JPH10226989A - インクジェット記録シート用耐水化剤組成物 - Google Patents
インクジェット記録シート用耐水化剤組成物Info
- Publication number
- JPH10226989A JPH10226989A JP9362785A JP36278597A JPH10226989A JP H10226989 A JPH10226989 A JP H10226989A JP 9362785 A JP9362785 A JP 9362785A JP 36278597 A JP36278597 A JP 36278597A JP H10226989 A JPH10226989 A JP H10226989A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- amino group
- meth
- group
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- Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 インクジェット記録シートの普通紙化に対応
できるように、印字した画像の耐水性を向上と、フェザ
リングの減少とを1種類の薬剤処理で実現できる耐水化
剤組成物を提供する。 【解決手段】 分子内に1級アミノ基および/または2
級アミノ基を含有する化合物と、アセトアセトキシ基を
分子内に少なくとも2個含有する化合物からなる架橋剤
とからなる。
できるように、印字した画像の耐水性を向上と、フェザ
リングの減少とを1種類の薬剤処理で実現できる耐水化
剤組成物を提供する。 【解決手段】 分子内に1級アミノ基および/または2
級アミノ基を含有する化合物と、アセトアセトキシ基を
分子内に少なくとも2個含有する化合物からなる架橋剤
とからなる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はインクジェット用記
録シートに関する。さらに詳しくは、紙、フィルム、樹
脂加工紙などの各種支持体に、通常の紙の製造条件の範
疇で製造することができ、画像の耐水性が著しく向上
し、しかも、フェザリングの少ないインクジェット用記
録シートに関するものである。
録シートに関する。さらに詳しくは、紙、フィルム、樹
脂加工紙などの各種支持体に、通常の紙の製造条件の範
疇で製造することができ、画像の耐水性が著しく向上
し、しかも、フェザリングの少ないインクジェット用記
録シートに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、安価でフルカラーに対応できるイ
ンクジェットプリンターが大きく伸びている。これにあ
わせて、その記録用紙の普通紙化が強く求められてお
り、この際、最も問題になるのが画像の耐水性の低さで
ある。また、印字(画)したときのフェザリングの発生
も問題点として指摘されている。
ンクジェットプリンターが大きく伸びている。これにあ
わせて、その記録用紙の普通紙化が強く求められてお
り、この際、最も問題になるのが画像の耐水性の低さで
ある。また、印字(画)したときのフェザリングの発生
も問題点として指摘されている。
【0003】従来、画像の耐水性の向上とフェザリング
を減少させるためには、カチオン性の化合物で耐水性を
向上させ、表面サイズ剤などでサイズ効果を付与してフ
ェザリングを減少することが検討されているが、1種類
の薬剤で両方を満足できるものは未だ見出されていな
い。
を減少させるためには、カチオン性の化合物で耐水性を
向上させ、表面サイズ剤などでサイズ効果を付与してフ
ェザリングを減少することが検討されているが、1種類
の薬剤で両方を満足できるものは未だ見出されていな
い。
【0004】このうち、耐水性を向上させるカチオン性
の化合物としては、吸水性樹脂を含有するものが検討さ
れている(特開昭57−173194、特開昭57−1
91084号公報など)が、これらは吸水性樹脂組成物
をシートに処理するものであり、実際の水系での製造工
程では非常に困難な処理を伴う。また、架橋によって耐
水化された高分子材料を含有するものが検討されている
(特開昭58−89391号公報)が、例示されている
架橋方法も通常の製紙条件では架橋化が困難な方法、架
橋の強度が弱いものなどがあり、画像の耐水性は充分な
ものとは言えない。また、特定の第4アンモニウム塩基
を含有する重合体とエポキシ系の架橋剤の3次元架橋物
が検討されている(特開平8−142496号公報)
が、架橋構造を形成する反応条件が厳しく、通常の紙の
製造条件では十分にその効果を発揮できない。
の化合物としては、吸水性樹脂を含有するものが検討さ
れている(特開昭57−173194、特開昭57−1
91084号公報など)が、これらは吸水性樹脂組成物
をシートに処理するものであり、実際の水系での製造工
程では非常に困難な処理を伴う。また、架橋によって耐
水化された高分子材料を含有するものが検討されている
(特開昭58−89391号公報)が、例示されている
架橋方法も通常の製紙条件では架橋化が困難な方法、架
橋の強度が弱いものなどがあり、画像の耐水性は充分な
ものとは言えない。また、特定の第4アンモニウム塩基
を含有する重合体とエポキシ系の架橋剤の3次元架橋物
が検討されている(特開平8−142496号公報)
が、架橋構造を形成する反応条件が厳しく、通常の紙の
製造条件では十分にその効果を発揮できない。
【0005】一方、フェザリングを解決するために、ア
クリロニトリルとアクリル酸エステルの共重合物(特開
平8−50366号公報)、アルキルケテンダイマーに
よる中性サイズ紙にスチレン系表面サイズ処理をする方
法(特開平7−199516号公報)などがある。これ
らはフェザリングは減少するものの、画像の耐水性につ
いては全く効果がない。
クリロニトリルとアクリル酸エステルの共重合物(特開
平8−50366号公報)、アルキルケテンダイマーに
よる中性サイズ紙にスチレン系表面サイズ処理をする方
法(特開平7−199516号公報)などがある。これ
らはフェザリングは減少するものの、画像の耐水性につ
いては全く効果がない。
【0006】画像の耐水性の向上とフェザリングの減少
とを目指したものとしては、カチオン性高分子とカチオ
ン性のビニル系共重合物(特開平4−299174号公
報)、カチオン性樹脂を下層に塗り、Tg40℃以下の
疎水性ビニル重合体を上層に塗る(特開平7−1490
38号公報)ものが提案されている。しかし、これら
は、少なくとも2種類以上の薬剤を用いて処理するもの
であり、その製造工程は煩雑なものになる。
とを目指したものとしては、カチオン性高分子とカチオ
ン性のビニル系共重合物(特開平4−299174号公
報)、カチオン性樹脂を下層に塗り、Tg40℃以下の
疎水性ビニル重合体を上層に塗る(特開平7−1490
38号公報)ものが提案されている。しかし、これら
は、少なくとも2種類以上の薬剤を用いて処理するもの
であり、その製造工程は煩雑なものになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このように、インクジ
ェット記録シートの普通紙化に際して最も要望の大きい
画像の耐水性の向上とフェザリングの低減について、通
常の紙の製造工程で処理し、1種類の薬剤で解決するに
は困難であり、特にフルカラー画像においては専用紙に
頼らざるを得ないのが現状である。本発明の目的は、通
常の紙の製造工程で用いることで十分に効果を発揮し、
画像の耐水性の向上とフェザリングの減少を1種類の薬
剤で達成できるインクジェット記録紙用耐水化剤組成物
を提供することにある。
ェット記録シートの普通紙化に際して最も要望の大きい
画像の耐水性の向上とフェザリングの低減について、通
常の紙の製造工程で処理し、1種類の薬剤で解決するに
は困難であり、特にフルカラー画像においては専用紙に
頼らざるを得ないのが現状である。本発明の目的は、通
常の紙の製造工程で用いることで十分に効果を発揮し、
画像の耐水性の向上とフェザリングの減少を1種類の薬
剤で達成できるインクジェット記録紙用耐水化剤組成物
を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者は、かかる問題
点に鑑み鋭意検討した結果、分子内に1級アミノ基およ
び/または2級アミノ基を含有する化合物と、特定の官
能基を有する化合物とを含有する水性溶液または水性分
散体とを用いることにより、水存在下では良好な貯蔵安
定性を有し、紙に処理をして加熱乾燥する工程で架橋構
造を形成して、印字した画像の耐水性が格段に向上し、
かつフェザリングが大幅に低減されることを見いだし、
本発明に到達した。
点に鑑み鋭意検討した結果、分子内に1級アミノ基およ
び/または2級アミノ基を含有する化合物と、特定の官
能基を有する化合物とを含有する水性溶液または水性分
散体とを用いることにより、水存在下では良好な貯蔵安
定性を有し、紙に処理をして加熱乾燥する工程で架橋構
造を形成して、印字した画像の耐水性が格段に向上し、
かつフェザリングが大幅に低減されることを見いだし、
本発明に到達した。
【0009】すなわち本発明は、分子内に1級アミノ基
および/または2級アミノ基を含有する化合物(A)
と、下記式(1) で示されるアセトアセトキシ基を少なくとも2個含有す
る化合物(b)からなる架橋剤(B)とからなることを
特徴とするインクジェット記録シート用耐水化剤組成
物;並びに、該組成物からなる水性溶液または水性分散
液を支持体の表面または内部に含有させ、加熱乾燥する
とともに架橋反応させてなるインクジェット記録用シー
トである。
および/または2級アミノ基を含有する化合物(A)
と、下記式(1) で示されるアセトアセトキシ基を少なくとも2個含有す
る化合物(b)からなる架橋剤(B)とからなることを
特徴とするインクジェット記録シート用耐水化剤組成
物;並びに、該組成物からなる水性溶液または水性分散
液を支持体の表面または内部に含有させ、加熱乾燥する
とともに架橋反応させてなるインクジェット記録用シー
トである。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明中、分子内に1級アミノ基
および/または2級アミノ基を含有する化合物(A)と
しては、例えば以下のアミン類があげられる。 (1)脂肪族または脂環式1級モノアミン類(C2 〜C
18):プロピルアミン、ブチルアミン、シクロヘキシル
アミン、オクチルアミンなど; (2)脂肪族または脂環式2級モノアミン類(C2 〜C
18):ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジシクロヘキ
シルアミンなど
および/または2級アミノ基を含有する化合物(A)と
しては、例えば以下のアミン類があげられる。 (1)脂肪族または脂環式1級モノアミン類(C2 〜C
18):プロピルアミン、ブチルアミン、シクロヘキシル
アミン、オクチルアミンなど; (2)脂肪族または脂環式2級モノアミン類(C2 〜C
18):ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジシクロヘキ
シルアミンなど
【0011】(3)芳香族1級モノアミン類(C2 〜C
18):ベンジルアミン、α−フェニルエチルアミン、ア
ニリン、o−トルイジンなど (4)芳香族2級モノアミン類(C2 〜C18):メチル
アニリン、ジフェニルアミン、エチルアニリンなど
18):ベンジルアミン、α−フェニルエチルアミン、ア
ニリン、o−トルイジンなど (4)芳香族2級モノアミン類(C2 〜C18):メチル
アニリン、ジフェニルアミン、エチルアニリンなど
【0012】(5)脂肪族ポリアミン類(C2 〜
C18):脂肪族ポリアミン、たとえばC2〜C6 アルキ
レンジアミン〔エチレンジアミン,プロピレンジアミ
ン,トリメチレンジアミン,テトラメチレンジアミン,
ヘキサメチレンジアミンなど〕,ポリアルキレン(C2
〜C6 )ポリアミン〔ジエチレントリアミン,イミノビ
スプロピルアミン,ビス(ヘキサメチレン)トリアミ
ン,トリエチレンテトラミン,テトラエチレンペンタミ
ン,ペンタエチレンヘキサミンなど〕,これらのアルキ
ル(C1 〜C4 )またはヒドロキシアルキル(C2 〜C
4 )置換体〔ジアルキル(C1 〜C3 )アミノプロピル
アミン,トリメチルヘキサメチレンジアミン,アミノエ
チルエタノールアミン,メチルイミノビスプロピルアミ
ンなど〕;脂環または複素環含有脂肪族ポリアミン、た
とえば3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,
8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンな
ど;芳香環含有脂肪族アミン類(C8 〜C15)、たとえ
ばキシリレンジアミン,テトラクロル−p−キシリレン
ジアミンなど;
C18):脂肪族ポリアミン、たとえばC2〜C6 アルキ
レンジアミン〔エチレンジアミン,プロピレンジアミ
ン,トリメチレンジアミン,テトラメチレンジアミン,
ヘキサメチレンジアミンなど〕,ポリアルキレン(C2
〜C6 )ポリアミン〔ジエチレントリアミン,イミノビ
スプロピルアミン,ビス(ヘキサメチレン)トリアミ
ン,トリエチレンテトラミン,テトラエチレンペンタミ
ン,ペンタエチレンヘキサミンなど〕,これらのアルキ
ル(C1 〜C4 )またはヒドロキシアルキル(C2 〜C
4 )置換体〔ジアルキル(C1 〜C3 )アミノプロピル
アミン,トリメチルヘキサメチレンジアミン,アミノエ
チルエタノールアミン,メチルイミノビスプロピルアミ
ンなど〕;脂環または複素環含有脂肪族ポリアミン、た
とえば3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,
8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンな
ど;芳香環含有脂肪族アミン類(C8 〜C15)、たとえ
ばキシリレンジアミン,テトラクロル−p−キシリレン
ジアミンなど;
【0013】(6)脂環式ポリアミン(C4 〜C15):
1,3−ジアミノシクロヘキサン,イソホロンジアミ
ン,メンタンジアミン,4,4´−メチレンジシクロヘ
キサンジアミン(水添メチレンジアニリン)など; (7)複素環式ポリアミン(C4 〜C15):ピペラジ
ン,N−アミノエチルピペラジン,1,4−ジアミノピ
ペラジンなど;
1,3−ジアミノシクロヘキサン,イソホロンジアミ
ン,メンタンジアミン,4,4´−メチレンジシクロヘ
キサンジアミン(水添メチレンジアニリン)など; (7)複素環式ポリアミン(C4 〜C15):ピペラジ
ン,N−アミノエチルピペラジン,1,4−ジアミノピ
ペラジンなど;
【0014】(8)芳香族ポリアミン類(C6 〜
C20):非置換芳香族ポリアミン、たとえば1,2−,
1,3−および1,4−フェニレンジアミン,2,4´
−および4,4´−ジフェニルメタンジアミン,クルー
ドジフェニルメタンジアミン[ポリフェニルポリメチレ
ンポリアミン],ジアミノジフェニルスルホン,ベンジ
ジン,チオジアニリン,ビス(3,4−ジアミノフェニ
ル)スルホン,2,6−ジアミノピリジン,m−アミノ
ベンジルアミン,トリフェニルメタン−4,4´,4”
−トリアミン,ナフチレンジアミン; 核置換アルキル
基(たとえばメチル,エチル,n−およびi−プロピ
ル,ブチルなどのC1〜C4アルキル基)を有する芳香族
ポリアミン、たとえば2,4−および2,6−トリレン
ジアミン,クルードトリレンジアミン,ジエチルトリレ
ンジアミン,4,4´−ジアミノ−3,3´−ジメチル
ジフェニルメタン,4,4´−ビス(o−トルイジ
ン),ジアニシジン,ジアミノジトリルスルホン,1,
3−ジメチル−2,4−ジアミノベンゼン,1,3−ジ
エチル−2,4−ジアミノベンゼン,1,3−ジメチル
−2,6−ジアミノベンゼン,1,4−ジエチル−2,
5−ジアミノベンゼン,1,4−ジイソプロピル−2,
5−ジアミノベンゼン,1,4−ジブチル−2,5−ジ
アミノベンゼン,2,4−ジアミノメシチレン,1,
3,5−トリエチル−2,4−ジアミノベンゼン,1,
3,5−トリイソプロピル−2,4−ジアミノベンゼ
ン,1−メチル−3,5−ジエチル−2,4−ジアミノ
ベンゼン,1−メチル−3,5−ジエチル−2,6−ジ
アミノベンゼン,2,3−ジメチル−1,4−ジアミノ
ナフタレン,2,6−ジメチル−1,5−ジアミノナフ
タレン,2,6−ジイソプロピル−1,5−ジアミノナ
フタレン,2,6−ジブチル−1,5−ジアミノナフタ
レン,3,3´,5,5´−テトラメチルベンジジン,
3,3´,5,5´−テトライソプロピルベンジジン,
3,3´,5,5´−テトラメチル−4,4´−ジアミ
ノジフェニルメタン,3,3´,5,5´−テトラエチ
ル−4,4´−ジアミノジフェニルメタン,3,3´,
5,5´−テトライソプロピル−4,4´−ジアミノジ
フェニルメタン,3,3´,5,5´−テトラブチル−
4,4´−ジアミノジフェニルメタン,3,5−ジエチ
ル−3´−メチル−2´,4−ジアミノジフェニルメタ
ン,3,5−ジイソプロピル−3´−メチル−2´,4
−ジアミノジフェニルメタン,3,3´−ジエチル−
2,2´−ジアミノジフェニルメタン,4,4´−ジア
ミノ−3,3´−ジメチルジフェニルメタン,3,3
´,5,5´−テトラエチル−4,4´−ジアミノベン
ゾフェノン,3,3´,5,5´−テトライソプロピル
−4,4´−ジアミノベンゾフェノン,3,3´,5,
5´−テトラエチル−4,4´−ジアミノジフェニルエ
ーテル,3,3´,5,5´−テトライソプロピル−
4,4´−ジアミノジフェニルスルホン,これらの異性
体の種々の割合の混合物;2級アミノ基を有する芳香族
ポリアミン[上記芳香族ポリアミンの−NH2 の一部ま
たは全部が−NH−R´(R´はアルキル基たとえばメ
チル,エチルなどの低級アルキル基)で置き換ったも
の]たとえば4,4´−ジ(メチルアミノ)ジフェニル
メタン,1−メチル−2−メチルアミノ−4−アミノベ
ンゼン;
C20):非置換芳香族ポリアミン、たとえば1,2−,
1,3−および1,4−フェニレンジアミン,2,4´
−および4,4´−ジフェニルメタンジアミン,クルー
ドジフェニルメタンジアミン[ポリフェニルポリメチレ
ンポリアミン],ジアミノジフェニルスルホン,ベンジ
ジン,チオジアニリン,ビス(3,4−ジアミノフェニ
ル)スルホン,2,6−ジアミノピリジン,m−アミノ
ベンジルアミン,トリフェニルメタン−4,4´,4”
−トリアミン,ナフチレンジアミン; 核置換アルキル
基(たとえばメチル,エチル,n−およびi−プロピ
ル,ブチルなどのC1〜C4アルキル基)を有する芳香族
ポリアミン、たとえば2,4−および2,6−トリレン
ジアミン,クルードトリレンジアミン,ジエチルトリレ
ンジアミン,4,4´−ジアミノ−3,3´−ジメチル
ジフェニルメタン,4,4´−ビス(o−トルイジ
ン),ジアニシジン,ジアミノジトリルスルホン,1,
3−ジメチル−2,4−ジアミノベンゼン,1,3−ジ
エチル−2,4−ジアミノベンゼン,1,3−ジメチル
−2,6−ジアミノベンゼン,1,4−ジエチル−2,
5−ジアミノベンゼン,1,4−ジイソプロピル−2,
5−ジアミノベンゼン,1,4−ジブチル−2,5−ジ
アミノベンゼン,2,4−ジアミノメシチレン,1,
3,5−トリエチル−2,4−ジアミノベンゼン,1,
3,5−トリイソプロピル−2,4−ジアミノベンゼ
ン,1−メチル−3,5−ジエチル−2,4−ジアミノ
ベンゼン,1−メチル−3,5−ジエチル−2,6−ジ
アミノベンゼン,2,3−ジメチル−1,4−ジアミノ
ナフタレン,2,6−ジメチル−1,5−ジアミノナフ
タレン,2,6−ジイソプロピル−1,5−ジアミノナ
フタレン,2,6−ジブチル−1,5−ジアミノナフタ
レン,3,3´,5,5´−テトラメチルベンジジン,
3,3´,5,5´−テトライソプロピルベンジジン,
3,3´,5,5´−テトラメチル−4,4´−ジアミ
ノジフェニルメタン,3,3´,5,5´−テトラエチ
ル−4,4´−ジアミノジフェニルメタン,3,3´,
5,5´−テトライソプロピル−4,4´−ジアミノジ
フェニルメタン,3,3´,5,5´−テトラブチル−
4,4´−ジアミノジフェニルメタン,3,5−ジエチ
ル−3´−メチル−2´,4−ジアミノジフェニルメタ
ン,3,5−ジイソプロピル−3´−メチル−2´,4
−ジアミノジフェニルメタン,3,3´−ジエチル−
2,2´−ジアミノジフェニルメタン,4,4´−ジア
ミノ−3,3´−ジメチルジフェニルメタン,3,3
´,5,5´−テトラエチル−4,4´−ジアミノベン
ゾフェノン,3,3´,5,5´−テトライソプロピル
−4,4´−ジアミノベンゾフェノン,3,3´,5,
5´−テトラエチル−4,4´−ジアミノジフェニルエ
ーテル,3,3´,5,5´−テトライソプロピル−
4,4´−ジアミノジフェニルスルホン,これらの異性
体の種々の割合の混合物;2級アミノ基を有する芳香族
ポリアミン[上記芳香族ポリアミンの−NH2 の一部ま
たは全部が−NH−R´(R´はアルキル基たとえばメ
チル,エチルなどの低級アルキル基)で置き換ったも
の]たとえば4,4´−ジ(メチルアミノ)ジフェニル
メタン,1−メチル−2−メチルアミノ−4−アミノベ
ンゼン;
【0015】(9)ポリアミドポリアミン[たとえばジ
カルボン酸(ダイマー酸など)と過剰の(酸1モル当り
2モル以上の)ポリアミン類(上記アルキレンジアミ
ン,ポリアルキレンポリアミンなど)との縮合により得
られる低分子量(例えば分子量200〜5000)ポリ
アミドポリアミンなど];
カルボン酸(ダイマー酸など)と過剰の(酸1モル当り
2モル以上の)ポリアミン類(上記アルキレンジアミ
ン,ポリアルキレンポリアミンなど)との縮合により得
られる低分子量(例えば分子量200〜5000)ポリ
アミドポリアミンなど];
【0016】(10)ポリエーテルポリアミン(例えば
分子量100〜5000)[ポリエーテルポリオール
(ポリアルキレングリコールなど)のシアノエチル化物
の水素化物など];
分子量100〜5000)[ポリエーテルポリオール
(ポリアルキレングリコールなど)のシアノエチル化物
の水素化物など];
【0017】(11)ヒドラジン類(ヒドラジン,モノ
アルキルヒドラジンなど),ジヒドラジド類(コハク酸
ジヒドラジド,アジピン酸ジヒドラジド,イソフタル酸
ジヒドラジド,テレフタル酸ジヒドラジドなど);
アルキルヒドラジンなど),ジヒドラジド類(コハク酸
ジヒドラジド,アジピン酸ジヒドラジド,イソフタル酸
ジヒドラジド,テレフタル酸ジヒドラジドなど);
【0018】(12)ジシアンジアミド誘導体[ジシア
ンジアミド、ジシアンジアミド・ホルマリン重縮合物、
ジシアンジアミド・ジエチレントリアミン重縮合物な
ど]
ンジアミド、ジシアンジアミド・ホルマリン重縮合物、
ジシアンジアミド・ジエチレントリアミン重縮合物な
ど]
【0019】これらのアミン類のうちで好ましいのは、
耐水性が特に優れているポリアミン類であり、さらに好
ましいものはジシアンジアミド誘導体であり、特に好ま
しいものはジシアンジアミド・ジエチレントリアミン重
縮合物である。
耐水性が特に優れているポリアミン類であり、さらに好
ましいものはジシアンジアミド誘導体であり、特に好ま
しいものはジシアンジアミド・ジエチレントリアミン重
縮合物である。
【0020】本発明の架橋剤(B)を構成する化合物
(b)としては、前記式(1)で示されるアセトアセト
キシ基を少なくとも2個含有する化合物で有れば、特に
限定はされず、1,2−ジアセトアセトキシエタン、
1,3−ジアセトアセトキシプロパンなどの低分子化合
物であってもよいが、好ましいものは、耐水性がより良
好であることから、分子量1万〜100万、特に好まし
くは分子量5万〜50万の高分子化合物である。高分子
化合物としては、例えば下記一般式(2) [式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数2〜
4のアルキレン基(ただし、n個の(AO)が2種以上
のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はブ
ロックまたはランダムのいずれでもよい。)を表し、n
は1〜30の整数を表す。]で示される1種以上の単量
体を必須構成成分とする(共)重合体、または上記単量
体と共重合可能な他の単量体との共重合体1種以上が挙
げられる。(共)重合する場合の、上記一般式(2)で
表される単量体の全単量体に対する含量は、好ましくは
20〜100モル%、特に好ましくは40〜100モル
%である。上記一般式(2)で表される単量体のうちで
特に好ましいのものは、アセトアセトキシ基濃度が高
く、調整のし易いアセトアセトキシエチル(メタ)アク
リレートである。
(b)としては、前記式(1)で示されるアセトアセト
キシ基を少なくとも2個含有する化合物で有れば、特に
限定はされず、1,2−ジアセトアセトキシエタン、
1,3−ジアセトアセトキシプロパンなどの低分子化合
物であってもよいが、好ましいものは、耐水性がより良
好であることから、分子量1万〜100万、特に好まし
くは分子量5万〜50万の高分子化合物である。高分子
化合物としては、例えば下記一般式(2) [式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数2〜
4のアルキレン基(ただし、n個の(AO)が2種以上
のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はブ
ロックまたはランダムのいずれでもよい。)を表し、n
は1〜30の整数を表す。]で示される1種以上の単量
体を必須構成成分とする(共)重合体、または上記単量
体と共重合可能な他の単量体との共重合体1種以上が挙
げられる。(共)重合する場合の、上記一般式(2)で
表される単量体の全単量体に対する含量は、好ましくは
20〜100モル%、特に好ましくは40〜100モル
%である。上記一般式(2)で表される単量体のうちで
特に好ましいのものは、アセトアセトキシ基濃度が高
く、調整のし易いアセトアセトキシエチル(メタ)アク
リレートである。
【0021】上記単量体と共重合可能な他の単量体とし
ては、以下のものが挙げられる。
ては、以下のものが挙げられる。
【0022】(p)ビニル系炭化水素 (p1)脂肪族ビニル系炭化水素:エチレン、プロピレ
ン、ブテン、イソブチレン、ペンテン、ヘプテン、ジイ
ソブチレン、オクテン、ドデセン、オクタデセン、ブタ
ジエン、イソプレン、1,4−ペンタジエン、1,6−
ヘキサジエン、1,7−オクタジエン、前記以外のα−
オレフィンなど (p2)脂環式ビニル系炭化水素:シクロヘキセン、
(ジ)シクロペンタジエン、ピネン、リモネン、インデ
ン、ビニルシクロヘキセン、エチリデンビシクロヘプテ
ンなど (p3)芳香族ビニル系炭化水素:スチレン、α−メチ
ルスチレン、ビニルトルエン、2,4−ジメチルスチレ
ン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルス
チレン、フェニルスチレン、シクロヘキシルスチレン、
ベンジルスチレン、クロチルベンゼン、ビニルナフタレ
ン、ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキ
シレン、ジビニルケトン、トリビニルベンゼンなど
ン、ブテン、イソブチレン、ペンテン、ヘプテン、ジイ
ソブチレン、オクテン、ドデセン、オクタデセン、ブタ
ジエン、イソプレン、1,4−ペンタジエン、1,6−
ヘキサジエン、1,7−オクタジエン、前記以外のα−
オレフィンなど (p2)脂環式ビニル系炭化水素:シクロヘキセン、
(ジ)シクロペンタジエン、ピネン、リモネン、インデ
ン、ビニルシクロヘキセン、エチリデンビシクロヘプテ
ンなど (p3)芳香族ビニル系炭化水素:スチレン、α−メチ
ルスチレン、ビニルトルエン、2,4−ジメチルスチレ
ン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルス
チレン、フェニルスチレン、シクロヘキシルスチレン、
ベンジルスチレン、クロチルベンゼン、ビニルナフタレ
ン、ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキ
シレン、ジビニルケトン、トリビニルベンゼンなど
【0023】(q)カルボキシル基含有ビニル系モノマ
ー及びその塩 (メタ)アクリル酸、(無水)マレイン酸、マレイン酸
モノアルキルエステル、フマル酸、フマル酸モノアルキ
ルエステル、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸モノ
アルキルエステル、イタコン酸グリコールモノエーテ
ル、シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステ
ル、桂皮酸等のカルボキシル基含有ビニル系モノマー;
並びに、これらのナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属塩、アミン塩もしくはアンモニウム塩など
ー及びその塩 (メタ)アクリル酸、(無水)マレイン酸、マレイン酸
モノアルキルエステル、フマル酸、フマル酸モノアルキ
ルエステル、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸モノ
アルキルエステル、イタコン酸グリコールモノエーテ
ル、シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステ
ル、桂皮酸等のカルボキシル基含有ビニル系モノマー;
並びに、これらのナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属塩、アミン塩もしくはアンモニウム塩など
【0024】(r)スルホン基含有ビニル系モノマー、
ビニル系硫酸モノエステル化物及びこれらの塩 ビニルスルホン酸(塩)、(メタ)アリルスルホン酸
(塩)、メチルビニルスルフォネート、スチレンスルホ
ン酸(塩)、α−メチルスチレンスルホン酸(塩)、ス
ルホプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−
3−(メタ)アクリロキシプロピルスルホン酸(塩)、
2−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2−ジメチルエ
タンスルホン酸(塩)、3−(メタ)アクリロイルオキ
シエタンスルホン酸(塩)、3−(メタ)アクリロイル
オキシ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸(塩)、2
−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホ
ン酸(塩)、3−(メタ)アクリルアミド−2−ヒドロ
キシプロパンスルホン酸(塩)、アルキル(炭素数3〜
18)アリルスルホコハク酸(塩)、ポリ(n=2〜3
0)オキシアルキレン(エチレン、プロピレン、ブチレ
ン:単独、ランダム、ブロックでもよい)モノ(メタ)
アクリレートの硫酸エステル化物(塩)[ポリ(n=5
〜15)オキシプロピレンモノメタクリレート硫酸エス
テル化物(塩)等]、ポリオキシエチレン多環フェニル
エーテル硫酸エステル(塩)など
ビニル系硫酸モノエステル化物及びこれらの塩 ビニルスルホン酸(塩)、(メタ)アリルスルホン酸
(塩)、メチルビニルスルフォネート、スチレンスルホ
ン酸(塩)、α−メチルスチレンスルホン酸(塩)、ス
ルホプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−
3−(メタ)アクリロキシプロピルスルホン酸(塩)、
2−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2−ジメチルエ
タンスルホン酸(塩)、3−(メタ)アクリロイルオキ
シエタンスルホン酸(塩)、3−(メタ)アクリロイル
オキシ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸(塩)、2
−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホ
ン酸(塩)、3−(メタ)アクリルアミド−2−ヒドロ
キシプロパンスルホン酸(塩)、アルキル(炭素数3〜
18)アリルスルホコハク酸(塩)、ポリ(n=2〜3
0)オキシアルキレン(エチレン、プロピレン、ブチレ
ン:単独、ランダム、ブロックでもよい)モノ(メタ)
アクリレートの硫酸エステル化物(塩)[ポリ(n=5
〜15)オキシプロピレンモノメタクリレート硫酸エス
テル化物(塩)等]、ポリオキシエチレン多環フェニル
エーテル硫酸エステル(塩)など
【0025】(s)ヒドロキシル基含有ビニル系モノマ
ー ヒドロキシスチレン、N−メチロール(メタ)アクリル
アミド、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、(メタ)アリルア
ルコール、クロチルアルコール、イソクロチルアルコー
ル、1−ブテン−3−オール、2−ブテン−1−オー
ル、2−ブテン−1,4−ジオール、プロパルギルアル
コール、2−ヒドロキシエチルプロペニルエーテル、な
ど
ー ヒドロキシスチレン、N−メチロール(メタ)アクリル
アミド、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、(メタ)アリルア
ルコール、クロチルアルコール、イソクロチルアルコー
ル、1−ブテン−3−オール、2−ブテン−1−オー
ル、2−ブテン−1,4−ジオール、プロパルギルアル
コール、2−ヒドロキシエチルプロペニルエーテル、な
ど
【0026】(t)含窒素ビニル系モノマー (t1)アミノ基含有ビニル系モノマー:ジメチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチルメタク
リレート、N−アミノエチル(メタ)アクリルアミド、
(メタ)アリルアミン、モルホリノエチル(メタ)アク
リレート、4ービニルピリジン、2ービニルピリジン、
クロチルアミン、N,N−ジメチルアミノスチレン、メ
チルα−アセトアミノアクリレート、ビニルイミダゾー
ル、N−ビニルピロールなど (t2)アミド基含有ビニル系モノマー:(メタ)アク
リルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−
ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N
−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N’−メチ
レン−ビス(メタ)アクリルアミド、桂皮酸アミド、
N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジベンジル
アクリルアミド、メタクリルホルムアミド、N−メチル
N−ビニルアセトアミド、N−ビニルピロリドンなど (t3)ニトリル基含有ビニル系モノマー:(メタ)ア
クリロニトリル、シアノスチレンなど (t4)4級アンモニウムカチオン基含有ビニル系モノ
マー:ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジ
エチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の3級アミ
ン基含有ビニル系モノマーの4級化物など
ノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチルメタク
リレート、N−アミノエチル(メタ)アクリルアミド、
(メタ)アリルアミン、モルホリノエチル(メタ)アク
リレート、4ービニルピリジン、2ービニルピリジン、
クロチルアミン、N,N−ジメチルアミノスチレン、メ
チルα−アセトアミノアクリレート、ビニルイミダゾー
ル、N−ビニルピロールなど (t2)アミド基含有ビニル系モノマー:(メタ)アク
リルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−
ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N
−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N’−メチ
レン−ビス(メタ)アクリルアミド、桂皮酸アミド、
N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジベンジル
アクリルアミド、メタクリルホルムアミド、N−メチル
N−ビニルアセトアミド、N−ビニルピロリドンなど (t3)ニトリル基含有ビニル系モノマー:(メタ)ア
クリロニトリル、シアノスチレンなど (t4)4級アンモニウムカチオン基含有ビニル系モノ
マー:ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジ
エチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の3級アミ
ン基含有ビニル系モノマーの4級化物など
【0027】(u)エポキシ基含有ビニル系モノマー グルシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル(メタ)アクリレート、p−ビニルフェニルフェニ
ルオキサイドなど
リル(メタ)アクリレート、p−ビニルフェニルフェニ
ルオキサイドなど
【0028】(v)ビニルエステル、ビニルエーテル、
ビニルケトン類 ビニルホルメート、酢酸ビニル、ビニルブチレート、プ
ロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ジアリルフタレート、
ジアリルアジペート、イソプロペニルアセテート、ビニ
ルアシレート、ビニルメタクリレート、ビニルメトキシ
アセテート、ビニルベンゾエート、ビニルメチルエーテ
ル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、
ビニルブチルエーテル、ビニル2−エチルヘキシルエー
テル、ビニルフェニルエーテル、ビニル2−メトキシエ
チルエーテル、メトキシブタジエン、ビニル2−ブトキ
シエチルエーテル、3,4−ジヒドロ1,2−ピラン、
2−ブトキシ−2’−ビニロキシジエチルエーテル、ビ
ニル2−エチルメルカプトエチルエーテル、ビニルメチ
ルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルフェニルケト
ン、ジビニルサルファイド、p−ビニルジフェニルサル
ファイド、ビニルエチルサルファイド、ビニルエチルス
ルフォン、ジビニルスルフォン、ジビニルスルフォキサ
イド、ジメチルフマレート、ジメチルマレエート、ポリ
(メタ)アリロキシアルカン類[ジアリロキシエタン、
トリアリロキシエタン、テトラアリロキシエタン、テト
ラアリロキシプロパン、テトラアリロキシブタン、テト
ラメタアリロキシエタン等]など
ビニルケトン類 ビニルホルメート、酢酸ビニル、ビニルブチレート、プ
ロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ジアリルフタレート、
ジアリルアジペート、イソプロペニルアセテート、ビニ
ルアシレート、ビニルメタクリレート、ビニルメトキシ
アセテート、ビニルベンゾエート、ビニルメチルエーテ
ル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、
ビニルブチルエーテル、ビニル2−エチルヘキシルエー
テル、ビニルフェニルエーテル、ビニル2−メトキシエ
チルエーテル、メトキシブタジエン、ビニル2−ブトキ
シエチルエーテル、3,4−ジヒドロ1,2−ピラン、
2−ブトキシ−2’−ビニロキシジエチルエーテル、ビ
ニル2−エチルメルカプトエチルエーテル、ビニルメチ
ルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルフェニルケト
ン、ジビニルサルファイド、p−ビニルジフェニルサル
ファイド、ビニルエチルサルファイド、ビニルエチルス
ルフォン、ジビニルスルフォン、ジビニルスルフォキサ
イド、ジメチルフマレート、ジメチルマレエート、ポリ
(メタ)アリロキシアルカン類[ジアリロキシエタン、
トリアリロキシエタン、テトラアリロキシエタン、テト
ラアリロキシプロパン、テトラアリロキシブタン、テト
ラメタアリロキシエタン等]など
【0029】(w)アルキル(メタ)アクリレート 炭素数1〜50のアルキル基を有するアルキル(メタ)
アクリレート、例えば、メチル(メタ)アクリレート、
エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリ
レート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキ
シル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレ
ート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシ
ル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレ
ートなど
アクリレート、例えば、メチル(メタ)アクリレート、
エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリ
レート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキ
シル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレ
ート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシ
ル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレ
ートなど
【0030】(x)ポリアルキレングリコール鎖を有す
るビニル系モノマー ポリエチレングリコール(分子量300)モノ(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコール(分子量50
0)モノアクリレート、メチルアルコールエチレンオキ
サイド10モル付加物(メタ)アクリレート、ラウリル
アルコールエチレンオキサイド30モル付加物(メタ)
アクリレートなど
るビニル系モノマー ポリエチレングリコール(分子量300)モノ(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコール(分子量50
0)モノアクリレート、メチルアルコールエチレンオキ
サイド10モル付加物(メタ)アクリレート、ラウリル
アルコールエチレンオキサイド30モル付加物(メタ)
アクリレートなど
【0031】(y)ポリ(メタ)アクリレート類 多価アルコール類のポリ(メタ)アクリレート:エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレートなど
ングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレートなど
【0032】これらの単量体のうちで好ましいものは、
耐加水分解性に富んだ、ビニル系炭化水素、エポキシ基
含有ビニル系モノマー、およびビニルエステル類であ
る。上記モノマーを共重合して得られる共重合物のうち
好ましいものは、化合物(A)と3次元架橋したときに
耐水性の高い、酢酸ビニル−アセトアセトキシエチル
(メタ)アクリレート2元共重合物およびエチレン−酢
酸ビニル−アセトアセトキシエチル(メタ)アクリレー
ト3元共重合物であり、特に好ましいものは、支持体へ
塗工乾燥した際に、特に高い耐水性と耐フェザリング性
が得られる、エチレン−酢酸ビニル−アセトアセトキシ
エチル(メタ)アクリレート3元共重合物である。
耐加水分解性に富んだ、ビニル系炭化水素、エポキシ基
含有ビニル系モノマー、およびビニルエステル類であ
る。上記モノマーを共重合して得られる共重合物のうち
好ましいものは、化合物(A)と3次元架橋したときに
耐水性の高い、酢酸ビニル−アセトアセトキシエチル
(メタ)アクリレート2元共重合物およびエチレン−酢
酸ビニル−アセトアセトキシエチル(メタ)アクリレー
ト3元共重合物であり、特に好ましいものは、支持体へ
塗工乾燥した際に、特に高い耐水性と耐フェザリング性
が得られる、エチレン−酢酸ビニル−アセトアセトキシ
エチル(メタ)アクリレート3元共重合物である。
【0033】本発明における化合物(b)の製法として
は、前記の一般式(2)で示される単量体を(共)重合
させる方法以外に、例えば、水酸基を有するビニル系単
量体の(共)重合物を、水酸基1当量に対して好ましく
は0.5〜1モルのケテンダイマー(ジケテン)と反応
せしめる方法;あるいは、水酸基を有するビニル系単量
体の(共)重合物と、水酸基1当量に対して好ましくは
0.5〜1モルの、下記一般式(3) [式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を表す。]で
示されるアセト酢酸エステルとをエステル交換反応させ
る方法;などにより、分子内に少なくとも2個のアセト
アセトキシ基を導入する方法が挙げられる。これらのう
ちで好ましい方法は(共)重合時に副反応が起こりにく
く、アセトアセトキシ変性効率の高い、水酸基を有する
ビニル系単量体の(共)重合物をケテンダイマーと反応
せしめる方法である。上記の反応に用いる水酸基を有す
るビニル系単量体の(共)重合物としては、アリルアル
コールの(共)重合物、ポリビニルアルコール、酢酸ビ
ニル系(共)重合物の(部分)加水分解物なども挙げら
れるが、好ましいものは、下記一般式(4) [式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数2〜
4のアルキレン基(ただし、n個の(AO)が2種以上
のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はブ
ロックまたはランダムのいずれでもよい。)を表し、n
は1〜30の整数を表す。]で示される水酸基含有単量
体の(共)重合物である。上記の、水酸基を有するビニ
ル系単量体の(共)重合物に、アセトアセトキシ基を導
入する方法で得られる(b)についても、(共)重合物
を構成する全構成単位に対する、アセトアセトキシ基を
有する構成単位の含量は、好ましくは20〜100モル
%、特に好ましくは40〜100モル%である。
は、前記の一般式(2)で示される単量体を(共)重合
させる方法以外に、例えば、水酸基を有するビニル系単
量体の(共)重合物を、水酸基1当量に対して好ましく
は0.5〜1モルのケテンダイマー(ジケテン)と反応
せしめる方法;あるいは、水酸基を有するビニル系単量
体の(共)重合物と、水酸基1当量に対して好ましくは
0.5〜1モルの、下記一般式(3) [式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を表す。]で
示されるアセト酢酸エステルとをエステル交換反応させ
る方法;などにより、分子内に少なくとも2個のアセト
アセトキシ基を導入する方法が挙げられる。これらのう
ちで好ましい方法は(共)重合時に副反応が起こりにく
く、アセトアセトキシ変性効率の高い、水酸基を有する
ビニル系単量体の(共)重合物をケテンダイマーと反応
せしめる方法である。上記の反応に用いる水酸基を有す
るビニル系単量体の(共)重合物としては、アリルアル
コールの(共)重合物、ポリビニルアルコール、酢酸ビ
ニル系(共)重合物の(部分)加水分解物なども挙げら
れるが、好ましいものは、下記一般式(4) [式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数2〜
4のアルキレン基(ただし、n個の(AO)が2種以上
のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はブ
ロックまたはランダムのいずれでもよい。)を表し、n
は1〜30の整数を表す。]で示される水酸基含有単量
体の(共)重合物である。上記の、水酸基を有するビニ
ル系単量体の(共)重合物に、アセトアセトキシ基を導
入する方法で得られる(b)についても、(共)重合物
を構成する全構成単位に対する、アセトアセトキシ基を
有する構成単位の含量は、好ましくは20〜100モル
%、特に好ましくは40〜100モル%である。
【0034】本発明における化合物(A)と架橋剤
(B)は支持体への塗工時に両成分を混合する2液タイ
プとして用いても、あらかじめ混合しておく1液タイプ
として用いてもよいが、好ましいのは支持体への塗工作
業性のよい1液タイプである。化合物(A)と架橋剤
(B)を構成する化合物(b)とは、水の不存在下では
脱水反応を起こし強固な3次元架橋体を形成するが、水
系媒体の存在下では化学平衡のため全く反応が起こらず
安定である。これを利用し、化合物(A)、架橋剤
(B)、水、及び必要により分散剤等の混合系(均一系
であっても乳化物であってもよい)とすれば、非常に貯
蔵安定性良好な1液とすることができる。これを支持体
の表面および/または内部へ塗工、乾燥することによ
り、化学平衡が傾き、反応が進行して強固な3次元架橋
が起こる。一旦架橋してしまえば、それ自身疎水性をも
つので加水分解は容易には起こらないため、高い耐水性
と耐フェザリング性を両立させることが可能となる。
(B)は支持体への塗工時に両成分を混合する2液タイ
プとして用いても、あらかじめ混合しておく1液タイプ
として用いてもよいが、好ましいのは支持体への塗工作
業性のよい1液タイプである。化合物(A)と架橋剤
(B)を構成する化合物(b)とは、水の不存在下では
脱水反応を起こし強固な3次元架橋体を形成するが、水
系媒体の存在下では化学平衡のため全く反応が起こらず
安定である。これを利用し、化合物(A)、架橋剤
(B)、水、及び必要により分散剤等の混合系(均一系
であっても乳化物であってもよい)とすれば、非常に貯
蔵安定性良好な1液とすることができる。これを支持体
の表面および/または内部へ塗工、乾燥することによ
り、化学平衡が傾き、反応が進行して強固な3次元架橋
が起こる。一旦架橋してしまえば、それ自身疎水性をも
つので加水分解は容易には起こらないため、高い耐水性
と耐フェザリング性を両立させることが可能となる。
【0035】本発明における化合物(A)の官能基であ
る1級アミノ基または2級アミノ基と、架橋剤(B)に
おける化合物(b)中の前記式(1)で示されるアセト
アセトキシ基との当量比は、好ましくは(0.1〜9
0):(99.9〜10)、さらに好ましくは(10〜
70):(90〜30)、特に好ましくは(20〜6
0):(80〜40)である。1級アミノ基または2級
アミノ基の当量比が0.1以上であると染料の固着性能
が十分で、印字した画像の耐水性が良好であり、90以
下であると架橋後の架橋密度が高くなり、印字した画像
の耐水性が良好であるとともに、耐フェザリングの十分
な効果が得られる。
る1級アミノ基または2級アミノ基と、架橋剤(B)に
おける化合物(b)中の前記式(1)で示されるアセト
アセトキシ基との当量比は、好ましくは(0.1〜9
0):(99.9〜10)、さらに好ましくは(10〜
70):(90〜30)、特に好ましくは(20〜6
0):(80〜40)である。1級アミノ基または2級
アミノ基の当量比が0.1以上であると染料の固着性能
が十分で、印字した画像の耐水性が良好であり、90以
下であると架橋後の架橋密度が高くなり、印字した画像
の耐水性が良好であるとともに、耐フェザリングの十分
な効果が得られる。
【0036】また、本発明の組成物には必要により公知
のサイズ剤、デンプン等の表面処理剤、その他の添加剤
等を含有させることができる。特に、サイズ剤を添加す
ればフェザリングや境界にじみをさらに低減させること
ができ、デンプンを添加すれば支持体の表面強度を向上
させることができるので好ましい。また、填料を添加す
ればインクの速乾性などを向上させることができる。さ
らに、一定の温度を境に疎水性と親水性が可逆的に変化
するような感温ゲル化剤(例えば特開平6−9848号
公報に記載のもの)を含有させることにより組成物を支
持体内部深くまで浸透させず、表面に効率よく偏在化さ
せるので、少量の処理剤で、高い耐水性能とフェザリン
グ防止能が得られる。
のサイズ剤、デンプン等の表面処理剤、その他の添加剤
等を含有させることができる。特に、サイズ剤を添加す
ればフェザリングや境界にじみをさらに低減させること
ができ、デンプンを添加すれば支持体の表面強度を向上
させることができるので好ましい。また、填料を添加す
ればインクの速乾性などを向上させることができる。さ
らに、一定の温度を境に疎水性と親水性が可逆的に変化
するような感温ゲル化剤(例えば特開平6−9848号
公報に記載のもの)を含有させることにより組成物を支
持体内部深くまで浸透させず、表面に効率よく偏在化さ
せるので、少量の処理剤で、高い耐水性能とフェザリン
グ防止能が得られる。
【0037】本発明の組成物を支持体の表面あるいは内
部に含有させる方法については特に制限はなく、例え
ば、上記組成物が所定の含有量になるように水で希釈
し、浸漬後乾燥する方法;サイズプレス機、各種コータ
ー等で塗布後乾燥する方法;ハケにて塗布後乾燥する方
法;などが挙げられる。水で希釈して支持体に適用する
際の固形分濃度は塗布方法、支持体の吸水速度等によっ
て異なるが、好ましくは5〜50質量%である。また、
本発明の組成物の支持体に対する含有量は、固形分質量
換算で、好ましくは1〜10g/m2 、さらに好ましく
は4〜7g/m2 である。支持体としては、紙などのセ
ルロース系繊維材料、プラスチック材料、セルロース系
材料に樹脂加工を施した複合材料などのシート状支持体
が挙げられるが、これらのうち本発明の組成物による効
果が高いのは、吸水性の高いセルロース系繊維材料であ
る。
部に含有させる方法については特に制限はなく、例え
ば、上記組成物が所定の含有量になるように水で希釈
し、浸漬後乾燥する方法;サイズプレス機、各種コータ
ー等で塗布後乾燥する方法;ハケにて塗布後乾燥する方
法;などが挙げられる。水で希釈して支持体に適用する
際の固形分濃度は塗布方法、支持体の吸水速度等によっ
て異なるが、好ましくは5〜50質量%である。また、
本発明の組成物の支持体に対する含有量は、固形分質量
換算で、好ましくは1〜10g/m2 、さらに好ましく
は4〜7g/m2 である。支持体としては、紙などのセ
ルロース系繊維材料、プラスチック材料、セルロース系
材料に樹脂加工を施した複合材料などのシート状支持体
が挙げられるが、これらのうち本発明の組成物による効
果が高いのは、吸水性の高いセルロース系繊維材料であ
る。
【0038】本発明の組成物を支持体に含有させた後の
乾燥温度は、好ましくは60〜130℃、さらに好まし
くは80〜110℃である。本発明の組成物は、乾燥時
の3次元架橋速度が速いため60℃未満でも十分に効果
は発現するが、60℃以上では水の乾燥速度が速いため
作業性が良好であり、130℃以下であると支持体の色
相が良好である。
乾燥温度は、好ましくは60〜130℃、さらに好まし
くは80〜110℃である。本発明の組成物は、乾燥時
の3次元架橋速度が速いため60℃未満でも十分に効果
は発現するが、60℃以上では水の乾燥速度が速いため
作業性が良好であり、130℃以下であると支持体の色
相が良好である。
【0039】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以
下において部は質量部、%は質量%を示す。
が、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以
下において部は質量部、%は質量%を示す。
【0040】実施例1 ジシアンジアミドのホルマリン重縮合化合物[三洋化成
工業(株)製「サンフィックス70」]30部に、エチ
レン−酢酸ビニル−アセトアセトキシエチルアクリレー
ト共重合物[住友化学工業(株)製「SUMIKA F
LEX」]19.5部および水50.5部を配合し、日
本精機製作所製バイオミキサーABM型(シャフト;B
M−2)を用いて3分間乳化せしめ、本発明の組成物を
調製した。この組成物は50℃において1ヶ月間全く変
化無く、問題なく使用でき、貯蔵安定性は極めて良好で
あった。この組成物25部を水75部で希釈して、処理
液を作成した。この処理液を、坪量65g/m2 、ステ
キヒトサイズ度15〜20秒の市販上質紙にワイヤーバ
ーで5g/m2 になるように塗工し、95℃〜105℃
のドラム式ドライヤーで1分間乾燥した。このようにし
て得られたシートを温度20℃、相対湿度65%の条件
で24時間調湿したもの性能評価に供した。性能評価に
当たっては、プリンターとしてキャノン製バブルジェッ
トプリンター「BJC−600J」を使用し、以下の方
法で評価した。その結果を表1に示す。 画像の耐水性;印字したシートを水に浸した後すぐに引
き上げ乾燥し、目視で状態を判断した。 (評価基準) ○;画像の溶出なし、にじみなし △;画像の溶出少しあり、にじみ少しあり ×;画像の溶出あり、にじみあり 耐フェザリング性:印字の状態を目視で判断した。 (評価基準) ○;良好 △;やや不良 ×;不良 画像濃度:シアンインクのベタ部の発色濃度をマクベス
濃度計(Kollmorgen Corp社製)で測定
した。
工業(株)製「サンフィックス70」]30部に、エチ
レン−酢酸ビニル−アセトアセトキシエチルアクリレー
ト共重合物[住友化学工業(株)製「SUMIKA F
LEX」]19.5部および水50.5部を配合し、日
本精機製作所製バイオミキサーABM型(シャフト;B
M−2)を用いて3分間乳化せしめ、本発明の組成物を
調製した。この組成物は50℃において1ヶ月間全く変
化無く、問題なく使用でき、貯蔵安定性は極めて良好で
あった。この組成物25部を水75部で希釈して、処理
液を作成した。この処理液を、坪量65g/m2 、ステ
キヒトサイズ度15〜20秒の市販上質紙にワイヤーバ
ーで5g/m2 になるように塗工し、95℃〜105℃
のドラム式ドライヤーで1分間乾燥した。このようにし
て得られたシートを温度20℃、相対湿度65%の条件
で24時間調湿したもの性能評価に供した。性能評価に
当たっては、プリンターとしてキャノン製バブルジェッ
トプリンター「BJC−600J」を使用し、以下の方
法で評価した。その結果を表1に示す。 画像の耐水性;印字したシートを水に浸した後すぐに引
き上げ乾燥し、目視で状態を判断した。 (評価基準) ○;画像の溶出なし、にじみなし △;画像の溶出少しあり、にじみ少しあり ×;画像の溶出あり、にじみあり 耐フェザリング性:印字の状態を目視で判断した。 (評価基準) ○;良好 △;やや不良 ×;不良 画像濃度:シアンインクのベタ部の発色濃度をマクベス
濃度計(Kollmorgen Corp社製)で測定
した。
【0041】実施例2 実施例1においてジシアンジアミドのホルマリン重縮合
化合物に代えてポリアルキレンポリアミンジシアンジア
ミドアンモニウムクロライド[三洋化成工業(株)製
「サンフィックス111」]を使用したこと以外は実施
例1と同様にして処理液を作成し、処理紙の性能を評価
した。その結果を表1に示す。なお、本組成物も50℃
において1ヶ月間全く変化無く、問題なく使用でき、貯
蔵安定性は極めて良好であった。
化合物に代えてポリアルキレンポリアミンジシアンジア
ミドアンモニウムクロライド[三洋化成工業(株)製
「サンフィックス111」]を使用したこと以外は実施
例1と同様にして処理液を作成し、処理紙の性能を評価
した。その結果を表1に示す。なお、本組成物も50℃
において1ヶ月間全く変化無く、問題なく使用でき、貯
蔵安定性は極めて良好であった。
【0042】実施例3 実施例1においてジシアンジアミドのホルマリン重縮合
化合物に代えてポリアミンスルホンポリマー[三洋化成
工業(株)製「サンフィックスPAC−70」]を使用
したこと以外は実施例1と同様にして処理液を作製し、
処理紙の性能を評価した。その結果を表1に示す。な
お、本組成物も50℃において1ヶ月間全く変化無く、
問題なく使用でき、貯蔵安定性は極めて良好であった。
化合物に代えてポリアミンスルホンポリマー[三洋化成
工業(株)製「サンフィックスPAC−70」]を使用
したこと以外は実施例1と同様にして処理液を作製し、
処理紙の性能を評価した。その結果を表1に示す。な
お、本組成物も50℃において1ヶ月間全く変化無く、
問題なく使用でき、貯蔵安定性は極めて良好であった。
【0043】比較例1〜3 実施例1〜3において、エチレン−酢酸ビニル−アセト
アセトキシエチルアクリレート共重合物に代えて水のみ
を使用したこと以外は実施例1〜3と同様にして、各比
較の処理液を作製し、実施例1と同様にして処理紙の性
能を評価した。その結果を表1に示す。
アセトキシエチルアクリレート共重合物に代えて水のみ
を使用したこと以外は実施例1〜3と同様にして、各比
較の処理液を作製し、実施例1と同様にして処理紙の性
能を評価した。その結果を表1に示す。
【0044】比較例4 未処理のシートを温度20℃、相対湿度65%の条件で
24時間調湿したものを性能評価に供した。
24時間調湿したものを性能評価に供した。
【0045】
【表1】
【0046】
【発明の効果】本発明のインクジェット記録シート用耐
水化剤組成物は、従来の耐水化剤に比べ下記の効果を奏
する。 (1)水性分散体もしくは水性溶液の状態では1液で極
めて安定であるが、乾燥することによって初めて架橋が
起こり、耐水性に優れた記録シートを与える。 (2)画像の耐水化とフェザリングの減少が1種類の薬
剤による支持体への処理で達成できるので、記録シート
の生産性が大幅に向上する。 (3)支持体上に処理するとき、通常の紙の乾燥条件で
充分に耐水性と耐フェザリングの効果が発現する。 (4)処理シートに印字した画像の耐水性が著しく向上
し、かつフェザリングが低減され、インクジェット記録
用の専用シートと比べても見劣りなく、インクジェット
用記録シートの普通紙化が実現できる。 上記効果を奏することから本発明の組成物は、インクジ
ェット記録シート用耐水化剤として極めて有用でる。
水化剤組成物は、従来の耐水化剤に比べ下記の効果を奏
する。 (1)水性分散体もしくは水性溶液の状態では1液で極
めて安定であるが、乾燥することによって初めて架橋が
起こり、耐水性に優れた記録シートを与える。 (2)画像の耐水化とフェザリングの減少が1種類の薬
剤による支持体への処理で達成できるので、記録シート
の生産性が大幅に向上する。 (3)支持体上に処理するとき、通常の紙の乾燥条件で
充分に耐水性と耐フェザリングの効果が発現する。 (4)処理シートに印字した画像の耐水性が著しく向上
し、かつフェザリングが低減され、インクジェット記録
用の専用シートと比べても見劣りなく、インクジェット
用記録シートの普通紙化が実現できる。 上記効果を奏することから本発明の組成物は、インクジ
ェット記録シート用耐水化剤として極めて有用でる。
Claims (7)
- 【請求項1】 分子内に1級アミノ基および/または
2級アミノ基を含有する化合物(A)と、下記式(1) で示されるアセトアセトキシ基を分子内に少なくとも2
個含有する化合物(b)からなる架橋剤(B)とからな
ることを特徴とするインクジェット記録シート用耐水化
剤組成物。 - 【請求項2】 化合物(A)がポリアミン類である請求
項1記載の組成物。 - 【請求項3】 化合物(A)および架橋剤(B)の混合
物を、水系媒体中に溶解または分散させてなる請求項1
または2記載の組成物。 - 【請求項4】 化合物(b)が、水酸基を有するビニル
系単量体の(共)重合物をジケテンにより変性せしめて
なる化合物である請求項1〜3のいずれか記載の組成
物。 - 【請求項5】 化合物(b)が、下記一般式(2) [式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数2〜
4のアルキレン基(ただし、n個の(AO)が2種以上
のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はブ
ロックまたはランダムのいずれでもよい。)を表し、n
は1〜30の整数を表す。]で示される単量体を必須構
成成分とする(共)重合物である請求項1〜3のいずれ
か記載の組成物。 - 【請求項6】 化合物(A)中の1級アミノ基または2
級アミノ基と、架橋剤(B)中の式(1)で示されるア
セトアセトキシ基との当量比が(0.1〜90):(9
9.9〜10)である請求項1〜5のいずれか記載の組
成物。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか記載の組成物か
らなる水性溶液または水性分散液を支持体の表面および
/または内部に含有させ、加熱乾燥するとともに架橋反
応させてなるインクジェット記録用シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9362785A JPH10226989A (ja) | 1996-12-12 | 1997-12-11 | インクジェット記録シート用耐水化剤組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35299896 | 1996-12-12 | ||
JP8-352998 | 1996-12-12 | ||
JP9362785A JPH10226989A (ja) | 1996-12-12 | 1997-12-11 | インクジェット記録シート用耐水化剤組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10226989A true JPH10226989A (ja) | 1998-08-25 |
Family
ID=26579753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9362785A Pending JPH10226989A (ja) | 1996-12-12 | 1997-12-11 | インクジェット記録シート用耐水化剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10226989A (ja) |
-
1997
- 1997-12-11 JP JP9362785A patent/JPH10226989A/ja active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040413 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051206 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060404 |