JPH09179253A - Development processing method for silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Development processing method for silver halide photographic sensitive material

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JPH09179253A
JPH09179253A JP7349037A JP34903795A JPH09179253A JP H09179253 A JPH09179253 A JP H09179253A JP 7349037 A JP7349037 A JP 7349037A JP 34903795 A JP34903795 A JP 34903795A JP H09179253 A JPH09179253 A JP H09179253A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a negative image high enough in contrast by using a stable developing solution of a pH<11.0 and an always stable image small in fluctuation of photographic performance at the time of replenishing a small amount to the developing solution and restrained from occurrence of uneven development. SOLUTION: This silver halide photographic sensitive material contains a hydrazine nucleator specified in structure and a nucleation promotor in a photosensitive silver halide emulsion layer and/or another hydrophilic colloidal layer, and upon ending exposure processed with the developing solution having a replenishing solution fed in an amount of <=225ml/m<2> and comprising (1) a dihydroxybenzene type developing agent in 0.2-0.75mol/l, (2) a 1-phenyl-3- pyrazolidone or p-aminophenol type assistant developing agent in 0.001-0.06mol/l, (3) a free sulfite ion in 0.3-1.2mol/l, and (4) a mercaptothiazole derivative having a specified substituent having a pH of 9.0-11.0.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀黒白写
真感光材料を用いたpH=11.0未満で超硬調な画像
を形成する現像処理方法に関するものであり、さらに詳
しくは現像液の補充量を低減した現像処理方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a development processing method using a silver halide black-and-white photographic light-sensitive material to form an ultrahigh contrast image at pH = 11.0 or less. The present invention relates to a development processing method in which

【0002】[0002]

【従来の技術】グラフィック・アーツの分野において
は、良好な網点画像および文字や線画像を得るために、
画像部と非画像部が明瞭に区別された超硬調な写真画像
を形成するシステムが必要である。超硬調な写真画像の
形成は、長年にわたって、リス現像液と呼ばれる特殊な
現像液を用いて行われてきた。このリス現像液を用いる
システムでは、その性能を発現させるために、現像液中
に遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低く保つことが必
須である。亜硫酸イオンは現像液の保恒剤として機能す
るので、リス現像液は安定性に欠け、経時劣化が激しい
という問題を持っていた。
2. Description of the Related Art In the field of graphic arts, in order to obtain good halftone dot images and characters and line images,
What is needed is a system for forming ultrahigh contrast photographic images in which image areas and non-image areas are clearly distinguished. The formation of ultrahigh contrast photographic images has been carried out for many years using a special developer called a lith developer. In the system using the lith developer, it is essential to keep the concentration of free sulfite ion in the developer extremely low in order to realize its performance. Since the sulfite ion functions as a preservative for the developing solution, the lith developer has a problem that it lacks stability and deteriorates significantly over time.

【0003】ヒドラジン化合物をハロゲン化銀写真乳剤
や現像液に添加することは、米国特許第3,730,7
27号(アスコルビン酸とヒドラジンとを組み合わせた
現像液)、同3,227,552号(直接カラーポジ像
を得るための補助現像薬としてヒドラジンを使用)、同
3,386,831号(ハロゲン化銀感材の安定剤とし
て脂肪族カルボン酸のβ−モノ−フェニルヒドラジンを
含有)、同2,419,975号や、ミース(Mees)著
ザ・セオリー・オブ・フォトグラフィック・プロセス(T
he Theory of Photographic Prosess)第3版(1966
年)281頁等で知られている。
The addition of hydrazine compounds to silver halide photographic emulsions and developers is described in US Pat. No. 3,730,7.
No. 27 (Developer combining ascorbic acid and hydrazine), No. 3,227,552 (using hydrazine as an auxiliary developing agent for directly obtaining a color positive image), No. 3,386,831 (silver halide) Contains β-mono-phenylhydrazine, an aliphatic carboxylic acid, as a stabilizer for sensitive materials), No. 2,419,975, and by Mees.
The Theory of Photographic Process (T
he Theory of Photographic Prosess) 3rd Edition (1966)
Year) 281 pages, etc.

【0004】これらの中で、特に、米国特許第2,41
9,975号では、ヒドラジン化合物の添加により硬調
なネガチブ画像を得ることが、開示されている。同特許
明細書には塩臭化銀乳剤にヒドラジン化合物を添加し、
12.8というような高いpHの現像液で現像すると、
ガンマ(γ)が10をこえる極めて硬調な写真特性が得
られることが記載されている。しかし、pHが13に近
い強アルカリ現像液は、空気酸化され易く不安定で、長
時間の保存や使用に耐えない。
Among these, in particular US Pat. No. 2,41.
No. 9,975 discloses that a hard negative image can be obtained by adding a hydrazine compound. The patent specification adds a hydrazine compound to a silver chlorobromide emulsion,
When developed with a developer having a high pH such as 12.8,
It is described that extremely hard photographic characteristics having a gamma (γ) of more than 10 can be obtained. However, a strong alkaline developer having a pH close to 13 is liable to be oxidized by air and is unstable, and cannot withstand long-term storage or use.

【0005】ヒドラジン化合物を含むハロゲン化銀感光
材料を、より低いpHの現像液で現像し、硬調な画像を
作成する工夫が試みられている。特開平1−17993
9号、および特開平1−179940号には、ハロゲン
化銀乳剤粒子に対する吸着基を有する造核現像促進剤
と、同じく吸着基を有する造核剤とを含む感材を用い
て、pH11.0以下の現像液で現像する処理方法が記
載されている。しかしながら、吸着基を有する化合物
は、ハロゲン化銀乳剤に添加すると、ある限界量を越え
ると感光性を損ったり、現像を抑制したり、あるいは他
の有用な吸着性添加物の作用を妨げたりする害を有する
ため、使用量が制限され、充分な硬調性を発現できてい
ない。特開昭60−140343号には、ハロゲン化銀
写真感光材料に、アミン類を添加することで硬調性が上
がることが開示されている。しかしながら、pH11.
0未満の現像液で現像する場合においては、充分な硬調
性を発現できない。特開昭56−106244号には、
pH10〜12の現像液中にアミノ化合物を添加して、
コントラスト促進させることが開示されている。しかし
ながらアミン類を現像液に添加して用いた場合に、液の
臭気や使用機器への付着による汚れ、あるいは廃液によ
る環境汚染などの問題があり、感光材料中へ組み込むこ
とが望まれているが感光材料に添加して十分な性能が得
られるものはまだ見い出されていない。
Attempts have been made to develop a high-contrast image by developing a silver halide light-sensitive material containing a hydrazine compound with a developer having a lower pH. JP-A-1-17993
No. 9 and JP-A-1-179940, a photosensitive material containing a nucleation development accelerator having an adsorbing group for silver halide emulsion grains and a nucleating agent also having an adsorbing group was used to obtain a pH of 11.0. The processing method of developing with the following developing solution is described. However, when a compound having an adsorptive group is added to a silver halide emulsion, if it exceeds a certain limit, the photosensitivity may be impaired, the development may be suppressed, or the action of other useful adsorptive additives may be hindered. Therefore, the amount used is limited, and sufficient hardness cannot be achieved. JP-A-60-140343 discloses that the addition of amines to a silver halide photographic light-sensitive material improves the contrast. However, at pH 11.
In the case of developing with a developing solution of less than 0, sufficient contrast cannot be expressed. JP-A-56-106244 discloses that
By adding an amino compound to a developer having a pH of 10 to 12,
It is disclosed to promote contrast. However, when amines are used by adding them to a developing solution, there are problems such as odor of the solution and stains due to adhesion to equipment used, or environmental pollution due to waste solution, and it is desired to incorporate it into a light-sensitive material. It has not yet been found that it can be added to a light-sensitive material to obtain sufficient performance.

【0006】米国特許4998604号、および同49
94365号には、エチレンオキシドの繰り返し単位を
有するヒドラジン化合物、およびピリジニウム基を有す
るヒドラジン化合物が開示されている。しかしながら、
これらの実施例で明らかなように、硬調性が充分でな
く、実用的な現像処理条件で硬調性と必要なDmaxを得る
ことは困難である。
US Pat. Nos. 4,998,604 and 49,
No. 94365 discloses a hydrazine compound having a repeating unit of ethylene oxide and a hydrazine compound having a pyridinium group. However,
As is clear from these examples, the contrast is not sufficient, and it is difficult to obtain the contrast and the required Dmax under practical development processing conditions.

【0007】pH11.0未満の安定な現像液を用いて
超硬調な画像を得る為に、種々の検討を行ない、感材中
に特定のヒドラジン造核剤と特定の4級オニウム塩造核
促進剤を併用することにより、超硬調画像が得られるこ
とが見い出されて来た。しかしながら、この方法におい
てもハロゲン化銀写真感光材料1平方メートルを処理す
る際に現像液の補充量が320〜450ミリリットル程
度必要であり、さらなる補充量低減方法、安定な処理方
法が望まれている。補充量を低減した場合に、現像タン
ク中の銀スラッジが増加し感材に付着するという問題も
生じる。
In order to obtain a super-high contrast image by using a stable developing solution having a pH of less than 11.0, various investigations have been conducted, and a specific hydrazine nucleating agent and a specific quaternary onium salt nucleation promoting agent are contained in a light-sensitive material. It has been found that a super-high contrast image can be obtained by using the agent together. However, even in this method, the replenishing amount of the developing solution is required to be about 320 to 450 ml when processing 1 square meter of the silver halide photographic light-sensitive material, and a further replenishing amount reducing method and a stable processing method are desired. When the replenishment amount is reduced, there is a problem that silver sludge in the developing tank increases and adheres to the photosensitive material.

【0008】現像液のpH値の変化を小さくさせること
で写真性能の変化を小さくさせることは知られており、
現像液の緩衝能を上げることで写真性能を安定にするこ
とは特公平3−5730号で開示されている。しかしな
がら、緩衝能を上げた現像液を用いて自動現像機でハロ
ゲン化銀写真感光材料を処理すると、現像ムラが発生し
易いという欠点をもっている。
It is known to reduce the change in photographic performance by reducing the change in pH value of the developer,
Stabilizing photographic performance by increasing the buffering capacity of a developing solution is disclosed in Japanese Patent Publication No. 3730/1993. However, when a silver halide photographic light-sensitive material is processed with an automatic processor using a developer having an increased buffering capacity, it has a drawback that uneven development is likely to occur.

【0009】現像液を固形処理剤として供給することは
知られており、特開昭61−259921号では現像液
の固形処理剤としての安定性を高めると記載されてい
る。さらに、特開平5−265147号ではヒドラジン
含有感材を処理する現像液を固形処理剤として供給する
処理方法が開示されており、黒ぽつが良化することが開
示されている。
It is known to supply a developing solution as a solid processing agent, and JP-A-61-259921 describes that the stability of the developing solution as a solid processing agent is enhanced. Further, JP-A-5-265147 discloses a processing method in which a developing solution for processing a hydrazine-containing photosensitive material is supplied as a solid processing agent, and it is disclosed that black spots are improved.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、pH11.0未満の安定な現像液で、十分に硬調な
ネガ画像が得られ、現像液の補充量が少なくても写真性
能の変動が小さく、しかも、現像ムラの発生も小さく、
常に安定した性能が得られるハロゲン化銀黒白写真感光
材料の現像処理方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the object of the present invention is to obtain a sufficiently hard negative image with a stable developing solution having a pH of less than 11.0 and to improve the photographic performance with a small replenishing amount of the developing solution. Variation is small, and development unevenness is small,
It is an object of the present invention to provide a development processing method for a silver halide black-and-white photographic light-sensitive material that can always obtain stable performance.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有
し、該乳剤層またはその他の親水性コロイド層中に、ヒ
ドラジン基の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水
素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を有す
る事を特徴とするヒドラジン系造核剤あるいは下記一般
式(I)で表される化合物から選ばれる少なくとも一種
のヒドラジン造核剤と造核促進剤を含有する事を特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料を、露光後、(1)0.
2〜0.75モル/リットルのジヒドロキシベンゼン系
現像主薬、(2)0.001〜0.06モル/リットル
の1−フェニル−3−ピラゾリドン系またはp−アミノ
フェノール系補助現像主薬、(3)0.3〜1.2モル
/リットルの遊離の亜硫酸イオン、(4)下記一般式
(II) で表される化合物を含有し、pHが9.0〜1
1.0である現像液で、該現像液の補充量が225ml/
m2以下で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料の現像処理方法によって達成された。 一般式(I)
The object of the present invention is to have at least one light-sensitive silver halide emulsion layer on a support, and in the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer, a hydrazine group near At least one selected from a hydrazine-based nucleating agent or a compound represented by the following general formula (I), characterized by having an anionic group or a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine After exposing a silver halide photographic light-sensitive material characterized by containing a hydrazine nucleating agent and a nucleation accelerator, (1).
2 to 0.75 mol / liter of dihydroxybenzene type developing agent, (2) 0.001 to 0.06 mol / liter of 1-phenyl-3-pyrazolidone type or p-aminophenol type auxiliary developing agent, (3) It contains 0.3 to 1.2 mol / liter of free sulfite ion, (4) a compound represented by the following general formula (II), and has a pH of 9.0 to 1.
With a developing solution of 1.0, the replenishing amount of the developing solution is 225 ml /
It was achieved by a method of developing and processing a silver halide photographic light-sensitive material characterized by processing at m 2 or less. General formula (I)

【0012】[0012]

【化6】 [Chemical 6]

【0013】式中、R0 は、ジフルオロメチル基または
モノフルオロメチル基を表し、A0は芳香族基を表す。
但し、A0 は少なくとも一つの、耐拡散基、ハロゲン化
銀への吸着促進基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、4級アンモニウム基、4級化された窒
素原子を含む含窒素ヘテロ環基、エチレンオキシもしく
はプロピレンオキシ単位を含むアルコキシ基、またはス
ルフィド結合もしくはジスルフィド結合を含む飽和ヘテ
ロ環基またはこれらの組合せを置換基として有する。 一般式(II)
In the formula, R 0 represents a difluoromethyl group or a monofluoromethyl group, and A 0 represents an aromatic group.
However, A 0 is at least one diffusion resistant group, an adsorption promoting group on silver halide, an alkylthio group, an arylthio group,
Heterocyclic thio group, quaternary ammonium group, nitrogen-containing heterocyclic group containing quaternized nitrogen atom, alkoxy group containing ethyleneoxy or propyleneoxy unit, or saturated heterocyclic group containing sulfide bond or disulfide bond, or these Having the combination of as a substituent. General formula (II)

【0014】[0014]

【化7】 Embedded image

【0015】式中Y、ZはN又はCR2 (R2 はアルキ
ル基またはアリール基を表す)、R1 は−SO3 M、−
COOM、−OH、−NHSO2 3 、−SO2 NR3
4および−NR5 CONR3 4 からなる群から選ば
れた少なくとも1種で置換されたアルキル基、アリール
基もしくはヘテロ環基又はアルキル基、アリール基もし
くはヘテロ環基が連結基を介して構成される基を表す。
3 、R4 及びR5 は水素原子又は炭素数1〜4の低級
アルキル基を表す。Mは水素原子、アルカリ金属原子、
四級アンモニウムおよび四級ホスホニウムを表す。
In the formula, Y and Z are N or CR 2 (R 2 represents an alkyl group or an aryl group), R 1 is -SO 3 M,-
COOM, -OH, -NHSO 2 R 3 , -SO 2 NR 3
An alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group or an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group substituted with at least one member selected from the group consisting of R 4 and —NR 5 CONR 3 R 4 are formed via a linking group. Represents a group represented by
R 3 , R 4 and R 5 represent a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. M is a hydrogen atom, an alkali metal atom,
Represents quaternary ammonium and quaternary phosphonium.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】ここで本発明で使用するヒドラジ
ン系造核剤について説明する。本発明で使用するヒドラ
ジン系造核剤はヒドラジン基の近傍にアニオン性基また
はヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成するノ
ニオン性基を有することを特徴とするヒドラジン誘導
体、および一般式(I)で表されるヒドラジン誘導体で
ある。まず、前者について詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The hydrazine-based nucleating agent used in the present invention will be described. The hydrazine nucleating agent used in the present invention has an anionic group in the vicinity of a hydrazine group or a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine, and a general formula (I ) Is a hydrazine derivative represented by. First, the former will be described in detail.

【0017】アニオン性基としては具体的には、カルボ
ン酸、スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン酸
およびそれらの塩が挙げられる。ここでヒドラジン基の
近傍とは、ヒドラジンのアニオン性基に近い窒素原子と
アニオン性基の間に、炭素原子、窒素原子、酸素原子お
よび硫黄原子の少なくとも一種から選ばれる原子2〜5
個で形成される結合鎖が介在することを意味する。近傍
としてより好ましくは炭素原子と窒素原子の少なくとも
一種から選ばれる原子2〜5個で形成される結合鎖が介
在する場合であり、さらに好ましくは炭素原子2〜3個
で形成される結合鎖が介在する場合である。ヒドラジン
水素と分子内水素結合を形成するノニオン性基としては
孤立電子対が5ないし7員環でヒドラジン水素と水素結
合を形成する基であり、酸素原子、窒素原子、硫黄原子
またはリン原子の少なくとも一つを有する基である。ノ
ニオン性基としてはアルコキシ基、アミノ基、アルキル
チオ基、カルボニル基、カルバモイル基、アルコキシカ
ルボニル基、ウレタン基、ウレイド基、アシルオキシ
基、アシルアミノ基が挙げられる。これらのうちアニオ
ン性基が好ましく、さらにカルボン酸およびその塩が最
も好ましい。本発明で用いられる造核剤として好ましい
ものは以下に一般式(A)、(B)、(C)で示される
ものである。 一般式(A)
Specific examples of the anionic group include carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid, phosphonic acid and salts thereof. Here, the vicinity of the hydrazine group means an atom selected from at least one of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom between a nitrogen atom and an anionic group near the anionic group of hydrazine.
It means that a binding chain formed by the individual is interposed. More preferably, a bond chain formed by 2 to 5 atoms selected from at least one of a carbon atom and a nitrogen atom is present as the vicinity, and a bond chain formed by 2 to 3 carbon atoms is more preferable. It is the case of intervening. The nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with hydrazine hydrogen is a group in which a lone electron pair forms a hydrogen bond with hydrazine hydrogen in a 5- to 7-membered ring, and has at least an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. A group having one. Examples of the nonionic group include an alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, a carbonyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, a urethane group, a ureido group, an acyloxy group, and an acylamino group. Of these, anionic groups are preferred, and carboxylic acids and salts thereof are most preferred. Preferred nucleating agents used in the present invention are those represented by the following formulas (A), (B) and (C). General formula (A)

【0018】[0018]

【化8】 Embedded image

【0019】(式中、R1 はアルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表し、L1 は電子吸引基を有する2価
の連結基を表し、Y1 はアニオン性基またはヒドラジン
の水素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を
表す。) 一般式(B)
(Wherein R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, L 1 represents a divalent linking group having an electron-withdrawing group, Y 1 represents an anionic group or a hydrogen atom of hydrazine). Represents a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond.) General formula (B)

【0020】[0020]

【化9】 Embedded image

【0021】(式中、R2 はアルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表し、L2 は2価の連結基を表し、Y
2 はアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分子内
水素結合を形成するノニオン性基を表す。) 一般式(C)
(Wherein R 2 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, L 2 represents a divalent linking group, and Y
2 represents an anionic group or a nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine. ) General formula (C)

【0022】[0022]

【化10】 Embedded image

【0023】(式中、X3 はベンゼン環に置換可能な基
を表し、R3 はアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基またはアミ
ノ基を表し、Y3 はアニオン性基またはヒドラジンの水
素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を表
す。m3 は0から4の整数でありn3 は1または2であ
る。n3 が1のときR3 は電子吸引性基を有する。)
(In the formula, X 3 represents a group capable of substituting on a benzene ring, R 3 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group or an amino group, and Y 3 represents An anionic group or a nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine, m 3 is an integer of 0 to 4, n 3 is 1 or 2. When n 3 is 1, R 3 is It has an electron-withdrawing group.)

【0024】一般式(A)、(B)、(C)に関しさら
に詳細に説明する。R1 、R2 のアルキル基としては炭
素数1〜16、好ましくは炭素数1〜12の直鎖、分岐
鎖または環状のアルキル基であり、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル、アリル、プ
ロパルギル、2−ブテニル、2−ヒドロキシエチル、ベ
ンジル、ベンズヒドリル、トリチル、4−メチルベンジ
ル、2−メトキシエチル、シクロペンチル、2−アセト
アミドエチルである。
The general formulas (A), (B) and (C) will be described in more detail. The alkyl group of R 1 and R 2 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, t-butyl, Allyl, propargyl, 2-butenyl, 2-hydroxyethyl, benzyl, benzhydryl, trityl, 4-methylbenzyl, 2-methoxyethyl, cyclopentyl, 2-acetamidoethyl.

【0025】アリール基としては炭素数6〜24、好ま
しくは炭素数6〜12のアリール基で例えば、フェニ
ル、ナフチル、p−アルコキシフェニル、p−スルホン
アミドフェニル、p−ウレイドフェニル、p−アミドフ
ェニルである。ヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員
または6員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つでも複
数であっても良く、例えば、2−フリル、2−チエニ
ル、4−ピリジルである。
The aryl group is an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, preferably 6 to 12 carbon atoms, for example, phenyl, naphthyl, p-alkoxyphenyl, p-sulfonamidophenyl, p-ureidophenyl, p-amidophenyl. Is. The heterocyclic group is a 5-membered or 6-membered saturated or unsaturated heterocycle containing at least one oxygen atom, nitrogen atom, or sulfur atom having 1 to 5 carbon atoms, and the number of heteroatoms constituting the ring. The type of the element may be one or plural, and examples thereof include 2-furyl, 2-thienyl, and 4-pyridyl.

【0026】R1 、R2 として好ましくはアリール基、
芳香族ヘテロ環基またはアリール置換メチル基であり、
更に好ましくはアリール基(例えばフェニル、ナフチ
ル)である。R1 、R2 は置換基で置換されていてもよ
く、置換基としては例えばアルキル基、アラルキル基、
アルコキシ基、アルキルまたはアリール置換アミノ基、
アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン
基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイ
ル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、リン酸
アミド基である。これらの基は更に置換されていてもよ
い。これらのうちスルホンアミド基、ウレイド基、アミ
ド基、アルコキシ基、ウレタン基が好ましく、スルホン
アミド基、ウレイド基が更に好ましい。これらの基は可
能なときは互いに連結して環を形成してもよい。
An aryl group is preferred as R 1 and R 2 .
An aromatic heterocyclic group or an aryl-substituted methyl group,
More preferably, it is an aryl group (eg phenyl, naphthyl). R 1 and R 2 may be substituted with a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, an aralkyl group,
An alkoxy group, an alkyl- or aryl-substituted amino group,
Amide group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group, alkylthio group, arylthio group,
A sulfonyl group, a sulfinyl group, a hydroxy group, a halogen atom, a cyano group, a sulfo group, a carboxyl group, and a phosphoric acid amide group. These groups may be further substituted. Of these, a sulfonamide group, a ureido group, an amide group, an alkoxy group, and a urethane group are preferable, and a sulfonamide group and a ureido group are more preferable. When possible, these groups may be linked to each other to form a ring.

【0027】R3 のアルキル基、アリール基、ヘテロ環
基はR1 で述べたものが挙げられる。アルケニル基とし
ては炭素数2〜18好ましくは2〜10のもので、例え
ばビニル、2−スチリルである。アルキニル基としては
炭素数2〜18好ましくは2〜10のもので、例えばエ
チニル、フェニルエチニルである。アルコキシ基として
は炭素数1ないし16、好ましくは炭素数1ないし10
の直鎖、分岐鎖または環状のアルコキシ基であり、例え
ばメトキシ、イソプロポキシ、ベンジルオキシである。
アミノ基としては炭素数0〜16、好ましくは炭素数1
〜10のもので、エチルアミノ、ベンジルアミノ、フェ
ニルアミノである。n3 =1のときR3としてはアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基が好ましい。n3
2のときR3 としてはアミノ基、アルコキシ基が好まし
い。
The alkyl group of R 3, aryl group, heterocyclic group include those described in R 1. The alkenyl group has 2 to 18 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, such as vinyl and 2-styryl. The alkynyl group has 2 to 18 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include ethynyl and phenylethynyl. The alkoxy group has 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms.
Linear, branched or cyclic alkoxy group such as methoxy, isopropoxy and benzyloxy.
The amino group has 0 to 16 carbon atoms, preferably 1 carbon atom.
-10, and are ethylamino, benzylamino and phenylamino. When n 3 = 1, R 3 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. n 3 =
In the case of 2, R 3 is preferably an amino group or an alkoxy group.

【0028】R3 の有する電子吸引性基としては、ハメ
ットのσm の値が0.2以上のもの、好ましくは0.3
以上のもので、例えばハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素)、シアノ基、スルホニル基(メタンスルホニル、ベ
ンゼンスルホニル)、スルフィニル基(メタンスルフィ
ニル)、アシル基(アセチル、ベンゾイル)、オキシカ
ルボニル基(メトキシカルボニル)、カルバモイル基
(N−メチルカルバモイル)、スルファモイル基(メチ
ルスルファモイル)、ハロゲン置換アルキル基(トリフ
ルオロメチル)、ヘテロ環基(2−ベンズオキサゾリ
ル、ピロロ)、4級オニウム基(トリフェニルホスホニ
ウム、トリアルキルアンモニウム、ピリジニウム)が挙
げられる。電子吸引基を有するR3 としては、例えばト
リフルオロメチル、ジフルオロメチル、ペンタフルオロ
エチル、シアノメチル、メタンスルホニルメチル、アセ
チルエチル、トリフルオロメチルエチニル、エトキシカ
ルボニルメチルが挙げられる。
The electron-withdrawing group contained in R 3 has a Hammett σ m value of 0.2 or more, preferably 0.3.
As described above, for example, a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine), a cyano group, a sulfonyl group (methanesulfonyl, benzenesulfonyl), a sulfinyl group (methanesulfinyl), an acyl group (acetyl, benzoyl), an oxycarbonyl group (methoxycarbonyl) ), Carbamoyl group (N-methylcarbamoyl), sulfamoyl group (methylsulfamoyl), halogen-substituted alkyl group (trifluoromethyl), heterocyclic group (2-benzoxazolyl, pyrrolo), quaternary onium group (tri Phenylphosphonium, trialkylammonium, pyridinium). Examples of R 3 having an electron-withdrawing group include trifluoromethyl, difluoromethyl, pentafluoroethyl, cyanomethyl, methanesulfonylmethyl, acetylethyl, trifluoromethylethynyl and ethoxycarbonylmethyl.

【0029】L1 、L2 は2価の連結基を表し、アルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、二価のヘテロ環基およびそれらを−O−、−S−、
−NH−、−CO−、−SO2 −等の単独または組み合
わせからなる基で連結したものである。L1 、L2 はR
1 の置換基として述べた基で置換されていてもよい。ア
ルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン、トリ
メチレン、プロピレン、2−ブテン−1,4−イル、2
−ブチン−1,4−イルである。アルケニレン基として
は、例えばビニレンである。アルキニレン基としてはエ
チニレンである。アリーレン基としては、例えばフェニ
レンである。二価のヘテロ環基としては、例えばフラン
−1,4−ジイルである。L1 としてはアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基が好ま
しく、アルキレン基がより好ましい。さらに鎖長が炭素
数2〜3のアルキレン基が最も好ましい。L2 としては
アルキレン基、アリーレン基、−NH−アルキレン−、
−O−アルキレン−、−NH−アリーレン−が好まし
く、−NH−アルキレン−、−O−アルキレン−がより
好ましい。
L 1 and L 2 represent a divalent linking group, and include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, and -O-, -S-,
It is a group in which groups such as —NH—, —CO—, and —SO 2 — are used alone or in combination. L 1 and L 2 are R
It may be substituted with the group described as the substituent of 1 . Examples of the alkylene group include methylene, ethylene, trimethylene, propylene, 2-butene-1,4-yl, 2
-Butyn-1,4-yl. The alkenylene group is, for example, vinylene. The alkynylene group is ethynylene. The arylene group is, for example, phenylene. The divalent heterocyclic group is, for example, furan-1,4-diyl. L 1 is an alkylene group,
An alkenylene group, an alkynylene group and an arylene group are preferable, and an alkylene group is more preferable. Further, an alkylene group having a chain length of 2 to 3 carbon atoms is most preferable. L 2 is an alkylene group, an arylene group, —NH-alkylene-,
-O-alkylene- and -NH-arylene- are preferable, and -NH-alkylene- and -O-alkylene- are more preferable.

【0030】L1 の有する電子吸引性基としては、R3
の有する電子吸引性基として述べたものが挙げられる。
1 として例えばテトラフルオロエチレン、フルオロメ
チレン、ヘキサフルオロトリメチレン、パーフルオロフ
ェニレン、ジフルオロビニレン、シアノメチレン、メタ
ンスルホニルエチレンが挙げられる。
The electron-withdrawing group of L 1 includes R 3
Examples of the electron-withdrawing group of the above include.
Examples of L 1 include tetrafluoroethylene, fluoromethylene, hexafluorotrimethylene, perfluorophenylene, difluorovinylene, cyanomethylene, and methanesulfonylethylene.

【0031】Y1 ないしY3 としてはすでに述べたもの
であり、アニオン性基または孤立電子対が5ないし7員
環でヒドラジン水素と水素結合を形成するノニオン性基
である。さらに具体的には、アニオン性基としてはカル
ボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン
酸およびそれらの塩が挙げられる。塩としてはアルカリ
金属イオン(ナトリウム、カリウム)、アルカリ土類金
属イオン(カルシウム、マグネシウム)、アンモニウム
(アンモニウム、トリエチルアンモニウム、テトラブチ
ルアンモニウム、ピリジニウム)、ホスホニウム(テト
ラフェニルホスホニウム)が挙げられる。ノニオン性基
としては酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはリン原子
の少なくとも一つを有する基で、アルコキシ基、アミノ
基、アルキルチオ基、カルボニル基、カルバモイル基、
アルコキシカルボニル基、ウレタン基、ウレイド基、ア
シルオキシ基、アシルアミノ基が挙げられる。Y1 ない
しY3 としてはアニオン性基が好ましく、カルボン酸お
よびその塩がさらに好ましい。
Y 1 to Y 3 are as described above, and are anionic groups or nonionic groups in which a lone electron pair forms a hydrogen bond with hydrazine hydrogen in a 5- to 7-membered ring. More specifically, examples of the anionic group include carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid, phosphonic acid, and salts thereof. Examples of the salt include alkali metal ions (sodium and potassium), alkaline earth metal ions (calcium and magnesium), ammonium (ammonium, triethylammonium, tetrabutylammonium, pyridinium) and phosphonium (tetraphenylphosphonium). As the nonionic group, an oxygen atom, a nitrogen atom, a group having at least one of a sulfur atom and a phosphorus atom, an alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, a carbonyl group, a carbamoyl group,
Examples thereof include an alkoxycarbonyl group, a urethane group, a ureido group, an acyloxy group and an acylamino group. Y 1 to Y 3 are preferably anionic groups, and more preferably carboxylic acids and salts thereof.

【0032】X3 のベンゼン環に置換可能な基およびそ
の好ましいものは、一般式(A)のR1 が有する置換基
として述べたものが挙げられる。m3 が2以上の時それ
ぞれは同じでも異なっていてもよい。
Examples of the group capable of substituting on the benzene ring of X 3 and its preferable group include those mentioned as the substituents contained in R 1 of the general formula (A). When m 3 is 2 or more, they may be the same or different.

【0033】R1 ないしR3 、またはX3 は写真用カプ
ラーで用いられる耐拡散基を有してもよいし、ハロゲン
化銀への吸着促進基を有してもよい。耐拡散基としては
炭素数8以上30以下のもので、炭素数12以上25以
下のものが好ましい。ハロゲン化銀への吸着促進基とし
ては、好ましくはチオアミド類(例えばチオウレタン、
チオウレイド、チオアミド)、メルカプト類(例えば5
−メルカプトテトラゾール、3−メルカプト−1,2,
4−トリアゾール、2−メルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール、2−メルカプト−1,3,4−オキサジア
ゾール等のヘテロ環メルカプト、アルキルメルカプト、
アリールメルカプト)およびイミノ銀を生成する5ない
し6員の含窒素ヘテロ環(例えばベンゾトリアゾール)
である。ハロゲン化銀吸着促進基を有するものとして
は、吸着基が保護されており現像処理時に保護基が除去
されてハロゲン化銀への吸着性が高まる構造のものも含
まれる。
R 1 to R 3 or X 3 may have a diffusion resistant group used in a photographic coupler or may have an adsorption promoting group to silver halide. The diffusion-resistant group has 8 to 30 carbon atoms, and preferably has 12 to 25 carbon atoms. As the adsorption-promoting group for silver halide, thioamides (eg, thiourethane,
Thioureido, thioamide), mercaptos (eg 5
-Mercaptotetrazole, 3-mercapto-1,2,2
Heterocyclic mercapto such as 4-triazole, 2-mercapto-1,3,4-thiadiazole, and 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole, alkylmercapto,
Aryl mercapto) and a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle (eg benzotriazole) which produces silver imino
It is. Examples of those having a silver halide adsorption promoting group include those having a structure in which the adsorptive group is protected and the protective group is removed at the time of development to increase the adsorptivity to silver halide.

【0034】一般式(A)、(B)、(C)において、
それぞれ二つの化合物の水素原子が除去されたラジカル
どうしが結合してビス型を形成してもよい。一般式
(A)、(B)、(C)において、一般式(A)および
(B)が好ましく、一般式(A)がより好ましい。さら
に一般式(A)、(B)、(C)において以下に示す一
般式(D)、(E)、(F)がより好ましく、一般式
(D)が最も好ましい。 一般式(D)
In the general formulas (A), (B) and (C),
The radicals from which the hydrogen atoms of the two compounds are removed may combine with each other to form a bis type. In the general formulas (A), (B), and (C), the general formulas (A) and (B) are preferable, and the general formula (A) is more preferable. Further, in the general formulas (A), (B) and (C), the following general formulas (D), (E) and (F) are more preferable, and the general formula (D) is most preferable. General formula (D)

【0035】[0035]

【化11】 Embedded image

【0036】(式中、R4 、X4 、m4 はそれぞれ一般
式(C)のR3 、X3 、m3 と同義であり、L4 、Y4
は一般式(A)のL1 、Y1 と同義である。) 一般式(E)
(In the formula, R 4 , X 4 and m 4 have the same meanings as R 3 , X 3 and m 3 in formula (C), respectively, and L 4 , Y 4 and
Is synonymous with L 1 and Y 1 of the general formula (A). ) General formula (E)

【0037】[0037]

【化12】 Embedded image

【0038】(式中、R5 、X5 、m5 はそれぞれ一般
式(C)のR3 、X3 、m3 と同義であり、L5 、Y5
は一般式(B)のL2 、Y2 と同義である。) 一般式(F)
(In the formula, R 5 , X 5 and m 5 are respectively synonymous with R 3 , X 3 and m 3 of the general formula (C), and L 5 , Y 5 and
Is synonymous with L 2 and Y 2 in the general formula (B). ) General formula (F)

【0039】[0039]

【化13】 Embedded image

【0040】(式中、R61、R62、X6 、m6 、n6
Yは一般式(C)のR3 、R3 、X 3 、m3 、n3 、Y
3 と同義である。)
(In the formula, R61, R62, X6, M6, N6,
Y is R in the general formula (C)Three, RThree, X Three, MThree, NThree, Y
ThreeIs synonymous with )

【0041】以下に本発明で用いられる造核剤の具体例
を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the nucleating agent used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0042】[0042]

【化14】 Embedded image

【0043】[0043]

【化15】 Embedded image

【0044】[0044]

【化16】 Embedded image

【0045】[0045]

【化17】 Embedded image

【0046】[0046]

【化18】 Embedded image

【0047】[0047]

【化19】 Embedded image

【0048】次に、一般式(1)で表されるヒドラジン
誘導体について詳細に説明する。 一般式(1)
Next, the hydrazine derivative represented by the general formula (1) will be described in detail. General formula (1)

【0049】[0049]

【化20】 Embedded image

【0050】式中、R0 は、ジフルオロメチル基または
モノフルオロメチル基を表し、A0は芳香族基を表す。
但し、A0 の有する置換基の少なくとも一つは、耐拡散
基、ハロゲン化銀への吸着促進基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、ヘテロ環チオ基、4級アンモニウム基、
4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基、エチレ
ンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を含むアルコキ
シ基、またはスルフィド結合もしくはジスルフィド結合
を含む飽和ヘテロ環基であるか、またはこれらの基の少
なくとも一つを含む置換基である。
In the formula, R 0 represents a difluoromethyl group or a monofluoromethyl group, and A 0 represents an aromatic group.
However, at least one of the substituents possessed by A 0 is a diffusion resistant group, a silver halide adsorption promoting group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, a quaternary ammonium group,
A nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, an alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, or a saturated heterocyclic group containing a sulfide bond or a disulfide bond, or at least one of these groups It is a substituent containing.

【0051】一般式(1)で表される化合物のうち、好
ましいものは次の一般式(1−a)で表される。 一般式(1−a)
Among the compounds represented by the general formula (1), preferable compounds are represented by the following general formula (1-a). General formula (1-a)

【0052】[0052]

【化21】 Embedded image

【0053】式中R1 はジフルオロメチル基もしくはモ
ノフルオロメチル基を表し、A1 は2価の芳香族基を表
し、R2 およびR3は2価の脂肪族基または芳香族基を
表し、L1 およびL2 は2価の連結基を表し、m2 およ
びm3 はそれぞれ独立に0または1を表す。X1 は耐拡
散性基、ハロゲン化銀への吸着促進基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、4級アンモニウ
ム基、4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基、
エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を含むア
ルコキシ基、またはスルフィド結合もしくはジスルフィ
ド結合を含む飽和ヘテロ環基を表す。
In the formula, R1 represents a difluoromethyl group or a monofluoromethyl group, A1 represents a divalent aromatic group, R2 and R3 represent a divalent aliphatic group or aromatic group, and L1 and L2 are It represents a divalent linking group, and m2 and m3 each independently represent 0 or 1. X1 is a diffusion-resistant group, a group promoting adsorption to silver halide, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, a quaternary ammonium group, a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom,
It represents an alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, or a saturated heterocyclic group containing a sulfide bond or a disulfide bond.

【0054】一般式(1−a)で表される化合物のう
ち、好ましいものは次の一般式(1−b)で表される。 一般式(1−b)
Among the compounds represented by the general formula (1-a), preferred compounds are represented by the following general formula (1-b). General formula (1-b)

【0055】[0055]

【化22】 Embedded image

【0056】式中X11、R11、R21、R31、L21、m21
およびm31は、それぞれ一般式(1−a)に於けるX
1、R1 、R2 、R3 、L2 、m2 およびm3 と同義の
基であり、Yは置換基を表し、nは0から4の整数を表
す。次に一般式(1)で表される化合物について、詳し
く説明する。一般式(1)に於いてA0 で表される芳香
族基とは、単環もしくは2環のアリール基、および芳香
族ヘテロ環基である。具体的にはベンゼン環、ナフタレ
ン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ピロ
ール環、フラン環、チオフェン環、チアゾール環、イン
ドール環等が挙げられる。A0 として好ましくは、ベン
ゼン環を含むものであり、特に好ましくはベンゼン環で
ある。A0 は置換基で置換されていてもよく、置換基と
しては例えばアルキル基、アラルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アシ
ルオキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモ
イル基、N−スルホニルカルバモイル基、カルボキシル
基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド
基、ウレイド基、ウレタン基、スルホニルウレイド基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スル
ファモイル基、アシルスルファモイル基、カルバモイル
スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原
子、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ス
ルファモイルアミノ基、オキサモイルアミノ基等が挙げ
られる。これらの基はさらに置換されていてもよい。こ
れらのうち、スルホンアミド基、ウレイド基、アシルア
ミノ基、カルバモイル基、アルコキシ基、置換アミノ
基、アルキル基、オキシカルボニル基が好ましく、スル
ホンアミド基、ウレイド基が特に好ましい。次にA0
置換基が有すべき、特定の基について詳しく説明する。
耐拡散性基とは、写真用のカプラー等に於ける耐拡散性
基、いわゆるバラスト基を意味するもので、本発明の化
合物が特定のハロゲン化銀乳剤層中に添加される際、こ
のものが容易に他の層へ拡散するのを防止しうる基、も
しくは現像時に現像液に容易に溶出するのを防止する基
のことである。具体的には総炭素原子数8以上の、好ま
しくは総炭素原子数8〜16の基の事で、バラスト基と
して好ましくは、総炭素原子数8以上のアルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、オキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、カルボニルオキシ基、ウレイド基、スルフ
ァモイル基、およびこれらの組み合わせからなる基が挙
げられる。A0 がバラスト基を有するとき、バラスト基
を含めたA0 の総炭素原子数は、14以上である。
In the formula, X11, R11, R21, R31, L21, m21
And m31 represent X in the general formula (1-a), respectively.
1, R1, R2, R3, L2, m2 and m3 are the same as defined above, Y represents a substituent, and n represents an integer of 0 to 4. Next, the compound represented by formula (1) will be described in detail. In the general formula (1), the aromatic group represented by A 0 is a monocyclic or bicyclic aryl group and an aromatic heterocyclic group. Specific examples include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a pyrrole ring, a furan ring, a thiophene ring, a thiazole ring and an indole ring. A 0 preferably contains a benzene ring, and particularly preferably a benzene ring. A 0 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group,
Alkoxy, aryloxy, hydroxy, acyloxy, acyl, oxycarbonyl, carbamoyl, N-sulfonylcarbamoyl, carboxyl, substituted amino, acylamino, sulfonamide, ureido, urethane, sulfonyl Ureido group,
Alkylthio, arylthio, sulfonyl, sulfamoyl, acylsulfamoyl, carbamoylsulfamoyl, sulfo, cyano, halogen, phosphinyloxy, phosphinylamino, sulfamoylamino And an oxamoylamino group. These groups may be further substituted. Among these, a sulfonamide group, a ureido group, an acylamino group, a carbamoyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, an alkyl group, and an oxycarbonyl group are preferred, and a sulfonamide group and a ureido group are particularly preferred. Next, the specific group which the substituent of A 0 should have is described in detail.
The diffusion resistant group means a diffusion resistant group in a photographic coupler or the like, a so-called ballast group, which is used when the compound of the present invention is added to a specific silver halide emulsion layer. Is a group that can easily prevent diffusion to other layers, or a group that can be prevented from being easily eluted in a developing solution during development. Specifically, it is a group having 8 or more total carbon atoms, preferably 8 to 16 total carbon atoms. As the ballast group, preferably, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryl group having 8 or more total carbon atoms is used. Examples include an oxy group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, a carbonyloxy group, a ureido group, a sulfamoyl group, and a combination thereof. When A 0 has a ballast group, the total number of carbon atoms of A 0 including the ballast group is 14 or more.

【0057】ハロゲン化銀への吸着促進基として好まし
くは、チオアミド基、メルカプト基、ジスルフィド結合
を有する基または5ないし6員の含窒素ヘテロ環基があ
げられる。チオアミド吸着促進基としては、−CS−ア
ミノ−で表される二価の基であり、環構造の一部であっ
てもよいし、また非環式チオアミド基であってもよい。
有用なチオアミド吸着促進基は、例えば米国特許4,0
30,925号、同4,031,127号、同4,08
0,207号、同4,245,037号、同4,25
5,511号、同4,266,013号、及び同4,2
76,364号、ならびに「リサーチ・ディスクロージ
ャー」(Research Disclosure) 誌第151巻 No. 1
5162(1976年11月)、及び同第176巻 N
o. 17626(1978年12月)に開示されている
ものから選ぶことができる。
The adsorption promoting group to silver halide is preferably a thioamide group, a mercapto group, a group having a disulfide bond or a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group. The thioamide adsorption promoting group is a divalent group represented by -CS-amino- and may be a part of the ring structure or may be an acyclic thioamide group.
Useful thioamide adsorption promoting groups are described, for example, in US Pat.
30,925, 4,031,127, 4,08
Nos. 0,207, 4,245,037, 4,25
Nos. 5,511, 4,266,013 and 4,2
76, 364, and "Research Disclosure," Vol. 151, No. 1.
5162 (November 1976), and Vol. 176, N
o. 17626 (December 1978).

【0058】非環式チオアミド基の具体例としては、例
えばチオウレイド基、チオウレタン基、ジチオカルバミ
ン酸エステル基など、また環状のチオアミド基の具体例
としては、例えば4−チアゾリン−2−チオン、4−イ
ミダゾリン−2−チオン、2−チオヒダントイン、ロー
ダニン、チオバルビツール酸、テトラゾリン−5−チオ
ン、1,2,4−トリアゾリン−3−チオン、1,3,
4−チアジアゾリン−2−チオン、1,3,4−オキサ
ジアゾリン−2−チオン、ベンズイミダゾリン−2−チ
オン、ベンズオキサゾリン−2−チオン及びベンゾチア
ゾリン−2−チオンなどが挙げられ、これらは更に置換
されていてもよい。メルカプト基としては脂肪族メルカ
プト基、芳香族メルカプト基やヘテロ環メルカプト基
(−SH基が結合した炭素原子の隣りが窒素原子の場合
は、これと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と
同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同じ
である)が挙げられる。
Specific examples of the acyclic thioamide group are, for example, thioureido group, thiourethane group, dithiocarbamic acid ester group and the like, and specific examples of the cyclic thioamide group are, for example, 4-thiazoline-2-thione, 4- Imidazoline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbituric acid, tetrazoline-5-thione, 1,2,4-triazoline-3-thione, 1,3.
4-thiadiazoline-2-thione, 1,3,4-oxadiazoline-2-thione, benzimidazoline-2-thione, benzoxazoline-2-thione, benzothiazoline-2-thione, and the like. It may be substituted. As the mercapto group, an aliphatic mercapto group, an aromatic mercapto group or a heterocyclic mercapto group (when the carbon atom to which the —SH group is bonded is a nitrogen atom next to it, a cyclic thioamide group having a tautomer relationship with Are synonymous, and specific examples of this group are the same as those listed above).

【0059】5員ないし6員の含窒素ヘテロ環基として
は、窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員な
いし6員の含窒素ヘテロ環があげられる。これらのう
ち、好ましいものとしては、ベンゾトリアゾール、トリ
アゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンズイミダ
ゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾー
ル、ベンゾオキサゾール、オキサゾール、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、トリアジンなどがあげられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。
吸着促進基として好ましいものは環状のチオアミド基
(すなわちメルカプト置換含窒素ヘテロ環で、例えば2
−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,
2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール
基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール
基、2−メルカプトベンズオキサゾール基など)、又は
イミノ銀を形成する含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンゾ
トリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール
基など)の場合である。なお本発明において吸着促進基
には、その前駆体も含まれる。前駆体とは、現像時に現
像液によってはじめて吸着促進基が放出される、プレカ
ーサー基のついた吸着促進基のことで、現像液中の水酸
イオン、亜硫酸イオンによって、或いは現像主薬との反
応をひきがねとして分解される。具体的には、カルバモ
イル基、1,3,3a,7−テトラザインデン−4−イ
ル基、ウラシル基、アルコキシカルボニル基、あるい
は、4位がウレイド基、スルホンアミド基、アミド基で
置換された4−置換−2,5−ジヒドロキシフェニル基
等があげられる。
Examples of the 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group include 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocycles consisting of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur and carbon. Among these, preferred are benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, benzoxazole, oxazole, thiadiazole, oxadiazole, triazine and the like.
These may be further substituted with a suitable substituent.
Preferred as the adsorption promoting group is a cyclic thioamide group (that is, a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocycle, for example, 2
-Mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,
2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, etc.), or a nitrogen-containing heterocyclic group forming iminosilver (for example, , A benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.). In the present invention, the adsorption promoting group includes its precursor. The precursor is an adsorption promoting group with a precursor group, which is released by the developing solution for the first time during development, and reacts with hydroxide ion or sulfite ion in the developing solution or with a developing agent. It is disassembled as a scratch. Specifically, a carbamoyl group, a 1,3,3a, 7-tetrazainden-4-yl group, a uracil group, an alkoxycarbonyl group, or the 4-position is substituted with an ureido group, a sulfonamide group, or an amide group. 4-substituted-2,5-dihydroxyphenyl group and the like can be mentioned.

【0060】アルキルチオ基とは置換もしくは無置換
の、分岐、環状もしくは直鎖の、総炭素原子数1〜18
のアルキルチオ基で、その置換基として、好ましくは、
アリール基、アルコキシ基(エチレンオキシもしくはプ
ロピレンオキシ単位をくり返し含むアルコキシ基を含
む。)、カルボキシル基、カルボニルオキシ基、オキシ
カルボニル基、アシルアミノ基、4級アンモニウム基、
アルキルチオ基、ヘテロ環基、スルホンアミド基、ウレ
イド基等が挙げられる。アルキルチオ基の具体例として
は、以下の基が挙げられる。
The alkylthio group is a substituted or unsubstituted, branched, cyclic or linear chain having 1 to 18 carbon atoms.
The alkylthio group of is preferably a substituent thereof,
An aryl group, an alkoxy group (including an alkoxy group containing repeating ethyleneoxy or propyleneoxy units), a carboxyl group, a carbonyloxy group, an oxycarbonyl group, an acylamino group, a quaternary ammonium group,
Examples thereof include an alkylthio group, a heterocyclic group, a sulfonamide group, and a ureido group. Specific examples of the alkylthio group include the following groups.

【0061】[0061]

【化23】 Embedded image

【0062】アリールチオ基とは、置換もしくは無置換
の、総炭素原子数6〜18のアリールチオ基で、置換基
としては一般式(1)のA0 が有していてもよい置換基
について説明したのと同じものが挙げられる。アリール
チオ基として好ましくは、置換もしくは無置換のフェニ
ルチオ基であり、具体的には、フェニルチオ基、4−τ
−ブチルフェニルチオ基、4−ドデシルフェニルチオ基
等である。
The arylthio group is a substituted or unsubstituted arylthio group having a total of 6 to 18 carbon atoms, and as the substituent, the substituent which A 0 of the general formula (1) may have has been described. The same thing as is mentioned. The arylthio group is preferably a substituted or unsubstituted phenylthio group, specifically, a phenylthio group and 4-τ.
-Butylphenylthio group, 4-dodecylphenylthio group and the like.

【0063】ヘテロ環チオ基とは、置換もしくは無置換
の、総炭素原子数1〜18の、飽和もしくは不飽和のヘ
テロ環チオ基で、酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原
子を1個以上含む5員または6員の単環のヘテロ環、ま
たは縮合ヘテロ環である。具体的には、ベンゾチアゾリ
ルチオ基、1−フェニル−5−テトラゾリルチオ基、2
−メルカプトチアジアゾリル−4−チオ基、ピリジル−
2−チオ基、等が挙げられる。
The heterocyclic thio group is a substituted or unsubstituted, saturated or unsaturated heterocyclic thio group having 1 to 18 carbon atoms, and contains one or more oxygen atom, nitrogen atom, or sulfur atom. It is a 5- or 6-membered monocyclic heterocycle or a condensed heterocycle. Specifically, a benzothiazolylthio group, a 1-phenyl-5-tetrazolylthio group, 2
-Mercaptothiadiazolyl-4-thio group, pyridyl-
2-thio group and the like can be mentioned.

【0064】4級アンモニウム基とは、4級の脂肪族ア
ンモニウムカチオンまたは4級の芳香族アンモニウムカ
チオンと、これらの対アニオンを表わす。環状の4級ア
ンモニウム基であってもよく、また4級アンモニウムカ
チオンの総炭素数は3〜24が好ましい。対アニオンと
しては、具体的にはクロルアニオン、ブロモアニオン、
ヨードアニオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニ
オン等が、あげられるが、一般式(1)で表わされる化
合物が、スルホ基又はカルボキシル基等を有する場合分
子内塩を形成してもよい。
The quaternary ammonium group represents a quaternary aliphatic ammonium cation or a quaternary aromatic ammonium cation, and their counter anions. It may be a cyclic quaternary ammonium group, and the total carbon number of the quaternary ammonium cation is preferably 3 to 24. As the counter anion, specifically, chloro anion, bromo anion,
Examples thereof include an iodine anion, a sulfonate anion, and a carboxylate anion. When the compound represented by the general formula (1) has a sulfo group, a carboxyl group, or the like, an inner salt may be formed.

【0065】Xが4級化された窒素原子を含む含窒素ヘ
テロ環基を表わす時、具体的には、ピリジニウム基、キ
ノリニウム基、イソキノリニウム基、フェナンスリニウ
ム基、トリアゾリニウム基、イミダゾリニウム基、ベン
ゾチアゾリニウム基、が挙げられる。これらの基はさら
に置換基によって置換されていてもよいが、置換基とし
て好ましくは、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アルキルカルバモイル基、アミノ基、アンモニウム
基、ヘテロ環基が挙げられる。
When X represents a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, specific examples thereof include pyridinium group, quinolinium group, isoquinolinium group, phenanthrinium group, triazolinium group and imidazoli group. And a benzothiazolinium group. These groups may be further substituted with a substituent, but the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylcarbamoyl group, an amino group, an ammonium group or a heterocyclic group.

【0066】エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ
単位を含むアルコキシ基とは、具体的に、R4-O-(CH2CH2
O)p - 、R4-O−{CH2CH(CH3)O }p −、またはR4-O−
{CH2CH(OH)CH2O }p − 等で表わされるアルコキシ基
である。ただしここでpは1以上の整数を表わし、R4
は脂肪族基または芳香族基を表わす。R4 は好ましくは
炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリー
ル基である。具体的には、CH3O(CH2CH2O)3−、 C6H13O
(CH2CH2O)2 −、 C4H9O−(CH2CH2CH2O)2 −、C8H17OCH2
CH(OH)CH2O −、 C12H25O−{CH2CH(CH3)O }2 −、C2H
5O(CH2CH2O)6 −、等の基が挙げられる。
The alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit is specifically R 4 -O- (CH 2 CH 2
O) p- , R 4 -O- {CH 2 CH (CH 3 ) O} p- or R 4 -O-
It is an alkoxy group represented by {CH 2 CH (OH) CH 2 O} p − or the like. Here, p represents an integer of 1 or more, and R 4
Represents an aliphatic group or an aromatic group. R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Specifically, CH 3 O (CH 2 CH 2 O) 3 −, C 6 H 13 O
(CH 2 CH 2 O) 2 −, C 4 H 9 O− (CH 2 CH 2 CH 2 O) 2 −, C 8 H 17 OCH 2
CH (OH) CH 2 O - , C 12 H 25 O- {CH 2 CH (CH 3) O} 2 -, C 2 H
5 O (CH 2 CH 2 O) 6- , and the like.

【0067】スルフィド結合もしくはジスルフィド結合
を含む飽和ヘテロ環基とは、具体的に、−S−、−S−
S−結合を含む、5員もしくは6員の飽和ヘテロ環を表
わし、好ましくは下記に示した基である。
The saturated heterocyclic group containing a sulfide bond or a disulfide bond is specifically -S- or -S-.
It represents a 5- or 6-membered saturated heterocycle containing an S-bond and is preferably a group shown below.

【0068】[0068]

【化24】 Embedded image

【0069】次に一般式(1−a)で表される化合物に
ついて説明する。一般式(1−a)においてA1 は2価
の芳香族基を表すが、これは一般式(1−a)に於いて
0 の有すべき置換基をより限定した以外は、一般式
(1)のA0 とほぼ同義の基であり、その好ましい範囲
もまた同じである。すなわち、一般式(1−a)におい
てA1 で表わされる2価の芳香族基として好ましくは、
単環のアリーレン基であり、さらに好ましくはフェニレ
ン基である。A1 がフェニレン基を表わすとき、これは
置換基を有していてもよい。フェニレン基が有する置換
基としては、一般式(1)のA0 の置換基について述べ
たものが挙げられるが、好ましくは、アルキル基、アル
コキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、
ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基等であり、こ
れらの基の総炭素原子数は1〜12、特に好ましくは1
〜8である。A1 がフェニレン基を表わすとき、特に好
ましくはA1 が無置換のフェニレン基を表わすときであ
る。
Next, the compound represented by formula (1-a) will be described. In the general formula (1-a), A 1 represents a divalent aromatic group, which is the same as the general formula (1-a) except that the substituent that A 0 should have is more limited. It is a group having almost the same meaning as A 0 in (1), and its preferable range is also the same. That is, the divalent aromatic group represented by A 1 in the general formula (1-a) is preferably
It is a monocyclic arylene group, more preferably a phenylene group. When A 1 represents a phenylene group, this may have a substituent. Examples of the substituent of the phenylene group include those described for the substituent of A 0 in the general formula (1), and preferably an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an amino group, an alkylamino group, an acylamino group. , Sulfonamide group, ureido group,
It is a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, etc., and the total number of carbon atoms in these groups is 1 to 12, particularly preferably 1
88. When A 1 represents a phenylene group, particularly preferably when A 1 represents an unsubstituted phenylene group.

【0070】一般式(1−a)に於いてR2 、R3 は2
価の脂肪族基または芳香族基を表す。2価の脂肪族基と
は、置換もしくは無置換で、直鎖、分岐、もしくは環状
のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基であ
り、芳香族基とは単環もしくは2環のアリーレン基であ
る。R2 およびR3 として好ましくは、アルキレン基ま
たはアリーレン基であり、さらに最も好ましくはR2 が
フェニレン基、R3 がフェニレン基またはアルキレン基
を表す時である。これらは先に一般式(1)に於けるA
0 が有する置換基について説明したのと同じ置換基を有
していてもよい。
In the general formula (1-a), R2 and R3 are 2
Represents a valent aliphatic group or aromatic group. The divalent aliphatic group is a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkylene group, alkenylene group or alkynylene group, and the aromatic group is a monocyclic or bicyclic arylene group. R2 and R3 are preferably an alkylene group or an arylene group, and most preferably R2 represents a phenylene group and R3 represents a phenylene group or an alkylene group. These are represented by A in the general formula (1).
It may have the same substituent as described for the substituent of 0 .

【0071】一般式(1−a)に於いてL1 、L2 で表
される2価の連結基とは、−O−、−S−、−N
(RN )−(RN は水素原子、アルキル基、またはアリ
ール基を表す。)、−CO−、−SO2 −、等の基の単
独、またはこれらの基の組み合わせからなる基である。
ここで組み合わせからなる基とは、具体的には、−CO
N(RN )−、−SO2 N(RN )−、−COO−、−
N(RN )CON(RN )−、−SO2 N(RN )CO
−、−SO2 N(RN )CON(RN )−、−N
(RN )COCON(RN )−、−N(RN )SO2
(RN )−等の基である。一般式(1−a)に於いてL
1 は、好ましくは−SO2 NH−、−NHCONH−、
−O−、−S−、−N(RN )−であり、最も好ましく
は−SO2 NH−、−NHCONH−である。L2 は好
ましくは、−CON(RN )−、−SO2 NH−、−N
HCONH−、−N(RN )CONH−、−COO−で
ある。ここでL2 が−CON(RN )−もしくは−N
(RN )CONH−を表す時、RN が置換アルキル基と
して、一般式(1−a)における−R3 −X基を表わす
こともあってよい。
In the general formula (1-a), the divalent linking group represented by L1 and L2 means --O--, --S--, --N.
(R N) - (R N represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group,.), - CO -, - SO 2 -, group alone etc., or a group composed of a combination of these groups.
The group consisting of a combination here specifically means -CO.
N (R N) -, - SO 2 N (R N) -, - COO -, -
N (R N) CON (R N) -, - SO 2 N (R N) CO
-, - SO 2 N (R N) CON (R N) -, - N
(R N) COCON (R N ) -, - N (R N) SO 2 N
(R N )-and the like. In the general formula (1-a), L
1 is preferably -SO 2 NH -, - NHCONH-,
-O -, - S -, - N (R N) - a, and most preferably -SO 2 NH -, - it is -NHCONH-. L2 is preferably, -CON (R N) -, - SO 2 NH -, - N
HCONH -, - N (R N ) CONH -, - is COO-. Here L 2 is -CON (R N) - or -N
When representing the (R N) CONH-, as R N is a substituted alkyl group, it may be a represent the -R 3 -X groups in Formula (1-a).

【0072】一般式(1−a)に於いて、X1 は耐拡散
性基、ハロゲン化銀への吸着促進基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、4級アンモニウム
基、4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基、エ
チレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を含むアル
コキシ基、またはジスルフィド結合を含むヘテロ環基を
表す。これらは先に一般式(1)のA0 の置換基、もし
くは置換基に含まれる基として説明したものと同じであ
る。一般式(1−a)に於いてX1 がアルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、4級アンモニウム
基、エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を含
むアルコキシ基、またはジスルフィド結合を含むヘテロ
環基を表す時、R3 は好ましくはアルキレン基であり、
m3 は1を表す。一般式(1−a)においてX1 が4級
化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を表す時、含
窒素ヘテロ環基が、その窒素原子とR3 との結合によっ
て4級化される場合と、もともと4級化された含窒素ヘ
テロ環基が、R3 を介さずにL2またはL1 に結合する
場合とがある。前者ではm3 は1で、R3 は好ましくは
アルキレン基であり、後者ではm3 は0を表す。
In the general formula (1-a), X1 is a diffusion resistant group, an adsorption promoting group on silver halide, an alkylthio group,
It represents an arylthio group, a heterocyclic thio group, a quaternary ammonium group, a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, an alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, or a heterocyclic group containing a disulfide bond. These are the same as those described above as the substituent of A 0 in the general formula (1) or the group contained in the substituent. In the general formula (1-a), X1 is an alkylthio group,
When representing an arylthio group, a heterocyclic thio group, a quaternary ammonium group, an alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, or a heterocyclic group containing a disulfide bond, R3 is preferably an alkylene group,
m3 represents 1. When X1 in the formula (1-a) represents a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, the nitrogen-containing heterocyclic group is quaternized by the bond between the nitrogen atom and R3. In some cases, the nitrogen-containing heterocyclic group originally quaternized binds to L2 or L1 without via R3. In the former, m3 is 1 and R3 is preferably an alkylene group; in the latter, m3 represents 0.

【0073】一般式(1−a)で表される化合物のう
ち、より好ましいものは、一般式(1−b)で表され
る。式中X11、R11、R21、R31、L21、m21およびm
31は、それぞれ一般式(1−a)に於けるX1 、R1 、
R2 、R3 、L2 、m2 およびm3 と同義の基であり、
Yは置換基を表し、nは0から4の整数を表す。Yで表
される置換基とは、一般式(1−a)に於いてA1 が有
していてもよい置換基について説明したものと同義であ
り、好ましい範囲もまた同じである。nは0または1が
好ましく、さらに好ましくはnが0を表す時である。
Among the compounds represented by the general formula (1-a), more preferable compounds are represented by the general formula (1-b). Wherein X11, R11, R21, R31, L21, m21 and m
31 represents X 1, R 1, and R 1 in the general formula (1-a), respectively.
R2, R3, L2, m2 and m3 are the same as defined above,
Y represents a substituent, and n represents an integer of 0 to 4. The substituent represented by Y has the same meaning as that described for the substituent that A1 may have in formula (1-a), and the preferred range is also the same. n is preferably 0 or 1, and more preferably n is 0.

【0074】一般式(1−b)で表わされる化合物にお
いて、X11がアルキルチオ基を表わすとき、さらに好ま
しいものは、次の一般式(1−c)で表わされるもので
ある。 一般式(1−c)
In the compound represented by the general formula (1-b), when X11 represents an alkylthio group, more preferable ones are those represented by the following general formula (1-c). General formula (1-c)

【0075】[0075]

【化25】 Embedded image

【0076】式中R12は一般式(3)におけるR11と同
じものであり、R5 はアルキレン基を表わす。L32は、
ベンゼン環との連結において、アシルアミノ基、カルバ
モイル基、ウレイド基、オキシカルボニル基、スルホン
アミド基を表わす。L32がアシルアミノ基、オキシカル
ボニル基、スルホンアミド基を表わすとき、m4 は1を
表わし、L32がカルバモイル基、ウレイド基を表わすと
き、m4 は1または2を表わす。m4 が1のとき、R6
は総炭素数7以上の無置換のアルキル基、総炭素数1〜
18の置換アルキル基、総炭素数3以上のシクロアルキ
ル基を表わし、m4 が2のとき、R6 は総炭素数1〜1
8の置換もしくは無置換のアルキル基、総炭素数3以上
のシクロアルキル基を表わす。
In the formula, R 12 is the same as R 11 in the general formula (3), and R 5 represents an alkylene group. L 32 is
In connection with a benzene ring, it represents an acylamino group, a carbamoyl group, a ureido group, an oxycarbonyl group or a sulfonamide group. When L 32 represents an acylamino group, an oxycarbonyl group or a sulfonamide group, m 4 represents 1, and when L 32 represents a carbamoyl group or an ureido group, m 4 represents 1 or 2. When m 4 is 1, R 6
Is an unsubstituted alkyl group having a total carbon number of 7 or more, a total carbon number of 1 to
18 represents a substituted alkyl group or a cycloalkyl group having 3 or more carbon atoms in total, and when m 4 is 2, R 6 is 1 to 1 carbon atoms in total.
8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a cycloalkyl group having a total carbon number of 3 or more.

【0077】以下に本発明の化合物を例示するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
The compounds of the present invention are exemplified below, but the present invention is not limited thereto.

【0078】[0078]

【化26】 Embedded image

【0079】[0079]

【化27】 Embedded image

【0080】[0080]

【化28】 Embedded image

【0081】[0081]

【化29】 Embedded image

【0082】[0082]

【化30】 Embedded image

【0083】[0083]

【化31】 Embedded image

【0084】[0084]

【化32】 Embedded image

【0085】本発明のヒドラジン系造核剤は、適当な水
混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。また、既によく知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテート
あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチル
やシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機
械的に乳化分散物を作製して用いることができる。ある
いは固体分散法として知られている方法によって、ヒド
ラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。
The hydrazine nucleating agent of the present invention is a suitable water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, It can be used by dissolving it in methyl cellosolve or the like. Further, by a well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. An object can be produced and used. Alternatively, a powder of a hydrazine derivative can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method and used.

【0086】本発明のヒドラジン造核剤は、支持体に対
してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層ある
いは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。本発明の造核
剤添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜1×
10-2モルが好ましく、1×10-5〜5×10-3モルが
より好ましく、2×10-5〜5×10-3モルが最も好ま
しい。
The hydrazine nucleating agent of the present invention may be added to any of the silver halide emulsion layer on the silver halide emulsion layer side of the support or any other hydrophilic colloid layer. It is preferably added to the silver halide emulsion layer or the hydrophilic colloid layer adjacent thereto. The addition amount of the nucleating agent of the present invention is 1 × 10 −6 to 1 × with respect to 1 mol of silver halide.
10 −2 mol is preferred, 1 × 10 −5 to 5 × 10 −3 mol is more preferred, and 2 × 10 −5 to 5 × 10 −3 mol is most preferred.

【0087】本発明に用いられる造核促進剤としては、
アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体または
ヒドロキシメチル誘導体などが挙げられる。以下にその
例を列挙する。特開平7−77783号公報49頁〜5
8頁に記載の化合物A−1)〜A−73)。特開平7−
84331号に記載の(化21)、(化22)および
(化23)で表される化合物で、具体的には同公報6頁
〜8頁に記載の化合物。特開平7−104426号に記
載の一般式〔Na〕および一般式〔Nb〕で表される化
合物で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載のNa
−1〜Na−22の化合物およびNb−1〜Nb−12
の化合物。特願平7−37817号に記載の一般式
(1)、一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)、
一般式(5)、一般式(6)および一般式(7)で表さ
れる化合物で、具体的には同明細書に記載の1−1〜1
−19の化合物、2−1〜2−22の化合物、3−1〜
3−36の化合物、4−1〜4−5の化合物、5−1〜
5−41の化合物、6−1〜6−58の化合物および7
−1〜7−38の化合物。
The nucleation accelerator used in the present invention includes
Examples thereof include amine derivatives, onium salts, disulfide derivatives and hydroxymethyl derivatives. Examples are listed below. JP-A-7-77783, pages 49 to 5
Compounds A-1) to A-73) described on page 8. JP-A-7-
Compounds represented by (Chemical Formula 21), (Chemical Formula 22) and (Chemical Formula 23) described in No. 84331, specifically, the compounds described on pages 6 to 8 of the same publication. Compounds represented by the general formula [Na] and the general formula [Nb] described in JP-A-7-104426, specifically Na described on pages 16 to 20 of the publication.
-1 to Na-22 compounds and Nb-1 to Nb-12
Compound. General formula (1), general formula (2), general formula (3), general formula (4) described in Japanese Patent Application No. 7-37817.
Compounds represented by the general formulas (5), (6) and (7), specifically, 1-1 to 1 described in the same specification.
-19 compound, 2-1 to 2-22 compound, 3-1 to
Compound of 3-36, compound of 4-1 to 4-5, 5-1 to
Compounds of 5-41, compounds of 6-1 to 6-58 and 7
-1 to 7-38.

【0088】本発明に特に好ましく用いられる造核促進
剤は、一般式(III)、一般式(IV)および一般式(V)
で表される化合物である。まず、一般式(III)、一般式
(IV)で表される造核促進剤について詳細に説明する。 一般式(III)
The nucleation accelerator which is particularly preferably used in the present invention is represented by the general formula (III), the general formula (IV) and the general formula (V).
It is a compound represented by these. First, the nucleation accelerator represented by the general formula (III) or the general formula (IV) will be described in detail. General formula (III)

【0089】[0089]

【化33】 Embedded image

【0090】一般式(IV)General formula (IV)

【0091】[0091]

【化34】 Embedded image

【0092】式中、Aはヘテロ環を完成させるための有
機基を表わし、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原
子、硫黄原子を含んでもよく、更にベンゼン環が縮環し
てもかまわない。好ましい例として、Aは5〜6員環を
挙げることができ、更に好ましい例としてピリジン環を
挙げることができる。B、Cはそれぞれ、アルキレン、
アリーレン、アルケニレン、−SO2 −、−SO−、−
O−、−S−、−N(R5 )−を単独または組合せて構
成されるものを表わす。ただし、R5 はアルキル基、ア
リール基、水素原子を表わす。好ましい例として、B、
Cはアルキレン、アリーレン、−O−、−S−を単独ま
たは組合せて構成されるものを挙げることができる。R
1 、R2 は炭素数1〜20のアルキル基を表わし、各々
同じでも異なっていてもよい。アルキル基に置換基が置
換してもよく、置換基としては、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子)、置換あるいは無置換のアル
キル基(例えば、メチル基、ヒドロキシエチル基な
ど)、置換あるいは無置換のアリール基(例えば、フェ
ニル基、トリル基、p−クロロフェニル基など)、置換
あるいは無置換のアシル基(例えば、ベンゾイル基、p
−ブロモベンゾイル基、アセチル基など)、スルホ基、
カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例えば、
メトキシ基、エトキシ基など)、アリールオキシ基、ア
ミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド
基、無置換あるいはアルキル置換アミノ基、シアノ基、
ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表わす。
好ましい例として、R1、R2 は各々炭素数1〜10の
アルキル基を表わす。好ましい置換基の例として、アリ
ール基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基を挙げ
ることができる。R3 、R4 は各々置換基を表わし、置
換基の例としてはR1 、R2 で挙げた置換基と同様であ
る。好ましい例として、R3 、R4 は炭素数0〜10で
あり、具体的には、アリール置換アルキル基、置換ある
いは無置換のアリール基を挙げることができる。Xはア
ニオン基を表わすが、分子内塩の場合はXは必要ない。
Xの例として、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン、
硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオ
ン、オギザラートを表わす。次に本発明の具体的化合物
を記すが、これらに限られるものではない。また、本発
明の化合物の合成は一般によく知られた方法により容易
に合成することができるが、以下の文献が参考になる。
(参照、Quart. Rev., 16, 163 1962).)
In the formula, A represents an organic group for completing the heterocycle, which may contain a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and the benzene ring may be condensed. . As a preferred example, A can be a 5- or 6-membered ring, and a more preferred example is a pyridine ring. B and C are alkylene,
Arylene, alkenylene, -SO 2 -, - SO - , -
O -, - S -, - N (R 5) - the meanings that are configured either alone or in combination. However, R 5 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom. As a preferred example, B,
Examples of C include alkylene, arylene, -O-, and -S-, which may be used alone or in combination. R
1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and may be the same or different. The alkyl group may be substituted with a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom), a substituted or unsubstituted alkyl group (eg, methyl group, hydroxyethyl group, etc.), a substitution or Unsubstituted aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, p-chlorophenyl group, etc.), substituted or unsubstituted acyl group (eg, benzoyl group, p
-Bromobenzoyl group, acetyl group, etc.), sulfo group,
Carboxy group, hydroxy group, alkoxy group (for example,
Methoxy group, ethoxy group, etc.), aryloxy group, amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, unsubstituted or alkyl-substituted amino group, cyano group,
It represents a nitro group, an alkylthio group, or an arylthio group.
As a preferred example, R 1 and R 2 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Preferred examples of the substituent include an aryl group, a sulfo group, a carboxy group, and a hydroxy group. R 3 and R 4 each represent a substituent, and examples of the substituent are the same as the substituents mentioned for R 1 and R 2 . As preferred examples, R 3 and R 4 have 0 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include an aryl-substituted alkyl group and a substituted or unsubstituted aryl group. X represents an anionic group, but X is not necessary in the case of an inner salt.
Examples of X include chlorine ion, bromine ion, iodine ion,
It represents nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate ion, and oxalate. Next, specific compounds of the present invention are described, but are not limited thereto. Further, the compound of the present invention can be easily synthesized by a generally well-known method, and the following documents are helpful.
(Reference, Quart. Rev., 16, 163 1962).)

【0093】一般式(III)及び一般式(IV)の具体的化
合物を以下に示すが、本発明は、これに限定されるもの
ではない。
Specific compounds of the general formulas (III) and (IV) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0094】[0094]

【化35】 Embedded image

【0095】[0095]

【化36】 Embedded image

【0096】[0096]

【化37】 Embedded image

【0097】[0097]

【化38】 Embedded image

【0098】次に、一般式(V)で表される造核促進剤
について詳細に説明する。 一般式(V)
Next, the nucleation accelerator represented by the general formula (V) will be described in detail. General formula (V)

【0099】[0099]

【化39】 Embedded image

【0100】式中R1 、R2 、R3 はアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロアル
ケニル基、ヘテロ環残基を表わし、これらはさらに置換
基を有していてもよい。mは整数を表わし、LはP原子
とその炭素原子で結合するm価の有機基を表わし、nは
1ないし3の整数を表わし、Xはn価の陰イオンを表わ
し、XはLと連結していてもよい。R1 、R2 、R3
表わされる基の例としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s
ec−ブチル基、tert−ブチル基、オクチル基、2−エ
チルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタ
デシル基などの直鎖又は分枝状のアルキル基;シクロプ
ロピル基、シクロペンチール基、シクロヘキシル基など
のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、フエナ
ントリル基などのアリール基;アリル基、ビニル基、5
−ヘキセニル基、などのアルケニル基;シクロペンテニ
ル基、シクロヘキセニル基などのシクロアルケニル基;
ピリジル基、キノリル基、フリル基、イミダゾリル基、
チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾトリアゾリル
基、ベンゾチアゾリル基、モルホリル基、ピリミジル
基、ピロリジル基などのヘテロ環残基が挙げられる。こ
れらの基上に置換した置換基の例としては、R1
2 、R3 で表わされる基の他に、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、ニトロ
基、1、2、3級アミノ基、アルキル又はアリールエー
テル基、アルキル又はアリールチオエーテル基、カルボ
ンアミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基、ヒドロキシル基、スルホキシ基、スルホ
ニル基、カルボキシル基、スルホン酸基、シアノ基又は
カルボニル基、が挙げられる。Lで表わされる基の例と
してはR1 、R2 、R3 と同義の基のほかにトリメチレ
ン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタメ
チレン基、オクタメチレン基、ドデカメチレン基などの
ポリメチレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフ
チレン基などの2価芳香族基、トリメチレンメチル基、
テトラメチレンメチル基などの多価脂肪族基、フェニレ
ン−1,3,5−トルイル基、フェニレン−1,2,
4,5−テトライル基などの多価芳香族基などが挙げら
れる。Xで表わされる陰イオンの例としては、塩素イオ
ン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロゲンイオン、
アセテートイオン、オキサレートイオン、フマレートイ
オン、ベンゾエートイオンなどのカルボキシレートイオ
ン、p−トルエンスルホネート、メタンスルホネート、
ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネートなどのスル
ホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、炭酸イ
オン、硝酸イオンが挙げられる。一般式(V)におい
て、R1 、R2 、R3 は好ましくは炭素数20以下の基
であり、炭素数15以下のアリール基が特に好ましい。
mは1または2が好ましく、mが1を表わす時、Lは好
ましくは炭素数20以下の基であり、総炭素数15以下
のアルキル基またはアリール基が特に好ましい。mが2
を表わす時、Lで表わされる2価の有機基は好ましくは
アルキレン基、アリーレン基またはこれらの基を結合し
て形成される2価の基、さらにはこれらの基と−CO−
基、−O−基、−NR4 −基(ただしR4 は水素原子ま
たはR1 、R2 、R3 と同義の基を表わし、分子内に複
数のR4 が存在する時、これらは同じであっても異なっ
ていても良く、さらには互いに結合していても良い)、
−S−基、−SO−基、−SO2 −基を組みあわせて形
成される2価の基である。mが2を表わす時、Lはその
炭素原子でP原子と結合する総炭素数20以下の2価基
であることが特に好ましい。mが2以上の整数を表わす
時、分子内にR1 、R2 、R3 はそれぞれ複数存在する
が、その複数のR1 、R2 、R3 はそれぞれ同じであっ
ても異なっていても良い。nは1または2が好ましく、
XはR1 、R2 、R3 、またはLと結合して分子内塩を
形成しても良い。本発明の一般式(V)で表わされる化
合物の多くのものは公知であり、試薬として市販のもの
である。一般的合成法としては、ホスフィン酸類をハロ
ゲン化アルキル類、スルホン酸エステルなどのアルキル
化剤と反応させる方法:あるいはホスホニウム塩類の対
陰イオンを常法により交換する方法がある。一般式
(V)で表わされる化合物の具体例を以下に示す。但
し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
In the formula, R 1 , R 2 and R 3 represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group or a heterocyclic residue, which may further have a substituent. . m represents an integer, L represents an m-valent organic group which is bonded to a P atom and its carbon atom, n represents an integer of 1 to 3, X represents an n-valent anion, and X is linked to L. You may have. Examples of the groups represented by R 1 , R 2 and R 3 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s
linear or branched alkyl groups such as ec-butyl group, tert-butyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group; cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. Aryl groups such as cycloalkyl groups, phenyl groups, naphthyl groups, and phenanthryl groups; allyl groups, vinyl groups, 5
An alkenyl group such as a hexenyl group; a cycloalkenyl group such as a cyclopentenyl group or a cyclohexenyl group;
Pyridyl group, quinolyl group, furyl group, imidazolyl group,
Examples of the heterocyclic residue include a thiazolyl group, a thiadiazolyl group, a benzotriazolyl group, a benzothiazolyl group, a morpholyl group, a pyrimidyl group, and a pyrrolidyl group. Examples of substituents substituted on these groups are R 1 ,
In addition to the groups represented by R 2 and R 3 , halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, nitro group, 1,2,3 tertiary amino group, alkyl or aryl ether group, alkyl or aryl Examples thereof include thioether group, carbonamido group, carbamoyl group, sulfonamide group, sulfamoyl group, hydroxyl group, sulfoxy group, sulfonyl group, carboxyl group, sulfonic acid group, cyano group and carbonyl group. Examples of the group represented by L include the groups having the same meanings as R 1 , R 2 and R 3, and polymethylene groups such as trimethylene group, tetramethylene group, hexamethylene group, pentamethylene group, octamethylene group and dodecamethylene group. Divalent aromatic groups such as phenylene group, biphenylene group and naphthylene group, trimethylenemethyl group,
Polyvalent aliphatic groups such as tetramethylenemethyl group, phenylene-1,3,5-toluyl group, phenylene-1,2,
Examples include polyvalent aromatic groups such as 4,5-tetrayl group. Examples of the anion represented by X include halogen ions such as chlorine ion, bromine ion and iodine ion,
Carboxylate ions such as acetate ion, oxalate ion, fumarate ion, benzoate ion, p-toluenesulfonate, methanesulfonate,
Examples thereof include sulfonate ion such as butane sulfonate and benzene sulfonate, sulfate ion, perchlorate ion, carbonate ion, and nitrate ion. In the general formula (V), R 1 , R 2 and R 3 are preferably groups having 20 or less carbon atoms, and aryl groups having 15 or less carbon atoms are particularly preferred.
m is preferably 1 or 2, and when m represents 1, L is preferably a group having 20 or less carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group or an aryl group having 15 or less total carbon atoms. m is 2
The divalent organic group represented by L is preferably an alkylene group, an arylene group or a divalent group formed by combining these groups, and further, these groups and -CO-.
Group, —O— group, —NR 4 — group (provided that R 4 represents a hydrogen atom or a group having the same meaning as R 1 , R 2 and R 3 and when a plurality of R 4's are present in the molecule, they are the same. Or may be different, and may even be bonded to each other),
It is a divalent group formed by combining a —S— group, a —SO— group, and a —SO 2 — group. When m represents 2, L is particularly preferably a divalent group having a total carbon number of 20 or less, which is bonded to a P atom at that carbon atom. When m is an integer of 2 or more, R 1 in the molecule, R 2, R 3 is present in plural, but a plurality of R 1, R 2, even if R 3 is optionally substituted by one or more identical respectively good. n is preferably 1 or 2,
X may combine with R 1 , R 2 , R 3 or L to form an inner salt. Many of the compounds represented by formula (V) of the present invention are known and commercially available as reagents. As a general synthesis method, there is a method in which a phosphinic acid is reacted with an alkylating agent such as an alkyl halide or a sulfonic acid ester, or a method in which a counter anion of a phosphonium salt is exchanged by a conventional method. Specific examples of the compound represented by the general formula (V) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0101】[0101]

【化40】 Embedded image

【0102】[0102]

【化41】 Embedded image

【0103】[0103]

【化42】 Embedded image

【0104】[0104]

【化43】 Embedded image

【0105】[0105]

【化44】 Embedded image

【0106】[0106]

【化45】 Embedded image

【0107】[0107]

【化46】 Embedded image

【0108】本発明の造核促進剤は、適当な水混和性有
機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既によく知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、造核促進
剤の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散し用いることができる。
The nucleation accelerator of the present invention is a suitable water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl. It can be used by dissolving it in cellosolve or the like. Further, by a well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. An object can be produced and used. Alternatively, the powder of the nucleation accelerator can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves according to a method known as a solid dispersion method.

【0109】本発明の造核促進剤は、支持体に対してハ
ロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あるいは他
の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハ
ロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイ
ド層に添加することが好ましい。本発明の造核促進剤添
加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜2×10
-2モルが好ましく、1×10-5〜2×10-2モルがより
好ましく、2×10-5〜1×10-2モルが最も好まし
い。
The nucleation accelerator of the present invention may be added to any of the silver halide emulsion layer or other hydrophilic colloid layer on the silver halide emulsion layer side of the support. It is preferably added to the silver halide emulsion layer or the hydrophilic colloid layer adjacent thereto. The addition amount of the nucleation accelerator of the present invention is 1 × 10 −6 to 2 × 10 per mol of silver halide.
-2 mol is preferable, 1 × 10 −5 to 2 × 10 −2 mol is more preferable, and 2 × 10 −5 to 1 × 10 −2 mol is most preferable.

【0110】本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤は、増感
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよい。本発明に用いる増
感色素の添加量は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ等
により異なるが、ハロゲン化銀1モル当り4×10-6
8×10-3モルノ範囲で用いられる。例えば、ハロゲン
化銀粒子サイズが0.2〜1.3μmの場合には、ハロ
ゲン化銀粒子の表面積1m2当り、2×10-7〜3.5×
10-6モルの添加量範囲が好ましく、特に6.5×10
-7〜2.0×10-6モルの添加量範囲が好ましい。
The light-sensitive silver halide emulsion of the present invention may be spectrally sensitized with a sensitizing dye into blue light, green light, red light or infrared light having a relatively long wavelength. The addition amount of the sensitizing dye used in the present invention varies depending on the shape, size, etc. of the silver halide grains, but is 4 × 10 −6 to 1 mol per mol of silver halide.
Used in the 8 × 10 −3 molno range. For example, when the silver halide grain size is 0.2 to 1.3 μm, 2 × 10 −7 to 3.5 × per 1 m 2 of surface area of the silver halide grain.
The addition amount range of 10 −6 mol is preferable, and 6.5 × 10 is particularly preferable.
The addition amount range of −7 to 2.0 × 10 −6 mol is preferable.

【0111】増感色素としては、シアニン色素、メロシ
アニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレッ
クスメロシアニン色素、ホロホーラーシアニン色素、ス
チリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘ
ミオキソノール色素等を用いることができる。本発明に
使用される有用な増感色素は例えば RESEARCH DISCLOS
URE I tem 17643 IV −A項(1978年12月
p.23)、同 Item 1831X項(1978年8月
p.437)に記載もしくは引用された文献に記載され
ている。特に各種スキャナー光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。例えば A)アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭60−1
62247号、特開平2−48653号、米国特許2,
161,331号、西独特許936,071号、特願平
3−189532号記載のシンプルメロシアニン類、
B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特開昭
50−62425号、同54−18726号、同59−
102229号に示された三核シアニン色素類、C)L
ED光源及び赤色半導体レーザーに対しては特公昭48
−42172号、同51−9609号、同55−398
18号へ特開昭62−284343号、特開平2−10
5135号に記載されたチアカルボシアニン類、D)赤
外半導体レーザー光源に対しては特開昭59−1910
32号、特開昭60−80841号に記載されたトリカ
ルボシアニン類、特開昭59−192242号、特開平
3−67242号の一般式(IIIa)、一般式(IIIb)に
記載された4−キノリン核を含有するジカルボシアニン
類などが有利に選択される。これらの増感色素は単独に
用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感
色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いら
れる。増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもた
ない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であ
って、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有
用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増
感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャー(Resear
ch Disclosure) 176巻17643(1978年12
月発行)第23頁IVのJ項に記載されている。
As the sensitizing dye, cyanine dye, merocyanine dye, complex cyanine dye, complex merocyanine dye, holoholer cyanine dye, styryl dye, hemicyanine dye, oxonol dye, hemioxonol dye and the like can be used. Useful sensitizing dyes used in the present invention are, for example, RESEARCH DISCLOS
URE Item 17643 IV-A (Dec. 1978, p. 23) and Item 1831X (Dec. 1978, p. 437) or cited therein. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, A) For an argon laser light source,
No. 62247, JP-A-2-48653, U.S. Pat.
No. 161,331, West German Patent 936,071, Simple Merocyanines described in Japanese Patent Application No. 3-189532,
B) For a helium-neon laser light source, see JP-A-50-62425, JP-A-54-18726, and JP-A-59-62426.
No. 102229, trinuclear cyanine dyes, C) L
Japanese Patent Publication No. 48 for ED light source and red semiconductor laser
-42172, 51-9609, 55-398
No. 18, JP-A-62-284343, JP-A-2-10
JP-A-59-1910 for thiacarbocyanines described in 5135 and D) infrared semiconductor laser light source.
No. 32, tricarbocyanines described in JP-A-60-80841, JP-A-59-192242 and JP-A-3-67242, and general formula (IIIa) and general formula (IIIb). -Dicarbocyanines and the like containing a quinoline nucleus are advantageously selected. These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and a combination of sensitizing dyes is often used particularly for supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are described in Research Disclosure (Resear
ch Disclosure) Volume 176 17643 (December 1978)
(Published monthly), page 23, IV, J.

【0112】アルゴンレーザー光源に対しては下記の色
素が好ましく用いられる。
The following dyes are preferably used for the argon laser light source.

【0113】[0113]

【化47】 Embedded image

【0114】[0114]

【化48】 Embedded image

【0115】ヘリウム−ネオン光源に対しては、前記の
他に特願平4−228745の8頁の下から1行目から
13頁の上から4行目に記載の一般式(I)で表わされ
る増感色素が特に好ましい。具体例を下記に示すが、こ
れらの他に特願平4−228745号の一般式(I)記
載のものがいずれも好ましく用いられる。
For the helium-neon light source, in addition to the above, it is represented by the general formula (I) described in Japanese Patent Application No. 4-228745, page 8, line 1 to page 13, line 4 to line 13. Particularly preferred are sensitizing dyes. Specific examples are shown below, but in addition to these, any of those described in the general formula (I) of Japanese Patent Application No. 4-228745 is preferably used.

【0116】[0116]

【化49】 Embedded image

【0117】[0117]

【化50】 Embedded image

【0118】LED光源及び赤外半導体レーザーに対し
ては、下記にあげる色素が特に好ましく用いられる。
The dyes listed below are particularly preferably used for the LED light source and the infrared semiconductor laser.

【0119】[0119]

【化51】 Embedded image

【0120】[0120]

【化52】 Embedded image

【0121】赤外半導体レーザー光源に対しては、下記
にあげる色素が好ましく用いられる。
The following dyes are preferably used for the infrared semiconductor laser light source.

【0122】[0122]

【化53】 Embedded image

【0123】[0123]

【化54】 Embedded image

【0124】[0124]

【化55】 Embedded image

【0125】カメラ撮影などの白色光源に対しては、特
願平5−201254号に記載の一般式(IV)の増感色
素(20頁14行目から22頁23行目)が好ましく用
いられる。具体的化合物例を下記に示す。
The sensitizing dye of the general formula (IV) described in Japanese Patent Application No. 5-201254 (page 14, line 14 to page 22, line 23) is preferably used for white light sources such as those photographed by a camera. . Specific compound examples are shown below.

【0126】[0126]

【化56】 Embedded image

【0127】[0127]

【化57】 Embedded image

【0128】[0128]

【化58】 Embedded image

【0129】[0129]

【化59】 Embedded image

【0130】本発明において用いられるハロゲン化銀乳
剤のハロゲン組成は特に制限はない、本発明の目的をよ
り効果的に達成するうえで、塩化銀含有率50モル%以
上の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀が好ましい。沃化銀
の含有率は5モル%を下回ること、特に2モル%より少
ないことが好ましい。
The halogen composition of the silver halide emulsion used in the present invention is not particularly limited, and in order to more effectively achieve the object of the present invention, silver chloride having a silver chloride content of 50 mol% or more and chlorobromide. Silver and silver chloroiodobromide are preferred. The content of silver iodide is preferably less than 5 mol%, particularly preferably less than 2 mol%.

【0131】本発明において、スキャナー露光の様な高
照度露光に適した感光材料及び線画撮影用感光材料は、
高コントラスト及び低カブリを達成するために、ロジウ
ム化合物を含有する。本発明に用いられるロジウム化合
物として、水溶性ロジウム化合物を用いることができ
る。たとえば、ハロゲン化ロジウム(III) 化合物、また
はロジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オ
キザラト等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウ
ム(III) 錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキ
サアミンロジウム(III) 錯塩、トリザラトロジウム(II
I) 錯塩等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、
水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウ
ム化合物の溶液を安定化させるために一般によく行われ
る方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液(たとえば塩
酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ
(たとえばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を
添加する方法を用いることができる。水溶性ロジウムを
用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジ
ウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して
溶解させることも可能である。添加量は、ハロゲン化銀
乳剤の銀1モル当たり1×10-8〜5×10-6モル、好
ましくは5×10-8〜1×10-6モルである。これらの
化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒子の製造時及び乳
剤を塗布する前の各段階において適宜行うことができる
が、特に乳剤形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組
み込まれることが好ましい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides 著 Chimie et Physique Photograp
hique (Paul Montel 社刊、1967年)、G.F.Dufin
著 Photographic Emulsion Chemistry (The Focal Pres
s 刊、1966年)、V.L.Zelikman et al著 Making an
d Coating Photographic Emulsion (The Focal Press
刊、1964年)などに記載された方法を用いて調製す
ることができる。
In the present invention, the light-sensitive material suitable for high illuminance exposure such as scanner exposure and the light-sensitive material for line drawing are
Rhodium compounds are included to achieve high contrast and low fog. As the rhodium compound used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a rhodium (III) halide compound, or a rhodium complex salt having a halogen, an amine, oxalate, etc. as a ligand, such as a hexachlororhodium (III) complex salt, a hexabromorhodium (III) complex salt, a hexaaminerhodium ( III) Complex salt, trisalathodium (II
I) Complex salts and the like can be mentioned. These rhodium compounds are
It is used by dissolving it in water or an appropriate solvent, but it is generally used to stabilize the solution of the rhodium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid, etc.), or halogenation. A method of adding an alkali (for example, KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain which has been previously doped with rhodium when preparing the silver halide. The addition amount is 1 × 10 −8 to 5 × 10 −6 mol, preferably 5 × 10 −8 to 1 × 10 −6 mol, per mol of silver in the silver halide emulsion. The addition of these compounds can be appropriately carried out at each stage before the production of the silver halide emulsion grains and before the coating of the emulsion, but it is particularly preferable to add them at the time of forming the emulsion and to incorporate them into the silver halide grains. . The photographic emulsion used in the present invention is Chimie et Physique Photograp by P. Glafkides.
hique (Paul Montel, 1967), GFDufin
By Photographic Emulsion Chemistry (The Focal Pres
s, 1966), by VL Zelikman et al Making an
d Coating Photographic Emulsion (The Focal Press
Ed., 1964) and the like.

【0132】可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させ
る方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆混合法)
を用いることもできる。同時混合法の一つの形式として
ハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一定に保つ
方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤
を使用して粒子形成させることが好ましい。より好まし
くは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭53−824
08号、同55−77737号に記載されている。好ま
しいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリジンチオンである。コントロ
ールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使
用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ
分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本
発明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手
段である。また、粒子サイズを均一にするためには、英
国特許第1,535,016号、特公昭48−3689
0号、同52−16364号に記載されているように、
硝酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度
に応じて変化させる方法や、英国特許第4,242,4
45号、特開昭55−158124号に記載されている
ように水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽
和度を越えない範囲において早く成長させることが好ま
しい。本発明の乳剤は単分散乳剤が好ましく変動係数が
20%以下、特に好ましくは15%以下である。単分散
ハロゲン化銀乳剤中の粒子の平均粒子サイズは0.5μ
m以下であり、特に好ましくは0.1μm〜0.4μm
である。
As the method of reacting the soluble silver salt and the soluble halogen salt, any of a one-sided mixing method, a simultaneous mixing method and a combination thereof may be used. Method of forming grains in excess of silver ions (so-called reverse mixing method)
Can also be used. As one type of the double jet method, a method in which pAg in a liquid phase in which silver halide is formed is kept constant, that is, a so-called controlled double jet method can be used. Further, it is preferable to form grains using a so-called silver halide solvent such as ammonia, thioether, or tetra-substituted thiourea. More preferred are tetra-substituted thiourea compounds.
No. 08, 55-77737. Preferred thiourea compounds are tetramethylthiourea, 1,3-
Dimethyl-2-imidazolidinthione. According to the controlled double jet method and the grain forming method using a silver halide solvent, it is easy to produce a silver halide emulsion having a regular crystal form and a narrow grain size distribution, and the silver halide used in the present invention is easy to produce. It is a useful tool for making emulsions. Further, in order to make the particle size uniform, British Patent No. 1,535,016, JP-B-48-3689.
No. 0 and No. 52-16364,
A method in which the addition rate of silver nitrate or alkali halide is changed according to the grain growth rate, and a method disclosed in British Patent No. 4,242,4
No. 45 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-158124, it is preferable to use a method of changing the concentration of the aqueous solution and to grow the solution quickly within a range not exceeding the critical saturation. The emulsion of the present invention is preferably a monodisperse emulsion, and the coefficient of variation is preferably 20% or less, particularly preferably 15% or less. The average grain size of the grains in the monodispersed silver halide emulsion is 0.5 μm.
m or less, and particularly preferably 0.1 μm to 0.4 μm
It is.

【0133】本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法
などが好ましい。
The silver halide emulsion of the present invention is preferably chemically sensitized. As the chemical sensitization method, known methods such as a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method and a noble metal sensitization method can be used, and they can be used alone or in combination. When used in combination,
For example, a sulfur sensitization method and a gold sensitization method, a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method and a gold sensitization method, a sulfur sensitization method, a tellurium sensitization method, and a gold sensitization method are preferable.

【0134】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たと
えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、
チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加
量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大
きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀
1モル当り10-7〜10-2モルであり、より好ましくは
10-5〜10-3モルである。
The sulfur sensitization used in the present invention is usually carried out by adding a sulfur sensitizer and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain period of time. Known compounds can be used as the sulfur sensitizer. For example, in addition to sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines and the like are used. be able to. Preferred sulfur compounds are
Thiosulfate and thiourea compounds. The amount of the sulfur sensitizer to be added varies under various conditions such as pH during chemical ripening, temperature, and the size of silver halide grains, but is preferably 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. And more preferably 10 -5 to 10 -3 mol.

【0135】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44−15748号、同43−13489号、
特願平2−13097号、同2−229300号、同3
−121798号等に記載の化合物を用いることができ
る。特に特願平3−121798号中の一般式(VIII)
および(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。
As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or non-unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. As unstable selenium compounds, JP-B-44-15748 and 43-13489,
Japanese Patent Application Nos. 2-13097, 2-229300, and 3
Compounds described in JP-A-121798 can be used. In particular, the general formula (VIII) in Japanese Patent Application No. 3-121798.
It is preferable to use the compound represented by (IX).

【0136】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平4−
146739号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特願平2−33
3819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
(J.Chem.Soc.Chem.Commun.) 635(1980),ibid
1102(1979),ibid 645(1979)、
ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキ
ン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.)
1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai) 編、ザ
・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・ア
ンド・テルリウム・カンパウンズ(The Chmistry of Or
ganic Serenium and Tellunium Compounds),Vo 1(1
986)、同 Vol 2(1987)に記載の化合物を用い
ることができる。特に特願平4−146739号中の一
般式(II)(III)(IV)で示される化合物が好ましい。
The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound which forms silver telluride which is presumed to be a sensitizing nucleus on the surface or inside of silver halide grains. Regarding the formation rate of silver telluride in a silver halide emulsion, see Japanese Patent Application No.
It can be tested by the method described in No. 146739.
Specifically, U.S. Pat. Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031, British Patent 235,211 and 1,121,496
No. 1,295,462, No. 1,396,69
6, Canadian Patent No. 800,958, Japanese Patent Application No. 2-33.
No. 3819, No. 3-53693, No. 3-131598
No. 4-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication
(J.Chem.Soc.Chem.Commun.) 635 (1980), ibid
1102 (1979), ibid 645 (1979),
Journal of Chemical Society Perkin Transaction (J.Chem.Soc.Perkin.Trans.)
1, 191 (1980), edited by S. Patai, The Chemistry of Organic Selenium and Tellurium Campounds (The Chmistry of Or)
ganic Serenium and Tellunium Compounds), Vo 1 (1
986) and Vol 2 (1987). In particular, the compounds represented by formulas (II), (III) and (IV) in Japanese Patent Application No. 4-146739 are preferred.

【0137】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。本発
明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラ
ジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好
ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具体的に
は、塩化金酸、カリウムクロレート、カリウムオーリチ
オシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン化銀1
モル当たり10-7〜10-2モル程度を用いることができ
る。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀
粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム
塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよ
い。本発明においては、還元増感を用いることができ
る。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホルム
アミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いること
ができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許
(EP)−293,917に示される方法により、チオ
スルホン酸化合物を添加してもよい。本発明に用いられ
る感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよい
し、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、
ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増
感の条件の異なるもの)併用してもよい。
The amount of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains to be used, the conditions of chemical ripening, and the like, but generally ranges from 10 -8 to 10 -2 mol per mol of silver halide. Preferably, about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 45 ° C. 85 ° C. Examples of the noble metal sensitizer used in the present invention include gold, platinum, palladium and iridium, with gold sensitization being particularly preferred. Specific examples of the gold sensitizer used in the present invention include chloroauric acid, potassium chlorate, potassium aurithiocyanate, and gold sulfide.
About 10 -7 to 10 -2 mol per mol can be used. In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt, and the like may coexist in the process of forming silver halide grains or physical ripening. In the present invention, reduction sensitization can be used. Stannous salts, amines, formamidinesulfinic acid, silane compounds and the like can be used as the reduction sensitizer. A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion of the present invention according to the method described in European Patent Application (EP) -293,917. The silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be only one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes,
Those having different halogen compositions, those having different crystal habits, and those having different conditions of chemical sensitization) may be used in combination.

【0138】本発明において、返し用感光材料として特
に適したハロゲン化銀乳剤は90モル%以上より好まし
くは95モル%以上、が塩化銀からなるハロゲン化銀で
あり、臭化銀を0〜10モル%含む塩臭化銀もしくは塩
沃臭化銀である。臭化銀あるいは沃化銀の比率が増加す
ると明室下でのセーフライト安全性の悪化、あるいはγ
が低下して好ましくない。
In the present invention, a silver halide emulsion particularly suitable as a reversal light-sensitive material is a silver halide containing 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, and silver bromide in an amount of 0 to 10%. It is silver chlorobromide or silver chloroiodobromide containing mol%. If the ratio of silver bromide or silver iodide increases, the safety of safelight in a bright room deteriorates, or γ
Is lowered, which is not preferable.

【0139】また、本発明の返し用感光材料に用いるハ
ロゲン化銀乳剤は、遷移金属錯体を含むことが望まし
い。遷移金属としては、Rh、Ru、Re、Os、I
r、Cr、などがあげられる。配位子としては、ニトロ
シル及びチオニトロシル架橋配位子、ハロゲン化物配位
子(フッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物)、シアン
化物配位子、シアネート配位子、チオシアネート配位
子、セレノシアネート配位子、テルロシアネート配位
子、アシド配位子及びアコ配位子が挙げられる。アコ配
位子が存在する場合には、配位子の1つ又は2つを占め
ることが好ましい。
The silver halide emulsion used in the reversal light-sensitive material of the present invention preferably contains a transition metal complex. As transition metals, Rh, Ru, Re, Os, I
r, Cr, and the like. The ligands include nitrosyl and thionitrosyl bridging ligands, halide ligands (fluoride, chloride, bromide and iodide), cyanide ligand, cyanate ligand, thiocyanate ligand, selenoate ligand Cyanate, tellurocyanate, acid and aquo ligands. When an aco ligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands.

【0140】具体的には、ロジウム原子を含有せしめる
には、単塩、錯塩など任意の形の金属塩にして粒子調製
時に添加することができる。ロジウム塩としては、一塩
化ロジウム、二塩化ロジウム、三塩化ロジウム、ヘキサ
クロロロジウム酸アンモニウム等が挙げられるが、好ま
しくは水溶性の三価のロジウムのハロゲン錯化合物例例
えばヘキサクロロロジウム(III) 酸もしくはその塩(ア
ンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩など)であ
る。これらの水溶性ロジウム塩の添加量はハロゲン化銀
1モル当り1.0×10-6モル〜1.0×10-3モルの
範囲で用いられる。好ましくは、1.0×10-5モル〜
1.0×10-3モル、特に好ましくは5.0×10-5
ル〜5.0×10-4モルである。
Specifically, in order to contain a rhodium atom, a metal salt in any form such as a single salt or a complex salt can be added and added at the time of grain preparation. Examples of the rhodium salt include rhodium monochloride, rhodium dichloride, rhodium trichloride, ammonium hexachlororhodate, and the like, but are preferably water-soluble trivalent rhodium halogen complex compounds such as hexachlororhodium (III) acid or its Salts (ammonium salt, sodium salt, potassium salt, etc.). The amount of these water-soluble rhodium salts added is in the range of 1.0 × 10 −6 mol to 1.0 × 10 −3 mol per mol of silver halide. Preferably 1.0 × 10 −5 mol
1.0 × 10 −3 mol, particularly preferably 5.0 × 10 −5 mol to 5.0 × 10 −4 mol.

【0141】又、以下の遷移金属錯体も好ましい。 1 〔Ru(NO)Cl5 -2 2 〔Ru(NO)2 Cl4 -1 3 〔Ru(NO)(H2 O〕Cl4 -1 4 〔Ru(NO)Cl5 -2 5 〔Rh(NO)Cl5 -2 6 〔Re(NO)CN5 -2 7 〔Re(NO)ClCN4 -2 8 〔Rh(NO)2 Cl4 -1 9 〔Rh(NO)(H2 O)Cl4 -1 10 〔Ru(NO)CN5 -2 The following transition metal complexes are also preferable. 1 [Ru (NO) Cl 5 ] -2 2 [Ru (NO) 2 Cl 4 ] -1 3 [Ru (NO) (H 2 O] Cl 4 ] -1 4 [Ru (NO) Cl 5 ] -2 5 [Rh (NO) Cl 5] -2 6 [Re (NO) CN 5] -2 7 [Re (NO) ClCN 4] -2 8 [Rh (NO) 2 Cl 4] -1 9 [Rh (NO ) (H 2 O) Cl 4 ] -1 10 [Ru (NO) CN 5 ] -2

【0142】11 〔Ru(NO)Br5 -2 12 〔Rh(NS)Cl5 -2 13 〔Os(NO)Cl5 -2 14 〔Cr(NO)Cl5 -3 15 〔Re(NO)Cl5 -1 16 〔Os(NS)Cl4 (TeCN)〕-2 17 〔Ru(NS)I5 -2 18 〔Re(NS)Cl4 (SeCN)〕-2 19 〔Os(NS)Cl(SCN)4 -2 20 〔Ir(NO)Cl5 -2 11 [Ru (NO) Br 5 ] -2 12 [Rh (NS) Cl 5 ] -2 13 [Os (NO) Cl 5 ] -2 14 [Cr (NO) Cl 5 ] -3 15 [Re (NO) Cl 5 ] -1 16 [Os (NS) Cl 4 (TeCN)] -2 17 [Ru (NS) I 5 ] -2 18 [Re (NS) Cl 4 (SeCN)] -2 19 [Os (NS) Cl (SCN) 4 ] -2 20 [Ir (NO) Cl 5 ] -2

【0143】次に、一般式(II) で示される化合物につ
いて詳しく説明する。 一般式(II)
Next, the compound represented by the general formula (II) will be described in detail. General formula (II)

【0144】[0144]

【化60】 Embedded image

【0145】式中Y、Zは同一でも異なってもよく、各
々N又はCR2 (R2 はアルキル基、アリール基を表
す)、R1 は−SO3 M、−COOM、−OH、−NH
SO23 、−SO2 NR3 4 および−NR5 CON
3 4 からなる群から選ばれた少なくとも1種で置換
されたアルキル基、アリール基もしくはヘテロ環基又は
アルキル基、アリール基もしくはヘテロ環基が連結基を
介して構成される基を表す。R3 、R4 およびR5 は同
一でも異なってもよく、各々水素原子又は炭素数1〜4
の低級アルキル基を表す。Mは水素原子、アルカリ金
属、4級アンモニウムおよび4級ホスホニウムを表す。
In the formula, Y and Z may be the same or different and each is N or CR 2 (R 2 represents an alkyl group or an aryl group), R 1 is —SO 3 M, —COOM, —OH, —NH.
SO 2 R 3, -SO 2 NR 3 R 4 and -NR 5 CON
It represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group substituted with at least one selected from the group consisting of R 3 R 4 or a group in which an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group is formed via a linking group. R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different and each is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 4.
Represents a lower alkyl group. M represents a hydrogen atom, an alkali metal, a quaternary ammonium and a quaternary phosphonium.

【0146】R1 で表されるアルキル基としては具体的
には、炭素数1〜20の直鎖、分岐もしくはシクロアル
キル基(例えばメチル基、プロピル基、ヘキシル基、ド
デシル基、イソプロピル基等)、炭素数1〜20のシク
ロアルキル基(例えばシクロプロピル基、シクロヘキシ
ル基等)、アリール基としては具体的には炭素数6〜2
0のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基等)、
ヘテロ環基としては具体的には1個以上の窒素、酸素あ
るいは7員環のヘテロ環であり、さらに適当な位置で縮
合環を形成しているものも包含する(例えばピリジン
環、キノリン環、ピリミジン環、イソキノリン環等)。
またアルキル基、アリール基及びヘテロ環基は上記に列
記した以外の置換基でさらに置換されていてもよく、具
体的にはハロゲン原子(F、Cl、Br等)、アルキル
基(メチル基、エチル基)、アリール基(フェニル基、
p−クロロフェニル基等)アルコキシ基(メトキシ基、
メトキシエトキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキ
シ基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、p−ト
ルエンスルホニル基等)、カルバモイル基(無置換カル
バモイル基、ジエチルカルバモイル基等)、アミド基
(アセトアミド基、ベンズアミド基等)、アルコキシカ
ルボニルアミノ基(メトキシカルボニルアミノ基等)、
アリーロキシカルボニルアミノ基(フェノキシカルボニ
ルアミノ基等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカ
ルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェノ
キシカルボニル基等)、シアノ基、ニトロ基、アミノ基
(無置換アミノ基、ジメチルアミノ基等)、アルキルス
ルフィニル基(メトキシスルフィニル基等)、アリール
スルフィニル基(フェニルスルフィニル基等)、アルキ
ルチオ基(メチルチオ基等)、及びアリールチオ基(フ
ェニルチオ基等)を挙げることが出来、これらの置換基
は2個以上置換していてもよく、2個以上置換するとき
は同じでも異なってもよい。またR1 に含まれてもよい
前述の連結基としては−S−、−O−、−N(R3
−、−CO−、−SO−、−SO2 −、−SO2 N(R
3 )−、−CON(R3 )−、−COO−が好ましい。
ここでR3 とは、前述の−NHSO2 3 等と同義であ
る。
Specific examples of the alkyl group represented by R 1 include linear, branched or cycloalkyl groups having 1 to 20 carbon atoms (eg, methyl group, propyl group, hexyl group, dodecyl group, isopropyl group, etc.). Specific examples of the cycloalkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclohexyl group, etc.) and the aryl group include 6 to 2 carbon atoms.
0 aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.),
The heterocyclic group is specifically one or more nitrogen, oxygen or a 7-membered heterocyclic ring, and also includes those forming a condensed ring at an appropriate position (eg, pyridine ring, quinoline ring, Pyrimidine ring, isoquinoline ring, etc.).
The alkyl group, aryl group and heterocyclic group may be further substituted with a substituent other than those listed above, specifically, a halogen atom (F, Cl, Br etc.), an alkyl group (methyl group, ethyl group). Group), an aryl group (phenyl group,
p-chlorophenyl group, etc.) alkoxy group (methoxy group,
Methoxyethoxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group, etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, etc.), carbamoyl group (unsubstituted carbamoyl group, diethylcarbamoyl group, etc.), amide group (acetamido group, Benzamide group, etc.), alkoxycarbonylamino group (methoxycarbonylamino group, etc.),
Aryloxycarbonylamino group (phenoxycarbonylamino group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (phenoxycarbonyl group, etc.), cyano group, nitro group, amino group (unsubstituted amino group, dimethylamino) Groups), alkylsulfinyl groups (methoxysulfinyl groups, etc.), arylsulfinyl groups (phenylsulfinyl groups, etc.), alkylthio groups (methylthio groups, etc.), and arylthio groups (phenylthio groups, etc.), and these substituents May be substituted by two or more, and when two or more are substituted, they may be the same or different. Further, as the above-mentioned linking group which may be contained in R 1 , —S—, —O—, —N (R 3 )
-, - CO -, - SO -, - SO 2 -, - SO 2 N (R
3) -, - CON (R 3) -, - COO- is preferred.
Here, R 3 has the same meaning as the above-mentioned —NHSO 2 R 3 and the like.

【0147】連結基を有したR1 の具体例としては、下
記のものを挙げることができる。
The following can be mentioned as specific examples of R 1 having a linking group.

【0148】[0148]

【化61】 Embedded image

【0149】R2 で表されるアルキル基、アリール基は
各々置換基を有するものを含み、置換基としてはR1
置換基と同じものを挙げることができる。
The alkyl group and aryl group represented by R 2 include those each having a substituent, and examples of the substituent include the same substituents as R 1 .

【0150】一般式(II)で表されるもののうちで、特に
好ましいものとして一般式(VI) で表されるものを挙げ
ることができる。 一般式(VI)
Among the compounds represented by the general formula (II), those particularly preferred are those represented by the general formula (VI). General formula (VI)

【0151】[0151]

【化62】 Embedded image

【0152】一般式(VI)のR5 は少なくとも1個の−C
OOM、−SO3 M、−OH、−NHSO2 3 、−S
2 NR3 4 または−NR3 CONR3 4 で置換さ
れたフェニル基を表し、このフェニル基はさらに他の置
換基によって置換されていてもよい。ここで−COO
M、−SO3 M、−OH、−NHSO2 3 、−SO2
NR34 および−NR3 CONR3 4 が2個以上あ
るときは同じでも異なっていてもよく、−COOM、−
SO3 Mが特に好ましい。Mは一般式(II) で表された
ものと同義である。以下に本発明に用いられる一般式
(II) で表される化合物の具体例を示すが、本発明の範
囲はこの化合物に限定されるものではない。
R 5 in the general formula (VI) is at least one —C
OOM, -SO 3 M, -OH, -NHSO 2 R 3, -S
It represents a phenyl group substituted with O 2 NR 3 R 4 or —NR 3 CONR 3 R 4 , and this phenyl group may be further substituted with another substituent. Where -COO
M, -SO 3 M, -OH, -NHSO 2 R 3, -SO 2
NR 3 when R 4 and -NR 3 CONR 3 R 4 there are two or more may be the same or different, -COOM, -
SO 3 M is particularly preferred. M has the same meaning as that represented by the general formula (II). Specific examples of the compound represented by formula (II) used in the present invention are shown below, but the scope of the present invention is not limited to this compound.

【0153】[0153]

【化63】 Embedded image

【0154】[0154]

【化64】 Embedded image

【0155】[0155]

【化65】 Embedded image

【0156】[0156]

【化66】 Embedded image

【0157】一般式(II) で表わされる化合物の合成に
ついては一般によく知られているようにイソチオシアネ
ートを出発原料に用いる方法で容易に合成することがで
きる。以下に参考となる合成法の記載されている特許;
文献を記す。米国特許2,585,388号、同2,5
41,924号、特公昭42−21842号、米国特許
3,266,897号、英国特許1,275,701
号、特開昭56−111846号、D.A.Berges et al.,
"Journal of Heterocyclic Chemistry" 第15巻 981号
(1978年) 、"The Chemistry of Heterocyclic Chemistr
y" Imidazole and Derivatives part I、336 〜339
頁、Chemical Abstract 58、7921号(1963)、394 頁、E.
Hoggarth"Journal of Chemical Society" 1949年巻、11
60〜1167頁、S.R.Sandler W.Karo著"Organic Functiona
l Group Preparation"Academic Press 社(1968)、312
〜315 頁、I.I. Kovtunovskaya Lovshine 著Tr.Ukr.Ins
t.Eksperim Endokrinol 18巻、345 頁(1961) 、M. Cha
mdon et al.,Bull.Chem.Fr.,723(1954) 、D.A.Shirley,
D.W.Alley, J.Amer.Chem.Soc.,79、4922(1957)、A.Woh
l, w.marckwald, ドイツ化学会誌(Ber.)22巻、568(188
9) 。一般式(I)で表わされる化合物は通常の添加剤
と同程度の量を用いられるが、好ましくは5mg〜1g/
リットル、より好ましくは10mg〜500mg/リットル
で用いられる。
The compound represented by the general formula (II) can be easily synthesized by a method using isothiocyanate as a starting material, as is well known. The following patents that describe the synthetic method that serves as a reference;
Describe the literature. US Pat. Nos. 2,585,388 and 2,5
41,924, Japanese Examined Patent Publication No. 42-21842, U.S. Pat. No. 3,266,897, British Patent 1,275,701.
No. 56-118846, DABerges et al.,
"Journal of Heterocyclic Chemistry" Volume 15 Issue 981
(1978), "The Chemistry of Heterocyclic Chemistr
y "Imidazole and Derivatives part I, 336-339
Page, Chemical Abstract 58, 7921 (1963), page 394, E.
Hoggarth "Journal of Chemical Society" 1949, 11
Pages 60-1167, SR Organic W. Karo "Organic Functiona"
l Group Preparation "Academic Press (1968), 312
~ P. 315, II Kovtunovskaya Lovshine Tr.Ukr.Ins
t.Eksperim Endokrinol Vol. 18, p. 345 (1961), M. Cha.
mdon et al., Bull. Chem. Fr., 723 (1954), DAShirley,
DWAlley, J. Amer. Chem. Soc., 79, 4922 (1957), A. Woh
l, w.marckwald, German Chemical Society (Ber.) Vol. 22, 568 (188
9). The compound represented by the general formula (I) is used in the same amount as a usual additive, but preferably 5 mg to 1 g /
It is used in liters, more preferably 10 mg to 500 mg / liter.

【0158】本発明のハロゲン化銀感光材料は、現像主
薬としてジヒドロキシベンゼン系現像主薬およびこれと
超加成性を示す補助現像主薬を含有する現像液によって
現像処理される。現像処理に際しては、通常の自動現像
処理機を使用することができる。現像の開始時に現像処
理タンクに満たされる現像液を現像開始液(母液)と呼
び、連続現像時に現像処理タンクに補充される現像液を
現像補充液と呼ぶ。本発明では、現像開始液および現像
補充液の双方が、現像主薬としてジヒドロキシベンゼン
系現像主薬およびこれと超加成性を示す補助現像主薬を
含有する。
The silver halide light-sensitive material of the present invention is developed with a developing solution containing a dihydroxybenzene type developing agent as a developing agent and an auxiliary developing agent exhibiting superadditivity therewith. In the development processing, a usual automatic development processor can be used. The developing solution filled in the development processing tank at the start of development is called a development starting solution (mother solution), and the developing solution replenished in the development processing tank at the time of continuous development is called a development replenishing solution. In the present invention, both the development starter solution and the development replenisher solution contain, as a developing agent, a dihydroxybenzene type developing agent and an auxiliary developing agent exhibiting superadditivity with the dihydroxybenzene type developing agent.

【0159】本発明に用いるジヒドロキシベンゼン系現
像主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノ
ン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、ハイドロキノンモノスルホン酸塩などがあるが、特
にハイドロキノンが好ましい。ジヒドロキシベンゼン系
現像主薬と超加成性を示す補助現像主薬としては、1−
フェニル−3−ピラゾリドン類やp−アミノフェノール
類がある。従って、本発明ではジヒドロキシベンゼン系
現像主薬と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合
せ、またはジヒドロキシベンゼン系現像主薬とp−アミ
ノフェノール類の組合せが好ましく用いられる。本発明
に用いる1−フェニル−3−ピラゾリドン又はその誘導
体の現像主薬としては1−フェニル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル
−3−ピラゾリドンなどがある。本発明に用いるp−ア
ミノフェノール系現像主薬としてはN−メチル−p−ア
ミノフェノール、p−アミノフェノール、N−(β−ヒ
ドロキシエチル)−p−アミノフェノール、N−(4−
ヒドロキシフェニル)グリシン等があるが、なかでもN
−メチル−p−アミノフェノールが好ましい。ジヒドロ
キシベンゼン系現像主薬は通常0.05〜0.8モル/
リットルの量で用いられるのが好ましいが、本発明にお
いては、0.23モル/リットル以上で使用するのが特
に好ましい。更に好ましくは、0.23〜0.6モル/
リットルの範囲である。またジヒドロキシベンゼン類と
1−フェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノ
フェノール類の組合せを用いる場合には前者を0.23
〜0.6モル/リットル、さらに好ましくは0.23〜
0.5モル/リットル、後者を0.06モル/リットル
以下、さらに好ましくは0.03モル/リットル〜0.
003モル/リットルの量で用いるのが好ましい。
As the dihydroxybenzene type developing agent used in the present invention, there are hydroquinone, chlorohydroquinone, isopropylhydroquinone, methylhydroquinone, hydroquinone monosulfonate and the like, and hydroquinone is particularly preferable. As the auxiliary developing agent showing superadditivity with the dihydroxybenzene type developing agent, 1-
There are phenyl-3-pyrazolidones and p-aminophenols. Therefore, in the present invention, a combination of a dihydroxybenzene-based developing agent and 1-phenyl-3-pyrazolidones or a combination of a dihydroxybenzene-based developing agent and p-aminophenols is preferably used. The developing agents of 1-phenyl-3-pyrazolidone or a derivative thereof used in the present invention include 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, and 1-phenyl-4-methyl-4. -Hydroxymethyl-3-pyrazolidone and the like. The p-aminophenol-based developing agents used in the present invention include N-methyl-p-aminophenol, p-aminophenol, N- (β-hydroxyethyl) -p-aminophenol, and N- (4-
Hydroxyphenyl) glycine, etc., among which N
-Methyl-p-aminophenol is preferred. The dihydroxybenzene type developing agent is usually 0.05 to 0.8 mol /
It is preferably used in an amount of 1 liter, but in the present invention, it is particularly preferably used in an amount of 0.23 mol / liter or more. More preferably, 0.23 to 0.6 mol /
It is in the liter range. When a combination of dihydroxybenzenes and 1-phenyl-3-pyrazolidones or p-aminophenols is used, the former is 0.23.
~ 0.6 mol / liter, more preferably 0.23 ~
0.5 mol / liter, the latter 0.06 mol / liter or less, more preferably 0.03 mol / liter to 0.
It is preferably used in an amount of 003 mol / l.

【0160】本発明においては、現像開始液及び現像補
充液の双方が、「該液1リットルに0.1モルの水酸化
ナトリウムを加えたときのpH上昇が0.25以下」の
性質を有することが必要である。使用する現像開始液な
いし現像補充液がこの性質を有することを確かめる方法
としては、試験する現像開始液ないし現像補充液のpH
を10.5に合わせ、ついでこの液1リットルに水酸化
ナトリウムを0.1モル添加し、この時の液のpH値を
測定し、pH値の上昇が0.25以下であれば上記に規
定した性質を有すると判定する。本発明では特に、上記
試験を行った時のpH値の上昇が0.2以下である現像
開始液及び現像補充液を用いることが好ましい。
In the present invention, both the development initiating solution and the development replenishing solution have the property that "the pH increase when 0.1 mol of sodium hydroxide is added to 1 liter of the solution is 0.25 or less". It is necessary. The method of confirming that the development starter solution or development replenisher used has this property is as follows.
Is adjusted to 10.5, and then 0.1 mol of sodium hydroxide is added to 1 liter of this solution, and the pH value of the solution at this time is measured. It is determined that it has the property. In the present invention, it is particularly preferable to use a development starter solution and a development replenisher solution which have a pH value increase of 0.2 or less when the above test is carried out.

【0161】現像開始液及び現像補充液に上記の性質を
与える方法としては、緩衝剤を使用するのが好ましい。
緩衝剤としては、炭酸塩、特開昭62−186259号
に記載のホウ酸、特開昭60−93433号に記載の糖
類(例えばサッカロース)、オキシム類(例えばアセト
オキシム)、フェノール類(例えば5−スルホサリチル
酸)、第3リン酸塩(例えばナトリウム塩、カリウム
塩)などが用いられ、好ましくは炭酸塩、ホウ酸が用い
られる。緩衝剤、特に炭酸塩の使用量は、好ましくは、
0.5モル/リットル以上、特に0.5〜1.5モル/
リットルである。
As a method for imparting the above-mentioned properties to the development initiating solution and the development replenishing solution, it is preferable to use a buffer.
Examples of the buffer include carbonates, boric acid described in JP-A-62-186259, sugars described in JP-A-60-93333 (eg, saccharose), oximes (eg, acetoxime), and phenols (eg, 5 -Sulfosalicylic acid), tertiary phosphates (e.g., sodium salts, potassium salts) and the like, preferably carbonates and boric acid. The amount of buffer, especially carbonate used, is preferably
0.5 mol / liter or more, particularly 0.5 to 1.5 mol /
Liters.

【0162】本発明においては、現像開始液のpHが
9.0〜11.0であり、特に好ましくは9.5〜1
0.7の範囲である。現像補充液のpHおよび連続処理
時の現像タンク内の現像液のpHもこの範囲である。p
Hの設定のために用いるアルカリ剤には通常の水溶性無
機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム)を用いること
ができる。
In the present invention, the pH of the development initiating solution is 9.0 to 11.0, particularly preferably 9.5 to 1.
It is in the range of 0.7. The pH of the developer replenisher and the pH of the developer in the developing tank during continuous processing are also in this range. p
As the alkali agent used for setting H, a usual water-soluble inorganic alkali metal salt (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate) can be used.

【0163】ハロゲン化銀写真感光材料1平方メートル
を処理する際に、現像液の補充液量は225ミリリット
ル以下、好ましくは225〜30ミリリットル、特に1
80〜50ミリリットルである。現像補充液は、現像開
始液と同一の組成を有していてもよいし、現像で消費さ
れる成分について開始液よりも高い濃度を有していても
よい。
When processing 1 square meter of the silver halide photographic light-sensitive material, the replenisher amount of the developing solution is 225 ml or less, preferably 225 to 30 ml, particularly 1
80 to 50 ml. The development replenisher may have the same composition as the development start solution, or may have a higher concentration of components consumed in development than the start solution.

【0164】本発明で感光材料を現像処理する際の現像
液(現像開始液及び現像補充液の双方をまとめて現像液
という。以下同じ)には、通常用いられる添加剤(例え
ば、保恒剤、キレート剤)を含有することができる。本
発明に用いる保恒剤としては亜硫酸ナトリウム、亜硫酸
カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜
硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデ
ヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫酸塩は0.2
0モル/リットル以上、特に0.3モル/リットル以上
用いられるが、余りに多量添加すると現像液中の銀汚れ
の原因になるので、上限は1.2モル/リットルとする
のが望ましい。特に好ましくは、0.35〜0.7モル
/リットルである。ジヒドロキシベンゼン系現像主薬の
保恒剤として、亜硫酸塩と併用してアスコルビン酸誘導
体を少量使用しても良い。ここでアスコルビン酸誘導体
とは、アスコルビン酸、その立体異性体であるエリソル
ビン酸やそのアルカリ金属塩(ナトリウム、カリウム
塩)などを包含する。エリソルビン酸ナトリウムを用い
ることが素材コストの点で好ましい。添加量はジヒドロ
キシベンゼン系現像主薬に対して、モル比で0.03〜
0.12の範囲が好ましく、特に好ましくは0.05〜
0.10の範囲である。保恒剤としてアスコルビン酸誘
導体を使用する場合には現像液中にホウ素化合物を含ま
ないことが好ましい。
Additives (eg, preservatives) usually used in the developing solution (both the development starting solution and the developing replenishing solution are collectively referred to as a developing solution hereinafter) for developing the light-sensitive material in the present invention. , A chelating agent). Examples of preservatives used in the present invention include sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite, and formaldehyde sodium bisulfite. 0.2 for sulfite
It is used in an amount of 0 mol / liter or more, particularly 0.3 mol / liter or more, but if added in an excessively large amount, it causes silver stain in the developing solution, so the upper limit is preferably 1.2 mol / liter. Particularly preferably, it is 0.35 to 0.7 mol / liter. As a preservative for a dihydroxybenzene-based developing agent, a small amount of an ascorbic acid derivative may be used in combination with sulfite. Here, the ascorbic acid derivative includes ascorbic acid, its stereoisomer, erythorbic acid, and alkali metal salts (sodium and potassium salts) thereof. It is preferable to use sodium erythorbate in terms of material cost. The addition amount is 0.03 to molar ratio based on the dihydroxybenzene type developing agent.
The range of 0.12 is preferable, and particularly preferably 0.05 to
It is in the range of 0.10. When an ascorbic acid derivative is used as a preservative, it is preferable that the developer contains no boron compound.

【0165】上記の以外に用いられる添加剤としては、
臭化ナトリウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤;エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤;ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノ
ールアミン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進
剤;メルカプト系化合物、インダゾール系化合物、ベン
ゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物
をカブリ防止剤又は黒ポツ(black pepper)防止剤として
含んでもよい。具体的には、5−ニトロインダゾール、
5−p−ニトロベンゾイルアミノインダゾール、1−メ
チル−5−ニトロインダゾール、6−ニトロインダゾー
ル、3−メチル−5−ニトロインダゾール、5−ニトロ
ベンズイミダゾール、2−イソプロピル−5−ニトロベ
ンズイミダゾール、5−ニトロベンズトリアゾール、4
−〔(2−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール−
2−イル)チオ〕ブタンスルホン酸ナトリウム、5−ア
ミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−チオール、メ
チルベンゾトリアゾール、5−メチルベンゾトリアゾー
ル、2−メルカプトベンゾトリアゾールなどを挙げるこ
とができる。これらカブリ防止剤の量は、通常、現像液
1リットル当り0.01〜10mmolであり、より好まし
くは、0.1〜2mmolである。
Additives other than those mentioned above include
Development inhibitors such as sodium bromide and potassium bromide; organic solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol and dimethylformamide; development accelerators such as alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, imidazole or its derivatives; mercapto Compounds, indazole compounds, benzotriazole compounds, and benzimidazole compounds may be included as antifoggants or black pepper inhibitors. Specifically, 5-nitroindazole,
5-p-nitrobenzoylaminoindazole, 1-methyl-5-nitroindazole, 6-nitroindazole, 3-methyl-5-nitroindazole, 5-nitrobenzimidazole, 2-isopropyl-5-nitrobenzimidazole, 5- Nitrobenztriazole, 4
-[(2-Mercapto-1,3,4-thiadiazole-
Examples thereof include sodium 2-yl) thio] butanesulfonate, 5-amino-1,3,4-thiadiazole-2-thiol, methylbenzotriazole, 5-methylbenzotriazole, and 2-mercaptobenzotriazole. The amount of these antifoggants is usually 0.01 to 10 mmol, more preferably 0.1 to 2 mmol, per liter of developer.

【0166】更に本発明の現像液中には各種の有機・無
機のキレート剤を併用することができる。無機キレート
剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタ
リン酸ナトリウム等を用いることができる。一方、有機
キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリ
カルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸及び有
機ホスホノカルボン酸を用いることができる。有機カル
ボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コハク
酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン
酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マ
レイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等
を挙げることができるがこれらに限定されるものではな
い。
Further, various organic / inorganic chelating agents can be used in combination in the developer of the present invention. As the inorganic chelating agent, sodium tetrapolyphosphate, sodium hexametaphosphate or the like can be used. On the other hand, as the organic chelating agent, organic carboxylic acid, aminopolycarboxylic acid, organic phosphonic acid, aminophosphonic acid and organic phosphonocarboxylic acid can be mainly used. Examples of the organic carboxylic acids include acrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, succinic acid, acelineic acid, sebacic acid, nonanedicarboxylic acid, decanedicarboxylic acid, undecanedicarboxylic acid, and maleic acid. , Itaconic acid, malic acid, citric acid, tartaric acid and the like, but are not limited thereto.

【0167】アミノポリカルボン酸としては、イミノ二
酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチ
レンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジ
アミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、1,2−ジ
アミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3−ジアミノ−2
−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四
酢酸、その他特開昭52−25632号、同55−67
747号、同57−102624号、及び特公昭53−
40900号明細書等に記載の化合物を挙げることがで
きる。
Examples of aminopolycarboxylic acids include iminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, nitrilotripropionic acid, ethylenediaminemonohydroxyethyltriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, glycol ether tetraacetic acid, 1,2-diaminopropanetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid. Acetic acid,
Triethylenetetramine hexaacetic acid, 1,3-diamino-2
-Propanol tetraacetic acid, glycol ether diamine tetraacetic acid, and others, JP-A-52-25632, and JP-A-55-67
Nos. 747, 57-102624, and JP-B-53-
Compounds described in, for example, Japanese Patent No. 40900 can be exemplified.

【0168】有機ホスホン酸としては、米国特許321
4454号、同3794591号、及び西独特許公開2
227639号等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジ
ホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure) 第181巻、Item 18170(1979
年5月号)等に記載の化合物が挙げられる。アミノホス
ホン酸としては、アミノトリス(メチレンホスホン
酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー18170号、特開
昭57−208554号、同54−61125号、同5
5−29883号及び同56−97347号等に記載の
化合物を挙げることができる。
As the organic phosphonic acid, US Pat.
Nos. 4454 and 3794591, and West German Patent Publication 2
227639 and the like, hydroxyalkylidene-diphosphonic acid and Research Disclosure (Research
Disclosure) Volume 181, Item 18170 (1979)
May, 2002) and the like. Examples of the aminophosphonic acid include aminotris (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid, and aminotrimethylenephosphonic acid. In addition, the above Research Disclosure 18170, JP-A-57-208554 and 54- 61125, 5
Examples thereof include compounds described in JP-A Nos. 5-29883 and 56-97347.

【0169】有機ホスホノカルボン酸としては、特開昭
52−102726号、同53−42730号、同54
−121127号、同55−4024号、同55−40
25号、同55−126241号、同55−65955
号、同55−65956号、及び前述のリサーチ・ディ
スクロージャー18170号等に記載の化合物を挙げる
ことができる。これらのキレート剤はアルカリ金属塩や
アンモニウム塩の形で使用してもよい。
Organic phosphonocarboxylic acids include those disclosed in JP-A Nos. 52-102726, 53-42730, and 54.
No. 121127, No. 55-4024, No. 55-40
No. 25, No. 55-126241, No. 55-65955.
No. 55-69556, and the above-mentioned Research Disclosure 18170. These chelating agents may be used in the form of an alkali metal salt or an ammonium salt.

【0170】更に本発明の現像液中には各種の有機・無
機のキレート剤を併用することができる。無機キレート
剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタ
リン酸ナトリウム等を用いることができる。一方、有機
キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリ
カルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸及び有
機ホスホノカルボン酸を用いることができる。有機カル
ボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コハク
酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン
酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マ
レイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等
を挙げることができるがこれらに限定されるものではな
い。
Further, various organic / inorganic chelating agents can be used in combination in the developer of the present invention. As the inorganic chelating agent, sodium tetrapolyphosphate, sodium hexametaphosphate or the like can be used. On the other hand, as the organic chelating agent, organic carboxylic acid, aminopolycarboxylic acid, organic phosphonic acid, aminophosphonic acid and organic phosphonocarboxylic acid can be mainly used. Examples of the organic carboxylic acids include acrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, succinic acid, acelineic acid, sebacic acid, nonanedicarboxylic acid, decanedicarboxylic acid, undecanedicarboxylic acid, and maleic acid. , Itaconic acid, malic acid, citric acid, tartaric acid and the like, but are not limited thereto.

【0171】アミノポリカルボン酸としては、イミノ二
酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチ
レンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジ
アミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、1,2−ジ
アミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3−ジアミノ−2
−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四
酢酸、その他特開昭52−25632号、同55−67
747号、同57−102624号、及び特公昭53−
40900号明細書等に記載の化合物を挙げることがで
きる。
Examples of aminopolycarboxylic acids include iminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, nitrilotripropionic acid, ethylenediaminemonohydroxyethyltriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, glycol ether tetraacetic acid, 1,2-diaminopropanetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid. Acetic acid,
Triethylenetetramine hexaacetic acid, 1,3-diamino-2
-Propanol tetraacetic acid, glycol ether diamine tetraacetic acid, and others, JP-A-52-25632, and JP-A-55-67
Nos. 747, 57-102624, and JP-B-53-
Compounds described in, for example, Japanese Patent No. 40900 can be exemplified.

【0172】有機ホスホン酸としては、米国特許321
4454号、同3794591号、及び西独特許公開2
227639号等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジ
ホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure) 第181巻、Item 18170(1979
年5月号)等に記載の化合物が挙げられる。アミノホス
ホン酸としては、アミノトリス(メチレンホスホン
酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー18170号、特開
昭57−208554号、同54−61125号、同5
5−29883号及び同56−97347号等に記載の
化合物を挙げることができる。
As the organic phosphonic acid, US Pat.
Nos. 4454 and 3794591, and West German Patent Publication 2
227639 and the like, hydroxyalkylidene-diphosphonic acid and Research Disclosure (Research
Disclosure) Volume 181, Item 18170 (1979)
May, 2002) and the like. Examples of the aminophosphonic acid include aminotris (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid, and aminotrimethylenephosphonic acid. In addition, the above Research Disclosure 18170, JP-A-57-208554 and 54- 61125, 5
Examples thereof include compounds described in JP-A Nos. 5-29883 and 56-97347.

【0173】有機ホスホノカルボン酸としては、特開昭
52−102726号、同53−42730号、同54
−121127号、同55−4024号、同55−40
25号、同55−126241号、同55−65955
号、同55−65956号、及び前述のリサーチ・ディ
スクロージャー18170号等に記載の化合物を挙げる
ことができる。これらのキレート剤はアルカリ金属塩や
アンモニウム塩の形で使用してもよい。これらキレート
剤の添加量としては、現像液1リットル当り好ましく
は、1×10-4〜1×10-1モル、より好ましくは1×
10-3〜1×10-2モルである。
Organic phosphonocarboxylic acids include those disclosed in JP-A Nos. 52-102726, 53-42730 and 54.
No. 121127, No. 55-4024, No. 55-40
No. 25, No. 55-126241, No. 55-65955.
No. 55-69556, and the above-mentioned Research Disclosure 18170. These chelating agents may be used in the form of an alkali metal salt or an ammonium salt. The addition amount of these chelating agents is preferably 1 × 10 -4 to 1 × 10 -1 mol, more preferably 1 × 10 -1 mol per liter of developer.
It is 10 -3 to 1 × 10 -2 mol.

【0174】さらに、現像液中に銀汚れ防止剤として特
開昭56−24347号、特公昭56−46585号、
特公昭62−2849号、特開平4−362942号記
載の化合物を用いることができる。また、溶解助剤とし
て特開昭61−267759号記載の化合物を用いるこ
とができる。さらに必要に応じて色調剤、界面活性剤、
消泡剤、硬膜剤等を含んでもよい。現像処理温度及び時
間は相互に関係し、全処理時間との関係において決定さ
れるが、一般に現像温度は約20℃〜約50℃、好まし
くは25〜45℃で、現像時間は5秒〜2分、好ましく
は7秒〜1分30秒である。
Further, as a silver stain preventing agent in a developing solution, JP-A-56-24347, JP-B-56-46585,
The compounds described in JP-B-62-2849 and JP-A-4-362942 can be used. Further, compounds described in JP-A-61-267759 can be used as a dissolution aid. Further, if necessary, a color tone agent, a surfactant,
It may contain an antifoaming agent, a hardening agent and the like. The developing temperature and time are interrelated and are determined in relation to the total processing time. Generally, the developing temperature is about 20 ° C to about 50 ° C, preferably 25 to 45 ° C, and the developing time is 5 seconds to 2 seconds. Minutes, preferably 7 seconds to 1 minute 30 seconds.

【0175】処理液の搬送コスト、包装材料コスト、省
スペース等の目的で、処理液を濃縮化し、使用時に希釈
して用いるようにすることは好ましいことである。現像
液の濃縮化のためには、現像液に含まれる塩成分をカリ
ウム塩化することが有効である。
For the purpose of transporting the treatment liquid, packaging material cost, space saving and the like, it is preferable to concentrate the treatment liquid and dilute it before use. In order to concentrate the developer, it is effective to potassium salt the salt component contained in the developer.

【0176】定着工程で使用する定着液は、チオ硫酸ナ
トリウム、チオ硫酸アンモニウム、必要により酒石酸、
クエン酸、グルコン酸、ホウ酸、イミノジ酢酸、5−ス
ルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、タイロン、エチレ
ンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ニト
リロ三酢酸これらの塩を含む水溶液である。近年の環境
保護の観点からは、ホウ酸は含まれない方が好ましい。
本発明に用いられる定着液の定着剤としてはチオ硫酸ナ
トリウム、チオ硫酸アンモニウムなどであり、定着速度
の点からはチオ硫酸アンモニウムが好ましいが、近年の
環境保護の観点からチオ硫酸ナトリウムが使われても良
い。これら既知の定着剤の使用量は適宜変えることがで
き、一般には約0.1〜約2モル/リットルである。特
に好ましくは、0.2〜1.5モル/リットルである。
定着液には所望により、硬膜剤(例えば水溶性アルミニ
ウム化合物)、保恒剤(例えば、亜硫酸塩、重亜硫酸
塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸)、pH調整剤(例えば、
アンモニア、硫酸)、キレート剤、界面活性剤、湿潤
剤、定着促進剤を含むことができる。界面活性剤として
は、例えば硫酸化物、スルフォン化物などのアニオン界
面活性剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開昭57−6
740号公報記載の両性界面活性剤などが挙げられる。
また、公知の消泡剤を添加してもよい。湿潤剤として
は、例えばアルカノールアミン、アルキレングリコール
なとが挙げられる。定着促進剤としては、例えば特公昭
45−35754号、同58−122535号、同58
−122536号各公報記載のチオ尿素誘導体、分子内
に3重結合を持つアルコール、米国特許第412645
9号記載のチオエーテル化合物、特開平4−22986
0号記載のメソイオン化合物などが挙げられ、また、特
開平2−44355号記載の化合物を用いてもよい。ま
た、pH緩衝剤としては、例えば酢酸、リンゴ酸、こはく
酸、酒石酸、クエン酸シュウ酸、マレイン酸、グリコー
ル酸、アジピン酸などの有機酸、ホウ酸、リン酸塩、亜
硫酸塩などの無機緩衝剤が使用できる。好ましいものと
して酢酸、酒石酸、亜硫酸塩が用いられる。ここでpH
緩衝剤は、現像液の持ち込みによる定着剤のpH上昇を防
ぐ目的で使用され、0.01〜1.0モル/リットル、
より好ましくは0.02〜0.6モル/リットル程度用
いる。定着液のpHは4.0〜6.5が好ましく、特に
好ましくは4.5〜6.0の範囲である。また、色素溶
出促進剤として、特開昭64−4739号記載の化合物
を用いることもできる。
The fixer used in the fixing step is sodium thiosulfate, ammonium thiosulfate, tartaric acid if necessary,
An aqueous solution containing citric acid, gluconic acid, boric acid, iminodiacetic acid, 5-sulfosalicylic acid, glucoheptanic acid, tyrone, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, nitrilotriacetic acid. From the viewpoint of recent environmental protection, it is preferable that boric acid is not contained.
As the fixing agent of the fixing solution used in the present invention, sodium thiosulfate, ammonium thiosulfate and the like are used, and ammonium thiosulfate is preferable from the viewpoint of the fixing speed, but sodium thiosulfate may be used from the viewpoint of recent environmental protection. . The use amount of these known fixing agents can be appropriately changed and is generally about 0.1 to about 2 mol / liter. Particularly preferably, it is 0.2 to 1.5 mol / l.
If desired, the fixer may include a hardening agent (eg, water-soluble aluminum compound), preservative (eg, sulfite, bisulfite), pH buffer (eg, acetic acid), pH adjuster (eg,
(Ammonia, sulfuric acid), a chelating agent, a surfactant, a wetting agent, and a fixing accelerator. Examples of the surfactant include anionic surfactants such as sulfates and sulfonates, polyethylene-based surfactants, and JP-A-57-6.
The amphoteric surfactants described in Japanese Patent No. 740 can be used.
Further, a known antifoaming agent may be added. Examples of the wetting agent include alkanolamine and alkylene glycol. Examples of fixing accelerators include JP-B-45-35754, 58-122535 and 58.
-122536, thiourea derivatives, alcohols having a triple bond in the molecule, U.S. Pat. No. 4,126,45.
Thioether compounds described in JP-A No. 4-22986
Examples thereof include mesoionic compounds described in No. 0, and compounds described in JP-A-2-44355 may be used. Examples of the pH buffering agent include organic acids such as acetic acid, malic acid, succinic acid, tartaric acid, oxalic acid citric acid, maleic acid, glycolic acid and adipic acid, and inorganic buffers such as boric acid, phosphate and sulfite. Agents can be used. Acetic acid, tartaric acid, and sulfite are preferably used. PH here
The buffer is used for the purpose of preventing the pH of the fixing agent from rising due to the carry-in of the developing solution, and is 0.01 to 1.0 mol / liter,
More preferably, about 0.02-0.6 mol / liter is used. The pH of the fixing solution is preferably 4.0 to 6.5, particularly preferably 4.5 to 6.0. Further, as the dye elution accelerator, the compounds described in JP-A No. 64-4739 can also be used.

【0177】本発明の定着液中の硬膜剤としては、水溶
性アルミニウム塩、クロム塩がある。好ましい化合物は
水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。好まし
い添加量は0.01モル〜0.2 モル/リットル、さらに好ま
しくは0.03〜0.08モル/リットルである。定着温度は、
約20℃〜約50℃、好ましくは25〜45℃で、定着
時間は5秒〜1分、好ましくは7秒〜50秒である。定
着液の補充量は、感光材料の処理量に対して600ml/
m2以下であり、特に500ml/m2以下、更には300ml
/m2以下が好ましい。
As the hardening agent in the fixing solution of the present invention, there are water-soluble aluminum salts and chromium salts. A preferred compound is a water-soluble aluminum salt, such as aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium alum. A preferable addition amount is 0.01 mol to 0.2 mol / l, more preferably 0.03 to 0.08 mol / l. Fixing temperature is
The fixing time is 5 seconds to 1 minute, preferably 7 seconds to 50 seconds at about 20 ° C to about 50 ° C, preferably 25 to 45 ° C. The replenishing amount of the fixing solution is 600 ml / per processing amount of the light-sensitive material.
m 2 or less, especially 500 ml / m 2 or less, further 300 ml
/ M 2 or less is preferable.

【0178】現像、定着処理が済んだ感光材料は、次い
で水洗または安定化処理される。水洗または安定化処理
は、水洗水量は通常ハロゲン化銀感光材料1m2当り、2
0リットル以下で行われ、3リットル以下の補充量(0
も含む、すなわちため水水洗)で行うこともできる。す
なわち、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式(例えば2
段、3段など)が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に正常な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率の良い水洗がなさ
れる。水洗を少量の水で行う場合は、特開昭63−18
350号、同62−287252号などに記載のスクイ
ズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設ける
ことがより好ましい。あるいは、また、少量水洗時に問
題となる公害負荷低減のために種々の酸化剤添加やフィ
ルター濾過を組み合わせてもよい。更に、本発明の方法
で水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応
じて補充することによって生ずる水洗又は安定化浴から
のオーバーフロー液の一部又は全部は特開昭60−23
5133号に記載されているようにその前の処理工程で
ある定着能を有する処理液に利用することもできる。ま
た、少量水洗時に発生し易い水泡ムラ防止および/また
はスクイズローラーに付着する処理剤成分が処理された
フィルムに転写することを防止するために水溶性界面活
性剤や消泡剤を添加してもよい。また、感光材料から溶
出した染料による汚染防止に、特開昭63−16345
6号記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよい。ま
た、前記水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、
その例として特開平2−201357号、同2−132
435号、同1−102553号、特開昭46−444
46号に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴
として使用してもよい。この安定浴にも必要に応じてア
ンモニウム化合物、Bi、Alなどの金属化合物、蛍光
増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜剤、殺菌
剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加え
ることもできる。水洗工程もしくは安定化工程に用いら
れる水としては水道水のほか脱イオン処理した水やハロ
ゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤(オゾン、過酸化水
素、塩素酸塩など)等によって殺菌された水を使用する
ことが好ましいし、また、特開平4−39652号、特
開平5−241309号記載の化合物を含む水洗水を使
用してもよい。水洗または安定浴温度及び時間は0〜5
0℃、5秒〜2分が好ましい。
The light-sensitive material which has been developed and fixed is then washed with water or stabilized. In the washing or stabilizing treatment, the washing water amount is usually 2 m 2 per m 2 of the silver halide photosensitive material.
It is performed at 0 liters or less, and a replenishment amount (0 liters or less
In other words, it can also be carried out by washing with water. That is, not only water saving processing can be performed, but also piping for installing the automatic processing machine can be eliminated. As a method for reducing the replenishing amount of washing water, a multi-stage countercurrent method (for example, 2
Stage, three stage, etc.) are known. If this multi-stage countercurrent method is applied to the present invention, the photosensitive material after fixing is gradually processed in the normal direction, that is, the processing solution which is not stained with the fixing solution is sequentially contacted, so that the efficiency is further improved. Washing is performed. When the washing with water is carried out with a small amount of water, JP-A-63-18
It is more preferable to provide a washing tank for a squeeze roller and a crossover roller described in JP-A Nos. 350 and 62-287252. Alternatively, various oxidizing agents may be added or a filter may be combined to reduce the pollution load which is a problem when washing with a small amount of water. Further, part or all of the overflow liquid from the washing or stabilizing bath produced by replenishing the water subjected to the antifungal means to the washing or stabilizing bath by the method of the present invention according to the treatment is disclosed in 23
As described in JP-A No. 5133, it can be used for a processing solution having a fixing ability which is a preceding processing step. Further, a water-soluble surfactant or an antifoaming agent may be added in order to prevent unevenness of water bubbles which are easily generated at the time of washing with a small amount of water and / or to prevent a treatment agent component adhering to a squeeze roller from being transferred to a treated film. Good. Further, in order to prevent contamination by the dye eluted from the photosensitive material, JP-A-63-16345
The dye adsorbent described in No. 6 may be installed in a washing tank. In addition, a stabilization process may be performed following the water washing process,
Examples thereof include JP-A-2-201357 and JP-A-2-132.
No. 435, No. 1-102553, JP-A-46-444.
A bath containing the compound described in No. 46 may be used as a final bath of the light-sensitive material. If necessary, this stabilizing bath may also contain a metal compound such as an ammonium compound, Bi, or Al, a fluorescent brightener, various chelating agents, a membrane pH regulator, a hardening agent, a bactericide, a fungicide, an alkanolamine, or a surfactant. Agents can also be added. The water used in the washing step or the stabilization step includes tap water, deionized water, halogen, ultraviolet sterilizing lamp, and water sterilized by various oxidizing agents (ozone, hydrogen peroxide, chlorate, etc.). It is preferable to use, and washing water containing the compounds described in JP-A-4-39652 and JP-A-5-241309 may be used. Washing or stabilizing bath temperature and time are 0-5
0 ° C. and 5 seconds to 2 minutes are preferred.

【0179】本発明に用いられる処理液は特開昭61−
73147号に記載された酸素透過性の低い包材で保管
することが好ましい。補充量を低減する場合には処理槽
の空気との接触面積を小さくすることによって液の蒸
発、空気酸化を防止することが好ましい。ローラー搬送
型の自動現像機については米国特許第3025779号
明細書、同第3545971号明細書などに記載されて
おり、本明細書においては単にローラー搬送型プロセッ
サーとして言及する。ローラー搬送型プロセッサーは現
像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなっており、本発
明の方法も、他の工程(例えば、停止工程)を除外しな
いが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。水洗工
程の代わりに安定工程による四工程でも構わない。
The treatment liquid used in the present invention is disclosed in JP-A-61-161.
It is preferable to store in a packaging material having low oxygen permeability described in No. 73147. When the replenishment rate is reduced, it is preferable to prevent evaporation of the liquid and air oxidation by reducing the contact area of the processing tank with the air. The roller transport type automatic developing machine is described in U.S. Pat. Nos. 3,025,779 and 3,545,971 and the like, and is simply referred to as a roller transport type processor in this specification. The roller transport type processor has four steps of development, fixing, washing and drying, and the method of the present invention does not exclude other steps (for example, a stop step), but most preferably follows these four steps. . Four steps of a stabilization step may be used instead of the washing step.

【0180】現像液や定着液の組成から水を除いた成分
を固形にして供給し、使用に当たって所定量の水で溶解
して現像液や定着液として使用してもよい。このような
形態の処理剤は固形処理剤と呼ばれる。固形処理剤は、
粉末、錠剤、顆粒、粉末、塊状又はペースト状のものが
用いられ、好ましい形態は、特開昭61−259921
号記載の形態あるいは錠剤である。錠剤の製造方法は、
例えば特開昭51−61837号、同54−15503
8号、同52−88025号、英国特許1,213,8
08号等に記載される一般的な方法で製造でき、更に顆
粒処理剤は、例えば特開平2−109042号、同2−
109043号、同3−39735号及び同3−397
39号等に記載される一般的な方法で製造できる。更に
又、粉末処理剤は、例えば特開昭54−133332
号、英国特許725,892号、同729,862号及
びドイツ特許3,733,861号等に記載されるが如
き一般的な方法で製造できる。
It is also possible to supply the components of the developing solution or fixing solution, excluding water, in the form of a solid, and dissolve them in a predetermined amount of water before use to use them as the developing solution or fixing solution. The treating agent having such a form is called a solid treating agent. The solid processing agent is
Powders, tablets, granules, powders, lumps or pastes are used, and the preferred form is JP-A-61-259921.
The form or tablet described in No. The tablet manufacturing method is
For example, JP-A-51-61837 and JP-A-54-15503.
No. 8, No. 52-88025, British Patent Nos. 1,213,8.
No. 08, etc., and the granule-treating agent can be produced by, for example, JP-A Nos.
109043, 3-39735 and 3-397.
It can be produced by a general method described in No. 39, etc. Further, the powder treating agent is disclosed in, for example, JP-A-54-133332.
And British Patent Nos. 725,892 and 729,862, and German Patent No. 3,733,861.

【0181】固形処理剤の嵩密度は、その溶解性の観点
と、本発明の目的の効果の点から、0.5〜6.0g/
cm3 のものが好ましく、特に1.0〜5.0g/cm
3 のものが好ましい。
The bulk density of the solid processing agent is 0.5 to 6.0 g / from the viewpoint of its solubility and the effect of the object of the present invention.
cm 3 is preferable, especially 1.0 to 5.0 g / cm
3 is preferable.

【0182】固形処理剤を調製するに当たっては、処理
剤を構成する物質の中の、少なくとも2種の相互に反応
性の粒状物質を、反応性物質に対して不活性な物質によ
る少なくとも一つの介在分離層によって分離された層に
なるように層状に反応性物質を置き、真空包装可能な袋
を包材とし、袋内から排気しシールする方法を採用して
もよい。ここにおいて、不活性という言葉は物質が互い
に物理的に接触されたときにパッケージ内の通常の状態
下で反応しないこと、叉は何らかの反応があっても著し
くないことを意味する。不活性物質は、二つの相互に反
応性の物質に対して不活性であることは別にして、二つ
の反応性の物質が意図される使用において不活発であれ
ばよい。さらに不活性物質は二つの反応性物質と同時に
用いられる物質である。例えば、現像液においてハイド
ロキノンと水酸化ナトリウムは直接接触すると反応して
しまうので、真空包装においてハイドロキノンと水酸化
ナトリウムの間に分別層として亜硫酸ナトリウム等を使
うことで長期間パッケージ中に保存できる。また、ハイ
ドロキノン等をブリケット化して水酸化ナトリウムとの
接触面積を減らす事により保存性が向上し混合して用い
る事もできる。これらの真空包装材料の包材として用い
られるのは不活性なプラスチックフィルム、プラスチッ
ク物質と金属箔のラミネートから作られたバッグであ
る。
In the preparation of the solid processing agent, at least two mutually reactive particulate materials among the materials constituting the processing agent and at least one interposition of a material inert to the reactive material are used. It is also possible to employ a method in which the reactive substances are arranged in layers so as to form layers separated by the separation layer, a vacuum-packable bag is used as the packaging material, and the bag is evacuated and sealed. As used herein, the term inert means that the substances do not react under normal conditions in the package when they are in physical contact with each other, or if any reaction is not significant. The inert substance, apart from being inert to the two mutually reactive substances, need only be inert in the intended use of the two reactive substances. Furthermore, an inert substance is a substance that is used simultaneously with two reactive substances. For example, since hydroquinone and sodium hydroxide react with each other in a developing solution when they come into direct contact, they can be stored in a package for a long period of time by using sodium sulfite or the like as a separation layer between hydroquinone and sodium hydroxide in vacuum packaging. Further, hydroquinone or the like is formed into a briquette to reduce the contact area with sodium hydroxide, so that the preservability is improved and the mixture can be used. Used as packaging materials for these vacuum packaging materials are bags made from a laminate of inert plastic film, plastic material and metal foil.

【0183】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
に関しては、特に制限は無く、例えば下記箇所に記載さ
れたものを好ましく用いることが出来る。 項 目 該 当 箇 所 1)造核促進剤 特願平4−237366号に記載の一般式(I)、 (II)、(III) 、(IV)、(V) 、(VI)の化合物。 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行 目から同第16頁左上欄10行目の一般式(II−m )ないし(II−p)及び化合物例II−1ないしII− 22、特開平1−179939号公報に記載の化合 物。 2)分光増感色素 特開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目 から同右下欄4行目、同2−103536号公報第 16頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目 、さらに特開平1−112235号、同2−124 560号、同3−7928号、特願平3−1895 32号及び同3−411064号に記載の分光増感 色素。 3)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か ら同右下欄7行目、及び特開平2−18542号公 報第2頁左下欄13行目から同第4頁右下欄18行 目。 4)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19 行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行 目から5行目、さらに特開平1−237538号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 5)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12 行目から同20行目。 6)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行 目から同第19頁左上欄1行目。 7)マット剤、滑り剤、 特開平2−103536号公報第19頁左上欄15 可塑剤 行目から同第19頁右上欄15行目。 8)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行 目から同第17行目。 9)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行 目から同18行目の染料、同2−294638号公 報及び特願平3−185773号に記載の固体染料 。 10)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目か ら20行目。 11)黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号及び特開平1−118 832号公報に記載の化合物。 12)レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表 される化合物(特に化合物例1ないし50)、同3 −174143号公報第3頁ないし第20頁に記載 の一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)、化 合物例1ないし75、さらに特願平3−69466 号、同3−15648号に記載の化合物。 13)モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化 合物(特に化合物例II−1ないしII−26)。 14)ジヒドロキシベンゼ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から第 ン類 12頁左下欄の記載、及びEP452772A号公 報に記載の化合物。
There are no particular restrictions on various additives used in the light-sensitive material of the present invention, and for example, those described in the following sections can be preferably used. Item 1) Nucleation accelerator A compound represented by the general formula (I), (II), (III), (IV), (V) or (VI) described in Japanese Patent Application No. 4-237366. JP-A-2-103536, page 9, upper right column, line 13 to page 16, upper left column, line 10, general formulas (II-m) to (II-p) and compound examples II-1 to II-22; Compounds described in JP-A-1-179939. 2) Spectral sensitizing dye JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to lower right column, line 4, JP-A-2-103536, page 16, lower right column, line 3 to page 17, lower left Column 20, line 20. Further, spectral sensitizing dyes described in JP-A-1-112235, JP-A-2-124560, JP-A-3-7928, Japanese Patent Application Nos. 3-189532 and 3-411046. 3) Surfactant JP-A-2-12236, page 9, upper right column, line 7 to lower right column, line 7, and JP-A-2-18542, page 2, lower left column, line 13 to line 4 Line 18 in the lower right column of the page. 4) Antifoggants JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19 to page 18, upper right column, line 4 and lower right column, lines 1 to 5, and JP-A 1-237538. Thiosulfinic acid compounds described in the official bulletin. 5) Polymer latex: JP-A-2-103536, page 18, lower left column, lines 12 to 20. 6) Compound having an acid group From page 6, lower right column, line 6 to page 19, upper left column, line 1 of JP-A-2-103536. 7) Matting agent, slip agent, JP-A-2-103536, page 19, upper left column, 15 plasticizer line to page 19, upper right column, 15th line. 8) Hardener From page 5, right upper column, line 5 to line 17, JP-A-2-103536. 9) Dyes Dyes on page 17, right lower column, lines 1 to 18 of JP-A-2-103536, solid dyes described in JP-A-2-29438 and JP-A-3-185773. 10) Binder JP-A-2-18542, page 3, lower right column, lines 1 to 20. 11) Black spot inhibitors Compounds described in U.S. Pat. No. 4,956,257 and JP-A-1-118832. 12) Redox compound A compound represented by the general formula (I) of JP-A-2-301743 (especially, compound examples 1 to 50), and a compound represented by the general formula (3) of JP-A-3-174143, pp. 3 to 20: (R-1), (R-2), (R-3), compounds described in Compound Examples 1 to 75, and further described in Japanese Patent Application Nos. 3-69466 and 3-15648. 13) Monomethine compounds Compounds of the general formula (II) described in JP-A-2-287532 (especially compound examples II-1 to II-26). 14) Dihydroxybenze Compounds described in JP-A-3-39948, page 11, upper left column to pages 12, page 12, lower left column, and EP452772A.

【0184】[0184]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0185】本発明の造核剤の比較化合物A、Bとし
て、下記の造核剤を使用した。
The following nucleating agents were used as Comparative Compounds A and B of the nucleating agent of the present invention.

【0186】[0186]

【化67】 Embedded image

【0187】実施例1 <ハロゲン化銀写真感光材料の作成> 乳剤調整 以下の方法で乳剤Aを調整した。 〔乳剤A〕硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリ
ウムと銀1モルあたり3.5×10-7モルに相当するK
3 IrCl6 と2.0×10-7モルに相当するK2 Rh
(H2 O)Cl5 を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリ
ウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオン
を含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェ
ット法により添加し、平均粒子サイズ0.25μm、塩
化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を調製した。
Example 1 <Preparation of silver halide photographic light-sensitive material> Emulsion preparation Emulsion A was prepared by the following method. [Emulsion A] An aqueous solution of silver nitrate, potassium bromide, sodium chloride and K corresponding to 3.5 × 10 -7 mol per mol of silver.
3 IrCl 6 and K 2 Rh equivalent to 2.0 × 10 −7 mol
A halogen salt aqueous solution containing (H 2 O) Cl 5 , sodium chloride, and a gelatin aqueous solution containing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinthione were added by stirring by a double jet method to give an average particle size of 0.25 μm. Silver chlorobromide grains having a silver chloride content of 70 mol% were prepared.

【0188】その後、常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた
後、pH6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当た
り2mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸
を加えて60゜Cで最適感度になるように化学増感し
た。その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを加
え、さらに防腐剤としてプロキセル100mgを加え
た。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ0.25μ
m、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀立方体粒子であ
った。(変動係数10%)
Thereafter, the product was washed with water by a flocculation method according to a conventional method, 40 g of gelatin was added per 1 mol of silver, 7 mg of sodium benzenethiosulfonate and 2 mg of benzenesulfinic acid were added per 1 mol of silver, and the pH was adjusted to 6.0. The pAg was adjusted to 7.5, and 2 mg of sodium thiosulfate and 4 mg of chloroauric acid were added per 1 mol of silver, and chemical sensitization was performed at 60 ° C. to obtain optimum sensitivity. Thereafter, 150 mg of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added as a stabilizer, and 100 mg of proxel was further added as a preservative. Each of the obtained particles has an average particle size of 0.25 μm.
m, silver chlorobromide cubic grains having a silver chloride content of 70 mol%. (Coefficient of variation 10%)

【0189】塗布試料の作成 塩化ビニリデンを含む防湿層下塗りを有するポリエチレ
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、UL層、EM層、PC層、OC層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。 以下に各層の調製法および塗布量を示す。
Preparation of Coating Sample On a polyethylene terephthalate film support having a moisture-proof layer undercoat containing vinylidene chloride, from the support side,
Samples were prepared by applying the layers sequentially to form a UL layer, an EM layer, a PC layer, and an OC layer. The preparation method and application amount of each layer are shown below.

【0190】(UL層)ゼラチン水溶液に、ゼラチンに
対し30wt%のポリエチルアクリレートの分散物を添
加し、ゼラチン0.5g/m2 になるように塗布した。
(UL layer) To a gelatin aqueous solution, a dispersion of 30 wt% of polyethyl acrylate with respect to gelatin was added and coated so as to have gelatin of 0.5 g / m 2 .

【0191】(EM層)上記乳剤Aに、増感色素として
下記化合物(S−1)を銀1モルあたり5×10-4
ル、(S−2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モル
あたり3×10-4モルの下記(a)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(b)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(c)で示されるトリアジ
ン化合物、2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキ
シキノリン、下記化合物(p)を5×10-4モル、造核
促進剤として下記化合物(A)を4×10-4モルを添加
した。さらに、ハイドロキノン100mg、N−オレイ
ル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg/m2
塗布されるように添加した。次に表−2に示す造核剤
(ヒドラジン誘導体)を1×10-5 mol/m2、(d)で
示される水溶性ラテックスを200mg/m2 、ポリエ
チルアクリレートのラテックスを200mg/m2 、コ
アがスチレン/ブタジエン=37/63(wt%)、シ
ェルがスチレン/2−アセトキシエチルメタクリレート
=84/16(wt%)でコア/シェル比=50/50
のコアシェルラテックスを600mg/m2 、平均粒径
0.02μmのコロイダルシリカを200mg/m2
さらに硬膜剤として1,3−ジビニルスルホニル−2−
プロパノールを200mg/m2 を加えた。溶液のpH
は酢酸を用いて5.65に調製した。それらを塗布銀量
3.5g/m2 (ゼラチン塗布量1.3g/m2 )にな
るように塗布した。
[0191] in (EM layer) above emulsions A, the following compound as a sensitizing dye (S-1) per mole of silver 5 × 10 -4 mol, the 5 × 10 -4 mol was added (S-2), further 3 × 10 -4 mol of mercapto compound represented by the following (a), 4 × 10 -4 mol of mercapto compound represented by (b), and 4 × 10 -4 mol of (c) per 1 mol of silver Triazine compound, 2 × 10 −3 mol of 5-chloro-8-hydroxyquinoline, 5 × 10 −4 mol of the following compound (p), and 4 × 10 −4 mol of the following compound (A) as a nucleation accelerator. Was added. Further, 100 mg of hydroquinone and 30 mg / m 2 of N-oleyl-N-methyltaurine sodium salt were added.
Added as applied. Next, the nucleating agent (hydrazine derivative) shown in Table 2 was 1 × 10 −5 mol / m 2 , the water-soluble latex shown in (d) was 200 mg / m 2 , and the polyethyl acrylate latex was 200 mg / m 2. , Styrene / butadiene = 37/63 (wt%) in the core, styrene / 2-acetoxyethyl methacrylate = 84/16 (wt%) in the shell, and core / shell ratio = 50/50
Of core-shell latex of 600 mg / m 2 , colloidal silica having an average particle diameter of 0.02 μm of 200 mg / m 2 ,
Further, as a hardener, 1,3-divinylsulfonyl-2-
200 mg / m 2 of propanol was added. Solution pH
Was adjusted to 5.65 with acetic acid. They were coated so that the coating silver amount was 3.5 g / m 2 (gelatin coating amount 1.3 g / m 2 ).

【0192】(PC層)ゼラチン水溶液にゼラチンに対
して50wt%のエチルアクリレートの分散物および、
下記界面活性剤(w)を5mg/m2 、1,5−ジヒド
ロキシ−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2 塗布
されるように添加し、ゼラチン0.5g/m2 になるよ
うに塗布した。
(PC layer) A dispersion of 50 wt% ethyl acrylate in gelatin aqueous solution, and
The following surfactant (w) was added at 5 mg / m 2 , and 1,5-dihydroxy-2-benzaldoxime was added at 10 mg / m 2 , and gelatin was applied at 0.5 g / m 2 . .

【0193】(OC層)ゼラチン0.5g/m2 、平均
粒子サイズ約3.5μmの不定形なSiO2 マット剤4
0mg/m2 、メタノールシリカ0.1g/m2 、ポリ
アクリルアミド100mg/m2 とシリコーンオイル2
0mg/m2 および塗布助剤として下記構造式(e)で
示されるフッ素界面活性剤5mg/m2 とドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m2 を塗布し
た。
(OC layer) Gelatin 0.5 g / m 2 , amorphous SiO 2 matting agent 4 having an average particle size of about 3.5 μm 4
0 mg / m 2 , methanol silica 0.1 g / m 2 , polyacrylamide 100 mg / m 2 and silicone oil 2
0 mg / m 2 and 5 mg / m 2 of a fluorosurfactant represented by the following structural formula (e) as a coating aid and 100 mg / m 2 of sodium dodecylbenzenesulfonate were coated.

【0194】[0194]

【化68】 Embedded image

【0195】これらの塗布試料は下記組成のバック層お
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2
These coated samples have a back layer and a back protective layer having the following compositions. [Back layer formulation] Gelatin 3 g / m 2 latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant Sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 mg / m 2

【0196】[0196]

【化69】 Embedded image

【0197】 SnO2 /Sb(重量比90/10、平均粒径0.20μm) 200mg/m2 染料 染料〔a〕、染料〔b〕、染料〔c〕の混合物 染料〔a〕 70mg/m2 染料〔b〕 70mg/m2 染料〔c〕 90mg/m2 SnO 2 / Sb (weight ratio 90/10, average particle size 0.20 μm) 200 mg / m 2 dye Mixture of dye [a], dye [b] and dye [c] dye [a] 70 mg / m 2 Dye [b] 70 mg / m 2 Dye [c] 90 mg / m 2

【0198】[0198]

【化70】 Embedded image

【0199】 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 [Back protective layer] Gelatin 0.8 mg / m 2 polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 4.5 μm) 30 mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium salt 15 mg / m 2 p-dodecylbenzenesulfonic acid Sodium 15 mg / m 2 Sodium acetate 40 mg / m 2

【0200】造核剤種と試料 No.を表−2に示す。上記
試料を488nmにピークを持つ干渉フィルターを介し、
ステップウェッジを通して発光時間10-5sec のキセノ
ンフラッシュ光で露光し写真性能評価用とした。なお、
乳剤相を有する側の膜面pHが5.6で、膨潤率((膨
潤膜厚/乾燥乾膜厚)×100)が100であった。
Table 2 shows the nucleating agent species and sample No. The sample is passed through an interference filter with a peak at 488 nm,
It was exposed through a step wedge with a xenon flash light having an emission time of 10 -5 sec for evaluation of photographic performance. In addition,
The film surface pH on the side having the emulsion phase was 5.6, and the swelling ratio ((swollen film thickness / dry dry film thickness) × 100) was 100.

【0201】試料の評価は、ランニングテストによる写
真性の変化で評価した。ランニング条件は、1日にハー
フ露光した大全紙サイズ(50.8cm×60.1cm)の
フィルムを100枚処理し、1週間連続運転を行った。
自現機は、富士写真フイルム社製FG−680Aを用い
て35℃、30″(現像時間)の条件で行った。
The samples were evaluated by the change in photographic property by a running test. As the running condition, 100 sheets of a large-sized paper (50.8 cm × 60.1 cm) half-exposed on one day were processed and continuously operated for 1 week.
As an automatic developing machine, FG-680A manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used under the conditions of 35 ° C. and 30 ″ (developing time).

【0202】現像液、定着液の組成を下記に示す。 (現像液組成) 水酸化カリウム 40.0g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g 炭酸カリウム 60.0g メタ重亜硫酸ナトリウム 70.0g 臭化カリウム 7.0g ハイドロキノン 40.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 1.50g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸 ナトリウム 0.30g エリソルビン酸ナトリウム 6.0g ジエチレングリコール 5.0g 水酸化カリウムを加えて、水を加えて1リットルとし pHを10.65に合わせる。 1リットルThe compositions of the developing solution and the fixing solution are shown below. (Developer composition) Potassium hydroxide 40.0 g Diethylenetriamine-pentaacetic acid 2.0 g Potassium carbonate 60.0 g Sodium metabisulfite 70.0 g Potassium bromide 7.0 g Hydroquinone 40.0 g 5-Methylbenzotriazole 0.35 g 4- Hydroxymethyl-4-methyl-1-phenyl-3-pyrazolidone 1.50 g 2-mercaptobenzimidazole-5-sulfonic acid sodium salt 0.30 g sodium erythorbate 6.0 g diethylene glycol 5.0 g potassium hydroxide and water is added. Add 1 liter and adjust pH to 10.65. 1 liter

【0203】上記現像液を元に表1のテスト用現像液を
作成した。
The test developers shown in Table 1 were prepared based on the above developers.

【0204】[0204]

【表1】 [Table 1]

【0205】 (定着液処方) チオ硫酸アンモニウム 360.0g エチレンジアミン四酢酸 2Na 2水塩 0.09g チオ硫酸ナトリウム 5水塩 32.8g 亜硫酸ナトリウム 64.8g NaOH 37.2g 氷酢酸 87.3g 酒石酸 8.76g グルコン酸ナトリウム 6.6g 硫酸アルミニウム 25.3g pH(硫酸または水酸化ナトリウムで調整) 4.85 水を加えて 3リットル 定着液の補充量は260ml/m2で行った。(Fixer Formulation) Ammonium thiosulfate 360.0 g Ethylenediaminetetraacetic acid 2Na dihydrate 0.09 g Sodium thiosulfate pentahydrate 32.8 g Sodium sulfite 64.8 g NaOH 37.2 g Glacial acetic acid 87.3 g Tartaric acid 8.76 g Sodium gluconate 6.6 g Aluminum sulfate 25.3 g pH (adjusted with sulfuric acid or sodium hydroxide) 4.85 Water was added to 3 liters The fixer replenishment rate was 260 ml / m 2 .

【0206】写真性の評価は、次のように行った。画像
のコントラストを示す指標(階調)としては、特性曲線
のfog+濃度0.1の点からfog+濃度3.0の点
を直線で結び、この直線の傾きをガンマ値として表し
た。すなわち、ガンマ(階調)=(3.0−0.1)/
〔log(濃度3.0を与える露光量)−(濃度0.1
を与える露光量)〕であり、ガンマ値は大きいほど硬調
な写真特性であることを示している。グラフィックアー
ツ用感材としては、ガンマは10以上であることが好ま
しく、15以上であることがさらに好ましい。感度は、
それぞれの試料とも新液で処理したときに濃度1.5を
得るのに必要な露光量の逆数を100としてランニング
後の値を相対値として示した。相対値としては95〜1
05が望ましい。
The photographic property was evaluated as follows. As an index (gradation) indicating the contrast of an image, a point of fog + density 0.1 to a point of fog + density 3.0 of the characteristic curve is connected by a straight line, and the slope of this straight line is expressed as a gamma value. That is, gamma (gradation) = (3.0-0.1) /
[Log (exposure amount giving density 3.0)-(density 0.1
Exposure amount) which gives a higher gamma value, indicating that the higher the gamma value, the harder the photographic characteristics. As a graphic arts photosensitive material, gamma is preferably 10 or more, and more preferably 15 or more. The sensitivity is
For each sample, the reciprocal of the exposure amount required to obtain a density of 1.5 when treated with a new solution was set to 100, and the value after running was shown as a relative value. 95 to 1 as a relative value
05 is desirable.

【0207】現像ムラは、フィルム上に全く現像ムラが
発生していない状態を「5」とし、フィルム一面に現像
ムラが発生している状態を「1」として5段階に評価し
た。「4」はフィルム上の極く一部に現像ムラが発生し
ているが実用上は許容されるレベルであるが「3」以下
は実用不可能である。尚、現像ムラは、ランニング最後
に各試料の未露光感材を用いて行った。表−2に造核剤
種と補充量の値いと、ランニングと現像ムラの結果を示
す。
The development unevenness was evaluated on a scale of 5 on the condition that no development unevenness was found on the film, "5", and development unevenness on the entire surface of the film was "1". "4" has uneven development in a very small part of the film, which is an acceptable level for practical use, but "3" or less is not practical. The uneven development was carried out by using the unexposed light-sensitive material of each sample at the end of running. Table 2 shows the values of the nucleating agent type and the replenishing amount, and the results of running and development unevenness.

【0208】[0208]

【表2】 [Table 2]

【0209】表−2より明らかなように、比較例の造核
剤を使用した試料は、補充量を低減してランニングする
と階調が軟調になり、感材がNGレベルになってしまう
が本発明の造核剤を使用した試料では低補充にしても、
感度、階調の変化が小さく好ましい結果になった。ま
た、本発明の造核剤を使用した試料でも、比較例の現像
液イ、ニを用いると現像ムラが発生するか写真性への影
響が大きい、しかし、本発明の現像液ロ、ハを用いると
処理ムラも写真性への影響も小さい結果になった。 実施例2 <ハロゲン化銀写真感光材料の作成> 乳剤調整 以下の方法で乳剤Bを調整した。 〔乳剤B〕銀1モル当たり1mgの下記構造式のセレン増
感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸
を加えて60℃で最適感度になるように化学増感するこ
と以外は乳剤Aと同様に調整した。
As is clear from Table 2, in the sample using the nucleating agent of Comparative Example, the gradation becomes soft when the amount of replenishment is reduced and running, and the sensitive material becomes NG level. For samples using the nucleating agent of the invention, even with low replenishment,
The change in sensitivity and gradation was small, and a favorable result was obtained. In addition, even in the sample using the nucleating agent of the present invention, if the developing solutions A and D of Comparative Examples are used, development unevenness occurs or the photographic properties are greatly affected. When used, the result was that the unevenness in processing and the effect on photographic properties were small. Example 2 <Preparation of silver halide photographic light-sensitive material> Emulsion preparation Emulsion B was prepared by the following method. [Emulsion B] Emulsion except that 1 mg of selenium sensitizer of the following structural formula per mole of silver, 1 mg of sodium thiosulfate and 4 mg of chloroauric acid were added and chemically sensitized at 60 ° C. to obtain an optimum sensitivity. A was adjusted in the same manner as in A.

【0210】[0210]

【化71】 Embedded image

【0211】塗布試料の作成 実施例1のEM層の増感色素の代わりに下記の化合物
(S−3)を銀1モルあたり2.1×10-4モル添加す
ること、EM層の乳剤として乳剤Bを使用したこと以外
は実施例1と同様にして試料を作成した。
Preparation of Coating Sample Instead of the sensitizing dye of the EM layer of Example 1, the following compound (S-3) was added in an amount of 2.1 × 10 −4 mol per mol of silver to prepare an emulsion for the EM layer. A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that Emulsion B was used.

【0212】[0212]

【化72】 Embedded image

【0213】(1) 露光、現像処理 上記の試料を633nmにピークを持つ干渉フィルターを
介し、ステップウェッジを通して発光時間10-6sec の
キセノンフラッシュ光で露光した。
(1) Exposure and Development Treatment The above sample was exposed to xenon flash light having an emission time of 10 −6 sec through a step wedge through an interference filter having a peak at 633 nm.

【0214】固形現像剤の製造方法は、材質が高密度ポ
リエチレンである(平均肉厚=500μm、部分的には
200〜1000μm)容器に使用液として10リット
ル分に相当する現像成分を固体で詰めた。このときに各
成分は混合してから容器に充填した。
The method for producing a solid developer is as follows. A container made of high-density polyethylene (average wall thickness = 500 μm, partially 200-1000 μm) is packed with 10 liters of developing components as a working solution in solid form. It was At this time, the components were mixed and then filled in a container.

【0215】次に現像剤の組成を下記に示す。 水酸化ナトリウム(ビーズ)99.5% 11.5g 亜硫酸カリウム(原末) 71.8g 亜硫酸ナトリウム(原末) 35.0g 炭酸カリウム(原末) 62.0g ハイドロキノン(ブリケット) 40.0g 以下まとめてブリケット ジエチレントリアミン五酢酸 2.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル 1.50g −1−フェニル−3−ピラゾリドン 2−メルカプトベンツイミダゾール 0.30g −5−スルホン酸ナトリウム エリソルビン酸ナトリウム 6.0g 臭化カリウム 6.6g この処方をもとに表−1の化合物を加えテスト用現像剤
とした。尚この処方をup to 1リットルの水に溶かした
時のpHは10.65であった。
Next, the composition of the developer is shown below. Sodium hydroxide (beads) 99.5% 11.5g Potassium sulfite (bulk powder) 71.8g Sodium sulfite (bulk powder) 35.0g Potassium carbonate (bulk powder) 62.0g Hydroquinone (briquette) 40.0g Collectively Briquette Diethylenetriamine Pentaacetic acid 2.0 g 5-Methylbenzotriazole 0.35 g 4-Hydroxymethyl-4-methyl 1.50 g -1-Phenyl-3-pyrazolidone 2-Mercaptobenzimidazole 0.30 g-5-Sulfonate sodium erythorbate 6 0.0 g Potassium bromide 6.6 g Based on this formulation, the compounds shown in Table 1 were added to prepare a test developer. The pH when this formulation was dissolved in up to 1 liter of water was 10.65.

【0216】ここで原料形態で、原末は一般的な工業製
品のままで使用し、アルカリ金属塩のビーズは市販品を
用いた。原料形態がブリケットであるものは、ブリケッ
ティングマシンを用いて加圧圧縮し、不定形の長さ4〜
6mm程度のラグビーボール型の形状を作成し、破砕して
用いた。小量成分に関しては、各成分をブレンドしてか
らブリケットにした。
Here, in the raw material form, the bulk powder was used as it was as a general industrial product, and the beads of the alkali metal salt were commercial products. If the raw material form is briquette, it is pressed and compressed using a briquetting machine to give an irregular length of 4 to
A rugby ball-shaped shape of about 6 mm was prepared, crushed and used. For the minor components, each component was blended before briquetting.

【0217】定着液は、下記処方を固形剤部分と液剤部
分共に高密度ポリエチレン製(肉厚平均=500μm、
巾としては200〜1000μm)の容器に充填したも
のを用いた。溶解後の液量が10リットルとし、pH=
4.85であった。定着液の補充量は260ml/m2であ
った。
The fixing solution was made of high-density polyethylene in the following formulation for both the solid agent portion and the liquid agent portion (wall thickness average = 500 μm,
The width used was one filled in a container having a width of 200 to 1000 μm. The volume of the solution after dissolution is 10 liters, and the pH =
It was 4.85. The replenisher rate of the fixing solution was 260 ml / m 2 .

【0218】 <固形剤パート> チオ硫酸アンモニウム 1300g 酢酸ナトリウム 400g メタ重亜硫酸ナトリウム 200g <液剤パート> 硫酸アルミニウム(27%) 300g 硫酸(75%) 30g グルコン酸ナトリウム 20g EDTA 0.3g クエン酸 40g 固形剤パートは混合して充填されている。<Solid Agent Part> Ammonium thiosulfate 1300 g Sodium acetate 400 g Sodium metabisulfite 200 g <Liquid agent part> Aluminum sulfate (27%) 300 g Sulfuric acid (75%) 30 g Sodium gluconate 20 g EDTA 0.3 g Citric acid 40 g Solid agent part Are mixed and filled.

【0219】写真性とランニング性の評価は実施例1と
同様に行った。その結果、実施例1と同様の結果になり
本発明の造核剤がランニング性にすぐれており、また、
本発明一般式(II) の化合物を含む現像液で処理する事
により写真性を損なわずに現像ムラが良化する事ができ
た。
The photographic properties and running properties were evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, the same results as in Example 1 were obtained, and the nucleating agent of the present invention has excellent running properties.
By processing with a developer containing the compound of the general formula (II) of the present invention, uneven development could be improved without impairing photographic properties.

【0220】実施例3 <乳剤調整>38℃に保った塩化ナトリウム及び銀1モ
ルあたり3×10-5モルのベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム、5×10-3モルの4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデンを含むpH=
2.0の1.5%ゼラチン水溶液と銀1モルあたり4×
10-5モルのK2Ru(NO)Cl5 を含む塩化ナトリウム水溶液
をダブルジェット法により電位95mVにおいて3分30
秒間で最終粒子の銀量の半分を同時添加し、芯部の粒子
0.10μmを調製した。その後、硝酸銀水溶液と銀1
モルあたり4×10-5モルのK2Ru(NO)Cl5 を含む塩化ナ
トリウム水溶液を前述と同様に7分間で添加し、平均粒
子サイズ0.13μmの塩化銀立方体粒子を調製した
(変動係数13%)。その後、当業界でよく知られたフ
ロキュレーション法により水洗し、可溶性塩を除去した
のちゼラチンを加え、防腐剤として化合物−Cを銀1モ
ルあたり60mg加えた後、pH5.7、pAg=7.5
に調整し、さらに銀1モルあたり1×10-5モルのチオ
硫酸ナトリウム、1×10-5モルのセレン増感剤SE−
1及び4×10-5モルの塩化金酸を加え、65℃で60
分間加熱し化学増感を施した後、安定剤として4−ヒド
ロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザイン
デンを銀1モルあたり1×10-3モル添加した(最終粒
子として、pH5.7、pAg=7.5、Ru=4×1
-5モル/Agモルとなった。
Example 3 <Emulsion preparation> Sodium chloride kept at 38 ° C. and 3 × 10 −5 mol of sodium benzenethiosulfonate per mol of silver, 5 × 10 −3 mol of 4-hydroxy-6-methyl- PH including 1,3,3a, 7-tetrazaindene =
2.0 × 1.5% gelatin aqueous solution and 4 × per mol of silver
An aqueous sodium chloride solution containing 10 −5 mol of K 2 Ru (NO) Cl 5 was applied by the double jet method at a potential of 95 mV for 3 minutes 30.
Half of the silver amount of the final particles was simultaneously added in a second to prepare 0.10 μm particles of the core. Then, silver nitrate aqueous solution and silver 1
An aqueous sodium chloride solution containing 4 × 10 −5 mol of K 2 Ru (NO) Cl 5 per mol was added over 7 minutes in the same manner as described above to prepare silver chloride cubic particles having an average particle size of 0.13 μm (coefficient of variation). 13%). Then, after washing with water by a flocculation method well known in the art to remove soluble salts, gelatin was added, and compound-C as a preservative was added at 60 mg per mol of silver, pH 5.7, pAg = 7. .5
And 1 × 10 -5 mol of sodium thiosulfate per 1 mol of silver and 1 × 10 -5 mol of selenium sensitizer SE-.
Add 1 and 4 × 10 -5 mol of chloroauric acid and add 60 at 65 ° C.
After heating for a minute for chemical sensitization, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene as a stabilizer was added at 1 × 10 −3 mol per mol of silver (as final particles. , PH 5.7, pAg = 7.5, Ru = 4 × 1
It became 0 -5 mol / Ag mol.

【0221】[0221]

【化73】 Embedded image

【0222】<乳剤層塗布液の調製とその塗布>上記乳
剤に下記化合物を添加し、下塗層を含む下記支持体上に
ゼラチン塗布量が0.9g/m2、塗布銀量が2.7g/
m2となるようにハロゲン化銀乳剤層を塗布した。 1−フェニル−5−メルカプト−テトラゾール 1mg/m2 化合物W 20mg/m2 N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩 10mg/m2 化合物−D 10mg/m2 化合物−E 10mg/m2 化合物−F 10mg/m2 n−ブチルアクリレート/2−アセトアセトキシエチル メタクリレート/アクリル酸共重合体(89/8/3) 760mg/m2 化合物−G(硬膜剤) 105mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 57mg/m2 さらに本発明のヒドラジン系造核剤を表3のように塗布
されるよう添加した。
<Preparation of Coating Solution for Emulsion Layer and Coating Thereof> The following compounds were added to the above emulsion, and the amount of coated gelatin was 0.9 g / m 2 and the amount of coated silver was 2. on the following support including the undercoat layer. 7 g /
The silver halide emulsion layer was coated so as to have a size of m 2 . 1-phenyl-5-mercapto-tetrazole 1 mg / m 2 compound W 20 mg / m 2 N-oleyl-N-methyl taurine sodium salt 10 mg / m 2 compound-D 10 mg / m 2 compound-E 10 mg / m 2 compound-F 10 mg / m 2 n-butyl acrylate / 2-acetoacetoxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (89/8/3) 760 mg / m 2 compound-G (hardener) 105 mg / m 2 sodium polystyrene sulfonate 57 mg / m 2 Further, the hydrazine-based nucleating agent of the present invention was added so as to be coated as shown in Table 3.

【0223】上記乳剤層の上層に、乳剤保護下層及び上
層を塗布した。 <乳剤保護下層塗布液の調製とその塗布>ゼラチン水溶
液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が0.6g/
m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.6g/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 6mg/m2 化合物−C 1mg/m2 化合物−H 14mg/m2 n−ブチルアクリレート/2−アセトアセトキシエチル メタクリレート/アクリル酸共重合体(89/8/3) 250mg/m2
An emulsion protection lower layer and an upper layer were coated on the above emulsion layer. <Preparation of Emulsion Protecting Lower Layer Coating Liquid and Its Coating> The following compounds were added to a gelatin aqueous solution to give a gelatin coating amount of 0.6 g /
It was applied as a m 2. Gelatin (Ca ++ content 2700 ppm) 0.6 g / m 2 p-sodium dodecylbenzene sulfonate 10 mg / m 2 sodium polystyrene sulfonate 6 mg / m 2 compound-C 1 mg / m 2 compound-H 14 mg / m 2 n- Butyl acrylate / 2-acetoacetoxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (89/8/3) 250 mg / m 2

【0224】<乳剤保護上層塗布液の調製とその塗布>
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.45g/m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.45g/m2 不定形シリカマット剤 40mg/m2 (平均粒径3.5μ、細孔直径25Å、表面積700m2/g) 不定型シリカマット剤 10mg/m2 (平均粒径2.5μ、細孔直径170Å、表面積300m2/g) N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリシン ポタジウム 5mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 30mg/m2 化合物−C 1mg/m2 流動パラフィン 40mg/m2 固体分散染料−G1 30mg/m2 固体分散染料−G2 150mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 4mg/m2
<Preparation of Emulsion Protecting Upper Layer Coating Solution and Its Coating>
The following compound was added to the aqueous gelatin solution, and the mixture was coated so that the coated amount of gelatin was 0.45 g / m 2 . Gelatin (Ca ++ content 2700ppm) 0.45g / m 2 Amorphous silica matting agent 40mg / m 2 (Average particle size 3.5μ, Pore diameter 25Å, Surface area 700m 2 / g) Amorphous silica matting agent 10mg / m 2 (average particle diameter 2.5 μ, pore diameter 170 Å, surface area 300 m 2 / g) N-perfluorooctanesulfonyl-N-propylglycine potassium 5 mg / m 2 p-sodium dodecylbenzenesulfonate 30 mg / m 2 compound- C 1 mg / m 2 Liquid paraffin 40 mg / m 2 Solid disperse dye-G 1 30 mg / m 2 Solid disperse dye-G 2 150 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 4 mg / m 2

【0225】ついで、支持体の反対側の面に、下記に示
す導電層及びバック層を同時塗布した。 <導電層塗布液の調製とその塗布>ゼラチン水溶液に下
記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が0.06g/m2
なるように塗布した。 SnO2/Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μ) 186mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm) 60mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 13mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 12mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 化合物−C 1mg/m2
Then, a conductive layer and a back layer shown below were simultaneously coated on the opposite surface of the support. <Preparation of Coating Solution for Conductive Layer and Coating> The following compounds were added to a gelatin aqueous solution and coated so that the coating amount of gelatin was 0.06 g / m 2 . SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.25 μ) 186 mg / m 2 gelatin (Ca ++ content 3000 ppm) 60 mg / m 2 p-sodium dodecylbenzenesulfonate 13 mg / m 2 dihexyl-α- Sulfosuccinate sodium 12 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 10 mg / m 2 Compound-C 1 mg / m 2

【0226】<バック層塗布液の調製とその塗布>ゼラ
チン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が
1.94g/m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量30ppm) 1.94mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ) 15mg/m2 化合物−i 140mg/m2 化合物−J 140mg/m2 化合物−K 30mg/m2 化合物−L 40mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 7mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 29mg/m2 化合物−M 5mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 5mg/m2 硫酸ナトリウム 150mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 化合物−E(硬膜剤) 105mg/m2
<Preparation of Back Layer Coating Liquid and Its Coating> The following compounds were added to a gelatin aqueous solution and coated so that the gelatin coating amount was 1.94 g / m 2 . Gelatin (Ca ++ content 30ppm) 1.94mg / m 2 Polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 3.4μ) 15mg / m 2 Compound -i 140 mg / m 2 Compound -J 140 mg / m 2 Compound -K 30 mg / m 2 compound-L 40 mg / m 2 p-dodecylbenzenesulfonate sodium 7 mg / m 2 dihexyl-α-sulfosuccinate sodium 29 mg / m 2 compound-M 5 mg / m 2 N-perfluorooctanesulfonyl-N-propylglycine Potassium 5 mg / m 2 Sodium sulfate 150 mg / m 2 Sodium acetate 40 mg / m 2 Compound-E (hardener) 105 mg / m 2

【0227】(支持体、下塗層)二軸延伸したポリエチ
レンテレフタレート支持体(厚味100μm)の両面の
下記組成の下塗層第1層及び第2層を塗布した。 <下塗層1層> コア−シェル型塩化ビニリデン共重合体 15g 2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μ) 0.05g 化合物−N 0.20g コロイダルシリカ(スノーテックスZL:粒径70〜 100μm日産化学(株)製) 0.12g 水を加えて 100g さらに、10重量%のKOHを加え、pH=6に調整し
た塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.
9μになる様に塗布した。
(Support, Undercoat Layer) Biaxially stretched polyethylene terephthalate supports (thickness: 100 μm) were coated on both sides with the first and second undercoat layers having the following compositions. <Undercoat layer 1 layer> Core-shell type vinylidene chloride copolymer 15 g 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 0.25 g Polystyrene fine particles (average particle size 3 μ) 0.05 g Compound-N 0.20 g Colloidal silica (Snowtex ZL: particle size 70 to 100 μm, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.) 0.12 g Water added 100 g Further, 10 wt% KOH was added to adjust the pH = 6, and the coating liquid was dried at 180 ° C. The dry film thickness was 0.
It was applied so as to be 9μ.

【0228】 <下塗層第2層> ゼラチン 1g メチルセルロース 0.05g 化合物−O 0.02g C12H25(CH2CH2O)10H 0.03g 化合物−C 3.5×10-3g 酢酸 0.2g 水を加えて 100g この塗布液を乾燥温度170℃2分間で、乾燥膜厚が
0.1μになる様に塗布し、下塗層を含む支持体を作製
した。以上のようにして試料を作成した。
<Undercoat Layer Second Layer> Gelatin 1 g Methylcellulose 0.05 g Compound-O 0.02 g C 12 H 25 (CH 2 CH 2 O) 10 H 0.03 g Compound-C 3.5 × 10 −3 g Acetic acid 0.2 g Water was added 100 g This coating solution was coated at a drying temperature of 170 ° C. for 2 minutes so that the dry film thickness was 0.1 μm, to prepare a support including an undercoat layer. A sample was prepared as described above.

【0229】[0229]

【化74】 Embedded image

【0230】[0230]

【化75】 Embedded image

【0231】[0231]

【化76】 Embedded image

【0232】<写真性能の評価> (1) 露光、現像処理 この様にして得られた試料を光学クサビを通して大日本
スクリーン社製P−627FMプリンターで露光し、富
士写真フイルム(株)製自動現像機FG−680AG及
び実施例1の現像液で38℃20秒処理し、定着、水
洗、乾燥した。定着液は実施例1と同様のものを使用し
た。ランニング性ムラの評価も現像温度、時間を38
℃、20″にした以外は実施例1と同様に行い表−3 に
結果を示す。
<Evaluation of Photographic Performance> (1) Exposure and Development Treatment The sample thus obtained was exposed by an optical wedge to a P-627FM printer manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd., and automatically developed by Fuji Photo Film Co., Ltd. Machine FG-680AG and the developer of Example 1 were treated at 38 ° C. for 20 seconds, fixed, washed with water, and dried. The same fixing solution as in Example 1 was used. The development temperature and time were set to 38 for evaluation of running property unevenness.
The same procedure as in Example 1 was carried out except that the temperature was 20 ° C., and the results are shown in Table-3.

【0233】[0233]

【表3】 [Table 3]

【0234】表−3より明らかなように、比較例の造核
剤を使用した試料は補充量を低減してランニングすると
階調が軟調になり感度がNGレベルになっししまうが、
本発明の造核剤を使用した試料では低補充にしても感
度、階調の変化が小さく好ましい結果になった。また、
本発明の造核剤を使用した試料でも、比較例の現像液
イ、ニを用いると現像ムラが発生するか写真性への影響
が大きい、しかし本発明の現像液ロ、ハを用いると処理
ムラも写真性への影響も小さい結果になった。
As is clear from Table 3, in the sample using the nucleating agent of Comparative Example, the gradation becomes soft and the sensitivity becomes NG level when running with a reduced replenishment amount,
With the sample using the nucleating agent of the present invention, even with low replenishment, the change in sensitivity and gradation was small, and favorable results were obtained. Also,
Even with the sample using the nucleating agent of the present invention, if the developing solutions A and D of the comparative example are used, development unevenness occurs or the photographic properties are greatly affected, but if the developing solutions B and C of the present invention are used, processing is performed. The unevenness and the effect on the photographic properties were small.

【0235】[0235]

【発明の効果】本発明の造核剤を用いた感材と、本発明
一般式(II) の化合物を用いた現像液により、pH1
1.0未満の安定な現像液で補充量を低減しても写真性
の変動が小さく、ムラの発生も少なく、常に安定な写真
性能が得られるハロゲン化銀黒白写真感光材料の処理方
法であった。
The photosensitive material using the nucleating agent of the present invention and the developing solution containing the compound of the general formula (II) of the present invention give a pH of 1
It is a processing method of a silver halide black and white photographic light-sensitive material that can obtain stable photographic performance with little fluctuation in photographic properties and less unevenness even if the replenishing amount is reduced with a stable developing solution of less than 1.0. It was

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 5/305 G03C 5/305 5/31 5/31 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number for FI Technical indication G03C 5/305 G03C 5/305 5/31 5/31

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層の感光性ハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層またはその他の親水性
コロイド層中に、ヒドラジン基の近傍にアニオン性基ま
たはヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成する
ノニオン性基を有する事を特徴とするヒドラジン系造核
剤あるいは下記一般式(I)で表される化合物から選ば
れる少なくとも一種のヒドラジン造核剤と造核促進剤を
含有する事を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料を、
露光後、(1)0.2〜0.75モル/リットルのジヒ
ドロキシベンゼン系現像主薬、(2)0.001〜0.
06モル/リットルの1−フェニル−3−ピラゾリドン
系またはp−アミノフェノール系補助現像主薬、(3)
0.3〜1.2モル/リットルの遊離の亜硫酸イオン、
(4)下記一般式(II) で表される化合物を含有し、p
Hが9.0〜11.0である現像液で、該現像液の補充
量が225ml/m2以下で処理することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。 一般式(I) 【化1】 式中、R0 は、ジフルオロメチル基またはモノフルオロ
メチル基を表し、A0は芳香族基を表す。但し、A0
少なくとも一つの、耐拡散基、ハロゲン化銀への吸着促
進基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、4級アンモニウム基、4級化された窒素原子を含む
含窒素ヘテロ環基、エチレンオキシもしくはプロピレン
オキシ単位を含むアルコキシ基、またはスルフィド結合
もしくはジスルフィド結合を含む飽和ヘテロ環基または
これらの組合せを置換基として有する。一般式(II) 【化2】 式中Y、ZはN又はCR2 (R2 はアルキル基またはア
リール基を表す)、R1 は−SO3 M、−COOM、−
OH、−NHSO2 3 、−SO2 NR3 4および−
NR5 CONR3 4 からなる群から選ばれた少なくと
も1種で置換されたアルキル基、アリール基もしくはヘ
テロ環基又はアルキル基、アリール基もしくはヘテロ環
基が連結基を介して構成される基を表す。R3 、R4
びR5 は水素原子又は炭素数1〜4の低級アルキル基を
表す。Mは水素原子、アルカリ金属原子、四級アンモニ
ウムおよび四級ホスホニウムを表す。
1. A support having at least one photosensitive silver halide emulsion layer, wherein an anionic group or a hydrogen atom of hydrazine is present in the vicinity of the hydrazine group in the emulsion layer or another hydrophilic colloid layer. A hydrazine nucleating agent having a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond, or at least one hydrazine nucleating agent and a nucleating accelerator selected from compounds represented by the following general formula (I): A silver halide photographic light-sensitive material characterized by containing
After exposure, (1) 0.2 to 0.75 mol / liter of dihydroxybenzene type developing agent, (2) 0.001 to 0.
06-mol / liter 1-phenyl-3-pyrazolidone-based or p-aminophenol-based auxiliary developing agent, (3)
0.3-1.2 mol / l of free sulfite ion,
(4) contains a compound represented by the following general formula (II), p
A method for developing a silver halide photographic light-sensitive material, which comprises processing with a developer having H of 9.0 to 11.0 and a replenishing amount of the developer of 225 ml / m 2 or less. General formula (I) In the formula, R 0 represents a difluoromethyl group or a monofluoromethyl group, and A 0 represents an aromatic group. However, A 0 is at least one non-diffusion group, a group promoting adsorption to silver halide, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, a quaternary ammonium group, and a nitrogen-containing hetero atom containing a quaternized nitrogen atom. It has a ring group, an alkoxy group containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, a saturated heterocyclic group containing a sulfide bond or a disulfide bond, or a combination thereof as a substituent. General formula (II) In the formula, Y and Z are N or CR 2 (R 2 represents an alkyl group or an aryl group), R 1 is —SO 3 M, —COOM, —
OH, -NHSO 2 R 3, -SO 2 NR 3 R 4 and -
An alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group or an alkyl group substituted with at least one selected from the group consisting of NR 5 CONR 3 R 4 ; Represent R 3 , R 4 and R 5 represent a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, a quaternary ammonium or a quaternary phosphonium.
【請求項2】 現像液が固形処理剤を用いて調整された
ことを特徴とする請求項1記載の現像処理方法。
2. The development processing method according to claim 1, wherein the developer is prepared by using a solid processing agent.
【請求項3】 造核促進剤が一般式(III)、一般式(I
V) 及び一般式(V)で表される化合物から選ばれる少な
くとも一種の化合物であることを特徴とする請求項1に
記載のハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(III) 【化3】 一般式(IV) 【化4】 式中、Aはヘテロ環を完成させるための有機基を表す。
B、Cはそれぞれ、アルキレン、アリーレン、アルケニ
レン、−SO2 −、−SO−、−O−、−S−、−N
(R5 )−を単独または組み合わせて構成されるものを
表す。ただし、R5 はアルキル基、アリール基、水素原
子を表す。R1 、R2 は各々アルキル基を表し、R3
4 は各々置換基を表す。Xはアニオン基を表すが、分
子内塩の場合はXは必要ない。 一般式(V) 【化5】 式中、R1 、R2 、R3 はアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、
ヘテロ環残基を表す。mは整数を表し、LはP原子とそ
の炭素原子で結合するm価の有機基を表し、nは1ない
し3の整数を表し、Xはn価の陰イオンを表し、XはL
と連結してもよい。
3. The nucleation accelerator is represented by general formula (III) or general formula (I
2. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, which is at least one compound selected from the group consisting of V) and compounds represented by general formula (V). General formula (III) General formula (IV): In the formula, A represents an organic group for completing the heterocycle.
B, and C is an alkylene, arylene, alkenylene, -SO 2 -, - SO - , - O -, - S -, - N
(R 5 )-represents one or a combination thereof. However, R 5 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom. R 1 and R 2 each represent an alkyl group, and R 3 and
Each R 4 represents a substituent. X represents an anionic group, but X is not necessary in the case of an internal salt. General formula (V) In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group,
Represents a heterocycle residue. m represents an integer, L represents an m-valent organic group bonded to a P atom and its carbon atom, n represents an integer of 1 to 3, X represents an n-valent anion, and X represents L.
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