路長との差に起因して発生
したものである。
【0012】ここで、ビームスプリッタ12を光軸に沿
う方向(矢印UまたはV方向)に一定量だけ一定速度で
往復移動させると、このビームスプリッタ12の移動に
伴って前記光路長の差が変化し、前記干渉縞が移動す
る。この干渉縞の移動は、CCDカメラ13の一つの受
光素子に注目した場合、そこにおける光が明滅して見え
る。
う方向(矢印UまたはV方向)に一定量だけ一定速度で
往復移動させると、このビームスプリッタ12の移動に
伴って前記光路長の差が変化し、前記干渉縞が移動す
る。この干渉縞の移動は、CCDカメラ13の一つの受
光素子に注目した場合、そこにおける光が明滅して見え
る。
【0013】そして、検査対象面4aであるレチクル4
の表面に異物が存在していると、異物の部分に対応して
生ずる干渉縞の明滅する位相と、検査対象面4aの他の
部分に対応して生ずる干渉縞の明滅する位相とに相違が
生ずる。例えば、図4はレチクル4の検査対象面4aを
拡大して示すもので、この図において、16はガラスが
露出している部分であり、17はCr(クローム)パタ
ーンが形成されている部分である。また、18,19は
それぞれ透明異物、不透明な異物である。これらの各部
16〜19にそれぞれ光が照射されたときにおける前記
位相には、相違が生ずる。この場合、Crパターンの厚
みは一定であり、Crパターン17とガラス面部16と
に起因する位相差も既知であり、例えばこれを基準値と
する。
の表面に異物が存在していると、異物の部分に対応して
生ずる干渉縞の明滅する位相と、検査対象面4aの他の
部分に対応して生ずる干渉縞の明滅する位相とに相違が
生ずる。例えば、図4はレチクル4の検査対象面4aを
拡大して示すもので、この図において、16はガラスが
露出している部分であり、17はCr(クローム)パタ
ーンが形成されている部分である。また、18,19は
それぞれ透明異物、不透明な異物である。これらの各部
16〜19にそれぞれ光が照射されたときにおける前記
位相には、相違が生ずる。この場合、Crパターンの厚
みは一定であり、Crパターン17とガラス面部16と
に起因する位相差も既知であり、例えばこれを基準値と
する。
【0014】そして、CCDカメラ13の受光素子13
aのうち、隣合うものどうしまたは1また2以上離れた
受光素子における信号の位相差を演算処理部15におい
て検知することにより、ガラス面とCrパターンとにお
ける位相差に相当するもの(基準値)以外の位相差のも
のがあれば、これを異物として判別することができる。
aのうち、隣合うものどうしまたは1また2以上離れた
受光素子における信号の位相差を演算処理部15におい
て検知することにより、ガラス面とCrパターンとにお
ける位相差に相当するもの(基準値)以外の位相差のも
のがあれば、これを異物として判別することができる。
【0015】図3は、この発明の異物検査装置を用いた
ときにおける異物有無の判別方法の一例を概略的に示す
もので、上記したように、ビームスプリッタ12を光軸
方向に上下動させてフリンジスキャンを行いつつ検査ス
テージ5をX,Y方向に二次元的に移動させることによ
り、CCDカメラ13の各受光素子13aから信号が出
力される。これらの信号は、A/D変換された後、メモ
リにストックされ、その後、演算処理部15に入力して
正規化を行った後、信号どうしの位相差を演算する。そ
して、前記基準となる一定の位相差を超える素子番号を
見つける。このときの素子番号と、そのときの検査ステ
ージ5の位置とから異物の位置を判断するのである。
ときにおける異物有無の判別方法の一例を概略的に示す
もので、上記したように、ビームスプリッタ12を光軸
方向に上下動させてフリンジスキャンを行いつつ検査ス
テージ5をX,Y方向に二次元的に移動させることによ
り、CCDカメラ13の各受光素子13aから信号が出
力される。これらの信号は、A/D変換された後、メモ
リにストックされ、その後、演算処理部15に入力して
正規化を行った後、信号どうしの位相差を演算する。そ
して、前記基準となる一定の位相差を超える素子番号を
見つける。このときの素子番号と、そのときの検査ステ
ージ5の位置とから異物の位置を判断するのである。
【0016】なお、上述の方法においては、一定の位相
差を超える素子番号を見つけるようにしているが、一定
の位相差を除いた位相差の素子番号を見つけるようにし
てもよい。また、正規化は必ずしも行わなくてもよい。
差を超える素子番号を見つけるようにしているが、一定
の位相差を除いた位相差の素子番号を見つけるようにし
てもよい。また、正規化は必ずしも行わなくてもよい。
【0017】そして、前記図4におけるV−V線断面
が、図5のように表されるものとする。この図5におい
て、符号aはビームスプリッタ12を経てガラス面部1
6で反射した光を、符号bはビームスプリッタ12を経
てCrパターン部17の表面で反射した光を、符号cは
ビームスプリッタ12を経て透明異物18を通過し、ガ
ラス面部16で反射した光を、そして、符号dはビーム
スプリッタ12を経て不透明な異物18の表面で反射し
た光を、それぞれ示している。
が、図5のように表されるものとする。この図5におい
て、符号aはビームスプリッタ12を経てガラス面部1
6で反射した光を、符号bはビームスプリッタ12を経
てCrパターン部17の表面で反射した光を、符号cは
ビームスプリッタ12を経て透明異物18を通過し、ガ
ラス面部16で反射した光を、そして、符号dはビーム
スプリッタ12を経て不透明な異物18の表面で反射し
た光を、それぞれ示している。
【0018】前記図5において、ビームスプリッタ12
を矢印UまたはV方向に所定量だけ一定速度で往復移動
させたとき、前記符号a〜dに対応する光によってそれ
ぞれ生ずる明滅の変化は、図6に示すようになる。この
図6における符号a〜dは、図5における符号a〜dに
対応している。なお、図6において、Iは干渉光の強度
を示す。
を矢印UまたはV方向に所定量だけ一定速度で往復移動
させたとき、前記符号a〜dに対応する光によってそれ
ぞれ生ずる明滅の変化は、図6に示すようになる。この
図6における符号a〜dは、図5における符号a〜dに
対応している。なお、図6において、Iは干渉光の強度
を示す。
【0019】上述したように、この発明の異物検査装置
によれば、平坦な異物は勿論のこと、その異物が透明ま
たは半透明であっても、レチクル4上の異物をCrパタ
ーンと明確に区別して検出することができる。
によれば、平坦な異物は勿論のこと、その異物が透明ま
たは半透明であっても、レチクル4上の異物をCrパタ
ーンと明確に区別して検出することができる。
【0020】そして、従来のフリンジスキャン法では、
CCDカメラの各受光素子における信号の位相をまず特
定し、その上で、それぞれの位相を比較していた。この
ような従来の手法は、膨大な量のデータを必要とすると
ともに、これらのデータを用いて計算を行う場合、煩瑣
な計算を行う必要があるところから、異物判別にかなり
の時間を要していたが、この発明によれば、位相差をリ
アルタイムで検出することができるため、異物の検査を
短時間で行うことができる。
CCDカメラの各受光素子における信号の位相をまず特
定し、その上で、それぞれの位相を比較していた。この
ような従来の手法は、膨大な量のデータを必要とすると
ともに、これらのデータを用いて計算を行う場合、煩瑣
な計算を行う必要があるところから、異物判別にかなり
の時間を要していたが、この発明によれば、位相差をリ
アルタイムで検出することができるため、異物の検査を
短時間で行うことができる。
【0021】この発明は、上述の実施の形態に限られる
ものではなく、種々に変形して実施することができ、干
渉計8を、マイケルソンタイプなど他の構造のものに構
成してもよい。また、ビームスプリッタ12を上下方向
に移動させるのに代えて、参照面11を上下動させても
よい。
ものではなく、種々に変形して実施することができ、干
渉計8を、マイケルソンタイプなど他の構造のものに構
成してもよい。また、ビームスプリッタ12を上下方向
に移動させるのに代えて、参照面11を上下動させても
よい。
【0022】また、ビームスプリッタ12あるいは参照
面11を一定速度で直線的に上下動させたとき、CCD
カメラ13の一つの受光素子13aから出力される信号
は正弦波となるが、前記ビームスプリッタ12あるいは
参照面11を必ずしも一定速度で直線的に往復移動させ
る必要はなく、正弦波によって駆動するようにしてもよ
い。
面11を一定速度で直線的に上下動させたとき、CCD
カメラ13の一つの受光素子13aから出力される信号
は正弦波となるが、前記ビームスプリッタ12あるいは
参照面11を必ずしも一定速度で直線的に往復移動させ
る必要はなく、正弦波によって駆動するようにしてもよ
い。
【0023】そして、レチクル4においては、その検査
対象面4aにおけるガラス面部16にごく僅かではある
がある程度の傾きが生じているため、検査対象面4aに
異物が存在しないような場合においても、隣合う受光素
子13aにおける信号に位相差が生ずることがある。そ
こで、このような事態に対処するため、検出すべき異物
の高さをCrパターン17の高さより大きく設定し、レ
チクル4のガラス面16の傾きを一定に抑えて、Crパ
ターン17とガラス面部16との位相差を超える点のみ
を抽出するようにしてもよい。
対象面4aにおけるガラス面部16にごく僅かではある
がある程度の傾きが生じているため、検査対象面4aに
異物が存在しないような場合においても、隣合う受光素
子13aにおける信号に位相差が生ずることがある。そ
こで、このような事態に対処するため、検出すべき異物
の高さをCrパターン17の高さより大きく設定し、レ
チクル4のガラス面16の傾きを一定に抑えて、Crパ
ターン17とガラス面部16との位相差を超える点のみ
を抽出するようにしてもよい。
【0024】さらに、CCDカメラ13に代えて、ダイ
オードアレイなど他の光検出器を用いてもよい。
オードアレイなど他の光検出器を用いてもよい。
【0025】
【発明の効果】この発明の異物検査装置によれば、従来
の散乱光を検出する方式の異物検査装置よっては検出す
ることが困難であった、平坦できわめて薄い異物や、透
明あるいは半透明な異物をも確実に検出することができ
る。
の散乱光を検出する方式の異物検査装置よっては検出す
ることが困難であった、平坦できわめて薄い異物や、透
明あるいは半透明な異物をも確実に検出することができ
る。
【0026】そして、この発明の異物検査装置において
は、受光素子全ての点における位相を求めるのではな
く、任意の相異なる二つの受光素子の出力信号の位相差
と基準値とを比較することにより、検査対象面における
異物の有無を判別するようにしているので、膨大なデー
タを求めたり、これに基づいて計算するといったことが
不要になり、リアルタイムに異物の有無判別を行うこと
ができる。
は、受光素子全ての点における位相を求めるのではな
く、任意の相異なる二つの受光素子の出力信号の位相差
と基準値とを比較することにより、検査対象面における
異物の有無を判別するようにしているので、膨大なデー
タを求めたり、これに基づいて計算するといったことが
不要になり、リアルタイムに異物の有無判別を行うこと
ができる。
【図1】この発明の異物検査装置の構成を概略的に示す
図である。
図である。
【図2】前記異物検査装置において用いるCCDカメラ
の受光素子の配列状態を模式的に示す図である。
の受光素子の配列状態を模式的に示す図である。
【図3】前記異物検査装置による異物検査方法の一例を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図4】検査対象基板としてのレチクルの平面状態を拡
大して示す図である。
大して示す図である。
【図5】図4におけるV−V線断面図である。
【図6】図4においてビームスプリッタを上下動させた
ときのレチクルの各部における干渉光を模式的に示す図
である。
ときのレチクルの各部における干渉光を模式的に示す図
である。
1…レーザ光源、2…レーザ光、4…基板、4a…検査
対象面、5…検査ステージ、8…干渉計、10…対物レ
ンズ、11…参照面、12…ビームスプリッタ、13…
光検出器、13a…受光素子、15…演算処理部、1
8,19…異物。
対象面、5…検査ステージ、8…干渉計、10…対物レ
ンズ、11…参照面、12…ビームスプリッタ、13…
光検出器、13a…受光素子、15…演算処理部、1
8,19…異物。
Claims (1)
- 【請求項1】 二次元方向に移動する検査ステージに保
持された基板の検査対象面に向かってレーザ光を発する
レーザ光源と、このレーザ光源と前記基板との間の光路
中に設けられ、対物レンズ、参照面、ビームスプリッタ
よりなるフリンジスキャンを行う干渉計と、前記検査対
象面および参照面においてそれぞれ反射された後、前記
対物レンズを通過した光を受光するための複数の受光素
子を二次元的に配置した光検出器とからなり、任意の相
異なる二つの受光素子の出力信号の位相差と基準値とを
比較することにより、前記検査対象面における異物の有
無を判別するようにしたことを特徴とする異物検査装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11514097A JPH10293100A (ja) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | 異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11514097A JPH10293100A (ja) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | 異物検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10293100A true JPH10293100A (ja) | 1998-11-04 |
Family
ID=14655289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11514097A Pending JPH10293100A (ja) | 1997-04-16 | 1997-04-16 | 異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10293100A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003121346A (ja) * | 2001-10-17 | 2003-04-23 | Japan Science & Technology Corp | 光波コヒーレンス断層画像化方法及びその装置 |
| WO2024257387A1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-12-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | 干渉観察装置及び干渉観察方法 |
-
1997
- 1997-04-16 JP JP11514097A patent/JPH10293100A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003121346A (ja) * | 2001-10-17 | 2003-04-23 | Japan Science & Technology Corp | 光波コヒーレンス断層画像化方法及びその装置 |
| WO2024257387A1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-12-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | 干渉観察装置及び干渉観察方法 |
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