JPH10237687A - Stripe plating method for long-sized metallic bar - Google Patents
Stripe plating method for long-sized metallic barInfo
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- JPH10237687A JPH10237687A JP5696397A JP5696397A JPH10237687A JP H10237687 A JPH10237687 A JP H10237687A JP 5696397 A JP5696397 A JP 5696397A JP 5696397 A JP5696397 A JP 5696397A JP H10237687 A JPH10237687 A JP H10237687A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電気機器用接続部
品であるコネクタなどの各種端子、ICリードフレーム
などのリード材などに用いられる長尺の金属条に金、半
田などのストライプめっきを施すためのめっき方法に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to long metal strips used for various terminals, such as connectors, which are connection parts for electrical equipment, and lead materials, such as IC lead frames, which are plated with gold, solder, or the like. And a plating method.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、電気機器用接続部品であるコネク
タなどの各種端子或はICリードフレームなどのリード
材などを製造するためには、例えば黄銅、バネ用りん青
銅のような銅合金などからなる長尺の金属条を用い、こ
の長尺金属条をプレス成形加工し、雄及び雌の連続端子
が形成される。2. Description of the Related Art Conventionally, in order to manufacture various terminals such as connectors, which are connection parts for electric equipment, or lead materials such as IC lead frames, copper alloys such as brass and phosphor bronze for springs are used. The long metal strip is press-formed to form continuous male and female terminals.
【0003】つまり、図2に、電気機器用接続部品であ
るコネクタなどの各種端子を製造するための長尺金属条
1の一例を示すが、プレス成形加工後の長尺金属条1
は、長手方向に連続したキヤリヤ部2を有し、このキャ
リヤ部2に所定の間隔(G)にて端子3が互に離間して
接続された形状とされる。このようなプレス成形された
長尺金属条1は、キヤリヤ部2が駆動装置に係合駆動さ
れることにより、連続してめっき設備へと供給される。
長尺金属条1にNi或はPd−Niなどにて下地めっき
(単に「下地Niめっき」という。)をした後、この長
尺金属条の長手方向にストライプ状に、即ち、端子先端
部、即ち、接点部4には長さLA 領域に金或は金−コバ
ルト合金などのめっき(単に「金めっき」という。)
が、又、端子3のキヤリヤ部側、即ち、接続部5にはキ
ヤリヤ部2をも含めて長さLS 領域に半田めっきが施さ
れる。FIG. 2 shows an example of a long metal strip 1 for manufacturing various terminals such as a connector which is a connection part for an electric device.
Has a carrier portion 2 which is continuous in the longitudinal direction, and terminals 3 are connected to the carrier portion 2 at a predetermined interval (G) so as to be separated from each other. Such a long metal strip 1 formed by press forming is continuously supplied to the plating equipment by the carrier unit 2 being driven by engagement with a driving device.
After plating the long metal strip 1 with Ni or Pd-Ni or the like (hereinafter, simply referred to as “base Ni plating”), the long metal strip 1 is striped in the longitudinal direction, that is, the terminal tip, that is, the length L a region in the contact portion 4 gold or gold - plating, such as cobalt alloy (simply referred to as "gold-plating".)
However, solder plating is applied to the carrier portion side of the terminal 3, that is, the connection portion 5 in the region of the length L S including the carrier portion 2.
【0004】このようなストライプ状めっき方法につい
て簡単に説明すると、図2に示すような端子3がプレス
成形された長尺金属条1は、先ず、Niめっき槽にて下
地Niめっきが施される。長尺金属条1は、水洗処理
後、キヤリヤ部2を上方に位置して搬送され、金めっき
槽にて長尺金属条1の接点部4が金めっきされる。次い
で、水洗処理後、長尺金属条1を、キャリヤ部2が下方
に位置するように反転して、半田めっき槽へと搬送して
接続部5及びキヤリヤ部2に半田めっきが施される。半
田めっき後は、水洗処理などをした後、封孔処理が行な
われる。封孔処理は、金めっき厚を薄くした場合に被膜
層に生じたピンホールを密封するための処理であって、
封孔処理には、各種の有機系或は無機系の薬品が使用さ
れる。[0004] A brief description of such a striped plating method is as follows. The long metal strip 1 on which the terminals 3 are press-formed as shown in FIG. 2 is first subjected to a base Ni plating in a Ni plating tank. . After the washing process, the long metal strip 1 is conveyed with the carrier portion 2 positioned upward, and the contact portion 4 of the long metal strip 1 is gold-plated in a gold plating tank. Next, after the water washing process, the long metal strip 1 is inverted so that the carrier part 2 is located below, and is conveyed to a solder plating tank, and the connection part 5 and the carrier part 2 are subjected to solder plating. After the solder plating, a sealing process is performed after performing a water washing process or the like. The sealing treatment is a treatment for sealing a pinhole generated in the coating layer when the gold plating thickness is reduced,
Various organic or inorganic chemicals are used for the sealing treatment.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記め
っき方法について多くの研究実験を行なった結果、図2
に示すように、半田めっき領域(LS )は、金めっき領
域(LA )からLG だけ離間して設定されているにもか
かわらず、半田めっきが金めっき領域にも付着してしま
い、品質の点で問題があることが分かった。The present inventors have conducted many research experiments on the above plating method, and as a result, FIG.
As shown in, solder plating area (L S), despite the gold plated region (L A) is set spaced apart by L G, will solder plating adheres to the gold-plated region, It turned out that there was a problem in quality.
【0006】本発明者らは、この問題を解決するべくそ
の原因を調べたところ、長尺金属条1に成形された端子
3と端子3との間の間隔(G)が、例えば0.3mm以
下といった極めて狭いものとされていることから、半田
めっきを行なう際に毛細管現象により、半田めっき液が
端子3と端子3との隙間(G)を通って上昇し、金めっ
き領域(LA )にも半田めっきが行なわれるからである
ことが分かった。The present inventors have investigated the cause to solve this problem, and found that the distance (G) between the terminals 3 formed on the long metal strip 1 is, for example, 0.3 mm. because it is an extremely narrow such hereinafter, by capillary action when performing solder plating, solder plating solution rises through the gap (G) between the terminals 3 and 3, the gold-plated region (L a) This is because solder plating is also performed.
【0007】従って、本発明の目的は、半田めっき工程
にて毛細管現象による半田めっき液の上昇を防止するこ
とによって金めっき領域に半田が付着するのを防止し、
長尺金属条に金、半田などのストライプめっきを高精度
且つ高品質にて行なうことのできる長尺金属条ストライ
プめっき方法を提供することである。Therefore, an object of the present invention is to prevent the solder from adhering to the gold plating area by preventing the solder plating solution from rising due to the capillary phenomenon in the solder plating step.
An object of the present invention is to provide a long metal strip plating method capable of performing high-precision and high-quality strip plating of gold, solder, or the like on a long metal strip.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的は本発明に係る
長尺金属条ストライプめっき方法にて達成される。要約
すれば、本発明は、所定形状に成形された長尺の金属条
を連続的に供給して、この金属条に下地Niめっきを
し、その後、金属条の長手方向にストライプ状の金めっ
き及び半田めっきを行なう長尺金属条ストライプめっき
方法において、前記金めっき処理後、金属条の金めっき
領域を覆って毛細管現象防止処理液を塗布し、その後
に、前記半田めっきを行なうことを特徴とする長尺金属
条ストライプめっき方法である。好ましくは、前記半田
めっき処理後、金属条の少なくとも金めっき領域に封孔
処理を行なう。The above objects can be attained by a long metal strip plating method according to the present invention. In summary, the present invention is to continuously supply a long metal strip formed in a predetermined shape, to perform Ni plating on the metal strip, and then to perform gold plating in a stripe shape in the longitudinal direction of the metal strip. And in the long metal strip stripe plating method of performing solder plating, after the gold plating treatment, applying a capillary phenomenon preventing treatment liquid covering the gold plating area of the metal strip, and thereafter, performing the solder plating. Long metal strip plating method. Preferably, after the solder plating process, at least a gold plating region of the metal strip is subjected to a sealing process.
【0009】本発明の好ましい実施態様によると、前記
毛細管現象防止処理液は、封孔処理液とされる。封孔処
理液は、インヒビターとしてベンゾトリアゾール系化合
物、メルカプトベンゾチアゾール系化合物、トリアジン
系化合物の1種又は2種以上、潤滑剤として脂肪酸を1
種又は2種以上、乳化剤としてモノアルキルりん酸エス
テル、ジアルキルりん酸の1種又は2種以上、を含む水
溶液である。According to a preferred embodiment of the present invention, the capillary action preventing solution is a sealing solution. The sealing treatment liquid contains one or more of a benzotriazole-based compound, a mercaptobenzothiazole-based compound, and a triazine-based compound as an inhibitor, and one or more fatty acids as a lubricant.
It is an aqueous solution containing one or more kinds of monoalkyl phosphates and one or more kinds of dialkyl phosphates as emulsifiers.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る長尺金属条ス
トライプめっき方法を図面に則して更に詳しく説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The long metal strip plating method according to the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
【0011】図1に、本発明の長尺金属条ストライプめ
っき方法を実施するめっき設備の一実施例の概略構成を
示す。本実施例のめっき設備にて、図2に示すような電
気機器用接続部品であるコネクタの端子を製造するため
の長尺金属条1に金めっき及び半田めっきを施すものと
する。FIG. 1 shows a schematic configuration of an embodiment of a plating facility for performing a long metal strip plating method of the present invention. In the plating equipment of the present embodiment, it is assumed that the long metal strip 1 for manufacturing the terminal of the connector, which is a connection part for an electric device as shown in FIG. 2, is subjected to gold plating and solder plating.
【0012】図2に示すコネクタ端子用の金属条1は、
上述したように、例えば厚さ0.2mm、幅(W)25
mmのバネ用りん青銅のような銅合金などからなる長尺
の金属条を用い、この長尺金属条1をプレス成形加工し
て作製されたものである。成形加工された端子金属条1
は、連続したキヤリヤ部2に所定の間隔(G)にて端子
3が接続された形状とされる。本実施例にて、端子3と
端子3との間の間隔(G)は0.3mmとされ、端子3
の長さ(LC )は13mm、端子3の幅(w)は0.6
mmとされた。The metal strip 1 for the connector terminal shown in FIG.
As described above, for example, a thickness of 0.2 mm and a width (W) of 25
A long metal strip made of a copper alloy such as phosphor bronze for springs having a length of 1 mm is used, and the long metal strip 1 is formed by press forming. Molded terminal metal strip 1
Has a shape in which terminals 3 are connected to a continuous carrier portion 2 at a predetermined interval (G). In this embodiment, the distance (G) between the terminals 3 is set to 0.3 mm,
Length (L C) is 13 mm, the width of the terminal 3 (w) is 0.6
mm.
【0013】図1にて、このようなプレス成形された長
尺の端子金属条1は、キヤリヤ部2が駆動装置(図示せ
ず)に係合駆動され、連続してめっき設備へと供給され
る。このとき、端子金属条1は、キヤリヤ部2が上方に
位置するようにして搬送される。本実施例で、端子金属
条1の移送速度は2m/分とされた。In FIG. 1, a long terminal metal strip 1 formed by such press forming is driven by a carrier 2 engaged with a driving device (not shown) and continuously supplied to a plating facility. You. At this time, the terminal metal strip 1 is conveyed so that the carrier part 2 is located above. In this example, the transfer speed of the terminal metal strip 1 was set to 2 m / min.
【0014】先ず、端子金属条1は、Niめっき槽10
にて全体がNi下地めっき処理される。例えばNiめっ
き槽10にて厚さ1.27μmにNi下地めっきされた
端子金属条1は、水洗処理槽(図示せず)により水洗処
理され、キヤリヤ部2を上方に位置したまま搬送され、
金めっき槽20へと搬送される。本実施例にて金めっき
槽20は3槽配置されているが、これに限定されるもの
ではない。各金めっき槽20にて端子金属条1は、端子
先端部、即ち、接点部4が、本実施例では先端から長さ
LA =7.1mmの長さに亙って、例えば厚さ0.5μ
mにて長手方向にストライプ状に金めっきされる。次い
で、端子金属条1は、水洗処理槽(図示せず)により水
洗処理され、毛細管現象防止処理槽30へと搬送され
る。First, the terminal metal strip 1 is placed in a Ni plating tank 10.
Is subjected to a Ni base plating process. For example, the terminal metal strip 1 plated with a Ni undercoat to a thickness of 1.27 μm in a Ni plating tank 10 is subjected to a water-washing treatment in a water-washing treatment tank (not shown), and is conveyed while the carrier unit 2 is positioned upward.
It is transported to the gold plating tank 20. In this embodiment, three gold plating tanks 20 are arranged, but the present invention is not limited to this. In each of the gold plating tanks 20, the terminal metal strip 1 has a terminal tip portion, that is, a contact portion 4, which has a thickness of 0 mm over a length L A = 7.1 mm from the tip in this embodiment. .5μ
At m, gold is plated in a stripe shape in the longitudinal direction. Next, the terminal metal strip 1 is subjected to a water washing treatment in a water washing treatment tank (not shown), and is conveyed to the capillary phenomenon prevention treatment tank 30.
【0015】毛細管現象防止処理槽30の一実施例が図
3に示される。本実施例によると、毛細管現象防止処理
槽30は、インナーセル31とアウターセル32とを有
し、インナーセル31は、上方が開放し、内部に処理液
を収容し得る箱型形状とされる。インナーセル31の前
及び後壁部33、34には、連続的にインナーセル31
内へと供給される端子金属条1が貫通して通過するため
の入口開口部35及び出口開口部36が形成される。本
実施例では、この入口開口部35及び出口開口部36
は、インナーセル31の前及び後壁部33、34とは別
部材にて形成されている。つまり、入口開口部材37及
び出口開口部材38が設けられ、各部材の両側には凹溝
37A、38Aが形成される。各部材37、38は、こ
の凹溝37A、38Aを利用して、前及び後壁部33、
34に形成されたU形状開口33A、34A内へと適合
することによってインナーセル31の前及び後壁部3
3、34に着脱可能に構成されている。FIG. 3 shows an embodiment of the capillary action preventing treatment tank 30. According to the present embodiment, the capillary phenomenon prevention treatment tank 30 has an inner cell 31 and an outer cell 32, and the inner cell 31 has a box-like shape that is open at the top and can accommodate a treatment liquid therein. . The front and rear walls 33 and 34 of the inner cell 31 are continuously connected to the inner cell 31.
An inlet opening 35 and an outlet opening 36 are formed for the terminal metal strip 1 to be supplied therein to pass therethrough. In the present embodiment, the inlet opening 35 and the outlet opening 36
Is formed as a separate member from the front and rear wall portions 33 and 34 of the inner cell 31. That is, the inlet opening member 37 and the outlet opening member 38 are provided, and the concave grooves 37A and 38A are formed on both sides of each member. Each of the members 37, 38 uses the concave grooves 37A, 38A to form the front and rear wall portions 33,
The front and rear walls 3 of the inner cell 31 are fitted into the U-shaped openings 33A and 34A formed in the inner cell 31.
It is configured to be attachable to and detachable from 3, 34.
【0016】インナーセル31の側壁39、40には凹
状の切欠き39A、40Aが形成されており、従って、
インナーセル31内へと供給される処理液は、入口開口
部35及び出口開口部36を介して流出すると共に、こ
の切欠き39A、40Aをオーバーフローする。つま
り、インナーセル31内の液面は、この切欠きの高さに
て規定され、常に一定に保持される。The side walls 39, 40 of the inner cell 31 are formed with concave notches 39A, 40A.
The processing liquid supplied into the inner cell 31 flows out through the inlet opening 35 and the outlet opening 36, and overflows the notches 39A and 40A. That is, the liquid level in the inner cell 31 is defined by the height of the notch and is always kept constant.
【0017】更に、本実施例によると、インナーセル3
1内の液面を調整可能とするために、液面調整手段50
が設けられる。液面調整手段50は、上記切欠き39
A、40Aに対応して設けられるが、図3には手前側の
側壁39に設けた液面調整手段50の全体が図示されて
いる。液面調整手段50は、上記切欠き39A、40A
と同様の形状をした凹状の切欠き51Aを有する液面調
整部材51と、この液面調整部材51を上下に摺動自在
に案内するべく側壁39、40に固定された案内部材5
2とを有する。又、液面調整部材51は、外方へと突出
したナット部材53を備え、インナーセル31の上面に
固定された支持板54に回転自在に取付けられた調整螺
子55の螺子部55Aが螺合している。従って、調整螺
子55の摘みを回すことにより、液面調整部材51を上
下方向に移動させ、インナーセル31の液面を調整する
ことが可能となる。Further, according to this embodiment, the inner cell 3
In order to adjust the liquid level in the liquid crystal 1, the liquid level adjusting means 50 is used.
Is provided. The liquid level adjusting means 50 is provided with the notch 39
3A shows the entire liquid level adjusting means 50 provided on the side wall 39 on the front side. The liquid level adjusting means 50 is provided with the notches 39A and 40A.
And a guide member 5 fixed to the side walls 39 and 40 to guide the liquid level adjusting member 51 slidably up and down.
And 2. The liquid level adjusting member 51 includes a nut member 53 protruding outward, and a screw portion 55A of an adjusting screw 55 rotatably attached to a support plate 54 fixed to the upper surface of the inner cell 31 is screwed. doing. Therefore, by turning the knob of the adjusting screw 55, the liquid level adjusting member 51 can be moved in the vertical direction, and the liquid level of the inner cell 31 can be adjusted.
【0018】インナーセル31からオーバーフローした
処理液は、インナーセル31の下方に位置したアウター
セル32内に受容され、アウターセル32内の処理液は
ポンプなどの循環装置(図示せず)にてインナーセル3
1へと還流される。The processing liquid overflowing from the inner cell 31 is received in the outer cell 32 located below the inner cell 31, and the processing liquid in the outer cell 32 is circulated by a circulating device (not shown) such as a pump. Cell 3
Refluxed to 1.
【0019】上記構成により、毛細管現象防止処理槽3
0のインナーセル31内へと供給された端子金属条1
は、所定の高さまで、即ち、金めっきされた高さまで高
精度にて処理液が塗布される。With the above configuration, the capillary action preventing treatment tank 3
Terminal metal strip 1 supplied into the inner cell 31
The processing liquid is applied with high precision up to a predetermined height, that is, up to the gold-plated height.
【0020】毛細管現象防止処理槽30は、所望に応じ
て例えば図4に示すように長手方向により長く設計され
た構造とすることができる。この場合には、処理液をオ
ーバーフローさせる側壁部の切欠きを増やし、各切欠き
毎に液面調整手段50を設けることができる。The capillarity prevention treatment tank 30 may have a structure designed to be longer in the longitudinal direction as desired, for example, as shown in FIG. In this case, the notches in the side wall portion where the processing liquid overflows can be increased, and the liquid level adjusting means 50 can be provided for each notch.
【0021】本発明で使用する処理液は、この後行なわ
れる半田めっき処理において、半田めっき液が毛細管現
象によって端子3、3間の間隙(G)を上昇するのを阻
止する働きをなすものであれば任意のものを使用し得
る。The treatment solution used in the present invention functions to prevent the solder plating solution from rising in the gap (G) between the terminals 3 and 3 due to the capillary phenomenon in the subsequent solder plating treatment. Anything can be used if present.
【0022】本発明者らの今までの研究実験の結果によ
ると、従来封孔処理のために使用されている、各種の有
機系或は無機系の封孔処理液を好適に使用し得ることが
分かった。例えば、封孔処理液としては、特開平8−2
60192号公報、特開平8−260193号公報、特
開平8−260194号公報などに記載されるような、 (1)インヒビターとして ベンゾトリアゾール系化合物 メルカプトベンゾチアゾール系化合物 トリアジン系化合物 の1種又は2種以上、合計で0.001〜1wt% (2)潤滑剤として 脂肪酸を1種又は2種以上、合計で0.05〜2wt
% (3)乳化剤として モノアルキルりん酸エステル ジアルキルりん酸 の1種又は2種以上、合計で0.05〜2wt% を含む水溶液があるが、これら封孔処理液を毛細管現象
防止処理液として好適に使用し得る。According to the results of the research conducted by the present inventors, various organic or inorganic sealing liquids conventionally used for sealing can be preferably used. I understood. For example, as a sealing treatment liquid, JP-A-8-2
JP-A-60192, JP-A-8-260193, JP-A-8-260194, etc. (1) One or two types of benzotriazole-based compounds, mercaptobenzothiazole-based compounds, and triazine-based compounds as inhibitors Above, 0.001 to 1 wt% in total (2) One or more fatty acids as lubricant, 0.05 to 2 wt% in total
% (3) As an emulsifier, there is an aqueous solution containing one or two or more monoalkyl phosphate dialkyl phosphates in a total amount of 0.05 to 2% by weight, and these sealing treatment solutions are suitable as capillary action prevention treatment solutions. Can be used for
【0023】本実施例では、インヒビターとしてベンゾ
トリアゾール(0.01wt%)、潤滑剤としてオレイ
ン酸(0.3wt%)、乳化剤としてラウリル酸りん酸
モノエステル(0.3wt%)からなる水溶液を毛細管
現象防止処理槽30のインナーセル31に供給し、温度
40〜80℃に維持した。In this embodiment, an aqueous solution consisting of benzotriazole (0.01% by weight) as an inhibitor, oleic acid (0.3% by weight) as a lubricant, and monoester of lauric acid monoester (0.3% by weight) as an emulsifier is used as a capillary. It was supplied to the inner cell 31 of the phenomenon prevention treatment tank 30 and maintained at a temperature of 40 to 80 ° C.
【0024】上述のようにしてストライプ条に金めっき
された端子金属条1は、上記毛細管現象防止処理液が一
定液面で貯留された毛細管現象防止処理槽30のインナ
ーセル31中へと案内され、処理液中に浸漬することに
より、金めっきされた高さまで、即ち、図2にて金めっ
きLA 領域を覆って処理液が塗布される。好ましくは、
処理液は、金めっきLA 領域より僅かに上方に5〜6m
m程度、即ち、金めっき領域(LA )と半田領域(L
G )との間のノッチ6が形成されている境界領域(L
G )に到達するまで塗布される。半田領域LS には塗布
しない方が良い。The terminal metal strip 1 gold-plated on the striped strip as described above is guided into the inner cell 31 of the capillary action preventing treatment tank 30 in which the above-mentioned capillary action preventing treatment liquid is stored at a constant liquid level. , by immersing in a treatment solution, to a height which is gold-plated, i.e., the treatment liquid is applied over the gold plated L a region in FIG. 2. Preferably,
Treatment liquid, 5 to 6 m in slightly above the gold plating L A region
about m, i.e., gold plated region (L A) between the solder region (L
G ) and a boundary region (L
G ) is applied until it reaches It is better not to apply to the solder area L S.
【0025】その後、端子金属条1は、図1に示すよう
に、乾燥装置(図示せず)にて乾燥された後、キヤリヤ
部2が下方に位置するように反転装置60にて反転さ
れ、半田めっき槽70へと搬送される。半田めっき槽7
0では、端子3のキヤリヤ部側、即ち、図2にて、接続
部5及びキヤリヤ部2をも含めた長さLS 領域に半田め
っきが施される。Thereafter, the terminal metal strip 1 is dried by a drying device (not shown) as shown in FIG. 1, and then inverted by an inverting device 60 so that the carrier portion 2 is located below. It is transported to the solder plating tank 70. Solder plating tank 7
In the case of 0, solder plating is applied to the carrier portion side of the terminal 3, that is, in FIG. 2, the length L S region including the connection portion 5 and the carrier portion 2.
【0026】本実施例によれば、上述のように毛細管現
象防止処理を行なったために、半田めっき槽70内のめ
っき液(電解液)が毛細管現象によって端子3、3間の
間隙(G)を上昇して金めっき領域LA へと浸透するの
が防止され、その結果、接点部4の金めっき層に半田が
付着するのを完全に防止することができた。According to this embodiment, since the capillary phenomenon preventing treatment is performed as described above, the plating solution (electrolyte) in the solder plating tank 70 causes the gap (G) between the terminals 3 and 3 to be reduced by the capillary phenomenon. rises and is prevented from penetrating into the gold plating zone L a, as a result, solder gold plating layer of the contact portion 4 is able to completely prevent the deposition.
【0027】上記半田めっき処理の後は、水洗処理など
をした後、封孔処理槽(図示せず)へと供給され、金め
っき層に生じたピンホールを密封するために、少なくと
も金めっき領域(LA )は封孔処理液中に浸漬し、電解
による封孔処理を行なう。封孔処理には、当業者には周
知の各種の有機系或は無機系の処理液が使用される。本
実施例では、上記毛細管現象防止処理槽にて使用した処
理液と同じ処理液を使用した。After the above-mentioned solder plating process, the substrate is subjected to a washing process or the like, and then supplied to a sealing bath (not shown). At least a gold plating region is formed to seal a pinhole formed in the gold plating layer. (L a) is immersed in the sealing treatment solution, performing sealing treatment by electrolysis. For the sealing treatment, various organic or inorganic treatment liquids known to those skilled in the art are used. In this example, the same processing liquid as the processing liquid used in the above-mentioned capillary phenomenon prevention processing tank was used.
【0028】このようにして作製した端子金属条1から
端子3をキヤリヤ部2から切断し、コネクタを製造し、
電気的試験、腐食試験などを行なった。接触抵抗は10
mΩ以下であり、又耐食性も良く、良好な結果を得るこ
とができた。From the terminal metal strip 1 thus manufactured, the terminal 3 is cut from the carrier portion 2 to manufacture a connector.
Electrical tests, corrosion tests, etc. were performed. Contact resistance is 10
mΩ or less, good corrosion resistance, and good results could be obtained.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の長尺金属
条のストライプめっき方法は、所定形状に成形された長
尺の金属条を連続的に供給して、この金属条に下地Ni
めっきをし、その後、金属条の長手方向にストライプ状
の金めっき及び半田めっきを行なう長尺金属条ストライ
プめっき方法において、金めっき処理後、金属条の金め
っき領域を覆って毛細管現象防止処理液を塗布し、その
後に、半田めっきを行なう構成とされるので、半田めっ
き工程にて毛細管現象による半田めっき液の上昇を防止
することができ、従って、金めっき領域に半田が付着す
るのを防止し、長尺金属条に金、半田などのストライプ
めっきを高精度且つ高品質にて行なうことができる。As described above, according to the method of strip plating of a long metal strip of the present invention, a long metal strip formed in a predetermined shape is continuously supplied, and the metal Ni is plated on the metal strip.
In a long metal strip stripe plating method of plating and then performing striped gold plating and solder plating in the longitudinal direction of the metal strip, the gold plating treatment covers the gold plating area of the metal strip and prevents capillary action. Is applied and then solder plating is performed, so that it is possible to prevent the solder plating solution from rising due to the capillary phenomenon in the solder plating process, thus preventing the solder from adhering to the gold plating area. In addition, strip plating of gold, solder, or the like can be performed on the long metal strip with high precision and high quality.
【図1】本発明の長尺金属条ストライプめっき方法を実
施するためのめっき設備の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a plating facility for performing a long metal strip plating method of the present invention.
【図2】長尺金属条の一実施例を示す正面図である。FIG. 2 is a front view showing one embodiment of a long metal strip.
【図3】毛細管現象防止処理工程を実施するための毛細
管現象防止処理槽の一実施例の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of an embodiment of a capillary phenomenon prevention treatment tank for performing a capillary phenomenon prevention treatment step.
【図4】毛細管現象防止処理工程を実施するための毛細
管現象防止処理槽の他の実施例の斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of another embodiment of a capillary phenomenon prevention treatment tank for performing a capillary phenomenon prevention treatment step.
1 長尺金属条 2 キヤリヤ部 3 端子 4 接点部 5 接続部 6 ノッチ 30 毛細管現象防止処理槽 31 インナーセル 32 アウターセル 50 液面調整手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Long metal strip 2 Carrier part 3 Terminal 4 Contact part 5 Connection part 6 Notch 30 Capillary phenomenon prevention treatment tank 31 Inner cell 32 Outer cell 50 Liquid level adjusting means
Claims (4)
続的に供給して、この金属条に下地Niめっきをし、そ
の後、金属条の長手方向にストライプ状の金めっき及び
半田めっきを行なう長尺金属条ストライプめっき方法に
おいて、前記金めっき処理後、金属条の金めっき領域を
覆って毛細管現象防止処理液を塗布し、その後に、前記
半田めっきを行なうことを特徴とする長尺金属条ストラ
イプめっき方法。1. A long metal strip formed in a predetermined shape is continuously supplied, the metal strip is plated with Ni, and then a striped gold plating and a solder plating are formed in the longitudinal direction of the metal strip. A long metal strip stripe plating method, wherein after the gold plating treatment, a capillary action preventing treatment liquid is applied so as to cover a gold plating region of the metal strip, and thereafter, the solder plating is performed. Metal strip plating method.
とも金めっき領域に封孔処理を行なう請求項1の長尺金
属条ストライプめっき方法。2. A long metal strip stripe plating method according to claim 1, wherein a sealing process is performed on at least a gold plating region of the metal strip after the solder plating process.
液である請求項1又は2の長尺金属条ストライプめっき
方法。3. The long metal strip plating method according to claim 1, wherein the capillary action preventing treatment liquid is a sealing treatment liquid.
ベンゾトリアゾール系化合物、メルカプトベンゾチアゾ
ール系化合物、トリアジン系化合物の1種又は2種以
上、潤滑剤として脂肪酸を1種又は2種以上、乳化剤と
してモノアルキルりん酸エステル、ジアルキルりん酸の
1種又は2種以上、を含む水溶液である請求項3の長尺
金属条ストライプめっき方法。4. The pore-sealing treatment liquid comprises one or more of a benzotriazole-based compound, a mercaptobenzothiazole-based compound, and a triazine-based compound as an inhibitor, one or more of a fatty acid as a lubricant, and an emulsifier. 4. A long metal strip plating method according to claim 3, which is an aqueous solution containing one or more of a monoalkyl phosphate and a dialkyl phosphate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5696397A JPH10237687A (en) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | Stripe plating method for long-sized metallic bar |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5696397A JPH10237687A (en) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | Stripe plating method for long-sized metallic bar |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10237687A true JPH10237687A (en) | 1998-09-08 |
Family
ID=13042199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5696397A Pending JPH10237687A (en) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | Stripe plating method for long-sized metallic bar |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10237687A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006131977A (en) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Jst Mfg Co Ltd | Plated contact and plating method for contact |
-
1997
- 1997-02-25 JP JP5696397A patent/JPH10237687A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006131977A (en) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Jst Mfg Co Ltd | Plated contact and plating method for contact |
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