JPH10233163A - Method and device for manufacturing plasma display - Google Patents

Method and device for manufacturing plasma display

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Publication number
JPH10233163A
JPH10233163A JP34762797A JP34762797A JPH10233163A JP H10233163 A JPH10233163 A JP H10233163A JP 34762797 A JP34762797 A JP 34762797A JP 34762797 A JP34762797 A JP 34762797A JP H10233163 A JPH10233163 A JP H10233163A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phosphor
plasma display
base
paste
manufacturing
Prior art date
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Pending
Application number
JP34762797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuichiro Iguchi
雄一朗 井口
Masahiro Matsumoto
正廣 松本
Tomoko Mikami
友子 三上
Takao Sano
高男 佐野
Yoshiki Masaki
孝樹 正木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP34762797A priority Critical patent/JPH10233163A/en
Publication of JPH10233163A publication Critical patent/JPH10233163A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately and simply form a phosphor layer between high-precise partitioning walls, by continuously discharging phosphor paste; containing phosphor powder, and organic compounds such as photosensitive polymer and photosensitive monomer, etc., from a base having plural discharging ports, to form a phosphor layer on a base plate thereon plural partitioning walls are formed. SOLUTION: Photosensitive phosphor paste is manufactured by mixing various kinds of component, namely, phosphor powder, an ultraviolet ray absorbing agent, a photosensitive polymer, a photosensitive monomer, a photopolymerization initiator, and a solvent, so as to have a given composition, and then mixing homogeneously dispersing then with a triple roller or a kneader. Then, the phosphor paste is discharged, continuously from a discharge hole provided on a base, to be arranged between a plurality of partitioning walls provided on a base plate. A high-precise phosphor layer can be formed by using phosphor powder, luminous in red, blue, and green, as the phosphor powder to be used to the phosphor paste; making a partitioning wall interval (S) and the means hole diameter (D) of discharge ports satisfy the condition of 10μm<=D<=S<=500μm, and the hole have the number of the discharge ports of 20-2000.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は新規なプラズマデ
ィスプレイの製造方法に関する。本願発明に係るプラズ
マディスプレイは壁掛けテレビや情報表示用のディスプ
レイとして用いられる。
[0001] The present invention relates to a method for manufacturing a novel plasma display. The plasma display according to the present invention is used as a wall-mounted television or a display for displaying information.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、マルチメディアの進展により、多
種多様な情報を表示するためのディスプレイの役割が大
きくなっている。それに伴って、ディスプレイの大型化
・薄型化が求められており、液晶ディスプレイはノート
パソコンをはじめとして、多くの分野に利用されるよう
になってきた。しかし、液晶ディスプレイは、大型化時
の価格や応答速度の点で、大型テレビに用いることは困
難である。そこで、大型ディスプレイの本命として、プ
ラズマディスプレイが注目されている。プラズマディス
プレイは、前面板と背面板の間に形成された放電空間内
で放電を生じさせる。その後、この放電によりキセノン
ガスから波長147nmを中心とする紫外線が生じて、
この紫外線が蛍光体を励起することによって表示が可能
になる。RGBに発光する蛍光体を塗り分けた放電セル
を駆動回路によって発光させることによりフルカラー表
示に対応可能になる。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of multimedia, the role of a display for displaying a variety of information has been increasing. Along with this, there is a demand for larger and thinner displays, and liquid crystal displays have been used in many fields, including notebook computers. However, it is difficult to use a liquid crystal display for a large-sized television in terms of price and response speed when the liquid crystal display is enlarged. Therefore, a plasma display is attracting attention as a favorite of a large display. The plasma display generates a discharge in a discharge space formed between a front plate and a back plate. After that, this discharge generates ultraviolet rays having a wavelength of 147 nm from the xenon gas,
This ultraviolet light excites the phosphor, thereby enabling display. By causing the driving circuit to emit light from the discharge cells, each of which is coated with a phosphor that emits RGB light, full color display can be supported.

【0003】最近活発に開発が進められているAC型プ
ラズマディスプレイは、表示電極/誘電体層/保護層を
形成した前面ガラス基板とアドレス電極/誘電体層/隔
壁層/蛍光体層が形成された背面ガラス基板とを張り合
わせ、ストライプ形状の隔壁で仕切られた放電空間にH
e−XeまたはNe−Xeの混合ガスを封入した構造を
有している。
An AC type plasma display which has been actively developed recently has a front glass substrate on which a display electrode / dielectric layer / protective layer is formed and an address electrode / dielectric layer / partition layer / phosphor layer. To the discharge space separated by stripe-shaped barrier ribs.
It has a structure in which a mixed gas of e-Xe or Ne-Xe is sealed.

【0004】プラズマディスプレイに必要なRGBの蛍
光体層を形成する方法として、蛍光体粉末とバインダー
樹脂からなる蛍光体ペーストを用いてスクリーン印刷す
る方法が主に用いられてきた。この方法は、隔壁間に合
わせてスクリーンメッシュに開口部を設け、それ以外の
部分は乳剤により遮蔽したスクリーン版上にペーストを
塗り、蛍光体ペーストが必要な部分(隔壁間)にのみス
クリーンメッシュを通して転写されることを利用した方
法である。
As a method for forming an RGB phosphor layer required for a plasma display, a screen printing method using a phosphor paste comprising a phosphor powder and a binder resin has been mainly used. In this method, an opening is provided in the screen mesh in accordance with the space between the partitions, and the other portion is coated with a paste on a screen plate covered with the emulsion, and is transferred through the screen mesh only to the portion where the phosphor paste is required (between the partitions). This is a method that utilizes what is done.

【0005】また、特開平6−5205号公報に示され
るようにスクリーン印刷を行った後にサンドブラストを
用いる方法、特開平5−144375号公報に示される
ように架橋剤を塗布した後にスクリーン印刷する方法が
提案されている。
Also, a method of performing screen printing and then using sandblasting as disclosed in JP-A-6-5205, and a method of performing screen printing after applying a crosslinking agent as disclosed in JP-A-5-144375 Has been proposed.

【0006】しかしながら、スクリーン印刷を用いる方
法は、印刷を繰り返すうちにスクリーン版の形状が変化
するため精度が低く、高精細のプラズマディスプレイに
対応できる蛍光体層を形成することが困難という欠点が
あり、また、高価なスクリーン版を頻繁に交換する必要
があるためコストが高くなる問題がある。
However, the method using screen printing has a drawback that the shape of the screen plate changes during repeated printing, so that the accuracy is low and it is difficult to form a phosphor layer that can support a high-definition plasma display. In addition, there is a problem that the cost increases because the expensive screen plate needs to be frequently replaced.

【0007】高精細のプラズマディスプレイに対応する
蛍光体層を形成する方法として、蛍光体粉末と感光性を
有するバインダー樹脂を混合して得られた感光性蛍光体
ペーストを用いる方法もある。この方法は、隔壁を形成
した基板上に感光性ペーストを全面塗布し、フォトマス
クにより部分的に光を照射して、現像液に対して可溶部
分と不溶部分を形成した後に現像して必要な部分を残す
方法である。しかし、この方法では、赤色(R)、緑色
(G)、青色(B)の各色蛍光体層を形成するために、
RGB3回の塗布ー露光ー現像ー乾燥などの工程が必要
である。また、蛍光体ペーストのロスが多いという欠点
があり、コスト高になるという問題がある。
As a method of forming a phosphor layer corresponding to a high-definition plasma display, there is a method of using a photosensitive phosphor paste obtained by mixing a phosphor powder and a photosensitive binder resin. In this method, a photosensitive paste is applied to the entire surface of the substrate on which the partition walls are formed, and is partially irradiated with light using a photomask to form a soluble portion and an insoluble portion in a developing solution and then developed. It is a method to leave the important part. However, in this method, in order to form the red (R), green (G), and blue (B) phosphor layers,
Steps such as application, exposure, development, and drying of RGB three times are required. Further, there is a drawback that the phosphor paste loses a lot, and there is a problem that the cost is increased.

【0008】また、インクジェットノズルの先端から蛍
光体ペーストを噴出し、蛍光体層を形成する方法も提案
されているが、この場合は、径が小さいインクジェット
ノズルの先端からペーストを噴出する必要があるために
ペースト粘度を0.2ポイズ以下にする必要がある。こ
のため、ペーストの中の蛍光体粉末量を多くできず蛍光
体層の厚みをコントロールできない欠点がある。また、
インクジェットノズルに蛍光体粉末が詰まるという問題
もあり、実用的に用いることはできなかった。
A method has also been proposed in which a phosphor paste is ejected from the tip of an ink jet nozzle to form a phosphor layer. In this case, however, it is necessary to eject the paste from the tip of an ink jet nozzle having a small diameter. Therefore, the paste viscosity needs to be 0.2 poise or less. For this reason, there is a disadvantage that the amount of the phosphor powder in the paste cannot be increased and the thickness of the phosphor layer cannot be controlled. Also,
There was a problem that the phosphor powder was clogged in the ink jet nozzle, and it could not be used practically.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記欠点がな
いプラズマディスプレイの製造方法を鋭意検討した結果
得られたものであり、蛍光体層を高精細な隔壁間に高精
度かつ簡便に形成できるプラズマディスプレイの製造方
法およびそのためのプラズマディスプレイの製造装置を
提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been obtained as a result of intensive studies on a method of manufacturing a plasma display which does not have the above-mentioned drawbacks, and it is possible to form a phosphor layer between high-definition partitions with high precision and ease. An object of the present invention is to provide a plasma display manufacturing method and a plasma display manufacturing apparatus therefor.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、複数の
隔壁を形成した基板上に、蛍光体粉末と有機化合物を含
む蛍光体ペーストを複数の吐出口を有する口金から連続
的に吐出して蛍光体層を形成するプラズマディスプレイ
の製造方法によって達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to continuously discharge a phosphor paste containing a phosphor powder and an organic compound from a base having a plurality of discharge ports onto a substrate on which a plurality of partition walls are formed. To form a phosphor layer.

【0011】また、本発明の目的は、表面に複数の隔壁
が形成されている基板を固定するテーブルと、前記基板
の隔壁と対面して複数の吐出口を有する口金と、前記テ
ーブルと前記口金を3次元的に相対移動させる移動手段
を備えたことを特徴とするプラズマディスプレイの製造
装置によって達成される。
[0011] Another object of the present invention is to provide a table for fixing a substrate having a plurality of partitions formed on its surface, a die having a plurality of discharge ports facing the partition of the substrate, the table and the die. This is achieved by an apparatus for manufacturing a plasma display, comprising a moving means for relatively moving three-dimensionally.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】プラズマディスプレイ(PDP)
は、主に前面板と背面板から構成され、該前面板と背面
板の間に希ガスを封入して構成される。背面板側は駆動
電圧を印加するための電極や放電セルを仕切るための隔
壁を形成した基板上に蛍光体層を形成する必要がある。
また、該基板上に誘電体層を形成することによって放電
安定化を図る場合もある。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Plasma Display (PDP)
Is mainly composed of a front plate and a back plate, and is filled with a rare gas between the front plate and the back plate. On the back plate side, it is necessary to form a phosphor layer on a substrate on which electrodes for applying a driving voltage and partition walls for partitioning discharge cells are formed.
In some cases, discharge stabilization is achieved by forming a dielectric layer on the substrate.

【0013】基板としては、ソーダガラスやプラズマデ
ィスプレイ用に市販されているPD200(旭硝子社
製)等のガラス基板やセラミックス製の基板を用いるこ
とができる。基板厚みは、1〜3mm、好ましくは2〜
3mmのガラスを用いることができる。
As the substrate, a soda glass, a glass substrate such as PD200 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) commercially available for a plasma display, or a ceramic substrate can be used. The substrate thickness is 1 to 3 mm, preferably 2 to
3 mm glass can be used.

【0014】この基板上に導電性の金属からなる電極を
形成する。好ましく用いられる電極材料としては、金、
銀、銅、クロム、パラジウム、アルミニウム、ニッケル
から選ばれる少なくとも1種類を含む金属材料である。
これらの金属材料を用いて、厚み0.1〜10μm、好
ましくは厚み1〜5μmで必要なパターン形状の電極を
形成する電極パターンを形成する方法としては、上記金
属粉末とエチルセルロースに代表されるセルロース化合
物を含む有機バインダーと混練して得られた金属ペース
トをガラス基板上にスクリーン版を用いてパターン印刷
する方法や真空蒸着やスパッタリングでガラス基板上に
金属膜を形成した後にレジストを用いてエッチングを行
う方法を用いることができる。また、好ましい方法とし
ては、金属粉末と感光性有機成分を含む有機バインダー
成分を混練して得られた感光性ペーストをガラス基板上
に塗布した後、フォトマスクを用いたパターン露光を行
い、現像により現像液の可溶部分を除去した後に500
〜600℃で焼成することによって電極を形成する方法
が、高精細な電極を高精度に形成できるため好ましい。
An electrode made of a conductive metal is formed on the substrate. Preferred electrode materials include gold,
It is a metal material containing at least one selected from silver, copper, chromium, palladium, aluminum, and nickel.
As a method for forming an electrode pattern for forming an electrode having a required pattern with a thickness of 0.1 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm using these metal materials, the above metal powder and cellulose typified by ethyl cellulose are used. A method of pattern printing a metal paste obtained by kneading with an organic binder containing a compound on a glass substrate using a screen plate, or forming a metal film on a glass substrate by vacuum evaporation or sputtering, and then etching using a resist. The method used can be used. Further, as a preferred method, after applying a photosensitive paste obtained by kneading an organic binder component containing a metal powder and a photosensitive organic component on a glass substrate, pattern exposure using a photomask is performed, and development is performed. 500 after removing the soluble portion of the developer
A method of forming an electrode by baking at a temperature of 600 ° C. to 600 ° C. is preferable because a high-definition electrode can be formed with high precision.

【0015】電極上には誘電体層を形成することにより
発光を安定化することができる。誘電体はガラス粉末と
エチルセルロースに代表されるセルロース化合物を含む
有機バインダーからなるガラスペーストを塗布した後に
450〜600℃で焼成することにより形成できる。
The emission can be stabilized by forming a dielectric layer on the electrode. The dielectric can be formed by applying a glass paste made of an organic binder containing a glass powder and a cellulose compound typified by ethyl cellulose, and then baking at 450 to 600 ° C.

【0016】隔壁を形成する方法としては、種々の方法
が適用できる。例えば、ガラス粉末とエチルセルロース
に代表されるセルロース化合物を含む有機バインダーか
らなるガラスペーストをスクリーン版を用いてパターン
形状に多層印刷した後に450〜600℃で焼成するこ
とによって形成することができる。また、基板上にガラ
スペーストを全面塗布した後、ドライフィルムレジスト
をラミネート後、フォトリソグラフィーにより形成した
パターンをマスクにして、サンドブラストにより研削し
た後に焼成することによって形成することができる。好
ましい隔壁の形成方法としては、ガラス粉末と感光性有
機成分を混練して得られた感光性ガラスペーストを基板
上に全面塗布した後にフォトマスクを用いてフォトリソ
グラフィーによりパターン形成および焼成を行う方法で
ある。形成する隔壁としては、各放電セルの放電を仕切
るためにストライプ形状や格子状が用いられるが、スト
ライプ形状の隔壁が低コストで簡便に形成することがで
きる。
Various methods can be applied for forming the partition. For example, it can be formed by firing a glass paste composed of a glass powder and an organic binder containing a cellulose compound represented by ethylcellulose in a multilayer pattern using a screen plate at 450 to 600 ° C. Alternatively, it can be formed by applying a glass paste on the entire surface of the substrate, laminating a dry film resist, grinding using sand blast using a pattern formed by photolithography as a mask, and then firing. A preferred method of forming the partition walls is a method in which a photosensitive glass paste obtained by kneading a glass powder and a photosensitive organic component is applied over the entire surface of the substrate, and then a pattern is formed and fired by photolithography using a photomask. is there. As the partition to be formed, a stripe shape or a lattice shape is used to partition the discharge of each discharge cell. However, a stripe-shaped partition can be easily formed at low cost.

【0017】特に、本発明の方法によれば、スクリーン
印刷では形成が困難な高精細の隔壁を形成したガラス基
板上に蛍光体層を形成することができる。例えば、隔壁
が以下のディメンジョンを有するストライプ形状である
場合には、スクリーン印刷法に比べて、欠陥無く蛍光体
層を形成することができる。
In particular, according to the method of the present invention, a phosphor layer can be formed on a glass substrate having a high-definition partition wall which is difficult to form by screen printing. For example, when the partition has a stripe shape having the following dimensions, the phosphor layer can be formed without defects as compared with the screen printing method.

【0018】 ピッチ:100〜250μm 線幅 : 15〜 40μm 高さ : 60〜170μm 隔壁と隔壁の間に吐出口を設定する場合には、基板上に
形成された隔壁の上面を黒色にすることにより画像認識
が容易になる。
Pitch: 100 to 250 μm Line width: 15 to 40 μm Height: 60 to 170 μm When an ejection port is set between partitions, the upper surface of the partition formed on the substrate is made black. Image recognition becomes easy.

【0019】本発明では、上記のように隔壁が形成され
たガラス基板上に、蛍光体粉末を含むペーストを複数の
吐出口を持つ口金から吐出して蛍光体層を形成する。用
いる蛍光体粉末としては、赤、青、緑に発光する蛍光体
粉末を用いる。本発明に使用される蛍光体粉末として
は、例えば、赤色では、Y23:Eu、YVO4:E
u、(Y,Gd)BO3:Eu,Y23S:Eu、γ−
Zn3(PO42:Mn、(ZnCd)S:Ag+In2
3などがある。緑色では、Zn2GeO2:M、BaA
1219:Mn、Zn2SiO4:Mn、LaPO4:T
b、ZnS:Cu,Al、ZnS:Au,Cu,Al、
(ZnCd)S:Cu,Al、Zn2SiO4:Mn,A
s、Y3Al512:Ce、CeMgAl1119:Tb、
Gd22S:Tb、Y3Al512:Tb、ZnO:Zn
などがある。青色では、Sr5(PO43Cl:Eu、
BaMgAl1423:Eu、BaMgAl1627:E
u、BaMg2Al1424:Eu、ZnS:Ag+赤色
顔料、Y2SiO3:Ceなどである。
In the present invention, a phosphor layer is formed by discharging a paste containing a phosphor powder from a base having a plurality of discharge ports on the glass substrate on which the partition walls are formed as described above. As the phosphor powder to be used, a phosphor powder that emits red, blue, and green light is used. As the phosphor powder used in the present invention, for example, in the case of red, Y 2 O 3 : Eu and YVO 4 : E
u, (Y, Gd) BO 3 : Eu, Y 2 O 3 S: Eu, γ-
Zn 3 (PO 4 ) 2 : Mn, (ZnCd) S: Ag + In 2
O 3 and the like. In green, Zn 2 GeO 2 : M, BaA
l 12 O 19 : Mn, Zn 2 SiO 4 : Mn, LaPO 4 : T
b, ZnS: Cu, Al, ZnS: Au, Cu, Al,
(ZnCd) S: Cu, Al, Zn 2 SiO 4 : Mn, A
s, Y 3 Al 5 O 12 : Ce, CeMgAl 11 O 19 : Tb,
Gd 2 O 2 S: Tb, Y 3 Al 5 O 12 : Tb, ZnO: Zn
and so on. In blue, Sr 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu,
BaMgAl 14 O 23 : Eu, BaMgAl 16 O 27 : E
u, BaMg 2 Al 14 O 24 : Eu, ZnS: Ag + red pigment, Y 2 SiO 3 : Ce.

【0020】また、ツリウム(Tm)、テルビウム(T
b)およびユーロピウム(Eu)からなる群より選ばれ
た少なくとも1つの元素で、イットリウム(Y)、ガド
リウム(Gd)およびルテチウム(Lu)から選ばれた
少なくとも1つの母体構成稀土類元素を置換したタンタ
ル酸稀土類蛍光体が利用できる。好ましくは、タンタル
酸稀土類蛍光体が組成式Y1-xEuxTaO4(式中、X
はおよそ0.005〜0.1である)で表されるユーロ
ピウム付活タンタル酸イットリウム蛍光体である。赤色
蛍光体には、ユーロピウム付活タンタル酸イットリウム
が好ましく、緑色蛍光体には、タンタル酸稀土類蛍光体
が組成式Y1-xTbxTaO4(式中、Xはおよそ0.0
01〜0.2である)で表されるテルビウム付活タンタ
ル酸イットリウムが好ましい。青色蛍光体には、タンタ
ル酸稀土類蛍光体がY1-xTbxTaO4(式中、Xはお
よそ0.001〜0.2である)で表されるツリウム付
活タンタル酸イットリウムが好ましい。また、緑色蛍光
体には、Mnがケイ酸亜鉛(Zn2SiO4)母体量に対
して0.2重量%以上、0.1重量%未満付活された平
均粒子径2.0μm以上8.0μm以下のマンガン付活
亜鉛蛍光体(Zn2SiO4:Mn)および一般式が(Z
1-xMnx)O・αSiO2(式中、Xおよびαは、
0.01≦X≦0.2、0.5<α≦1.5の範囲の値
である)で表されるマンガン付活ケイ酸亜鉛蛍光体が好
ましい。
In addition, thulium (Tm), terbium (T
b) tantalum substituted by at least one element selected from the group consisting of europium (Eu) and at least one host element rare earth element selected from yttrium (Y), gadolinium (Gd) and lutetium (Lu) Acid rare earth phosphors can be used. Preferably, the rare earth tantalate phosphor has a composition formula of Y 1-x Eu x TaO 4 (where X is
Is approximately 0.005 to 0.1), which is a europium-activated yttrium tantalate phosphor. For the red phosphor, europium-activated yttrium tantalate is preferable, and for the green phosphor, a rare earth tantalate phosphor is represented by a composition formula Y 1-x Tb x TaO 4 (where X is about 0.0
Terbium-activated yttrium tantalate represented by the following formula: The blue phosphor is preferably a thulium-activated yttrium tantalate whose rare earth tantalate phosphor is represented by Y 1-x Tb x TaO 4 (where X is approximately 0.001 to 0.2). . The green phosphor has an average particle diameter of 2.0 μm or more activated with Mn of 0.2% by weight or more and less than 0.1% by weight based on the amount of zinc silicate (Zn 2 SiO 4 ). A manganese-activated zinc phosphor (Zn 2 SiO 4 : Mn) having a particle size of 0 μm or less and a general formula (Z
n in 1-x Mn x) O · αSiO 2 ( wherein X and alpha,
A manganese-activated zinc silicate phosphor represented by the following formula: 0.01 ≦ X ≦ 0.2, 0.5 <α ≦ 1.5) is preferable.

【0021】上記において使用される蛍光体粉末粒子径
は、作製しようとする蛍光体層パターンの線幅、線間隔
(スペース)および厚みを考慮して選ばれるが、50重
量%粒子径が0.5〜10μm、比表面積0.1〜2m
2/gであることが好ましい。より好ましくは50重量
%粒子径を0.5〜5μm、比表面積0.2〜1.0m
2/gである。この範囲にあると、ペーストの混練性が
向上し、緻密な蛍光体層を形成することができるため、
発光効率が向上でき、高寿命になるので好ましい。粉末
粒子径が0.5μm未満、比表面積が2m2/g以上に
なると粉末が細かくなりすぎて、発光輝度が低下するま
での寿命が短くなる。蛍光体粉末の形状としては、多面
体状(粒状)のものが使用できるが、凝集のない粉末が
好ましい。その中で球状の粉末は緻密な蛍光体層を形成
できることから、発光効率を向上できるメリットがあ
る。露光時に散乱の影響を少なくできるのでより好まし
い。蛍光体粉末の球形率が80個数%以上の粒子形状を
有していると好ましい。さらに好ましくは、球形率が9
0個数%以上である。球形率80個数%未満である場合
には、紫外線露光時に蛍光体粉末による散乱の影響を受
けて高精細なパターンが得られにくくなる。球形率の測
定は、蛍光体粉末を光学顕微鏡で300倍の倍率にて撮
影し、このうち計数可能な粒子を計数することにより行
い、球形のものの比率を球形率とする。
The particle diameter of the phosphor powder used in the above is selected in consideration of the line width, line interval (space) and thickness of the phosphor layer pattern to be produced. 5-10 m, specific surface area 0.1-2 m
It is preferably 2 / g. More preferably, the 50% by weight particle size is 0.5 to 5 μm, and the specific surface area is 0.2 to 1.0 m.
2 / g. When the content is within this range, the kneadability of the paste is improved, and a dense phosphor layer can be formed.
It is preferable because the luminous efficiency can be improved and the life can be increased. If the powder particle size is less than 0.5 μm and the specific surface area is 2 m 2 / g or more, the powder becomes too fine, and the life until the emission luminance decreases is shortened. As the shape of the phosphor powder, a polyhedral (granular) shape can be used, but a powder without aggregation is preferable. Among them, spherical powder has a merit of improving luminous efficiency since it can form a dense phosphor layer. This is more preferable because the influence of scattering during exposure can be reduced. It is preferable that the sphere ratio of the phosphor powder has a particle shape of 80% by number or more. More preferably, the sphericity is 9
0% by number or more. If the sphericity is less than 80% by number, it is difficult to obtain a high-definition pattern due to the influence of the scattering of the phosphor powder during ultraviolet exposure. The sphericity is measured by photographing the phosphor powder with an optical microscope at a magnification of 300 times, and counting the number of particles that can be counted. The ratio of spherical particles is defined as the sphericity.

【0022】本発明に使用される有機成分は、バインダ
ー樹脂、溶媒および必要に応じて可塑剤、分散剤、レベ
リング剤などの添加物が含まれる。
The organic component used in the present invention contains a binder resin, a solvent, and, if necessary, additives such as a plasticizer, a dispersant, and a leveling agent.

【0023】バインダー樹脂の具体的な例としては、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルアセテート、ポリビニ
ルアルコール、ポリエチレン、シリコンポリマー(例え
ば、ポリメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキ
サン)、ポリスチレン、ブタジエン/スチレンコポリマ
ー、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアミ
ド、高分子量ポリエーテル、エチレンオキシドとプロピ
レンオキシドのコポリマーポリアクリルアミドおよび種
々のアクリルポリマー(例えば、ポリアクリル酸ナトリ
ウム、ポリ低級アルキルアクリレート、ポリ低級アルキ
ルメタクリレートおよび低級アルキルアクリレートおよ
びメタクリレートの種々のコポリマーおよびマルチポリ
マーである。また、好ましいバインダー樹脂としては、
セルロース化合物(例えば、メチルセルロース、エチル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルヒド
ロキシエチルセルロース)を用いることによって、焼成
後のバインダー残りが少ない蛍光体層を形成できる。
Specific examples of the binder resin include polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyethylene, silicone polymer (for example, polymethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane), polystyrene, butadiene / styrene copolymer, polystyrene, polyvinylpyrrolidone. , Polyamides, high molecular weight polyethers, copolymers of ethylene oxide and propylene oxide, polyacrylamide and various acrylic polymers (eg, sodium polyacrylate, poly (lower alkyl acrylate), poly (lower alkyl methacrylate) and various copolymers of lower alkyl acrylate and methacrylate and multipolymers. Polymer is a preferable binder resin.
By using a cellulose compound (for example, methylcellulose, ethylcellulose, hydroxyethylcellulose, methylhydroxyethylcellulose), it is possible to form a phosphor layer with less binder residue after firing.

【0024】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。
Specific examples of the plasticizer include dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, polyethylene glycol, glycerin and the like.

【0025】溶媒の具体的な例としては、テルピネオー
ル、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、
ベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール、γ−
フェニルアリルアルコール、ジメチルベンジルカルビノ
ール、β−フェニルエチルアルコール、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコー
ル系溶媒、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、テトラヒド
ロフラン、ブチルカルビトールアセテート、ジメチルス
ルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、
クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼ
ン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのう
ちの1種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
特に、アルコール系溶媒が粉末を分散させる上で有利で
ある。中でも、テルピネオールが特に好ましい。また、
テルピネオールとベンジルアルコール等の他のアルコー
ル系溶媒を混合して用いることによって、ペーストの粘
度調整が容易になる。
Specific examples of the solvent include terpineol, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol,
Benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, γ-
Alcohol solvents such as phenylallyl alcohol, dimethylbenzylcarbinol, β-phenylethyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, tetrahydrofuran, butyl carbitol acetate, dimethyl sulfo Oxide, γ-butyrolactone, bromobenzene,
Chlorobenzene, dibromobenzene, dichlorobenzene, bromobenzoic acid, chlorobenzoic acid, and the like, and an organic solvent mixture containing at least one of these are used.
In particular, an alcohol solvent is advantageous in dispersing the powder. Among them, terpineol is particularly preferred. Also,
By using a mixture of terpineol and another alcohol solvent such as benzyl alcohol, the viscosity of the paste can be easily adjusted.

【0026】上記の蛍光体粉末とバインダーおよび溶媒
を所望の比率で混合・混練して蛍光体ペーストを作製す
るが、ペーストの粘度が、2〜50Pa・sのペースト
を用いることにより、ペーストを塗布した際に隔壁側面
の厚みをコントロールすることが容易であり、輝度およ
び表示の均一性を高めるために有効である。
A phosphor paste is prepared by mixing and kneading the above-mentioned phosphor powder, binder and solvent at a desired ratio, and the paste is applied by using a paste having a viscosity of 2 to 50 Pa · s. In this case, it is easy to control the thickness of the side wall of the partition wall, which is effective for improving the brightness and the uniformity of display.

【0027】蛍光体粉末とバインダー樹脂との重量比が
6:1〜3:1である蛍光体ペーストが、高精細のPD
Pを作製する際に厚み均一性を高めることができる。好
ましいペーストの組成としては、赤、緑、青いずれか1
色に発光する蛍光体粉末30〜60重量%、バインダー
樹脂5〜20重量%および溶媒20〜65重量%の組成
にすることによって、ペースト塗布後の乾燥条件によら
ず、隔壁側面と放電空間底部に均一な厚みの蛍光体層を
形成できる。
The phosphor paste in which the weight ratio between the phosphor powder and the binder resin is 6: 1 to 3: 1 is used for a high-definition PD.
When producing P, the thickness uniformity can be improved. The preferred composition of the paste is one of red, green and blue.
A composition of 30 to 60% by weight of a phosphor powder that emits light of a color, 5 to 20% by weight of a binder resin and 20 to 65% by weight of a solvent allows the side surfaces of the partition walls and the bottom of the discharge space to be formed irrespective of the drying conditions after paste application. A phosphor layer having a uniform thickness can be formed.

【0028】また、ペーストの組成は作製するプラズマ
ディスプレイの隔壁高さがHμm、隔壁ピッチPμm、
隔壁線幅Wμmの場合に、蛍光体ペースト中に含まれる
蛍光体粉末の比率a(vol%)の間に以下の関係が成
り立つ組成にすることによって、隔壁側面と放電空間の
底部に均一な厚みの蛍光体層を形成できる。
The composition of the paste is such that the partition height of the plasma display to be manufactured is H μm, the partition pitch is P μm,
In the case where the partition line width is W μm, the composition is such that the following relationship is established between the ratio a (vol%) of the phosphor powder contained in the phosphor paste, so that a uniform thickness is formed on the partition wall side and the bottom of the discharge space. Phosphor layer can be formed.

【0029】(2H+P−W)×5≦H×(P−W)×
a≦(2H+P−W)×30 蛍光体ペースト中に有機染料を添加することによって、
塗布部分と塗布されていない部分を見分け易くなる。こ
の場合、RGBのそれぞれの蛍光体層に異なる色を発色
する有機染料を添加することによって、塗布後の欠陥検
査が容易になる。用いる有機染料としては、ロイコ系染
料、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染
料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキ
ノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレ
ート系、トリアジン系、p−アミノ安息香酸系染料など
が使用できる。具体的には、スダンブルー、スダン4、
ビクトリアピュアブルー、ナイルブルー、ブリリアント
グリーン、ニュートラルレッド、メチルバイオレット等
を用いることができる。
(2H + P−W) × 5 ≦ H × (P−W) ×
a ≦ (2H + P−W) × 30 By adding an organic dye to the phosphor paste,
It becomes easy to distinguish the applied part from the uncoated part. In this case, by adding an organic dye that emits a different color to each of the RGB phosphor layers, a defect inspection after coating becomes easy. As organic dyes to be used, leuco dyes, azo dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, aminoketone dyes, anthraquinone dyes, benzophenone dyes, diphenylcyanoacrylate dyes, triazine dyes, p-aminobenzoic acid dyes Dyes and the like can be used. Specifically, Sudan Blue, Sudan 4,
Victoria Pure Blue, Nile Blue, Brilliant Green, Neutral Red, Methyl Violet and the like can be used.

【0030】本発明においては、バインダー樹脂として
感光性化合物を含む感光性蛍光体ペーストを用いること
もできる。感光性蛍光体ペーストを用いることにより、
フォトマスクを用いて露光・現像を行い不要な部分に付
着した蛍光体ペーストを除去することができる。特に、
塗布した蛍光体ペーストが隔壁の上面に付着した場合や
塗布するべきセルの隣のセルにはみ出した場合に、塗布
すべき部分にのみ光照射して、光が照射されていない部
分を現像によって除去することにより、混色や放電欠陥
を防止することができる。
In the present invention, a photosensitive phosphor paste containing a photosensitive compound as a binder resin can be used. By using photosensitive phosphor paste,
Exposure and development can be performed using a photomask to remove the phosphor paste attached to unnecessary portions. Especially,
When the applied phosphor paste adheres to the upper surface of the partition wall or protrudes into the cell next to the cell to be applied, light is irradiated only to the area to be applied, and the area not irradiated with light is removed by development. By doing so, color mixing and discharge defects can be prevented.

【0031】感光性蛍光体ペーストに用いられる感光性
化合物を含む有機成分とは、感光性ポリマー、感光性モ
ノマー、感光性オリゴマーのうち少なくとも1種類から
選ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて光重
合開始剤、増感剤紫外線吸光剤などの添加物を加えるこ
とも行われる。
The organic component containing a photosensitive compound used in the photosensitive phosphor paste includes a photosensitive component selected from at least one of a photosensitive polymer, a photosensitive monomer, and a photosensitive oligomer. Additives such as a photopolymerization initiator, a sensitizer and an ultraviolet absorber may be added accordingly.

【0032】感光性蛍光体ペーストとして、有機成分1
5〜60重量部、蛍光体粉末40〜85重量部、溶媒1
0〜50重量部からなる組成のペーストが厚み均一性、
パターン形成性を向上する上で有効である。
As the photosensitive phosphor paste, an organic component 1
5 to 60 parts by weight, phosphor powder 40 to 85 parts by weight, solvent 1
The paste having a composition of 0 to 50 parts by weight has a uniform thickness,
This is effective in improving pattern formability.

【0033】本発明に用いる感光性化合物を含む有機成
分量は、15〜60重量%であることが好ましい。15
重量%以下では感光不足のためパターン性が劣化し、6
0重量%以上では、焼成時の脱バインダー性が悪く焼成
不足になる。
The amount of the organic component containing the photosensitive compound used in the present invention is preferably 15 to 60% by weight. Fifteen
If the amount is less than 10% by weight, the patterning property is deteriorated due to insufficient light exposure.
When the content is 0% by weight or more, the binder removal property at the time of firing is poor and the firing is insufficient.

【0034】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、 (A)分子内に不飽和基などを1つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの (B)芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの (C)ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。
The photosensitive component includes a photo-insolubilizing type and a photo-solubilizing type. The photo-insolubilizing type includes: (A) a functional monomer having at least one unsaturated group in the molecule. (B) those containing photosensitive compounds such as aromatic diazo compounds, aromatic azide compounds, and organic halogen compounds. (C) So-called diazo resins such as condensates of diazo amines and formaldehyde. And others.

【0035】また、光可溶型のものとしては、 (D)ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの (E)キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン1,2−ジアジド−5−スルフォン酸エステル等
がある。
Examples of the photo-soluble type include (D) a complex of a diazo compound with an inorganic salt or an organic acid, and a compound containing quinone diazos. (E) a quinone diazo combined with an appropriate polymer binder. For example, there are naphthoquinone 1,2-diazido-5-sulfonic acid ester of phenol and novolak resin.

【0036】本発明で用いる感光性成分は、上記のすべ
てのものを用いることができる。感光性ペーストとし
て、無機微粒子と混合して簡便に用いることができる感
光性成分は、(A)のものが好ましい。
As the photosensitive component used in the present invention, all of the above can be used. As the photosensitive component which can be easily used as a photosensitive paste by being mixed with inorganic fine particles, (A) is preferred.

【0037】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチル
アクリレート、sec−ブチルアクリレート、sec−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、2−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソ
オクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メ
トキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコー
ルアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリ
レート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキ
シエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリ
フロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジ
アクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレー
ト、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、1−ナフチルアクリレート、2−ナフチルアクリ
レート、ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノ
ールA−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、
ビスフェノールA−プロピレンオキサイド付加物のジア
クリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメ
ルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素
原子のうち、1〜5個を塩素または臭素原子に置換した
モノマー、もしくは、スチレン、p−メチルスチレン、
o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、塩素化スチ
レン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α
−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロ
メチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキ
シメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラ
セン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物の分子
内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレー
トに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、1−ビニル−2−ピロリドンなどが挙げら
れる。本発明ではこれらを1種または2種以上使用する
ことができる。
The photosensitive monomer is a compound containing a carbon-carbon unsaturated bond, and specific examples thereof include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, and sec-butyl. Acrylate, sec-
Butyl acrylate, iso-butyl acrylate, te
rt-butyl acrylate, n-pentyl acrylate, allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxytriethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate Heptadecafluorodecyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, isobonyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isodecyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, octafuro Pentyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, trifluoroethyl acrylate, allylated cyclohexyl diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene Glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, glycerol diacrylate, methoxylated cyclohexyl diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, Polypropylene Glycol diacrylate, triglycerol diacrylate,
Trimethylolpropane triacrylate, acrylamide, aminoethyl acrylate, phenyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, benzyl acrylate, 1-naphthyl acrylate, 2-naphthyl acrylate, bisphenol A diacrylate, diacrylate of bisphenol A-ethylene oxide adduct,
Bisphenol A-propylene oxide adduct diacrylate, thiophenol acrylate, benzyl mercaptan acrylate, and monomers in which 1 to 5 hydrogen atoms of these aromatic rings are substituted with chlorine or bromine atoms, or styrene, p -Methylstyrene,
o-methylstyrene, m-methylstyrene, chlorinated styrene, brominated styrene, α-methylstyrene, chlorinated α
-Methyl styrene, brominated α-methyl styrene, chloromethyl styrene, hydroxymethyl styrene, carboxymethyl styrene, vinyl naphthalene, vinyl anthracene, vinyl carbazole, and changing part or all of the acrylate in the molecule of the above compound to methacrylate And γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone and the like. In the present invention, one or more of these can be used.

【0038】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。
In addition to these, the developability after exposure can be improved by adding an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof.

【0039】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。
As the binder, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, methacrylate polymer, acrylate polymer, acrylate ester
Examples include methacrylate copolymers, α-methylstyrene polymers, and butyl methacrylate resins.

【0040】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも1種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。
An oligomer or polymer obtained by polymerizing at least one of the compounds having a carbon-carbon double bond described above can be used.

【0041】重合する際に、これらのモノマーの含有率
が10重量%以上、さらに好ましくは35重量%以上に
なるように、他の感光性のモノマーと共重合することが
できる。
At the time of polymerization, these monomers can be copolymerized with other photosensitive monomers such that the content of these monomers is at least 10% by weight, more preferably at least 35% by weight.

【0042】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。
As a monomer to be copolymerized, the developability after exposure can be improved by copolymerizing an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof.

【0043】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
(AV)は50〜180、さらには70〜140の範囲
が好ましい。酸価が180を越えると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が50未満であると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすることになり、露光部まで剥がれが発生し、高
精細なパターンが得られにくい。
The polymer or oligomer having an acidic group such as a carboxyl group in the side chain thus obtained has an acid value (AV) of preferably from 50 to 180, more preferably from 70 to 140. When the acid value exceeds 180, the allowable development width becomes narrow. On the other hand, if the acid value is less than 50, the solubility of the unexposed portion in the developer decreases, so that the concentration of the developer is increased, and peeling occurs up to the exposed portion, and a high-definition pattern is obtained. It is hard to be.

【0044】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。
By adding a photoreactive group to the polymer or oligomer described above to a side chain or a molecular terminal, the polymer or oligomer can be used as a photosensitive polymer or oligomer having photosensitivity.

【0045】好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和
基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、
ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが
あげられる。
Preferred photoreactive groups are those having an ethylenically unsaturated group. As the ethylenically unsaturated group,
Examples include a vinyl group, an allyl group, an acryl group, and a methacryl group.

【0046】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。
A method for adding such a side chain to an oligomer or a polymer is based on a method in which an ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an isocyanate group, an acrylic acid, or There is a method in which chloride, methacrylic chloride or allyl chloride is added to make an addition reaction.

【0047】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。
Examples of the ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl ethyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, glycidyl crotonate, and glycidyl ether isocrotonic acid. .

【0048】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、(メタ)アクリロイルイソシアネー
ト、(メタ)アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。
Examples of the ethylenically unsaturated compound having an isocyanate group include (meth) acryloyl isocyanate and (meth) acryloylethyl isocyanate.

【0049】また、グリシジル基やイソシアネート基を
有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライ
ド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド
は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカ
ルボキシル基に対して0.05〜1モル当量付加させる
ことが好ましい。
The ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an isocyanate group, acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride or allyl chloride is used in an amount of 0.05 to 0.05 to the mercapto group, amino group, hydroxyl group and carboxyl group in the polymer. It is preferable to add one molar equivalent.

【0050】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,
4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4−ジク
ロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,
2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−
2−フェニル−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチル
チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキ
シエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、
2−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキ
ノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズ
アントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、
4−アジドベンザルアセトフェノン、2,6−ビス(p
−アジドベンジリデン)シクロヘキサノン、2,6−ビ
ス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキ
サノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o
−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロ
パンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシ
ム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o
−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−
エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)
オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−[4−(メチ
ルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノ
ン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホ
ニルクロライド、N−フェニルチオアクリドン、4,4
−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィ
ド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホス
フィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモ
フェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、
メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン
酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせな
どがあげられる。本発明ではこれらを1種または2種以
上使用することができる。
As specific examples of the photopolymerization initiator,
Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,
4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-
Bis (diethylamino) benzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenylketone, dibenzylketone, fluorenone, 2,
2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-
2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyl, Benzyl dimethyl ketanol, benzyl methoxyethyl acetal, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone,
2-t-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone,
4-azidobenzalacetophenone, 2,6-bis (p
-Azidobenzylidene) cyclohexanone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadione-2- (o
-Methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o
-Ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-
Ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl)
Oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, N-phenylthioacridone, 4,4
-Azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzothiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, carbon tetrabromide, tribromophenyl sulfone, benzoin peroxide and eosin,
Examples include a combination of a photoreducing dye such as methylene blue and a reducing agent such as ascorbic acid and triethanolamine. In the present invention, one or more of these can be used.

【0051】光重合開始剤は、感光性成分に対し、0.
1〜6重量%の範囲で添加され、より好ましくは、0.
2〜5重量%である。重合開始剤の量が少なすぎると光
に対する感度が鈍くなり、光重合開始剤の量が多すぎれ
ば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
The photopolymerization initiator is used in an amount of 0.
It is added in the range of 1 to 6% by weight, more preferably, 0.1 to 6% by weight.
2 to 5% by weight. If the amount of the polymerization initiator is too small, the sensitivity to light becomes low, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the residual ratio of the exposed portion may be too small.

【0052】紫外線吸光剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い吸光剤を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸光剤としては有機系染料からなるもの、中でも35
0〜450nmの波長範囲で高UV吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、p−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の
低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ
系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の
添加量は0.05〜5重量%が好ましい。0.05重量
%以下では紫外線吸光剤の添加効果が減少し、5重量%
を越えると焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましく
ない。より好ましくは0.15〜1重量%である。有機
顔料からなる紫外線吸光剤の添加方法の一例を上げる
と、有機顔料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、
次に該有機溶媒中にガラス粉末を混合後、乾燥すること
によってできる。この方法によってガラス粉末の個々の
粉末表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル状の
粉末が作製できる。
It is also effective to add an ultraviolet absorber. A high aspect ratio, high definition, and high resolution can be obtained by adding a light absorbing agent having a high ultraviolet absorbing effect. UV absorbers composed of organic dyes, especially 35
Organic dyes having a high UV absorption coefficient in the wavelength range of 0 to 450 nm are preferably used. Specifically, azo dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, aminoketone dyes, anthraquinones, benzophenones, diphenylcyanoacrylates, triazines, p-aminobenzoic acid dyes and the like can be used. . Even when the organic dye is added as a light absorbing agent, it is preferable because deterioration of the insulating film characteristics due to the light absorbing agent can be reduced without remaining in the insulating film after firing. Among these, azo dyes and benzophenone dyes are preferred. The addition amount of the organic dye is preferably 0.05 to 5% by weight. When the content is less than 0.05% by weight, the effect of adding the ultraviolet absorber is reduced, and
Exceeding the range is not preferred because the properties of the insulating film after firing deteriorate. More preferably, it is 0.15 to 1% by weight. To give an example of the method of adding an ultraviolet light absorber composed of an organic pigment, to prepare a solution in which the organic pigment was previously dissolved in an organic solvent,
Next, the glass powder can be mixed with the organic solvent and dried. By this method, a so-called capsule-like powder in which an organic film is coated on the surface of each glass powder can be produced.

【0053】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、2,4−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、2,3−ビ
ス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン、
2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザル)シクロヘ
キサノン、2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザ
ル)−4−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
4,4−ビス(ジエチルアミノ)−ベンゾフェノン、
4,4−ビス(ジメチルアミノ)カルコン、4,4−ビ
ス(ジエチルアミノ)カルコン、p−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、p−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、2−(p−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン)−イソナフトチアゾール、1,3−ビス(4−
ジメチルアミノベンザル)アセトン、1,3−カルボニ
ル−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)アセトン、
3,3−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリ
ン)、N−フェニル−N−エチルエタノールアミン、N
−フェニルエタノールアミン、N−トリルジエタノール
アミン、N−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、3−フェニル−5−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、1−フェニル−5−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを1種また
は2種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性成分に対して通常0.05〜10重量%、より
好ましくは0.1〜10重量%である。増感剤の量が少
なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感
剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。
A sensitizer is added to improve the sensitivity. Specific examples of the sensitizer include 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,3-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone,
2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) -4-methylcyclohexanone, Michler's ketone,
4,4-bis (diethylamino) -benzophenone,
4,4-bis (dimethylamino) chalcone, 4,4-bis (diethylamino) chalcone, p-dimethylaminocinnamylidene indanone, p-dimethylaminobenzylidene indanone, 2- (p-dimethylaminophenylvinylene)- Isonaphthothiazole, 1,3-bis (4-
Dimethylaminobenzal) acetone, 1,3-carbonyl-bis (4-diethylaminobenzal) acetone,
3,3-carbonyl-bis (7-diethylaminocoumarin), N-phenyl-N-ethylethanolamine, N
-Phenylethanolamine, N-tolyldiethanolamine, N-phenylethanolamine, isoamyl dimethylaminobenzoate, isoamyl diethylaminobenzoate, 3-phenyl-5-benzoylthiotetrazole, 1-phenyl-5-ethoxycarbonylthiotetrazole and the like. Can be In the present invention, one or more of these can be used. Some sensitizers can also be used as photopolymerization initiators. When a sensitizer is added to the photosensitive paste of the present invention, the amount is usually 0.05 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight, based on the photosensitive component. If the amount of the sensitizer is too small, the effect of improving the photosensitivity is not exhibited, and if the amount of the sensitizer is too large, the residual ratio of the exposed portion may be too small.

【0054】感光性蛍光体ペーストは、通常、蛍光体粉
末、紫外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、
光重合開始剤および溶剤の各種成分を所定の組成となる
ように調合した後、3本ローラーや混練機で均質に混合
分散し作製する。
The photosensitive phosphor paste is usually composed of a phosphor powder, an ultraviolet absorber, a photosensitive polymer, a photosensitive monomer,
After blending various components of the photopolymerization initiator and the solvent so as to have a predetermined composition, the mixture is uniformly mixed and dispersed by using three rollers or a kneader to produce.

【0055】ペーストの粘度は蛍光体粉末、有機溶媒、
可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によって適宜調
製されるが、その範囲は2〜50Pa・sが好ましく、
より好ましくは5〜20Pa・sである。
The paste has a viscosity of phosphor powder, organic solvent,
It is appropriately adjusted depending on the addition ratio of a plasticizer and a suspending agent, but the range is preferably 2 to 50 Pa · s,
More preferably, it is 5 to 20 Pa · s.

【0056】次に、本発明の蛍光体層の形成について説
明する。上記のようにして準備された蛍光体ペースト
は、複数の隔壁を設けた基板の隔壁間(隔壁と隔壁の
間)に塗布される。図1は、電極、誘電体、隔壁が設け
られた基板の隔壁間に、口金の吐出口から、蛍光体ペー
ストが吐出され塗布されている状態を示している。ま
た、図2は、このような基板と口金の位置関係を説明す
るために用意された図面であり、以下説明する本発明の
理解に一層役立つ。
Next, the formation of the phosphor layer of the present invention will be described. The phosphor paste prepared as described above is applied between partition walls (between partition walls) of a substrate provided with a plurality of partition walls. FIG. 1 shows a state in which a phosphor paste is discharged from a discharge port of a base and applied between partition walls of a substrate provided with electrodes, dielectrics, and partition walls. FIG. 2 is a drawing prepared for explaining such a positional relationship between the substrate and the base, and is more useful for understanding the present invention described below.

【0057】上記の蛍光体ペーストを吐出するための吐
出口として、先端に吐出孔やノズル、ニードルを有する
金属やセラミックス、プラスチック製の口金を有する口
金を用いることができる。吐出口には、孔径(内径)1
0〜500μmのものを用いることができるが、好まし
い孔径は50〜500μmである。孔径が10μmより
もちいさい場合は、蛍光体粉末による詰まりが生じやす
く、孔径が500μmよりも大きい場合は、高精細への
塗布時に隣のセルに蛍光体ペーストが漏れ出すという課
題がある。また、隣り合う隔壁の間隔(S)と吐出口の
平均孔径(D)が、次式の条件を満たすことによって、
隔壁上部への蛍光体ペーストの付着を抑制することがで
きる。
As a discharge port for discharging the phosphor paste, a base having a metal, ceramics, or plastic base having a discharge hole, a nozzle, or a needle at the tip can be used. The outlet has a hole diameter (inner diameter) of 1
Although a pore having a diameter of 0 to 500 μm can be used, a preferable pore diameter is 50 to 500 μm. When the pore size is smaller than 10 μm, clogging with the phosphor powder is liable to occur, and when the pore size is larger than 500 μm, there is a problem that the phosphor paste leaks to an adjacent cell during application to high definition. Further, when the distance (S) between the adjacent partition walls and the average pore diameter (D) of the discharge port satisfy the following expression,
Adhesion of the phosphor paste to the upper part of the partition can be suppressed.

【0058】10μm≦D≦S≦500μm 吐出口数は1〜6000個の孔を用いることができる
が、20〜2000個の孔が望ましい。孔が20個未満
では、塗布するための時間がかかりすぎる。望ましくは
150個以上にすることにより、高精細のPDPに対応
する蛍光体層を短時間で形成することができる。孔数が
2000個を越える場合は、吐出口部分の加工精度を確
保することが困難になり、高精細のPDPに対応するこ
とは困難になる。また、吐出口数を16n±5(nは自
然数)の範囲にすることによって、汎用の回路で駆動可
能なPDPに対して、蛍光体層を形成することが容易に
なる。
10 .mu.m.ltoreq.D.ltoreq.S.ltoreq.500 .mu.m The number of discharge ports can be from 1 to 6000, but preferably from 20 to 2000. If the number of holes is less than 20, it takes too much time for coating. Desirably, when the number is 150 or more, a phosphor layer corresponding to a high-definition PDP can be formed in a short time. If the number of holes exceeds 2,000, it becomes difficult to ensure the processing accuracy of the discharge port portion, and it becomes difficult to support a high-definition PDP. Further, by setting the number of discharge ports to a range of 16n ± 5 (n is a natural number), it becomes easy to form a phosphor layer on a PDP that can be driven by a general-purpose circuit.

【0059】吐出口のピッチとしては、0.12〜3m
mが望ましい。0.12mm未満では吐出口と吐出口の
間隔が小さくなるため、口金作製が困難になり、3mm
を越えると、300μm以下のピッチで隔壁が形成され
たガラス基板に塗布する場合には、塗布制御が困難にな
る。また、吐出口のピッチを隔壁ピッチの3m倍(mは
1〜10の整数)にすることにより、精度良く効率的に
塗布することができる。さらに、吐出口の長さ(L)と
吐出口の平均孔径(D)について、下式を満たす口金に
より、ペーストの吐出性が向上する。
The pitch of the discharge ports is 0.12 to 3 m
m is desirable. If the distance is less than 0.12 mm, the distance between the discharge ports becomes small, so that it is difficult to produce a die.
Is exceeded, it is difficult to control the application when coating is performed on a glass substrate on which partition walls are formed at a pitch of 300 μm or less. Further, by setting the pitch of the discharge ports to 3 m times the partition pitch (m is an integer of 1 to 10), the coating can be performed accurately and efficiently. Further, with respect to the length (L) of the discharge port and the average hole diameter (D) of the discharge port, the discharge performance of the paste is improved by the base satisfying the following formula.

【0060】L/D=0.1〜600 L/Dが600を越えると、圧力損失が大きくなるた
め、ペーストの吐出量が少なくなり、蛍光体層の厚みが
薄くなる。また、0.1未満になると、吐出口からのペ
ーストのたれが大きくなる。
L / D = 0.1 to 600 When L / D exceeds 600, the pressure loss increases, so that the amount of paste discharged is reduced and the thickness of the phosphor layer is reduced. On the other hand, when it is less than 0.1, the dripping of the paste from the discharge port becomes large.

【0061】吐出口から蛍光体ペーストを吐出するため
には、一定範囲の圧力で連続的にペーストを加圧して、
その圧力でペーストを吐出する事が好ましい。これによ
り、ペーストの吐出量を一定に保つことができ、安定し
た塗布厚みを得ることができる。
In order to discharge the phosphor paste from the discharge port, the paste is continuously pressurized at a certain range of pressure.
It is preferable to discharge the paste at that pressure. Thereby, the discharge amount of the paste can be kept constant, and a stable coating thickness can be obtained.

【0062】図1に示したように、吐出口からペースト
を吐出しながら、口金と基板を基板上の隔壁に対して平
行に相対移動させることにより、蛍光体ペーストを塗布
することができる。この場合、基板を固定して口金を走
行させても良いし、口金を固定して基板の方を走行させ
ても良い。あるいは、両方を同時に走行させてもかまわ
ない。
As shown in FIG. 1, the phosphor paste can be applied by moving the base and the substrate relatively to the partition on the substrate while discharging the paste from the discharge port. In this case, the base may be run with the substrate fixed, or the base may be run with the base fixed. Alternatively, both may be run at the same time.

【0063】口金の吐出口から蛍光体ペーストの吐出を
止める際に、口金内部を負圧の状態とすることにより、
塗布端部の液だれがなく、塗布厚みばらつきなくペース
トを塗布することができる。
When the discharge of the phosphor paste from the discharge port of the base is stopped, the inside of the base is kept in a negative pressure state.
The paste can be applied without dripping at the application end and without variation in application thickness.

【0064】また、口金とガラス基板の基板上の隔壁に
対して平行に相対移動開始以降に蛍光体ペースト吐出を
開始し、かつ、相対移動終了以前に吐出を止めることに
よっても、塗布端部の液だれによる厚みばらつきを抑制
できる。
Further, the discharge of the phosphor paste is started after the relative movement is started in parallel with the base and the partition on the glass substrate, and the discharge is stopped before the end of the relative movement. Variation in thickness due to dripping can be suppressed.

【0065】吐出する場合の吐出口先端部とガラス基板
上に形成された隔壁上端部の間隔は、0.01〜2m
m、好ましくは0.05〜0.5mmである。吐出口と
隔壁上端部の接触を抑制するためには0.01mm以
上、さらには0.05mm以上が好ましい。また、吐出
口から吐出したペーストが切れることを防止するために
は、2mm以下、さらには0.5mm以下が好ましい。
In the case of discharging, the distance between the distal end of the discharge port and the upper end of the partition formed on the glass substrate is 0.01 to 2 m.
m, preferably 0.05 to 0.5 mm. In order to suppress the contact between the discharge port and the upper end of the partition, the thickness is preferably 0.01 mm or more, more preferably 0.05 mm or more. In order to prevent the paste discharged from the discharge port from being cut, the thickness is preferably 2 mm or less, more preferably 0.5 mm or less.

【0066】また、装置上に複数の口金を取り付けて同
時に塗布することにより、効率よく短時間で塗布するこ
とができる。この場合、複数の口金を同じ速度で動かす
ことにより均一な厚みで塗布することができる。また、
3つ以上の口金を取り付けて、該3つ以上の口金から異
なる色に発色する蛍光体を含有するペーストを吐出する
ことによって、1度にRGB3色を塗布することが可能
になる。さらに、1つの口金から3色の蛍光体ペースト
を吐出することもできる。この場合、異なる色の蛍光体
ペーストを吐出する吐出口の最短間隔が600μm以上
にすることによって、RGBそれぞれの蛍光体の混色を
防止することができる。
In addition, by applying a plurality of bases on the apparatus and applying simultaneously, the application can be performed efficiently and in a short time. In this case, it is possible to apply a uniform thickness by moving a plurality of bases at the same speed. Also,
By attaching three or more bases and discharging a paste containing a phosphor that emits a different color from the three or more bases, it becomes possible to apply three colors of RGB at a time. Further, three color phosphor pastes can be discharged from one base. In this case, mixing of the RGB phosphors can be prevented by setting the shortest interval between the ejection ports for ejecting phosphor pastes of different colors to be 600 μm or more.

【0067】また、高精細隔壁上に蛍光体層を形成する
場合などは、1色ごとに塗布して、1色塗布するごとに
乾燥工程を経ることにより、混色を防止することができ
る。
In the case where a phosphor layer is formed on a high-definition partition wall, color mixing can be prevented by applying each color and passing through a drying step after each color application.

【0068】本発明において、蛍光体ペーストを吐出口
から吐出した後、乾燥工程、焼成工程等の加熱工程を用
いて、水や有機溶媒、有機成分等を蒸発もしくは分解し
て除去することにより、蛍光体層を形成することができ
る。
In the present invention, after the phosphor paste is discharged from the discharge port, water, an organic solvent, organic components and the like are removed by evaporation or decomposition using a heating step such as a drying step and a baking step. A phosphor layer can be formed.

【0069】この場合の加熱工程において、通常蛍光体
塗布面を上にして乾燥するが、蛍光体塗布面を下にして
乾燥しても良い。蛍光体塗布面を下にすることによっ
て、蛍光体ペーストが隔壁側面を伝うことにより、隔壁
側面に蛍光体層を形成することができる。蛍光体層を隔
壁間だけでなく隔壁側面にも形成することによって、蛍
光体面の面積を大きくでき、プラズマディスプレイの輝
度向上に有効である。
In the heating step in this case, drying is usually performed with the phosphor-coated surface up, but drying may be performed with the phosphor-coated surface down. By setting the phosphor application surface downward, the phosphor paste is transmitted along the side wall of the partition wall, so that a phosphor layer can be formed on the side wall of the partition wall. By forming the phosphor layer not only between the partition walls but also on the side surfaces of the partition walls, the area of the phosphor surface can be increased, which is effective for improving the brightness of the plasma display.

【0070】また、蛍光体ペーストとして、感光性蛍光
体ペーストを用いることによって、フォトリソグラフィ
ーによるパターン加工が可能になる。この場合、塗布工
程を経て形成された蛍光体が隔壁の上部などの不要な部
分に形成された蛍光体を取り除くのに有効である。
By using a photosensitive phosphor paste as the phosphor paste, pattern processing by photolithography becomes possible. In this case, the phosphor formed through the coating process is effective for removing the phosphor formed on an unnecessary portion such as the upper part of the partition.

【0071】RGB各色の感光性蛍光体ペーストを吐出
口から吐出して塗布した後、フォトマスクを介して露光
し、露光部分のペーストを現像液に対して可溶化または
不溶化することにより、現像工程で不要な部分を取り除
き、蛍光体層を形成することができる。現像液は、感光
性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機溶媒を使
用できる。また該有機溶媒にその溶解力が失われない範
囲で水を添加してもよい。感光性ペースト中にカルボキ
シル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカ
リ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液として水酸化ナ
トリウムや水酸化カルシウム水溶液などのような金属ア
ルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用
いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ま
しい。
The photosensitive phosphor paste of each color of RGB is discharged from the discharge port and applied, and then exposed through a photomask, and the exposed portion of the paste is solubilized or insolubilized in a developing solution, so that a developing process is performed. Thus, unnecessary portions can be removed and a phosphor layer can be formed. As the developing solution, an organic solvent in which an organic component in the photosensitive paste can be dissolved can be used. Water may be added to the organic solvent as long as the solvent does not lose its solubility. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, development can be performed with an aqueous alkali solution. As the alkali aqueous solution, a metal alkali aqueous solution such as a sodium hydroxide or calcium hydroxide aqueous solution can be used, but it is preferable to use an organic alkali aqueous solution since the alkali component can be easily removed at the time of firing.

【0072】有機アルカリとしては、アミン化合物を用
いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常
0.01〜10重量%、より好ましくは0.1〜5重量
%である。アルカリ濃度が低すぎれば未露光部が除去さ
れずに、アルカリ濃度が高すぎれば、パターン部を剥離
させ、また露光部を腐食させるおそれがあり良くない。
また、現像時の現像温度は、20〜50℃で行うことが
工程管理上好ましい。
As the organic alkali, an amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and the like. The concentration of the alkaline aqueous solution is usually 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the unexposed portions are not removed, and if the alkali concentration is too high, the pattern portions may be peeled off and the exposed portions may be corroded, which is not good.
The development temperature during development is preferably from 20 to 50 ° C. from the viewpoint of process control.

【0073】蛍光体層の厚みは、側面(隔壁高さの半分
の位置での)蛍光体層の厚み(T1)と底部厚み(T
2)の間で、下記の関係を示すことにより、輝度に優れ
たプラズマディスプレイを作製することができる。
The thickness of the phosphor layer is determined by the thickness (T1) of the side face (at half the height of the partition wall) and the bottom thickness (T1).
By showing the following relationship between 2), a plasma display excellent in luminance can be manufactured.

【0074】10≦T1≦50μm 10≦T2≦50μm T1またはT2が10μm未満の場合は、放電で生じた
紫外線が蛍光体層を通り抜けるため、十分な輝度を得る
ことが困難であり、50μmを越えると放電電圧が高く
なるなどの欠点がある。
10 ≦ T1 ≦ 50 μm 10 ≦ T2 ≦ 50 μm If T1 or T2 is less than 10 μm, it is difficult to obtain sufficient luminance because ultraviolet rays generated by discharge pass through the phosphor layer, and it is difficult to obtain a sufficient luminance. However, there are disadvantages such as an increase in discharge voltage.

【0075】また、T1とT2の関係については、次式
を満たすことが好ましい。
The relationship between T1 and T2 preferably satisfies the following expression.

【0076】0.2≦T1/T2≦5 側面の厚みと底部の厚みの比率が、大きすぎたり、小さ
すぎたりする場合は、表示画面に視野角依存性が生じや
すくなり、大型画面化に問題がある。
0.2 ≦ T1 / T2 ≦ 5 When the ratio of the thickness of the side surface to the thickness of the bottom portion is too large or too small, the viewing angle is likely to be dependent on the display screen. There's a problem.

【0077】蛍光体ペーストを所定の位置に塗布した後
に、焼成炉にて焼成を行うことにより有機成分を除去し
て、蛍光体層を形成できる。焼成雰囲気や、温度はペー
ストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水
素等の雰囲気中で焼成する。焼成温度は300〜550
℃で行う。好ましくは、350〜500℃である。
After the phosphor paste is applied to a predetermined position, the phosphor component is removed by firing in a firing furnace to remove the organic components. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of the paste and the substrate, but firing is performed in an atmosphere of air, nitrogen, hydrogen, or the like. Firing temperature is 300 ~ 550
Perform at ° C. Preferably, it is 350-500 ° C.

【0078】隔壁の上面部に蛍光体が付着した場合、前
面板と合わせて封着する場合に隔壁で各セルが十分仕切
られないことによる放電漏れが生じるため、上面部には
蛍光体に付着する場合は、粘着体に付着させることによ
り、除去する方法を用いることができる。
When the phosphor adheres to the upper surface of the partition wall, when the cell is sealed together with the front plate, discharge leakage occurs due to insufficient partitioning of the cells by the partition wall. In this case, a method of removing the adhesive by attaching the adhesive to the adhesive can be used.

【0079】有機成分を完全に除去するためには、30
0℃、好ましくは350℃に昇温する必要があり、熱に
よる蛍光体の劣化を抑制するためには550℃以下、好
ましくは500℃以下にする必要がある。焼成炉として
は、バッチ式の焼成炉やベルト式またはローラーハース
式の連続型焼成炉を用いることができる。
In order to completely remove the organic components, 30
The temperature needs to be raised to 0 ° C., preferably 350 ° C., and must be 550 ° C. or lower, preferably 500 ° C. or lower in order to suppress the deterioration of the phosphor due to heat. As the firing furnace, a batch type firing furnace or a belt type or roller hearth type continuous firing furnace can be used.

【0080】蛍光体層を形成した基板を前背面のガラス
基板と合わせて封着する。前面板は、ITOとバス電極
からなる放電維持電極、ガラス層からなる誘電体、放電
から誘電体を保護するための保護膜(通常は酸化マグネ
シウム)が形成され、必要に応じて、カラーフィルター
やブラックマトリクス、ブラックストライプが形成され
る。前面板と背面板の封着は、ガラスフリット等を用い
て行う。
The substrate on which the phosphor layer has been formed is sealed together with the front and rear glass substrates. The front plate is formed with a discharge sustaining electrode composed of ITO and a bus electrode, a dielectric composed of a glass layer, and a protective film (usually magnesium oxide) for protecting the dielectric from discharge. A black matrix and a black stripe are formed. The sealing between the front plate and the back plate is performed using a glass frit or the like.

【0081】次に、前面板と背面板の間に、ヘリウム、
ネオン、キセノン等の希ガスを封入することによって、
プラズマディスプレイのパネル部分を製造できる。さら
に、駆動用のドライバーICを実装することによって、
プラズマディスプレイを製造することができる。前面板
と背面板の電極をマトリクス駆動することにより表示が
可能になる。
Next, helium was added between the front plate and the back plate.
By encapsulating rare gases such as neon and xenon,
A panel portion of a plasma display can be manufactured. Furthermore, by mounting a driver IC for driving,
A plasma display can be manufactured. Display can be performed by driving the electrodes on the front plate and the rear plate in a matrix.

【0082】次に、本発明の蛍光体ペーストを塗布する
ための装置について説明する。本発明の蛍光体ペースト
を塗布するための装置としては、複数の隔壁を形成した
基板を載置するテーブル面と、該基板上の隔壁間に蛍光
体ペーストをストライプ状に形成する隔壁配置に対応し
た複数の吐出口を有する口金を備える装置を用いること
ができる。
Next, an apparatus for applying the phosphor paste of the present invention will be described. The apparatus for applying the phosphor paste of the present invention corresponds to a table surface on which a substrate on which a plurality of partitions are formed is placed, and a partition arrangement in which the phosphor paste is formed in stripes between the partitions on the substrate. An apparatus having a base having a plurality of discharge ports can be used.

【0083】図3は、この発明の一実施態様に係るプラ
ズマディスプレイの製造装置の全体斜視図であり、図4
は、図3のテーブル6と口金20周りの概略図である。
FIG. 3 is an overall perspective view of a plasma display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic view of the vicinity of the table 6 and the base 20 of FIG.

【0084】基台2上には、一対のガイド溝レール8を
設けており、このガイド溝レール8上にテーブル6を配
置している。このテーブル6には、複数の吸引孔7を設
け、表面に一定ピッチの隔壁を有する基板4を真空吸引
によりテーブル面に固定する。また図示しないリフトピ
ンによって、基板4はテーブル6上を昇降する。さらに
テーブル6は、スライド脚9を介してガイド溝レール8
上をX軸方向に往復動自在となっている。
A pair of guide groove rails 8 is provided on the base 2, and the table 6 is arranged on the guide groove rails 8. The table 6 is provided with a plurality of suction holes 7, and the substrate 4 having the partition walls at a constant pitch on the surface is fixed to the table surface by vacuum suction. The substrate 4 is moved up and down on the table 6 by lift pins (not shown). Further, the table 6 is connected to the guide groove rails 8 via the slide legs 9.
The upper part is reciprocable in the X-axis direction.

【0085】一対のガイド溝レール8の間には、送りね
じ機構を構成するフィードスクリュー10が、テーブル
6の下面に固定されたナット状のコネクタ11を貫通し
て延びている。フィードスクリュー10の両端部は、軸
受12によって回転自在に支持され、さらに片方の一端
はACサーボモータ16が連結されている。
A feed screw 10 constituting a feed screw mechanism extends between the pair of guide groove rails 8 through a nut-shaped connector 11 fixed to the lower surface of the table 6. Both ends of the feed screw 10 are rotatably supported by bearings 12, and one end of the feed screw 10 is connected to an AC servomotor 16.

【0086】テーブル6の上方には、蛍光体ペーストを
吐出する口金20が、ホルダー22を介して昇降機構3
0、幅方向移動機構36に連結されている。昇降機構3
0は昇降可能な昇降ブラケット28を備えており、昇降
機構30のケーシング内部で一対のガイドロッドに昇降
自在に取り付けられている。また、このケーシング内に
は、ガイドロッド間に位置してボールねじからなるフィ
ードスクリュー(図示しない)もまた回転自在に配置さ
れており、ナット型のコネクタを介して昇降ブラケット
28と連結されている。さらにフィードスクリューの上
端には図示しないACサーボモータが接続されており、
このACサーボモータの回転によって昇降ブラケット2
8を任意に昇降動作させることができる。
Above the table 6, a base 20 for discharging the phosphor paste is provided via a holder 22 with a lifting mechanism 3.
0, connected to the width direction moving mechanism 36. Lifting mechanism 3
Numeral 0 is provided with a vertically movable bracket 28, which is attached to a pair of guide rods inside the casing of the vertically movable mechanism 30 so as to be vertically movable. In this casing, a feed screw (not shown) formed of a ball screw is also rotatably disposed between the guide rods, and is connected to the lifting bracket 28 via a nut-type connector. . An AC servo motor (not shown) is connected to the upper end of the feed screw,
The rotation of the AC servomotor causes the lifting bracket 2
8 can be arbitrarily moved up and down.

【0087】さらに昇降機構30は、Y軸移動ブラケッ
ト32を介して幅方向移動機構36に連結されている。
幅方向移動機構36は、Y軸移動ブラケット32をY軸
方向に往復動自在に移動させるものである。動作のため
に必要なガイドロッド、フィードスクリュー、ナット型
コネクター、ACサーボモータ等は、ケーシング内に昇
降機構30と同じように配置されている。幅方向移動機
構36は支柱34で基台2上に固定されている。これら
の構成によって、口金20はZ軸とY軸方向に自在に移
動させることができる。
Further, the elevating mechanism 30 is connected to a width direction moving mechanism 36 via a Y-axis moving bracket 32.
The width direction moving mechanism 36 moves the Y-axis moving bracket 32 so as to be able to reciprocate in the Y-axis direction. A guide rod, a feed screw, a nut-type connector, an AC servomotor, and the like necessary for the operation are arranged in the casing in the same manner as the lifting mechanism 30. The width direction moving mechanism 36 is fixed on the base 2 with the support columns 34. With these configurations, the base 20 can be freely moved in the Z-axis and Y-axis directions.

【0088】口金20は、テーブル6の往復動方向と直
交する方向、つまり、Y軸方向に水平に延びているが、
これを直接保持するホルダー22は、昇降ブラケット2
8内で回転自在に支持されており、垂直面内で自在に図
3の矢印方向に回転することができる。
The base 20 extends horizontally in the direction orthogonal to the reciprocating direction of the table 6, that is, in the Y-axis direction.
The holder 22 for directly holding the lifting bracket 2
8 so as to be freely rotatable in a vertical plane in the direction of the arrow in FIG.

【0089】ホルダー22の上方に位置する水平バー2
4もまた、昇降ブラケット28に固定されている。水平
バー24の両端部には、電磁作動型のリニアアクチュエ
ータ26が取り付けられている。リニアアクチュエータ
26は、水平バー24の下面から突出する伸縮ロッド2
9を有し、これら伸縮ロッド29がホルダー22の両端
に接触することによってホルダー22の回転角度を規制
することができ、結果として口金20の傾き度を任意に
設定することができる。
The horizontal bar 2 located above the holder 22
4 is also fixed to the lifting bracket 28. At both ends of the horizontal bar 24, electromagnetically actuated linear actuators 26 are attached. The linear actuator 26 includes a telescopic rod 2 protruding from the lower surface of the horizontal bar 24.
When the telescopic rods 29 come into contact with both ends of the holder 22, the rotation angle of the holder 22 can be regulated, and as a result, the inclination of the base 20 can be set arbitrarily.

【0090】基台2の上面には、逆L字形のセンサ支柱
38とカメラ支柱70が固定されている。センサ支柱3
8の先端には、テーブル6上の基板4の表面の隔壁の上
端部の高さを測定するための高さセンサ40が取り付け
られている。また、テーブル6の一端には、センサーブ
ラケット64を介して位置センサー66を設け、口金2
0の吐出口のある下端面の、テーブル6に対する垂直方
向の位置を検出する。
On the upper surface of the base 2, an inverted L-shaped sensor support 38 and a camera support 70 are fixed. Sensor support 3
A height sensor 40 for measuring the height of the upper end of the partition on the surface of the substrate 4 on the table 6 is attached to the tip of the table 8. At one end of the table 6, a position sensor 66 is provided via a sensor bracket 64,
The position of the lower end surface having the 0 discharge port in the vertical direction with respect to the table 6 is detected.

【0091】カメラ支柱70の先端には、基板4の表面
の隔壁もしくは隔壁間の位置または隔壁部以外にある原
点マークを検知するカメラ72が取り付けられている。
図4に示すように、カメラ72は画像処理装置74に電
気的に接続されており、基板4の隔壁もしくは隔壁間の
位置および隔壁間の数、ならびに、原点マークの位置を
定量的に求めることができる。
At the tip of the camera support 70, a camera 72 for detecting a partition on the surface of the substrate 4, a position between the partitions, or an origin mark other than the partition is mounted.
As shown in FIG. 4, the camera 72 is electrically connected to the image processing device 74, and quantitatively obtains the positions of the partitions on the substrate 4, the positions between the partitions and the number between the partitions, and the positions of the origin marks. Can be.

【0092】図4において、口金20はマニホールド4
1を有し、マニホールド41内に蛍光体ペースト42を
充填して吐出口44から蛍光体ペースト42を吐出す
る。口金20には供給ホース46が接続され、吐出用電
磁切換え弁48、供給ユニット50、吸引ホース52、
吸引用電磁切換え弁54、蛍光体ペーストタンク56へ
と連なっている。蛍光体ペーストタンク56には蛍光体
ペースト42が蓄えられている。
In FIG. 4, the base 20 is the manifold 4
1, the manifold 41 is filled with the phosphor paste 42, and the phosphor paste 42 is discharged from the discharge port 44. A supply hose 46 is connected to the base 20, and a discharge electromagnetic switching valve 48, a supply unit 50, a suction hose 52,
The suction electromagnetic switching valve 54 and the phosphor paste tank 56 are connected to each other. The phosphor paste tank 56 stores the phosphor paste 42.

【0093】供給ユニット50としては、ピストン、ダ
イヤフラム型等の定容量ポンプや、チュービングポン
プ、ギアポンプ、モーノポンプや、気体の圧力で液体を
押し出す圧送コントローラ等によるものがある。
Examples of the supply unit 50 include a constant volume pump such as a piston and a diaphragm, a tubing pump, a gear pump, a mono pump, and a pressure feed controller for pushing out a liquid by gas pressure.

【0094】供給装置コントローラ58からの制御信号
をうけて、供給ユニット50や、各々の電磁切換え弁の
動作を行わさせ、蛍光体ペーストタンク56から蛍光体
ペースト42を吸引して、口金20に供給することがで
きる。
In response to a control signal from the supply device controller 58, the supply unit 50 and the respective electromagnetic switching valves are operated, and the phosphor paste 42 is sucked from the phosphor paste tank 56 and supplied to the base 20. can do.

【0095】供給装置コントローラ58はさらに、全体
コントローラ60に電気的に接続されている。全体コン
トローラ60には、モータコントローラ62、高さセン
サ40の電気入力、カメラ72の画像処理装置74、昇
降機構用アクチュエータ76や幅方向移動機構用アクチ
ュエータ78からの情報等、すべての制御情報が電気的
に接続されており、全体のシーケンス制御を司れるよう
になっている。全体コントローラ60は、コンピュータ
やシーケンサ等、制御機能を持つものならばどのような
ものでもよい。
The supply device controller 58 is further electrically connected to the general controller 60. The entire controller 60 is provided with all control information such as motor controller 62, electric input of height sensor 40, image processing device 74 of camera 72, information from actuator 76 for lifting / lowering mechanism, and actuator 78 for width direction moving mechanism. And is able to manage the entire sequence control. The general controller 60 may be any computer having a control function, such as a computer or a sequencer.

【0096】また、モータコントローラ62には、テー
ブル6を駆動するACサーボモータ16の信号、昇降機
構30と幅方向移動機構36のそれぞれのACサーボモ
ータの信号、テーブル6の移動位置を検出する位置セン
サ68からの信号、口金20の作動位置を検出するY、
Z軸の各々のリニアセンサ(図示しない)からの信号な
どが入力される。なお、位置センサ68を使用する代わ
りに、ACサーボモータ16にエンコーダを組み込み、
エンコーダから出力されるパルス信号に基づいてテーブ
ル6の位置を検出することもできる。
The motor controller 62 has a signal of the AC servo motor 16 for driving the table 6, a signal of each of the AC servo motors of the lifting mechanism 30 and the width direction moving mechanism 36, and a position for detecting the moving position of the table 6. A signal from the sensor 68, Y for detecting the operating position of the base 20,
A signal from each linear sensor (not shown) on the Z axis is input. In addition, instead of using the position sensor 68, an encoder is incorporated in the AC servomotor 16 and
The position of the table 6 can be detected based on the pulse signal output from the encoder.

【0097】次に、このプラズマディスプレイの製造装
置を使った蛍光体ペーストの塗布方法について説明す
る。まず、各作動部の原点復帰が行われるとテーブル
6、口金20は各々スタンバイの位置に移動する。この
時、蛍光体ペーストタンク56から口金20までは蛍光
体ペーストがすでに充満されており、吐出用電磁切換え
弁48は開、吸引用電磁切換え弁54は閉の状態にあ
る。そして、テーブル6の表面には図示しないリフトピ
ンが上昇し、図示しないローダから基板4がリフトピン
上部に載置される。
Next, a method of applying a phosphor paste using the apparatus for manufacturing a plasma display will be described. First, when the origin return of each operating section is performed, the table 6 and the base 20 move to the standby positions. At this time, the phosphor paste has already been filled from the phosphor paste tank 56 to the base 20, and the discharge electromagnetic switching valve 48 is open and the suction electromagnetic switching valve 54 is closed. Then, lift pins (not shown) rise on the surface of the table 6, and the substrate 4 is placed on the lift pins from a loader (not shown).

【0098】次に、リフトピンを下降させて基板4をテ
ーブル上面に載置し、図示しないアライメント装置によ
ってテーブル6上の基板4の位置決めが行われた後に基
板4を真空吸着する。
Next, the substrate 4 is placed on the upper surface of the table by lowering the lift pins. After the substrate 4 is positioned on the table 6 by an alignment device (not shown), the substrate 4 is vacuum-sucked.

【0099】次に、テーブル6は、基板4の隔壁部が、
カメラ72と高さセンサー41の下にくるまで移動し
て、停止する。カメラ72は、テーブル6上に位置決め
された基板4上の隔壁端部を写し出すようにあらかじめ
位置調整されており、画像処理によって一番端の隔壁間
の位置を検出し、カメラ72の基準点からの距離を求め
る。一方、カメラ72の基準点と、所定のY軸座標位置
にある口金20の最端部に位置する吐出口44間の距離
は、事前の調整時に測定し、情報として全体コントロー
ラ60に入力されている。したがって、カメラ基準点と
隔壁間の距離が画像処理装置7に電送されると、口金2
0の最端部の吐出孔44が隔壁端部の隔壁間の上になる
Y軸座標値を計算し、口金20をその位置に移動させ
る。これにより、口金20の全ての吐出口の中心は、蛍
光体ペーストを塗布する各々の隔壁間の上に移動された
ことになり、口金20と基板4の相対位置決めが完了す
る。
Next, in the table 6, the partition wall of the substrate 4 is
It moves until it comes under the camera 72 and the height sensor 41, and stops. The camera 72 is adjusted in advance so as to project the end of the partition on the substrate 4 positioned on the table 6, detects the position between the end partitions by image processing, and determines the position from the reference point of the camera 72. Find the distance of On the other hand, the distance between the reference point of the camera 72 and the outlet 44 located at the end of the base 20 at the predetermined Y-axis coordinate position is measured at the time of advance adjustment and is input to the overall controller 60 as information. I have. Therefore, when the distance between the camera reference point and the partition is transmitted to the image processing apparatus 7, the base 2
The Y-axis coordinate value at which the discharge hole 44 at the end of 0 is located above the partition wall at the end of the partition wall is calculated, and the base 20 is moved to that position. As a result, the centers of all the discharge ports of the base 20 have been moved above between the partition walls to which the phosphor paste is applied, and the relative positioning of the base 20 and the substrate 4 is completed.

【0100】また、別の位置決め方法としてカメラ72
は、基板4上の隔壁部以外にある原点マークを検知して
もよい。カメラ基準点と口金20の最端部に位置する吐
出口44間の距離と、原点マークと塗布すべき隔壁間の
端部の距離は、事前の調整時に測定し、情報として全体
コントローラ60に入力されている。したがって、カメ
ラ基準点と原点マークの距離が画像処理装置74に電送
されると、口金20は塗布すべき位置に移動される。
As another positioning method, a camera 72 is used.
May detect an origin mark other than the partition on the substrate 4. The distance between the camera reference point and the discharge port 44 located at the end of the base 20 and the distance between the origin mark and the end between the partition walls to be coated are measured at the time of advance adjustment and input to the overall controller 60 as information. Have been. Therefore, when the distance between the camera reference point and the origin mark is transmitted to the image processing device 74, the base 20 is moved to a position to be applied.

【0101】また、カメラ基準点と口金20の吐出口の
距離の求め方として、表面が平面状の平滑基板上に口金
20から蛍光体ペーストを吐出して蛍光体ペーストのス
トライプを形成し、このストライプの位置を、画像処理
で位置検知して測定し、その絶対位置を求めてもよい。
これにより、口金20の吐出口の位置がわかるので、結
果として口金の絶対位置を求めることができる。この方
法により、基板4表面の隔壁間に口金20の吐出口をあ
わせて塗布することもできる。
As a method for determining the distance between the camera reference point and the discharge port of the base 20, the phosphor paste is discharged from the base 20 onto a flat substrate having a flat surface to form a stripe of the phosphor paste. The position of the stripe may be measured and detected by image processing to determine the absolute position.
Thereby, the position of the discharge port of the base 20 can be known, and as a result, the absolute position of the base can be obtained. According to this method, the discharge port of the base 20 can also be applied between the partition walls on the surface of the substrate 4 for application.

【0102】高さセンサ40は、基板4の隔壁上端部の
垂直方向の位置を検知し、テーブル上面との位置の差か
ら基板4の隔壁上端部の高さを算出する。この高さに、
あらかじめ与えておいた口金20の吐出口部から基板4
の隔壁上端部までの間隔を加算して、口金20のZ軸リ
ニアセンサー上での下降すべき値を演算し、その位置に
口金20を移動させる。これによって、テーブル6上で
の基板4の隔壁上端部位置が基板ごとに変化しても、塗
布に重要な口金20の吐出口部から基板4の隔壁上端部
までの間隔を常に一定に保てるようになる。
The height sensor 40 detects the vertical position of the upper end of the partition wall of the substrate 4 and calculates the height of the upper end of the partition wall of the substrate 4 from the difference in position with respect to the table upper surface. At this height,
From the discharge port of the base 20 given in advance, the substrate 4
, The value of the base 20 to be lowered on the Z-axis linear sensor is calculated, and the base 20 is moved to that position. Thereby, even if the position of the upper end of the partition wall of the substrate 4 on the table 6 changes for each substrate, the distance from the discharge port of the base 20 important for coating to the upper end of the partition wall of the substrate 4 can be always kept constant. become.

【0103】本発明が適用できる高さセンサ40として
は、レーザ、超音波等を利用した非接触測定形式のも
の、ダイヤルゲージ、差動トランス等を利用した接触測
定形式のもの等、測定可能な原理のものならいかなるも
のを用いてもよい。
As the height sensor 40 to which the present invention can be applied, a non-contact measurement type using a laser, an ultrasonic wave, or the like, a contact measurement type using a dial gauge, a differential transformer, or the like can be measured. Any principle may be used.

【0104】次に、テーブル6を口金20の方へ向けて
動作を開始させ、口金20の吐出口部の下に基板4の塗
布開始位置が到達する前に所定の塗布速度まで増速させ
ておく。テーブル6の動作開始位置と塗布開始位置まで
の距離は、テーブル6が塗布速度まで増速できるよう十
分確保できていなければならない。
Next, the operation is started with the table 6 directed toward the base 20, and the table 6 is accelerated to a predetermined coating speed before the application start position of the substrate 4 reaches below the discharge port of the base 20. deep. The distance between the operation start position of the table 6 and the application start position must be sufficiently ensured that the table 6 can be increased to the application speed.

【0105】さらに、基板4の塗布開始位置が口金20
の吐出口部の下に至るまでの所に、テーブル6の位置を
検知する位置センサー68を配置しておき、テーブル6
がこの位置に到達したら、供給ユニットの動作を開始し
て蛍光体ペースト42の口金20への供給を開始する。
位置センサー68の代わりに、モータあるいはフィード
スクリューにエンコーダを接続し、エンコーダの値で位
置を検知しても同様なことが可能となる。
Further, the coating start position of the substrate 4 is
A position sensor 68 for detecting the position of the table 6 is arranged under the discharge port of the table 6.
Has reached this position, the operation of the supply unit is started and the supply of the phosphor paste 42 to the base 20 is started.
The same can be achieved by connecting an encoder to a motor or a feed screw instead of the position sensor 68 and detecting the position by the value of the encoder.

【0106】蛍光体ペーストの塗布は、基板4の塗布終
了位置が口金20の吐出口部の下付近に来るまで行われ
る。すなわち、基板4はいつもテーブル6上の定められ
た位置に置かれているから、基板の塗布終了位置が丁度
真下になる位置に相当するテーブル6の位置に、位置セ
ンサーやそのエンコーダ値をあらかじめ設定しておき、
テーブル6が対応する位置にきたら、全体コントローラ
60から供給装置コントローラ58に停止指令を出して
蛍光体ペースト42の口金20への供給を停止する。こ
のとき、口金20を上昇させて完全に蛍光体ペーストを
たちきってもよい。
The application of the phosphor paste is performed until the position where the application of the substrate 4 is completed is located below the discharge port of the base 20. That is, since the substrate 4 is always placed at a predetermined position on the table 6, the position sensor and its encoder value are set in advance at the position of the table 6 corresponding to the position where the substrate coating end position is just below. Aside
When the table 6 comes to the corresponding position, a stop command is issued from the general controller 60 to the supply device controller 58 to stop the supply of the phosphor paste 42 to the base 20. At this time, the base 20 may be raised to completely emit the phosphor paste.

【0107】蛍光体ペースト42が比較的高粘度の液体
である場合は、単にペーストの供給を停止しただけで
は、残圧の作用により、口金20の吐出口からの吐出を
瞬時に停止することは難しい。そのために、蛍光体ペー
ストの供給を停止すると同時に口金20のマニホールド
41の圧力を大気圧にする、または、マニホールド41
の圧力を負圧にして、口金20の吐出口から蛍光体ペー
ストを吸引することにより、短時間で吐出口からの蛍光
体ペーストの吐出停止が可能となる。マニホールド41
の圧力を負圧にする手段としては、供給ユニット50に
ポンプを使う場合は、ポンプを逆動作、つまり、蛍光体
ペーストを吸引する方向に動作させればよく、圧送の場
合は、供給ユニット50に真空源が連なるようにしてマ
ニホールド41の圧力を負圧にすればよい。
In the case where the phosphor paste 42 is a liquid having a relatively high viscosity, the discharge from the discharge port of the base 20 can be stopped instantaneously by the action of the residual pressure simply by stopping the supply of the paste. difficult. For this purpose, the supply of the phosphor paste is stopped, and at the same time, the pressure of the manifold 41 of the base 20 is set to the atmospheric pressure.
By setting the pressure to a negative pressure and sucking the phosphor paste from the discharge port of the base 20, discharge of the phosphor paste from the discharge port can be stopped in a short time. Manifold 41
When a pump is used as the supply unit 50, the pump may be operated in a reverse operation, that is, in a direction in which the phosphor paste is sucked. Then, the pressure of the manifold 41 may be reduced to a negative pressure by connecting a vacuum source to the vacuum source.

【0108】マニホールド41の圧力を負圧にする別の
手段としては、吐出用電磁切換え弁48から口金20の
間、または、口金20そのものに、真空源に接続される
電磁切換え弁を設け、この切換えによっても可能であ
る。このとき、真空源の圧力を大気圧から任意の負圧に
調整できるようにしておけば、吐出口から蛍光体ペース
トを吸引する速度を調整できる。真空源としては、真空
ポンプ、アスピレータや、ピストン型のポンプを逆動作
させるものがある。
As another means for reducing the pressure of the manifold 41 to a negative pressure, an electromagnetic switching valve connected to a vacuum source is provided between the discharge electromagnetic switching valve 48 and the base 20 or on the base 20 itself. It is also possible by switching. At this time, if the pressure of the vacuum source can be adjusted from atmospheric pressure to an arbitrary negative pressure, the speed at which the phosphor paste is sucked from the discharge port can be adjusted. As a vacuum source, there is a vacuum pump, an aspirator, or a device that reversely operates a piston type pump.

【0109】また、これら圧力調整のタイミングは、供
給装置コントローラ58と全体コントローラ60で制御
することができる。さて、塗布終了位置を通過しても、
テーブル6は動作をつづけ、終点位置にきたら停止す
る。このとき塗布すべき部分がまだ残っている場合に
は、次の塗布すべき開始位置まで口金20をY軸方向に
移動して、以下テーブル6を反対方向に移動させること
をのぞいては同じ手順で塗布を行う。1回目と同一のテ
ーブル6の移動方向で塗布を行うのなら、口金20は次
の塗布すべき開始位置までY軸方向に移動、テーブル6
はX軸準備位置まで復帰させる。
The timing of these pressure adjustments can be controlled by the supply device controller 58 and the overall controller 60. By the way, even after passing the coating end position,
The table 6 continues its operation and stops when it reaches the end point position. At this time, if the portion to be applied still remains, the same procedure is performed except that the base 20 is moved in the Y-axis direction to the next start position to be applied and the table 6 is moved in the opposite direction. To apply. If the application is performed in the same movement direction of the table 6 as the first time, the base 20 is moved in the Y-axis direction to the next start position to be applied.
Returns to the X-axis preparation position.

【0110】そして塗布工程が完了したら、基板4をア
ンローダで移載する場所までテーブル6を移動して停止
させ、基板4の吸着を解除するとともに大気開放をした
後に、リフトピンを上昇させて基板4をテーブル6の面
から引き離し、持ち上げる。
When the coating process is completed, the table 6 is moved to the place where the substrate 4 is transferred by the unloader and stopped, and the suction of the substrate 4 is released, and the substrate 4 is released to the atmosphere. Is lifted off the surface of the table 6.

【0111】この時、図示されないアンローダによって
基板4の下面が保持され、次の工程に基板を搬送する。
基板4をアンローダに受け渡したら、テーブル6はリフ
トピンを下降させ原点位置に復帰する。
At this time, the lower surface of the substrate 4 is held by an unloader (not shown), and the substrate is transported to the next step.
When the substrate 4 is delivered to the unloader, the table 6 lowers the lift pins and returns to the home position.

【0112】この時、吐出用電磁切換え弁48を閉、吸
引用電磁切換え弁54を開状態にして供給ユニット50
を動作させ、蛍光体ペーストタンク56から1枚の基板
の塗布に必要な量だけ蛍光体ペーストを口金20に供給
する。
At this time, the supply unit 50 is set with the discharge electromagnetic switching valve 48 closed and the suction electromagnetic switching valve 54 opened.
Is operated, and the phosphor paste is supplied from the phosphor paste tank 56 to the base 20 in an amount necessary for coating one substrate.

【0113】以上の塗布工程では、与えられた有効領域
での塗布厚み精度を向上させるためには、塗布開始位置
に対する口金20への蛍光体ペースト供給開始、塗布終
了位置に対する口金20への蛍光体ペースト供給停止の
タイミングが重要となるので、それぞれの動作を最適な
ポイントで行わなければならない。
In the above coating process, in order to improve the coating thickness accuracy in a given effective area, the supply of the phosphor paste to the base 20 with respect to the coating start position and the phosphor with the base 20 with respect to the coating end position are performed. Since the timing of stopping the supply of the paste is important, each operation must be performed at an optimum point.

【0114】また本実施態様では、蛍光体ペーストの供
給開始を口金20の吐出口部と基板4の隔壁上端部との
間隔値を設定してから行っている。これは、両者間の間
隔を設定する前の状態で蛍光体ペーストの供給を開始す
ると、蛍光体ペーストが吐出口から吐出された時点で吐
出口部先端面に広がり吐出口以外の部分を汚染し、甚だ
しい場合には隣同士の吐出口から吐出される蛍光体ペー
ストが合流するという不都合が生じ、精度の高い塗布が
できなくなるためである。口金20の吐出口部先端面を
基板4に近接させてから蛍光体ペーストの供給を開始す
ると、先端面で蛍光体ペーストが広がる前に隔壁間に蛍
光体ペーストが案内されることになるので、このような
不都合は発生しない。
In this embodiment, the supply of the phosphor paste is started after setting the distance between the discharge port of the base 20 and the upper end of the partition wall of the substrate 4. This means that if the supply of the phosphor paste is started before the interval between the two is set, the phosphor paste spreads to the tip end surface of the discharge port when the phosphor paste is discharged from the discharge port, and contaminates portions other than the discharge port. In the worst case, there is a disadvantage that the phosphor pastes discharged from the adjacent discharge ports merge, which makes it impossible to perform the coating with high accuracy. If the supply of the phosphor paste is started after the tip end face of the discharge port portion of the base 20 is brought close to the substrate 4, the phosphor paste is guided between the partition walls before the phosphor paste spreads on the tip face. Such a disadvantage does not occur.

【0115】また、本実施態様例では基板4はX軸方向
に移動し、口金20がY軸、Z軸方向に移動する場合で
の適用例について記述したが、口金20と基板4が相対
的に3次元的に移動できる構造、形式のものであるのな
ら、テーブル、口金の移動形式はいかなるものでもよ
い。
Further, in this embodiment, the application example in which the substrate 4 moves in the X-axis direction and the base 20 moves in the Y-axis and Z-axis directions has been described, but the base 20 and the substrate 4 are relatively moved. The table and the base can be moved in any manner as long as the table and the base can be moved three-dimensionally.

【0116】また、一種類の蛍光体ペーストを塗布する
場合について詳しく言及したが、赤、青、緑等の3色の
蛍光体を同時に塗布する場合にも本発明は適用できる。
Although the case where one kind of phosphor paste is applied has been described in detail, the present invention can be applied to the case where phosphors of three colors such as red, blue and green are applied simultaneously.

【0117】図5は、本発明で用いる口金の概略断面図
である。平坦な面中に所定ピッチ、直径の孔が吐出口5
01として設けられている。さらに、図6のように、吐
出口を同一形状のパイプ601を配して構成してもよ
く、口金が汚れにくくなるので好ましい。
FIG. 5 is a schematic sectional view of a base used in the present invention. Holes of a predetermined pitch and diameter are formed in a flat surface of the discharge port 5.
01 is provided. Further, as shown in FIG. 6, the discharge port may be formed by arranging a pipe 601 having the same shape, which is preferable because the base is less likely to be stained.

【0118】また、口金の全ての吐出口は、その中心が
蛍光体ペーストを塗布する各々の隔壁間の上にあるよう
に配されたものが好ましい。
It is preferable that all the outlets of the base are arranged so that the center thereof is located between the partition walls to which the phosphor paste is applied.

【0119】また、口金の吐出口の平均孔径は、10μ
m以上500μm以下、かつ、隔壁の間隔以下にするこ
とが好ましく、隣の色との混色を防ぐことができる。
The average diameter of the discharge port of the die is 10 μm.
It is preferably not less than m and not more than 500 μm and not more than the interval between the partition walls, so that color mixing with an adjacent color can be prevented.

【0120】さらに、口金の吐出口形状が円形でなく、
隔壁と略直交する開口長さが、10μm以上500μm
以下、かつ、隔壁の間隔よりも小さくしてもよい。この
ときの吐出口形状としては、長穴、楕円、長方形等があ
る。
Further, the shape of the outlet of the base is not circular,
The opening length substantially perpendicular to the partition wall is 10 μm or more and 500 μm.
Hereinafter, it may be smaller than the interval between the partition walls. At this time, the shape of the discharge port includes a long hole, an ellipse, a rectangle, and the like.

【0121】また、口金の吐出口面および/または吐出
口内壁に、”テフロン”(PTFE)等のフッ素樹脂皮
膜をコーティングすることにより、吐出口面および吐出
口内壁の蛍光体ペーストの離型性が向上し、吐出口面が
汚れるのを防ぐことができる。
Further, by coating a fluororesin film such as “Teflon” (PTFE) on the discharge port surface and / or the inner wall of the discharge port of the base, the releasability of the phosphor paste on the discharge port surface and the inner wall of the discharge port is improved. And the discharge port surface can be prevented from becoming dirty.

【0122】また、口金の吐出口面および/または吐出
口内壁に、非晶質の炭素皮膜(DLC)をコーティング
することにより、吐出口面および吐出口内壁の表面硬度
が向上し、耐摩耗性が向上する。
Further, by coating an amorphous carbon film (DLC) on the discharge port surface and / or the discharge port inner wall of the base, the surface hardness of the discharge port surface and the discharge port inner wall is improved, and the wear resistance is improved. Is improved.

【0123】図7は、本発明の口金の他の1例を示す断
面図と底面図である。1基の口金に複数の蛍光体ペース
ト貯蔵部704、705、706と、蛍光体ペースト貯
蔵部704、705、706に蛍光体ペーストを供給す
る蛍光体ペースト供給口701、702、703と、貯
蔵部704、705、706と吐出口710、711、
712を流体的に連結するパス部707、708、70
9を有する。さらに、吐出口710、711、712
は、貯蔵部704、705、706よりも多くあり、か
つ、一直線上に配列されている。これにより、1基の口
金から、異なる種類の蛍光体ペーストを吐出できる。ま
た、異なる色の蛍光体ペーストを吐出する吐出口の最短
距離が600μm以上にすることによって、他色との混
色を防止することができる。
FIG. 7 is a sectional view and a bottom view showing another example of the base of the present invention. A plurality of phosphor paste storage units 704, 705, 706 in one base, phosphor paste supply ports 701, 702, 703 for supplying a phosphor paste to the phosphor paste storage units 704, 705, 706, and a storage unit 704, 705, 706 and discharge ports 710, 711,
Pass sections 707, 708, 70 fluidly connecting 712
9 Further, the discharge ports 710, 711, 712
Are more than the storage units 704, 705, 706 and are arranged in a straight line. Thereby, different types of phosphor pastes can be discharged from one base. Further, by setting the shortest distance between the discharge ports for discharging phosphor pastes of different colors to be 600 μm or more, it is possible to prevent color mixture with other colors.

【0124】図8は、本発明の他の実施態様に係るプラ
ズマディスプレイの製造装置の要部の概略図である。口
金は1基のみでなく、これをY方向に2基以上配置して
もよい。口金801、802は、X方向およびY方向に
共に同期してあるいは非同期で駆動されるように、図示
しない制御装置によって駆動されるようになっている。
FIG. 8 is a schematic view of a main part of a plasma display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention. Not only one base but also two or more bases may be arranged in the Y direction. The bases 801 and 802 are driven by a control device (not shown) so as to be driven synchronously or asynchronously in both the X direction and the Y direction.

【0125】このように、2基以上の口金によって基板
への蛍光体ペーストの塗布が分担されるので、塗布時間
を短縮させることができる。
As described above, since the application of the phosphor paste to the substrate is shared by the two or more bases, the application time can be reduced.

【0126】この際、2基以上の口金としては、同じ色
を発光する蛍光体ペーストを吐出する口金、異なる色を
発光する蛍光体ペーストを吐出する口金、あるいは、2
色以上の異なる色に発光する蛍光体ペーストを吐出する
口金のいずれでもよい。
At this time, as the two or more bases, a base for discharging a phosphor paste emitting the same color, a base for discharging a phosphor paste emitting different colors, or
Any base that discharges a phosphor paste that emits light of a different color or more may be used.

【0127】また、これら2基以上の口金を、隔壁方向
に対し垂直方向に隔壁間隔の整数倍にずらして位置さ
せ、隣り合う2基以上の位置が「ずれ」<「口金本体の
外寸」のときは、隔壁に対し平行方向にずれて位置する
ように配置することが効率的であり好ましい。
Further, these two or more bases are shifted in the direction perpendicular to the direction of the partition wall by an integral multiple of the partition spacing, and the positions of the two or more adjacent bases are determined to be “shift” <“outer dimension of base body”. In this case, it is efficient and preferable to dispose them so as to be shifted from the partition in the parallel direction.

【0128】さらに、前記塗布装置を、蛍光体ペースト
の赤色、緑色、青色に対応して3台直列に配置すること
により、隔壁間に3色の蛍光体層を効率よく形成するこ
とができる。
Furthermore, by arranging three coating devices in series corresponding to the red, green, and blue phosphor pastes, phosphor layers of three colors can be efficiently formed between the partition walls.

【0129】図9は口金の吐出口面の清浄装置の概略図
である。清浄装置901は、口金20の吐出口面902
に拭き取り部材903が接触する位置に配置されてい
る。拭き取り部材903は吐出口面先端部をくるむよう
な形状をしているが、吐出口面902だけに接触する形
状にしてもよい。拭き取り部材903は、トレイ905
に取り付けられているブラケット904に固定されてお
り、トレイ905とともに幅方向(Y軸方向)に移動す
る。拭き取り部材903が吐出口面902に接触して幅
方向に移動する動作によって、吐出口面に付着している
蛍光体ペーストがかき落とされる。かき落とされた蛍光
体ペーストは、排出口906からこれに接続されている
チューブ907を介して図示しない廃液タンクに導かれ
る。重力だけで廃液タンクまで到達しないときには、真
空ポンプ等の真空源を用いて吸引するのが望ましい。な
お、拭き取り部材903は、トレイ905が図の一番右
端に到達したときに、口金20の開口部より右側にあ
り、口金20より吐出された蛍光体ペーストがかからな
い位置に配置されている。またトレイ905は、口金2
0から吐出される蛍光体ペーストをすべて回収できる大
きさを有している。
FIG. 9 is a schematic diagram of a device for cleaning a discharge port surface of a base. The cleaning device 901 includes a discharge port surface 902 of the base 20.
Is disposed at a position where the wiping member 903 contacts. Although the wiping member 903 has a shape that wraps around the tip of the discharge port surface, it may have a shape that contacts only the discharge port surface 902. The wiping member 903 includes a tray 905
And is moved in the width direction (Y-axis direction) together with the tray 905. By the operation in which the wiping member 903 moves in the width direction in contact with the discharge port surface 902, the phosphor paste attached to the discharge port surface is scraped off. The scraped phosphor paste is guided from the outlet 906 to a waste liquid tank (not shown) via a tube 907 connected to the outlet. When gravity does not reach the waste liquid tank, it is desirable to use a vacuum source such as a vacuum pump for suction. Note that the wiping member 903 is located on the right side of the opening of the base 20 when the tray 905 reaches the rightmost end in the figure, and is located at a position where the phosphor paste discharged from the base 20 is not applied. Further, the tray 905 is used for the base 2
It is large enough to collect all of the phosphor paste discharged from 0.

【0130】さらに、トレイ905は、昇降部908に
連結されている。昇降部908はガイド909に沿って
図示しないエアーシリンダーによって上下方向に移動ユ
ニット910上を昇降するものである。昇降部908が
最下点にあるとき、拭き取り部材903は最下点にあ
り、口金20の吐出口面902と一定距離離れて接触し
ない。昇降部908は、拭き取り部材903が口金20
の吐出口面902に接触するところまで上昇するように
調整が行われる。
Further, the tray 905 is connected to the lifting unit 908. The elevating unit 908 is configured to move up and down on the moving unit 910 along the guide 909 by an air cylinder (not shown). When the elevating unit 908 is at the lowest point, the wiping member 903 is at the lowest point and does not contact the discharge port surface 902 of the base 20 at a certain distance. The elevating unit 908 is configured such that the wiping member 903 is
Is adjusted so as to rise to a position where it comes into contact with the discharge port surface 902.

【0131】移動ユニット910は、架台911上の図
示しないガイドに沿って、ボールねじ912で駆動され
て幅方向に移動する。ボールねじ912は、図示しない
サーボモータに連結されており、この動作制御によって
任意の動作をさせることができる。
The moving unit 910 is driven by a ball screw 912 along a guide (not shown) on the gantry 911 and moves in the width direction. The ball screw 912 is connected to a servomotor (not shown), and can perform an arbitrary operation by controlling the operation.

【0132】拭き取り部材903の材質としてはいかな
るものでもよいが、口金の吐出口面を傷つけないよう
に、樹脂やゴムが望ましく、その中から蛍光体ペースト
に対する耐薬品性を考慮して選定すればよい。
The material of the wiping member 903 may be any material, but is preferably resin or rubber so as not to damage the discharge port surface of the base, and if it is selected in consideration of the chemical resistance to the phosphor paste. Good.

【0133】拭き取り装置901を用いた塗布シーケン
スは次のようになる。まず、拭き取り部材903を最下
点においた状態で、トレイ905を口金20の下に移動
させ、蛍光体ペースト供給装置を動作させて蛍光体ペー
ストを口金20から吐出してブリードを行う。ブリード
が終了したら昇降部908を上昇して拭き取り部材90
3を口金20の吐出口面902に接触させる。次に、図
示しないサーボモータを駆動して拭き取り部材903を
幅方向に図8の左側に移動させ、吐出口面902に付着
している蛍光体ペーストを拭き取って除去する。次に、
口金20を所定の位置に移動させ、隔壁間への蛍光体ペ
ーストの塗布を行う。
The application sequence using the wiping device 901 is as follows. First, with the wiping member 903 at the lowest point, the tray 905 is moved below the base 20 and the phosphor paste supply device is operated to discharge the phosphor paste from the base 20 to perform bleeding. When the bleeding is completed, the elevating unit 908 is lifted to remove the wiping member 90.
3 is brought into contact with the discharge port surface 902 of the base 20. Next, a servo motor (not shown) is driven to move the wiping member 903 in the width direction to the left in FIG. 8, and the phosphor paste attached to the discharge port surface 902 is wiped and removed. next,
The base 20 is moved to a predetermined position, and the phosphor paste is applied between the partition walls.

【0134】以降一回の隔壁間への蛍光体ペーストの塗
布が終了するごとに以上の拭き取り動作を行ってもよい
し、数回の塗布作業の後に拭き取り動作を行ってもよ
い。いかなるタイミングで拭き取り動作を行うかは、吐
出口面902への蛍光体ペーストの付着程度に依存す
る。
Thereafter, each time one application of the phosphor paste between the partition walls is completed, the above wiping operation may be performed, or the wiping operation may be performed after several application operations. The timing at which the wiping operation is performed depends on the degree of adhesion of the phosphor paste to the discharge port surface 902.

【0135】この拭取り動作によって、口金の吐出口面
が常に清浄化された状態で塗布作業を行えるので、基板
の隔壁上端部に余計な蛍光体ペーストが付着したり、塗
布すべき隔壁間の隣の隔壁間に蛍光体ペーストが塗布さ
れたりする等の不都合を防止でき、均一で安定した隔壁
間への塗布を行うことができる。
By this wiping operation, the coating operation can be performed while the discharge port surface of the base is always cleaned. Therefore, unnecessary phosphor paste adheres to the upper end of the partition wall of the substrate, or the gap between the partition walls to be coated can be removed. Inconveniences such as the phosphor paste being applied between adjacent partitions can be prevented, and uniform and stable application between the partitions can be performed.

【0136】また、隔壁の上端部に蛍光体ペーストが付
着した場合など、所定の塗布位置以外の蛍光体ペースト
を除去する手段を設けるのが好ましい。
Further, it is preferable to provide a means for removing the phosphor paste at a position other than the predetermined application position, for example, when the phosphor paste adheres to the upper end of the partition.

【0137】蛍光体ペーストを除去する手段としては、
ヘラによる掻き取りや粘着体を隔壁上端部に接触させて
除去したり、あるいは空気ノズルにより圧空を吹き付け
て除去する手段がある粘着体の材質としては、上述した
特性を有するものであれば特に限定されるものではない
が、例えば、ポリウレタンゴム、ポリエチレンゴム、シ
リコンゴムおよびこれらのゲル体を挙げることができ
る。
As a means for removing the phosphor paste,
There is a means for removing the adhesive by scraping with a spatula or removing the adhesive by contacting the upper end of the partition wall, or by blowing compressed air with an air nozzle. The material of the adhesive is not particularly limited as long as it has the above-described characteristics. Examples thereof include, but are not limited to, polyurethane rubber, polyethylene rubber, silicone rubber, and gel bodies thereof.

【0138】上記粘性物質から構成された粘着体の構成
は、特に限定されるものではないが、好ましくは基板の
表面に対して接触するような形状のベルトあるいはロー
ラーにするのがよい。ベルトは、送り出しロールと巻き
取りロールの間で回転しながら、搬送中の基板に接触す
るとよい。その接触によって、基板の隔壁の頂部にのっ
た蛍光体ペーストを粘着し、除去することができる。
The constitution of the pressure-sensitive adhesive body composed of the above-mentioned viscous substance is not particularly limited, but it is preferable to use a belt or a roller having such a shape as to come into contact with the surface of the substrate. The belt may contact the substrate being transported while rotating between the feed roll and the take-up roll. The contact makes it possible to adhere and remove the phosphor paste on the top of the partition wall of the substrate.

【0139】[0139]

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度(%)は特にことわらない
限り重量%である。
The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to this. The concentrations (%) in Examples and Comparative Examples are% by weight unless otherwise specified.

【0140】形成した蛍光体層の評価は、以下の7項目
で行った。
Evaluation of the formed phosphor layer was carried out by the following seven items.

【0141】・吐出口からのペースト吐出性 ・塗布時間(蛍光体ペースト塗布にかかった合計時間
(乾燥時間は除く)) ・側面厚み(隔壁高さ中央部での面内9カ所の平均厚
み) ・底部厚み(誘電体層上での面内9カ所の平均厚み) ・厚みの分布(9カ所測定した場合の最大厚みと最低厚
みの差) ・隔壁上部へのペースト付着の有無 ・混色(形成すべき隔壁間の隣の隔壁間への蛍光体ペー
ストの漏れ) 実施例1 幅340mm×奥行き440mm×厚み2.8mmのソ
ーダガラス基板上に感光性銀ペーストを全面に5μmの
厚みでスクリーン印刷した後、フォトマスクを用いた露
光、現像、焼成の各工程を経て、ピッチ220μmのス
トライプ状の1920本の銀電極を形成した。その電極
上にガラスとバインダーからなるガラスペーストをスク
リーン印刷した後に、焼成して誘電体層を形成した。次
に、ガラス粉末と感光性有機成分からなる感光性ガラス
ペーストを厚み200μmになるようにスクリーン印刷
・乾燥を行った。その後、隣り合う電極間に隔壁が形成
されるように設計されたフォトマスクを用いて露光、現
像、焼成を行って隔壁を形成した。隔壁の形状は、ピッ
チ220μm、線幅30μm、高さ130μm、本数は
1921本であった。
Paste dischargeability from discharge port Application time (total time required for phosphor paste application)
(Excluding drying time)) ・ Thickness of side surface (average thickness of 9 locations in the plane at the center of partition wall height) ・ Bottom thickness (average thickness of 9 locations in the plane on the dielectric layer) ・ Distribution of thickness (9 Difference between maximum thickness and minimum thickness when measuring at several locations)-Presence or absence of paste on top of partition walls-Mixed color (leakage of phosphor paste between adjacent partitions between partition walls to be formed) Example 1 340 mm width x depth After a photosensitive silver paste is screen-printed on a 440 mm × 2.8 mm thick soda glass substrate with a thickness of 5 μm over the entire surface, exposure, development, and baking using a photomask are performed to form a stripe 220 μm pitch. 1920 silver electrodes were formed. A glass paste composed of glass and a binder was screen-printed on the electrode, and then fired to form a dielectric layer. Next, screen printing and drying were performed on a photosensitive glass paste composed of a glass powder and a photosensitive organic component to a thickness of 200 μm. After that, exposure, development, and baking were performed using a photomask designed to form a partition between adjacent electrodes, thereby forming a partition. The shape of the partition walls was 220 μm in pitch, 30 μm in line width, 130 μm in height, and 1921 in number.

【0142】隔壁を形成したガラス基板に図3に示した
装置を用いて、蛍光体ペーストを塗布した。
A phosphor paste was applied to the glass substrate on which the partition walls were formed, using the apparatus shown in FIG.

【0143】蛍光体ペースト:次の蛍光体粉末各40g
をエチルセルロース10g、テルピネオール10g、ベ
ンジルアルコール40gと混合した後、セラミックス製
の3本ローラーで混練して、RGB各色の蛍光体ペース
トを作製した。
Phosphor paste: 40 g each of the following phosphor powders
Was mixed with 10 g of ethylcellulose, 10 g of terpineol and 40 g of benzyl alcohol, and kneaded with three ceramic rollers to prepare phosphor pastes of RGB colors.

【0144】蛍光体粉末: 赤:(Y,Gd,Eu)BO3 50体積%粒子径2.5μm、比表面積2.3m2 /g 緑:(Zn,Mn)2SiO4 50体積%粒子径2.9μm、比表面積1.8m2 /g 青:(Ba,Eu)MgAl1017 50体積%粒子径3.1μm、比表面積2.5m2 /g 得られた蛍光体ペーストの粘度は、赤14Pa・s、緑
18Pa・s、青15Pa・sであった。
Phosphor powder: Red: (Y, Gd, Eu) BO 3 50 volume% particle diameter 2.5 μm, specific surface area 2.3 m 2 / g Green: (Zn, Mn) 2 SiO 4 50 volume% particle diameter 2.9 μm, specific surface area 1.8 m 2 / g Blue: (Ba, Eu) MgAl 10 O 17 50% by volume particle size 3.1 μm, specific surface area 2.5 m 2 / g The viscosity of the obtained phosphor paste is: Red 14 Pa · s, green 18 Pa · s, and blue 15 Pa · s.

【0145】塗布に用いた口金は、吐出口の平均孔径1
50μmの孔をピッチ間隔660μmで64個形成した
口金であり、吐出口の長さは2mmの口金を1基用い
た。
The nozzle used for coating had an average pore diameter of 1
This is a base formed with 64 holes of 50 μm at a pitch interval of 660 μm, and one base having a discharge port length of 2 mm was used.

【0146】上記赤色蛍光体ペーストと口金を用いて、
ガラス基板上に形成された隔壁の上端部から口金の吐出
口先端部の間隔を0.1mmに保持した状態で塗布を行
った。塗布は、蛍光体ペーストを充填した口金に圧力を
加えて連続的に吐出を行いながら、口金を隔壁に平行に
なるように50mm/secの速度で移動して塗布し
た。
Using the red phosphor paste and the base,
The coating was performed with the distance between the upper end of the partition wall formed on the glass substrate and the tip of the outlet of the die kept at 0.1 mm. The coating was performed by moving the die at a speed of 50 mm / sec so as to be parallel to the partition walls while applying pressure to the die filled with the phosphor paste and continuously discharging the die.

【0147】塗布開始以降赤、青2.6kg/cm2
緑3kg/cm2の圧力を加えた後に、口金が基板端部
まで進んだ時点で塗布を停止するが、隔壁端部に達する
0.1秒前に負圧をかけて減圧した。次に口金を隔壁の
垂直方向に42.24mm移動して、塗布を行った。1
0回の塗布を行うことにより、隣り合う隔壁間に2本置
きになるように640本の塗布を行った。次に、80℃
で15分乾燥を行った後に、同様にして、赤色蛍光体ペ
ーストを塗布した右となりの隔壁間に緑色蛍光体、左と
なりの隔壁間に青色蛍光体を塗布した。
After the start of coating, red and blue 2.6 kg / cm 2 ,
After applying a pressure of 3 kg / cm 2 for green, the application was stopped when the die advanced to the edge of the substrate, but the pressure was reduced by applying a negative pressure 0.1 seconds before reaching the edge of the partition wall. Next, the die was moved by 42.24 mm in the vertical direction of the partition wall to perform coating. 1
By performing the coating 0 times, 640 coatings were performed so that two coatings were provided between adjacent partition walls. Next, at 80 ° C
After drying for 15 minutes, a green phosphor was applied between the right partition walls and a blue phosphor was applied between the left partition walls to which the red phosphor paste was applied.

【0148】RGBの蛍光体ペーストを塗布した基板を
460℃15分で焼成した後、評価を行った。評価結果
を表1に示す。
The substrate coated with the RGB phosphor paste was baked at 460 ° C. for 15 minutes and evaluated. Table 1 shows the evaluation results.

【0149】実施例2 口金の数を1基から2基に変更して、それぞれの口金を
50mm/secで移動して塗布した以外は、実施例1
と同様にして蛍光体層を形成した。評価結果を表1に示
す。
Example 2 Example 1 was repeated except that the number of bases was changed from one to two, and each base was moved and moved at 50 mm / sec.
A phosphor layer was formed in the same manner as described above. Table 1 shows the evaluation results.

【0150】実施例3 口金の数を1基から3基に変更して、それぞれの口金に
RGB各色の蛍光体ペーストを充填して、吐出すること
により塗布した以外は、実施例1と同様にして蛍光体層
を形成した。評価結果を表1に示す。
Example 3 The procedure of Example 1 was repeated, except that the number of bases was changed from one to three, and each base was filled with phosphor pastes of RGB colors and applied by discharging. To form a phosphor layer. Table 1 shows the evaluation results.

【0151】実施例4 吐出口の数を64本から640本に変更し、1色の蛍光
体ペーストの塗布を1回の口金移動で塗布を完了した以
外は、実施例1と同様にして蛍光体層を形成した。評価
結果を表1に示す。
Example 4 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the number of discharge ports was changed from 64 to 640, and the application of one color phosphor paste was completed by one die movement. A body layer was formed. Table 1 shows the evaluation results.

【0152】実施例5 電極ピッチを120μmに、隔壁ピッチ120μm、線
幅30μm、高さ90μmに変更した基板を用いて、吐
出口を孔径75μm、ピッチ720μmにして1回塗布
を行った後、口金を0.36mm−46.08mm−
0.36mm−46.08mm−0.36mm−46.
08mm−0.36mm−46.08mm−0.36m
m移動して、合計10回の塗布を行った以外は、実施例
1と同様にして蛍光体層を形成した。評価結果を表1に
示す。
Example 5 Using a substrate having an electrode pitch of 120 μm, a partition wall pitch of 120 μm, a line width of 30 μm, and a height of 90 μm, applying a coating once with a discharge port having a hole diameter of 75 μm and a pitch of 720 μm. 0.36mm-46.08mm-
0.36 mm-46.08 mm-0.36 mm-46.
08mm-0.36mm-46.08mm-0.36m
A phosphor layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating was performed a total of 10 times by moving m. Table 1 shows the evaluation results.

【0153】実施例6 電極ピッチを120μmに、隔壁ピッチ120μm、線
幅30μm、高さ90μmに変更した基板を用いて、吐
出口を孔径150μm、ピッチ720μmにして1回塗
布を行った後、口金の移動量0.36mm−46.08
mm−0.36mm−46.08mm−0.36mm−
46.08mm−0.36mm−46.08mm−0.
36mm口金を移動して、合計10回の塗布を行った以
外は、実施例1と同様にして蛍光体層を形成した。さら
に、蛍光体層を焼成後に幅500mm、250mm径の
粘着ローラーを用いて、隔壁上部全体がローラーに接触
するようにローラーを転がした。評価結果を表1に示
す。
Example 6 Using a substrate in which the electrode pitch was changed to 120 μm, the partition pitch was changed to 120 μm, the line width was changed to 30 μm, and the height was changed to 90 μm, the discharge port was set to 150 μm, and the pitch was set to 720 μm. 0.36mm-46.08
mm-0.36mm-46.08mm-0.36mm-
46.08 mm-0.36 mm-46.08 mm-0.
A phosphor layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating was performed a total of 10 times by moving the 36 mm die. Furthermore, after baking the phosphor layer, the roller was rolled using an adhesive roller having a width of 500 mm and a diameter of 250 mm so that the entire upper part of the partition wall was in contact with the roller. Table 1 shows the evaluation results.

【0154】実施例7 蛍光体ペーストを以下のペーストに変更した以外は、実
施例5と同様にして蛍光体ペーストを塗布し、その後
に、ピッチ120μm、開口部線幅80μm、線数19
20本のフォトマスクを用いて露光を行った後に、トリ
エタノールアミン0.5重量%水溶液で現像した後に焼
成して、蛍光体層を形成した。評価結果を表1に示す。
Example 7 A phosphor paste was applied in the same manner as in Example 5, except that the phosphor paste was changed to the following paste. Thereafter, the pitch was 120 μm, the opening line width was 80 μm, and the number of lines was 19.
After performing exposure using 20 photomasks, the resultant was developed with a 0.5% by weight aqueous solution of triethanolamine and fired to form a phosphor layer. Table 1 shows the evaluation results.

【0155】蛍光体ペースト:次の蛍光体粉末各50g
をバインダー(メタクリル酸イソブチル−アクリル酸の
1:1共重合体、重量平均分子量2.4万)20g、感
光性モノマー(トリメチロールプロパントリアクリレー
ト)15g、ガンマブチロラクトン20g、重合開始剤
(チバガイギー社製”イルガキュア”907)3gを混
合した後に、3本ローラーで混練してペーストを作製し
た。
Phosphor paste: 50 g of each of the following phosphor powders
20 g of a binder (1: 1 copolymer of isobutyl methacrylate-acrylic acid, weight average molecular weight 24,000), 15 g of a photosensitive monomer (trimethylolpropane triacrylate), 20 g of gamma butyrolactone, and a polymerization initiator (manufactured by Ciba Geigy) After mixing 3 g of "Irgacure" 907), the mixture was kneaded with three rollers to prepare a paste.

【0156】蛍光体粉末: 赤:(Y,Gd,Eu)BO3 50体積%粒子径2.5μm、比表面積2.3m2 /g 緑:(Zn,Mn)2SiO4 50体積%粒子径2.9μm、比表面積1.8m2 /g 青:(Ba,Eu)MgAl1017 50体積%粒子径3.1μm、比表面積2.5m2 /g 得られた蛍光体ペーストの粘度は、赤20Pa・s、緑
32Pa・s、青19Pa・sであった。
Phosphor powder: Red: (Y, Gd, Eu) BO 3 50 volume% particle size 2.5 μm, specific surface area 2.3 m 2 / g Green: (Zn, Mn) 2 SiO 4 50 volume% particle size 2.9 μm, specific surface area 1.8 m 2 / g Blue: (Ba, Eu) MgAl 10 O 17 50% by volume particle size 3.1 μm, specific surface area 2.5 m 2 / g The viscosity of the obtained phosphor paste is: Red 20 Pa · s, green 32 Pa · s, and blue 19 Pa · s.

【0157】実施例8 実施例1の蛍光体ペーストの組成を、蛍光体粉末50g
およびバインダーポリマー(40%メタクリル酸、30
%メチルメタクリレート、30%スチレンからなる共重
合体のカルボキシル基に対して0.4当量のグリシジル
メタクリレートを付加反応させた重量平均43,00
0、酸価95の感光性ポリマ)40g、溶媒(γーブチ
ロラクトン)30gと分散剤4gからなる蛍光体ペース
トに変更した。有機成分の各成分を80℃に加熱しなが
ら溶解し、その後蛍光体粉末を添加し、混練機で混練す
ることによってペーストを作製した。蛍光体ペーストの
粘度は、赤、緑、青とも0.05Pa・sであった。
Example 8 The composition of the phosphor paste of Example 1 was changed to 50 g of phosphor powder.
And a binder polymer (40% methacrylic acid, 30
% Methyl methacrylate, 30% styrene and a carboxyl group of 0.4 equivalent of glycidyl methacrylate added to carboxyl groups to obtain a weight average of 43,00.
The phosphor paste was changed to 40 g of a photosensitive polymer having 0 and an acid value of 95), 30 g of a solvent (γ-butyrolactone) and 4 g of a dispersant. Each component of the organic components was dissolved while being heated to 80 ° C., and then a phosphor powder was added and kneaded with a kneader to prepare a paste. The viscosity of the phosphor paste was 0.05 Pa · s for each of red, green and blue.

【0158】また、基板をピッチ150μm、高さ12
0μm、幅30μmの隔壁2000本が形成されたガラ
ス基板に変え、口金を穴径80μmの吐出口640個を
ピッチ450μmで形成した口金に変えて、赤色蛍光体
ペーストを吐出後、塗布面を下にして80℃で60分乾
燥し、次に緑色蛍光体ペーストを吐出後、塗布面を下に
して80℃で60分乾燥し、さらに青色蛍光体ペースト
を吐出後、塗布面を下にして80℃で60分乾燥した
後、500℃で30分焼成を行った。その他の条件は実
施例1と同様にして蛍光体層を形成した。評価結果を表
1に示す。
Further, the substrate is provided with a pitch of 150 μm and a height of 12 μm.
After changing the glass substrate on which 2000 partition walls of 0 μm and 30 μm in width were formed, changing the base to 640 outlets having a hole diameter of 80 μm to a base formed with a pitch of 450 μm, and discharging the red phosphor paste, the coated surface was lowered. And dried at 80 ° C. for 60 minutes. Then, after discharging the green phosphor paste, the coated surface is dried at 80 ° C. for 60 minutes, and after discharging the blue phosphor paste, the coated surface is turned down. After drying at 60 ° C. for 60 minutes, baking was performed at 500 ° C. for 30 minutes. Other conditions were the same as in Example 1 to form a phosphor layer. Table 1 shows the evaluation results.

【0159】実施例9 蛍光体ペーストの組成を、蛍光体粉末50g、バインダ
ーポリマー40g、溶媒(γーブチロラクトン)30g
と分散剤4gからなる蛍光体ペーストに変更し、蛍光体
ペーストの粘度を、赤、緑、青とも0.03Pa・sと
した以外は、実施例8と同様にして蛍光体ペーストを作
製した。
Example 9 The composition of the phosphor paste was as follows: phosphor powder 50 g, binder polymer 40 g, solvent (γ-butyrolactone) 30 g
A phosphor paste was prepared in the same manner as in Example 8, except that the phosphor paste was changed to a phosphor paste comprising 4 g of a dispersing agent and the viscosity of the phosphor paste was set to 0.03 Pa · s for all of red, green, and blue.

【0160】また、基板をピッチ360μm、高さ14
0μm、幅50μmの隔壁2000本が形成されたガラ
ス基板に変え、口金を穴径100μmの吐出口1940
個をピッチ360μmで形成し、赤色蛍光体ペースト、
青色蛍光体ペースト、緑色蛍光体ペーストをそれぞれ同
時に吐出するように設計された口金に変えて、各色蛍光
体を吐出した後、80℃45分の乾燥を行った以外は実
施例8と同様にして蛍光体層を形成した。評価結果を表
1に示す。
Further, the substrate is provided with a pitch of 360 μm and a height of 14 μm.
Changed to a glass substrate on which 2000 partition walls having a thickness of 0 μm and a width of 50 μm were formed.
Pieces are formed at a pitch of 360 μm, and a red phosphor paste,
In the same manner as in Example 8 except that each of the blue phosphor paste and the green phosphor paste was changed to a die designed to simultaneously eject the phosphors, and the phosphors of each color were ejected and then dried at 80 ° C. for 45 minutes. A phosphor layer was formed. Table 1 shows the evaluation results.

【0161】実施例10 蛍光体ペーストの組成を、蛍光体粉末50g、バインダ
ーポリマー20g、トリメチロールプロパントリアクリ
レート20g、溶媒(γーブチロラクトン)30gと分
散剤4g、光重合開始剤(”イルガキュア907”、チ
バガイギー社製)からなる蛍光体ペーストに変更し、蛍
光体ペーストの粘度を、赤、緑、青とも0.03Pa・
sとした以外は、実施例8と同様にして蛍光体層を形成
した。
Example 10 The composition of the phosphor paste was as follows: phosphor powder 50 g, binder polymer 20 g, trimethylolpropane triacrylate 20 g, solvent (γ-butyrolactone) 30 g, dispersant 4 g, photopolymerization initiator (“Irgacure 907”) , Manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.), and the viscosity of the phosphor paste is set to 0.03 Pa ·
A phosphor layer was formed in the same manner as in Example 8 except that s was used.

【0162】その後に、ピッチ120μm、開口部線幅
80μm、線数1920本のフォトマスクを用いて露光
を行った後に、トリエタノールアミン0.5重量%水溶
液で現像した後に焼成して、蛍光体層を形成した。
After that, exposure was performed using a photomask having a pitch of 120 μm, an opening line width of 80 μm, and 1920 lines, developed with a 0.5% by weight aqueous solution of triethanolamine, and baked to obtain a phosphor. A layer was formed.

【0163】その後に、ピッチ150μm、開口部線幅
60μm、線数1920本のフォトマスクを用いて露光
を行った後に、トリエタノールアミン0.5重量%水溶
液で現像した後に500℃で30分焼成して、蛍光体層
を形成した。評価結果を表1に示す。
After that, exposure was performed using a photomask having a pitch of 150 μm, an opening line width of 60 μm, and 1920 lines, developed with a 0.5% by weight aqueous solution of triethanolamine, and baked at 500 ° C. for 30 minutes. Thus, a phosphor layer was formed. Table 1 shows the evaluation results.

【0164】比較例 電極ピッチを120μmに、隔壁ピッチ120μm、線
幅30μm、高さ90μmに変更した基板上に、ピッチ
360μm、開口部80μmのスクリーン版を用いて、
RGBの各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷した。次
に、該基板を460℃で15分間焼成して蛍光体層を形
成した。評価結果を表1に示す。
Comparative Example A screen plate having a pitch of 360 μm and an opening of 80 μm was formed on a substrate having an electrode pitch of 120 μm, a partition pitch of 120 μm, a line width of 30 μm, and a height of 90 μm.
The RGB color phosphor paste was screen printed. Next, the substrate was baked at 460 ° C. for 15 minutes to form a phosphor layer. Table 1 shows the evaluation results.

【0165】[0165]

【表1】 [Table 1]

【0166】[0166]

【発明の効果】本発明によって、プラズマディスプレイ
の蛍光体層を高精細な隔壁間に高精度かつ簡便に形成で
きた。
According to the present invention, a phosphor layer of a plasma display can be easily and accurately formed between high-definition partition walls.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の塗布方法の一例を示す概略図であ
る。
FIG. 1 is a schematic view showing one example of a coating method of the present invention.

【図2】 本発明のプラズマディスプレイ基板および口
金の関係を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a relationship between a plasma display substrate and a base according to the present invention.

【図3】 本発明の一実施態様に係るプラズマディスプ
レイの製造装置の概略図である。
FIG. 3 is a schematic view of a plasma display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図4】 図3に示したプラズマディスプレイの製造装
置の要部の概略図である。
4 is a schematic view of a main part of the plasma display manufacturing apparatus shown in FIG.

【図5】 本発明で用いる口金の一例を示す概略図であ
る。
FIG. 5 is a schematic view showing an example of a base used in the present invention.

【図6】 本発明で用いる口金の他の一例を示す概略図
である。
FIG. 6 is a schematic view showing another example of the base used in the present invention.

【図7】 本発明で用いる口金の更に他の一例を示す断
面図と底面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view and a bottom view showing still another example of the base used in the present invention.

【図8】 本発明の他の実施態様に係るプラズマディス
プレイの製造装置の概略図である。
FIG. 8 is a schematic view of an apparatus for manufacturing a plasma display according to another embodiment of the present invention.

【図9】 本発明のプラズマディスプレイの製造装置に
おける口金の吐出口面の清浄装置の概略図である。
FIG. 9 is a schematic view of an apparatus for cleaning a discharge port surface of a base in a plasma display manufacturing apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 基台 4 基板 6 テーブル 7 吸引孔 8 ガイド溝レール 9 スライド脚 10 フィードスクリュー 11 コネクタ 12 軸受 16 ACサーボモータ 20 口金 22 ホルダー 24 水平バー 26 リニアアクチュエータ 29 伸縮ロッド 28 昇降ブラケット 30 昇降機構 32 Y軸移動ブラケット 34 支柱 36 幅方向移動機構 38 センサ支柱 40 高さセンサ 41 マニホールド 42 蛍光体ペースト 44 吐出口 46 供給ホース 48 吐出用電磁切換え弁 50 供給ユニット 52 吸引ホース 54 吸引用電磁切換え弁 56 蛍光体ペーストタンク 58 供給装置コントローラ 60 全体コントローラ 62 モータコントローラ 64 センサーブラケット 66 位置センサー 68 位置センサ 70 カメラ支柱 72 カメラ 74 画像処理装置 501 吐出口 601 パイプ 701 蛍光体ペースト供給口 702 蛍光体ペースト貯蔵部 703 パス部 704 吐出口 801 口金 802 口金 901 清浄装置 902 吐出口面 903 拭取り部材 904 ブラケット 905 トレイ 906 排出口 907 チューブ 908 昇降部 909 ガイド 910 移動ユニット 911 架台 912 ボールねじ 2 base 4 board 6 table 7 suction hole 8 guide groove rail 9 slide leg 10 feed screw 11 connector 12 bearing 16 AC servomotor 20 base 22 holder 24 horizontal bar 26 linear actuator 29 telescopic rod 28 elevating bracket 30 elevating mechanism 32 Y axis Moving bracket 34 Post 36 Width moving mechanism 38 Sensor post 40 Height sensor 41 Manifold 42 Phosphor paste 44 Discharge port 46 Supply hose 48 Discharge electromagnetic switching valve 50 Supply unit 52 Suction hose 54 Suction electromagnetic switching valve 56 Phosphor paste Tank 58 Supply device controller 60 Overall controller 62 Motor controller 64 Sensor bracket 66 Position sensor 68 Position sensor 70 Camera support 72 Camera 74 Image processing device 5 Reference Signs List 1 discharge port 601 pipe 701 phosphor paste supply port 702 phosphor paste storage section 703 pass section 704 discharge port 801 cap 802 cap 901 cleaning device 902 discharge port face 903 wiping member 904 bracket 905 tray 906 discharge port 907 tube 908 rise 909 Guide 910 Moving unit 911 Mount 912 Ball screw

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐野 高男 滋賀県大津市園山1丁目1番1号 東レ株 式会社滋賀事業場内 (72)発明者 正木 孝樹 滋賀県大津市園山1丁目1番1号 東レ株 式会社滋賀事業場内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Takao Sano, 1-1-1, Sonoyama, Otsu-shi, Shiga Prefecture Inside the Shiga Plant of Toray Industries Co., Ltd. (72) Takaki Masaki, 1-1-1 Sonoyama, Otsu-shi, Shiga Prefecture No. Toray Industries, Inc. Shiga Plant

Claims (35)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の隔壁を形成した基板上に、蛍光体粉
末と有機化合物を含む蛍光体ペーストを複数の吐出口を
有する口金から連続的に吐出して蛍光体層を形成するプ
ラズマディスプレイの製造方法。
1. A plasma display in which a phosphor layer containing a phosphor powder and an organic compound is continuously discharged from a base having a plurality of discharge ports on a substrate on which a plurality of partition walls are formed to form a phosphor layer. Production method.
【請求項2】赤色、緑色、青色に発光する蛍光体粉末を
それぞれ含む3種類の蛍光体ペーストを、吐出口を有す
る口金から基板上の隔壁間にストライプ状にそれぞれ塗
布した後、加熱することにより蛍光体層を形成すること
を特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイの製
造方法。
2. A method in which three kinds of phosphor pastes containing phosphor powders emitting red, green and blue light are applied in stripes from a base having an ejection port to partition walls on a substrate, and then heated. 2. The method according to claim 1, wherein the phosphor layer is formed by the following method.
【請求項3】隔壁間隔(S)と吐出口の平均孔径(D)
とが以下の条件を満たすことを特徴とする請求項1また
は請求項2記載のプラズマディスプレイの製造方法。 10μm≦D≦S≦500μm
3. An interval (S) between partition walls and an average pore diameter (D) of a discharge port.
3. The method according to claim 1, wherein the following conditions are satisfied. 10 μm ≦ D ≦ S ≦ 500 μm
【請求項4】吐出口が平板、ノズルまたはニードルであ
ることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか
に記載のプラズマディスプレイの製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the discharge port is a flat plate, a nozzle or a needle.
【請求項5】20〜2000個の吐出口を有する口金を
用いることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいず
れかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
5. The method for manufacturing a plasma display according to claim 1, wherein a die having 20 to 2,000 discharge ports is used.
【請求項6】150〜2000個の吐出口を有する口金
を用いることを特徴とする請求項5記載のプラズマディ
スプレイの製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein a die having 150 to 2,000 discharge ports is used.
【請求項7】吐出口数が16n±5(nは自然数)の範
囲である口金を用いることを特徴とする請求項1ないし
請求項6のいずれかにに記載のプラズマディスプレイの
製造装置。
7. The plasma display manufacturing apparatus according to claim 1, wherein a base having a discharge port number of 16n ± 5 (n is a natural number) is used.
【請求項8】吐出口のピッチが、0.12〜3mmであ
る口金を用いることを特徴とする請求項1ないし請求項
7のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方
法。
8. The method for manufacturing a plasma display according to claim 1, wherein a base having a discharge port pitch of 0.12 to 3 mm is used.
【請求項9】吐出口のピッチが、隔壁ピッチの3m倍
(mは1〜10の整数)である口金を用いることを特徴
とする請求項1ないし請求項8のいずれかに記載のプラ
ズマディスプレイの製造方法。
9. A plasma display according to claim 1, wherein a base having a discharge port pitch of 3 m times the partition wall pitch (m is an integer of 1 to 10) is used. Manufacturing method.
【請求項10】吐出口の長さ(L)と吐出口の平均孔径
(D)について、下式を満たす口金を用いることを特徴
とする請求項1ないし請求項9のいずれかにのプラズマ
ディスプレイの製造方法。 L/D=0.1〜600
10. The plasma display according to claim 1, wherein a base satisfying the following formula is used for the length (L) of the discharge port and the average hole diameter (D) of the discharge port. Manufacturing method. L / D = 0.1-600
【請求項11】吐出口の平均孔径(D)が、60〜40
0μmの口金により塗布することを特徴とする請求項1
ないし請求項10のいずれかに記載のプラズマディスプ
レイの製造方法。
11. The discharge port has an average pore diameter (D) of 60 to 40.
2. The coating method according to claim 1, wherein the coating is performed with a base having a thickness of 0 .mu.m.
A method for manufacturing a plasma display according to claim 10.
【請求項12】ガラス基板上に形成された隔壁の上端部
から口金の吐出口先端部の間隔が、0.01〜2mmの
状態で蛍光体ペーストを塗布することを特徴とする請求
項1ないし請求項11のいずれかに記載のプラズマディ
スプレイの製造方法。
12. The phosphor paste is applied in a state where the distance between the upper end of the partition wall formed on the glass substrate and the tip of the outlet of the die is 0.01 to 2 mm. A method for manufacturing a plasma display according to claim 11.
【請求項13】1つの口金から異なる色に発色する蛍光
体を含有するペーストを吐出し、かつ、該異なる色の蛍
光体ペーストを吐出する吐出口の最短間隔が600μm
以上であることを特徴とする請求項1ないし請求項12
のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
13. A paste containing phosphors emitting different colors from one base is ejected, and the shortest interval between the ejection openings for ejecting the phosphor pastes of different colors is 600 μm.
13. The method according to claim 1, wherein:
The method for manufacturing a plasma display according to any one of the above.
【請求項14】独立した2基以上の口金を有し、該2基
以上の口金から同時に塗布することを特徴とする請求項
1ないし請求項13のいずれかに記載のプラズマディス
プレイの製造方法。
14. The method of manufacturing a plasma display according to claim 1, wherein the plasma display device has two or more independent bases, and the two or more bases are applied simultaneously.
【請求項15】2基以上の口金を同速度で走行させて塗
布することを特徴とする請求項14記載のプラズマディ
スプレイの製造方法。
15. The method according to claim 14, wherein two or more bases are run at the same speed to apply the coating.
【請求項16】1色ごとに塗布して、1色塗布するごと
に乾燥工程を経ることを特徴とする請求項2ないし請求
項15のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造
方法。
16. The method for manufacturing a plasma display according to claim 2, wherein a coating process is performed for each color and a drying process is performed each time one color is coated.
【請求項17】口金と基板を該ガラス基板上の隔壁に対
して平行に相対移動させることを特徴とする請求項1な
いし請求項16のいずれかに記載のプラズマディスプレ
イの製造方法。
17. The method for manufacturing a plasma display according to claim 1, wherein the base and the substrate are relatively moved in parallel to a partition on the glass substrate.
【請求項18】蛍光体ペーストの吐出を止める際に、口
金内部を負圧の状態とすることを特徴とする請求項1な
いし請求項17のいずれかに記載のプラズマディスプレ
イの製造方法。
18. The method of manufacturing a plasma display according to claim 1, wherein when the discharge of the phosphor paste is stopped, the inside of the base is kept under a negative pressure.
【請求項19】口金と基板の該基板上の隔壁に対して平
行に相対移動を開始以降に蛍光体ペースト吐出を開始
し、かつ、前記相対移動終了以前に吐出を止めることを
特徴とする請求項1ないし請求項18のいずれかに記載
のプラズマディスプレイの製造方法。
19. The method according to claim 19, wherein the discharge of the phosphor paste is started after the relative movement of the base and the substrate is started in parallel with the partition on the substrate, and the discharge is stopped before the end of the relative movement. 19. The method for manufacturing a plasma display according to any one of items 1 to 18.
【請求項20】蛍光体粉末として、50重量%粒子径が
0.5〜10μm、比表面積0.1〜2m2/gである
蛍光体粉末を用いることを特徴とする請求項1ないし請
求項19のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製
造方法。
20. A phosphor powder having a 50% by weight particle size of 0.5 to 10 μm and a specific surface area of 0.1 to 2 m 2 / g as a phosphor powder. 20. The method for manufacturing a plasma display according to any one of 19 to 19.
【請求項21】蛍光体粉末30〜60重量%、バインダ
ー樹脂5〜20重量%および溶媒を含み、かつ、蛍光体
粉末とバインダー樹脂との重量比が6:1〜3:1であ
る蛍光体ペーストを用いることを特徴とする請求項1な
いし請求項21のいずれかに記載のプラズマディスプレ
イの製造方法。
21. A phosphor comprising 30 to 60% by weight of a phosphor powder, 5 to 20% by weight of a binder resin and a solvent, wherein the weight ratio of the phosphor powder to the binder resin is 6: 1 to 3: 1. 22. The method of manufacturing a plasma display according to claim 1, wherein a paste is used.
【請求項22】バインダー樹脂が、セルロース化合物で
あることを特徴とする記請求項21記載のプラズマディ
スプレイの製造方法。
22. The method according to claim 21, wherein the binder resin is a cellulose compound.
【請求項23】溶媒が、テルピネオールを含む溶媒であ
ることを特徴とする記載請求項21のプラズマディスプ
レイの製造方法。
23. The method according to claim 21, wherein the solvent is a solvent containing terpineol.
【請求項24】赤色、緑色、青色に発光する蛍光体粉末
をそれぞれ含む3種類の蛍光体ペーストを、ガラス基板
上の隔壁間にそれぞれ塗布することにより蛍光面を形成
するプラズマディスプレイの製造方法であって、所定の
塗布位置以外に存在する蛍光体を、粘着体に付着させる
ことにより、除去することを特徴とするな請求項2いし
請求項23のいずれかに記載のプラズマディスプレイの
製造方法。
24. A method for manufacturing a plasma display in which a phosphor screen is formed by applying three kinds of phosphor pastes containing phosphor powders emitting red, green and blue light, respectively, between partition walls on a glass substrate. 24. The method for manufacturing a plasma display according to claim 2, wherein the phosphor present at a position other than a predetermined application position is removed by attaching the phosphor to an adhesive.
【請求項25】隔壁の上端部に位置する蛍光体を、粘着
体に付着させることにより、除去することを特徴とする
請求項1ないし請求項24のいずれかに記載のプラズマ
ディスプレイの製造方法。
25. The method according to claim 1, wherein the phosphor located at the upper end of the partition is removed by attaching the phosphor to an adhesive.
【請求項26】隔壁高さHμm、隔壁ピッチPμm、隔
壁線幅Wμm、蛍光体ペースト中に含まれる蛍光体粉末
の比率a(vol%)の間に以下の関係が成り立つ蛍光
体ペーストを用いることを特徴とする請求項1ないし請
求項25のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製
造方法。 (2H+P−W)×5≦H×(P−W)×a/100≦
(2H+P−W)×30
26. A phosphor paste which satisfies the following relationship among the partition wall height H μm, the partition wall pitch P μm, the partition line width W μm, and the ratio a (vol%) of the phosphor powder contained in the phosphor paste. The method for manufacturing a plasma display according to any one of claims 1 to 25, characterized in that: (2H + P−W) × 5 ≦ H × (P−W) × a / 100 ≦
(2H + P−W) × 30
【請求項27】蛍光体ペーストとして、粘度が2〜50
Pa・sのペーストを用いることを特徴とする請求項1
ないし請求項26のいずれかにのプラズマディスプレイ
の製造方法。
27. A phosphor paste having a viscosity of 2 to 50.
2. The method according to claim 1, wherein a paste of Pa.s is used.
27. The method of manufacturing a plasma display according to claim 26.
【請求項28】蛍光体ペーストが感光性蛍光体ペースト
であることを特徴とする請求項1ないし請求項27のい
ずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
28. The method of manufacturing a plasma display according to claim 1, wherein the phosphor paste is a photosensitive phosphor paste.
【請求項29】感光性蛍光体ペーストとして、以下の組
成のペーストを用いることを特徴とする請求項28記載
のプラズマディスプレイの製造方法。 有機成分 :15〜60重量部 蛍光体粉末 :40〜85重量部 溶媒 :10〜50重量部
29. The method according to claim 28, wherein a paste having the following composition is used as the photosensitive phosphor paste. Organic component: 15 to 60 parts by weight Phosphor powder: 40 to 85 parts by weight Solvent: 10 to 50 parts by weight
【請求項30】隔壁層が以下のディメンジョンを有する
ストライプ形状であることを特徴とする請求項1ないし
請求項29のいずれかに記載のプラズマディスプレイの
製造方法。 ピッチ:100〜250μm 線幅 : 15〜 40μm 高さ : 60〜170μm
30. The method according to claim 1, wherein the partition layer has a stripe shape having the following dimensions. Pitch: 100-250 μm Line width: 15-40 μm Height: 60-170 μm
【請求項31】隔壁の上面が黒色であることを特徴とす
る請求項1ないし請求項30のいずれかに記載のプラズ
マディスプレイの製造方法。
31. The method according to claim 1, wherein the upper surface of the partition is black.
【請求項32】蛍光体層の隔壁高さの半分の位置での側
面厚み(T1)と底部厚み(T2)の間で、下記の関係
を示すことを特徴とする請求項1ないし請求項31のい
ずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。 10≦T1≦50μm 10≦T2≦50μm 0.2≦T1/T2≦5
32. The following relationship is shown between the side thickness (T1) and the bottom thickness (T2) at half the height of the partition wall of the phosphor layer. The method for manufacturing a plasma display according to any one of the above. 10 ≦ T1 ≦ 50 μm 10 ≦ T2 ≦ 50 μm 0.2 ≦ T1 / T2 ≦ 5
【請求項33】表面に複数の隔壁が形成されている基板
を固定するテーブルと、前記基板の隔壁と対面して複数
の吐出口を有する口金と、前記テーブルと前記口金を3
次元的に相対移動させる移動手段を備えたことを特徴と
するプラズマディスプレイの製造装置。
33. A table for fixing a substrate having a plurality of partition walls formed on a surface thereof, a base having a plurality of discharge ports facing the partition walls of the substrate, and a table including the table and the base.
An apparatus for manufacturing a plasma display, comprising a moving means for performing a relative movement in a three-dimensional manner.
【請求項34】前記口金の吐出口の平均孔径(D)が隔
壁間隔(S)に対して以下の条件を満たすことを特徴と
する請求項33に記載のプラズマディスプレイの製造装
置。 10μm≦D≦S≦500μm
34. The plasma display manufacturing apparatus according to claim 33, wherein the average hole diameter (D) of the discharge port of the die satisfies the following condition with respect to the partition wall spacing (S). 10 μm ≦ D ≦ S ≦ 500 μm
【請求項35】前記口金の吐出口数が20〜2000個
であることを特徴とする請求項33または請求項34に
記載のプラズマディスプレイの製造装置。
35. The plasma display manufacturing apparatus according to claim 33, wherein the number of discharge ports of the base is 20 to 2,000.
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