JPH10266956A - トラップ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 トラップと再生・洗浄処理を能率良くかつ迅
速に行うことで、真空ポンプの長寿命化、除害装置の保
護、ロスタイム削減等により運転の信頼性の向上を図
り、さらに設備や運転コストの低減を図る。 【解決手段】 気密チャンバ１０を真空ポンプ１２によ
り排気する排気経路１４に配置され、排ガス中の成分を
付着させて除去するトラップ部１８を有するトラップ装
置において、排気経路に隣接してトラップ部に付着した
付着物を再生または洗浄する再生・洗浄経路１６が設け
られ、トラップ部は、排気経路及び再生・洗浄経路にそ
れぞれ連通するトラップ室３２ａ及び再生・洗浄室３４
ａを有するケーシング２６内に収納され、ケーシングに
はトラップ部を排気経路と再生・洗浄経路に切替える切
替手段３０が設けられ、トラップ部には、ケーシングと
の間にシール部４８，５２を形成するシール板４０が一
体に設けられていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置等の真空チャンバを排気するために用いる真空排気
システムにおいて用いられるトラップ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の真空排気システムを、図８を参照
して説明する。ここにおいて、真空チャンバ１０１は、
例えばエッチング装置や化学気相成長装置（ＣＶＤ）等
の半導体製造工程に用いるプロセスチャンバであり、こ
の真空チャンバ１０１は、配管１０２を通じて真空ポン
プ１０３に接続されている。真空ポンプ１０３は、真空
チャンバ１０１からのプロセスの排ガスを大気圧まで昇
圧するためのもので、従来は油回転式ポンプが、現在は
ドライポンプが主に使用されている。

【０００３】真空チャンバ１０１が必要とする真空度が
ドライポンプ１０３の到達真空度よりも高い場合には、
ドライポンプの上流側にさらにターボ分子ポンプ等の超
高真空ポンプが配置されることもある。プロセスの排ガ
スは、プロセスの種類により毒性や爆発性があるので、
そのまま大気に放出できない。そのため、真空ポンプ１
０３の下流には排ガス処理装置１０４が配備されてい
る。大気圧まで昇圧されたプロセスの排ガスのうち、上
記のような大気に放出できないものは、ここで吸着、分
解、吸収等の処理が行われて無害なガスのみが大気に放
出される。なお、配管１０２には必要に応じて適所にバ
ルブが設けられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】以上のような従来の真
空排気システムにおいては、反応副生成物の中に昇華温
度の高い物質がある場合、そのガスを真空ポンプが排気
するので、昇圧途中でガスが固形化し、真空ポンプ内に
析出して真空ポンプの故障の原因になる欠点がある。

【０００５】例えば、アルミのエッチングを行うため
に、代表的なプロセスガスであるＢＣｌ₃，Ｃｌ₂を使用
すると、プロセスチャンバからは、ＢＣｌ₃，Ｃｌ₂ の
プロセスガスの残ガスとＡｌＣｌ₃の反応副生成物が真
空ポンプにより排気される。

【０００６】このＡｌＣｌ₃は、真空ポンプの吸気側で
は分圧が低いので析出しないが、加圧排気する途中で分
圧が上昇し、真空ポンプ内で析出して固形化し、ポンプ
内壁に付着して真空ポンプの故障の原因となる。これ
は、ＳｉＮの成膜を行うＣＶＤ装置から生じる（ＮＨ₄)
₂ＳｉＦ₆ やＮＨ₄Ｃｌ等の反応副生成物の場合も同様で
ある。

【０００７】従来、この問題に対して、 （１）真空ポンプ全体を加熱して真空ポンプ内部で固形
化物質が析出しないようにし、ガスの状態で真空ポンプ
を通過させる。 （２）真空ポンプの上流（吸気側）に水冷クーラを設け
て、析出物をトラップする。 等の対策が施されてきた。

【０００８】しかし、（１）の対策では、真空ポンプ内
での析出に対しては効果があるが、その結果として、そ
の真空ポンプの下流に配置される排ガス処理装置で固形
化物が析出し、充填層の目詰まりを生じさせる問題があ
った。また、（２）の対策は、水冷クーラが真空ポンプ
の吸気側に設けられているので、有効なトラップとして
働かないばかりでなく、トラップ後の洗浄等のためにシ
ステムを停止させなければならないので、大きなロスタ
イムができてしまう。

【０００９】本発明は上述の事情に鑑みなされたもので
あり、トラップと再生・洗浄処理を能率良くかつ迅速に
行うことで、真空ポンプの長寿命化、除害装置の保護、
ロスタイム削減等により運転の信頼性の向上を図り、さ
らに設備や運転コストの低減を図ることができるトラッ
プ装置を提供することを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、気密チャンバを真空ポンプにより排気する排気経路
に配置され、排ガス中の成分を付着させて除去するトラ
ップ部を有するトラップ装置において、前記排気経路に
隣接して前記トラップ部に付着した付着物を再生または
洗浄する再生・洗浄経路が設けられ、前記トラップ部
は、前記排気経路及び再生・洗浄経路にそれぞれ連通す
るトラップ室及び再生・洗浄室を有するケーシング内に
収納され、前記ケーシングには前記トラップ部を前記排
気経路と前記再生・洗浄経路に切替える切替手段が設け
られ、前記トラップ部には、前記ケーシングとの間にシ
ール部を形成するシール板が一体に設けられていること
を特徴とするトラップ装置である。

【００１１】これにより、長時間の稼働においてもトラ
ップの再生処理のために装置を止めたり、交換のトラッ
プを用意する必要がなく、気密チャンバにおいて安定し
た処理を行なうことができる。また、適当な切替タイミ
ング判定手段を用いて完全な自動化を図ることも容易で
ある。しかも、シール板により、排気経路に連通するト
ラップ室及び再生・洗浄経路に連通する再生・洗浄室の
シールを確実に行い、メンテナンスの手間を削減しつつ
安定なトラップ性能を発揮させることができる。

【００１２】チャンバは、例えば、半導体装置のプロセ
スチャンバであり、必要に応じて、プロセスガスを除害
化する排ガス処理装置を設ける。真空ポンプとしては、
油による逆拡散によるチャンバの汚染を防ぐために排気
経路に潤滑油を用いないドライポンプを用いるのが好ま
しい。また、トラップの構造としては、排気とトラップ
部とをできるだけ接触させるために、面積を稼ぎかつ流
路を屈曲させるような邪魔板（バッフル板）を設けると
よい。

【００１３】トラップ部の切替駆動は、エアーシリンダ
で行なうようにしてもよい。その場合は、ソレノイドバ
ルブ、スピードコントローラで構成されたエアー駆動制
御機器により制御するようにしてもよく、さらに、エア
ー駆動制御機器を、シーケンサあるいは、リレーによる
制御信号により、制御するようにしてもよい。

【００１４】トラップ部の切替を人手を介することなく
完全に自動的に行なう方法としては、例えば、トラップ
部の前後の差圧を検出するセンサを設けてこれの検出値
が所定値になったときに切替を行なう方法がある。ま
た、より実用的な方法として予め適当な切替時間を設定
しておく方法がある。排気経路と再生・洗浄経路が１対
１である場合には、トラップと再生または洗浄の時間は
同一となるので、再生または洗浄終了時間の方が短くな
るように再生または洗浄能力をトラップ能力よりも高め
ておくのが好ましい。

【００１５】請求項２に記載の発明は、前記シール部
は、トラップ部の切替方向に対して外周面側及び軸方向
面側に２つ設けられていることを特徴とする請求項１に
記載のトラップ装置である。これにより、シール板とケ
ーシングとの間をシール板の外周面と軸方向面で二重に
シールして、ここでのシールの完全性を図って、排気経
路と再生・洗浄経路の気密性を確実に維持することがで
きる。

【００１６】請求項３に記載の発明は、前記トラップ装
置は前記トラップ部を冷却して前記成分を析出させる低
温トラップであり、前記シール板にはシール部を加熱し
てシール部への析出を防止するヒータが内蔵されている
ことを特徴とする請求項１に記載のトラップ装置であ
る。これにより、トラップ部でのトラップ処理の際に、
ヒータを介してシール部を排ガス中の成分の昇華温度以
上に加熱して成分の付着を防止し、シール効果が劣化す
ることを防止する。

【００１７】トラップ部を低温トラップとして構成する
場合、外部から温度媒体をトラップ部に流通させる方法
があり、液化ガスの気化熱（例えば液体窒素）、あるい
は冷却水、冷媒などがある。また、熱電素子（ペルチェ
素子）や、パルスチューブ冷凍機などのヘリウム冷凍機
を用いて温度媒体そのものを流さずにトラップ部で低温
を発生させる方法もある。

【００１８】請求項４に記載の発明は、前記シール板
に、シール部を保護するパージガスを供給するガス流路
が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のト
ラップ装置である。これにより、トラップ部でのトラッ
プ処理の際に、シール板のシール部に近傍の排ガスをバ
ージガスで強制的に排除して、この成分がシール板のシ
ール部に付着してしまうことを防止することができる。

【００１９】請求項５に記載の発明は、前記シール部に
は、シール材と、該シール材に接する形状記憶合金と、
該形状記憶合金を加熱するヒータとが設けられているこ
とを特徴とする請求項１に記載のトラップ装置である。
これにより、シール板でシールする際には、シール材を
シール板の外周面から外方に突出させて、このシールの
完全性を図り、それ以外の時には、シール材をシール板
の内部に埋没させて該シール板をケーシングとの摩擦な
しに容易に移動させる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態について説明する。図１乃至図４に示すのは、気
密チャンバ１０を真空ポンプ１２により排気する排気経
路１４に隣接して再生・洗浄経路１６が配置され、この
排気経路１４及び再生・洗浄経路１６に交差する方向
（以下、交差方向という）に直進移動して切替可能に配
置されたトラップ部１８が設けられているものである。
真空ポンプ１２は、この例では一段であるが多段として
もよい。真空ポンプ１２の後段には排ガスを除害するた
めの排ガス処理装置２０が設けられている。再生・洗浄
経路１６には、トラップした析出物を加熱して気化さ
せ、あるいは気化したガスを搬送するための再生ガス、
またはこの析出物を洗浄排出する洗浄液が流通させら
れ、下流側には排ガス処理装置２２が設けられている。
本実施例では排ガス処理装置２０，２２は別々に設けた
が、共用してもよい。

【００２１】この切替式のトラップ装置は、排気経路１
４と再生経路１６に跨って配置された直方体状のケーシ
ング２６と、このケーシング２６を交差方向に貫通する
軸体２８と、この軸体２８を軸方向に往復移動させる切
替手段であるエアシリンダ３０を備えている。ケーシン
グ２６は、内部をトラップ室３２ａとしたトラップ容器
３２と、内部を再生・洗浄室３４ａとした再生・洗浄容
器３４とが開口部３６により連絡されて構成されてい
る。

【００２２】トラップ容器３２には、排気経路１４に接
続されてトラップ室３２ａ内にプロセスの排ガスを導入
する排ガス導入口３２ｂと、このトラップ室３２ａ内の
排ガスを排出する排ガス排出口３２ｃが設けられてい
る。また再生・洗浄容器３４には、再生・洗浄経路１６
に接続されて再生・洗浄室３４ａ内に再生ガスまたは洗
浄液を注入するガス・液注入口３４ｂと、この再生・洗
浄室３４ａ内の再生ガスまたは洗浄液を排出するガス・
液排出口３４ｃとが設けられている。

【００２３】軸体２８には、断熱性を有する素材からな
る一対のシール板４０が配置され、その間に複数のバッ
フル板４２が熱伝導を良くするために溶接等により軸体
２８に一体に取付けられ、これにより前記トラップ部１
８が構成されている。トラップ容器３２と再生・洗浄容
器３４との間の開口部３６は、バッフル板４２は通過で
きるがシール板４０は通過できないような大きさに形成
されている。更に、軸体２８のケーシング２６からの両
突出部には、ベローズ４４が設けられており、排気経路
１４及び再生・洗浄経路１６と外部環境との間の気密性
を維持している。

【００２４】トラップ容器３２および再生・洗浄容器３
４には、それぞれ軸方向端部に、シール板４０の外形と
同じ形状・寸法で内側に広がるテーパを有するシール板
収納部４６が設けられている。シール板４０の外周面は
断面が円弧状に形成され、この外周面とシール板収納部
４６の内周面との間に第１のシール部４８が設けられて
いる。このシール部４８は、シール板４０の外周端面に
設けた凹部４０ａ内にシール材としてのＯリング５０を
嵌着して構成され、このシール板４０がシール板収納部
４６内に位置した時、Ｏリング５０がシール板収納部４
６の内周面に圧接するようになっている。

【００２５】更に、シール板４０とシール板収納部４６
の軸方向面の間に第２のシール部５２が設けられてい
る。すなわち、シール板４０の端面にリング状の凹部４
０ｂを設け、この凹部４０ｂ内にＯリング５４を嵌着す
ることによって、またシール板収納部４６の面にリング
状の凹部４６ａを設け、この凹部４６ａ内にＯリング５
４を嵌着することによって、第２のシール部５２が構成
されている。

【００２６】このように、シール板４０とケーシング２
６との間をシール板４０の外周端面と側端面で二重にシ
ールすることにより、ここでのシールの完全性を図っ
て、排気経路１４と再生・洗浄経路１６の気密性を維持
している。

【００２７】軸体２８は、金属等の熱伝導性の良い材料
により形成された２重円筒体として形成され、冷媒供給
管５６から供給された冷媒が軸体２８の内側の管の内部
を通った後、両管の間の隙間を流れて冷媒排出管５８か
ら排出され、これによって、バッフル板４２が冷却され
るようになっている。ここにこの冷媒としては、例えば
液体窒素のような液体又は冷却された空気又は水等が使
用される。なお、再生の際には、この冷媒の供給を停止
するとともに、冷媒の替わりに再生用の加熱用熱媒体を
流通させることもできる。

【００２８】エアシリンダ３０の駆動用のエアー配管
は、図４に示すようになっている。すなわち、エアー源
からのエアーはレギュレータ６０で減圧され、ソレノイ
ドバルブ６２に送られ、これの電磁信号による開閉の切
替によって制御されてシリンダ３０に送られ、ピストン
が前進又は後退をする。この時のシリンダ３０の駆動速
度はスピードコントローラ６４で制御される。ソレノイ
ドバルブ６２は、例えば、シーケンサ、リレー等からの
制御信号により、この例では一定時間毎に切替動作が行
われるように制御される。

【００２９】なお、トラップ部１８のバッフル板４２等
の所定位置に温度センサ６６が、また、排気経路１４の
トラップ部１８の前後に圧力センサ６８が設けられ、こ
れにより温度や差圧を検知することができるようになっ
ている。

【００３０】次に、前記のような構成の発明の実施の形
態のトラップ装置の作用を説明する。図１に示す位置に
おいて、トラップ室３２ａ内に位置するトラップ部１８
には冷媒供給管５６から液体窒素や冷却空気又は水等の
冷媒が供給され、これは軸体２８と、これを介してバッ
フル板４２を冷却する。従って、これに接触した排ガス
中の特定の成分はここで析出して付着し、トラップされ
る。

【００３１】所定時間の経過後にエアシリンダ３０が動
作し、図２に示すように、トラップ室３２ａに有ったト
ラップ部１８が再生・洗浄室３４ａ内に位置するように
切り替えられる。するとガス・液注入口３４ｂから高温
の再生ガスあるいは洗浄液が再生・洗浄室３４ａ内に注
入され、再生ガスが注入された時には、トラップされた
析出物が再び気化させられ、気化したガスは再生・洗浄
経路１６中から排出され、排ガス処理装置２４において
除害処理を受けて放出されるか、あるいは再利用のため
に循環又は貯蔵等される。一方、洗浄液が注入された時
には、トラップされた析出物はこの洗浄液によって洗浄
されて再生・洗浄室３４ａから排出され、上記と同様に
処理される。

【００３２】ここで、シール板４０は断熱性を持ってい
て、トラップ室３２ａと再生・洗浄室３４ａが相互に断
熱されているので、熱エネルギーのロスがなく、それぞ
れトラップと再生または洗浄が効率的に行われる。ま
た、軸体２８の両突出部は、伸縮するベローズ４４によ
り気密を維持されているので、外部との間の熱移動によ
るエネルギーロスや処理の効率低下が抑えられ、安定し
たトラップと再生または洗浄処理が行われるとともに、
外部からの汚染要素が排気経路１４に侵入することも防
止される。

【００３３】なお、トラップのための冷却手段として、
熱電効果により冷却を行なう熱電素子（ペルチェ素子）
を用いた冷却器を使用しても良いことは勿論である。こ
の種の冷却器は、２枚の金属板の間に熱電素子を間隔を
置いて配置することによって構成される。

【００３４】図５は、この発明のトラップ装置の他の構
成を示すもので、ここでは、排気経路１４の両側に再生
・洗浄経路が２つ設けられている。そして、これに対応
してトラップ容器３２の両側に再生・洗浄容器３４が連
結され、トラップ室３２ａを挟んでこの両側に一対の再
生・洗浄室３４ａが配置されている。軸体２８には、３
枚のシール板４０が等間隔に配置され、その間にバッフ
ル板４２が一体に取付けられて、２つのトラップ部１８
が形成されている。

【００３５】この実施の形態では、一方のトラップ部１
８が常に中央のトラップ室３２ａ内に位置し、他方のト
ラップ部１８が一方の再生・洗浄室３４ａ内に位置す
る。すなわち、図５において、左側のトラップ部１８が
トラップ室３２ａ内に位置する時には、右側のトラップ
部１８は右側の再生・洗浄室３４ａ内に位置し、シリン
ダ３０の作動によって切り替わった時には、左側のトラ
ップ部１８が左側の再生・洗浄室３４ａ内に、右側のト
ラップ部１８はトラップ室３２ａ内にそれぞれ位置す
る。これによって、トラップ動作と再生・洗浄動作を同
時に並行して行うことができる。

【００３６】図６及び図７は、この発明のケーシング２
６とシール板４０の間のシール構造の他の実施の形態を
示すものである。図６においては、シール板４０が中空
に形成されている。すなわち、外周縁部に段部を介して
ケーシング３２側のＯリング５４との当接面７０が設け
られ、中央を断熱材７２とした一対の円板７４を所定間
隔離間させて配置し、この外周端部にリング部材７６を
配置してシール板４０を構成したものである。リング部
材７６の外周面には、ここに設けた凹部７６ａ内にＯリ
ング７８を嵌着してシール部８０が設けられており、リ
ング部材７６の内周面には、ヒータ８２が配置されてい
る。また、前記Ｏリング７８の表面側及び前記当接面７
０に開口するガスパージポート８４，８６が設けられて
いる。

【００３７】この実施の形態では、トラップ部１８での
トラップ処理の際に、ヒータ８２を介してシール部８０
及び当接面７０を排ガス中の生成物の昇華温度以上かつ
Ｏリング７８の耐熱温度未満の温度まで加熱維持する。
例えば、ＬＰ−ＣＶＤにおいて、生成物ＮＨ₄Ｃｌを対
象として、Ｏリング７８をバイトン製とすると、約１５
０℃に加熱維持する。これにより、排ガス中の生成物が
シール板４０のシール部８０及び他のシール部５２との
当接面７０に付着してここでのシール効果が劣化してし
まうことを防止することができる。

【００３８】更に、トラップ部１８でのトラップ処理の
際に、ガスパージポート８４，８６から、各機器に影響
のない、例えばＮ₂等のガスをパージさせることによ
り、シール板４０のシール部８０及び他のシール部５２
との当接面７０に近寄る排ガスをこのバージガスで強制
的に吹き飛ばして、この成分がシール板４０のシール部
８０及び他のシール部との当接面７０に付着してしまう
ことを防止することができる。

【００３９】なお、シール板４０は、断熱材７２により
バッフル板４２と断熱されているため、トラップ時の冷
却効率に影響を与えることはない。この断熱材７２とし
ては、マイカ等のセラミックス系の耐薬品材料または断
熱性に富んでいるポリイミドを薄板のステンレス等で腐
食性ガスより保護したもの等が考えられる。また、シー
ル板４０の中空部を真空断熱させることにより、断熱効
果を更に向上させることができる。

【００４０】また、同図に示すように、トラップ容器３
２の内部に、第２のシール部５２に向けて開口するガス
パージポート３２ｆを設け、このガスパージポート３２
ｆからＮ₂等のガスをパージすることにより、前述と同
様にして、この第２のシール部５２を保護することがで
きる。

【００４１】図７に示すシール板４０は、一対の円板８
８を所定間隔離間させて配置するとともに、この円板８
８の外周端部よりやや内方に位置させてリング状の形状
記憶合金９０を配置して構成したものである。形状記憶
合金９０の表面側に形成された空間９２内にＯリング９
４が嵌着されてシール部９６が形成され、更に形状記憶
合金９０の内周面側にはヒータ９８が配置されている。

【００４２】この実施の形態では、トラップ部１８を切
替移動するときは、ヒータ９８に電源を供給する。これ
による加熱によって、形状記憶合金９０が内方に引っ込
み、これによってＯリング９４が空間９２内に完全に収
納され、シール板収納部４６の周壁との摩擦が軽減され
る。これ以外の時には、ヒータ９８をオフとし、形状記
憶合金９０がＯリング９４を空間９２から外方に向けて
押し、周壁に圧接させる。これにより、Ｏリング９４を
保護しつつ、シールの完全性を図ることができる。な
お、トラップ部１８でのトラップ処理の際に、ヒータ９
８を介して加熱することによって、前述と同様にしてシ
ール部９６を保護することもできる。

【００４３】なお、これとは逆に、ヒータ９８による加
熱によって、形状記憶合金９０が外方に拡がり、これに
よって、Ｏリング９４の一部が空間９２から突出し、そ
れ以外の時には、Ｏリング９４が空間９２内に完全に収
納されるようにすることもできる。この場合には、シー
ルした時にヒータ９８により形状記憶合金９０を加熱す
る。

【００４４】これらの実施の形態では、トラップ部１８
に設けた温度センサ６６や排気経路１６に設けた圧力セ
ンサ６８の検出値をモニターすることができ、これによ
りトラップの状態を把握して、異常値が出れば警報を発
して必要な処置を採ることができる。すなわち、トラッ
プ部１８の温度が異常に上昇したら、析出物が付着して
熱負荷が増えたためと判断され、差圧が上昇した場合も
同様でありうる。これらの異常上昇の際は、例えば、設
定時間前でもトラップを切り替えるように操作する。勿
論、これらのセンサの検出値を基準として、所定の値に
なったら切替を行なうようにしてもよい。

【００４５】また、トラップ部１８はケーシング２６内
を直線的に移動して切り替えられるようになっている
が、ケーシングを環状に形成し、トラップ部をロータリ
ー運動させることによって移動させてもよい。この場合
には１つの排気経路に対してトラップ部１８を３以上設
けて２以上の再生・洗浄経路１６で同時に再生させるこ
とができる。通常、トラップの速度より再生の速度が遅
いので、この点は特に有利である。また、ロータリー式
では２つのトラップ部の場合には再生経路が１つで済む
ことになる。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、長時間の稼働においてもトラップの再生処理のため
に装置を止めたり、交換のトラップを用意する必要がな
く、気密チャンバにおいて安定した処理を行なうことが
できる。また、適当な切替タイミング判定手段を用いて
完全な自動化を図ることも容易である。しかも、シール
板により、排気経路に連通するトラップ室及び再生・洗
浄経路に連通する再生・洗浄室のシールを確実に行い、
メンテナンスの手間を削減しつつ安定なトラップ性能を
発揮させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の１つの実施の形態のトラップ装置を
示す一部切断の正面図である。

【図２】図１の実施の形態の切替後の状態を示す一部切
断の正面図である。

【図３】図１の実施の形態の全体の構成を示す模式図で
ある。

【図４】エアシリンダの駆動系を示す図である。

【図５】トラップ装置の他の実施の形態を示す一部切断
の正面図である。

【図６】シール板とケーシングのシール構造の他の実施
の形態を示す断面図である。

【図７】シール板とケーシングのシール構造の更に他の
実施の形態を示す断面図である。

【図８】従来の真空排気システムの構造を示す図であ
る。

【符号の説明】

１０ 気密チャンバ １２ 真空ポンプ １４ 排気経路 １６ 再生・洗浄経路 １８ トラップ部 ２６ ケーシング ２８ 軸体 ３０ エアシリンダ（駆動手段） ３２ トラップ容器 ３２ａ トラップ室 ３４ 再生・洗浄容器 ３４ａ 再生・洗浄室 ３６ 開口部 ４０ シール板 ４２ バッフル板 ４６ シール板収納部 ４８，５２，８０，９６ シール部 ５０，５４，７８，９４ Ｏリング（シール材） ８２，９８ ヒータ ８４，８６ ガスパージポート ９０ 形状記憶合金

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 気密チャンバを真空ポンプにより排気す
   る排気経路に配置され、排ガス中の成分を付着させて除
   去するトラップ部を有するトラップ装置において、 前記排気経路に隣接して前記トラップ部に付着した付着
   物を再生または洗浄する再生・洗浄経路が設けられ、 前記トラップ部は、前記排気経路及び再生・洗浄経路に
   それぞれ連通するトラップ室及び再生・洗浄室を有する
   ケーシング内に収納され、 前記ケーシングには前記トラップ部を前記排気経路と前
   記再生・洗浄経路に切替える切替手段が設けられ、 前記トラップ部には、前記ケーシングとの間にシール部
   を形成するシール板が一体に設けられていることを特徴
   とするトラップ装置。
2. 【請求項２】 前記シール部は、トラップ部の切替方向
   に対して外周面側及び軸方向面側に２つ設けられている
   ことを特徴とする請求項１に記載のトラップ装置。
3. 【請求項３】 前記トラップ装置は前記トラップ部を冷
   却して前記成分を析出させる低温トラップであり、前記
   シール板にはシール部を加熱してシール部への析出を防
   止するヒータが内蔵されていることを特徴とする請求項
   １に記載のトラップ装置。
4. 【請求項４】 前記シール板には、シール部を保護する
   パージガスを供給するガス流路が設けられていることを
   特徴とする請求項１に記載のトラップ装置。
5. 【請求項５】 前記シール部には、シール材と、該シー
   ル材に接する形状記憶合金と、該形状記憶合金を加熱す
   るヒータとが設けられていることを特徴とする請求項１
   に記載のトラップ装置。