JPH1027329A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPH1027329A
JPH1027329A JP8182221A JP18222196A JPH1027329A JP H1027329 A JPH1027329 A JP H1027329A JP 8182221 A JP8182221 A JP 8182221A JP 18222196 A JP18222196 A JP 18222196A JP H1027329 A JPH1027329 A JP H1027329A
Authority
JP
Japan
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protective layer
ratio
layer
magnetic
thin film
Prior art date
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Pending
Application number
JP8182221A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noriyuki Kitaori
典之 北折
Katsumi Sasaki
克己 佐々木
Osamu Yoshida
修 吉田
Hirohide Mizunoya
博英 水野谷
Katsumi Endo
克巳 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
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Publication of JPH1027329A publication Critical patent/JPH1027329A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the corrosion resistance and durability of a magnetic recording medium and further, to improve the tacky adhesiveness of a magnetic layer and a protective layer by changing the ratio of the carbon-carbon σ bonds in the protective layer comprising a thin film in a range of 1 to 10nm. SOLUTION: The magnetic layer comprising Co and having 1,750Å is formed by a vapor deposition device on a PET film having 6.5μm thickness. Next, the protective layer comprising a diamond-like carbon thin film having 100Å thickness is formed by an ECR plasma CVD method on this magnetic layer. A gaseous mixture composed of benzene, CH4 and Ar is used for gaseous raw materials. The vacuum degree of this time is specified to 4×10<-3> Torr and ECR power to 500W. When the ratio of the formed protective layer is measured by EELS, the ratio of the σ bonds varies at a difference of at least 5% up to 55 to 85% while a spot of 1nm is moved 10nm. The ratio of the σ bonds over the entire part of the protective layer is 60% and the film thickness is 100Å. A lubricative layer is formed thereon.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
し、更に詳しくは、耐久性、耐食性、結着性、柔軟性等
の機械的特性に優れた炭素を主成分とする薄膜からなる
保護層が形成された磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium, and more particularly, to a protective layer comprising a thin film containing carbon as a main component and having excellent mechanical properties such as durability, corrosion resistance, binding property, and flexibility. The present invention relates to a magnetic recording medium on which is formed.

【0002】[0002]

【従来の技術】支持体上に真空中で金属を蒸着等により
付着させてなる、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体
は、磁性層にバインダーを全く含まないことから磁性材
料の密度を高められるため、高密度記録に有望であると
されている。しかしながら、金属薄膜型の磁気記録媒体
の磁性層は、支持体上に金属が付着しているだけなの
で、そのままでは耐食性、耐久性が悪く、これを向上さ
せる目的でパーフルオロポリエーテル等のフッ素系の潤
滑剤、炭化水素系潤滑剤或いはこれらを併用した潤滑剤
を塗布したり、磁性層上に非磁性の保護層を設けたりす
ることが行われてきた。
2. Description of the Related Art A so-called metal thin film type magnetic recording medium in which a metal is deposited on a support in a vacuum in a vacuum or the like can increase the density of the magnetic material because the magnetic layer contains no binder at all. Is promising for high-density recording. However, the magnetic layer of the metal thin-film type magnetic recording medium has only a metal adhered to the support, and as such, has poor corrosion resistance and durability. In order to improve this, a fluorine-based material such as perfluoropolyether is used. , A hydrocarbon-based lubricant, or a lubricant using them in combination, or providing a non-magnetic protective layer on a magnetic layer.

【0003】更に今日では、磁性層上の保護層として、
ダイヤモンドライクカーボン等の炭素からなる薄膜を形
成する手法が注目されている。ダイヤモンドライクカー
ボン(DLC)薄膜はグラファイト結合とダイヤモンド
結合が混在する構造と考えられている。DLC薄膜を磁
性層上に形成する方法としては、RFプラズマCVD法
或いはECRプラズマCVD法等による方法が挙げられ
る。このうちECRプラズマCVD法は、高真空中で原
料ガスにマイクロ波を印加してガスをプラズマ化し、目
的物(磁性層上)に薄膜を形成する方法であり、DLC
薄膜の形成には汎用されている。
[0003] Today, as a protective layer on a magnetic layer,
Attention has been paid to a technique for forming a thin film made of carbon such as diamond-like carbon. It is considered that a diamond-like carbon (DLC) thin film has a structure in which graphite bonds and diamond bonds are mixed. As a method of forming the DLC thin film on the magnetic layer, a method by an RF plasma CVD method, an ECR plasma CVD method, or the like can be used. Among them, the ECR plasma CVD method is a method in which a microwave is applied to a raw material gas in a high vacuum to convert the gas into a plasma and form a thin film on a target object (on a magnetic layer).
It is widely used for forming thin films.

【0004】従来では主として耐久性をより向上させる
目的で炭素薄膜系の保護層が形成されおり、従って、よ
りダイヤモンドに近い薄膜を形成することが行なわれて
いる。すなわち、DLC薄膜のダイヤモンド結合性を高
めること、即ちsp2 結合(π結合)に対するsp3
合(σ結合)の比を高めることによって硬度を向上させ
ることを目的として、種々の試みがなされている。
Conventionally, a carbon thin film-based protective layer has been formed mainly for the purpose of further improving the durability. Therefore, a thin film closer to diamond has been formed. That is, various attempts have been made for the purpose of enhancing the diamond bonding property of the DLC thin film, that is, improving the hardness by increasing the ratio of the sp 3 bond (σ bond) to the sp 2 bond (π bond). .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ダイヤ
モンドの組成に近いDLC薄膜は確かに耐久性には優れ
るが、磁性層との結着性が悪く、またビデオヘッドを摩
耗しすぎたり、耐食性も不十分であり、更にDLC薄膜
自体の張力が大きいために、媒体全体の柔軟性(フレキ
シブル性)や走行性が悪くなる。また、逆にグラファイ
トの組成に近いDLC薄膜は柔軟性は良いが、耐久性が
悪くなる。
However, although a DLC thin film having a composition close to that of diamond is certainly excellent in durability, it has poor binding to a magnetic layer, and also causes excessive wear of a video head and poor corrosion resistance. This is sufficient, and the tension of the DLC thin film itself is large, so that the flexibility (flexibility) and running properties of the entire medium are deteriorated. Conversely, a DLC thin film having a composition close to that of graphite has good flexibility, but has poor durability.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意研究した結果、膜中でσ結合の割合が変
化するような炭素薄膜により保護層を形成することによ
り、耐久性を維持しつつ、結着性、耐食性及び柔軟性を
向上できることをを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, by forming a protective layer with a carbon thin film in which the ratio of σ bonds changes in the film, the durability is improved. It has been found that the binding property, corrosion resistance and flexibility can be improved while maintaining the above, and the present invention has been completed.

【0007】即ち、本発明は、支持体と、該支持体上に
形成された磁性層と、該磁性層上に形成された炭素を主
成分とする薄膜からなる保護層を有する磁気記録媒体に
おいて、当該保護層中の炭素−炭素σ結合の割合が、当
該保護層中の1〜10nmの範囲で変化していることを
特徴とする磁気記録媒体を提供するものである。
That is, the present invention relates to a magnetic recording medium having a support, a magnetic layer formed on the support, and a protective layer formed on the magnetic layer and comprising a thin film containing carbon as a main component. A magnetic recording medium characterized in that the ratio of carbon-carbon σ bonds in the protective layer varies in the range of 1 to 10 nm in the protective layer.

【0008】本発明の磁気記録媒体は、支持体上に蒸着
等の方法により形成された磁性層上に、炭素を主成分と
する薄膜からなる保護層が形成されているものである
が、本発明では特に当該薄膜中のσ結合の割合が保護層
中の1〜10nmの範囲で変化するような薄膜が形成さ
れる。ここで、「σ結合の割合が1〜10nmの範囲で
変化する」とは、薄膜中の任意のスポットAを選定し、
そのスポットからランダムな方向に1〜10nm離れた
別のスポットBを選定した時に、スポットAにおけるσ
結合の割合と、スポットBにおけるσ結合の割合が相違
することを意味する。この場合、スポットAから1〜1
0nmの範囲で、一か所でもσ結合の割合が変化するス
ポットがあればよい。また、本発明では、σ結合の割合
が5%以上異なる場合に「σ結合の割合が相違する」と
判断する。例えば、任意のスポットAでσ結合の割合が
90%、π結合の割合が10%であり、スポットAから
1〜10nm離れたスポットBでσ結合の割合が85
%、π結合の割合が15%であれば、σ結合の割合が相
違するといえる。
The magnetic recording medium of the present invention has a protective layer made of a thin film containing carbon as a main component formed on a magnetic layer formed on a support by a method such as vapor deposition. In the present invention, a thin film is formed in which the ratio of σ bonds in the thin film changes in the range of 1 to 10 nm in the protective layer. Here, “the ratio of the σ bond changes in the range of 1 to 10 nm” means that an arbitrary spot A in the thin film is selected,
When another spot B that is 1 to 10 nm away from the spot in a random direction is selected, the
This means that the ratio of the coupling is different from the ratio of the σ coupling in the spot B. In this case, from spot A to 1-1
It suffices if there is a spot in which the ratio of the σ bond changes in one place within the range of 0 nm. Further, in the present invention, when the ratio of the σ bond differs by 5% or more, it is determined that “the ratio of the σ bond is different”. For example, in an arbitrary spot A, the ratio of the σ bond is 90%, and in the spot B, the ratio of the σ bond is 10%.
% And the ratio of π bonds are 15%, it can be said that the ratio of σ bonds is different.

【0009】本発明において、薄膜中のσ結合の割合
は、EELS(電子エネルギー損失スペクトル)により
測定することができる。即ち、前記のように薄膜中の任
意のスポットAを定め、EELSでスポットAにおける
σ結合とπ結合のピーク面積をそれぞれ測定し、σ結合
の割合(%)を下記の式
In the present invention, the ratio of σ bonds in the thin film can be measured by EELS (electron energy loss spectrum). That is, an arbitrary spot A in the thin film is determined as described above, the peak areas of the σ bond and the π bond at the spot A are measured by EELS, and the ratio (%) of the σ bond is calculated by the following equation.

【0010】[0010]

【数1】 (Equation 1)

【0011】により算出する。同様にスポットAから1
〜10nm離れた任意のスポットBについてもEELS
でσ結合をピーク面積を測定し、σ結合の割合を算出し
て比較すればよい。なお、σ結合の割合を測定する方向
は問わない。即ち、任意のスポットを定めてその位置か
ら1〜10nmの範囲で任意の方向の別のスポットのσ
結合の割合を測定し比較すればよい。
[0011] is calculated. Similarly from spot A to 1
EELS for any spot B 10 nm apart
The peak area of the σ bond is measured, and the ratio of the σ bond may be calculated and compared. The direction in which the ratio of the σ bond is measured does not matter. That is, an arbitrary spot is determined, and σ of another spot in an arbitrary direction in a range of 1 to 10 nm from the position is determined.
The ratio of binding may be measured and compared.

【0012】本発明において炭素を主成分とする薄膜中
のσ結合の割合の変化は、1〜10nmの範囲でσ結合
の割合が同一でなければよい。また、σ結合の割合は、
5%以上の差があれば、増加していても、減少していて
も何れでもよい。
In the present invention, the change of the ratio of the σ bond in the thin film containing carbon as a main component may be such that the ratio of the σ bond in the range of 1 to 10 nm is not the same. The ratio of σ bond is
If there is a difference of 5% or more, it may be either increased or decreased.

【0013】このσ結合とπ結合の割合は、DLC膜の
ダイヤモンド性とグラファイト性の割合を予測する指標
となる。本発明のDLC膜は、単にダイヤモンド性が高
いとのものではなく、その性質が微視的に膜中で変化し
ていることを特徴とするものである。
The ratio between the σ bond and the π bond is an index for predicting the ratio between the diamond property and the graphite property of the DLC film. The DLC film of the present invention is characterized not only in that it has high diamond properties, but that its properties are microscopically changed in the film.

【0014】また、本発明の保護層は、上記のようにσ
結合の割合が保護層中で変化するものであるが、σ結合
の割合は50〜90%の範囲で変化することが好まし
い。また、保護層全体の比率として、σ結合の割合(平
均値)も50〜90%の範囲にあることが好ましく、よ
り好ましくは55〜80%である。
Further, the protective layer of the present invention has a σ
Although the ratio of the bond changes in the protective layer, the ratio of the σ bond preferably changes in the range of 50 to 90%. Further, as a ratio of the entire protective layer, the ratio (average value) of the σ bond is preferably in the range of 50 to 90%, more preferably 55 to 80%.

【0015】また、本発明において、炭素を主成分とす
る薄膜からなる保護層の厚さは50〜200Åが好まし
い。なお、本発明の保護層は炭素を主成分とする薄膜か
らなるが、この薄膜中には、原料ガスに由来する水素が
3〜50原子%程度含まれていても良く、その他の不純
物が微量含まれていても良い。
In the present invention, the thickness of the protective layer composed of a thin film containing carbon as a main component is preferably 50 to 200 °. The protective layer of the present invention is composed of a thin film containing carbon as a main component, and this thin film may contain about 3 to 50 atomic% of hydrogen derived from a raw material gas, and may contain trace amounts of other impurities. May be included.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、まず、
蒸着等によりコバルト等の磁性金属を支持体上に付着し
て磁性層を形成し、ECRプラズマCVD装置のプラズ
マ励起室へ炭素源となる化合物、例えばメタンガス、エ
タンガス等を導入し、炭素の活性種を発生させこれらを
磁性層上に付着させることにより、本発明の保護層が形
成される。ここで、ECRプラズマCVD法は、例えば
図1に示すような装置により行われる。図1中、1は真
空容器、2は冷却キャン、3はフィルム、4はECR用
電磁石、5はプラズマ励起室、6は矩形導波管、7はマ
イクロ波電源、8は石英製窓、9はパワーモニター、1
0はアイソレーター、11はスリースタブチューナー、
12はガス流量コントローラーであり、Aはマイクロ
波、Bは原料ガスである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The magnetic recording medium of the present invention
A magnetic layer such as cobalt is deposited on a support by vapor deposition or the like to form a magnetic layer, and a compound serving as a carbon source, for example, methane gas or ethane gas, is introduced into a plasma excitation chamber of an ECR plasma CVD apparatus to activate carbon species. Are generated and adhered on the magnetic layer, whereby the protective layer of the present invention is formed. Here, the ECR plasma CVD method is performed by, for example, an apparatus as shown in FIG. In FIG. 1, 1 is a vacuum vessel, 2 is a cooling can, 3 is a film, 4 is an electromagnet for ECR, 5 is a plasma excitation chamber, 6 is a rectangular waveguide, 7 is a microwave power supply, 8 is a quartz window, 9 Is the power monitor, 1
0 is an isolator, 11 is a three-stub tuner,
Reference numeral 12 denotes a gas flow controller, where A is a microwave and B is a source gas.

【0017】図1の装置は、蒸着型磁気記録媒体の保護
層としての炭素を主成分とする薄膜を形成する装置の一
例であり、真空容器1内で冷却キャン上2を走行する磁
性層が形成されたフィルム3の磁性層上に薄膜が形成さ
れる。図1においては、ECR用電磁石(コイル)4に
よりプラズマ励起室5から真空容器1の方向に発散磁界
が形成される。プラズマ励起室5に接続された矩形導波
管6によって導かれた2.45GHzのマイクロ波(図
中A)は、石英製窓8を通してプラズマ励起室5に導入
される。プラズマ励起室5に導入された反応ガス(図中
B)はマイクロ波のエネルギーを吸収して高密度、高活
性なプラズマが発生する。コイル4により生じた発散磁
界により、プラズマ中のイオンは真空容器1方向へと引
き出され、真空容器1内のフィルム3に向けて照射さ
れ、フィルム3の磁性層表面に付着して炭素を主成分と
する薄膜が形成される。
The apparatus shown in FIG. 1 is an example of an apparatus for forming a thin film containing carbon as a main component as a protective layer of a vapor deposition type magnetic recording medium. A thin film is formed on the magnetic layer of the formed film 3. In FIG. 1, a diverging magnetic field is formed by the ECR electromagnet (coil) 4 from the plasma excitation chamber 5 toward the vacuum vessel 1. The microwave (A in the figure) of 2.45 GHz guided by the rectangular waveguide 6 connected to the plasma excitation chamber 5 is introduced into the plasma excitation chamber 5 through the quartz window 8. The reaction gas (B in the figure) introduced into the plasma excitation chamber 5 absorbs microwave energy and generates high-density, highly active plasma. Due to the divergent magnetic field generated by the coil 4, ions in the plasma are extracted in the direction of the vacuum vessel 1, irradiated toward the film 3 in the vacuum vessel 1, adhere to the surface of the magnetic layer of the film 3, and contain carbon as a main component. Is formed.

【0018】このようなECRプラズマCVD法におい
ては、形成しようとする薄膜を形成し得る元素を含む化
合物は、ガス状でプラズマ励起室に供給される。即ち、
例えば炭素を主成分とする薄膜を形成する場合、原料化
合物としては、メタンのような常温・常圧下でガス状の
化合物を用いるか、或いはベンゼン、ガソリンのような
常温・常圧下で液状の化合物を加熱によりガス化したも
のが用いられる。また、これらを混合した手法を用いる
こともできる。
In such an ECR plasma CVD method, a compound containing an element capable of forming a thin film to be formed is supplied to a plasma excitation chamber in a gaseous state. That is,
For example, when forming a thin film mainly composed of carbon, as a raw material compound, a gaseous compound such as methane at normal temperature and normal pressure is used, or a compound such as benzene and gasoline which is liquid at normal temperature and normal pressure. Is gasified by heating. Further, a method in which these are mixed can also be used.

【0019】また、支持体上に形成する磁性層は、塗布
型でも金属薄膜型でもよいが、特に金属薄膜型の場合に
効果的である。磁性層となる金属薄膜は、通常の蒸着や
スパッタ等の方法により形成される。金属薄膜型の磁性
層を形成する磁性材料としては、通常の金属薄膜型の磁
気記録媒体の製造に用いられる強磁性金属材料が挙げら
れ、例えばCo、Ni、Fe等の強磁性金属、また、F
e−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−N
i、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、
Co−La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、C
o−Pt、Ni−Cu、Mn−Bi、Mn−Sb、Mn
−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−
Co−Cr、Ni−Co−Cr等の強磁性合金が挙げら
れる。磁性層としては鉄の薄膜、コバルトの薄膜が好ま
しい。更に、鉄、コバルト、ニッケルの1種又は2種以
上を主体とする強磁性合金及びこれらの窒化物もしくは
炭化物から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
The magnetic layer formed on the support may be of a coating type or a metal thin film type, but is particularly effective in the case of a metal thin film type. The metal thin film serving as the magnetic layer is formed by a usual method such as vapor deposition or sputtering. Examples of the magnetic material for forming the metal thin film type magnetic layer include ferromagnetic metal materials used in the manufacture of ordinary metal thin film type magnetic recording media, for example, ferromagnetic metals such as Co, Ni, and Fe, F
e-Co, Fe-Ni, Co-Ni, Fe-Co-N
i, Fe-Cu, Co-Cu, Co-Au, Co-Y,
Co-La, Co-Pr, Co-Gd, Co-Sm, C
o-Pt, Ni-Cu, Mn-Bi, Mn-Sb, Mn
-Al, Fe-Cr, Co-Cr, Ni-Cr, Fe-
Ferromagnetic alloys such as Co-Cr and Ni-Co-Cr are exemplified. The magnetic layer is preferably an iron thin film or a cobalt thin film. Further, a ferromagnetic alloy mainly composed of one or more of iron, cobalt and nickel and at least one selected from nitrides or carbides thereof are preferable.

【0020】高密度記録のためには磁気記録媒体の磁性
層は、斜め蒸着により基材上に形成することが好まし
い。斜め蒸着の方法は特に限定されず、従来公知の方法
に準ずる。蒸着の際の真空度は10-4〜10-7Torr
程度である。蒸着による磁性層は単層構造でも多層構造
の何れでも良く、特に、酸化性ガスを導入して磁性層表
面に酸化物を形成することにより、耐久性の向上を図る
ことができる。金属薄膜型の磁性層の厚さは限定されな
いが、500〜5000Åが好ましく、特に800〜3
000Åが好ましい。また金属薄膜型の磁性層は一層で
も多層構造でもよい。
For high-density recording, the magnetic layer of the magnetic recording medium is preferably formed on a substrate by oblique evaporation. The method for oblique deposition is not particularly limited, and follows a conventionally known method. The degree of vacuum at the time of vapor deposition is 10 -4 to 10 -7 Torr
It is about. The magnetic layer formed by vapor deposition may have either a single layer structure or a multilayer structure. In particular, by introducing an oxidizing gas to form an oxide on the surface of the magnetic layer, the durability can be improved. Although the thickness of the metal thin-film type magnetic layer is not limited, it is preferably 500 to 5000 °, particularly 800 to 30000.
000 ° is preferred. Further, the metal thin film type magnetic layer may have a single layer structure or a multilayer structure.

【0021】更に、支持体の磁性層を形成する面と反対
の面に更にバックコート層を形成することができる。バ
ックコート層はカーボンブラック及び/又はセラミック
ス微粒子等と結合剤とを分散させた塗料を0.3〜1.
0μm程度の厚さ(乾燥後)となるように塗布して形成
してもよいし、蒸着等により金属又は半金属を支持体に
付着させて形成してもよい。バックコート層として付着
する金属としては、いろいろ考えられるが、Al、C
u、Zn、Sn、Ni、Agなど及びこれらの合金が用
いられ、Cu−Al合金が好適である。更に蒸着時に酸
化、炭化並びに窒化などをさせることにより、酸化膜、
炭化膜、窒化膜及びそれらの複合物等のようにセラミッ
クス化したものは特に好適である。また、バックコート
層を形成する半金属としては、Si、Ge、As、S
c、Sbなどが用いられ、Siが好適である。金属薄膜
型のバックコート層の厚さは、0.05〜1.0μm程
度である。
Further, a back coat layer can be further formed on the surface of the support opposite to the surface on which the magnetic layer is formed. The back coat layer is made of a coating material in which carbon black and / or ceramic fine particles and a binder are dispersed.
It may be formed by coating so as to have a thickness of about 0 μm (after drying), or may be formed by attaching a metal or semimetal to a support by vapor deposition or the like. Various metals can be attached as the back coat layer.
u, Zn, Sn, Ni, Ag and the like and alloys thereof are used, and a Cu-Al alloy is preferable. Furthermore, by performing oxidation, carbonization and nitridation at the time of vapor deposition, an oxide film,
Ceramics such as a carbonized film, a nitrided film and a composite thereof are particularly suitable. The semimetal forming the back coat layer includes Si, Ge, As, S
c, Sb, etc. are used, and Si is preferable. The thickness of the metal thin film type back coat layer is about 0.05 to 1.0 μm.

【0022】更に、本発明の磁気記録媒体においては、
保護層上に適当な潤滑剤からなる潤滑剤層を形成しても
よい。潤滑剤層は潤滑剤を適当な溶剤に溶解させたもの
を塗布して形成してもよいし、真空中で潤滑剤を噴霧す
る方法により形成してもよい。潤滑剤を噴霧により形成
する場合、超音波発振器を備えた噴霧器(以下、超音波
噴霧器という)により支持体上に形成された磁性層上に
噴霧するのが好ましい。潤滑剤としては、塗布或いは噴
霧いずれの場合も、パーフルオロポリエーテル等のフッ
素系潤滑剤が好ましく、具体的には、パーフルオロポリ
エーテルとしては、分子量2000〜5000のものが
好適であり、例えば「FOMBLINZ DIAC」
〔カルボキシル基変性、モンテカチーニ (株) 製〕、
「FOMBLIN Z DOL」〔アルコール変性、モ
ンテカチーニ (株) 製〕「デムナムSA」(ダイキン工
業製)などの商品名で市販されているものが使用でき
る。潤滑剤の噴霧量は、磁気記録媒体の用途や潤滑剤の
種類等を考慮して適宜決定すればよいが、形成された潤
滑剤層の厚さは10〜200Å程度である。
Further, in the magnetic recording medium of the present invention,
A lubricant layer made of a suitable lubricant may be formed on the protective layer. The lubricant layer may be formed by applying a solution obtained by dissolving a lubricant in an appropriate solvent, or may be formed by spraying the lubricant in a vacuum. When the lubricant is formed by spraying, it is preferable to spray the lubricant onto the magnetic layer formed on the support with a sprayer equipped with an ultrasonic oscillator (hereinafter, referred to as an ultrasonic sprayer). As the lubricant, in either case of application or spraying, a fluorine-based lubricant such as perfluoropolyether is preferable, and specifically, as the perfluoropolyether, one having a molecular weight of 2,000 to 5,000 is suitable. "FOMBLINZ DIAC"
(Carboxyl group modified, manufactured by Montecatini Co., Ltd.),
A commercially available product such as "FOMBLIN Z DOL" (alcohol-modified, manufactured by Montecatini Co., Ltd.) or "Demnum SA" (manufactured by Daikin Industries, Ltd.) can be used. The spray amount of the lubricant may be appropriately determined in consideration of the use of the magnetic recording medium, the type of the lubricant, and the like. The thickness of the formed lubricant layer is about 10 to 200 °.

【0023】本発明において、支持体の材料としては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
トのようなポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレ
ン等のポリオレフィン; セルローストリアセテート、セ
ルロースジアセテート等のセルロース誘導体;ポリカー
ボネート;ポリ塩化ビニル;ポリイミド;芳香族ポリア
ミド等のプラスチック等が使用される。支持体の厚さは
6〜50μm程度である。
In the present invention, the material of the support is
Polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; cellulose derivatives such as cellulose triacetate and cellulose diacetate; polycarbonates; polyvinyl chloride; polyimides; The thickness of the support is about 6 to 50 μm.

【0024】[0024]

【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。しかしな
がら、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
Embodiments of the present invention will be described below. However, the invention is not limited to these examples.

【0025】実施例1 (1)磁気テープの製造 <磁性層の形成>厚さ6.5μmのPETフィルムにC
oからなる厚さ1750Å〔Hc=1540(Oe)、
Bs=6100(G)〕の磁性層を形成した。ここで、
Co磁性層は、図2に示される蒸着装置により形成し
た。図2中、21はフィルム、22は巻出ロール、23
はキャンロール、24は巻取ロール、25はボンバード
処理手段、26、26’はエクスパンダーロール、27
は酸素ガス導入管、28は金属蒸気の領域を規制する遮
蔽板、29は電子銃、30はルツボである。これらは図
示しない真空容器内に配置されており、該真空容器の内
部は1×10-4〜5×10-7Torr程度の真空度に保
たれている。フィルム21は巻出ロール22からキャン
ロール23上を経て巻取ロール24へ搬送される(フィ
ルムの走行速度10m/分)。電子銃29から電子ビー
ムをルツボ30に収容されたCoに照射してCoを気化
し、キャンロール23上を搬送されるフィルム21にC
oからなる磁性層を形成した。また蒸着領域中に酸素ガ
ス導入管27から酸素ガスを導入(300SCCM)し
てCo表面を酸化した。
Example 1 (1) Production of Magnetic Tape <Formation of Magnetic Layer> A 6.5 μm thick PET film was coated with C
a thickness of 1750 ° [Hc = 1540 (Oe),
Bs = 6100 (G)]. here,
The Co magnetic layer was formed by the vapor deposition device shown in FIG. 2, 21 is a film, 22 is an unwinding roll, 23
Is a can roll, 24 is a take-up roll, 25 is a bombardment treatment means, 26 and 26 'are expander rolls, 27
Is an oxygen gas inlet tube, 28 is a shielding plate for regulating the region of metal vapor, 29 is an electron gun, and 30 is a crucible. These are arranged in a vacuum vessel (not shown), and the inside of the vacuum vessel is maintained at a degree of vacuum of about 1 × 10 −4 to 5 × 10 −7 Torr. The film 21 is conveyed from the unwind roll 22 to the take-up roll 24 via the can roll 23 (running speed of the film 10 m / min). An electron beam is irradiated from an electron gun 29 onto Co contained in the crucible 30 to vaporize Co, and C is applied to the film 21 conveyed on the can roll 23.
A magnetic layer made of o was formed. Further, oxygen gas was introduced (300 SCCM) from the oxygen gas introduction pipe 27 into the deposition region to oxidize the Co surface.

【0026】<保護層の形成>次いで、この磁性層上に
図1の装置を用いたECRプラズマCVD法により、厚
さが100Åのダイヤモンドライクカーボン(DLC)
薄膜からなる保護層を形成した。原料ガスはベンゼン
(25SCCM)、CH4 (5SCCM)、Ar(3S
CCM)の混合ガスとした。また、このときの真空度は
4×10-3Torr、ECRパワーは500Wとした。
形成された保護層のσ結合の割合をEELSにより測定
したところ、1nmのスポットを10nm動かす間にσ
結合の割合が55〜85%まで少なくとも5%の差で変
動した。また、この保護層全体のσ結合の割合(平均
値)は60%であり、膜厚は100Åであった。
<Formation of Protective Layer> Next, a diamond-like carbon (DLC) having a thickness of 100 ° was formed on the magnetic layer by ECR plasma CVD using the apparatus shown in FIG.
A protective layer composed of a thin film was formed. Source gas is benzene (25 SCCM), CH 4 (5 SCCM), Ar (3S
CCM). At this time, the degree of vacuum was 4 × 10 −3 Torr, and the ECR power was 500 W.
The ratio of the σ bond of the formed protective layer was measured by EELS.
The percentage of binding varied from 55 to 85% with a difference of at least 5%. The ratio (average value) of the σ bond in the entire protective layer was 60%, and the film thickness was 100 °.

【0027】<潤滑層及びバックコート層の形成>更
に、上記の保護層上に極性基である−OH基を持つパー
フルオロポリエーテル〔デムナムSA:ダイキン工業
製〕を厚さが20Åとなるように付着して潤滑剤層を形
成した。また、このフィルムの磁性層形成面と反対の面
に、バックコート層を形成した。バックコート層は、2
0〜30nmの直径のカーボンを含有するバインダーを
乾燥後の厚さが0.5μmとなるようにフィルムに塗布
して乾燥して形成した。上記により得られた、磁性層、
DLC保護層、フッ素系潤滑層及びバックコート層が形
成されたフィルムを8mm巾に裁断し、カセットケース
にローディングし8mmビデオテープを得た。
<Formation of Lubricating Layer and Back Coat Layer> Further, a perfluoropolyether having a -OH group as a polar group (Demnum SA: manufactured by Daikin Industries) on the protective layer is adjusted to a thickness of 20 mm. To form a lubricant layer. A back coat layer was formed on the surface of the film opposite to the surface on which the magnetic layer was formed. The back coat layer is 2
A binder containing carbon having a diameter of 0 to 30 nm was applied to a film such that the thickness after drying became 0.5 μm, and the film was dried. The magnetic layer obtained above,
The film on which the DLC protective layer, the fluorine-based lubricating layer and the back coat layer were formed was cut into a width of 8 mm, and was loaded on a cassette case to obtain an 8 mm video tape.

【0028】(2)性能評価 上記で得られた8mmビデオテープについて、耐久性、
結着性及び耐食性を以下の方法で評価した。その結果を
表1に示す。 耐久性 耐久性は、市販のHi8−VTRに上記で作製した8m
mビデオテープをセットし、10時間スチルモードで再
生した後の出力の低下(dB)で評価した。 結着性 結着性は、スクラッチ試験機〔SST−101、株式会
社島津製作所製〕を用いたスクラッチテストにより評価
した。このときの条件は、カートリッジ先端径10μ
m、フルスケール荷重196mN、負荷速度1μm/
s、振幅50μm、送り速度20μm/sであった。こ
の条件で一定の指導でスクラッチ(引っかき)した時
に、膜が破壊するまでの荷重を測定し、5回測定の平均
値を求めた。
(2) Performance Evaluation The 8 mm video tape obtained above was evaluated for durability and
The binding properties and corrosion resistance were evaluated by the following methods. Table 1 shows the results. Durability Durability was measured using a commercially available Hi8-VTR with the 8 m
m video tape was set, and the output was evaluated in terms of a decrease (dB) after being reproduced in the still mode for 10 hours. Binding Property The binding property was evaluated by a scratch test using a scratch tester (SST-101, manufactured by Shimadzu Corporation). The condition at this time is that the cartridge tip diameter is 10 μm.
m, full-scale load 196 mN, load speed 1 μm /
s, amplitude 50 μm, and feed rate 20 μm / s. Under this condition, when the film was scratched (scratched) under a constant instruction, the load until the film was broken was measured, and an average value of five measurements was obtained.

【0029】耐食性 耐食性は、上記で作製した8mmビデオテープを70
℃、85%RHの条件下で1週間放置した後の飽和磁束
密度(Bs)の劣化率で評価した。
Corrosion resistance The corrosion resistance was measured by using the above-prepared 8 mm video tape for 70 minutes.
Evaluation was made based on the deterioration rate of the saturation magnetic flux density (Bs) after being left for one week under the condition of 85 ° C. and 85% RH.

【0030】実施例2 実施例1において、保護層を成膜する際の原料ガスをガ
ソリン(30SCCM)、CH4 (6SCCM)、Ar
(5SCCM)の混合ガスとし、更にECRプラズマC
VD法を行う際の真空度を8×10-3Torr、ECR
パワーを600Wとした以外は、同様にして8mmビデ
オテープを作製し、実施例1と同様の評価を行った。。
その結果を表1に示す。なお、本実施例で成膜した保護
層は、1nmのスポットを10nm動かす間に、σ結合
の割合が50〜90%まで少なくとも5%の差で変動し
た。また、この保護層全体のσ結合の割合(平均値)は
70%であり、膜厚は150Åであった。
Example 2 In Example 1, the source gases for forming the protective layer were gasoline (30 SCCM), CH 4 (6 SCCM), Ar
(5SCCM) mixed gas and ECR plasma C
The degree of vacuum when performing the VD method is 8 × 10 −3 Torr, and the ECR is
An 8 mm video tape was produced in the same manner except that the power was changed to 600 W, and the same evaluation as in Example 1 was performed. .
Table 1 shows the results. In the protective layer formed in this example, while moving the spot of 1 nm by 10 nm, the ratio of the σ bond varied from 50 to 90% with a difference of at least 5%. The ratio (average value) of the σ bond in the entire protective layer was 70%, and the film thickness was 150 °.

【0031】実施例3 <磁性層の形成>図2の装置を用いて厚さ4.5μmの
PENフィルム上に、それぞれCoからなる二層の磁性
層〔各層の厚さ=1000Å、全磁性層のHc=160
0(Oe)、全磁性層のBs=5800(G)〕を形成
した。なお、蒸着に際しては、実施例1と同様に蒸着領
域中に酸素酸素ガスを導入(300SCCM)して各磁
性層のCo表面を酸化した。
Example 3 <Formation of Magnetic Layer> Two magnetic layers each composed of Co [thickness of each layer = 1000 °, all magnetic layers] on a 4.5 μm thick PEN film using the apparatus of FIG. Hc of 160
0 (Oe), Bs of all magnetic layers = 5800 (G)]. At the time of vapor deposition, as in Example 1, an oxygen-oxygen gas was introduced into the vapor deposition region (300 SCCM) to oxidize the Co surface of each magnetic layer.

【0032】<保護層の形成>次いで、上層の磁性層上
に図1の装置を用いたECRプラズマCVD法により、
厚さが120Åのダイヤモンドライクカーボン(DL
C)薄膜からなる保護層を形成した。原料ガスはベンゼ
ン(100SCCM)とし、このときの真空度は1×1
-4Torr、ECRパワーは600Wとした。形成さ
れた保護層のσ結合の割合をEELSにより測定したと
ころ、1nmのスポットを10nm動かす間にσ結合の
割合が55〜75%まで少なくとも5%の差で変動し
た。また、この保護層全体のσ結合の割合(平均値)は
65%であった。
<Formation of Protective Layer> Next, an ECR plasma CVD method using the apparatus shown in FIG.
120mm thick diamond-like carbon (DL
C) A protective layer composed of a thin film was formed. The source gas is benzene (100 SCCM), and the degree of vacuum at this time is 1 × 1
0 -4 Torr and ECR power were set to 600W. When the ratio of the σ bond of the formed protective layer was measured by EELS, the ratio of the σ bond fluctuated by at least 5% from 55 to 75% while moving the 1 nm spot by 10 nm. Further, the ratio (average value) of the σ bond of the entire protective layer was 65%.

【0033】<潤滑層及びバックコート層の形成>更
に、上記の保護層上に極性基である−OH基を持つパー
フルオロポリエーテル〔デムナムSA:ダイキン工業
製〕を厚さが20Åとなるように付着して潤滑剤層を形
成した。また、このフィルムの磁性層形成面と反対の面
に、バックコート層を形成した。バックコート層は、2
0〜30nmの直径のカーボンを含有するバインダーを
乾燥後の厚さが0.5μmとなるようにフィルムに塗布
して乾燥して形成した。
<Formation of Lubricating Layer and Backcoat Layer> Further, a perfluoropolyether having a -OH group which is a polar group (Demnum SA: manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was formed on the protective layer to a thickness of 20 mm. To form a lubricant layer. A back coat layer was formed on the surface of the film opposite to the surface on which the magnetic layer was formed. The back coat layer is 2
A binder containing carbon having a diameter of 0 to 30 nm was applied to a film such that the thickness after drying became 0.5 μm, and the film was dried.

【0034】上記により得られた、二層の磁性層、DL
C保護層、フッ素系潤滑層及びバックコート層が形成さ
れたフィルムを8mm巾に裁断し、カセットケースにロ
ーディングし8mmビデオテープを得た。この8mmビ
デオテープを用いて実施例1と同様の評価を行った。そ
の結果を表1に示す。
The two magnetic layers, DL, obtained as described above
The film on which the C protective layer, the fluorine-based lubricating layer and the back coat layer were formed was cut into a width of 8 mm, and was loaded into a cassette case to obtain an 8 mm video tape. The same evaluation as in Example 1 was performed using this 8 mm video tape. Table 1 shows the results.

【0035】比較例1 実施例1において、保護層を成膜する際の原料ガスをC
4(40SCCM) 、H2(10SCCM) の混合ガスと
し、更にECRプラズマCVD法を行う際の真空度を5
×10-2Torr、ECRパワーを400Wとした以外
は、同様にして8mmビデオテープを作製し、実施例1
と同様の評価を行った。その結果を表1に示す。なお、
本比較例1で成膜した保護層は、1nmのスポットを1
0nm動かす間に、σ結合の割合は41〜44%でほぼ
一定であった。また、この保護層全体のσ結合の割合は
42%であり、膜厚は100Åであった。
Comparative Example 1 In Example 1, the source gas used when forming the protective layer was C
A mixed gas of H 4 (40 SCCM) and H 2 (10 SCCM) was used, and the degree of vacuum when performing ECR plasma CVD was 5
Example 1 An 8 mm video tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that × 10 -2 Torr and ECR power were set to 400 W.
The same evaluation was performed. Table 1 shows the results. In addition,
In the protective layer formed in Comparative Example 1, a 1-nm spot
During the movement of 0 nm, the ratio of the σ bond was almost constant at 41 to 44%. The ratio of the σ bond in the entire protective layer was 42%, and the film thickness was 100 °.

【0036】比較例2 比較例1において、保護層を成膜する際の原料ガスをC
22(アセチレン)ガス(70SCCM)とし、ベース
フィルムを80℃に加熱し、更にECRプラズマCVD
法を行う際の真空度を3×10-2Torr、ECRパワ
ーを450Wとした以外は、同様にして8mmビデオテ
ープを作製し、実施例1と同様の評価を行った。その結
果を表1に示す。なお、本比較例2で成膜した保護層
は、1nmのスポットを10nm動かす間に、σ結合の
割合は68〜72%でほぼ一定であった。また、この保
護層全体のσ結合の割合(平均値)は70%であり、膜
厚は150Åであった。
Comparative Example 2 In Comparative Example 1, the source gas for forming the protective layer was C
2 H 2 (acetylene) gas (70 SCCM), base film heated to 80 ° C., and ECR plasma CVD
An 8 mm video tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the degree of vacuum at the time of performing the method was 3 × 10 −2 Torr and the ECR power was 450 W, and the same evaluation as in Example 1 was performed. Table 1 shows the results. In the protective layer formed in Comparative Example 2, the ratio of the σ bond was almost constant at 68 to 72% while moving the spot of 1 nm by 10 nm. The ratio (average value) of the σ bond in the entire protective layer was 70%, and the film thickness was 150 °.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、耐
久性、耐食性に優れ、また磁性層との結着性も良好な磁
気記録媒体が得られる。
As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a magnetic recording medium which is excellent in durability and corrosion resistance and has good binding to a magnetic layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】炭素薄膜を形成するためのECRプラズマCV
D装置の一例を示す略示図
FIG. 1 shows an ECR plasma CV for forming a carbon thin film.
Schematic diagram showing an example of the D device

【図2】磁性層を形成するための蒸着装置の一例を示す
略示図
FIG. 2 is a schematic view showing an example of a vapor deposition apparatus for forming a magnetic layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 キャンロール 3 フィルム 4 ECR用電磁石 6 矩形導波管 7 マイクロ波電源 8 石英製窓 A マイクロ波 B 原料ガス 21 フィルム 23 キャンロール 27 酸素ガス導入管 28 遮蔽板 29 電子銃 30 ルツボ 2 Can roll 3 Film 4 Electromagnet for ECR 6 Rectangular waveguide 7 Microwave power supply 8 Quartz window A Microwave B Raw material gas 21 Film 23 Can roll 27 Oxygen gas inlet tube 28 Shielding plate 29 Electron gun 30 Crucible

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水野谷 博英 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 遠藤 克巳 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hirohide Mizunoya 2606 Kabane-cho, Akaga, Tochigi Pref.Katsumi Endo 2606 Kaiga-cho, Akabane, Haga-gun, Tochigi

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体と、該支持体上に形成された磁性
層と、該磁性層上に形成された炭素を主成分とする薄膜
からなる保護層を有する磁気記録媒体において、当該保
護層中の炭素−炭素σ結合の割合が、当該保護層中の1
〜10nmの範囲で変化していることを特徴とする磁気
記録媒体。
1. A magnetic recording medium comprising a support, a magnetic layer formed on the support, and a protective layer formed on the magnetic layer and comprising a thin film containing carbon as a main component. Ratio of carbon-carbon σ bond in the protective layer is 1
A magnetic recording medium characterized by being changed in a range of from 10 nm to 10 nm.
【請求項2】 前記保護層中のσ結合の割合が50〜9
0%の範囲で変化する請求項1記載の磁気記録媒体。
2. The method according to claim 1, wherein the ratio of the σ bond in the protective layer is 50 to 9
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium varies within a range of 0%.
【請求項3】 前記保護層全体のσ結合の割合(平均
値)が50〜90%である請求項1又は2記載の磁気記
録媒体。
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the ratio (average value) of the σ bond of the entire protective layer is 50 to 90%.
【請求項4】 前記保護層がECRプラズマCVD法に
より形成されたものである請求項1〜3の何れか1項記
載の磁気記録媒体。
4. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein said protective layer is formed by ECR plasma CVD.
【請求項5】 前記保護層の厚さが50〜200Åであ
る請求項1〜4の何れか1項記載の磁気記録媒体。
5. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein said protective layer has a thickness of 50 to 200 °.
【請求項6】 前記磁性層が金属薄膜型の磁性層である
請求項1〜6の何れか1項記載の磁気記録媒体。
6. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic layer is a metal thin film type magnetic layer.
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