JPH10239515A - Manufacture of color filter - Google Patents

Manufacture of color filter

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Publication number
JPH10239515A
JPH10239515A JP25593097A JP25593097A JPH10239515A JP H10239515 A JPH10239515 A JP H10239515A JP 25593097 A JP25593097 A JP 25593097A JP 25593097 A JP25593097 A JP 25593097A JP H10239515 A JPH10239515 A JP H10239515A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
black matrix
green
color filter
blue
Prior art date
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Pending
Application number
JP25593097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naoki Sako
迫  直樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP25593097A priority Critical patent/JPH10239515A/en
Publication of JPH10239515A publication Critical patent/JPH10239515A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a protruding defect and prevent the generation of common short circuit at the time of laminating a color filter and a TFT array, by forming a black matrix and picture element images of red, green and blue colors on a glass substrate rid of glass cullet of a specified size or larger. SOLUTION: After a photopolymerized composition with black material such as carbon black dispersed is applied onto a non-alkali glass substrate, treatment of heat drying, image exposure, development and heat curing is applied to form a black matrix. Photopolymerized compositions with red, green, and blue dye pigments respectively dispersed are used and applied to a black matrix-formed face, and treatment of heat drying, image exposure and heat curing is applied to form picture element images of the respective colors. In this case, a glass substrate rid of glass cullet of 5μm or more, disirably 3μm or more, using brush cleaning and ultrasonic cleaning jointly in an alkaline washing solution, is used as the glass substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター
の製造方法に関するものであり、詳しくは、特定のガラ
ス基板の使用により、突起欠陥が少なく、従って、カラ
ーフィルターのTFTアレイとの貼り合わせ時に惹起さ
れるコモンショートの問題を解決したカラーフィルター
の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color filter, and more particularly, to the use of a specific glass substrate to reduce the number of projection defects, and thus to cause the color filter to be stuck to a TFT array. The present invention relates to a method of manufacturing a color filter that solves the problem of common shorts.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラーフィルターは、ガラス基板上にブ
ラックマトリックスと、赤、緑、青の各色の画素画像を
形成して製造される。そして、薄膜トランジスタアレイ
等が設けられた駆動基板と対向配置し、基板間に液晶を
収容して液晶セルを組み立てる際に使用される。
2. Description of the Related Art A color filter is manufactured by forming a black matrix and pixel images of red, green and blue colors on a glass substrate. Then, it is disposed to face a driving substrate provided with a thin film transistor array and the like, and is used when a liquid crystal is accommodated between the substrates to assemble a liquid crystal cell.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、カラーフィ
ルターの製造方法における問題点の1つとして画素欠陥
が挙げられる。そして、画素欠陥は、白欠陥、黒欠陥お
よび突起欠陥の3種類に大別される。白欠陥および黒欠
陥は、目視で確認出来るレベルの欠陥があると不良とさ
れ、突起欠陥は、TFTアレイとの貼り合わせ時にコモ
ンショートを惹起させるために最も嫌われる欠陥であ
り、通常、高さ5〜10μmの欠陥がカラーフィルター
の全面に1つでもあってはならないとされている。
However, one of the problems in the method of manufacturing a color filter is a pixel defect. Pixel defects are roughly classified into three types: white defects, black defects, and protrusion defects. The white defect and the black defect are regarded as defective if there is a defect that can be visually confirmed, and the projection defect is the most hated defect to cause a common short at the time of bonding with the TFT array. It is required that no defect of 5 to 10 μm be present on the entire surface of the color filter.

【0004】本発明は、上記実情に鑑みなされたもので
あり、その目的は、突起欠陥が少なく、従って、カラー
フィルターのTFTアレイとの貼り合わせ時に惹起され
るコモンショートの問題を解決したカラーフィルターの
製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to reduce the number of protrusion defects and to solve the problem of a common short circuit caused when a color filter is bonded to a TFT array. It is to provide a manufacturing method of.

【0005】本発明者は、上記の目的を達成すべく鋭意
検討を重ねた結果、次の様な知見を得た。すなわち、カ
ラーフィルター用ガラス基板は、通常、ガラスメーカー
において研磨された後に出荷されるが、この研磨の際に
ガラス基板に付着し且つその後の洗浄において除去され
なかったガラスカレットによってカラーフィルターの突
起欠陥が惹起される。しかも、コモンショートを惹起す
る程度の大きなガラスカレットは、その完全な除去が極
めて困難であり、特定の洗浄方式によって初めて効率的
に除去することが出来る。
The present inventor has conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, obtained the following findings. That is, the glass substrate for a color filter is usually shipped after being polished by a glass maker. Is caused. Moreover, it is extremely difficult to completely remove a glass cullet that is large enough to cause a common short, and can be efficiently removed only by a specific cleaning method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の知見を
基に完成されたものであり、その要旨は、ガラス基板上
にブラックマトリックスと、赤、緑、青の各色の画素画
像を形成するカラーフィルターの製造方法において、ガ
ラス基板として5μm以上のガラスカレットが除去され
たガラス基板を使用することを特徴とするカラーフィル
ターの製造方法に存する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been completed based on the above findings, and its gist is to form a black matrix and a pixel image of each color of red, green and blue on a glass substrate. In the method for producing a color filter, a glass substrate from which a glass cullet of 5 μm or more is removed is used as the glass substrate.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
先ず、説明の便宜上、カラーフィルターの製造方法の概
要について説明する。カラーフィルターの製造方法とし
ては、顔料分散法、染色法、電着法、印刷法などがある
が、分光特性、耐久特性、パターン形状および精度など
の点で平均的に優れた顔料分散法が最も広く採用されて
いる。また、ブラックマトリックスの形成方法として
は、金属遮光膜による方法以外に、黒色材料を分散させ
た感光性樹脂を使用する方法が提案されている。この方
法によれば、スパッタリング等の設備、クロム廃棄処理
などが不要であり、大幅なコスト低減が実現出来る利点
がある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
First, for convenience of description, an outline of a method for manufacturing a color filter will be described. There are pigment dispersion methods, dyeing methods, electrodeposition methods, printing methods, etc., as color filter production methods. Widely adopted. As a method for forming a black matrix, a method using a photosensitive resin in which a black material is dispersed has been proposed in addition to a method using a metal light-shielding film. According to this method, equipment such as sputtering and chromium disposal treatment are not required, and there is an advantage that significant cost reduction can be realized.

【0008】従って、本発明においては、黒色材料が分
散された光重合性組成物をガラス基板上に塗布した後、
加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行っ
てブラックマトリックスを形成し、次いで、赤、緑、青
の材料が各々分散された光重合性組成物を使用し、上記
のブラックマトリックス形成面に、塗布、加熱乾燥、画
像露光および熱硬化の各処理を行って各色の画素画像を
形成する方法が好ましく採用される。
Accordingly, in the present invention, after the photopolymerizable composition in which the black material is dispersed is applied on a glass substrate,
Each step of heat drying, image exposure, development and heat curing is performed to form a black matrix, and then, using a photopolymerizable composition in which red, green, and blue materials are respectively dispersed, the above black matrix formation is performed. A method of forming each pixel image of each color by performing each processing of coating, heat drying, image exposure, and heat curing on the surface is preferably adopted.

【0009】ガラス基板としては、無アルカリガラスが
好適に使用され、その表面には、接着性などの表面物性
の改良のため、必要に応じ、コロナ放電処理、オゾン処
理、シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各種
ポリマーの薄膜形成処理などを行うことが出来る。ガラ
ス基板の厚さは、通常0.05〜10mm、好ましくは
0.1〜7mmの範囲とされる。また、各種ポリマーの
薄膜形成処理を行う場合、その膜厚は、通常0.01〜
10μm、好ましくは0.05〜5μmの範囲とされ
る。
As the glass substrate, non-alkali glass is preferably used. The surface of the glass substrate is subjected to a corona discharge treatment, an ozone treatment, a silane coupling agent or a urethane to improve the surface properties such as adhesiveness. A thin film forming treatment of various polymers such as a polymer can be performed. The thickness of the glass substrate is generally in the range of 0.05 to 10 mm, preferably 0.1 to 7 mm. Further, when performing a thin film forming process of various polymers, the film thickness is usually 0.01 to
The range is 10 μm, preferably 0.05 to 5 μm.

【0010】本発明において、黒色材料としては、通
常、カーボンブラック、他の色材料としては、通常、赤
色、緑色、青色の染顔料が使用されるが、この他、必要
に応じ、金属粉、白色顔料、蛍光顔料なども使用するこ
とが出来る。
In the present invention, carbon black is usually used as the black material, and red, green, and blue dyes and pigments are usually used as the other color materials. White pigments, fluorescent pigments and the like can also be used.

【0011】カーボンブラック及び染顔料の具体例とし
ては、三菱カーボンブラックM1000、三菱カーボン
ブラックMA−100、三菱カーボンブラック#40、
ビクトリアピュアブルー(42595)、オーラミンO
(41000)、カチロンブリリアントフラビン(ベー
シック13)、ローダミン6GCP(45160)、ロ
ーダミンB(45170)、サクラニンOK 70:1
00(50240)、エリオグラウシンX(4208
0)、NO.120/リオノールイエロー(2109
0)、リオノールイエローGRO(21090)、シム
ラファーストイエローGRO(21090)、シムラフ
ァーストイエロー8GF(21105)、ベンジジンイ
エロー4J−564D(21095)、シムラーファー
ストレッド4015(12355)、リオノールレッド
7B4401(15850)、ファーストゲンブルーJ
GR−L(74160)、リオノールブルーSM(26
150)、リオノールブルーES(ピグメントブルー1
5:6、ピグメントブルー1536)、リオノーゲンレ
ッドGD(ピグメントレッド168、ピグメントレッド
108)、リオノールグリーン2YS(ピグメントグリ
ーン36)等が挙げられる(上記の( )内の数字はカ
ラーインデックス(C.I.)を意味する)。
Specific examples of carbon black and dyes and pigments include Mitsubishi Carbon Black M1000, Mitsubishi Carbon Black MA-100, Mitsubishi Carbon Black # 40,
Victoria Pure Blue (42595), Auramine O
(41000), Catillon Brilliant Flavin (Basic 13), Rhodamine 6 GCP (45160), Rhodamine B (45170), Sakuranin OK 70: 1
00 (50240), Erioglaucine X (4208)
0), NO. 120 / Lionol Yellow (2109
0), Lionol Yellow GRO (21090), Shimura First Yellow GRO (21090), Shimura First Yellow 8GF (21105), Benzidine Yellow 4J-564D (21095), Shimla First Red 4015 (12355), Lionol Red 7B4401 (15850). ), First Gen Blue J
GR-L (74160), Lionol Blue SM (26
150), Lionol Blue ES (Pigment Blue 1)
5: 6, Pigment Blue 1536), Lionogen Red GD (Pigment Red 168, Pigment Red 108), Lionol Green 2YS (Pigment Green 36) and the like (the numbers in parentheses above indicate the color index (C.I. I.)).

【0012】光重合性組成物中に分散される色材料の量
は、全固形分に対し、通常10〜70重量%、好ましく
は20〜60重量%の範囲とされ、本発明における光重
合性組成物は、斯かる高い色材料含有率の状態におい
て、ガラス基板との接着性が高く、高画質な色材画素画
像を与える機能が要求される。
The amount of the color material dispersed in the photopolymerizable composition is usually in the range of 10 to 70% by weight, preferably 20 to 60% by weight based on the total solid content. The composition is required to have a high adhesiveness to a glass substrate and a function of giving a high quality color material pixel image in such a state of a high color material content.

【0013】本発明において、光重合性組成物は、上記
色材料の他、光を吸収してラジカルを発生する光重合開
始系と、当該ラジカルにより重合が誘起される付加重合
性のエチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する
化合物(以下「エチレン性化合物」と称す)を含有し、
また、相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性などの光重
合性層の改善のため、結合剤としての有機高分子物質を
含有する。
In the present invention, the photopolymerizable composition includes, in addition to the color material, a photopolymerization initiation system that absorbs light to generate a radical, and an addition-polymerizable ethylenic polymer that is induced to polymerize by the radical. A compound having at least one saturated double bond (hereinafter referred to as “ethylenic compound”),
Further, in order to improve the photopolymerizable layer such as compatibility, film forming property, developing property, adhesiveness, etc., it contains an organic polymer substance as a binder.

【0014】上記の光重合開始系としては次の様な化合
物が挙げられる。すなわち、黒の光重合性層は、光重合
性層上よりパターンマスクを介して画像露光されるた
め、黒の光重合性組成物に使用される光重合開始系とし
ては、紫外から可視に感度を有する化合物を適宜に使用
し、画像露光に際しては、それに相当する露光光源を使
用する。
The above-mentioned photopolymerization initiation system includes the following compounds. That is, since the black photopolymerizable layer is image-exposed through the pattern mask from above the photopolymerizable layer, the photopolymerization initiation system used for the black photopolymerizable composition is sensitive from ultraviolet to visible. Are appropriately used, and an exposure light source corresponding thereto is used for image exposure.

【0015】また、赤、緑、青の各光重合性層において
も、各色のパターンマスクを介した露光やその他の方法
により、前記ブラックマトリックスパターン間に、赤、
緑、青の画素画像パターンを形成させるため、ブラック
マトリックスパターンの場合と同様、光重合開始系とし
ては、紫外から可視に感度を有する化合物、好ましくは
450nm以下、より好ましくは400nm以下の波長
に分光感度を有する化合物を使用する。
In each of the red, green, and blue photopolymerizable layers, red, green, and blue photopolymerizable layers are also exposed to light through a pattern mask of each color or by other methods, so that red, green, and blue are interposed between the black matrix patterns.
In order to form green and blue pixel image patterns, as in the case of the black matrix pattern, the photopolymerization initiation system is a compound having sensitivity from ultraviolet to visible light, preferably 450 nm or less, more preferably 400 nm or less. Use compounds with sensitivity.

【0016】上記の波長の紫外光を吸収してラジカルを
発生する光重合開始系としては、例えば「ファインケミ
カル」(1991年、3月1日号、vol.20、N
o.4)の第16〜26頁に記載のジアルキルアセトフ
ェノン系、ベンゾイン、チオキサントン誘導体などの
他、特開昭58−403023号公報、特公昭45−3
7377号公報に記載のヘキサアリールビイミダゾール
系、S−トリハロメチルトリアジン系、特開平4−22
1958号、特開平4−219756号公報に記載のチ
タノセンとキサンテン色素、アミノ基またはウレタン基
を有する付加重合可能なエチレン性飽和二重結合含有化
合物を組合せた系などが挙げられる。
As a photopolymerization initiation system which absorbs ultraviolet light having the above-mentioned wavelength and generates radicals, for example, "Fine Chemical" (March 1, 1991, vol. 20, N.K.)
o. 4), pages 16 to 26, dialkylacetophenones, benzoin, thioxanthone derivatives and the like, JP-A-58-403023, and JP-B-45-3.
No. 7377, hexaarylbiimidazole type, S-trihalomethyltriazine type, JP-A-4-22
1958 and JP-A-4-219756, a system in which a titanocene is combined with a xanthene dye, an addition-polymerizable ethylenically saturated double bond-containing compound having an amino group or a urethane group, and the like.

【0017】エチレン系化合物としては、単量体または
側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する
重合体の何れでもよい。具体的には、脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル(例えば、
エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等のエチレン性化合物)又はアクリル酸エ
ステル若しくはメタクリル酸エステルの単量体などが好
適に使用される。
The ethylene compound may be any of a monomer and a polymer having an ethylenically unsaturated double bond in a side chain or a main chain. Specifically, an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid (for example,
Ethylenic compounds such as ethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate) or monomers of acrylate or methacrylate are preferably used.

【0018】光重合性組成物の結合剤として使用される
有機高分子物質としては、メチル(メタ)アクリル酸、
ベンジル(メタ)アクリル酸などの(メタ)アクリル酸
のアルキルエステル、酢酸ビニル、アクリロニトリル等
から成る重合体が挙げられるが、塗膜の強度、耐久性、
基板接着性の観点から、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ベンジル(メタ)アクリレート等のフェニル基を有
する共重合モノマーが含有された共重合体または当該共
重合体に1〜50モル%のエポキシ(メタ)アクリレー
トが付加された反応物が好適に使用される。
The organic polymer substance used as a binder of the photopolymerizable composition includes methyl (meth) acrylic acid,
Examples include polymers composed of alkyl esters of (meth) acrylic acid such as benzyl (meth) acrylic acid, vinyl acetate, and acrylonitrile.
From the viewpoint of substrate adhesion, a copolymer containing a copolymerizable monomer having a phenyl group such as styrene, α-methylstyrene, or benzyl (meth) acrylate, or 1 to 50 mol% of epoxy (meth) ) Acrylate-added reactants are preferably used.

【0019】上記の各成分の配合量は次の通りである。
すなわち、色材料以外の光重合性組成物の固形分全量に
対し、光重合性開始系は、通常0.1〜40重量%、好
ましくは0.2〜30重量%、エチレン性化合物は、通
常20〜90重量%、好ましくは30〜80重量%、有
機高分子物質は、通常10〜80重量%、好ましくは2
0〜60重量%とされる。また、本発明においては、光
重合性組成物中に上記と同様の基準で0.1〜10重量
%のシランカップリング剤を配合してもよい。
The amounts of the above components are as follows.
That is, the photopolymerizable starting system is usually 0.1 to 40% by weight, preferably 0.2 to 30% by weight, and the ethylenic compound is usually 20 to 90% by weight, preferably 30 to 80% by weight, and the organic polymer substance is usually 10 to 80% by weight, preferably 2 to 80% by weight.
0 to 60% by weight. In the present invention, the photopolymerizable composition may contain 0.1 to 10% by weight of a silane coupling agent on the same basis as described above.

【0020】上記の光重合性組成物は、適当な溶剤によ
って調液された塗布液として使用される。溶剤として
は、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエ
ン、メタノール、ブタノール、テトラハイドロフラン等
が挙げられる。
The above photopolymerizable composition is used as a coating solution prepared with a suitable solvent. As the solvent, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone,
Examples include methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, toluene, methanol, butanol, tetrahydrofuran and the like.

【0021】なお、赤、緑、青の画素画像パターンの形
成においては、光重合性層の露光の際、酸素による光重
合性層の感度低下を防止するため、光重合性層の上にポ
リビニルアルコール層などの酸素遮断層を塗布する場合
がある。酸素遮断層を設けない場合は、光重合性組成物
の成分として、前記の芳香族水素基を有するモノマーを
共重合成分として通常5〜50モル%(好ましくは10
〜30モル%)の割合で含有する有機高分子物質を使用
したり、光重合性組成物中に、特開平4−218048
号公報、特開平5−19453号公報などに記載のジア
ゾ化合物を1〜20重量%(好ましくは2〜10重量
%)含有させるのが好ましい。これにより、酸素による
感度低下を抑えることが出来、酸素遮断層を不要とする
ことが出来る。
In the formation of the red, green and blue pixel image patterns, in order to prevent a decrease in sensitivity of the photopolymerizable layer due to oxygen during the exposure of the photopolymerizable layer, a polyvinyl film is formed on the photopolymerizable layer. An oxygen barrier layer such as an alcohol layer may be applied. When the oxygen barrier layer is not provided, the monomer having an aromatic hydrogen group is usually used as a copolymerizable component of the photopolymerizable composition in an amount of 5 to 50 mol% (preferably 10 to 50 mol%).
To 30 mol%), or the use of an organic polymer substance in the photopolymerizable composition.
It is preferable that the diazo compound described in JP-A-5-195453 and JP-A-5-19453 is contained in an amount of 1 to 20% by weight (preferably 2 to 10% by weight). As a result, a decrease in sensitivity due to oxygen can be suppressed, and an oxygen blocking layer can be eliminated.

【0022】ブラックマトリックスの形成においては、
黒色材料が分散された光重合性組成物(塗布液)をガラ
ス基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像およ
び熱硬化の各処理を行う。そして、本発明の好ましい実
施態様においては、加熱乾燥処理に先立ち予備乾燥を行
って塗布膜中の溶剤の大部分を除去する。
In the formation of the black matrix,
After the photopolymerizable composition (coating liquid) in which the black material is dispersed is applied on a glass substrate, each of heating, drying, image exposure, development, and heat curing is performed. Then, in a preferred embodiment of the present invention, most of the solvent in the coating film is removed by performing preliminary drying prior to the heat drying treatment.

【0023】塗布装置としては、スピナー、ワイヤーバ
ー、フローコーター、ダイコーター、ロールコーター、
スプレー等が使用される。予備乾燥の条件は、溶剤の種
類によって適宜選択されるが、通常40〜80℃で15
秒から5分間、好ましくは50〜70℃の温度で30秒
から3分間とされる。
As the coating device, a spinner, a wire bar, a flow coater, a die coater, a roll coater,
A spray or the like is used. Pre-drying conditions are appropriately selected depending on the type of the solvent.
The duration is from 2 seconds to 5 minutes, preferably from 30 seconds to 3 minutes at a temperature of 50-70 ° C.

【0024】加熱乾燥の条件は、予備乾燥温度より高く
且つ50〜160℃の温度で15秒から10分間とする
のが好ましく、70〜130℃の温度で15秒〜30秒
から5分間とするのが特に好ましい。なお、乾燥後の光
重合性層(乾燥塗膜)の厚さは、通常0.5〜3μm、
好ましくは1〜2μmの範囲とされる。
The heating and drying conditions are preferably higher than the preliminary drying temperature and at a temperature of 50 to 160 ° C. for 15 seconds to 10 minutes, and at a temperature of 70 to 130 ° C. for 15 seconds to 30 seconds to 5 minutes. Is particularly preferred. In addition, the thickness of the photopolymerizable layer (dried coating film) after drying is usually 0.5 to 3 μm,
Preferably, it is in the range of 1-2 μm.

【0025】画像露光は、黒色の光重合性層上にネガの
マトリックスパターンを導き、当該マスクパターンを介
し、紫外または可視の光源を照射して行う。この際、必
要に応じ、酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐた
め、光重合性層上にポリビニルアルコール層などの酸素
遮断層を形成した後に露光を行ってもよい。
The image exposure is performed by introducing a negative matrix pattern on the black photopolymerizable layer and irradiating an ultraviolet or visible light source through the mask pattern. At this time, if necessary, in order to prevent a decrease in sensitivity of the photopolymerizable layer due to oxygen, exposure may be performed after forming an oxygen barrier layer such as a polyvinyl alcohol layer on the photopolymerizable layer.

【0026】現像は、アルカリ現像液を使用し、浸漬現
像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法
により行われる。これにより、ガラス基板上にブラック
マトリックスパターンが形成される。アルカリ現像液と
しては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸
ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等の無機アルカリ剤、または、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、水酸化テトラアルキルア
ンモニウム塩などの有機アルカリ剤を含有し、必要に応
じ、画質向上、現像時間の短縮などの目的により、界面
活性剤、水溶性有機溶剤、水酸基またはカルボン酸基を
有する低分子化合物などを含有する水溶液を使用するこ
とが出来る。
The development is carried out using an alkaline developer by a method such as immersion development, spray development, brush development, or ultrasonic development. Thereby, a black matrix pattern is formed on the glass substrate. Examples of the alkali developer include inorganic alkali agents such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, and potassium hydroxide; and organic solvents such as diethanolamine, triethanolamine, and tetraalkylammonium hydroxide salts. Use an aqueous solution containing an alkali agent and, if necessary, a surfactant, a water-soluble organic solvent, a low molecular compound having a hydroxyl group or a carboxylic acid group, etc. for the purpose of improving image quality and shortening the development time. Can be done.

【0027】界面活性剤としては、ナフタレンスルホン
酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウム基を有
するアニオン界面活性剤、ポリアルキレンオキシ基を有
するノニオン界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム
基を有するカチオン界面活性剤などが挙げられる。水溶
性有機溶剤としては、エタノール、プロピオンアルコー
ル、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
水酸基またはカルボキシ基を有する低分子化合物として
は、1−ナフトール、2−ナフトール、ピロガロール、
安息香酸、コハク酸、グルタル酸などが挙げられる。
Examples of the surfactant include sodium naphthalenesulfonate group, anionic surfactant having a sodium benzenesulfonate group, nonionic surfactant having a polyalkyleneoxy group, and cationic surfactant having a tetraalkylammonium group. No. Examples of the water-soluble organic solvent include ethanol, propion alcohol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, ethylene glycol, propylene glycol, and propylene glycol monomethyl ether.
Examples of the low molecular weight compound having a hydroxyl group or a carboxy group include 1-naphthol, 2-naphthol, pyrogallol,
Benzoic acid, succinic acid, glutaric acid and the like can be mentioned.

【0028】現像条件としての温度は、通常20〜40
℃の範囲から選択される。熱硬化処理の条件は、通常1
00〜280℃で5〜60分間とされる。これにより、
ブラックマトリックス画像の形成を終了する。
The temperature as a developing condition is usually from 20 to 40.
It is selected from the range of ° C. The conditions for the heat curing treatment are usually 1
It is 5 to 60 minutes at 00 to 280 ° C. This allows
The formation of the black matrix image ends.

【0029】赤、緑、青の画素画像パターンの形成にお
いては、赤、緑、青の材料が各々分散された各光重合性
組成物を使用し、上記の方法で得られたブラックマトリ
ックス形成面に、塗布、加熱乾燥、画像露光、現像およ
び熱硬化の各処理を行って各色の画素画像を形成する。
In forming the red, green, and blue pixel image patterns, the black matrix forming surface obtained by the above method is used by using each photopolymerizable composition in which red, green, and blue materials are dispersed. Then, the respective processes of coating, heating and drying, image exposure, development, and thermosetting are performed to form a pixel image of each color.

【0030】すなわち、ガラス基板のブラックマトリッ
クス形成面に、赤、緑、青の中の1色を含有する光重合
性組成物を全面に塗布した後、ブラックマトリックス形
成の場合と同様に、予備乾燥後、加熱乾燥処理すること
により、光重合性層を形成させる。その後、画素画像パ
ターンマスクを介して露光処理を行い、アルカリ現像お
よび熱硬化処理を行い、ブラックマトリックス画像の間
に1色目の画素画像を形成させる。以下、同様に操作す
ることにより、ブラックマトリックス画像間に2色目お
よび3色目の画素画像を順次に形成する。
That is, after the photopolymerizable composition containing one of red, green and blue is applied to the entire surface of the glass substrate on which the black matrix is formed, pre-drying is performed in the same manner as in the case of forming the black matrix. Thereafter, a heat-drying treatment is performed to form a photopolymerizable layer. After that, an exposure process is performed through a pixel image pattern mask, an alkali development and a thermosetting process are performed, and a first color pixel image is formed between black matrix images. Hereinafter, by performing the same operation, the pixel images of the second color and the third color are sequentially formed between the black matrix images.

【0031】上記の画像露光に使用される光源として
は、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンラ
ンプ、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀
灯、低圧水銀灯などのランプ光源、アルゴンイオンレー
ザー、YAGレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザ
ー等のレーザー光源が挙げられる。これらの光源には、
必要とされる照射光の波長領域に応じ、光学フィルター
を適宜使用することも出来る。
Light sources used for the above image exposure include lamp light sources such as xenon lamps, halogen lamps, tungsten lamps, high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, medium-pressure mercury lamps, low-pressure mercury lamps, argon ion lasers, YAG lasers, and excimer lasers. And a laser light source such as a nitrogen laser. These light sources include:
An optical filter can be used as appropriate according to the required wavelength range of the irradiation light.

【0032】ガラス基板上に黒、赤、緑、青の画素画像
を形成させて作製されたカラーフィルターは、このまま
の状態で画像上にITO(透明電極)を形成してカラー
ディスプレーの部品の一部として使用されるが、表面平
滑性や耐久性を高めるため、必要に応じ、画像上にポリ
アミド、ポリイミド等のトップコート層を設けることも
出来る。
A color filter produced by forming black, red, green, and blue pixel images on a glass substrate forms an ITO (transparent electrode) on the image in this state, and forms one of the components of a color display. Although it is used as a part, a top coat layer of polyamide, polyimide, or the like can be provided on the image as needed to enhance surface smoothness and durability.

【0033】本発明の特徴は、上記の様なカラーフィル
ターの製造方法において、ガラス基板として5μm以上
のガラスカレットが除去されたガラス基板を使用する点
に存する。除去すべきガラカカレットの大きさは、好ま
しくは4μm以上、更に好ましくは3μm以上である。
この様なガラスカレットの除去は必ずしも容易ではな
く、アルカリ性洗浄液中でブラシ洗浄および超音波洗浄
することによって達成することが出来、これらの洗浄の
単独処理では達成することが出来ない。
A feature of the present invention resides in that, in the above-described method for producing a color filter, a glass substrate from which a glass cullet of 5 μm or more has been removed is used. The size of the glass cullet to be removed is preferably 4 μm or more, more preferably 3 μm or more.
Such removal of the glass cullet is not always easy, and can be achieved by brush cleaning and ultrasonic cleaning in an alkaline cleaning liquid, and cannot be achieved by a single treatment of these cleanings.

【0034】アルカリ性洗浄液の調製にはNaOH又は
KOHが好適に使用される。アルカリ性洗浄液のpH
は、特に制限されないが、13以上にするのが好まし
い。アルカリ性洗浄液の温度(洗浄液温度)は、通常3
0℃以上、好ましくは40℃以上である。ブラシ洗浄と
超音波洗浄とは、同時に又は前後して行うことが出来
る。
NaOH or KOH is preferably used for preparing the alkaline cleaning solution. PH of alkaline cleaning solution
Is not particularly limited, but is preferably 13 or more. The temperature of the alkaline cleaning liquid (cleaning liquid temperature) is usually 3
The temperature is 0 ° C or higher, preferably 40 ° C or higher. Brush cleaning and ultrasonic cleaning can be performed simultaneously or before and after.

【0035】ブラシ洗浄とは、円筒体の周面に多数本の
合成繊維が植設された回転ブラシによる摺接洗浄方式で
あり、回転ブラシは、通常、通過するガラス基板を挟み
込む様に対向して配置された2個を一組として、シャワ
ー洗浄装置内または浸漬槽内に配置される。回転ブラシ
の合成繊維としては、例えば、ナイロン、ナイロン6、
ナイロン6,6等が使用され、合成繊維は、通常100
〜1,000本/cm2の密度でスパイラル状などの任
意のパターンで植設される。
The brush cleaning is a cleaning method in which a large number of synthetic fibers are implanted on a peripheral surface of a cylindrical body by a sliding brush. The rotating brushes usually face each other so as to sandwich a passing glass substrate. Are arranged as a set in a shower cleaning device or an immersion tank. As synthetic fibers of the rotating brush, for example, nylon, nylon 6,
Nylon 6, 6, etc. are used, and synthetic fibers are usually 100
It is planted in an arbitrary pattern such as a spiral shape at a density of 1,1,000 / cm 2 .

【0036】回転ブラシの回転数は、通常100〜50
0rpmであり、その押し付け量は、通常0.5〜3m
mである。ここに、回転ブラシの押し付け量とは、合成
繊維の先端が撓むことなく丁度ガラス基板に接触した際
の押し付け量を0とし、その位置から回転ブラシをガラ
ス基板に近づけた際の長さ(mm)を言う。
The rotating speed of the rotating brush is usually 100 to 50.
0 rpm, and the pressing amount is usually 0.5 to 3 m
m. Here, the pressing amount of the rotating brush means the pressing amount when the tip of the synthetic fiber just touches the glass substrate without bending, and the length when the rotating brush is brought closer to the glass substrate from that position ( mm).

【0037】超音波洗浄とは、超音波振動子による超音
波を利用した洗浄方式であり、超音波振動子は、シャワ
ー洗浄装置とガラス基板との間または浸漬槽内に配置さ
れる。超音波の範囲は、通常10〜100KHz、好ま
しくは30〜80KHzである。
The ultrasonic cleaning is a cleaning method using ultrasonic waves by an ultrasonic vibrator, and the ultrasonic vibrator is disposed between a shower cleaning device and a glass substrate or in an immersion tank. The range of the ultrasonic wave is usually 10 to 100 KHz, preferably 30 to 80 KHz.

【0038】上記の超音波洗浄とブラシ洗浄における洗
浄時間は、流体接触量によって表現した場合、通常5m
l/cm2以上、好ましくは10ml/cm2以上であ
る。ここに、流体接触量とは、上記の各洗浄をシャワー
方式で行った場合、ガラス基板1枚にかかった流体の量
を当該支持体の面積で割った量と定義され、また、浸漬
方式で行った場合、浸漬槽に入っている流体量を当該流
体にて洗浄したガラス基板の枚数および面積で割った量
と定義される。
The cleaning time in the ultrasonic cleaning and the brush cleaning described above is usually 5 m when expressed by the amount of fluid contact.
It is 1 / cm 2 or more, preferably 10 ml / cm 2 or more. Here, the fluid contact amount is defined as an amount obtained by dividing the amount of fluid applied to one glass substrate by the area of the support when each of the above-described cleanings is performed by a shower method. When performed, it is defined as the amount obtained by dividing the amount of fluid in the immersion tank by the number and area of glass substrates washed with the fluid.

【0039】本発明においては、上記のブラシ洗浄およ
び超音波洗浄の後、すすぎ洗浄処理を行う。すすぎ用流
体としては、アルカリに対する溶解力の高い液体が好適
である。通常、水が使用され、30℃以上に加温した水
が好適である。すすぎ洗浄処理には、シャワーすすぎ、
流水すすぎ、浸漬すすぎ等が好適に採用される。すすぎ
洗浄処理における流体接触量は、上記と同様の範囲から
選択される。
In the present invention, after the above-described brush cleaning and ultrasonic cleaning, a rinsing cleaning process is performed. As the rinsing fluid, a liquid having a high dissolving power for alkali is preferable. Usually, water is used, and water heated to 30 ° C. or higher is preferable. Shower rinsing,
Running water rinsing, immersion rinsing and the like are preferably employed. The fluid contact amount in the rinsing process is selected from the same range as described above.

【0040】本発明においては、アルカリ性洗浄および
すすぎ洗浄の何れの洗浄処理においても含有異物を除去
した洗浄液を使用するが、好ましくは、0.2μm以上
のパーティクルの個数が10個/ml以下、より好まし
くは5個/ml以下の洗浄液を使用する。また、本発明
において、上記の各洗浄処理は、移送手段によって透明
支持体を1枚毎洗浄エリアへ導入して順次に移送しなが
ら行うのが好ましい。
In the present invention, a cleaning liquid from which contained foreign matter is removed is used in both of the alkaline cleaning and the rinsing. Preferably, the number of particles having a particle size of 0.2 μm or more is 10 particles / ml or less. Preferably, a washing solution of 5 / ml or less is used. Further, in the present invention, it is preferable that each of the above-mentioned cleaning treatments is performed while the transparent support is introduced one by one into the cleaning area by the transfer means and sequentially transferred.

【0041】[0041]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。なお、以下の実施例およ
び比較例においては、表1に示す次の(1)〜(4)の
各成分と表2に示す色材料を使用した。そして、各色材
料を含有する各光重合性塗布液は、次の表3に記載の配
合量を採用し、全量に対して3.6重量倍のジルコニア
ビーズ(直径0.5mm)を収容したペイントシェーカ
ーを使用して7時間分散処理を行って調製した。また、
以下の実施例および比較例において採用した測定方法
は、次の通りである。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. In the following Examples and Comparative Examples, the following components (1) to (4) shown in Table 1 and the color materials shown in Table 2 were used. Each photopolymerizable coating solution containing each color material has a blending amount shown in the following Table 3, and a paint containing 3.6 weight times zirconia beads (diameter 0.5 mm) with respect to the total amount. It was prepared by performing a dispersion treatment for 7 hours using a shaker. Also,
The measuring methods adopted in the following examples and comparative examples are as follows.

【0042】(1)ガラスカレット個数:CCDカメラ
により透過光観察し、画像処理を行い、異物を自動識別
し得る検査装置により、表面の異物の位置と個数を特定
した後、全ての異物について光学顕微鏡によるレビュー
を行い、ガラスカレット個数を計測する。
(1) Number of glass cullets: After observing the transmitted light with a CCD camera, performing image processing, and specifying the position and number of foreign substances on the surface by an inspection device capable of automatically identifying foreign substances, optically controlling all foreign substances. Review with a microscope and count the number of glass cullet.

【0043】(2)カラーフィルターの突起欠陥個数:
CCDカメラにより反射光観察し、画像処理を行い、突
起欠陥を自動識別し得る検査装置により、表面の突起欠
陥個数を計測する。
(2) Number of protrusion defects in the color filter:
The reflected light is observed by a CCD camera, image processing is performed, and the number of protrusion defects on the surface is measured by an inspection device that can automatically identify protrusion defects.

【0044】(3)カラーフィルターの歩留り:100
枚のカラーフィルターについて、CCDカメラにより透
過・反射光観察し、画像処理を行い、画素欠陥(白欠
陥:直径100μm、黒欠陥:直径40μm、突起欠
陥:高さ5μm)を自動識別し得る検査装置により、画
素欠陥を計測して歩留りを求める。
(3) Yield of color filter: 100
Inspection device capable of automatically identifying pixel defects (white defect: 100 μm in diameter, black defect: 40 μm in diameter, protrusion defect: 5 μm in height) by observing transmitted / reflected light with a CCD camera for the color filters and performing image processing. , The pixel yield is measured to determine the yield.

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【0046】[0046]

【化1】 (a:b:c:d=55:15:20:10(モル
%)、Mw:12,000)
Embedded image (A: b: c: d = 55: 15: 20: 10 (mol%), Mw: 12,000)

【0047】[0047]

【化2】 Embedded image

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】[0049]

【表3】 [Table 3]

【0050】実施例1 無アルカリガラス基板(旭硝子(株)製「AN−63
5」400×500×0.7mmt)を表4に記載の条
件でブラシ洗浄および超音波洗浄した後に、すすぎ洗浄
によりアルカリ成分の除去を行い、エアナイフ乾燥後、
200℃にて10分間熱風乾燥を行った。
Example 1 Alkali-free glass substrate (“AN-63” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
5) 400 × 500 × 0.7 mmt) was subjected to brush cleaning and ultrasonic cleaning under the conditions shown in Table 4, followed by rinsing to remove alkali components, followed by air knife drying.
Hot air drying was performed at 200 ° C. for 10 minutes.

【0051】上記のブラシ洗浄には、シャワー洗浄装置
の下方のガラス基板搬送路に当該基板を挟み込む様に回
転ブラシが対向配置された装置を使用した。回転ブラシ
としては、45mmφの円筒体の周面に0.1mmφ×
15mmのナイロン6,6が密度700本/cm2でス
パイラル状に植設された回転ブラシを使用した。回転数
は300rpm、回転ブラシの押し付け量は1.2mm
とした。上記の超音波洗浄には、浸漬槽内に周波数50
Hzの超音波振動子が配置された装置を使用した。
For the above-described brush cleaning, an apparatus was used in which a rotating brush was arranged so as to face the glass substrate transport path below the shower cleaning apparatus so as to sandwich the substrate. As the rotating brush, 0.1mmφ ×
A rotating brush in which 15 mm nylon 6,6 was implanted in a spiral at a density of 700 / cm 2 was used. The number of rotations is 300 rpm and the pressing amount of the rotating brush is 1.2 mm
And For the above ultrasonic cleaning, a frequency of 50
A device in which an ultrasonic vibrator of Hz was arranged was used.

【0052】上記のすすぎ洗浄には、水を使用したシャ
ワー洗浄装置を使用した。そして、何れの洗浄において
も、洗浄温度は40℃とし、流体接触量は20ml/c
2とした。洗浄処理後のガラス基板について100枚
当たりの残留ガラスカレット(≧5μmφ)の個数を求
め、表4に示した。なお、斯かる残留ガラスカレットの
個数が製造されるカラーフィルターの後述する突起欠陥
個数に対応していることは別途の試験により確認した。
For the above rinsing, a shower cleaning device using water was used. In any of the washings, the washing temperature was 40 ° C., and the fluid contact amount was 20 ml / c.
It was m 2. The number of residual glass cullets (≧ 5 μmφ) per 100 glass substrates after the cleaning treatment was determined, and the results are shown in Table 4. In addition, it was confirmed by a separate test that the number of such residual glass cullets corresponds to the number of protrusion defects described later of the color filter to be manufactured.

【0053】次いで、上記のガラス基板に乾燥膜厚が
0.7μmになる様に黒の光重合性塗布液をスピンコー
ターで塗布した。その後、60℃で1分間乾燥した後、
110℃で2分間加熱乾燥した。その後、光重合性層上
に、乾燥膜厚が1.5μmになる様にポリビニルアルコ
ール水溶液を塗布した後に乾燥して酸素遮断層を形成し
た。
Next, a black photopolymerizable coating solution was applied to the above glass substrate by a spin coater so that the dry film thickness became 0.7 μm. Then, after drying at 60 ° C for 1 minute,
It was dried by heating at 110 ° C. for 2 minutes. Thereafter, an aqueous solution of polyvinyl alcohol was applied on the photopolymerizable layer so as to have a dry film thickness of 1.5 μm, and then dried to form an oxygen barrier layer.

【0054】次いで、幅30μm、縦330μm、横1
10μmのピッチで繰り返すブラックマトリックス用ネ
ガフォトマスクを使用し、2kW高圧水銀灯により、3
00mJ/cm2の露光量で露光処理を行った。その
後、現像処理として、ポリエチレンオキシ−β−ナフチ
ルエーテル(日本乳化剤社製「Newcol B−1
0」)2重量%と炭酸カリウム0.5重量%が配合され
た水溶液より成る現像液中に25℃で30秒間浸漬処理
した後、3kg/cm2の水圧で30秒間スプレー水洗
処理を行ってブラックマトリックスを形成した。その
後、200℃、7分間の熱硬化処理を行った。
Next, a width of 30 μm, a length of 330 μm, and a width of 1
Using a negative photomask for a black matrix that is repeated at a pitch of 10 μm,
The exposure processing was performed at an exposure amount of 00 mJ / cm 2 . Then, as a development process, polyethyleneoxy-β-naphthyl ether (“Newcol B-1” manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.)
0 "), immersed in a developer consisting of an aqueous solution containing 2% by weight of potassium carbonate and 0.5% by weight of potassium carbonate at 25 ° C. for 30 seconds, and then spray-washed at a water pressure of 3 kg / cm 2 for 30 seconds. A black matrix was formed. Thereafter, a thermosetting treatment was performed at 200 ° C. for 7 minutes.

【0055】次いで、赤、緑、青の各色材を含有する各
光重合性塗布液を順次に使用し、上記と同様に、塗布、
予備乾燥、加熱乾燥、露光、現像、水洗、熱硬化の各処
理を行って各色のパターンを形成し、カラーフィルター
を製造した。ただし、露光量は各色共に500mJ/c
2とした。得られたカラーフィルターの突起欠陥個数
および歩留りを測定し、その結果を表4に示した。
Next, each photopolymerizable coating solution containing each of the red, green, and blue coloring materials was used sequentially, and the coating,
Each process of preliminary drying, heating drying, exposure, development, washing with water, and heat curing was performed to form a pattern of each color, and a color filter was manufactured. However, the exposure amount is 500 mJ / c for each color.
It was m 2. The number of protrusion defects and the yield of the obtained color filter were measured, and the results are shown in Table 4.

【0056】実施例2〜4及び比較例1〜4 実施例1において、表4に示す様にガラス基板の洗浄条
件を変更した以外は、実施例1と同様に操作してカラー
フィルターを製造した。なお、比較例2中の洗浄液「N
CW−601A」は、市販の界面活性剤含有洗浄液(和
光純薬社製)を表す。
Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 A color filter was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the cleaning conditions for the glass substrate were changed as shown in Table 4. . The cleaning liquid “N” in Comparative Example 2 was used.
"CW-601A" represents a commercially available detergent-containing cleaning solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).

【0057】[0057]

【表4】 [Table 4]

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、ガラス基
板に付着したガラスカレットを除去し、コモンショート
を惹起することのないカラーフィルターを高収率で製造
することが出来、その工業的価値は大きい。
According to the present invention described above, the glass cullet adhered to the glass substrate is removed, and a color filter which does not cause a common short can be manufactured in high yield. Is big.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス基板上にブラックマトリックス
と、赤、緑、青の各色の画素画像を形成するカラーフィ
ルターの製造方法において、ガラス基板として5μm以
上のガラスカレットが除去されたガラス基板を使用する
ことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
In a method of manufacturing a color filter for forming a black matrix and pixel images of red, green and blue on a glass substrate, a glass substrate from which a glass cullet of 5 μm or more has been removed is used as the glass substrate. A method for producing a color filter, comprising:
【請求項2】 黒色材料が分散された光重合性組成物を
ガラス基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像
および熱硬化の各処理を行ってブラックマトリックスを
形成し、次いで、赤、緑、青の材料が各々分散された光
重合性組成物を使用し、上記のブラックマトリックス形
成面に、塗布、加熱乾燥、画像露光および熱硬化の各処
理を行って赤、緑、青の各色の画素画像を形成する請求
項1に記載の製造方法。
2. After applying a photopolymerizable composition in which a black material is dispersed on a glass substrate, heat drying, image exposure, development, and heat curing are performed to form a black matrix. Using a photopolymerizable composition in which green and blue materials are each dispersed, the above black matrix forming surface is coated, heated and dried, and subjected to image exposure and heat curing to obtain red, green and blue. 2. The method according to claim 1, wherein pixel images of each color are formed.
【請求項3】 アルカリ性洗浄液中でブラシ洗浄および
超音波洗浄されたガラス基板を使用する請求1又は2に
記載の製造方法。
3. The production method according to claim 1, wherein a glass substrate which has been subjected to brush cleaning and ultrasonic cleaning in an alkaline cleaning liquid is used.
【請求項4】 アルカリ性洗浄液のpHが13以上であ
る請求項3に記載の製造方法。
4. The production method according to claim 3, wherein the pH of the alkaline cleaning liquid is 13 or more.
【請求項5】 NaOH又はKOHを含有するアルカリ
性洗浄液を使用する請求項3又は4に記載の製造方法。
5. The method according to claim 3, wherein an alkaline cleaning solution containing NaOH or KOH is used.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7129006B2 (en) * 1999-07-30 2006-10-31 Research Investment Network, Inc. Optical data storage system and method

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