JPH10246952A - Waterless original ligthographic printing plate - Google Patents

Waterless original ligthographic printing plate

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Publication number
JPH10246952A
JPH10246952A JP4924597A JP4924597A JPH10246952A JP H10246952 A JPH10246952 A JP H10246952A JP 4924597 A JP4924597 A JP 4924597A JP 4924597 A JP4924597 A JP 4924597A JP H10246952 A JPH10246952 A JP H10246952A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing plate
silicone rubber
plate precursor
weight
group
Prior art date
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Pending
Application number
JP4924597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuzuru Baba
譲 馬場
Norimasa Ikeda
憲正 池田
Yutaka Ishida
豊 石田
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP4924597A priority Critical patent/JPH10246952A/en
Publication of JPH10246952A publication Critical patent/JPH10246952A/en
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a negative waterless original lithographic printing plate of a photosensitive-layer-remaining type, good in image reproducibility and superior in storage stability. SOLUTION: This waterless original lighographic printing plate is provided with a primer layer, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer in this order on a base plate and this photosensitive layer contains an cetone-pyrogallol resin having a cross-linking structure, and the silicone rubber layer is hardened by the addition reaction of vinyl groups and SiH groups.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は水なし平版印刷版原
版に関するものであり、さらに詳しくは画像再現性が良
好で且つ保存安定性に優れた水なし平版印刷版原版に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor without water, and more particularly, to a lithographic printing plate precursor having good image reproducibility and excellent storage stability.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来からシリコーンゴムやフッ素樹脂を
インキ反撥層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷
を行なうための印刷版が種々提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various printing plates have been proposed for performing lithographic printing using silicone rubber or fluororesin as an ink repellent layer without using dampening water.

【0003】フッ素樹脂をインキ反撥層に用いる感光性
平版印刷版としては、特開平2−254449号、特開
平2−85855号などがあり、フッ素樹脂としては1
H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアク
リレートや1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオ
ロデシルメタクリレートが用いられている。
As photosensitive lithographic printing plates using a fluororesin for the ink repellent layer, there are JP-A-2-254449 and JP-A-2-85855, and the like.
H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl acrylate and 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate are used.

【0004】シリコーンゴムをインキ反撥層とするポジ
型感光性平版印刷版としては、例えば特公昭54−26
923号、特公昭56−23150号などに提案されて
いる基板上に光重合性接着層とシリコーンゴム層とが積
層された水なし平版印刷版や、特開昭61−15365
5号、特公平3−56622号などに提案されている基
板上に光二量化型感光層とシリコーンゴム層とが積層さ
れた水なし平版印刷版などが挙げられる。
A positive type photosensitive lithographic printing plate having a silicone rubber as an ink repellent layer is disclosed in, for example, JP-B-54-26.
No. 923, Japanese Patent Publication No. 56-23150, etc., a waterless planographic printing plate in which a photopolymerizable adhesive layer and a silicone rubber layer are laminated on a substrate;
No. 5, JP-B-3-56622 and the like, and a waterless planographic printing plate in which a photodimerizing photosensitive layer and a silicone rubber layer are laminated on a substrate.

【0005】また、シリコーンゴムをインキ反撥層に用
いるネガ型感光性平版印刷版としては、特公昭61−6
16号、特公昭61−54218号などに支持体上にキ
ノンジアジド化合物を含む感光層とその上に接着層を介
してシリコーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が提案
されている。
A negative type photosensitive lithographic printing plate using silicone rubber for the ink repellent layer is disclosed in Japanese Patent Publication No. 61-6 / 1986.
No. 16, JP-B-61-54218, etc. propose a waterless planographic printing plate having a photosensitive layer containing a quinonediazide compound on a support and a silicone rubber layer provided on the photosensitive layer via an adhesive layer.

【0006】また、印刷版作製後に刷版のUVインキ耐
性や耐溶剤性を向上させるため方法についても種々の発
明がなされている。例えば特公昭61−617号、特開
昭57−192956号、特開昭57−192957
号、特開昭57−205740号、特開昭60−133
452号、特開昭60−169852号などが挙げられ
る。
Various inventions have also been made on methods for improving the UV ink resistance and solvent resistance of a printing plate after the printing plate is manufactured. For example, JP-B-61-617, JP-A-57-192965, and JP-A-57-192957.
JP-A-57-205740, JP-A-60-133
452 and JP-A-60-169852.

【0007】これらの中でも特開昭60−169852
号ではアセトンピロガロール樹脂にキノンジアジド基を
付加した化合物を使用した感光層を有する水なし平版が
提案されている。しかしながら、この方法では、生版の
状態ではアセトンピロガロール樹脂が架橋されていない
ため現像性が不安定であり、また感光層の耐溶剤性を向
上させるために画像露光、現像した後に全面露光が必要
であるため作業性が悪く、また耐溶剤性の改良効果も満
足できるものではなかった。さらに、この方法では現像
により感光層が溶解するいわゆる溶解現像型の水なし平
版であったためインキ着肉性、インキマイレージが劣る
といった問題があった。
[0007] Of these, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-169852
In Japanese Patent Laid-Open Publication No. H11-264, a waterless lithographic plate having a photosensitive layer using a compound obtained by adding a quinonediazide group to an acetone pyrogallol resin is proposed. However, in this method, the developability is unstable because the acetone pyrogallol resin is not crosslinked in the raw plate state, and it is necessary to perform image exposure and overall exposure after development in order to improve the solvent resistance of the photosensitive layer. Therefore, the workability was poor and the effect of improving the solvent resistance was not satisfactory. Further, in this method, a so-called solution-developing waterless lithographic plate in which the photosensitive layer is dissolved by development, there is a problem in that the ink deposition property and the ink mileage are inferior.

【0008】また、特開昭60ー133453号、特開
昭60−35735号においてもアセトンピロガロール
樹脂にキノンジアジド基を付加した化合物を使用した水
なし平版が提案されているが、いずれも溶解現像型の水
なし平版であるためインキ着肉性、インキマイレージが
悪く、さらに現像後に未露光部の耐溶剤性向上のために
熱処理が必要なため作業性が悪くまた耐溶剤性の改良効
果が低く実用的ではなかった。
In Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-133453 and 60-35735, waterless lithographic plates using a compound obtained by adding a quinonediazide group to an acetone pyrogallol resin have been proposed. The waterless lithographic plate has poor ink deposition and ink mileage, and requires heat treatment to improve the solvent resistance of the unexposed areas after development, resulting in poor workability and low effect of improving solvent resistance. It was not a target.

【0009】これらの問題点を解決する方法として例え
ば特公昭61−54222号では、支持体上に、1,2
−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリ
ドとフェノールホルムアルドヒドノボラック樹脂の部分
エステル化物を多官能イソシアネートで架橋し、現像時
に画線部の感光層が残存する光剥離性感光層を有するネ
ガ型水なし平版印刷版が提案されている。この方法によ
り現像時の耐溶剤性はもちろんのこと刷版作製後のUV
インキ耐性、耐溶剤性も向上させることができた。
As a method for solving these problems, for example, Japanese Patent Publication No. 61-54222 discloses a method in which 1,2 is coated on a support.
Negative having a photo-peelable photosensitive layer in which a partially esterified product of naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde hydronovolak resin is cross-linked with a polyfunctional isocyanate, and the photosensitive layer in the image area remains during development. Lithographic printing plates without mold water have been proposed. By this method, not only the solvent resistance during development but also the UV
Ink resistance and solvent resistance were also improved.

【0010】しかしながら、これらの水なし平版は感光
成分が有する水酸基が少なかったため、イソシアネート
との反応が遅く、実用に耐えうる耐溶剤性を得るために
はイソシアネートを過剰に使用する必要があった。その
ため初期で未反応のイソシアネートが経時的に感光層の
架橋を進め、感度が低下するという問題があった。
However, since these waterless lithographic plates have a small number of hydroxyl groups in the photosensitive component, the reaction with the isocyanate is slow, and it is necessary to use an excess of isocyanate in order to obtain a solvent resistance that can withstand practical use. For this reason, there is a problem that the isocyanate which has not been reacted at the initial stage promotes the crosslinking of the photosensitive layer with time, and the sensitivity is lowered.

【0011】一方水なし平版印刷版原版のインキ反発層
として使用するシリコーンゴム層については従来は縮合
型のシリコーンゴムが一般的であったが、縮合型の反応
は湿度の影響を受けやすいため反応速度や感光層との接
着性が制御し難いという問題点があった。
On the other hand, regarding the silicone rubber layer used as the ink repellent layer of the waterless planographic printing plate precursor, a condensation type silicone rubber has conventionally been generally used. There was a problem that it was difficult to control the speed and the adhesion to the photosensitive layer.

【0012】これらの問題点を改良する方法として、付
加型シリコーンゴムを使用する方法が種々提案されてい
る。特開平4−68353号では光重合性の感光層上に
特定の構造のハイドロジェンシロキサンを含有する付加
型シリコーンゴム層を塗設したポジ型水なし平版印刷版
原版が提案されている。しかしながら光重合性感光層と
の接着性が不充分であり、シリコーンゴム層の硬化性も
充分ではなく硬化するまでに時間がかかるという問題が
あった。そこで特開平4−174437号、特開平5−
94007号では感光層中の光重合性モノマーとして特
定の構造のものを使用することでシリコーンゴム層の硬
化性を改良する方法が提案されている。特開平4−17
4437号では、一分子中に6〜60個のエチレンオキ
サイド基あるいはプロピレンオキサイド基を有する光重
合性モノマーを使用する方法が提案されているが、シリ
コーンゴム層の硬化性は改良されたものの感光層との接
着性は充分ではなく実用化には至っていない。
As a method for solving these problems, various methods using an addition type silicone rubber have been proposed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-68353 proposes a positive waterless planographic printing plate precursor in which an additional silicone rubber layer containing a hydrogensiloxane having a specific structure is coated on a photopolymerizable photosensitive layer. However, there was a problem that the adhesiveness with the photopolymerizable photosensitive layer was insufficient, and the curability of the silicone rubber layer was not sufficient, and it took time to cure. Therefore, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
No. 94007 proposes a method for improving the curability of a silicone rubber layer by using a photopolymerizable monomer having a specific structure as a photopolymerizable monomer in a photosensitive layer. JP-A-4-17
No. 4437 proposes a method of using a photopolymerizable monomer having 6 to 60 ethylene oxide groups or propylene oxide groups in one molecule. However, although the curability of the silicone rubber layer is improved, the photosensitive layer is improved. Is not sufficient and has not been put to practical use.

【0013】更に特開平6−202313号では光重合
性、光架橋性あるいは光剥離性の感光層上に接着付与剤
として加水分解性基を有する3級アミン系の有機ケイ素
化合物を含有する付加型シリコーンゴム層を塗設させる
方法が提案されている。この方法により感光層との接着
性は向上させることができるが、接着性がシリコーンゴ
ム層塗設時の湿度により変化し安定した接着性が得にく
く、また接着付与剤の添加量が多い場合にインキ反発性
が低下するという問題があった。
Further, JP-A-6-202313 discloses an addition type containing a tertiary amine-based organosilicon compound having a hydrolyzable group as an adhesion promoter on a photopolymerizable, photocrosslinkable or photoremovable photosensitive layer. A method of applying a silicone rubber layer has been proposed. Although the adhesiveness with the photosensitive layer can be improved by this method, the adhesiveness changes depending on the humidity at the time of coating the silicone rubber layer, and it is difficult to obtain stable adhesiveness. There is a problem that ink resilience decreases.

【0014】また、特開平6−202313号では感光
層にキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹
脂を含有し、シリコーンゴム層に付加型シリコーンゴム
を使用した水なし平版印刷版原版が例示されているが、
感光層が未架橋であるためシリコーンゴム層の硬化性が
不充分であり、また前記のものと同様に非画線部の耐溶
剤性が不足しインキ着肉性、インキマイレージが悪く実
用化には至っていない。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 6-202313 discloses a waterless planographic printing plate precursor in which the photosensitive layer contains an acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group and the silicone rubber layer uses an addition type silicone rubber.
Since the photosensitive layer is not cross-linked, the curability of the silicone rubber layer is insufficient, and the solvent resistance of the non-image area is insufficient, as in the case of the above, and the ink adhesion and ink mileage are poor. Has not been reached.

【0015】[0015]

【本発明が解決しようとする課題】本発明の目的は画像
再現性が良好で、かつ保存安定性に優れた水なし平版印
刷版原版を得るためのものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to obtain a waterless planographic printing plate precursor having good image reproducibility and excellent storage stability.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明者らは検討を重ね
た結果、以下の方法により上記の課題を解決することが
できることを見出した。
As a result of repeated studies, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by the following method.

【0017】すなわち、本発明の目的は (1)基板上に少なくとも、プライマー層、感光層およ
びシリコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版
印刷版原版において、該感光層が架橋構造を形成したキ
ノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂を含
有し、且つシリコーンゴム層がビニル基とSiH基の付
加反応により硬化していることを特徴とする水なし平版
印刷版原版。
That is, the objects of the present invention are as follows: (1) In a waterless lithographic printing plate precursor comprising at least a primer layer, a photosensitive layer and a silicone rubber layer laminated on a substrate in this order, the photosensitive layer forms a crosslinked structure. A waterless planographic printing plate precursor comprising an acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group and a silicone rubber layer cured by an addition reaction between a vinyl group and a SiH group.

【0018】(2)アセトンピロガロール樹脂が下記一
般式1で表されることを特徴とする(1)記載の水なし
平版印刷版原版。
(2) The waterless planographic printing plate precursor as described in (1), wherein the acetone pyrogallol resin is represented by the following general formula 1.

【0019】[0019]

【化2】 (式中X、Y、Z、はそれぞれ独立して水酸基あるいは
キノンジアジドのスルホン酸エステル基を表す。nは5
〜12の整数を表す。) (3)シリコーンゴム層が分子中に2個以上ビニル基を
有するオルガノポリシロキサンと分子中に3個以上Si
H基を有するハイドロジェンシロキサンおよび白金化合
物を含有することを特徴とする(1)〜(2)記載の水
なし平版印刷版原版。
Embedded image (Wherein X, Y, and Z each independently represent a hydroxyl group or a sulfonic ester group of quinonediazide; n is 5
Represents an integer of from 12 to 12. (3) An organopolysiloxane in which the silicone rubber layer has two or more vinyl groups in the molecule and three or more Si atoms in the molecule
The lithographic printing plate precursor according to (1) or (2), further comprising a hydrogen siloxane having an H group and a platinum compound.

【0020】(4)ハイドロジェンシロキサンの分子中
に有するSiH基数/分子量の値が0.001mol/
g以上であることを特徴とする(1)〜(3)記載の水
なし平版印刷版原版。
(4) The value of the number of SiH groups / molecular weight in the molecule of the hydrogen siloxane is 0.001 mol /
g of the lithographic printing plate precursor without water according to (1) to (3).

【0021】(5)シリコーンゴム層中のビニル基数1
に対するSiH基数の比率が1.5〜15の範囲にある
ことを特徴とする(1)〜(4)記載の水なし平版印刷
版原版。
(5) The number of vinyl groups in the silicone rubber layer is 1
The waterless planographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (4), wherein the ratio of the number of SiH groups to the lithographic printing plate is from 1.5 to 15.

【0022】(6)アセトンピロガロール樹脂が1,2
−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリ
ドあるいは、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4
−スルホン酸クロリドによりエステル化されており、エ
ステル化度が5〜67%であることを特徴とする(1)
〜(5)記載の水なし平版印刷版原版。
(6) When the acetone pyrogallol resin is 1,2
-Naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride or 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4
It is esterified with sulfonic acid chloride and has a degree of esterification of 5 to 67% (1)
Waterless planographic printing plate precursors according to (5).

【0023】(7)アセトンピロガロール樹脂がイソシ
アネート化合物により架橋されていることを特徴とする
(1)〜(6)記載の水なし平版印刷版原版。
(7) The waterless planographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (6), wherein the acetone pyrogallol resin is crosslinked with an isocyanate compound.

【0024】(8)感光層中のイソシアネートの含有量
がキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂
に対して5〜45重量%であることを特徴とする(1)
〜(7)記載の水なし平版印刷版原版。
(8) The isocyanate content in the photosensitive layer is 5 to 45% by weight based on the acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group.
Waterless planographic printing plate precursors according to (7).

【0025】により達成される。Is achieved by:

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下に本発明について詳しく説明
する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.

【0027】まず、本発明に用いられる感光層について
説明する。
First, the photosensitive layer used in the present invention will be described.

【0028】本発明の感光層は、キノンジアジド基を有
するアセトンピロガロール樹脂を含有しかつアセトンピ
ロガロール樹脂が架橋構造を形成していることが必要で
ある。
The photosensitive layer of the present invention needs to contain an acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group and the acetone pyrogallol resin has to form a crosslinked structure.

【0029】はじめに、アセトンピロガロール樹脂につ
いて説明する。本発明で言うアセトンピロガロール樹脂
とは、アセトンとピロガロールとをオキシ塩化燐酸等の
触媒の存在下で重合させることにより得られる樹脂を表
し、一般式(1)のような構造を有している。本発明で
使用するアセトンピロガロール樹脂としては一般式
(1)におけるnが5〜12の範囲のものが好ましい。
nが5未満の場合には感光層を架橋させるための架橋剤
が多く必要になり結果として保存安定性に悪影響を及ぼ
すため好ましくなく、nが12より大きい場合には樹脂
の製造が工業的に困難であるため高価となり好ましくな
い。
First, the acetone pyrogallol resin will be described. The acetone pyrogallol resin referred to in the present invention refers to a resin obtained by polymerizing acetone and pyrogallol in the presence of a catalyst such as phosphorous oxychloride, and has a structure as represented by the general formula (1). As the acetone pyrogallol resin used in the present invention, those in which n in the general formula (1) is in the range of 5 to 12 are preferable.
When n is less than 5, a large amount of a crosslinking agent is required to crosslink the photosensitive layer, and as a result, storage stability is adversely affected. Since it is difficult, it is expensive and not preferable.

【0030】また、本発明で使用するアセトンピロガロ
ール樹脂は分子中にキノンジアジド基を有することが必
要である。アセトンピロガロール樹脂にキノンジアジド
基を付加する方法としては、ベンゾキノンジアジドスル
ホン酸、ナフトキノンジアジドスルホン酸等によりエス
テル化する方法が好ましい。
The acetone pyrogallol resin used in the present invention must have a quinonediazide group in the molecule. As a method of adding a quinonediazide group to the acetone pyrogallol resin, a method of esterification with benzoquinonediazidesulfonic acid, naphthoquinonediazidesulfonic acid or the like is preferable.

【0031】具体的には、1,2−ベンゾキノン−2−
ジアジド−4−スルホン酸クロリド、1,2−ベンゾキ
ノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1,2−ナフト
キノン−2−ジアジド−4−スルホン酸クロリド、1,
2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸
クロリド、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−
スルホン酸、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−6
−スルホン酸クロリド、1,2−ナフトキノン−2−ジ
アジド−6−スルホン酸等が挙げられるが、本発明はこ
れらに限定されない。
Specifically, 1,2-benzoquinone-2-
Diazido-4-sulfonic acid chloride, 1,2-benzoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid chloride, 1,
2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid,
1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5
Sulfonic acid, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-6
-Sulfonic acid chloride, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-6-sulfonic acid, and the like, but the present invention is not limited thereto.

【0032】これらの化合物の中で、1,2−ナフトキ
ノン−2−ジアジド−4−スルホン酸クロリドおよび、
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸
クロリドが特に有効である。
Among these compounds, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid chloride and
1,2-Naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride is particularly effective.

【0033】上記のキノンジアジド化合物の付加量は、
エステル化率で5〜67%が好ましく、より好ましくは
15〜60%が好ましく、更に好ましくは30〜50%
が好ましい。エステル化率とは、アセトンピロガロール
樹脂が有する水酸基数に対するキノンジアジド化合物と
エステル化した水酸基数の比率を100分率で表したも
のである。エステル化率が5%未満の場合には、感光成
分が減少することから画像再現性が低下する傾向にあり
好ましくなく、67%より大きい場合には、アセトンピ
ロガロール樹脂の残存水酸基が減少するため、架橋反応
がしにくくなり、その結果保存安定性が低下する傾向に
あり好ましくない。
The addition amount of the quinonediazide compound is as follows:
The esterification rate is preferably 5 to 67%, more preferably 15 to 60%, and still more preferably 30 to 50%.
Is preferred. The esterification ratio is a ratio of the number of hydroxyl groups esterified with the quinonediazide compound to the number of hydroxyl groups of the acetone pyrogallol resin expressed as a percentage. If the esterification ratio is less than 5%, the photosensitive components tend to decrease, and the image reproducibility tends to decrease. This is not preferred. If the esterification ratio is greater than 67%, the residual hydroxyl groups of the acetone pyrogallol resin decrease, A crosslinking reaction becomes difficult, and as a result, storage stability tends to decrease, which is not preferable.

【0034】また、本発明の感光層では上記のキノンジ
アジド基を有するアセトンピロガロール樹脂が架橋構造
を形成していることが必要である。このような架橋構造
を形成する方法としては以下に示す多官能イソシアネー
ト類あるいは多官能エポキシ化合物を添加し熱架橋させ
る方法が挙げられる。
In the photosensitive layer of the present invention, the above-mentioned acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group needs to form a crosslinked structure. As a method of forming such a crosslinked structure, there is a method of adding a polyfunctional isocyanate or a polyfunctional epoxy compound shown below and thermally crosslinking the compound.

【0035】多官能イソシアネート類としては、パラフ
ェニレンジイソシアネート、2,4−または2,6−ト
ルイレンジイソシアネート(TDI)、4,4−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイ
ソシアネート(TODI)、キシリレンジイソシアネー
ト(XDI)、水素化キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソ
シアネート(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート(HDIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネ
ート(LDI)(別名2,6−ジイソシアネートメチル
カプロエート)、水素化MDI(H12MDI)(別名
4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト))、水素化TDI(HTDI)(別名メチルシクロ
ヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネート)、水素化
XDI(H6XDI)(別名1,3−(イソシアナート
メチル)シクロヘキサン)、イソホロンジイソシアネー
ト(IPDI)、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(IPD
I)、ジフェニルエーテルイソシアネート、トリメチル
ヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)、テトラ
メチルキシリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリ
フェニルイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート
(DDI)、トリフェニルメタントリイソシアネート、
トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェー
ト、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、リジン
エステルトリイソシアネート、1,6,11−ウンデカ
ントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4
−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサ
メチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイ
ソシアネート等やポリイソシアネート類の多価アルコー
ルアダクト体、あるいはポリイソシアネート類の重合体
等が挙げられる。
Examples of the polyfunctional isocyanates include paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-toluylene diisocyanate (TDI), 4,4-diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolidine diisocyanate (TODI), xylylene diisocyanate ( XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, meta-xylylene diisocyanate (MXDI), hexamethylene diisocyanate (HDI or HMDI), lysine diisocyanate (LDI) (also known as 2,6-diisocyanatomethylcaproate), hydrogenated MDI (H12MDI) (also known as 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate)), hydrogenated TDI (HTDI) (also known as methylcyclohexane 2,4 (2 , 6) diisocyanate), hydrogenated XDI (H6XDI) (also known as 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane), isophorone diisocyanate (IPDI), diphenyl ether isocyanate,
Trimethylhexamethylene diisocyanate (IPD
I), diphenyl ether isocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), tetramethyl xylylene diisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, dimer acid diisocyanate (DDI), triphenylmethane triisocyanate,
Tris (isocyanatephenyl) thiophosphate, tetramethylxylylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4
-Isocyanate methyl octane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, bicycloheptane triisocyanate and the like, polyhydric alcohol adducts of polyisocyanates, and polymers of polyisocyanates.

【0036】多官能エポキシ化合物としては、水酸基含
有化合物にエピハロヒドリンを反応させて得られる化合
物が挙げられる。
Examples of the polyfunctional epoxy compound include compounds obtained by reacting a hydroxyl group-containing compound with epihalohydrin.

【0037】多官能水酸基含有化合物の具体例として
は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリ
エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−
ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−
ノナンジオール、1,10−デカンジオール、2−ブテ
ン−1,4−ジオール、5−ヘキセン−1,2−ジオー
ル、7−オクテン−1,2−ジオール、3−メルカプト
−1,2−プロパンジオール、ヒドロキノン、ジヒドロ
キシアントラキノン、ジヒドロキシベンゾフェノン、ト
リヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フェ
ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂、レゾール樹
脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、ピロガロールア
セトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合体および共重合
体、グリセリン、ジグリセリン、トリメチロールプロパ
ン、1,2,4−ブタントリオール、ペンタエリスリト
ール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビ
タン、ポリビニルアルコール、セルロースおよびその誘
導体、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの重合体
および共重合体などが挙げられる。
Specific examples of the polyfunctional hydroxyl group-containing compound include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-
Butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-
Nonanediol, 1,10-decanediol, 2-butene-1,4-diol, 5-hexene-1,2-diol, 7-octene-1,2-diol, 3-mercapto-1,2-propanediol , Hydroquinone, dihydroxyanthraquinone, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, bisphenol A, bisphenol S, phenol formaldehyde novolak resin, resole resin, resorcinbenzaldehyde resin, pyrogallol acetone resin, hydroxystyrene polymers and copolymers, glycerin , Diglycerin, trimethylolpropane, 1,2,4-butanetriol, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, sorbitan, polyvinyla Call, cellulose and its derivatives, polymers and copolymers of hydroxyethyl (meth) acrylate, and the like.

【0038】これらの中でも、多官能イソシアネート化
合物が好ましい。
Of these, polyfunctional isocyanate compounds are preferred.

【0039】また、これら多官能化合物の使用量は、キ
ノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂10
0重量部に対して1〜80重量部が好ましく、より好ま
しくは2〜50重量部であり、更に好ましくは2〜20
重量部が好ましい。
The amount of these polyfunctional compounds used is determined based on the amount of acetone pyrogallol resin having quinonediazide groups.
The amount is preferably 1 to 80 parts by weight, more preferably 2 to 50 parts by weight, even more preferably 2 to 20 parts by weight with respect to 0 parts by weight.
Parts by weight are preferred.

【0040】これらの熱架橋反応はキノンジアジド基の
感光性を失わせない範囲、通常150℃以下で行う必要
があり、このために触媒を併用することが好ましい。
These thermal cross-linking reactions must be carried out at a temperature at which the photosensitivity of the quinonediazide group is not lost, usually at 150 ° C. or lower. For this purpose, it is preferable to use a catalyst in combination.

【0041】本発明で使用するアセトンピロガロール樹
脂は、従来の感光層架橋型水なし平版で使用されていた
フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂と比較して
同一分子量当たりの水酸基の数が約2倍となることか
ら、イソシアネート等の架橋剤と反応すべきキノンジア
ジド基を付加した後の残存水酸基も多くなり初期におけ
る架橋反応が進み易いと考えられる。そのため、結果と
して未反応の架橋剤を減少させることができるため保存
安定性が向上すると考えられる。
The acetone pyrogallol resin used in the present invention has about twice the number of hydroxyl groups per the same molecular weight as compared to the phenol formaldehyde novolak resin used in the conventional photosensitive layer cross-linked lithographic plate without water. It is considered that the number of residual hydroxyl groups after the addition of the quinonediazide group to be reacted with the crosslinking agent such as isocyanate increases, and the crosslinking reaction in the initial stage is likely to proceed. Therefore, as a result, the unreacted crosslinking agent can be reduced, so that the storage stability is considered to be improved.

【0042】また、本発明の感光層は形態保持機能を有
するバインダーポリマを含有することが好ましい。この
ようなバインダーポリマとしては、有機溶剤に可溶でか
つフィルム形成能のあるものであればいずれも使用可能
である。バインダーポリマの具体例として下記のものが
挙げられるが、本発明はこれらの例に特に限定されな
い。
Further, the photosensitive layer of the present invention preferably contains a binder polymer having a shape maintaining function. As such a binder polymer, any one which is soluble in an organic solvent and has a film forming ability can be used. Specific examples of the binder polymer include the following, but the present invention is not particularly limited to these examples.

【0043】(1)ビニルポリマ類 (a)ポリオレフィン類 具体例としてはポリ(1−ブテン)、ポリ(5−シクロ
ヘキシル−1−ペンテン)、ポリ(1−デセン)、ポリ
(1,1−ジクロロエチレン)、ポリ(1,1−ジメチ
ルブタン)、ポリ(1,1−ジメチルプロパン)、ポリ
(1−ドデセン)、ポリエチレン、ポリ(1−ヘプテ
ン)、ポリ(1−ヘキセン)、ポリメチレン、ポリ(6
−メチル−1−ヘプテン)、ポリ(5−メチル−1−ヘ
キセン)、ポリ(2−メチルプロパン)、ポリ(1−ノ
メン)、ポリ(1−オクテン)、ポリ(1−ペンテ
ン)、ポリ(5−フェニル−1−ペンテン)、ポリプロ
ピレン、ポリイソブチレン、ポリ(1−ブテン)、ポリ
(ビニルブチルエーテル)、ポリ(ビニルエチルエーテ
ル)、ポリ(ビニルイソブチルエーテル)、ポリ(ビニ
ルメチルエーテル)等が挙げられる。
(1) Vinyl polymers (a) Polyolefins Specific examples include poly (1-butene), poly (5-cyclohexyl-1-pentene), poly (1-decene), and poly (1,1-dichloroethylene). , Poly (1,1-dimethylbutane), poly (1,1-dimethylpropane), poly (1-dodecene), polyethylene, poly (1-heptene), poly (1-hexene), polymethylene, poly (6
-Methyl-1-heptene), poly (5-methyl-1-hexene), poly (2-methylpropane), poly (1-nomene), poly (1-octene), poly (1-pentene), poly (1-pentene) 5-phenyl-1-pentene), polypropylene, polyisobutylene, poly (1-butene), poly (vinyl butyl ether), poly (vinyl ethyl ether), poly (vinyl isobutyl ether), poly (vinyl methyl ether) and the like. Can be

【0044】(b)ポリスチレン類 具体例としてはポリ(4−[(2−ブトキシエトキシ)
メチル]スチレン)、ポリ(4−デシルスチレン)、ポ
リ(4−ドデシルスチレン)、ポリ[4−(2−エトキ
シエトキシメチル)スチレン]、ポリ[4−(ヘキソキ
シメチル)スチレン]、ポリ(4−ヘキシルスチレ
ン)、ポリ(4−ノニルスチレン)、ポリ[4−(オク
トキシメチル)スチレン]、ポリ(4−オクチルスチレ
ン)、ポリ(4−テトラデシルスチレン)等が挙げられ
る。
(B) Polystyrenes A specific example is poly (4-[(2-butoxyethoxy)
Methyl] styrene), poly (4-decylstyrene), poly (4-dodecylstyrene), poly [4- (2-ethoxyethoxymethyl) styrene], poly [4- (hexoxymethyl) styrene], poly (4-hexyl) Styrene), poly (4-nonylstyrene), poly [4- (octoxymethyl) styrene], poly (4-octylstyrene), poly (4-tetradecylstyrene) and the like.

【0045】(c)アクリル酸エステルポリマおよびメ
タクリル酸エステルポリマ 具体例としてはポリ(ブチルアクリレート)、ポリ(s
ec−ブチルアクリレート)、ポリ(tert−ブチル
アクリレート)、ポリ[2−(2−シアノエチルチオ)
エチルアクリレート]、ポリ[3−(2−シアノエチル
チオ)プロピルアクリレート]、ポリ[2−(シアノメ
チルチオ)エチルアクリレート]、ポリ[6−(シアノ
メチルチオ)ヘキシルアクリレート]、ポリ[2−(3
−シアノプロピルチオ)エチルアクリレート]、ポリ
(2−エトキシエチルアクリレート)、ポリ(3−エト
キシプロピルアクリレート)、ポリ(エチルアクリレー
ト)、ポリ(2−エチルブチルアクリレート)、ポリ
(2−エチルヘキシルアクリレート)、ポリ(5−エチ
ル−2−ノニルアクリレート)、ポリ(2−エチルチオ
エチルアクリレート)、ポリ(3−エチルチオプロピル
アクリレート)、ポリ(ヘプチルアクリレート)、ポリ
(2−ヘプチルアクリレート)、ポリ(ヘキシルアクリ
レート)、ポリ(イソブチルアクリレート)、ポリ(イ
ソプロピルアクリレート)、ポリ(2−メトキシエチル
アクリレート)、ポリ(3−メトキシプロピルアクリレ
ート)、ポリ(2−メチルブチルアクリレート)、ポリ
(3−メチルブチルアクリレート)、ポリ(2−メチル
−7−エチル−4−ウンデシルアクリレート)等が挙げ
られる。
(C) Acrylic acid ester polymer and methacrylic acid ester polymer Specific examples include poly (butyl acrylate) and poly (s
ec-butyl acrylate), poly (tert-butyl acrylate), poly [2- (2-cyanoethylthio)
Ethyl acrylate], poly [3- (2-cyanoethylthio) propyl acrylate], poly [2- (cyanomethylthio) ethyl acrylate], poly [6- (cyanomethylthio) hexyl acrylate], poly [2- (3
-Cyanopropylthio) ethyl acrylate], poly (2-ethoxyethyl acrylate), poly (3-ethoxypropyl acrylate), poly (ethyl acrylate), poly (2-ethylbutyl acrylate), poly (2-ethylhexyl acrylate), Poly (5-ethyl-2-nonyl acrylate), poly (2-ethylthioethyl acrylate), poly (3-ethylthiopropyl acrylate), poly (heptyl acrylate), poly (2-heptyl acrylate), poly (hexyl acrylate) ), Poly (isobutyl acrylate), poly (isopropyl acrylate), poly (2-methoxyethyl acrylate), poly (3-methoxypropyl acrylate), poly (2-methylbutyl acrylate), poly (3-methylbutyl acrylate) Relate), poly (2-methyl-7-ethyl-4-undecyl acrylate), and the like.

【0046】(2)未加硫ゴム 天然ゴム、(NR)や、ブタジエン、イソプレン、スチ
レン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体で
あり、例えばポリブタジエン(BR)、スチレン−ブタ
ジエン共重合体(SBR)、カルボキシ変性スチレン−
ブタジエン共重合体、ポリイソプレン(NR)、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロプレン(CR)、ポリネオプレ
ン、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体、メタク
リル酸エステル−ブタジエン共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体(ANM)、イソブチ
レン−イソプレン共重合体(IIR)、アクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体(NBR)、カルボキシ変性ア
クリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−イソプ
レン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体(EP
M、EPDM)、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエ
ン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体などが挙げ
られる。
(2) Unvulcanized rubber Natural rubber, (NR), a homopolymer or a copolymer selected from butadiene, isoprene, styrene, acrylonitrile, acrylates and methacrylates, such as polybutadiene ( BR), styrene-butadiene copolymer (SBR), carboxy-modified styrene-
Butadiene copolymer, polyisoprene (NR), polyisobutylene, polychloroprene (CR), polyneoprene, acrylate-butadiene copolymer, methacrylate-butadiene copolymer, acrylate-acrylonitrile copolymer ( ANM), isobutylene-isoprene copolymer (IIR), acrylonitrile-butadiene copolymer (NBR), carboxy-modified acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-chloroprene copolymer, acrylonitrile-isoprene copolymer, ethylene-propylene copolymer Polymer (EP
M, EPDM), vinyl pyridine-styrene-butadiene copolymer, styrene-isoprene copolymer and the like.

【0047】(3)ポリオキシド類(ポリエーテル類) トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、2,3−エポキシブタン、3,4−エポキシブテ
ン、2,3−エポキシペンタン、1,2−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、2−
フェニル−1,2−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、等が挙げられる。
(3) Polyoxides (polyethers) Trioxane, ethylene oxide, propylene oxide, 2,3-epoxybutane, 3,4-epoxybutene, 2,3-epoxypentane, 1,2-epoxyhexane, epoxycyclohexane , Epoxycycloheptane, epoxycyclooctane, styrene oxide, 2-
Phenyl-1,2-epoxypropane, tetramethylethylene oxide, and the like.

【0048】(4)ポリエステル類 以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等が挙げられる。
(4) Polyesters Polyesters obtained by polycondensation of polyhydric alcohols and polycarboxylic acids as shown below, polyesters obtained by polymerization of polyhydric alcohols and polycarboxylic anhydrides, and ring opening of lactones Examples include polyester obtained by polymerization and the like, and polyester obtained from a mixture of these polyhydric alcohols, polycarboxylic acids, polycarboxylic anhydrides, and lactones.

【0049】多価アルコールの具体例としては、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパ
ンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレ
ングリコール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、トリエチレング
リコール、p−キシレングリコール、水素化ビスフェノ
ールA、ビスフェノールヒドロキシプロピルエーテル、
グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタ
エリトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等
が挙げられる。
Specific examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butylene glycol, 1,5-pentanediol, and 1,6-pentanediol. Hexanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, triethylene glycol, p-xylene glycol, hydrogenated bisphenol A, bisphenol hydroxypropyl ether,
Glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, trishydroxymethylaminomethane, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol and the like can be mentioned.

【0050】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物の具体例としては無水フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロ
ル無水フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無
水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリッ
ト酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無
水ピロメリット酸等が挙げられる。
Specific examples of polycarboxylic acids and polycarboxylic anhydrides include phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic anhydride, adipic acid, azelaic acid,
Sebacic acid, Tetrahydrophthalic anhydride, Hexahydrophthalic anhydride, Tetrabromophthalic anhydride, Tetrachlorophthalic anhydride, Hetic anhydride, Hymic anhydride, Maleic anhydride, Fumaric acid, Itaconic acid, Trimellitic anhydride, Methylcyclohexentricarboxylic acid Anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be mentioned.

【0051】ラクトンとしては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等が挙げられる。
Examples of the lactone include β-propiolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone and the like.

【0052】(5)ポリウレタン類 ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシア
ネート、ナフタレン−1,5−ジイソシアネートなどと
1,4−ブタンジオールとのポリウレタンが挙げられ
る。
(5) Polyurethanes Polyurethanes of 1,4-butanediol with hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate and the like can be mentioned.

【0053】(6)ポリアミド類 次に示すモノマー類のコポリマーが挙げられる。ε−カ
プロラクタム、ω−ラウロラクタム、ω−アミノウンデ
カン酸、ヘキサメチレンジアミン、4,4−ビス−アミ
ノシクロヘキシルメタン、2,4,4−トリメチルヘキ
サメチレンジアミン、イソホロンジアミン、グリコール
類、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカン
ニ酸等が挙げられる。
(6) Polyamides Copolymers of the following monomers may be mentioned. ε-caprolactam, ω-laurolactam, ω-aminoundecanoic acid, hexamethylenediamine, 4,4-bis-aminocyclohexylmethane, 2,4,4-trimethylhexamethylenediamine, isophoronediamine, glycols, isophthalic acid, adipine Acids, sebacic acid, dodecanoic acid and the like.

【0054】これらバインダーポリマと成りうるポリマ
は単独で用いても良いし、また数種類のポリマを混合し
て用いても良い。
These polymers that can be used as the binder polymer may be used alone, or a mixture of several kinds of polymers may be used.

【0055】これらバインダーポリマの中ではポリウレ
タン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好
ましい。
Among these binder polymers, polyurethane, polyester, vinyl polymer and unvulcanized rubber are preferred.

【0056】バインダーポリマの使用量は感光層成分に
対して15〜80重量%が好ましく、より好ましくは1
5〜75重量%である。バインダーポリマが15重量%
未満の場合には、満足な感光物性を発現させることが困
難であり、一方80重量%より多い場合は結果的にキノ
ンジアジド基の減量となるため、画像再現性、現像性が
悪化し好ましくない。
The use amount of the binder polymer is preferably from 15 to 80% by weight, more preferably from 1 to 80% by weight, based on the components of the photosensitive layer.
5 to 75% by weight. 15% by weight of binder polymer
When the amount is less than 80%, it is difficult to develop satisfactory photosensitive properties. On the other hand, when the amount is more than 80% by weight, the amount of quinonediazide groups is reduced, which deteriorates image reproducibility and developability.

【0057】上記の諸成分に加え、必要に応じて酸、染
料、顔料、光発色剤、触媒等の添加剤を感光層組成に加
えることは任意である。
In addition to the above components, it is optional to add additives such as acids, dyes, pigments, photochromic agents and catalysts to the photosensitive layer composition, if necessary.

【0058】本発明の水なし平版の感光層の好ましい組
成としては、下記に示すものが挙げられる。
Preferred compositions of the water-free lithographic photosensitive layer of the present invention include the following.

【0059】 (1)キノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂 5〜100重量部( 2)多官能化合物 5〜50重量部(3 )形態保持性を有するバインダーポリマ 30〜95重量部 また、感光層の膜厚は乾燥重量で0.5〜3g/m2
好ましく、製造時の作業性の点から1.0〜5g/m2
がより好ましい。感光層の膜厚が0.5g/m2より小
さい場合はピンホール等が発生しやすくなり塗工性の点
で好ましくない。また、5g/m2 を越えると経済的な
点で不利となり好ましくない。
(1) 5 to 100 parts by weight of an acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group (2) 5 to 50 parts by weight of a polyfunctional compound (3) 30 to 95 parts by weight of a binder polymer having shape retention 30 to 95 parts by weight The thickness is preferably 0.5 to 3 g / m 2 in terms of dry weight, and 1.0 to 5 g / m 2 in terms of workability during production.
Is more preferred. If the thickness of the photosensitive layer is less than 0.5 g / m 2, pinholes and the like are likely to occur, which is not preferable in view of coatability. On the other hand, if it exceeds 5 g / m 2 , it is disadvantageous from an economic point of view and is not preferred.

【0060】次に本発明で用いられる水なし平版用の基
板について説明する。本発明の水なし平版印刷版は通常
の印刷機にセットできる程度のたわみ性と印刷時にかか
る荷重とに耐えるものでなければならない。従って、代
表的な基板としては、コート紙、アルミニウムのような
金属板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチ
ックフィルム、ゴムあるいはそれらを複合させたものを
挙げることができる。これらの基板の表面にはハレーシ
ョン防止及びその他の目的で更にプライマー層などをコ
ーティングすることも可能である。
Next, the waterless planographic substrate used in the present invention will be described. The waterless lithographic printing plate of the present invention must be flexible enough to be set in a normal printing press and withstand the load applied during printing. Accordingly, typical substrates include coated paper, metal plates such as aluminum, plastic films such as polyethylene terephthalate, rubber, and composites thereof. The surface of these substrates can be further coated with a primer layer or the like for the purpose of preventing halation and for other purposes.

【0061】プライマー層については、例えば、特開昭
60−22903号公報に提案されている種々の感光性
ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開平4−322181号公報に提案されている
メタクリル系含リンモノマを感光層を積層する前に露光
して硬化せしめたもの、特開平2−7049号公報に提
案されているメタクリル系エポキシ化合物を感光層を積
層する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭62−5
0760号公報に提案されているエポキシ樹脂を熱硬化
せしめたもの、特開昭63−133151号公報に提案
されているゼラチンを硬膜せしめたもの、特開平1−2
82270号公報や、特開平2−21072号公報に提
案されているウレタン樹脂を用いたものなどを挙げるこ
とが出来る。この他にもカゼインを硬膜させたものも有
効である。
The primer layer is obtained, for example, by curing various photosensitive polymers proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-22903 before exposing the photosensitive layers to each other. A methacrylic phosphorus-containing monomer proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H07-15095 cured by exposing it before laminating a photosensitive layer, and a methacrylic epoxy compound proposed in JP-A-2-7049 before laminating a photosensitive layer. Exposed and cured, JP-A-62-5
No. 0760, epoxy resin cured by heat, gelatin disclosed in JP-A-63-133151, hardened gelatin, JP-A-1-2
No. 82270 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-21072 using a urethane resin. In addition, a casein cured case is also effective.

【0062】さらにプライマー層を柔軟化させる目的
で、前記プライマー層にガラス転移温度が室温以下であ
るポリウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴ
ム、カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル/ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロ
ニトリル/ブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アク
リレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、などのポリマを添加してもよい。
その添加割合は任意であり、フィルム層を形成できる範
囲であれば、添加剤だけでプライマー層を形成してもよ
い。
For the purpose of further softening the primer layer, the primer layer has a glass transition temperature of room temperature or less, such as polyurethane, polyamide, styrene / butadiene rubber, carboxy-modified styrene / butadiene rubber, acrylonitrile / butadiene rubber, carboxy-modified acrylonitrile / Polymers such as butadiene rubber, polyisoprene rubber, acrylate rubber, polyethylene, chlorinated polyethylene and chlorinated polypropylene may be added.
The addition ratio is arbitrary, and the primer layer may be formed only with the additives as long as the film layer can be formed.

【0063】また、これらのプライマー層には検版性を
向上させる目的で染料、pH指示薬、露光焼だし剤、フ
ォトクロミック化合物、光重合開始剤、接着助剤例え
ば、重合性モノマ、ジアゾ樹脂、シランカップリング
剤、チタネートカップリング剤、アルミニウムカップリ
ング剤、ジルコニアカップリング剤、ボロンカップリン
グ剤など)、白色顔料やシリカ粒子などの添加剤を含有
させることが出来る。
For the purpose of improving plate inspection, a dye, a pH indicator, an exposure baking agent, a photochromic compound, a photopolymerization initiator, and an adhesion auxiliary agent such as a polymerizable monomer, a diazo resin, a silane Additives such as coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, zirconia coupling agents, and boron coupling agents), white pigments, and silica particles.

【0064】本発明に用いられるプライマー層の膜厚は
乾燥重量で0.1〜20g/m2 の範囲が好ましく、1
〜10g/m2 の範囲がさらに好ましい。
The thickness of the primer layer used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 20 g / m 2 on a dry weight basis.
The range of from 10 to 10 g / m 2 is more preferable.

【0065】次に本発明で用いられる付加型シリコーン
ゴム層について説明する。本発明において使用できる付
加型シリコーンゴム層は0.5〜50g/m2 、好まし
くは0.5〜10g/m2の厚みを有しかつ紫外線が透
過しうる透明性を有するものである。
Next, the addition type silicone rubber layer used in the present invention will be described. The addition type silicone rubber layer that can be used in the present invention has a thickness of 0.5 to 50 g / m 2 , preferably 0.5 to 10 g / m 2 , and has transparency through which ultraviolet rays can pass.

【0066】このような付加型シリコーンゴム層は、分
子中に少なくとも2個以上のビニル基を有するオルガノ
ポリシロキサンと分子中に少なくとも3個以上のSiH
基を有するハイドロジェンシロキサンおよび白金化合物
を適当な溶媒で希釈したものを、該感光層上に塗布し、
加熱乾燥して硬化させることによって形成される。
Such an addition type silicone rubber layer comprises an organopolysiloxane having at least two vinyl groups in a molecule and at least three SiHs in a molecule.
A solution obtained by diluting a hydrogen siloxane having a group and a platinum compound with an appropriate solvent is coated on the photosensitive layer,
It is formed by heating, drying and curing.

【0067】本発明のシリコーンゴム層に使用する分子
中に少なくとも2個以上のビニル基を有するオルガノポ
リシロキサンとしては、分子鎖末端、中間のどちらかに
ビニル基を有するものが挙げられ、アルケニル基以外の
有機基として好ましいものは、置換もしくは非置換のア
ルキル基、アリール基である。また、微量の水酸基を含
有していてもよい。
Examples of the organopolysiloxane having at least two vinyl groups in the molecule used in the silicone rubber layer of the present invention include those having a vinyl group at either the molecular chain terminal or in the middle, and an alkenyl group. Preferred as the organic group other than the above are a substituted or unsubstituted alkyl group and an aryl group. Further, it may contain a trace amount of hydroxyl group.

【0068】分子中に2個以上のビニル基を有するオル
ガノポリシロキサンの具体例としては以下のものが挙げ
られるが本発明はこれらに限定されない。
Specific examples of the organopolysiloxane having two or more vinyl groups in the molecule include the following, but the present invention is not limited thereto.

【0069】両末端ビニル基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基の(メチルビニルシロキサン)(ジ
メチルシロキサン)共重合体、両末端ビニル基の(メチ
ルビニルシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合
体、両末端ビニル基のポリジメチルシロキサンのを2分
子以上主鎖間をジメチレン架橋させた化合物、両末端メ
チル基の(メチル1−ヘキセンシロキサン)(ジメチル
シロキサン)共重合体、両末端ビニル基の(メチル1−
ヘキセンシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体
等が挙げられる。
Polydimethylsiloxane having vinyl groups at both terminals, (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both terminals, (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having vinyl groups at both terminals, A compound in which two or more molecules of a vinyl group polydimethylsiloxane are cross-linked by dimethylene, a (methyl 1-hexene siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer having a methyl group at both terminals, and a (methyl 1-
Hexene siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer and the like.

【0070】これら分子中に2個以上ビニル基を有する
オルガノポリシロキサンは硬化後のゴム物性の点でその
分子量が5,000以上であることが好ましく、更に好
ましくは10,000以上が好ましい。
The organopolysiloxane having two or more vinyl groups in the molecule preferably has a molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, in view of rubber properties after curing.

【0071】また、これらの分子中に2個以上ビニル基
を有するオルガノポリシロキサンは単独で使用すること
もできるし、複数の種類を任意の比率で混合して使用す
ることもできる。
Further, these organopolysiloxanes having two or more vinyl groups in the molecule can be used alone, or a plurality of kinds thereof can be used by mixing at an arbitrary ratio.

【0072】分子中に少なくとも3個以上のSiH基を
有するハイドロジェンシロキサンとしては分子鎖末端、
中間のどちらかにSiH基を有するものが挙げられ、S
iH基以外の有機基として好ましいものは、置換もしく
は非置換のアルキル基、アリール基である。
The hydrogen siloxane having at least three or more SiH groups in the molecule includes a molecular chain terminal,
A compound having a SiH group at any one of the intermediates,
Preferred as the organic group other than the iH group are a substituted or unsubstituted alkyl group and an aryl group.

【0073】分子中に少なくとも3個以上のSiH基を
有するハイドロジェンシロキサンの具体例としては以下
のものが挙げられるが本発明はこれらに限定されない。
Specific examples of the hydrogen siloxane having at least three or more SiH groups in the molecule include the following, but the present invention is not limited thereto.

【0074】両末端SiH基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基のポリメチルハイドロジェンシロキ
サン、両末端メチル基の(メチルハイドロジェンシロキ
サン)(ジメチルシロキサン)共重合体、両末端SiH
基の(メチルハイドロジェンシロキサン)(ジメチルシ
ロキサン)共重合体、環状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン等が挙げられる。
Polydimethylsiloxane having SiH groups at both terminals, polymethylhydrogensiloxane having methyl groups at both terminals, (methylhydrogensiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both terminals, SiH at both terminals
(Methyl hydrogen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer, cyclic polymethyl hydrogen siloxane and the like.

【0075】これらの中でも本発明で好ましく使用でき
るものとしては、分子中に少なくとも3個以上のSiH
基を有するハイドロジェンシロキサンのSiH基数を分
子量で除した値が0.001mol/g以上のものが好
ましく、更に好ましくは0.002mol/g以上が好
ましい。0.001mol/g未満の場合は硬化速度が
低下し好ましくない。
Among these, those which can be preferably used in the present invention include at least three or more SiHs in the molecule.
The value obtained by dividing the number of SiH groups in the hydrogen siloxane having a group by the molecular weight is preferably 0.001 mol / g or more, more preferably 0.002 mol / g or more. If the amount is less than 0.001 mol / g, the curing rate is undesirably reduced.

【0076】また、これらの分子中に3個以上SiH基
を有するハイドロジェンシロキサンは単独で使用するこ
ともできるし、複数の種類を任意の比率で混合して使用
することもできる。
These hydrogen siloxanes having three or more SiH groups in the molecule can be used alone, or two or more kinds can be used as a mixture at an arbitrary ratio.

【0077】また、分子中に2個以上ビニル基を有する
オルガノポリシロキサンと分子中に3個以上SiH基を
有するハイドロジェンシロキサンの有機基はインキ反撥
性の向上の点で総じて基数の60%以上がメチル基であ
ることが好ましい。
The organic groups of the organopolysiloxane having two or more vinyl groups in the molecule and the hydrogensiloxane having three or more SiH groups in the molecule generally account for at least 60% of the number of groups in terms of improving ink repellency. Is preferably a methyl group.

【0078】上記分子中に2個以上ビニル基を有するオ
ルガノポリシロキサンと分子中に3個以上SiH基を有
するハイドロジェンシロキサンを混合して使用する際の
比率としては、シリコーンゴム組成物中のビニル基数を
1とした場合にSiH基数が1.5〜15となるような
混合比率が好ましく、更に好ましくは1.5〜12が好
ましい。
When the organopolysiloxane having two or more vinyl groups in the molecule and the hydrogensiloxane having three or more SiH groups in the molecule are mixed and used, the ratio of the vinyl in the silicone rubber composition is as follows. When the number of groups is 1, the mixing ratio is preferably such that the number of SiH groups is 1.5 to 15, and more preferably 1.5 to 12.

【0079】ビニル基数1に対するSiH基数が1.5
未満の場合にはシリコーンゴム層の硬化性が低下し、1
5より大きい場合にはシリコーンゴムが脆くなり耐摩耗
性が低下し好ましくない。
When the number of SiH groups to the number of vinyl groups is 1.5
If it is less than 1, the curability of the silicone rubber layer decreases, and
If it is larger than 5, the silicone rubber becomes brittle and the wear resistance is undesirably reduced.

【0080】本発明のシリコーンゴム層に好ましく用い
られる白金化合物としては、公知のもののなかから任意
に選ばれるが、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレ
フィン配位白金などが挙げられる。これらの中でもオレ
フィン配位白金が好ましい。
The platinum compound preferably used in the silicone rubber layer of the present invention is arbitrarily selected from known compounds, and includes platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, olefin-coordinated platinum and the like. Among these, olefin-coordinated platinum is preferable.

【0081】また、付加型シリコーンゴム組成物の硬化
速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビニル)
シロキサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサ
ン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、
メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルなどの反応抑制剤を
添加することが好ましい。
For the purpose of controlling the curing rate of the addition type silicone rubber composition, tetracyclo (methyl vinyl)
Vinyl group-containing organopolysiloxane such as siloxane, alcohol containing carbon-carbon triple bond, acetone,
It is preferable to add a reaction inhibitor such as methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, and propylene glycol monomethyl ether.

【0082】本発明に好ましく用いられる付加型シリコ
ーンゴム組成の一般的な形態としては次のようなものが
挙げられる。
The following are typical examples of the addition-type silicone rubber composition preferably used in the present invention.

【0083】 (1)分子中に2個以上ビニル基を有するオルガノポリシロキサン 100重量部( 2)分子中に3個以上SiH基を有するハイドロジェンシロキサン 0.1〜10000重量部( 3)白金化合物 0.00001〜10重量部(4 )反応抑制剤 0.1〜10重量部(5) 溶剤 100〜4000重量部 これらの組成物の他に、アルケニルトリアルコキシシラ
ンなどの公知の接着付与剤を添加することや、縮合型シ
リコーンゴム層の組成物である水酸基含有オルガノポリ
シロキサン、加水分解性官能基含有シラン(もしくはシ
ロキサン)を添加することも任意であり、またゴム強度
を向上させる目的で、シリカなどの公知の充填剤を添加
することも任意である。
(1) 100 parts by weight of organopolysiloxane having 2 or more vinyl groups in the molecule (2) 0.1 to 10000 parts by weight of hydrogen siloxane having 3 or more SiH groups in the molecule (3) Platinum compound 0.00001 to 10 parts by weight (4) Reaction inhibitor 0.1 to 10 parts by weight (5) Solvent 100 to 4000 parts by weight In addition to these compositions, a known adhesion promoter such as alkenyl trialkoxysilane is added. Or addition of a hydroxyl group-containing organopolysiloxane or a hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane), which is a composition of the condensation type silicone rubber layer, and silica for the purpose of improving rubber strength. It is also optional to add a known filler such as.

【0084】ここに説明した水なし平版印刷版において
シリコーンゴム層上に更に種々のシリコーンゴム層を塗
工することも任意であり、また感光性樹脂層とシリコー
ンゴム層との間の接着力を上げる目的、もしくはシリコ
ーンゴム組成物中の触媒の被毒を防止する目的で、感光
性樹脂層とシリコーンゴム層との間に接着層を設けるこ
とも任意である。
In the waterless lithographic printing plate described herein, it is optional to further coat various silicone rubber layers on the silicone rubber layer, and the adhesive force between the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer can be reduced. It is optional to provide an adhesive layer between the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer for the purpose of raising or for preventing poisoning of the catalyst in the silicone rubber composition.

【0085】このようにして構成された水なし平版印刷
版原板の表層を形成するシリコーンゴム層は、取扱い時
に傷が入りやすく、また露光工程においてネガフィルム
が真空密着しにくいという問題があるため、シリコーン
ゴム層上に、透明な保護フィルムを張り付けることが好
ましい。保護フィルムは露光工程においては有用である
が、現像工程においては、剥離または溶解により除去す
る必要がある。
The silicone rubber layer forming the surface layer of the waterless planographic printing plate precursor thus configured has problems that it is easily scratched during handling and that the negative film is hard to adhere in vacuum during the exposure step. It is preferable to attach a transparent protective film on the silicone rubber layer. The protective film is useful in the exposure step, but needs to be removed by peeling or dissolving in the development step.

【0086】保護フィルムは紫外線透過性を有し、10
0μm以下、好ましくは10μm以下の厚みを有するも
のが好ましい。保護フィルムの具体例としてはポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタ
レート、セロファン等が上げられる。これらのフィルム
には、画像露光時の焼き枠における真空密着性を改良す
るため、マットを施してよい。
The protective film has a UV-transmitting property, and
Those having a thickness of 0 μm or less, preferably 10 μm or less are preferred. Specific examples of the protective film include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, cellophane, and the like. These films may be provided with a mat in order to improve the vacuum adhesion in the printing frame during image exposure.

【0087】また、保護フィルムの代わりに溶解除去可
能なポリマーをコーティングし、保護層を形成させても
よい。
Further, a protective layer may be formed by coating a polymer which can be dissolved and removed instead of the protective film.

【0088】次に本発明における水なし平版印刷版原板
の製造方法について説明する。基板上にスリットダイコ
ーター、リバースロールコーター、エアーナイフコータ
ー、メーヤバーコーターなどの通常のコータ、あるいは
ホエラーのような回転塗布装置を用い、必要に応じてプ
ライマー層組成物を塗布し100〜300℃の温度で数
分間硬化した後、感光層組成物塗液を塗布、50〜15
0℃の温度で数分間乾燥および必要に応じて熱キュア
し、その上にシリコーンゴム層組成物を塗布し、50〜
150℃の温度で数分間熱処理してゴム硬化させて形成
する。しかる後に、必要に応じて保護フィルムをラミネ
ートする。
Next, a method for producing a waterless planographic printing plate precursor according to the present invention will be described. The primer layer composition is applied to the substrate using a normal coater such as a slit die coater, a reverse roll coater, an air knife coater, or a Meyer bar coater, or a rotary coater such as a wheyer, if necessary, and coated at 100 to 300 ° C. After curing at a temperature of several minutes, a coating solution for a photosensitive layer composition is applied,
After drying at a temperature of 0 ° C. for several minutes and heat curing as required, a silicone rubber layer composition is coated thereon,
Heat-treated at a temperature of 150 ° C. for several minutes to cure the rubber and form. Thereafter, a protective film is laminated as necessary.

【0089】また、本発明の水なし平版印刷版は画像露
光する以前に感光層とシリコーンゴム層の接着性を高め
る目的で微弱な光で全面露光を行うことが好ましい。全
面露光に用いられる光源は、通常印刷版の画像露光に用
いられている光源を使用することができる。具体的に
は、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタ
ルハライドランプ、タングステンランプ、蛍光灯などで
ある。
It is preferable that the entire surface of the waterless planographic printing plate of the present invention is exposed to weak light before the image exposure in order to enhance the adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. As the light source used for the overall exposure, a light source usually used for image exposure of a printing plate can be used. Specifically, there are a mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, a fluorescent lamp and the like.

【0090】全面露光に際しては、その処理によりキノ
ンジアジド化合物の光反応性の官能基、すなわちキノン
ジアジド基を全て反応(失活)させないことが必要であ
る。
In the overall exposure, it is necessary that the photoreactive functional group of the quinonediazide compound, that is, the quinonediazide group is not completely reacted (deactivated) by the treatment.

【0091】このようにして製造された本発明の水なし
平版印刷版原板は、真空密着されたネガフィルムを通し
て活性光線で露光される。この露光工程で用いられ光源
は通常、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンラン
プ、蛍光灯などを使うことが出来る。
The waterless planographic printing plate precursor of the present invention thus produced is exposed to actinic rays through a vacuum-contacted negative film. As a light source used in this exposure step, a high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a fluorescent lamp or the like can be usually used.

【0092】露光の終わった印刷版は保護フィルムを剥
がし、現像液に浸漬し、現像パッドまたは現像用ブラシ
を用いて現像される。この際、露光部のシリコーンゴム
層が剥離除去され感光層が露出する。本発明において用
いられる現像液としては、水なし平版印刷版の現像液と
して公知の物が使用できる。例えば、脂肪属炭化水素
(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エ
ッソ化学(株)製脂肪属炭化水素類の商標名)あるいは
ガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエン、
キシレンなど)、あるいはハロゲン化炭化水素(トリク
レンなど)に下記の極性溶媒を添加したものや極性溶媒
そのものが好適である。
The exposed printing plate is peeled off the protective film, immersed in a developing solution, and developed using a developing pad or a developing brush. At this time, the silicone rubber layer at the exposed portion is peeled off and the photosensitive layer is exposed. As the developer used in the present invention, those known as developers for lithographic printing plates without water can be used. For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, "Isoper E, H, G" (trade names of aliphatic hydrocarbons manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene,
Xylene), or a halogenated hydrocarbon (such as tricrene) to which the following polar solvent is added, or the polar solvent itself is preferable.

【0093】(1)アルコール類 メタノール、エタノール、プロパノール、ベンジルアル
コール、エチレングリコールモノフェニルエーテル、2
−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、カル
ビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチル
エーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール等が挙
げられる。
(1) alcohols methanol, ethanol, propanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether,
-Methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, carbitol monoethyl ether, carbitol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol monomethyl ether, polypropylene Glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol and the like.

【0094】(2)ケトン類 アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。(2) Ketones Examples include acetone and methyl ethyl ketone.

【0095】(3)エステル類 酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カ
ルビトールアセテート、ジブチルフタレート、ジエチル
フタレート等が挙げられる。
(3) Esters Ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, carbitol acetate, dibutyl phthalate, diethyl phthalate and the like can be mentioned.

【0096】(4)その他 トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェー
ト等が挙げられる。
(4) Others Examples include triethyl phosphate and tricresyl phosphate.

【0097】また、上記有機溶剤系現像液に水を添加し
り、上記有機溶剤を界面活性剤等を用いて水に可溶化し
たものや、更にその上にアルカリ剤、例えば炭酸ナトリ
ウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノーリアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリ
ウム等の無機アルカリ剤、あるいはモノ、ジ、またはト
リエタノールアミン、モノ、ジ、またはトリエチルアミ
ン、モノ、ジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、
モノ、ジ、またはトリイソプロパノールアミン、エチレ
ンイミン、エチレンジイミン等の有機アミン化合物など
も使用できる。
Further, water is added to the above-mentioned organic solvent-based developer, and the above-mentioned organic solvent is solubilized in water using a surfactant or the like. Further, an alkali agent such as sodium carbonate, monoethanolamine is further added thereon. An inorganic alkaline agent such as diethanolamine, triethanolamine, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium borate, or mono, di, or triethanolamine, mono, di, or triethylamine; Mono, diisopropylamine, n-butylamine,
Organic amine compounds such as mono-, di-, or triisopropanolamine, ethyleneimine, and ethylenediimine can also be used.

【0098】また、クリスタルバイオレット、ビクトリ
アピュアブルー、アストラゾンレッドなどの公知の塩基
性染料、酸性染料、油溶性染料を現像液に加えて現像と
同時に画線部の染色を行なうことが出来る。
Further, known basic dyes such as crystal violet, Victoria Pure Blue, and Astrazone Red, acid dyes, and oil-soluble dyes can be added to a developing solution to simultaneously develop and dye the image area.

【0099】しかしながら、本発明の水なし平版印刷版
原版の現像処理に最も好適な方法は、特公平4−386
5号および特公平4−29053号公報に記載の塩基性
化合物を含む前処理液にて露光済み版を処理した後、水
あるいは水を主成分をする現像液にて現像する方法が好
ましい。
However, the most preferable method for developing the waterless planographic printing plate precursor according to the present invention is disclosed in Japanese Patent Publication No. 4-386.
No. 5 and Japanese Patent Publication No. 4-29053 are preferable to process the exposed plate with a pretreatment liquid containing a basic compound and then develop with water or a developer containing water as a main component.

【0100】また、本発明に用いられる水なし平版印刷
版を現像する際には、例えば東レ(株)にて市販されて
いるような自動現像機を用い、上記の現像液で版面を前
処理した後に水道水などをシャワーしながら回転ブラシ
版面を擦ることによって、好適に現像することができ
る。現像機の具体例としては東レ(株)製のTWL−1
160、TWL−860、TWL−650、TWL−4
00など、あるいは特開平4−2265号や特開平5−
2272号、特開平5−6000号などに開示されてい
る現像装置を挙げることができる。また、自動現像機を
使用する場合には前処理液としてNP−1(東レ(株)
製水なし平版ネガ型用前処理液)、後処理液としてNA
−1(東レ(株)製水なし平版ネガ型用後処理液)を使
用することが好ましい。また、上記の現像機に代えて、
温水や水蒸気を版面に噴霧することによっても現像が可
能である。
When developing the waterless planographic printing plate used in the present invention, the plate surface is pretreated with the above-mentioned developer using an automatic developing machine such as that commercially available from Toray Industries, Inc. After that, the developing can be suitably performed by rubbing the rotating brush plate surface while showering with tap water or the like. A specific example of the developing machine is TWL-1 manufactured by Toray Industries, Inc.
160, TWL-860, TWL-650, TWL-4
00, or JP-A-4-2265 or JP-A-5-265.
2272 and JP-A-5-6000. When an automatic developing machine is used, NP-1 (Toray Industries, Inc.)
Pretreatment liquid for lithographic negative mold without water production), NA as post-treatment liquid
It is preferable to use -1 (a post-treatment liquid for a waterless planographic negative mold manufactured by Toray Industries, Inc.). Also, instead of the above-mentioned developing machine,
Development can also be performed by spraying hot water or steam onto the plate surface.

【0101】[0101]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0102】合成例1 ピロガロール50gをアセトン350gに溶解し、攪拌
しながらオキシ塩化燐5gを加えた。室温で1晩放置後
水の中へ攪拌しながら滴下しタール状の樹脂を得た。こ
の樹脂を再度アセトンに溶解した後、多量の水に注ぎ固
形物を得た。固形物を真空乾燥し目的とするアセトンピ
ロガロール樹脂を得た。
Synthesis Example 1 50 g of pyrogallol was dissolved in 350 g of acetone, and 5 g of phosphorus oxychloride was added with stirring. After being left overnight at room temperature, the mixture was dropped into water while stirring to obtain a tar-like resin. After dissolving this resin again in acetone, it was poured into a large amount of water to obtain a solid. The solid was dried under vacuum to obtain the desired acetone pyrogallol resin.

【0103】得られたアセトンピロガロール樹脂の分子
量をGPCを使用して測定した結果Mw=1300であ
った。
The molecular weight of the obtained acetone pyrogallol resin was measured by using GPC and found to be Mw = 1300.

【0104】次に上記アセトンピロガロール樹脂50g
(約0.04モル)と1,2−ナフトキノン−2−ジア
ジド−5−スルホン酸クロリド83g(約0.31モ
ル)を1,4−ジオキサン500gに溶解させた。次に
炭酸ナトリウム10重量%水溶液80gを20分かけて
滴下し、溶液温度を40℃に保った状態で4時間攪拌し
反応させた。反応終了後、溶液を水1000g中に投入
し生成物を析出、沈降させた。上澄液を除去し、減圧乾
燥を行ないキノンジアジド基を有するアセトンピロガロ
ール樹脂−1を得た。
Next, 50 g of the above-mentioned acetone pyrogallol resin was used.
(About 0.04 mol) and 83 g (about 0.31 mol) of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride were dissolved in 500 g of 1,4-dioxane. Next, 80 g of a 10% by weight aqueous solution of sodium carbonate was added dropwise over 20 minutes, and the mixture was stirred and reacted for 4 hours while maintaining the solution temperature at 40 ° C. After completion of the reaction, the solution was put into 1000 g of water to precipitate and sediment the product. The supernatant was removed and the residue was dried under reduced pressure to obtain acetone pyrogallol resin-1 having a quinonediazide group.

【0105】合成例2 合成例1で得られたアセトンピロガロール樹脂50g
(約0.04モル)と1,2−ナフトキノン−2−ジア
ジド−4−スルホン酸クロリド25g(約0.09モ
ル)を1,4−ジオキサン500gに溶解させた。次に
炭酸ナトリウム10重量%水溶液50gを20分かけて
滴下し、溶液温度を40℃に保った状態で4時間攪拌し
反応させた。反応終了後、溶液を水1000g中に投入
し生成物を析出、沈降させた。上澄液を除去し、減圧乾
燥を行ないキノンジアジド基を有するアセトンピロガロ
ール樹脂−2を得た。
Synthesis Example 2 50 g of the acetone pyrogallol resin obtained in Synthesis Example 1
(About 0.04 mol) and 25 g (about 0.09 mol) of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid chloride were dissolved in 500 g of 1,4-dioxane. Next, 50 g of a 10% by weight aqueous solution of sodium carbonate was added dropwise over 20 minutes, and the mixture was stirred and reacted for 4 hours while maintaining the solution temperature at 40 ° C. After completion of the reaction, the solution was put into 1000 g of water to precipitate and sediment the product. The supernatant was removed and the residue was dried under reduced pressure to obtain acetone pyrogallol resin-2 having a quinonediazide group.

【0106】合成例3 合成例1で得られたアセトンピロガロール樹脂50g
(約0.04モル)と1,2−ナフトキノン−2−ジア
ジド−5−スルホン酸クロリド166g(約0.62モ
ル)を1,4−ジオキサン500gに溶解させた。次に
炭酸ナトリウム10重量%水溶液100gを20分かけ
て滴下し、溶液温度を40℃に保った状態で4時間攪拌
し反応させた。反応終了後、溶液を水1000g中に投
入し生成物を析出、沈降させた。上澄液を除去し、減圧
乾燥を行ないキノンジアジド基を有するアセトンピロガ
ロール樹脂−3を得た。
Synthesis Example 3 50 g of the acetone pyrogallol resin obtained in Synthesis Example 1
(About 0.04 mol) and 166 g (about 0.62 mol) of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride were dissolved in 500 g of 1,4-dioxane. Next, 100 g of a 10% by weight aqueous solution of sodium carbonate was added dropwise over 20 minutes, and the mixture was stirred and reacted for 4 hours while maintaining the solution temperature at 40 ° C. After completion of the reaction, the solution was put into 1000 g of water to precipitate and sediment the product. The supernatant was removed and the residue was dried under reduced pressure to obtain acetone pyrogallol resin-3 having a quinonediazide group.

【0107】合成例4 合成例1で得られたアセトンピロガロール樹脂50g
(約0.04モル)と1,2−ナフトキノン−2−ジア
ジド−5−スルホン酸クロリド7.5g(約0.03モ
ル)を1,4−ジオキサン500gに溶解させた。次に
炭酸ナトリウム10重量%水溶液20gを20分かけて
滴下し、溶液温度を40℃に保った状態で4時間攪拌し
反応させた。反応終了後、溶液を水1000g中に投入
し生成物を析出、沈降させた。上澄液を除去し、減圧乾
燥を行ないキノンジアジド基を有するアセトンピロガロ
ール樹脂−4を得た。
Synthesis Example 4 50 g of the acetone pyrogallol resin obtained in Synthesis Example 1
(About 0.04 mol) and 7.5 g (about 0.03 mol) of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride were dissolved in 500 g of 1,4-dioxane. Next, 20 g of a 10% by weight aqueous solution of sodium carbonate was added dropwise over 20 minutes, and the mixture was stirred and reacted for 4 hours while maintaining the solution temperature at 40 ° C. After completion of the reaction, the solution was put into 1000 g of water to precipitate and sediment the product. The supernatant was removed and the residue was dried under reduced pressure to obtain an acetone pyrogallol resin-4 having a quinonediazide group.

【0108】合成例5 合成例1で得られたアセトンピロガロール樹脂50g
(約0.04モル)と1,2−ナフトキノン−2−ジア
ジド−5−スルホン酸クロリド174g(約0.65モ
ル)を1,4−ジオキサン500gに溶解させた。次に
炭酸ナトリウム10重量%水溶液100gを20分かけ
て滴下し、溶液温度を40℃に保った状態で4時間攪拌
し反応させた。反応終了後、溶液を水1000g中に投
入し生成物を析出、沈降させた。上澄液を除去し、減圧
乾燥を行ないキノンジアジド基を有するアセトンピロガ
ロール樹脂−5を得た。
Synthesis Example 5 50 g of the acetone pyrogallol resin obtained in Synthesis Example 1
(About 0.04 mol) and 174 g (about 0.65 mol) of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride were dissolved in 500 g of 1,4-dioxane. Next, 100 g of a 10% by weight aqueous solution of sodium carbonate was added dropwise over 20 minutes, and the mixture was stirred and reacted for 4 hours while maintaining the solution temperature at 40 ° C. After completion of the reaction, the solution was put into 1000 g of water to precipitate and sediment the product. The supernatant was removed and the residue was dried under reduced pressure to obtain an acetone pyrogallol resin-5 having a quinonediazide group.

【0109】実施例1 通常の方法で脱脂した厚さ0.24mmのアルミ板(住
友金属(株)製)に、下記のプライマー 組成物を塗布
し、200℃、2分間熱処理して5g/m2のプライマ
ー層を塗設した。
Example 1 The following primer composition was applied to a 0.24 mm-thick aluminum plate (manufactured by Sumitomo Metal Co., Ltd.) degreased by an ordinary method, followed by heat treatment at 200 ° C. for 2 minutes to 5 g / m 2. 2 primer layers were applied.

【0110】 〈固形成分:塗布濃度12%〉 (1)ポリウレタン樹脂”サンプレンLQ−SZ18”(三洋化成工業(株)製 ) 75重量 部(2)ブロックイソシアネート”タケネートB830”(武田薬品(株)製) 15重量 部(3)エポキシ・尿素樹脂 10重量 部〈溶剤成分〉 (4)ジメチルホルムアミド 続いてこの上に、下記の組成を有する感光層組成物を1
20℃、30秒間乾燥して1.2g/m2の感光層を塗
設した。
<Solid Component: Coating Concentration 12%> (1) Polyurethane resin “SAMPLEN LQ-SZ18” (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 75 parts by weight (2) Blocked isocyanate “Takenate B830” (Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) 15 parts by weight (3) Epoxy / urea resin 10 parts by weight <Solvent component> (4) Dimethylformamide Subsequently, a photosensitive layer composition having the following composition was added on top of this.
After drying at 20 ° C. for 30 seconds, a photosensitive layer of 1.2 g / m 2 was provided.

【0111】 〈固形成分:塗布濃度10%〉 (1)合成例1で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂 (エステル化度33%) 70重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331”(三洋化成工業(株) 製) 30重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 〈溶剤成分〉 (6)テトラヒドロフラン 続いて、この感光層の上に下記組成のシリコーンゴム層
をバーコーターで塗布し、熱乾燥によりシリコーンゴム
層を塗設した。
<Solid Component: Coating Concentration 10%> (1) 70 parts by weight of an acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group obtained in Synthesis Example 1 (degree of esterification: 33%) (2) 4,4′-diphenylmethane diisocyanate 21 Parts by weight (3) 30 parts by weight of a polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) (4) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) 0.8 parts by weight of P-toluenesulfonic acid <Solvent Component> (6) Tetrahydrofuran Subsequently, a silicone rubber layer having the following composition was applied on the photosensitive layer with a bar coater, and the silicone rubber layer was applied by heat drying.

【0112】付加反応架橋性シリコーンゴム層として下
記組成物をバーコーターで塗布し、130℃、1分間熱
硬化して、2g/m2のシリコーンゴム層を塗設した。
The following composition was applied with a bar coater as an addition reaction crosslinkable silicone rubber layer, and heat-cured at 130 ° C. for 1 minute to apply a 2 g / m 2 silicone rubber layer.

【0113】 〈固形成分:10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770)100重量部 (2)HMS−501(チッソ(株)製 両末端メチル(メチルハイドロジェン シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体 SiH基数/分子量=0.69 mol/g) 4重量部 (3)オレフィン配位白金 0.02重量部 (4)反応抑制剤 0.3重量部 〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約7.9であった。
<Solid component: 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinyl polydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (2) HMS-501 (manufactured by Chisso Corp., both ends methyl (methyl hydrogen siloxane)) (Dimethylsiloxane) copolymer SiH groups / molecular weight = 0.69 mol / g) 4 parts by weight (3) Olefin-coordinated platinum 0.02 parts by weight (4) Reaction inhibitor 0.3 parts by weight <Solvent component> ( 5) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) In the above silicone rubber layer composition, the number of SiH groups per one vinyl group was about 7.9.

【0114】以上のようにして得られた積層板に、12
μmの片面マット化二軸延伸ポリプロピレンフィルムを
マット化されていない面がシリコーンゴム層と接するよ
うにしてカレンダーローラーを用いてラミネートし、ネ
ガ型の水なし平版印刷版用原版を得た。
The laminated board obtained as described above was
A biaxially-stretched biaxially-stretched polypropylene film having a thickness of μm was laminated using a calender roller so that the non-matted surface was in contact with the silicone rubber layer, to obtain a negative type waterless planographic printing plate precursor.

【0115】この印刷版をメタルハライドランプ(岩崎
電気(株)製アイドルフィン2000)を用い、UVメ
ーター(オーク社製作所製、ライトメジャータイプUV
−402A)で11mW/cm2の照度で6秒間全面露
光を行なった。
Using a metal halide lamp (Idolfin 2000, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.), the printing plate was subjected to a UV meter (a light measure type UV, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.).
At -402 A), the entire surface was exposed at an illuminance of 11 mW / cm 2 for 6 seconds.

【0116】上記のようにして得られた印刷版に150
線/インチで1〜99%の網点を有するポジフィルムと
光学濃度差が0.15のステップになっているグレース
ケール(G/S)を上記のメタルハライドランプを用い
て、30秒間真空密着した後、1mの距離から60秒間
露光し、ラミネートフィルムを剥離した。
The printing plate obtained as described above is
A positive film having 1-99% halftone dots in lines / inch and a gray scale (G / S) having an optical density difference of 0.15 steps were vacuum-adhered for 30 seconds using the above metal halide lamp. Thereafter, the laminate film was exposed from a distance of 1 m for 60 seconds to peel off the laminate film.

【0117】その後自動現像機(東レ(株)製:TWL
−1160)を用いて、液温45℃のNP−1前処理液
(東レ(株)製:自動現像機用前処理液)中で1分間浸
漬処理し、液温25℃の純水中で現像ブラシにより露光
部のシリコーンゴム層を剥離除去しNA−1後処理液
(東レ(株)製:自動現像機用後処理液)により画線部
の感光層を染色し刷版とした。その際のグレースケール
感度を評価した。
Thereafter, an automatic developing machine (TWL manufactured by Toray Industries, Inc .: TWL)
-1160) in a NP-1 pretreatment liquid at a liquid temperature of 45 ° C. (manufactured by Toray Industries, Inc .: a pretreatment liquid for an automatic developing machine) for 1 minute, and in pure water at a liquid temperature of 25 ° C. The silicone rubber layer in the exposed area was peeled off and removed with a developing brush, and the photosensitive layer in the image area was dyed with an NA-1 post-treatment liquid (manufactured by Toray Industries, Inc .: post-treatment liquid for an automatic developing machine) to form a printing plate. The gray scale sensitivity at that time was evaluated.

【0118】グレースケール感度とは、現像後シリコー
ンゴム層が除去されなかったグレースケール濃度の段数
を意味し、この結果の大きいほど、高感度であることを
示す。
The gray scale sensitivity means the number of gray scale densities at which the silicone rubber layer was not removed after development, and the higher the result, the higher the sensitivity.

【0119】更に未露光の水なし平版を温度50℃、湿
度70%RH雰囲気中で10日間保存し、保存後に上記
と同様の画像再現性の評価を行なった。保存前と保存後
のグレースケール感度の差を保存安定性の指標として評
価した。
Further, the unexposed waterless lithographic plate was stored for 10 days in a 50 ° C., 70% RH atmosphere, and after storage, the same image reproducibility was evaluated as described above. The difference between the gray scale sensitivities before and after storage was evaluated as an index of storage stability.

【0120】実施例2〜3 実施例1で使用したキノンジアジド基を有するアセトン
ピロガロール樹脂を実施例2においては合成例2で得ら
れたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹
脂(エステル化度10%)に、実施例3においては合成
例3で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロ
ガロール樹脂(エステル化度66%)ものに置き換える
以外は実施例1と同様にして水なし平版を作製し、実施
例1と同様に画像再現性、保存安定性の評価を行った。
Examples 2 to 3 In Example 2, the acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group used in Example 1 was replaced with the acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group obtained in Synthesis Example 2 (esterification degree: 10%). In Example 3, a waterless lithographic plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the quinonediazide group-containing acetone pyrogallol resin (esterification degree: 66%) obtained in Synthesis Example 3 was used. Were evaluated for image reproducibility and storage stability.

【0121】実施例4 実施例1で使用した感光層組成を下記の組成に変更する
以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版印刷版原
版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Example 4 A negative waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the photosensitive layer used in Example 1 was changed to the following composition, and evaluated in the same manner as in Example 1. Was done.

【0122】 感光層組成〈固形成分:塗布濃度10%〉 (1)合成例1で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂 (エステル化度33%) 70重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 5.3重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331”(三洋化成工業(株) 製) 30重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 〈溶剤成分〉 (6)テトラヒドロフラン 実施例5 実施例1で使用した感光層組成を下記の組成に変更する
以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版印刷版原
版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Photosensitive Layer Composition <Solid Component: Coating Concentration 10%> (1) Acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group obtained in Synthesis Example 1 (degree of esterification 33%) 70 parts by weight (2) 4,4′- 5.3 parts by weight of diphenylmethane diisocyanate (3) 30 parts by weight of polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) (4) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight <Solvent component> (6) Tetrahydrofuran Example 5 A negative waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the photosensitive layer used in Example 1 was changed to the following composition. It was fabricated and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0123】 感光層組成〈固形成分:塗布濃度10%〉 (1)合成例1で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂 (エステル化度33%) 70重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 55重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331”(三洋化成工業(株) 製) 30重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 〈溶剤成分〉 (6)テトラヒドロフラン 実施例6 実施例1で使用したシリコーンゴム層組成を下記に変更
する以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版印刷
版原版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Photosensitive Layer Composition <Solid Component: Coating Concentration 10%> (1) Acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group obtained in Synthesis Example 1 (degree of esterification: 33%) 70 parts by weight (2) 4,4′- 55 parts by weight of diphenylmethane diisocyanate (3) 30 parts by weight of polyurethane resin "Samprene LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) (4) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) P-toluenesulfonic acid 8 parts by weight <solvent component> (6) Tetrahydrofuran Example 6 A negative waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the silicone rubber layer used in Example 1 was changed as follows. Evaluation was performed in the same manner as in Example 1.

【0124】 シリコーンゴム層組成〈固形成分10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770)100重量部 (2)HMS−151(チッソ(株)製 両末端メチル(メチルハイドロジェン シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体 SiH基数/分子量=0.25 mol/g) 4重量部 (3)オレフィン配位白金 0.02重量部 (4)反応抑制剤 0.3重量部 〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約2.9であった。
Silicone Rubber Layer Composition <Solid Component 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (2) HMS-151 (manufactured by Chisso Corp. (Gen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer Number of SiH groups / molecular weight = 0.25 mol / g) 4 parts by weight (3) 0.02 parts by weight of olefin-coordinated platinum (4) 0.3 parts by weight of reaction inhibitor <solvent Ingredients> (5) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) The number of SiH groups per one vinyl group in the above silicone rubber layer composition was about 2.9.

【0125】実施例7 実施例1で使用したシリコーンゴム層組成を下記に変更
する以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版印刷
版原版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Example 7 A negative type waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the silicone rubber layer used in Example 1 was changed as follows, and evaluated in the same manner as in Example 1. went.

【0126】 シリコーンゴム層組成〈固形成分10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770)100重量部 (2)SH−1107(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製 両末端メ チルポリメチルハイドロジェンシロキサン SiH基数/分子量=1.67mol/ g) 3重量部 (3)オレフィン配位白金 0.02重量部 (4)反応抑制剤 0.3重量部 〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約13.8であった。
Silicone Rubber Layer Composition <Solid Component 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (2) SH-1107 (manufactured by Dow Corning Silicone Toray Co., Ltd.) Terminal methyl polymethyl hydrogen siloxane Number of SiH groups / molecular weight = 1.67 mol / g) 3 parts by weight (3) Olefin-coordinated platinum 0.02 parts by weight (4) Reaction inhibitor 0.3 parts by weight <Solvent component> ( 5) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) The number of SiH groups per 1 vinyl group in the above silicone rubber layer composition was about 13.8.

【0127】実施例8 実施例1で使用したシリコーンゴム層組成を下記に変更
する以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版印刷
版原版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Example 8 A negative type waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the silicone rubber layer used in Example 1 was changed as follows, and evaluated in the same manner as in Example 1. went.

【0128】 〈固形成分:10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770)100重量部 (2)HMS−501(チッソ(株)製 両末端メチル(メチルハイドロジェン シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体 SiH基数/分子量=0.69 mol/g) 1重量部 (3)オレフィン配位白金 0.02重量部 (4)反応抑制剤 0.3重量部 〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約2.0であった。
<Solid component: 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (2) HMS-501 (manufactured by Chisso Corp., both ends methyl (methyl hydrogen siloxane)) (Dimethylsiloxane) copolymer Number of SiH groups / molecular weight = 0.69 mol / g) 1 part by weight (3) 0.02 parts by weight of olefin-coordinated platinum (4) 0.3 parts by weight of reaction inhibitor <Solvent component> ( 5) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) The number of SiH groups per one vinyl group in the above silicone rubber layer composition was about 2.0.

【0129】実施例9〜10 実施例1で使用したキノンジアジド基を有するアセトン
ピロガロール樹脂を実施例9においては合成例4で得ら
れたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹
脂(エステル化度3%)に、実施例10においては合成
例5で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロ
ガロール樹脂(エステル化度70%)ものに置き換える
以外は実施例1と同様にして水なし平版を作製し、実施
例1と同様に画像再現性、保存安定性の評価を行った。
Examples 9 to 10 In Example 9, the acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group used in Example 1 was replaced with the acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group obtained in Synthesis Example 4 (esterification degree: 3%). In Example 10, a waterless lithographic plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the quinonediazide-containing acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group (esterification degree: 70%) was used. Were evaluated for image reproducibility and storage stability.

【0130】実施例11 実施例1で使用した感光層組成を下記の組成に変更する
以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版印刷版原
版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Example 11 A negative waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the photosensitive layer used in Example 1 was changed to the following composition, and evaluated in the same manner as in Example 1. Was done.

【0131】 感光層組成〈固形成分:塗布濃度10%〉 (1)合成例1で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂 (エステル化度33%) 70重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 2.2重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331”(三洋化成工業(株) 製) 30重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 〈溶剤成分〉 (6)テトラヒドロフラン 実施例12 実施例1で使用した感光層組成を下記の組成に変更する
以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版印刷版原
版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Photosensitive Layer Composition <Solid Component: Coating Concentration 10%> (1) Acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group obtained in Synthesis Example 1 (degree of esterification: 33%) 70 parts by weight (2) 4,4′- 2.2 parts by weight of diphenylmethane diisocyanate (3) 30 parts by weight of polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) (4) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) P-toluenesulfonic acid 0.8 part by weight <Solvent component> (6) Tetrahydrofuran Example 12 A negative waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the photosensitive layer used in Example 1 was changed to the following composition. It was fabricated and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0132】 感光層組成〈固形成分:塗布濃度10%〉 (1)合成例1で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂 (エステル化度33%) 70重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 105重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331”(三洋化成工業(株) 製) 30重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 〈溶剤成分〉 (6)テトラヒドロフラン 実施例13 実施例1で使用したシリコーンゴム層組成を下記の組成
に変更する以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平
版印刷版原版を作製し、実施例1と同様に評価を行っ
た。
Photosensitive Layer Composition <Solid Component: Application Concentration 10%> (1) Acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group obtained in Synthesis Example 1 (degree of esterification: 33%) 70 parts by weight (2) 4,4′- Diphenylmethane diisocyanate 105 parts by weight (3) Polyurethane resin “SAMPLEN LQ-T1331” (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 30 parts by weight (4) Dibutyltin diacetate 0.2 part by weight (5) P-toluenesulfonic acid 8 parts by weight <solvent component> (6) Tetrahydrofuran Example 13 A negative waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the silicone rubber layer used in Example 1 was changed to the following composition. Then, evaluation was performed in the same manner as in Example 1.

【0133】 シリコーンゴム層組成〈固形成分10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770)100重量部 (2)HMS−013(チッソ(株)製 両末端メチル(メチルハイドロジェン シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体 SiH基数/分子量=0.01 3mol/g) 50重量 部(3)オレフィン配位白金 0.02重量 部(4)反応抑制剤 0.3重量 部〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約1.9であった。
Silicone Rubber Layer Composition <Solid Component 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (2) HMS-013 (manufactured by Chisso Corp. (Gen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer SiH group number / molecular weight = 0.01 3 mol / g) 50 parts by weight (3) 0.02 parts by weight of olefin-coordinated platinum (4) 0.3 parts by weight of reaction inhibitor <solvent Ingredients> (5) "ISOPAR" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) The number of SiH groups with respect to 1 vinyl group in the above silicone rubber layer composition was about 1.9.

【0134】実施例14 実施例1で使用したシリコーンゴム層組成を下記の組成
に変更する以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平
版印刷版原版を作製し、実施例1と同様に評価を行っ
た。
Example 14 A negative waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the silicone rubber layer used in Example 1 was changed to the following composition. An evaluation was performed.

【0135】 シリコーンゴム層組成〈固形成分10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770)100重量部 (2)HMS−501(チッソ(株)製 両末端メチル(メチルハイドロジェン シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体 SiH基数/分子量=0.69 mol/g) 10重量部 (3)オレフィン配位白金 0.02重量部 (4)反応抑制剤 0.3重量部 〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約19.8であった。
Silicone Rubber Layer Composition <Solid Component 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (2) HMS-501 (manufactured by Chisso Corp. (Gen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer Number of SiH groups / Molecular weight = 0.69 mol / g) 10 parts by weight (3) Olefin-coordinated platinum 0.02 parts by weight (4) Reaction inhibitor 0.3 parts by weight <Solvent Ingredients> (5) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) The number of SiH groups with respect to 1 vinyl group in the above silicone rubber layer composition was about 19.8.

【0136】比較例1 実施例1で使用したシリコーンゴム層を下記に示す縮合
型のシリコーンゴム組成を下記の条件で塗設したものに
変更する以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版
印刷版原版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Comparative Example 1 Negative water was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicone rubber layer used in Example 1 was changed to a silicone rubber composition of the condensation type shown below, which was applied under the following conditions. A lithographic printing plate precursor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0137】下記の縮合型シリコーンゴム組成物をバー
コーターで塗布し、130℃、2分間熱硬化して、2g
/m2のシリコーンゴム層を塗設した。
The following condensation type silicone rubber composition was applied with a bar coater, and heat-cured at 130 ° C. for 2 minutes to obtain 2 g
/ M 2 of silicone rubber layer.

【0138】 シリコーンゴム層組成〈固形成分10%〉 (1)両末端水酸基ポリジメチルシロキサン(重合度〜700) 90重量部 (2)トリス(メチルエチルケトオキシム)ビニルシラン 9.8重量部 (3)ジブチル錫ジラウレート 0.2重量部 〈溶剤成分〉 (4)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 比較例2 実施例1で使用した感光層組成を下記の組成に変更する
以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版印刷版原
版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Silicone Rubber Layer Composition <Solid Component 10%> (1) 90% by weight of hydroxyl-terminated polydimethylsiloxane (degree of polymerization: 700) (2) 9.8 parts by weight of tris (methylethylketoxime) vinylsilane (3) dibutyltin Dilaurate 0.2 parts by weight <Solvent component> (4) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) Comparative Example 2 The same as in Example 1 except that the photosensitive layer composition used in Example 1 was changed to the following composition. In the same manner, a negative type waterless planographic printing plate precursor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0139】 感光層組成〈固形成分:塗布濃度10%〉 (1)合成例1で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂 (エステル化度33%) 70重量部 (2)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331”(三洋化成工業(株) 製) 30重量部 (3)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (4)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 〈溶剤成分〉 (5)テトラヒドロフラン 実施例1〜14及び比較例1〜2について画像再現性及
び保存安定性を評価した結果を表1に、また、それぞれ
使用したシリコーンゴム層組成を表2に示す。
Photosensitive Layer Composition <Solid Component: Coating Concentration 10%> (1) Acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group obtained in Synthesis Example 1 (degree of esterification: 33%) 70 parts by weight (2) Polyurethane resin “SAMPLEN LQ” -T1331 "(manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 30 parts by weight (3) Dibutyltin diacetate 0.2 part by weight (4) P-toluenesulfonic acid 0.8 part by weight <Solvent component> (5) Tetrahydrofuran Table 1 shows the results of evaluating the image reproducibility and storage stability of Comparative Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 and 2, and Table 2 shows the compositions of the silicone rubber layers used.

【0140】[0140]

【表1】 [Table 1]

【表2】 表1において比較例2の印刷版は画線部の全部及び非ぶ
画線部の一部の感光層が現像時に溶解し、良好な刷版は
得られなかった。この結果より感光層中のキノンジアジ
ド基を有するアセトンピロガロール樹脂は架橋構造を形
成しなければならないことが分かる。
[Table 2] In Table 1, in the printing plate of Comparative Example 2, all the image portions and a part of the photosensitive layer in the non-printing image portion were dissolved at the time of development, and a good printing plate was not obtained. This result indicates that the acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group in the photosensitive layer must form a crosslinked structure.

【0141】また、比較例1と比較して全ての実施例に
おいて初期と強制保存後のGS感度の差が小さく保存安
定性が優れていることから、架橋構造を形成したキノン
ジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂を含有し
た感光層と付加型シリコーンゴム層の組み合わせにより
画像再現性、保存安定性が向上することが分かる。
Further, since the difference in GS sensitivity between the initial stage and after forced storage was small and the storage stability was excellent in all the examples as compared with Comparative Example 1, acetone pyrogallol having a quinonediazide group having a crosslinked structure was obtained. It can be seen that image reproducibility and storage stability are improved by the combination of the photosensitive layer containing the resin and the additional silicone rubber layer.

【0142】更に、感光層中の架橋剤量を請求項に記載
の範囲にすることにより、画像再現性、保存安定性がよ
り向上することが分かる。
Further, it can be seen that the image reproducibility and storage stability are further improved by setting the amount of the crosslinking agent in the photosensitive layer in the range described in the claims.

【0143】[0143]

【発明の効果】本発明は、基板上に少なくとも、感光層
およびシリコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし
平版印刷版原版において該感光層がキノンジアジド基を
有するアセトンピロガロール樹脂を含有し且つ該アセト
ンピロガロール樹脂が架橋構造を形成し、更にシリコー
ンゴム層に付加型シリコーンゴムを使用することによ
り、画像再現性が良好で且つ保存安定性に優れた水なし
平版印刷版原版が得られる。
According to the present invention, there is provided a waterless planographic printing plate precursor obtained by laminating a photosensitive layer and a silicone rubber layer in this order on a substrate, wherein the photosensitive layer contains an acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group. When the acetone pyrogallol resin forms a crosslinked structure and the addition type silicone rubber is used for the silicone rubber layer, a waterless planographic printing plate precursor having good image reproducibility and excellent storage stability can be obtained.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に少なくとも、プライマー層、感光
層およびシリコーンゴム層をこの順に積層してなる水な
し平版印刷版原版において、該感光層が架橋構造を形成
したキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹
脂を含有し、且つシリコーンゴム層がビニル基とSiH
基の付加反応により硬化していることを特徴とする水な
し平版印刷版原版。
1. A waterless lithographic printing plate precursor comprising at least a primer layer, a photosensitive layer and a silicone rubber layer laminated in this order on a substrate, wherein the photosensitive layer has a quinonediazide group having a crosslinked structure and an acetone pyrogallol resin. And the silicone rubber layer has a vinyl group and SiH
A waterless lithographic printing plate precursor characterized by being cured by the addition reaction of a group.
【請求項2】アセトンピロガロール樹脂が下記一般式1
で表されることを特徴とする請求項1記載の水なし平版
印刷版原版。 【化1】 (式中X、Y、Z、はそれぞれ独立して水酸基あるいは
キノンジアジドのスルホン酸エステル基を表す。nは5
〜12の整数を表す。)
2. An acetone pyrogallol resin represented by the following general formula 1.
The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the lithographic printing plate precursor is waterless. Embedded image (Wherein X, Y, and Z each independently represent a hydroxyl group or a sulfonic ester group of quinonediazide; n is 5
Represents an integer of from 12 to 12. )
【請求項3】シリコーンゴム層が分子中に2個以上ビニ
ル基を有するオルガノポリシロキサンと分子中に3個以
上SiH基を有するハイドロジェンシロキサンおよび白
金化合物を含有することを特徴とする請求項1〜2記載
の水なし平版印刷版原版。
3. A silicone rubber layer comprising an organopolysiloxane having at least two vinyl groups in a molecule, a hydrogen siloxane having at least three SiH groups in a molecule, and a platinum compound. Waterless planographic printing plate precursors as described in Nos. 1 to 2.
【請求項4】ハイドロジェンシロキサンの分子中に有す
るSiH基数/分子量の値が0.001mol/g以上
であることを特徴とする請求項1〜3記載の水なし平版
印刷版原版。
4. The waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the value of the number of SiH groups / molecular weight in the molecule of the hydrogen siloxane is 0.001 mol / g or more.
【請求項5】シリコーンゴム層中のビニル基数1に対す
るSiH基数の比率が1.5〜15の範囲にあることを
特徴とする請求項1〜4記載の水なし平版印刷版原版。
5. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the ratio of the number of SiH groups to the number of vinyl groups in the silicone rubber layer is in the range of 1.5 to 15.
【請求項6】アセトンピロガロール樹脂が1,2−ナフ
トキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリドある
いは、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸クロリドによりエステル化されており、エステル
化度が5〜67%であることを特徴とする請求項1〜5
記載の水なし平版印刷版原版。
6. The acetone pyrogallol resin is esterified with 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride or 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid chloride. The degree is 5-67%.
The waterless planographic printing plate precursor described.
【請求項7】アセトンピロガロール樹脂がイソシアネー
ト化合物により架橋されていることを特徴とする請求項
1〜6記載の水なし平版印刷版原版。
7. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the acetone pyrogallol resin is cross-linked by an isocyanate compound.
【請求項8】感光層中のイソシアネートの含有量がキノ
ンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂に対し
て5〜45重量%であることを特徴とする請求項1〜7
記載の水なし平版印刷版原版。
8. The method according to claim 1, wherein the content of isocyanate in the photosensitive layer is 5 to 45% by weight based on the acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group.
The waterless planographic printing plate precursor described.
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