JPH10253967A - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display deviceInfo
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- JPH10253967A JPH10253967A JP5320097A JP5320097A JPH10253967A JP H10253967 A JPH10253967 A JP H10253967A JP 5320097 A JP5320097 A JP 5320097A JP 5320097 A JP5320097 A JP 5320097A JP H10253967 A JPH10253967 A JP H10253967A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
わり、特にアクティブマトリクス型の液晶表示装置に関
する。The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to an active matrix type liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、コンピューターを中心とする情報
機器およびテレビを中心とする映像機器の分野におい
て、大型、高精細なアクティブマトリクス型の液晶表示
装置が開発されている。2. Description of the Related Art In recent years, large-sized, high-definition, active matrix type liquid crystal display devices have been developed in the field of information equipment mainly for computers and video equipment mainly for televisions.
【0003】近年アクティブマトリクス型液晶表示装置
では、アレイ基板と対向基板との間隙を一定に保つため
の間隙材(スペーサ)として、プラスチックビースに代
わり柱状のスペーサが用いられている。すなわち、プラ
スチックビーズ周辺の光漏れによるコントラストの低下
と散布むらに起因する表示むらを解消するために、対向
基板側に複数の色の着色層を積層することにより柱状の
スペーサを形成し、このスペーサにより基板間の間隙を
一定に保つことが行なわれている。In recent years, in an active matrix type liquid crystal display device, a columnar spacer is used instead of a plastic bead as a spacer (spacer) for keeping a constant gap between an array substrate and a counter substrate. In other words, in order to eliminate the reduction in contrast due to light leakage around the plastic beads and the uneven display due to uneven scattering, a columnar spacer is formed by stacking a plurality of colored layers on the counter substrate side, and the spacer is formed. Thus, the gap between the substrates is kept constant.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】このような柱状スペー
サを用いた液晶表示装置において、画素の開口率を向上
させるためには、スペーサを走査線上に設置することが
好ましいが、スペーサの設置位置によっては、アレイ基
板の主面(対向面)に存在する段差の影響で、基板間隔
(セルギャップ)を均一に制御することができないとい
う問題があった。In a liquid crystal display device using such a columnar spacer, it is preferable to dispose the spacer on the scanning line in order to improve the aperture ratio of the pixel. However, there is a problem that the distance between the substrates (cell gap) cannot be controlled uniformly due to the step existing on the main surface (opposing surface) of the array substrate.
【0005】例えば、TFT(薄膜トランジスタ)アレ
イ基板では、歩留まり改善のために、走査線上に絶縁性
保護膜により覆われていない部分が存在するが、このよ
うな部分に柱状スペーサが設置された場合には、保護膜
の有無に起因して生じる段差により、セルギャップにむ
らを生じやすく、良好な表示が得られなかった。For example, in a TFT (thin film transistor) array substrate, a portion not covered with an insulating protective film exists on a scanning line to improve the yield. However, when a columnar spacer is provided in such a portion. In (2), unevenness was apt to occur in the cell gap due to the step caused by the presence or absence of the protective film, and good display was not obtained.
【0006】本発明は、これらの問題を解決するために
なされたもので、着色層からなる柱状スペーサの設置に
より、画素の開口率を減じることなく基板間に均一なギ
ャップが得られ、表示むらがなく良好な画質の表示が達
成される液晶表示装置を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve these problems. By providing a columnar spacer made of a colored layer, a uniform gap can be obtained between the substrates without reducing the aperture ratio of pixels, and display unevenness can be obtained. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of achieving good image quality without any display.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、絶縁基板上に複数本の走査線と複数本の信号線とが
それぞれ交差するように形成され、各交差部にスイッチ
ング素子が設けられた第1の基板と、絶縁基板上に対向
電極が形成された第2の基板と、前記第1の基板と第2
の基板との間隙を保つために設置された柱状スペーサ
と、前記第1の基板と第2の基板との間に挟持された液
晶層とを備え、前記第1の基板の前記柱状スペーサが設
置される領域内に段差を有する液晶表示装置において、
前記段差の低部に、該段差を低減する高さを有する少な
くとも一個の突起が形成され、該突起の上面および前記
段差の高部の上面に、前記柱状スペーサの端面が当接さ
れることを特徴とする。According to the liquid crystal display device of the present invention, a plurality of scanning lines and a plurality of signal lines are formed on an insulating substrate so as to intersect with each other, and a switching element is provided at each intersection. A first substrate, a second substrate on which an opposing electrode is formed on an insulating substrate, and the first substrate and the second substrate.
And a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, wherein the columnar spacer of the first substrate is provided. In a liquid crystal display device having a step in a region to be
At least one protrusion having a height that reduces the step is formed at the lower part of the step, and the end surface of the columnar spacer is brought into contact with the upper surface of the protrusion and the upper surface of the high part of the step. Features.
【0008】本発明において、2枚の基板間の間隙を保
つための柱状スペーサは、通常、異なる複数の色の層
(着色層)を積層することにより、第2の基板(対向基
板)上に突出形成され、その上に対向電極が形成され
る。そして、各着色層の厚さ(高さ)や積層順を変える
ことにより、柱状スペーサ全体の高さを自由に変えるこ
とができ、さらに一定の積層順とすることにより、安定
した高さを有する柱状スペーサを形成することができ
る。In the present invention, a columnar spacer for keeping a gap between two substrates is usually formed on a second substrate (a counter substrate) by laminating a plurality of layers of different colors (colored layers). It is formed so as to protrude, and a counter electrode is formed thereon. By changing the thickness (height) and the stacking order of each colored layer, the height of the entire columnar spacer can be freely changed, and by making the stacking order constant, a stable height can be obtained. Columnar spacers can be formed.
【0009】本発明において、第1の基板(アレイ基
板)の段差の低い部分に設けられる突起は、同じ高さの
層の構成する材料により、同層の形成と同時に積層形成
することが望ましい。特に、スイッチング素子としてT
FTが設けられ、このTFTに近接する例えば走査線上
に突起を設ける場合には、TFTを構成する複数の層の
少なくとも一層により、突起を形成することが望まし
い。In the present invention, it is desirable that the projections provided on the low-step portion of the first substrate (array substrate) be formed simultaneously with the formation of the same layer by using the same layer material. In particular, T
When an FT is provided and a projection is provided on, for example, a scanning line near the TFT, it is preferable that the projection be formed by at least one of a plurality of layers constituting the TFT.
【0010】また、このような突起は、段差の高低差を
解消し、柱状スペーサが設置される領域を平坦化するに
必要かつ十分な高さを有するものとし、1個または複数
個をアレイ基板上の非開口部に設けることが望ましい。[0010] Further, such a projection has a height necessary and sufficient to eliminate the height difference of the step and to flatten the region where the columnar spacer is provided. It is desirable to provide in the upper non-opening.
【0011】本発明の液晶表示装置では、第1の基板
(アレイ基板)側において、柱状スペーサが設置される
非開口領域内の段差部に、段差の高さに応じた高さを有
する突起が形成され、この突起の上面および段差の上部
に当接するように、柱状スペーサが設置されるので、セ
ルギャップむらが解消される。したがって、セルギャッ
プむらに起因する表示むらがなくなり、歩留まりが向上
する。また、このような突起の形成により段差部が平坦
化されるため、開口率を下げることなく柱状スペーサの
設置領域を確保することができ、柱状スペーサを最適位
置に設置することができる。[0011] In the liquid crystal display device of the present invention, on the first substrate (array substrate) side, a protrusion having a height corresponding to the height of the step is formed on the step in the non-opening area where the columnar spacer is provided. Since the columnar spacers are formed so as to be in contact with the upper surfaces of the protrusions and the upper portions of the steps, uneven cell gaps are eliminated. Therefore, display unevenness due to cell gap unevenness is eliminated, and the yield is improved. In addition, since the step portion is flattened by the formation of such projections, the installation area of the columnar spacer can be secured without lowering the aperture ratio, and the columnar spacer can be installed at an optimum position.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0013】図1は、本発明の液晶表示装置の一実施例
において、TFTアレイ基板と対向基板とを組合わせて
得られる液晶セルを対向基板側から透視した平面図を示
す。また図2は、図1における柱状スペーサ設置部のA
−A線に沿った断面図を示し、図3は、図1におけるT
FT部のB−B線に沿った断面図を示す。FIG. 1 is a plan view showing a liquid crystal cell obtained by combining a TFT array substrate and a counter substrate in an embodiment of the liquid crystal display device of the present invention as seen through from the counter substrate side. FIG. 2 is a sectional view of the columnar spacer installation portion in FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line A of FIG.
FIG. 4 shows a cross-sectional view of the FT section along line BB.
【0014】まず、実施例の液晶表示装置に使用するT
FTアレイ基板の概略を説明する。このTFTアレイ基
板は、図1に示すように、絶縁基板上に複数本の走査線
1と信号線2とが交差して形成され、その交差した各区
画の画素ごとに、スイッチング素子としてTFT3が形
成されている。そして、各画素において、TFT3のゲ
ート電極とドレイン電極は、それぞれ走査線1および信
号線2に突出して一体に形成されており、ソース電極は
画素電極4に接続されている。さらに、走査線1上の所
定の一部1aを除いて、走査線1と信号線2およびTF
T3の上には、絶縁性の保護膜5が連接して形成されて
おり、このような保護膜5により覆われていない走査線
1上の一部1aには段差が形成されている。またさら
に、この段差の低い部分には、段差の高さに相当する高
さを有する突起6が設けられ、この突起6を含む走査線
1上の領域内に柱状スペーサ7が設置されている。First, T used in the liquid crystal display device of the embodiment will be described.
The outline of the FT array substrate will be described. In this TFT array substrate, as shown in FIG. 1, a plurality of scanning lines 1 and signal lines 2 are formed on an insulating substrate so as to intersect with each other. Is formed. In each pixel, a gate electrode and a drain electrode of the TFT 3 are integrally formed so as to protrude from the scanning line 1 and the signal line 2, respectively, and a source electrode is connected to the pixel electrode 4. Further, except for a predetermined portion 1a on the scanning line 1, the scanning line 1, the signal line 2, and the TF
An insulating protective film 5 is continuously formed on T3, and a step is formed in a part 1a on the scanning line 1 not covered by such a protective film 5. Further, a projection 6 having a height corresponding to the height of the step is provided in a portion having a low step, and a columnar spacer 7 is provided in a region on the scanning line 1 including the projection 6.
【0015】このようなTFTアレイ基板の構造を、さ
らに詳細に説明する。The structure of such a TFT array substrate will be described in more detail.
【0016】実施例の液晶表示装置のTFTアレイ基板
では、図2および図3にそれぞれ示すように、ガラス基
板のような透明な絶縁基板8上に、Al、Mo、W、T
a、Ti等の金属からなる走査線1とゲート電極9とが
一体的に形成され、それらの上に、酸化シリコン等から
なるゲート絶縁膜10が形成されている。そして、この
ゲート絶縁膜10上に、インジウム・ティン・オキサイ
ド(ITO)等の透明材料からなる画素電極4が形成さ
れている。また、ゲート電極9の上方のゲート絶縁膜1
0上に、a−Si(アモルファスシリコン)のような半
導体層11と低抵抗半導体層(コンタクト層)12、お
よびチッ化ケイ素等からなるエッチング保護膜13が順
に設けられており、さらに低抵抗半導体層12に接続し
てドレイン電極14と島状のソース電極15とが、それ
ぞれ信号線2と同層に形成され、チャネル保護型のTF
T3が形成されている。また、走査線1上の所定の一部
1aには、TFT3を構成する半導体層11とエッチン
グ保護膜13とが島状に積層され、小サイズ(例えば15
μm ×15μm )の突起6が形成されている。さらに、こ
の突起6の周囲の領域を除き、走査線1と信号線2およ
びTFT3の上には、絶縁性の保護膜5が被覆形成され
ており、さらにその上にはポリイミド等からなる配向膜
(図示を省略。)が塗布され、ラビングによる配向処理
がなされている。In the TFT array substrate of the liquid crystal display device according to the embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, Al, Mo, W, and T are formed on a transparent insulating substrate 8 such as a glass substrate.
A scanning line 1 made of a metal such as a or Ti and a gate electrode 9 are integrally formed, and a gate insulating film 10 made of silicon oxide or the like is formed thereon. The pixel electrode 4 made of a transparent material such as indium tin oxide (ITO) is formed on the gate insulating film 10. Also, the gate insulating film 1 above the gate electrode 9
A semiconductor layer 11 such as a-Si (amorphous silicon), a low-resistance semiconductor layer (contact layer) 12, and an etching protection film 13 made of silicon nitride or the like are provided in this order on the semiconductor substrate 11. A drain electrode 14 and an island-shaped source electrode 15 connected to the layer 12 are respectively formed in the same layer as the signal line 2, and a channel protection type TF
T3 is formed. On a predetermined portion 1a on the scanning line 1, a semiconductor layer 11 constituting the TFT 3 and an etching protection film 13 are laminated in an island shape, and have a small size (for example,
μm × 15 μm) are formed. Except for the area around the projection 6, an insulating protective film 5 is formed on the scanning line 1, the signal line 2, and the TFT 3 so as to cover it. (Not shown) is applied, and an alignment process by rubbing is performed.
【0017】一方、対向基板側においては、ガラス基板
のような透明な絶縁基板8上に遮光層(ブラックマトリ
クス)16が形成され、またR(赤色)、G(緑色)、
B(青色)の各着色層を所定のパターンで形成すること
により、カラーフィルタ(図示を省略。)が形成されて
いる。そして、カラーフィルタの形成において、赤色着
色層17R、緑色着色層17Gおよび青色着色層17B
を、それぞれ遮光層16上の所定の位置に順に積層形成
することにより、例えば15μm ×30μm の柱状のスペー
サ7が形成されている。On the other hand, on the counter substrate side, a light shielding layer (black matrix) 16 is formed on a transparent insulating substrate 8 such as a glass substrate, and R (red), G (green),
A color filter (not shown) is formed by forming each colored layer of B (blue) in a predetermined pattern. In forming a color filter, the red coloring layer 17R, the green coloring layer 17G, and the blue coloring layer 17B are formed.
Are sequentially laminated at predetermined positions on the light shielding layer 16, thereby forming a columnar spacer 7 of, for example, 15 μm × 30 μm.
【0018】ここで、遮光層16とカラーフィルタの形
成、並びに柱状スペーサ7の形成は、例えば以下に示す
方法で行なわれる。まず、絶縁基板8上に、感光性の黒
色樹脂を塗布し、露光・現像・焼成を順に行なうことに
より遮光層16を形成した後、赤色の顔料を分散させた
紫外線硬化型アクリル樹脂レジストを塗布し、露光・現
像・焼成を順に行なって赤色の着色層を形成する。この
とき遮光層16上の所定の位置にも、同様な方法で赤色
の着色層17Rを形成し、赤色スペーサ部を形成する。
次いで、緑色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル
樹脂レジストにより、同様にして緑色の着色層を形成
し、同時に先に形成された赤色スペーサ部の上にも緑色
の着色層17Gを積層して、赤色−緑色積層スペーサ部
を形成し、さらに、青色の顔料を分散させた紫外線硬化
型アクリル樹脂レジストにより、青色の着色層を形成す
ると同時に、先に形成された赤色−緑色積層スペーサ部
の上にも青色の着色層17Bを積層して、赤色−緑色−
青色の3色の着色層が順に積層された柱状スペーサ7を
形成する。Here, the formation of the light shielding layer 16 and the color filters, and the formation of the columnar spacers 7 are performed, for example, by the following method. First, a photosensitive black resin is applied on the insulating substrate 8, and a light-shielding layer 16 is formed by sequentially performing exposure, development, and baking, and then an ultraviolet-curable acrylic resin resist in which a red pigment is dispersed is applied. Then, exposure, development, and baking are sequentially performed to form a red colored layer. At this time, a red coloring layer 17R is formed at a predetermined position on the light-shielding layer 16 by the same method, and a red spacer portion is formed.
Next, a green colored layer is formed in the same manner using an ultraviolet-curable acrylic resin resist in which a green pigment is dispersed, and at the same time, a green colored layer 17G is also laminated on the previously formed red spacer portion. Forming a red-green laminated spacer portion, and further forming a blue colored layer with an ultraviolet curable acrylic resin resist in which a blue pigment is dispersed, and simultaneously forming a blue-colored layer on the previously formed red-green laminated spacer portion. Also, a blue colored layer 17B is laminated, and red-green-
A columnar spacer 7 in which three colored layers of blue are sequentially stacked is formed.
【0019】さらに、こうして形成されたカラーフィル
タ上には、ITOからなる対向電極(図示を省略。)が
形成され、さらにその上にポリイミドからなる配向膜
(図示を省略。)が塗布形成されて、ラビングによる配
向処理がなされている。そして、このような対向基板と
前記したTFTアレイ基板とが、配向膜が形成された面
を内側にし、かつ対向基板側に突出形成された柱状スペ
ーサ7がTFTアレイ基板側の突起6が形成された走査
線1上の段差領域に設置されるように、対向配置されて
おり、これらの基板間にTN液晶のような液晶組成物1
8が挟持されている。Further, a counter electrode (not shown) made of ITO is formed on the color filter thus formed, and an alignment film (not shown) made of polyimide is further applied thereon. Alignment treatment by rubbing is performed. The opposing substrate and the above-described TFT array substrate have the surface on which the alignment film is formed on the inside, and the columnar spacer 7 protrudingly formed on the opposing substrate side is formed with the protrusion 6 on the TFT array substrate side. The liquid crystal composition 1 such as a TN liquid crystal is disposed between the substrates so as to face each other so as to be set in a step region on the scanning line 1.
8 are pinched.
【0020】このように構成される実施例の液晶表示装
置においては、TFTアレイ基板の走査線1上の段差の
低部に突起6が形成され、この突起6により平坦化され
た領域に柱状スペーサ7が設置されているので、基板間
に均一なギャップを得ることができる。したがって、表
示むらがなくなり、良好な画質の表示を達成することが
できる。また、開口率を低下させることなく柱状スペー
サ7を設置することができる領域が拡大する。In the liquid crystal display device of the embodiment constructed as described above, the projection 6 is formed at the lower part of the step on the scanning line 1 of the TFT array substrate, and the columnar spacer is formed in the area flattened by the projection 6. Since 7 is provided, a uniform gap between the substrates can be obtained. Therefore, display unevenness is eliminated, and display with good image quality can be achieved. Further, the area where the columnar spacer 7 can be installed without lowering the aperture ratio is expanded.
【0021】次に、本発明の液晶表示装置の別の実施例
を、図4乃至図6に基づいて説明する。なお、これらの
図において、図1乃至図3と同一の部分には同一の符号
を付して説明を省略する。Next, another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that, in these figures, the same parts as those in FIGS. 1 to 3 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0022】この実施例の液晶表示装置では、TFTア
レイ基板において、TFT3に極めて近接した走査線1
上の位置に、a−Siからなる半導体層11とエッチン
グ保護膜13、および信号線2と同じ金属層19が順に
島状に積層され、例えば15μm ×20μm のサイズの突起
6が形成されており、さらにその上に絶縁性の保護膜5
が被覆形成されている。In the liquid crystal display device of this embodiment, the scanning line 1 very close to the TFT 3 is formed on the TFT array substrate.
At the upper position, a semiconductor layer 11 made of a-Si, an etching protection film 13, and a metal layer 19, which is the same as the signal line 2, are sequentially stacked in an island shape, and a projection 6 having a size of, for example, 15 μm × 20 μm is formed. And an insulating protective film 5 thereon.
Is coated.
【0023】一方、対向基板側では、前記実施例と同様
に、絶縁基板8上に形成された遮光層16上に、赤色着
色層17R、緑色着色層17Gおよび青色着色層17B
をそれぞれ順に積層することにより、例えば20μm ×40
μm のサイズの柱状スペーサ7が形成されている。そし
て、このような対向基板と前記したTFTアレイ基板と
が、対向基板側に形成された柱状スペーサ7が、TFT
アレイ基板側のTFT3および走査線1上に形成された
突起6を含む段差領域に設置されるように、対向配置さ
れている。すなわち、柱状スペーサ7の先端面が、保護
膜5を介してTFT3の上面および突起6の上面に当接
されるように、対向基板とTFTアレイ基板とが対向配
置され、これらの基板間にTN液晶のような液晶組成物
18が挟持されている。On the other hand, on the counter substrate side, a red coloring layer 17R, a green coloring layer 17G, and a blue coloring layer 17B are formed on the light shielding layer 16 formed on the insulating substrate 8 in the same manner as in the above embodiment.
Are sequentially laminated, for example, 20 μm × 40
A columnar spacer 7 having a size of μm is formed. Then, the columnar spacer 7 formed on the counter substrate side such that the counter substrate and the above-described TFT array substrate are connected to each other by the TFT
The TFTs 3 and the projections 6 formed on the scanning lines 1 on the array substrate side are disposed so as to face each other so as to be installed in a stepped area. That is, the opposing substrate and the TFT array substrate are disposed so as to face each other such that the tip end surface of the columnar spacer 7 is in contact with the upper surface of the TFT 3 and the upper surface of the protrusion 6 via the protective film 5. A liquid crystal composition 18 such as a liquid crystal is sandwiched.
【0024】このような実施例の液晶表示装置において
は、柱状スペーサ7が設置されるTFT3を含む領域の
段差が突起6により平坦化されているため、基板間に均
一なギャップを得ることができ、表示むらのない良好な
表示を得ることができる。また、前記した実施例に比べ
て、開口率を下げることなく、TFT3とそれに近接す
る走査線1上の段差領域により大きなサイズ(断面積)
の柱状スペーサ7を設置することができるので、パネル
の強度をさらに向上させることができる。なお、この第
二の実施例においては、TFT3に近接する走査線1上
に突起6を形成したが、TFT3に近接する信号線2上
に突起6を形成し、その突起6とTFT3を含む段差領
域に柱状スペーサ7を設置しても、同様な効果を上げる
ことができる。In the liquid crystal display device of this embodiment, since the step in the region including the TFT 3 where the columnar spacer 7 is provided is flattened by the projection 6, a uniform gap can be obtained between the substrates. Thus, it is possible to obtain a good display without display unevenness. Also, as compared with the above-described embodiment, the TFT 3 and the step region on the scanning line 1 adjacent thereto have a larger size (cross-sectional area) without lowering the aperture ratio.
Since the columnar spacer 7 can be provided, the strength of the panel can be further improved. In the second embodiment, the projection 6 is formed on the scanning line 1 adjacent to the TFT 3, but the projection 6 is formed on the signal line 2 adjacent to the TFT 3, and the step including the projection 6 and the TFT 3 is formed. The same effect can be obtained by providing the columnar spacer 7 in the region.
【0025】[0025]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の液晶表示装置においては、アレイ基板の柱状スペーサ
が設置される非開口領域内の段差部に、段差の高さに応
じた突起が設けられ、段差が解消され平坦化されている
ので、開口率を下げることなく均一なセルギャップを得
ることができる。したがって、セルギャップむらに起因
する表示むらがなくなり、高輝度で良好な表示を得るこ
とができる。As is apparent from the above description, in the liquid crystal display device of the present invention, a projection corresponding to the height of the step is formed at the step in the non-opening area where the columnar spacer of the array substrate is installed. Since it is provided, the step is eliminated and the surface is flattened, a uniform cell gap can be obtained without lowering the aperture ratio. Therefore, display unevenness due to cell gap unevenness is eliminated, and high-brightness and good display can be obtained.
【0026】また、柱状スペーサの設置可能な平坦な領
域が拡大し、設計の自由度も広がるため、最適設計によ
り高性能、低コストの液晶表示装置を得ることができ
る。Further, the flat area where the columnar spacer can be placed is expanded, and the degree of freedom of design is expanded. Therefore, a high-performance, low-cost liquid crystal display device can be obtained by optimal design.
【図1】本発明の液晶表示装置の一実施例において、液
晶セルを対向基板側から透視した平面図。FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, in which a liquid crystal cell is seen through from a counter substrate side.
【図2】図1における柱状スペーサ設置部のA−A線に
沿った断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of the columnar spacer installation section in FIG. 1 taken along line AA.
【図3】図1におけるTFT部のB−B線に沿った断面
図。FIG. 3 is a cross-sectional view of the TFT section in FIG. 1 along the line BB.
【図4】本発明の液晶表示装置の別の実施例において、
液晶セルを対向基板側から透視した平面図。FIG. 4 shows another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.
FIG. 3 is a plan view of the liquid crystal cell seen through from a counter substrate side.
【図5】図4における柱状スペーサ設置部のA−A線に
沿った断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view of the columnar spacer installation section in FIG. 4 taken along line AA.
【図6】図4におけるTFT部のB−B線に沿った断面
図。FIG. 6 is a cross-sectional view of the TFT section in FIG. 4 along the line BB.
1………走査線 2………信号線 3………TFΤ 4………画素電極 5………絶縁性保護膜 6………突起 7………柱状スペーサ 8………絶縁基板 9………ゲート電極 10………ゲート絶縁膜 11………半導体層 12………低抵抗半導体層、 13………エッチング保護膜層、 14………ドレイン電極 15………ソース電極 16………遮光層 17R………赤色着色層 17G………緑色着色層 17B………青色着色層 18………液晶組成物 19………金属層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Scanning line 2 ... Signal line 3 ... TF4 4 ... Pixel electrode 5 ... Insulating protective film 6 ... Protrusion 7 ... Column spacer 8 ... Insulating substrate 9 ... ... Gate electrode 10 Gate insulating film 11 Semiconductor layer 12 Low-resistance semiconductor layer 13 Etching protective film layer 14 Drain electrode 15 Source electrode 16 … Light-shielding layer 17R… red coloring layer 17G… green coloring layer 17B… blue coloring layer 18… liquid crystal composition 19… metal layer
Claims (3)
信号線とがそれぞれ交差するように形成され、各交差部
にスイッチング素子が設けられた第1の基板と、絶縁基
板上に対向電極が形成された第2の基板と、前記第1の
基板と第2の基板との間隙を保つために設置された柱状
スペーサと、前記第1の基板と第2の基板との間に挟持
された液晶層とを備え、前記第1の基板の前記柱状スペ
ーサが設置される領域内に段差を有する液晶表示装置に
おいて、 前記段差の低部に、該段差を低減する高さを有する少な
くとも一個の突起が形成され、該突起の上面および前記
段差の高部の上面に、前記柱状スペーサの端面が当接さ
れることを特徴とする液晶表示装置。1. A first substrate having a plurality of scanning lines and a plurality of signal lines formed on an insulating substrate so as to intersect with each other, and a switching element provided at each of the intersections; A second substrate on which a counter electrode is formed, a columnar spacer provided to maintain a gap between the first substrate and the second substrate, and a second spacer between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal display device having a sandwiched liquid crystal layer, and a step in a region of the first substrate where the columnar spacer is provided, wherein at least a low portion of the step has a height to reduce the step. A liquid crystal display device, wherein one projection is formed, and an end surface of the columnar spacer is in contact with an upper surface of the projection and an upper surface of a high portion of the step.
の基板の領域が、前記スイッチング素子を含む領域であ
り、このスイッチング素子に近接する前記走査線上に前
記突起が形成されていることを特徴とする請求項1記載
の液晶表示装置。2. The method according to claim 1, wherein the first spacer on which the columnar spacer is installed is provided.
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a region of the substrate is a region including the switching element, and the projection is formed on the scanning line adjacent to the switching element.
タであり、前記突起が該薄膜トランジスタを構成する層
の少なくとも一層により形成されていることを特徴とす
る請求項2記載の液晶表示装置。3. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein said switching element is a thin film transistor, and said projection is formed by at least one layer constituting said thin film transistor.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5320097A JPH10253967A (en) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | Liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP5320097A JPH10253967A (en) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | Liquid crystal display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH10253967A true JPH10253967A (en) | 1998-09-25 |
Family
ID=12936242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP5320097A Withdrawn JPH10253967A (en) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | Liquid crystal display device |
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Country | Link |
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