JPH10235557A - 回転装置 - Google Patents
回転装置Info
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- JPH10235557A JPH10235557A JP4372297A JP4372297A JPH10235557A JP H10235557 A JPH10235557 A JP H10235557A JP 4372297 A JP4372297 A JP 4372297A JP 4372297 A JP4372297 A JP 4372297A JP H10235557 A JPH10235557 A JP H10235557A
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
テーブルの上面までの高さを可及的に低く抑制し得るこ
とのできる回転装置を提供する。 【解決手段】 回転軸30の先端部近傍に設けられた回
転テーブル22に冷却水を供給・排出するディストロビ
ュータ40を具備する回転装置において、該該ディスト
ロビュータ40が、回転テーブル22の直下に位置する
固定部44の外周面に設けられたシール部材48に摺接
して、回転軸30に伴って回転可能に設けられた回転部
42と、回転部42と固定部44との各々に形成され
た、回転テーブル22に冷却水を供給・排出する流体通
路(50a、50b)(52a、52b)と、シール部
材48に挟まれて設けられ、流体通路(50a、50
b)(52a、52b)の各々を接続する接続部材54
a、54bとから成ることを特徴とする。
Description
に詳細には回転軸の先端部近傍に設けられた回転テーブ
ルの下方に、前記回転テーブルに流体を供給及び/又は
排出する供給口及び/又は排出口するディストロビュー
タを具備する回転装置に関する。
を研磨する研磨装置においては、互いに反対方向に回転
する回転テーブルである下定盤200と上定盤202と
の間に、インターナルギア204と太陽ギア206とに
より駆動されるキャリア208が配設される。このキャ
リア208には、研磨対象のワークを担持する透孔(図
示せず)が穿設されている。かかる透孔に担持されたワ
ークの両面は下定盤200と上定盤202とによって同
時に研磨される。尚、インターナルギア204は、下定
盤200とは異なる回転数ではあるものの、下定盤20
0と同方向に回転され、且つ太陽ギア206も、上定盤
202とは異なる回転数ではあるものの、上定盤202
と同方向に回転される。
て、下定盤200、インターナルギア204、及び太陽
ギア206の各々は、筒状回転軸200a、204a、
206aによって回転され、上定盤202は筒状回転軸
206aの中空部に挿入された棒状回転軸202aによ
って回転されている。これら回転軸の各々を回転する動
力は、電動モータ210からの動力をウォーム減速装置
212によって所定速度に減速した後、各回転軸に動力
を伝達する動力伝達ギアの各々を介して各回転軸に伝達
される。ところで、図7に示す研磨装置においては、研
磨中に摩擦熱等に因り発熱することがあり、下定盤20
0の研磨面に対して裏面側に冷却水を流して下定盤20
0を冷却したり、或いは下定盤200に載置されたワー
クに、研磨材を含有する研磨液を供給することが必要と
なる場合がある。
面側に形成された冷却水用通路に冷却水を流して下定盤
200を冷却する場合、図8に示す様に、矢印M方向に
回転する回転軸202a内に、下定盤200に冷却水を
供給する供給通路214と、下定盤200からの排出水
を排出する排出通路216とを形成すると共に、回転軸
202aの下端部に、ディストロビュータ218を設け
た。このディストロビュータ218には、矢印M方向に
回転する回転軸202aの下端部外周面に、冷却水の供
給口226と排出水の排出口228とが形成された非回
転の筒状体220が、ベアリング222a、222b及
びシール部224を介して設けられている。更に、シー
ル部224には、回転軸202aに形成された供給通路
214及び排出通路216と、非回転の筒状体220に
形成された供給口226及び排出口228とを接続する
接続部材230、230が設けられている。かかる接続
部材230は、筒状体220の供給口226及び排出口
228に対応する位置に、筒状体の外周面に沿って周設
された溝部の底面に、内周面に一端が開口する貫通孔の
他端が開口するものである。
ディストロビュータ218を回転軸202aの下端部に
設けることによって、回転軸202aの供給通路214
に冷却水を研磨装置の外部から供給できると共に、排出
通路216からの排出水を研磨装置の外部に排出でき
る。しかし、最近では、研磨装置で研磨するシリコンウ
ェーハ等のワークが大型化してきており、下定盤200
及び上定盤202等も大型化してきている。このため、
下定盤200等を回転する電動モータ210も大型化せ
ざる得ない。更に、上定盤202は、ワークの取り出し
等のために上下方向に昇降可能に設けられているが、上
定盤202の大型化に伴い、上定盤202が降下して下
定盤200に着地する着地スピードを調整すべく、回転
軸202aの下端下方に油圧又は圧空のアクチュエータ
を設けることが必要となってくる。
俟って、床面から下定盤200の上面までの高さが高く
なりつつある。この様に、下定盤200等の大型化に伴
って床面から下定盤200等の回転テーブルの上面まで
の高さが高くなり、回転テーブル上での種々の作業性が
低下し易くなる傾向がある。一方、床面から回転テーブ
ルの上面までの高さを一定に保持するように、電動モー
タ等が挿入される凹部を床に形成することが考えられる
が、回転装置の設置コストが高くなる。そこで、本発明
の課題は、回転テーブル等が大型化しても、床面から回
転テーブルの上面までの高さを可及的に低くし得ること
のできる回転装置を提供することにある。
を解決すべく検討を重ねた結果、回転軸202aとは別
体に形成した固定部と回転部との各々に流体通路を形成
して成るディストロビュータを、下定盤200の直下に
配設することによって、床面から下定盤200の上面ま
での高さを可及的に低くし得ることを見出し、本発明に
到達した。すなわち、本発明は、回転軸の先端部近傍に
設けられた回転テーブルに流体を供給及び/又は排出す
るディストロビュータを具備する回転装置において、該
ディストロビュータが、前記回転テーブルの直下に位置
する固定部の外周面に設けられたシール部材に摺接し
て、前記回転軸に伴って回転可能に設けられた回転部
と、前記回転部と固定部との各々に形成された、前記回
転テーブルに流体を供給及び/又は排出する流体通路
と、前記シール部材に挟まれて設けられ、前記流体通路
の各々を接続する接続部材とから成ることを特徴とする
回転装置にある。
回転部と固定部との各々に形成された流体通路の開口部
と接続されるように、筒状部の外周面及び内周面の各周
面に溝部を周設し、且つ前記外周面側の溝部底面と内周
面側の溝部底面とを連結する貫通孔を形成した鼓状接続
部材を用いることにより、回転部と固定部とに形成した
各流体通路を容易に接続できる。また、回転テーブルに
流体を供給及び/又は排出する供給口及び/又は排出口
をディストロビュータの回転部に設けると共に、回転装
置の外部から流体を供給及び/又は排出する外部供給口
及び/又は外部排出口をディストロビュータの固定部に
設けることによって、回転テーブルへの流体を供給及び
/又は回転テーブルからの流体の排出を容易に行うこと
ができる。
体に形成した回転部と固定部とから成るディストロビュ
ータを設ける。このため、流体通路を、ディストロビュ
ータの回転部と固定部とに形成でき、回転軸に流体通路
を形成する場合の如く、ディストロビュータの設置位置
が限定されず、しかもディストロビュータの回転部と固
定部との高さ等は調整可能である。このため、本発明に
係る回転装置では、回転テーブルの直下の空間部にディ
ストロビュータを設けることができ、回転軸に流体通路
を形成する場合の如く、床面から回転テーブルの上面ま
での高さを高くしてディストロビュータを設けるための
スペースを確保することを要しない。その結果、床面か
ら回転テーブルの上面までの高さを可及的に低くでき
る。
装置を用いて説明する。図1は、両面研磨装置の下部構
造を示すものであり、下定盤10、太陽ギア12、及び
インターナルギア14の各々は、単独で回転可能に設け
られている。このうち、下定盤10は、基台16上に回
転可能に設けられた回転ホルダー18に放射状に形成さ
れたリブ20、20上に回転テーブル22が固着されて
いるものである。この回転ホルダー18は、モータ24
によって回転駆動される中空回転軸26に連結されてい
る。また、太陽ギア12は、中空回転軸26に挿通さ
れ、図示しないモータによって回転駆動される中空回転
軸30に連結され、インターナルギア14も、図示しな
いモータによって回転駆動されている。この様に、下定
盤10、太陽ギア12、及びインターナルギア14の各
々を回転駆動するモータには、電動モータを用いて1個
のインバータによって互いの同期を取ってもよく、モー
タを小型化することができ且つ互いの同期を取り易い油
圧モータを用いてもよい。尚、太陽ギア12とインター
ナルギア14とは、下定盤10の回転テーブル22の磨
耗程度に応じて位置調整が可能となるように、油圧シリ
ンダ又は圧空シリンダ等の駆動装置によって上下動可能
に設けられている。
には、研磨するワークが透孔内に挿入されるキャリア
(図示せず)を介して上定盤が載置されるが、上定盤が
傾斜した状態で載置されることがある。このため、傾斜
状態の上定盤を水平状態として回転テブーブル22上に
載置すべく、中空回転軸30うちに挿通された中実シャ
フト32の上端部に、回転テブーブル22よりも先に上
定盤が当接する当接部34が設けられている。この当接
部34には、上定盤と当接する水平な当接面が形成され
ているため、上定盤は当接部34の水平面に当接して水
平状態となってから回転テーブル22上に載置される。
尚、中実シャフト32の下端側には、当接部34に上定
盤が当接した後、上定盤の着地スピードを制御すべく、
油圧又は圧空のアクチュエータ36が設けられている。
0を構成する回転テーブル22は、研磨中にワークとの
摩擦熱等に因り加熱される。このため、回転テーブル2
2の背面側には、回転テーブル22を冷却するための冷
却水を通水する冷却水用通路38、38が形成されてい
る。かかる冷却水用通路38、38に冷却水を供給する
と共に、冷却水用通路38、38から排出される排出水
が排出されるディストロビュータ40が、下定盤10の
直下に設けられている。このディストロビュータ40の
構造を図2に示す。ディストロビュータ40は、中空回
転軸26に連結され、中空回転軸26の回転力を回転ホ
ルダー18に伝達する筒状の回転部42と、基台16に
連結されて成る筒状の固定部44とから構成されてい
る。更に、回転部42は、図2に示す様に、筒状の固定
部44の外周面側を中空回転軸26に伴って回転するよ
うに配設されている。
回転軸26と回転部42とを連結する連結部と摺接する
ベアリング46、46に摺接され、且つ固定部44の外
周面には、回転部42の内周面が摺接して回転するシー
ル部材48、48・・が設けられている。この様な、回
転部42と固定部44とには、流体通路として、上定盤
10に設けられた冷却水用通路38に冷却水を供給する
供給通路50a、50bが形成されていると共に、冷却
水用通路38から排出される排出水が排出される排出通
路52a、52bが形成されている。この供給通路50
a、50bは、シール部材48に挟まれた接続部材54
aによって接続され、排出通路52a、52bも、シー
ル部材48に挟まれた接続部材54bによって接続され
ている。尚、シール部材48は、図3に示す様に、ゴム
製のV字状リングであって、固定部44の外周面に沿っ
て上下方向に複数段積層されている。
を図4に示すと共に、その部分断面側面図を図5に示
す。接続部材54a(54b)は、図4及び図5に示す
様に、鼓状であって、筒状部の外周面及び内周面の各周
面に溝部56a、56bが周設されていると共に、外周
面側の溝部56aの底面と内周面側の溝部56bの底面
とを連結する貫通孔58、58・・が放射状に形成され
ているものである。かかる接続部材54aは、図3に示
す様に、溝部56a、56bが回転部42と固定部44
との各々に形成された供給通路50a、50bの各開口
部と接続される位置となるように、シール部材48に挟
まれて配設される。このため、接続部材54aの外周面
に周設された溝部56aには、回転部42に形成された
供給通路50aの開口部が常に接続され、且つ接続部材
54aの内周面に周設された溝部56bにも、固定部4
4に形成された供給通路50bの開口部が常に接続され
ている。従って、固定部44に形成された供給通路50
bを経由した冷却水は、接続部材54aの溝部56b、
貫通孔58、58・・、及び溝部56aを経由して回転
部42に形成された供給通路50aに供給される。
48に挟まれて配設されている接続部材54bは、回転
部42に形成された排出通路52aと固定部44に形成
された52bとを接続するためのものである。この接続
部材54bの外周面に周設された溝部56aには、排出
通路52aの開口部が常に接続され、且つ接続部材54
bの内周面に周設された溝部56bにも、固定部44に
形成された排出通路52bの開口部が常に接続されてい
る。このため、回転部42に形成された排出通路52a
を通過した排出水は、接続部材54bの溝部56a、貫
通孔58、58・・、及び溝部56bを経由して固定部
44に形成された排出通路52aに排出される。尚、接
続部材54a、54bは、その周面の一部が回転部42
や固定部44に摺接し且つシール部材48によって挟ま
れているため、溝部56a、56bから冷却水や排出水
が漏出することはない。
却水は、図6に示す様に、下定盤10を構成する回転テ
ーブル22の背面側に形成された冷却水用通路38に供
給される。かかる供給通路50aが形成された回転部4
2と回転テーブル22とは、同一方向に同一速度で回転
しているため、供給通路50aの出口に設けられた継手
60と冷却水用通路38の入口に設けられた継手62と
をホース等で容易に接続することができる。また、冷却
水用通路38の出口に設けられた継手と排出通路52a
の入口に設けられた継手とをホース等で接続することに
よって、冷却水用通路38から排出される排出水を排出
通路52aに排出できる。更に、外部から冷却水を供給
通路50bに供給するための外部供給口及び排出水を排
出通路52bから外部に排出するための外部排出口は、
固定部44の外周面に設けることができ、冷却水を供給
するホース或いは排出水を排出するホース等を容易に装
着できる。
は、下定盤10を構成する回転テーブル22の直下の空
間部に配設すべく、その固定部44及び回転部42の高
さを調整可能である。このため、図1に示す研磨装置に
おいては、回転軸の下端部にディストロビュータを設け
る場合(図8)の如く、回転軸にディストロビュータを
設けるスペースを確保することを要せず、回転テーブル
22等が大型化しても、床面から回転テーブル22の上
面までの高さを抑制することができ、研磨作業等の作業
性を維持できる。また、回転テーブル22等を回転する
回転軸に流体通路を形成することを要しないため、回転
軸に流体通路を掘削する面倒な作業を省略できる。
回転テーブル22を冷却する冷却水を供給・排出するデ
ィストロビュータについて説明してきたが、回転テーブ
ル22に載置されたワークに供給する研磨材を含む研磨
液用のディストロビュータとして使用してもよい。この
場合、ディストロビュータには、研磨液供給用の流体通
路のみを形成することで足りる。更に、ディストロビュ
ータに、研磨液供給用の流体通路と、冷却水を供給・排
出する流体通路とを併設してもよい。また、回転テーブ
ル22の下面側に真空室を設け、ワークの下面側を真空
にして固定すべく、ディストロビュータに真空室の排気
を行う排気用の流体通路を形成してもよい。尚、研磨装
置以外の回転テーブルを具備する回転装置においても、
図1〜図6に示すディストロビュータ40を採用できる
ことは勿論のことである。
ル等が大型化しても、床面から回転テーブルの上面まで
の高さを可及的に低く抑制でき、回転テーブルへのワー
クの載置又は取り出し等の回転テーブル上の各種作業を
容易に行うことができる。
部分断面図である。
ュータを説明する部分断面図である。
図である。
る接続部材の斜視図である。
る接続部材の部分断面側面図である。
す部分断面図である。
分断面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 回転軸の先端部近傍に設けられた回転テ
ーブルに流体を供給及び/又は排出するディストロビュ
ータを具備する回転装置において、 該ディストロビュータが、前記回転テーブルの直下に位
置する固定部の外周面に設けられたシール部材に摺接し
て、前記回転軸に伴って回転可能に設けられた回転部
と、 前記回転部と固定部との各々に形成された、前記回転テ
ーブルに流体を供給及び/又は排出する流体通路と、 前記シール部材に挟まれて設けられ、前記流体通路の各
々を接続する接続部材とから成ることを特徴とする回転
装置。 - 【請求項2】 接続部材が、回転部と固定部との各々に
形成された流体通路の開口部と接続されるように、筒状
部の外周面及び内周面の各周面に溝部が周設され、且つ
前記外周面側の溝部底面と内周面側の溝部底面とを連結
する貫通孔が形成されて成る鼓状接続部材である請求項
1記載の回転装置。 - 【請求項3】 回転テーブルに流体を供給及び/又は排
出する供給口及び/又は排出口がディストロビュータの
回転部に設けられていると共に、 回転装置の外部から流体を供給及び/又は排出する外部
供給口及び/又は外部排出口がディストロビュータの固
定部に設けられている請求項1又は請求項2記載の回転
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4372297A JP3863623B2 (ja) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | 回転装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4372297A JP3863623B2 (ja) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | 回転装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10235557A true JPH10235557A (ja) | 1998-09-08 |
JP3863623B2 JP3863623B2 (ja) | 2006-12-27 |
Family
ID=12671694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4372297A Expired - Lifetime JP3863623B2 (ja) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | 回転装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3863623B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010208017A (ja) * | 2009-03-06 | 2010-09-24 | Lg Chem Ltd | フロートガラス研磨システム用下部ユニット及びそれを用いたフロートガラスの研磨方法 |
WO2014103984A1 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
CN109571239A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-04-05 | 刘海 | 一种均匀散热动态研磨机的下磨机构 |
-
1997
- 1997-02-27 JP JP4372297A patent/JP3863623B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010208017A (ja) * | 2009-03-06 | 2010-09-24 | Lg Chem Ltd | フロートガラス研磨システム用下部ユニット及びそれを用いたフロートガラスの研磨方法 |
WO2014103984A1 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP6042453B2 (ja) * | 2012-12-28 | 2016-12-14 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
CN109571239A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-04-05 | 刘海 | 一种均匀散热动态研磨机的下磨机构 |
CN109571239B (zh) * | 2018-12-25 | 2024-03-29 | 刘海 | 一种均匀散热动态研磨机的下磨机构 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3863623B2 (ja) | 2006-12-27 |
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