JPH10256375A - Arrangement of cells for integrated circuit device - Google Patents

Arrangement of cells for integrated circuit device

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Publication number
JPH10256375A
JPH10256375A JP9053216A JP5321697A JPH10256375A JP H10256375 A JPH10256375 A JP H10256375A JP 9053216 A JP9053216 A JP 9053216A JP 5321697 A JP5321697 A JP 5321697A JP H10256375 A JPH10256375 A JP H10256375A
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JP
Japan
Prior art keywords
cell
area
line
wiring
cells
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9053216A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Takahashi
一浩 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH10256375A publication Critical patent/JPH10256375A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the concentration of wirings on a local area and make available such an arrangement of cells which allows an easy achievement of an upper limit value of a delay time after the wiring is done by distributing the cells according to the ratio of the number of virtual wiring grid lines used to the total number of the lines. SOLUTION: In order to divide a substrate 10a, a plurality of cut lines are set in the vertical and the horizontal directions. With the substrate 10a deemed as one cell arrangement region, all the cells 8a-8j in a circuit are distributed in the cell arrangement region constituted of the entire substrate 10a. At that time, care should be taken so that the number of signal lines 9a-9k which cross a cut line 13b may be minimum. At the same time, the ratio of the number of virtual wiring grid lines used to the total number of the lines should be nearly the same in all divided cell arrangement regions. Furthermore, the sum of the areas of the cells distributed to two divided cell arrangement regions should not exceed the total area of cells which can be located in the same divided cell arrangement regions. By this method, a local wiring concentration wherein wirings are gathered only in one part of the substrate 10a can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は集積回路装置を構
成するセルを配置する方法に関し、特にミニカット法
(Min-Cut 法)によるセルの配置方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for arranging cells constituting an integrated circuit device, and more particularly to a method for arranging cells by a mini-cut method.

【0002】[0002]

【従来の技術】集積回路装置のチップ上の物理的なレイ
アウトの設計は、1つのまとまった機能を表現する「セ
ル」を単位として行なわれる。このようなセルを用いた
レイアウトの設計は、さまざまなアルゴリズムに従って
自動的に行われる。このようなセルをチップ上に効率的
に配置しかつ配線するための方法の一つに、ミニカット
法(Min-Cut 法)と呼ばれる方法がある。
2. Description of the Related Art The design of a physical layout on a chip of an integrated circuit device is performed in units of "cells" which express one integrated function. The layout design using such cells is automatically performed according to various algorithms. One of the methods for efficiently arranging and wiring such cells on a chip is a method called a mini-cut method.

【0003】図10(A)および10(B)は、このミ
ニカット法によるセルのレイアウトのフローを概略的に
示す図である。以下簡単にこのミニカット法について説
明する。
FIGS. 10A and 10B schematically show a flow of cell layout by the mini-cut method. Hereinafter, the mini-cut method will be briefly described.

【0004】まず、図10(A)に示すように、セル配
置領域CAに、この集積回路装置を構成するセルCLを
配置する。次に、カットラインCTaによりこのセル配
置領域CAを2つの領域DRAおよびDRBに分割す
る。この2つの領域DRAおよびDRBにおいて、セル
密度(セル配置領域内に割付けられたセルの面積の和と
セル配置領域内に配置可能なセル面積の比)が等しくな
るように、かつこのカットラインCTaと交差する信号
線の数が最小となるようにセルCLの領域DRAおよび
DRBへの振分けが行なわれる。
First, as shown in FIG. 10A, cells CL constituting this integrated circuit device are arranged in a cell arrangement area CA. Next, the cell arrangement area CA is divided into two areas DRA and DRB by a cut line CTa. In these two regions DRA and DRB, the cell density (the ratio of the sum of the areas of the cells allocated in the cell placement region to the cell area that can be placed in the cell placement region) is equal, and the cut line CTa The cell CL is distributed to the regions DRA and DRB such that the number of signal lines intersecting with the cells CL is minimized.

【0005】このカットラインCTaによるセルCLの
振分け処理が完了すると、次に別のカットラインが選択
される。
[0005] When the cell CL allocation process based on the cut line CTa is completed, another cut line is selected.

【0006】すなわち、図10(B)に示すように、水
平方向に延びるカットラインCTbが配置され、領域D
RAが領域DRAaおよびDRAbに分割され、また領
域DRBが領域DRBaおよびDRBbに分割される。
このカットラインCTbに分割された領域それぞれにお
いて、同様に、カットラインと交差する信号線の数(カ
ット数)が最小となりかつ分割領域におけるセル密度が
等しくなるようにセルCLの振分けが実行される。この
振分けは、カットラインCTbにより分割される領域内
において行なわれる。すなわち、領域DRAにおいてサ
ブ領域DRAaおよびDRAbのセルの振分けが行なわ
れ、領域DRBにおいて、サブ領域DRBaおよびDR
Bbへのセルの振分けが行なわれる。以降このカットラ
インによる小領域の分割およびカットラインと交差する
領域におけるセルの振分けが行われる。すべてのカット
ラインについての分割およびセルの振分けが完了する
と、チップ上でのセルの配置が完了する。以下に、具体
例について説明する。
That is, as shown in FIG. 10B, a cut line CTb extending in the horizontal direction is arranged, and
RA is divided into regions DRAa and DRAb, and region DRB is divided into regions DRBa and DRBb.
Similarly, in each of the areas divided into the cut lines CTb, the cells CL are distributed so that the number of signal lines (the number of cuts) intersecting the cut lines is minimized and the cell density in the divided areas is equal. . This distribution is performed in an area divided by the cut line CTb. In other words, cells in sub-areas DRAa and DRAb are sorted in area DRA, and sub-areas DRBa and DRAb are assigned in area DRB.
Cell distribution to Bb is performed. Thereafter, the division of the small area by the cut line and the distribution of the cells in the area intersecting the cut line are performed. When the division of all the cut lines and the distribution of the cells are completed, the arrangement of the cells on the chip is completed. Hereinafter, a specific example will be described.

【0007】今、図11(A)に示すように、セル8a
〜8jを半導体チップ上に配置する場合を考える。セル
8a〜8gは、それぞれ、信号線9a〜9fにより相互
接続される。セル8gは、さらに、セル8hと信号線9
gを介して接続され、セル8jと信号線9hを介して接
続され、さらに、セル8iと信号線9iを介して接続さ
れる。セル8hおよび8jは信号線9aより相互接続さ
れ、セル8iおよび8jは信号線9kにより相互接続さ
れる。
Now, as shown in FIG. 11A, the cell 8a
To 8j on a semiconductor chip. The cells 8a to 8g are interconnected by signal lines 9a to 9f, respectively. Cell 8g further includes cell 8h and signal line 9
g, connected to the cell 8j via the signal line 9h, and further connected to the cell 8i via the signal line 9i. Cells 8h and 8j are interconnected by signal line 9a, and cells 8i and 8j are interconnected by signal line 9k.

【0008】これらのセル8a〜8jが、図11(B)
に示す基板(半導体チップ)上に配置される。ミニカッ
ト法においては、まずこの基板10aを、小領域に分割
するために、垂直方向および水平方向にカットライン1
3a〜13eが配置される。カット範囲13a〜13e
それぞれによる分割小領域においては、セルを配置する
ためのスロット11a〜11lが配置される。この図1
1(B)に示す配置においては、小領域において、1つ
のセルを配置することができるように、1つのスロット
が配置されている。このスロット11a〜11lは、そ
れぞれ対応の小領域におけるセルの配置可能な面積を表
わす。
[0008] These cells 8a to 8j are shown in FIG.
Are arranged on a substrate (semiconductor chip) shown in FIG. In the mini-cut method, first, in order to divide the substrate 10a into small regions, cut lines 1 are cut in the vertical and horizontal directions.
3a to 13e are arranged. Cut range 13a to 13e
In each divided small area, slots 11a to 11l for arranging cells are arranged. This figure 1
In the arrangement shown in FIG. 1 (B), one slot is arranged so that one cell can be arranged in a small area. These slots 11a to 11l represent areas where cells can be arranged in the corresponding small areas.

【0009】これらのスロットを相互接続するように、
配線格子線12aが配置される。この配線格子線12a
は、配線が配置可能な位置を示し、図11(B)におい
ては、説明を簡略化するためにセルの端子間接続を行な
うためのネットはすべて2端子を接続すると仮定されて
いる。配線は、この配線格子線12a上に配置される。
通常、この配線格子線は、各領域内における配置可能な
配線を表わし、複数本配置されるが、図11(B)にお
いても、図面を簡略化するために、水平方向に整列して
配置される小領域それぞれに対し、1つの配線格子線が
配置され、また垂直方向に整列して配置される配線に対
し1つの配線格子線が配置される場合が一例として示さ
れる。
To interconnect these slots,
The wiring grid lines 12a are arranged. This wiring grid line 12a
Indicates a position where a wiring can be arranged. In FIG. 11B, it is assumed that all the nets for connecting the terminals of the cell are connected to two terminals in order to simplify the description. The wiring is arranged on the wiring grid line 12a.
Normally, a plurality of wiring grid lines represent wiring that can be arranged in each region, and a plurality of wiring grid lines are arranged. However, in FIG. 11B, in order to simplify the drawing, they are arranged in a horizontal direction. One example is shown in which one wiring grid line is arranged for each of the small regions, and one wiring grid line is arranged for the wiring arranged in the vertical direction.

【0010】ミニカット法においては、この基板10a
に、セル8a〜8jを適当に配置する。次いで、カット
ライン13a〜13eから、予め定められた処理順序に
従って1つのカットラインを選択する。今、カットライ
ン13a〜13eにおいて、カットライン13b、カッ
トライン13d、カットライン13e、カットライン1
3aおよびカットライン13cの順にカットラインを選
択して処理を行なう。
In the mini-cut method, the substrate 10a
, The cells 8a to 8j are appropriately arranged. Next, one cut line is selected from the cut lines 13a to 13e in accordance with a predetermined processing order. Now, among the cut lines 13a to 13e, the cut line 13b, the cut line 13d, the cut line 13e, the cut line 1
The processing is performed by selecting a cut line in the order of 3a and the cut line 13c.

【0011】まず、この処理順序に従ってカットライン
13bが選択される。このカットライン13bにより、
スロット11a〜11fを含む小領域と、スロット11
g〜11jを含む小領域に2分割される。これらの分割
領域において、カットライン13bと交差する信号線の
数が最小となるようにかつこれらの2つの小領域におけ
るセルの密度が均等になるようにセルを割付ける。
First, the cut line 13b is selected according to the processing order. With this cut line 13b,
A small area including the slots 11a to 11f;
The image is divided into two small regions including g to 11j. In these divided regions, cells are allocated so that the number of signal lines intersecting the cut line 13b is minimized and the cell density in these two small regions is equal.

【0012】図12に示すように、カットライン13b
の左側のスロット11a〜11fを含む小領域に、セル
8a〜8eが配置され、このカットライン13bの右側
のスロット11g〜11lを含む小領域にセル8f〜8
jが配置された状態を考える。セル8a〜8jの面積が
同じであるとすると、このカットライン13bの左側の
小領域には、5個のセル8a〜8eが配置され、左側の
小領域に5個のセル8f〜8jが配置されており、セル
密度は均等となっている。また、カットライン13bと
交差する信号線は、信号線9eの1本だけである。した
がってこの図12に示す状態は、割付時の条件(i)分
割領域におけるセル密度が均等であること、および(i
i)分割線となるカットラインと交差する信号線の数が
最小となるを満たしており、このカットライン13bに
よるセルの割付は完了する。この処理が完了すると、次
のカットライン13eが選択され、このカットライン1
3eと交差する領域をそれぞれ分割して、再びセルの割
付が行なわれる。以降すべてのカットラインについて基
板10aを分割し、セルの割付を繰返す。
As shown in FIG. 12, the cut line 13b
The cells 8a to 8e are arranged in the small area including the slots 11a to 11f on the left side of the cut line 13b, and the cells 8f to 8e are arranged in the small area including the slots 11g to 11l on the right side of the cut line 13b.
Consider a state where j is arranged. Assuming that the cells 8a to 8j have the same area, five cells 8a to 8e are arranged in the small area on the left side of the cut line 13b, and five cells 8f to 8j are arranged in the small area on the left side. And the cell density is uniform. In addition, only one signal line 9e intersects with the cut line 13b. Therefore, in the state shown in FIG. 12, the conditions at the time of allocation (i) are that the cell densities in the divided areas are equal, and (i)
i) The condition that the number of signal lines intersecting the cut line serving as the dividing line is minimized is satisfied, and the cell allocation by the cut line 13b is completed. When this processing is completed, the next cut line 13e is selected, and this cut line 1e is selected.
The area intersecting 3e is divided, and the cells are allocated again. Thereafter, the substrate 10a is divided for all cut lines, and cell allocation is repeated.

【0013】これにより、各領域において、均等にセル
が割当てられる。また、カットラインにおける信号線の
数(カット数)を最小とする評価基準を利用するこにと
より信号線が局所的に集中し、その集中領域で未配線が
生じたりその配線面積が大きくなるのを防止する。
As a result, cells are equally allocated in each area. In addition, by using an evaluation criterion that minimizes the number of signal lines (the number of cuts) in the cut line, the signal lines are locally concentrated, and unwired areas occur in the concentrated area or the wiring area increases. To prevent

【0014】また、集積回路装置において、高速動作の
ためには、高速で信号を伝搬する必要がある。しかし高
集積化が進み、配線幅の微細化が進むと、この配線にお
ける信号伝搬遅延がゲート遅延よりも大きな影響を及ぼ
す。このような信号線における信号伝搬遅延をできるだ
け小さくするために、クリティカルパス(信号伝搬遅延
に対し上限値が設定される信号伝搬経路)に対し重み付
けを行ない、他の重み付けされていない信号線に比べて
カットラインと交差しにくくすることにより、その仮想
配線長(配線がその小領域を通ると予想される信号配線
であり、仮想的な配線の長さ)を短くし、信号伝搬遅延
を低減すること行なわれる。
Further, in the integrated circuit device, it is necessary to propagate signals at high speed for high-speed operation. However, as the degree of integration increases and the wiring width becomes finer, the signal propagation delay in this wiring has a greater effect than the gate delay. In order to minimize the signal propagation delay in such a signal line, a critical path (a signal propagation path in which an upper limit is set for the signal propagation delay) is weighted, and compared with other unweighted signal lines. The length of the virtual wiring (the wiring is a signal wiring whose wiring is expected to pass through the small area, and the length of the virtual wiring) is shortened by making it difficult to cross the cut line, thereby reducing the signal propagation delay. Is done.

【0015】今、図13(A)に示すように、セル8k
〜8qが配置され、セル8nとセル8oを接続する信号
線9oがクリティカルパスである場合のセル配置を考え
る。セル8kおよび8lの間の信号線9l、セル8lお
よび8mの間の信号線9mおよびセル8m、8n、8p
および8qを相互接続する信号線9nは、クリティカル
パスではなく、遅延時間の上限値が設定されていない。
Now, as shown in FIG. 13A, the cell 8k
88q are arranged, and the cell arrangement when the signal line 9o connecting the cell 8n and the cell 8o is a critical path is considered. Signal line 9l between cells 8k and 8l, signal line 9m between cells 8l and 8m and cells 8m, 8n, 8p
The signal line 9n interconnecting the signal lines 8q and 8q is not a critical path, and the upper limit of the delay time is not set.

【0016】この図13(A)に示すセル8k〜8q
を、図13(B)に示す基板10bに配置する。
The cells 8k to 8q shown in FIG.
Is arranged on the substrate 10b shown in FIG.

【0017】セルの配置に先立って、まずこの基板10
bに対し、垂直方向のカットライン13f〜13hおよ
び水平方向のカットライン13iが設定される。これら
のカットライン13f〜13iにより分割される領域そ
れぞれに対し、1つのスロット、合計8個のスロット1
1m〜11tが配置される。このスロット11m〜11
tの間の配線を行なうために、配線格子線12bが配置
される。この配線格子線12bは、水平方向にカットラ
イン13iに平行かつ隣接して2本、かつ垂直方向に整
列して配置されるスロットに対してそれぞれ2本ずつ配
置される。
Prior to arranging the cells, first, the substrate 10
For b, vertical cut lines 13f to 13h and a horizontal cut line 13i are set. For each of the areas divided by these cut lines 13f to 13i, one slot, a total of eight slots 1
1 m to 11 t are arranged. This slot 11m ~ 11
In order to perform wiring during t, a wiring grid line 12b is arranged. The two wiring grid lines 12b are arranged in parallel with and adjacent to the cut line 13i in the horizontal direction, and two in each of the slots arranged in the vertical direction.

【0018】この遅延時間を考慮する配置(タイミング
駆動配置)において、まず、基板10b上に、セル8k
〜8qが適当に配置される。次いで、遅延の上限値が指
定された信号線9oに対して重み付けを行なう。ここ
で、この遅延の上限値が指定された信号線9oに対し重
み2が設定されるものとし、残りの信号線9lnおよび
信号線8pおよび8qは重み1を有するものと仮定す
る。したがって、信号線9oがカットラインと交差した
場合の交差数(カット数)は、2となる。
In the arrangement considering the delay time (timing drive arrangement), first, the cell 8k is placed on the substrate 10b.
88q are appropriately arranged. Next, weighting is performed on the signal line 9o to which the upper limit value of the delay is specified. Here, it is assumed that a weight of 2 is set for the signal line 9o to which the upper limit value of the delay is specified, and that the remaining signal line 9ln and the signal lines 8p and 8q have a weight of 1. Therefore, the number of intersections (the number of cuts) when the signal line 9o crosses the cut line is 2.

【0019】カットライン13f〜13iは、カットラ
イン13g、カットライン13i、カットライン13f
およびカットライン13hの順に選択されて処理が行な
われるとする。
The cut lines 13f to 13i are cut line 13g, cut line 13i, and cut line 13f.
And the cut line 13h is selected in this order and the processing is performed.

【0020】まず、最初のカットライン13gが選択さ
れ、基板10bはスロット11m〜11pを含む小領域
とスロット11q〜11tを含む小領域に分割される。
これらの小領域において、カットライン13gと交差す
る信号線の重みの和が最小となるようにかつこれらの小
領域のセル密度が均等になるようにセルを割付ける。
First, the first cut line 13g is selected, and the substrate 10b is divided into a small area including the slots 11m to 11p and a small area including the slots 11q to 11t.
In these small areas, cells are allocated so that the sum of the weights of the signal lines intersecting the cut line 13g is minimized and the cell densities of these small areas are equal.

【0021】今、図14に示すように、カットライン1
3gの左側のスロット11n〜11pを含む小領域に、
セル8k〜8mが配置され、カットライン13gの右側
のスロット11q〜11tを含む小領域にセル8n〜8
qが割付けられた状態を考える。セル8k〜8qの大き
さはすべて同じであるとする。カットライン13gと交
差するのは信号線9nであり、この信号線9nの重みが
1であり、したがってカットライン13gと交差する信
号線の重みは1となる。また、この分割によって生じた
セル配置領域、すなわち小領域におけるセル密度は3/
4(=0.75)および4/4(=1)であり、この条
件下では可能な限り均等な割付が実現されている。した
がって、このカットライン13gについての処理は完了
し、次のカットライン13iを用いて領域をさらに分割
して、同様のセルの割付を行なう。
Now, as shown in FIG.
In a small area including the slots 11n to 11p on the left side of 3g,
Cells 8k to 8m are arranged, and cells 8n to 8m are arranged in a small area including slots 11q to 11t on the right side of cut line 13g.
Consider a state where q is assigned. It is assumed that all the cells 8k to 8q have the same size. The signal line 9n intersects with the cut line 13g, and the weight of the signal line 9n is 1, and therefore, the weight of the signal line intersecting with the cut line 13g is 1. In addition, the cell density in the cell arrangement region generated by this division, that is, the small region is 3 /
4 (= 0.75) and 4/4 (= 1), and as much as possible the allocation is realized under these conditions. Therefore, the processing for the cut line 13g is completed, the area is further divided using the next cut line 13i, and the same cell allocation is performed.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】図11および図12に
示すミニカット法においては、「基板(チップ)上に設
定した複数のカットラインと呼ばれる線分の中から1本
を選択し、そのカットラインによって基板上の領域を2
分割した後、(i)カットラインと交差する信号線(ネ
ット)の数ができるだけ少なくなるように、(ii)基板
上の領域をカットラインで2分割することにより生じる
2つの小領域内のセル密度が均等になるようにセルを小
領域へ振分ける」という処理を階層的に繰返してセルの
配置位置を決定している。したがって、結果的に基板上
のセル密度が均等になる。しかしながら、各小領域内を
通る配線量については何ら考慮されていないため、局所
的な配線混雑が生じる場合がある。すなわち、図12に
示すようなセルの割付を行ない、すべてのカットライン
についての処理の完了後、図15に示されるようなセル
配置が与えられたとする。この状態においては、スロッ
ト11d、11a、11b、11cおよび11fにそれ
ぞれセル8a、8b、8c、8dおよび8eが配置さ
れ、スロット11i、11l、11k、11jおよび1
1hに、それぞれ、セル8f、8i、8j、8hおよび
8gが配置される。
In the mini-cut method shown in FIGS. 11 and 12, one of a plurality of line segments called cut lines set on a substrate (chip) is selected, and the cut line is selected. 2 lines on board
After the division, (i) cells in two small regions generated by dividing the region on the substrate into two by the cut lines so that the number of signal lines (nets) intersecting the cut lines is minimized. The process of "distributing cells to small areas so that the densities become uniform" is hierarchically repeated to determine the cell arrangement position. Therefore, as a result, the cell density on the substrate becomes uniform. However, since the amount of wiring passing through each small area is not considered at all, local wiring congestion may occur. That is, it is assumed that the cells are allocated as shown in FIG. 12, and after the processing for all the cut lines is completed, the cell arrangement as shown in FIG. 15 is given. In this state, cells 8a, 8b, 8c, 8d and 8e are arranged in slots 11d, 11a, 11b, 11c and 11f, respectively, and slots 11i, 11l, 11k, 11j and 1
In 1h, cells 8f, 8i, 8j, 8h and 8g are arranged, respectively.

【0023】最終的には、セル配置が完了すると、配線
格子線12a上に配線パターン14a〜14kを配置し
てセル間の相互接続(結線)が行なわれる。しかしなが
ら、セル8gおよび8iを接続する信号線に対応する配
線パターン14hには、対応の配線格子線12aは存在
していない。したがって、この図12に示す信号線9i
に対応する配線パターン14iを配設することができな
くなる。
Eventually, when the cell arrangement is completed, wiring patterns 14a to 14k are arranged on the wiring grid lines 12a, and interconnection (connection) between cells is performed. However, the corresponding wiring grid line 12a does not exist in the wiring pattern 14h corresponding to the signal line connecting the cells 8g and 8i. Therefore, signal line 9i shown in FIG.
Cannot be provided for the wiring pattern 14i.

【0024】また、図13および図14に示す遅延時間
を考慮したミニカット法を用いてタイミング駆動配置を
行なった場合には、「遅延時間を小さくしたいネット
(信号線)に重み付けを行ない、他の重み付けされてい
ない信号線に比べてカットラインと交差しにくくしたこ
とにより、その仮想配線長を短くして配線による信号伝
搬遅延を小さくする」方法が用いられる。しかしなが
ら、この場合、遅延時間を小さくすべき信号線(重み付
信号線)の仮想配線長を短くすることだけ考慮してい
る。この図14に示すセル配置が最終的にすべてのカッ
トラインについての処理完了後実現された場合、配線結
果は、図16に示すようになる。図16に示す配置にお
いては、スロット11m、11n、11o、11r、1
1sおよび11tにそれぞれ、セル8l、8k、8m、
8n、8p、8oおよび8qが配置される。セル8lお
よび8kは配線格子線12b上の配線パターン14lに
より相互接続される。セル8lおよび8mは、配線格子
線12b上の配線パターン14mにより相互接続され
る。セル8mはセル8nおよび8pに配線パターン14
nにより相互接続され、さらに、配線パターン14nに
よりセル8qに接続される。セル8nおよび8oが配線
パターン14oにより相互接続される。
When the timing drive arrangement is performed by using the mini-cut method taking the delay time shown in FIGS. 13 and 14 into consideration, "a net (signal line) whose delay time is desired to be reduced is weighted. In order to reduce the virtual wiring length and reduce the signal propagation delay caused by the wiring, the method is used in which the signal lines are less likely to intersect with the cut lines than the unweighted signal lines. However, in this case, only reduction of the virtual wiring length of the signal line (weighted signal line) for which the delay time is to be reduced is considered. When the cell arrangement shown in FIG. 14 is finally realized after the processing for all the cut lines is completed, the wiring result is as shown in FIG. In the arrangement shown in FIG. 16, the slots 11m, 11n, 11o, 11r, 1
Cells 8l, 8k, 8m, 1s and 11t, respectively,
8n, 8p, 8o and 8q are arranged. The cells 8l and 8k are interconnected by a wiring pattern 141 on the wiring grid line 12b. The cells 8l and 8m are interconnected by a wiring pattern 14m on the wiring grid line 12b. Cell 8m has wiring patterns 14 connected to cells 8n and 8p.
n and are connected to the cell 8q by the wiring pattern 14n. Cells 8n and 8o are interconnected by a wiring pattern 14o.

【0025】一般に、信号線を形成する配線の容量が小
さいほど信号伝搬の遅延時間も小さくなるため、遅延を
小さくすべき信号線については配線の容量を低減するこ
とが望ましい。図16に示す配線結果では、遅延を小さ
くすべき信号線9oの配線パターン14oについては、
信号線9oが接続するセル8nおよび8oが隣接するス
ロット11qおよび11sに配置されており、この配線
パターン14oの配線長は短くなっており、遅延時間を
短くする上で望ましい配置が実現されている。しかしな
がら、この配線パターン14oと平行して配線パターン
14nが存在しており、この配線パターン14oと配線
パターン14nの隣接配線間の容量を増大させ、この信
号線9oの信号伝搬の遅延時間を大きくし、必要とされ
る遅延時間の上限値を満たすことができなくなるという
問題が生じる。
In general, the smaller the capacitance of the wiring forming the signal line, the shorter the signal propagation delay time. Therefore, it is desirable to reduce the capacitance of the wiring for the signal line whose delay is to be reduced. According to the wiring result shown in FIG. 16, the wiring pattern 14o of the signal line 9o whose delay should be reduced is
The cells 8n and 8o connected to the signal line 9o are arranged in the adjacent slots 11q and 11s, and the wiring length of the wiring pattern 14o is shortened, so that a desirable arrangement for shortening the delay time is realized. . However, the wiring pattern 14n exists in parallel with the wiring pattern 14o, so that the capacitance between the wirings adjacent to the wiring pattern 14o and the wiring pattern 14n is increased, and the signal propagation delay time of the signal line 9o is increased. Thus, there arises a problem that the required upper limit of the delay time cannot be satisfied.

【0026】以上のように、従来のミニカット法による
セルの配置方法に従えば、局所配線混雑が発生し、配線
できない信号線が生じる場合がある。また、一部の信号
線に対して遅延時間の上限値が指定された集積回路装置
の配置配線を行なう場合に、単に遅延時間に基づく重み
によりその仮想配線長を短くすることのみを考慮してお
り、隣接配線間容量については何ら考慮していないた
め、隣接配線間容量の増大により遅延時間が大きくな
り、指定された遅延時間の上限値を満たせないことがあ
る。
As described above, according to the conventional method of arranging cells by the mini-cut method, local wiring congestion may occur, and signal lines that cannot be wired may occur. Further, in the case of arranging and wiring an integrated circuit device in which an upper limit value of the delay time is specified for some of the signal lines, only reducing the virtual wiring length by weighting based on the delay time is considered. Since no consideration is given to the capacitance between adjacent wirings, the delay time increases due to an increase in the capacitance between adjacent wirings, and the specified upper limit value of the delay time may not be satisfied.

【0027】さらに、配線の容量のみならず、抵抗をも
考慮して遅延時間を算出する場合には、同一信号線であ
っても、各セル対間によって遅延が異なる。たとえば、
図16に示す配置において、セル8mとセル8pの間の
信号線9nによる遅延時間は、セル8mとセル8qの間
の信号線9n(配線パターン14n)における遅延時間
よりも短い。したがって、抵抗成分を考慮して遅延を算
出する場合、この遅延時間の上限値は信号線に含まれる
セル対間のセグメントに対して指定されるが、現実の方
法では、信号線全体の遅延時間の上限値を考慮している
だけであり、セル対間の遅延を考慮していないため、こ
のようなセル対間の遅延時間の上限値を考慮したセルの
配置を実現することはできない。
Further, when calculating the delay time in consideration of not only the capacitance of the wiring but also the resistance, the delay differs between each cell pair even for the same signal line. For example,
In the arrangement shown in FIG. 16, the delay time of signal line 9n between cell 8m and cell 8p is shorter than the delay time of signal line 9n (wiring pattern 14n) between cell 8m and cell 8q. Therefore, when calculating the delay in consideration of the resistance component, the upper limit value of the delay time is specified for the segment between the cell pairs included in the signal line, but in an actual method, the delay time of the entire signal line is Since only the upper limit of the cell pair is considered and the delay between the cell pairs is not taken into account, it is not possible to realize such a cell arrangement in consideration of the upper limit of the delay time between the cell pairs.

【0028】それゆえ、この発明の目的は、局所配線混
雑の発生を防止するとともに、一部の信号線またはセル
対間に対して遅延時間の上限値が指定された場合に、配
線処理後の遅延時間がその上限値を容易に達成する配置
結果を生成することのできるセル配置方法を提供するこ
とである。
Therefore, an object of the present invention is to prevent the occurrence of local wiring congestion and, when an upper limit value of the delay time is specified for some signal lines or cell pairs, after the wiring processing, It is an object of the present invention to provide a cell arrangement method capable of generating an arrangement result in which a delay time easily achieves its upper limit.

【0029】この発明の他の目的は、配線混雑度を低減
しかつ遅延時間の上限値を容易に満たすことのできるミ
ニカット法に従うセル配置方法を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a cell placement method according to the mini-cut method which can reduce the degree of wiring congestion and easily satisfy the upper limit of the delay time.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
セルを基板上に配置した後、予め基板上に設定されてい
る配線格子線上を通過する配線線分により各セルを結線
することにより構成される集積回路装置のためのセルの
配置方法であって、基板上に垂直方向および水平方向に
沿ってこの基板を分割するための各々がカットラインと
呼ばれる複数の線分を設定するカットライン設定ステッ
プと、基板全体を1つのセル配置領域とみなして、該セ
ル配置領域に集積回路装置に含まれるすべてのセルを割
付ける前処理ステップと、予め定められた処理順序に従
って複数のカットラインから1つのカットラインを選択
し、基板上のこの選択されたカットラインと交わるセル
配置領域各々を選択されたカットラインを分割線として
2つのセル配置領域に分割する領域分割ステップと、領
域分割ステップにより分割されるセル配置領域それぞれ
について、(i)選択されたカットラインと交差する信
号線の数が最小となるように、(ii)配線時に分割後の
セル配置領域内を通ると予想される配線の長さと該分割
後のセル配置領域内の配線格子線長との比が均等となる
ように、かつ(iii )各分割後のセル配置領域内に割付
けられたセルの面積の和が該分割後のセル配置領域内に
配置可能なセル面積を超えないように、分割されるセル
配置領域内のセルを分割後のセル配置領域振分けるセル
割付ステップと、領域分割ステップおよびセル割付ステ
ップを複数のカットラインすべてについて繰返し実行す
るステップを備える。
The invention according to claim 1 is
A method for arranging cells for an integrated circuit device, comprising: arranging cells on a substrate, and then connecting the cells with wiring segments that pass through wiring grid lines set in advance on the substrate. A cut line setting step for setting a plurality of line segments each called a cut line for dividing the substrate along the vertical direction and the horizontal direction on the substrate, and assuming the entire substrate as one cell arrangement region, A pre-processing step of allocating all the cells included in the integrated circuit device to the cell arrangement area; and selecting one cut line from a plurality of cut lines in accordance with a predetermined processing order; An area dividing step of dividing each of the cell arrangement areas intersecting the line into two cell arrangement areas using the selected cut line as a dividing line; For each of the divided cell arrangement areas, it is expected that (i) the wiring will pass through the divided cell arrangement area at the time of wiring so that the number of signal lines intersecting the selected cut line is minimized. (Iii) The sum of the areas of the cells allocated in each divided cell arrangement region is set such that the ratio between the length of the wiring and the length of the wiring grid line in the divided cell arrangement region becomes equal. A cell allocation step of allocating the cells in the divided cell arrangement area to the divided cell arrangement area so as not to exceed a cell area that can be arranged in the divided cell arrangement area; and a region division step and a cell allocation step. A step of repeatedly executing the processing for all of the plurality of cut lines.

【0031】請求項2に係る発明は、特定のセル間を接
続する信号線に対して遅延時間の上限値が指定され、こ
の指定された遅延時間の上限値を満たすように、複数の
セルを基板上に配置した後、予め基板上に設定されてい
る配線格子線上を通過する配線線分により各セルを結線
することにより構成される集積回路装置のためのセルの
配置方法であって、基板上に垂直方向および水平方向に
沿って、基板を分割するための各々がカットラインと呼
ばれる複数の線分を設定するカットライン設定ステップ
と、各信号線に対して、指定された遅延時間の上限値に
応じて信号線の重みを決定する重み決定ステップと、基
板全体を1つのセル配置領域とみなして、この配置領域
内に集積回路装置に含まれるすべてのセルを割付ける前
処理ステップと、予め定められた処理順序に従って複数
のカットラインから1つのカットラインを選択し、基板
上のこの選択されたカットラインと交わるセル配置領域
それぞれをこの選択されたカットラインを分割線として
2つのセル配置領域に分割する領域分割ステップと、こ
の領域分割ステップによる分割されるセル配置領域各々
について、(i)選択されたカットラインと交差する信
号線の重みの和が最小となるように、(ii)配線時に分
割後のセル配置領域内を通ると予想されるすべての信号
線について求めた、各信号線の該分割後のセル配置領域
内の配線長にその重みをかけた重み付仮想配線長の和と
対応の分割後のセル配置領域内の配線格子線の長さの比
が均等となるように、かつ(iii )各分割後のセル配置
領域内に割付けられたセルの面積の和が、その分割後の
セル配置領域内に配置可能なセル面積を超えないよう
に、各分割されるセル配置領域内のセルを分割後のセル
配置領域に振分けるセル割付ステップと、領域分割ステ
ップおよびセル割付ステップを複数のカットラインすべ
てについて繰返し実行するステップを備える。
According to a second aspect of the present invention, an upper limit value of a delay time is specified for a signal line connecting specific cells, and a plurality of cells are set so as to satisfy the specified upper limit value of the delay time. A method for arranging cells for an integrated circuit device, comprising: arranging cells on a substrate and then interconnecting the cells by wiring segments passing on wiring grid lines set in advance on the substrate, comprising: A cut line setting step for setting a plurality of line segments each called a cut line for dividing a substrate along a vertical direction and a horizontal direction, and an upper limit of a designated delay time for each signal line A weight determination step of determining the weight of the signal line according to the value; a preprocessing step of allocating all the cells included in the integrated circuit device in the placement area by regarding the entire substrate as one cell placement area; One cut line is selected from a plurality of cut lines in accordance with a predetermined processing order, and each cell arrangement area on the substrate intersecting with the selected cut line is arranged in two cells by using the selected cut line as a dividing line. (Ii) For each of the area dividing step to divide the area and the cell arrangement area divided by the area dividing step, (i) the sum of the weights of the signal lines intersecting the selected cut line is minimized. The weighted virtual wiring length obtained by multiplying the wiring length of each signal line in the divided cell placement area by the weight obtained for all signal lines expected to pass through the divided cell placement area at the time of wiring (Iii) Sum of the areas of the cells allocated in each divided cell arrangement region so that the ratio of the sum and the length of the wiring grid line in the corresponding divided cell arrangement region becomes equal. A cell allocating step of allocating cells in each divided cell placement area to a divided cell placement area so as not to exceed a cell area that can be placed in the divided cell placement area; A step of repeatedly executing a cell allocation step for all of the plurality of cut lines.

【0032】請求項3に係る発明は、特定のセル間を接
続する信号線に対して遅延時間の上限値が指定され、こ
の遅延時間の上限値が満たされるように複数のセルを基
板上に配置した後、予め基板上に設定されている配線格
子線上を通過する配線線分により各セルを結線すること
により構成される集積回路装置のためのセル配置方法で
あって、この基板上に垂直方向および水平方向に沿って
基板を分割するための各々がカットラインと呼ばれる複
数の線分を設定するカットライン設定ステップと、この
基板全体を1つのセル配置領域とみなして、セル配置領
域に集積回路装置に含まれるすべてのセルを割付ける前
処理ステップと、予め定められた処理順序に従って複数
のカットラインから1つのカットラインを選択し、基板
上のこの選択されたカットラインと交わるセル配置領域
それぞれを選択されたカットラインを分割線として2つ
のセル配置領域に分割する領域分割ステップと、この領
域分割ステップにより分割されるセル配置領域各々につ
いて、(i)選択されたカットラインと交差する信号線
の、この信号線に含まれるセル対間セグメントの仮想遅
延値とこのセル対間セグメントに指定された遅延時間の
上限値との比に基づいて算出した重みの和が最小となる
ように、(ii)配線時に分割後のセル配置領域内を通る
と予想されるすべての信号線について求めた、各信号線
の分割後セル配置領域内の仮想配線長にこの信号線の重
みを乗算した重み付仮想配線長の和と対応の分割後のセ
ル配置領域内の配線格子長との比が均等となるように、
かつ(iii )各分割後のセル配置領域内に割付けられた
セルの面積の和が該分割後のセル配置領域内に配置可能
なセル面積を超えないように、各分割される配置領域内
のセルを関連の分割後の2つのセル配置領域に振分ける
セル割付ステップと、領域分割ステップおよびセル割付
ステップを複数のカットラインすべてについて繰返し実
行するステップを備える。
According to a third aspect of the present invention, an upper limit value of a delay time is specified for a signal line connecting specific cells, and a plurality of cells are placed on a substrate such that the upper limit value of the delay time is satisfied. A cell placement method for an integrated circuit device, which is configured by connecting each cell by a wiring segment passing on a wiring grid line set in advance on a substrate after the placement, A cut line setting step for setting a plurality of line segments each called a cut line for dividing the substrate along the horizontal direction and the horizontal direction, and integrating the entire substrate into a cell arrangement region by regarding the entire substrate as one cell arrangement region A pre-processing step of allocating all cells included in the circuit device; and selecting one cut line from a plurality of cut lines according to a predetermined processing order. An area dividing step of dividing each of the cell arrangement areas intersecting the cut line into two cell arrangement areas using the selected cut line as a dividing line, and (i) selecting each of the cell arrangement areas divided by the area dividing step Sum of weights calculated based on the ratio of the virtual delay value of the segment between cell pairs included in this signal line and the upper limit value of the delay time specified for the segment between cell pairs of the signal line intersecting the cut line (Ii) The virtual wiring length in the divided cell arrangement area of each signal line, which is obtained for all the signal lines expected to pass through the divided cell arrangement area at the time of wiring, so that The ratio between the sum of the weighted virtual wiring lengths multiplied by the line weights and the wiring grid lengths in the corresponding divided cell placement regions is equalized.
And (iii) in each of the divided arrangement areas, the sum of the areas of the cells allocated in the divided cell arrangement area does not exceed the cell area that can be arranged in the divided cell arrangement area. The method includes a cell allocating step of allocating cells to two related cell arrangement areas after the division, and a step of repeatedly executing the area dividing step and the cell allocating step for all of the plurality of cut lines.

【0033】カットラインと交差する信号線の数すなわ
ちカット数を最小とするように配置することにより、仮
想配線長を短くすることができる。また、小領域を通る
と思われる仮想配線長とこの小領域内の使用可能な配線
格子線長の比が均等となるようにセルを配置することに
より、各小領域内の仮想配線の混雑度が均等となり、各
小領域内における配線格子線利用率が均等となり、応じ
てすべての小領域において配線を行なうことができる。
By arranging the signal lines so as to minimize the number of signal lines intersecting the cut lines, that is, the number of cuts, the virtual wiring length can be shortened. Also, by arranging the cells so that the ratio between the virtual wiring length that seems to pass through the small area and the usable wiring grid line length in this small area is equal, the congestion degree of the virtual wiring in each small area is increased. Are equalized, the wiring grid line utilization rate in each small area becomes equal, and accordingly, wiring can be performed in all the small areas.

【0034】信号線に対し遅延時間の上限値に従って重
み付けをし、このカットラインと交差する信号線の重み
の和が最小となるようにセルを振り分けることにより、
重みの大きな、すなわち遅延時間の上限値が設定された
信号線がカットラインと交差するのを抑制することがで
き、1つの小領域内にこの遅延時間に対する条件の厳し
い信号線を配置してその信号線の信号伝搬遅延を低減す
る。また、分割後の配置領域において、その分割後のセ
ル配置領域を通ると予想されるすべての信号線について
求めた、信号線のその分割後のセル配置領域内を仮想配
線長に重みを掛けた重み付仮想配線長の和とこの分割後
のセル配置領域内の配線格子線長との比を均等とするこ
とにより、遅延時間の条件の厳しい信号線の重み付仮想
配線長は大きくし、その周辺の配線混雑度が低減され、
遅延時間条件の厳しいクリティカルパスに隣接して信号
線が配線されるのを防止することができ、寄生容量によ
る信号伝搬遅延の増加を抑制する。
The signal lines are weighted according to the upper limit value of the delay time, and the cells are sorted so that the sum of the weights of the signal lines crossing the cut line is minimized.
A signal line having a large weight, that is, a signal line for which an upper limit value of the delay time is set can be suppressed from intersecting with the cut line, and a signal line having a severe condition for the delay time is arranged in one small region. A signal propagation delay of a signal line is reduced. In addition, in the divided placement region, the virtual wiring length was weighted in the divided cell placement region of the signal line, which was obtained for all signal lines expected to pass through the divided cell placement region. By equalizing the ratio between the sum of the weighted virtual wiring lengths and the wiring grid line length in the cell placement area after this division, the weighted virtual wiring length of the signal line with a severe delay time condition is increased. Peripheral wiring congestion is reduced,
It is possible to prevent a signal line from being routed adjacent to a critical path with severe delay time conditions, and to suppress an increase in signal propagation delay due to parasitic capacitance.

【0035】またカットラインと交差する信号線につい
て、その信号線に含まれるセル対間セグメントの仮想遅
延値とセル対間セグメントに指定された遅延時間の上限
値との比に基づいて算出した重みの和が最小となるよう
にセルを配置することにより、重みの大きなセグメント
を含む信号線がカットラインを交差するのを防止でき、
遅延時間の要求の厳しいセルを近接して配置することが
できる。また、分割後のセル配置領域内のすべての信号
線について求めた、信号線の分割後セル配置領域内の仮
想配線長とその信号線の重みを掛けた重み付仮想配線長
の和と分割後のセル配置領域内の配線格子線との比を均
等とすることにより、配線混雑度を各セル配置領域で均
等とすることができ、遅延時間条件の厳しい配線に隣接
して配線が配置されるのを抑制でき、またセル配置領域
内において、配線格子線の重み付利用値が均等となるた
め、配線不可能な信号線の発生を抑制できる。
The weight calculated for the signal line intersecting the cut line based on the ratio between the virtual delay value of the segment between cell pairs included in the signal line and the upper limit value of the delay time specified for the segment between cell pairs. By arranging the cells so that the sum of is minimized, it is possible to prevent a signal line including a segment with a large weight from intersecting the cut line,
Cells requiring strict delay time can be arranged close to each other. In addition, the sum of the virtual wiring length in the cell placement area after the division of the signal line and the weighted virtual wiring length obtained by multiplying the weight of the signal line, which is obtained for all the signal lines in the cell placement area after the division, and By equalizing the ratio with the wiring grid lines in the cell arrangement area, the degree of wiring congestion can be equalized in each cell arrangement area, and the wiring is arranged adjacent to the wiring with severe delay time conditions Can be suppressed, and the weighted use values of the wiring grid lines become uniform in the cell arrangement region, so that the occurrence of unwiringable signal lines can be suppressed.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

[実施の形態1]図1は、この発明の実施の形態1に従
う集積回路装置のためのセル配置方法を示すフロー図で
ある。以下、この図1を参照して、この発明の実施の形
態1のセル配置方法について説明する。
[First Embodiment] FIG. 1 is a flowchart showing a cell arrangement method for an integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention. Hereinafter, the cell arrangement method according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0037】今、図11(A)に示すように、セル8a
〜8jを、図11(B)に示す基板10aに配置する場
合を考える。信号線9a〜9fがセル8a〜8gを順次
直列形態で接続している。セル8gには、セル8hに接
続する信号線9g、セル8iに接続する信号線9iおよ
びセル8jに接続する9hが接続される。セル8hおよ
びセル8jは信号線9jにより接続され、セル8iおよ
びセル8jは信号線9kにより接続される。
Now, as shown in FIG. 11A, the cell 8a
To 8j are arranged on the substrate 10a shown in FIG. Signal lines 9a to 9f sequentially connect the cells 8a to 8g in series. A signal line 9g connected to the cell 8h, a signal line 9i connected to the cell 8i, and 9h connected to the cell 8j are connected to the cell 8g. Cell 8h and cell 8j are connected by signal line 9j, and cell 8i and cell 8j are connected by signal line 9k.

【0038】まず、図11(B)に示すように、基板1
0aを分割するための垂直方向および水平方向に複数の
カットライン13a〜13eを設定する(ステップS
1)。垂直方向にカットライン13a〜13cが定間隔
で配置され、水平方向にカットライン13dおよび13
eが所定間隔で配置される。このカットラインによる分
割時、カットラインで分割される最小分割領域には、1
つのスロットが配置されるようにカットライン13a〜
13eが配置される。この基板10a上に配置されるス
ロット11a〜11lは、各領域内における配置可能な
セル面積を示す。ここでまた、複数のカットライン13
a〜13eに対し、その処理順序すなわち選択順序につ
いては、カットライン13b、カットライン13d、カ
ットライン13e、カットライン13aおよびカットラ
イン13cの順に処理が行なわれるものと設定する。
First, as shown in FIG.
A plurality of cut lines 13a to 13e are set in a vertical direction and a horizontal direction for dividing 0a (step S).
1). Cut lines 13a to 13c are arranged at regular intervals in the vertical direction, and cut lines 13d and 13c are arranged in the horizontal direction.
e are arranged at predetermined intervals. At the time of division by this cut line, the minimum divided area divided by the cut line is 1
Cut line 13a so that three slots are arranged
13e is arranged. Slots 11a to 11l arranged on the substrate 10a indicate the cell area that can be arranged in each region. Here again, a plurality of cut lines 13
Regarding the processing order, that is, the selection order for a to 13e, it is set that the processing is performed in the order of the cut line 13b, the cut line 13d, the cut line 13e, the cut line 13a, and the cut line 13c.

【0039】基板10aを1つのセル配置領域とみな
し、この基板10a全体で構成されるセル配置領域に回
路中のすべてのセル8a〜8jを割付ける(ステップS
2)。次いで、処理すべきカットラインを示すカットラ
イン番号iを1に設定し、選択すべきカットラインを指
定する(ステップS3)。カットラインの処理順序で、
最初に処理されるカットラインは、カットライン13b
である。したがって、この1番目のカットライン13b
により、このカットライン13bと交わるセル配置領域
をカットライン13bを分割線として2つのセル配置領
域に分割する(ステップS4)。このセル配置領域の分
割により、カットライン13bの左側のスロット11a
〜11fを含むセル配置領域およびカットライン13b
の図の右側のスロット11g〜11lを含む小領域にセ
ル配置領域が分割される。
The substrate 10a is regarded as one cell arrangement region, and all the cells 8a to 8j in the circuit are allocated to the cell arrangement region constituted by the entire substrate 10a (step S).
2). Next, a cut line number i indicating a cut line to be processed is set to 1 and a cut line to be selected is specified (step S3). In the processing order of the cut line,
The cut line processed first is cut line 13b
It is. Therefore, the first cut line 13b
Thereby, the cell arrangement region intersecting with the cut line 13b is divided into two cell arrangement regions using the cut line 13b as a dividing line (step S4). The division of the cell arrangement region allows the slot 11a on the left side of the cut line 13b to be divided.
Cell arrangement region including cut lines 13b to 11f
The cell arrangement area is divided into small areas including the slots 11g to 11l on the right side of FIG.

【0040】次いで、基板10a上の全体にわたって割
付けられたセルを小領域に以下の条件を満足するように
割付ける。この条件は、(i)カットライン13bと交
差する信号線の数が最小となる、(ii)分割後のそれぞ
れのセル配置領域内の仮想配線格子線使用率(=配線時
にそのセル配置領域内を通ると予想される配線の長さ/
該セル配置領域内の配線格子線長)ができるだけ均等と
なる、および(iii )2つの分割セル配置領域に割付け
られたセルの面積の和が対応の分割の分割後のセル配置
領域内に配置可能なセル面積を超えない、である。
Next, cells allocated over the entire substrate 10a are allocated to small areas so as to satisfy the following conditions. This condition is as follows: (i) the number of signal lines intersecting the cut line 13b is minimized; and (ii) the virtual wiring grid line usage rate in each cell placement area after division (= in the cell placement area at the time of wiring). Length of wiring expected to pass through /
And (iii) the sum of the areas of the cells allocated to the two divided cell arrangement areas is arranged in the cell arrangement area after the corresponding division. Does not exceed the possible cell area.

【0041】仮想配線長は、分割セル配置領域内に含ま
れる信号線の接続点数に比例し、接続点1つ当たり、L
だけ増加するものとする。すなわち、対象となるセル配
置領域内におけるセルの接続点がNあれば、そのセル配
置領域における仮想配線長は、N・Lとなる。
The virtual wiring length is proportional to the number of connection points of the signal lines included in the divided cell arrangement region.
Only increase. That is, if there are N connection points of cells in the target cell placement area, the virtual wiring length in that cell placement area is N · L.

【0042】今、図2(A)に示すようなセルの割付が
実現された場合を考える。すなわち、図2(A)におい
て、カットライン13bの左側のスロット13a〜13
fを含むセル配置領域において、セル8a〜8fが配置
され、カットライン13bの右側のスロット11g〜1
1lを含む分割セル配置領域においては、セル8g〜8
jが配置される。このカットライン13bの左側の分割
セル配置領域において、セル8a〜8fの接続点の数は
11で、仮想配線長は11Lである。また、カットライ
ン13bの右側の分割セル配置領域におけるセル8g〜
8jの接続点の数も、11であり、仮想配線長は、11
Lとなる。カットライン13bは基板10aを水平方向
に関して2分割しており、このカットライン13bの右
側の分割セル配置領域およびカットライン13bの分割
セル配置領域は同じ大きさを有し、したがってこれらの
分割セル配置領域における配線格子線12aの長さは同
じである。したがって、これらの2つの分割セル配置領
域内における仮想配線格子線使用率は均等となり、上述
の条件(ii)が満たされる。
Now, consider the case where the cell allocation as shown in FIG. 2A is realized. That is, in FIG. 2A, the slots 13a to 13
In the cell arrangement region including the cell f, the cells 8a to 8f are arranged, and the slots 11g to 1g on the right side of the cut line 13b are arranged.
In the divided cell arrangement region including 1l, cells 8g to 8g
j is arranged. In the divided cell arrangement area on the left side of the cut line 13b, the number of connection points of the cells 8a to 8f is 11, and the virtual wiring length is 11L. Also, cells 8g to 8g in the divided cell arrangement area on the right side of the cut line 13b
The number of connection points of 8j is also 11, and the virtual wiring length is 11
L. The cut line 13b divides the substrate 10a in two in the horizontal direction, and the divided cell arrangement region on the right side of the cut line 13b and the divided cell arrangement region of the cut line 13b have the same size. The length of the wiring grid line 12a in the region is the same. Therefore, the usage rates of the virtual wiring grid lines in these two divided cell arrangement areas become equal, and the above-mentioned condition (ii) is satisfied.

【0043】また、カットライン13bと交差する信号
線は、1つの信号線9fであり、上述の条件(i)を満
たす。さらに、カットライン13bの左側の分割セル配
置領域において配置されるセルの数は6であり、この分
割セル配置領域に含まれるスロットの数は6であり、こ
の左側の分割セル配置領域におけるセルの面積の和は、
この配置可能なセル面積を超えていない。同様、カット
ライン13bの右側の分割セル配置領域においても、ス
ロットの数は6であり、割付けられたセルの数は4であ
り、同様、割付けられたセル面積の和は、配置可能なセ
ル面積よりも小さい。したがって上述の条件(iii )が
満たされている。このセル割付ステップにおいては、仮
想配線格子線使用率の高い分割セル配線領域から仮想配
線格子線使用率の低い分割配線領域へのセルの移動が行
なわれる。これは、仮想配線格子線使用率が高い場合、
分割セル配置領域において、配線格子線が多く使用さ
れ、配線数が多いことを示しているからである。セルを
1つずつ移動させて上述の条件(i)〜(iii )を照合
し、これらの条件(i)〜(iii )がすべて満たされる
と、この1番目のカットライン13bについての処理が
終了する。
The signal line crossing the cut line 13b is one signal line 9f, which satisfies the above condition (i). Further, the number of cells arranged in the divided cell arrangement region on the left side of the cut line 13b is 6, the number of slots included in the divided cell arrangement region is 6, and the number of cells in the divided cell arrangement region on the left side is six. The sum of the areas is
It does not exceed the cell area that can be arranged. Similarly, also in the divided cell arrangement region on the right side of the cut line 13b, the number of slots is 6, the number of allocated cells is 4, and the sum of the allocated cell areas is the cell area that can be arranged. Less than. Therefore, the above condition (iii) is satisfied. In this cell allocating step, cells are moved from a divided cell wiring area having a high virtual wiring grid line usage rate to a divided wiring area having a low virtual wiring grid line usage rate. This is because if the virtual wiring grid line usage rate is high,
This is because a large number of wiring grid lines are used in the divided cell arrangement region, indicating that the number of wirings is large. The cells are moved one by one, and the above-mentioned conditions (i) to (iii) are collated. When all of the conditions (i) to (iii) are satisfied, the processing for the first cut line 13b ends. I do.

【0044】次いで、カットライン番号iが最大値であ
るか否かの判定が行なわれて、すべてのカットラインに
よる処理が終了したか否かが判定される(ステップS
6)。
Next, it is determined whether or not the cut line number i is the maximum value, and it is determined whether or not the processing for all the cut lines has been completed (step S).
6).

【0045】今、i=1であり、処理順序における最初
のカットライン13bについての処理が行なわれたた
め、ステップS7へ進み、カットライン番号iを1つ増
分し、i=2としてステップS4に戻る。ステップS4
においては、カットライン番号i=2に従って次のカッ
トライン13dを設定する。
Now, since i = 1 and the processing for the first cut line 13b in the processing order has been performed, the flow advances to step S7, the cut line number i is incremented by 1, and the flow returns to step S4 with i = 2. . Step S4
In, the next cut line 13d is set according to the cut line number i = 2.

【0046】図2(B)に示すように、このカットライ
ン13dはカットライン13bにより分割されたセル配
置領域SLおよびSRと交差する。したがってこれらの
セル配置領域SLおよびSRが再びカットライン13d
によりカットライン13dを分割線として分割される。
セル配置領域SLが分割セル配置領域SLuおよびSL
dに分割され、セル配置領域SRが、分割セル配置領域
SRuおよびSRdに分割される。分割セル配置領域S
RuおよびSRdにおいて再びセルの割付が行なわれ、
また分割セル配置領域SRuおよびSRdにおいてセル
の割付が行なわれる。
As shown in FIG. 2B, the cut line 13d intersects the cell arrangement regions SL and SR divided by the cut line 13b. Therefore, these cell arrangement regions SL and SR are again cut line 13d.
Divides the cut line 13d as a dividing line.
The cell arrangement area SL is divided into divided cell arrangement areas SLu and SL
d, and the cell placement region SR is divided into divided cell placement regions SRu and SRd. Divided cell placement area S
Cell allocation is performed again in Ru and SRd,
Cells are allocated in divided cell placement regions SRu and SRd.

【0047】この図2(B)に示す状態において、セル
配置領域SLにおいて、カットライン13dと交差する
信号線は信号線9bであり1つである。分割セル配置領
域SLuにおける接続点数は、3であり、仮想配線長
は、3Lとなる。一方、分割セル配置領域SLdにおい
ては、セルの接続点数は7であり、仮想配線長は7Lと
なる。配線格子線は、分割セル配置領域SLuは、分割
セル配置領域SLdの3/7となり、したがって仮想配
線格子線使用率は等しくなる。セル配置領域SRにおい
ては、カットライン13dを交差する信号線は、信号線
9gおよび9jの2本である。このセル配置領域SRに
おいて、セルは少なくとも2本の信号線を接続してお
り、したがって、カットライン13dと交差する信号線
の数(カット数)は最小である。分割セル配置領域SR
uの仮想配線長は、接続点数が2であり、2Lとなる。
一方、分割セル配置領域SRdにおいては、仮想配線長
は9Lとなる。この場合、配線格子線について、分割セ
ル配置領域SRdは、分割セル配置領域SRuの7/3
倍であり、それらの分割セル配置領域SRuおよびSR
dの仮想配線格子線使用率は等しくはならない。しかし
ながら、できる限り均等となっている。たとえば、仮想
配線格子線使用率の高い分割セル配置領域SRdからセ
ル8iを分割セル配置領域SRuへ割付けた場合、カッ
ト数が増加する。したがって、上述の条件(i)〜(ii
i )もこの分割セル配置領域SRuおよびSRdにおい
て満たされたと判定される。
In the state shown in FIG. 2B, in the cell arrangement region SL, there is only one signal line 9b intersecting with the cut line 13d. The number of connection points in the divided cell arrangement region SLu is 3, and the virtual wiring length is 3L. On the other hand, in the divided cell arrangement region SLd, the number of cell connection points is 7, and the virtual wiring length is 7L. Regarding the wiring grid lines, the divided cell placement area SLu is / of the divided cell placement area SLd, and therefore the virtual wiring grid line usage rate is equal. In the cell arrangement region SR, two signal lines intersecting the cut line 13d are the signal lines 9g and 9j. In the cell arrangement region SR, the cell connects at least two signal lines, and therefore, the number of signal lines (the number of cuts) intersecting with the cut line 13d is the minimum. Split cell placement area SR
The virtual wiring length of u is 2L because the number of connection points is two.
On the other hand, in the divided cell placement region SRd, the virtual wiring length is 9L. In this case, for the wiring grid lines, the divided cell placement region SRd is 7/3 of the divided cell placement region SRu.
And divided cell placement regions SRu and SR
The virtual wiring grid line usage rate of d is not equal. However, they are as uniform as possible. For example, when the cell 8i is allocated to the divided cell placement area SRu from the divided cell placement area SRd having a high virtual wiring grid line usage rate, the number of cuts increases. Therefore, the above conditions (i) to (ii)
i) is also determined to be satisfied in the divided cell placement regions SRu and SRd.

【0048】この後、図1に示すステップS6へ進み、
すべてのカットラインの処理が終了したか否かの判定が
行なわれ、この判定結果に基づいて、残りのカットライ
ン13a,13cおよび13eについての処理が順次実
行される。最終のカットライン13cについての処理が
終了したときに、図3に示すように、セル8a〜8jが
それぞれ、スロット11d、11a、11b,11c、
11f、11e、11h、11j、11kおよび11l
に配置される。
Thereafter, the process proceeds to step S6 shown in FIG.
It is determined whether or not the processing for all the cut lines has been completed, and the processing for the remaining cut lines 13a, 13c, and 13e is sequentially performed based on the determination result. When the process for the final cut line 13c is completed, as shown in FIG. 3, the cells 8a to 8j are stored in the slots 11d, 11a, 11b, 11c,
11f, 11e, 11h, 11j, 11k and 11l
Placed in

【0049】このセル配置後、配線格子線12b上に配
線パターン14a〜14kを配置し、セル間接続を実現
する。この図3に明らかに示されるように、セル8a〜
8jは、それぞれすべての信号線に対応して配線格子線
上に配線パターン14a〜14kを配置することがで
き、すべての信号線の配線が可能となる。
After arranging the cells, the wiring patterns 14a to 14k are arranged on the wiring grid lines 12b to realize connection between cells. As is clearly shown in FIG.
8j, the wiring patterns 14a to 14k can be arranged on the wiring grid lines corresponding to all the signal lines, respectively, and the wiring of all the signal lines becomes possible.

【0050】すなわち、このカット数を最小とすること
により仮想配線長を短くし、次いで仮想配線格子線使用
率を均等とするようにセルを配置することにより、各セ
ル配置領域における配線の混雑度が同じとなり、基板1
0aの一部の領域に多くの信号線が集中するというのが
防止されて、確実に、このセル配置後に実行する配線処
理においてすべての信号線を配線することができる。
That is, the virtual wiring length is shortened by minimizing the number of cuts, and then the cells are arranged so as to make the virtual wiring grid line usage rate uniform, thereby achieving the congestion degree of the wiring in each cell arrangement area. Becomes the same, and the substrate 1
It is prevented that many signal lines are concentrated on a part of the area 0a, and all the signal lines can be surely wired in the wiring process performed after the cell arrangement.

【0051】[変更例]図4は、この発明の実施の形態
1の変更例のセル配置方法のフローを示す図である。図
4においては、図1に示すステップS4およびS5に対
応する処理ステップを示す。以下、この図4を参照して
この発明の実施の形態1の変更例のセル配置方法につい
て説明する。
[Modification] FIG. 4 is a diagram showing a flow of a cell arrangement method according to a modification of the first embodiment of the present invention. FIG. 4 shows processing steps corresponding to steps S4 and S5 shown in FIG. Hereinafter, a cell arrangement method according to a modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0052】まず、カットラインが選択されると、その
選択されたカットラインに従って、セル配置領域を2つ
の領域RAおよびRBに分割する(ステップS10)。
First, when a cut line is selected, the cell arrangement area is divided into two areas RA and RB according to the selected cut line (step S10).

【0053】次に、この分割された2つのセル配置領域
RAおよびRBに、セルの集合CA0およびCB0を割
付け、これらの集合CA0およびCB0に対しすべて移
動可能である印を付ける(ステップS11)。このステ
ップS11において、分割されたセル配置領域に応じ
て、各セルに対し、対応の分割セル配置領域を示す印お
よび移動可能の印が付される。
Next, cell sets CA0 and CB0 are allocated to the two divided cell placement areas RA and RB, and a mark indicating that all of these sets CA0 and CB0 are movable is marked (step S11). In step S11, a mark indicating the corresponding divided cell arrangement area and a movable mark are attached to each cell according to the divided cell arrangement area.

【0054】次いで、各領域RAおよびRBにおいて最
大格子線使用率uの初期値u0を算出する。この格子線
使用率は、先の実施の形態においては、仮想配線長と配
線格子線長の比で表わしているが、この変更例において
は、配線格子線使用率を次式で示す: 配線格子線使用率=(領域内の仮想配線長+領域内セル
の内部パターンが塞ぐ配線格子線長)/領域内の配線格
子線長 セル内パターンは、配線障害物となり、この領域に、セ
ルを相互接続するための配線を配置することはできな
い。この配線障害物を併せて考慮することにより、配線
混雑度の低減をさらに図る。
Next, an initial value u0 of the maximum grid line utilization rate u in each of the areas RA and RB is calculated. The grid line usage rate is expressed by the ratio between the virtual wiring length and the wiring grid line length in the above embodiment, but in this modified example, the wiring grid line usage rate is represented by the following equation: Line usage rate = (virtual wiring length in the area + wiring grid line length covered by the internal pattern of the cell in the area) / wiring grid line length in the area The pattern in the cell becomes a wiring obstacle, and the cells are interconnected in this area. Wiring for connection cannot be arranged. By taking this wiring obstacle into consideration, the degree of wiring congestion is further reduced.

【0055】次いで、領域RAおよびRBにおけるセル
密度Dを算出する(ステップS13)。このセル密度は
先の実施の形態と異なり、ここでは、単に、領域内セル
が占めるスロット数と領域内のスロット数の比で求め
る。
Next, the cell density D in the areas RA and RB is calculated (step S13). This cell density is different from the previous embodiment, and is determined here simply by the ratio of the number of slots occupied by cells in the area to the number of slots in the area.

【0056】この算出されたセル密度Dが上限値Dul
mtを超えるか否かの判定を行なう(ステップS1
4)。このセル密度Dが上限値Dulmtを超えると
き、セル密度の高い領域から移動可能であるセルのうち
ゲインが最大となるセルを選択する。ここで、ゲイン
は、カット数の減少量で与えられる(ステップS1
5)。一方、セル密度Dが上限値Dulmt以下の場合
には、格子線使用率の高い領域に含まれる移動可能の印
の付けられたセルのうちゲインが最大となるセルを選択
する(ステップS16)。
The calculated cell density D is equal to the upper limit value Dul.
mt is determined (step S1).
4). When the cell density D exceeds the upper limit value Dulmt, a cell having the largest gain is selected from cells that can be moved from a region having a high cell density. Here, the gain is given by the amount of decrease in the number of cuts (step S1).
5). On the other hand, when the cell density D is equal to or less than the upper limit value Dulmt, the cell having the maximum gain is selected from the cells marked as movable that are included in the area where the grid line usage rate is high (step S16).

【0057】ステップS15およびS16において、該
当セルが存在するか否かの判定(ステップS17)の結
果に従って、該当セルが存在する場合、選択セルを反対
側領域へ移動し、この移動したセルに対し移動不可の印
を付ける。次いで、このセル移動後、各領域における最
大格子線使用率uを算出し、またセルの移動に応じて、
領域内の仮想配線長およびセル内パターンが塞ぐ配線格
子線長の値を更新し、その更新されたパラメータに従っ
て格子線使用率uを算出し、ステップS13に戻る。こ
こで、最大格子線使用率uは、領域RAおよびRBにお
ける配線格子線使用率のうち高い方の使用率を示す。
In steps S15 and S16, if the corresponding cell exists according to the result of the determination as to whether or not the corresponding cell exists (step S17), the selected cell is moved to the opposite area, and Mark as immovable. Next, after this cell movement, the maximum grid line utilization rate u in each area is calculated, and according to the cell movement,
The value of the virtual wiring length in the region and the value of the wiring grid line length closed by the pattern in the cell are updated, the grid line usage rate u is calculated according to the updated parameters, and the process returns to step S13. Here, the maximum grid line usage rate u indicates the higher one of the wiring grid line usage rates in the areas RA and RB.

【0058】一方、該当セルが存在しない場合には、ス
テップS18において求めた最大格子線使用率uの最小
値min uが初期値u0よりも小さいか否かの判定を
行なう(ステップS19)。最大格子線使用率uの最小
値min uが初期値u0よりも小さい場合には、この
最小値min uを与えるセルの配置を初期セル割付と
してステップS11へ戻る(ステップS20)。ステッ
プS18からステップ13へ戻るループを形成すること
により、各セル配置領域におけるセル密度が均等となる
ようにかつ格子線使用率が均等となるようなセル割付が
実現される。ステップS20からステップS11への復
帰は、格子線使用率をできるだけ小さくする(配線混雑
度を低減する)セルの割付を実現し、またセル割付処理
の終了を検出する。すなわち、ステップS19におい
て、格子線使用率uの最小値minuが初期値u0(先
の処理において求められた最大格子線使用率より更新さ
れる(ステップS12参照))と等しいかそれより大き
くなった場合には、セル密度および配線使用率が最小と
なるセル割付が与えられたと判定され、このカットライ
ンについての処理が終了する。
On the other hand, if the corresponding cell does not exist, it is determined whether or not the minimum value min u of the maximum grid line utilization rate u obtained in step S18 is smaller than the initial value u0 (step S19). If the minimum value min u of the maximum grid line usage rate u is smaller than the initial value u0, the process returns to step S11 with the cell arrangement giving the minimum value min u as the initial cell allocation (step S20). By forming a loop returning from step S18 to step 13, cell allocation is realized such that the cell density in each cell arrangement region becomes uniform and the grid line usage rate becomes uniform. The return from the step S20 to the step S11 realizes the cell allocation that reduces the grid line utilization rate as much as possible (reduces the degree of wiring congestion), and detects the end of the cell allocation processing. That is, in step S19, the minimum value minu of the grid line usage rate u is equal to or greater than the initial value u0 (updated from the maximum grid line usage rate obtained in the previous processing (see step S12)). In this case, it is determined that the cell allocation that minimizes the cell density and the wiring usage rate has been given, and the processing for this cut line ends.

【0059】この図4に示すフローにおいて、ネット
(信号線)の仮想配線長として、先の実施の形態と異な
り、セルが割付けられた領域の中心にあるものとして、
この信号線につながるセルを含む最小矩形を求め、その
半周囲長とファンアウト数とをもとに算出する(その半
周囲長とファンアウト数との積でたとえば与える)で定
義してもよい。また、セル配置領域内の仮想配線長は、
単に、ネットの仮想配線長の和でなく、各ネットの{仮
想配線長×(最小矩形とセル配置領域の重なる部分の面
積/最小矩形領域の面積)}の和で定義してもよい。
In the flow shown in FIG. 4, it is assumed that the virtual wiring length of the net (signal line) is different from that of the previous embodiment and is located at the center of the area where the cell is allocated.
The minimum rectangle including the cell connected to the signal line may be obtained, and the rectangle may be defined based on the half-perimeter and the number of fan-outs (for example, given by the product of the half-perimeter and the number of fan-outs). . The virtual wiring length in the cell placement area is
Instead of simply defining the sum of the virtual wiring lengths of the nets, the sum may be defined by the sum of {virtual wiring length × (area of overlapping part of minimum rectangle and cell placement area / area of minimum rectangular area)} of each net.

【0060】また、領域内の配線格子線長として、この
セル配置領域内の使用可能な配線格子線長すなわち、設
定された配線格子線長からセルにより塞がれた格子線長
の差で表わしてもよい。
The wiring grid line length in the area is expressed by the usable wiring grid line length in the cell arrangement area, that is, the difference between the set wiring grid line length and the grid line length closed by the cell. You may.

【0061】この図4に示すセル配置方法に従えば、常
に格子線使用率が高い領域からセルを選択して他方側領
域に移動している。セルの移動元領域では、セル内パタ
ーンが塞ぐ配線格子線長が減少する。また、領域内の仮
想配線長を最小矩形がセル配置領域と重り合う面積を用
いて算出する場合、カット数が減少する限り、セル移動
元領域内の仮想配線長も減少する。したがって、カット
数を減少させるセルの移動は、格子線使用率の高い領域
の格子線使用率を下げるように作用し、2つの領域の格
子線使用率は、2つのセル配置領域の平均格子線使用率
に近い値となる。ここで、カット数を減少せさるセルの
移動はセル配置領域内の仮想配線長の和を減少させるた
め、平均格子線使用率が減少する(セル内パターンが塞
ぐ配線格子線長の和およびセル配置領域内の配線格子線
長の和は一定である)。したがって、カット数を減少さ
せるようにセルを移動させることにより、最大格子線使
用率を小さくすることができる。
According to the cell arranging method shown in FIG. 4, a cell is always selected from a region having a high grid line usage rate and is moved to the other region. In the source area of the cell, the length of the wiring grid line blocked by the pattern in the cell decreases. When the virtual wiring length in the area is calculated using the area where the minimum rectangle overlaps the cell arrangement area, the virtual wiring length in the cell movement source area also decreases as long as the number of cuts decreases. Therefore, the movement of the cell that reduces the number of cuts acts to lower the grid line usage rate in the area where the grid line usage rate is high, and the grid line usage rate in the two areas is the average grid line usage rate in the two cell arrangement areas. The value is close to the usage rate. Here, the movement of the cell that reduces the number of cuts reduces the sum of the virtual wiring lengths in the cell placement area, and therefore reduces the average grid line utilization rate (the sum of the wiring grid line lengths that block the pattern in the cell and the cell). The sum of the wiring grid line lengths in the arrangement area is constant.) Therefore, by moving the cells so as to reduce the number of cuts, the maximum grid line usage rate can be reduced.

【0062】以上のように、この発明の実施の形態1に
従えば、カット数を最小としかつ仮想配線格子線使用率
が均等となるようにかつセル配置領域に割付けられたセ
ルの面積の和がセル配置領域内に配置可能なセル面積を
超えないようにセルを割付けているため、各セル配置領
域におけるセル密度が均等となるように、またセル配置
領域における配線の混雑度(使用率)が均等となり、基
板上の一部の領域に多くの信号線が集中するのを抑制す
ることができ、セル配置後に実行する配線処理において
すべての信号線を配線することが可能となる。
As described above, according to the first embodiment of the present invention, the sum of the areas of the cells allocated to the cell arrangement region is minimized so that the number of cuts is minimized, the usage rate of the virtual wiring grid lines is equalized. Are allocated so that the cell area does not exceed the cell area that can be placed in the cell placement area, so that the cell density in each cell placement area becomes uniform and the degree of congestion of wiring (use rate) in the cell placement area And the concentration of many signal lines in a partial area on the substrate can be suppressed, and all the signal lines can be wired in a wiring process performed after cell placement.

【0063】[実施の形態2]図5は、この発明の実施
の形態2に従うセル配置方法を示すフロー図である。以
下、図5を参照して、この発明の実施の形態2に従うセ
ル配置方法について説明する。
[Second Embodiment] FIG. 5 is a flowchart showing a cell arrangement method according to a second embodiment of the present invention. Hereinafter, a cell arrangement method according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0064】今、図13(A)に示すようなセル8k〜
8qを、図13(B)に示す基板10b上に配置するこ
とを考える。セル8k〜8mは、信号線9lおよび9m
により、それぞれ順次直列に接続れさる。セル8mは、
信号線9nを介してセル8n、8pおよび8qに接続さ
れる。セル8nおよびセル8oは、信号線9oを介して
接続される。この信号線9oに対し、遅延時間の上限値
が指定されており、残りの信号線9l〜9nには、特に
その遅延時間の上限値は指定されていない。
Now, cells 8k to 8k as shown in FIG.
It is assumed that 8q is arranged on substrate 10b shown in FIG. Cells 8k to 8m are connected to signal lines 9l and 9m
Are sequentially connected in series. Cell 8m is
Connected to cells 8n, 8p and 8q via signal line 9n. Cell 8n and cell 8o are connected via signal line 9o. The upper limit of the delay time is specified for the signal line 9o, and the upper limit of the delay time is not specified for the remaining signal lines 9l to 9n.

【0065】まず、初期処理として、基板10bを分割
するための垂直方向および水平方向の複数のカットライ
ン13f〜13iを設定する(ステップS30)。カッ
トライン13f〜13iにより分割されるセル配置領域
には、1つのスロットが配置されるように基板10b上
にスロット11m〜11tが配置される。このカットラ
イン13f〜13iの設定に合せて、カットライン13
f〜13iの処理順序について、カットライン13g、
カットライン13i,カットライン13fおよびカット
ライン13hの順序で処理することを決定する。そのと
きまた併せて、水平方向および垂直方向にスロット11
m〜11dを相互接続するための配線格子線12bか配
置される。
First, as initial processing, a plurality of vertical and horizontal cut lines 13f to 13i for dividing the substrate 10b are set (step S30). In the cell arrangement area divided by the cut lines 13f to 13i, slots 11m to 11t are arranged on the substrate 10b such that one slot is arranged. In accordance with the settings of the cut lines 13f to 13i,
Regarding the processing order of f to 13i, the cut line 13g,
It is determined that the processing is performed in the order of the cut line 13i, the cut line 13f, and the cut line 13h. At that time, the slots 11
A wiring grid line 12b for interconnecting m to 11d is arranged.

【0066】次いで、各信号線9l〜9oに対して、指
定された遅延の上限値に応じて信号線の重みを決定する
(ステップS31)。図13(A)に示す構成において
は、信号線9oに対して遅延時間の上限値が設定されて
おり、その重みを2に設定し、残りの信号線9l〜9n
は、遅延時間の上限値が設定されていない通常の信号線
であり、重み1を設定する。
Next, for each of the signal lines 9l to 9o, the weight of the signal line is determined according to the specified upper limit value of the delay (step S31). In the configuration shown in FIG. 13A, the upper limit of the delay time is set for the signal line 9o, the weight is set to 2, and the remaining signal lines 9l to 9n are set.
Is a normal signal line in which the upper limit of the delay time is not set, and has a weight of 1.

【0067】次に、前処理として、基板10b全体を1
つのセル配置領域とみなし、このセル配置領域に回路に
含まれるすべてのセル8k〜8qを割付ける(ステップ
S32)。次いで、カットラインの処理番号iを1に設
定し、(ステップS33)、この予め定められた処理順
序のi番目、すなわち最初のカットライン13gを選択
して、このカットライン13gを交わるセル配置領域を
このカットラインを分割線として2つのセル配置領域に
分割する。したがって10bが、カットライン13gの
スロット11m〜11pを含むセル配置領域および右側
のスロット11q〜11tを含むセル配置領域に分割さ
れる。
Next, as a pretreatment, the entire substrate 10b is
One cell arrangement area is regarded, and all the cells 8k to 8q included in the circuit are allocated to this cell arrangement area (step S32). Next, the processing number i of the cut line is set to 1 (step S33), and the i-th, that is, the first cut line 13g in this predetermined processing order is selected, and the cell arrangement area crossing this cut line 13g is selected. Is divided into two cell arrangement areas using this cut line as a division line. Therefore, 10b is divided into a cell arrangement area including the slots 11m to 11p of the cut line 13g and a cell arrangement area including the right slots 11q to 11t.

【0068】次いで、このステップS34により分割さ
れたセル配置領域それぞれについて、(i)カットライ
ン13gと交差する信号線の重みが最小となるように、
(ii)分割後セル配置領域内の重み付仮想配線格子線使
用率が均等となるように、および(iii )分割後のセル
配置領域に割付けられたセルの面積の和が領域内に配置
可能なセル面積を超えないようにこの分割前のセル配置
領域(基板10b)に割付けられたセルを分割によって
生じた2つのセル配置領域に振分ける。ここで、重み付
仮想配線格子線使用率は、(配線時にセル配置領域内を
通ると予想される配線の重み付長さとセル配置領域内の
配線格子線の長さとの比で与えられる。したがって、重
みの付けられた信号線9oに対する仮想配線長は、他の
信号線9l〜9nに対応する仮想配線の長さの2倍とな
る。すなわち、重みの付けられた信号線に対する仮想配
線長は、その重みにより長くなり、重みの値に対応する
通常信号線の本数と等価となる。したがって、重みの付
けられた信号線に対応する仮想配線長は、重みの付けら
れていない通常信号線の仮想配線長の2倍となり、重み
の付けられた信号線の近傍の配線混雑が緩和される。
Next, for each of the cell arrangement areas divided in step S34, (i) the weight of the signal line intersecting with the cut line 13g is minimized.
(Ii) The weighted virtual wiring grid line usage rate in the divided cell arrangement area can be equalized, and (iii) the sum of the areas of the cells allocated to the divided cell arrangement area can be arranged in the area. The cells allocated to the cell arrangement region (substrate 10b) before the division are allocated to two cell arrangement regions generated by the division so as not to exceed the proper cell area. Here, the weighted virtual wiring grid line usage rate is given by the ratio of the weighted length of wiring that is expected to pass through the cell placement area during wiring and the length of the wiring grid line within the cell placement area. The virtual wire length for the weighted signal line 9o is twice the length of the virtual wire corresponding to the other signal lines 9l to 9n, that is, the virtual wire length for the weighted signal line is Therefore, the length of the virtual signal line corresponding to the weighted signal line is equal to the number of normal signal lines corresponding to the value of the weight. The length is twice the virtual wiring length, and wiring congestion near the weighted signal line is reduced.

【0069】今、図6(A)に示すようにセルの割付け
が行なわれた場合を考える。すなわち、カットライン1
3eの左側の領域CLにおいてセル8k〜8pが割付け
られ、残りのセル8n〜8qをこのカットライン13b
の右側の領域CRに割付ける。仮想配線長が、セル配置
領域内に含まれる信号線の接続点数に比例し、接続点1
点につきLだけ増加するものとする。重み付仮想配線長
は、そのセル配置領域内を通ると予想される配線の長さ
に対応の信号線の重みを乗じることにより得られる。し
たがって、セル配置領域CLにおける重み付仮想配線長
は、接続点数が6であり、6Lとなる。一方、セル配置
領域CRにおいては、信号線9oには重み2が付されて
おり、接続点数は4であるが、この信号線9oに対する
総配線長がその重みにより2L追加されるため、合計6
Lとなる。2つのセル配置領域CLおよびCRの配線格
子線長は、これらの領域CLおよびCRは対称形をなし
ており、したがって領域CLおよびCRの配線格子線長
さも等しい。したがって、2つのセル配置領域CLおよ
びCRの重み付仮想配線格子線使用率は均等となる。
Now, consider a case where cells are allocated as shown in FIG. That is, cut line 1
In the region CL on the left side of 3e, cells 8k to 8p are allocated, and the remaining cells 8n to 8q are assigned to the cut line 13b.
Is assigned to the area CR on the right side of. The virtual wiring length is proportional to the number of connection points of the signal lines included in the cell arrangement region, and the connection point 1
Let it increase by L per point. The weighted virtual wiring length is obtained by multiplying the length of the wiring expected to pass through the cell arrangement region by the weight of the corresponding signal line. Accordingly, the weighted virtual wiring length in the cell placement area CL is 6 L since the number of connection points is 6. On the other hand, in the cell arrangement region CR, the signal line 9o is given a weight of 2 and the number of connection points is 4. However, since the total wiring length for the signal line 9o is added by 2L due to the weight, a total of 6 is added.
L. The wiring grid line lengths of the two cell arrangement regions CL and CR are symmetrical with each other, so that the wiring grid line lengths of the regions CL and CR are also equal. Therefore, the weighted virtual wiring grid line usage rates of the two cell arrangement areas CL and CR become equal.

【0070】また、カットライン13gと交差する信号
線は信号線9nであり、この信号線9nの重みは1であ
り、したがってカット数は1となり最小となっている。
またセル8領域CLおよびCRそれぞれに配置されるセ
ルの数はそれぞれの領域におけるスロットの数よりも小
さく(セルはすべて同じサイズとしている)、したがっ
て条件(i)〜(iii )がすべて満たされている。した
がってこのカットライン13gについての処理は終了
し、すべてのカットラインによる処理が終了したか否か
の判定が行なわれる(ステップS36)。ここでは、カ
ットライン番号iは1であり、最初のカットラインが指
定されただけであり、カットライン番号iを1増分し
(ステップS37)、ステップS34に戻る。
The signal line that intersects the cut line 13g is the signal line 9n, and the weight of the signal line 9n is 1, so that the number of cuts is 1, which is the minimum.
Also, the number of cells arranged in each of the cell 8 regions CL and CR is smaller than the number of slots in each region (all cells have the same size), and therefore all of the conditions (i) to (iii) are satisfied. I have. Therefore, the processing for this cut line 13g is completed, and it is determined whether or not the processing for all the cut lines is completed (step S36). Here, the cut line number i is 1, and only the first cut line is designated, and the cut line number i is incremented by 1 (step S37), and the process returns to step S34.

【0071】2番目の処理順序では、カットライン13
iが選択され、領域CLおよびCRがこのカットライン
13iと交差しており、領域CLが分割セル配置領域C
LuおよびCLdに分割され、セル配置領域CRが分割
セル配置領域CRuおよびCRdに分割される。分割領
域CLuおよびCLdにおいて先の領域CLおよびCR
と同様の処理が行なわれ、また領域CRuおよびCRd
について先と同様の処理が実行される。水平方向に沿っ
ては、配線格子線が2本配設されており、信号線9nに
対応する配線は、このカット数を最小とするように、一
方のセル配置領域にのみ含まれる。
In the second processing order, the cut line 13
i is selected, the regions CL and CR intersect with the cut line 13i, and the region CL is the divided cell arrangement region C
It is divided into Lu and CLd, and the cell placement region CR is divided into divided cell placement regions CRu and CRd. In the divided areas CLu and CLd, the preceding areas CL and CR
Are performed, and regions CRu and CRd
, The same processing as described above is executed. Two wiring grid lines are provided along the horizontal direction, and the wiring corresponding to the signal line 9n is included in only one cell arrangement region so as to minimize the number of cuts.

【0072】領域CRuおよびCRdにおいては、重み
付仮想配線格子線使用率は等しくはないが、できる限り
均等とされている。したがってこのカットライン13i
についての処理が完了し、次のカットラインの処理が実
行される。今、ステップS36においてすべてのカット
ラインにより処理が終了したと判定されると、図7に示
すようなセル配置が得られる。
In the regions CRu and CRd, the weighted virtual wiring grid line usage rates are not equal, but are equalized as much as possible. Therefore, this cut line 13i
Is completed, and the processing of the next cut line is executed. If it is determined in step S36 that the processing has been completed for all cut lines, a cell arrangement as shown in FIG. 7 is obtained.

【0073】図7においては、スロット11m〜11s
にセル8l、8k、8m、8p、8n、8qおよび8o
がそれぞれ配置される。セル8lおよび8kは配線パタ
ーン14lに接続され、セル8lおよびmは配線パター
ン14mにより接続され、セル8m、8p、8nおよび
8qは、配線パターン14nにより相互接続される。セ
ル8nおよび8oは配線パターン14oにより相互接続
される。配線パターン14oは図13(A)に示す重み
2が付された信号線9oに対応している。したがってこ
の信号線9oに隣接して配線が配置されないため、線間
容量による遅延時間の増加が防止される。
In FIG. 7, the slots 11m to 11s
Cells 8l, 8k, 8m, 8p, 8n, 8q and 8o
Are respectively arranged. Cells 8l and 8k are connected to wiring pattern 14l, cells 8l and m are connected by wiring pattern 14m, and cells 8m, 8p, 8n and 8q are interconnected by wiring pattern 14n. The cells 8n and 8o are interconnected by a wiring pattern 14o. The wiring pattern 14o corresponds to the signal line 9o with the weight 2 shown in FIG. Therefore, no wiring is arranged adjacent to the signal line 9o, so that an increase in delay time due to line capacitance is prevented.

【0074】すなわちこの実施の形態2においては、信
号伝搬遅延を小さくすべき信号線9oに対し、重みを付
し、この重みに従って仮想配線長の重み付けを行なうこ
とにより、遅延時間の上限が指定された信号線9oに対
応する配線14oの周囲の混雑度が軽減される。
That is, in the second embodiment, the signal line 9o whose signal propagation delay is to be reduced is weighted, and the virtual wiring length is weighted according to the weight, whereby the upper limit of the delay time is specified. The congestion degree around the wiring 14o corresponding to the signal line 9o is reduced.

【0075】なおこの実施の形態2においても、先の図
4に示すフロー図に従ったセル配置を行なうことができ
る。格子線使用率を求める際の式に、各信号線の仮想配
線長に対し重み付けを行なうことにより、遅延時間の上
限の指定された信号線に信号における混雑度を緩和する
ことができる。
In the second embodiment, the cell arrangement according to the flowchart shown in FIG. 4 can be performed. By weighting the virtual wiring length of each signal line in the equation for calculating the grid line usage rate, it is possible to reduce the congestion degree of the signal in the signal line for which the upper limit of the delay time is specified.

【0076】以上のように、この発明の実施の形態2に
従えば、遅延時間の上限の指定された信号線に対し重み
を付し、この重みを考慮して重み付仮想配線格子線使用
率を算出し、この重み付仮想配線格子線使用率が均等と
なり、かつカットラインと交差する信号線の重みの和が
最小となるようにしかつさらに、セル配置領域内の、割
付けられたセルの面積の和が、配置可能なセル面積より
も小さくなるようにセルを割付けることにより、各セル
配置領域のセル密度を均等とし、かつ仮想配線長を短く
し、かつさらに、重みの付された信号線近傍における配
線の混雑を抑制することができ、遅延時間の上限の指定
された信号線に対応する配線に隣接して配線が配置され
るのを抑制することができ、タイミング駆動配置におい
て、配置配線終了後の実遅延が小さくなりやすい配置結
果を得ることができる。
As described above, according to the second embodiment of the present invention, a weight is assigned to a signal line for which the upper limit of the delay time is specified, and the weighted virtual wiring grid line usage rate is considered in consideration of the weight. The weighted virtual wiring grid line usage rate is made equal, and the sum of the weights of the signal lines intersecting the cut lines is minimized, and furthermore, the area of the allocated cells in the cell arrangement area is calculated. Are allocated such that the sum of the cells is smaller than the cell area that can be arranged, thereby equalizing the cell density of each cell arrangement area, shortening the virtual wiring length, and further adding a weighted signal. It is possible to suppress the congestion of the wiring in the vicinity of the wiring, to suppress the wiring from being arranged adjacent to the wiring corresponding to the signal line for which the upper limit of the delay time is specified. End of wiring Can be the actual delay of obtaining it tends arrangement results reduced.

【0077】[実施の形態3]図8は、この発明の実施
の形態3に従うせる配置方法を示すフロー図である。以
下、この図8を参照してこの発明の実施の形態3に従う
セル配置方法について説明する。この実施の形態3に従
うセル配置方法は、カットラインの設定からセル配置領
域の分割までの実施の形態1のステップS1〜S4と同
じであり、セルの振分けを行なうステップ40について
のみ説明する。
[Third Embodiment] FIG. 8 is a flowchart showing an arrangement method according to a third embodiment of the present invention. Hereinafter, a cell arrangement method according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The cell arranging method according to the third embodiment is the same as steps S1 to S4 in the first embodiment from the setting of the cut line to the division of the cell arranging area, and only the step 40 of allocating cells will be described.

【0078】今、図9(A)に示すように、セル配置領
域10cがカットライン13gにより2つの領域ALお
よびARに分割され、この分割セル配置領域ALおよび
ARに、セル8r〜8tを配置する割付処理を行なうこ
とを考える。今、セル8rの出力端子がセル8sおよび
8tそれぞれの入力端子と信号線9pにより接続されて
いるとし、セル8rとセル8tの間に遅延時間の上限値
が指定されているものと仮定する。
Now, as shown in FIG. 9A, the cell arrangement region 10c is divided into two regions AL and AR by a cut line 13g, and cells 8r to 8t are arranged in the divided cell arrangement regions AL and AR. Consider performing an assignment process. Now, it is assumed that the output terminal of the cell 8r is connected to the input terminals of the cells 8s and 8t by the signal line 9p, and that the upper limit of the delay time is specified between the cells 8r and 8t.

【0079】図示しない他のセルの割付けにより領域A
Lに2個のセル,領域ARに1個のセルを割付けること
が必要となった状態を考える。このセル割付のステップ
S40においては、(i)セル配置領域ALおよびAR
それぞれについて、カットライン13jと交差する信号
線の中のセル対間の遅延時間の見積り値と指定された遅
延時間の上限値の比に基づいて決定した信号線の重みの
和が最小となるように、(ii)分割後のセル配置領域内
の重み付仮想配線格子線使用率が均等となるように、お
よび(iii )分割後のセル配置領域に割付けられたセル
面積の和がその領域内に配置可能なセル面積を超えない
ように各分割セル配置領域ALおよびARに振分けられ
る。一般に、2セル間の配線遅延は、この2セル間の距
離に比例して大きくなる。セルは、割付けられたセル配
置領域の中心部に配置されるものと仮定し、この仮定の
下で2セル間の距離を求め、この距離に基づいて2セル
間の仮想遅延時間を求める。
The area A is assigned by allocating another cell (not shown).
Consider a state in which it is necessary to allocate two cells to L and one cell to the area AR. In this cell allocation step S40, (i) the cell placement areas AL and AR
In each case, the sum of the weights of the signal lines determined based on the ratio of the estimated value of the delay time between the cell pairs in the signal line intersecting the cut line 13j and the specified upper limit value of the delay time is minimized. In addition, (ii) the weighted virtual wiring grid line usage rate in the divided cell arrangement area is made uniform, and (iii) the sum of the cell areas allocated to the divided cell arrangement area is equal to the sum in the divided cell arrangement area. Are divided into the divided cell arrangement areas AL and AR so as not to exceed the cell area that can be arranged. In general, the wiring delay between two cells increases in proportion to the distance between the two cells. The cell is assumed to be located at the center of the allocated cell placement area, the distance between the two cells is determined under this assumption, and the virtual delay time between the two cells is determined based on this distance.

【0080】すなわち、図9(B)に示すように、セル
8rおよび8sをセル配置領域ALおよびARのそれぞ
れの中心OLおよびORに配置し、セル8tを、セル配
置領域ALの中心OLに近接する位置(スロット)に配
置する。この状態で、セル間仮想配線長を求める。今、
セル8rおよび8sの間の距離がl1であり、セル8r
および8tの距離がl2であるとする。セル8rおよび
セル8tの間に、遅延時間の上限値tduが指定されて
いる。仮想遅延時間(遅延時間の見積り値)は、単位距
離当りにおける単位遅延時間をτとして、測定距離l1
およびl2と単位遅延時間τとの積により求める。この
各セル対間の信号線(セグメント)の重みを、セル対間
の仮想遅延とそのセル対間に指定された遅延時間の上限
値tduの比とし、信号線の重みをこの信号線に含まれ
るセグメントの比の和とする。
That is, as shown in FIG. 9B, the cells 8r and 8s are arranged at the centers OL and OR of the cell arrangement areas AL and AR, respectively, and the cell 8t is positioned close to the center OL of the cell arrangement area AL. At the position (slot) to be used. In this state, the inter-cell virtual wiring length is obtained. now,
The distance between cells 8r and 8s is 11 and cell 8r
And the distance of 8t is l2. The upper limit value tdu of the delay time is specified between the cell 8r and the cell 8t. The virtual delay time (estimated value of the delay time) is a measurement distance 11 with a unit delay time per unit distance as τ.
And the product of l2 and the unit delay time τ. The weight of the signal line (segment) between each pair of cells is defined as the ratio of the virtual delay between the pair of cells to the upper limit value tdu of the delay time specified between the pair of cells, and the weight of the signal line is included in this signal line. To be added.

【0081】信号線9pの重みwは、したがって、図9
(B)に示す配置では次式で表わされる。
The weight w of the signal line 9p is therefore
The arrangement shown in (B) is represented by the following equation.

【0082】w=1+(l2・τ/tdu) ここで、セル8rおよび8sの間には、遅延時間の上限
値が指定されていないため、その重みを1としている。
したがって、この距離l2を小さくすることにより、信
号線9pの重みwは小さくなるため、図9(A)に示す
ように、セル8rに近接してセル8tを配置するのが好
ましいセル割付である。
W = 1 + (12 · τ / tdu) Here, since no upper limit of the delay time is specified between the cells 8r and 8s, the weight is set to 1.
Therefore, by reducing the distance l2, the weight w of the signal line 9p is reduced. Therefore, as shown in FIG. 9A, it is preferable to arrange the cell 8t close to the cell 8r. .

【0083】このセル割付では、カットライン13jと
交差する信号線の重みが最小となる条件に対し、信号線
9pの重みが小さくなっており、この条件を満たし、ま
た(ii)の分割後のセル配置領域内の重み付仮想配線格
子線使用率が均等となるという条件についも、セル8r
およびセル8tの距離が小さくなり、その信号線9pの
重み付仮想配線長が小さくなり、図示しない他のセルの
割付と合せて、配線混雑度を均等とするように作用し、
その近接配置による重みの低減により、利用可能配線数
が増加し、配線混雑度が確実に低減される。
In this cell allocation, the weight of the signal line 9p is smaller than the condition of minimizing the weight of the signal line intersecting the cut line 13j. This condition is satisfied. The condition that the usage rates of the weighted virtual wiring grid lines in the cell arrangement region become uniform is also determined by the cell 8r
And the distance between the cells 8t is reduced, the weighted virtual wiring length of the signal line 9p is reduced, and in conjunction with the allocation of other cells (not shown), it acts to equalize the degree of wiring congestion.
The reduction in the weight due to the close arrangement increases the number of available wirings and reliably reduces the degree of wiring congestion.

【0084】この図9(A)に示すセル割付を選択する
ことにより、その後の分割においても、セル8rおよび
セル8tは同じセル配置領域に割付けられる確率が高く
なり(常に信号線の重みを小さくするため)、この結
果、セル配置完了時、図9(C)に示すように、セル8
rとセル8tが近接して配置されやすくなる。この場
合、図9(C)に示すようにセル8rおよびセル8t間
の配線パターン14pの配線長が短くなり、配線遅延が
小さくなる。
By selecting the cell allocation shown in FIG. 9A, the probability that cells 8r and 8t will be allocated to the same cell arrangement area in the subsequent division will be increased (the weight of the signal line will always be reduced). As a result, when the cell placement is completed, as shown in FIG.
r and the cell 8t are easily arranged close to each other. In this case, as shown in FIG. 9C, the wiring length of the wiring pattern 14p between the cell 8r and the cell 8t is reduced, and the wiring delay is reduced.

【0085】なお、上述の信号線の重みwに対し、遅延
時間の上限が付されていない場合には、常に信号線の重
みが1となるように、セル対間の経路の数(セグメント
の数)で正規化する構成が用いられてもよい。すなわち
図9(A)の場合には、セグメント(2セル間の信号
線)の数は2であり、係数2で正規化する。
When the upper limit of the delay time is not added to the weight w of the signal line, the number of paths between the cell pairs (the number of segments) is set so that the weight of the signal line is always 1. A configuration for normalizing by (number) may be used. That is, in the case of FIG. 9A, the number of segments (signal lines between two cells) is two, and the number of segments is normalized by a coefficient of two.

【0086】[変更例1]ある信号線の重みwは、次式
で表されてもよい。
[Modification 1] The weight w of a certain signal line may be expressed by the following equation.

【0087】w=Σ(その信号線に含まれるセル間端子
対の制約達成度)2総和はすべての端子対(セグメン
ト)について行なわれる。ただし、端子対(セル間)制
約達成度Sは次式で表わされる。
W = Σ (Achievement of constraint on terminal pairs between cells included in the signal line) 2 The summation is performed for all terminal pairs (segments). However, the terminal pair (between cell) constraint achievement degree S is expressed by the following equation.

【0088】S=1;仮想遅延値≦遅延上限値 S=仮想遅延値/遅延上限値:仮想遅延値>遅延上限値 この式においても、信号線の重みは、セグメントの長さ
が短くなると仮想遅延値が小さくなり信号線の重みが小
さくなるため、同様の効果を奏する。
S = 1; virtual delay value ≦ delay upper limit value S = virtual delay value / delay upper limit value: virtual delay value> delay upper limit value Also in this equation, the weight of the signal line becomes virtual when the length of the segment becomes shorter. Since the delay value is reduced and the weight of the signal line is reduced, the same effect is obtained.

【0089】この場合においても、総和Σに対し、全端
子対の数に従って正規化が行なわれる構成が用いられて
もよい。
Also in this case, a configuration may be used in which the summation 行 な わ is normalized according to the number of all terminal pairs.

【0090】[変更例2]セルがゲートに対応する場
合、信号線の重みwを、その信号線を駆動するゲートの
入力端子fanin(n)とこの信号線nに接続する出
力端子fanout(n)間のパスセグメントの仮想遅
延tおよび遅延上限値uから次式を使って求める。
[Modification 2] When a cell corresponds to a gate, the weight w of the signal line is set to the input terminal fanin (n) of the gate driving the signal line and the output terminal fanout (n) connected to the signal line n. ) Is obtained from the virtual delay t and the delay upper limit u of the path segment using the following equation.

【0091】w=h(ΣPij2 /(|fanin
(n)|×|fanout(n)|)) ここで、iはゲートの入力端子を示し、jはこのゲート
の出力端子を示す。また、Pijは次式で与えられる。
W = h (ΣPij 2 / (| fanin
(N) | × | fanout (n) |)) Here, i indicates an input terminal of the gate, and j indicates an output terminal of the gate. Pij is given by the following equation.

【0092】 Pij=tij/a・Uij:tij>a・Uij =1:tij≦a・Uij h(x)は単調増加関数であり、定数aは0以上1以下
の実数である。この重みを、セルを移動するごとに更新
する。仮想遅延値tijは端子iと端子jの間のパスセ
グメントの仮想遅延を示す。
Pij = tij / a · Uij: tij> a · Uij = 1: tij ≦ a · Uij h (x) is a monotonically increasing function, and the constant a is a real number from 0 to 1 inclusive. This weight is updated each time the cell moves. The virtual delay value tij indicates a virtual delay of the path segment between the terminal i and the terminal j.

【0093】この変更例1および2においては、セル配
置領域ALおよびARにおいて、セル8tがこの領域A
LおよびARいずれにおいても配置することが許される
場合、その遅延時間を考慮して、セル8tはセル8rの
近傍に配置するのが最もよいことが判定され、その遅延
時間を最小とする配置が実現される。
In Modifications 1 and 2, in cell placement areas AL and AR, cell 8t is located in this area A.
When it is allowed to arrange both the L and AR, it is determined that the cell 8t is best arranged near the cell 8r in consideration of the delay time, and the arrangement that minimizes the delay time is determined. Is achieved.

【0094】[0094]

【発明の効果】以上のように、この発明に従えば、仮想
配線格子線使用率を用いてセルの割付を行なうようにし
ているため、配線の局所集中およびクリティカルパスに
隣接する配線の配置およびクリティカルパスの最短化を
実現することができ、効率的なセル配置を実現すること
ができる。
As described above, according to the present invention, the cells are allocated using the virtual wiring grid line usage rate, so that the local concentration of the wiring and the layout and wiring of the wiring adjacent to the critical path can be achieved. The shortest critical path can be realized, and an efficient cell arrangement can be realized.

【0095】すなわち、請求項1に係る発明に従えば、
基板上の一部の領域に配線が密集する局所配線混雑の発
生を防止することができ、すべての信号線を配線するこ
とが容易な配置結果を得ることができるため、集積回路
装置の集積度を高くすることができ、また配線処理に要
する処理時間を低減することが可能となる。
That is, according to the first aspect of the present invention,
It is possible to prevent the occurrence of local wiring congestion in which wiring is concentrated in a part of the area on the substrate, and to obtain an arrangement result in which all signal lines can be easily wired. Can be increased, and the processing time required for the wiring processing can be reduced.

【0096】請求項2に係る発明に従えば、遅延時間を
小さくすべき信号線の周囲における配線の密集を防止す
ることができ、この信号線の隣接配線間容量が低減さ
れ、正確なタイミングで高速で動作する高性能の集積回
路装置を実現することができる。
According to the second aspect of the invention, it is possible to prevent the wiring from being crowded around the signal line whose delay time is to be reduced, to reduce the capacitance between adjacent wirings of the signal line, and to achieve accurate timing. A high-performance integrated circuit device that operates at high speed can be realized.

【0097】請求項3に係る発明に従えば、遅延を小さ
くすべきセル間の配線遅延を小さくする配置結果が得ら
れるため、同じ信号線に接続するセルに対し、セル間の
信号伝搬経路に要求される遅延量を満たすセル配置を実
現することができ、正確なタイミングで高速で動作する
集積回路装置を実現することができる。
According to the third aspect of the present invention, an arrangement result of reducing the wiring delay between cells whose delay is to be reduced can be obtained, so that a cell connected to the same signal line has a signal propagation path between cells. A cell arrangement that satisfies the required delay amount can be realized, and an integrated circuit device that operates at high speed with accurate timing can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1に従うセル配置方法
を示すフロー図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a cell arrangement method according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 (A)および(B)はこの発明の実施の形態
1におけるセル配置方法を説明する図である。
FIGS. 2A and 2B are diagrams illustrating a cell arrangement method according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 この発明の実施の形態1に係るセル配置方法
におけるセルの配置・配線を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing cell placement / wiring in a cell placement method according to Embodiment 1 of the present invention;

【図4】 この発明の実施の形態1の変更例のセル配置
方法を示すフロー図である。
FIG. 4 is a flowchart showing a cell arrangement method according to a modification of the first embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の実施の形態2に従うセル配置方法
の動作を示すフロー図である。
FIG. 5 is a flowchart showing an operation of a cell placement method according to the second embodiment of the present invention.

【図6】 (A)および(B)はこの発明の実施の形態
2に従うセル配置方法を説明するための図である。
FIGS. 6A and 6B are diagrams for explaining a cell arrangement method according to a second embodiment of the present invention.

【図7】 この発明の実施の形態2におけるセル配置方
法によるセルの配置・配線を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a cell arrangement / wiring by a cell arrangement method according to a second embodiment of the present invention.

【図8】 この発明の実施の形態3におけるセル配置方
法を示すフロー図である。
FIG. 8 is a flowchart showing a cell arrangement method according to Embodiment 3 of the present invention.

【図9】 (A)〜(C)は、この発明の実施の形態3
におけるセル配置方法を説明するための図である。
FIGS. 9A to 9C show a third embodiment of the present invention;
FIG. 6 is a diagram for explaining a cell arrangement method in FIG.

【図10】 (A)および(B)は、従来のミニカット
法によるセル配置領域の分割シーケンスを例示的に示す
図である。
FIGS. 10A and 10B are diagrams exemplarily showing a division sequence of a cell arrangement region by a conventional mini-cut method.

【図11】 (A)および(B)は、従来のミニカット
法によるセル配置方法を説明するための図である。
FIGS. 11A and 11B are diagrams for explaining a cell arrangement method using a conventional mini-cut method.

【図12】 従来のミニカット法により得られたセル配
置の一例を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing an example of a cell arrangement obtained by a conventional mini-cut method.

【図13】 (A)および(B)は信号線の遅延時間を
考慮した従来のミニカット法を説明するための図であ
る。
FIGS. 13A and 13B are diagrams for explaining a conventional mini-cut method in consideration of a delay time of a signal line.

【図14】 従来の遅延時間を考慮したミニカット法に
よるセル配置の一例を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing an example of a conventional cell arrangement by a mini-cut method in consideration of a delay time.

【図15】 図12に示すセル配置の問題点を説明する
ための図である。
FIG. 15 is a diagram for explaining a problem of the cell arrangement shown in FIG. 12;

【図16】 図14に示すセル配置の問題点を説明する
ための図である。
FIG. 16 is a diagram for explaining a problem of the cell arrangement shown in FIG. 14;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

8a〜8t セル、9a〜9p 信号線、10a〜10
c 基板、11a〜11t スロット、14a〜14p
配線パターン。
8a-8t cell, 9a-9p signal line, 10a-10
c board, 11a-11t slot, 14a-14p
Wiring pattern.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セルを基板上に配置した後、予め基板上
に設定されている配線格子線上を通過する配線線分によ
り各セルを結線することにより構成される集積回路装置
のためのセルの配置方法であって、 前記基板上に垂直方向および水平方向に沿って、前記基
板を分割するための各々がカットラインと呼ばれる複数
の線分を設定するカットライン設定ステップ、 前記基板全体を1つのセル配置領域とみなして該セル配
置領域に前記集積回路装置に含まれるすべてのセルを割
付ける前処理ステップ、 予め定められた処理順序に従って前記複数のカットライ
ンから1つのカットラインを選択し、前記基板上の該選
択されたカットラインと交わるセル配置領域各々を前記
選択されたカットラインを分割線として2つのセル配置
領域に分割する領域分割ステップ、 前記領域分割ステップにより分割されるセル配置領域各
々について、(i)前記選択されたカットラインと交差
する信号線の数が最小となるように、(ii)配線時に分
割後のセル配置領域内を通ると予想される配線の長さと
該分割後のセル配置領域内の配線格子線の長さとの比が
均等となるように、かつ(iii )各前記分割後のセル配
置領域内に割付けられたセルの面積の和が該分割後のセ
ル配置領域内に配置可能なセル面積を超えないように、
前記分割されるセル配置領域内のセルを分割後のセル配
置領域それぞれに振分けるセル割付ステップ、および前
記領域分割ステップおよびセル割付ステップを前記複数
のカットラインすべてについて繰返し実行するステップ
を備える、集積回路装置のためのセル配置方法。
1. A cell for an integrated circuit device, comprising: arranging cells on a substrate and connecting the cells with wiring segments passing on wiring grid lines set in advance on the substrate. An arrangement method, comprising: a cut line setting step of setting a plurality of line segments each called a cut line for dividing the substrate along a vertical direction and a horizontal direction on the substrate; A pre-processing step of assigning all cells included in the integrated circuit device to the cell arrangement area as a cell arrangement area; selecting one cut line from the plurality of cut lines according to a predetermined processing order; Each of the cell arrangement regions intersecting with the selected cut line on the substrate is divided into two cell arrangement regions by using the selected cut line as a dividing line. (Ii) cell arrangement after dividing at the time of wiring so that (i) the number of signal lines intersecting with the selected cut line is minimized for each of the cell arrangement areas divided by the area dividing step. The ratio between the length of the wiring expected to pass through the region and the length of the wiring grid line in the divided cell placement region is equal, and (iii) To ensure that the sum of the allocated cell areas does not exceed the cell area that can be placed in the cell placement area after the division,
A cell allocating step of allocating cells in the divided cell arrangement area to each of the divided cell arrangement areas, and a step of repeatedly executing the area division step and the cell allocation step for all of the plurality of cut lines. A cell arrangement method for a circuit device.
【請求項2】 特定のセル間を接続する信号線に対して
遅延時間の上限値が指定され、この指定された遅延時間
の上限値を満たすように複数のセルを基板上に配置した
後、予め基板上に設定されている配線格子線上を通過す
る配線線分により各セルを結線することにより構成され
る集積回路装置のためのセル配置方法であって、前記基
板上に垂直方向および水平方向に沿って、前記基板を分
割するための各々がカットラインと呼ばれる複数の線分
を設定するカットライン設定ステップ、 遅延時間の上限値が指定された信号線に対し、該指定さ
れた遅延時間の上限値に応じてこの信号線の重みを決定
する重み決定ステップ、 前記基板全体を1つのセル配置領域とみなして、該セル
配置領域に前記集積回路装置に含まれるすべてのセルを
割付ける前処理ステップ、 予め定められた処理順序に従って前記複数のカットライ
ンから1つのカットラインを選択し、前記基板上の選択
されたカットラインと交わるセル配置領域それぞれを前
記選択されたカットラインを分割線として2つのセル配
置領域に分割する領域分割ステップ、 前記領域分割ステップにより分割されるセル配置領域各
々について、(i)前記選択されたカットラインと交差
する信号線の重みの和が最小となるように、(ii)配線
時に分割後のセル配置領域内を通ると予想されるすべて
の信号線について求めた、各信号線の該分割後のセル配
置領域内の配線長にその重みをかけた重み付仮想配線長
の和と該分割後のセル配置領域内の配線格子線の長さの
比が均等となるように、かつ(iii )各前記分割後のセ
ル配置領域内に割付けられたセルの面積の和が該分割後
のセル配置領域内に配置可能なセル面積を超えないよう
に、前記分割されるセル配置領域内のセルを分割後のセ
ル配置領域それぞれに振分けるセル割付ステップ、およ
び前記領域分割ステップおよびセル割付ステップを前記
複数のカットラインすべてについて繰返し実行するステ
ップを備える、集積回路装置のためのセル配置方法。
2. An upper limit value of delay time is specified for a signal line connecting specific cells, and after a plurality of cells are arranged on a substrate so as to satisfy the specified upper limit value of delay time, A cell arrangement method for an integrated circuit device configured by connecting each cell by a wiring line segment passing on a wiring grid line set in advance on a substrate, the method comprising: A cut line setting step of setting a plurality of line segments, each of which is called a cut line, for dividing the substrate along a signal line having a specified upper limit value of the delay time. A weight determining step of determining a weight of the signal line according to an upper limit value; assuming the entire substrate as one cell arrangement region, and allocating all cells included in the integrated circuit device to the cell arrangement region Processing step, selecting one cut line from the plurality of cut lines in accordance with a predetermined processing order, and using each of the cell arrangement regions intersecting the selected cut line on the substrate with the selected cut line as a dividing line. An area division step of dividing the cell into two cell arrangement areas; and (i) for each cell arrangement area divided by the area division step, a sum of weights of signal lines intersecting the selected cut line is minimized. (Ii) weighting obtained by multiplying the wiring length of each signal line in the divided cell placement area by the weight obtained for all signal lines expected to pass through the divided cell placement area at the time of wiring (Iii) Allocating the sum of the virtual wiring length and the length of the wiring grid line in the divided cell arrangement area to each other in the divided cell arrangement area. The cells in the divided cell placement area are distributed to the divided cell placement areas so that the sum of the divided cell areas does not exceed the cell area that can be placed in the divided cell placement area. A cell layout method for an integrated circuit device, comprising: a cell allocating step; and a step of repeatedly performing the area dividing step and the cell allocating step for all of the plurality of cut lines.
【請求項3】 特定のセル間を接続する信号線に対して
遅延時間の上限値が指定され、該指定された遅延時間の
上限値を満たすように複数のセルを基板上に配置した
後、予め基板上に設定されている配線格子線上を通過す
る配線線分により各前記複数のセルを結線することによ
り構成される集積回路装置のためのセル配置方法であっ
て、 前記基板上に、垂直方向および水平方向に沿って前記基
板を分割するための各々がカットラインと呼ばれる複数
の線分を設定するカットライン設定ステップ、 前記基板全体を1つのセル配置領域とみなして、該セル
配置領域に前記集積回路装置に含まれるすべてのセルを
割付ける前処理ステップ、 予め定められた処理順序に従って前記複数のカットライ
ンから1つのカットラインを選択し、前記基板上の該選
択されたカットラインと交わるセル配置領域それぞれを
前記選択されたカットラインを分割線として2つのセル
配置領域に分割する領域分割ステップ、 前記領域分割ステップにより分割されるセル配置領域各
々について、(i)前記選択されたカットラインと交差
する信号線の、該信号線に含まれるセル対間セグメント
の仮想遅延値と該セル対間セグメントに指定された遅延
時間の上限値との比に基づいて算出した重みの和が最小
となるように、(ii)配線時に分割後のセル配置領域内
を通ると予想されるすべての信号線について求めた、信
号線の該分割後セル配置領域内の仮想配線長に該信号線
の重みをかけた重み付仮想配線長の和と該分割後のセル
配置領域内の配線格子線との比が均等となるように、か
つ(iii )前記分割後のセル配置領域内に割付けられた
セルの面積の和が該分割後のセル配置領域内に配置可能
なセル面積を超えないように、前記分割される配置領域
内のセルを分割後のセル配置領域に振分けるセル割付ス
テップ、および前記領域分割ステップおよびセル割付ス
テップを前記複数のカットラインすべてについて繰返し
実行するステップを備える、集積回路装置のためのセル
配置方法。
3. An upper limit value of a delay time is specified for a signal line connecting specific cells, and after a plurality of cells are arranged on a substrate so as to satisfy the specified upper limit value of the delay time, A cell arrangement method for an integrated circuit device configured by connecting each of the plurality of cells by a wiring segment that passes on a wiring grid line set in advance on a substrate, the method comprising: A cut line setting step of setting a plurality of line segments each called a cut line to divide the substrate along a direction and a horizontal direction, assuming the entire substrate as one cell arrangement region, A pre-processing step of allocating all cells included in the integrated circuit device; selecting one cut line from the plurality of cut lines according to a predetermined processing order; An area dividing step of dividing each of the cell arrangement areas intersecting the selected cut line into two cell arrangement areas using the selected cut line as a dividing line; and for each of the cell arrangement areas divided by the area dividing step, (i Calculating based on the ratio between the virtual delay value of the segment between cell pairs included in the signal line and the upper limit value of the delay time specified for the segment between cell pairs, of the signal line crossing the selected cut line. (Ii) virtual wiring in the divided cell arrangement area of the signal line, which is obtained for all signal lines expected to pass through the divided cell arrangement area at the time of wiring, so that the sum of the weights becomes minimum. (Iii) the cell arrangement after the division so that the ratio of the sum of the weighted virtual wiring length obtained by multiplying the length of the signal line to the length and the wiring grid line in the cell arrangement area after the division is equal; The cells in the divided placement area are moved to the divided cell placement area so that the sum of the areas of the cells allocated in the area does not exceed the cell area that can be placed in the divided cell placement area. A cell arranging method for an integrated circuit device, comprising: a cell allocating step for dividing; and a step of repeatedly executing the area dividing step and the cell allocating step for all of the plurality of cut lines.
JP9053216A 1997-03-07 1997-03-07 Arrangement of cells for integrated circuit device Withdrawn JPH10256375A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6769098B2 (en) 2000-02-29 2004-07-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of physical design for integrated circuit
JP2005196794A (en) * 2004-01-09 2005-07-21 Airbus France Process for preparation of electric wiring diagram

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6769098B2 (en) 2000-02-29 2004-07-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of physical design for integrated circuit
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