JPH10228082A - Method for processing silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Method for processing silver halide photographic sensitive material

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JPH10228082A
JPH10228082A JP3243397A JP3243397A JPH10228082A JP H10228082 A JPH10228082 A JP H10228082A JP 3243397 A JP3243397 A JP 3243397A JP 3243397 A JP3243397 A JP 3243397A JP H10228082 A JPH10228082 A JP H10228082A
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JP
Japan
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group
general formula
atom
ring
alkyl
Prior art date
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Application number
JP3243397A
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Japanese (ja)
Inventor
Senzo Sasaoka
扇三 笹岡
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an improved development processing method which is less changed in photographic performance by subjecting a silver halide photographic sensitive material contg. specific compds. to development processing with a developer consisting of ascorbic acid, etc., as a developing agent and further contg. a specific aminophenol deriv. as a superadditive auxiliary developing agent. SOLUTION: This development processing method consists in subjecting the silver halide photographic sensitive material contg. the hydrazine deriv. selected from formula I, etc., and the compd. expressed by formula II to the development processing with the developer consisting of the ascorbic acid or its deriv. as the developing agent and further contg. the aminophenol deriv. as the superadditive auxiliary developing agent. In the formula I, Ra1 denotes an aliphat. group, etc.; Ga1 denotes a -CO- group, etc.; Ga2 denotes a mere coupler, -O- group, etc.; Ra2 denotes an aliphat. group, etc.,; Aa1 , Aa2 denote hydrogen atoms or acyl groups, etc. In the formula II, R3 denotes a hydrogen atom, alkyl group, etc.; Q denotes a mere coupler, sulfur atom, etc., as a bivalent group; R1 , R2 respectively denote hydrogen atoms, alkyl groups, etc.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料の現像処理方法に関するものである。更に具体
的には、写真製版の分野で用いられる、超硬調で且つ処
理による性能変化の少ないハロゲン化銀写真感光材料
(以下、感光材料または感材ともいう)の現像処理方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for developing a silver halide photographic material. More specifically, the present invention relates to a method for developing a silver halide photographic light-sensitive material (hereinafter also referred to as a light-sensitive material or a light-sensitive material), which is used in the field of photoengraving and has an ultra-high contrast and little change in performance due to processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に感光材料の現像処理において、現
像液には多くの場合、コスト、写真性能の安定性の点か
ら現像主薬としてハイドロキノンが用いられてきた。し
かし、ハイドロキノンはアレルギー性であることから、
素材の安全性上好ましからざるものであった。このよう
な理由から、ハイドロキノン代替としてアスコルビン酸
を用いた現像液が例えば特開平6−19069、特開平
7−114153、特開平7−175176に開示され
ている。
2. Description of the Related Art Generally, hydroquinone has been used as a developing agent in a developing solution of a photosensitive material in view of cost and stability of photographic performance in many cases. However, because hydroquinone is allergic,
It was unfavorable in terms of material safety. For these reasons, developers using ascorbic acid as an alternative to hydroquinone are disclosed, for example, in JP-A-6-19069, JP-A-7-1114153, and JP-A-7-175176.

【0003】一方、写真処理廃液はそのまま下水道に放
出することは出来ず、廃液を回収し焼却処理する必要が
ある。このため、自動現像機を用いて処理する際の補充
量を減少させることが望まれていたが、現像液の補充量
を少なくすると、写真性能の安定性が損なわれる問題が
あった。また、アスコルビン酸またはその誘導体を用い
た現像液は空気酸化を受けやすく、酸化されると酸を生
成して現像液のpHが低下してしまう。現像液のpH低
下により造核剤の活性が低下し、コントラストおよびD
maxの低下を引き起こし写真性能が不安定となる。従っ
て、アスコルビン酸またはその誘導体を用いた現像液
は、補充量を低減することが困難であった。
On the other hand, photographic processing waste liquid cannot be discharged to the sewer as it is, and it is necessary to collect the waste liquid and incinerate it. For this reason, it has been desired to reduce the replenishment amount when processing using an automatic developing machine. However, if the replenishment amount of the developer is reduced, there is a problem that the stability of photographic performance is impaired. Further, a developing solution using ascorbic acid or a derivative thereof is susceptible to air oxidation, and when oxidized, generates an acid to lower the pH of the developing solution. The activity of the nucleating agent decreases due to the decrease in the pH of the developer, and the contrast and D
The photographic performance becomes unstable due to a decrease in max. Therefore, it has been difficult to reduce the replenishment amount of the developer using ascorbic acid or a derivative thereof.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的はハイドロキノンを用いないアスコルビン酸系現像
液において、写真性能の変化が少なく、改善された現像
液および改善された現像処理方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an improved developing solution and an improved processing method in an ascorbic acid-based developing solution which does not use hydroquinone, with little change in photographic performance. It is in.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的は、下記一般式
(1)、(2)、(3)から選ばれるヒドラジン誘導体
及び下記一般式(X)で表される化合物を含有するハロ
ゲン化銀写真感光材料を、実質的にジヒドロキシベンゼ
ン類を含有せず、アスコルビン酸および又はその誘導体
を現像主薬とし、更に超加成性補助現像主薬として下記
一般式(M)で表されるアミノフェノール誘導体を含む
現像液で、現像処理することを特徴とする現像処理方法
により達成された。
An object of the present invention is to provide a silver halide containing a hydrazine derivative selected from the following formulas (1), (2) and (3) and a compound represented by the following formula (X). The photographic light-sensitive material is substantially free of dihydroxybenzenes, uses ascorbic acid and / or a derivative thereof as a developing agent, and further includes an aminophenol derivative represented by the following general formula (M) as a superadditive auxiliary developing agent. The present invention has been attained by a development processing method characterized in that development processing is carried out with a developing solution containing the developer.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】まず一般式(1)のヒドラジン誘
導体について説明する。 一般式(1)
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION First, the hydrazine derivative represented by the general formula (1) will be described. General formula (1)

【0007】[0007]

【化8】 Embedded image

【0008】式中、Ra1は脂肪族基または芳香族基を表
し、さらにその置換基の一部として−O−(CH2 CH
2 O)n −、−O−(CH2 CH(CH3 )O)n −ま
たは−O−(CH2 CH(OH)CH2 O)n −(ただ
しnは3以上の整数)の部分構造を含有するか、あるい
は置換基の一部として4級アンモニウムカチオンを含有
する基である。Ga1は−CO−基、−COCO−基、−
CS−基、−C(=NGa2a2)−基、−SO−基、−
SO2 −基または−P(O)(Ga2a2)−基を表す。
a2は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N
(Ra2)−基を表し、Ra2は脂肪族基、芳香族基、また
は水素原子を表し、分子内に複数のRa2が存在する場合
それらは同じであっても異なっても良い。
In the formula, R a1 represents an aliphatic group or an aromatic group, and further has —O— (CH 2 CH 2) as a part of the substituent.
2 O) n- , -O- (CH 2 CH (CH 3 ) O) n -or -O- (CH 2 CH (OH) CH 2 O) n- (where n is an integer of 3 or more) Or a group containing a quaternary ammonium cation as a part of the substituent. G a1 represents a —CO— group, a —COCO— group,
CS-group, -C (= NG a2 R a2 )-group, -SO- group,-
Represents an SO 2 — group or a —P (O) (G a2 R a2 ) — group.
G a2 is a mere bond, a —O— group, a —S— group or a —N
Represents a (R a2 ) — group, wherein R a2 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a hydrogen atom, and when a plurality of R a2 are present in a molecule, they may be the same or different.

【0009】Aa1、Aa2の一方は水素原子であり、他方
は水素原子またはアシル基、アルキル基またはアリール
スルホニル基を表す。一般式(1)についてさらに詳細
に説明する。一般式(1)において、Ra1で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、特
に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基
である。このアルキル基は置換基を有している。
One of A a1 and A a2 is a hydrogen atom, and the other is a hydrogen atom or an acyl group, an alkyl group or an arylsulfonyl group. The general formula (1) will be described in more detail. In the general formula (1), the aliphatic group represented by R a1 is preferably be of 1 to 30 carbon atoms, in particular straight-chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. This alkyl group has a substituent.

【0010】一般式(1)において、Ra1で表される芳
香族基は単環または2環のアリール基または不飽和ヘテ
ロ環基である。ここで不飽和ヘテロ環基はアリール基と
縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。例えば、
ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリン環、
イソキノリン環等がある。なかでもベンゼン環を含むも
のが好ましい。
In the general formula (1), the aromatic group represented by R a1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with an aryl group to form a heteroaryl group. For example,
Benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring, quinoline ring,
There is an isoquinoline ring and the like. Among them, those containing a benzene ring are preferred.

【0011】Ra1として特に好ましいものはアリール基
である。Ra1の脂肪族基または芳香族基は置換されてお
り、代表的な置換基としては、例えばアルキル基、アラ
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン
基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シ
アノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カル
ボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リ
ン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基としては
直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数
1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7
〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜
30のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜3
0のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ
基(好ましくは炭素数2〜40を持つもの)、スルホン
アミド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、ウ
レイド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、リ
ン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜40のもの)など
である。
Particularly preferred as R a1 is an aryl group. The aliphatic group or the aromatic group represented by R a1 is substituted. Representative examples of the substituent include an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, a ureido group, Urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy Groups, a carbonamido group, a sulfonamido group, a carboxyl group, a phosphoric acid amide group and the like. Preferred substituents are a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), an aralkyl group (Preferably having 7 carbon atoms
To 30), an alkoxy group (preferably having 1 to carbon atoms)
30), a substituted amino group (preferably having 1 to 3 carbon atoms)
An amino group substituted with an alkyl group of 0), an acylamino group (preferably having 2 to 40 carbon atoms), a sulfonamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), a ureido group (preferably having And a phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms).

【0012】Ra1の脂肪族基、芳香族基またはそれらの
置換基は−O−(CH2 CH2 O) n −、−O−(CH
2 CH(CH3 )O)n −または−O−(CH2 CH
(OH)CH2 O)n −を含有しているか、あるいは4
級アンモニウムカチオンを含有している。nは3以上の
整数であり、3以上15以下の整数が好ましい。Ra1
好ましくは以下の一般式〔H1〕、一般式〔H2〕また
は一般式〔H3〕または一般式〔H4〕で表される。
Ra1Aliphatic groups, aromatic groups or their
The substituent is -O- (CHTwoCHTwoO) n-, -O- (CH
TwoCH (CHThree) O)n-Or -O- (CHTwoCH
(OH) CHTwoO)nContains-or 4
Contains quaternary ammonium cation. n is 3 or more
It is an integer, preferably an integer of 3 or more and 15 or less. Ra1Is
Preferably, the following general formula [H1], general formula [H2] or
Is represented by the general formula [H3] or the general formula [H4].

【0013】[0013]

【化9】 Embedded image

【0014】式中、La1、La2は−CONRa7−基、−
NRa7CONRa8−基、−SO2 NRa7−基または−N
a7SO3 NRa8−基を表し、それぞれ同じであっても
異なっていても良い。Ra7およびRa8は水素原子または
炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜10のアリール
基を表し、水素原子が好ましい。mは0または1であ
る。
In the formula, L a1 and L a2 represent a —CONR a7 — group,
NR a7 CONR a8 -group, -SO 2 NR a7 -group or -N
R a7 SO 3 NR a8 — represents a group, which may be the same or different. R a7 and R a8 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and a hydrogen atom is preferable. m is 0 or 1.

【0015】Ra3、Ra4、Ra5は2価の脂肪族基または
芳香族基であり、好ましくはアルキレン基、アリーレン
基またはそれらと−O−基、−CO−基、−S−基、−
SO−基、−SO2 −基、−NRa9−基(Ra9は一般式
(1)、(2)、(3)のR a7と同義)を組みあわせる
ことによってつくられる2価の基である。より好ましく
はRa3は炭素数1〜10のアルキレン基あるいはそれら
と−S−基、−SO−基、−SO2 −基を組みあわせて
つくられる2価の基であり、Ra4、Ra5は炭素数6〜2
0のアリーレン基である。特にRa5はフェニレン基が好
ましい。
Ra3, Ra4, Ra5Is a divalent aliphatic group or
An aromatic group, preferably an alkylene group or an arylene
Or a group thereof and a -O- group, -CO- group, -S- group,-
SO- group, -SOTwo-Group, -NRa9-Group (Ra9Is the general formula
R of (1), (2), (3) a7Synonymous with)
This is a divalent group created by More preferred
Is Ra3Is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or
And -S- group, -SO- group, -SOTwo-Combining groups
Is a divalent group formed bya4, Ra5Has 6 to 2 carbon atoms
0 is an arylene group. Especially Ra5Is preferably a phenylene group
Good.

【0016】Ra3、Ra4およびRa5は置換されていても
良く、好ましい置換基としてはRa1の置換基として列挙
したものがあてはまる。一般式〔H1〕、〔H2〕にお
いてZ1 は含窒素芳香環を形成するために必要な原子群
を表す。Z1 と窒素原子で形成される含窒素複素芳香環
の好ましい例としてはピリジン環、ピリミジン環、ピリ
ダジン環、ピラジン環、イミダゾール環、ピラゾール
環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、およ
びこれらのベンゾ縮合環の他、プテリジン環、ナフチリ
ジン環などを挙げることができる。
R a3 , R a4 and R a5 may be substituted, and preferred substituents include those listed as substituents for R a1 . In the general formulas [H1] and [H2], Z 1 represents an atom group necessary for forming a nitrogen-containing aromatic ring. Z 1 and pyridine ring Preferable examples of the nitrogen-containing heteroaromatic ring formed by the nitrogen atom, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, a pyrazine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, pyrrole ring, oxazole ring, thiazole ring, and their benzo In addition to condensed rings, pteridine rings, naphthyridine rings and the like can be mentioned.

【0017】一般式〔H1〕、〔H2〕、〔H3〕にお
いてX- は対アニオンまたは分子内塩を形成する場合
は、対アニオン部分を表す。一般式〔H2〕、〔H
3〕、〔H4〕においてRa6は脂肪族基または芳香族基
を表す。好ましくはRa6は炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数6〜20のアリール基である。
[0017] Formula [H1], [H2], X in [H3] - case of forming a counter anion or intramolecular salt represents a counter anion moiety. General formula [H2], [H
In 3] and [H4], R a6 represents an aliphatic group or an aromatic group. Preferably, R a6 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.

【0018】一般式〔H3〕における3つのRa6はそれ
ぞれ同じであっても異なっても良く、また互いに結合し
て環を形成しても良い。Z1 およびRa6は置換されてい
ても良く、好ましい置換基としてはRa1の置換基として
列挙したものがあてはまる。一般式〔H4〕においてL
a3は−CH2 CH2 O−基、−CH2 CH(CH3)O
−基、または−CH2 CH(OH)CH2 O−基を表
し、nは一般式〔H1〕と同義である。
The three R a6 in the general formula [H3] may be the same or different, and may combine with each other to form a ring. Z 1 and R a6 may be substituted, and preferred substituents include those listed as substituents for R a1 . L in the general formula [H4]
a3 is -CH 2 CH 2 O-group, -CH 2 CH (CH 3) O
—, Or —CH 2 CH (OH) CH 2 O—, wherein n is as defined in the general formula [H1].

【0019】一般式(1)におけるGa1としては−CO
−基、−SO2 −基が好ましく、−CO−基が最も好ま
しい。Aa1、Aa2としては水素原子が好ましい。
In general formula (1), G a1 represents —CO
- group, -SO 2 - groups are preferred, -CO- group is most preferred. A a1 and A a2 are preferably hydrogen atoms.

【0020】一般式(1)において、Ra2表される脂肪
族基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基で
ある。このアルキル基は置換基を有している。一般式
(1)において、Ra2で表される芳香族基は単環または
2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基である。ここ
で不飽和ヘテロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。例えば、ベンゼン環、ナフタ
レン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環等が
ある。なかでもベンゼン環を含むものが好ましい。Ra2
として特に好ましいものはアリール基である。一般式
(1)においてRa2で表されるアルキル基としては、好
ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、アリール基
としては単環または2環のアリール基が好ましい(例え
ばベンゼン環を含むもの)。Ra2の置換基としては、R
a1の置換基として挙げられたものが挙げられる。
In the general formula (1), the aliphatic group represented by R a2 preferably has 1 to 30 carbon atoms, and particularly is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. . This alkyl group has a substituent. In the general formula (1), the aromatic group represented by R a2 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with an aryl group to form a heteroaryl group. For example, there are a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring and the like. Among them, those containing a benzene ring are preferred. R a2
Is particularly preferably an aryl group. In formula (1), the alkyl group represented by Ra2 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group (for example, including a benzene ring thing). As the substituent of R a2 , R
Examples of the substituent of a1 include those mentioned above.

【0021】Ga1が−CO−基の場合、Ra2で表される
基のうち好ましいものは、水素原子、アルキル基(例え
ば、メチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル
基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルス
ルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、o−
ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば、フ
ェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンス
ルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニ
ル基、2−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであ
り、特に水素原子が好ましい。
When G a1 is a —CO— group, of the groups represented by R a2 , preferred are a hydrogen atom and an alkyl group (for example, a methyl group, a methoxymethyl group, a phenoxymethyl group, a trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc., aralkyl group (for example, o-
A hydroxybenzyl group), an aryl group (eg, a phenyl group, a 3,5-dichlorophenyl group, an o-methanesulfonamidophenyl group, a 4-methanesulfonylphenyl group, a 2-hydroxymethylphenyl group), and particularly hydrogen. Atoms are preferred.

【0022】Ra2は置換されていても良く、置換基とし
ては、Ra1に関して列挙した置換基が適用できる。又、
a2はGa1−Ra2の部分を残余分子から分裂させ、−G
a1−Ra2部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反
応を生起するようなものであってもよく、その例として
は例えば特開昭63−29751号などに記載のものが
挙げられる。
R a2 may be substituted, and as the substituent, the substituents listed for R a1 can be applied. or,
R a2 disrupts the portion of G a1 -R a2 from the remainder molecule, -G
a1 -R a2 part of atoms may be such as to rise to cyclization reaction to form a cyclic structure containing, include those described in, for example, JP 63-29751 as examples .

【0023】一般式(1)のRa1またはRa2はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に
対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、ア
ルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノ
キシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことが
できる。またポリマーとして例えば特開平1−1005
30号に記載のものが挙げられる。
R a1 or R a2 in the general formula (1) may have a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties. For example, the ballast group is selected from an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group and an alkylphenoxy group. Can be. Further, as a polymer, for example, JP-A-1-1005
No. 30.

【0024】一般式(1)のRa1またはRa2はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ
尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4,385,108号、
同4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,04
5号、同59−201,046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、同61−170,733号、同61−27
0,744号、同62−948号、同63−234,2
44号、同63−234,245号、同63−234,
246号に記載された基が挙げられる。
R a1 or R a2 in the general formula (1) may have a group in which a group that enhances adsorption to the surface of silver halide grains is incorporated. Examples of such an adsorptive group include thiourea groups, heterocyclic thioamide groups, mercapto heterocyclic groups, and triazole groups such as U.S. Pat.
No. 4,459,347, JP-A-59-195,233.
Nos. 59-200, 231 and 59-201, 04
No. 5, 59-201, 046, 59-201, 0
No. 47, 59-201, 048, 59-201,
Nos. 049, 61-170, 733, 61-27
Nos. 0,744, 62-948, 63-234,2
No. 44, No. 63-234, No. 245, No. 63-234,
No. 246.

【0025】本発明の一般式(1)の化合物は例えば特
開昭61−213,847号、同62−260,153
号、米国特許第4,684,604号、特願昭63−8
03号、米国特許第3,379,529号、同3,62
0,746号、同4,377,634号、同4,33
2,878号、特開昭49−129,536号、同56
−153,336号、同56−153,342号、米国
特許4988604号、同4994365号などに記載
されている方法を利用することにより合成できる。
The compounds of the general formula (1) of the present invention are described, for example, in JP-A-61-213,847 and JP-A-62-260,153.
No. 4,684,604, Japanese Patent Application No. 63-8 / 1988.
No. 03, U.S. Pat. Nos. 3,379,529 and 3,62.
0,746, 4,377,634, 4,33
2,878, JP-A-49-129,536 and 56
153,336, 56-153,342, U.S. Pat. Nos. 4,988,604 and 4,994,365.

【0026】以下に本発明に用いられる一般式(1)で
示される化合物を列記するが本発明はこれに限定される
ものではない。
The compounds represented by the general formula (1) used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

【0027】[0027]

【化10】 Embedded image

【0028】[0028]

【化11】 Embedded image

【0029】次に一般式(2)で表わされる化合物につ
いてさらに詳細に説明する。 一般式(2)
Next, the compound represented by formula (2) will be described in more detail. General formula (2)

【0030】[0030]

【化12】 Embedded image

【0031】Rb1は脂肪族基、芳香族基または、複素環
基を表わし、置換されていてもよい。Gb1は−CO−
基、−SO2 −基、−SO−基、−COCO−基、チオ
カルボニル基、イミノメチレン基または−P(O)(R
b3)−基を表し、Rb2はGb1で置換された炭素原子が少
なくとも1つの電子吸引基で置換された置換アルキル基
を表わす。Rb3は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アル
コキシ基、アリールオキシ基またはアミノ基を表わす。
R b1 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and may be substituted. G b1 is -CO-
Group, -SO 2 - group, -SO- group, -COCO- group, a thiocarbonyl group, an iminomethylene group or -P (O) (R
b3) - represents a group, R b2 is a substituted alkyl group in which the carbon atom substituted by G b1 is substituted with at least one electron withdrawing group. R b3 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group.

【0032】次に一般式(2)で表わされる化合物につ
いてさらに詳細に説明する。一般式(2)において、R
b1で表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアル
キル基、アルケニル基またはアルキニル基である。Rb1
で表わされる芳香族基としては、単環又は2環のアリー
ル基であり、例えばフェニル基、ナフチル基があげられ
る。
Next, the compound represented by formula (2) will be described in more detail. In the general formula (2), R
The aliphatic group represented by b1 is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. R b1
The aromatic group represented by is a monocyclic or bicyclic aryl group, such as a phenyl group and a naphthyl group.

【0033】Rb1のヘテロ環としては、N、O、又はS
原子のうち少なくともひとつを含む3〜10員の飽和も
しくは不飽和のヘテロ環であり、これらは単環であって
もよいし、さらに他の芳香族もしくはヘテロ環と縮合環
を形成してもよい。ヘテロ環として好ましくは、5ない
し6員の芳香族ヘテロ環基であり、例えば、ピリジン
基、イミダゾリル基、キノリニル基、ベンズイミダゾリ
ル基、ピリミジル基、ピラゾリル基、イソキノリニル
基、チアゾリン基、ベンズチアゾリル基を含むものが好
ましい。
As the heterocyclic ring for R b1 , N, O, or S
A 3- to 10-membered saturated or unsaturated hetero ring containing at least one atom, which may be a single ring or may form a condensed ring with another aromatic or hetero ring . The heterocyclic ring is preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group, and includes, for example, a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an isoquinolinyl group, a thiazoline group, and a benzothiazolyl group. Are preferred.

【0034】Rb1として好ましいのは、芳香族基、含窒
素複素環および一般式(b)で表わされる基である。 一般式(b)
Preferred as R b1 are an aromatic group, a nitrogen-containing heterocyclic ring and a group represented by formula (b). General formula (b)

【0035】[0035]

【化13】 Embedded image

【0036】(式中、X5 は芳香族基または含窒素複素
環基を表わし、Rb 1 〜Rb 4 は各々水素原子、ハロゲ
ン原子、またはアルキル基を表わし、X5 およびRb 1
〜R b 4 は可能な場合には置換基を有していてもよい。
rおよびsは0または1を表わす。) Rb1としてより好ましくは芳香族基であり、特にアリー
ル基が好ましい。
(Where X isFiveIs an aromatic group or a nitrogen-containing complex
A ring group;b 1~ Rb FourAre hydrogen and halogen
X represents an alkyl atom or an alkyl group;FiveAnd Rb 1
~ R b FourMay have a substituent if possible.
r and s represent 0 or 1. ) Rb1Is more preferably an aromatic group, especially an aryl group.
Preferred is a thiol group.

【0037】Rb1は置換基で置換されていてもよい。置
換基の例としては、例えばアルキル基、アラルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール
基、置換アミノ基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、ア
ルキルおよびアリールオキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基、ニトロ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基などの他、以下の一般式(c)で表
わされる基が挙げられる。
R b1 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include, for example, an alkyl group, an aralkyl group,
Alkenyl, alkynyl, alkoxy, aryl, substituted amino, aryloxy, sulfamoyl, carbamoyl, alkylthio, arylthio, sulfonyl, sulfinyl, hydroxy, halogen, cyano, sulfo and Carboxyl group, alkyl and aryloxycarbonyl group, acyl group,
In addition to an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamido group, a sulfonamido group, a nitro group, an alkylthio group, an arylthio group and the like, a group represented by the following general formula (c) can be mentioned.

【0038】一般式(c)Formula (c)

【0039】[0039]

【化14】 Embedded image

【0040】式(c)中、Yc は−CO−、−SO
2 −、−P(O)(Rc 3)−(式中、R c 3 はアルコキ
シ基、または、アリールオキシ基を表わす。)または−
OP(O)(Rc 3)−を表わし、Lは単結合、−O−、
−S−または−NRc 4 −(式中、Rc 4 は水素原子、
アルキル基、アリール基を表わす。)を表わす。Rc 1
およびRc 2 は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複
素環基を表わし、同じであっても異なっても良く、また
互いに結合して環形成しても良い。
In the formula (c), YcIs -CO-, -SO
Two-, -P (O) (Rc Three)-(Wherein, R c ThreeIs alkoki
Represents a silyl group or an aryloxy group. ) Or-
OP (O) (Rc Three)-, L is a single bond, -O-,
-S- or -NRc Four-(Where Rc FourIs a hydrogen atom,
Represents an alkyl group or an aryl group. ). Rc 1
And Rc TwoRepresents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or
Represents a ring group, which may be the same or different, and
They may be bonded to each other to form a ring.

【0041】またRb1は一般式(c)を1つまたは複数
個含むことができる。一般式(c)において、Rc 1
表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル
基、アルケニル基またはアルキニル基である。Rc 1
表わされる芳香族基としては、単環又は2環のアリール
基であり、例えばフェニル基、ナフチル基があげられ
る。Rc 1 のヘテロ環としては、N、O、又はS原子の
うち少なくともひとつを含む3〜10員の飽和もしくは
不飽和のヘテロ環であり、これらは単環であってもよい
し、さらに他の芳香族もしくはヘテロ環と縮合環を形成
してもよい。ヘテロ環として好ましくは、5ないし6員
の芳香族ヘテロ環基であり、例えば、ピリジン基、イミ
ダゾリル基、キノリニル基、ベンズイミダゾリル基、ピ
リミジル基、ピラゾリル基、イソキノリニル基、チアゾ
リル基、ベンズチアゾリル基を含むものが好ましい。
R b1 may include one or more of the general formula (c). In the general formula (c), the aliphatic group represented by R c 1 is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. The aromatic group represented by R c 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group, such as a phenyl group and a naphthyl group. The hetero ring of R c 1 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated hetero ring containing at least one of N, O, and S atoms, which may be a single ring, May form a condensed ring with the aromatic or heterocyclic ring of the above. The heterocycle is preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group, and includes, for example, a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an isoquinolinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group. Are preferred.

【0042】Rc 1 は置換基で置換されていてもよい。
置換基としては、例えば以下のものがあげられる。これ
らの基は更に置換されていてもよい。例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ
基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スル
フィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、
スルホ基やカルボキシル基、アルキルおよびアリールオ
キシカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミ
ド基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基など
である。
R c 1 may be substituted with a substituent.
Examples of the substituent include the following. These groups may be further substituted. For example, alkyl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group,
Alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group,
Examples include a sulfo group, a carboxyl group, an alkyl and aryloxycarbonyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a nitro group, an alkylthio group, and an arylthio group.

【0043】これらの基は可能なときは互いに連結して
環を形成してもよい。一般式(c)におけるRc 2 で表
わされる脂肪族基は、直鎖、分岐または環状のアルキル
基、アルケニル基またはアルキニル基である。Rc 2
表わされる芳香族基としては、単環又は2環のアリール
基であり、例えばフェニル基が挙げられる。
When possible, these groups may be linked to each other to form a ring. The aliphatic group represented by R c 2 in the general formula (c) is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. The aromatic group represented by R c 2 is a monocyclic or bicyclic aryl group, such as a phenyl group.

【0044】Rc 2 は置換基で置換されていてもよい。
置換基としては例えば一般式(c)におけるRc 1 と置
換基として列挙したものが挙げられる。また、Rc 1
c 2 は可能な場合には互いに連結して環を形成しても
よい。Rc 2 としては水素原子がより好ましい。一般式
(c)におけるYc としては−CO−、−SO2 −が特
に好ましく、Lは単結合および−NRc 4 −が好まし
い。
R c 2 may be substituted with a substituent.
Examples of the substituent include those listed as R c 1 and the substituent in the general formula (c). Further, if possible, R c 1 and R c 2 may be linked to each other to form a ring. R c 2 is more preferably a hydrogen atom. The Y c in the general formula (c) -CO -, - SO 2 - is particularly preferred, L is a single bond and -NR c 4 - are preferred.

【0045】一般式(c)におけるRc 4 で表わされる
脂肪族基は、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アル
ケニル基またはアルキニル基である。Rc 4 で表わされ
る芳香族基としては、単環又は2環のアリール基であ
り、例えばフェニル基が挙げられる。Rc 4 は置換基で
置換されていてもよい。置換基としては例えば一般式
(c)におけるRc 1 と置換基として列挙したものが挙
げられる。
The aliphatic group represented by R c 4 in the general formula (c) is a linear, branched or cyclic alkyl, alkenyl or alkynyl group. The aromatic group represented by R c 4 is a monocyclic or bicyclic aryl group, such as a phenyl group. R c 4 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include those listed as R c 1 and the substituent in the general formula (c).

【0046】Rc 4 としては水素原子がより好ましい。
一般式(2)のGb1としては−CO−基が最も好まし
い。一般式(2)のRb2は、Gb1で置換された炭素原子
が少なくとも1つの電子吸引基で置換された置換アルキ
ル基を表わし、好ましくは2つの電子吸引基で、特に好
ましくは3つの電子吸引基で置換された置換アルキル基
を表わす。
R c 4 is more preferably a hydrogen atom.
As G b1 in the general formula (2), a —CO— group is most preferable. R b2 in the general formula (2) represents a substituted alkyl group in which a carbon atom substituted by G b1 is substituted with at least one electron withdrawing group, preferably two electron withdrawing groups, and particularly preferably three electron withdrawing groups. Represents a substituted alkyl group substituted with a suction group.

【0047】Rb2のGb1で置換された炭素原子を置換す
る電子吸引基は好ましくはδp 値が0.2以上、δm
が0.3以上のもので例えば、ハロゲン、シアノ、ニト
ロ、ニトロソ、ポリハロアルキル、ポリハロアリール、
アルキルもしくはアリールカルボニル基、ホルミル基、
アルキルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルキ
ルカルボニルオキシ基、カルバモイル基、アルキルもし
くはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリー
ルスルホニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル
オキシ基、スルファモイル基、ホスフィノ基、ホスフィ
ンオキシド基、ホスホン酸エステル基、ホスホン酸アミ
ド基、アリールアゾ基、アミジノ基、アンモニオ基、ス
ルホニル基、電子欠乏性複素環基を表わす。
The electron-withdrawing group for substituting the carbon atom substituted with G b1 of R b2 preferably has an δ p value of 0.2 or more and a δ m value of 0.3 or more, for example, halogen, cyano, nitro , Nitroso, polyhaloalkyl, polyhaloaryl,
Alkyl or arylcarbonyl group, formyl group,
Alkyl or aryloxycarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, carbamoyl group, alkyl or arylsulfinyl group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfonyloxy group, sulfamoyl group, phosphino group, phosphine oxide group, phosphonate ester group, phosphone It represents an acid amide group, an arylazo group, an amidino group, an ammonio group, a sulfonyl group, or an electron-deficient heterocyclic group.

【0048】一般式(2)のRb2は特に好ましくはトリ
フルオロメチル基を表わす。一般式(2)のRb1、Rb2
はその中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常
用されているバラスト基またはポリマーが組み込まれて
いるものでもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有す
る写真性に対して比較的不活性な基であり、例えばアル
キル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル
基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から
選ぶことができる。またポリマーとして例えば特開平1
−100530号に記載のものが挙げられる。
R b2 in the general formula (2) particularly preferably represents a trifluoromethyl group. R b1 and R b2 of the general formula (2)
May have incorporated therein a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties. For example, the ballast group is selected from an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group and an alkylphenoxy group. Can be. As a polymer, for example,
No. 100530.

【0049】一般式(2)のRb1、Rb2はその中にハロ
ゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれ
ているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素
基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリア
ゾール基などの米国特許第4,385,108号、同
4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,04
5号、同59−201,046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、同61−170,733号、同61−27
0,744号、同62−948号、同63−234,2
44号、同63−234,245号、同63−234,
246号に記載された基が挙げられる。
R b1 and R b2 in the general formula (2) may have a group in which a group that enhances adsorption to the surface of silver halide grains is incorporated. Examples of such an adsorbing group include thiourea group, heterocyclic thioamide group, mercapto heterocyclic group, triazole group and the like, US Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,347, and JP-A-59-195,233.
Nos. 59-200, 231 and 59-201, 04
No. 5, 59-201, 046, 59-201, 0
No. 47, 59-201, 048, 59-201,
Nos. 049, 61-170, 733, 61-27
Nos. 0,744, 62-948, 63-234,2
No. 44, No. 63-234, No. 245, No. 63-234,
No. 246.

【0050】以下に本発明に用いられる一般式(2)で
示される化合物を列記するが、本発明はこれに限定され
るものではない。
The compounds represented by the general formula (2) used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

【0051】[0051]

【化15】 Embedded image

【0052】[0052]

【化16】 Embedded image

【0053】[0053]

【化17】 Embedded image

【0054】[0054]

【化18】 Embedded image

【0055】[0055]

【化19】 Embedded image

【0056】[0056]

【化20】 Embedded image

【0057】[0057]

【化21】 Embedded image

【0058】[0058]

【化22】 Embedded image

【0059】[0059]

【化23】 Embedded image

【0060】次に一般式(3)の化合物について詳細に
説明する。
Next, the compound represented by formula (3) will be described in detail.

【0061】[0061]

【化24】 Embedded image

【0062】式中、Ac1、Ac2はともに水素原子または
一方が水素原子で他方はスルフィン酸残基またはアシル
基を表し、Rc1は脂肪族基、芳香族基、またはヘテロ環
基を表し、Rc2は水素原子、アルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、またはアミノ基を表
し、Gc1はカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ
基、ホスホリル基またはイミノメチレン基を表す。ここ
でRc1、Rc2のうち少なくともどちらか一方はハロゲン
化銀への吸着促進基を有する。
In the formula, A c1 and A c2 are each a hydrogen atom or one is a hydrogen atom and the other is a sulfinic acid residue or an acyl group, and R c1 is an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. , R c2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group,
G c1 represents an alkoxy group, an aryloxy group, or an amino group, and G c1 represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfoxy group, a phosphoryl group, or an iminomethylene group. Here, at least one of R c1 and R c2 has an adsorption promoting group for silver halide.

【0063】一般式(3)において、Rc1で表される脂
肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニ
ル基またはアルキニル基である。Rc1で表される芳香族
基としては、単環又は2環のアリール基であり、例えば
フェニル基、ナフチル基が挙げられる。Rc1のヘテロ環
としては、N、O、又はS原子のうち少なくともひとつ
を含む3〜10の負の飽和もしくは不飽和のヘテロ環で
あり、これらは単環であってもよいし、さらに他の芳香
族もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ
環として好ましくは、5ないし6員の芳香族ヘテロ環基
であり、例えば、ピリジン基、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジル基、ピラゾ
リル基、イソキノリニル基、チアゾリル基、ベンズチア
ゾリル基などが好ましい。
In the general formula (3), the aliphatic group represented by R c1 is a linear, branched or cyclic alkyl, alkenyl or alkynyl group. The aromatic group represented by R c1 is a monocyclic or bicyclic aryl group, such as a phenyl group and a naphthyl group. The heterocyclic ring of R c1 is a 3-10 negatively saturated or unsaturated heterocyclic ring containing at least one of N, O, and S atoms, which may be a single ring, May form a condensed ring with the aromatic or heterocyclic ring of the above. The heterocyclic ring is preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group, for example, pyridine, imidazolyl, quinolinyl, benzimidazolyl, pyrimidyl, pyrazolyl, isoquinolinyl, thiazolyl, benzothiazolyl, and the like. preferable.

【0064】Rc2は置換基で置換されていてもよい。置
換基としては、例えば以下のものがあげられる。これら
の基は更に置換されていてもよい。例えばアルキル基、
アラルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ
基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド
基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アリール基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロ
キシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基やカルボキ
シル基などである。
R c2 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include the following. These groups may be further substituted. For example, an alkyl group,
Aralkyl, alkoxy, aryl, substituted amino, acylamino, sulfonylamino, ureido, urethane, aryloxy, sulfamoyl, carbamoyl, aryl, alkylthio, arylthio, sulfonyl, sulfinyl , A hydroxy group, a halogen atom, a cyano group, a sulfo group and a carboxyl group.

【0065】これらの基は可能なときは互いに連結して
環を形成してもよい。Rc1として好ましいのは、芳香族
基、更に好ましくはアリール基である。Rc2で表される
基のうち好ましいものは、Gc1がカルボニル基の場合に
は、水素原子、アルキル基(例えばメチル基、トリフル
オロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタン
スルホンアミドプロピル基など)、アラルキル基(例え
ばo−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例え
ばフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタ
ンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフ
ェニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。
When possible, these groups may be linked to each other to form a ring. Preferred as R c1 is an aromatic group, more preferably an aryl group. Among the groups represented by R c2 , when G c1 is a carbonyl group, a hydrogen atom or an alkyl group (for example, a methyl group, a trifluoromethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 3-methanesulfonamidopropyl) is preferable. Group), an aralkyl group (eg, an o-hydroxybenzyl group), an aryl group (eg, a phenyl group, a 3,5-dichlorophenyl group, an o-methanesulfonamidophenyl group, a 4-methanesulfonylphenyl group), and the like. Particularly, a hydrogen atom is preferable.

【0066】またGc1がスルホニル基の場合には、Rc2
はアルキル基(例えばメチル基など)、アラルキル基
(例えばo−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリ
ール基(例えばフェニル基など)または置換アミノ基
(例えばジメチルアミノ基など)などが好ましい。Gc1
がスルホキシ基の場合、好ましいRc2はシアノベンジル
基、メチルチオベンジル基などであり、Gc1がホスホリ
ル基の場合には、Rc2としてはメトキシ基、エトキシ
基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が好ましく
特にフェノキシ基が好適である。
When G c1 is a sulfonyl group, R c2
Is preferably an alkyl group (eg, a methyl group), an aralkyl group (eg, an o-hydroxyphenylmethyl group), an aryl group (eg, a phenyl group), or a substituted amino group (eg, a dimethylamino group). G c1
Is a sulfoxy group, preferred R c2 is a cyanobenzyl group, a methylthiobenzyl group, and the like. When G c1 is a phosphoryl group, R c2 is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, a phenoxy group, or a phenyl group. Phenoxy groups are particularly preferred.

【0067】Gc1がN−置換または無置換イミノメチレ
ン基の場合、好ましいRc2はメチル基、エチル基、置換
または無置換のフェニル基である。Rc2の置換基として
は、Rc1に関して列挙した無置換基が適用できる他、例
えばアシル基、アシルオキシ基、アルキルもしくはアリ
ールオキシカルボニル基、アルケニル基、アルキニル基
やニトロ基なども適用できる。
When G c1 is an N-substituted or unsubstituted iminomethylene group, preferred R c2 is a methyl group, an ethyl group, or a substituted or unsubstituted phenyl group. As the substituent of R c2, in addition to the unsubstituted groups listed for R c1 , for example, an acyl group, an acyloxy group, an alkyl or aryloxycarbonyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a nitro group, and the like can also be applied.

【0068】これらの置換基は更にこれらの置換基で置
換されていてもよい。また可能な場合は、これらの基が
互いに連結した環を形成してもよい。Rc1もしくはRc2
に置換できるハロゲン化銀への吸着促進基はXc1−(L
c1 q −で表すことができる。ここでXc1はハロゲン化
銀への吸着促進基であり、Lc1は二価の連結基である。
qは0または1である。
These substituents are further substituted with these substituents.
It may be replaced. Where possible, these groups
A mutually connected ring may be formed. Rc1Or Rc2
The group capable of promoting adsorption to silver halide which can be substituted withc1− (L
c1) qIt can be represented by-. Where Xc1Is halogenated
A group that promotes adsorption to silver;c1Is a divalent linking group.
q is 0 or 1.

【0069】Xc1で表されるハロゲン化銀への吸着促進
基の好ましい例としては、チオアミド基、メルカプト
基、ジスルフィド結合を有する基または5ないし6員の
含窒素ヘテロ環基があげられる。Xc1であらわされるチ
オアミド吸着促進基は、−CS−アミノ−で表される二
価の基であり、環構造の一部であってもよいし、また非
環式チオアミド基であってもよい。有用なチオアミド吸
着促進基は、例えば米国特許4,030,925号、同
4,031,127号、同4,080,207号、同
4,245,037号、同4,255,511号、同
4,266,013号、及び同4,276,364号、
ならびに「リサーチ・ディスクロージャー」(Rese
arch Disclosure)誌第151巻No.
15162(1976年11月)、及び同第176巻N
o.17626(1978年12月)に開示されている
ものから選ぶことができる。
Preferred examples of the group for promoting adsorption to silver halide represented by X c1 include a thioamide group, a mercapto group, a group having a disulfide bond, and a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group. The thioamide adsorption promoting group represented by X c1 is a divalent group represented by -CS-amino-, and may be a part of a ring structure or may be an acyclic thioamide group. . Useful thioamide adsorption promoting groups are described, for example, in U.S. Pat. Nos. 4,030,925, 4,031,127, 4,080,207, 4,245,037, 4,255,511, 4,266,013 and 4,276,364,
And "Research Disclosure" (Rese
Arch Disclosure, Vol.
15162 (November 1976), and Volume 176 N
o. 17626 (December 1978).

【0070】非環式チオアミド基の具体例としては、例
えばチオウレイド基、チオウレタン基、ジチオカルバミ
ン酸エステル基など、また環状のチオアミド基の具体例
としては、例えば4−チアゾリン−2−チオン、4−イ
ミダゾリン−2−チオン、2−チオヒダントイン、ロー
ダニン、チオバルビツール酸、テトラゾリン−5−チオ
ン、1,2,4−トリアゾリン−3−チオン、1,3,
4−チアジアゾリン−2−チオン、1,3,4−オキサ
ジアゾリン−2−チオン、ベンズイミダゾリン−2−チ
オン、ベンズオキサゾリン−2−チオン及びベンゾチア
ゾリン−2−チオンなどが挙げられ、これらは更に置換
されていてもよい。
Specific examples of the acyclic thioamide group include, for example, a thioureido group, a thiourethane group, and a dithiocarbamate group. Specific examples of the cyclic thioamide group include, for example, 4-thiazoline-2-thione, Imidazoline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbituric acid, tetrazoline-5-thione, 1,2,4-triazoline-3-thione, 1,3,3
4-thiadiazoline-2-thione, 1,3,4-oxadiazoline-2-thione, benzimidazoline-2-thione, benzoxazoline-2-thione, benzothiazoline-2-thione, and the like. It may be substituted.

【0071】Xc1のメルカプト基は脂肪族メルカプト
基、芳香族メルカプト基やヘテロ環メルカプト基(−S
H基が結合した炭素原子の隣りが窒素原子の場合は、こ
れと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と同義で
あり、この基の具体例は上に列挙したものと同じであ
る)が挙げられる。Xc1で表される5員ないし6員の含
窒素ヘテロ環基としては、窒素、酸素、硫黄及び炭素の
組合せからなる5員ないし6員の含窒素ヘテロ環があげ
られる。これらのうち、好ましいものとしては、ベンゾ
トリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾ
ール、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチア
ゾール、チアゾール、ベンゾオキサゾール、オキサゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、トリアジンな
どがあげられる。これらはさらに適当な置換基で置換さ
れていてもよい。
The mercapto group of X c1 is an aliphatic mercapto group, an aromatic mercapto group or a heterocyclic mercapto group (—S
When the carbon atom to which the H group is bonded is a nitrogen atom which is the same as a cyclic thioamide group having a tautomeric relationship with the nitrogen atom, specific examples of this group are the same as those listed above.) Is mentioned. Examples of the 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group represented by X c1 include a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring composed of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur and carbon. Among these, preferred are benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, benzoxazole, oxazole, thiadiazole, oxadiazole, triazine and the like. These may be further substituted with a suitable substituent.

【0072】置換基としては、Rc1の置換基として述べ
たものがあげられる。Xc1で表されるもののうち、好ま
しいものは現状のチオアミド基(すなわちメルカプト置
換含窒素ヘテロ環で、例えば2−メルカプトチアジアゾ
ール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール
基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−
1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベン
ズオキサゾール基など)、又は含窒素ヘテロ環基(例え
ば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、イ
ンダゾール基など)の場合である。
Examples of the substituent include those described as the substituent for R c1 . Among those represented by X c1 , preferred are thioamide groups (ie, mercapto-substituted nitrogen-containing heterocycles such as 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole) Group, 2-mercapto-
This is a case of a 1,3,4-oxadiazole group, a 2-mercaptobenzoxazole group or the like, or a nitrogen-containing heterocyclic group (eg, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group or the like).

【0073】又、Xc1−(Lc1q −基は2個以上置換
されていてもよく、同じでも異ってもよい。Lc1で表さ
れる二価の連結基としては、C、N、S、Oのうち少な
くとも1種を含む原子又は原子団である。具体的には、
例えばアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン
基、アリーレン基、−O−、−S−、−NH−、−N
=、−CO−、−SO2 −(これらの基は置換基をもっ
ていてもよい)、等の単独またはこれらの組合せからな
るものである。
Further, two or more X c1- (L c1 ) q -groups may be substituted, and may be the same or different. The divalent linking group represented by L c1 is an atom or an atomic group containing at least one of C, N, S, and O. In particular,
For example, an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group, -O-, -S-, -NH-, -N
=, - CO -, - SO 2 - ( may have these groups the substituents), it is made of a single or a combination thereof and the like.

【0074】これらはさらに適当な置換基で置換されて
いてもよい。置換基としてはRc1の置換基として述べた
ものが挙げられる。Ac1、Ac2は水素原子、炭素数20
以下のアルキルスルホニル基およびアリールスルホニル
基(好ましくはフェニルスルホニル基又はハメットの置
換基定数の和が−0.5以上となるように置換されたフ
ェニルスルホニル基)、炭素数20以下のアシル基(好
ましくはベンゾイル基、又はハメットの置換基定数の和
が−0.5以上となるように置換されたベンゾイル基、
あるいは直鎖または分岐状又は環状の無置換及び置換脂
肪族アシル基(置換基としては例えばハロゲン原子、エ
ーテル基、スルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸
基、カルボキシ基、スルホン酸基が挙げられる。)であ
り、Ac1、Ac2で表されるスルフィン酸残基は具体的に
は米国特許第4,478,928号に記載されているも
のを表す。
These may be further substituted with a suitable substituent. Examples of the substituent include those described as the substituent of R c1 . A c1 and A c2 represent a hydrogen atom and a carbon number of 20
The following alkylsulfonyl and arylsulfonyl groups (preferably a phenylsulfonyl group or a phenylsulfonyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably Is a benzoyl group, or a benzoyl group substituted such that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more,
Alternatively, a straight-chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic acyl group (substituents include, for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, and a sulfonic acid group). And the sulfinic acid residues represented by A c1 and A c2 specifically represent those described in US Pat. No. 4,478,928.

【0075】Ac1、Ac2としては水素原子が最も好まし
い。一般式(3)のGc1としてはカルボニル基が最も好
ましい。一般式(3)で表されるもののうち、好ましい
ものは一般式(3−a)で表すことができる。 一般式(3−a)
A c1 and A c2 are most preferably hydrogen atoms. As G c1 in the general formula (3), a carbonyl group is most preferable. Among those represented by the general formula (3), preferred ones can be represented by the general formula (3-a). General formula (3-a)

【0076】[0076]

【化25】 Embedded image

【0077】式中、R′c1は一般式(3)のRc1から水
素原子1個を除いたものである。ここで、R′c1、Rc2
またはLc1のうち少なくとも1個はpKa6以上の陰イ
オンに解離し得る基あるいはアミノ基を有する。pKa
6以上の陰イオンに解離し得る基のうち、好ましいもの
はpKa8〜13の陰イオンに解離しうる置換基で、中
性あるいは弱酸性の媒質中ではほとんど解離せず現像液
のようなアルカリ性水溶液(好ましくはpH10.5〜
12.3)中で十分に解離するものであればよく、特定
のものである必要はない。
In the formula, R ′ c1 is obtained by removing one hydrogen atom from R c1 in the general formula (3). Here, R ′ c1 , R c2
Alternatively, at least one of L c1 has a group or an amino group that can be dissociated into an anion having a pKa of 6 or more. pKa
Among the groups capable of dissociating into 6 or more anions, preferred are substituents capable of dissociating into pKa 8 to 13 anions, which are hardly dissociated in a neutral or weakly acidic medium and are alkaline aqueous solutions such as a developer. (Preferably pH 10.5-
What is necessary is just to dissociate sufficiently in 12.3), and there is no need to be a specific one.

【0078】例えば、水酸基、−SO2 NH−で表され
る基、ヒドロキシイミノ基、活性メチレン基、又は活性
メチン基(例えば−CH2 COO−、−CH2 CO−、
−CH(CN)−COO−など)などが挙げられる。
又、アミノ基は1級、2級、または3級のいずれでもよ
く、好ましくは共役酸のpKaが6.0以上のものが好
ましい。
For example, a hydroxyl group, a group represented by —SO 2 NH—, a hydroxyimino group, an active methylene group, or an active methine group (for example, —CH 2 COO—, —CH 2 CO—,
—CH (CN) —COO—) and the like.
The amino group may be primary, secondary or tertiary, and preferably has a conjugate acid having a pKa of 6.0 or more.

【0079】Ac1、Ac2、Gc1、Rc2、Lc1、Xc1およ
びqは一般式(3)で説明したものと同義である。一般
式(3)で表したもののうち、特に好ましいものは一般
式(3−b)で表されるものである。 一般式(3−b)
A c1 , A c2 , G c1 , R c2 , L c1 , X c1 and q have the same meanings as those described in the general formula (3). Among the compounds represented by the general formula (3), particularly preferable ones are represented by the general formula (3-b). General formula (3-b)

【0080】[0080]

【化26】 Embedded image

【0081】式中、Lc2は一般式(3)および一般式
(3−a)のLc1と同義であり、Yc1は一般式(3)の
c1の置換基として挙げたものと同義であり、qは0又
は1、lは0、1、又は2を表し、lが2のときはYc1
は同じでも異ってもよい。Ac1、Ac2、Gc1、Rc2、L
c1、Xc1は一般式(3)及び(3−a)で説明したもの
と同義である。
In the formula, L c2 has the same meaning as L c1 in formulas (3) and (3-a), and Y c1 has the same meaning as that of R c1 in formula (3). And q represents 0 or 1, l represents 0, 1, or 2, and when l is 2, Y c1
May be the same or different. A c1 , A c2 , G c1 , R c2 , L
c1 and Xc1 have the same meanings as those described in the general formulas (3) and (3-a).

【0082】さらに、好ましくはXc1−(Lc2q −S
2 NH−はヒドラジノ基に対しp位に置換したもので
ある。一般式(3)の化合物は、特開昭56−6784
3、同60−179734、特願昭60−78182、
特願昭60−111936、特願昭61−11503
6、などに記載の方法に準じて合成することができる。
Further, preferably, X c1- (L c2 ) q -S
O 2 NH— is substituted at the p-position to the hydrazino group. The compound of the general formula (3) is disclosed in JP-A-56-6784.
3, ibid. 60-179733, Japanese Patent Application No. 60-78182,
Japanese Patent Application No. 60-111936, Japanese Patent Application No. 61-11503
6, etc. can be synthesized.

【0083】一般式(3)で示される化合物の具体例を
以下に記す。但し、本発明は以下の化合物に限定される
ものではない。
Specific examples of the compound represented by the general formula (3) are described below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0084】[0084]

【化27】 Embedded image

【0085】[0085]

【化28】 Embedded image

【0086】本発明におけるヒドラジン化合物の添加量
としてはハロゲン化銀1モル当たり1×10-6モルない
し5×10-2モル含有されるのが好ましく、特に1×1
-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ましい。本発
明のヒドラジン化合物は、適当な水混和性有機溶媒、例
えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパ
ノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、
メチルエチルケトン)、ジメチルホルミルアミド、ジメ
チルスルホキシド、メチルセロソルブに溶解して用いる
ことができる。
In the present invention, the hydrazine compound is preferably added in an amount of 1 × 10 -6 mol to 5 × 10 -2 mol, and more preferably 1 × 1 -6 mol per mol of silver halide.
The range is preferably from 0 -5 mol to 2 × 10 -2 mol. The hydrazine compound of the present invention can be used in a suitable water-miscible organic solvent, for example, alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone,
Methyl ethyl ketone), dimethylformylamide, dimethyl sulfoxide, and methyl cellosolve.

【0087】またすでに良く知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサン等の
補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製し
て用いることもできる。あるいは固体分散法として知ら
れている方法によって、ヒドラジン化合物の粉末を水を
中にボールミル,コロイドミル、あるいは超音波によっ
て分散して用いることもできる。次に、本発明で用いる
一般式(X)で表される造核促進剤について説明する。
Also, by an already well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexane is used to dissolve and mechanically dissolve. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, a hydrazine compound powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used. Next, the nucleation accelerator represented by the general formula (X) used in the present invention will be described.

【0088】[0088]

【化29】 Embedded image

【0089】一般式〔X〕中、R3 は水素原子、アルキ
ル基、アリール基又はヘテロ環残基を表わす。Qは単な
る結合、二価基としての硫黄原子もしくはセレン原子、
二価基としての酸素原子、ジスルフイド基(−S−S
−)NR4
In the general formula [X], R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic residue. Q is a mere bond, a sulfur or selenium atom as a divalent group,
An oxygen atom as a divalent group, a disulfide group (-SS
−) NR 4 ,

【0090】[0090]

【化30】 Embedded image

【0091】又はNR4 CSを表わす。ただしR4 はR
3 と同義である。R1 及びR2 は各々水素原子、アルキ
ル基、アリール基、ヘテロ環残基又はアミノ基をあらわ
す。R3 とR4 、R1 とR2 、又はR1 とR3 の間で5
員又は6員のヘテロ環を形成してもよい。ただしR1
3 の間に5員又は6員ヘテロ環を形成する場合に、R
2 及びR4 はいずれも水素原子をあらわすことはない。
又、R1 とR2 の間で形成されるヘテロ環のうち、ロー
ダニン環は除く。
Or NR 4 CS. Where R 4 is R
Synonymous with 3 . R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic residue or an amino group. 5 between R 3 and R 4 , R 1 and R 2 , or R 1 and R 3
A 6-membered or 6-membered heterocyclic ring may be formed. However, when a 5- or 6-membered heterocyclic ring is formed between R 1 and R 3 ,
Neither 2 nor R 4 represents a hydrogen atom.
Further, among the hetero rings formed between R 1 and R 2 , the rhodanine ring is excluded.

【0092】R1 、R2 、R3 及びR4 で表わされるア
ルキル基は、炭素原子1〜20を有し、置換されたもの
も含む。置換基には例えばハロゲン原子(例えば塩素原
子)、シアノ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、炭素数
2〜6のアシルオキシ基(たとえばアセトキシ基)、炭
素数2〜22のアルコキシカルボニル基(たとえばエト
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、アリール基
(単環又は2環のもので、置換されてもよい。たとえば
フェニル基、トリル基、p−スルホフェニル基)などが
ある。有利なアルキル基の例は次の如くである:メチル
基、エチル基、プロピル基(n−又はi−)、ブチル基
(n−、i−又はt−)、アミル(分枝を有してよい。
以下同じ)、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、ペ
ンタデシル基、ヘプタデシル基、クロロメチル基、2−
クロロエチル基、2−シアノエチル基、カルボキシメチ
ル基、2−カルボキシエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−アセトキシエチル基、アセトキシエチル基、エ
トキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、ベンジル基、o
−ニトロベンジル基、p−スルホベンジル基、R1 、R
2 、R3 及びR4 であらわされるアリール基は、単環ま
たは2環、好ましくは単環のアリール基であって、置換
されたものも含む。置換基には例えば、炭素数1〜20
のアルキル基(たとえばメチル基、エチル基、ノニル
基)、炭素数1〜20のアルコキシ基(たとえばメトキ
シ基、エトキシ基)、ヒドロキシ基、ハロゲン原子(た
とえば塩素原子、炭素原子)、カルボキシ基、スルホ基
などがある。アリール基の具体例は、フェニル基、p−
トリル基、p−メトキシフェニル基、p−ヒドロキシフ
ェニル基、p−クロロフェニル基、2,5−ジクロロフ
ェニル基、p−カルボキシフェニル基、o−カルボキシ
フェニル基、4−スルホフェニル基、2,4−ジスルホ
フェニル基、2,5−ジスルホフェニル基、3−スルホ
フェニル基、3,5ジスルホフェニル基などである。
The alkyl groups represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have 1 to 20 carbon atoms and include those substituted. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, a chlorine atom), a cyano group, a carboxy group, a hydroxy group, an acyloxy group having 2 to 6 carbon atoms (eg, an acetoxy group), and an alkoxycarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms (eg, an ethoxycarbonyl group). Butoxycarbonyl group, aryl group (monocyclic or bicyclic and may be substituted, for example, phenyl group, tolyl group, p-sulfophenyl group), etc. Examples of advantageous alkyl groups are as follows. A: methyl group, ethyl group, propyl group (n- or i-), butyl group (n-, i- or t-), amyl (may have a branch).
The same applies hereinafter), hexyl group, octyl group, dodecyl group, pentadecyl group, heptadecyl group, chloromethyl group, 2-
Chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-acetoxyethyl group, acetoxyethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group , Benzyl group, o
-Nitrobenzyl group, p-sulfobenzyl group, R 1 , R
The aryl group represented by 2 , R 3 and R 4 is a monocyclic or bicyclic, preferably monocyclic aryl group, including substituted ones. The substituent has, for example, 1 to 20 carbon atoms.
(E.g., methyl, ethyl, nonyl), alkoxy having 1 to 20 carbon atoms (e.g., methoxy, ethoxy), hydroxy, halogen (e.g., chlorine, carbon), carboxy, sulfo There are groups. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, p-
Tolyl, p-methoxyphenyl, p-hydroxyphenyl, p-chlorophenyl, 2,5-dichlorophenyl, p-carboxyphenyl, o-carboxyphenyl, 4-sulfophenyl, 2,4-diphenyl A sulfophenyl group, a 2,5-disulfophenyl group, a 3-sulfophenyl group, and a 3,5 disulfophenyl group.

【0093】R1 、R2 、R3 又はR4 のヘテロ環残基
としては、好ましくは5員ないし7員のもので、例えば
ピロリジン、ピロール、テトラヒドロフラン、フラン、
テトラヒドロチオフエン、チオフエン、チアゾール、チ
アジアゾリン、オキサゾール、オキサゾリン、イミダゾ
ール、イミダゾリン、トリアゾール、テトラゾール、チ
アジアゾール、オキサジアゾール、ベンゾチアゾール、
ベンズオキサゾール、ベンズイミダゾール、モルホリ
ン、ピリジン、キノリン、キノキサリン、アゼピン、等
があげられる。これらはR1 ないしR3 の置換基として
述べた基で置換されていてもよい。
The heterocyclic residue of R 1 , R 2 , R 3 or R 4 is preferably a 5- to 7-membered heterocyclic residue such as pyrrolidine, pyrrole, tetrahydrofuran, furan,
Tetrahydrothiophene, thiophene, thiazole, thiadiazoline, oxazole, oxazoline, imidazole, imidazoline, triazole, tetrazole, thiadiazole, oxadiazole, benzothiazole,
Examples include benzoxazole, benzimidazole, morpholine, pyridine, quinoline, quinoxaline, azepine and the like. These may be substituted with the groups described as substituents for R 1 to R 3 .

【0094】R3 とR4 又はR1 とR2 によって形成さ
れる5員又は6員環としては、例えばピペリジン環、ピ
ペラジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール
環、トリアゾール環などがあるが、好ましいのはピペリ
ジン環、ピロール環、ピペラジン環及びモルホリン環で
ある。R1 とR3 の間に形成される5員又は6員のヘテ
ロ環は、例えばチアゾリン環、チアゾリジン環、セレナ
ゾリン環、オキサゾリン環、オキサゾリジン環、イミダ
ゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾリン環、ピラゾリ
ジン環、1,3,4−チアジアゾリン環、1,3,4−
オキサジアゾリン環、1,3,4−トリアゾリン環、テ
トラゾリン環、チオヒダントイン環、ジヒドロピリジン
環、ジヒドロピリミジン環、ジヒドロトリアジン環など
である。これらのヘテロ環はそれらに5〜7員の炭素環
又はヘテロ環が結合したものをも勿論包含する。
The 5- or 6-membered ring formed by R 3 and R 4 or R 1 and R 2 includes, for example, a piperidine ring, a piperazine ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring and a triazole ring. Preferred are a piperidine ring, a pyrrole ring, a piperazine ring and a morpholine ring. The 5- or 6-membered hetero ring formed between R 1 and R 3 is, for example, a thiazoline ring, a thiazolidine ring, a selenazoline ring, an oxazoline ring, an oxazolidine ring, an imidazoline ring, an imidazolidine ring, a pyrazoline ring, a pyrazolidine ring, 1,3,4-thiadiazoline ring, 1,3,4-
Examples include an oxadiazoline ring, a 1,3,4-triazoline ring, a tetrazoline ring, a thiohydantoin ring, a dihydropyridine ring, a dihydropyrimidine ring, and a dihydrotriazine ring. These heterocycles also include those having a 5- to 7-membered carbon ring or heterocycle bonded thereto.

【0095】すなわち、チアゾール環に関してベンゾチ
アゾリン核、ナフトチアゾリン核、ジヒドロナフトチア
ゾリン核、テトラヒドロベンゾチアゾリン核など;セレ
ナゾール環に関してベンゾセレナゾリン核など;オキサ
ゾリン環に関してベンズオキサゾリン核、ナフトオキサ
ゾリン核など;イミダゾリン環に関してベンズイミダゾ
リン核、ジヒドロイミダゾロピリミジン核など;トリア
ゾリン環に関してジヒドロトリアゾロピリジン核、ジヒ
ドロトリアゾロピリミジン核など;ピラゾリン環に関し
てジヒドロピラゾロピリジン核、ジヒドロピラゾロピリ
ミジン核など;ジヒドロピリミジン環に関してジヒドロ
ピラゾロピリミジン核、ジヒドロピロロピリミジン核、
ジヒドロトリアゾロピリミジン核などが包含される。
That is, a benzothiazoline nucleus, a naphthothiazoline nucleus, a dihydronaphthothiazoline nucleus, a tetrahydrobenzothiazoline nucleus and the like for a thiazole ring; a benzoselenazoline nucleus and the like for a selenazole ring; a benzoxazoline nucleus and a naphthooxazoline nucleus for an oxazoline ring; For the benzimidazoline nucleus, dihydroimidazolopyrimidine nucleus, etc .; for the triazoline ring, dihydrotriazolopyridine nucleus, dihydrotriazolopyrimidine nucleus, etc .; for the pyrazoline ring, dihydropyrazolopyridine nucleus, dihydropyrazolopyrimidine nucleus, etc .; for the dihydropyrimidine ring, dihydropyrimidine nucleus. Zolopyrimidine nucleus, dihydropyrrolopyrimidine nucleus,
A dihydrotriazolopyrimidine nucleus and the like are included.

【0096】これらのヘテロ環核の炭素原子上には、種
々の置換基を有することができる。たとえば炭素数1〜
20のアルキル基(たとえばメチル基、エチル基、n−
ブチル基、t−ブチル基、ヘプチル基、ヘプタデシル
基)、炭素数1〜20のアルコキシ基(たとえばメトキ
シ基、エトキシ基、ドデシルオキシ基、ヘプタデシルオ
キシ基)、炭素数1〜20のアルキルチオ基(たとえば
メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基)、ヒドロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基(無置換のみならず置
換アミノ基も包含し、たとえばジメチルアミノ基、メチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基、ブチルアミノ基、ベン
ジルアミノ基の如きアルキル置換アミノ基;アニリノ
基、ジフェニルアミノ基の如きアリール置換アミノ基;
アセチルアミノ基、カブリロイルアミノ基、ベンゾイル
アミノ基、メチルスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホ
ニルアミノ基、p−トルエンスルホニルアミノ基の如き
アシルアミノ基;アセチルチオアミド基、プロピオニル
チオアミド基の如きチオアミド基など)、アリール基
(たとえばフェニル基、ナフチル基、トリル基)、炭素
数2〜20のアルケニル基(たとえばアリル基、メタリ
ル基)、アルキル部分の炭素数1〜4のアラルキル基
(たとえばベンジル基、フエネチル基、ハロゲン原子
(たとえば塩素、臭素)、シアノ基、カルボキシ基、ス
ルホ基、カルバモイル基(置換されたものも包含し、た
とえばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジメチ
ルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、フェニルカ
ルバモイル基)、チオカルバモイル基(置換されたもの
を包含し、たとえばチオカルバモイル基、メチルチオカ
ルバモイル基、ジメチルチオカルバモイル基、エチルチ
オカルバモイル基、フェニルチオカルバモイル基)、炭
素数2〜22のアルコキシカルボニル基)たとえばメト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカ
ルボニル基)、アリールオキシカルボニル基(たとえば
フエノキシカルボニル基)、炭素数2〜22のアルキル
カルボニル基(たとえばアセチル基、カブリロイル
基)、酸素原子などを有することができる。前記アルキ
ル基はさらに、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシカ
ルボニル基(たとえばメトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基)、アシルオキシ基(たとえばアセトキシ
基)、アリール基(たとえばフェニル基、置換されても
よくたとえばニトロフェニル基)などで置換されてもよ
い。
Various substituents can be provided on carbon atoms of these heterocyclic nuclei. For example, carbon number 1
20 alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, n-
Butyl group, t-butyl group, heptyl group, heptadecyl group), C1-C20 alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, dodecyloxy group, heptadecyloxy group), C1-C20 alkylthio group ( For example, methylthio group, ethylthio group, butylthio group), hydroxy group, mercapto group, amino group (including not only unsubstituted but also substituted amino groups, such as dimethylamino group, methylamino group, diethylamino group, butylamino group, benzylamino group) An alkyl-substituted amino group such as a group; an aryl-substituted amino group such as an anilino group or a diphenylamino group;
Acylamino groups such as acetylamino group, cabilloylamino group, benzoylamino group, methylsulfonylamino group, benzenesulfonylamino group and p-toluenesulfonylamino group; thioamide groups such as acetylthioamide group and propionylthioamide group), aryl group (E.g., phenyl, naphthyl, tolyl), alkenyl having 2 to 20 carbons (e.g., allyl and methallyl), aralkyl having 1 to 4 carbons in the alkyl portion (e.g., benzyl, phenethyl, halogen) (Eg, chlorine, bromine), cyano group, carboxy group, sulfo group, carbamoyl group (including substituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group), thioca Bamoyl group (including those substituted, for example, thiocarbamoyl group, methylthiocarbamoyl group, dimethylthiocarbamoyl group, ethylthiocarbamoyl group, phenylthiocarbamoyl group, alkoxycarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms), for example, methoxycarbonyl group , An ethoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group), an aryloxycarbonyl group (eg, a phenoxycarbonyl group), an alkylcarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms (eg, an acetyl group, a cabilloyl group), an oxygen atom, and the like. The alkyl group further includes a carboxy group, a sulfo group, an alkoxycarbonyl group (for example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group), an acyloxy group (for example, an acetoxy group), an aryl group (for example, a phenyl group, and a nitrophenyl group which may be substituted. ) May be substituted.

【0097】前記ヘテロ環鎖中の置換し得る窒素原子上
にはR1 〜R4 について示されたような置換基を有する
ことができる。QがNR4 をあらわす場合に、R4 であ
らわされるアルキル基は、炭素原子1〜20を有し、置
換されたものを包含する。アルキル基に対する置換基の
例としてはハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、ス
ルホ基、スルファト基、フォスホ基、カルバモイル基、
アミノスルホニル基、ヒドロキシ基、炭素数1〜20の
アルコキシ基(たとえばメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基;置換されたものも包含し、たと
えばヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルコキシ基(たと
えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基)、炭素数
2〜8のアシルオキシ基(たとえばアセトキシ基、プロ
ピオンオキシ基)、スルホ基、炭素数1〜6のスルホア
ルコキシ基(たとえば2−スルホエトキシ基、3−スル
ホプロポキシ基)などで置換されてもよい)、炭素数2
〜22のアシルオキシ基(たとえばアセトキシ基、プロ
ピオンオキシ基)、炭素数2〜22のアルケニル基(た
とえばビニル基)、炭素数2〜22のアルコキシカルボ
ニル基(たとえばメトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、ブトキシカルボニル基、ドデシルオキシカル
ボニル基)、アリール基(単環または二環で、置換基を
有してもよい。例えばフェニル基、p−スルホフェニル
基)、ヘテロ環残基〔たとえばチアゾール環残基、オキ
サゾール環残基、イミダゾール環残基、チアジアゾール
環残基、オキサジアゾール環残基、トリアゾール環残
基、テトラゾール環残基、ピリミジン環残基、その他、
特に
The substituents on the substitutable nitrogen atom in the heterocyclic chain may have the substituents as described for R 1 to R 4 . When Q represents a NR 4, alkyl group represented by R 4 include those having 1 to 20 carbon atoms, substituted. Examples of the substituent for the alkyl group include a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, a sulfo group, a sulfato group, a phospho group, a carbamoyl group,
An aminosulfonyl group, a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group; including substituted ones, for example, a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms ( For example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group), an acyloxy group having 2 to 8 carbon atoms (for example, acetoxy group, propionoxy group), a sulfo group, a sulfoalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, 2-sulfoethoxy group, 3 -Sulfopropoxy group), etc.), having 2 carbon atoms
To 22 acyloxy groups (eg, acetoxy group, propionoxy group), alkenyl group having 2 to 22 carbon atoms (eg, vinyl group), alkoxycarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group) Group, dodecyloxycarbonyl group), aryl group (monocyclic or bicyclic, which may have a substituent, for example, phenyl group, p-sulfophenyl group), heterocyclic residue [for example, thiazole ring residue, oxazole Ring residue, imidazole ring residue, thiadiazole ring residue, oxadiazole ring residue, triazole ring residue, tetrazole ring residue, pyrimidine ring residue, etc.
Especially

【0098】[0098]

【化31】 Embedded image

【0099】(式中、Zは5員または6員環を形成する
に必要な原子群を表す。Zで形成される環の例として
は、R1 とR2 で形成されるヘテロ環と同様の環を挙げ
ることができる。)で表わされる基は有利である。〕な
どがある。R2 であらわされるアルキル基の具体例は下
記の如くである:メチル基、エチル基、プロピル基(n
−又はi−)、ブチル基(n−、sec−、i−又はt
−)、n−ヘキシル基、ドデシル基、ヘプタデシル基、
クロロメチル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチ
ル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、
2−スルホエチル基、3−スルホプロピル基、3−スル
ホブチル基、4−スルホブチル基、2−スルフアトエチ
ル基、2−フォスホエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、3−ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル
基、3−メトキシプロピル基、2−エトキシエチル基、
2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル基、2−(2−
アセトキシエトキシ)エチル基、2−(2−スルホエト
キシ)エチル基、2−(2−(3−スルホプロポキシ)
エトキシ)エチル基、2−アセトキシエチル基、4−プ
ロピオニルオキシブチル基、アリル基、メトキシカルボ
ニルメチル基、2−(メトキシカルボニル)エチル基、
4−(エトキシカルボニル)ブチル基、ブトキシカルボ
ニルメチル基、ベンジル基、2−フェニルエチル基、p
−スルホベンジル基、2−(2−メルカプト−3−ベン
ズイミダゾリル)エチル基。
(In the formula, Z represents an atomic group necessary for forming a 5- or 6-membered ring. Examples of the ring formed by Z are the same as the heterocyclic ring formed by R 1 and R 2. The group represented by the following is preferable. 〕and so on. Specific examples of the alkyl group represented by R 2 are as follows: methyl group, ethyl group, propyl group (n
-Or i-), a butyl group (n-, sec-, i- or t
-), N-hexyl group, dodecyl group, heptadecyl group,
Chloromethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group,
2-sulfoethyl group, 3-sulfopropyl group, 3-sulfobutyl group, 4-sulfobutyl group, 2-sulfatoethyl group, 2-phosphoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 3 -Methoxypropyl group, 2-ethoxyethyl group,
2- (2-hydroxyethoxy) ethyl group, 2- (2-
Acetoxyethoxy) ethyl group, 2- (2-sulfoethoxy) ethyl group, 2- (2- (3-sulfopropoxy)
Ethoxy) ethyl group, 2-acetoxyethyl group, 4-propionyloxybutyl group, allyl group, methoxycarbonylmethyl group, 2- (methoxycarbonyl) ethyl group,
4- (ethoxycarbonyl) butyl group, butoxycarbonylmethyl group, benzyl group, 2-phenylethyl group, p
-A sulfobenzyl group, a 2- (2-mercapto-3-benzimidazolyl) ethyl group.

【0100】一般式(X)で示される化合物のうちさら
に好ましい化合物は下記一般式(Xa)で示される。
Among the compounds represented by the formula (X), more preferred compounds are represented by the following formula (Xa).

【0101】[0101]

【化32】 Embedded image

【0102】Q1 は5員又は6員ヘテロ環を完成するに
要する原子群を示す。R4 は一般式〔X〕におけると同
義である。ただしR4 が水素原子をあらわすことはな
く、Q 1 で示される原子群の中でチオケト基に隣接する
原子は水素原子と結合していることはない。Q1 で完成
されるヘテロ環の具体例は、R1 とR2 によって形成さ
れるヘテロ環について示したと同じである。
Q1To complete a 5- or 6-membered heterocycle
The required atomic group is shown. RFourIs the same as in the general formula [X].
Righteous. Where RFourDoes not represent a hydrogen atom
Q 1Adjacent to the thioketo group in the group of atoms
Atoms are not bonded to hydrogen atoms. Q1Completed in
Specific examples of the heterocyclic ring represented by1And RTwoFormed by
Is the same as that shown for the heterocycle.

【0103】Q1 で完成されるヘテロ環には2価の置換
基、たとえばオキソ基(=O)、チオキソ基(=S)、
エチリデン基(CH3 CH=)、置換エチリデン基(例
えばベンズオキサゾリリデンエチリデン基、チアゾリニ
リデンエチリデン基、ピリジリデンエチリデン基、キノ
リリデンエチリデン基など)、ヘテロ環二価残基(例え
ばベンズオキサゾリリデン基、ベンズチアゾリリデン
基、チアゾリニリデン基、ピリジリデン基、キノリリデ
ン基など)などを有することができる。
The heterocycle completed by Q 1 has a divalent substituent such as an oxo group (= O), a thioxo group (= S),
An ethylidene group (CH 3 CH =), a substituted ethylidene group (for example, a benzoxazolylideneethylidene group, a thiazolinylideneethylidene group, a pyridylideneethylidene group, a quinolylidenethylidene group, etc.), a heterocyclic divalent residue (for example, A benzoxazolylidene group, a benzothiazolylidene group, a thiazolinylidene group, a pyridylidene group, a quinolilidene group, or the like.

【0104】一般式(X){式(Xa)を含む}で示さ
れる化合物は、たとえば特公昭48−34,169(化
合物−No.1から8まで、31、32)、薬学雑誌
1365〜1369(1954)(化合物例−No.
9)、SeinsteinXIII、394、IV12
1(化合物例−No.12と13)、特公昭47−18
008(化合物例−No.19)、特公昭48−341
88(化合物例−No.25)、等に記載された方法で
合成できる。
Compounds represented by formula (X) {including formula (Xa)} are described in, for example, JP-B-48-34169 (Compounds Nos. 1 to 8, 31, 32), Pharmaceutical Journal 7
4 1365 to 1369 (1954) (Compound Example-No.
9), Seinstein XIII, 394, IV12
1 (Compound Examples-Nos. 12 and 13), JP-B-47-18
008 (Compound Example-No. 19), JP-B-48-341
88 (Compound Example-No. 25) and the like.

【0105】以下本発明に用いられる式(X){式(X
a)を含む}で示される造核促進剤としてのチオアミド
化合物の具体例を示すが本発明がこれに限定されるもの
ではない。
Hereinafter, the formula (X) used in the present invention {the formula (X
Specific examples of the thioamide compound as a nucleation accelerator represented by} including a) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0106】[0106]

【化33】 Embedded image

【0107】[0107]

【化34】 Embedded image

【0108】[0108]

【化35】 Embedded image

【0109】[0109]

【化36】 Embedded image

【0110】[0110]

【化37】 Embedded image

【0111】一般式(X)で表される化合物を写真感光
材料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層に含
有させるのが好ましいがそれ以外の非感光性の親水性コ
ロイド層(例えば保護層、中間層、フィルター層、ハレ
ーション防止層など)に含有させてもよい。具体的には
使用する化合物が水溶性の場合には水溶液として、また
難水溶性の場合にはアルコール類、エステル類、ケトン
類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液として、親水性
コロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀乳剤層に
添加する場合は化学熟成の開始から塗布前までの任意の
時期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前の間に
添加するのが好ましい。特に塗布のために用意された塗
布液中に添加するのがよい。また添加量はハロゲン化銀
1モル当り1×10-6モルないし5×10-2モル含有さ
せるのが好ましく特に3×10-5ないし1×10-2モル
含有させるのが好ましい。
When the compound represented by the general formula (X) is contained in a photographic light-sensitive material, it is preferably contained in a silver halide emulsion layer, but other non-light-sensitive hydrophilic colloid layers (for example, a protective layer) , An intermediate layer, a filter layer, an antihalation layer, etc.). Specifically, a hydrophilic colloid solution is used as an aqueous solution when the compound used is water-soluble, or as a solution of an organic solvent miscible with water such as alcohols, esters, and ketones when the compound is poorly water-soluble. May be added. When it is added to the silver halide emulsion layer, it may be added at any time from the start of chemical ripening to before coating, but is preferably added after chemical ripening and before coating. Particularly, it is preferable to add it to a coating solution prepared for coating. The addition amount is preferably 1 × 10 −6 mol to 5 × 10 −2 mol per mol of silver halide, more preferably 3 × 10 −5 to 1 × 10 −2 mol.

【0112】次に一般式(M)の化合物について説明す
る。本発明に用いられるp−アミノフェノール類として
は、下記一般式(M)で表される化合物が好ましい。 一般式(M)
Next, the compound of the formula (M) will be described. As the p-aminophenol used in the present invention, a compound represented by the following formula (M) is preferable. General formula (M)

【0113】[0113]

【化38】 Embedded image

【0114】式中、R1、R2、R3、R4は同一でも異な
っていてもよく、各々水素原子または置換基を表す。R
5、R6は同一でも異なっていてもよく、各々アルキル
基、アリール基、アラルキル基またはヘテロ環基を表
す。
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a substituent. R
5 , R 6 may be the same or different and each represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or a heterocyclic group.

【0115】一般式(M)で表されるp−アミノフェノ
ール類について詳細に説明する。式中、R1、R2、R3
及びR4は同一でも異なっていてもよく、各々水素原子
または置換基を表す。この置換基の例としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロ環基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アル
キルアミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、
スルファモイルアミノ基、ウレイド基、アシル基、オキ
シカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スル
フィニル基、スルファモイル基、カルボキシル基(塩を
含む)、スルホ基(塩を含む)を挙げることができる。
これらは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒド
ロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アンモニオ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド
基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボキシル
基(塩を含む)、スルホ基(塩を含む)またはその他酸
素原子、窒素原子、硫黄原子もしくは炭素原子で形成さ
れる置換基で置換されていてもよい。
The p-aminophenols represented by formula (M) will be described in detail. Wherein R 1 , R 2 , R 3
And R 4 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a mercapto group, a hydroxy group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, and an acyloxy group. Group, amino group, alkylamino group, carbonamido group, sulfonamido group,
Examples include a sulfamoylamino group, a ureido group, an acyl group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfamoyl group, a carboxyl group (including a salt), and a sulfo group (including a salt).
These are an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group,
Aryl group, halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxy group, alkoxy group, alkylthio group, amino group,
Alkylamino group, ammonium group, carbonamide group,
Formed of a sulfonamide group, a sulfamoylamino group, a ureido group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a carboxyl group (including a salt), a sulfo group (including a salt), or other oxygen, nitrogen, sulfur, or carbon atom May be substituted with a substituent.

【0116】更に詳しくR1、R2、R3及びR4で表され
る置換基の例を示す。アルキル基としては炭素数1〜1
0の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、t−ブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル、ヒ
ドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキ
シプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピル、2−メト
キシエチルなどを挙げることができる。
Examples of the substituents represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 will be described in more detail. The alkyl group has 1 to 1 carbon atoms.
0 linear, branched or cyclic alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, t-butyl, cyclopentyl, cyclohexyl, benzyl, hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, 2, Examples thereof include 3-dihydroxypropyl, 2-methoxyethyl and the like.

【0117】アリール基としては炭素数6〜10のアリ
ール基で、例えば、フェニル、ナフチル、p−メトキシ
フェニルなどである。アラルキル基としては炭素数7〜
10のアラルキル基で、例えば、ベンジルなどである。
へテロ環基としては炭素原子、窒素原子、酸素原子、あ
るいは硫黄原子から構成される5〜6員環の飽和または
不飽和のヘテロ環基であり、環を構成するへテロ元素の
種類は1つでも複数であってもよく、例えば、2−フリ
ル、2−ピロリル、2−イミダゾリル、1−ピラゾリ
ル、2−ピリジル、2−ピリミジル、2−チエニルなど
である。ハロゲン原子としては例えば、フッ素原子、塩
素原子である。アルコキシ基としては炭素数1〜10、
好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基で例えば、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、2−ヒ
ドロキシエトキシ、3−ヒドロキシプロポキシ、2−メ
トキシエトキシ、ヒドロキシエトキシエトキシ、2,3
−ジヒドロキシプロポキシ、2−ヒドロキシプロポキ
シ、2−メタンスルホニルエトキシなどを挙げることが
できる。アリールオキシ基としては炭素数6〜10のア
リールオキシ基で例えば、フェノキシ、p−カルボキシ
フェノキシ、o−スルホフェノキシなどを挙げることが
できる。アルキルチオ基としては炭素数1〜10、好ま
しくは炭素数1〜6のアルキルチオ基で例えば、メチル
チオ、エチルチオなどである。アリールチオ基としては
炭素数6〜10のアリールチオ基で例えば、フェニルチ
オ、4−メトキシフェニルチオなどを挙げることができ
る。アシルオキシ基としては炭素数1〜10、好ましく
は炭素数1〜6のアシルオキシ基で例えば、アセトキ
シ、プロパノイルオキシなどを挙げることができる。
The aryl group is an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, such as phenyl, naphthyl and p-methoxyphenyl. The aralkyl group has 7 to 7 carbon atoms.
And 10 aralkyl groups such as benzyl.
The heterocyclic group is a 5- or 6-membered saturated or unsaturated heterocyclic group composed of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. One or more may be used, for example, 2-furyl, 2-pyrrolyl, 2-imidazolyl, 1-pyrazolyl, 2-pyridyl, 2-pyrimidyl, 2-thienyl and the like. Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom. The alkoxy group has 1 to 10 carbon atoms,
Preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, 2-hydroxyethoxy, 3-hydroxypropoxy, 2-methoxyethoxy, hydroxyethoxyethoxy, 2,3
-Dihydroxypropoxy, 2-hydroxypropoxy, 2-methanesulfonylethoxy and the like. The aryloxy group is an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, and examples thereof include phenoxy, p-carboxyphenoxy, and o-sulfophenoxy. The alkylthio group is an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as methylthio and ethylthio. The arylthio group is an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms, such as phenylthio and 4-methoxyphenylthio. The acyloxy group is an acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as acetoxy and propanoyloxy.

【0118】アルキルアミノ基としては炭素数1〜1
0、好ましくは炭素数1〜6のアルキルアミノ基で例え
ば、メチルアミノ、ジエチルアミノ、2−ヒドロキシエ
チルアミノなどである。カルボンアミド基としては炭素
数1〜10、好ましくは炭素数1〜6のカルボンアミド
基で例えば、アセトアミド、プロピオンアミドである。
スルホンアミド基としては炭素数1〜10、好ましくは
炭素数1〜6のスルホンアミド基で例えば、メタンスル
ホンアミドである。スルファモイルアミノ基としては炭
素数0〜10、好ましくは炭素数0〜6のスルファモイ
ルアミノ基で例えば、メチルスルファモイルアミノ、ジ
メチルスルファモイルアミノである。ウレイド基として
は炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜6のウレイド
基で例えば、ウレイド、メチルウレイド、N,N−ジメ
チルウレイドである。アシル基としては炭素数1〜1
0、好ましくは炭素数1〜6のアシル基で例えばアセチ
ル、ベンゾイルなどである。オキシカルボニル基として
は炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜6のオキシカ
ルボニル基で例えば、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニルである。カルバモイル基としては炭素数1〜1
0、好ましくは炭素数1〜6のカルバモイル基で例え
ば、カルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N
−エチルカルバモイルである。スルホニル基としては炭
素数1〜10、好ましくは炭素数1〜6のスルホニル基
で例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニルであ
る。スルフィニル基としては炭素数1〜10、好ましく
は炭素数1〜6のスルフィニル基で例えば、メタンスル
フィニルである。スルファモイル基としては炭素数0〜
10、好ましくは炭素数0〜6のスルファモイル基で例
えば、スルファモイル、ジメチルスルファモイルであ
る。
The alkylamino group may have 1 to 1 carbon atoms.
0, preferably an alkylamino group having 1 to 6 carbon atoms, such as methylamino, diethylamino and 2-hydroxyethylamino. The carbonamido group is a carbonamido group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as acetamido and propionamido.
The sulfonamide group has 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, and is, for example, methanesulfonamide. The sulfamoylamino group is a sulfamoylamino group having 0 to 10 carbon atoms, preferably 0 to 6 carbon atoms, such as methylsulfamoylamino and dimethylsulfamoylamino. The ureido group is a ureido group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as ureide, methylureide, and N, N-dimethylureide. The acyl group has 1 to 1 carbon atoms.
An acyl group having 0, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as acetyl and benzoyl. The oxycarbonyl group is an oxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl. The carbamoyl group has 1 to 1 carbon atoms.
0, preferably a carbamoyl group having 1 to 6 carbon atoms such as carbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N
-Ethylcarbamoyl. The sulfonyl group is a sulfonyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as methanesulfonyl and ethanesulfonyl. The sulfinyl group is a sulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as methanesulfinyl. The sulfamoyl group has 0 to 0 carbon atoms.
10, preferably a sulfamoyl group having 0 to 6 carbon atoms, such as sulfamoyl and dimethylsulfamoyl.

【0119】R5、R6は同一でも異なっていてもよく、
各々アルキル基、アリール基、アラルキル基、またはへ
テロ環基を表す。その詳細は、R1、R2、R3及びR4
て説明したものと同義である。但し、R5、R6がアルキ
ル基である場合連結して窒素原子と共同で5〜6員環を
形成してもよく、この場合例えば、ピロリジン環、ピペ
リジン環、ピペラジン環、モルホリン環を挙げることが
出来る。また、R5、R6の少なくとも一方がアルキル基
でかつR3、R4の少なくとも一方がアルキル基またはア
ルコキシ基である場合、これらが連結して窒素原子及び
ベンゼン環と共同で縮合複素環を形成してもよく、形成
されるべンゼン環と縮合した5〜6員環としては例えば
インドール、インドリン、ジヒドロキノリン、テトラヒ
ドロキノリン、ベンゾオキサジンを挙げることが出来
る。一般式(M)で表される化合物は二量体となってビ
ス型構造を形成してもよい。
R 5 and R 6 may be the same or different,
Each represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a heterocyclic group. The details thereof are the same as those described for R 1 , R 2 , R 3 and R 4 . However, when R 5 and R 6 are an alkyl group, they may be linked to form a 5- to 6-membered ring together with a nitrogen atom. In this case, for example, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring, and a morpholine ring are exemplified. I can do it. When at least one of R 5 and R 6 is an alkyl group and at least one of R 3 and R 4 is an alkyl group or an alkoxy group, these are linked to form a condensed heterocyclic ring together with a nitrogen atom and a benzene ring. The 5- or 6-membered ring condensed with the formed benzene ring may be, for example, indole, indoline, dihydroquinoline, tetrahydroquinoline, or benzoxazine. The compound represented by the general formula (M) may form a bis-type structure as a dimer.

【0120】一般式(M)で表される化合物の中でも、
以下の一般式(MB)で表される化合物が好ましい。 一般式(MB)
Among the compounds represented by the general formula (M),
Compounds represented by the following general formula (MB) are preferred. General formula (MB)

【0121】[0121]

【化39】 Embedded image

【0122】式中、R11、R22は同一でも異なっていて
もよく、各々水素原子または置換基を表す。R55、R66
は同一でも異なっていてもよく、各々アルキル基、アリ
ール基、アラルキル基またはへテロ環基を表す。
In the formula, R 11 and R 22 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a substituent. R 55 , R 66
May be the same or different and each represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or a heterocyclic group.

【0123】一般式(MB)中のR11、R22及びR55
66について以下にその好ましい組み合わせについて述
べる。R11、R22は水素原子、アルキル基、ヒドロキシ
基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、カル
ボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミ
ノ基、ウレイド基であり、R55、R66はアルキル基であ
る組み合わせが好ましい。ここで、アルキル基、アルコ
キシ基、アルキルアミノ基は、他の置換基によって置換
されたものも含む。この組み合わせにおいて、R55、R
66は無置換のアルキル基または水溶性基で置換されたア
ルキル基であることがより好ましい。ここに水溶性基と
は、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アンモニオ基、カルボンアミド基、スルホン
アミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、カル
バモイル基、スルファモイル基、カルボキシル基(塩を
含む)、スルホ基(塩を含む)等である。
R 11 , R 22 and R 55 in the general formula (MB)
For R 66 described for the preferred combinations below. R 11 and R 22 are a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, a carbonamido group, a sulfonamido group, a sulfamoylamino group, a ureido group, and R 55 and R 66 are Combinations that are alkyl groups are preferred. Here, the alkyl group, the alkoxy group, and the alkylamino group include those substituted with another substituent. In this combination, R 55 , R
66 is more preferably an unsubstituted alkyl group or an alkyl group substituted with a water-soluble group. Here, the water-soluble group includes a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an ammonio group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a sulfamoylamino group, a ureido group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a carboxyl group ( And a sulfo group (including a salt).

【0124】さらに好ましい化合物としては、一般式
(MB)において、R11が水素原子であり、R22はアル
キル基、アルコキシ基、カルボンアミド基、スルホンア
ミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基であり、
55、R66がアルキル基である化合物である。ここで、
アルキル基、アルコキシ基、カルボンアミド基、スルホ
ンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基は、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミ
ノ基、アンモニオ基、カルボンアミド基、スルホンアミ
ド基、もしくはウレイド基によって置換されたものも含
む。
Further preferred compounds in the formula (MB) are those in which R 11 is a hydrogen atom and R 22 is an alkyl group, an alkoxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a sulfamoylamino group, a ureido group. Yes,
A compound in which R 55 and R 66 are alkyl groups. here,
Alkyl group, alkoxy group, carbonamido group, sulfonamido group, sulfamoylamino group, ureido group,
Also included are those substituted by a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an ammonium group, a carbonamido group, a sulfonamido group, or a ureido group.

【0125】さらにより好ましい化合物としては、一般
式(MB)において、R11が水素原子であり、R22は炭
素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ
基、炭素数1〜3のカルボンアミド基、炭素数1〜3の
スルホンアミド基、炭素数1〜3のウレイド基であり、
55、R66が炭素数1〜3の無置換アルキル基である化
合物である。ここでR22で表されるアルキル基、アルコ
キシ基はヒドロキシ基、アルコキシ基、カルボンアミド
基、スルホンアミド基によって置換されたものも含む。
As a still more preferred compound, in the general formula (MB), R 11 is a hydrogen atom, and R 22 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, 3, a carbonamide group, a sulfonamide group having 1 to 3 carbon atoms, a ureido group having 1 to 3 carbon atoms,
A compound in which R 55 and R 66 are an unsubstituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Wherein the alkyl group, alkoxy group represented by R 22 includes those substituted hydroxy group, an alkoxy group, a carbonamido group, the sulfonamido group.

【0126】最も好ましい化合物としては、一般式(M
B)において、R11が水素原子であり、R22は炭素数1
〜3のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素
数1〜3のカルボンアミド基、炭素数1〜3のスルホン
アミド基、炭素数1〜3のウレイド基であり、R55、R
66がメチル基である化合物である。ここでR22で表され
るアルキル基、アルコキシ基はヒドロキシ基、アルコキ
シ基によって置換されたものも含む。
The most preferred compound is represented by the general formula (M
In B), R 11 is a hydrogen atom, and R 22 has 1 carbon atom.
To 3 alkyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a carbonamido group having 1 to 3 carbon atoms, a sulfonamido group having 1 to 3 carbon atoms, a ureido group having 1 to 3 carbon atoms, R 55, R
A compound in which 66 is a methyl group. Here, the alkyl group and the alkoxy group represented by R 22 include those substituted with a hydroxy group or an alkoxy group.

【0127】本発明の具体的化合物の例として下記化合
物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
一般式(M)で示される化合物は、遊離アニリンとして
は不安定である場合があるため、一般には無機酸、有機
酸との塩として製造、保存し、処理液に添加したあと初
めて遊離アミンとなるようにすることが好ましい。一般
式(M)の化合物を造塩する無機、有機の酸としては例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、p−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸、ナフタレン−1,5−ジスルホ
ン酸等が挙げられるが、硫酸、ナフタレン−1,5−ジ
スルホン酸の塩とすることが好ましい。
Examples of the specific compounds of the present invention include, but are not limited to, the following compounds.
Since the compound represented by the general formula (M) may be unstable as a free aniline, it is generally produced and stored as a salt with an inorganic acid or an organic acid, and is added with a free amine only after being added to the treatment solution. Preferably. Examples of the inorganic and organic acids that form the salt of the compound of the formula (M) include hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, and naphthalene-1,5-disulfonic acid. Is preferably a salt of sulfuric acid or naphthalene-1,5-disulfonic acid.

【0128】[0128]

【表1】 [Table 1]

【0129】[0129]

【表2】 [Table 2]

【0130】[0130]

【表3】 [Table 3]

【0131】[0131]

【表4】 [Table 4]

【0132】[0132]

【表5】 [Table 5]

【0133】[0133]

【表6】 [Table 6]

【0134】[0134]

【表7】 [Table 7]

【0135】[0135]

【表8】 [Table 8]

【0136】[0136]

【表9】 [Table 9]

【0137】一般式(M)で表される化合物は、例えば
Photographic Science and Engineering, 10, 306(196
6)などの一般的合成法に準じて、また、特願平8−70
908号に記載の合成例に準じて容易に合成可能であ
る。
The compound represented by the general formula (M) is, for example,
Photographic Science and Engineering, 10, 306 (196
According to a general synthesis method such as 6), Japanese Patent Application No. 8-70
No. 908, the compound can be easily synthesized.

【0138】本発明においては、ジヒドロキシベンゼン
類が実質的に含有しないものであり、実質的に含有しな
いとは、全く含有しないか、もしくは、アレルギー作用
や現像効果を発現しない程度に含有するものを言うが、
本発明においては全く含有しないものが好ましい。
In the present invention, the term "substantially free of dihydroxybenzenes" means that substantially no dihydroxybenzenes are contained, or "substantially free of dihydroxybenzenes" means that they do not contain allergic action or developing effect. Say,
In the present invention, those not containing at all are preferable.

【0139】次に一般式(G)の化合物について説明す
る。一般式(G)で表される化合物
Next, the compound represented by formula (G) will be described. Compound represented by general formula (G)

【0140】[0140]

【化40】 Embedded image

【0141】一般式(G)において、D,Eは−CH=
基、−CR0=基、または窒素原子を表し、ここにR0
置換基を表す。L1、L2、L3は水素原子、ハロゲン原
子、または炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、
りん原子のいずれかで環に結合する任意の置換基を表
し、L1〜L3は同じでも異なっていてもよい。但し
1、L2、L3、およびR1の少なくとも1つは、−SM
基(Mはアルカリ金属原子、水素原子、アンモニウム
基)を表す。なおEとDが、1つの窒素原子と1つの炭
素原子を表す時は、Eが窒素原子でDが炭素原子(−C
H=基もしくは−CR 0=基)を表し、この場合L2およ
びL3がヒドロキシ基を表すことはない。
In the general formula (G), D and E represent -CH =
Group, -CR0= Represents a group or a nitrogen atom, where R0Is
Represents a substituent. L1, LTwo, LThreeIs a hydrogen atom, a halogen atom
Or a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom,
Represents any substituent attached to the ring at any of the phosphorus atoms
Then L1~ LThreeMay be the same or different. However
L1, LTwo, LThree, And R1At least one of -SM
Group (M is an alkali metal atom, hydrogen atom, ammonium
Group). E and D are one nitrogen atom and one charcoal
When representing an elementary atom, E is a nitrogen atom and D is a carbon atom (-C
H = group or -CR 0= Group), in which case LTwoAnd
And LThreeDoes not represent a hydroxy group.

【0142】つぎに、一般式(G)の化合物について詳
細に説明する。一般式(G)において、D,Eは−CH
=基、−CR0=基、または窒素原子を表し、ここにR0
は置換基を表す。L1、L2、L3は水素原子、ハロゲン
原子、または炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原
子、りん原子のいずれかで環に結合する任意の置換基を
表し、L1〜L3は同じでも異なっていてもよい。但しL
1、L2、L3、およびR1の少なくとも1つは、−SM基
(Mはアルカリ金属原子、水素原子、アンモニウム基)
を表す。なおEとDが、1つの窒素原子と1つの炭素原
子を表す時は、Eが窒素原子でDが炭素原子(−CH=
基もしくは−CR 0=基)を表し、この場合L2およびL
3がヒドロキシ基を表すことはない。L1、L2、L3で表
される任意の置換基およびR0で表される置換基として
は、具体的には、ハロゲン原子(フッ素原子、クロル原
子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(アラル
キル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、
4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(たとえばピリ
ジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ
基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカ
ルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバ
ゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、
チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エ
チレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り
返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリール
オキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、
スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル、アリール
またはヘテロ環)アミノ基、ヒドロキシアミノ基,N−
置換の飽和もしくは不飽和の含窒素ヘテロ環基、アシル
アミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイ
ド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキ
シ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セ
ミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ
基、4級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(ア
ルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシ
ルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ
基、メルカプト基、(アルキル、アリールまたはヘテロ
環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル
基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スル
ホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファ
モイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、
リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等
があげられる。これらの置換基は、さらにこれらの置換
基で置換されていてもよい。なお、Eが窒素原子でDが
炭素原子(−CH=基もしくは−CR0=基)を表す
時、L2、L3がヒドロキシ基を表すことはない。
Next, the compound of the general formula (G) will be described in detail.
This will be described in detail. In the general formula (G), D and E are -CH
= Group, -CR0= Represents a group or a nitrogen atom, where R0
Represents a substituent. L1, LTwo, LThreeIs hydrogen atom, halogen
Atom, or carbon atom, nitrogen atom, oxygen atom, sulfur atom
Any substituent attached to the ring at either the
Represents, L1~ LThreeMay be the same or different. Where L
1, LTwo, LThree, And R1At least one of the -SM group
(M is an alkali metal atom, hydrogen atom, ammonium group)
Represents E and D are one nitrogen atom and one carbon source
When E is a nitrogen atom, D is a carbon atom and D is a carbon atom (-CH =
Group or -CR 0= Group), in which case LTwoAnd L
ThreeDoes not represent a hydroxy group. L1, LTwo, LThreeIn table
Optional substituents and R0As a substituent represented by
Is, specifically, a halogen atom (a fluorine atom,
Atom, bromine atom or iodine atom), alkyl group (aral
Including a kill group, a cycloalkyl group, an active methine group),
Alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group,
Heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom (eg
Dinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, ant
Oxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy
Group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, acylca
Rubamoyl group, sulfamoylcarbamoyl group, carb
Zoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group,
Thiocarbamoyl, hydroxy, alkoxy (d
Repeating a Tyleneoxy or Propyleneoxy unit
), Aryloxy group, heterocyclic oxo
Si group, acyloxy group, (alkoxy or aryl
Oxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group,
Sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl
Or heterocycle) amino group, hydroxyamino group, N-
Substituted saturated or unsaturated nitrogen-containing heterocyclic group, acyl
Amino group, sulfonamide group, ureido group, thiourei
Group, imide group, (alkoxy or aryloxy
B) carbonylamino group, sulfamoylamino group,
Micarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino
Groups, quaternary ammonium groups, oxamoylamino groups, (A
Alkyl or aryl) sulfonyluureido, reed
Luureido group, acylsulfamoylamino group, nitro
Group, mercapto group, (alkyl, aryl or hetero
Ring) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl
Group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulf
Ho group or its salt, sulfamoyl group, acyl sulfa
Moyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof,
Groups containing phosphoric acid amide or phosphoric ester structure, etc.
Is raised. These substituents are further substituted with
May be substituted with a group. E is a nitrogen atom and D is
Carbon atom (-CH = group or -CR0= Group)
Hour, LTwo, LThreeDoes not represent a hydroxy group.

【0143】L1、L2、L3で表される任意の置換基お
よびR0で表される置換基としてより好ましくは、炭素
数0〜15の置換基で、クロル原子、アルキル基、アリ
ール基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、シア
ノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ
基、アミノ基、(アルキル、アリールまたはへテロ環)
アミノ基、ヒドロキシアミノ基、N−置換の飽和もしく
は不飽和の含窒素へテロ環基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモ
イルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、
アリール、またはへテロ環)チオ基、スルホ基またはそ
の塩、スルファモイル基であり、さらに好ましくは、ア
ルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミ
ノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)アミノ
基、ヒドロキシアミノ基、N−置換の飽和もしくは不飽
和の含窒素へテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ド基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルア
ミノ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、または
ヘテロ環)チオ基、スルホ基またはその塩であり、最も
好ましくはアミノ基、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、アルキルチオ基、アルールチオ基、メルカ
プト基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはそ
の塩である。一般式(G)に於いてL1、L2、L3およ
びR0は、互いに結合して炭化水素環、ヘテロ環、芳香
環が縮合した縮合環を形成していてもよい。
The optional substituents represented by L 1 , L 2 and L 3 and the substituents represented by R 0 are more preferably a substituent having 0 to 15 carbon atoms, such as a chloro atom, an alkyl group or an aryl group. Group, heterocyclic group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, cyano group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, amino group, (alkyl, aryl or hetero ring)
Amino group, hydroxyamino group, N-substituted saturated or unsaturated nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl ,
Aryl or hetero ring) thio group, sulfo group or salt thereof, and sulfamoyl group, and more preferably, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, carbamoyl group or salt thereof, or alkoxy group , Aryloxy group, acyloxy group, amino group, (alkyl, aryl or heterocycle) amino group, hydroxyamino group, N-substituted saturated or unsaturated nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino group, sulfonamide group, ureido Group, thioureido group, sulfamoylamino group, mercapto group, (alkyl, aryl or heterocycle) thio group, sulfo group or a salt thereof, and most preferably amino group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryl Oxy group, alkylamino group, arylamino group, alkyl Thio, a Aruruchio group, a mercapto group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof. In the general formula (G), L 1 , L 2 , L 3 and R 0 may combine with each other to form a condensed ring in which a hydrocarbon ring, a hetero ring or an aromatic ring is condensed.

【0144】一般式(G)に於いてMはアルカリ金属原
子、水素原子、アンモニウム基を表す。ここにアルカリ
金属原子とは具体的に、Na,K,Li,Mg,Ca等
であり、これらは−S-の対カチオンとして存在する。
Mとして好ましくは、水素原子、アンモニウム基、Na
+、またはK+であり、特に好ましくは水素原子である。
一般式(G)の化合物のうち、次の一般式(GA)、
(GB)で表される化合物が好ましい。
In the general formula (G), M represents an alkali metal atom, a hydrogen atom, or an ammonium group. Here specifically the alkali metal atom is Na, K, Li, Mg, Ca, etc., they -S - present as a counter cation.
M is preferably a hydrogen atom, an ammonium group, Na
+ Or K + , and particularly preferably a hydrogen atom.
Among the compounds of the general formula (G), the following general formula (GA):
The compound represented by (GB) is preferred.

【0145】[0145]

【化41】 Embedded image

【0146】つぎに一般式(GA)について詳細に説明
する。R1〜R4は水素原子、ハロゲン原子、または炭素
原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、りん原子で環に
結合する任意の置換基を表すが、これは一般式(G)の
1、L2、L3と同義の基であり、その好ましい範囲も
また同じである。但し、R1およびR3がヒドロキシ基を
表すことはない。R1〜R4は同じでも異なっていてもよ
いが、これらのうち少なくとも一つは−SM基である。
Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基を表
す。
Next, the general formula (GA) will be described in detail. R 1 to R 4 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an arbitrary substituent bonded to the ring by a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom, which is represented by L 1 in the general formula (G). , L 2 and L 3 are the same as defined above, and the preferred range is also the same. However, R 1 and R 3 do not represent a hydroxy group. R 1 to R 4 may be the same or different, but at least one of them is a —SM group.
M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, or an ammonium group.

【0147】一般式(GA)に於いてR1〜R4の少なく
とも1つは−SM基であるが、より好ましくはR1〜R4
の少なくとも2つが−SM基である。R1〜R4の少なく
とも2つが−SM基である場合、好ましくはR4とR1
もしくはR4とR3が−SM基である。
In the general formula (GA), at least one of R 1 to R 4 is a —SM group, and more preferably, R 1 to R 4
At least two are -SM groups. When at least two of R 1 to R 4 are a —SM group, preferably R 4 and R 1 ,
Or R 4 and R 3 is an -SM group.

【0148】本発明においては、一般式(GA)で表さ
れる化合物のうち、下記一般式(GA−1)〜(GA−
3)で表される化合物が特に好ましい。
In the present invention, among the compounds represented by the general formula (GA), the following general formulas (GA-1) to (GA-
The compound represented by 3) is particularly preferred.

【0149】[0149]

【化42】 Embedded image

【0150】一般式(GA−1)において、R10はメル
カプト基、水素原子、または任意の置換基を表し、Xは
水溶性基もしくは水溶性基で置換された置換基をあらわ
す。一般式(GA−2)においてY1は水溶性基もしく
は水溶性基で置換された置換基を表し、R20は水素原子
または任意の置換基を表す。一般式(GA−3)におい
てY2は水溶性基もしくは水溶性基で置換された置換基
を表し、R30は水素原子または任意の置換基を表す。但
し、R10およびY1がヒドロキシ基を表すことはない。
In the general formula (GA-1), R 10 represents a mercapto group, a hydrogen atom, or an arbitrary substituent, and X represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group. In Formula (GA-2), Y 1 represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group, and R 20 represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. In Formula (GA-3), Y 2 represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group, and R 30 represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, R 10 and Y 1 do not represent a hydroxy group.

【0151】つぎに、一般式(GA−1)〜(GA−
3)で表される化合物について詳しく説明する。一般式
(GA−1)において、R10はメルカプト基、水素原子
または任意の置換基をあらわす。ここで任意の置換基と
は、一般式(GA)のR1〜R4について説明したものと
同じものがあげられる。R10として好ましくは、メルカ
プト基、水素原子、または炭素数0〜15の以下の置換
基から選ばれる基である。すなわち、アミノ基、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基
等があげられる。一般式(GA−1)においてXは水溶
性基もしくは水溶性基で置換された置換基をあらわす。
ここに水溶性基とはスルホン酸もしくはカルボン酸およ
びそれらの塩、アンモニオ基のような塩、またはアルカ
リ性の現像液によって一部もしくは完全に解離しうる解
離性基を含む基のことで、具体的にはスルホ基(または
その塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ
基、メルカプト基、アミノ基、アンモニオ基、スルホン
アミド基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルフ
ァモイル基、活性メチン基、またはこれらの基を含む置
換基を表す。なお本発明において活性メチン基とは、2
つの電子吸引性基で置換されたメチル基のことで、具体
的にはジシアノメチル、α−シアノ−α−エトキシカル
ボニルメチル、α−アセチル−α−エトキシカルボニル
メチル等の基があげられる。一般式(GA−1)のXで
表される置換基とは、上述した水溶性基、または上述の
水溶性基で置換された置換基であり、その置換基として
は、炭素数0〜15の置換基で、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルキル、アリー
ルまたはへテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、
スルファモイルアミノ基、(アルキル、アリールまたは
へテロ環)チオ基、(アルキル、アリール)スルホニル
基、スルファモイル基、アミノ基等があげられ、好まし
くは炭素数1〜10のアルキル基(特にアミノ基で置換
されたメチル基)、アリール基、アリールオキシ基、ア
ミノ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミ
ノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)チオ基等
の基である。
Next, the general formulas (GA-1) to (GA-
The compound represented by 3) will be described in detail. In General Formula (GA-1), R 10 represents a mercapto group, a hydrogen atom, or an arbitrary substituent. Here, the optional substituents are the same as those described for R 1 to R 4 in the general formula (GA). R 10 is preferably a mercapto group, a hydrogen atom, or a group selected from the following substituents having 0 to 15 carbon atoms. That is, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group,
Acylamino group, sulfonamide group, alkylthio group,
Examples include an arylthio group, an alkylamino group, and an arylamino group. In the general formula (GA-1), X represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group.
Here, the water-soluble group is a sulfonic acid or a carboxylic acid and a salt thereof, a salt such as an ammonio group, or a group containing a dissociable group which can be partially or completely dissociated by an alkaline developer. Has a sulfo group (or a salt thereof), a carboxy group (or a salt thereof), a hydroxy group, a mercapto group, an amino group, an ammonio group, a sulfonamide group, an acylsulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group, an active methine group, Or a substituent containing these groups. In the present invention, the active methine group is 2
A methyl group substituted with two electron-withdrawing groups specifically includes groups such as dicyanomethyl, α-cyano-α-ethoxycarbonylmethyl, and α-acetyl-α-ethoxycarbonylmethyl. The substituent represented by X in the general formula (GA-1) is the above-described water-soluble group or a substituent substituted with the above-described water-soluble group, and the substituent has 0 to 15 carbon atoms. Alkyl, aryl, heterocyclic, alkoxy, aryloxy, heterocyclic oxy, acyloxy, (alkyl, aryl or heterocyclic) amino, acylamino, sulfonamide, ureido Group, thioureido group, imide group,
Sulfamoylamino group, (alkyl, aryl or heterocycle) thio group, (alkyl, aryl) sulfonyl group, sulfamoyl group, amino group and the like, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (especially amino group) , An aryl group, an aryloxy group, an amino group, an (alkyl, aryl, or heterocycle) amino group, and an (alkyl, aryl, or heterocycle) thio group.

【0152】一般式(GA−1)で表される化合物の中
で、さらに好ましいものは下記一般式(GA−1−a)
で表される化合物である。
Among the compounds represented by the general formula (GA-1), more preferred are the compounds represented by the following general formula (GA-1-a)
It is a compound represented by these.

【0153】[0153]

【化43】 Embedded image

【0154】式中R11は一般式(GA−1)のR10と同
義であり、好ましい範囲も同じである。R12、R13はそ
れぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキ
ル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ただし、
12およびR13の少なくとも一方は、少なくとも1つの
水溶性基を有する。ここに水溶性基とは、スルホ基(ま
たはその塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、アンモニオ基、スル
ホンアミド基、アシルスルファモイル基、スルホニルス
ルファモイル基、活性メチン基、またはこれらの基を含
む置換基を表し、好ましくはスルホ基(またはその
塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ基、
アミノ基等の基があげられる。R12およびR13は、好ま
しくはアルキル基またはアリール基であり、R12および
13がアルキル基であるとき、アルキル基としては炭素
数1〜4の置換もしくは無置換のアルキル基が好まし
く、その置換基としては水溶性基、特にスルホ基(また
はその塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキ
シ基、またはアミノ基が好ましい。R12およびR13がア
リール基であるとき、アリール基としては炭素数が6〜
10の置換もしくは無置換のフェニル基が好ましく、そ
の置換基としては水溶性基、特にスルホ基(またはその
塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ基、
またはアミノ基が好ましい。R12およびR13がアルキル
基またはアリール基を表すとき、これらは互いに結合し
て環状構造を形成していてもよい。また環状構造により
飽和のへテロ環を形成してもよい。
In the formula, R 11 has the same meaning as R 10 in formula (GA-1), and the preferred range is also the same. R 12 and R 13 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. However,
At least one of R 12 and R 13 has at least one water-soluble group. Here, the water-soluble group includes a sulfo group (or a salt thereof), a carboxy group (or a salt thereof), a hydroxy group, a mercapto group, an amino group, an ammonium group, a sulfonamide group, an acylsulfamoyl group, and a sulfonylsulfamoyl group. Group, active methine group, or a substituent containing these groups, preferably a sulfo group (or a salt thereof), a carboxy group (or a salt thereof), a hydroxy group,
And groups such as amino groups. R 12 and R 13 are preferably an alkyl group or an aryl group. When R 12 and R 13 are an alkyl group, the alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. As the substituent, a water-soluble group, particularly a sulfo group (or a salt thereof), a carboxy group (or a salt thereof), a hydroxy group, or an amino group is preferable. When R 12 and R 13 are an aryl group, the aryl group has from 6 to 6 carbon atoms.
Preferred are 10 substituted or unsubstituted phenyl groups, which are water-soluble groups, particularly sulfo groups (or salts thereof), carboxy groups (or salts thereof), hydroxy groups,
Or an amino group is preferred. When R 12 and R 13 represent an alkyl group or an aryl group, they may combine with each other to form a cyclic structure. Further, a saturated hetero ring may be formed by a cyclic structure.

【0155】一般式(GA−2)においてY1は水溶性
基もしくは水溶性基で置換された置換基を表し、一般式
(GA−1)のXと同義である。一般式(GA−2)に
おいてY1で表される水溶性基もしくは水溶性基で置換
された置換基としてさらに好ましくは、活性メチン基、
または水溶性基で置換された以下の基、即ちアミノ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、アルキル基、アリール基である。Y1
してさらに好ましくは、活性メチン基、または水溶性基
で置換された(アルキル、アリール、もしくはヘテロ
環)アミノ基であり、ここに水溶性基としてはヒドロキ
シ基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその
塩が特に好ましい。Y1として特に好ましくは、ヒドロ
キシ基、カルボキシ基(またはその塩)、またはスルホ
基(またはその塩)で置換された(アルキル、アリー
ル、もしくはヘテロ環)アミノ基であり、−N(R01
(R02)基で表される。ここにR01、R02は、それぞれ
一般式(GA−1−a)のR12、R13と同義の基であ
り、その好ましい範囲もまた同じである。
In formula (GA-2), Y 1 represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group, and has the same meaning as X in formula (GA-1). In the general formula (GA-2), the water-soluble group represented by Y 1 or a substituent substituted by a water-soluble group is more preferably an active methine group,
Or the following groups substituted with a water-soluble group, namely, an amino group,
An alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkyl group, and an aryl group. More preferably, Y 1 is an active methine group or an amino group substituted with a water-soluble group (alkyl, aryl, or heterocycle), wherein the water-soluble group is a hydroxy group, a carboxy group or a salt thereof, or a sulfo group. Groups or salts thereof are particularly preferred. Particularly preferred as Y 1 is a (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group substituted with a hydroxy group, a carboxy group (or a salt thereof), or a sulfo group (or a salt thereof), and —N (R 01 )
(R 02 ). Here, R 01 and R 02 are groups having the same meanings as R 12 and R 13 in formula (GA-1-a), respectively, and the preferred ranges are also the same.

【0156】一般式(GA−2)においてR20は水素原
子または任意の置換基をあらわすが、ここで任意の置換
基とは、一般式(GA)のR1〜R4について説明したも
のと同じものがあげられる。R20として好ましくは、水
素原子または炭素数0〜15の以下の置換基から選ばれ
る基である。すなわち、ヒドロキシ基、アミノ基、アル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミ
ノ基、ヒドロキシルアミノ基等があげられる。R20とし
て最も好ましくは水素原子である。
In the general formula (GA-2), R 20 represents a hydrogen atom or an optional substituent. Here, the optional substituent is the same as those described for R 1 to R 4 in the general formula (GA). The same is given. R 20 is preferably a hydrogen atom or a group selected from the following substituents having 0 to 15 carbon atoms. That is, examples include a hydroxy group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, and a hydroxylamino group. Most preferably, R 20 is a hydrogen atom.

【0157】一般式(GA−3)においてY2は水溶性
基もしくは水溶性基で置換された置換基を表し、R30
水素原子または任意の置換基をあらわす。一般式(GA
−3)におけるY2、R30はそれぞれ一般式(GA−
2)のY1、一般式(GA−2)のR20と同義の基であ
り、その好ましい範囲もまた同じである。
In the general formula (GA-3), Y 2 represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group, and R 30 represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. General formula (GA
-3), Y 2 and R 30 are each represented by the general formula (GA-
Y 1 of 2), an R 20 group having the same meaning as in formula (GA-2), the preferred range thereof is also the same.

【0158】つぎに、一般式(GB)について詳細に説
明する。一般式(GB)におけるR5〜R7は、一般式
(GA)のR1〜R4と同義であり、その好ましい範囲も
また同じである。一般式(GB)で表される化合物のう
ち一般式(GB−1)で表される化合物が特に好まし
い。
Next, the general formula (GB) will be described in detail. R 5 to R 7 in the general formula (GB) have the same meanings as R 1 to R 4 in the general formula (GA), and their preferable ranges are also the same. Among the compounds represented by the general formula (GB), the compound represented by the general formula (GB-1) is particularly preferable.

【0159】[0159]

【化44】 Embedded image

【0160】[0160]

【化45】 Embedded image

【0161】一般式(GB−1)において、R50は一般
式(B)のR5〜R7と同義であり、より好ましくは一般
式(GA−1)〜(GA−3)のX、Y1、Y2と同義の
水溶性基もしくは水溶性基で置換された基である。さら
に、一般式(GB−1)の化合物のうち最も好ましくは
一般式(GB−1−a)で表される化合物である。
In the general formula (GB-1), R 50 has the same meaning as R 5 to R 7 in the general formula (B), and more preferably X in general formulas (GA-1) to (GA-3). It is a water-soluble group as defined for Y 1 and Y 2 or a group substituted with a water-soluble group. Further, among the compounds of the general formula (GB-1), the compound represented by the general formula (GB-1-a) is most preferred.

【0162】[0162]

【化46】 Embedded image

【0163】一般式(GB−1−a)においてR51、R
52は一般式(GA−1−a)のR12、R13と同義の基で
あり、その好ましい範囲もまた同じである。
In the general formula (GB-1-a), R 51 , R
52 is a group having the same meaning as R 12 and R 13 in formula (GA-1-a), and the preferred range is also the same.

【0164】以下に、本発明の一般式(G)で表される
化合物の具体例を挙げるが、言うまでもなく本発明はこ
れらに限定されるものではない。
Hereinafter, specific examples of the compound represented by formula (G) of the present invention will be shown, but it goes without saying that the present invention is not limited thereto.

【0165】[0165]

【化47】 Embedded image

【0166】[0166]

【化48】 Embedded image

【0167】[0167]

【化49】 Embedded image

【0168】[0168]

【化50】 Embedded image

【0169】一般式(G)の化合物の添加量は、使用液
1Lにつき0.01〜10ミリモル、好ましくは0.1
〜5ミリモルである。
The compound of the general formula (G) is added in an amount of 0.01 to 10 mmol, preferably 0.1 to 1 mmol per liter of the working solution.
55 mmol.

【0170】本発明のハロゲン化銀乳剤層及びその他の
親水性コロイド層のバインダーとしてはゼラチンを用い
るが、それ以外の親水性コロイドを併用することもでき
る。たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子と
のグラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白
質;ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロー
ス誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導
体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分
アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビ
ニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一ある
いは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用い
ることができる。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの
ほか、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分
解物、ゼラチン酵素分解物も用いることができる。本発
明において、バインダーとしてのゼラチン塗布量は、ハ
ロゲン化銀乳剤層を有する側の全親水性コロイド層のゼ
ラチン量が3g/m2以下で、かつ、ハロゲン化銀乳剤層
を有する側の全親水性コロイド層及びその反対側の面の
全親水性コロイド層の全ゼラチン量が6g/m2以下であ
り、好ましくは2.0〜6.0g/m2である。
Gelatin is used as a binder for the silver halide emulsion layer and other hydrophilic colloid layers of the present invention, but other hydrophilic colloids may be used in combination. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose and cellulose sulfates; sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives; polyvinyl alcohol Use of various kinds of synthetic hydrophilic high-molecular substances such as mono- or copolymers of polyvinyl alcohol, partial acetal, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole, polyvinylpyrazole, etc. Can be. As gelatin, in addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used, and gelatin hydrolyzate and gelatin enzyme hydrolyzate can also be used. In the present invention, the coated amount of gelatin as a binder is such that the amount of gelatin in the entire hydrophilic colloid layer on the side having the silver halide emulsion layer is 3 g / m 2 or less and the total hydrophilic colloid layer on the side having the silver halide emulsion layer is not more than 3 g / m 2. total gelatin sex colloid layer and all hydrophilic colloid layers on the opposite surface is at 6 g / m 2 or less, preferably 2.0 to 6.0 g / m 2.

【0171】本発明の感光材料の支持体としては、セル
ローストリアセテート、セルロースジアセテート、ニト
ロセルロース、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレ
ート、特開平07−28188号記載のポリエチレンナ
フタレート、特開平3−131843号記載のシンジオ
タクチックポリスチレン、ポリエチレン被覆紙などが用
いられる。
Examples of the support for the light-sensitive material of the present invention include cellulose triacetate, cellulose diacetate, nitrocellulose, polystyrene, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate described in JP-A-07-28188, and Shinji described in JP-A-3-131842. For example, tactic polystyrene or polyethylene coated paper is used.

【0172】以下に、本発明に用いられる現像液につい
て述べるが、本発明は以下の記述および具体例に限定さ
れるものではない。本発明に用いるアスコルビン酸誘導
体の現像主薬としては下記一般式(S)で表わされる化
合物が好ましい。 一般式(S)
The developer used in the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following description and specific examples. As the developing agent of the ascorbic acid derivative used in the present invention, a compound represented by the following formula (S) is preferable. General formula (S)

【0173】[0173]

【化51】 Embedded image

【0174】式中、R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ
基、アミノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルア
ミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基を表
し、Xは炭素原子あるいは酸素原子あるいは窒素原子か
ら構成され、R1 、R2 が置換している二つのビニル炭
素とカルボニル炭素と共同でXは5〜6員環を構成す
る。以下、一般式(S) について詳しく説明する。式
中、R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ基、アミノ基(置
換基として炭素数1〜10のアルキル基、例えばメチル
基、エチル基、n−ブチル基、ヒドロキシエチル基など
を置換基として有するものを含む。)、アシルアミノ
基、(アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など)、
アルキルスルホニルアミノ基、(メタンスルホニルアミ
ノ基など)、アリールスルホニルアミノ基(ベンゼンス
ルホニルアミノ基、p−トルエンスルホニルアミノ基な
ど)、アルコキシカルボニルアミノ基(メトキシカルボ
ニルアミノ基など)、メルカプト基、アルキルチオ基
(メチルチオ基、エチルチオ基など)を表す。R1 2
として好ましい例として、ヒドロキシ基、アミノ基、ア
ルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ
基を挙げることができる。Xは炭素原子あるいは酸素原
子あるいは窒素原子から構成され、R1 、R2 が置換し
ている二つのビニル炭素とカルボニル炭素と共同でXは
5〜6員環を構成する。Xの具体例として、−O−、−
C(R3)(R4)−、−C(R5)=、−C(=O)−、−N
(R6)−、−N=、を組み合わせて構成される。ただ
しR3 、R4 、R5 、R6 は水素原子、炭素数1〜10
の置換してもよいアルキル基(置換基としてヒドロキシ
ル基、カルボキシ基、スルホ基を挙げることができ
る)、炭素数6〜15の置換してもよいアリール基(置換
基としてアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カ
ルボキシ基、スルホ基を挙げることができる)、ヒドロ
キシ基、カルボキシ基を表す。更にこの5〜6員環には
飽和あるいは不飽和の縮合環を形成してもよい。この5
〜6員環の例として、ジヒドロフラノン環、ジヒドロピ
ロン環、ピラノン環、シクロペンテノン環、シクロヘキ
セノン環、ピロリノン環、ピラゾリノン環、ピリドン
環、アザシクロヘキセノン環、ウラシル環などが挙げら
れ、好ましい5〜6員環の例として、ジヒドロフラノン
環、シクロペンテノン環、シクロヘキセノン環、ピラゾ
リノン環、アザシクロヘキセノン環、ウラシル環を挙げ
ることができる。具体的化合物例を以下に示す。
In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydroxy group, an amino group, an acylamino group, an alkylsulfonylamino group, an arylsulfonylamino group, an alkoxycarbonylamino group, a mercapto group or an alkylthio group, and X represents a carbon atom or X is composed of an oxygen atom or a nitrogen atom, and X forms a 5- to 6-membered ring in cooperation with two vinyl carbons and carbonyl carbons substituted by R 1 and R 2 . Hereinafter, the general formula (S) will be described in detail. In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydroxy group or an amino group (substituents having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group, a hydroxyethyl group or the like as a substituent) ), An acylamino group, an (acetylamino group, a benzoylamino group, etc.),
Alkylsulfonylamino group, (methanesulfonylamino group, etc.), arylsulfonylamino group (benzenesulfonylamino group, p-toluenesulfonylamino group, etc.), alkoxycarbonylamino group (methoxycarbonylamino group, etc.), mercapto group, alkylthio group ( Methylthio group, ethylthio group, etc.). R 1 R 2
Preferred examples include a hydroxy group, an amino group, an alkylsulfonylamino group, and an arylsulfonylamino group. X is composed of a carbon atom, an oxygen atom, or a nitrogen atom, and X forms a 5- to 6-membered ring in cooperation with two vinyl carbons and a carbonyl carbon substituted by R 1 and R 2 . As specific examples of X, -O-,-
C (R 3) (R 4 ) -, - C (R 5) =, - C (= O) -, - N
(R 6 )-and -N =. However, R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 are a hydrogen atom and have 1 to 10 carbon atoms.
An optionally substituted alkyl group (a hydroxyl group, a carboxy group, a sulfo group can be mentioned as a substituent) and an optionally substituted aryl group having 6 to 15 carbon atoms (an alkyl group, a halogen atom, A hydroxy group, a carboxy group and a sulfo group), a hydroxy group and a carboxy group. Further, a saturated or unsaturated condensed ring may be formed on the 5- or 6-membered ring. This 5
Examples of the 6-membered ring include a dihydrofuranone ring, a dihydropyrone ring, a pyranone ring, a cyclopentenone ring, a cyclohexenone ring, a pyrrolinone ring, a pyrazolinone ring, a pyridone ring, an azacyclohexenone ring, and a uracil ring. Examples of the 5- to 6-membered ring include a dihydrofuranone ring, a cyclopentenone ring, a cyclohexenone ring, a pyrazolinone ring, an azacyclohexenone ring, and a uracil ring. Specific compound examples are shown below.

【0175】[0175]

【化52】 Embedded image

【0176】[0176]

【化53】 Embedded image

【0177】[0177]

【化54】 Embedded image

【0178】本発明に使用する現像液に用いられるアス
コルビン酸類は、エンジオール型(Endiol) 、エナミノ
ール型(Enaminol)、エンジアミン型(Endiamin)、チオー
ルエノール型(Thiol-Enol)およびエナミン−チオール型
(Enamin-Thiol)が化合物として一般に知られている。こ
れらの化合物の例は米国特許第2,688,549号、
特開昭62−237443号などに記載されている。こ
れらのアスコルビン酸類の合成法もよく知られており、
例えば野村次男と大村浩久共著「レダクトンの化学」
(内田老鶴圃新社1969年)に記載に述べられてい
る。本発明に用いられるアスコルビン酸類はリチウム
塩、ナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩の
形でも使用できる。
The ascorbic acids used in the developer used in the present invention include an endiol type (Endiol), an enaminol type (Enaminol), an endamine type (Endiamin), a thiol-enol type (Thiol-Enol) and an enamine-thiol type.
(Enamin-Thiol) is commonly known as a compound. Examples of these compounds are described in U.S. Pat. No. 2,688,549;
It is described in JP-A-62-237443. Methods for synthesizing these ascorbic acids are also well known,
For example, Tsuguo Nomura and Hirohisa Omura, "Reducton Chemistry"
(Uchida Lao Tsuruho Shinsha 1969). The ascorbic acids used in the present invention can be used in the form of an alkali metal salt such as a lithium salt, a sodium salt and a potassium salt.

【0179】アスコルビン酸誘導体現像主薬は、通常
0.01モル/リットル〜0.5モル/リットルの量で
用いられるのが好ましく、0.05モル/リットル〜
0.3モル/リットルがより好ましい。またアスコルビ
ン酸誘導体とp−アミノフェノール類の組み合わせにお
いてアスコルビン酸誘導体を0.01モル/リットル〜
0.5モル/リットル、p−アミノフェノール類を0.
005モル/リットル〜0.2モル/リットルの量で用
いるのが好ましい。
The ascorbic acid derivative developing agent is preferably used in an amount of usually 0.01 mol / l to 0.5 mol / l, preferably 0.05 mol / l to 0.5 mol / l.
0.3 mol / l is more preferred. In the combination of the ascorbic acid derivative and the p-aminophenol, the ascorbic acid derivative is used in an amount of 0.01 mol / liter or more.
0.5 mol / l, p-aminophenols in 0.
It is preferably used in an amount of from 005 mol / l to 0.2 mol / l.

【0180】本発明で感光材料を処理する際の現像液に
は、通常用いられる添加剤(たとえば現像主薬、アルカ
リ剤、pH緩衝剤、保恒剤、キレート剤等)を含有する
事ができる。以下にこれらの具体例を示すが、本発明は
これらに限定されるものではない。
The developer for processing the light-sensitive material in the present invention may contain commonly used additives (for example, a developing agent, an alkali agent, a pH buffer, a preservative, a chelating agent, etc.). These specific examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0181】本発明で感光材料を現像処理する際の現像
液に用いられる緩衝剤としては、炭酸塩、特開昭62−
286259に記載のほう酸、特開昭60−93433
に記載の糖類(たとえばサッカロース)、オキシム類
(たとえばアセトオキシム)、フェノール類(たとえば
5−スルホサリチル酸)、第3リン酸塩(たとえばナト
リウム塩、カリウム塩)などが用いられ、好ましくは炭
酸塩、ほう酸が用いられる。炭酸塩は単独で用いるので
はなく、炭酸水素塩と併用することが好ましい。炭酸塩
のみで現像液のpHを9.0から10.5に設定しよう
とすると、現像液の安定性が損われ、ランニングにより
液活性の低下を招きやすい。従って炭酸塩としては好ま
しくは0.8モル/リットル未満、より好ましくは0.
5モル/リットル未満とし、炭酸水素塩を0.1モル/
リットル以上、さらに0.1モル/リットル以上1.5
モル/リットル以下とすることがより好ましい。本発明
においては、現像液中の炭酸水素塩濃度が0.1モル/
リットル以上、炭酸水素塩と炭酸塩の合計濃度が0.5
モル/リットル以上であり、かつpHが9.0〜10.
5であることが好ましい。
As the buffer used in the developer for developing the light-sensitive material in the present invention, carbonates,
Boric acid described in JP-A-286259;
(E.g., saccharose), oximes (e.g., acetoxime), phenols (e.g., 5-sulfosalicylic acid), tertiary phosphates (e.g., sodium salt, potassium salt), and the like, preferably carbonate, Boric acid is used. It is preferable that the carbonate is not used alone, but is used in combination with the bicarbonate. If it is attempted to set the pH of the developer from 9.0 to 10.5 using only carbonate, the stability of the developer is impaired, and the activity of the developer is likely to be reduced by running. Therefore, the carbonate is preferably less than 0.8 mol / l, more preferably 0.1 mol / l.
Less than 5 mol / liter, and 0.1 mol /
Liter or more, and more than 0.1 mol / liter and 1.5
More preferably, it is not more than mol / liter. In the present invention, the concentration of bicarbonate in the developer is 0.1 mol /
Liters or more, and the total concentration of bicarbonate and carbonate is 0.5
Mol / liter or more, and the pH is 9.0 to 10.
It is preferably 5.

【0182】本発明に用いられる保恒剤としては亜硫酸
ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸
アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリ
ウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがあ
る。亜硫酸塩の濃度としては好ましくは、0.01モル
/リットル以上0.2モル/リットル以下である。亜硫
酸の濃度が高いと感材から現像液への銀の溶出量が増
え、銀汚れの原因になるので好ましくない。また現像補
充液の補充量としては感光材料1m2につき300ml以
下、より好ましくは30ml以上250ml以下とするのが
良い。現像補充液は、現像開始液とpH以外同一の組成
を有していてもよいし、異なる組成を有していてもよ
い。
The preservatives used in the present invention include sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite, formaldehyde sodium bisulfite and the like. The concentration of the sulfite is preferably 0.01 mol / L or more and 0.2 mol / L or less. If the concentration of sulfurous acid is high, the amount of silver eluted from the light-sensitive material into the developing solution increases, which is undesirable because it causes silver staining. The replenishing amount of the developing replenisher is preferably 300 ml or less, more preferably 30 ml or more and 250 ml or less per m 2 of the photographic material. The development replenisher may have the same composition as the development starter except for the pH, or may have a different composition.

【0183】上記以外に用いられる添加剤としては、臭
化ナトリウム、臭化カリウムのような現像抑制剤、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミドのような有機溶剤、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアル
カノールアミン、イミダゾールまたはその誘導体等の現
像促進剤、ヘテロ環メルカプト化合物(たとえば3−
(5−メルカプトテトラゾール−1−イル)ベンゼンス
ルホン酸ナトリウム、1−フェニル−5−メルカプトテ
トラゾールなど)、特開昭62−212651に記載の
化合物を物理現像ムラ防止剤として添加することもでき
る。また、メルカプト系化合物、インダゾール系化合
物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール
系化合物をカブリ防止剤または黒ポツ(black pepper)防
止剤として含んでも良い。具体的には、5−ニトロイン
ダゾール、5−p−ニトロベンゾイルアミノインダゾー
ル、1−メチル−5−ニトロインダゾール、6−ニトロ
インダゾール、3−メチル−5−ニトロインダゾール、
5−ニトロベンゾイミダゾール、2−イソプロピル−5
−ニトロベンゾイミダゾール、5−ニトロベンゾトリア
ゾール、4−((2−メルカプト−1,3,4−チアジ
アゾール−2−イル)チオ)ブタンスルホン酸ナトリウ
ム、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−チ
オール、メチルベンゾトリアゾール、5−メチルベンゾ
トリアゾール、2−メルカプトベンゾトリアゾールなど
を挙げることができる。これらの添加剤の量は、通常現
像液1リットルあたり0.01〜10ミリモルであり、
より好ましくは0.1〜2ミリモルである。
Other additives to be used include development inhibitors such as sodium bromide and potassium bromide; organic solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol and dimethylformamide;
Development accelerators such as alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, imidazole and derivatives thereof, and heterocyclic mercapto compounds (for example, 3-
Sodium (5-mercaptotetrazol-1-yl) benzenesulfonate, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, etc.) and the compounds described in JP-A-62-212651 can also be added as physical development unevenness preventing agents. Further, a mercapto-based compound, an indazole-based compound, a benzotriazole-based compound, and a benzimidazole-based compound may be contained as an antifoggant or a black pepper (black pepper) inhibitor. Specifically, 5-nitroindazole, 5-p-nitrobenzoylaminoindazole, 1-methyl-5-nitroindazole, 6-nitroindazole, 3-methyl-5-nitroindazole,
5-nitrobenzimidazole, 2-isopropyl-5
-Nitrobenzimidazole, 5-nitrobenzotriazole, sodium 4-((2-mercapto-1,3,4-thiadiazol-2-yl) thio) butanesulfonate, 5-amino-1,3,4-thiadiazole- Examples thereof include 2-thiol, methylbenzotriazole, 5-methylbenzotriazole, and 2-mercaptobenzotriazole. The amounts of these additives are usually from 0.01 to 10 mmol per liter of developer,
More preferably, it is 0.1 to 2 mmol.

【0184】さらに本発明の現像液中には各種の有機、
無機のキレート剤を単独または併用で用いることができ
る。無機キレート剤としてはたとえば、テトラポリリン
酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどを用い
ることができる。一方、有機キレート剤としては、主に
有機カルボン酸、アミノポリカルボン酸、有機ホスホン
酸、アミノホスホン酸および有機ホスホノカルボン酸を
用いることができる。有機カルボン酸としてはたとえ
ば、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グル
タル酸、グルコン酸、アジピン酸、ピメリン酸、アシエ
ライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジ
カルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、イ
タコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸などを挙げるこ
とができる。
Further, various kinds of organic,
Inorganic chelating agents can be used alone or in combination. As the inorganic chelating agent, for example, sodium tetrapolyphosphate, sodium hexametaphosphate and the like can be used. On the other hand, as organic chelating agents, mainly organic carboxylic acids, aminopolycarboxylic acids, organic phosphonic acids, aminophosphonic acids and organic phosphonocarboxylic acids can be used. Examples of the organic carboxylic acid include acrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, gluconic acid, adipic acid, pimelic acid, acyelaic acid, sebacic acid, nonanedicarboxylic acid, decanedicarboxylic acid, undecanedicarboxylic acid, and maleic acid. Acids, itaconic acid, malic acid, citric acid, tartaric acid and the like can be mentioned.

【0185】アミノポリカルボン酸としてはたとえば、
アスパラギン酸二酢酸、イミノ二酢酸、ニトリロ三酢
酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチレンジアミンモノヒ
ドロキシエチル三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、グリ
コールエーテル四酢酸、1,2−ジアミノプロパン四酢
酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラ
ミン六酢酸、1,3−ジアミノ−2−プロパノール四酢
酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、その他特開昭
52−25632、同55−67747、同57−10
2624、および特公昭53−40900に記載の化合
物を挙げることができる。
As aminopolycarboxylic acids, for example,
Aspartic acid acetic acid, iminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, nitrilotripropionic acid, ethylenediaminemonohydroxyethyltriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, glycol ether tetraacetic acid, 1,2-diaminopropanetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetramine Hexacetic acid, 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid, glycol ether diaminetetraacetic acid, and others, JP-A-52-25632, JP-A-55-67747, and JP-A-57-10
2624, and compounds described in JP-B-53-40900.

【0186】有機ホスホン酸としては、たとえば米国特
許3214454、同3794591および西独特許公
開2227396等に記載のヒドロキシアルキリデン−
ジホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー第181
巻,Item 18170(1979年5月号)等に記載の
化合物が挙げられる。アミノホスホン酸としては、たと
えばアミノトリス(メチレンホスホン酸)、エチレンジ
アミンテトラメチレンホスホン酸、アミノトリメチレン
ホスホン酸等が挙げられるが、その他上記リサーチ・デ
ィスクロージャー18170、特開昭57−20855
4、同54−61125、同55−29883、同56
−97347等に記載の化合物を挙げることができる。
Examples of the organic phosphonic acid include hydroxyalkylidene compounds described in, for example, US Patents 3,214,454 and 3,794,591 and West German Patent Publication 2,227,396.
Diphosphonic acid and Research Disclosure No. 181
Vol., Item 18170 (May 1979) and the like. Examples of the aminophosphonic acid include aminotris (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid, aminotrimethylenephosphonic acid, and the like.
4, 54-61125, 55-29883, 56
-97347 and the like.

【0187】有機ホスホノカルボン酸としては、たとえ
ば特開昭52−102726、同53−42730、同
54−121127、同55−4024、同55−40
25、同55−126241、同55−65955、同
55−65956および前述のリサーチ・ディスクロー
ジャー18170等に記載の化合物を挙げることができ
る。
Examples of the organic phosphonocarboxylic acid include, for example, JP-A-52-102726, JP-A-53-42730, JP-A-54-211127, JP-A-55-4024 and JP-A-55-40.
25, 55-126241, 55-65555, 55-65556, and the compounds described in Research Disclosure 18170 described above.

【0188】これらの有機および/または無機のキレー
ト剤は、前述のものに限定されるものではない。また、
アルカリ金属塩やアンモニウム塩の形で使用しても良
い。これらのキレート剤の添加量としては、現像液1リ
ットルあたり好ましくは、1×10-4〜1×10-1
ル、より好ましくは1×10-3〜1×10-2モルであ
る。本発明における定着処理剤の定着剤としては、チオ
硫酸アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナト
リウムアンモニウムが使用できる。定着剤の使用量は適
宜かえることができるが、一般には約0.7〜約3.0
モル/リットルである。
These organic and / or inorganic chelating agents are not limited to those described above. Also,
It may be used in the form of an alkali metal salt or ammonium salt. The addition amount of these chelating agents is preferably 1 × 10 -4 to 1 × 10 -1 mol, more preferably 1 × 10 -3 to 1 × 10 -2 mol per liter of the developer. As the fixing agent of the fixing processing agent in the present invention, ammonium thiosulfate, sodium thiosulfate, and sodium ammonium thiosulfate can be used. The amount of the fixing agent to be used can be changed as appropriate, but is generally about 0.7 to about 3.0.
Mol / l.

【0189】本発明における定着液は、硬膜剤として作
用する水溶性アルミニウム塩、水溶性クロム塩を含んで
も良く、水溶性アルミニウム塩が好ましい。それにはた
とえば塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明
礬、硫酸アルミニウムアンモニウム、硝酸アルミニウ
ム、乳酸アルミニウムなどがある。これらは使用液にお
けるアルミニウムイオン濃度として、0.01〜0.1
5モル/リットルで含まれることが好ましい。なお、定
着液を濃縮液または固形剤として保存する場合、硬膜剤
などを別パートとした複数のパーツで構成しても良い
し、すべての成分を含む一剤型の構成としても良い。
The fixing solution in the present invention may contain a water-soluble aluminum salt or a water-soluble chromium salt acting as a hardener, and a water-soluble aluminum salt is preferred. Examples thereof include aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium alum, aluminum ammonium sulfate, aluminum nitrate, and aluminum lactate. These are 0.01 to 0.1 as an aluminum ion concentration in the working solution.
It is preferably contained at 5 mol / l. When the fixing solution is stored as a concentrated solution or a solid agent, the fixing solution may be composed of a plurality of parts including a hardening agent or the like as a separate part, or may be a one-part composition including all components.

【0190】定着処理剤には所望により保恒剤(たとえ
ば亜硫酸塩、重亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩などを0.0
15モル/リットル以上、好ましくは0.02モル/リ
ットル〜0.3モル/リットル)、pH緩衝剤(たとえ
ば酢酸、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム、リン酸、コハク酸、アジピン酸などを0.1
モル/リットル〜1モル/リットル、好ましくは0.2
モル/リットル〜0.7モル/リットル)、アルミニウ
ム安定化能や硬水軟化能のある化合物(たとえばグルコ
ン酸、イミノジ酢酸、5−スルホサリチル酸、グルコヘ
プタン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、シュウ酸、マ
レイン酸、グリコール酸、安息香酸、サリチル酸、タイ
ロン、アスコルビン酸、グルタル酸、アスパラギン酸、
グリシン、システイン、エチレンジアミン四酢酸、ニト
リロ三酢酸やこれらの誘導体およびこれらの塩、糖類、
ほう酸などを0.001モル/リットル〜0.5モル/
リットル、好ましくは0.005モル/リットル〜0.
3モル/リットル)を含むことができる。
If necessary, preservatives (for example, sulfites, bisulfites, metabisulfites, etc.)
15 mol / l or more, preferably 0.02 mol / l to 0.3 mol / l), pH buffer (for example, acetic acid, sodium acetate, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, phosphoric acid, succinic acid, adipic acid, etc.) 0.1
Mol / l to 1 mol / l, preferably 0.2
Mol / l to 0.7 mol / l), a compound having an aluminum stabilizing ability or a water softening ability (for example, gluconic acid, iminodiacetic acid, 5-sulfosalicylic acid, glucoheptanoic acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, oxalic acid) , Maleic acid, glycolic acid, benzoic acid, salicylic acid, tiron, ascorbic acid, glutaric acid, aspartic acid,
Glycine, cysteine, ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid and their derivatives and their salts, saccharides,
0.001 mol / l to 0.5 mol /
Liter, preferably 0.005 mol / l to 0.
3 mol / l).

【0191】このほか、特開昭62−78551に記載
の化合物、pH調整剤(たとえば水酸化ナトリウム、ア
ンモニア、硫酸など)、界面活性剤、湿潤剤、定着促進
剤等も含むことができる。界面活性剤としては、たとえ
ば硫酸化物、スルフォン酸化物などのアニオン界面活性
剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開昭57−6840
記載の両性界面活性剤が挙げられ、公知の消泡剤を使用
することもできる。湿潤剤としては、アルカノールアミ
ン、アルキレングリコール等がある。定着促進剤として
は、特開平6−308681に記載のアルキルおよびア
リル置換されたチオスルホン酸およびその塩や、特公昭
45−35754、同58−122535、同58−1
22536記載のチオ尿素誘導体、分子内に3重結合を
有するアルコール、米国特許4126459記載のチオ
エーテル化合物、特開昭64−4739、特開平1−4
739、同1−159645および同3−101728
に記載のメルカプト化合物、同4−170539に記載
のメソイオン化合物、チオシアン酸塩を含むことができ
る。
In addition, compounds described in JP-A-62-78551, pH adjusters (for example, sodium hydroxide, ammonia, sulfuric acid, etc.), surfactants, wetting agents, fixing accelerators and the like can be included. Examples of the surfactant include anionic surfactants such as sulfates and sulfone oxides, polyethylene surfactants, and JP-A-57-6840.
The amphoteric surfactants described above can be used, and known antifoaming agents can also be used. Examples of the wetting agent include alkanolamine and alkylene glycol. Examples of the fixing accelerator include alkyl- and allyl-substituted thiosulfonic acids and salts thereof described in JP-A-6-308681, JP-B-45-35754, JP-B-58-122535, and JP-B-58-1.
22536, thiourea derivatives, alcohols having a triple bond in the molecule, thioether compounds described in U.S. Pat.
739, 1-159645 and 3-101728
And the mesoionic compound and thiocyanate described in 4-1-170539.

【0192】本発明における定着液のpHは、4.0以
上、好ましくは4.5〜6.0を有する。定着液の補充
量は、感光材料1m2につき500ミリリットル以下であ
り、390ミリリットル以下が好ましく、320〜30
ミリリットルがより好ましい。補充液は、開始液と同一
の組成および/または濃度を有していても良いし、開始
液と異なる組成および/または濃度を有していても良
い。定着液は電解銀回収などの公知の定着液再生方法に
より再生使用することができる。再生装置としては、た
とえばフジハント社製 Reclaim R−60などがある。
The fixing solution of the present invention has a pH of 4.0 or more, preferably 4.5 to 6.0. The replenishment rate of the fixing solution is 500 ml or less, preferably 390 ml or less, per 1 m 2 of the photosensitive material, and 320 to 30 ml.
Milliliters are more preferred. The replenisher may have the same composition and / or concentration as the starting solution, or may have a different composition and / or concentration than the starting solution. The fixing solution can be reused by a known fixing solution regenerating method such as recovery of electrolytic silver. As a reproducing apparatus, for example, there is Reclaim R-60 manufactured by Fuji Hunt.

【0193】本発明に用いられる現像および定着処理剤
は液形態で保存する場合、たとえば特開昭61−731
47に記載されたような、酸素透過性の低い包材で保管
する事が好ましい。さらにこれらの液は濃縮液として供
給される場合、使用に際して所定の濃度になるように水
で希釈され、濃縮液1部に対して水0.2〜3部の割合
で希釈される。本発明における現像処理剤及び定着処理
剤は固形にしても液剤同様の結果が得られるが、以下に
固形処理剤に関する記述を行う。
When the developing and fixing processing agents used in the present invention are stored in a liquid form, for example, JP-A-61-731
47, it is preferable to store in a packaging material having low oxygen permeability. Furthermore, when these liquids are supplied as a concentrated liquid, they are diluted with water to a predetermined concentration at the time of use, and are diluted at a ratio of 0.2 to 3 parts of water to 1 part of the concentrated liquid. Even if the developing agent and the fixing agent in the present invention are solid, the same result as that of the liquid agent can be obtained. However, the solid agent will be described below.

【0194】本発明における固形処理剤は、公知の形態
(粉状、粒状、顆粒状、塊状、錠剤、コンパクター、ブ
リケット、板状、解砕品、棒状、ペースト状など)が使
用できる。これらの固形剤は、接触して互いに反応する
成分を分離するために、成分を水溶性のコーティング剤
やコーティングフィルムでコーティングしても良いし、
複数の層構成にして互いに反応する成分を分離しても良
く、これらを併用しても良い。
The solid processing agent in the present invention may be in a known form (powder, granule, granule, block, tablet, compactor, briquette, plate, crushed product, rod, paste, etc.). These solid agents may be coated with a water-soluble coating agent or coating film to separate components that react with each other upon contact,
Components that react with each other may be separated into a plurality of layers, or they may be used in combination.

【0195】コーティングには公知のものが使用できる
が、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、
ポリスチレンスルホン酸や、ビニル系化合物が好まし
い。このほか、ゼラチン、ペクチン、ポリアクリル酸、
ポリビニルアルコール、ビニルアセテート共重合体、ポ
リエチレンオキサイド、カルボキシメチルセルロースナ
トリウム、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセル
ロース、エチルセルロース、アルギン酸、キタン酸ガ
ム、アラビアガム、トラガカントガム、カラヤガム、カ
ラギナン、メチルビニルエーテル、無水マレイン酸共重
合体、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオ
キシエチレンエチルエーテル等のポリオキシエチレンア
ルキルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェノー
ルエーテルやポリオキシエチレンノニルフェノールエー
テル等のポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテ
ルあるいは特願平2−203165記載の水溶性バイン
ダーの中から選ばれる1種あるいは2種以上を組み合わ
せて用いることができる。これらは造粒助剤として使用
することもできる。
Known coatings can be used, but polyvinylpyrrolidone, polyethylene glycol,
Polystyrene sulfonic acid and vinyl compounds are preferred. In addition, gelatin, pectin, polyacrylic acid,
Polyvinyl alcohol, vinyl acetate copolymer, polyethylene oxide, sodium carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, ethylcellulose, alginic acid, chitanic acid gum, gum arabic, tragacanth gum, karaya gum, carrageenan, methyl vinyl ether, maleic anhydride copolymer, poly Polyoxyethylene alkyl ethers such as oxyethylene stearyl ether and polyoxyethylene ethyl ether; polyoxyethylene alkyl phenol ethers such as polyoxyethylene octyl phenol ether and polyoxyethylene nonyl phenol ether; and water-soluble binders described in Japanese Patent Application No. 2-203165. Can be used alone or in combination of two or more. That. These can also be used as granulation aids.

【0196】複数の層構成にする場合は、接触しても反
応しない成分を互いに反応する成分の間にはさんだ構成
にして錠剤やブリケット等に加工しても良いし、公知の
形態の成分を同様の層構成にして包装しても良い。これ
らの方法としては、たとえば特開昭61−25992
1、特開平4−15641、同4−16841、同4−
32837、同4−78848、同5−93991等に
示されている。固形処理剤の嵩密度は、0.5〜6.0
g/cm3 が好ましく、特に錠剤は1.0〜5.0g/cm
3 が好ましく、顆粒は0.5〜1.5g/cm3 が好まし
い。本発明における固形処理剤の製法は、公知のいずれ
の方法を用いることができる。たとえば包装方法として
は、特開昭61−259921、特開平4−1684
1、同4−78848に記載の方法を使用することがで
きる。また固形化の方法としては、特開平4−8553
3、同4−85534、同4−85535、同5−13
4362、同5−197070、同5−204098、
同5−224361、同6−138604、同6−13
8605、特願平7−89123等に記載の方法を使用
することができる。
In the case of forming a plurality of layers, components which do not react even if they come into contact with each other may be sandwiched between components which react with each other, and processed into tablets or briquettes. It may be packaged in a similar layer configuration. These methods are described, for example, in JP-A-61-25992.
1, JP-A-4-15641, 4-16841, 4-
32837, 4-78848 and 5-93991. The bulk density of the solid processing agent is 0.5 to 6.0.
g / cm 3 is preferable, and particularly, a tablet is 1.0 to 5.0 g / cm 3.
3 is preferred, granules preferably 0.5 to 1.5 g / cm 3. As a method for producing the solid processing agent in the present invention, any known method can be used. For example, as a packaging method, JP-A-61-259921, JP-A-4-1684
1, the method described in 4-78848 can be used. As a method for solidification, JP-A-4-8553
3, 4-85534, 4-85535, 5-13
4362, 5-197070, 5-204098,
5-224361, 6-138604, 6-13
8605 and Japanese Patent Application No. 7-89123 can be used.

【0197】より具体的には転動造粒法、押し出し造粒
法、圧縮造粒法、解砕造粒法、攪拌造粒法、スプレード
ライ法、溶解凝固法、ブリケッティング法、ローラーコ
ンパクティング法等を用いることができる。本発明に適
する造粒物の粒度、形状については望まれる特性によっ
て異なるが、一般的に写真処理剤に望まれる溶解性と調
液後の廃包材中の残存粉体量あるいは輸送時の振動によ
る造粒物の破壊に対する耐久性を考慮すると、顆粒状の
場合は球換算粒径が0.5〜50mm程度、好ましくは1
〜15mm程度であり、その形状は円筒状、球状、立方
体、直方体等で、より好ましくは球状あるいは円筒状で
ある。ローラーコンパクティング加工したものは解砕し
てもよく、さらにふるいにかけて、2mm〜1cm程度の径
にしても良い。ブリケット、錠剤状の場合も同様に望ま
れる特性により粒度、形状は異なるが、2mm〜5cm程度
の径が好ましく、その形状は円筒状、球状、立方体、直
方体等で、より好ましくは球状あるいは円筒状である。
また溶解性を向上させたい場合は、厚みを下げた板状の
もの、さらにその中央部の厚みをさらに下げたもの、中
空状のドーナツ型のものなども有用である。逆に溶解を
緩慢に行う目的でさらに径や厚みを大きくしても良く、
任意に調整できる。また、溶解度をコントロールするた
めに表面状態(平滑、多孔質等)を変えても良い。さら
に、複数の造粒物に異なった溶解性を与えたり、溶解性
の異なる素材の溶解度を合わせるために、複数の形状を
とることも可能である。また、表面と内部で組成の異な
る多層の造粒物でも良い。
More specifically, tumbling granulation, extrusion granulation, compression granulation, crushing granulation, stirring granulation, spray drying, melt solidification, briquetting, roller compaction Ing method or the like can be used. The particle size and shape of the granulated material suitable for the present invention vary depending on the desired properties, but generally the solubility desired for the photographic processing agent and the amount of residual powder in the waste packaging material after preparation or vibration during transportation. In consideration of the durability against the destruction of the granulated material by the method, in the case of granules, the spherical equivalent particle size is about 0.5 to 50 mm, preferably 1 to 50 mm.
The shape is cylindrical, spherical, cubic, rectangular, or the like, and more preferably spherical or cylindrical. The roller compacted product may be crushed or sieved to a diameter of about 2 mm to 1 cm. In the case of briquettes and tablets, the particle size and shape also differ depending on the desired properties, but a diameter of about 2 mm to 5 cm is preferable, and the shape is cylindrical, spherical, cubic, rectangular, etc., and more preferably spherical or cylindrical. It is.
When the solubility is desired to be improved, a plate having a reduced thickness, a plate having a further reduced center portion, a hollow donut, and the like are also useful. Conversely, the diameter and thickness may be further increased for the purpose of slowly dissolving,
It can be adjusted arbitrarily. Further, the surface state (smooth, porous, etc.) may be changed in order to control the solubility. Further, a plurality of granules can be formed in a plurality of shapes in order to impart different solubilities to the plurality of granules or match the solubilities of materials having different solubilities. Also, multilayer granulated materials having different compositions on the surface and inside may be used.

【0198】固形処理剤の包材としては、酸素および水
分透過性の低い材質のものが好ましく、包材の形状は袋
状、筒状、箱状などの公知のものが使用できる。また、
特開平6−242585〜同6−242588、同6−
247432、同6−247448、特願平5−306
64、特開平7−5664、同7−5666〜同7−5
669に開示されているような折り畳み可能な形状にす
ることも、廃包材の保管スペース削減のためには好まし
い。これらの包材は、処理剤の取り出し口にスクリュー
キャップや、プルトップ、アルミシールをつけたり、包
材をヒートシールしてもよいが、このほかの公知のもの
を使用しても良く、これらに限定はしない。また、廃包
材をリサイクルまたはリユースすることは、環境保全上
好ましい。
The packaging material for the solid processing agent is preferably a material having low oxygen and moisture permeability, and the packaging material may be a known one such as a bag, a tube, or a box. Also,
JP-A-6-242555-JP-A 6-242588, JP-A-6-242588
247432, 6-247448, Japanese Patent Application No. 5-306
64, JP-A-7-5664, 7-5666 to 7-5
It is also preferable to use a foldable shape as disclosed in US Pat. For these packaging materials, a screw cap, a pull-top, an aluminum seal may be attached to the outlet of the treatment agent, or the packaging material may be heat-sealed, but other known materials may be used, and these materials are limited to these. Do not. In addition, recycling or reusing the waste packaging material is preferable in terms of environmental conservation.

【0199】本発明の固形処理剤の溶解および補充の方
法としては特に限定はなく、公知の方法を使用すること
ができる。これらの方法としてはたとえば、攪拌機能を
有する溶解装置で一定量を溶解し補充する方法、特願平
7−235499に記載されているような溶解部分と完
成液をストックする部分とを有する溶解装置で溶解し、
ストック部から補充する方法、特開平5−11945
4、同6−19102、同7−261357に記載され
ているような自動現像機の循環系に処理剤を投入して溶
解・補充する方法、溶解槽を内蔵する自動現像機で感光
材料の処理に応じて処理剤を投入し溶解する方法などが
あるが、このほかの公知のいずれの方法を用いることも
できる。また処理剤の投入は、人手で開封して投入して
も良いし、特願平7−235498に記載されているよ
うな開封機構を有する溶解装置や自動現像機で自動開
封、自動投入してもよく、作業環境の点からは後者が好
ましい。具体的には取り出し口を突き破る方法、はがす
方法、切り取る方法、押し切る方法や、特開平6−19
102、同6−95331に記載の方法などがある。
The method for dissolving and replenishing the solid processing agent of the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. These methods include, for example, a method of dissolving and replenishing a fixed amount with a dissolving device having a stirring function, and a dissolving device having a dissolving portion and a portion for storing a completed solution as described in Japanese Patent Application No. 7-235499. Dissolve in
Replenishment method from stock section,
4, a method for introducing and dissolving and replenishing a processing agent into a circulating system of an automatic developing machine as described in 6-19102 and 7-261357, and processing a photosensitive material with an automatic developing machine having a dissolving tank built therein. There is a method of adding and dissolving the treating agent according to the method, but any other known method can be used. In addition, the processing agent may be manually opened and charged, or may be automatically opened and automatically loaded by a dissolution apparatus or an automatic developing machine having an opening mechanism as described in Japanese Patent Application No. 7-235498. The latter is preferable from the viewpoint of the working environment. More specifically, a method of piercing the take-out port, a peeling method, a cutting method, a pushing method, and a method described in JP-A-6-19
102, 6-95331.

【0200】現像、定着処理が済んだ感光材料は、つい
で水洗または安定化処理される(以下特に断らない限
り、安定化処理を含めて水洗といい、これらに使用する
液を、水または水洗水という。)。水洗に使用される水
は、水道水でもイオン交換水でも蒸留水でも安定化液で
もよい。これらの補充量は、一般的には感光材料1m2
たり約17リットル〜約8リットルであるが、それ以下
の補充量で行うこともできる。特に3リットル以下の補
充量(0も含む。すなわち、ため水水洗)では、節水処
理が可能となるのみならず、自動現像機設置の配管を不
要とすることもできる。水洗を低補充量で行う場合は、
特開昭63−18350、同62−287252等に記
載のスクイズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄
槽を設けることがより好ましい。また、少量水洗時に問
題となる公害負荷低減や、水垢防止のために種々の酸化
剤(たとえばオゾン、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウ
ム、活性ハロゲン、二酸化塩素、炭酸ナトリウム過酸化
水素塩など)添加やフィルター濾過を組み合わせても良
い。水洗の補充量を少なくする方法として、古くより多
段向流方式(たとえば2段、3段等)が知られており、
水洗補充量は感光材料1m2あたり200〜50ミリリッ
トルが好ましい。この効果は、独立多段方式(向流にせ
ず、多段の水洗槽に個別に新液を補充する方法)でも同
様に得られる。
The photosensitive material which has been subjected to the development and fixing processing is then washed or stabilized (hereinafter, unless otherwise specified, this is referred to as washing including the stabilization processing, and the liquid used for these is water or washing water. .) Water used for washing may be tap water, ion-exchanged water, distilled water, or a stabilizing solution. The replenishment amount is generally about 17 liters to about 8 liters per 1 m 2 of the light-sensitive material, but the replenishment amount can be smaller. In particular, when the replenishment amount is 3 liters or less (including 0, that is, washing with water), not only water saving processing can be performed, but also piping for installing an automatic developing machine can be eliminated. If washing with a low replenishment volume,
It is more preferable to provide a washing tank for squeeze rollers and crossover rollers described in JP-A-63-18350 and JP-A-62-287252. Various oxidizing agents (for example, ozone, hydrogen peroxide, sodium hypochlorite, active halogen, chlorine dioxide, sodium carbonate hydrogen peroxide, etc.) to reduce pollution load and prevent water scale, which are problems when washing with a small amount of water. You may combine addition and filter filtration. As a method for reducing the replenishing amount of washing, a multi-stage countercurrent method (for example, two-stage, three-stage, etc.) has been known for a long time.
The replenishing amount of washing with water is preferably 200 to 50 ml per 1 m 2 of the light-sensitive material. This effect can be similarly obtained by an independent multi-stage system (a method in which a new solution is individually replenished in a multi-stage washing tank without using countercurrent).

【0201】さらに、本発明の方法で水洗工程に水垢防
止手段を施しても良い。水垢防止手段としては公知のも
のを使用することができ、特に限定はしないが、防ばい
剤(いわゆる水垢防止剤)を添加する方法、通電する方
法、紫外線または赤外線や遠赤外線を照射する方法、磁
場をかける方法、超音波処理する方法、熱をかける方
法、未使用時にタンクを空にする方法などがある。これ
らの水垢防止手段は、感光材料の処理に応じてなされて
も良いし、使用状況に関係なく一定間隔で行われても良
いし、夜間など処理の行われない期間のみ施しても良
い。またあらかじめ水洗水に施しておいて、これを補充
しても良い。さらには、一定期間ごとに異なる水垢防止
手段を行うことも、耐性菌の発生を抑える上では好まし
い。防ばい剤としては特に限定はなく公知のものが使用
できる。前述の酸化剤の他たとえばグルタルアルデヒ
ド、アミノポリカルボン酸等のキレート剤、カチオン性
界面活性剤、メルカプトピリジンオキシド(たとえば2
−メルカプトピリジン−N−オキシドなど)などがあ
り、単独使用でも複数の併用でも良い。通電する方法と
しては、特開平3−224685、同3−22468
7、同4−16280、同4−18980などに記載の
方法が使用できる。
Furthermore, in the method of the present invention, a rinsing step may be provided in the washing step. As the scale prevention means, known means can be used, and there is no particular limitation. There are a method of applying a magnetic field, a method of sonication, a method of applying heat, and a method of emptying the tank when not in use. These scale prevention means may be performed in accordance with the processing of the photosensitive material, may be performed at regular intervals irrespective of the use condition, or may be performed only during a period during which processing is not performed, such as at night. It may be applied to washing water in advance and replenished. Further, it is also preferable to perform different scale prevention means every certain period in order to suppress the generation of resistant bacteria. The protective agent is not particularly limited, and known agents can be used. In addition to the oxidizing agents described above, chelating agents such as glutaraldehyde and aminopolycarboxylic acid, cationic surfactants, mercaptopyridine oxide (for example,
-Mercaptopyridine-N-oxide, etc.) and may be used alone or in combination of two or more. As a method for energizing, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
7, 4-16280, 4-18980 and the like.

【0202】このほか、水泡ムラ防止や汚れ転写防止の
ために、公知の水溶性界面活性剤や消泡剤を添加しても
良い。また、感光材料から溶出した染料による汚染防止
に、特開昭63−163456に記載の色素吸着剤を水
洗系に設置しても良い。水洗工程からのオーバーフロー
液の一部または全部は、特開昭60−235133に記
載されているように、定着能を有する処理液に混合利用
することもできる。また微生物処理(たとえば硫黄酸化
菌、活性汚泥処理や微生物を活性炭やセラミック等の多
孔質担体に担持させたフィルターによる処理等)や、通
電や酸化剤による酸化処理をして、生物化学的酸素要求
量(BOD)、化学的酸素要求量(COD)、沃素消費
量等を低減してから排水したり、銀と親和性のあるポリ
マーを用いたフィルターやトリメルカプトトリアジン等
の難溶性銀錯体を形成する化合物を添加して銀を沈降さ
せてフィルター濾過するなどし、排水中の銀濃度を低下
させることも、自然環境保全の観点から好ましい。
In addition, known water-soluble surfactants and defoamers may be added to prevent unevenness of water bubbles and transfer of dirt. Further, a dye adsorbent described in JP-A-63-163456 may be provided in the washing system to prevent contamination by the dye eluted from the photosensitive material. A part or all of the overflow solution from the washing step can be mixed and used with a processing solution having a fixing ability, as described in JP-A-60-235133. In addition, microbial treatment (for example, sulfur oxidizing bacteria, activated sludge treatment, treatment with a filter in which microorganisms are supported on a porous carrier such as activated carbon or ceramic), or oxidation treatment with an electric current or an oxidizing agent is carried out to obtain a biochemical oxygen demand. Water (BOD), chemical oxygen demand (COD), iodine consumption, etc. before draining or forming a filter using a polymer having affinity for silver or forming a sparingly soluble silver complex such as trimercaptotriazine It is also preferable from the viewpoint of preserving the natural environment to lower the silver concentration in the wastewater by adding a compound to the mixture to precipitate silver and filtering the precipitate by a filter.

【0203】また、水洗処理に続いて安定化処理する場
合もあり、その例として特開平2−201357、同2
−132435、同1−102553、特開昭46−4
4446に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終
浴として使用しても良い。この安定浴にも必要に応じて
アンモニウム化合物、Bi、Al等の金属化合物、蛍光
増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜剤、殺菌
剤、防ばい剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加え
ることもできる。水洗、安定化浴に添加する防ばい剤等
の添加剤および安定化剤は、前述の現像、定着処理剤同
様に固形剤とすることもできる。本発明に使用する現像
液、定着液、水洗水、安定化液の廃液は焼却処分するこ
とが好ましい。また、これらの廃液はたとえば特公平7
−83867、US5439560等に記載されている
ような濃縮装置で濃縮液化または固化させてから処分す
ることも可能である。
In some cases, a stabilization treatment may be performed after the water washing treatment.
JP-A-132435, JP-A-1-102553, JP-A-46-4
A bath containing the compound described in 4446 may be used as the final bath of the light-sensitive material. If necessary, this stabilizing bath may also contain a metal compound such as an ammonium compound, Bi, or Al, a fluorescent brightener, various chelating agents, a film pH regulator, a hardening agent, a bactericide, a deterrent, an alkanolamine or a surfactant. Agents can also be added. Additives such as deodorants and stabilizers to be added to the washing and stabilizing baths may be solid agents as in the case of the above-mentioned developing and fixing processing agents. It is preferable that the waste liquid of the developing solution, fixing solution, washing water and stabilizing solution used in the present invention is incinerated. These waste liquids are, for example,
-83867, US Pat. No. 5,439,560, etc. It is also possible to condense or solidify with a concentrating device and then dispose.

【0204】処理剤の補充量を低減する場合には、処理
槽の開口面積を小さくして液の蒸発、空気酸化を防止す
ることが好ましい。ローラー搬送型の自動現像機につい
ては米国特許3025779、同3545971などに
記載されており、本明細書においては単にローラー搬送
型自動現像機として言及する。この自現機は現像、定
着、水洗および乾燥の四工程からなっており、本発明の
方法も、他の工程(たとえば停止工程)を除外しない
が、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。さらに、
現像定着間および/または定着水洗間にリンス浴を設け
ても良い。
To reduce the replenishing amount of the processing agent, it is preferable to reduce the opening area of the processing tank to prevent the evaporation of the liquid and the oxidation of the air. Roller transport type automatic developing machines are described in U.S. Pat. Nos. 3,025,779 and 3,545,971 and the like, and are simply referred to as roller transport type automatic developing machines in this specification. This self-developing machine comprises four steps of development, fixing, washing and drying, and the method of the present invention does not exclude other steps (for example, a stop step), but most preferably follows these four steps. further,
A rinsing bath may be provided between development and fixing and / or between fixing and washing with water.

【0205】本発明の現像処理では、 Dry to Dry で2
5〜90秒が好ましく、現像および定着時間が30秒以
下、好ましくは6〜20秒、各液の温度は25〜50℃
が好ましく、30〜40℃がより好ましい。水洗の温度
および時間は0〜50℃で40秒以下が好ましい。本発
明の方法によれば、現像、定着および水洗された感光材
料は水洗水を絞りきる、すなわちスクイズローラーを経
て乾燥しても良い。乾燥は約40〜約100℃で行わ
れ、乾燥時間は周囲の状態によって適宜かえられる。乾
燥方法は公知のいずれの方法も用いることができ特に限
定はないが、温風乾燥や、特開平4−15534、同5
−2256、同5−289294に開示されているよう
なヒートローラー乾燥、遠赤外線による乾燥などがあ
り、複数の方法を併用しても良い。
In the development processing of the present invention, dry to dry
The development and fixing time is preferably 30 seconds or less, preferably 6 to 20 seconds, and the temperature of each liquid is 25 to 50 ° C.
Is preferable, and 30 to 40 ° C. is more preferable. The washing temperature and time are preferably 0 to 50 ° C. and 40 seconds or less. According to the method of the present invention, the photosensitive material which has been developed, fixed and washed with water may be squeezed with washing water, that is, dried through a squeeze roller. Drying is performed at about 40 to about 100 ° C., and the drying time can be appropriately changed depending on the surrounding conditions. Any known drying method can be used, and there is no particular limitation.
Heat roller drying, drying by far infrared rays, and the like as disclosed in JP-A-2256 and 5-289294, and a plurality of methods may be used in combination.

【0206】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
箇所に記載されたものを好ましく用いることができる。 項 目 該 当 箇 所 1)ハロゲン化銀乳剤と 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12行 その製法 目から同第21頁左下欄14行目及び特開平2−1 2236号公報第7頁右上欄19行目から同第8頁 左下欄12行目、特開平4−330430号、特開 平5−11389号。 2)分光増感色素 特開平2−55349号公報第7頁左上欄8行目か ら同第8頁右下欄8行目、同2−39042号公報 第7頁右下欄8行目から第13頁右下欄5行目。特 開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目か ら同右下欄4行目、同2−103536号公報第1 6頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目、 さらに特開平1−112235号、同2−1245 60号、同3−7928号、特開平5−11389 号、特開平4−330434号。 3)造核促進剤 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行 目から同第16頁左上欄10行目の一般式(II−m )ないし(II−p)及び化合物例II−1ないしII− 22、特開平1−179939号公報に記載の化合 物。
There are no particular restrictions on the various additives and the like used in the light-sensitive material of the present invention, and for example, those described in the corresponding places shown below can be preferably used. Item 1) Silver halide emulsion and page 12, lower right column, line 12 in JP-A-2-97937, page 14 and lower left column, line 14 in JP-A-2-97937, and from JP-A-2-2236. From page 19, upper right column, line 19 to page 8, lower left column, line 12, JP-A-4-330430 and JP-A-5-11389. 2) Spectral sensitizing dyes JP-A-2-55349, page 7, upper left column, line 8 to page 8, lower right column, line 8; JP-A-2-39042, page 7, lower right column, line 8, Page 13, lower right column, 5th line. JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to lower right column, JP-A-2-103536, page 16 lower right column, line 3 to page 17, lower left column, line 20 And JP-A-1-112235, JP-A-2-124560, JP-A-3-7928, JP-A-5-11389, and JP-A-4-330434. 3) Nucleation accelerator JP-A-2-103536, page 9, upper right column, line 13 to page 16, upper left column, line 10, general formulas (II-m) to (II-p) and compound examples II- 1 to II-22, compounds described in JP-A-1-179939.

【0207】 4)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か ら同右下欄7行目。 5)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行 目から同第19頁左上欄1行目、及び同2−553 49号公報第8頁右下欄13行目から同第11頁左 上欄8行目。 6)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19 行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行 目から5行目、さらに特開平1−237538号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 7)ポリヒドロキシ 特開平2−55349号公報第11頁左上欄9頁か ベンゼン類 ら同右下欄17行目。 8) 滑り剤、可塑剤 特開平2−103536号公報第19頁右上欄6行 目から同第19頁右上欄15行目。 9) 硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行 目から同17行目。4) Surfactant From page 7, upper right column, line 7 to lower right column, line 7 of JP-A-2-12236. 5) Compound having an acid group JP-A-2-103536, page 18, lower right column, line 6 to page 19, upper left column, line 1, and JP-A-2-55349, page 8, lower right column, line 13 From the eye, page 11, line 8 in the upper left column. 6) Antifoggants JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19 to page 18, upper right column, line 4 and lower right column, lines 1 to 5, and JP-A-1-237538. Thiosulfinic acid compounds described in the official bulletin. 7) Polyhydroxyl JP-A-2-55349, page 11, upper left column, page 9 or benzenes, right lower column, line 17; 8) Slip agent, plasticizer From page 6, upper right column, line 6 to page 19, upper right column, line 15 of JP-A-2-103536. 9) Hardener JP-A-2-103536, page 18, line 5 to line 17, upper right column.

【0208】 10) 染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行 目から同18行目、同2−39042号公報第4頁 右上欄1行目から第6頁右上欄5行目、同2−29 4638号公報及び特開平5−11382号に記載 の固体染料。 11) テトラゾリウム化合 特開平2−39143号公報第4頁左下欄8行目か 物 ら第6頁左下欄6行目、特開平3−123346号 公報第3頁右上欄19行目から第5頁左上欄20行 目。 12) 黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号及び特開平1−118 832号公報に記載の化合物。 13) レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表 される化合物(特に化合物例1ないし50)、同3 −174143号公報第3頁ないし第20頁に記載 の一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)、化 合物例1ないし75、さらに特開平5−25723 9号、特開平4−278939号に記載の化合物。 14) モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化 合物(特に化合物例II−1ないしII−26)。 15) コロイド状シリカ 特開平4−214551号段落記号「0005」記 載の化合物。 16) マット剤 特開平2−103536号公報19頁左上欄15行 目から右上欄6行目。 特開平3−109542号公報2頁左下欄8行目か ら3頁右上欄4行目。 特開平4−127142号公報3頁右上欄7行目 から5頁右下欄4行目。 特開平6−118542号段落番号「0005」か ら「0026」。 17) 帯電防止 米国特許4,999,276号記載の導電性化合物 及びフッ素系界面活性剤。10) Dyes JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 1 to line 18, JP-A-2-39042, page 4, upper right column, line 1 to page 6, upper right column, line 5 And solid dyes described in JP-A-2-294638 and JP-A-5-11382. 11) Tetrazolium compound JP-A-2-39143, page 4, lower left column, line 8 to page 6, lower left column, line 6, JP-A-3-123346, page 3, upper right column, line 19 to page 5 Line 20 in the upper left column. 12) Black spot inhibitors Compounds described in U.S. Pat. No. 4,956,257 and JP-A-1-118832. 13) Redox compound The compound represented by formula (I) of JP-A-2-301743 (especially, compound examples 1 to 50), and the compound represented by the general formula (3) of JP-A-3-174143, pp. 3 to 20: (R-1), (R-2), (R-3), Compound Examples 1 to 75, and compounds described in JP-A-5-257239 and JP-A-4-278939. 14) Monomethine compounds Compounds of the general formula (II) described in JP-A-2-287532 (especially compound examples II-1 to II-26). 15) Colloidal silica A compound described in paragraph [0005] of JP-A-4-214551. 16) Matting agent JP-A-2-103536, page 19, upper left column, line 15 to upper right column, line 6. JP-A-3-109542, page 2, lower left column, line 8 to page 3, upper right column, line 4. JP-A-4-127142, page 3, upper right column, line 7 to page 5, lower right column, line 4. JP-A-6-118542, paragraph numbers "0005" to "0026". 17) Antistatic A conductive compound described in U.S. Pat. No. 4,999,276 and a fluorinated surfactant.

【0209】[0209]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。 実施例1 <ハロゲン化銀写真感光材料の作成> 乳剤調製 以下の方法で乳剤Aを調製した。 〔乳剤A〕硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリ
ウムと銀1モルあたり3.5×10-7モルに相当するK
3 IrCl6 と2.0×10-7モルに相当するK2 Rh
(H2 O)Cl5 を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリ
ウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオン
を含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェ
ット法により添加し、平均粒子サイズ0.25μm、塩
化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を調製した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. Example 1 <Preparation of silver halide photographic light-sensitive material> Emulsion preparation Emulsion A was prepared by the following method. [Emulsion A] An aqueous solution of silver nitrate, potassium bromide, sodium chloride and K corresponding to 3.5 × 10 -7 mol per mol of silver.
3 IrCl 6 and K 2 Rh equivalent to 2.0 × 10 -7 mol
A halogen salt aqueous solution containing (H 2 O) Cl 5 , sodium chloride, and a gelatin aqueous solution containing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinthione were added by stirring by a double jet method to give an average particle size of 0.25 μm. Silver chlorobromide grains having a silver chloride content of 70 mol% were prepared.

【0210】その後、常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた後、p
H6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当たり2mg
のチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸を加えて6
0℃で最適感度になるように化学増感した。その後、安
定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3,
a,7−テトラザインデン150mgを加え、さらに防腐
剤として化合物(a)100mgを加えた。得られた粒子
はそれぞれ平均粒子サイズ0.25μm、塩化銀含有率
70モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数
10%)
Thereafter, the resultant was washed with water by a flocculation method according to a conventional method, 40 g of gelatin was added per 1 mol of silver, and 7 mg of sodium benzenethiosulfonate and 2 mg of benzenesulfinic acid were added per 1 mol of silver.
H6.0, adjusted to pAg7.5, 2 mg per mole of silver
Of sodium thiosulfate and 4 mg of chloroauric acid
Chemical sensitization was carried out at 0 ° C. to obtain the optimum sensitivity. Then, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3, as a stabilizer
150 mg of a, 7-tetrazaindene was added, and 100 mg of compound (a) was further added as a preservative. The obtained particles were silver chlorobromide cubic particles each having an average particle size of 0.25 μm and a silver chloride content of 70 mol%. (Coefficient of variation 10%)

【0211】[0211]

【化55】 Embedded image

【0212】塗布試料の作成 塩化ビニリデンを含む防湿層下塗りを有するポリエチレ
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、UL層、EM層、PC層、OC層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。以下に各層の調製法およ
び塗布量を示す。 (UL層)ゼラチン0.5g/m2になるように塗布し
た。
Preparation of Coated Sample A polyethylene terephthalate film support having a moisture-proof layer undercoat containing vinylidene chloride was placed on a support from the support side.
Samples were prepared by applying the layers sequentially to form a UL layer, an EM layer, a PC layer, and an OC layer. The preparation method and application amount of each layer are shown below. (UL layer) Gelatin was coated at 0.5 g / m 2 .

【0213】(EM層)上記乳剤Aに、増感色素として
下記化合物(S−1)を銀1モルあたり5×10-4
ル、(S−2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モル
あたり3×10-4モルの下記(b)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(c)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(d)で示されるトリアジ
ン化合物、2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキ
シキノリン、下記化合物(e)を5×10-4モル、造核
促進剤として下記比較化合物および表−10記載の化合
物を5×10-4モルを添加した。さらに、ハイドロキノ
ン100mg、N−オレイル−N−メチルタウリンナトリ
ウム塩を30mg/m2塗布されるように添加した。次に表
10に示すヒドラジン誘導体を0.8×10-5 mol/
m2、(f)で示されるポリマーラテックスを200mg/
m2、平均粒径0.02μmのコロイダルシリカ(日産化
学〔株〕製スノーテックスC)を200mg/m2、さらに
硬膜剤として1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトア
ミド)エタンを200mg/m2を加えた。溶液のpHは酢
酸を用いて5.65に調製した。それらを塗布銀量2.
5g/m2、ゼラチン0.8g/m2になるように塗布し
た。
[0213] in (EM layer) above emulsions A, the following compound as a sensitizing dye (S-1) per mole of silver 5 × 10 -4 mol, the 5 × 10 -4 mol was added (S-2), further 3 × 10 −4 mol of mercapto compound represented by the following (b) per mol of silver, 4 × 10 −4 mol of mercapto compound represented by (c), and 4 × 10 −4 mol of (d) Triazine compound, 2 × 10 −3 mol of 5-chloro-8-hydroxyquinoline, 5 × 10 −4 mol of the following compound (e), 5 × 10 −4 mol of a nucleation promoting agent and a comparative compound shown below and a compound shown in Table 10 as 5 × 10 -4 mol was added. Further, 100 mg of hydroquinone and sodium salt of N-oleyl-N-methyltaurine were added so as to be applied at 30 mg / m 2 . Next, the hydrazine derivative shown in Table 10 was added at 0.8 × 10 −5 mol /
m 2 , the polymer latex represented by (f) was 200 mg /
m 2, an average particle size 0.02μm colloidal silica (Nissan Chemical [lines] Ltd. SNOWTEX C) a 200 mg / m 2, further 1,2-bis (vinylsulfonyl acetamide) as a hardener ethane 200 mg / m 2 Was added. The pH of the solution was adjusted to 5.65 using acetic acid. They were coated silver amount2.
5 g / m 2, it was coated to a gelatin 0.8 g / m 2.

【0214】[0214]

【化56】 Embedded image

【0215】(PC層)ゼラチン水溶液に、下記界面活
性剤(g)を5mg/m2、1,5−ジヒドロキシ−2−ベ
ンズアルドキシムを10mg/m2塗布されるように添加
し、ゼラチン0.5g/m2になるように塗布した。 (OC層)ゼラチン0.5g/m2、平均粒子サイズ約
3.5μmの不定形なSiO2 マット剤40mg/m2、コ
ロイダルシリカ(日産化学〔株〕製スノーテックスC)
0.1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/m2と滑り
剤(h)20mg/m2および塗布助剤として下記構造式
(i)で示されるフッ素界面活性剤5mg/m2とドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m2を塗布し
た。
(PC layer) The following surfactant (g) was added to an aqueous gelatin solution at 5 mg / m 2 and 1,5-dihydroxy-2-benzaldoxime was added at 10 mg / m 2 so as to be coated. It was applied so as to be 0.5 g / m 2 . (OC layer) gelatin 0.5 g / m 2 , amorphous SiO 2 matting agent 40 mg / m 2 with an average particle size of about 3.5 μm, colloidal silica (Snowtex C manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.)
0.1 g / m 2, polyacrylamides 100 mg / m 2 and a sliding agent (h) Fluorine surfactant 5 mg / m 2 and dodecylbenzenesulfonic acid represented as 20 mg / m 2 and coating aids by the following structural formula (i) 100 mg / m 2 of sodium was applied.

【0216】[0216]

【化57】 Embedded image

【0217】ついで、支持体の反対側の面に、下記に示
す導電層及びバック層を同時塗布した。 〈導電層〉 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 250 mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 100 〃 化合物−(a) 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 20 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 20 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 20 〃 <バック層> ゼラチン(Ca++含有量30ppm ) 2.6 g/m2 染料 染料〔a〕、染料〔b〕、染料〔c〕の混合物 染料〔a〕 70 mg /m2 染料〔b〕 70 〃 染料〔c〕 90 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 80 〃 ジベンジル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 20 〃 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 110 〃 酢酸ナトリウム 40 〃 パーフルオロオクタンスルホン酸リチウム塩 5 〃 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5 μm) 30 〃
Then, the following conductive layer and back layer were simultaneously coated on the opposite side of the support. <Conductive layer> SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.25μ) 250 mg / m 2 gelatin (Ca ++ content 3000 ppm) 100 {compound- (a) 7} sodium dodecylbenzenesulfonate Salt 20〃Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium salt 20〃Polystyrene sulfonate sodium salt 20〃 <Back layer> Gelatin (Ca ++ content 30 ppm) 2.6 g / m 2 Dye Dye [a], Dye [b], Mixture of Dye [c] Dye [a] 70 mg / m 2 Dye [b] 70 染料 Dye [c] 90 ナ ト リ ウ ム Dodecylbenzenesulfonic acid sodium salt 80 〃 Dibenzyl-α-sulfosuccinate sodium salt 20 〃 1,2- Bis (vinylsulfonylacetamide) ethane 110 ナ ト リ ウ ム sodium acetate 40 リ チ ウ ム lithium perfluorooctanesulfonate 5 微粒子 fine particles of polymethyl methacrylate (average particle size 4.5 μm) 30

【0218】[0218]

【化58】 Embedded image

【0219】得られた試料を25℃55%RHの雰囲気
下に1週間保存した後下記に示すランニング安定性の評
価をおこなった。その結果を表−10に示す。表−10
から明らかな様に本発明の水準は、極めて硬調な写真特
性で、かつ、ランニング安定性に優れていることがわか
る。
After the obtained sample was stored for one week in an atmosphere of 25 ° C. and 55% RH, the following running stability was evaluated. The results are shown in Table-10. Table-10
As is clear from the graph, the level of the present invention has extremely high photographic characteristics and excellent running stability.

【0220】[0220]

【表10】 [Table 10]

【0221】(1)ランニング安定性の評価 試料を480nmにピークを持つ干渉フィルターを介し、
ステップウェッジを通して発光時間10-5secのキセ
ノンフラッシュ光で露光し、下記組成の現像液を用いて
富士写真フイルム(株)製FG−680AG自動現像機
にて駆動ギアーを高速のものに交換し、35℃で15秒
間現像した後、定着、水洗、乾燥処理を行った。ランニ
ング条件としては、前記記載の感材を1日当り20m2
割合いで80%の黒化率で5日間連続処理を行ない、フ
レッシュ液とランニング後の疲労液の性能を評価した。
感度は、特性曲線のfog +濃度=1.5を与える露光量
から求めた。画像のコントラストを示す指標(ガンマ)
としては、特性曲線のfog+濃度0.3の点からfog+濃
度3.0の点を直線で結び、この直線の傾きをガンマ値
として表した。すなわち、ガンマ=(3.0−0.3)
/〔log(濃度3.0を与える露光量)−(濃度0.
3を与える露光量)〕であり、ガンマ値は大きいほど硬
調な写真特性であることを示している。グラフィックア
ーツ用感材としては、ガンマは10以上であることが好
ましく、15以上であることがさらに好ましい。
(1) Evaluation of running stability The sample was passed through an interference filter having a peak at 480 nm.
Exposure was performed with a xenon flash light having an emission time of 10 -5 sec through a step wedge, and the drive gear was changed to a high-speed drive using an FG-680AG automatic developing machine manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. using a developer having the following composition. After developing at 35 ° C. for 15 seconds, fixing, washing and drying were performed. As the running conditions, the photosensitive material described above was continuously treated at a rate of 20 m 2 per day at a blackening rate of 80% for 5 days, and the performance of the fresh solution and the fatigue solution after running was evaluated.
The sensitivity was determined from the exposure amount giving fog + density = 1.5 in the characteristic curve. Index (gamma) indicating the contrast of the image
In the characteristic curve, the point of fog + density of 0.3 on the characteristic curve is connected by a straight line to the point of fog + density of 3.0, and the slope of this line is expressed as a gamma value. That is, gamma = (3.0−0.3)
/ [Log (exposure amount giving density 3.0)-(density 0.
Exposure amount giving 3)], and the larger the gamma value, the harder the photographic characteristics. As a graphic arts photosensitive material, gamma is preferably 10 or more, and more preferably 15 or more.

【0222】以下に現像液の使用液1リットルあたりの
組成を示す。 現像液 炭酸水素カリウム 0.40モル 炭酸カリウム・1水塩 0.40モル ジエチレントリアミン・五酢酸 4g 亜硫酸ナトリウム 5g(0.04モル) 臭化カリウム 2g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g エリソルビン酸ナトリウム・1水塩 45g 表2記載の化合物例A−24 2.5g トリメルカプトトリアジン 0.03g pHを9.7に調整した。補充量は120ml/m2で行な
った。
The composition of the developer per liter of working solution is shown below. Developer Potassium hydrogen carbonate 0.40 mol Potassium carbonate / monohydrate 0.40 mol Diethylenetriamine / pentaacetic acid 4 g Sodium sulfite 5 g (0.04 mol) Potassium bromide 2 g 5-Methylbenzotriazole 0.08 g Sodium erythorbrate monohydrate 45 g Compound Example A-24 shown in Table 2 2.5 g Trimercaptotriazine 0.03 g The pH was adjusted to 9.7. The replenishment rate was 120 ml / m 2 .

【0223】定着液は、下記処方の物を用いた。 (定着液処方) チオ硫酸アンモニウム 359.1 g エチレンジアミン四酢酸 2Na 2水塩 0.09 g チオ硫酸ナトリウム 5水塩 32.8 g 亜硫酸ナトリウム 64.8 g NaOH 37.2 g 氷酢酸 87.3 g 酒石酸 8.76 g グルコン酸ナトリウム 6.6 g 硫酸アルミニウム 25.3 g 水を加えて、3リットルとし硫酸または水酸化ナトリウ
ムでpH=4.85に合わせる。補充量は160ml/m2でお
こなった。
The fixer used had the following formulation. (Formulation of fixing solution) Ammonium thiosulfate 359.1 g Ethylenediaminetetraacetic acid 2Na dihydrate 0.09 g Sodium thiosulfate pentahydrate 32.8 g Sodium sulfite 64.8 g NaOH 37.2 g Glacial acetic acid 87.3 g Tartaric acid 8.76 g Sodium gluconate 6.6 g Aluminum sulfate 25.3 g Water To 3 liters and adjust to pH = 4.85 with sulfuric acid or sodium hydroxide. The replenishment rate was 160 ml / m 2 .

【0224】実施例2 実施例1と同様の支持体の一方の側に実施例1の導電層
及び下記組成のバック層を同時塗布した。 <バック層> ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 2.0 g/m2 化合物− 3 mg/m2 化合物− 40 〃 化合物− 40 〃 化合物− 155 〃 化合物− 150 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 7 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 30 〃 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 140 〃 硫酸ナトリウム 180 〃 化合物− 5 〃 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.7 μm) 10 〃
Example 2 On one side of the same support as in Example 1, the conductive layer of Example 1 and a back layer having the following composition were simultaneously coated. <Back Layer> Gelatin (Ca ++ content 3000ppm) 2.0 g / m 2 Compound - 3 mg / m 2 Compound - 40 〃 compound - 40 〃 compound - 155 〃 compound - 150 〃 sodium dodecylbenzenesulfonate 7 〃 dihexyl - α-Sulfosuccinate sodium 30 1,2 1,2-bis (vinylsulfonylacetamide) ethane 140 ナ ト リ ウ ム Sodium sulfate 180 化合物 Compound-5 微粒子 Fine particles of polymethyl methacrylate (average particle size 4.7 μm) 10 微粒子

【0225】[0225]

【化59】 Embedded image

【0226】[0226]

【化60】 Embedded image

【0227】ついで、支持体の反対側の面に下記組成の
乳剤第1層及び第2層、保護層下層及び上層を同時塗布
した。この乳剤に表11記載のヒドラジン化合物を0.
8×10-5モル/m2、造核促進剤を5×10-4モル/
m2、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを30mg/m2、下記の化合物−、−
を各々40mg/m2、10mg/m2、添加し硬膜剤とし
て、1,1−ビス(ビニルスルホニル)メタンを乳剤層
を有する側のゼラチン1g当り55mg加え、銀量1.6
g/m2、ゼラチンを0.6g/m2になる様に塗布した。
り1.2×10-4モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナ
トリウム水溶液を同時に14分間で添加しその間の電位
を95mVにコントロールすることによって平均粒子サ
イズ0.15μmの塩化銀立方体粒子を調製した。この
乳剤に表11記載のヒドラジン化合物を0.8×10-5
モル/m2、硬調化促進剤を5×10-4モル/m2、4−ヒ
ドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザイ
ンデンを30mg/m2、下記の化合物−、−を各々4
0mg/m2、10mg/m2、添加し硬膜剤として、1,1−
ビス(ビニルスルホニル)メタンを乳剤層を有する側の
ゼラチン1g当り55mg加え、銀量1.6g/m2、ゼラ
チンを0.6g/m2になる様に塗布した。
Then, an emulsion first and second layers having the following composition, a lower layer and an upper layer of a protective layer were simultaneously coated on the opposite side of the support. The hydrazine compound described in Table 11 was added to this emulsion in an amount of 0.
8 × 10 −5 mol / m 2 , nucleation accelerator 5 × 10 −4 mol / m 2
m 2 , 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-
30 mg / m 2 of tetrazaindene, the following compounds-,-
Each 40mg / m 2, 10mg / m 2, as an additive to a hardener, 1,1-bis (vinylsulfonyl) methane added gelatin 1g per 55mg on the side having emulsion layers, silver 1.6
g / m 2 and gelatin at 0.6 g / m 2 .
An aqueous sodium chloride solution containing 1.2 × 10 −4 mol of (NH 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 was simultaneously added over 14 minutes, and the average particle size was adjusted by controlling the potential to 95 mV. Silver chloride cubic grains of 15 μm were prepared. The hydrazine compound described in Table 11 was added to this emulsion at 0.8 × 10 −5.
Mol / m 2, hard gradation accelerator 5 × 10 -4 mol / m 2, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7- tetrazaindene the 30 mg / m 2, the following compounds -, -For each 4
0 mg / m 2 , 10 mg / m 2 , and 1,1-
Bis (vinylsulfonyl) methane was added in an amount of 55 mg / g of gelatin on the side having the emulsion layer, and silver was coated at 1.6 g / m 2 and gelatin was coated at 0.6 g / m 2 .

【0228】[0228]

【化61】 Embedded image

【0229】<乳剤層第2層>40℃に保った5,6−
シクロペンタン−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−
テトラザインデン(銀1モル当り5×10-3モル)を含
有するゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液と銀1モル当り
4×10-5モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウ
ム水溶液を同時に3分半で添加し、その間の電位を95
mVにコントロールすることにより、芯部の粒子0.0
8μmを調製した。その後、硝酸銀水溶液と銀1モル当
り1.2×10-4モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナ
トリウム水溶液を同時に7分間で添加しその間の電位を
95mVにコントロールすることによって平均粒子サイ
ズ0.10μmの塩化銀立方体粒子を調製した。この乳
剤を用いる以外は上記乳剤層第1層と同様の乳剤層を銀
量1.0g/m2ゼラチンを0.4g/m2になる様に塗布
した。
<Emulsion Layer Second Layer>
Cyclopentane-4-hydroxy-1,3,3a, 7-
An aqueous silver nitrate solution and 4 × 10 −5 mol of (NH 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 per mol of silver were added to an aqueous gelatin solution containing tetrazaindene (5 × 10 −3 mol per mol of silver). Sodium chloride aqueous solution at the same time in three and a half minutes.
By controlling to mV, the particle of the core part 0.0
8 μm was prepared. Thereafter, an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of sodium chloride containing 1.2 × 10 −4 mol of (NH 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 per mol of silver were simultaneously added over 7 minutes, and the potential between them was controlled at 95 mV. Thus, silver chloride cubic grains having an average grain size of 0.10 μm were prepared. An emulsion layer similar to the first layer of the above-mentioned emulsion layer was coated except that this emulsion was used, so that a silver amount of 1.0 g / m 2 gelatin was 0.4 g / m 2 .

【0230】 <保護層下層> ゼラチン 0.60 g/m2 ポリマーラテックス化合物例P−4 0.50 〃 1−ヒドロキシ−2−ベンズアルドオキシム 15 mg/m2 化合物− 80 〃 化合物−(10) 10 〃 <保護層上層> ゼラチン 0.40 g/m2 不定形マット剤(SiO2 、平均粒径4.4 μm) 30 mg/m2 流動パラフィン(ゼラチン分散物) 50 〃 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 5 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 *固体分散染料A 80 〃 *固体分散染料B 40 〃 *固体分散染料A、Bの微粒子分散物の調製方法 本発明での調製方法は特開昭63−197943号の方
法に準じた。すなわち、水(434ミリリットル)及び
Triton X−200R界面活性剤(TX−200R)
(53g)(Rohm & Haas社から販売)の6.7%溶液と
を、1.5リットルネジ蓋ビンに入れた。これに、染料
の20gと酸化ジルコニウム(ZrO2 )のビーズ(8
00ミリリットル)(2mm径)を添加し、このビンの蓋
をしっかりしめて、ミル内に置き、内容物を4日間粉砕
した。内容物を12.5%のゼラチン水溶液(160
g)に添加し、ロールミルに10分間置いて泡を減少さ
せた。得られた混合物をろ過して、ZrO2 ビーズを除
去した。このままだと平均粒径が約0.3μmである
が、まだ粗粒子を含んでいるので、この後遠心分離法に
よって分級し、最大粒子サイズが1μm以下になるよう
にした。
<Lower Layer of Protective Layer> Gelatin 0.60 g / m 2 Polymer Latex Compound Example P-4 0.50 {1-hydroxy-2-benzaldoxime 15 mg / m 2 Compound-80} Compound- (10) 10 {<Protection Upper layer> Gelatin 0.40 g / m 2 Amorphous matting agent (SiO 2 , average particle size 4.4 μm) 30 mg / m 2 Liquid paraffin (gelatin dispersion) 50 ° N-perfluorooctanesulfonyl-N-propyl glycine potadium 5 ナ ト リ ウ ム Sodium dodecylbenzenesulfonate 10 〃 * Solid disperse dye A 80 〃 * Solid disperse dye B 40 〃 * Preparation method of fine particle dispersion of solid disperse dyes A and B The preparation method in the present invention is described in JP-A-63-197943. According to the method of No. That is, water (434 ml) and
Triton X-200R surfactant (TX-200R)
(53 g) (sold by Rohm & Haas) and a 6.7% solution were placed in a 1.5 liter screw cap bottle. 20 g of dye and zirconium oxide (ZrO 2 ) beads (8
00 ml) (2 mm diameter) was added, the bottle was tightly closed, placed in a mill and the contents were ground for 4 days. The contents were dissolved in a 12.5% aqueous gelatin solution (160
g) and placed on a roll mill for 10 minutes to reduce foam. The resulting mixture was filtered to remove the ZrO 2 beads. Although the average particle size was about 0.3 μm in this state, coarse particles were still contained. Therefore, the particles were classified by centrifugation to reduce the maximum particle size to 1 μm or less.

【0231】[0231]

【化62】 Embedded image

【0232】得られた試料を用い実施例1と同様につぶ
しランニングを行ない、実施例1と同様にランニング安
定性の評価をおこなった。但、写真性能の評価は下記の
通りおこなった。 <写真性能の評価>実施例1の乳剤を下記の乳剤Bに替
えて、EM層の増感色素を下記の化合物(S−3)に替
えて、銀1モル当り2.1×10-4モル添加すること以
外は実施例1と同様にして試料を作成した。ヒドラジン
化合物としては化合物例4−1を、造核促進剤としては
化合物例X−1をそれぞれ実施例1と同様の添加量使用
したルム社製)で、35℃20秒の現像条件で処理し
た。その結果を表−11に示す。表−11から明らかな
様に本発明の水準は、実施例1同様ランニング安定性に
優れていることがわかる。
Using the obtained sample, crushing running was performed as in Example 1, and running stability was evaluated as in Example 1. However, the photographic performance was evaluated as follows. <Evaluation of photographic performance> The emulsion of Example 1 was replaced with the following emulsion B, and the sensitizing dye for the EM layer was replaced with the following compound (S-3), and 2.1 × 10 -4 per mol of silver. A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that moles were added. Compound Example 4-1 was used as a hydrazine compound, and Compound Example X-1 was used as a nucleation accelerator (manufactured by Lum Co., Ltd., using the same amounts as in Example 1) under a developing condition of 35 ° C. for 20 seconds. . The results are shown in Table-11. As is clear from Table 11, the level of the present invention is excellent in running stability as in Example 1.

【0233】[0233]

【表11】 [Table 11]

【0234】実施例3 実施例1の乳剤を下記の乳剤Bに替えて、EM層の増感
色素を下記の化合物(S−3)に替えて、銀1モル当り
2.1×10-4モル添加すること以外は実施例1と同様
にして試料を作成した。ヒドラジン化合物としては化合
物例4−1を、硬調化促進剤としては化合物例X−1を
それぞれ実施例1と同様の添加量使用した。 〔乳剤B〕銀1モル当たり1mgの下記構造式のセレン増
感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸
を加えて60℃で最適感度になるように化学増感するこ
と以外は実施例1の乳剤Aと同様に調整した。
Example 3 The emulsion of Example 1 was replaced with the following emulsion B, and the sensitizing dye for the EM layer was replaced with the following compound (S-3), and 2.1 × 10 -4 per mol of silver. A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that moles were added. Compound Example 4-1 was used as the hydrazine compound, and Compound Example X-1 was used as the contrast enhancement accelerator in the same amount as in Example 1. [Emulsion B] Performed except that 1 mg of a selenium sensitizer of the following structural formula per mole of silver, 1 mg of sodium thiosulfate and 4 mg of chloroauric acid were added and chemically sensitized at 60 ° C. to obtain an optimum sensitivity. The preparation was performed in the same manner as in Emulsion A of Example 1.

【0235】[0235]

【化63】 Embedded image

【0236】この様に得られた試料を実施例1と同様の
評価をおこなった。但、写真性能の評価は、633nmに
ピークを持つ干渉フィルターに替えて、発光時間10-6
secのキセノンフラッシュ光で露光し、現像処理は実
施例1の現像液処方の化合物A−24にかえて表12記
載の化合物を使用した。この補助現像主薬としては、2
種類のものを併用して使用する水準もテストした。評価
結果を表12に示す。
The sample thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1. However, the evaluation of the photographic performance was based on the emission time of 10 −6 , instead of the interference filter having a peak at 633 nm.
Exposure was performed with xenon flash light for 2 sec., and the developing treatment used the compounds shown in Table 12 instead of the compound A-24 in the developer formulation of Example 1. As the auxiliary developing agent, 2
The level of using a combination of the types was also tested. Table 12 shows the evaluation results.

【0237】[0237]

【表12】 [Table 12]

【0238】表12の評価結果より明らかな様に超加成
性を有する補助現像主薬としてはフェニドンやピラゾリ
ドンやモノールよりも本発明のp−アミノフェノール類
が高感、高コントラストでランニング安定性も好ましい
ことがわかる。また、2種以上の補助現像主薬を併用す
る場合においても、本発明のp−アミノフェノール類を
使用した水準は好ましい性能を発揮することがわかる。
As is evident from the evaluation results in Table 12, the p-aminophenols of the present invention have higher sensitivity, higher contrast and higher running stability than phenidone, pyrazolidone and monol as auxiliary developing agents having superadditivity. It turns out to be preferable. It can also be seen that, even when two or more auxiliary developing agents are used in combination, the level using the p-aminophenols of the present invention exhibits preferable performance.

【0239】実施例4 実施例3のEM層の増感色素を下記化合物(S−4)に
替え、銀1モル当り5.4×10-5モル添加し、安定剤
を4,4′−ビス−(4,6−ジナフトキシ−ピリミジ
ン−2−イルアミノ)−スチルベンジスルホン酸ジナト
リウム塩350mg/Ag1モル、2,5−ジメチル−3
−アリル−ベンゾチアゾールヨード塩450mg/Ag1
モルに替えて添加し、バック層は下記組成のバック層及
びバック保護層に替えて、その他は実施例3と同様にし
て、試料を作成した。
Example 4 The sensitizing dye in the EM layer of Example 3 was replaced with the following compound (S-4), and 5.4 × 10 -5 mol per mol of silver was added, and the stabilizer was 4,4′-. Bis- (4,6-dinaphthoxy-pyrimidin-2-ylamino) -stilbene disulfonic acid disodium salt 350 mg / Ag 1 mol, 2,5-dimethyl-3
-Allyl-benzothiazole iodine salt 450 mg / Ag1
A sample was prepared in the same manner as in Example 3, except that the moles were added instead of moles, and the back layer was replaced with a back layer and a back protective layer having the following composition.

【0240】[0240]

【化64】 Embedded image

【0241】 <バック層> ゼラチン 2.0 g/m2 化合物−(1) 3 mg/m2 染料−a 35 〃 染料−b 95 〃 染料−c 70 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 25 〃 ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム 35 〃 酢酸 10 〃 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 130 〃 <バック保護層> ゼラチン 0.8 g/m2 化合物−(1) 1 mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μm) 35 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 化合物−(2) 2 〃 酢酸ナトリウム 30 〃<Back Layer> Gelatin 2.0 g / m 2 Compound- (1) 3 mg / m 2 Dye-a 35 染料 Dye-b 95 染料 Dye-c 70 〃 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium 25 〃 Dodecylbenzene Sodium sulfonate 35 {acetic acid 10} 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol 130 {back protective layer> gelatin 0.8 g / m 2 compound- (1) 1 mg / m 2 polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 3 .4 μm) 35 ナ ト リ ウ ム sodium dihexyl-α-sulfosuccinate 7 ナ ト リ ウ ム sodium dodecylbenzenesulfonate 10 化合物 compound-(2) 2 ナ ト リ ウ ム sodium acetate 30

【0242】[0242]

【化65】 Embedded image

【0243】この様にして得られた試料を実施例3と同
様の評価をおこなった。但、写真性能の評価は780nm
にピークを持つ干渉フィルターに替えて、おこなった。
その結果、実施例3と同様に極めて、硬調な写真特性
で、かつ、ランニング安定性のよい半導体レーザースキ
ャナー用感材を得ることができた。
The sample thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 3. However, evaluation of photographic performance is 780 nm
The test was performed in place of an interference filter having a peak at
As a result, as in Example 3, it was possible to obtain a photosensitive material for a semiconductor laser scanner having extremely high photographic characteristics and excellent running stability.

【0244】[0244]

【発明の効果】上記の通り、本発明によれば、ハイドロ
キノンを用いないアスコルビン酸系現像剤において、写
真性能の変化が少なく、改善された現像処理方法を提供
することができる。
As described above, according to the present invention, in an ascorbic acid-based developer not using hydroquinone, a change in photographic performance is small and an improved developing method can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03C 5/31 G03C 5/31 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI G03C 5/31 G03C 5/31

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)、(2)、(3)から
選ばれるヒドラジン誘導体及び下記一般式(X)で表さ
れる化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を、実
質的にジヒドロキシベンゼン類を含有せず、アスコルビ
ン酸および又はその誘導体を現像主薬とし、更に超加成
性補助現像主薬として下記一般式(M)で表されるアミ
ノフェノール誘導体を含む現像液で、現像処理すること
を特徴とする現像処理方法。 一般式(1) 【化1】 式中、Ra1は脂肪族基または芳香族基を表し、さらにそ
の置換基の一部として−O−(CH2 CH2 O)n −、
−O−(CH2 CH(CH3 )O)n −、または−O−
(CH2 CH(OH)CH2 O)n −(ただしnは3以
上の整数)の部分構造を含有するかあるいは置換基の一
部として4級アンモニウムカチオンを含有する基であ
る。Ga1は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、
−C(=NGa2a2)−基、−SO−基、−SO2 −基
または−P(O)(Ga2a2)−基を表す。Ga2は単な
る結合手、−O−基、−S−基または−N(Ra2)−基
を表し、Ra2は脂肪族基、芳香族基、または水素原子を
表し、分子内に複数のRa2が存在する場合それらは同じ
であっても異なっても良い。Aa1、Aa2の一方は水素原
子であり、他方は水素原子またはアシル基、アルキル基
またはアリールスルホニル基を表す。 一般式(2) 【化2】 式中、Rb1は脂肪族基、芳香族基または、複素環基を表
し、置換されていても良い。Gb1は−CO−基、−SO
2 −基、−SO−基、−COCO−基、チオカルボニル
基、イミノメチレン基または−P(O)(Rb3)−基を
表し、Rb2はG b1で置換された炭素原子が少なくとも1
つの電子吸引基で置換された置換アルキル基を表す。R
b3は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基またはアミノ基を表す。 一般式(3) 【化3】 式中、Ac1、Ac2はともに水素原子または一方が水素原
子で他方はスルフィン酸残基またはアシル基を表し、R
c1は脂肪族基、芳香族基、またはヘテロ環基を表し、R
c2は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、またはアミノ基を表し、Gc1
カルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリ
ル基またはイミノメチレン基を表す。ここでRc1、Rc2
のうち少なくともどちらか一方はハロゲン化銀への吸着
促進基を有する。 一般式(X) 【化4】 式中R3は水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環残基を表す。Qは単なる結合、二価基としての硫黄
原子もしくはセレン原子、二価基としての酸素原子、ジ
スルフィド基(−S−S−)、NR4、 【化5】 又はNR4CSを表わす。ただしR4はR3と同義であ
る。R1及びR2は各々水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基又はアミノ基をあらわす。R3とR4、R
1とR2、又はR1とR3の間で5員又は6員のヘテロ環を
形成してもよい。ただしR1とR3の間に5員又は6員ヘ
テロ環を形成する場合に、R2及びR4はいずれも水素原
子をあらわすことはない。また、R1とR2の間で形成さ
れるヘテロ環のうち、ローダニン環は除く。 一般式(M) 【化6】 式中、R1、R2、R3、R4は同一でも異なっていてもよ
く、各々水素原子または置換基を表す。R5、R6は同一
でも異なっていてもよく、各々アルキル基、アリール
基、アラルキル基またはヘテロ環基を表す。
1. From the following general formulas (1), (2) and (3)
Selected hydrazine derivative and represented by the following general formula (X)
Silver halide photographic materials containing compounds
Qualitatively free of dihydroxybenzenes,
Acid and / or its derivatives as developing agents
Amides represented by the following general formula (M)
Develop with a developer containing a nophenol derivative
A developing method characterized by the following. General formula (1)Where Ra1Represents an aliphatic group or an aromatic group.
-O- (CHTwoCHTwoO)n−,
-O- (CHTwoCH (CHThree) O)n-Or -O-
(CHTwoCH (OH) CHTwoO)n-(Where n is 3 or less
Containing a partial structure of the above integer) or one of the substituents
Group containing a quaternary ammonium cation as a part
You. Ga1Is a -CO- group, a -COCO- group, a -CS- group,
−C (= NGa2Ra2) -Group, -SO-group, -SOTwo-Group
Or -P (O) (Ga2Ra2)-Represents a group. Ga2Is simple
Bond, -O- group, -S- group or -N (Ra2) -Group
And Ra2Represents an aliphatic group, an aromatic group, or a hydrogen atom.
Represents multiple Rs in the moleculea2If they are the same
Or may be different. Aa1, Aa2One of them is a hydrogen source
And a hydrogen atom or an acyl or alkyl group
Or an arylsulfonyl group. General formula (2)Where Rb1Represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group.
And may be replaced. Gb1Is a -CO- group, -SO
Two-Group, -SO- group, -COCO- group, thiocarbonyl
Group, iminomethylene group or -P (O) (Rb3)-Group
Represents, Rb2Is G b1At least one carbon atom substituted with
Represents a substituted alkyl group substituted with two electron-withdrawing groups. R
b3Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an alkoxy group,
Represents a reeloxy group or an amino group. General formula (3)Where Ac1, Ac2Are both hydrogen atoms or one is a hydrogen atom
And the other represents a sulfinic acid residue or an acyl group;
c1Represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group;
c2Is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy
Group, aryloxy group, or amino group;c1Is
Carbonyl, sulfonyl, sulfoxy, phosphoryl
And represents an iminomethylene group. Where Rc1, Rc2
At least one of them is adsorbed on silver halide
Has a promoting group. General formula (X)Where RThreeRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or
Represents a ring residue. Q is a mere bond, sulfur as a divalent group
Atom or selenium atom, oxygen atom as divalent group,
Sulfide group (-SS-), NRFour,Or NRFourRepresents CS. Where RFourIs RThreeSynonymous with
You. R1And RTwoIs a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl
Group, heterocyclic group or amino group. RThreeAnd RFour, R
1And RTwoOr R1And RThreeA 5- or 6-membered heterocycle
It may be formed. Where R1And RThreeBetween 5 and 6 members
When forming a terrorist ring, RTwoAnd RFourAre all hydrogen sources
I do not represent a child. Also, R1And RTwoFormed between
Among the heterocycles, the rhodanine ring is excluded. General formula (M)Where R1, RTwo, RThree, RFourMay be the same or different
And each represents a hydrogen atom or a substituent. RFive, R6Are the same
And may be different, each of which is an alkyl group, an aryl
Group, aralkyl group or heterocyclic group.
【請求項2】 現像液中に、下記一般式(G)で表され
る銀汚れ防止剤を含むことを特徴とする請求項1の現像
処理方法。 一般式(G) 【化7】 一般式(G)において、D,Eは−CH=基、−CR0
=基、または窒素原子を表し、ここにR0は置換基を表
す。L1、L2、L3は水素原子、ハロゲン原子、または
炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、りん原子の
いずれかで環に結合する任意の置換基を表し、L1〜L3
は同じでも異なっていてもよい。但しL1、L2、L3
およびR1の少なくとも1つは、−SM基(Mはアルカ
リ金属原子、水素原子、アンモニウム基)を表す。なお
EとDが、1つの窒素原子と1つの炭素原子を表す時
は、Eが窒素原子でDが炭素原子(−CH=基もしくは
−CR 0=基)を表し、この場合L2およびL3がヒドロ
キシ基を表すことはない。
2. A compound represented by the following general formula (G) in a developer.
2. The developing method according to claim 1, further comprising a silver stain inhibitor.
Processing method. General formula (G)In the general formula (G), D and E are -CH = group, -CR0
= Represents a group or a nitrogen atom, where R0Represents a substituent
You. L1, LTwo, LThreeIs a hydrogen atom, a halogen atom, or
Carbon, nitrogen, oxygen, sulfur, phosphorus
Any substituent attached to the ring at any of1~ LThree
May be the same or different. Where L1, LTwo, LThree,
And R1At least one of the -SM group (M is an
Li metal atom, hydrogen atom, ammonium group). Note that
When E and D represent one nitrogen atom and one carbon atom
Means that E is a nitrogen atom and D is a carbon atom (—CH = group or
-CR 0= Group), in which case LTwoAnd LThreeIs hydro
It does not represent a xy group.
【請求項3】 現像液中の炭酸水素塩濃度が0.1モル
/リットル以上、炭酸水素塩と炭酸塩の合計濃度が0.
5モル/リットル以上であり、かつpHが9.0〜1
0.5であることを特徴とする請求項1または2の現像
処理方法。
3. The bicarbonate concentration in the developer is 0.1 mol / l or more, and the total concentration of bicarbonate and carbonate is 0.1 mol / l.
5 mol / l or more and pH 9.0 to 1
3. The method according to claim 1, wherein the value is 0.5.
【請求項4】現像補充液の補充量が、300ml/m2以下
であることを特徴とする請求項1、2または3の現像処
理方法。
4. The developing method according to claim 1, wherein the replenishing amount of the developing replenisher is 300 ml / m 2 or less.
JP3243397A 1997-02-17 1997-02-17 Method for processing silver halide photographic sensitive material Pending JPH10228082A (en)

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