JPH1021587A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
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- JPH1021587A JPH1021587A JP19145496A JP19145496A JPH1021587A JP H1021587 A JPH1021587 A JP H1021587A JP 19145496 A JP19145496 A JP 19145496A JP 19145496 A JP19145496 A JP 19145496A JP H1021587 A JPH1021587 A JP H1021587A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 初期化工程を高速化し、初期化後の記録層の
結晶粒径を小さくする。 【解決手段】 基板の一面上に記録層を成膜後、基板の
反対面上に光硬化性樹脂を塗布し、光照射により前記光
硬化性樹脂を硬化させるとともに前記記録層を一部結晶
化させ、しかる後に、レーザ光照射により初期化を行う
ことを特徴とする、光記録媒体の製造方法。
結晶粒径を小さくする。 【解決手段】 基板の一面上に記録層を成膜後、基板の
反対面上に光硬化性樹脂を塗布し、光照射により前記光
硬化性樹脂を硬化させるとともに前記記録層を一部結晶
化させ、しかる後に、レーザ光照射により初期化を行う
ことを特徴とする、光記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハードコート層を
有する光記録媒体の初期化の改良に関する。
有する光記録媒体の初期化の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、基板上に光学的に記録再
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
【０００３】この記録層を、レーザ光により結晶とアモ
ルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成し、
記録層の反射率の差異に基づいてデータが読み取られる
オーバライト記録まで可能とした相変化型などの光記録
媒体は既に知られている。この相変化型光記録媒体にお
いては、基板上に記録層および保護層等の他の層を形成
した後、レーザ光などを用いて上記記録層を結晶化させ
る初期化が行われる。
ルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成し、
記録層の反射率の差異に基づいてデータが読み取られる
オーバライト記録まで可能とした相変化型などの光記録
媒体は既に知られている。この相変化型光記録媒体にお
いては、基板上に記録層および保護層等の他の層を形成
した後、レーザ光などを用いて上記記録層を結晶化させ
る初期化が行われる。
【０００４】一方、光記録媒体の基板は、通常、ポリカ
ーボネート等の透明樹脂により成形されるが、成形され
た基板の傷付き等を防止したり制電性を付与するため
に、上記記録層等の成膜面とは反対側の面に、ハードコ
ート層を設けることが多い。ハードコート層は、たとえ
ば光硬化性樹脂を塗布し、それを光照射により硬化させ
ることによって形成される。そして、上記成膜工程とハ
ードコート層形成工程の実行順序は、例えば成膜工程に
おける基板の傷付き等を予防する面から、ハードコート
層形成工程、成膜工程の順に行い、成膜後にレーザ光等
によって初期化を行っている。
ーボネート等の透明樹脂により成形されるが、成形され
た基板の傷付き等を防止したり制電性を付与するため
に、上記記録層等の成膜面とは反対側の面に、ハードコ
ート層を設けることが多い。ハードコート層は、たとえ
ば光硬化性樹脂を塗布し、それを光照射により硬化させ
ることによって形成される。そして、上記成膜工程とハ
ードコート層形成工程の実行順序は、例えば成膜工程に
おける基板の傷付き等を予防する面から、ハードコート
層形成工程、成膜工程の順に行い、成膜後にレーザ光等
によって初期化を行っている。
【０００５】初期化は、従来、所定パワーでレーザ光を
照射することにより、あるいはキセノンランプの閃光お
よびレーザ光の照射により行っていた。
照射することにより、あるいはキセノンランプの閃光お
よびレーザ光の照射により行っていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のようにレーザ光
を用いて初期化を行う際、光記録媒体の所定エリア全面
にわたって初期化を行う必要があるが、所定レベルの初
期化を達成するには、レーザ光の所定レベル以上のパワ
ーと、レーザ光照射位置を所定レベル以下の移動速度で
制御して所定エリア全面に初期化を施すことが必要とな
る。パワーが低すぎると、記録層の結晶化が進まず、所
望の初期化が行われない。移動速度が速すぎると、初期
化後の結晶粒径が大きくなる傾向にあり、やはり所望の
初期化が達成できない。これらいずれか、または両者に
よる制約から、初期化の高速化には限界があるのが実情
である。また、キセノンランプの閃光による初期化で
は、全面を一度に初期化できるものの、初期化後の結晶
粒径が大きく、初期化後の記録層の特性が低下する。
を用いて初期化を行う際、光記録媒体の所定エリア全面
にわたって初期化を行う必要があるが、所定レベルの初
期化を達成するには、レーザ光の所定レベル以上のパワ
ーと、レーザ光照射位置を所定レベル以下の移動速度で
制御して所定エリア全面に初期化を施すことが必要とな
る。パワーが低すぎると、記録層の結晶化が進まず、所
望の初期化が行われない。移動速度が速すぎると、初期
化後の結晶粒径が大きくなる傾向にあり、やはり所望の
初期化が達成できない。これらいずれか、または両者に
よる制約から、初期化の高速化には限界があるのが実情
である。また、キセノンランプの閃光による初期化で
は、全面を一度に初期化できるものの、初期化後の結晶
粒径が大きく、初期化後の記録層の特性が低下する。
【０００７】本発明の課題は、製造コストを増大させる
ことなく、均一で微細な結晶を短時間で形成し、初期化
むらのない良好な記録特性を有する光記録媒体を短時間
で製造する方法を提供することにある。
ことなく、均一で微細な結晶を短時間で形成し、初期化
むらのない良好な記録特性を有する光記録媒体を短時間
で製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体の製造方法は、基板の一面上に
記録層を成膜後、基板の反対面上に光硬化性樹脂を塗布
し、光照射により前記光硬化性樹脂を硬化させるととも
に前記記録層を一部結晶化させ、しかる後に、レーザ光
照射により初期化を行うことを特徴とする方法からな
る。
に、本発明の光記録媒体の製造方法は、基板の一面上に
記録層を成膜後、基板の反対面上に光硬化性樹脂を塗布
し、光照射により前記光硬化性樹脂を硬化させるととも
に前記記録層を一部結晶化させ、しかる後に、レーザ光
照射により初期化を行うことを特徴とする方法からな
る。
【０００９】本発明方法は、レーザ光を用いて初期化を
行う光記録媒体であれば、いずれのタイプの光記録媒体
にも適用可能であるが、とくに相変化型光記録媒体に好
適である。
行う光記録媒体であれば、いずれのタイプの光記録媒体
にも適用可能であるが、とくに相変化型光記録媒体に好
適である。
【００１０】このような方法においては、従来の工程順
とは異なり、先に基板上に記録層等の成膜が行われ、そ
の後にハードコート層を形成するための光硬化性樹脂が
基板の上記成膜面とは反対面上に塗布される。光硬化性
樹脂として例えば紫外線硬化性樹脂などを用いることが
できる。塗布後に光照射により塗布樹脂が硬化される
が、このとき照射される光を利用して、記録層が一部結
晶化される。この一部結晶化により、所定の結晶化のた
めの核ができる。しかる後に、レーザ光照射により全面
が所定レベルまで結晶化され、目標とする初期化が行わ
れる。この初期化の際には、既に結晶化のための核が生
成されているので、従来と同じパワーのレーザ光であれ
ば、所定レベルの結晶化を達成するまでの時間が短縮さ
れ、その分レーザ光照射位置の移動速度を速めることが
可能となる。したがって、初期化工程を高速化すること
が可能となる。また、移動速度が従来と同じであれば、
照射レーザ光のパワーを弱めることが可能となる。さら
に、初期化工程の高速化とパワーダウンの両方を達成す
ることも可能である。
とは異なり、先に基板上に記録層等の成膜が行われ、そ
の後にハードコート層を形成するための光硬化性樹脂が
基板の上記成膜面とは反対面上に塗布される。光硬化性
樹脂として例えば紫外線硬化性樹脂などを用いることが
できる。塗布後に光照射により塗布樹脂が硬化される
が、このとき照射される光を利用して、記録層が一部結
晶化される。この一部結晶化により、所定の結晶化のた
めの核ができる。しかる後に、レーザ光照射により全面
が所定レベルまで結晶化され、目標とする初期化が行わ
れる。この初期化の際には、既に結晶化のための核が生
成されているので、従来と同じパワーのレーザ光であれ
ば、所定レベルの結晶化を達成するまでの時間が短縮さ
れ、その分レーザ光照射位置の移動速度を速めることが
可能となる。したがって、初期化工程を高速化すること
が可能となる。また、移動速度が従来と同じであれば、
照射レーザ光のパワーを弱めることが可能となる。さら
に、初期化工程の高速化とパワーダウンの両方を達成す
ることも可能である。
【００１１】また、光照射による一部結晶化により、細
かく分散した核が生成されているので、初期化において
は各核を中心に結晶粒が迅速に生成され、初期化後の結
晶粒径が非常に小さくコントロールされることになり、
しかもそれらが細かく均一に分散している状態となる。
その結果、必要なエリア全面にわたって、より均一な初
期化が可能となる。この光照射の光源には、通常、高圧
水銀ランプを使用する。この場合、主に３６５ｎｍ波長
の光や、その他３０３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光で構
成されている。もちろん、本発明の効果はここで規定さ
れる光に限定されないことは言うまでもない。
かく分散した核が生成されているので、初期化において
は各核を中心に結晶粒が迅速に生成され、初期化後の結
晶粒径が非常に小さくコントロールされることになり、
しかもそれらが細かく均一に分散している状態となる。
その結果、必要なエリア全面にわたって、より均一な初
期化が可能となる。この光照射の光源には、通常、高圧
水銀ランプを使用する。この場合、主に３６５ｎｍ波長
の光や、その他３０３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光で構
成されている。もちろん、本発明の効果はここで規定さ
れる光に限定されないことは言うまでもない。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の望ましい実施の
形態について、図面を参照して説明する。本発明に係る
光記録媒体としては、光を用いてデータを書き込むもの
または記録部位各部の光学的性質（光反射率、分光反射
率、反射光の光偏波状態など）の変化または差異に基づ
いてデータの読取りを行うものであればよく、光磁気記
録媒体、相変化型光記録媒体などの追記型または書換可
能型の光記録媒体などが用いられるが、本発明は、とく
に相変化型光記録媒体に好適である。
形態について、図面を参照して説明する。本発明に係る
光記録媒体としては、光を用いてデータを書き込むもの
または記録部位各部の光学的性質（光反射率、分光反射
率、反射光の光偏波状態など）の変化または差異に基づ
いてデータの読取りを行うものであればよく、光磁気記
録媒体、相変化型光記録媒体などの追記型または書換可
能型の光記録媒体などが用いられるが、本発明は、とく
に相変化型光記録媒体に好適である。
【００１３】相変化型光記録媒体は、通常透明な基板上
に記録層を設けたものであり、記録層構成に、レーザ光
により結晶とアモルファスとの可逆変化が可能な特定の
金属が用いられている。基板上の層構成としては、たと
えば、透明な基板上に、少なくとも第１保護層／記録層
／第２保護層／反射層を有する層構成とすることができ
る。
に記録層を設けたものであり、記録層構成に、レーザ光
により結晶とアモルファスとの可逆変化が可能な特定の
金属が用いられている。基板上の層構成としては、たと
えば、透明な基板上に、少なくとも第１保護層／記録層
／第２保護層／反射層を有する層構成とすることができ
る。
【００１４】相変化型光記録媒体の記録層には、たとえ
ば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合金、およびこれら
を主成分とする合金が用いられる。とくにＴｅ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金
が、記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり難く、さ
らに熱安定性が優れているので好ましい。とくに望まし
い記録膜組成としては、たとえば次式で表される範囲に
あることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点か
ら好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）
y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属、Ｓｂはアンチモ
ン、Ｔｅはテルル、Ｇｅはゲルマニウムを表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。この場合ｚは０．
０００５以上であることが好ましい。これら合金を、基
板上に設けられた第１保護層上に、たとえばスパッタリ
ングで膜付けし、記録層が形成される。
ば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合金、およびこれら
を主成分とする合金が用いられる。とくにＴｅ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金
が、記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり難く、さ
らに熱安定性が優れているので好ましい。とくに望まし
い記録膜組成としては、たとえば次式で表される範囲に
あることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点か
ら好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）
y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属、Ｓｂはアンチモ
ン、Ｔｅはテルル、Ｇｅはゲルマニウムを表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。この場合ｚは０．
０００５以上であることが好ましい。これら合金を、基
板上に設けられた第１保護層上に、たとえばスパッタリ
ングで膜付けし、記録層が形成される。
【００１５】第１保護層および第２保護層は、記録層を
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
【００１６】反射層としては、金属または、金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、た
とえばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、た
とえばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
【００１７】基板上に、第１保護層、記録層、第２保護
層、反射層を形成する方法としては、真空雰囲気中での
薄膜形成方法、たとえばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法などを用いることができ
る。特に組成、膜厚のコントロールが容易なことからス
パッタリング法が好ましい。
層、反射層を形成する方法としては、真空雰囲気中での
薄膜形成方法、たとえばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法などを用いることができ
る。特に組成、膜厚のコントロールが容易なことからス
パッタリング法が好ましい。
【００１８】基板としては、基板側から記録再生を行う
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
【００１９】基板は、円盤体に成形されるものである。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
【００２０】基板の大きさは、光記録媒体ドライブ装置
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍや１２０ｍｍあるいは１３０ｍｍの基板に成形
することなどが規定される。
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍや１２０ｍｍあるいは１３０ｍｍの基板に成形
することなどが規定される。
【００２１】このような基板上に、順に、少なくとも第
１保護層／記録層／第２保護層／反射層が積層される。
この反射層の上に、さらに有機樹脂保護層を設けてもよ
い。有機樹脂保護層としては、重合性モノマーおよびオ
リゴマーを主成分とする光硬化性樹脂組成物や、熱硬化
性樹脂組成物を用いることができる。
１保護層／記録層／第２保護層／反射層が積層される。
この反射層の上に、さらに有機樹脂保護層を設けてもよ
い。有機樹脂保護層としては、重合性モノマーおよびオ
リゴマーを主成分とする光硬化性樹脂組成物や、熱硬化
性樹脂組成物を用いることができる。
【００２２】上記第１保護層／記録層／第２保護層／反
射層は、たとえば、図１に示すようにスパッタリングに
より成膜される。成形された基板１を、たとえば回転さ
せながら、その一面１ａ上に、ターゲット２から飛翔し
てきた前述の如き金属や合金で膜付けし、所定の成膜を
行う。このスパッタリングは、真空室３や減圧室内で行
われる。
射層は、たとえば、図１に示すようにスパッタリングに
より成膜される。成形された基板１を、たとえば回転さ
せながら、その一面１ａ上に、ターゲット２から飛翔し
てきた前述の如き金属や合金で膜付けし、所定の成膜を
行う。このスパッタリングは、真空室３や減圧室内で行
われる。
【００２３】基板１の一面上に成膜した後、図２に示す
ように、基板１の上記成膜とは反対面１ｂ上に、ハード
コート用樹脂として紫外線硬化性樹脂４が、たとえばス
ピンコート法により塗布される。したがってこの段階で
は、光記録媒体は、図３に示すような層構成を有してい
る。つまり、基板１の一面１ａ上には記録層を含むスパ
ッタ膜５が成膜されており、反対面１ｂ上には、紫外線
硬化性樹脂４からなるハードコート形成層６が塗布され
た層構成である。
ように、基板１の上記成膜とは反対面１ｂ上に、ハード
コート用樹脂として紫外線硬化性樹脂４が、たとえばス
ピンコート法により塗布される。したがってこの段階で
は、光記録媒体は、図３に示すような層構成を有してい
る。つまり、基板１の一面１ａ上には記録層を含むスパ
ッタ膜５が成膜されており、反対面１ｂ上には、紫外線
硬化性樹脂４からなるハードコート形成層６が塗布され
た層構成である。
【００２４】このハードコート形成層６が紫外線照射に
よって硬化される。図４に示すように、たとえば紫外線
照射ランプ７から紫外線が照射され、ハードコート形成
層６が硬化されてハードコート層となる。
よって硬化される。図４に示すように、たとえば紫外線
照射ランプ７から紫外線が照射され、ハードコート形成
層６が硬化されてハードコート層となる。
【００２５】この紫外線照射の際には、上記の樹脂硬化
とともに、透明な基板１を透過して記録層に至る紫外線
により、記録層が一部結晶化される。この一部結晶化と
は、後の初期化による結晶化までには至らないが、その
結晶化のための核を生成するものである。紫外線は、全
面にわたって照射されるから、記録層全面にわたって、
細かく分散した結晶化のための核が生成される。
とともに、透明な基板１を透過して記録層に至る紫外線
により、記録層が一部結晶化される。この一部結晶化と
は、後の初期化による結晶化までには至らないが、その
結晶化のための核を生成するものである。紫外線は、全
面にわたって照射されるから、記録層全面にわたって、
細かく分散した結晶化のための核が生成される。
【００２６】このような核が生成された状態で、初期化
に供される。初期化は、図５に示すように、予め設定さ
れたパワーのレーザ光８を光記録媒体９のハードコート
層を設けた面９ｂから透明基板を通して記録層形成面９
ａに照射することによって、行われる。光記録媒体９を
回転させながら初期化するが、所定のエリア全面にわた
って初期化するために、レーザ光８は、通常、径方向に
走査される。
に供される。初期化は、図５に示すように、予め設定さ
れたパワーのレーザ光８を光記録媒体９のハードコート
層を設けた面９ｂから透明基板を通して記録層形成面９
ａに照射することによって、行われる。光記録媒体９を
回転させながら初期化するが、所定のエリア全面にわた
って初期化するために、レーザ光８は、通常、径方向に
走査される。
【００２７】この初期化においては、前記紫外線照射に
より既に細かく分散された結晶化のための核が生成され
ているので、該核を中心（起点）として、迅速に結晶粒
が生成され、所定の初期化が行われる。結晶粒は細かく
分散した核毎に生成されるから、各結晶粒は小さく形成
され、粒径の小さな結晶粒が均一に分散生成されること
になる。
より既に細かく分散された結晶化のための核が生成され
ているので、該核を中心（起点）として、迅速に結晶粒
が生成され、所定の初期化が行われる。結晶粒は細かく
分散した核毎に生成されるから、各結晶粒は小さく形成
され、粒径の小さな結晶粒が均一に分散生成されること
になる。
【００２８】また、初期化における結晶化は、事前に核
が生成されているから、従来の核が生成されていない状
態から行う場合に比べ、短時間で所望の結晶化状態まで
進められる。したがって、レーザ光のパワーを従来と同
じパワーとすると、レーザ光の走査速度を速めることが
でき、所定の初期化を完了するまでの時間が短縮され
る。初期化に要する時間を同じにすると、レーザ光のパ
ワーを低下させることができる。また、初期化の時間短
縮とレーザ光のパワー低下の両方を達成することも可能
である。
が生成されているから、従来の核が生成されていない状
態から行う場合に比べ、短時間で所望の結晶化状態まで
進められる。したがって、レーザ光のパワーを従来と同
じパワーとすると、レーザ光の走査速度を速めることが
でき、所定の初期化を完了するまでの時間が短縮され
る。初期化に要する時間を同じにすると、レーザ光のパ
ワーを低下させることができる。また、初期化の時間短
縮とレーザ光のパワー低下の両方を達成することも可能
である。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体の製造方法によるときは、基板上に記録層を成膜した
後に基板の反対面に光硬化性樹脂を塗布し、該樹脂硬化
のための光照射を利用して、記録層を先に一部結晶化さ
せてから正規の初期化を行うようにしたので、初期化工
程を高速化でき、また、初期化のためのレーザ光のパワ
ー低下も可能となる。また、レーザ光の移動速度を速く
しても、初期化後の記録層の結晶粒径を小さくすること
ができ、より均一に所望の初期化を達成することができ
る。
体の製造方法によるときは、基板上に記録層を成膜した
後に基板の反対面に光硬化性樹脂を塗布し、該樹脂硬化
のための光照射を利用して、記録層を先に一部結晶化さ
せてから正規の初期化を行うようにしたので、初期化工
程を高速化でき、また、初期化のためのレーザ光のパワ
ー低下も可能となる。また、レーザ光の移動速度を速く
しても、初期化後の記録層の結晶粒径を小さくすること
ができ、より均一に所望の初期化を達成することができ
る。
【図１】成膜の様子を示す概略構成図である。
【図２】成膜後のハードコート用樹脂塗布の様子を示す
概略構成図である。
概略構成図である。
【図３】樹脂塗布後の光記録媒体の層構成を示す概略断
面図である。
面図である。
【図４】塗布樹脂の硬化の様子を示す概略構成図であ
る。
る。
【図５】初期化の様子を示す概略構成図である。
１ 基板 １ａ 基板の記録層形成面 １ｂ 基板の反対面 ２ ターゲット ３ 真空室 ４ 紫外線硬化性樹脂（光硬化性樹脂） ５ スパッタ膜 ６ ハードコート形成層 ７ 紫外線照射ランプ ８ レーザ光 ９ 光記録媒体 ９ａ ハードコート層を設けた面 ９ｂ 記録層を設けた面
Claims (2)
- 【請求項１】 基板の一面上に記録層を成膜後、基板の
反対面上に光硬化性樹脂を塗布し、光照射により前記光
硬化性樹脂を硬化させるとともに前記記録層を一部結晶
化させ、しかる後に、レーザ光照射により初期化を行う
ことを特徴とする、光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 前記光記録媒体が相変化型光記録媒体で
ある、請求項１の光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19145496A JPH1021587A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19145496A JPH1021587A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1021587A true JPH1021587A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=16274909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19145496A Pending JPH1021587A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1021587A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001037196A3 (en) * | 1999-11-16 | 2001-11-22 | Polaroid Corp | System and method for initializing phase change recording media |
-
1996
- 1996-07-02 JP JP19145496A patent/JPH1021587A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001037196A3 (en) * | 1999-11-16 | 2001-11-22 | Polaroid Corp | System and method for initializing phase change recording media |
| US6587429B1 (en) | 1999-11-16 | 2003-07-01 | Polaroid Corporation | System and method for initializing phase change recording media |
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