JPH10227898A - Ｘ線分析装置のソーラースリット装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置のソーラースリット装置Info
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- JPH10227898A JPH10227898A JP9041380A JP4138097A JPH10227898A JP H10227898 A JPH10227898 A JP H10227898A JP 9041380 A JP9041380 A JP 9041380A JP 4138097 A JP4138097 A JP 4138097A JP H10227898 A JPH10227898 A JP H10227898A
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 発散角の異なるソーラースリットの交換や、
横発散制限のソーラースリットから縦発散制限のソーラ
ースリットへの交換などを容易にする。 【解決手段】 発散角の異なる、横発散制限用の３個の
スリットユニット１２、１４、１６は、互いに隣り合う
ように密着して並べて配置されていて、移動台１８に固
定されている。移動台１８はベース２０のアリ溝２２に
スライド可能に装着されている。パルスモータ２６が回
転すると、ボールネジ２４が回転し、移動台１８がベー
ス２０上を矢印２８の方向に移動する。この移動方向２
８は回折Ｘ線ビーム５０に垂直になっている。このソー
ラースリット装置１０を用いれば、パルスモータ２６に
指令を与えるだけでソーラースリットの発散角を変更で
きる。
横発散制限のソーラースリットから縦発散制限のソーラ
ースリットへの交換などを容易にする。 【解決手段】 発散角の異なる、横発散制限用の３個の
スリットユニット１２、１４、１６は、互いに隣り合う
ように密着して並べて配置されていて、移動台１８に固
定されている。移動台１８はベース２０のアリ溝２２に
スライド可能に装着されている。パルスモータ２６が回
転すると、ボールネジ２４が回転し、移動台１８がベー
ス２０上を矢印２８の方向に移動する。この移動方向２
８は回折Ｘ線ビーム５０に垂直になっている。このソー
ラースリット装置１０を用いれば、パルスモータ２６に
指令を与えるだけでソーラースリットの発散角を変更で
きる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、Ｘ線分析装置の
Ｘ線ビームの経路上に配置されてＸ線ビームの発散角を
制限するソーラースリット装置に関する。
Ｘ線ビームの経路上に配置されてＸ線ビームの発散角を
制限するソーラースリット装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線分析装置のソーラースリットは、そ
の使用目的に応じて各種の発散角のものが使われてい
る。Ｘ線回折装置を例にして説明すれば、ソーラースリ
ットの発散角を大きくすると、回折Ｘ線の強度はそれほ
ど低下しないが、分解能が悪くなる。逆に、発散角を小
さくすれば、回折Ｘ線の分解能は向上するが、強度が低
下する。したがって、分析目的に応じて、最適な発散角
のソーラースリットを選択している。また、測定の種類
が変われば、ソーラースリットの発散角制限方向を変更
しなければならない場合もある。
の使用目的に応じて各種の発散角のものが使われてい
る。Ｘ線回折装置を例にして説明すれば、ソーラースリ
ットの発散角を大きくすると、回折Ｘ線の強度はそれほ
ど低下しないが、分解能が悪くなる。逆に、発散角を小
さくすれば、回折Ｘ線の分解能は向上するが、強度が低
下する。したがって、分析目的に応じて、最適な発散角
のソーラースリットを選択している。また、測定の種類
が変われば、ソーラースリットの発散角制限方向を変更
しなければならない場合もある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来、同一のＸ線分析
装置において、性質の異なるソーラースリットを使い分
けようとすれば、それまで使用していたソーラースリッ
トを取り外して別のソーラースリットを取り付けなけれ
ばならない。このような交換作業は煩わしいものであ
る。また、複数のソーラースリットをどこかに保管して
おいて常に取り出せるように管理しておかなければなら
ない。
装置において、性質の異なるソーラースリットを使い分
けようとすれば、それまで使用していたソーラースリッ
トを取り外して別のソーラースリットを取り付けなけれ
ばならない。このような交換作業は煩わしいものであ
る。また、複数のソーラースリットをどこかに保管して
おいて常に取り出せるように管理しておかなければなら
ない。
【０００４】この発明は上述の問題点を解決するために
なされたものであり、その目的は、発散角の異なるソー
ラースリットを簡単に交換できるようにしたソーラース
リット装置を提供することにある。
なされたものであり、その目的は、発散角の異なるソー
ラースリットを簡単に交換できるようにしたソーラース
リット装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明のソーラースリ
ット装置は、性質の異なる複数のスリットユニットを設
けたものであって、これらを切り替えて使用できるよう
になっている。すなわち、複数のスリットユニットがＸ
線ビームの経路に垂直な方向に移動可能であり、この移
動によって任意の一つのスリットユニットをＸ線ビーム
の経路上に配置できるようにしている。複数のスリット
ユニットの組み合わせとしては、（１）互いに発散角の
異なるスリットユニットを組み合わせたもの。（２）縦
発散制限のスリットユニットと横発散制限のスリットユ
ニットとを組み合わせたもの。（３）縦発散制限のスリ
ットユニットと横発散制限のスリットユニットとを組み
合わせて、さらに、発散角の異なるものを組み合わせた
もの。が考えられる。
ット装置は、性質の異なる複数のスリットユニットを設
けたものであって、これらを切り替えて使用できるよう
になっている。すなわち、複数のスリットユニットがＸ
線ビームの経路に垂直な方向に移動可能であり、この移
動によって任意の一つのスリットユニットをＸ線ビーム
の経路上に配置できるようにしている。複数のスリット
ユニットの組み合わせとしては、（１）互いに発散角の
異なるスリットユニットを組み合わせたもの。（２）縦
発散制限のスリットユニットと横発散制限のスリットユ
ニットとを組み合わせたもの。（３）縦発散制限のスリ
ットユニットと横発散制限のスリットユニットとを組み
合わせて、さらに、発散角の異なるものを組み合わせた
もの。が考えられる。
【０００６】ここで、縦発散制限と横発散制限について
説明する。Ｘ線回折装置を例にとって説明すると、試料
への入射Ｘ線と試料からの回折Ｘ線とを含む平面（回折
平面）を考え、この回折平面内でのＸ線ビームの発散を
横発散と呼んでいる。また、回折平面に垂直な平面内で
のＸ線ビームの発散を縦発散と呼んでいる。Ｘ線回折装
置以外のＸ線分析装置でも、Ｘ線光学系を含む平面内で
の発散を横発散、それに垂直な平面内での発散を縦発散
と考えればよい。
説明する。Ｘ線回折装置を例にとって説明すると、試料
への入射Ｘ線と試料からの回折Ｘ線とを含む平面（回折
平面）を考え、この回折平面内でのＸ線ビームの発散を
横発散と呼んでいる。また、回折平面に垂直な平面内で
のＸ線ビームの発散を縦発散と呼んでいる。Ｘ線回折装
置以外のＸ線分析装置でも、Ｘ線光学系を含む平面内で
の発散を横発散、それに垂直な平面内での発散を縦発散
と考えればよい。
【０００７】この発明のソーラースリット装置は、２個
以上であれば任意の個数をスリットユニットを含んでい
てもよい。実用的には、２〜４個程度が適当である。
以上であれば任意の個数をスリットユニットを含んでい
てもよい。実用的には、２〜４個程度が適当である。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は、この発明のソーラースリ
ット装置の第１の実施形態を示す斜視図である。このソ
ーラースリット装置１０は、発散角の異なる、横発散制
限用の３個のスリットユニット１２、１４、１６を備え
ている。これらのスリットユニットは互いに隣り合うよ
うに密着して並べて配置されていて、移動台１８に固定
されている。移動台１８はベース２０のアリ溝２２にス
ライド可能に装着されている。また、移動台１８はボー
ルネジ２４に噛み合っており、このボールネジ２４はパ
ルスモータ２６の出力軸に結合している。パルスモータ
２６が回転すると、ボールネジ２４が回転し、移動台１
８がベース２０上を矢印２８の方向に移動する。移動台
の移動方向２８において、第１のスリットユニット１２
の中心と第２のスリットユニット１４の中心とは距離Ｐ
（以下、ピッチと呼ぶ。）だけ離れている。同様に、第
２のスリットユニット１４の中心と第３のスリットユニ
ット１６の中心もピッチＰだけ離れている。
ット装置の第１の実施形態を示す斜視図である。このソ
ーラースリット装置１０は、発散角の異なる、横発散制
限用の３個のスリットユニット１２、１４、１６を備え
ている。これらのスリットユニットは互いに隣り合うよ
うに密着して並べて配置されていて、移動台１８に固定
されている。移動台１８はベース２０のアリ溝２２にス
ライド可能に装着されている。また、移動台１８はボー
ルネジ２４に噛み合っており、このボールネジ２４はパ
ルスモータ２６の出力軸に結合している。パルスモータ
２６が回転すると、ボールネジ２４が回転し、移動台１
８がベース２０上を矢印２８の方向に移動する。移動台
の移動方向２８において、第１のスリットユニット１２
の中心と第２のスリットユニット１４の中心とは距離Ｐ
（以下、ピッチと呼ぶ。）だけ離れている。同様に、第
２のスリットユニット１４の中心と第３のスリットユニ
ット１６の中心もピッチＰだけ離れている。
【０００９】図２は第２のスリットユニット１４を拡大
して示した斜視図である。スリットユニット１４は直方
体の外形をしている。このスリットユニット１４の寸法
例を示すと、端面（Ｘ線ビームの経路に垂直な面）にお
いては、外形の高さＨ２＝３０ｍｍ、横幅Ｗ２＝１５ｍ
ｍである。また、開口部の高さＨ１＝２０ｍｍ、横幅Ｗ
１＝１０ｍｍである。さらに、スリットユニット１４の
奥行きＬ＝３３ｍｍである。開口部には多数のブレード
３０が鉛直姿勢で互いに平行になるように配列固定され
ている。すなわち、このスリットユニット１４はＸ線ビ
ームの水平方向の発散を制限するもの（横発散制限スリ
ット）である。隣り合うブレード３０の間の上端と下端
にはスペーサ３２が挟まれている。ブレード３０の厚さ
ｔ＝０．０５ｍｍであり、隣り合うブレード３０の間隔
Ｄ（すなわちスペーサ３２の厚さ）＝０．１４ｍｍであ
る。この間隔Ｄをスリット幅と呼ぶ。スリット幅Ｄと奥
行きＬが決まるとスリットユニットの発散角αが定ま
る。このスリットユニット１４の場合、発散角α＝０．
５度である。開口部の横幅Ｗ１の中に、ブレード３０は
実際には５２枚配置されている。図２では数枚だけブレ
ード３０を図示している。
して示した斜視図である。スリットユニット１４は直方
体の外形をしている。このスリットユニット１４の寸法
例を示すと、端面（Ｘ線ビームの経路に垂直な面）にお
いては、外形の高さＨ２＝３０ｍｍ、横幅Ｗ２＝１５ｍ
ｍである。また、開口部の高さＨ１＝２０ｍｍ、横幅Ｗ
１＝１０ｍｍである。さらに、スリットユニット１４の
奥行きＬ＝３３ｍｍである。開口部には多数のブレード
３０が鉛直姿勢で互いに平行になるように配列固定され
ている。すなわち、このスリットユニット１４はＸ線ビ
ームの水平方向の発散を制限するもの（横発散制限スリ
ット）である。隣り合うブレード３０の間の上端と下端
にはスペーサ３２が挟まれている。ブレード３０の厚さ
ｔ＝０．０５ｍｍであり、隣り合うブレード３０の間隔
Ｄ（すなわちスペーサ３２の厚さ）＝０．１４ｍｍであ
る。この間隔Ｄをスリット幅と呼ぶ。スリット幅Ｄと奥
行きＬが決まるとスリットユニットの発散角αが定ま
る。このスリットユニット１４の場合、発散角α＝０．
５度である。開口部の横幅Ｗ１の中に、ブレード３０は
実際には５２枚配置されている。図２では数枚だけブレ
ード３０を図示している。
【００１０】図３は発散角αを説明する平面図である。
ブレード３０の間を通過する任意のＸ線３４同士のなす
角度のうちで最大の角度が、このスリットユニットの発
散角αである。ブレード３０の奥行きＬとスリット幅Ｄ
を用いて、発散角αはα＝２× arctan（Ｄ／Ｌ）で求
めることができる。奥行きＬが一定であれば、スリット
幅Ｄを変えることで発散角αを変えることができる。ス
リット幅Ｄを広くすれば発散角αは大きくなり、Ｄを狭
くすればαを小さくなる。
ブレード３０の間を通過する任意のＸ線３４同士のなす
角度のうちで最大の角度が、このスリットユニットの発
散角αである。ブレード３０の奥行きＬとスリット幅Ｄ
を用いて、発散角αはα＝２× arctan（Ｄ／Ｌ）で求
めることができる。奥行きＬが一定であれば、スリット
幅Ｄを変えることで発散角αを変えることができる。ス
リット幅Ｄを広くすれば発散角αは大きくなり、Ｄを狭
くすればαを小さくなる。
【００１１】図１の第１のスリットユニット１２と第３
のスリットユニット１６は、図２に示す第２のスリット
ユニット１４と外形寸法や開口部寸法は同じである。た
だし、スリット幅Ｄが異なっている。ブレード３０の厚
さｔは３個のスリットユニットで共通である。３個のス
リットユニットのスリット幅Ｄと発散角αとブレード枚
数Ｎを次の表１に示す。
のスリットユニット１６は、図２に示す第２のスリット
ユニット１４と外形寸法や開口部寸法は同じである。た
だし、スリット幅Ｄが異なっている。ブレード３０の厚
さｔは３個のスリットユニットで共通である。３個のス
リットユニットのスリット幅Ｄと発散角αとブレード枚
数Ｎを次の表１に示す。
【００１２】
【表１】 Ｄ（ｍｍ） α（度） Ｎ（枚） 第１のスリットユニット ０．１ ０．３４ ６６ 第２のスリットユニット ０．１４ ０．５ ５２ 第３のスリットユニット ０．２ ０．７ ３９
【００１３】図４は図１のソーラースリット装置１０を
備えた薄膜試料Ｘ線回折装置の平面図である。薄膜試料
４０とＸ線検出器４２の間には図１のソーラースリット
装置１０が配置されている。線焦点のＸ線源４４から出
たＸ線ビーム４６は、入射側ソーラースリット（縦発散
制限スリット）４８と入射スリット４９を通過してか
ら、低い入射角度で薄膜試料４０に入射する。薄膜試料
４０からの回折Ｘ線５０は、反射側ソーラースリット装
置（横発散制限スリット）１０と幅制限受光スリット５
１を通過し、モノクロメータ５２で反射してから、Ｘ線
検出器４２に入射する。図１および図４に示すように、
ソーラースリット装置１０の移動方向２８は回折Ｘ線ビ
ーム５０に垂直になっている。発散角の一番小さい第１
のスリットユニット１２を回折Ｘ線ビーム５０の経路上
にもってくれば、Ｘ線検出器４２で検出する回折Ｘ線の
分解能は向上する。ただし、検出強度は低下する。これ
とは逆に、発散角の一番大きな第３のスリットユニット
１６を回折Ｘ線ビーム５０の経路上にもってくれば、Ｘ
線検出器４２で検出する回折Ｘ線の分解能は落ちるが、
検出強度は大きくなる。中間の第２のスリットユニット
１４を使えば、分解能と検出強度は、これらの中間にな
る。このソーラースリット装置１０を用いれば、パルス
モータ２６（図１０）に指令を与えるだけで発散角の変
更ができるので、発散角の変更が容易である。
備えた薄膜試料Ｘ線回折装置の平面図である。薄膜試料
４０とＸ線検出器４２の間には図１のソーラースリット
装置１０が配置されている。線焦点のＸ線源４４から出
たＸ線ビーム４６は、入射側ソーラースリット（縦発散
制限スリット）４８と入射スリット４９を通過してか
ら、低い入射角度で薄膜試料４０に入射する。薄膜試料
４０からの回折Ｘ線５０は、反射側ソーラースリット装
置（横発散制限スリット）１０と幅制限受光スリット５
１を通過し、モノクロメータ５２で反射してから、Ｘ線
検出器４２に入射する。図１および図４に示すように、
ソーラースリット装置１０の移動方向２８は回折Ｘ線ビ
ーム５０に垂直になっている。発散角の一番小さい第１
のスリットユニット１２を回折Ｘ線ビーム５０の経路上
にもってくれば、Ｘ線検出器４２で検出する回折Ｘ線の
分解能は向上する。ただし、検出強度は低下する。これ
とは逆に、発散角の一番大きな第３のスリットユニット
１６を回折Ｘ線ビーム５０の経路上にもってくれば、Ｘ
線検出器４２で検出する回折Ｘ線の分解能は落ちるが、
検出強度は大きくなる。中間の第２のスリットユニット
１４を使えば、分解能と検出強度は、これらの中間にな
る。このソーラースリット装置１０を用いれば、パルス
モータ２６（図１０）に指令を与えるだけで発散角の変
更ができるので、発散角の変更が容易である。
【００１４】Ｘ線光学系が水平面内にある場合を考える
と、ブレードが鉛直に配置されている横発散制限のソー
ラースリットは、集中法のＸ線回折装置では使用できな
いが、集中法以外のＸ線分析装置、例えば、平行ビーム
法のＸ線回折装置（上述の薄膜試料の測定や応力測定な
ど）や、蛍光Ｘ線分析装置で使用できる。ブレードが水
平に配置されている縦発散制限のソーラースリットは、
原理的には、どのようなＸ線分析装置でも使用可能であ
り、集中法のＸ線回折装置（例えばディフラクトメー
タ）でも効果的に使用できる。ディフラクトメータで
は、入射側や反射側に縦発散制限のソーラースリットを
設けることができる。
と、ブレードが鉛直に配置されている横発散制限のソー
ラースリットは、集中法のＸ線回折装置では使用できな
いが、集中法以外のＸ線分析装置、例えば、平行ビーム
法のＸ線回折装置（上述の薄膜試料の測定や応力測定な
ど）や、蛍光Ｘ線分析装置で使用できる。ブレードが水
平に配置されている縦発散制限のソーラースリットは、
原理的には、どのようなＸ線分析装置でも使用可能であ
り、集中法のＸ線回折装置（例えばディフラクトメー
タ）でも効果的に使用できる。ディフラクトメータで
は、入射側や反射側に縦発散制限のソーラースリットを
設けることができる。
【００１５】図５はこの発明のソーラースリット装置の
第２の実施形態の斜視図である。このスリット装置は第
１のスリットユニット１２と第２のスリットユニット１
４については図１のソーラースリット装置と同じである
が、第３のスリットユニット３６だけがブレード３８が
水平に配置されていて図１のソーラースリット装置とは
異なっている。すなわち、この第３のスリットユニット
３６はＸ線ビームの鉛直方向の発散を制限するもの（縦
発散制限スリット）である。このスリットユニット３６
のスリット幅Ｄ＝１．３９ｍｍであり、発散角α＝５
度、ブレード３８の実際の枚数は１４枚である。
第２の実施形態の斜視図である。このスリット装置は第
１のスリットユニット１２と第２のスリットユニット１
４については図１のソーラースリット装置と同じである
が、第３のスリットユニット３６だけがブレード３８が
水平に配置されていて図１のソーラースリット装置とは
異なっている。すなわち、この第３のスリットユニット
３６はＸ線ビームの鉛直方向の発散を制限するもの（縦
発散制限スリット）である。このスリットユニット３６
のスリット幅Ｄ＝１．３９ｍｍであり、発散角α＝５
度、ブレード３８の実際の枚数は１４枚である。
【００１６】図５に示すように１台のソーラースリット
装置で横発散制限のスリットユニット１２、１４と縦発
散制限のスリットユニット３６とを切り替え可能にして
おけば、同一のＸ線回折装置で平行ビーム法と集中法と
を使い分ける場合にも、必要に応じて、ソーラースリッ
トを横発散制限から縦発散制限へ、あるいは縦発散制限
から横発散制限へと、容易に切り替えることができる。
装置で横発散制限のスリットユニット１２、１４と縦発
散制限のスリットユニット３６とを切り替え可能にして
おけば、同一のＸ線回折装置で平行ビーム法と集中法と
を使い分ける場合にも、必要に応じて、ソーラースリッ
トを横発散制限から縦発散制限へ、あるいは縦発散制限
から横発散制限へと、容易に切り替えることができる。
【００１７】図５のソーラースリット装置をＸ線回折装
置の入射側と反射側の両方に設けて測定の種類に応じて
３種類のスリットユニットを使い分ける例を次の表２に
示す。この中で薄膜測定と応力測定は平行ビーム法であ
る。
置の入射側と反射側の両方に設けて測定の種類に応じて
３種類のスリットユニットを使い分ける例を次の表２に
示す。この中で薄膜測定と応力測定は平行ビーム法であ
る。
【００１８】
【表２】 入射側ソーラースリット 反射側ソーラースリット 集中ビーム法 第３ユニット（縦発散制限） 第３ユニット（縦発散制限） 薄膜測定その１ 第１ユニット（横発散制限） 第１ユニット（横発散制限） 薄膜測定その２ 第３ユニット（縦発散制限） 第１ユニット（横発散制限） 応力測定 第２ユニット（横発散制限） 第２ユニット（横発散制限）
【００１９】図６はこの発明のソーラースリット装置の
第３の実施形態の斜視図である。このソーラースリット
装置は三つのスリットユニット１２ａ、１４ａ、１６ａ
の外形部分が一体化されている。外観上は、長方形の端
面に３個の開口部が見えていて、これらの開口部のそれ
ぞれに多数のブレードが異なるスリット幅で配列されて
いる。
第３の実施形態の斜視図である。このソーラースリット
装置は三つのスリットユニット１２ａ、１４ａ、１６ａ
の外形部分が一体化されている。外観上は、長方形の端
面に３個の開口部が見えていて、これらの開口部のそれ
ぞれに多数のブレードが異なるスリット幅で配列されて
いる。
【００２０】図７はこの発明のソーラースリット装置の
第４の実施形態の斜視図である。このソーラースリット
装置は、第３のスリットユニットを配置すべき領域５４
が空白になっている。すなわち、この領域５４には開口
部５６だけを形成してあり、Ｘ線ビームを素通りさせる
ようになっている。こうすると、第１のスリットユニッ
ト１２または第２のスリットユニット１４を選択した場
合には横発散制限のソーラースリットとして機能し、領
域５４を選択した場合には、ソーラースリットを全く使
用しない状態になる。
第４の実施形態の斜視図である。このソーラースリット
装置は、第３のスリットユニットを配置すべき領域５４
が空白になっている。すなわち、この領域５４には開口
部５６だけを形成してあり、Ｘ線ビームを素通りさせる
ようになっている。こうすると、第１のスリットユニッ
ト１２または第２のスリットユニット１４を選択した場
合には横発散制限のソーラースリットとして機能し、領
域５４を選択した場合には、ソーラースリットを全く使
用しない状態になる。
【００２１】
【発明の効果】この発明のソーラースリット装置は、性
質の異なる複数のスリットユニットを切り替えて使用で
きるので、発散角の異なるソーラースリットへの交換
や、横発散制限のソーラースリットから縦発散制限のソ
ーラースリットへの交換などが容易にできる。
質の異なる複数のスリットユニットを切り替えて使用で
きるので、発散角の異なるソーラースリットへの交換
や、横発散制限のソーラースリットから縦発散制限のソ
ーラースリットへの交換などが容易にできる。
【図１】この発明のソーラースリット装置の第１の実施
形態を示す斜視図である。
形態を示す斜視図である。
【図２】第２のスリットユニットを拡大して示した斜視
図である。
図である。
【図３】発散角αを説明する平面図である。
【図４】図１のソーラースリット装置を備えた薄膜試料
Ｘ線回折装置の平面図である。
Ｘ線回折装置の平面図である。
【図５】この発明のソーラースリット装置の第２の実施
形態の斜視図である。
形態の斜視図である。
【図６】この発明のソーラースリット装置の第３の実施
形態の斜視図である。
形態の斜視図である。
【図７】この発明のソーラースリット装置の第４の実施
形態の斜視図である。
形態の斜視図である。
１０ ソーラースリット装置 １２ 第１のスリットユニット １４ 第２のスリットユニット １６ 第３のスリットユニット １８ 移動台 ２６ パルスモータ ３０ ブレード ５０ 回折Ｘ線ビーム
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｘ線分析装置のＸ線ビームの経路上に配
置されてＸ線ビームの発散角を制限するソーラースリッ
ト装置において、 性質の異なる複数のスリットユニットを備えていて、こ
れらのスリットユニットがＸ線ビームの経路に垂直な方
向に移動可能であり、この移動によって任意の一つのス
リットユニットをＸ線ビームの経路上に配置できること
を特徴とするＸ線分析装置のソーラースリット装置。 - 【請求項２】 前記複数のスリットユニットは互いに発
散角が異なっていることを特徴とする請求項１記載のソ
ーラースリット装置。 - 【請求項３】 少なくとも一つの縦発散制限のスリット
ユニットと少なくとも一つの横発散制限のスリットユニ
ットを含むことを特徴とする請求項１記載のソーラース
リット装置。 - 【請求項４】 縦発散制限のスリットユニットと横発散
制限のスリットユニットの少なくともどちらかは複数個
あり、その複数個のスリットユニットは発散角が互いに
異なっていることを特徴とする請求項３記載のソーラー
スリット装置。 - 【請求項５】 すべてのスリットユニットがＸ線ビーム
の経路から外れるように移動位置を選択できることを特
徴とする請求項１記載のソーラースリット装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9041380A JPH10227898A (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | Ｘ線分析装置のソーラースリット装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9041380A JPH10227898A (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | Ｘ線分析装置のソーラースリット装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10227898A true JPH10227898A (ja) | 1998-08-25 |
Family
ID=12606801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9041380A Pending JPH10227898A (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | Ｘ線分析装置のソーラースリット装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10227898A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6850593B1 (en) | 1999-03-18 | 2005-02-01 | Sii Nanotechnology Inc. | Fluorescent X-ray analysis apparatus |
| JP2008096180A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Rigaku Corp | Ｘ線光学系 |
| JP2012042484A (ja) * | 1999-07-23 | 2012-03-01 | Panalytical Bv | 可変コリメータを有する放射分析用装置 |
| JP2019184611A (ja) * | 2018-04-13 | 2019-10-24 | マルバーン パナリティカル ビー ヴィ | Ｘ線分析装置 |
| EP4246536A1 (en) * | 2022-03-17 | 2023-09-20 | Malvern Panalytical B.V. | A parallel plate x-ray collimator having a variable acceptance angle and an x-ray analysis apparatus |
-
1997
- 1997-02-12 JP JP9041380A patent/JPH10227898A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6850593B1 (en) | 1999-03-18 | 2005-02-01 | Sii Nanotechnology Inc. | Fluorescent X-ray analysis apparatus |
| KR100703819B1 (ko) * | 1999-03-18 | 2007-04-04 | 에스아이아이 나노 테크놀로지 가부시키가이샤 | 형광 엑스-레이 분석장치 |
| JP2012042484A (ja) * | 1999-07-23 | 2012-03-01 | Panalytical Bv | 可変コリメータを有する放射分析用装置 |
| JP2008096180A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Rigaku Corp | Ｘ線光学系 |
| JP2019184611A (ja) * | 2018-04-13 | 2019-10-24 | マルバーン パナリティカル ビー ヴィ | Ｘ線分析装置 |
| EP4246536A1 (en) * | 2022-03-17 | 2023-09-20 | Malvern Panalytical B.V. | A parallel plate x-ray collimator having a variable acceptance angle and an x-ray analysis apparatus |
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