JPH1028820A - 感光液の濾過装置 - Google Patents
感光液の濾過装置Info
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- JPH1028820A JPH1028820A JP9089793A JP8979397A JPH1028820A JP H1028820 A JPH1028820 A JP H1028820A JP 9089793 A JP9089793 A JP 9089793A JP 8979397 A JP8979397 A JP 8979397A JP H1028820 A JPH1028820 A JP H1028820A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/88—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor having feed or discharge devices
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
- B01D35/30—Filter housing constructions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 感光液の濾過時に発生される多数の気泡を除
去した状態で排出することによってウェーハの塗布の不
良を防止できる感光液の濾過装置を提供する。 【解決手段】 フィルタハウジング１０と、フィルタハ
ウジング１０の上側に設置された流入管２０と、流入空
間Ｓ1の上部に連通設置された第１通気管３０と、流入
空間Ｓ1に溜まる感光液を濾過するフィルタ５０と、排
出空間Ｓ2の下部に連通設置された排出管４０と、排出
空間Ｓ2の内部に挿入設置された第２通気管７０とを備
えた構成とし、流入空間Ｓ1を、フィルタハウジング１
０の内側の上部に形成するとともに、内部に流入される
感光液が溜まる構成とし、排出空間Ｓ2を、フィルタ５
０の中央の下端から上方の所定の位置まで形成するとと
もに、感光液が濾過された後、集結する構成とした。
去した状態で排出することによってウェーハの塗布の不
良を防止できる感光液の濾過装置を提供する。 【解決手段】 フィルタハウジング１０と、フィルタハ
ウジング１０の上側に設置された流入管２０と、流入空
間Ｓ1の上部に連通設置された第１通気管３０と、流入
空間Ｓ1に溜まる感光液を濾過するフィルタ５０と、排
出空間Ｓ2の下部に連通設置された排出管４０と、排出
空間Ｓ2の内部に挿入設置された第２通気管７０とを備
えた構成とし、流入空間Ｓ1を、フィルタハウジング１
０の内側の上部に形成するとともに、内部に流入される
感光液が溜まる構成とし、排出空間Ｓ2を、フィルタ５
０の中央の下端から上方の所定の位置まで形成するとと
もに、感光液が濾過された後、集結する構成とした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体の製造に使用
される感光液の濾過装置に関し、さらに詳しくはウェー
ハに供給される感光液の濾過時に発生される多数の気泡
を取り除いた状態で濾過された感光液を排出する感光液
の濾過装置に関する。
される感光液の濾過装置に関し、さらに詳しくはウェー
ハに供給される感光液の濾過時に発生される多数の気泡
を取り除いた状態で濾過された感光液を排出する感光液
の濾過装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体の素材、即ちウェーハの
加工時に酸化および拡散工程、エッチング工程などのい
ろいろの工程をへることになるが、例えば感光膜の塗布
工程には酸化膜が形成されたウェーハ上に選択的にエッ
チングパタンを形成させることを目的として感光液を使
用する。前記感光液は、例えばスピンコータ（spin coa
ter）やローラ型の塗布機等を利用して前記ウェーハ上
に均等に塗布してから加熱硬化させると前記ウェーハ上
に感光膜が形成される。このような前記感光液には主要
な化学成分のほかにも不必要な微細な粒子（Particle
s）等の不純物が含有されることができるので、当該工
程に投入される前に濾過装置をへることが望ましい。
加工時に酸化および拡散工程、エッチング工程などのい
ろいろの工程をへることになるが、例えば感光膜の塗布
工程には酸化膜が形成されたウェーハ上に選択的にエッ
チングパタンを形成させることを目的として感光液を使
用する。前記感光液は、例えばスピンコータ（spin coa
ter）やローラ型の塗布機等を利用して前記ウェーハ上
に均等に塗布してから加熱硬化させると前記ウェーハ上
に感光膜が形成される。このような前記感光液には主要
な化学成分のほかにも不必要な微細な粒子（Particle
s）等の不純物が含有されることができるので、当該工
程に投入される前に濾過装置をへることが望ましい。
【０００３】図２には従来の実施例による感光液の濾過
装置の内部の構成を示している。同図における、従来の
濾過装置は、フィルタハウジング１の外部の端部に感光
液が流入される流入管２と、前記流入管２を介して感光
液が前記ハウジング１の内部に流入されるとき生成され
る多数の気泡が排出される通気管３がそれぞれ設置され
る。
装置の内部の構成を示している。同図における、従来の
濾過装置は、フィルタハウジング１の外部の端部に感光
液が流入される流入管２と、前記流入管２を介して感光
液が前記ハウジング１の内部に流入されるとき生成され
る多数の気泡が排出される通気管３がそれぞれ設置され
る。
【０００４】また、フィルタハウジング１の外側の中央
には濾過された前記感光液を塗布装置（図示せず）に供
給されるように排出する排出管４が設置される。一方、
前記フィルタハウジング１の内部には上側に所定の流入
空間Ｓ1のみを残して、例えば１６スタックからなって
いるフィルタ５が殆どすべての容積を占めるように内部
設置される。
には濾過された前記感光液を塗布装置（図示せず）に供
給されるように排出する排出管４が設置される。一方、
前記フィルタハウジング１の内部には上側に所定の流入
空間Ｓ1のみを残して、例えば１６スタックからなって
いるフィルタ５が殆どすべての容積を占めるように内部
設置される。
【０００５】また、前記フィルタ５の中央には流入され
た前記感光液が濾過されて溜まる所定の排出空間Ｓ2が
形成される。前記排出空間Ｓ2は前記排出管４と連通さ
れ、前記流入空間Ｓ1と隔離されるようにＯリング６に
よって密封されている。
た前記感光液が濾過されて溜まる所定の排出空間Ｓ2が
形成される。前記排出空間Ｓ2は前記排出管４と連通さ
れ、前記流入空間Ｓ1と隔離されるようにＯリング６に
よって密封されている。
【０００６】前記のように構成されている従来の前記感
光液の濾過装置は、前記流入管２を通して前記感光液が
流入されると、前記流入空間Ｓ1に集まった後、前記フ
ィルタ５をへて不純物を濾過してから前記排出空間Ｓ2
に集結されて前記排出管４を通して塗布装置（図示せ
ず）に供給される。このとき、前記感光液が前記流入空
間Ｓ1に流入されるとき１次に形成される多数の気泡は
前記通気管３を通して外部に排出されるが、前記フィル
タ５をへて前記排出空間Ｓ2に集結された感光液には大
略０.２μｍ以下の微細な気泡が再び２次に形成され
る。
光液の濾過装置は、前記流入管２を通して前記感光液が
流入されると、前記流入空間Ｓ1に集まった後、前記フ
ィルタ５をへて不純物を濾過してから前記排出空間Ｓ2
に集結されて前記排出管４を通して塗布装置（図示せ
ず）に供給される。このとき、前記感光液が前記流入空
間Ｓ1に流入されるとき１次に形成される多数の気泡は
前記通気管３を通して外部に排出されるが、前記フィル
タ５をへて前記排出空間Ｓ2に集結された感光液には大
略０.２μｍ以下の微細な気泡が再び２次に形成され
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の濾過装
置において、前記のように２次に形成された微細な気泡
がより大きな気泡として互いに集結されてから除去され
ず排出されてしまうと、たとえ、その排出される感光液
が濾過されているとしても多数の気泡が含まれているま
まにウェーハ上に塗布されるので、塗布の不良による工
程の不良を招くなど、半導体の製造の歩留まりを低下さ
せてしまう問題点がある。したがって、本発明は上述の
問題点を解消するために創出されたもので、その目的は
感光液の濾過時に発生される多数の気泡を除去した状態
で排出することによってウェーハの塗布の不良を防止で
きる前記感光液の濾過装置を提供することである。
置において、前記のように２次に形成された微細な気泡
がより大きな気泡として互いに集結されてから除去され
ず排出されてしまうと、たとえ、その排出される感光液
が濾過されているとしても多数の気泡が含まれているま
まにウェーハ上に塗布されるので、塗布の不良による工
程の不良を招くなど、半導体の製造の歩留まりを低下さ
せてしまう問題点がある。したがって、本発明は上述の
問題点を解消するために創出されたもので、その目的は
感光液の濾過時に発生される多数の気泡を除去した状態
で排出することによってウェーハの塗布の不良を防止で
きる前記感光液の濾過装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るための本発明による前記感光液の濾過装置は、フィル
タハウジングと、前記フィルタハウジングの上側に設置
されて感光液を流入させる流入管と、流入空間の上部に
連通設置されて流入時に生成される多数の気泡を排出す
る第１通気管と、前記流入空間に溜まる感光液が通過し
て含有された不純物を濾過するフィルタと、排出空間の
下部に連通設置されて濾過された感光液を排出する排出
管と、前記排出空間の内部に挿入設置されて濾過および
集結時に再び発生される微細な気泡を外部へ排出する第
２通気管とを備えてなり、前記流入空間は、前記フィル
タハウジングの内側の上部に形成され、内部に流入され
る感光液が溜まる構成とされ、前記排出空間は、前記フ
ィルタの中央の下端から上方の所定の位置まで形成さ
れ、感光液が濾過された後、集結する構成とされている
ことを特徴とする。
るための本発明による前記感光液の濾過装置は、フィル
タハウジングと、前記フィルタハウジングの上側に設置
されて感光液を流入させる流入管と、流入空間の上部に
連通設置されて流入時に生成される多数の気泡を排出す
る第１通気管と、前記流入空間に溜まる感光液が通過し
て含有された不純物を濾過するフィルタと、排出空間の
下部に連通設置されて濾過された感光液を排出する排出
管と、前記排出空間の内部に挿入設置されて濾過および
集結時に再び発生される微細な気泡を外部へ排出する第
２通気管とを備えてなり、前記流入空間は、前記フィル
タハウジングの内側の上部に形成され、内部に流入され
る感光液が溜まる構成とされ、前記排出空間は、前記フ
ィルタの中央の下端から上方の所定の位置まで形成さ
れ、感光液が濾過された後、集結する構成とされている
ことを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、添付の図面に基づいて本発
明の好ましい実施例をさらに詳細に説明する。 図１は
本発明の実施例による感光液の濾過装置の内部の構成を
示している断面図である。同図において、本発明の濾過
装置は、フィルタハウジング１０の上側に感光液が流入
管２０が設置され、前記流入管２０を通して内部に流入
された感光液が溜まる流入空間Ｓ1が形成される。
明の好ましい実施例をさらに詳細に説明する。 図１は
本発明の実施例による感光液の濾過装置の内部の構成を
示している断面図である。同図において、本発明の濾過
装置は、フィルタハウジング１０の上側に感光液が流入
管２０が設置され、前記流入管２０を通して内部に流入
された感光液が溜まる流入空間Ｓ1が形成される。
【００１０】また、前記フィルタハウジング１０の上側
には感光液の流入時に形成される多数の気泡が前記流入
空間Ｓ1の上端に溜まって外部に排出されることができ
るように第１通気管３０が前記流入空間Ｓ1と連通設置
される。そして、前記流入空間Ｓ1の下方には前記フィ
ルタハウジング１０の内部の容積の大部分を占めてお
り、感光液が染みて含有された不純物を濾過できるよう
に複数層のスタックからなるフィルタ５０が内装設置さ
れる。
には感光液の流入時に形成される多数の気泡が前記流入
空間Ｓ1の上端に溜まって外部に排出されることができ
るように第１通気管３０が前記流入空間Ｓ1と連通設置
される。そして、前記流入空間Ｓ1の下方には前記フィ
ルタハウジング１０の内部の容積の大部分を占めてお
り、感光液が染みて含有された不純物を濾過できるよう
に複数層のスタックからなるフィルタ５０が内装設置さ
れる。
【００１１】一方、前記フィルタ５０の中央の下端から
上方の所定の位置までは前記フィルタ５０をへて濾過さ
れた感光液が集結されることができるように排出空間Ｓ
2が形成され、該排出空間Ｓ2の下部には濾過された感光
液を塗布装置（図示せず）に排出する排出管４０が連通
設置される。
上方の所定の位置までは前記フィルタ５０をへて濾過さ
れた感光液が集結されることができるように排出空間Ｓ
2が形成され、該排出空間Ｓ2の下部には濾過された感光
液を塗布装置（図示せず）に排出する排出管４０が連通
設置される。
【００１２】ここで、前記排出管４０と排出空間Ｓ2の
連結部には前記流入空間Ｓ1と隔離されて濾過された感
光液と濾過されなかった感光液が互いに混じらないよう
にＯリング等のような密閉部材６０によって密封されて
いる。その上に、前記排出空間Ｓ2内には感光液の濾過
および集結時に生成される微細な気泡を別途に排出する
ことができるように第２通気管７０が挿入設置される。
連結部には前記流入空間Ｓ1と隔離されて濾過された感
光液と濾過されなかった感光液が互いに混じらないよう
にＯリング等のような密閉部材６０によって密封されて
いる。その上に、前記排出空間Ｓ2内には感光液の濾過
および集結時に生成される微細な気泡を別途に排出する
ことができるように第２通気管７０が挿入設置される。
【００１３】このように構成されている本発明による感
光液の濾過装置は、前記流入管２０を通して感光液が流
入されると、前記流入空間Ｓ1に一旦溜まってから前記
フィルタ５０をへて不純物を濾過させた後に前記排出空
間Ｓ2に集結されて前記排出管４０を介して塗布装置
（図示せず）に供給される。
光液の濾過装置は、前記流入管２０を通して感光液が流
入されると、前記流入空間Ｓ1に一旦溜まってから前記
フィルタ５０をへて不純物を濾過させた後に前記排出空
間Ｓ2に集結されて前記排出管４０を介して塗布装置
（図示せず）に供給される。
【００１４】このとき、前記感光液が前記流入空間Ｓ1
に流入されるとき１次に形成される多数の気泡は前記第
１通気管３０を通して外部へ排出される。しかも、前記
フィルタ５０をへて前記排出空間Ｓ2に集結され、かつ
濾過された感光液に大略０.２μｍ以下の微細な気泡が
再び２次に形成されても前記第２通気管７０を通して外
部へ排出される。
に流入されるとき１次に形成される多数の気泡は前記第
１通気管３０を通して外部へ排出される。しかも、前記
フィルタ５０をへて前記排出空間Ｓ2に集結され、かつ
濾過された感光液に大略０.２μｍ以下の微細な気泡が
再び２次に形成されても前記第２通気管７０を通して外
部へ排出される。
【００１５】勿論、前記第２通気管７０は前記排出空間
Ｓ2の上部まで深く挿入設置されることが望ましく、こ
れは生成された気泡が上昇して前記排出空間Ｓ2の上部
に集結されるので容易に排出するためである。
Ｓ2の上部まで深く挿入設置されることが望ましく、こ
れは生成された気泡が上昇して前記排出空間Ｓ2の上部
に集結されるので容易に排出するためである。
【００１６】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の感光液の濾
過装置によると、従来に比べて、感光液を濾過してから
排出前に生成された気泡も完全に排出するようにするこ
とによってウェーハの塗布の不良による工程の不良を未
然に防止することは勿論のこと、ひいては、半導体の製
造の歩留まりを向上させる効果がある。
過装置によると、従来に比べて、感光液を濾過してから
排出前に生成された気泡も完全に排出するようにするこ
とによってウェーハの塗布の不良による工程の不良を未
然に防止することは勿論のこと、ひいては、半導体の製
造の歩留まりを向上させる効果がある。
【図１】 本発明の実施例による感光液の濾過装置の内
部の構成を示している断面図である。
部の構成を示している断面図である。
【図２】 従来の実施例による感光液の濾過装置の内部
の構成を示している断面図である。
の構成を示している断面図である。
１０ フィルタハウジング ２０ 流入管 ３０ 第１通気管 ４０ 排出管 ５０ フィルタ ６０ 密閉部材 ７０ 第２通気管 Ｓ1 流入空間 Ｓ2 排出空間
Claims (2)
- 【請求項１】 フィルタハウジングと、 前記フィルタハウジングの上側に設置されて感光液を流
入させる流入管と、 流入空間の上部に連通設置されて流入時に生成される多
数の気泡を排出する第１通気管と、 前記流入空間に溜まる感光液が通過して含有された不純
物を濾過するフィルタと、 排出空間の下部に連通設置されて濾過された感光液を排
出する排出管と、 前記排出空間の内部に挿入設置されて濾過および集結時
に再び発生される微細な気泡を外部へ排出する第２通気
管とを備えてなり、 前記流入空間は、前記フィルタハウジングの内側の上部
に形成され、内部に流入される感光液が溜まる構成とさ
れ、 前記排出空間は、前記フィルタの中央の下端から上方の
所定の位置まで形成され、感光液が濾過された後、集結
する構成とされていることを特徴とする感光液の濾過装
置。 - 【請求項２】 前記第２通気管は気泡が排出されるよう
に排出空間の上部まで設置されていることを特徴とする
請求項１記載の感光液の濾過装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR199610642 | 1996-04-09 | ||
| KR1019960010642A KR970069073A (ko) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 감광액 여과 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1028820A true JPH1028820A (ja) | 1998-02-03 |
Family
ID=19455341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9089793A Withdrawn JPH1028820A (ja) | 1996-04-09 | 1997-04-08 | 感光液の濾過装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1028820A (ja) |
| KR (1) | KR970069073A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100462867B1 (ko) * | 2001-05-18 | 2004-12-17 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조용 화학물 공급장치 및 화학물 혼합장치 |
-
1996
- 1996-04-09 KR KR1019960010642A patent/KR970069073A/ko not_active Application Discontinuation
-
1997
- 1997-04-08 JP JP9089793A patent/JPH1028820A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970069073A (ko) | 1997-11-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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