JPH10213522A - Substrate inspection device - Google Patents

Substrate inspection device

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JPH10213522A
JPH10213522A JP1530897A JP1530897A JPH10213522A JP H10213522 A JPH10213522 A JP H10213522A JP 1530897 A JP1530897 A JP 1530897A JP 1530897 A JP1530897 A JP 1530897A JP H10213522 A JPH10213522 A JP H10213522A
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substrate
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focusing
timing
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卓 佐藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform stable substrate observation even if the vibration of a substrate is not sufficiently controlled by always displaying a substrate image having a high focusing degree at the time of outputting a timing signal in the manufacturing prosess for a large substrate such as a liquid crystal display. SOLUTION: When the focusing mechanism of an optical microscope 1 is fixed in a reference focus position for the observed surface of a sample, the wave form 35 of a focusing signal is displayed based on a positional relationship between an objective lens and a vibrated glass board. An image fetching trigger signal 36 is produced matching a focusing time appearing in the focusing signal 35 fetched by a timing generator, an image from a photographing device 3 is fetched in an image storage device 4 by the timing of the trigger signal 36 and this stored image is displayed and thus a still image having a high focusing degree is obtained to be used for observation of the substrate. Thus, even for observation of high magnification where the vibration of the glass board is not suppressed, since the image at the time of focusing is displayed as a still image, stable substrate observation is performed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
(LCD)やプラズマディスプレイパネル(PDP)等
の基板の製造工程に用いられる基板検査装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate inspection apparatus used in a process of manufacturing a substrate such as a liquid crystal display (LCD) and a plasma display panel (PDP).

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ディスプレイ等のデバイスの製造工
程に用いられるガラス基板は、近年のサイズの大型化・
薄型化に伴って益々たわみやすくなっており、また、ダ
ウンフロー方式のクリーンルーム内での取扱いにおいて
は振動の影響を受けることもある。
2. Description of the Related Art Glass substrates used in the manufacturing process of devices such as liquid crystal displays have recently been increasing in size.
It becomes more and more flexible as the device is made thinner, and may be affected by vibration when handled in a downflow type clean room.

【0003】このようなガラス基板の検査装置におい
て、顕微鏡による高倍率の観察を行う場合には、特に振
動の影響を受けやすく、安定した観察が困難になること
がある。
[0003] In such a glass substrate inspection apparatus, when performing high-magnification observation with a microscope, it is particularly susceptible to vibration, and stable observation may be difficult.

【0004】従来は、ガラス基板が振動しないように保
持することで、高倍率での安定した観察を実現してい
る。例えばガラス基板を広い面積にわたって真空吸着す
ることで、振動を抑制するなどの方法がある。
Conventionally, stable observation at high magnification has been realized by holding the glass substrate so as not to vibrate. For example, there is a method of suppressing vibration by vacuum-adsorbing a glass substrate over a large area.

【0005】図6は従来のガラス基板保持装置の概略構
成を示す図である。このガラス基板保持装置において
は、ガラス基板載置台101上面のガラス基板支持部1
02上にガラス基板103が載せられる。
FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional glass substrate holding device. In this glass substrate holding device, the glass substrate support 1 on the upper surface of the glass substrate mounting table 101
The glass substrate 103 is placed on the substrate 02.

【0006】ガラス基板支持部102に載置されたガラ
ス基板103は、ガラス基板搬送装置挿入空間104の
底部に設けられた透過照明装置105により照明され、
図示しない観察手段により撮像されて、その画像が観察
に供される。
The glass substrate 103 placed on the glass substrate support 102 is illuminated by a transmission illumination device 105 provided at the bottom of a glass substrate transfer device insertion space 104,
An image is taken by an observation means (not shown), and the image is provided for observation.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】図6に示すような装置
の場合、ガラス基板103をガラス基板載置台101に
載置するためのアームを格納し、また、透過照明装置1
04により十分にガラス基板103を観察できるように
するために、ガラス基板搬送装置挿入空間104を設け
る必要がある。
In the case of the apparatus as shown in FIG. 6, an arm for mounting the glass substrate 103 on the glass substrate mounting table 101 is housed.
In order to allow the glass substrate 103 to be sufficiently observed with the use of the glass substrate 104, it is necessary to provide the glass substrate transfer device insertion space 104.

【0008】しかしながら、このような空間104を設
けた場合、ガラス基板103を広い面積にわたって保持
できる構成をとることが困難な場合があり、ガラス基板
103の振動を十分に抑制することができないという問
題がある。
However, when such a space 104 is provided, it may be difficult to adopt a configuration capable of holding the glass substrate 103 over a wide area, and the vibration of the glass substrate 103 cannot be sufficiently suppressed. There is.

【0009】また、このような場合に、ガラス基板を十
分に保持すべく真空吸着すると、静電破壊等の弊害を生
じることがある。本発明は、このような実情を考慮して
なされたもので、液晶ディスプレイ等の大型の基板の製
造工程において、たとえ基板の振動を十分に抑制できな
い場合においても安定した基板観察を可能とする基板検
査装置を提供することを目的とする。
In such a case, if vacuum suction is performed to sufficiently hold the glass substrate, adverse effects such as electrostatic breakdown may occur. The present invention has been made in view of such circumstances, and in a manufacturing process of a large-sized substrate such as a liquid crystal display, a substrate that enables stable substrate observation even when vibration of the substrate cannot be sufficiently suppressed. It is an object to provide an inspection device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に対応する発明は、フラットディスプレイ
や半導体素子等のデバイスの製造工程で用いられる大型
基板を検査する基板検査装置において、撮像手段と、基
板の像を撮像手段の撮像面にて結像させる顕微鏡手段
と、基板像を合焦させるように顕微鏡手段を制御し、合
焦位置固定後に基板像の合焦程度を示す合焦信号を出力
する合焦手段と、撮像手段により撮像される基板像の画
像信号を記憶する画像記憶手段と、画像記憶手段に記憶
された画像信号を表示する表示手段と、合焦手段からの
合焦信号に基づき、基板像の合焦程度が高くなるタイミ
ングに合せて、画像記憶手段に対し撮像手段からの画像
信号を取り込むタイミング信号を出力するタイミング発
生手段とを備えた基板検査装置である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection apparatus for inspecting a large substrate used in a process of manufacturing a device such as a flat display or a semiconductor element. The imaging means, the microscope means for forming an image of the substrate on the imaging surface of the imaging means, and the microscope means for controlling the substrate image so as to be in focus. A focusing unit that outputs a focus signal; an image storage unit that stores an image signal of a board image captured by the imaging unit; a display unit that displays an image signal stored in the image storage unit; Timing generating means for outputting a timing signal for capturing an image signal from the imaging means to the image storage means in accordance with a timing at which the degree of focusing of the substrate image becomes high based on the focusing signal. An inspection apparatus.

【0011】また、請求項2に対応する発明は、請求項
1に対応する発明において、基板像の合焦程度が高くな
るタイミングの周期を検出し、撮像手段におけるシャッ
タータイミングを、この検出された周期に基づき制御す
る制御手段を備えた基板検査装置である。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, a period of a timing at which the degree of focusing of the substrate image becomes high is detected, and a shutter timing in the imaging means is detected. This is a substrate inspection apparatus provided with a control unit that performs control based on a cycle.

【0012】さらに、請求項3に対応する発明は、請求
項2に対応する発明において、制御手段は、シャッター
タイミングの周期が検出された周期よりも短くなるよう
に制御する基板検査装置である。(作用)したがって、
まず、請求項1に対応する発明の基板検査装置において
は、撮像手段により、基板像が撮像されている。
Further, the invention corresponding to claim 3 is the substrate inspection apparatus according to claim 2, wherein the control means controls the shutter timing so as to be shorter than the detected cycle. (Action) Therefore,
First, in the substrate inspection apparatus according to the first aspect of the present invention, a substrate image is captured by the imaging unit.

【0013】この基板像は、顕微鏡手段により所定の大
きさに拡大され、撮像手段の撮像面にて結像される。こ
の結像に際し、合焦手段による合焦がなされ、その合焦
位置が固定される。
This substrate image is enlarged to a predetermined size by the microscope means, and is formed on the imaging surface of the imaging means. At the time of this image formation, focusing is performed by focusing means, and the focus position is fixed.

【0014】ここで、基板が振動している場合には、一
旦合焦されたものの真の合焦点付近で基板位置が上下す
ることとなり、画像にぶれが生じて安定した観察が困難
になる。
Here, when the substrate is vibrating, although the substrate is focused once, the position of the substrate moves up and down near the true focal point, and the image is blurred and stable observation becomes difficult.

【0015】これを防止すべく、以下の処理が行われ
る。すなわちまず、合焦手段からは、合焦位置固定後に
基板像の合焦程度を示す合焦信号が出力される。
In order to prevent this, the following processing is performed. That is, first, after the focusing position is fixed, the focusing unit outputs a focusing signal indicating the degree of focusing of the substrate image.

【0016】この合焦信号に基づき、タイミング発生手
段からは基板像の合焦程度が高くなるタイミングに合せ
て、タイミング信号が出力される。このタイミング信号
が画像記憶手段に入力されると、画像記憶手段は撮像手
段からの画像信号を取り込むこととなる。
Based on the focus signal, a timing signal is output from the timing generation means in accordance with the timing at which the degree of focus of the substrate image becomes higher. When this timing signal is input to the image storage means, the image storage means takes in the image signal from the imaging means.

【0017】そして、表示手段は、画像記憶手段に記憶
された画像信号を表示するようになっているので、当該
表示手段からは、タイミング信号が出力された時点の合
焦程度の高い基板画像が常に表示されることとなる。
Since the display means displays the image signal stored in the image storage means, the display means displays a substrate image having a high degree of focus at the time when the timing signal is output. It will always be displayed.

【0018】また、請求項2に対応する発明の基板検査
装置においては、請求項1に対応する発明と同様に作用
する他、基板像の合焦程度が高くなるタイミングの周期
を検出し、撮像手段におけるシャッタータイミングを、
この検出された周期に基づき制御する。したがって、よ
り確実に合焦程度の高い基板画像がぶれを生じることな
く表示される。
Further, the substrate inspection apparatus according to the second aspect of the present invention operates in the same manner as the first aspect of the present invention, and detects the period of the timing at which the degree of focusing of the substrate image becomes high, and captures the image. Shutter timing in the means
Control is performed based on the detected cycle. Therefore, a substrate image with a high degree of focus can be displayed more reliably without blurring.

【0019】さらに、請求項3に対応する発明の基板検
査装置においては、請求項2に対応する発明と同様に作
用する他、制御手段は、シャッタータイミングの周期が
検出された周期よりも短くなるように制御する。
Further, in the substrate inspection apparatus according to the third aspect of the present invention, in addition to the same operation as the second aspect of the invention, the control means makes the cycle of the shutter timing shorter than the detected cycle. Control.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。 (発明の第1の実施の形態)図1は本発明の第1の実施
の形態に係る基板検査装置の一例を示す構成図である。
Embodiments of the present invention will be described below. (First Embodiment of the Invention) FIG. 1 is a block diagram showing an example of a substrate inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【0021】この基板検査装置は、液晶ディスプレイ製
造工程に供給されるガラス基板8を検査する装置であ
り、図1に示すように、自動合焦手段を有する光学顕微
鏡1と、自動合焦制御装置2と、高速のシャッター機能
を有する撮像装置3とを備えている。さらに、基板検査
装置は、この撮像装置3により得られた光学顕微鏡1の
観察像の画像信号を記憶する画像記憶装置4と、画像記
憶装置4により記憶された画像信号を表示する表示装置
5と、自動合焦制御装置2の合焦信号を用いて画像記憶
装置4へ画像信号を取り込むタイミングを生成するタイ
ミング発生器6と、各部を制御しその動作を調整する制
御装置7とによって構成されている。
This substrate inspection apparatus is an apparatus for inspecting a glass substrate 8 supplied to a liquid crystal display manufacturing process. As shown in FIG. 1, an optical microscope 1 having automatic focusing means, and an automatic focusing control apparatus 2 and an imaging device 3 having a high-speed shutter function. Further, the board inspection device includes an image storage device 4 that stores an image signal of an observation image of the optical microscope 1 obtained by the imaging device 3, a display device 5 that displays the image signal stored by the image storage device 4, A timing generator 6 for generating a timing for fetching an image signal into the image storage device 4 by using a focusing signal of the automatic focusing control device 2, and a control device 7 for controlling each part and adjusting the operation thereof. I have.

【0022】ここで、自動合焦制御装置2は、自動合焦
手段を制御し、基準合焦位置を記憶可能に構成されてい
る。また、撮像装置3はCCDカメラ等からなり、その
シャッター機能はいわゆる電子シャッターによるもので
ある。
Here, the automatic focusing control device 2 is configured to control the automatic focusing means and to store the reference focusing position. The imaging device 3 is composed of a CCD camera or the like, and its shutter function is based on a so-called electronic shutter.

【0023】次に、以上のように構成された本発明の実
施の形態に係る基板検査装置の動作について説明する。
まず、試料であるガラス基板8が、図示しないガラス基
板保持装置上で振動する場合には、図2に示すように、
主に光学顕微鏡の準焦方向に振動する。
Next, the operation of the substrate inspection apparatus according to the embodiment of the present invention configured as described above will be described.
First, when the glass substrate 8 as a sample vibrates on a glass substrate holding device (not shown), as shown in FIG.
Vibrates mainly in the focusing direction of the optical microscope.

【0024】図2はガラス基板保持装置上でガラス基板
が振動する様子を示す図である。光学顕微鏡1の自動合
焦手段を用いた合焦動作は、通常は、試料の観察面に対
して光学顕微鏡の準焦機構を機械的に作動させ、合焦し
た旨の信号を検出した時点で準焦機構の作動を停止させ
る。この準焦機構の位置を基準合焦位置とする。また、
ガラス基板8が振動していてもこの基準合焦位置ではあ
る程度の合焦はなされており、この状態で自動合焦制御
装置2から出力される信号を単に合焦信号ともいう。な
お、自動合焦手段による合焦は、種々の方法が考えられ
るが、本実施形態においてはコントラスト値を用いた方
法で行われる。
FIG. 2 is a view showing a state in which the glass substrate vibrates on the glass substrate holding device. The focusing operation using the automatic focusing means of the optical microscope 1 is usually performed when the focusing mechanism of the optical microscope is mechanically operated on the observation surface of the sample and a signal indicating that the focusing is performed is detected. The operation of the focusing mechanism is stopped. The position of this focusing mechanism is defined as a reference focusing position. Also,
Even when the glass substrate 8 is vibrating, a certain degree of focusing has been performed at this reference focusing position, and a signal output from the automatic focusing control device 2 in this state is also simply referred to as a focusing signal. Various methods can be used for focusing by the automatic focusing unit. In the present embodiment, focusing is performed by a method using a contrast value.

【0025】本実施形態では、観察時に試料であるガラ
ス基板8が振動している場合を考える。図2(a)に示
すように、光学顕微鏡の対物レンズ31に対し、観察対
象となるガラス基板8は、振動により下方向へたわんだ
状態32、振幅の中心にある状態33、振動により上方
向へたわんだ状態34を繰り返すことになる。
In the present embodiment, a case is considered where the glass substrate 8 as a sample is vibrating during observation. As shown in FIG. 2A, the glass substrate 8 to be observed is bent downward 32 due to vibration, placed at the center 33 of the amplitude, and moved upward due to vibration with respect to the objective lens 31 of the optical microscope. The sagging state 34 is repeated.

【0026】したがって、光学顕微鏡1の準焦機構を試
料の観察面に対する基準合焦位置に固定した状態にする
と、対物レンズ31と,振動するガラス基板8/32/
33/34との位置関係により決まる合焦信号の波形3
5は同図2(b)に示すようになる。
Therefore, when the focusing mechanism of the optical microscope 1 is fixed at the reference focusing position with respect to the observation surface of the sample, the objective lens 31 and the vibrating glass substrate 8/32 /
Focus signal waveform 3 determined by the positional relationship with 33/34
5 is as shown in FIG.

【0027】ここで、ガラス基板8/32/33/34
は準焦方向に往復運動するので、自動合焦制御装置2に
最も合焦する時点は、図3に示すように、ガラス基板8
の振動周期の2分の1の間隔で現れる。つまり、合焦程
度が高くなるタイミングの周期はガラス基板8の振動周
期の2分の1である。
Here, the glass substrate 8/32/33/34
Reciprocates in the quasi-focusing direction, the point at which the automatic focusing control device 2 is most focused is, as shown in FIG.
Appear at an interval of one half of the oscillation period of. That is, the period of the timing at which the degree of focusing becomes high is one half of the vibration period of the glass substrate 8.

【0028】図3は合焦信号の波形及び合焦信号に同期
して生成された画像取り込みトリガー信号の波形例を示
す図である。光学顕微鏡1における基準合焦位置固定
後、自動合焦制御装置2から同図3(a)に示すような
合焦信号の波形35がタイミング発生器6へ取り込まれ
る。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a waveform of a focus signal and a waveform of an image capture trigger signal generated in synchronization with the focus signal. After fixing the reference focus position in the optical microscope 1, a waveform 35 of a focus signal as shown in FIG. 3A is taken into the timing generator 6 from the automatic focus control device 2.

【0029】タイミング発生器6においては、取り込ま
れた合焦信号35にて周期的に現れる上記合焦時点に合
せ、画像取り込みトリガー信号36が生成される。すな
わち合焦信号が画像信号取り込みトリガーに適した信号
形態に変換され、合焦時点で出力されるトリガー信号3
6となる。
In the timing generator 6, an image capture trigger signal 36 is generated in accordance with the in-focus time periodically appearing in the captured focus signal 35. That is, the focus signal is converted into a signal form suitable for the trigger for capturing the image signal, and the trigger signal 3 output at the time of focusing
It becomes 6.

【0030】タイミング発生器6からトリガー信号36
を受けた画像記憶装置4は、その時点における撮像装置
3からの画像信号を記憶し、表示装置5に表示する。画
像取り込みトリガー信号36によって取り込まれた観察
像は、画像記憶装置4により、次の画像取り込みトリガ
ー信号が入力されるまで表示装置5に静止画像として表
示される。すなわち、画像取り込みトリガー信号36が
入力されるたびに、表示装置5の静止画像は更新され
る。
The trigger signal 36 from the timing generator 6
The image storage device 4 that has received the image signal stores the image signal from the imaging device 3 at that time and displays it on the display device 5. The observation image captured by the image capture trigger signal 36 is displayed as a still image on the display device 5 by the image storage device 4 until the next image capture trigger signal is input. That is, each time the image capture trigger signal 36 is input, the still image on the display device 5 is updated.

【0031】なお、本実施形態の撮像装置3に用いた高
速シャッターは60Hz程度であり、本実施形態の場合
のガラス基板8の振動は通常は40Hz程度以下である
ので、画像取り込みトリガー信号36に合せて十分に合
焦された画像を取り込むことができる。
The high-speed shutter used in the image pickup apparatus 3 of the present embodiment is about 60 Hz, and the vibration of the glass substrate 8 in this embodiment is usually about 40 Hz or less. A well-focused image can be captured.

【0032】上述したように、本発明の実施の形態に係
る基板検査装置は、タイミング発生器6により、取り込
まれた合焦信号の波形35にて現れる合焦時点に合せ
て、画像取り込みトリガー信号36を生成し、このトリ
ガー信号36のタイミングで撮像装置3からの画像を画
像記憶装置4に取り込み、この記憶された画像を表示す
るようにしたので、基板の観察用として合焦程度の高い
静止画像を得ることができる。
As described above, in the board inspection apparatus according to the embodiment of the present invention, the timing generator 6 adjusts the image capture trigger signal in accordance with the focus point that appears in the waveform 35 of the captured focus signal. 36, the image from the imaging device 3 is taken into the image storage device 4 at the timing of the trigger signal 36, and the stored image is displayed. Images can be obtained.

【0033】したがって、ガラス基板の振動が抑制でき
ない場合の高倍率の観察においても、合焦した時点での
画像が静止画像として表示装置上に表示されるため、安
定した基板観察をすることができる。 (発明の第2の実施の形態)図4は本発明の第2の実施
の形態に係る基板検査装置の一例を示す構成図であり、
図1と同一部分には同一符号を付して説明を省略し、こ
こでは異なる部分についてのみ述べる。
Therefore, even in high-magnification observation when vibration of the glass substrate cannot be suppressed, the image at the time of focusing is displayed as a still image on the display device, so that stable substrate observation can be performed. . (Second Embodiment of the Invention) FIG. 4 is a block diagram showing an example of a substrate inspection apparatus according to a second embodiment of the present invention.
The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0034】この基板検査装置においては、第1の実施
形態と同様に構成された光学顕微鏡1、自動合焦制御装
置2、撮像装置3、表示装置5、タイミング発生器6´
及び画像記憶装置4´が設けられる他、シャッター切換
器43、周波数カウンタ45及び制御装置7が設けられ
構成されている。なお、本実施形態では、ガラス基板8
を保持するガラス基板保持装置41及びガラス基板保持
制御装置42が図示されている。
In this board inspection device, the optical microscope 1, the automatic focusing control device 2, the imaging device 3, the display device 5, and the timing generator 6 'configured in the same manner as in the first embodiment.
And an image storage device 4 ', a shutter switch 43, a frequency counter 45, and a control device 7 are provided. In this embodiment, the glass substrate 8
A glass substrate holding device 41 and a glass substrate holding control device 42 for holding the substrate are shown.

【0035】なお、自動合焦制御装置2、タイミング発
生器6´、周波数カウンタ45、ガラス基板保持制御装
置42、シャッター切換器43、表示切換器44はデー
タの受け渡しのために、制御装置7のデータバスライン
46に接続されている。
Note that the automatic focusing control device 2, the timing generator 6 ', the frequency counter 45, the glass substrate holding control device 42, the shutter switching device 43, and the display switching device 44 are connected to the control device 7 for data transfer. It is connected to a data bus line 46.

【0036】シャッター切換器43は、撮像装置3のシ
ャッター機能におけるシャッター速度を切り換えるよう
になっている。なお、その切り換え制御は制御装置7に
よる指令に基づいて行われる。
The shutter switch 43 switches a shutter speed in a shutter function of the image pickup device 3. The switching control is performed based on a command from the control device 7.

【0037】画像記憶装置4´は、画像記憶部49と表
示切換器44とからなっている。このうち、画像記憶部
49は、タイミング発生器6´からの画像取り込みトリ
ガー信号53を受けるとそのとき撮像装置3から出力さ
れている画像信号を取り込み記憶する。また、この取り
込まれた画像信号を次の画像取り込みトリガー信号53
を受けるまで、表示切換器44に出力する。
The image storage device 4 'comprises an image storage section 49 and a display switch 44. When the image storage unit 49 receives the image capture trigger signal 53 from the timing generator 6 ′, the image storage unit 49 captures and stores the image signal output from the imaging device 3 at that time. Further, the captured image signal is transmitted to the next image capturing trigger signal 53.
Until the display switch 44 is received.

【0038】表示切換器44は、画像記憶部49からの
画像信号及び撮像装置3から直接の画像信号の両信号の
何れかを表示装置5に表示出力する。両信号の切り換え
は制御装置7からの表示選択信号に基づき行う。
The display switching unit 44 outputs to the display device 5 either the image signal from the image storage unit 49 or the image signal directly from the imaging device 3. Switching between the two signals is performed based on a display selection signal from the control device 7.

【0039】ガラス基板保持装置41は、ガラス基板8
を保持するとともに、光学顕微鏡1の観察可能視野に合
わせガラス基板8の位置を変更可能に構成されている。
このガラス基板保持装置41の動作を制御するために、
ガラス基板保持制御装置42が設けられ、ガラス基板保
持装置41の位置の情報は座標データとしてガラス基板
保持制御装置42により管理される。また、この座標デ
ータはガラス基板保持制御装置42から制御装置7に入
力されるようになっている。
The glass substrate holding device 41 holds the glass substrate 8
And the position of the glass substrate 8 can be changed according to the observable visual field of the optical microscope 1.
In order to control the operation of the glass substrate holding device 41,
A glass substrate holding control device 42 is provided, and information on the position of the glass substrate holding device 41 is managed by the glass substrate holding control device 42 as coordinate data. The coordinate data is input from the glass substrate holding controller 42 to the controller 7.

【0040】タイミング発生器6´には、第1の実施形
態の場合と同様な自動合焦制御装置2からの合焦信号の
波形35と、制御装置7からガラス基板保持制御装置4
2より出力された座標データと、制御装置7が本来シャ
ッター切換器43へ対して出力するシャッター速度の選
択信号とが入力される。なお、このシャッター速度の選
択信号は、制御装置7が現実にシャッター速度の切り換
えを行わない場合にも対応する信号が入力される。
The timing generator 6 'includes a waveform 35 of a focus signal from the automatic focus control device 2 similar to that of the first embodiment, and a
2, and the shutter speed selection signal which is output to the shutter switch 43 by the control device 7 originally. As the shutter speed selection signal, a signal corresponding to the case where the control device 7 does not actually switch the shutter speed is input.

【0041】タイミング発生器6´は、合焦信号の波形
35が入力されると、当該波形35において周期的に現
れる合焦信号のピークに対応した合焦信号同期波形信号
52を波形変換して生成し周波数カウンタ45に入力す
る。
When the waveform 35 of the in-focus signal is input, the timing generator 6 ′ converts the waveform of the in-focus signal synchronous waveform signal 52 corresponding to the peak of the in-focus signal periodically appearing in the waveform 35. Generated and input to the frequency counter 45.

【0042】さらに、タイミング発生器6´は、制御装
置7から座標データと選択信号とを受け取ると、その次
のタイミングで生成される合焦信号同期波形信号52
を、画像取り込みトリガー信号53として画像記憶装置
4´に対して出力する。
Further, upon receiving the coordinate data and the selection signal from the control device 7, the timing generator 6 'receives the focus signal synchronous waveform signal 52 generated at the next timing.
Is output to the image storage device 4 ′ as an image capture trigger signal 53.

【0043】周波数カウンタ45は、タイミング発生器
6´から入力された合焦信号同期波形信号52に基づ
き、合焦信号の波形35において周期的に現れる合焦信
号の周波数を測定し、その結果を周波数データとして制
御装置7に入力する。
The frequency counter 45 measures the frequency of the focus signal periodically appearing in the waveform 35 of the focus signal based on the focus signal synchronization waveform signal 52 input from the timing generator 6 '. The data is input to the control device 7 as frequency data.

【0044】制御装置7は、パソコンやワークステーシ
ョンなどのコンピュータからなり、データバスライン4
6に各処理を実行するCPU47と、各処理の制御プロ
グラムを格納しCPU47の作業領域にもなるメモリ4
8とを具備する。なお、特に図示しないがこの制御装置
7にはマンマシンインタフェースが接続され、種々の設
定入力や指示入力等ができるようになっている。
The control device 7 is composed of a computer such as a personal computer or a work station.
6, a CPU 47 for executing each process, and a memory 4 for storing a control program for each process and also serving as a work area for the CPU 47.
8 is provided. Although not shown, a man-machine interface is connected to the control device 7 so that various setting inputs and instruction inputs can be performed.

【0045】制御装置7には、ガラス基板保持制御装置
42からの座標データと、周波数カウンタ45からの周
波数データが入力されており、周波数データがほぼ一定
値になったのちに、周波数データをもとにガラス基板8
の振動周期を判断し、この振動周期の1/2周期よりも
速いシャッター速度で撮像するようにシャッター切換器
43に対してシャッター速度の選択信号を出力する。一
方、タイミング発生器6´に対しては、座標データを出
力し、またシャッター切換器43に対するシャッター速
度の選択信号の出力と同じタイミングで信号を出力す
る。なお、このシャッター速度の選択信号は、現実にシ
ャッター速度の切り換えを行わない場合にもこれに対応
する信号をタイミング発生器6´に対して出力される。
The controller 7 receives the coordinate data from the glass substrate holding controller 42 and the frequency data from the frequency counter 45. After the frequency data becomes substantially constant, the frequency data is also stored. And glass substrate 8
Is determined, and a shutter speed selection signal is output to the shutter switch 43 so as to capture an image at a shutter speed faster than a half of the vibration period. On the other hand, coordinate data is output to the timing generator 6 ′, and a signal is output at the same timing as the output of the shutter speed selection signal to the shutter switch 43. The shutter speed selection signal outputs a signal corresponding to the shutter speed selection signal to the timing generator 6 'even when the shutter speed is not actually switched.

【0046】さらに、制御装置7は、マンマシンインタ
フェースからの指示入力もしくは所定の条件成立で表示
切換器44に対して表示選択信号を出力する。なお、通
常の設定では、ガラス基板8が振動している場合には、
ガラス基板観察時及び同一基板観察における基板移動時
には画像記憶部49に記憶された画像を表示し、それ以
外の時は撮像装置3からの直接信号を表示するよう切り
換える。
Further, the control device 7 outputs a display selection signal to the display switch 44 when an instruction is input from the man-machine interface or a predetermined condition is satisfied. In a normal setting, when the glass substrate 8 is vibrating,
When the glass substrate is observed and when the substrate is moved during the same substrate observation, the image stored in the image storage unit 49 is displayed, and at other times, the display is switched to display the direct signal from the imaging device 3.

【0047】次に、以上のように構成された本発明の実
施の形態に係る基板検査装置の動作について図4、図5
を用いて説明する。図5は本実施形態における各動作の
タイミングを示す図である。
Next, the operation of the substrate inspection apparatus according to the embodiment of the present invention configured as described above will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram showing the timing of each operation in the present embodiment.

【0048】ガラス基板8の固有周波数は、サイズや厚
さ、振動モードにより異なるが、100Hz程度までで
ある。また、実際には40Hz程度以下であることも多
い。ここでは説明のために、ガラス基板8がガラス基板
保持装置上で周波数f[Hz]の正弦波振動をしている
と仮定する。
The natural frequency of the glass substrate 8 varies depending on the size, thickness and vibration mode, but is up to about 100 Hz. In practice, the frequency is often about 40 Hz or less. Here, for the sake of explanation, it is assumed that the glass substrate 8 is oscillating with a frequency f [Hz] on the glass substrate holding device.

【0049】撮像装置3により得られた光学顕微鏡1の
観察像が表示切換器44を通して表示装置5に表示され
た結果、振動により揺れて観察が困難であると判断され
たとする。検査員は、制御装置7に対し、表示切換器4
4からの出力を画像記憶部49からのものに切り換える
よう指示する。
It is assumed that the observation image of the optical microscope 1 obtained by the imaging device 3 is displayed on the display device 5 through the display switching device 44, and as a result, it is determined that the observation is difficult due to vibrations. The inspector sends the display switch 4 to the control device 7.
4 is switched to the output from the image storage unit 49.

【0050】次に、自動合焦制御装置2へデータバスラ
イン46を通じて、制御信号が送られると、光学顕微鏡
1の準焦機構が、観察面の基準合焦位置になるように制
御される。ガラス基板は振動しており、かつ、光学顕微
鏡1の準焦機構は基準合焦位置に固定されるため、自動
合焦制御装置2には、第1の実施形態の図3に示すよう
な合焦信号の波形35が生じ、周期的に合焦点が現れ
る。
Next, when a control signal is sent to the automatic focusing control device 2 via the data bus line 46, the focusing mechanism of the optical microscope 1 is controlled so as to be at the reference focusing position on the observation surface. Since the glass substrate is vibrating and the focusing mechanism of the optical microscope 1 is fixed at the reference focusing position, the focusing apparatus as shown in FIG. A waveform 35 of the focus signal is generated, and the focal point periodically appears.

【0051】合焦点の周波数は周波数カウンタ45によ
り計測され、周波数データとしてデータバスライン46
を通じて、制御装置7へ送られる。制御装置7におい
て、周波数データの値に基づき、撮像装置3のシャッタ
ーをより高速なシャッターに切り換える必要があるか否
かが判断され、必要ありと判断されるとシャッター選択
データつまり上記選択信号54がデータバスライン46
を通じてシャッター切換器43へ送られる。
The frequency of the focal point is measured by a frequency counter 45, and the data bus line 46 is used as frequency data.
Is sent to the control device 7 through The control device 7 determines whether or not it is necessary to switch the shutter of the imaging device 3 to a higher speed shutter based on the value of the frequency data. Data bus line 46
Through the shutter switch 43.

【0052】例えばガラス基板8が周波数f[Hz]で
振動している場合、合焦信号が現れる周波数は2f[H
z]となる。2f[Hz]の周期で移動する観察面の解
像度を向上させるために、例えばシャッター速度<1/
(10×2f[Hz])[秒]の高速なシャッター速度
が選択され、シャッター切換器43により、撮像装置3
のシャッター速度が切り換えられる。なお、このシャッ
ター速度の周期は少なくともガラス基板8の振動周期の
1/2以下が好ましい。
For example, when the glass substrate 8 is vibrating at the frequency f [Hz], the frequency at which the focus signal appears is 2f [H].
z]. In order to improve the resolution of the observation surface moving at a cycle of 2f [Hz], for example, shutter speed <1 /
(10 × 2f [Hz]) A high-speed shutter speed of [sec] is selected, and the shutter switch 43 sets the imaging device 3
Is switched. The cycle of the shutter speed is preferably at least 1 / or less of the oscillation cycle of the glass substrate 8.

【0053】また、同時に、表示切換器44の画像出力
信号は、画像記憶部49からの画像信号に切り換えられ
る。撮像装置3により得られた画像信号は常に画像記憶
部49に入力されているが、静止画像として取り込まれ
るのは、タイミング発生器6´により生成される画像取
り込みトリガー信号53が画像記憶部49に入力された
ときである。
At the same time, the image output signal of the display switching unit 44 is switched to the image signal from the image storage unit 49. The image signal obtained by the imaging device 3 is always input to the image storage unit 49, but is captured as a still image only when the image capture trigger signal 53 generated by the timing generator 6 ′ is stored in the image storage unit 49. It is when it is input.

【0054】画像取り込みトリガー信号53は、観察領
域が変更されたとき、すなわち、ガラス基板保持制御装
置42からの座標データが変化したときであって、自動
合焦制御装置2より合焦信号が周期的に現れ、かつ選択
信号54が制御装置7から入力されたときに、タイミン
グ発生器6´において生成される。つまり、ガラス基板
8の移動後、その振動モードが解析され、これに基づき
シャッター速度の切り換えが行われた後に、図5に示す
ように、画像取り込みトリガー信号53が生成されるの
である。
The image capture trigger signal 53 is generated when the observation area is changed, that is, when the coordinate data from the glass substrate holding controller 42 is changed. And is generated in the timing generator 6 ′ when the selection signal 54 is input from the control device 7. That is, after the movement of the glass substrate 8, its vibration mode is analyzed, and after the shutter speed is switched based on this, the image capture trigger signal 53 is generated as shown in FIG.

【0055】なお、静止画像取り込みの実施を確実に保
証するために、制御装置7におけるシャッター切り換え
判断が行われた後には、シャッター切換器43に対する
実際の切り換え指示の有無にかかわらず、選択信号54
がタイミング発生器6´に入力される。
In order to ensure that still image capture is performed, after the shutter switching determination is made in the control device 7, the selection signal 54 is output regardless of the actual switching instruction to the shutter switching device 43.
Is input to the timing generator 6 '.

【0056】また、図5に示す座標データ変化検出信号
51の生成について説明する。まず、データバスライン
46を通じて、タイミング発生器6´に入力された座標
データは、その差が一定時間ごとにタイミング発生器6
´において演算されている。例えば、ある座標データと
一定時間経過後の座標データの差をとり、差が0でなけ
れば座標データが変化したことになるので、このデータ
の差が生じると、座標データ変化検出信号51が生成さ
れる。
The generation of the coordinate data change detection signal 51 shown in FIG. 5 will be described. First, the difference between the coordinate data input to the timing generator 6 'through the data bus line 46 is as follows.
′. For example, a difference between certain coordinate data and coordinate data after a lapse of a predetermined time is obtained. If the difference is not 0, the coordinate data has changed. Therefore, when this data difference occurs, a coordinate data change detection signal 51 is generated. Is done.

【0057】さらに、特に示さないが、選択信号54が
入力された後も、タイミング発生器6´内では立上がり
信号が生成されており、この立ち上がり信号と、座標デ
ータ変化検出信号51と、合焦信号同期波形信号52と
の論理積をとって上記したように画像取り込みトリガー
信号53が生成される。なお、画像取り込みトリガー信
号53生成後は、上記立ち上がり信号は再び0となる。
Further, although not particularly shown, a rising signal is generated in the timing generator 6 'even after the selection signal 54 is inputted, and the rising signal and the coordinate data change detection signal 51 are focused on. The image capture trigger signal 53 is generated as described above by taking the logical product with the signal synchronization waveform signal 52. After the image capture trigger signal 53 is generated, the rising signal becomes 0 again.

【0058】このようにタイミング発生器6´において
生成された画像取り込みトリガー信号53は、画像記憶
部49に入力され、撮像装置3からの画像信号は静止画
像として取り込まれる。取り込まれた静止画像は、次の
画像取込み若しくは表示切換えまで表示切換器44を通
して表示装置5に表示される。
The image capture trigger signal 53 generated by the timing generator 6 'is input to the image storage section 49, and the image signal from the imaging device 3 is captured as a still image. The captured still image is displayed on the display device 5 through the display switch 44 until the next image is captured or the display is switched.

【0059】上述したように、本発明の実施の形態に係
る基板検査装置は、第1の実施の形態の場合と同様に構
成される他、制御装置7により周波数データに基づくシ
ャッター速度の切り換えを行うようにしたので、第1の
実施形態と同様な効果が得られる他、より一層確実に合
焦程度の高い基板画像を表示することができる。
As described above, the board inspection apparatus according to the embodiment of the present invention has the same configuration as that of the first embodiment, and also switches the shutter speed based on the frequency data by the control device 7. As a result, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and a substrate image with a high degree of focus can be displayed more reliably.

【0060】また、本実施形態では、シャッタータイミ
ングの周期が合焦点の検出周期よりも短くなるように制
御することによって、確実な合焦画像を確保するように
したが、本発明はこれに限られるものでない。例えば合
焦点の検出周期から予測される合焦時点でシャッターを
切りかつ画像信号を取り込むようにする等、種々の場合
に本発明を適用できる。
Further, in the present embodiment, by controlling the cycle of the shutter timing to be shorter than the cycle of detecting the focal point, a secure focused image is ensured. However, the present invention is not limited to this. It is not something that can be done. For example, the present invention can be applied to various cases, such as opening a shutter and taking in an image signal at a focus point predicted from a focus detection cycle.

【0061】なお、本発明は、上記各実施形態に限定さ
れるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変
形することが可能である。また、本実施形態では、液晶
基板やPDPの場合のガラス基板の場合で説明したが、
本発明はこれに限られるものでなく、シリコンウエーハ
等の他の基板の検査、観察にも適用できる。例えば半導
体デバイスに使用されるシリコンウエーハは現在8イン
チの大型ウエーハが主流であり、次世代はさらに大型の
12インチウエーハが用いられる予定である。これらは
本発明の目的に適合するものである。また、近年プラズ
マパネルと液晶パネルを重ね合せたようなフラットディ
スプレイも開発されているが、このようなデバイスの基
板にも本発明が適用できることはいうまでもない。
The present invention is not limited to the above embodiments, but can be variously modified without departing from the gist thereof. Further, in the present embodiment, the case of a glass substrate in the case of a liquid crystal substrate or a PDP has been described.
The present invention is not limited to this, and can be applied to inspection and observation of other substrates such as a silicon wafer. For example, a silicon wafer used for a semiconductor device is currently a large 8-inch wafer, and a next-generation 12-inch wafer will be used in the next generation. These are suitable for the purpose of the present invention. In recent years, a flat display in which a plasma panel and a liquid crystal panel are overlapped with each other has been developed, but it goes without saying that the present invention can be applied to a substrate of such a device.

【0062】さらに、実施形態に記載した手法は、計算
機に実行させることができるプログラムとして、例えば
磁気ディスク(フロッピーディスク、ハードディスク
等)、光ディスク(CD−ROM、DVD等)、半導体
メモリ等の記憶媒体に格納し、また通信媒体により伝送
して頒布することもできる。本装置を実現する計算機
は、記憶媒体に記録されたプログラムを読み込み、この
プログラムによって動作が制御されることにより上述し
た処理を実行する。
Further, the method described in the embodiment may be a program that can be executed by a computer, for example, a storage medium such as a magnetic disk (floppy disk, hard disk, etc.), an optical disk (CD-ROM, DVD, etc.), a semiconductor memory, etc. And can also be transmitted and distributed via a communication medium. A computer that implements the present apparatus reads a program recorded on a storage medium, and executes the above-described processing by controlling the operation of the program.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、合
焦程度が高い時点で画像を記憶しその記憶画像を表示す
るようにしたので、液晶ディスプレイ等の大型の基板の
製造工程において、たとえ基板の振動を十分に抑制でき
ない場合においても安定した基板観察を可能とする基板
検査装置を提供することができる。
As described above in detail, according to the present invention, an image is stored at the time when the degree of focusing is high, and the stored image is displayed. Therefore, in the process of manufacturing a large-sized substrate such as a liquid crystal display. Even if the vibration of the substrate cannot be sufficiently suppressed, it is possible to provide a substrate inspection apparatus that enables stable substrate observation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る基板検査装置
の一例を示す構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an example of a substrate inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】ガラス基板保持装置上でガラス基板が振動する
様子を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a state in which a glass substrate vibrates on a glass substrate holding device.

【図3】合焦信号の波形及び合焦信号に同期して生成さ
れた画像取り込みトリガー信号の波形例を示す図
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a waveform of a focus signal and a waveform of an image capture trigger signal generated in synchronization with the focus signal.

【図4】本発明の第2の実施の形態に係る基板検査装置
の一例を示す構成図。
FIG. 4 is a configuration diagram showing an example of a board inspection device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】同実施形態における各動作のタイミングを示す
図。
FIG. 5 is an exemplary view showing the timing of each operation in the embodiment.

【図6】従来のガラス基板保持装置の概略構成を示す
図。
FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional glass substrate holding device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…光学顕微鏡 2…自動合焦制御装置 3…撮像装置 4…画像記憶装置 5…表示装置 6,6´…タイミング発生器 7…制御装置 8…ガラス基板 31…対物レンズ 32…振動により下方向へたわんだ状態 33…振幅の中心にある状態 34…振動により上方向へたわんだ状態 35…合焦信号の波形 36…画像取り込みトリガー信号 41…ガラス基板保持装置 42…ガラス基板保持制御装置 43…シャッター切換器 44…表示切換器 45…周波数カウンタ 46…データバスライン 49…画像記憶部 51…座標データ変化検出信号 52…合焦信号同期波形信号 53…画像取り込みトリガー信号 54…選択信号 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical microscope 2 ... Automatic focusing control apparatus 3 ... Image pickup apparatus 4 ... Image storage apparatus 5 ... Display apparatus 6, 6 '... Timing generator 7 ... Control apparatus 8 ... Glass substrate 31 ... Objective lens 32 ... Downward by vibration Deflected state 33 ... State at the center of amplitude 34 ... Deflected state due to vibration 35 ... Waveform of focus signal 36 ... Image capture trigger signal 41 ... Glass substrate holding device 42 ... Glass substrate holding control device 43 ... Shutter switcher 44 Display switcher 45 Frequency counter 46 Data bus line 49 Image storage unit 51 Coordinate data change detection signal 52 Focusing signal synchronous waveform signal 53 Image capture trigger signal 54 Selection signal

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フラットディスプレイや半導体素子等の
デバイスの製造工程で用いられる大型基板を検査する基
板検査装置において、 撮像手段と、 前記基板の像を前記撮像手段の撮像面にて結像させる顕
微鏡手段と、 前記基板像を合焦させるように前記顕微鏡手段を制御
し、合焦位置固定後に前記基板像の合焦程度を示す合焦
信号を出力する合焦手段と、 前記撮像手段により撮像される前記基板像の画像信号を
記憶する画像記憶手段と、 前記画像記憶手段に記憶された画像信号を表示する表示
手段と、 前記合焦手段からの合焦信号に基づき、前記基板像の合
焦程度が高くなるタイミングに合せて、前記画像記憶手
段に対し前記撮像手段からの画像信号を取り込むタイミ
ング信号を出力するタイミング発生手段とを備えたこと
を特徴とする基板検査装置。
1. A substrate inspection apparatus for inspecting a large substrate used in a manufacturing process of a device such as a flat display or a semiconductor element, comprising: an imaging unit; and a microscope for forming an image of the substrate on an imaging surface of the imaging unit. Means for controlling the microscope means to focus the substrate image, a focusing means for outputting a focus signal indicating a degree of focusing of the substrate image after fixing a focus position, and an image taken by the imaging means Image storage means for storing an image signal of the substrate image, display means for displaying the image signal stored in the image storage means, and focusing of the substrate image based on a focus signal from the focusing means. Timing generating means for outputting a timing signal for capturing an image signal from the imaging means to the image storage means in accordance with the timing at which the degree becomes high. Board inspection equipment.
【請求項2】 前記基板像の合焦程度が高くなるタイミ
ングの周期を検出し、前記撮像手段におけるシャッター
タイミングを、この検出された周期に基づき制御する制
御手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の基板検
査装置。
2. A control unit for detecting a period of a timing at which the degree of focusing of the substrate image becomes high, and controlling a shutter timing of the imaging unit based on the detected period. Item 2. The substrate inspection apparatus according to Item 1.
【請求項3】 前記制御手段は、前記シャッタータイミ
ングの周期が前記検出された周期よりも短くなるように
制御することを特徴とする請求項2記載の基板検査装
置。
3. The substrate inspection apparatus according to claim 2, wherein said control means controls the cycle of the shutter timing to be shorter than the detected cycle.
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