JPH1027958A - Manufacture of multi-layer wiring board - Google Patents
Manufacture of multi-layer wiring boardInfo
- Publication number
- JPH1027958A JPH1027958A JP17877596A JP17877596A JPH1027958A JP H1027958 A JPH1027958 A JP H1027958A JP 17877596 A JP17877596 A JP 17877596A JP 17877596 A JP17877596 A JP 17877596A JP H1027958 A JPH1027958 A JP H1027958A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring board
- shape
- shaped
- manufacturing
- band
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、多層配線板の製造
法に関する。[0001] The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer wiring board.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子機器の軽薄短小化、高機能化に伴
い、配線板には高密度化が要求されてきている。このた
め、配線板は、配線層数を増やす多層化、同一層内の配
線収容量を増やすための微細配線化、層間の接続を行う
ための接続穴の微細化が行われてきた。しかし、高密度
化に伴い、必要とする接続穴数が増大し、従来の貫通穴
では穴数の増加と共に、その貫通穴部分には必要とする
層以外の層にも配線できない領域が増加するため、配線
収容量を充分に増やすことができないという課題があっ
た。そこで、このような課題を解決する方法として、必
要な層間だけを接続するIVH(インタスティシャルバ
イアホール)構造の多層配線板が提案されている。2. Description of the Related Art As electronic devices have become lighter, thinner, smaller, and more sophisticated, wiring boards have been required to have higher densities. For this reason, wiring boards have been multi-layered to increase the number of wiring layers, finer wiring to increase the wiring capacity in the same layer, and finer connection holes for connection between layers. However, with the increase in density, the number of connection holes required increases, and in the conventional through holes, the number of holes increases, and the area where the through holes cannot be wired to layers other than the required layers increases. For this reason, there is a problem that the wiring capacity cannot be sufficiently increased. Therefore, as a method for solving such a problem, a multilayer wiring board having an IVH (interstitial via hole) structure for connecting only necessary layers has been proposed.
【0003】例えば、図4(a)に示すように、貫通穴
をあけた後に、穴内をめっき後、エッチングで配線を形
成した両面銅張積層板を、内層配線板104や外層配線
板102として使用し、このものの必要枚数を、図4
(b)に示すように、プリプレグ103と共に積層して
多層化し、その後、図4(c)に示すように、必要な箇
所に貫通穴をあけ、めっきによってスルーホール内壁の
導体化を行ない、図4(d)に示すように、最外層の配
線形成を行なうことによって、IVH構造の配線板を製
造する方法が知られている。この方法は、工程数が多
く、しかもめっき回数が多いので、外層の導体が厚くな
り、最後に行なう配線形成のときに、微細な配線形成が
困難であるという課題がある。For example, as shown in FIG. 4 (a), a double-sided copper-clad laminate having a through hole formed therein, a plating inside the hole, and wiring formed by etching is used as an inner wiring board 104 or an outer wiring board 102. Fig. 4
As shown in FIG. 4 (b), it is laminated with the prepreg 103 to form a multilayer, and thereafter, as shown in FIG. 4 (c), a through hole is formed in a necessary portion, and the inner wall of the through hole is made conductive by plating. As shown in FIG. 4 (d), a method of manufacturing a wiring board having an IVH structure by forming wiring on the outermost layer is known. This method has a problem that since the number of steps and the number of plating times are large, the conductor in the outer layer becomes thick, and it is difficult to form fine wiring at the time of the last wiring formation.
【0004】そこで、これらの課題を解決するために、
金属箔にBステージ状の接着剤層を形成した接着剤付金
属箔に、予め穴をあけ、配線を形成した内層配線板と積
層接着し、必要に応じて貫通穴をあけ、穴内の導体化を
行ない、不要な銅箔をエッチング除去することによって
IVHを有する多層配線板を製造する方法が、特開平6
−196862号公報によって提案されている。Therefore, in order to solve these problems,
A hole is made in advance on a metal foil with an adhesive in which a B-stage adhesive layer is formed on a metal foil, and the laminate is adhered to an inner wiring board on which wiring has been formed, and a through hole is made as necessary, and a conductor is formed in the hole. And a method of manufacturing a multilayer wiring board having an IVH by etching away unnecessary copper foil is disclosed in
No. 196,862.
【0005】この方法において、接着剤は、内層配線板
の回路導体を充分に埋めることが必要であるから、流動
性の大きいことが要求されるが、予めあけた穴が、積層
時に接着剤の流動によって小さくなり、接続ができない
ことが起こるので、穴内には流動しない性質が要求さ
れ、単に、接着剤の組成を選択するというような手段で
は、この矛盾した要求は解決できないものである。そこ
で、この対策のため、積層物と積層治具(鏡板)との間
に、積層工程において塑性流動するシート等を挿入する
ことにより、積層工程における接着剤樹脂の流動に先立
ち、このシート材料が穴内を充填して樹脂のしみだしを
抑え、また、積層物表面の圧力を均一化する効果もある
ため、内層配線の間隙部へも接着剤樹脂が流動し、この
結果、ボイドの発生も抑制することが、特開平7−22
6592号公報により、提案されている。In this method, since the adhesive needs to sufficiently fill the circuit conductor of the inner wiring board, it is required that the adhesive has a large fluidity. Since the flow causes a reduction and a connection failure, a property that does not flow in the hole is required, and this contradictory requirement cannot be solved by simply selecting the composition of the adhesive. Therefore, as a countermeasure, by inserting a sheet or the like that plastically flows in the laminating step between the laminate and the laminating jig (end plate), this sheet material is preceded by the flow of the adhesive resin in the laminating step. Filling the inside of the hole suppresses resin exudation and also has the effect of equalizing the pressure on the surface of the laminate, so that the adhesive resin flows into the gaps between the inner wiring layers, thereby suppressing the occurrence of voids. To do so, refer to JP-A-7-22
No. 6592 proposes this.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法にお
いては、図3に示すように、積層工程において、内層配
線板の端部では、上記積層工程において塑性流動するシ
ートの塑性材料が端部よりしみだしてしまうため、充分
な圧力が加わらなく、製品の端部では、接着不良が発生
するという課題があった。However, in this method, as shown in FIG. 3, in the laminating step, at the end of the inner wiring board, the plastic material of the sheet that plastically flows in the laminating step is higher than the end. Because of exudation, there is a problem that sufficient pressure is not applied and poor adhesion occurs at the end of the product.
【0007】本発明は、この端部の積層接着不良を防止
する方法を提供するものである。[0007] The present invention provides a method for preventing the defective lamination adhesion at the end.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の多層配線板の製
造法は、 a.内層配線板を作製する工程、 b.高分子量エポキシ重合体を主体とする樹脂層と金属
箔とからなる接着剤付金属箔に、穴あけする工程、 c.積層治具と積層接着物との間に、積層工程において
塑性流動するシートを介在させて、前記内層配線板と前
記接着剤付金属箔とを積層接着する工程、 d.積層接着物に、配線形成を行なう工程、 を有する多層配線板の製造法において、図2(a)に示
すように、内層配線板の製品とならない外周部に設ける
パターン形状に、一定の幅の帯状の形状であって、その
帯状の形状を横切る曲線状の切れ目を設けたパターンを
使用することを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION A method of manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention comprises the steps of: a. A step of producing an inner wiring board; b. Perforating a metal foil with an adhesive comprising a resin layer mainly composed of a high molecular weight epoxy polymer and a metal foil, c. A step of laminating and bonding the inner-layer wiring board and the metal foil with adhesive between the laminating jig and the laminated adhesive with a sheet that plastically flows in the laminating step interposed therebetween; d. In a method of manufacturing a multilayer wiring board having a step of forming wiring on a laminated adhesive, as shown in FIG. 2 (a), a pattern having a fixed width is formed on an outer peripheral portion which is not a product of an inner wiring board. The present invention is characterized in that a pattern having a band shape and having a curved cut line crossing the band shape is used.
【0009】この帯状の形状を横切る曲線状の切れ目
は、図2(b)に示すような略コ字状、図2(c)に示
すような略サイン波状、図2(d)に示すような略櫛歯
状、あるいは図2(e)に示すような略鋸歯状でもよ
く、図示しないが、円弧状でもよい。このような曲線状
の切れ目は、積層工程において塑性流動するシートの内
塑性材料が端部からしみだすのを抑制することができ、
接着不良を防止することができる。[0009] The curved cuts crossing the band-like shape are substantially U-shaped as shown in FIG. 2 (b), substantially sinusoidal as shown in FIG. 2 (c), and as shown in FIG. 2 (d). The shape may be a substantially comb-like shape or a substantially saw-tooth shape as shown in FIG. 2 (e). Such a curved cut can suppress the in-plastic material of the sheet that flows plastically in the laminating process from exuding from the end,
Adhesion failure can be prevented.
【0010】この切れ目の形状や幅等は、積層接着する
接着剤の、揮発分量その他の特性により決められ、樹脂
流れが大きい場合は、幅を狭く、樹脂流れが小さいとき
は幅を広く調整する等して、製造に先立って予め最適値
を選定すれば良い。The shape and width of the cut are determined by the amount of volatile components and other characteristics of the adhesive to be laminated and bonded. The width is adjusted to be narrow when the resin flow is large, and to be wide when the resin flow is small. For example, an optimum value may be selected in advance before manufacturing.
【0011】本発明に用いる内層配線板は、通常の多層
配線板に用いるものならばどのようなものでも使用する
ことができる。As the inner wiring board used in the present invention, any one can be used as long as it is used for an ordinary multilayer wiring board.
【0012】本発明の、金属箔と接着性の樹脂層とから
なる接着剤付金属箔に用いる金属箔は、銅箔やアルミニ
ウム箔が使用でき、中でも通常の配線板に用いる銅箔が
好ましく、接着性の樹脂層との接着のために粗化してい
るものを用いることが好ましい。また、厚さについて
は、通常の配線板に用いる5μm〜70μmの厚さのも
のを用いることができる。配線パターンの精度や、配線
密度に高いものが要求される場合、できるだけ薄いもの
を用いることが好ましい。この金属箔には、配線形成よ
り前に物理的もしくは化学的に剥離除去可能なキャリア
層を有する複合箔を用いることができ、前記薄い金属箔
を使用するときに、キャリアにより支持されたものを用
いれば、金属箔の取扱性が高く、好ましい。このような
キャリアにより支持された銅箔としては、剥離が容易な
ような処理を界面に行なったアルミニウムをキャリアと
した銅箔や、厚さ3〜7μmの第1の銅層/中間層とし
て厚さ0.1〜0.3μmのニッケル−リン層/キャリ
アとして厚さ30〜40μmの第2の銅層からなる複合
金属箔等が使用できる。The metal foil used for the adhesive-attached metal foil comprising the metal foil and the adhesive resin layer of the present invention can be a copper foil or an aluminum foil, and among them, a copper foil used for a normal wiring board is preferable. It is preferable to use one that is roughened for adhesion with the adhesive resin layer. Regarding the thickness, a thickness of 5 μm to 70 μm used for a normal wiring board can be used. When a high wiring pattern accuracy and a high wiring density are required, it is preferable to use a thinner wiring as possible. For this metal foil, a composite foil having a carrier layer that can be physically or chemically peeled and removed before wiring formation can be used, and when using the thin metal foil, the one supported by the carrier is used. If used, the handleability of the metal foil is high, which is preferable. Examples of the copper foil supported by such a carrier include a copper foil using aluminum as a carrier which has been subjected to a treatment that facilitates peeling at the interface, and a first copper layer / intermediate layer having a thickness of 3 to 7 μm. As a nickel-phosphorus layer / carrier having a thickness of 0.1 to 0.3 μm, a composite metal foil or the like including a second copper layer having a thickness of 30 to 40 μm can be used.
【0013】接着剤の樹脂層には、耐熱性、機械特性、
電気特性、耐薬品性などの特性が総合的に優れたエポキ
シ樹脂が、高特性を要求される多層配線板に適してい
る。接着剤付金属箔の樹脂に高分子量エポキシ重合体を
主体とする樹脂を用いる場合、可撓化剤や変性をしなく
とも硬化後にある程度の可撓性を保ち、また積層接着時
の加熱時にも樹脂粘度を高く保ことができ、本発明の目
的に適している。The resin layer of the adhesive has heat resistance, mechanical properties,
Epoxy resins having excellent overall properties such as electrical properties and chemical resistance are suitable for multilayer wiring boards requiring high properties. When a resin mainly composed of a high molecular weight epoxy polymer is used as the resin of the metal foil with an adhesive, it retains a certain degree of flexibility after curing without a flexibilizing agent or denaturation, and also when heated during lamination bonding. The resin viscosity can be kept high and is suitable for the purpose of the present invention.
【0014】このエポキシ樹脂層には、二官能エポキシ
樹脂とハロゲン化二官能フェノール類の配合当量比をエ
ポキシ基/フェノール水酸基=1/0.9〜1.1と
し、触媒の存在下、加熱して重合させたフィルム形成能
を有する分子量100,000以上の高分子量エポキシ
重合体及び架橋剤、多官能エポキシ樹脂を構成成分とす
る熱硬化性エポキシ樹脂を用い、ワニス状の前記熱硬化
性エポキシ樹脂を銅箔の粗化面に塗布し、加熱により半
硬化状態にして、銅箔上に直接エポキシ樹脂層を形成し
たり、前記熱硬化性エポキシ樹脂をフィルム基材上に塗
布しフィルム化した後に、銅箔とラミネートして形成す
ることもできる。The epoxy resin layer is heated in the presence of a catalyst by setting the blending equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the halogenated difunctional phenol to epoxy group / phenol hydroxyl group = 1 / 0.9 to 1.1. A varnish-like thermosetting epoxy resin using a high-molecular-weight epoxy polymer having a molecular weight of 100,000 or more having a film-forming ability and a cross-linking agent, and a polyfunctional epoxy resin as constituents. Is applied to the roughened surface of the copper foil, put into a semi-cured state by heating, an epoxy resin layer is formed directly on the copper foil, or after the thermosetting epoxy resin is applied on a film substrate and formed into a film, It can also be formed by laminating with a copper foil.
【0015】(熱硬化性エポキシ樹脂の組成)本発明で
使用する、二官能エポキシ樹脂とハロゲン化二官能フェ
ノール類の配合当量比をエポキシ基/フェノール水酸基
=1/0.9〜1.1とし、触媒の存在下、加熱して重
合させたフィルム形成能を有する分子量100,000
以上の高分子量エポキシ重合体及び架橋剤、多官能エポ
キシ樹脂を構成成分とする熱硬化性エポキシ樹脂組成物
は、フィルム形成能を有するエポキシ重合体および架橋
剤、多官能エポキシ樹脂を構成成分とする。(Composition of thermosetting epoxy resin) The compounding equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the halogenated difunctional phenol used in the present invention is set to epoxy group / phenol hydroxyl group = 1 / 0.9 to 1.1. A polymer having a molecular weight of 100,000 having a film-forming ability heated and polymerized in the presence of a catalyst.
The above-mentioned high-molecular-weight epoxy polymer and cross-linking agent, the thermosetting epoxy resin composition containing a polyfunctional epoxy resin as a component is an epoxy polymer having a film-forming ability, a cross-linking agent, and a polyfunctional epoxy resin as components. .
【0016】(高分子量エポキシ重合体)フィルム形成
能を有する高分子量エポキシ重合体は、重量平均分子量
が100,000以上の、いわゆる高分子量エポキシ重
合体であり、二官能エポキシ樹脂とハロゲン化二官能フ
ェノール類を二官能エポキシ樹脂と二官能フェノール類
の配合当量比を、エポキシ基/フェノール性水酸基=1
/0.9〜1.1とし、触媒の存在下、沸点が130℃
以上のアミド系またはケトン系溶媒中、反応固形分濃度
50重量%以下で、加熱し重合させて得られる。(High Molecular Weight Epoxy Polymer) The high molecular weight epoxy polymer having a film forming ability is a so-called high molecular weight epoxy polymer having a weight average molecular weight of 100,000 or more, and is composed of a bifunctional epoxy resin and a halogenated difunctional resin. The phenols were prepared by adjusting the blending equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the bifunctional phenol to epoxy group / phenolic hydroxyl group = 1.
/0.9-1.1, boiling point 130 ° C. in the presence of a catalyst
It is obtained by heating and polymerizing at a reaction solids concentration of 50% by weight or less in the amide-based or ketone-based solvent described above.
【0017】二官能エポキシ樹脂は、分子内に二個のエ
ポキシ基をもつ化合物であればどのようなものでもよ
く、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキ
シ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂などがある。これらの
化合物の分子量はどのようなものでもよい。これらの化
合物は何種類かを併用することができる。また、二官能
エポキシ樹脂以外の成分が不純物として含まれていても
かまわない。The bifunctional epoxy resin may be any compound as long as it has two epoxy groups in the molecule, such as bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, Examples include aliphatic chain epoxy resins. These compounds can have any molecular weight. Some of these compounds can be used in combination. Further, components other than the bifunctional epoxy resin may be included as impurities.
【0018】ハロゲン化二官能フェノール類は、ハロゲ
ン原子が置換し、しかも二個のフェノール性水酸基を持
つ化合物であればどのようなものでもよく、例えば、単
環二官能フェノールであるヒドロキノン、レゾルシノー
ル、カテコール、多環二官能フェノールであるビスフェ
ノールA、ビスフェノールF、ナフタレンジオール類、
ビスフェノール類、およびこれらのアルキル基置換体な
どのハロゲン化物などがある。これらの化合物の分子量
はどのようなものでもよい。これらの化合物は何種類か
を併用することができる。また、ハロゲン化二官能フェ
ノール類以外の成分が不純物として含まれていてもかま
わない。The halogenated bifunctional phenol may be any compound as long as it has a halogen atom substituted and has two phenolic hydroxyl groups. Examples thereof include monocyclic bifunctional phenols such as hydroquinone, resorcinol, and the like. Catechol, bisphenol A which is a polycyclic bifunctional phenol, bisphenol F, naphthalene diols,
Bisphenols, and halides such as alkyl group-substituted products thereof. These compounds can have any molecular weight. Some of these compounds can be used in combination. Further, components other than the halogenated bifunctional phenols may be contained as impurities.
【0019】触媒は、エポキシ基とフェノール性水酸基
のエーテル反応を促進させるような触媒能を持つ化合物
であればどのようなものでもよく、例えば、アルカリ金
属化合物、アルカリ土類金属化合物、イミダゾール類、
有機りん化合物、第二級アミン、第三級アミン、第四級
アンモニウム塩などがある。中でもアルカリ金属化合物
が最も好ましい触媒であり、アルカリ金属化合物の例と
しては、ナトリウム、リチウム、カリウムの水酸化物、
ハロゲン化物、有機酸塩、アルコラート、フェノラー
ト、水素化物、ホウ水素化物、アミドなどがある。これ
らの触媒は併用することができる。The catalyst may be any compound having a catalytic ability to promote an ether reaction between an epoxy group and a phenolic hydroxyl group. Examples thereof include alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, imidazoles, and the like.
Organic phosphorus compounds, secondary amines, tertiary amines, quaternary ammonium salts and the like. Among them, an alkali metal compound is the most preferred catalyst, and examples of the alkali metal compound include sodium, lithium and potassium hydroxide,
Examples include halides, organic acid salts, alcoholates, phenolates, hydrides, borohydrides, amides and the like. These catalysts can be used in combination.
【0020】反応溶媒としては、アミド系またはケトン
系溶媒が好ましく、アミド系溶媒としては、沸点が13
0℃以上で、原料となるエポキシ樹脂とフェノール類を
溶解すれば、特に制限はないが、例えば、ホルムアミ
ド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N,N’,N’−テト
ラメチル尿素、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロ
リドン、カルバミド酸エステルなどがある。これらの溶
媒は併用することができる。また、ケトン系溶媒、エー
テル系溶媒などに代表されるその他の溶媒と併用しても
かまわない。また、ケトン系溶媒としては、シクロヘキ
サノン、アセチルアセトン、ジイソブチルケトン、ホロ
ン、イソホロン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェ
ノンなどがある。The reaction solvent is preferably an amide or ketone solvent, and the amide solvent has a boiling point of 13%.
There is no particular limitation on dissolving the epoxy resin and phenols as raw materials at 0 ° C. or higher, but, for example, formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N,
N-dimethylacetamide, N, N, N ', N'-tetramethylurea, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, carbamic acid ester and the like. These solvents can be used in combination. Further, it may be used in combination with other solvents typified by ketone solvents, ether solvents and the like. Examples of the ketone-based solvent include cyclohexanone, acetylacetone, diisobutylketone, holon, isophorone, methylcyclohexanone, and acetophenone.
【0021】重合体の合成条件としては、二官能エポキ
シ樹脂とハロゲン化二官能フェノール類の配合当量比
は、エポキシ基/フェノール性水酸基=1/0.9〜
1.1とされる。重合反応温度は、60〜150℃であ
ることが好ましく、60℃未満であると、高分子量化反
応が著しく遅く、150℃を越えると、副反応が多くな
り直鎖状に高分子量化しない。溶媒を用いた重合反応の
際の固形分濃度は、50重量%以下であればよいが、さ
らには30重量%以下にすることが好ましい。As for the conditions for synthesizing the polymer, the blending equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the halogenated bifunctional phenol is as follows: epoxy group / phenolic hydroxyl group = 1 / 0.9 to
1.1. The polymerization reaction temperature is preferably from 60 to 150 ° C. If the temperature is lower than 60 ° C, the polymerization reaction becomes extremely slow. If it exceeds 150 ° C, side reactions increase and the polymer does not linearly increase in molecular weight. The solid content concentration during the polymerization reaction using a solvent may be 50% by weight or less, and more preferably 30% by weight or less.
【0022】このようにすることにより、フィルム形成
能を有する分子量が100,000以上の、いわゆる高
分子量エポキシ重合体が得られる。この高分子量エポキ
シ重合体の架橋剤として、架橋剤の反応性制御が容易で
ワニスの保存安定性が確保し易い、イソシアネート類を
他の活性水素を持つ化合物でマスク(ブロック)したマ
スクイソシアネート類を用いるのが好ましい。In this manner, a so-called high molecular weight epoxy polymer having a film forming ability and having a molecular weight of 100,000 or more can be obtained. As a crosslinking agent for this high-molecular-weight epoxy polymer, a mask isocyanate obtained by masking (blocking) an isocyanate with a compound having another active hydrogen, in which the reactivity of the crosslinking agent is easily controlled and the storage stability of the varnish is easily ensured. It is preferably used.
【0023】イソシアネート類は分子内に2個以上のイ
ソシアネート基を有するものであればどのようなもので
もよく、例えば、フェノール類、オキシム類、アルコー
ル類などのマスク剤でマスクされたヘキサメチレンジイ
ソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イ
ソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート
などが挙げられる。特に、硬化物の耐熱性の向上のため
フェノール類でマスクされたイソホロンジイソシアネー
ト、トリレンジイソシアネートが好ましい。この架橋剤
の量は、高分子量エポキシ重合体のアルコール性水酸基
1.0当量に対し、イソシアネート基が0.1〜1.0
当量にすることが好ましい。The isocyanate may be any as long as it has two or more isocyanate groups in the molecule. Examples thereof include hexamethylene diisocyanate masked with a masking agent such as phenols, oximes and alcohols. Examples thereof include diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, and tolylene diisocyanate. In particular, isophorone diisocyanate and tolylene diisocyanate masked with phenols for improving the heat resistance of the cured product are preferable. The amount of the crosslinking agent is such that the isocyanate group is 0.1 to 1.0 equivalent to 1.0 equivalent of the alcoholic hydroxyl group of the high molecular weight epoxy polymer.
It is preferable to make it equivalent.
【0024】(多官能エポキシ樹脂)多官能エポキシ樹
脂としては、分子内に2個以上のエポキシ基を持つ化合
物であればどのようなものでもよく、例えば、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型
エポキシ樹脂、レゾール型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ル型エポキシ樹脂などのフェノール類のグリシジルエー
テルであるフェノール型エポキシ樹脂や脂環式エポキシ
樹脂、エポキシ化ポリブタジエン、グリシジルエステル
型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、イ
ソシアヌレート型エポキシ樹脂、可撓性エポキシ樹脂な
どであり、エポキシ樹脂ならば何を用いてもかまわない
が、特にフェノール型エポキシ樹脂、または、フェノー
ル型エポキシ樹脂と多官能エポキシ樹脂との混合物が、
耐熱性の向上のために好ましい。この多官能エポキシ樹
脂の量は、高分子量エポキシ重合体100重量部に対
し、20〜100重量部にすることが好ましい。また、
この多官能エポキシ樹脂は、接着成分および成形時の樹
脂流れとして働くため、内層銅箔の厚さやその回路の密
度によって、適正な量に調節することができる。これら
の多官能エポキシ樹脂は、単独でまたは2種類以上混合
して用いてもかまわない。(Polyfunctional epoxy resin) As the polyfunctional epoxy resin, any compound having two or more epoxy groups in a molecule may be used. For example, a phenol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin may be used. Phenol epoxy resin and alicyclic epoxy resin which are glycidyl ethers of phenols such as resin, resol type epoxy resin and bisphenol type epoxy resin, epoxidized polybutadiene, glycidyl ester type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, isocyanurate type Epoxy resin, flexible epoxy resin, etc., any epoxy resin may be used, especially phenolic epoxy resin, or a mixture of phenolic epoxy resin and polyfunctional epoxy resin,
It is preferable for improving heat resistance. The amount of the polyfunctional epoxy resin is preferably 20 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the high molecular weight epoxy polymer. Also,
Since this polyfunctional epoxy resin works as an adhesive component and a resin flow during molding, it can be adjusted to an appropriate amount by the thickness of the inner copper foil and the density of the circuit. These polyfunctional epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
【0025】(添加剤)さらに、多官能エポキシ樹脂の
硬化剤および硬化促進剤を用いることが好ましい。エポ
キシ樹脂の硬化剤および硬化促進剤としては、ノボラッ
ク型フェノール樹脂、ジシアンジアミド、酸無水物、ア
ミン類、イミダゾール類、フォスフィン類などが挙げら
れる。また、これらを組み合わせて用いてもかまわな
い。さらにシランカップリング剤を添加することは、エ
ポキシ樹脂層の接着力、特に銅箔との接着力を向上させ
るので好ましい。添加するシランカップリング剤として
は、エポキシシラン、アミノシラン、尿素シラン等が好
ましい。(Additive) It is preferable to use a curing agent and a curing accelerator for the polyfunctional epoxy resin. Examples of epoxy resin curing agents and curing accelerators include novolak type phenol resins, dicyandiamide, acid anhydrides, amines, imidazoles, phosphines, and the like. Further, these may be used in combination. Further, it is preferable to add a silane coupling agent since the adhesion of the epoxy resin layer, particularly the adhesion to the copper foil, is improved. As the silane coupling agent to be added, epoxy silane, amino silane, urea silane and the like are preferable.
【0026】(塗布)このような組成の混合物を、溶剤
により希釈し、銅箔の表面に塗布する。このときの塗布
方法は、ブレードコータ、ロッドコータ、ナイフコー
タ、リバースロールコータ、リップコータ、ダイコータ
等により塗布すことができる。また、塗布した後に、1
30〜150℃、2〜30分の条件で乾燥し、半硬化状
にする。(Coating) The mixture having such a composition is diluted with a solvent and applied to the surface of a copper foil. The coating method at this time can be performed by a blade coater, a rod coater, a knife coater, a reverse roll coater, a lip coater, a die coater, or the like. After application,
It is dried at 30 to 150 ° C. for 2 to 30 minutes to obtain a semi-cured state.
【0027】この接着剤付金属箔に穴あけする工程は、
通常の配線板を製造するときに用いる数値制御式のドリ
ルマシンやプレス金型を用いることができる。The step of piercing the metal foil with the adhesive is as follows.
It is possible to use a numerically controlled drill machine or press die used when manufacturing a normal wiring board.
【0028】本発明の、積層工程において塑性流動する
シートには、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、酢
酸ビニル樹脂、これらの共重合体などを主体とする樹脂
が使用できる。この積層工程において塑性流動するシー
トの厚さは、クッション効果が得られる厚さであればよ
く、30μm〜2mmの範囲は好ましく、積層接着時の
温度で粘度低下が充分に大きければ、30〜200μm
で充分である。30μm未満であると、クッション効果
がなく、2mmを越えると、積層工程において塑性流動
するシートの価格が高くなるだけではなく、熱盤から積
層物への伝熱性が低下する。また、この積層工程におい
て塑性流動するシートには、積層工程において塑性流動
するシートと離型性のフィルムを同時に押出し成形した
2層構造のシートあるいは、前記2種類の材料を組み合
わせた3層構造のシートを用いることもできる。As the sheet plastically flowing in the laminating step of the present invention, a resin mainly composed of a polyethylene resin, a polystyrene resin, a vinyl acetate resin, a copolymer thereof or the like can be used. The thickness of the sheet plastically flowing in the laminating step may be any thickness as long as the cushion effect can be obtained, and is preferably in the range of 30 μm to 2 mm. If the viscosity decrease at the temperature at the time of laminating is sufficiently large, 30 to 200 μm
Is enough. If it is less than 30 μm, there is no cushioning effect, and if it exceeds 2 mm, not only the price of the sheet plastically flowing in the laminating step becomes high, but also the heat transfer from the hot plate to the laminate decreases. The sheet that plastically flows in the laminating step may be a two-layer sheet formed by simultaneously extruding a sheet that plastically flows in the laminating step and a release film, or a three-layer structure that combines the above two types of materials. Sheets can also be used.
【0029】積層接着後、前記積層工程において塑性流
動するシートを物理的に剥離除去するのは、通常の配線
板を製造するときに行なうように、冷却し、圧力を下げ
て、プレス熱盤を開き、積層物を取り出して、鏡板やク
ッションを人手によって解体することによって行なわれ
る。After laminating and bonding, the plastically flowing sheet is physically peeled and removed in the laminating step, as in the case of manufacturing a normal wiring board. It is performed by opening, taking out the laminate, and manually dismantling the end plate or cushion.
【0030】[0030]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、以下、実
施例によって、具体的に述べる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be specifically described below by way of examples.
【0031】[0031]
実施例 (1)内層配線板の作製 ガラス布にエポキシ樹脂を含浸した基材の両面に銅箔を
積層した両面銅張積層板であるMCL−E67(日立化
成工業株式会社製、商品名)の不要な銅箔をエッチング
除去することによって、IVH接続部分にランドを設け
た内層配線を有する内層配線板4を作製した。このとき
に、図2(a)に示すような構成とし、内層配線板の製
品とならない外周部に設けるパターン形状に、一定の幅
の帯状の形状であって、その帯状の形状を横切る曲線状
の切れ目を、図2(d)に示す形状とし、幅10mm、帯
状の直角方向に2mm、帯状の平行方向に2mmを単位とす
る櫛歯状とした。 (2)接着剤付金属箔の作製 二官能エポキシ樹脂として、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂を用い、ハロゲン化二官能フェノールとして、ハ
ロゲン化ビスフェノールAを用い、触媒として、アルカ
リ金属化合物を用い、反応溶媒として、アミド系溶媒を
用い、重合体の合成条件として、二官能エポキシ樹脂と
ハロゲン化二官能フェノール類の配合当量比を、エポキ
シ基/フェノール性水酸基=1/1とし、重合反応温度
を140℃とし、重合反応の固形分濃度を25重量%と
して合成した、平均分子量が50,000〜100,0
00の高分子量エポキシ重合体と、架橋剤に、イソシア
ネート類をマスクして用い、多官能エポキシ樹脂にレゾ
ール型エポキシ樹脂を用いた、エポキシ樹脂ワニスAS
3000(日立化成工業株式会社製、商品名)を、金属
箔32である銅箔18μmの粗化面に、乾燥後の厚さが
50μmとなるように塗布し、140℃で、25分間乾
燥して、Bステージ状態とし、この接着剤付金属箔3
に、IVH接続用の直径0.15mmの穴を、ドリルで
あけた。 (3)積層接着 図1(a)に示すように、前記工程(1)で作製した内
層配線板4に、前記工程(2)で作製した、穴あきの接
着剤付金属箔3を、樹脂層31が内層配線板に接するよ
うにして重ね、積層工程において塑性流動するシート2
として、厚さ150μmのポリスチレンシートを、鏡板
と積層物との間に挿入し、160℃、3MPa、90分
の条件で加熱加圧して、積層接着した。 (4)剥離 図1(b)及び図1(c)に示すように、積層接着後、
鏡板1、及び積層工程において塑性流動するシート2を
積層物から剥離除去した。 (5)配線の形成 積層物を水洗、乾燥した後、ドリルでスルーホール接続
用の穴あけを行なった(図示せず。)。この後、アルカ
リ過マンガン酸処理、触媒処理など一連のめっき前処理
を行なった後、図1(e)に示すように、無電解銅めっ
き液であるCUST−2000(日立化成工業株式会社
製、商品名)に、液温70℃で、7時間浸漬し、15μ
mの厚さのめっき8を行ない、不要な銅箔を選択的にエ
ッチング除去して、配線9の形成を行なって、図1
(f)に示す、IVH付多層配線板を得た。Example (1) Production of Inner Layer Wiring Board MCL-E67 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) which is a double-sided copper-clad laminate obtained by laminating copper foil on both sides of a base material obtained by impregnating a glass cloth with an epoxy resin. By removing unnecessary copper foil by etching, an inner wiring board 4 having an inner wiring having a land at an IVH connection portion was produced. At this time, a pattern as shown in FIG. 2A is used, and a pattern provided on the outer peripheral portion which is not a product of the inner wiring board has a band shape having a fixed width and a curved shape crossing the band shape. 2 (d) was formed into a comb-teeth shape having a width of 10 mm, a unit of 2 mm in a direction perpendicular to the band, and a unit of 2 mm in a parallel direction of the band. (2) Preparation of metal foil with adhesive A bisphenol A type epoxy resin is used as a bifunctional epoxy resin, a halogenated bisphenol A is used as a halogenated bifunctional phenol, an alkali metal compound is used as a catalyst, and a reaction solvent is used. Using an amide-based solvent, the synthesis conditions of the polymer were as follows: the blending equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the halogenated bifunctional phenols was set to epoxy group / phenolic hydroxyl group = 1/1, and the polymerization reaction temperature was set to 140 ° C. The average molecular weight was 50,000 to 100,0, with the solid content concentration of the polymerization reaction being 25% by weight.
Epoxy resin varnish AS using a high molecular weight epoxy polymer of No. 00, a cross-linking agent using an isocyanate as a mask, and a polyfunctional epoxy resin using a resol type epoxy resin.
3000 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name) is applied to the roughened surface of the copper foil 18 μm as the metal foil 32 so that the thickness after drying becomes 50 μm, and dried at 140 ° C. for 25 minutes. To the B-stage state, and the adhesive-attached metal foil 3
Then, a hole having a diameter of 0.15 mm for IVH connection was drilled. (3) Lamination bonding As shown in FIG. 1 (a), the perforated metal foil with adhesive 3 produced in the step (2) is applied to the inner layer wiring board 4 produced in the step (1) by a resin layer. The sheet 2 is overlapped with the inner layer wiring board 31 so as to flow plastically in the laminating step.
Then, a polystyrene sheet having a thickness of 150 μm was inserted between the end plate and the laminate, and heated and pressed at 160 ° C. and 3 MPa for 90 minutes to laminate and bond. (4) Peeling As shown in FIG. 1B and FIG.
The head plate 1 and the sheet 2 which plastically flows in the laminating step were peeled off from the laminate. (5) Formation of Wiring After the laminate was washed with water and dried, a hole for through-hole connection was made with a drill (not shown). Then, after performing a series of pre-plating treatments such as an alkali permanganate treatment and a catalyst treatment, as shown in FIG. (Product name) at a liquid temperature of 70 ° C for 7 hours.
1m, and unnecessary copper foil is selectively removed by etching to form a wiring 9.
The multilayer wiring board with IVH shown in (f) was obtained.
【0032】比較例1 実施例で、内層配線板における、製品とならない外周部
に設けるパターン形状に、10mmの一定の幅の帯状の形
状であって、その帯状の形状を横切る幅2mmの切れ目
を、図3に示す形状とした以外は、全く同じにして多層
配線板を得た。COMPARATIVE EXAMPLE 1 In the example, the pattern formed on the outer peripheral portion of the inner wiring board which is not a product is a strip having a constant width of 10 mm and a cut having a width of 2 mm crossing the strip. A multilayer wiring board was obtained in exactly the same manner except that the shape was as shown in FIG.
【0033】(評価)実施例と比較例で、内層配線板端
部の接着不良について調べたところ、比較例では全パネ
ルに端部接着不良が発生したのに対して、実施例では端
部接着不良は発生しなかった。(Evaluation) In the example and the comparative example, the adhesion failure of the end portion of the inner wiring board was examined. In the comparative example, the edge adhesion failure occurred in all the panels. No failure occurred.
【0034】[0034]
【発明の効果】本発明により、塑性流動シートを用いた
積層接着工程を有した、高密度多層配線板を、端部接着
不良なしに製造できる。According to the present invention, a high-density multilayer wiring board having a lamination bonding step using a plastic flow sheet can be manufactured without defective end portions.
【図1】(a)〜(f)は、それぞれ本発明の一実施例
を説明するための各工程における断面図である。FIGS. 1A to 1F are cross-sectional views in respective steps for explaining one embodiment of the present invention.
【図2】(a)は本発明の一実施例を示す上面図であ
り、(b)は(a)のA部拡大図であり、(c)〜
(e)は本発明の他の実施例の(a)のA部拡大図であ
る。2A is a top view showing one embodiment of the present invention, FIG. 2B is an enlarged view of a portion A of FIG. 2A, and FIGS.
(E) is an enlarged view of a portion A of (a) of another embodiment of the present invention.
【図3】従来例を示す上面図である。FIG. 3 is a top view showing a conventional example.
【図4】(a)〜(d)は、それぞれ従来例の製造工程
を説明するための各工程における断面図である。FIGS. 4A to 4D are cross-sectional views in respective steps for explaining a manufacturing process of a conventional example.
1.鏡板 2.積層工程にお
いて塑性流動するシート 3.接着剤付金属箔 31.接着性樹脂 32.金属箔 33.キャリア 4.内層配線板 5.積層物 6.IVH用穴 8.めっき 9.IVH 102.外層板 103.プリプレグ 104.内層板 105.積層物 106.IVH用
穴 107.積層物 108.スルーホ
ール 109.IVH1. End plate 2. 2. Sheet that plastically flows in the lamination process Metal foil with adhesive 31. Adhesive resin 32. Metal foil 33. Carrier 4. Inner layer wiring board 5. Laminate 6. 7. Hole for IVH Plating 9. IVH 102. Outer plate 103. Prepreg 104. Inner layer plate 105. Laminate 106. IVH hole 107. Laminate 108. Through hole 109. IVH
Claims (6)
箔とからなる接着剤付金属箔に、穴あけする工程、 c.積層治具と積層接着物との間に、積層工程において
塑性流動するシートを介在させて、前記内層配線板と前
記接着剤付金属箔とを積層接着する工程、 d.積層接着物に、配線形成を行なう工程、 を有する多層配線板の製造法において、内層配線板の製
品とならない外周部に設けるパターン形状に、一定の幅
の帯状の形状であって、その帯状の形状を横切る曲線状
の切れ目を設けたパターンを使用することを特徴とする
多層配線板の製造法。1. A method according to claim 1, A step of producing an inner wiring board; b. Perforating a metal foil with an adhesive comprising a resin layer mainly composed of a high molecular weight epoxy polymer and a metal foil, c. A step of laminating and bonding the inner-layer wiring board and the metal foil with adhesive between the laminating jig and the laminated adhesive with a sheet that plastically flows in the laminating step interposed therebetween; d. In the method of manufacturing a multilayer wiring board having a step of forming a wiring on the laminated adhesive, a pattern shape provided on an outer peripheral portion that does not become a product of the inner wiring board has a band-like shape having a certain width, and A method for manufacturing a multilayer wiring board, comprising using a pattern having a curved cut line crossing a shape.
コ字状であることを特徴とする請求項1に記載の多層配
線板の製造法。2. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein the curved cuts crossing the band-like shape are substantially U-shaped.
サイン波状であることを特徴とする請求項1に記載の多
層配線板の製造法。3. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein the curved cuts crossing the strip-like shape are substantially sinusoidal.
円弧状であることを特徴とする請求項1に記載の多層配
線板の製造法。4. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein the curved cuts crossing the band-like shape are substantially arc-shaped.
櫛歯状であることを特徴とする請求項1に記載の多層配
線板の製造法。5. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein the cuts having a curved shape crossing the strip-like shape are substantially comb-shaped.
歯状であることを特徴とする請求項1に記載の多層配線
板の製造法。6. The method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1, wherein the curved cuts crossing the band-like shape are serrated.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17877596A JPH1027958A (en) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | Manufacture of multi-layer wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17877596A JPH1027958A (en) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | Manufacture of multi-layer wiring board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1027958A true JPH1027958A (en) | 1998-01-27 |
Family
ID=16054418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17877596A Pending JPH1027958A (en) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | Manufacture of multi-layer wiring board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1027958A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007165673A (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Nippon Avionics Co Ltd | Method for manufacturing flexible printed circuit board |
-
1996
- 1996-07-09 JP JP17877596A patent/JPH1027958A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007165673A (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Nippon Avionics Co Ltd | Method for manufacturing flexible printed circuit board |
JP4674901B2 (en) * | 2005-12-15 | 2011-04-20 | 日本アビオニクス株式会社 | Manufacturing method of flexible printed wiring board |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101001529B1 (en) | Resin composition for interlayer insulation of multilayer printed wiring board, adhesive film and prepreg | |
EP2204079B1 (en) | Asymmetric dielectric films and process for forming such a film | |
US8163381B2 (en) | Multi-layer chip carrier and process for making | |
JP3624967B2 (en) | Manufacturing method of multilayer printed wiring board | |
KR20100039245A (en) | Epoxy resin composition | |
KR20080108469A (en) | Epoxy resin composition | |
KR100491754B1 (en) | Resin coated copper composition for substrate of build-up preinted circuit board | |
KR20100058631A (en) | Method for manufacturing multilayer printed wiring board | |
JPH1027958A (en) | Manufacture of multi-layer wiring board | |
JP4291420B2 (en) | Manufacturing method of multilayer wiring board | |
JP3865083B2 (en) | Manufacturing method of multilayer printed wiring board | |
JPH11148053A (en) | Heat-resistant plastic film laminate and multilayer printed circuit using the same | |
JP3636334B2 (en) | Manufacturing method of multilayer printed wiring board | |
JP3852495B2 (en) | Multilayer wiring board manufacturing method | |
JP3412572B2 (en) | Epoxy resin composition, prepreg, metal foil with resin, adhesive sheet, laminated board and multilayer board | |
JPH10284840A (en) | Manufacture of multilayered printed wiring board | |
JP2015086293A (en) | Prepreg and multilayer printed wiring board | |
JPH10335834A (en) | Multilayered wiring board | |
JPH10284839A (en) | Manufacture of multilayer printed wiring board | |
JPH10251421A (en) | Prepreg, laminate and multilayer printed wiring board | |
JPH0992997A (en) | Manufacture of shielding plate for multilayer flexible wiring board | |
JP3940936B2 (en) | Manufacturing method of multilayer printed wiring board | |
JPH10326952A (en) | Wiring board and material therefor | |
JPH06309936A (en) | Multi-wire wiring board and insulated electric wire using same | |
JPH0911395A (en) | Heat-resistant plastic film laminate and multilayered printed wiring board using the same |