JPH10246878A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

液晶表示素子の製造方法

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JPH10246878A
JPH10246878A JP5040997A JP5040997A JPH10246878A JP H10246878 A JPH10246878 A JP H10246878A JP 5040997 A JP5040997 A JP 5040997A JP 5040997 A JP5040997 A JP 5040997A JP H10246878 A JPH10246878 A JP H10246878A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
crystal display
black matrix
photoresist
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Pending
Application number
JP5040997A
Other languages
English (en)
Inventor
Takaaki Kuji
卓見 久慈
Yoshitaka Imabayashi
義考 今林
Akiya Izumi
章也 泉
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH10246878A publication Critical patent/JPH10246878A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】ブラックマトリクスと基板の密着性を向上させ
て表示品質を向上させる。 【解決手段】一方の基板1の一方の面にブラックマトリ
クス2で区画された複数色のフィルタを備えた少なくと
も2枚の基板の間に液晶層を挟持してなる液晶表示素子
の製造方法において、前記一方の基板1の一方の面に黒
色顔料を分散したフォトレジスト2aを塗布する工程
(a)と、所定のマスクパターンを有する露光マスク3
を介して露光を行う工程(b)と、露光したフォトレジ
ストを現像して未露光部分を除去する工程(c)と、現
像後の当該一方の基板1の背面全面に一様な光を照射す
る工程(d)を含むことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子に係
り、特にカラーフィルタ基板に形成するブラックマトリ
クスの当該基板との密着性を向上させることのできる液
晶表示素子の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】パソコンやワープロ、その他の情報機器
のための表示デバイスとして、近年、液晶表示素子を用
いた薄型,軽量かつ低消費電力の表示装置が多用される
ようになった。
【0003】液晶表示素子は、基本的には水平と垂直に
配列された多数の電極で形成されるマトリクスと上記水
平と垂直の電極の間に液晶層を有し、2つの電極の対向
部分に画素を構成して2次元画像を表示するものであ
る。
【0004】この種の液晶表示素子には、水平と垂直の
電極に印加するパルスのタイミングで所定の画素を選択
する所謂単純マトリクス方式と、垂直と水平の電極の交
点に構成する画素毎にトランジスタ等の非線型素子を配
置して所定の画素を選択する所謂アクティブ・マトリク
ス方式とがある。
【0005】例えば、アクティブ・マトリクス方式の液
晶表示装置は、マトリクス状に配列された複数の画素電
極のそれぞれに対応して非線形素子(スイッチング素
子)を設けたものである。各画素における液晶は理論的
には常時駆動(デューティ比 1.0)されているので、
時分割駆動方式を採用している、いわゆる単純マトリク
ス方式と比べてアクティブ・マトリクス方式はコントラ
ストが良く、特にカラー液晶表示装置では欠かせない技
術となりつつある。スイッチング素子として代表的なも
のとしては薄膜トランジスタ(TFT)がある。
【0006】なお、薄膜トランジスタを使用したアクテ
ィブ・マトリクス方式の液晶表示装置は、例えば特開昭
63−309921号公報や、「冗長構成を採用した1
2.5型アクティブ・マトリクス方式カラー液晶ディス
プレイ」( 日経エレクトロニクス、193〜210頁、
1986年12月15日、日経マグロウヒル社発行)で
知られている。
【0007】カラー液晶表示素子では、液晶層を挟持す
る一方の基板に遮光膜であるブラックマトリクスで区画
された複数(一般に、赤、緑、青)のカラーフィルタを
備えている。このブラックマトリクスは、基板に一方の
面にカーボン等の黒色顔料を分散したフォトレジストを
塗布した後、当該フォトレジスト塗布面側に所定の開口
パターン(マスクパターン)を有する露光マスクを設置
し、この露光マスクを介して露光し、未露光のフォトレ
ジストを現像により除去した後、ベーキング処理して固
定する方法が取られている。
【0008】その後、赤、緑、青の顔料をそれぞれ分散
したフォトレジストをロッドコーター等で順次塗布し、
マスク露光と現像およびベーキングを繰り返してブラッ
クマトリクスで区画された3色のカラーフィルタを有す
るカラーフィルタ基板を形成する。
【0009】このカラーフィルタ基板と、別途用意され
た他方の基板の間に液晶層を挟持させて液晶表示素子を
得る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の液晶表示素
子の製造におけるブラックマトリクスの形成は、カーボ
ン等の光吸収物質を分散したフォトレジストを塗布し、
このフォトレジスト塗布面側から露光マスクを介して露
光する方法を取っているため、露光光はフォトレジスト
と基板の界面まで十分に達しない場合がある。
【0011】特に、遮光性を向上させるために、フォト
レジストに分散するカーボン等の光吸収物質の量を増や
すと、基板とブラックマトリクスの界面付近まで十分に
露光光が到達しないため、架橋反応が不十分となってレ
ジストの硬化が十分になされず、基板との密着性が低下
する。
【0012】そのため、ベーキング工程でブラックマト
リクスの欠けの発生やカラーフィルタの形成後にフィル
タと共に剥離する恐れがあり、液晶表示素子の表示品質
を劣化させるという問題があった。
【0013】本発明の目的は、上記従来技術の問題を解
消し、ブラックマトリクスと基板の密着性を向上させて
表示品質を向上させた液晶表示素子の製造方法を提供す
ることにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、露光現像後に基板の背面から露光を施す
ことで基板とブラックマトリクスの界面を十分に硬化さ
せるようにした。
【0015】すなわち、請求項1に記載の第1の発明
は、一方の基板の一方の面にブラックマトリクスで区画
された複数色のフィルタを備えた少なくとも2枚の基板
の間に液晶層を挟持してなる液晶表示素子の製造方法に
おいて、前記一方の基板の一方の面に黒色顔料を分散し
たフォトレジストを塗布し、所定のマスクパターンを有
する露光マスクを介して露光を行う工程と、露光したフ
ォトレジストを現像して未露光部分を除去する工程と、
現像後の当該一方の基板の背面全面に一様な光を照射す
る工程を含むことを特徴とする。
【0016】上記背面露光により、基板とブラックマト
リクスの界面の部分のフォトレジストが十分に硬化し、
基板との密着性が確保される。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例を参照して詳細に説明する。
【0018】図1は本発明による液晶表示素子の製造方
法の1実施例を説明するブラックマトリクスの形成工程
図である。
【0019】先ず、カラーフィルタ基板(透明ガラス基
板)1の一方の面にカーボンを分散したフォトレジスト
2aを一様に塗布する(a)。
【0020】次に、ブラックマトリクスのパターンに対
応する開口パターン3bを有するガラス板3aからなる
露光マスク3を、基板1のフォトレジスト2aの塗布面
側に設置して露光光L1 を照射してブラックマトリクス
部分を選択的に露光する(b)。
【0021】露光後、現像処理して未露光部分のフォト
レジストを除去してベーキング前のブラックマトリクス
2を得る(c)。
【0022】この基板のブラックマトリクス2となるフ
ォトレジストの形成面の背面全面に対して一様な光を照
射する背面露光を施すことで、フォトレジストと基板の
界面を十分に硬化させる(d)。
【0023】この背面露光は、波長が365nmにピー
クを持つ紫外線が好適であるが、市販のUV蛍光灯を使
用することもできる。また、ブラックマトリクスの欠け
等の発生を抑制する背面露光光の照射エネルギーは1〜
1000mJ/cm2 の範囲である。
【0024】その後、ベーキングを施してブラックマト
リクスとなるフォトレジストを固定する。
【0025】この実施例により、ブラックマトリクスの
欠けの発生やカラーフィルタの形成後にフィルタと共に
剥離することが防止される。
【0026】図2は本発明による液晶表示素子の製造方
法のカラーフィルタ基板の製造工程全体の説明図であ
る。
【0027】カラーフィルタ基板の素材ガラス基板は、
洗浄工程により表面が清浄化され(P−1)、ブラック
マトリクス形成工程(P−2)に渡される。
【0028】ブラックマトリクス形成工程(P−2)で
は、基板の一方の面にカーボン分散フォトレジストを塗
布し(P−21)、マスク露光(P−22)、現像(P
−23)、背面露光(P−24)、およびベーキング
(P−25)の各工程を順次実行してブラックマトリク
スを形成する。
【0029】ブラックマトリクスを形成したガラス基板
は、第1色(ここでは、赤色)のカラーフィルタ形成工
程(P−3)に渡される。
【0030】第1色のカラーフィルタ形成工程(P−
3)では、ブラックマトリクスを形成したガラス基板の
当該ブラックマトリクスを覆って赤色顔料を分散したフ
ォトレジストを塗布し(P−31)、赤色フィルタに対
応する開口パターンを有する露光マスクを介してマスク
露光し(P−32)、現像(P−33)、およびベーキ
ング(P−34)の各工程を順次実行して赤色のカラー
フィルタを形成する。
【0031】以下、分散する顔料ご異なる以外は上記第
1色のカラーフィルタ形成工程と同様の第2色(緑色)
フィルタの形成工程(P−4)、第3色(青色)フィル
タの形成工程(P−5)を経てカラーフィルタ基板が製
造される。
【0032】なお、各カラーフィルタの形成工程におけ
るベーキング処理の前工程で、前記ブラックマトリクス
の形成工程と同様の背面露光を施す工程を付加すること
もできる。
【0033】図3は本発明によるカラーフィルタ基板を
用いた液晶表示装置の製造工程全体の説明図である。
【0034】前記実施例で説明したカラーフィルタ基板
は、別途製作されたTFT基板と重ね合わされ、相互の
位置合わせを行うと共にギャップ(セルギャップ)を形
成し(P−10)、このギャップに液晶を注入して封止
して(P−11)液晶パネルを得る。
【0035】この液晶パネルに駆動回路基板を組み込み
(P−12)、偏光板等の各種の光学フィルム、バック
ライト構造体と共に一体化して液晶モジュールとし(P
−13)、液晶表示装置を完成する。
【0036】図4は図3の工程で得られた液晶表示装置
の要部構造を説明する部分断面図である。
【0037】同図において、液晶層LCを基準にしてT
FT基板である下部ガラス基板SUB110にはゲート
配線GI、ゲートGTとソース/ドレインSD1/SD
2からなるTFT(薄膜トランジスタ)、透明画素電極
ITO1、保護膜PSV1、配向膜ORI1が形成さ
れ、上部透明ガラス基板SUB2(前記のカラーフィル
タ基板1)には第1のカラーフィルタFIL(R)、第
2のカラーフィルタFIL(G)、および図示しない第
3のカラーフィルタFIL(B)が形成され、各カラー
フィルタを区画する遮光膜すなわちブラックマトリクス
BMが形成されている。
【0038】すなわち、上部透明ガラス基板SUB2の
内側(液晶層LC側)の表面には、ブラックマトリクス
BM、カラーフィルタFIL(R),FIL(G),F
IL(B)、オーバーコートPSV2、共通透明画素電
極ITO2(COM)および上部配向膜ORI2が順次
積層して設けられている。
【0039】なお、上下の透明ガラス基板SUB2とS
UB1の両面にはディップ処理等によって形成された酸
化シリコン膜SIOが設けられているが、この酸化シリ
コン膜SIOは必ずしも必要ではない。
【0040】また、カラーフィルタ基板SUB2の表面
には偏光板POL2が、TFT基板SUB1の背面には
偏光板POL1が積層されている。
【0041】図5は本発明による液晶表示素子を用いて
組み立てたTFT型液晶表示モジュールの構造例を説明
する展開斜視図である。
【0042】同図において、MDLは液晶表示モジュー
ル、SHDは上フレームである金属製のシールドケー
ス、WDは液晶表示モジュールの有効画面を画定する表
示窓、PNLは液晶表示素子からなる液晶パネル、SC
Pは拡散板、PCB1はドレイン側回路基板、PCB2
はゲート側回路基板、PCB3はインターフェース回路
基板、PRSはプリズムシート、SPSは拡散シート、
GLBは導光体、RFSは反射シート、BLはバックラ
イト、LPはバックライトBLのランプを構成する冷陰
極蛍光灯、LSは反射シート、GCはゴムブッシュ、L
PCはランプケーブル、MCAは導光体GLBを設置す
る開口MOを有する下側ケース、JN1,2,3は回路
基板間を接続するジョイナ、TCP1,2はテープキャ
リアパッケージ、INS1,2,3は絶縁シート、GC
はゴムクッション、BATは両面粘着テープ、ILSは
遮光スペーサである。
【0043】上記の各構成材は、金属製のシールドケー
スSHDと下側ケースMCAの間に積層されて挟持固定
されて液晶表示モジュールMDLを構成する。
【0044】液晶パネルPNLは本発明による製造方法
で得られたものである。なお、この液晶パネルPNLに
は拡散板SCPが積層され、その周辺に各種の回路基板
を取り付けて画像表示のための駆動がなされる。
【0045】また、液晶パネルPNLの裏面には導光体
GLBに各種の光学シートを積層してなるバックライト
BLが設置され、液晶表示パネルPNLに形成された画
像を照明して表示窓WDに表示する。
【0046】図6は本発明によるカラーフィルタ基板を
用いて製造されたTFT型カラー液晶表示装置の一画素
とその周辺を示す平面図である。
【0047】同図に示すように、各画素は隣接する2本
の走査信号線(ゲート信号線または水平信号線)GL
(ゲートライン)と、隣接する2本の映像信号線(ドレ
イン信号線または垂直信号線)DL(データライン)と
の交差領域内(4本の信号線で囲まれた領域内)に配置
されている。
【0048】各画素は薄膜トランジスタTFT(TFT
1,TFT2)、透明な画素電極ITO1および保持容
量素子Cadd (付加容量)を含む。走査信号線GLは図
では左右方向に延在し、上下方向に複数本配置されてい
る。また、映像信号線DLは上下方向に延在し、左右方
向に複数本配置されている。
【0049】なお、SD1はソース電極、SD2はドレ
イン電極、BMはブラックマトリクス、FILはカラー
フィルタである。
【0050】図7は本発明による液晶表示素子を用いた
液晶表示モジュールを組み込んだ電子機器の一例を説明
する携帯型パソコンの外観図であって、図5と同一符号
は同一部分に対応する。
【0051】この携帯型パソコンは、キーボードを搭載
しホストCPUを内蔵した本体部と液晶表示モジュール
MDLを実装しインバータ電源IVを内蔵した表示部と
から構成され、両者はヒンジを連絡するケーブルにより
結合されている。
【0052】また、表示部には各種の調整ボタンCT、
TCON、CR等が設けられており、キーボードとホス
トからの信号は矢印に示したように流れて表示部に表示
される。
【0053】本発明を適用して製造した液晶表示素子を
用いることにより、視角特性の良好な高画質の画像表示
を行うことができる。
【0054】なお、本発明は上記実施例で説明したTF
T型液晶表示素子用のカラーフィルタ基板にのみ適用さ
れるものではなく、単純マトリクス型等の液晶表示素子
および他の形式の表示素子のカラーフィルタ製造にも同
様に適用できるものである。
【0055】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ブラックマトリクスの遮光性を向上させるために、フォ
トレジストに分散するカーボン等の光吸収物質の量を増
やすした場合でも基板とブラックマトリクスの界面付近
を十分に露光して硬化させることが可能となり、ブラッ
クマトリクスと基板との密着性が向上する。
【0056】そのため、ベーキング工程でブラックマト
リクスの欠けの発生やカラーフィルタの形成後にフィル
タと共に剥離することを阻止でき、高い表示品質の液晶
表示素子を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による液晶表示素子の製造方法の1実施
例を説明するブラックマトリクスの形成工程図である。
【図2】本発明による液晶表示素子の製造方法のカラー
フィルタ基板の製造工程全体の説明図である。
【図3】本発明によるカラーフィルタ基板を用いた液晶
表示装置の製造工程全体の説明図である。
【図4】図3の工程で得られた液晶表示装置の要部構造
を説明する部分断面図である。
【図5】本発明による液晶表示素子を用いて組み立てた
TFT型液晶表示モジュールの構造例を説明する展開斜
視図である。
【図6】本発明によるカラーフィルタ基板を用いて製造
されたTFT型カラー液晶表示装置の一画素とその周辺
を示す平面図である。
【図7】本発明による液晶表示素子を用いた液晶表示モ
ジュールを組み込んだ電子機器の一例を説明する携帯型
パソコンの外観図である。
【符号の説明】 1 カラーフィルタ基板(透明ガラス基板) 2 ブラックマトリクス 2a ブラックマトリクスとなるフォトレジスト 3 露光マスク 3a ガラス板 3b 開口パターン(マスクパターン)。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一方の基板の一方の面にブラックマトリク
    スで区画された複数色のフィルタを備えた少なくとも2
    枚の基板の間に液晶層を挟持してなる液晶表示素子の製
    造方法において、 前記一方の基板の一方の面に黒色顔料を分散したフォト
    レジストを塗布し、所定のマスクパターンを有する露光
    マスクを介して露光を行う工程と、露光したフォトレジ
    ストを現像して未露光部分を除去する工程と、現像後の
    当該一方の基板の背面全面に一様な光を照射する工程を
    含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
JP5040997A 1997-03-05 1997-03-05 液晶表示素子の製造方法 Pending JPH10246878A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100661291B1 (ko) * 1999-06-14 2006-12-26 엘지.필립스 엘시디 주식회사 컬러필터 기판 및 그 제조방법.
KR101107707B1 (ko) * 2005-04-26 2012-01-25 엘지디스플레이 주식회사 액정표시소자의 제조방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100661291B1 (ko) * 1999-06-14 2006-12-26 엘지.필립스 엘시디 주식회사 컬러필터 기판 및 그 제조방법.
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