JPH10226510A - Preliminary treatment of metal silicon powder - Google Patents

Preliminary treatment of metal silicon powder

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JPH10226510A
JPH10226510A JP3993497A JP3993497A JPH10226510A JP H10226510 A JPH10226510 A JP H10226510A JP 3993497 A JP3993497 A JP 3993497A JP 3993497 A JP3993497 A JP 3993497A JP H10226510 A JPH10226510 A JP H10226510A
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JP
Japan
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silicon powder
metal silicon
copper
sulfuric acid
liter
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JP3993497A
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Japanese (ja)
Inventor
Junzo Nakagawa
淳三 中川
Kazuhide Nishida
一秀 西田
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Toho Zinc Co Ltd
Toho Aen KK
Original Assignee
Toho Zinc Co Ltd
Toho Aen KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high purity metal silicon capable of being a main material for a silicon for solar cell by treating an unreacted metal silicon powder with a chemical, which is discharged from a synthetic process of silane and is in a metallic state though containing a large quantity of copper. SOLUTION: A preliminary treating method of the metal silicon powder is for removing copper in the metal silicon powder by charging the metal silicon powder in an aq. solution containing sulfuric acid and mixing the metal silicon powder and the aq. solution by stirring while supplying oxygen (including a case of incorporating in air). In such a case, as the metal silicon powder, a metal silicon powder containing a spent copper catalyst discharged from the synthetic process of silane can be used. The metal silicon powder is preferably used after chlorine contained therein is removed by previously washing. The concentration of sulfuric acid is preferably 10-100g/l in excess of the quantity equivalent to copper, the concentration of the slurry is preferably 100-500g/l and the feed flow rate of oxygen is preferably 0.2-0.51/min per 1kg of metal silicon powder.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池用シリコ
ンの主材料として使用できるような高純度の金属珪素を
得るための金属珪素の精製方法の原料として低純度の金
属珪素、例えばシランの合成工程より排出される金属珪
素を使用できるようにするための金属珪素粉体の予備処
理方法に関するものである。
[0001] The present invention relates to a method for synthesizing low-purity metallic silicon, for example, silane, as a raw material of a method for purifying metallic silicon for obtaining high-purity metallic silicon which can be used as a main material of silicon for solar cells. The present invention relates to a pretreatment method for metal silicon powder so that metal silicon discharged from a process can be used.

【0002】[0002]

【従来の技術】シリコン樹脂の製造工程では、金属珪素
粉体を用いてシランを合成している。この工程において
は、反応促進用の触媒として銅の粉末等が用いられてい
る。従って、シランの合成工程から排出される未反応金
属珪素粉体中には銅が多量に含有されている。合成する
シランの種類により添加する銅の量が異なり、未反応金
属珪素粉体中の銅含有率もシラン種に対応して種々の値
を示しており、低いもので3重量%、高いものは15重
量%程度である。
2. Description of the Related Art In a silicon resin manufacturing process, silane is synthesized using metallic silicon powder. In this step, copper powder or the like is used as a catalyst for accelerating the reaction. Therefore, unreacted metallic silicon powder discharged from the silane synthesis step contains a large amount of copper. The amount of copper added varies depending on the type of silane to be synthesized, and the copper content in the unreacted metallic silicon powder also shows various values corresponding to the silane type. It is about 15% by weight.

【0003】未反応金属珪素粉体中には、銅以外に鉄が
0.8〜3.0重量%程度含まれている。この鉄は金属
珪素塊時点ですでに含まれていた鉄及び金属珪素塊を粉
砕してシランの合成工程に供給する鉄製の粉砕機から混
入した鉄に起因する。
[0003] The unreacted metallic silicon powder contains about 0.8 to 3.0% by weight of iron in addition to copper. This iron originates from iron already contained at the time of the metal silicon mass and iron mixed from an iron pulverizer that supplies the metal silicon mass to the silane synthesis process.

【0004】その他、未反応金属珪素粉体中に含まれて
いる不純物のうち、1重量%未満のものとしては、アル
ミニウムが0.2〜0.5重量%、亜鉛が0.1〜0.
3重量%、カルシウムが0.1〜0.2重量%、ホウ素
が1〜10ppm程度含まれている。また、未反応金属
珪素粉体中には塩素分が0.2〜0.5重量%程度残留
している。なお、金属珪素の純度は75〜90重量%程
度である。
[0004] Among the impurities contained in the unreacted metallic silicon powder, those containing less than 1% by weight of aluminum include 0.2 to 0.5% by weight of aluminum and 0.1 to 0.1% by weight of zinc.
It contains about 3% by weight, about 0.1 to 0.2% by weight of calcium, and about 1 to 10 ppm of boron. Further, about 0.2 to 0.5% by weight of chlorine remains in the unreacted metallic silicon powder. The purity of metallic silicon is about 75 to 90% by weight.

【0005】このような未反応金属珪素粉体のうち、銅
含有率が10重量%以上のものは、銅原料兼造かん剤と
して銅製錬に再利用されている。然し、銅含有率10重
量%未満のものは、銅製錬用途としてはあまり好まれ
ず、大部分が埋立廃棄されている。
[0005] Among such unreacted metallic silicon powders, those having a copper content of 10% by weight or more are reused in copper smelting as a copper raw material and a fermenting agent. However, those having a copper content of less than 10% by weight are not so preferred for copper smelting applications, and are mostly disposed of in landfills.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した未
反応金属珪素粉体は金属状態にあるので、これを化学薬
品で処理して太陽電池用シリコンの主材料となり得るよ
うな高純度の金属珪素とすることができれば、低価値の
ものを高価な商品に変えることになるので、極めて好都
合である。
Since the above-mentioned unreacted metallic silicon powder is in a metallic state, it is treated with a chemical to obtain a high-purity metallic silicon which can be used as a main material of silicon for solar cells. It would be very convenient to convert low value items into expensive products.

【0007】しかし、この未反応金属珪素粉体は上述し
たように不純物、特に銅含有率が極めて高いので、この
まま直ちに高純度の金属珪素まで化学薬品で精製するこ
とは困難である。
However, since the unreacted metallic silicon powder has an extremely high content of impurities, particularly copper, as described above, it is difficult to immediately purify high-purity metallic silicon with a chemical as it is.

【0008】この発明は高純度の金属珪素を得るための
金属珪素の精製方法の原料として低純度の金属珪素を使
用できるようにする金属珪素粉体の予備処理方法を提供
することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a method for pre-treating metal silicon powder which enables use of low-purity metal silicon as a raw material for a method for purifying metal silicon to obtain high-purity metal silicon. .

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明者等は、入手し易く且つ取扱い易い硫酸を以
て金属珪素粉体中に含まれるCu等を浸出除去すること
とし、試験を重ねた結果、所定の硫酸濃度(Cu浸出に
要する量+10〜100g/リットル)、所定のスラリ
ー濃度(100〜500g/リットル)及び所定の空気
吹込量(金属珪素粉体1kg当り0.9〜2.7リット
ル/分…O2 換算0.2〜0.5リットル/分)の範囲
で攪拌浸出する技術を確立した。
Means for Solving the Problems To solve the above problems, the present inventors have decided to leaching out Cu and the like contained in metallic silicon powder with sulfuric acid which is easily available and easy to handle, and repeated tests. As a result, a predetermined sulfuric acid concentration (amount required for Cu leaching + 10 to 100 g / l), a predetermined slurry concentration (100 to 500 g / l) and a predetermined air blowing amount (0.9 to 2.0 g / kg of metal silicon powder). was established technique for stirring leaching 7 liters / min ... range of O 2 in terms 0.2 to 0.5 liters / minute).

【0010】ここで、前記金属珪素粉体としては、例え
ばシランの合成工程より排出される使用済み銅触媒を含
有する金属珪素粉体を使用することができるが、不純物
濃度が同程度のものであれば、これ以外の金属珪素を使
用してもよい。また、銅を浸出した前記水溶液は亜鉛精
練工程で硫酸銅源として使用してもよい。前記水溶液を
このような用途に使用する場合は予め金属珪素粉体を水
洗して脱塩素処理を施しておくのが好ましい。
Here, as the metal silicon powder, for example, a metal silicon powder containing a used copper catalyst discharged from a silane synthesis step can be used, but the metal silicon powder having the same impurity concentration can be used. If so, other metallic silicon may be used. Further, the aqueous solution leached with copper may be used as a copper sulfate source in a zinc refining process. When the aqueous solution is used for such purposes, it is preferable that the metal silicon powder be washed with water and dechlorinated in advance.

【0011】硫酸濃度:硫酸は金属珪素粉体中のCuと
反応して浸出を行なう為の主要薬剤である。銅の浸出反
応式を簡略的に示せば、 Cu°+H2 SO4 →CuSO4 +H2 ↑ である。この浸出反応に於いて過剰の硫酸量10g/リ
ットル未満では浸出率が低いので、少なくとも硫酸量1
0g/リットルが好ましい。硫酸濃度の上昇につれて銅
の浸出率も向上するが、100g/リットルを超えた場
合は浸出率がほゞ一定となり、浸出率の向上はない。従
って、設備の耐食性、作業の安全性等を考慮すれば、過
剰硫酸量の上限としては100g/リットルが好ましい
が、100g/リットルを超えてもよい。
Sulfuric acid concentration: Sulfuric acid is a main chemical for reacting with Cu in metallic silicon powder to perform leaching. The reaction equation for leaching copper is simply expressed as Cu ° + H 2 SO 4 → CuSO 4 + H 2 ↑. If the amount of excess sulfuric acid is less than 10 g / l in this leaching reaction, the leaching rate is low, so
0 g / l is preferred. The leaching rate of copper also increases as the sulfuric acid concentration increases, but when it exceeds 100 g / liter, the leaching rate becomes almost constant, and there is no improvement in the leaching rate. Therefore, in consideration of the corrosion resistance of the equipment, the safety of work, and the like, the upper limit of the amount of excess sulfuric acid is preferably 100 g / liter, but may be more than 100 g / liter.

【0012】スラリー濃度:攪拌浸出反応を行なうとき
スラリー濃度が低い方が浸出率は良好であり、高い程悪
くなる。500g/リットルを超えると浸出率は極端に
悪化するので、スラリー濃度の上限は500g/リット
ルである。一方、スラリーが低濃度になるにつれて浸出
率は向上するが、100g/リットル未満ではほゞ一定
になる。従って、生産性を考慮すると、スラリー濃度の
下限は100g/リットルが好ましいが、100g/リ
ットル未満になってもよい。。
Slurry concentration: When performing the stirring leaching reaction, the lower the slurry concentration, the better the leaching rate, and the higher the slurry concentration, the worse the leaching rate. If it exceeds 500 g / l, the leaching rate will be extremely deteriorated, so the upper limit of the slurry concentration is 500 g / l. On the other hand, the leaching rate increases as the slurry becomes lower in concentration, but becomes almost constant at less than 100 g / liter. Therefore, in consideration of productivity, the lower limit of the slurry concentration is preferably 100 g / liter, but may be less than 100 g / liter. .

【0013】酸素供給量:銅は比較的貴なる金属であ
り、金属銅分を硫酸で浸出する場合、単に硫酸の水溶液
で浸出しようとしても、浸出率はあまり良くない。従っ
て、反応助剤(酸化剤)として例えば空気(O2 )を吹
込むこと等により、金属銅の酸化を促進し、浸出率を良
好ならしめる必要がある。空気吹込時の金属銅分の浸出
反応式を簡略的に示せば、 Cu°+1/2O2 +H2 SO4 →CuSO4 +H2 O である。
Oxygen supply amount: Copper is a relatively noble metal, and when leaching metallic copper with sulfuric acid, the leaching rate is not very good even if it is simply leached with an aqueous solution of sulfuric acid. Therefore, it is necessary to promote the oxidation of metallic copper by blowing air (O 2 ) as a reaction assistant (oxidizing agent), for example, to improve the leaching rate. The reaction equation for leaching metallic copper at the time of blowing air is simply expressed as Cu ° + / O 2 + H 2 SO 4 → CuSO 4 + H 2 O.

【0014】この浸出反応に於いて、酸素供給量は金属
珪素粉体1kg当り、O2 換算で0.2リットル/分未
満では浸出率が悪いので、下限は0.2リットル/分で
ある。酸素供給量の増加につれて浸出率は上昇するが、
0.5リットル/分以上ではほゞ一定となるので、上限
は0.5リットル/分が好ましいが、0.5リットル/
分を超えてもよい。なお、本発明では純酸素を吹き込む
場合のみならず、空気等の酸素を含むガスを吹き込む場
合も含む。
In this leaching reaction, the oxygen supply rate is less than 0.2 liter / min in terms of O 2 per kg of metallic silicon powder, so the leaching rate is poor, so the lower limit is 0.2 liter / min. The leaching rate increases as the oxygen supply increases,
At 0.5 liter / min or more, it is almost constant. Therefore, the upper limit is preferably 0.5 liter / minute, but 0.5 liter / minute is preferable.
You may exceed a minute. In the present invention, not only a case where pure oxygen is blown but also a case where a gas containing oxygen such as air is blown.

【0015】脱塩素処理:湿式亜鉛精錬においてF,C
l等は工程異常を発生させる。よって、溶解した銅を有
効に亜鉛精錬工程に利用するには、銅を溶解した液中に
塩素ができるだけ少ないことが要求される。このため、
銅を溶解させる以前に塩素を除去するという前処理の脱
塩素が必要である。本発明では金属珪素粉体を水洗・濾
過することによりこの脱塩素を行なっている。
Dechlorination treatment: F, C in wet zinc refining
l and the like cause a process abnormality. Therefore, in order to effectively use the dissolved copper in the zinc refining process, it is required that the liquid in which the copper is dissolved contains as little chlorine as possible. For this reason,
Pretreatment dechlorination is required to remove chlorine before dissolving the copper. In the present invention, this dechlorination is performed by washing and filtering the metal silicon powder.

【0016】なお、この方法によって得られた金属珪素
粉体は更に純度の高い金属珪素粉体を得るための原料と
して使用することができるが、この金属珪素粉体の用途
はこれに限定されるものではなく、マグネシウム精練の
還元剤、窒化珪素や炭化珪素の原料、その他、その純度
に見合った通常の用途に使用することができることはも
ちろんである。
The metal silicon powder obtained by this method can be used as a raw material for obtaining a metal silicon powder having a higher purity, but the use of the metal silicon powder is not limited thereto. Instead, it can of course be used for a reducing agent for magnesium scouring, a raw material for silicon nitride or silicon carbide, and other ordinary uses commensurate with its purity.

【0017】[0017]

【実施例】【Example】

実施例1 図1に示すような機械攪拌式の浸出装置を用い、表1に
示すように、 ・金属珪素粉体 1kg ・スラリー濃度 300g/リットル ・酸素供給量 O2 ガス換算0.38リットル/分 の条件で、銅の浸出相当分よりも過剰量の硫酸を5〜1
30g/リットルの数水準に変化させ、3時間の攪拌浸
出を行なった。攪拌浸出時の液温は特に調整しなかった
が、およそ50〜60℃程度であった。そして、スラリ
ー中の金属珪素粉体を濾別、水洗し、乾燥させた。
Example 1 Using a mechanical stirring type leaching apparatus as shown in FIG. 1, as shown in Table 1, 1 kg of metallic silicon powder, 300 g / l of slurry concentration, and 0.38 liter of oxygen supply in terms of O 2 gas supply Under conditions of 5 to 1 in excess of sulfuric acid equivalent to copper leaching.
The mixture was changed to several levels of 30 g / liter, and agitated and leached for 3 hours. The liquid temperature during stirring and leaching was not particularly adjusted, but was about 50 to 60 ° C. Then, the metallic silicon powder in the slurry was separated by filtration, washed with water, and dried.

【0018】次に、得られた金属珪素粉体中の銅を分析
したところ、表1及び図2に示す通りであった。この結
果から明らかなように、過剰量の硫酸が10g/リット
ル未満では銅の浸出除去が不十分であることがわかる。
また、過剰量の硫酸が100g/リットルを超えても更
なる浸出除去率の向上はなく、残留銅の含有率が一定に
なることがわかる。
Next, when the copper in the obtained metal silicon powder was analyzed, it was as shown in Table 1 and FIG. As is clear from these results, it is found that when the excess amount of sulfuric acid is less than 10 g / liter, the leaching and removal of copper is insufficient.
Further, it can be seen that even if the excess amount of sulfuric acid exceeds 100 g / liter, there is no further improvement in the leaching removal rate, and the residual copper content becomes constant.

【0019】なお、図1において、1は金属珪素粉体と
硫酸水溶液とからなるスラリー、2はこのスラリー1を
入れている5リットルのビーカー、3はスラリー1を攪
拌する攪拌機、4はスラリー1内に挿入されたガラス
管、5はガラス管4の先端部に取り付けられたボール式
ガラス濾過器である。
In FIG. 1, 1 is a slurry composed of metallic silicon powder and an aqueous sulfuric acid solution, 2 is a 5-liter beaker containing the slurry 1, 3 is a stirrer for stirring the slurry 1, and 4 is a slurry 1 The glass tube 5 inserted in the inside is a ball type glass filter attached to the tip of the glass tube 4.

【0020】実施例2 図1に示すような機械攪拌式の浸出装置を用いて、表1
に示すように、 ・銅の浸出相当分よりも過剰量の硫酸 30g/リットル ・酸素供給量 O2 ガス換算で0.38リットル/分 の条件にて、金属珪素粉体のスラリー濃度を50〜55
0g/リットルの数水準に変化させ、3時間の攪拌浸出
を行なった。攪拌浸出時の液温は特に調整しなかった
が、およそ50〜60℃程度であった。そして、スラリ
ー中の金属珪素粉体を濾別、水洗し、乾燥させた。
Example 2 Using a mechanical stirring type leaching apparatus as shown in FIG.
As shown in the following table: 30 g / liter of sulfuric acid in excess of the amount equivalent to the leaching of copper, and an oxygen supply amount of 0.38 liter / minute in terms of O 2 gas. 55
The mixture was changed to several levels of 0 g / liter, and agitated and leached for 3 hours. The liquid temperature during stirring and leaching was not particularly adjusted, but was about 50 to 60 ° C. Then, the metallic silicon powder in the slurry was separated by filtration, washed with water, and dried.

【0021】次に、得られた金属珪素粉体中の銅を分析
したところ、表1及び図3に示す通りであった。この結
果から明らかなように、スラリー濃度500g/リット
ル以上では銅の浸出除去が悪いことがわかる。また、ス
ラリー濃度が低い程、浸出率は上昇するが、100g/
リットル以下では浸出除去の度合が一定になることがわ
かる。
Next, when copper in the obtained metallic silicon powder was analyzed, it was as shown in Table 1 and FIG. As is evident from the results, it is found that when the slurry concentration is 500 g / liter or more, the leaching of copper is poor. Also, the lower the slurry concentration, the higher the leaching rate, but 100 g /
It can be seen that the degree of leaching is constant below 1 liter.

【0022】実施例3 図1に示すような機械攪拌式の浸出装置を用いて、表1
に示すように、 ・金属珪素粉体 1kg ・スラリー濃度 300g/リットル ・銅浸出相当分よりも過剰量の硫酸 30g/リットル の条件にて、酸素供給量をO2 換算で0.15〜0.6
リットル/分の数水準に変化させ、3時間の攪拌浸出を
行なった。攪拌浸出時の液温は特に調整しなかったが、
およそ50〜60℃程度であった。そして、スラリー中
の金属珪素粉体を濾別、水洗し、乾燥させた。
Example 3 Using a mechanical stirring type leaching apparatus as shown in FIG.
As shown in at & metallic silicon powder 1 kg-slurry concentration 300 g / liter of copper leaching considerable excess than content of sulfuric acid 30 g / l conditions, the oxygen supply in O 2 terms 0.15 to 0. 6
The mixture was changed to several liters / minute and stirred and leached for 3 hours. The liquid temperature during stirring leaching was not particularly adjusted,
It was about 50-60 ° C. Then, the metallic silicon powder in the slurry was separated by filtration, washed with water, and dried.

【0023】次に、得られた金属珪素粉体中の銅を分析
したところ、表1及び図4に示す通りであった。この結
果から明らかなように、金属珪素粉体1kg当り0.2
リットル/分未満の酸素供給量(O2 ガス換算)では銅
の浸出除去が不十分であることがわかる。また、銅の浸
出除去率は酸素供給量の増加とともに上昇して行くが、
2 ガス換算0.5リットル/分以上では一定になるこ
とがわかる。
Next, when the copper in the obtained metal silicon powder was analyzed, it was as shown in Table 1 and FIG. As is clear from this result, 0.2 kg / kg of metallic silicon powder was used.
It can be seen that leaching and removal of copper is insufficient at an oxygen supply rate (O 2 gas conversion) of less than liter / minute. In addition, the removal rate of copper leaching increases with an increase in oxygen supply,
It can be seen that it becomes constant at 0.5 liter / min or more in terms of O 2 gas.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明は、銅その他の不純物を多量に含
有する低純度の金属珪素粉体、例えばシランの合成工程
より排出される使用済み銅触媒を含有する金属珪素粉体
から銅その他の不純物をかなりの程度除去することがで
きるので、このような低純度の金属珪素粉体を高純度金
属珪素粉体を得るための原料として再生することができ
るという効果がある。
According to the present invention, a low-purity metal silicon powder containing a large amount of copper and other impurities, for example, a metal silicon powder containing a used copper catalyst discharged from a synthesis process of silane and containing copper and other impurities is used. Since impurities can be removed to a considerable extent, there is an effect that such low-purity metal silicon powder can be regenerated as a raw material for obtaining high-purity metal silicon powder.

【0025】また、本発明は、金属珪素粉体から除去さ
れた銅成分を亜鉛精練工程において使用されている硫酸
銅の代替品として使用することにより、廃棄物となるべ
きものの付加価値を高めることができ、結果として金属
珪素粉体の精製コストを低下させることができるという
効果がある。
Further, the present invention is to increase the added value of what should be waste by using the copper component removed from the metallic silicon powder as a substitute for copper sulfate used in the zinc refining process. As a result, there is an effect that the cost of refining the metal silicon powder can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明で使用する攪拌装置の説明図である。FIG. 1 is an explanatory view of a stirring device used in the present invention.

【図2】過剰硫酸量と浸出処理された金属珪素粉体中の
銅含有率との関係を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the amount of excess sulfuric acid and the copper content in leached metal silicon powder.

【図3】スラリー濃度と浸出処理された金属珪素粉体中
の銅含有率との関係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the slurry concentration and the copper content in the leached metal silicon powder.

【図4】金属珪素粉体1kg当りの酸素供給量と浸出処
理された金属珪素粉体中の銅含有率との関係を示すグラ
フである。
FIG. 4 is a graph showing a relationship between an oxygen supply amount per 1 kg of metal silicon powder and a copper content in a leached metal silicon powder.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スラリー 2 ビーカー 3 攪拌機 4 ガラス管 5 ボール式ガラス濾過器 Reference Signs List 1 slurry 2 beaker 3 stirrer 4 glass tube 5 ball type glass filter

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 硫酸を含有する水溶液中に金属珪素粉体
を入れ、酸素(空気に含有される場合を含む)を供給し
ながら該金属珪素粉体と該水溶液とを攪拌・混合するこ
とにより該金属珪素粉体の脱銅を行なうことを特徴とす
る金属珪素粉体の予備処理方法。
1. A method in which a metal silicon powder is put into an aqueous solution containing sulfuric acid, and the metal silicon powder and the aqueous solution are stirred and mixed while supplying oxygen (including a case where the metal silicon powder is contained in air). A pretreatment method for metal silicon powder, which comprises removing copper from the metal silicon powder.
【請求項2】 前記金属珪素粉体が、シランの合成工程
より排出される使用済み銅触媒を含有する金属珪素粉体
であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the metal silicon powder is a metal silicon powder containing a used copper catalyst discharged from a silane synthesis step.
【請求項3】 前記金属珪素粉体を予め水洗して含有さ
れている塩素分を除去してから前記脱銅を行なうことを
特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
3. The method according to claim 1, wherein said metal silicon powder is washed with water in advance to remove contained chlorine, and then said copper removal is performed.
【請求項4】 前記脱銅によって銅を含有することとと
なった前記水溶液を亜鉛精練工程で硫酸銅源として使用
することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の
方法。
4. The method according to claim 1, wherein the aqueous solution which contains copper by the decoppering is used as a copper sulfate source in a zinc refining step.
【請求項5】 前記水溶液中の硫酸濃度が銅当量分より
10〜100g/リットル過剰であることを特徴とする
請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein the concentration of sulfuric acid in the aqueous solution is 10 to 100 g / L in excess of a copper equivalent.
【請求項6】 前記金属珪素粉体のスラリー濃度が10
0〜500g/リットルであることを特徴とする請求項
1〜5のいずれかに記載の方法。
6. The metal silicon powder having a slurry concentration of 10
The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the amount is 0 to 500 g / liter.
【請求項7】 前記酸素の供給量がO2 換算で金属珪素
粉体1kg当り0.2〜0.5リットル/分であること
を特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
7. The method according to claim 1, wherein the supply amount of oxygen is 0.2 to 0.5 liter / minute in terms of O 2 per kg of the metal silicon powder. .
JP3993497A 1997-02-07 1997-02-07 Preliminary treatment of metal silicon powder Pending JPH10226510A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102363528A (en) * 2011-06-30 2012-02-29 常州天合光能有限公司 Cold ion solar-grade polycrystalline silicon material purification method and apparatus thereof
CN110899219A (en) * 2018-09-18 2020-03-24 3S韩国株式会社 Device and method for washing impurities of silicon-based powder

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102363528A (en) * 2011-06-30 2012-02-29 常州天合光能有限公司 Cold ion solar-grade polycrystalline silicon material purification method and apparatus thereof
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