JPH11352672A - Waterless planographic original printing plate - Google Patents

Waterless planographic original printing plate

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Publication number
JPH11352672A
JPH11352672A JP15716298A JP15716298A JPH11352672A JP H11352672 A JPH11352672 A JP H11352672A JP 15716298 A JP15716298 A JP 15716298A JP 15716298 A JP15716298 A JP 15716298A JP H11352672 A JPH11352672 A JP H11352672A
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JP
Japan
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printing plate
weight
group
silicone rubber
photosensitive layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP15716298A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuzuru Baba
譲 馬場
Norimasa Ikeda
憲正 池田
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH11352672A publication Critical patent/JPH11352672A/en
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photosensitive layer remaining type negative waterless planographic original printing plate having excellent image reproducibility and preservable stability. SOLUTION: In the waterless planographic original printing plate formed by laminating at least a photosensitive layer and a silicone rubber layer on a supporting body in this order, the photosensitive layer is separated into 2 phases of a phase consisting essentially of a compound having hydroxide group and quinone diazide group and a phase consisting essentially of a polymer and a specific addition type silicone rubber layer is used as the silicone rubber layer. As a result, the waterless planographic original printing plate having excellent image reproducibility and preservable stability is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は水なし平版印刷版原
版に関するものであり、さらに詳しくは画像再現性が良
好で且つ保存安定性に優れた水なし平版印刷版原版に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor without water, and more particularly, to a lithographic printing plate precursor having good image reproducibility and excellent storage stability.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来からシリコーンゴムやフッ素樹脂を
インキ反撥層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷
を行なうための印刷版が種々提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various printing plates have been proposed for performing lithographic printing using silicone rubber or fluororesin as an ink repellent layer without using dampening water.

【0003】フッ素樹脂をインキ反撥層に用いる感光性
平版印刷版としては、特開平2−254449号、特開
平2−85855号などがあり、フッ素樹脂としては1
H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアク
リレートや1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオ
ロデシルメタクリレートが用いられている。
As photosensitive lithographic printing plates using a fluororesin for the ink repellent layer, there are JP-A-2-254449 and JP-A-2-85855, and the like.
H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl acrylate and 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate are used.

【0004】シリコーンゴムをインキ反撥層とするポジ
型感光性平版印刷版としては、例えば特公昭54−26
923号、特公昭56−23150号などに提案されて
いる基板上に光重合性接着層とシリコーンゴム層とが積
層された水なし平版印刷版や、特開昭61−15365
5号、特公平3−56622号などに提案されている基
板上に光二量化型感光層とシリコーンゴム層とが積層さ
れた水なし平版印刷版などが挙げられる。
A positive type photosensitive lithographic printing plate having a silicone rubber as an ink repellent layer is disclosed in, for example, JP-B-54-26.
No. 923, Japanese Patent Publication No. 56-23150, etc., a waterless planographic printing plate in which a photopolymerizable adhesive layer and a silicone rubber layer are laminated on a substrate;
No. 5, JP-B-3-56622 and the like, and a waterless planographic printing plate in which a photodimerizing photosensitive layer and a silicone rubber layer are laminated on a substrate.

【0005】また、シリコーンゴムをインキ反撥層に用
いるネガ型感光性平版印刷版としては、特公昭61−6
16号、特公昭61−54218号などに支持体上にキ
ノンジアジド化合物を含む感光層とその上に接着層を介
してシリコーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が提案
されている。
A negative type photosensitive lithographic printing plate using silicone rubber for the ink repellent layer is disclosed in Japanese Patent Publication No. 61-6 / 1986.
No. 16, JP-B-61-54218, etc. propose a waterless planographic printing plate having a photosensitive layer containing a quinonediazide compound on a support and a silicone rubber layer provided on the photosensitive layer via an adhesive layer.

【0006】また、印刷版作製後に刷版のUVインキ耐
性や耐溶剤性を向上させるため方法についても種々の発
明がなされている。例えば特公昭61−617号、特開
昭57−192956号、特開昭57−192957
号、特開昭57−205740号、特開昭60−133
452号、特開昭60−169852号などが挙げられ
る。
Various inventions have also been made on methods for improving the UV ink resistance and solvent resistance of a printing plate after the printing plate is manufactured. For example, JP-B-61-617, JP-A-57-192965, and JP-A-57-192957.
JP-A-57-205740, JP-A-60-133
452 and JP-A-60-169852.

【0007】これらの中でも特開昭60−169852
号ではアセトンピロガロール樹脂にキノンジアジド基を
付加した化合物を使用した感光層を有する水なし平版が
提案されている。しかしながら、この方法では、生版の
状態ではアセトンピロガロール樹脂が架橋されていない
ため現像性が不安定であり、また感光層の耐溶剤性を向
上させるために画像露光、現像した後に全面露光が必要
であるため作業性が悪く、また耐溶剤性の改良効果も低
いため実用化には至らなかった。さらに、この方法では
現像により感光層が溶解するいわゆる溶解現像型の水な
し平版であったためインキ着肉性、インキマイレージが
劣るといった問題がもあった。
[0007] Of these, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-169852
In Japanese Patent Laid-Open Publication No. H11-264, a waterless lithographic plate having a photosensitive layer using a compound obtained by adding a quinonediazide group to an acetone pyrogallol resin is proposed. However, in this method, the developability is unstable because the acetone pyrogallol resin is not crosslinked in the raw plate state, and it is necessary to perform image exposure and overall exposure after development in order to improve the solvent resistance of the photosensitive layer. Therefore, the workability was poor and the effect of improving the solvent resistance was low, so that it was not practically used. Furthermore, this method is a so-called solution-developing type waterless lithographic plate in which the photosensitive layer is dissolved by development, so that there is also a problem that the ink deposition property and the ink mileage are inferior.

【0008】また、特開昭60ー133453号、特開
昭60−35735号においてもアセトンピロガロール
樹脂にキノンジアジド基を付加した化合物を使用した水
なし平版が提案されているが、いずれも溶解現像型の水
なし平版であるためインキ着肉性、インキマイレージが
悪く、さらに現像後に未露光部の耐溶剤性向上のために
熱処理が必要なため作業性が悪くまた耐溶剤性の改良効
果が低く実用的ではなかった。
In Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-133453 and 60-35735, waterless lithographic plates using a compound obtained by adding a quinonediazide group to an acetone pyrogallol resin have been proposed. The waterless lithographic plate has poor ink deposition and ink mileage, and requires heat treatment to improve the solvent resistance of the unexposed areas after development, resulting in poor workability and low effect of improving solvent resistance. It was not a target.

【0009】これらの問題点を解決する方法として例え
ば特公昭61−54222号では、支持体上に、1,2
−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリ
ドとフェノールホルムアルドヒドノボラック樹脂の部分
エステル化物を多官能イソシアネートで架橋し、現像時
に画線部の感光層が残存する光剥離性感光層を有するネ
ガ型水なし平版印刷版が提案されている。この方法によ
り現像時の耐溶剤性はもちろんのこと刷版作製後のUV
インキ耐性、耐溶剤性も向上させることができた。
As a method for solving these problems, for example, Japanese Patent Publication No. 61-54222 discloses a method in which 1,2 is coated on a support.
Negative having a photo-peelable photosensitive layer in which a partially esterified product of naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde hydronovolak resin is cross-linked with a polyfunctional isocyanate, and the photosensitive layer in the image area remains during development. Lithographic printing plates without mold water have been proposed. By this method, not only the solvent resistance during development but also the UV
Ink resistance and solvent resistance were also improved.

【0010】しかしながら、これらの水なし平版は感光
層が剛直であるため印刷枚数が多い場合に感光層が破
断、脱離し易く結果として耐刷性が不足するという問題
があった。
However, these waterless lithographic plates have a problem that the photosensitive layer is stiff and easily detached when the number of printed sheets is large because the photosensitive layer is rigid, resulting in insufficient printing durability.

【0011】耐刷性を向上させる方法として例えば特開
平8−286364号、特開平8−305008号、特
開平8−305009号では感光層中にポリウレタンを
含有させることで感光層を柔軟化させる方法が提案され
ている。
As a method for improving the printing durability, for example, JP-A-8-286364, JP-A-8-305008 and JP-A-8-30509 disclose a method of softening the photosensitive layer by adding polyurethane to the photosensitive layer. Has been proposed.

【0012】しかしながら、これらの水なし平版はポリ
ウレタンを含有しない版と比較し画像再現性、保存安定
性が悪いという問題点があった。
However, these waterless lithographic plates have a problem that image reproducibility and storage stability are inferior to those of plates containing no polyurethane.

【0013】一方水なし平版印刷版原版のインキ反発層
として使用するシリコーンゴム層については従来は縮合
型のシリコーンゴムが一般的であったが、縮合型の反応
は湿度の影響を受けやすいため反応速度や感光層との接
着性が制御し難いという問題点があり、また版作製後、
保存中にシリコーンゴム層の縮合反応が進行し、感光層
中の水酸基を有する化合物と反応するためシリコーンゴ
ム層と感光層の接着性が上昇し現像性が低下するいわゆ
る保存安定性不良という問題も有していた。
On the other hand, as the silicone rubber layer used as the ink repellent layer of the waterless planographic printing plate precursor, a condensation type silicone rubber has conventionally been generally used. However, the condensation type reaction is susceptible to the influence of humidity. There is a problem that it is difficult to control the speed and the adhesiveness with the photosensitive layer.
During storage, the condensation reaction of the silicone rubber layer progresses and reacts with the compound having a hydroxyl group in the photosensitive layer, so that the adhesion between the silicone rubber layer and the photosensitive layer increases and the developability decreases, which is also a problem of so-called poor storage stability. Had.

【0014】これらの問題点を改良する方法として、付
加型シリコーンゴムを使用する方法が種々提案されてい
る。付加型シリコーンは縮合型シリコーンと異なり版製
造時に付加反応が完了するため保存中での感光層との接
着性が変化し難いと考えられる。特開平4−68353
号では光重合性の感光層上に特定の構造のハイドロジェ
ンシロキサンを含有する付加型シリコーンゴム層を塗設
したポジ型水なし平版印刷版原版が提案されている。し
かしながら光重合性感光層との接着性が不充分であり、
シリコーンゴム層の硬化性も充分ではなく硬化するまで
に時間がかかるという問題があった。そこで特開平4−
174437号、特開平5−94007号では感光層中
の光重合性モノマーとして特定の構造のものを使用する
ことでシリコーンゴム層の硬化性を改良する方法が提案
されている。特開平4−174437号では、一分子中
に6〜60個のエチレンオキサイド基あるいはプロピレ
ンオキサイド基を有する光重合性モノマーを使用する方
法が提案されている。
As a method for solving these problems, various methods using an addition type silicone rubber have been proposed. Unlike the condensation type silicone, the addition type silicone completes the addition reaction at the time of plate production, so it is considered that the adhesiveness to the photosensitive layer during storage is unlikely to change. JP-A-4-68353
In JP-A No. 9-264, a positive waterless planographic printing plate precursor is proposed in which an addition type silicone rubber layer containing a hydrogen siloxane having a specific structure is coated on a photopolymerizable photosensitive layer. However, the adhesiveness with the photopolymerizable photosensitive layer is insufficient,
There is a problem that the curability of the silicone rubber layer is not sufficient and it takes time to cure. Therefore, JP-A-4-
JP-A-174443 and JP-A-5-94007 propose a method of improving the curability of a silicone rubber layer by using a photopolymerizable monomer having a specific structure as a photopolymerizable monomer in a photosensitive layer. Japanese Patent Application Laid-Open No. H4-174437 proposes a method using a photopolymerizable monomer having 6 to 60 ethylene oxide groups or propylene oxide groups in one molecule.

【0015】更に特開平6−202313号では光重合
性、光架橋性あるいは光剥離性の感光層上に接着付与剤
として加水分解性基を有する3級アミン系の有機ケイ素
化合物を含有する付加型シリコーンゴム層を塗設させる
方法が提案されている。この方法により感光層との接着
性は向上させることができるが、接着性がシリコーンゴ
ム層塗設時の湿度により変化し安定した接着性が得にく
く、また接着付与剤の添加量が多い場合にインキ反発性
が低下するという問題があった。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-202313 discloses an addition type containing a tertiary amine-based organosilicon compound having a hydrolyzable group as an adhesion promoter on a photopolymerizable, photocrosslinkable or photoremovable photosensitive layer. A method of applying a silicone rubber layer has been proposed. Although the adhesiveness with the photosensitive layer can be improved by this method, the adhesiveness changes depending on the humidity at the time of coating the silicone rubber layer, and it is difficult to obtain stable adhesiveness. There is a problem that ink resilience decreases.

【0016】また、特開平6−202313号では感光
層にキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹
脂を含有し、シリコーンゴム層に付加型シリコーンゴム
を使用した水なし平版印刷版原版が例示されているが、
感光層が未架橋であるためシリコーンゴム層の硬化性が
不充分であり、また前記のものと同様に非画線部の耐溶
剤性が不足しインキ着肉性、インキマイレージが悪く耐
刷性も不充分であるため実用化には至っていない。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 6-202313 discloses a waterless planographic printing plate precursor containing an acetone pyrogallol resin having a quinonediazide group in a photosensitive layer and an addition type silicone rubber in a silicone rubber layer.
Since the photosensitive layer is not cross-linked, the curability of the silicone rubber layer is insufficient, and the solvent resistance of the non-image area is inadequate, and the ink adhesion and ink mileage are poor. Has not been put to practical use because it is insufficient.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は画像再
現性が良好で、かつ保存安定性に優れた水なし平版印刷
版原版を得るためのものである。
An object of the present invention is to provide a waterless planographic printing plate precursor having good image reproducibility and excellent storage stability.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明者らは検討を重ね
た結果、以下の方法により上記の課題を解決することが
できることを見出した。
As a result of repeated studies, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by the following method.

【0019】すなわち、本発明の目的は (1)基板上に少なくとも、感光層およびシリコーンゴ
ム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版にお
いて、該感光層が水酸基およびキノンジアジド基を有す
る化合物を主成分とする相とポリマーを主成分とする相
の2相に分離しており、更にシリコーンゴム層が分子量
10万以下のビニル基を有するポリシロキサンと該ビニ
ル基数1に対して3〜20個の硅素原子に直結した水素
基を有する比率でハイドロジェンシロキサンを含有し該
ビニル基と硅素原子に直結した水素基が付加反応して架
橋していることを特徴とする水なし平版印刷版原版。
That is, an object of the present invention is to provide (1) a compound having a hydroxyl group and a quinonediazide group in a waterless planographic printing plate precursor comprising at least a photosensitive layer and a silicone rubber layer laminated on a substrate in this order. Is separated into two phases, a phase mainly containing a polymer and a phase mainly containing a polymer. Further, the silicone rubber layer has a polysiloxane having a vinyl group having a molecular weight of 100,000 or less, and 3 to 20 parts per 1 of the vinyl group. A waterless lithographic printing plate precursor comprising hydrogen siloxane in a ratio having hydrogen groups directly bonded to silicon atoms, wherein said vinyl groups and hydrogen groups directly bonded to silicon atoms are cross-linked by an addition reaction. .

【0020】(2)水酸基及びキノンジアジド基を有す
る化合物がイソシアネートにより架橋されていることを
特徴とする(1)に記載の水なし平版印刷版原版。
(2) The waterless planographic printing plate precursor as described in (1), wherein the compound having a hydroxyl group and a quinonediazide group is crosslinked with isocyanate.

【0021】(3)ポリマーがポリウレタンであること
を特徴とする(1)〜(2)に記載の水なし平版印刷版
原版。
(3) The waterless lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2), wherein the polymer is polyurethane.

【0022】(4)シリコーンゴム層が分子中に2個以
上ビニル基を有するオルガノポリシロキサンと分子中に
3個以上SiH基を有するハイドロジェンシロキサンお
よび白金化合物を含有することを特徴とする(1)〜
(3)記載の水なし平版印刷版原版。
(4) The silicone rubber layer contains an organopolysiloxane having two or more vinyl groups in a molecule, a hydrogensiloxane having three or more SiH groups in a molecule, and a platinum compound. ) ~
(3) The waterless planographic printing plate precursor described in (3).

【0023】(5)ハイドロジェンシロキサンの分子中
に有するSiH基数/分子量の値が0.001mol/
g以上であることを特徴とする(1)〜(4)記載の水
なし平版印刷版原版。
(5) The value of the number of SiH groups / molecular weight in the molecule of the hydrogen siloxane is 0.001 mol /
g. or more, the waterless lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (4) above.

【0024】(6)水酸基及びキノンジアジド基を有す
る化合物がフェノールノボッラク樹脂を1,2−ナフト
キノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリドあるい
は、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホ
ン酸クロリドによりエステル化させたものであり、且つ
エステル化度が1〜60%であることを特徴とする
(1)〜(5)記載の水なし平版印刷版原版。
(6) The compound having a hydroxyl group and a quinonediazide group is a phenol novolak resin, which is 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride or 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfone. The waterless lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (5), which is esterified with an acid chloride and has a degree of esterification of 1 to 60%.

【0025】(7)感光層中のイソシアネートの含有量
がキノンジアジド化合物に対して5〜45重量%である
ことを特徴とする(1)〜(6)記載の水なし平版印刷
版原版。
(7) The waterless planographic printing plate precursor as described in (1) to (6), wherein the content of the isocyanate in the photosensitive layer is 5 to 45% by weight based on the quinonediazide compound.

【0026】により達成される。Is achieved by:

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下に本発明について詳しく説明
する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.

【0028】まず本発明で用いられる水なし平版用の基
板について説明する。本発明の水なし平版印刷版は通常
の印刷機にセットできる程度のたわみ性と印刷時にかか
る荷重とに耐えるものでなければならない。従って、代
表的な基板としては、コート紙、アルミニウムのような
金属板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチ
ックフィルム、ゴムあるいはそれらを複合させたものを
挙げることができる。これらの基板の表面にはハレーシ
ョン防止及びその他の目的で更にプライマー層などをコ
ーティングすることも可能である。
First, the waterless planographic substrate used in the present invention will be described. The waterless lithographic printing plate of the present invention must be flexible enough to be set in a normal printing press and withstand the load applied during printing. Accordingly, typical substrates include coated paper, metal plates such as aluminum, plastic films such as polyethylene terephthalate, rubber, and composites thereof. The surface of these substrates can be further coated with a primer layer or the like for the purpose of preventing halation and for other purposes.

【0029】プライマー層については、例えば、特開昭
60−22903号公報に提案されている種々の感光性
ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開平4−322181号公報に提案されている
メタクリル系含リンモノマを感光層を積層する前に露光
して硬化せしめたもの、特開平2−7049号公報に提
案されているメタクリル系エポキシ化合物を感光層を積
層する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭62−5
0760号公報に提案されているエポキシ樹脂を熱硬化
せしめたもの、特開昭63−133151号公報に提案
されているゼラチンを硬膜せしめたもの、特開平1−2
82270号公報や、特開平2−21072号公報に提
案されているウレタン樹脂を用いたものなどを挙げるこ
とが出来る。この他にもカゼインを硬膜させたものも有
効である。
The primer layer is obtained, for example, by curing various photosensitive polymers proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-22903 before exposing the photosensitive layers to each other. A methacrylic phosphorus-containing monomer proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H07-15095 cured by exposing it before laminating a photosensitive layer, and a methacrylic epoxy compound proposed in JP-A-2-7049 before laminating a photosensitive layer. Exposed and cured, JP-A-62-5
No. 0760, epoxy resin cured by heat, gelatin disclosed in JP-A-63-133151, hardened gelatin, JP-A-1-2
No. 82270 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-21072 using a urethane resin. In addition, a casein cured case is also effective.

【0030】さらにプライマー層を柔軟化させる目的
で、前記プライマー層にガラス転移温度が室温以下であ
るポリウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴ
ム、カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル/ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロ
ニトリル/ブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アク
リレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、などのポリマを添加してもよい。
その添加割合は任意であり、フィルム層を形成できる範
囲であれば、添加剤だけでプライマー層を形成してもよ
い。
For the purpose of further softening the primer layer, the primer layer has a glass transition temperature of room temperature or lower, such as polyurethane, polyamide, styrene / butadiene rubber, carboxy-modified styrene / butadiene rubber, acrylonitrile / butadiene rubber, carboxy-modified acrylonitrile / Polymers such as butadiene rubber, polyisoprene rubber, acrylate rubber, polyethylene, chlorinated polyethylene and chlorinated polypropylene may be added.
The addition ratio is arbitrary, and the primer layer may be formed only with the additives as long as the film layer can be formed.

【0031】また、これらのプライマー層には検版性を
向上させる目的で染料、pH指示薬、露光焼だし剤、フ
ォトクロミック化合物、光重合開始剤、接着助剤例え
ば、重合性モノマ、ジアゾ樹脂、シランカップリング
剤、チタネートカップリング剤、アルミニウムカップリ
ング剤、ジルコニアカップリング剤、ボロンカップリン
グ剤など)、白色顔料やシリカ粒子などの添加剤を含有
させることが出来る。
Further, these primer layers may be provided with a dye, a pH indicator, an exposure baking agent, a photochromic compound, a photopolymerization initiator, an adhesion auxiliary agent such as a polymerizable monomer, a diazo resin, Additives such as coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, zirconia coupling agents, and boron coupling agents), white pigments, and silica particles.

【0032】本発明に用いられるプライマー層の膜厚は
乾燥重量で0.1〜20g/m2 の範囲が好ましく、1
〜10g/m2 の範囲がさらに好ましい。
The thickness of the primer layer used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 20 g / m 2 on a dry weight basis.
The range of from 10 to 10 g / m 2 is more preferable.

【0033】次に、本発明の感光層について説明する。Next, the photosensitive layer of the present invention will be described.

【0034】本発明の感光層は、水酸基を有し且つキノ
ンジアジド化合物を主成分とする相とポリマーを主成分
とする相の少なくとも2相から構成された相分離構造を
形成させる必要がある。
The photosensitive layer of the present invention needs to form a phase-separated structure composed of at least two phases having a hydroxyl group and having a quinonediazide compound as a main component and a phase having a polymer as a main component.

【0035】水酸基を有し且つキノンジアジド化合物と
しては、フェノールノボラック樹脂あるいはアセトンピ
ロガロール樹脂にキノンジアジド基を付加させた化合物
が好ましい。
As the quinonediazide compound having a hydroxyl group, a compound obtained by adding a quinonediazide group to a phenol novolak resin or an acetone pyrogallol resin is preferable.

【0036】フェノールノボラック樹脂あるいはアセト
ンピロガロール樹脂にキノンジアジド基を付加する方法
としては、ベンゾキノンジアジドスルホン酸、ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸等によりエステル化する方法が
好ましい。
As a method of adding a quinonediazide group to a phenol novolak resin or an acetone pyrogallol resin, a method of esterification with benzoquinonediazidesulfonic acid, naphthoquinonediazidesulfonic acid or the like is preferable.

【0037】このようなキノンジアジド化合物として具
体的には、1,2−ベンゾキノン−2−ジアジド−4−
スルホン酸クロリド、1,2−ベンゾキノン−2−ジア
ジド−4−スルホン酸、1,2−ナフトキノン−2−ジ
アジド−4−スルホン酸クロリド、1,2−ナフトキノ
ン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1,2−ナフトキ
ノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド、1,2
−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸、1,
2−ナフトキノン−2−ジアジド−6−スルホン酸クロ
リド、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−6−スル
ホン酸等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されな
い。 これらの化合物の中で、1,2−ナフトキノン−
2−ジアジド−4−スルホン酸クロリドおよび、1,2
−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリ
ドが特に有効である。
As such a quinonediazide compound, specifically, 1,2-benzoquinone-2-diazide-4-
Sulfonic acid chloride, 1,2-benzoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid chloride, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride, 1,2
-Naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid, 1,
Examples thereof include 2-naphthoquinone-2-diazide-6-sulfonic acid chloride and 1,2-naphthoquinone-2-diazide-6-sulfonic acid, but the present invention is not limited thereto. Among these compounds, 1,2-naphthoquinone-
2-diazide-4-sulfonic acid chloride and 1,2
-Naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride is particularly effective.

【0038】上記のキノンジアジド化合物の付加量は、
エステル化率で5〜67%が好ましく、より好ましくは
15〜60%が好ましく、更に好ましくは30〜50%
が好ましい。エステル化率とは、フェノールノボラック
樹脂あるいはアセトンピロガロール樹脂が有する水酸基
数に対するキノンジアジド化合物とエステル化した水酸
基数の比率を100分率で表したものである。エステル
化率が5%未満の場合には、感光成分が減少することか
ら画像再現性が低下する傾向にあり好ましくなく、67
%より大きい場合には、フェノールノボラック樹脂ある
いはアセトンピロガロール樹脂の架橋点である残存水酸
基が減少するため、架橋密度が低下し、その結果感光層
の耐溶剤性が低下するため好ましくない。
The addition amount of the quinonediazide compound is as follows:
The esterification rate is preferably 5 to 67%, more preferably 15 to 60%, and still more preferably 30 to 50%.
Is preferred. The esterification ratio is a ratio of the number of hydroxyl groups esterified with the quinonediazide compound to the number of hydroxyl groups of the phenol novolak resin or the acetone pyrogallol resin expressed as a percentage. When the esterification ratio is less than 5%, the photosensitive components tend to decrease, and the image reproducibility tends to decrease.
%, The residual hydroxyl groups, which are the cross-linking points of the phenol novolak resin or acetone pyrogallol resin, decrease, so that the cross-linking density decreases, and as a result, the solvent resistance of the photosensitive layer decreases, which is not preferable.

【0039】ポリマー相との相溶性を低下させ、相分離
構造を形成させやすくする目的として上記のキノンジア
ジド化合物にシリル基を持たせることもできる。シリル
基を付加させる方法としては、フェノールノボラック樹
脂の残存する水酸基と付加反応しうる官能基を有するシ
リル化合物を反応させることにより得られる。
The above-mentioned quinonediazide compound may have a silyl group for the purpose of lowering the compatibility with the polymer phase and facilitating the formation of a phase-separated structure. A method for adding a silyl group is obtained by reacting a silyl compound having a functional group capable of undergoing an addition reaction with a remaining hydroxyl group of a phenol novolak resin.

【0040】水酸基と反応しうる基としては、イソシア
ネート基、カルボキシル基、エポキシ基等が挙げられ
る。
Examples of the group capable of reacting with a hydroxyl group include an isocyanate group, a carboxyl group and an epoxy group.

【0041】また、本発明の感光層では印刷版での画線
部の耐溶剤性の観点から上記のキノンジアジド基化合物
が架橋構造を形成していることが好ましい。架橋構造を
形成させる方法としては以下に示す多官能イソシアネー
ト類あるいは多官能エポキシ化合物を添加し熱架橋させ
る方法が好ましい。
In the photosensitive layer of the present invention, the quinonediazide group compound preferably forms a crosslinked structure from the viewpoint of the solvent resistance of the image area on the printing plate. As a method of forming a crosslinked structure, a method of adding a polyfunctional isocyanate or a polyfunctional epoxy compound described below and performing thermal crosslinking is preferable.

【0042】多官能イソシアネート類としては、パラフ
ェニレンジイソシアネート、2,4−または2,6−ト
ルイレンジイソシアネート(TDI)、4,4−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイ
ソシアネート(TODI)、キシリレンジイソシアネー
ト(XDI)、水素化キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソ
シアネート(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート(HDIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネ
ート(LDI)(別名2,6−ジイソシアネートメチル
カプロエート)、水素化MDI(H12MDI)(別名
4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト))、水素化TDI(HTDI)(別名メチルシクロ
ヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネート)、水素化
XDI(H6XDI)(別名1,3−(イソシアナート
メチル)シクロヘキサン)、イソホロンジイソシアネー
ト(IPDI)、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(IPD
I)、ジフェニルエーテルイソシアネート、トリメチル
ヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)、テトラ
メチルキシリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリ
フェニルイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート
(DDI)、トリフェニルメタントリイソシアネート、
トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェー
ト、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、リジン
エステルトリイソシアネート、1,6,11−ウンデカ
ントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4
−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサ
メチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイ
ソシアネート等やポリイソシアネート類の多価アルコー
ルアダクト体、あるいはポリイソシアネート類の重合体
等が挙げられる。
Examples of polyfunctional isocyanates include paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-toluylene diisocyanate (TDI), 4,4-diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolidine diisocyanate (TODI), and xylylene diisocyanate. XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, meta-xylylene diisocyanate (MXDI), hexamethylene diisocyanate (HDI or HMDI), lysine diisocyanate (LDI) (also known as 2,6-diisocyanatomethylcaproate), hydrogenated MDI (H12MDI) (also known as 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate)), hydrogenated TDI (HTDI) (also known as methylcyclohexane 2,4 (2 , 6) diisocyanate), hydrogenated XDI (H6XDI) (also known as 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane), isophorone diisocyanate (IPDI), diphenyl ether isocyanate,
Trimethylhexamethylene diisocyanate (IPD
I), diphenyl ether isocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), tetramethyl xylylene diisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, dimer acid diisocyanate (DDI), triphenylmethane triisocyanate,
Tris (isocyanatephenyl) thiophosphate, tetramethylxylylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4
-Isocyanate methyl octane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, bicycloheptane triisocyanate and the like, polyhydric alcohol adducts of polyisocyanates, and polymers of polyisocyanates.

【0043】多官能エポキシ化合物としては、水酸基含
有化合物にエピハロヒドリンを反応させて得られる化合
物が挙げられる。
Examples of the polyfunctional epoxy compound include compounds obtained by reacting a hydroxyl-containing compound with epihalohydrin.

【0044】多官能水酸基含有化合物の具体例として
は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリ
エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−
ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−
ノナンジオール、1,10−デカンジオール、2−ブテ
ン−1,4−ジオール、5−ヘキセン−1,2−ジオー
ル、7−オクテン−1,2−ジオール、3−メルカプト
−1,2−プロパンジオール、ヒドロキノン、ジヒドロ
キシアントラキノン、ジヒドロキシベンゾフェノン、ト
リヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フェ
ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂、レゾール樹
脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、ピロガロールア
セトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合体および共重合
体、グリセリン、ジグリセリン、トリメチロールプロパ
ン、1,2,4−ブタントリオール、ペンタエリスリト
ール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビ
タン、ポリビニルアルコール、セルロースおよびその誘
導体、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの重合体
および共重合体などが挙げられる。
Specific examples of the polyfunctional hydroxyl group-containing compound include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-
Butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-
Nonanediol, 1,10-decanediol, 2-butene-1,4-diol, 5-hexene-1,2-diol, 7-octene-1,2-diol, 3-mercapto-1,2-propanediol , Hydroquinone, dihydroxyanthraquinone, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, bisphenol A, bisphenol S, phenol formaldehyde novolak resin, resole resin, resorcinbenzaldehyde resin, pyrogallol acetone resin, hydroxystyrene polymers and copolymers, glycerin , Diglycerin, trimethylolpropane, 1,2,4-butanetriol, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, sorbitan, polyvinyla Call, cellulose and its derivatives, polymers and copolymers of hydroxyethyl (meth) acrylate, and the like.

【0045】これらの中でも、多官能イソシアネート化
合物により熱架橋させることが好ましい。
Among these, it is preferable to thermally crosslink with a polyfunctional isocyanate compound.

【0046】また、これら多官能化合物の使用量は、キ
ノンジアジド化合物100重量部に対して1〜80重量
部が好ましく、より好ましくは2〜50重量部であり、
更に好ましくは2〜20重量部が好ましい。
The amount of the polyfunctional compound to be used is preferably 1 to 80 parts by weight, more preferably 2 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the quinonediazide compound.
More preferably, 2 to 20 parts by weight is preferable.

【0047】これらの熱架橋反応はキノンジアジド基の
感光性を失わせない範囲、通常150℃以下で行う必要
があり、このために触媒を併用することが好ましい。
These thermal cross-linking reactions must be carried out at a temperature at which the photosensitivity of the quinonediazide group is not lost, usually at 150 ° C. or lower. For this purpose, it is preferable to use a catalyst in combination.

【0048】本発明の感光層において上記キノンジアジ
ド化合物と相分離構造を形成させるポリマーについて説
明する。
The polymer that forms a phase-separated structure with the quinonediazide compound in the photosensitive layer of the present invention will be described.

【0049】ポリマーとしては、有機溶剤に可溶でかつ
フィルム形成能のあるものであればいずれも使用可能で
ある。ポリマーの具体例として下記のものが挙げられる
が、本発明はこれらの例に特に限定されない。
As the polymer, any polymer can be used as long as it is soluble in an organic solvent and has a film forming ability. The following are specific examples of the polymer, but the present invention is not particularly limited to these examples.

【0050】(1)ビニルポリマー類 具体的にはエチレン、プロピレン,1−ブテン、スチレ
ン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体等の不飽和
二重結合を有する単量体およびそれらの誘導体から得ら
れるポリマー、およびコポリマーが挙げられる。
(1) Vinyl polymers Specifically, monopolymers having an unsaturated double bond such as ethylene, propylene, 1-butene, styrene, butadiene, isoprene, vinyl chloride, vinyl acetate, acrylic acid derivatives and methacrylic acid derivatives Polymers and copolymers obtained from the monomers and their derivatives.

【0051】(2)未加硫ゴム 具体的には天然ゴム、(NR)や、ブタジエン、イソプ
レン、スチレン、アクリロニトリル、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステルより選ばれた単独重合体又は
共重合体あるいはこれらのエポキシ化、塩素化、カルボ
キシル化等の変性物等が挙げられる。
(2) Unvulcanized rubber Specifically, natural rubber, (NR), a homopolymer or a copolymer selected from butadiene, isoprene, styrene, acrylonitrile, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, or these. Epoxidation, chlorination, carboxylation and the like.

【0052】(3)ポリオキシド類(ポリエーテル類) トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、2,3−エポキシブタン、3,4−エポキシブテ
ン、2,3−エポキシペンタン、1,2−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、2−
フェニル−1,2−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、n−ブチルグリシジルエーテル、1,4−ジ
クロロ−2,3−エポキシブタン、2,3−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、2,3−エポキシ−2−メチルプ
ロピオンアルデヒド、2,3−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によるポリマ、コポリマ等が挙げら
れる。
(3) Polyoxides (polyethers) Trioxane, ethylene oxide, propylene oxide, 2,3-epoxybutane, 3,4-epoxybutene, 2,3-epoxypentane, 1,2-epoxyhexane, epoxycyclohexane , Epoxycycloheptane, epoxycyclooctane, styrene oxide, 2-
Phenyl-1,2-epoxypropane, tetramethylethylene oxide, epichlorohydrin, epibromohydrin, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, n-butyl glycidyl ether, 1,4-dichloro-2,3-epoxybutane, 2,3 -Polymers and copolymers by ring-opening polymerization of epoxypropionaldehyde, 2,3-epoxy-2-methylpropionaldehyde, 2,3-epoxydiethylacetal, and the like.

【0053】(4)ポリエステル類 以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等が挙げられる。
(4) Polyesters Polyesters obtained by polycondensation of polyhydric alcohols and polycarboxylic acids as shown below, polyesters obtained by polymerization of polyhydric alcohols and polycarboxylic anhydrides, and ring opening of lactones Examples include polyester obtained by polymerization and the like, and polyester obtained from a mixture of these polyhydric alcohols, polycarboxylic acids, polycarboxylic anhydrides, and lactones.

【0054】多価アルコールの具体例としては、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパ
ンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレ
ングリコール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、トリエチレング
リコール、p−キシレングリコール、水素化ビスフェノ
ールA、ビスフェノールヒドロキシプロピルエーテル、
グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタ
エリトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等
が挙げられる。
Specific examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butylene glycol, 1,5-pentanediol, and 1,6-pentanediol. Hexanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, triethylene glycol, p-xylene glycol, hydrogenated bisphenol A, bisphenol hydroxypropyl ether,
Glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, trishydroxymethylaminomethane, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol and the like can be mentioned.

【0055】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物の具体例としては無水フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロ
ル無水フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無
水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリッ
ト酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無
水ピロメリット酸等が挙げられる。
Specific examples of polycarboxylic acids and polycarboxylic anhydrides include phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic anhydride, adipic acid, azelaic acid,
Sebacic acid, Tetrahydrophthalic anhydride, Hexahydrophthalic anhydride, Tetrabromophthalic anhydride, Tetrachlorophthalic anhydride, Hetic anhydride, Hymic anhydride, Maleic anhydride, Fumaric acid, Itaconic acid, Trimellitic anhydride, Methylcyclohexentricarboxylic acid Anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be mentioned.

【0056】ラクトンとしては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等が挙げられる。
Examples of the lactone include β-propiolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone and the like.

【0057】ガラス転移温度0℃以下のポリエステルの
具体例としては、例えばポリ[1,4−(2−ブテン)
セバケート]、[1,4−(2−ブチン)セバケー
ト]、ポリ(デカメチレナジペイト)、ポリ(エチレン
アジペイト)、ポリ(オキシジエチレンアジペイト)、
ポリ(オキシジエチレンアゼラエイト)、ポリ(オキシ
ジエチレンドデカンジエイト)、ポリ(オキシジエチレ
ングルタレイト)、ポリ(オキシジエチレンヘプチルマ
ロネイト)、ポリ(オキシジエチレンノニルマロネイ
ト)、ポリ(オキシジエチレンオクタデカンジエイ
ト)、ポリ(オキシジエチンオキザレイト)、ポリ(オ
キシジエチレンペンチルマロネイト)、ポリ(オキシジ
エチレンピメレイト)、ポリ(オキシジエチレンプロピ
ルマロネイト)、ポリ(オキシジエチレンセバケー
ト)、ポリ(オキシジエチレンスベレイト)、ポリ(オ
キシエチレンスクシネイト)、ポリ(ペンタメチレンア
ジペイト)、ポリ(テトラメチレンアジペイト)、ポリ
(テトラメチレンセバケート)、ポリ(トリメチレンア
ジペイト)等が挙げられる。
Specific examples of the polyester having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower include poly [1,4- (2-butene)
Sebacate], [1,4- (2-butyne) sebacate], poly (decamethylenadipate), poly (ethylene adipate), poly (oxydiethylene adipate),
Poly (oxydiethylene azelate), poly (oxydiethylene dodecanediate), poly (oxydiethylene glutarate), poly (oxydiethylene heptyl malonate), poly (oxydiethylene nonyl malonate), poly (oxydiethylene octadecandiate) Eight), poly (oxydietin oxalate), poly (oxydiethylene pentyl malonate), poly (oxydiethylene pimerate), poly (oxydiethylene propyl malonate), poly (oxydiethylene sebacate), poly (oxydiethylene sebacate) Oxydiethylene superate), poly (oxyethylene succinate), poly (pentamethylene adipate), poly (tetramethylene adipate), poly (tetramethylene sebacate), poly (trimethylene adipate) and the like. .

【0058】(5)ポリウレタン類 以下に示すポリイソシアネート類と多価アルコールより
得られるポリウレタンもバインダーポリマとして使用す
ることができる。多価アルコールとしては上記ポリエス
テルの項で述べた多価アルコール類及び下記の多価アル
コール類、これら多価アルコールとポリエステルの項で
述べた多価カルボン酸の重縮合で得られる両末端が水酸
基であるようなポリエステルポリオール、上記ラクトン
類より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカー
ボネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロ
フランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリ
エーテルポリオール、あるいは水酸基を有する(メタ)
アクリル単量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重
合体であるアクリルポリオール、ポリブタジエンポリオ
ールなどが挙げられる。
(5) Polyurethanes Polyurethanes obtained from the following polyisocyanates and polyhydric alcohols can also be used as the binder polymer. As the polyhydric alcohol, the polyhydric alcohols described in the section of the polyester and the following polyhydric alcohols, both ends obtained by polycondensation of these polyhydric alcohols and the polycarboxylic acid described in the section of the polyester are hydroxyl groups. Certain polyester polyols, polymerized polyester polyols obtained from the above lactones, polycarbonate diols, polyether polyols obtained by ring-opening polymerization of propylene oxide or tetrahydrofuran or modification of epoxy resins, or having a hydroxyl group (meth)
An acrylic polyol, which is a copolymer of an acrylic monomer and a (meth) acrylic acid ester, a polybutadiene polyol, and the like can be given.

【0059】イソシアネート類としてはパラフェニレン
ジイソシアネート、2,4−または2,6−トルイレン
ジイソシアネート(TDI)、4,4−ジフェニルメタ
ンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイソシアネ
ート(TODI)、キシリレンジイソシアネート(XD
I)、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘキ
サンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネー
ト(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(H
DIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネート(L
DI)(別名4,4’−メチレンビス(シクロヘキシル
イソシアネート))、水素化TDI(HTDI)(別名
メチルシクロヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネー
ト)、水素化XDI(H6XDI)(別名1,3−(イ
ソシアナートメチル)シクロヘキサン)、イソホロンジ
イソシアネート(IPDI)、ジフェニルエーテルイソ
シアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト(TMDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、ダイ
マー酸ジイソシアネート(DDI)、トリフェニルメタ
ントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニ
ル)チオフォスフェート、テトラメチルキシリレンジイ
ソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、
1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8
−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタ
ン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、
ビシクロヘプタントリイソシアネート等やポリイソシア
ネート類の多価アルコールアダクト体、あるいはポリイ
ソシアネート類の重合体が挙げられる。
Examples of isocyanates include paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-toluylene diisocyanate (TDI), 4,4-diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolidine diisocyanate (TODI), and xylylene diisocyanate (XD
I), hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, meta-xylylene diisocyanate (MXDI), hexamethylene diisocyanate (H
DI or HMDI), lysine diisocyanate (L
DI) (alias 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate)), hydrogenated TDI (HTDI) (alias methylcyclohexane 2,4 (2,6) diisocyanate), hydrogenated XDI (H6XDI) (alias 1,3- ( Isocyanatomethyl) cyclohexane), isophorone diisocyanate (IPDI), diphenyl ether isocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), tetramethyl xylylene diisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, dimer acid diisocyanate (DDI), triphenylmethane triisocyanate, tris (Isocyanate phenyl) thiophosphate, tetramethyl xylylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate,
1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8
-Diisocyanate-4-isocyanatomethyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate,
Examples include bicycloheptane triisocyanate and the like, polyhydric alcohol adducts of polyisocyanates, and polymers of polyisocyanates.

【0060】上記ポリエステルの項で述べたもの以外の
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキサイド−プロピレンオキサ
イド共重合体、テトラヒドロフラン−プロピレンオキサ
イド共重合体を、また、ポリエステルジオールとしては
ポリエチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、
ポリヘキサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジ
ペート、ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、
ポリエチレンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポ
リ−ε−カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレン
カーボネートジオール、ポリテトラメチレンアジペー
ト、ソルビトール、メチルグルコジット、シュクローズ
等を挙げることができる。
Representative polyhydric alcohols other than those described in the section of polyester include polypropylene glycol, polyethylene glycol, polytetramethylene glycol, ethylene oxide-propylene oxide copolymer, and tetrahydrofuran-propylene oxide copolymer. , And as the polyester diol, polyethylene adipate, polypropylene adipate,
Polyhexamethylene neopentyl adipate, polyneopentyl adipate, polyhexamethylene neopentyl adipate,
Examples thereof include polyethylene hexamethylene adipate and the like, and poly-ε-caprolactone diol, polyhexamethylene carbonate diol, polytetramethylene adipate, sorbitol, methyl glucosit, sucrose and the like.

【0061】また、各種の含燐ポリオール、ハロゲン含
有ポリオールなどもポリオールとして使用することがで
きる。
Various phosphorus-containing polyols and halogen-containing polyols can also be used as the polyol.

【0062】上記のイソシアネート類とポリオールは公
知の方法により反応させて目的とするポリウレタンを得
ることができ、更に公知のジアミン化合物により分子鎖
伸長したものも使用することができる。
The above-mentioned isocyanates and polyols can be reacted with each other by a known method to obtain a desired polyurethane, and those obtained by elongating the molecular chain with a known diamine compound can also be used.

【0063】(6)ポリアミド類 以下に示すモノマー類のコポリマーが挙げられる。モノ
マー類としてはε−カプロラクタム、ω−ラウロラクタ
ム、ω−アミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジアミ
ン、4,4−ビス−アミノシクロヘキシルメタン、2,
4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、イソホロ
ンジアミン、グリコール類、イソフタル酸、アジピン
酸、セバシン酸、ドデカンニ酸等が挙げられる。
(6) Polyamides Copolymers of the following monomers may be mentioned. As monomers, ε-caprolactam, ω-laurolactam, ω-aminoundecanoic acid, hexamethylenediamine, 4,4-bis-aminocyclohexylmethane, 2,
4,4-trimethylhexamethylenediamine, isophoronediamine, glycols, isophthalic acid, adipic acid, sebacic acid, dodecanenilic acid and the like.

【0064】更に詳しく説明すると、ポリアミドは一般
に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに大
別される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭4
8−72250号公報に示されるような3,5−ジカル
ボキシベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合する
ことによって得られるスルホン酸基またはスルホネート
基を含有するポリアミド、特開昭49−43465号公
報に示されているような分子中にエーテル結合を持つジ
カルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちいず
れか1種類を共重合して得られるエーテル結合を有する
ポリアミド、特開昭50−7605号公報に示されてい
るようなN,N’−ジ(γ−アミノプロピル)ピペラジ
ン等を共重合して得られる塩基性窒素を含有するポリア
ミドおよびこれらのポリアミドをアクリル酸等で四級化
したポリアミド、特開昭55−74537号公報で提案
されている分子量150〜1500のポリエーテルセグ
メントを含有する共重合ポリアミド、およびα−(N,
N’−ジアルキルアミノ)−ε−カプロラクタムの開環
重合またはα−(N,N’−ジアルキルアミノ)−ε−
カプロラクタムとε−カプロラクタムの開環共重合で得
られたポリアミド等が挙げられる。
More specifically, polyamides are generally classified into water-soluble polyamides and alcohol-soluble polyamides. Examples of the water-soluble polyamide include, for example,
A polyamide containing a sulfonic acid group or a sulfonate group obtained by copolymerizing sodium 3,5-dicarboxybenzenesulfonate as disclosed in JP-A-8-72250, disclosed in JP-A-49-43465. Polyamides having an ether bond obtained by copolymerizing any one of dicarboxylic acids, diamines or cyclic amides having an ether bond in the molecule as described in JP-A-50-7605. Polyamides containing a basic nitrogen obtained by copolymerizing N, N'-di (γ-aminopropyl) piperazine and the like, and polyamides obtained by quaternizing these polyamides with acrylic acid or the like; Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-74537 discloses a copolymer containing a polyether segment having a molecular weight of 150 to 1500. If polyamides, and alpha-(N,
Ring-opening polymerization of N′-dialkylamino) -ε-caprolactam or α- (N, N′-dialkylamino) -ε-
Examples include polyamides obtained by ring-opening copolymerization of caprolactam and ε-caprolactam.

【0065】また、アルコール可溶性ポリアミドとして
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−アミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマーだけで
なくコポリマー、ブロックポリマー等も使用できる。代
表的な例としては、ナイロン3、4、5、6、8、1
1、12、13、66、610、6/10、13/1
3、メタキシリレンジアミンとアジピン酸からのポリア
ミド、トリメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソ
ホロンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ε−カ
プロラクタム/アジピン酸/ヘキサメチレンジアミン/
4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリ
アミド、ε−カプロラクタム/アジピン酸/ヘキサメチ
レンジアミン/2,4,4’−トリメチルヘキサメチレ
ンジアミン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム/ア
ジピン酸/ヘキサメチレンジアミン/イソホロンジアミ
ン共重合ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリ
アミド、それらのN−メチロール、N−アルコキシメチ
ル誘導体も使用できる。
Examples of the alcohol-soluble polyamide include linear polyamides synthesized by a known method from dibasic acid fatty acids and diamines, ω-amino acids, lactams or derivatives thereof. Polymers and the like can also be used. Typical examples include nylon 3, 4, 5, 6, 8, 1
1, 12, 13, 66, 610, 6/10, 13/1
3, polyamide from meta-xylylenediamine and adipic acid, polyamide from trimethylhexamethylenediamine or isophoronediamine and adipic acid, ε-caprolactam / adipic acid / hexamethylenediamine /
4,4′-diaminodicyclohexylmethane copolymerized polyamide, ε-caprolactam / adipic acid / hexamethylenediamine / 2,4,4′-trimethylhexamethylenediamine copolymerized polyamide, ε-caprolactam / adipic acid / hexamethylenediamine / isophorone Diamine copolymerized polyamides, polyamides containing these components, N-methylol and N-alkoxymethyl derivatives thereof can also be used.

【0066】以上のポリアミドは単独あるいは混合して
本発明のプライマー層に使用することができる。
The above polyamides can be used alone or in combination for the primer layer of the present invention.

【0067】これらポリマーの中でも本発明の感光層に
使用するものとしてはポリエステル類、ポリウレタン類
が好ましい。
Among these polymers, polyesters and polyurethanes are preferred for use in the photosensitive layer of the present invention.

【0068】更に好ましくはヘキサメチレンジイソシア
ネート、トルエンジイソシアネート、ナフタレン−1,
5−ジイソシアネートと、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコールとのポリウレタンが好まし
い。
More preferably, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, naphthalene-1,
5-diisocyanate and 1,4-butanediol,
Polyurethanes with 1,6-hexanediol, polypropylene glycol and polyethylene glycol are preferred.

【0069】バインダーポリマの使用量は感光層成分に
対して5〜50重量%が好ましく、より好ましくは5〜
40重量%である。バインダーポリマが5重量%未満の
場合には、ポリマーを含有させる目的である感光層の柔
軟化の効果を発現させることが困難であり、一方50重
量%より多い場合は結果的にキノンジアジド基の減量と
なるため、画像再現性、現像性が悪化し好ましくない。
The amount of the binder polymer used is preferably from 5 to 50% by weight, more preferably from 5 to 50% by weight, based on the weight of the photosensitive layer components.
40% by weight. When the amount of the binder polymer is less than 5% by weight, it is difficult to exert the effect of softening the photosensitive layer for the purpose of containing the polymer. On the other hand, when the amount is more than 50% by weight, the quinonediazide group is reduced. Therefore, image reproducibility and developability deteriorate, which is not preferable.

【0070】次に本発明の感光層の相分離構造について
説明する。本発明の感光層はキノンジアジド化合物を主
成分とする相とポリマーを主成分とする相が相分離構造
を形成することが必要である。感光層の相分離構造の形
態は以下の3種類に分類することができる。
Next, the phase separation structure of the photosensitive layer of the present invention will be described. In the photosensitive layer of the present invention, it is necessary that a phase mainly composed of a quinonediazide compound and a phase mainly composed of a polymer form a phase-separated structure. The form of the phase separation structure of the photosensitive layer can be classified into the following three types.

【0071】(1)いずれか一方が連続相で、他方が分
散相である形態 (2)2つの相それぞれが連続相および分散相を有する
形態 (3)それぞれがいずれも連続相からなる形態 これらの相分離構造は現像後の印刷版の画線部を必要で
あれば公知の染料で染色後に光学顕微鏡あるいは、透過
型電子顕微鏡で観察することにより確認することができ
る。上記(1)〜(3)の相分離構造の一例をそれぞれ
図1〜3に示す。
(1) A form in which one is a continuous phase and the other is a dispersed phase (2) A form in which each of two phases has a continuous phase and a dispersed phase (3) A form in which each of them is a continuous phase The phase separation structure can be confirmed by observing the image portion of the printing plate after development with an optical microscope or a transmission electron microscope after dyeing with a known dye if necessary. Examples of the phase separation structures (1) to (3) are shown in FIGS.

【0072】(1)の分散形態において、キノンジアジ
ド化合物が分散相の場合には印刷版の感度が極端に低下
するため好ましくなく、ポリマーが分散相の場合には感
光層が硬くなると共に脆くなり結果として印刷版の耐刷
性が低下するため好ましくない。
In the dispersion form (1), when the quinonediazide compound is in a dispersed phase, the sensitivity of the printing plate is extremely lowered, which is not preferable. When the polymer is in the dispersed phase, the photosensitive layer becomes hard and brittle. This is not preferable because the printing durability of the printing plate is reduced.

【0073】本発明の感光層の好ましい相分離構造とし
ては、(2)のそれぞれが連続相および分散相を有する
形態および(3)のそれぞれがいずれも連続相からなる
形態であることが好ましく、更に好ましくは(3)のそ
れぞれがいずれも連続相からなる形態であることが好ま
しい。またこの際、それぞれの相の大きさは、連続相の
幅において0.01〜5μmが好ましい。0.01μm
未満の場合には感光層にポリマーを含有させる目的であ
る感光層の柔軟化の効果が得られず、結果として耐刷性
が低下し好ましくなく、5μmより大きい場合には微小
網点の再現性が低下し好ましくない。
The preferred phase-separated structure of the photosensitive layer of the present invention is preferably such that (2) has a continuous phase and a dispersed phase, and (3) each has a continuous phase. More preferably, each of (3) is preferably in the form of a continuous phase. In this case, the size of each phase is preferably 0.01 to 5 μm in the width of the continuous phase. 0.01 μm
If it is less than 3, the effect of softening the photosensitive layer, which is the purpose of including the polymer in the photosensitive layer, is not obtained, and as a result, the printing durability decreases. If it is more than 5 μm, reproducibility of fine halftone dots Is undesirably reduced.

【0074】上記(2)あるいは(3)の形態となる相
分離構造は例えば感光層溶液の溶媒の種類、固形分濃
度、感光液塗布後のセット時間、乾燥方法、キノンジア
ジド化合物とポリマーの相溶性などを制御することによ
り形成させることができる。
The phase separation structure in the form of (2) or (3) is, for example, the kind of solvent of the photosensitive layer solution, the solid concentration, the set time after the application of the photosensitive solution, the drying method, the compatibility of the quinonediazide compound and the polymer. It can be formed by controlling such factors.

【0075】これらの中でも溶媒の組み合わせを制御す
る方法が最も好ましい。上記(2)あるいは(3)の形
態となる相分離構造を形成させるための溶媒の組み合わ
せとして例えば、 (a)キノンジアジド化合物あるいはポリマーのどちら
かに対して他方よりも親和性が高く、更に感光層溶液に
使用する他の溶媒よりも沸点が高い溶媒を使用する。
Among these, the method of controlling the combination of solvents is most preferable. Examples of the combination of solvents for forming the phase-separated structure in the above-mentioned form (2) or (3) include: (a) one of a quinonediazide compound and a polymer having a higher affinity than the other, and a photosensitive layer; Use a solvent that has a higher boiling point than the other solvents used in the solution.

【0076】(b)キノンジアジド化合物、ポリマーの
両方の良溶媒を主成分とし、更に両方あるいはどちらか
のみに対して貧溶媒となる溶媒を少量混合する。
(B) A good solvent for both the quinonediazide compound and the polymer is used as a main component, and a small amount of a solvent that becomes a poor solvent for both or only one of them is mixed.

【0077】等の方法が挙げられる。And the like.

【0078】上記の諸成分に加え、必要に応じて酸、染
料、顔料、光発色剤、触媒等の添加剤を感光層組成に加
えることは任意である。
In addition to the above-mentioned components, it is optional to add additives such as acids, dyes, pigments, photochromic agents, and catalysts to the photosensitive layer composition, if necessary.

【0079】本発明の水なし平版の感光層の好ましい組
成としては、下記に示すものが挙げられる。
Preferred compositions of the water-free lithographic photosensitive layer of the present invention include the following.

【0080】 (1)水酸基を有するキノンジアジド化合物 50〜100重量部 (2)多官能化合物 5〜50重量部 (3)形態保持性を有するバインダーポリマー 5〜50重量部 また、感光層の膜厚は乾燥重量で0.5〜3g/m2
好ましく、製造時の作業性の点から1.0〜5g/m2
がより好ましい。感光層の膜厚が0.5g/m2より小
さい場合はピンホール等が発生しやすくなり塗工性の点
で好ましくない。また、5g/m2 を越えると経済的な
点で不利となり好ましくない。
(1) 50 to 100 parts by weight of a quinonediazide compound having a hydroxyl group (2) 5 to 50 parts by weight of a polyfunctional compound (3) 5 to 50 parts by weight of a binder polymer having a shape-retaining property drying is preferably 0.5 to 3 g / m 2 in weight, 1.0~5g / m 2 from the viewpoint of workability during production
Is more preferred. If the thickness of the photosensitive layer is less than 0.5 g / m 2, pinholes and the like are likely to occur, which is not preferable in view of coatability. On the other hand, if it exceeds 5 g / m 2 , it is disadvantageous from an economic point of view and is not preferred.

【0081】次に本発明で用いられる付加型シリコーン
ゴム層について説明する。本発明において使用できる付
加型シリコーンゴム層は0.5〜50g/m2 、好まし
くは0.5〜10g/m2の厚みを有しかつ紫外線が透
過しうる透明性を有するものである。
Next, the addition type silicone rubber layer used in the present invention will be described. The addition type silicone rubber layer that can be used in the present invention has a thickness of 0.5 to 50 g / m 2 , preferably 0.5 to 10 g / m 2 , and has transparency through which ultraviolet rays can pass.

【0082】このような付加型シリコーンゴム層は、分
子中に少なくとも2個以上のビニル基を有するオルガノ
ポリシロキサンと分子中に少なくとも3個以上のSiH
基を有するハイドロジェンシロキサンおよび白金化合物
を適当な溶媒で希釈したものを、該感光層上に塗布し、
加熱乾燥して硬化させることによって形成される。
Such an addition type silicone rubber layer comprises an organopolysiloxane having at least two vinyl groups in a molecule and at least three SiHs in a molecule.
A solution obtained by diluting a hydrogen siloxane having a group and a platinum compound with an appropriate solvent is coated on the photosensitive layer,
It is formed by heating, drying and curing.

【0083】本発明のシリコーンゴム層に使用する分子
中に少なくとも2個以上のビニル基を有するオルガノポ
リシロキサンとしては、分子鎖末端、中間のどちらかに
ビニル基を有するものが挙げられ、アルケニル基以外の
有機基として好ましいものは、置換もしくは非置換のア
ルキル基、アリール基である。また、微量の水酸基を含
有していてもよい。
Examples of the organopolysiloxane having at least two vinyl groups in the molecule used in the silicone rubber layer of the present invention include those having a vinyl group at either the molecular chain terminal or in the middle, and an alkenyl group. Preferred as the organic group other than the above are a substituted or unsubstituted alkyl group and an aryl group. Further, it may contain a trace amount of hydroxyl group.

【0084】分子中に2個以上のビニル基を有するオル
ガノポリシロキサンの具体例としては以下のものが挙げ
られるが本発明はこれらに限定されない。
The following are specific examples of the organopolysiloxane having two or more vinyl groups in the molecule, but the present invention is not limited thereto.

【0085】両末端ビニル基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基の(メチルビニルシロキサン)(ジ
メチルシロキサン)共重合体、両末端ビニル基の(メチ
ルビニルシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合
体、両末端ビニル基のポリジメチルシロキサンのを2分
子以上主鎖間をジメチレン架橋させた化合物、両末端メ
チル基の(メチル1−ヘキセンシロキサン)(ジメチル
シロキサン)共重合体、両末端ビニル基の(メチル1−
ヘキセンシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体
等が挙げられる。
Polydimethylsiloxane having vinyl groups at both ends, (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both ends, (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having vinyl groups at both ends, A compound in which two or more molecules of a vinyl group polydimethylsiloxane are cross-linked by dimethylene, a (methyl 1-hexene siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer having a methyl group at both terminals, and a (methyl 1-
Hexene siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer and the like.

【0086】これら分子中に2個以上ビニル基を有する
オルガノポリシロキサンは硬化後のゴム物性の点でその
分子量が5,000以上であることが好ましく、更に好
ましくは10,000以上が好ましい。
The organopolysiloxane having two or more vinyl groups in the molecule preferably has a molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, in view of rubber properties after curing.

【0087】また、これらの分子中に2個以上ビニル基
を有するオルガノポリシロキサンは単独で使用すること
もできるし、複数の種類を任意の比率で混合して使用す
ることもできる。
Further, these organopolysiloxanes having two or more vinyl groups in the molecule can be used singly or as a mixture of a plurality of kinds at an arbitrary ratio.

【0088】分子中に少なくとも3個以上のSiH基を
有するハイドロジェンシロキサンとしては分子鎖末端、
中間のどちらかにSiH基を有するものが挙げられ、S
iH基以外の有機基として好ましいものは、置換もしく
は非置換のアルキル基、アリール基である。
Hydrogensiloxane having at least three or more SiH groups in the molecule includes a molecular chain terminal,
A compound having a SiH group at any one of the intermediates,
Preferred as the organic group other than the iH group are a substituted or unsubstituted alkyl group and an aryl group.

【0089】分子中に少なくとも3個以上のSiH基を
有するハイドロジェンシロキサンの具体例としては以下
のものが挙げられるが本発明はこれらに限定されない。
Specific examples of the hydrogen siloxane having at least three or more SiH groups in the molecule include the following, but the present invention is not limited thereto.

【0090】両末端SiH基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基のポリメチルハイドロジェンシロキ
サン、両末端メチル基の(メチルハイドロジェンシロキ
サン)(ジメチルシロキサン)共重合体、両末端SiH
基の(メチルハイドロジェンシロキサン)(ジメチルシ
ロキサン)共重合体、環状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン等が挙げられる。
Polydimethylsiloxane having SiH groups at both terminals, polymethylhydrogensiloxane having methyl groups at both terminals, (methylhydrogensiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both terminals, SiH groups at both terminals
(Methyl hydrogen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer, cyclic polymethyl hydrogen siloxane and the like.

【0091】これらの中でも本発明で好ましく使用でき
るものとしては、分子中に少なくとも3個以上のSiH
基を有するハイドロジェンシロキサンのSiH基数を分
子量で除した値が0.001mol/g以上のものが好
ましく、更に好ましくは0.002mol/g以上が好
ましい。0.001mol/g未満の場合は硬化速度が
低下し好ましくない。
Among these, those which can be preferably used in the present invention include at least three or more SiHs in the molecule.
The value obtained by dividing the number of SiH groups in the hydrogen siloxane having a group by the molecular weight is preferably 0.001 mol / g or more, more preferably 0.002 mol / g or more. If the amount is less than 0.001 mol / g, the curing rate is undesirably reduced.

【0092】また、これらの分子中に3個以上SiH基
を有するハイドロジェンシロキサンは単独で使用するこ
ともできるし、複数の種類を任意の比率で混合して使用
することもできる。
[0092] Hydrogensiloxanes having three or more SiH groups in the molecule can be used alone, or a plurality of types can be used as a mixture at an arbitrary ratio.

【0093】また、分子中に2個以上ビニル基を有する
オルガノポリシロキサンと分子中に3個以上SiH基を
有するハイドロジェンシロキサンの有機基はインキ反撥
性の向上の点で総じて基数の60%以上がメチル基であ
ることが好ましい。
The organic groups of the organopolysiloxane having two or more vinyl groups in the molecule and the hydrogensiloxane having three or more SiH groups in the molecule generally account for at least 60% of the number of groups in terms of improving ink repellency. Is preferably a methyl group.

【0094】上記分子中に2個以上ビニル基を有するオ
ルガノポリシロキサンと分子中に3個以上SiH基を有
するハイドロジェンシロキサンを混合して使用する際の
比率としては、シリコーンゴム組成物中のビニル基数を
1とした場合にSiH基数が1.5〜15となるような
混合比率が好ましく、更に好ましくは1.5〜12が好
ましい。
When the organopolysiloxane having two or more vinyl groups in the molecule and the hydrogensiloxane having three or more SiH groups in the molecule are mixed and used, the ratio of the vinyl in the silicone rubber composition is as follows. When the number of groups is 1, the mixing ratio is preferably such that the number of SiH groups is 1.5 to 15, and more preferably 1.5 to 12.

【0095】ビニル基数1に対するSiH基数が1.5
未満の場合にはシリコーンゴム層の硬化性が低下し、1
5より大きい場合にはシリコーンゴムが脆くなり耐摩耗
性が低下し好ましくない。
The number of SiH groups is 1.5 per 1 vinyl group.
If it is less than 1, the curability of the silicone rubber layer decreases, and
If it is larger than 5, the silicone rubber becomes brittle and the wear resistance is undesirably reduced.

【0096】本発明のシリコーンゴム層に好ましく用い
られる白金化合物としては、公知のもののなかから任意
に選ばれるが、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレ
フィン配位白金などが挙げられる。これらの中でもオレ
フィン配位白金が好ましい。
The platinum compound preferably used in the silicone rubber layer of the present invention is arbitrarily selected from known compounds, and includes platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, and olefin-coordinated platinum. Among these, olefin-coordinated platinum is preferable.

【0097】また、付加型シリコーンゴム組成物の硬化
速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビニル)
シロキサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサ
ン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、
メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルなどの反応抑制剤を
添加することが好ましい。
In order to control the curing rate of the addition type silicone rubber composition, tetracyclo (methyl vinyl)
Vinyl group-containing organopolysiloxane such as siloxane, alcohol containing carbon-carbon triple bond, acetone,
It is preferable to add a reaction inhibitor such as methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, and propylene glycol monomethyl ether.

【0098】本発明に好ましく用いられる付加型シリコ
ーンゴム組成の一般的な形態としては次のようなものが
挙げられる。
The general forms of the addition type silicone rubber composition preferably used in the present invention include the following.

【0099】 (1)分子中に2個以上ビニル基を有するオルガノポリシロキサン 100重量部 (2)分子中に3個以上SiH基を有するハイドロジェンシロキサン 0.1〜10000重量部 (3)白金化合物 0.00001〜10重量部 (4)反応抑制剤 0.1〜10重量部 (5)溶剤 100〜4000重量部 これらの組成物の他に、アルケニルトリアルコキシシラ
ンなどの公知の接着付与剤を添加することや、縮合型シ
リコーンゴム層の組成物である水酸基含有オルガノポリ
シロキサン、加水分解性官能基含有シラン(もしくはシ
ロキサン)を添加することも任意であり、またゴム強度
を向上させる目的で、シリカなどの公知の充填剤を添加
することも任意である。
(1) 100 parts by weight of an organopolysiloxane having two or more vinyl groups in the molecule (2) 0.1 to 10,000 parts by weight of a hydrogen siloxane having three or more SiH groups in the molecule (3) Platinum compound 0.00001 to 10 parts by weight (4) Reaction inhibitor 0.1 to 10 parts by weight (5) Solvent 100 to 4000 parts by weight In addition to these compositions, a known adhesion promoter such as alkenyl trialkoxysilane is added. Or addition of a hydroxyl group-containing organopolysiloxane or a hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane), which is a composition of the condensation type silicone rubber layer, and silica for the purpose of improving rubber strength. It is also optional to add a known filler such as.

【0100】ここに説明した水なし平版印刷版において
シリコーンゴム層上に更に種々のシリコーンゴム層を塗
工することも任意であり、また感光性樹脂層とシリコー
ンゴム層との間の接着力を上げる目的、もしくはシリコ
ーンゴム組成物中の触媒の被毒を防止する目的で、感光
性樹脂層とシリコーンゴム層との間に接着層を設けるこ
とも任意である。
In the waterless lithographic printing plate described herein, it is optional to further coat various silicone rubber layers on the silicone rubber layer, and the adhesive force between the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer can be reduced. It is optional to provide an adhesive layer between the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer for the purpose of raising or for preventing poisoning of the catalyst in the silicone rubber composition.

【0101】このようにして構成された水なし平版印刷
版原板の表層を形成するシリコーンゴム層は、取扱い時
に傷が入りやすく、また露光工程においてネガフィルム
が真空密着しにくいという問題があるため、シリコーン
ゴム層上に、透明な保護フィルムを張り付けることが好
ましい。保護フィルムは露光工程においては有用である
が、現像工程においては、剥離または溶解により除去す
る必要がある。
The silicone rubber layer forming the surface layer of the waterless planographic printing plate precursor thus configured has problems that it is easily damaged during handling and that the negative film is hard to adhere to the vacuum in the exposure step. It is preferable to attach a transparent protective film on the silicone rubber layer. The protective film is useful in the exposure step, but needs to be removed by peeling or dissolving in the development step.

【0102】保護フィルムは紫外線透過性を有し、10
0μm以下、好ましくは10μm以下の厚みを有するも
のが好ましい。保護フィルムの具体例としてはポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタ
レート、セロファン等が上げられる。これらのフィルム
には、画像露光時の焼き枠における真空密着性を改良す
るため、マットを施してよい。
The protective film has a UV-transmitting property,
Those having a thickness of 0 μm or less, preferably 10 μm or less are preferred. Specific examples of the protective film include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, cellophane, and the like. These films may be provided with a mat in order to improve the vacuum adhesion in the printing frame during image exposure.

【0103】また、保護フィルムの代わりに溶解除去可
能なポリマーをコーティングし、保護層を形成させても
よい。
Further, instead of the protective film, a polymer which can be dissolved and removed may be coated to form a protective layer.

【0104】次に本発明における水なし平版印刷版原板
の製造方法について説明する。基板上にスリットダイコ
ーター、リバースロールコーター、エアーナイフコータ
ー、メーヤバーコーターなどの通常のコータ、あるいは
ホエラーのような回転塗布装置を用い、必要に応じてプ
ライマー層組成物を塗布し100〜300℃の温度で数
分間硬化した後、感光層組成物塗液を塗布、50〜15
0℃の温度で数分間乾燥および必要に応じて熱キュア
し、その上にシリコーンゴム層組成物を塗布し、50〜
150℃の温度で数分間熱処理してゴム硬化させて形成
する。しかる後に、必要に応じて保護フィルムをラミネ
ートする。
Next, the method for producing a waterless planographic printing plate precursor according to the present invention will be described. The primer layer composition is applied to the substrate using a normal coater such as a slit die coater, a reverse roll coater, an air knife coater, or a Meyer bar coater, or a rotary coater such as a wheyer, if necessary, and coated at 100 to 300 ° C. After curing at a temperature of several minutes, a coating solution for a photosensitive layer composition is applied,
After drying at a temperature of 0 ° C. for several minutes and heat curing as required, a silicone rubber layer composition is coated thereon,
Heat-treated at a temperature of 150 ° C. for several minutes to cure the rubber and form. Thereafter, a protective film is laminated as necessary.

【0105】また、本発明の水なし平版印刷版は画像露
光する以前に感光層とシリコーンゴム層の接着性を高め
る目的で微弱な光で全面露光を行うことが好ましい。全
面露光に用いられる光源は、通常印刷版の画像露光に用
いられている光源を使用することができる。具体的に
は、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタ
ルハライドランプ、タングステンランプ、蛍光灯などで
ある。
Further, it is preferable that the entire surface of the lithographic printing plate of the present invention is exposed to weak light before the image exposure in order to enhance the adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. As the light source used for the overall exposure, a light source usually used for image exposure of a printing plate can be used. Specifically, there are a mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, a fluorescent lamp and the like.

【0106】全面露光に際しては、その処理によりキノ
ンジアジド化合物の光反応性の官能基、すなわちキノン
ジアジド基を全て反応(失活)させないことが必要であ
る。
In the overall exposure, it is necessary that the photoreactive functional group of the quinonediazide compound, that is, the quinonediazide group is not completely reacted (deactivated) by the treatment.

【0107】このようにして製造された本発明の水なし
平版印刷版原板は、真空密着されたネガフィルムを通し
て活性光線で露光される。この露光工程で用いられ光源
は通常、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンラン
プ、蛍光灯などを使うことが出来る。
The lithographic printing plate precursor of the present invention thus produced is exposed to actinic rays through a vacuum-contacted negative film. As a light source used in this exposure step, a high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a fluorescent lamp or the like can be usually used.

【0108】露光の終わった印刷版は保護フィルムを剥
がし、現像液に浸漬し、現像パッドまたは現像用ブラシ
を用いて現像される。この際、露光部のシリコーンゴム
層が剥離除去され感光層が露出する。本発明において用
いられる現像液としては、水なし平版印刷版の現像液と
して公知の物が使用できる。例えば、脂肪属炭化水素
(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エ
ッソ化学(株)製脂肪属炭化水素類の商標名)あるいは
ガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエン、
キシレンなど)、あるいはハロゲン化炭化水素(トリク
レンなど)に下記の極性溶媒を添加したものや極性溶媒
そのものが好適である。
The exposed printing plate is peeled off the protective film, immersed in a developer, and developed using a developing pad or a developing brush. At this time, the silicone rubber layer at the exposed portion is peeled off and the photosensitive layer is exposed. As the developer used in the present invention, those known as developers for lithographic printing plates without water can be used. For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, "Isoper E, H, G" (trade names of aliphatic hydrocarbons manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene,
Xylene), or a halogenated hydrocarbon (such as tricrene) to which the following polar solvent is added, or the polar solvent itself is preferable.

【0109】(1)アルコール類 メタノール、エタノール、プロパノール、ベンジルアル
コール、エチレングリコールモノフェニルエーテル、2
−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、カル
ビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチル
エーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール等が挙
げられる。
(1) alcohols methanol, ethanol, propanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether,
-Methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, carbitol monoethyl ether, carbitol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol monomethyl ether, polypropylene Glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol and the like.

【0110】(2)ケトン類 アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。(2) Ketones Examples include acetone and methyl ethyl ketone.

【0111】(3)エステル類 酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カ
ルビトールアセテート、ジブチルフタレート、ジエチル
フタレート等が挙げられる。
(3) Esters Ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, carbitol acetate, dibutyl phthalate, diethyl phthalate and the like can be mentioned.

【0112】(4)その他 トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェー
ト等が挙げられる。
(4) Others Triethyl phosphate, tricresyl phosphate and the like can be mentioned.

【0113】また、上記有機溶剤系現像液に水を添加し
り、上記有機溶剤を界面活性剤等を用いて水に可溶化し
たものや、更にその上にアルカリ剤、例えば炭酸ナトリ
ウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノーリアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリ
ウム等の無機アルカリ剤、あるいはモノ、ジ、またはト
リエタノールアミン、モノ、ジ、またはトリエチルアミ
ン、モノ、ジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、
モノ、ジ、またはトリイソプロパノールアミン、エチレ
ンイミン、エチレンジイミン等の有機アミン化合物など
も使用できる。
Further, water is added to the organic solvent-based developer and the organic solvent is solubilized in water using a surfactant or the like, or an alkali agent such as sodium carbonate or monoethanolamine is further added thereon. An inorganic alkaline agent such as diethanolamine, triethanolamine, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium borate, or mono, di, or triethanolamine, mono, di, or triethylamine; Mono, diisopropylamine, n-butylamine,
Organic amine compounds such as mono-, di-, or triisopropanolamine, ethyleneimine, and ethylenediimine can also be used.

【0114】また、クリスタルバイオレット、ビクトリ
アピュアブルー、アストラゾンレッドなどの公知の塩基
性染料、酸性染料、油溶性染料を現像液に加えて現像と
同時に画線部の染色を行なうことが出来る。
Further, known basic dyes such as crystal violet, Victoria Pure Blue, and Astrazone Red, acid dyes, and oil-soluble dyes can be added to a developing solution, and the image area can be dyed simultaneously with the development.

【0115】しかしながら、本発明の水なし平版印刷版
原版の現像処理に最も好適な方法は、特公平4−386
5号および特公平4−29053号公報に記載の塩基性
化合物を含む前処理液にて露光済み版を処理した後、水
あるいは水を主成分をする現像液にて現像する方法が好
ましい。
However, the most preferable method for developing the waterless planographic printing plate precursor of the present invention is disclosed in Japanese Patent Publication No. 4-386.
No. 5 and Japanese Patent Publication No. 4-29053 are preferable to process the exposed plate with a pretreatment liquid containing a basic compound and then develop with water or a developer containing water as a main component.

【0116】また、本発明に用いられる水なし平版印刷
版を現像する際には、例えば東レ(株)にて市販されて
いるような自動現像機を用い、上記の現像液で版面を前
処理した後に水道水などをシャワーしながら回転ブラシ
版面を擦ることによって、好適に現像することができ
る。現像機の具体例としては東レ(株)製のTWL−1
160、TWL−860、TWL−650、TWL−4
00など、あるいは特開平4−2265号や特開平5−
2272号、特開平5−6000号などに開示されてい
る現像装置を挙げることができる。また、自動現像機を
使用する場合には前処理液としてNP−1(東レ(株)
製水なし平版ネガ型用前処理液)、後処理液としてNA
−1(東レ(株)製水なし平版ネガ型用後処理液)を使
用することが好ましい。また、上記の現像機に代えて、
温水や水蒸気を版面に噴霧することによっても現像が可
能である。
When developing the waterless planographic printing plate used in the present invention, the plate surface is pretreated with the above-mentioned developer using an automatic developing machine commercially available from, for example, Toray Industries, Inc. After that, the developing can be suitably performed by rubbing the rotating brush plate surface while showering with tap water or the like. A specific example of the developing machine is TWL-1 manufactured by Toray Industries, Inc.
160, TWL-860, TWL-650, TWL-4
00, or JP-A-4-2265 or JP-A-5-265.
2272 and JP-A-5-6000. When an automatic developing machine is used, NP-1 (Toray Industries, Inc.)
Pretreatment liquid for lithographic negative mold without water production), NA as post-treatment liquid
It is preferable to use -1 (a post-treatment liquid for a waterless planographic negative mold manufactured by Toray Industries, Inc.). Also, instead of the above-mentioned developing machine,
Development can also be performed by spraying hot water or steam onto the plate surface.

【0117】[0117]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0118】合成例1 ピロガロール50gをアセトン350gに溶解し、攪拌
しながらオキシ塩化燐5gを加えた。室温で1晩放置後
水の中へ攪拌しながら滴下しタール状の樹脂を得た。こ
の樹脂を再度アセトンに溶解した後、多量の水に注ぎ固
形物を得た。固形物を真空乾燥し目的とするアセトンピ
ロガロール樹脂を得た。
Synthesis Example 1 50 g of pyrogallol was dissolved in 350 g of acetone, and 5 g of phosphorus oxychloride was added with stirring. After being left overnight at room temperature, the mixture was dropped into water while stirring to obtain a tar-like resin. After dissolving this resin again in acetone, it was poured into a large amount of water to obtain a solid. The solid was dried under vacuum to obtain the desired acetone pyrogallol resin.

【0119】得られたアセトンピロガロール樹脂の分子
量をGPCを使用して測定した結果Mw=1300であ
った。
The molecular weight of the obtained acetone pyrogallol resin was measured by using GPC and found to be Mw = 1300.

【0120】次に上記アセトンピロガロール樹脂50g
(約0.04モル)と1,2−ナフトキノン−2−ジア
ジド−5−スルホン酸クロリド83g(約0.31モ
ル)を1,4−ジオキサン500gに溶解させた。次に
炭酸ナトリウム10重量%水溶液80gを20分かけて
滴下し、溶液温度を40℃に保った状態で4時間攪拌し
反応させた。反応終了後、溶液を水1000g中に投入
し生成物を析出、沈降させた。上澄液を除去し、減圧乾
燥を行ないキノンジアジド基を有するアセトンピロガロ
ール樹脂−1を得た。
Next, 50 g of the above-mentioned acetone pyrogallol resin was used.
(About 0.04 mol) and 83 g (about 0.31 mol) of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride were dissolved in 500 g of 1,4-dioxane. Next, 80 g of a 10% by weight aqueous solution of sodium carbonate was added dropwise over 20 minutes, and the mixture was stirred and reacted for 4 hours while maintaining the solution temperature at 40 ° C. After completion of the reaction, the solution was put into 1000 g of water to precipitate and sediment the product. The supernatant was removed and the residue was dried under reduced pressure to obtain acetone pyrogallol resin-1 having a quinonediazide group.

【0121】実施例1 通常の方法で脱脂した厚さ0.24mmのアルミ板(住
友金属(株)製)に、下記のプライマー 組成物を塗布
し、200℃、2分間熱処理して5g/m2 のプライマ
ー層を塗設した。
Example 1 The following primer composition was applied to a 0.24 mm-thick aluminum plate (manufactured by Sumitomo Metal Co., Ltd.) degreased by an ordinary method, and heat-treated at 200 ° C. for 2 minutes to give 5 g / m 2. 2 primer layers were applied.

【0122】 〈固形成分:塗布濃度12%〉 (1)ポリウレタン樹脂”サンプレンLQ−SZ18” (三洋化成工業(株)製) 75重量部 (2)ブロックイソシアネート”タケネートB830” (武田薬品(株)製) 15重量部 (3)エポキシ・尿素樹脂 10重量部 〈溶剤成分〉 (4)ジメチルホルムアミド 続いてこの上に、下記の組成を有する感光層組成物を1
20℃、30秒間乾燥して1.2g/m2 の感光層を塗
設した。
<Solid Component: Coating Concentration 12%> (1) Polyurethane resin “SAMPLEN LQ-SZ18” (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 75 parts by weight (2) Blocked isocyanate “Takenate B830” (Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) 15 parts by weight (3) Epoxy / urea resin 10 parts by weight <Solvent component> (4) Dimethylformamide Subsequently, a photosensitive layer composition having the following composition was added on top of this.
After drying at 20 ° C. for 30 seconds, a photosensitive layer of 1.2 g / m 2 was provided.

【0123】 (1)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェ ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン” PR50622)の部分エステル化物 (エステル化度36%) 100重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331” (三洋化成工業(株)製) 10重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (6)テトラヒドロフラン 832重量部 (7)ジエチレングリコールモノエチルエーテル 236重量部 (8)N,N’−ジメチルホルムアミド 118重量部 続いて、この感光層の上に下記組成のシリコーンゴム層
をバーコーターで塗布し、熱乾燥によりシリコーンゴム
層を塗設した。
(1) Partially esterified product of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolak resin (“Sumilite Resin” PR50622 manufactured by Sumitomo Durez) (degree of esterification: 36%) 100 Parts by weight (2) 21,4 parts by weight of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (3) 10 parts by weight of polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight (6) tetrahydrofuran 832 parts by weight (7) diethylene glycol monoethyl ether 236 parts by weight (8) N, N'-dimethylformamide 118 parts by weight A silicone rubber layer with the following composition And fabric was coated with a silicone rubber layer by thermal drying.

【0124】付加反応架橋性シリコーンゴム層として下
記組成物をバーコーターで塗布し、130℃、1分間熱
硬化して、2g/m2のシリコーンゴム層を塗設した。
The following composition was applied by a bar coater as an addition reaction crosslinkable silicone rubber layer, and heat-cured at 130 ° C. for 1 minute to apply a 2 g / m 2 silicone rubber layer.

【0125】 〈固形成分:10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770) 100重量部 (2)HMS−501(チッソ(株)製 両末端メチル(メチルハイドロジェン シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体 SiH基数/分子量=0.69 mol/g) 4重量部 (3)オレフィン配位白金 0.02重量部 (4)反応抑制剤 0.3重量部 〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約7.9であった。
<Solid component: 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (polymerization degree: 770) (2) HMS-501 (manufactured by Chisso Corporation, both ends methyl (methyl hydrogen siloxane)) (Dimethylsiloxane) copolymer SiH groups / molecular weight = 0.69 mol / g) 4 parts by weight (3) Olefin-coordinated platinum 0.02 parts by weight (4) Reaction inhibitor 0.3 parts by weight <Solvent component> ( 5) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) In the above silicone rubber layer composition, the number of SiH groups per one vinyl group was about 7.9.

【0126】以上のようにして得られた積層板に、12
μmの片面マット化二軸延伸ポリプロピレンフィルムを
マット化されていない面がシリコーンゴム層と接するよ
うにしてカレンダーローラーを用いてラミネートし、ネ
ガ型の水なし平版印刷版用原版を得た。
The laminated plate obtained as described above was
A biaxially-stretched biaxially-stretched polypropylene film having a thickness of μm was laminated using a calender roller so that the non-matted surface was in contact with the silicone rubber layer, to obtain a negative type waterless planographic printing plate precursor.

【0127】この印刷版をメタルハライドランプ(岩崎
電気(株)製アイドルフィン2000)を用い、UVメ
ーター(オーク社製作所製、ライトメジャータイプUV
−402A)で11mW/cm2の照度で6秒間全面露
光を行なった。
Using a metal halide lamp (Idol Fin 2000, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.), the printing plate was subjected to a UV meter (a light measure type UV, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.).
At -402 A), the entire surface was exposed at an illuminance of 11 mW / cm 2 for 6 seconds.

【0128】上記のようにして得られた印刷版に150
線/インチで1〜99%の網点を有するポジフィルムと
光学濃度差が0.15のステップになっているグレース
ケール(G/S)を上記のメタルハライドランプを用い
て、30秒間真空密着した後、1mの距離から60秒間
露光し、ラミネートフィルムを剥離した。
The printing plate obtained as described above has a thickness of 150
A positive film having 1-99% halftone dots in lines / inch and a gray scale (G / S) having an optical density difference of 0.15 steps were vacuum-adhered for 30 seconds using the above metal halide lamp. Thereafter, the laminate film was exposed from a distance of 1 m for 60 seconds to peel off the laminate film.

【0129】その後自動現像機(東レ(株)製:TWL
−1160)を用いて、液温45℃のNP−1前処理液
(東レ(株)製:自動現像機用前処理液)中で1分間浸
漬処理し、液温25℃の純水中で現像ブラシにより露光
部のシリコーンゴム層を剥離除去しNA−1後処理液
(東レ(株)製:自動現像機用後処理液)により画線部
の感光層を染色し刷版とした。
Thereafter, an automatic processor (TWL manufactured by Toray Industries, Inc .: TWL)
-1160) in a NP-1 pretreatment liquid at a liquid temperature of 45 ° C. (manufactured by Toray Industries, Inc .: a pretreatment liquid for an automatic developing machine) for 1 minute, and in pure water at a liquid temperature of 25 ° C. The silicone rubber layer in the exposed area was peeled off and removed with a developing brush, and the photosensitive layer in the image area was dyed with an NA-1 post-treatment liquid (manufactured by Toray Industries, Inc .: post-treatment liquid for an automatic developing machine) to form a printing plate.

【0130】刷版の感光層が露出した画線部部分を光学
顕微鏡を使用して相分離構造を観察し、相分離構造の形
態(1)〜(3)に分類した。分類した相分離構造の形
態を図1〜図3に示す。
The image portion where the photosensitive layer of the printing plate was exposed was observed for its phase-separated structure using an optical microscope, and classified into modes (1) to (3) of the phase-separated structure. FIGS. 1 to 3 show the classified forms of the phase separation structure.

【0131】更に顕微鏡写真により相分離構造を形成す
る連続相あるいは分散相の幅を測定した。また、顕微F
TIR((株)パーキンエルマー製paragon10
00AUTOIMAGEシステム)を使用して感光層表
面がキノンジアジド基を有する化合物を主成分とする相
とポリマーを主成分とする相とに相分離していることを
確認した。
Further, the width of a continuous phase or a dispersed phase forming a phase-separated structure was measured by a micrograph. Microscopic F
TIR (paragon10 manufactured by PerkinElmer Inc.)
00 AUTOIMAGE system), it was confirmed that the surface of the photosensitive layer was phase-separated into a phase mainly containing a compound having a quinonediazide group and a phase mainly containing a polymer.

【0132】更に、刷版上でのグレースケール感度を目
視評価した。グレースケール感度とは、現像後シリコー
ンゴム層が除去されなかったグレースケール濃度の段数
を意味し、この結果の大きいほど、高感度であることを
示す。
Further, the gray scale sensitivity on the printing plate was visually evaluated. The gray scale sensitivity means the number of gray scale densities at which the silicone rubber layer was not removed after development, and the higher the result, the higher the sensitivity.

【0133】更に未露光の水なし平版を温度50℃、湿
度70%RH雰囲気中で10日間保存し、保存後に上記
と同様の画像再現性の評価を行なった。保存前と保存後
のグレースケール感度の差を保存安定性の指標として評
価した。
Further, the unexposed lithographic plate without water was stored in an atmosphere of 50 ° C. and 70% RH for 10 days, and after storage, the same image reproducibility was evaluated as described above. The difference between the gray scale sensitivities before and after storage was evaluated as an index of storage stability.

【0134】実施例2 実施例1で使用した感光層組成を下記のものに変更する
以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例1と同様に評価を行った。
Example 2 A waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the photosensitive layer used in Example 1 was changed to the following, and evaluation was performed in the same manner as in Example 1. Was.

【0135】 (1)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェ ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン” PR50622)の部分エステル化物 (エステル化度36%) 100重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331” (三洋化成工業(株)製) 10重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (6)テトラヒドロフラン 832重量部 (7)メチルイソブチルケトン 236重量部 (8)N,N’−ジメチルホルムアミド 118重量部 実施例3 実施例1で使用した感光層組成を下記のものに変更する
以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例1と同様に評価を行った。
(1) Partially esterified product of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolak resin (“Sumilite Resin” PR50622 manufactured by Sumitomo Durez) (degree of esterification: 36%) 100 Parts by weight (2) 21,4 parts by weight of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (3) 10 parts by weight of polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight (6) Tetrahydrofuran 832 parts by weight (7) Methyl isobutyl ketone 236 parts by weight (8) N, N'-dimethylformamide 118 parts by weight Example 3 Used in Example 1 Example 1 was repeated except that the composition of the photosensitive layer was changed to the following. Without water to prepare a lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1.

【0136】 (1)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェ ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン” PR50622)の部分エステル化物 (エステル化度36%) 100重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331” (三洋化成工業(株)製) 10重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (6)イソプロピルエーテル 594重量部 (7)テトラヒドロフラン 475重量部 (8)2−メチルシクロヘキサノール 118重量部 実施例4 実施例1で使用した感光層組成を下記のものに変更する
以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例1と同様に評価を行った。
(1) Partially esterified product of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolak resin (“Sumilite Resin” PR50622 manufactured by Sumitomo Durez) (degree of esterification: 36%) 100 Parts by weight (2) 21,4 parts by weight of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (3) 10 parts by weight of polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight (6) isopropyl ether 594 parts by weight (7) tetrahydrofuran 475 parts by weight (8) 2-methylcyclohexanol 118 parts by weight Example 4 Photosensitive layer used in Example 1 Same as Example 1 except that the composition was changed to the following None preparing Lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1.

【0137】 (1)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェ ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン” PR50622)の部分エステル化物 (エステル化度36%) 70重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331” (三洋化成工業(株)製) 30重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (6)テトラヒドロフラン 832重量部 (7)イソプロピルエーテル 236重量部 (8)N,N’−ジメチルホルムアミド 118重量部 実施例5 実施例1で使用した感光層組成を下記のものに変更する
以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例1と同様に評価を行った。
(1) Partially esterified product of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolak resin (“Sumilite Resin” PR50622 manufactured by Sumitomo Durez) (degree of esterification: 36%) 70 Parts by weight (2) 21,4 parts by weight of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (3) 30 parts by weight of polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) 0.8 parts by weight of P-toluenesulfonic acid (6) 832 parts by weight of tetrahydrofuran (7) 236 parts by weight of isopropyl ether (8) 118 parts by weight of N, N'-dimethylformamide Example 5 Used in Example 1. Water was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the photosensitive layer was changed to the following. To prepare a lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1.

【0138】 (1)合成例1で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂 −1(エステル化度33%) 50重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−909L” (三洋化成工業(株)製) 50重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (6)イソプロピルエーテル 594重量部 (7)テトラヒドロフラン 475重量部 (8)2−メチルシクロヘキサノール 118重量部 実施例6 実施例1で使用したシリコーンゴム層組成を下記のもの
に変更する以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷
版原版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
(1) Acetone pyrogallol resin having quinonediazide group obtained in Synthesis Example 1-1 (degree of esterification: 33%) 50 parts by weight (2) 4,4′-diphenylmethane diisocyanate 21 parts by weight (3) Polyurethane resin "SAMPLEN LQ-909L" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 50 parts by weight (4) Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight (5) P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight (6) isopropyl ether 594 parts by weight Part (7) 475 parts by weight of tetrahydrofuran (8) 118 parts by weight of 2-methylcyclohexanol Example 6 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the silicone rubber layer composition used in Example 1 was changed to the following. A lithographic printing plate precursor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0139】 シリコーンゴム層組成〈固形成分10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770) 100重量部 (2)HMS−151(チッソ(株)製 両末端メチル(メチルハイドロジェン シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体 SiH基数/分子量=0.25 mol/g) 4重量部 (3)オレフィン配位白金 0.02重量部 (4)反応抑制剤 0.3重量部 〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約2.9であった。
Silicone Rubber Layer Composition <Solid Component 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (2) HMS-151 (manufactured by Chisso Corp. (Gen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer Number of SiH groups / molecular weight = 0.25 mol / g) 4 parts by weight (3) 0.02 parts by weight of olefin-coordinated platinum (4) 0.3 parts by weight of reaction inhibitor <solvent Ingredients> (5) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) The number of SiH groups per one vinyl group in the above silicone rubber layer composition was about 2.9.

【0140】実施例7 実施例1で使用したシリコーンゴム層組成を下記のもの
に変更する以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷
版原版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Example 7 A waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the silicone rubber layer used in Example 1 was changed to the following, and evaluation was performed in the same manner as in Example 1. went.

【0141】 シリコーンゴム層組成〈固形成分10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770) 100重量部 (2)SH−1107(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製 両末端メ チルポリメチルハイドロジェンシロキサン SiH基数/分子量=1.67mol/ g) 3重量部 (3)オレフィン配位白金 0.02重量部 (4)反応抑制剤 0.3重量部 〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約13.8であった。
Silicone rubber layer composition <solid component 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization 770) (2) SH-1107 (manufactured by Dow Corning Toray Silicone Toray Co., Ltd.) Terminal methyl polymethyl hydrogen siloxane Number of SiH groups / molecular weight = 1.67 mol / g) 3 parts by weight (3) Olefin-coordinated platinum 0.02 parts by weight (4) Reaction inhibitor 0.3 parts by weight <Solvent component> ( 5) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) The number of SiH groups per 1 vinyl group in the above silicone rubber layer composition was about 13.8.

【0142】実施例8 実施例1で使用したシリコーンゴム層組成を下記に変更
する以外は実施例1と同様にしてネガ型水なし平版印刷
版原版を作製し、実施例1と同様に評価を行った。
Example 8 A negative type waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the silicone rubber layer used in Example 1 was changed as follows, and evaluated in the same manner as in Example 1. went.

【0143】 〈固形成分:10%〉 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度770) 100重量部 (2)HMS−501(チッソ(株)製 両末端メチル(メチルハイドロジェン シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体 SiH基数/分子量=0.69 mol/g) 1重量部 (3)オレフィン配位白金 0.02重量部 (4)反応抑制剤 0.3重量部 〈溶剤成分〉 (5)”アイソパー”E(エッソ化学(株)製) 上記のシリコーンゴム層組成におけるビニル基数1に対
するSiH基数は約2.0であった。
<Solid component: 10%> (1) 100 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (polymerization degree: 770) (2) HMS-501 (manufactured by Chisso Corp., both ends methyl (methyl hydrogen siloxane)) (Dimethylsiloxane) copolymer Number of SiH groups / molecular weight = 0.69 mol / g) 1 part by weight (3) 0.02 parts by weight of olefin-coordinated platinum (4) 0.3 parts by weight of reaction inhibitor <Solvent component> ( 5) "Isopar" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) The number of SiH groups per one vinyl group in the above silicone rubber layer composition was about 2.0.

【0144】比較例1 実施例1で使用した感光層組成を下記のものに変更する
以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例1と同様に評価を行った。
Comparative Example 1 A waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the photosensitive layer used in Example 1 was changed to the following, and evaluation was performed in the same manner as in Example 1. Was.

【0145】 (1)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェ ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン” PR50622)の部分エステル化物 (エステル化度36%) 100重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331” (三洋化成工業(株)製) 10重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (6)テトラヒドロフラン 1188重量部 比較例2 実施例1で使用した感光層組成を下記のものに変更する
以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例1と同様に評価を行った。
(1) Partially esterified product of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolak resin (“Sumilite Resin” PR50622 manufactured by Sumitomo Durez) (degree of esterification: 36%) 100 Parts by weight (2) 21,4 parts by weight of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (3) 10 parts by weight of polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) 0.8 parts by weight of P-toluenesulfonic acid (6) 1188 parts by weight of tetrahydrofuran Comparative Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the composition of the photosensitive layer used in Example 1 was changed to the following. A lithographic printing plate precursor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0146】 (1)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェ ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン” PR50622)の部分エステル化物 (エステル化度36%) 100重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331” (三洋化成工業(株)製) 10重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (6)N,N’−ジメチルホルムアミド 1188重量部 比較例3 実施例1で使用した感光層組成を下記のものに変更する
以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例1と同様に評価を行った。
(1) Partially esterified product of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolak resin (“Sumilite Resin” PR50622 manufactured by Sumitomo Durez) (degree of esterification: 36%) 100 Parts by weight (2) 21,4 parts by weight of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (3) 10 parts by weight of polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) 0.8 parts by weight of P-toluenesulfonic acid (6) 1188 parts by weight of N, N'-dimethylformamide Comparative Example 3 Example 1 except that the photosensitive layer composition used in Example 1 was changed to the following. A lithographic printing plate precursor without water was prepared in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0147】 (1)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェ ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン” PR50622)の部分エステル化物 (エステル化度36%) 70重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331” (三洋化成工業(株)製) 30重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (6)N,N’−ジメチルホルムアミド 1188重量部 比較例4 実施例1で使用した感光層組成を下記のものに変更する
以外は実施例1と同様にして水なし平版印刷版原版を作
製し、実施例1と同様に評価を行った。
(1) Partially esterified product of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde novolak resin (“Sumilite Resin” PR50622 manufactured by Sumitomo Durez) (esterification degree: 36%) 70 Parts by weight (2) 21,4 parts by weight of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (3) 30 parts by weight of polyurethane resin "SAMPLEN LQ-T1331" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (5) 0.8 parts by weight of P-toluenesulfonic acid (6) 1188 parts by weight of N, N'-dimethylformamide Comparative Example 4 Example 1 except that the photosensitive layer composition used in Example 1 was changed to the following. A lithographic printing plate precursor without water was prepared in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner as in Example 1.

【0148】 (1)合成例1で得られたキノンジアジド基を有するアセトンピロガロール樹脂 −1(エステル化度33%) 50重量部 (2)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (3)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−909L” (三洋化成工業(株)製) 50重量部 (4)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (5)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (6)N,N’−ジメチルホルムアミド 1188重量部 実施例1〜8及び比較例1〜4について感光層の相分離
構造の形態、連続相あるいは分散相の幅、画像再現性及
び保存安定性を評価した結果を表1および表2に、また
それぞれ使用したシリコーンゴム層組成を表3に示す。
(1) Acetone pyrogallol resin having quinonediazide group obtained in Synthesis Example 1-1 (degree of esterification 33%) 50 parts by weight (2) 4,4′-diphenylmethane diisocyanate 21 parts by weight (3) Polyurethane resin "SAMPLEN LQ-909L" (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 50 parts by weight (4) Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight (5) P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight (6) N, N ' 1188 parts by weight of dimethylformamide Tables 1 and 2 show the results of evaluating the morphology of the phase separation structure of the photosensitive layer, the width of the continuous or dispersed phase, the image reproducibility and the storage stability of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4. Table 2 shows the composition of the silicone rubber layer used.

【0149】[0149]

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【表3】 表1および表2に示す通り請求項で規定した相分離構造
を形成した感光層を有する実施例全てにおいて良好な画
像再現性と保存安定性が得られたのに対し、相分離構造
を形成していない比較例では画像再現性と保存安定性が
劣ることが分かる。
[Table 3] As shown in Tables 1 and 2, good image reproducibility and storage stability were obtained in all the examples having the photosensitive layer having the phase separation structure as defined in the claims. It can be seen that in the comparative examples without, the image reproducibility and the storage stability were inferior.

【0150】[0150]

【発明の効果】本発明は、基板上に少なくとも、感光層
およびシリコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし
平版印刷版原版において該感光層が水酸基とキノンジア
ジド基を有する化合物を主成分とする相とポリマーを主
成分とする相の2相に分離しており、シリコーンゴム層
が特定の付加型シリコーンゴム層を使用することによ
り、画像再現性が良好で且つ保存安定性に優れた水なし
平版印刷版原版が得られる。
According to the present invention, in a waterless planographic printing plate precursor comprising at least a photosensitive layer and a silicone rubber layer laminated in this order on a substrate, the photosensitive layer mainly comprises a compound having a hydroxyl group and a quinonediazide group. Separated into two phases, a main phase and a polymer-based phase. By using a specific addition type silicone rubber layer for the silicone rubber layer, there is no water with good image reproducibility and excellent storage stability. A lithographic printing plate precursor is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】分類(1)に相当する相分離構造の形態図であ
る。
FIG. 1 is a morphological diagram of a phase separation structure corresponding to classification (1).

【図2】分類(2)に相当する相分離構造の形態図であ
る。
FIG. 2 is a view showing a form of a phase separation structure corresponding to classification (2).

【図3】分類(3)に相当する相分離構造の形態図であ
る。
FIG. 3 is a morphological diagram of a phase separation structure corresponding to classification (3).

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に少なくとも、感光層およびシリコ
ーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原
版において、該感光層が水酸基およびキノンジアジド基
を有する化合物を主成分とする相とポリマーを主成分と
する相の2相に分離しており、更にシリコーンゴム層が
分子量10万以下のビニル基を有するポリシロキサンと
該ビニル基数1に対して3〜20個の硅素原子に直結し
た水素基を有するようにハイドロジェンシロキサンを含
有し、該ビニル基と硅素原子に直結した水素基が付加反
応して架橋していることを特徴とする水なし平版印刷版
原版。
1. A waterless lithographic printing plate precursor comprising at least a photosensitive layer and a silicone rubber layer laminated in this order on a substrate, wherein the photosensitive layer is mainly composed of a compound having a hydroxyl group and a quinonediazide group. And a silicone rubber layer having a vinyl group-containing polysiloxane having a molecular weight of 100,000 or less and hydrogen directly bonded to 3 to 20 silicon atoms per 1 vinyl group. A waterless planographic printing plate precursor comprising a hydrogen siloxane so as to have a group, and wherein the vinyl group and a hydrogen group directly bonded to a silicon atom are crosslinked by an addition reaction.
【請求項2】水酸基及びキノンジアジド基を有する化合
物がイソシアネートにより架橋されていることを特徴と
する請求項1に記載の水なし平版印刷版原版。
2. The waterless lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the compound having a hydroxyl group and a quinonediazide group is crosslinked with isocyanate.
【請求項3】ポリマーがポリウレタンであることを特徴
とする請求項1〜2のいずれかに記載の水なし平版印刷
版原版。
3. The waterless planographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the polymer is a polyurethane.
【請求項4】シリコーンゴム層が分子中に2個以上のビ
ニル基を有するオルガノポリシロキサンと分子中に3個
以上のSiH基を有するハイドロジェンシロキサンおよ
び白金化合物を含有することを特徴とする請求項1〜3
のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
4. A silicone rubber layer comprising an organopolysiloxane having two or more vinyl groups in a molecule, a hydrogen siloxane having three or more SiH groups in a molecule, and a platinum compound. Items 1-3
A lithographic printing plate precursor without water as described in any of the above.
【請求項5】ハイドロジェンシロキサンの分子中に有す
るSiH基数/分子量の値が0.001mol/g以上
であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載
の水なし平版印刷版原版。
5. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the value of the number of SiH groups / molecular weight in the molecule of the hydrogen siloxane is 0.001 mol / g or more. .
【請求項6】水酸基及びキノンジアジド基を有する化合
物がフェノールノボッラク樹脂を1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリドあるいは、
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸
クロリドによりエステル化させたものであり、且つエス
テル化度が1〜60%であることを特徴とする請求項1
〜5のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
6. A compound having a hydroxyl group and a quinonediazide group, wherein the phenol novolak resin is 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid chloride or
2. The composition of claim 1, which is esterified with 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid chloride and has a degree of esterification of 1 to 60%.
A lithographic printing plate precursor without water as described in any one of Items 1 to 5.
【請求項7】感光層中のイソシアネートの含有量がキノ
ンジアジド化合物に対して5〜45重量%であることを
特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の水なし平版
印刷版原版。
7. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the content of the isocyanate in the photosensitive layer is 5 to 45% by weight based on the quinonediazide compound.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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