JPH10286452A - Treating device equipped with treating container having direct action mechanism and rotational drive mechanism - Google Patents

Treating device equipped with treating container having direct action mechanism and rotational drive mechanism

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JPH10286452A
JPH10286452A JP9590597A JP9590597A JPH10286452A JP H10286452 A JPH10286452 A JP H10286452A JP 9590597 A JP9590597 A JP 9590597A JP 9590597 A JP9590597 A JP 9590597A JP H10286452 A JPH10286452 A JP H10286452A
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JP
Japan
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processing container
processing
shaft
container
driving support
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Application number
JP9590597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Tomita
良幸 冨田
Shiro Hamada
史郎 浜田
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a treating device equipped with a treating container which hardly receives the influence of the thermal distortion by heating of an object to be treated and is capable of supplying the generation of the microdust within the treating container. SOLUTION: This treating device has two pieces of driving support shafts 2a, (2b) reaching the outside through the wall of the treating container 1 and is provided with linear motors 4a, (4b) for translational movement of these shafts within the container on their one end side. The holding table 6 of a substrate 8 is cantilever supported on the other end side of these driving support shafts. The container is provided with vacuum bellows 5a, (5b) so as to maintain the airtightness in the container at the point where the driving support shaft penetrates the container. The lower side of the holding base is provided with a rotational drive shaft 12, which vertically moves at its one end side through an opening 6a disposed at the holding base, is capable of vertically moving the substrate and is rotatable and passes at the other end side through the bottom wall of the container to the outside and reaches the outside. The container is provided with a cylinder 13 and a motor 14 for vertically moving and rotationally driving this rotational drive shaft.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、処理容器内におい
て処理対象物を保持する保持部材を移動させる直動機構
と処理対象物を回転させる回転駆動機構とを持つ処理容
器を備えた処理装置に関する。この種の処理装置は、特
に、レーザアニーリング装置のように、処理容器内の真
空あるいは不活性ガスの雰囲気中でガラス等の処理対象
物に対してレーザ光による処理を行う装置に適してい
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a processing apparatus having a processing container having a linear motion mechanism for moving a holding member for holding a processing object in a processing container and a rotation driving mechanism for rotating the processing object. . This type of processing apparatus is particularly suitable for an apparatus that performs processing with a laser beam on a processing target such as glass in a vacuum or an inert gas atmosphere in a processing container, such as a laser annealing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の処理装置の一例として、レーザ
アニーリング装置について説明する。レーザアニーリン
グ装置によりレーザアニールをおこなう際には、処理対
象物を保持台で保持して真空容器内に配置し、石英窓を
通して処理対象物表面にレーザ光を照射する。真空容器
内で保持台を移動させることにより、処理対象物表面の
広い領域に順次レーザ光を照射することができる。
2. Description of the Related Art A laser annealing apparatus will be described as an example of this type of processing apparatus. When performing laser annealing by a laser annealing apparatus, an object to be processed is held in a holding table and placed in a vacuum vessel, and the surface of the object to be processed is irradiated with laser light through a quartz window. By moving the holding table in the vacuum vessel, a large area on the surface of the processing object can be sequentially irradiated with laser light.

【0003】保持台には、真空容器の外部まで導出され
た駆動軸が取り付けられており、真空容器内に配置され
たリニアガイド機構により移動可能にされている。駆動
軸を軸方向に往復駆動することにより、保持台を移動さ
せることができる。なお、真空容器の外側の駆動軸と真
空容器の壁との間には、気密機構としてベローズが取り
付けられ、真空容器の気密性が保たれている。
A drive shaft extending to the outside of the vacuum vessel is attached to the holding table, and can be moved by a linear guide mechanism arranged in the vacuum vessel. The holding table can be moved by reciprocating the drive shaft in the axial direction. In addition, a bellows is attached as an airtight mechanism between the drive shaft outside the vacuum vessel and the wall of the vacuum vessel, and the airtightness of the vacuum vessel is maintained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】レーザアニールの効果
を安定して得るために、処理対象物を加熱する場合があ
る。このため、保持台にはヒータが埋め込まれている。
保持台を加熱すると、熱歪により、リニアガイド機構の
摺動部に余分な力が加わる。この余分な力のために、保
持台が移動しにくくなり、極端な場合には移動不能にな
る。
In order to stably obtain the effect of laser annealing, an object to be processed may be heated. For this reason, a heater is embedded in the holding table.
When the holding table is heated, an extra force is applied to the sliding portion of the linear guide mechanism due to thermal strain. This extra force makes it difficult for the holder to move, and in extreme cases, makes it immovable.

【0005】また、真空容器内にリニアガイド機構の摺
動部が配置されるため、摩擦により摺動部から微小なご
みが発生し、真空容器内を汚染する。
[0005] Further, since the sliding portion of the linear guide mechanism is disposed in the vacuum container, minute dust is generated from the sliding portion due to friction, and the inside of the vacuum container is contaminated.

【0006】更に、処理対象物に対する加工の形態によ
っては、処理対象物を真空容器内で水平状態で回転させ
ることを必要とする場合がある。しかしながら、従来の
処理装置ではこのような回転駆動機能を有しておらず、
加工の形態に制約がある。
[0006] Further, depending on the form of processing on the object to be processed, it may be necessary to rotate the object to be processed in a vacuum vessel in a horizontal state. However, the conventional processing apparatus does not have such a rotation driving function,
There are restrictions on the form of processing.

【0007】本発明の課題は、処理容器内のガイド機構
を省略できるようにして、処理対象物の加熱による熱歪
の影響を受けにくく、処理容器内における微小なごみの
発生を抑制できる処理容器を備えた処理装置を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to provide a processing container which can omit the guide mechanism in the processing container, is less susceptible to thermal distortion due to heating of the processing object, and can suppress generation of minute dust in the processing container. The object of the present invention is to provide a processing device provided with the same.

【0008】本発明の他の課題は、処理対象物を処理容
器内で水平に回転させる回転駆動機構を備え、しかも回
転角度を微調整できるようにした処理容器を備えた処理
装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a processing apparatus having a rotation driving mechanism for horizontally rotating an object to be processed in a processing container, and further having a processing container capable of finely adjusting the rotation angle. It is in.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、気密状
態を維持される処理容器と、前記処理容器内に配置さ
れ、一端が前記処理容器の壁を貫通して外部まで導出さ
れた少なくとも2本の駆動用支軸と、前記駆動用支軸が
前記処理容器の壁を貫通する箇所において、前記駆動用
支軸がその軸方向に並進移動可能なように、かつ前記処
理容器内の気密性が保たれるように、前記処理容器内と
外部とを隔離する気密機構と、前記処理容器の外に設け
られ、前記駆動用支軸が前記処理容器に対して軸方向に
並進移動可能なように駆動用支軸を支持するガイド機構
と、前記駆動用支軸の一端側に取り付けられ、前記駆動
用支軸を前記処理容器に対して軸方向に並進移動させる
第1の駆動機構と、前記処理容器内において、前記駆動
用支軸の他端側で支えられ、処理対象物を保持する保持
部材と、前記保持部材の下側にあって、一端側が前記保
持部材に設けられた開口を通して上下動して前記処理対
象物を上下動可能でしかも回転可能であり、他端側が前
記処理容器の壁を貫通して外部まで導出された回転駆動
部と、前記回転駆動部を上下動及び回転駆動するための
第2の駆動機構とを有することを特徴とする直動機構及
び回転駆動機構を持つ処理容器を備えた処理装置が提供
される。
According to the present invention, there is provided a processing container maintained in an airtight state, and at least one end disposed inside the processing container and one end of which is led out to the outside through a wall of the processing container. Two driving spindles, and at a position where the driving spindle penetrates the wall of the processing container, the driving spindle can be translated in the axial direction thereof, and airtightness in the processing container. An airtight mechanism that separates the inside and the outside of the processing container, and the driving support shaft is provided outside the processing container so that the driving shaft can be translated in the axial direction with respect to the processing container so that the property is maintained. A guide mechanism that supports the driving spindle, and a first driving mechanism that is attached to one end of the driving spindle and that translates the driving spindle in the axial direction with respect to the processing container. In the processing container, a support is provided at the other end of the driving support shaft. A holding member for holding the object to be processed, and a lower side of the holding member, one end of which is vertically moved through an opening provided in the holding member to move the object to be processed vertically and rotatable. A rotating drive part whose other end penetrates through the wall of the processing container and is led to the outside, and a second drive mechanism for vertically moving and rotating the rotation drive part. A processing apparatus including a processing container having a linear motion mechanism and a rotation drive mechanism is provided.

【0010】なお、前記回転駆動部は、前記処理容器の
外に配置されたシリンダにより上下動のみ可能な第1の
軸と、この第1の軸の周囲に配置されて前記処理容器の
外に配置されたモータにより回転駆動される筒状の第2
の軸と、前記第1の軸の上端により上下動して前記処理
対象物を上下動させる支持板と、この支持板と前記第2
の軸の上端との間に設けられて該支持板の上下動により
伸縮すると共に、前記第2の軸の回転により該支持板を
回転させるベローズ機構とを含む。
The rotation drive section includes a first shaft that can only move up and down by a cylinder disposed outside the processing container, and a rotation shaft disposed around the first shaft and disposed outside the processing container. A cylindrical second rotary drive driven by an arranged motor
A support plate for vertically moving the object to be processed by moving up and down by an upper end of the first shaft;
And a bellows mechanism that is provided between the upper end of the shaft and expands and contracts by the vertical movement of the support plate and rotates the support plate by rotation of the second shaft.

【0011】また、前記処理容器の内壁及び前記保持部
材のうち、少なくとも前記処理容器の内壁に、前記処理
対象物を加熱するための加熱手段が設けられる。
A heating means for heating the object to be processed is provided on at least the inner wall of the processing container among the inner wall of the processing container and the holding member.

【0012】更に、前記ガイド機構及び第1の駆動機構
は、リニアガイド機構を備えたリニアモータで構成され
ることが好ましい。
Further, it is preferable that the guide mechanism and the first drive mechanism are constituted by a linear motor having a linear guide mechanism.

【0013】前記第2の駆動機構は、前記処理対象物の
回転角度を粗調整するために使用され、前記第1の駆動
機構における2つのリニアモータの差動動作により前記
処理対象物の回転角度の微調整を行うことができる。
The second drive mechanism is used for coarsely adjusting the rotation angle of the object to be processed, and the rotation angle of the object to be processed is obtained by differential operation of two linear motors in the first drive mechanism. Can be fine-tuned.

【0014】[0014]

【作用】第1の駆動機構により、駆動用支軸をその軸方
向に並進移動させることができ、駆動用支軸に固定され
た保持部材も移動する。処理容器内に摺動部がないた
め、摺動部における摩擦に起因した微小なごみによる処
理容器内の汚染を防止することができる。また、保持部
材が加熱されて熱歪を生じても、処理容器内に摺動部が
ないため、摺動部が熱歪の影響を受けない。このため、
保持部材を加熱しても、保持部材をスムーズに移動させ
ることができる。
With the first drive mechanism, the drive shaft can be translated in the axial direction, and the holding member fixed to the drive shaft also moves. Since there is no sliding portion in the processing container, contamination in the processing container due to minute dust caused by friction in the sliding portion can be prevented. Further, even if the holding member is heated and generates thermal strain, the sliding portion is not affected by the thermal strain because there is no sliding portion in the processing container. For this reason,
Even if the holding member is heated, the holding member can be moved smoothly.

【0015】第2の駆動機構により、加工の形態に応じ
て処理対象物を所望の回転角度に回転させることがで
き、第2の駆動機構による回転駆動の後、第1の駆動機
構における2つのリニアモータの差動動作により処理対
象物の回転角度の微調整が行われる。
By the second drive mechanism, the object to be processed can be rotated to a desired rotation angle in accordance with the form of processing, and after the second drive mechanism is driven to rotate, the two drive mechanisms in the first drive mechanism are used. Fine adjustment of the rotation angle of the processing object is performed by the differential operation of the linear motor.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の好ましい実施の
形態による処理容器の概略平断面図を示し、図2は、図
1の線A−Aによる概略断面図を、図3は図1の線B−
Bによる概略断面図をそれぞれ示す。
FIG. 1 is a schematic plan sectional view of a processing container according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic sectional view taken along line AA of FIG. 1, and FIG. Line 1-
B shows a schematic sectional view respectively.

【0017】内部を真空排気可能な処理容器1の内部
に、直動機構を構成するための駆動用支軸2a及び2b
が互いに平行に配置されている。駆動用支軸2a及び2
bの一端側は、処理容器1の側壁を貫通して外部まで導
出されている。処理容器1は真空排気され、場合によっ
てはその後に不活性ガスが導入される。
Driving support shafts 2a and 2b for forming a linear motion mechanism are provided in a processing container 1 capable of evacuating the inside.
Are arranged parallel to each other. Driving spindles 2a and 2
One end of “b” extends through the side wall of the processing container 1 to the outside. The processing vessel 1 is evacuated, and after that, an inert gas may be introduced in some cases.

【0018】駆動用支軸2a及び2bの一端部はそれぞ
れ、支持用の構造体3を介してリニアガイド機構を備え
たリニアモータ4a、4bに連結されて、これらのリニ
アモータ4a、4bにより駆動用支軸2a及び2bの軸
方向に駆動される。リニアモータ4a、4bを駆動する
ことにより、駆動用支軸2a及び2bを、その軸方向に
並進移動させることができる。
One end of each of the drive shafts 2a and 2b is connected to linear motors 4a and 4b having a linear guide mechanism via a supporting structure 3, and driven by these linear motors 4a and 4b. It is driven in the axial direction of the support shafts 2a and 2b. By driving the linear motors 4a and 4b, the driving support shafts 2a and 2b can be translated in the axial direction.

【0019】駆動用支軸2a及び2bの各々の処理容器
1の外に導出された部分には、気密機構として真空ベロ
ーズ5a、5bが被せられている。真空ベローズ5a、
5bの一端はそれぞれ処理容器1の側壁に取り付けら
れ、他端はリニアモータ4a、4bに取り付けられてい
る。このような真空べローズ5a、5bにより、処理容
器1の気密性が保たれる。
The portions of the driving support shafts 2a and 2b that are led out of the processing vessel 1 are covered with vacuum bellows 5a and 5b as an airtight mechanism. Vacuum bellows 5a,
One end of 5b is attached to the side wall of the processing container 1, and the other end is attached to the linear motors 4a and 4b. The airtightness of the processing container 1 is maintained by such vacuum bellows 5a and 5b.

【0020】処理容器1内には保持台6が配置されてい
る。保持台6は、駆動用支軸2a及び2bの他端側に固
定され、いわゆる片持ち支持構造により支持されてい
る。保持台6の中央には開口6aが設けられ、この開口
6aの周囲の上面には複数のピン7が突出しており、ア
ニール処理されるガラス等の基板8がピン7の上に載置
される。保持台6の移動する下部域にはヒータ9aが、
処理容器1の天井内壁にはヒータ9bがそれぞれ配置さ
れている。これらのヒータ9a、9bにより基板8が加
熱される。なお、ヒータは処理容器1の天井内壁に設け
るだけでも良い。処理容器1の上面には石英窓1−1が
設けられており、石英窓1−1を通して処理容器1内に
光学系10からのレーザ光が導入される。
A holding table 6 is disposed in the processing container 1. The holding table 6 is fixed to the other end side of the driving support shafts 2a and 2b, and is supported by a so-called cantilever support structure. An opening 6a is provided at the center of the holding table 6, and a plurality of pins 7 protrude from the upper surface around the opening 6a. A substrate 8 such as glass to be annealed is placed on the pins 7. . A heater 9a is provided in a lower area where the holding table 6 moves.
Heaters 9 b are arranged on the inner wall of the ceiling of the processing container 1. The substrate 8 is heated by these heaters 9a and 9b. The heater may be provided only on the inner wall of the ceiling of the processing container 1. A quartz window 1-1 is provided on the upper surface of the processing chamber 1, and laser light from the optical system 10 is introduced into the processing chamber 1 through the quartz window 1-1.

【0021】リニアモータ4a、4bを駆動して駆動用
支軸2a及び2bをその軸方向に並進移動させることに
より、処理容器1内で基板8を移動させることができ
る。保持台6を移動させるためのリニアモータ4a、4
bの駆動制御については詳しい説明を省略するが、リニ
アモータ4a、4bの側面にはそれぞれリニアエンコー
ダ11a、11bが設けられる。これらのリニアエンコ
ーダ11a、11bからの位置検出信号をリニアモータ
4a、4bの駆動制御系にフィードバックし、保持台6
の位置目標値に追随するような制御を行う。
The substrate 8 can be moved in the processing chamber 1 by driving the linear motors 4a and 4b to translate the driving support shafts 2a and 2b in the axial direction. Linear motors 4a and 4 for moving the holding table 6
Although a detailed description of the drive control of b is omitted, linear encoders 11a and 11b are provided on the side surfaces of the linear motors 4a and 4b, respectively. The position detection signals from the linear encoders 11a and 11b are fed back to the drive control systems of the linear motors 4a and 4b,
Is controlled so as to follow the target position value.

【0022】本形態では、上記のような直動機構に加え
て、基板8を水平状態で回転させるための回転駆動機構
を備えている。この回転駆動機構は、保持台6の下側に
あって、一端側が保持台6に設けられた開口6aを通し
て上下動かつ回転して基板8を上下動かつ回転させ、他
端側は処理容器1の底壁を貫通して外部まで導出された
回転駆動軸12を含む。
In this embodiment, a rotation drive mechanism for rotating the substrate 8 in a horizontal state is provided in addition to the above-described linear movement mechanism. This rotation drive mechanism is located below the holding table 6, and one end moves up and down and rotates through an opening 6 a provided in the holding table 6 to move the substrate 8 up and down and rotates, and the other end side holds the processing vessel 1. And a rotary drive shaft 12 extending to the outside through the bottom wall of the motor.

【0023】特に、本形態では、この回転駆動軸12
を、シリンダ13により上下動可能な第1の軸12−1
と、この第1の軸12−1の周囲に配置されてモータ1
4により回転駆動される筒状の第2の軸12−2とで構
成している。すなわち、第1の軸12−1は上下動のみ
可能であり、第2の軸12−2は回転運動のみ可能であ
る。第1の軸12−1の上端側には基板8を搭載するた
めの支持板15が設けられており、この支持板15と第
2の軸12−2の上端との間には真空ベローズ16が設
けられている。支持板15は、保持台6に設けられた開
口6aより小さいサイズであり、第1の軸12−1の上
動と共に保持台6の開口6aを通して上動して基板8を
保持台6から離間させる。支持板15はまた、第2の軸
12−2が回転すると真空ベローズ16と共に回転して
基板8を回転させる。真空ベローズ16は、第1の軸1
2−1と第2の軸12−2との間の摩擦により生ずる微
小なごみが処理容器1内に流出することを抑制する。
In particular, in the present embodiment, the rotary drive shaft 12
To a first shaft 12-1 that can be moved up and down by a cylinder 13.
And the motor 1 disposed around the first shaft 12-1.
4 and a cylindrical second shaft 12-2 driven to rotate. That is, the first shaft 12-1 can only move up and down, and the second shaft 12-2 can only rotate. A support plate 15 for mounting the substrate 8 is provided on the upper end side of the first shaft 12-1. A vacuum bellows 16 is provided between the support plate 15 and the upper end of the second shaft 12-2. Is provided. The support plate 15 is smaller in size than the opening 6 a provided in the holding table 6, moves up through the opening 6 a of the holding table 6 together with the upward movement of the first shaft 12-1, and separates the substrate 8 from the holding table 6. Let it. The support plate 15 also rotates together with the vacuum bellows 16 when the second shaft 12-2 rotates to rotate the substrate 8. The vacuum bellows 16 is attached to the first shaft 1
It suppresses minute dust generated by friction between the 2-1 and the second shaft 12-2 from flowing out into the processing container 1.

【0024】なお、モータ14の回転力は、ここではス
ティールベルト17を介して第2の軸12−2に伝えら
れる。また、第2の軸12−2と処理容器1の底壁との
間には、磁性流体による回転導入部材18が設けられ
る。
The rotational force of the motor 14 is transmitted to the second shaft 12-2 via the steel belt 17 here. A rotation introducing member 18 made of a magnetic fluid is provided between the second shaft 12-2 and the bottom wall of the processing chamber 1.

【0025】この回転駆動機構は、基板8の加工形態に
応じて基板8を所望の角度だけ回転させる。すなわち、
支持板15は、通常は保持台6の下にある。基板8を回
転させる必要がある場合には、保持台6の開口6aが支
持板15の真上にある状態で行われる。はじめに、第1
の軸12−1を上動させて基板8を保持台6から離し、
次に第2の軸12−2を回転させて基板8を所望の角度
だけ回転させる。回転が終了したら第1の軸12−1を
下動させて基板8を再び保持台6上に載置する。
This rotation drive mechanism rotates the substrate 8 by a desired angle according to the processing mode of the substrate 8. That is,
The support plate 15 is usually below the holding table 6. When the substrate 8 needs to be rotated, the rotation is performed in a state where the opening 6 a of the holding table 6 is directly above the support plate 15. First, first
Is moved upward to separate the substrate 8 from the holding table 6,
Next, the second shaft 12-2 is rotated to rotate the substrate 8 by a desired angle. When the rotation is completed, the first shaft 12-1 is moved down, and the substrate 8 is mounted on the holding table 6 again.

【0026】なお、この回転駆動機構による回転では、
原理的に数ミクロンオーダでの角度の位置決めは困難で
あり、微小な回転角度補正は直動機構における2つのリ
ニアモータ4a、4bの差動動作により行われる。すな
わち、2つのリニアモータ4a、4bによる変位に微小
な差を与えることにより、保持台6を微小角度回転させ
ることができる。
In the rotation by the rotation drive mechanism,
In principle, it is difficult to position an angle on the order of several microns, and minute rotation angle correction is performed by the differential operation of the two linear motors 4a and 4b in the linear motion mechanism. That is, by giving a minute difference to the displacement by the two linear motors 4a and 4b, the holding table 6 can be rotated by a minute angle.

【0027】図4は、上記の処理容器を備えたレーザア
ニーリング装置全体の概略平面図を示す。レーザアニー
リング装置は、処理容器1に加えて、基板8の搬送チャ
ンバ22、搬入チャンバ23、搬出チャンバ24を有し
ている。光学系10は、ホモジナイザ41、CCDカメ
ラ42及びビデオモニタ43を含んで構成される。
FIG. 4 is a schematic plan view of the entire laser annealing apparatus provided with the above-mentioned processing container. The laser annealing apparatus has, in addition to the processing container 1, a transfer chamber 22 for the substrate 8, a carry-in chamber 23, and a carry-out chamber 24. The optical system 10 includes a homogenizer 41, a CCD camera 42, and a video monitor 43.

【0028】処理容器1と搬送チャンバ22はゲートバ
ルブ25を介して結合されている。同様に、搬送チャン
バ22と搬入チャンバ23、搬送チャンバ22と搬出チ
ャンバ24は、それぞれゲートバルブ26、27を介し
て結合されている。処理容器1、搬入チャンバ23及び
搬出チャンバ24には、それぞれ真空ポンプ31、32
及び33が設けられ、基板8の移し替えに際して各チャ
ンバの内部が真空排気される。
The processing chamber 1 and the transfer chamber 22 are connected via a gate valve 25. Similarly, the transfer chamber 22 and the carry-in chamber 23, and the transfer chamber 22 and the carry-out chamber 24 are connected via gate valves 26 and 27, respectively. Vacuum pumps 31, 32 are provided in the processing container 1, the carry-in chamber 23 and the carry-out chamber 24, respectively.
And 33 are provided, and the inside of each chamber is evacuated when the substrate 8 is transferred.

【0029】搬送チャンバ22内には、搬送用ロボット
28が収容されている。搬送用ロボット28は、処理容
器1、搬入チャンバ23及び搬出チャンバ24の相互間
で処理済みの基板あるいは処理前の基板を移送する。
A transfer robot 28 is housed in the transfer chamber 22. The transfer robot 28 transfers the processed substrate or the unprocessed substrate between the processing container 1, the loading chamber 23, and the unloading chamber 24.

【0030】光学系10においては、パルス発振したエ
キシマレーザ装置44から出力されたレーザビームがア
ッテネータ45を通ってホモジナイザ41に入射する。
ホモジナイザ41は、レーザビームの断面形状を細長い
形状にする。ホモジナイザ41を通過したレーザビーム
は、レーザ光の断面形状に対応した細長い石英窓1−1
を透過して処理容器1内の基板を照射する。基板の表面
がホモジナイズ面に一致するように、ホモジナイザ41
と基板との相対位置が調節されている。
In the optical system 10, the laser beam output from the excimer laser device 44 that has oscillated the pulse is incident on the homogenizer 41 through the attenuator 45.
The homogenizer 41 changes the cross-sectional shape of the laser beam into an elongated shape. The laser beam that has passed through the homogenizer 41 is an elongated quartz window 1-1 corresponding to the cross-sectional shape of the laser beam.
And irradiates the substrate in the processing container 1 with the light. Homogenizer 41 so that the surface of the substrate coincides with the homogenized surface.
The relative position between the substrate and the substrate is adjusted.

【0031】基板は、図1で説明した直動機構により石
英窓1−1の長軸方向に直交する向きに移動する。1シ
ョット分の照射領域の一部が前回のショットにおける照
射領域の一部と重なるような速さで基板を移動させるこ
とにより、基板表面の広い領域を照射することができ
る。基板表面はCCDカメラ42により撮影され、処理
中の基板表面をビデオモニタ43で観察することができ
る。
The substrate is moved in a direction orthogonal to the long axis direction of the quartz window 1-1 by the linear motion mechanism described with reference to FIG. By moving the substrate at such a speed that part of the irradiation area for one shot overlaps part of the irradiation area in the previous shot, a large area on the substrate surface can be irradiated. The substrate surface is photographed by the CCD camera 42, and the substrate surface being processed can be observed on the video monitor 43.

【0032】リニアモータ4a、4b、シリンダ13、
モータ14、ゲートバルブ25〜27、搬送用ロボット
28、ホモジナイザ41、及びエキシマレーザ装置44
の動作は、制御装置40によって制御される。
The linear motors 4a, 4b, the cylinder 13,
Motor 14, gate valves 25 to 27, transfer robot 28, homogenizer 41, and excimer laser device 44
Is controlled by the control device 40.

【0033】図1〜図3に戻って、基板8の移動方向に
対して直交する方向に長い断面形状を有するレーザ光を
照射しながら、基板8を移動させることにより、基板8
の表面の広い領域をアニールすることができる。特に、
基板8を加熱しておくことにより、レーザアニールの効
果を安定させることができる。
Returning to FIGS. 1 to 3, the substrate 8 is moved while irradiating a laser beam having a long sectional shape in a direction perpendicular to the direction of movement of the substrate 8 to thereby move the substrate 8.
Can be annealed over a wide area of the surface. Especially,
By heating the substrate 8, the effect of laser annealing can be stabilized.

【0034】本形態による直動機構及び回転駆動機構で
は、処理容器1内に摺動部が無い。このため、摺動部に
おける摩擦に起因した微小なごみによる処理容器1内の
汚染を防止することができる。また、保持台6が加熱さ
れて熱歪が生じたとしても、リニアガイド機構はリニア
モータ4a、4bに備えられており、処理容器1の外に
あるので熱歪の影響を受けない。このため、保持台6を
加熱した状態でも安定して保持台6を移動させることが
できる。
In the linear motion mechanism and the rotary drive mechanism according to the present embodiment, there is no sliding portion in the processing container 1. For this reason, it is possible to prevent the inside of the processing container 1 from being contaminated by minute dust caused by friction in the sliding portion. Further, even if the holding table 6 is heated and thermal distortion occurs, the linear guide mechanism is provided in the linear motors 4a and 4b and is outside the processing vessel 1 and is not affected by thermal distortion. Therefore, the holding table 6 can be stably moved even when the holding table 6 is heated.

【0035】上記の形態では、駆動源としてリニアモー
タを使用したが、その他の直動駆動源を用いてもよい。
例えば、回転モータとボールねじの組み合わせを用いて
もよい。また、上記形態では、レーザアニール装置を例
にして説明したが、図1〜図3に示された処理容器をそ
の他の装置に適用することも可能である。例えば、特殊
な薬品を使用する場合のように、外界と遮断する必要の
ある環境下において直動機構及び回転駆動機構が必要な
処理容器の場合にも有効である。
In the above embodiment, a linear motor is used as the drive source, but another linear drive source may be used.
For example, a combination of a rotary motor and a ball screw may be used. In the above embodiment, the laser annealing apparatus has been described as an example. However, the processing container shown in FIGS. 1 to 3 can be applied to other apparatuses. For example, the present invention is also effective for a processing container that requires a linear motion mechanism and a rotary drive mechanism in an environment that needs to be isolated from the outside, such as when a special chemical is used.

【0036】なお、上記の実施の形態では、保持台6を
駆動用支軸2a、2bにより片持ち式に支持するように
しているが、本発明はこのような形態に限らず、保持台
を2本の駆動用支軸で、いわゆるおみこしのように支持
する形態でも適用可能である。この構造について簡単に
言えば、処理容器と、処理容器内に配置され、両端が処
理容器の壁を貫通して外部まで導出された2本の駆動用
支軸と、駆動用支軸が処理容器の壁を貫通する箇所にお
いて、駆動用支軸がその軸方向に並進移動可能なよう
に、かつ処理容器の内部の気密性が保たれるように、内
部と外部とを隔離する気密機構と、駆動用支軸の一方の
端部に取り付けられ、該駆動用支軸が処理容器に対して
軸方向に並進移動可能なように駆動用支軸を支持するリ
ニアガイド機構と、駆動用支軸の他方の端部に取り付け
られ、駆動用支軸を処理容器に対して軸方向に並進移動
させる駆動機構と、処理容器の内において、駆動用支軸
に取り付けられ、処理対象物を保持する保持手段とを有
する。このような装置は、本出願人により出願された特
願平8−323049号に示されている。但し、この装
置では、2本の駆動用支軸が共通の駆動機構により一体
的に駆動されるので、微小な回転角度補正が困難であ
る。これは、図1に示されるように、2本の駆動用支軸
を別々の駆動源、すなわちリニアモータで個別に駆動す
ることで実現できる。
In the above-described embodiment, the holding table 6 is supported in a cantilever manner by the driving support shafts 2a and 2b. However, the present invention is not limited to such a form, and the holding table is not limited thereto. The present invention is also applicable to a form in which two driving support shafts support like a so-called pestle. Briefly speaking of this structure, the processing vessel, two driving spindles disposed in the processing vessel, both ends of which are penetrated to the outside through the wall of the processing vessel, and At a point penetrating through the wall of the processing container, so that the driving support shaft can be translated in the axial direction, and so that the inside of the processing container is kept airtight, an airtight mechanism that separates the inside from the outside, A linear guide mechanism that is attached to one end of the driving support shaft and supports the driving support shaft so that the driving support shaft can translate in the axial direction with respect to the processing chamber; A driving mechanism attached to the other end for axially translating the driving support shaft relative to the processing container; and a holding unit mounted on the driving support shaft in the processing container for holding the processing object And Such an apparatus is disclosed in Japanese Patent Application No. 8-32349 filed by the present applicant. However, in this device, since the two driving support shafts are driven integrally by a common driving mechanism, it is difficult to make minute rotation angle corrections. As shown in FIG. 1, this can be realized by separately driving the two drive shafts with separate drive sources, that is, linear motors.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
処理容器内に摺動部分のない直動機構及び回転駆動機構
が得られるため、処理容器内の汚染を抑制することがで
きる。また、処理対象物を保持する保持部材を加熱する
ことにより熱歪が発生しても、摺動部分が熱歪の影響を
受けにくいため、安定した移動を行うことが可能にな
る。更に、回転駆動機構により基板をその加工形態に応
じて回転させることができるので、様々な加工形態に適
応できる処理装置を実現できる。
As described above, according to the present invention,
Since a linear motion mechanism and a rotation drive mechanism without a sliding portion are obtained in the processing container, contamination in the processing container can be suppressed. Further, even if thermal strain is generated by heating the holding member that holds the processing target, the sliding portion is hardly affected by the thermal strain, so that stable movement can be performed. Furthermore, since the substrate can be rotated according to the processing mode by the rotation drive mechanism, a processing apparatus adaptable to various processing modes can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の好ましい実施の形態による処理容器の
概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a processing container according to a preferred embodiment of the present invention.

【図2】図1の線A−Aによる断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG. 1;

【図3】図1の線B−Bによる断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line BB in FIG. 1;

【図4】図1の処理容器をレーザアニーリング装置に適
用した場合の概略構成を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration when the processing container of FIG. 1 is applied to a laser annealing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 処理容器 1−1 石英窓 2a、2b 駆動用支軸 3 構造体 4a、4b リニアモータ 5a、5b、16 真空ベローズ 6 保持台 7 ピン 8 基板 9a、9b ヒータ 10 光学系 11a、11b リニアエンコーダ 12 回転駆動軸 12−1 第1の軸 12−2 第2の軸 13 シリンダ 14 モータ 15 支持板 17 スティールベルト 22 搬送チャンバ 23 搬入チャンバ 24 搬出チャンバ 25〜27 ゲートバルブ 28 搬送ロボット 31〜33 真空ポンプ 40 制御装置 41 ホモジナイザ 42 CCDカメラ 43 ビデオモニタ 44 エキシマレーザ装置 45 アッテネータ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Processing container 1-1 Quartz window 2a, 2b Driving spindle 3 Structure 4a, 4b Linear motor 5a, 5b, 16 Vacuum bellows 6 Holder 7 Pin 8 Substrate 9a, 9b Heater 10 Optical system 11a, 11b Linear encoder 12 Rotary drive shaft 12-1 First shaft 12-2 Second shaft 13 Cylinder 14 Motor 15 Support plate 17 Steel belt 22 Transfer chamber 23 Load-in chamber 24 Load-out chamber 25-27 Gate valve 28 Transfer robot 31-33 Vacuum pump 40 Control device 41 Homogenizer 42 CCD camera 43 Video monitor 44 Excimer laser device 45 Attenuator

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 気密状態を維持される処理容器と、 前記処理容器内に配置され、一端が前記処理容器の壁を
貫通して外部まで導出された少なくとも2本の駆動用支
軸と、 前記駆動用支軸が前記処理容器の壁を貫通する箇所にお
いて、前記駆動用支軸がその軸方向に並進移動可能なよ
うに、かつ前記処理容器内の気密性が保たれるように、
前記処理容器内と外部とを隔離する気密機構と、 前記処理容器の外に設けられ、前記駆動用支軸が前記処
理容器に対して軸方向に並進移動可能なように駆動用支
軸を支持するガイド機構と、 前記駆動用支軸の一端側に取り付けられ、前記駆動用支
軸を前記処理容器に対して軸方向に並進移動させる第1
の駆動機構と、 前記処理容器内において、前記駆動用支軸の他端側で支
えられ、処理対象物を保持する保持部材と、 前記保持部材の下側にあって、一端側が前記保持部材に
設けられた開口を通して上下動して前記処理対象物を上
下動可能でしかも回転可能であり、他端側が前記処理容
器の壁を貫通して外部まで導出された回転駆動部と、 前記回転駆動部を上下動及び回転駆動するための第2の
駆動機構とを有することを特徴とする直動機構及び回転
駆動機構を持つ処理容器を備えた処理装置。
A processing container maintained in an airtight state, at least two driving shafts disposed in the processing container, one end of which is led out to the outside through a wall of the processing container; At a point where the driving support shaft passes through the wall of the processing container, the driving support shaft can be translated in the axial direction thereof, and the hermeticity in the processing container is maintained.
An airtight mechanism for isolating the inside and the outside of the processing container, and a driving support shaft provided outside the processing container and supporting the driving support shaft so that the driving support shaft can translate in the axial direction with respect to the processing container. A first guide mechanism which is attached to one end of the driving support shaft and which translates the driving support shaft in the axial direction with respect to the processing container.
And a holding member that is supported by the other end of the driving support shaft in the processing container and holds the object to be processed. A rotation drive unit, which is vertically movable through the provided opening to vertically move the object to be processed and is rotatable, and the other end of the rotation drive unit extends to the outside through a wall of the processing container; and And a second drive mechanism for vertically moving and rotating the apparatus. A processing apparatus comprising a processing container having a linear movement mechanism and a rotation drive mechanism.
【請求項2】 前記回転駆動部は、前記処理容器の外に
配置されたシリンダにより上下動のみ可能な第1の軸
と、この第1の軸の周囲に配置されて前記処理容器の外
に配置されたモータにより回転駆動される筒状の第2の
軸と、前記第1の軸の上端により上下動して前記処理対
象物を上下動させる支持板と、この支持板と前記第2の
軸の上端との間に設けられて該支持板の上下動により伸
縮すると共に、前記第2の軸の回転により該支持板を回
転させるベローズ機構とを含むことを特徴とする請求項
1に記載の処理装置。
2. The method according to claim 1, wherein the rotation driving unit includes a first shaft that can only move up and down by a cylinder disposed outside the processing container, and a rotation shaft disposed around the first shaft and outside the processing container. A cylindrical second shaft that is rotationally driven by an arranged motor; a support plate that moves up and down by the upper end of the first shaft to move the processing object up and down; The bellows mechanism provided between the upper end of the shaft and extending and contracting by the vertical movement of the support plate and rotating the support plate by rotation of the second shaft is provided. Processing equipment.
【請求項3】 前記処理容器の内壁及び前記保持部材の
うち、少なくとも前記処理容器の内壁に、前記処理対象
物を加熱するための加熱手段を設けたことを特徴とする
請求項2に記載の処理装置。
3. A heating means for heating the object to be processed is provided on at least an inner wall of the processing container among the inner wall of the processing container and the holding member. Processing equipment.
【請求項4】 前記ガイド機構及び第1の駆動機構は、
リニアガイド機構を備えたリニアモータで構成されるこ
とを特徴とする請求項3に記載の処理装置。
4. The guide mechanism and the first drive mechanism,
4. The processing apparatus according to claim 3, comprising a linear motor having a linear guide mechanism.
【請求項5】 前記第2の駆動機構は、前記処理対象物
の回転角度を粗調整可能であり、前記第1の駆動機構に
おける2つのリニアモータの差動動作により前記処理対
象物の回転角度の微調整を行うことを特徴とする請求項
4に記載の処理装置。
5. The second drive mechanism is capable of roughly adjusting the rotation angle of the processing object, and the rotation angle of the processing object is obtained by differential operation of two linear motors in the first drive mechanism. The processing apparatus according to claim 4, wherein the fine adjustment is performed.
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