JPH10287444A - Crystallized glass substrate for magnetic disk, and its production - Google Patents

Crystallized glass substrate for magnetic disk, and its production

Info

Publication number
JPH10287444A
JPH10287444A JP9221797A JP9221797A JPH10287444A JP H10287444 A JPH10287444 A JP H10287444A JP 9221797 A JP9221797 A JP 9221797A JP 9221797 A JP9221797 A JP 9221797A JP H10287444 A JPH10287444 A JP H10287444A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
zone
crystallized glass
substrate
magnetic disk
glass substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9221797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuyuki Tatemura
満幸 舘村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Techno Glass Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Glass Co Ltd filed Critical Toshiba Glass Co Ltd
Priority to JP9221797A priority Critical patent/JPH10287444A/en
Publication of JPH10287444A publication Critical patent/JPH10287444A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Glass Compositions (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a crystallized glass substrate that can be easily formed into a substrate for zone-textured magnetic disks adaptable to a low-levitation CSS system by merely grinding the entire surface of the substrate, and also to provide a method for producing the crystallized glass substrate. SOLUTION: This crystallized glass substrate is made to vary the density of crystallization for every substrate zone, so as to have a varying surface roughness Ra for every zone, e.g. 7.0 nm>=Ra >=1.5 nm in the landing zone and 1.5 nm>Ra >=0.6 nm in the record reproduction zone, by merely grinding the entire surface of the substrate. For this purpose, nucleation for the crystallized glass is controlled differently zone by zone, e.g. the substrate surface is irradiated with a varying quantity of ultraviolet ray for a specific zone, or the nucleation is effected at varying temperature zone by zone, for a specific nucleating agent used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ゾーンテクスチャ
ーされた磁気ディスクを容易に得ることができる結晶化
ガラス基板と、その製造方法に関する。
The present invention relates to a crystallized glass substrate from which a zone-textured magnetic disk can be easily obtained, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータ等の外部記憶装置として用
いられる磁気ディスク装置は、近年のコンピュータやO
Sの進歩に伴い需要が拡大し、内部に組込まれる磁気デ
ィスクにおいても急激な大記録容量化・高記録密度化が
進められている。従来よりこの磁気ディスクの1種とし
て、結晶化ガラス基板上に信号を記録する磁性層を形成
した構造のものが知られている。
2. Description of the Related Art A magnetic disk device used as an external storage device of a computer or the like is a recent computer or
With the advancement of S, the demand is expanding, and the magnetic disk incorporated therein is rapidly increasing in recording capacity and recording density. Conventionally, as one type of this magnetic disk, one having a structure in which a magnetic layer for recording signals is formed on a crystallized glass substrate is known.

【0003】ところで、現用の磁気ディスク装置のほと
んどはCSS(コンタクト・スタート・ストップ)方式
を採用しており、この方式によれば、装置の停止時に磁
気ヘッドは磁気ディスクと接触した状態にある。装置が
稼働されると磁気ディスクは回転を開始し、磁気ヘッド
は、磁気ディスクの回転により生ずる気流によって十分
な浮力が得られるまでディスク表面を擦って走行したの
ち浮き上がり、ディスク表面から浮き上がった状態で信
号の記録・再生を行う。したがって、磁気ディスク表面
があまりに平滑であると、装置の停止時に磁気ディスク
と磁気ヘッドとの接触面積が広くなって両者間に働く摩
擦力が大きくなり、磁気ヘッドが磁気ディスク表面に吸
着してしまう。そのような状態で装置を稼働させると、
ディスク自体、あるいはヘッド支持系やディスク駆動系
部材の破損や不具合などを引き起こすおそれがあった。
[0003] Most of the current magnetic disk devices employ a CSS (contact start / stop) system. According to this system, the magnetic head is in contact with the magnetic disk when the system is stopped. When the apparatus is operated, the magnetic disk starts to rotate, and the magnetic head rubs against the disk surface until sufficient buoyancy is obtained by the airflow generated by the rotation of the magnetic disk, and then floats up, and then rises up from the disk surface. Records and reproduces signals. Therefore, if the surface of the magnetic disk is too smooth, the contact area between the magnetic disk and the magnetic head when the apparatus is stopped becomes large, the frictional force acting between them increases, and the magnetic head is attracted to the surface of the magnetic disk. . When operating the device in such a state,
There is a possibility that the disk itself, or a head support system or a disk drive system member may be damaged or malfunction.

【0004】このような磁気ディスクと磁気ヘッドとの
吸着を防ぐ目的で、従来より磁気ディスク用基板の表面
は予め適度な粗面とされている。基板表面に、平均粒径
1〜3μmの酸化セリウムなどの大きな砥粒を用いたテ
クスチャー処理を施して、表面粗さRa1.5〜7.0
nm程度の粗面とすることが一般的である。あるいは、
特開平6−329440号公報には、特定組成の原ガラ
スを熱処理して結晶粒子サイズを制御することにより、
研磨後の表面粗さRaを上記範囲に制御した結晶化ガラ
ス基板が開示されている。
For the purpose of preventing the magnetic disk and the magnetic head from being attracted to each other, the surface of the magnetic disk substrate is conventionally made to have a moderately rough surface. The surface of the substrate is subjected to a texture treatment using large abrasive grains such as cerium oxide having an average particle diameter of 1 to 3 μm, and a surface roughness Ra of 1.5 to 7.0 is applied.
It is common to have a rough surface of about nm. Or,
JP-A-6-329440 discloses that a raw glass having a specific composition is heat-treated to control the crystal particle size.
A crystallized glass substrate in which the surface roughness Ra after polishing is controlled in the above range is disclosed.

【0005】ところで近年、CSS方式の磁気ディスク
装置においては、先に述べた大記録容量化に応えるため
に、磁気ヘッドの浮上高さを小さくして磁気ディスクの
記録密度を高めることが行われている。そして、磁気ヘ
ッドの浮上高さが小さくなるにつれて、信号の正確な記
録・再生のためには磁気ディスク表面がより平滑である
ことが求められるようになってきている。たとえば磁気
ヘッドの浮上高さが100nm以下に小さくなると、磁
気ディスクとしては従来のテクスチャー処理により得ら
れる程度の粗面では粗すぎるようになる。すなわち磁気
ヘッドの低浮上化に対応するため磁気ディスク表面は、
信号の記録・再生の面からはより平滑であるように、そ
して磁気ヘッドの吸着防止の面からは粗面であるように
という相反する2つことが要求されている。
In recent years, in a CSS type magnetic disk drive, in order to respond to the above-mentioned increase in recording capacity, the flying height of a magnetic head is reduced to increase the recording density of a magnetic disk. I have. As the flying height of the magnetic head becomes smaller, it is required that the surface of the magnetic disk be smoother in order to accurately record and reproduce signals. For example, when the flying height of the magnetic head is reduced to 100 nm or less, a rough surface as obtained by the conventional texture processing for a magnetic disk becomes too rough. In other words, the surface of the magnetic disk is
There are two contradictory requirements, that is, a smoother surface from the viewpoint of signal recording and reproduction and a rough surface from the viewpoint of preventing magnetic head adsorption.

【0006】このような要求に応える技術の一つとし
て、ゾーンテクスチャー技術が開発されている。これ
は、磁気ディスク表面全面にテクスチャー処理を施すの
ではなく、磁気ディスク表面のうちCSSを行うランデ
ィングゾーン(通常はディスクの内周側)にのみテクス
チャー処理を施して粗面とし、記録再生を行う記録再生
ゾーンを平滑面とする技術である。
As one of the techniques to meet such a demand, a zone texture technique has been developed. In this method, texturing is not performed on the entire surface of the magnetic disk, but is performed only on the landing zone (usually, the inner peripheral side of the disk) of the surface of the magnetic disk where CSS is performed. This is a technique for making the recording / reproducing zone smooth.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、結晶化
ガラス基板に対してゾーンテクスチャー処理を施すこと
は技術的に難しく、実施しようとすると工程の複雑化を
伴うという難点があった。たとえば特開平7−2449
47号公報の開示によれば、研磨テクスチャー技術をさ
まざまに工夫し組合わせた複雑な工程を経ることによっ
て、ゾーンテクスチャー処理された結晶化ガラス基板を
得ている。このように研磨テクスチャー技術は、アルミ
ディスクに対しては一般的ではあるものの、結晶化ガラ
ス基板にそのまま適用することは容易ではなかった。し
かも、ゾーンテクスチャーにより粗面化されたランディ
ングゾーンの表面は記録再生ゾーンより低くなるため、
ヘッドの移動の際に問題が生じるおそれもあった。一
方、スパッタを用いたフィルムテクスチャーの場合は、
結晶化ガラス基板の全面に施すことは容易であるが、部
分的に施すことは装置やコストなどの面で制約も多く実
施は困難である。したがってゾーンテクスチャーの手段
としては適当ではなかった。
However, it is technically difficult to apply a zone texture treatment to a crystallized glass substrate, and if it is to be performed, there is a problem that the process is complicated. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-2449
According to the disclosure of Japanese Patent No. 47, a crystallized glass substrate that has been subjected to zone texture processing is obtained through a complicated process in which various polishing texture techniques are devised and combined. As described above, although the polishing texture technique is generally used for an aluminum disk, it is not easy to apply it directly to a crystallized glass substrate. Moreover, since the surface of the landing zone roughened by the zone texture is lower than the recording / reproducing zone,
A problem may occur when the head is moved. On the other hand, in the case of film texture using spatter,
Although it is easy to apply it to the entire surface of the crystallized glass substrate, it is difficult to apply it partially because there are many restrictions in terms of equipment and cost. Therefore, it was not suitable as a means for zone texture.

【0008】本発明は、こうした従来の結晶化ガラス基
板に対するゾーンテクスチャーにおける問題点を解決す
るためになされたものであり、基板全面を単一条件で研
磨するだけでゾーンテクスチャーされた磁気ディスク用
基板が容易に得られる結晶化ガラス基板およびその製造
方法を提供することを、その目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem in zone texture with respect to a conventional crystallized glass substrate, and a magnetic disk substrate in which zone texture is obtained only by polishing the entire surface of the substrate under a single condition. It is an object of the present invention to provide a crystallized glass substrate and a method for manufacturing the same, which can be easily obtained.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】結晶化ガラスの作製にあ
たっては、通常、まず結晶核を生成させ、その後結晶核
を中心に結晶化、結晶成長を行わせているが、結晶核の
形成が少ない場合にはそこから成長する析出結晶が粗大
化することが知られている。そして、粗大化した析出結
晶を含む結晶化ガラスを研磨すると、結晶粒界の影響が
大きいため得られる結晶化ガラスの表面粗さは大きくな
る。本発明は、結晶化ガラス製造時の結晶核の形成状態
をゾーン別に制御することによって、析出する結晶の大
きさを制御し、そのことによって研磨後の結晶化ガラス
の表面粗さをゾーン別に制御しようとしたものである。
In the production of crystallized glass, crystal nuclei are usually generated first, and then crystallization and crystal growth are performed centering on the crystal nuclei. In some cases, it is known that precipitated crystals growing therefrom become coarse. Then, when the crystallized glass containing the coarsened precipitated crystals is polished, the surface roughness of the crystallized glass obtained becomes large because the influence of the crystal grain boundaries is large. The present invention controls the size of the precipitated crystals by controlling the state of crystal nuclei formation during the production of crystallized glass for each zone, thereby controlling the surface roughness of the crystallized glass after polishing for each zone. Is what I tried.

【0010】すなわち、本発明の磁気ディスク用結晶化
ガラス基板は、結晶化ガラスの結晶密度がゾーン別に異
なり、かつ、全面研磨後の表面粗さRaが、ゾーン別に
異なっていることを特徴としている。そして、全面研磨
後の表面粗さRaが、ランディングゾーンで1.5nm
以上7.0nm以下、記録再生ゾーンで0.6nm以上
1.5nm未満であることを、本発明のさらなる特徴と
している。ランディングゾーンでRaが1.5nm未満
ではテクスチャーによるヘッドの吸着防止の効果が十分
でなく、7.0nmを超えるとゾーン間の高低差が大き
くなってヘッドの移動に支障を来たすため好ましくな
い。一方、記録再生ゾーンでRaが1.5nm以上では
磁気ヘッドを基板に近づけた際にヘッドクラッシュが生
ずる危険が高く、また通常の研磨によってRaを0.6
nmより小さくすることは難しいため、ともに好ましく
ない。
That is, the crystallized glass substrate for a magnetic disk of the present invention is characterized in that the crystal density of the crystallized glass is different for each zone, and the surface roughness Ra after the entire surface polishing is different for each zone. . The surface roughness Ra after the entire surface polishing is 1.5 nm in the landing zone.
It is a further feature of the present invention that the thickness is not less than 7.0 nm and not more than 0.6 nm and less than 1.5 nm in the recording / reproducing zone. If the Ra is less than 1.5 nm in the landing zone, the effect of preventing the head from being attracted by the texture is not sufficient, and if the Ra exceeds 7.0 nm, the height difference between the zones becomes large, which hinders the movement of the head, which is not preferable. On the other hand, if Ra is 1.5 nm or more in the recording / reproducing zone, there is a high risk that a head crash will occur when the magnetic head is brought close to the substrate.
Since it is difficult to make it smaller than nm, both are not preferable.

【0011】そして、本発明の磁気ディスク用結晶化ガ
ラス基板の製造方法は、結晶化ガラスの核形成を基板面
のゾーン別に制御して行い、そののち熱処理して得られ
る結晶化ガラス基板面の全面を研磨して、基板面の表面
粗さRaがゾーン別に異なるようにしたことを特徴とし
ている。
In the method of manufacturing a crystallized glass substrate for a magnetic disk according to the present invention, the nucleation of crystallized glass is controlled in each zone of the substrate surface, and then the crystallized glass substrate surface obtained by heat treatment is formed. It is characterized in that the entire surface is polished so that the surface roughness Ra of the substrate surface is different for each zone.

【0012】本発明において、結晶核の形成状態をゾー
ン別に制御する手段としては、たとえば、結晶化ガラス
組成に、紫外線照射により核形成を行う結晶核形成剤を
含有させ、基板面のランディングゾーンと記録再生ゾー
ンとのゾーン別に異なる量の紫外線を照射して、結晶化
ガラスの核形成を基板面のゾーン別に制御するような方
法があげられる。紫外線照射により核形成を行う結晶核
形成剤としては、Au、AgCl、あるいはCu2 Oな
どが例示される。紫外線照射量の調整は、たとえば、結
晶密度を小さくしたい部分すなわち表面粗さを大きくし
たいランディングゾーンの部分に、紫外線透過率の低い
フィルムを貼るなどしてマスクすることにより、特別な
装置などを必要とせずに容易に実施可能である。また、
紫外線透過率の低いフィルムとしては、UVカット性、
UV耐性があればどのようなもので使用可能であるが、
たとえば合成樹脂組成物に紫外線吸収材を所定量混合し
て所望の紫外線透過率が得られるようにしたのち、常法
にしたがってフィルム化して得られるものなどが好適で
ある。
In the present invention, as a means for controlling the state of formation of crystal nuclei for each zone, for example, a crystal nucleating agent for forming nuclei by irradiating ultraviolet rays is added to the crystallized glass composition so that the landing zone on the substrate surface can be controlled. There is a method of irradiating a different amount of ultraviolet rays for each zone from the recording / reproducing zone to control the nucleation of crystallized glass for each zone on the substrate surface. Examples of the crystal nucleating agent that forms nuclei by ultraviolet irradiation include Au, AgCl, and Cu 2 O. Adjustment of the amount of UV irradiation requires special equipment, for example, by applying a mask with a film with low UV transmittance to the part where the crystal density is to be reduced, that is, the part of the landing zone where the surface roughness is to be increased. And can be easily implemented. Also,
As a film with low UV transmittance, UV cut,
Anything that has UV resistance can be used,
For example, a material obtained by mixing a predetermined amount of an ultraviolet absorbing material with a synthetic resin composition so as to obtain a desired ultraviolet transmittance and then forming a film according to a conventional method is suitable.

【0013】本発明において結晶核の形成状態をゾーン
別に制御する他の手段としては、結晶化ガラス組成に、
熱処理により核形成を行う結晶核形成剤を含有させ、ラ
ンディングゾーンと記録再生ゾーンにそれぞれ異なる温
度で結晶核形成を行わせることによって、結晶化ガラス
の核形成を基板面のゾーン別に制御する方法もあげられ
る。熱処理により核形成を行う結晶核形成剤としては、
2 5 、TiO2 、あるいはZrO2 などが例示され
る。結晶核形成の熱処理温度の調整は、たとえば、結晶
密度を小さくしたい部分すなわち表面粗さを大きくした
いランディングゾーン部分に、たとえば肉厚のセラミッ
クなどからなる断熱材や熱吸収用の部材を接触させるこ
とによって、特別な装置などを必要とせずに容易に実施
可能である。もしくは、ゾーン別に温度の異なるように
作製された加熱体を接触させるなどしてもよい。なお、
断熱材を接触させる場合には、その断熱作用で1回目の
熱処理時にランディングゾーンを核形成温度未満にして
核形成を阻害し、2回目の熱処理時に断熱材を取除いて
急激に結晶成長させることにより、結晶粒径に差を生じ
させる。したがって、断熱材を接触させることによっ
て、記録再生ゾーンが核形成温度に加熱されたときにラ
ンディングゾーンで核形成が進行しない温度に保たれる
ような温度差が生じることが必要である。その温度差
は、およそ数十℃〜百℃の範囲であるが、ガラス組成に
よって核形成温度域が異なるので、一概に何℃とは決め
られない。ただし、温度差が大きくなり過ぎると、ガラ
ス割れるおそれがあるので注意が必要である。
In the present invention, other means for controlling the state of formation of crystal nuclei for each zone include:
A method of controlling the nucleation of crystallized glass for each zone on the substrate surface by including a crystal nucleating agent for performing nucleation by heat treatment and causing the landing zone and the recording / reproducing zone to perform crystal nucleation at different temperatures, respectively. can give. Crystal nucleating agents that form nuclei by heat treatment include:
Examples include P 2 O 5 , TiO 2 , and ZrO 2 . The heat treatment temperature for crystal nucleus formation is adjusted, for example, by bringing a heat insulating material or a heat absorbing member made of, for example, thick ceramic into contact with a portion where the crystal density is to be reduced, that is, a landing zone portion where the surface roughness is to be increased. Therefore, the present invention can be easily implemented without requiring a special device or the like. Alternatively, a heating element manufactured so that the temperature is different for each zone may be brought into contact. In addition,
When the heat insulating material is brought into contact, the landing zone is made lower than the nucleation temperature during the first heat treatment to inhibit nucleation during the first heat treatment, and the heat insulating material is removed during the second heat treatment to rapidly grow crystals. This causes a difference in the crystal grain size. Therefore, it is necessary that the temperature difference is generated by contacting the heat insulating material such that when the recording / reproducing zone is heated to the nucleation temperature, the landing zone is maintained at a temperature at which nucleation does not proceed. The temperature difference is in the range of about several tens of degrees C to 100 degrees C. However, since the nucleation temperature range varies depending on the glass composition, the temperature difference cannot be determined unconditionally. However, care must be taken because if the temperature difference is too large, the glass may be broken.

【0014】このように、結晶化ガラス組成に、紫外線
照射により核形成を行う結晶核形成剤、あるいは熱処理
により核形成を行う結晶核形成剤のいずれかを含有させ
ることによって、結晶化ガラスの核形成は良好に制御可
能であるが、両方の結晶核形成剤を併用することによっ
て、核形成をより好ましく制御し得る。すなわち、結晶
化ガラス組成に両方の結晶核形成剤を含有させ、ランデ
ィングゾーンと記録再生ゾーンへそれぞれ異なる量の紫
外線を照射した後に熱処理するようにすれば、紫外線照
射による結晶核形成が不十分な場合に起こる不均一な結
晶化を防止することができる。
As described above, by adding to the crystallized glass composition either a crystal nucleating agent that forms a nucleus by irradiation with ultraviolet light or a crystal nucleating agent that forms a nucleus by heat treatment, the nucleus of the crystallized glass is increased. While the formation is well controllable, nucleation can be better controlled by using both crystal nucleating agents. That is, if both the crystal nucleating agent is contained in the crystallized glass composition and the heat treatment is performed after irradiating different amounts of ultraviolet rays to the landing zone and the recording / reproducing zone, crystal nucleus formation by ultraviolet irradiation is insufficient. Non-uniform crystallization that may occur in some cases can be prevented.

【0015】上記した本発明の方法により作製された結
晶化ガラス基板は、研磨のみで、ゾーン別に異なる表面
粗さを得ることができる。この場合の研磨は特別な技術
や工程などを必要とせず、一般的な光学ガラスの研磨方
法として公知の方法、たとえば平均粒径5〜15μm程
度のアルミナやジルコニアなどの研磨材を用いてラッピ
ングを行った後、酸化セリウムなどでポリッシングする
などの方法によって、容易に行うことができる。
The crystallized glass substrate produced by the above-described method of the present invention can obtain different surface roughness for each zone only by polishing. Polishing in this case does not require a special technique or process, and lapping is performed using a method known as a general polishing method for optical glass, for example, using an abrasive such as alumina or zirconia having an average particle size of about 5 to 15 μm. After that, the polishing can be easily performed by a method such as polishing with cerium oxide or the like.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例によりさら
に具体的に説明する。なお、各実施例のガラス組成を次
の表1に示す。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. Table 1 shows the glass composition of each example.

【0017】[0017]

【表1】 実施例1 表1に記載の組成のガラスを作製し、このガラスをφ6
5mm(2.5インチ)、厚さ0.635mmの円盤状
のハードディスク基板の形状に成形した。なおこのガラ
ス組成中には、紫外線照射により核形成を行う結晶核形
成剤としてAuが含まれている。次に、ランディングゾ
ーンに相当する部分に紫外線透過率30%のフィルムを
貼った後、基板全体に高圧水銀灯を用いて紫外線を照射
して、核形成を行った。なお、このフィルムは、ポリウ
レタン樹脂に紫外線吸収材チヌビン(商品名、チバガイ
ギー社製)を混合して得られたものである。
[Table 1] Example 1 A glass having the composition shown in Table 1 was prepared, and
It was shaped into a disk-shaped hard disk substrate of 5 mm (2.5 inches) and 0.635 mm thick. In this glass composition, Au is included as a crystal nucleating agent for forming nuclei by irradiation with ultraviolet rays. Next, a film having an ultraviolet transmittance of 30% was attached to a portion corresponding to the landing zone, and then the entire substrate was irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp to form nuclei. This film was obtained by mixing a polyurethane resin with an ultraviolet absorber Tinuvin (trade name, manufactured by Ciba Geigy).

【0018】その後、520℃で30分の熱処理を行
い、さらに820℃で4時間の熱処理を行ってガラスを
結晶化させた。さらに、この結晶化した基板に研磨を行
った。研磨は、平均粒径5〜15μmのアルミナを用い
てラッピングを行った後、平均粒径1〜3μmの酸化セ
リウムでポリッシングして行った。
Thereafter, a heat treatment was performed at 520 ° C. for 30 minutes, and a heat treatment was further performed at 820 ° C. for 4 hours to crystallize the glass. Further, the crystallized substrate was polished. Polishing was performed by lapping using alumina having an average particle size of 5 to 15 μm, and then polishing with cerium oxide having an average particle size of 1 to 3 μm.

【0019】このようにして得られた基板の表面粗さ
は、ランディングゾーンでRa3.0nm、記録再生ゾ
ーンでRa1.3nmであった。なお、表面粗さの測定
は、触針式表面形状測定器を用いスキャン長500μm
で行った。
The surface roughness of the substrate thus obtained was Ra 3.0 nm in the landing zone and Ra 1.3 nm in the recording / reproducing zone. The surface roughness was measured using a stylus type surface profiler with a scan length of 500 μm.
I went in.

【0020】実施例2 表1に記載の組成のガラスを作製し、実施例1と同様の
ハードディスク基板の形状に成形した。なおこのガラス
組成中には、熱処理により核形成を行う結晶核形成剤と
してP2 5 が含まれている。次に、ランディングゾー
ンに相当する部分に厚さ40mmのセラミック製断熱材
を接触させ、520℃で30分の熱処理を行って、結晶
核の形成を行った。その後、断熱材を除去しさらに80
0℃で1.5時間の熱処理を行つて結晶化させた。さら
に、この結晶化した基板に実施例1と同様にして研磨を
行った。
Example 2 A glass having the composition shown in Table 1 was prepared, and was formed into the same hard disk substrate shape as in Example 1. The glass composition contains P 2 O 5 as a crystal nucleating agent for forming nuclei by heat treatment. Next, a ceramic heat insulating material having a thickness of 40 mm was brought into contact with a portion corresponding to the landing zone, and heat treatment was performed at 520 ° C. for 30 minutes to form crystal nuclei. Thereafter, the heat insulating material is removed and another 80 is removed.
Heat treatment was performed at 0 ° C. for 1.5 hours to crystallize. Further, the crystallized substrate was polished in the same manner as in Example 1.

【0021】このようにして得られた基板の表面粗さ
は、ランディングゾーンでRa3.0nm、記録再生ゾ
ーンでRa1.3nmであった。なお、表面粗さの測定
は、実施例1と同様に触針式表面形状測定器を用いて行
った。
The surface roughness of the substrate thus obtained was Ra 3.0 nm in the landing zone and Ra 1.3 nm in the recording / reproducing zone. In addition, the measurement of the surface roughness was performed using the stylus type surface shape measuring device in the same manner as in Example 1.

【0022】実施例3 表1に記載の組成のガラスを作製し、実施例1と同様の
ハードディスク基板の形状に成形した。なおこのガラス
組成中には、紫外線照射により核形成を行う結晶核形成
剤としてAuが含まれ、熱処理により核形成を行う結晶
核形成剤としてP2 5 が含まれている。次に、ランデ
ィングゾーンに相当する部分に紫外線透過率0%のフィ
ルムを貼った後、基板全体に高圧水銀灯を用いて紫外線
を照射し、核形成を行った。その後、820℃で1.5
時間の熱処理を行ってガラスを結晶化させた。さらに、
この結晶化した基板に実施例1と同様にして研磨を行っ
た。
Example 3 Glass having the composition shown in Table 1 was prepared and molded into the same hard disk substrate shape as in Example 1. In this glass composition, Au is included as a crystal nucleus forming agent for forming nuclei by ultraviolet irradiation, and P 2 O 5 is included as a crystal nucleating agent for forming nuclei by heat treatment. Next, after a film having an ultraviolet transmittance of 0% was attached to a portion corresponding to the landing zone, the entire substrate was irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp to form nuclei. Then, at 820 ° C., 1.5
The glass was crystallized by performing a heat treatment for a time. further,
The crystallized substrate was polished in the same manner as in Example 1.

【0023】このようにして得られた基板の表面粗さ
は、ランディングゾーンでRa4.0nm、記録再生ゾ
ーンでRa1.3nmであった。なお、表面粗さの測定
は、実施例1と同様に触針式表面形状測定器を用いて行
った。
The surface roughness of the substrate thus obtained was 4.0 nm in the landing zone and 1.3 nm in the recording / reproducing zone. In addition, the measurement of the surface roughness was performed using the stylus type surface shape measuring device in the same manner as in Example 1.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
板全面を研磨するだけでゾーンテクスチャされた磁気デ
ィスク用基板が容易に得られる結晶化ガラス基板および
その製造方法が提供される。
As described above, according to the present invention, there is provided a crystallized glass substrate and a method for manufacturing the same, in which a magnetic disk substrate having a zone texture can be easily obtained only by polishing the entire surface of the substrate.

【0025】[0025]

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 結晶化ガラスの結晶密度がゾーン別に異
なり、かつ、全面研磨後の表面粗さRaがゾーン別に異
なっていることを特徴とする磁気ディスク用結晶化ガラ
ス基板。
1. A crystallized glass substrate for a magnetic disk, wherein the crystal density of the crystallized glass is different for each zone, and the surface roughness Ra after overall polishing is different for each zone.
【請求項2】 全面研磨後の表面粗さRaが、ランディ
ングゾーンで1.5nm以上7.0nm以下、記録再生
ゾーンで0.6nm以上1.5nm未満であることを特
徴とする特許請求の範囲請求項1記載の磁気ディスク用
結晶化ガラス基板。
2. The method according to claim 1, wherein the surface roughness Ra after the entire surface polishing is 1.5 nm or more and 7.0 nm or less in the landing zone and 0.6 nm or more and less than 1.5 nm in the recording / reproducing zone. The crystallized glass substrate for a magnetic disk according to claim 1.
【請求項3】 結晶化ガラスの核形成を基板面のゾーン
別に制御して行い、そののち熱処理して得られる結晶化
ガラス基板面の全面を研磨して、基板面の表面粗さRa
がゾーン別に異なるようにしたことを特徴とする磁気デ
ィスク用結晶化ガラス基板の製造方法。
3. The nucleation of the crystallized glass is controlled by each zone on the substrate surface, and thereafter, the entire surface of the crystallized glass substrate obtained by heat treatment is polished to obtain a surface roughness Ra of the substrate surface.
The method for producing a crystallized glass substrate for a magnetic disk, wherein the method is different for each zone.
【請求項4】 結晶化ガラス組成に、紫外線照射により
核形成を行う結晶核形成剤を含有させ、基板面のゾーン
別に異なる量の紫外線を照射して、結晶化ガラスの核形
成を基板面のゾーン別に制御するようにしたことを特徴
とする特許請求の範囲請求項3記載の磁気ディスク用結
晶化ガラス基板の製造方法。
4. The crystallized glass composition contains a crystal nucleating agent that forms nuclei by irradiating ultraviolet rays, and irradiates a different amount of ultraviolet rays to each zone of the substrate surface to reduce the nucleation of the crystallized glass on the substrate surface. 4. The method according to claim 3, wherein the control is performed for each zone.
【請求項5】 結晶化ガラス組成に、熱処理により核形
成を行う結晶核形成剤を含有させ、基板面のゾーン別に
異なる温度で核形成を行わせて、結晶化ガラスの核形成
を基板面のゾーン別に制御するようにしたことを特徴と
する特許請求の範囲請求項3あるいは4記載の磁気ディ
スク用結晶化ガラス基板の製造方法。
5. The crystallized glass composition contains a crystal nucleating agent that forms nuclei by heat treatment, and nucleation is performed at different temperatures for each zone on the substrate surface, so that the nucleation of the crystallized glass is reduced on the substrate surface. 5. The method for manufacturing a crystallized glass substrate for a magnetic disk according to claim 3, wherein the control is performed for each zone.
JP9221797A 1997-04-10 1997-04-10 Crystallized glass substrate for magnetic disk, and its production Withdrawn JPH10287444A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9221797A JPH10287444A (en) 1997-04-10 1997-04-10 Crystallized glass substrate for magnetic disk, and its production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9221797A JPH10287444A (en) 1997-04-10 1997-04-10 Crystallized glass substrate for magnetic disk, and its production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10287444A true JPH10287444A (en) 1998-10-27

Family

ID=14048285

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9221797A Withdrawn JPH10287444A (en) 1997-04-10 1997-04-10 Crystallized glass substrate for magnetic disk, and its production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10287444A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6599606B1 (en) * 1999-07-07 2003-07-29 Hoya Corporation Process for preparation of crystallized glass for information recording disk

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6599606B1 (en) * 1999-07-07 2003-07-29 Hoya Corporation Process for preparation of crystallized glass for information recording disk

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3098220B2 (en) Glass ceramic substrate for magnetic information storage media
JP3219705B2 (en) Glass ceramic substrate for magnetic information storage media
JP2736869B2 (en) Method of manufacturing magnetic disk substrate
JP4428835B2 (en) Magnetic recording medium and method for manufacturing the same
US8728638B2 (en) Magnetic disk substrate, method for manufacturing the same, and magnetic disk
JP4947754B2 (en) Information recording medium substrate and method for manufacturing the same, information recording medium, and glass base plate
JP2000298827A (en) Glass ceramic substrate for magnetic information storage medium
US20210327464A1 (en) Magnetic-disk substrate and magnetic disk
JPH1116142A (en) Glass ceramic substrate for magnetic information recording medium
JP3416033B2 (en) Crystallized glass substrate for magnetic head and method of manufacturing the same
JP3159423B2 (en) Method of manufacturing magnetic disk and slurry
WO2014051153A1 (en) Magnetic-disc glass substrate and magnetic disc
JP2002097037A (en) Glass ceramic
JP2001167430A (en) Substrate for magnetic disk and its manufacturing method
JPH10287444A (en) Crystallized glass substrate for magnetic disk, and its production
JP2009104703A (en) Method for manufacturing glass substrate for magnetic disk, and method for manufacturing magnetic disk
JPH1116151A (en) Glass ceramic substrate for information memory medium
JP2001023155A (en) Substrate for magnetic disk, magnetic disk, and manufacture of substrate for magnetic disk
JPH1179790A (en) Glass substrate for magnetic recording medium and its production
JP2015011738A (en) Manufacturing method for glass substrates for magnetic disk use
JPH11268932A (en) Glass substrate for magnetic recording medium and its production
JPS6331343B2 (en)
KR100292305B1 (en) Glass ceramic substrates for glass ceramics and magnetic information storage media
JP2015069670A (en) Production method of magnetic disk glass substrate
JPH0977565A (en) Production of glass ceramic compact

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20040706