JPH10209645A - Manufacture of multilayer printed board - Google Patents

Manufacture of multilayer printed board

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JPH10209645A
JPH10209645A JP812897A JP812897A JPH10209645A JP H10209645 A JPH10209645 A JP H10209645A JP 812897 A JP812897 A JP 812897A JP 812897 A JP812897 A JP 812897A JP H10209645 A JPH10209645 A JP H10209645A
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JP
Japan
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insulating coating
copper plating
coating layer
layer
multilayer printed
Prior art date
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Pending
Application number
JP812897A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Takezoe
浩司 竹添
Kazuhiro Ozaki
和洋 尾崎
Takeya Hasegawa
剛也 長谷川
Hideo Kogure
英雄 木暮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kansai Paint Co Ltd
Original Assignee
Kansai Paint Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kansai Paint Co Ltd filed Critical Kansai Paint Co Ltd
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a multilayer printed board having excellent adhesion, surface smoothness and other printed board performances, without volatilization of a solvent. SOLUTION: The manufacturing method comprises: (a) a step of coating the surface of a board, where a conductive circuit is formed, with powder coating material and baking the board to form an insulating coating film layer; (2) a step of forming a hole, which reaches the surface of the circuit under the insulating coating film layer, in the insulating coating film layer by laser; (3) a step of roughening the surface of the board having the hole, then copper- plating the surface to form a copper plating layer on the insulating coating film layer, such that the copper plating layer is electrically connected to the circuit under the insulating coating film layer via the copper plating formed in the hole; and (4) a step of processing the copper plating layer on the insulating coating film layer and forming a conductive circuit. The steps (1) to (4) are repeated for the surface of the board where the conductive circuit is formed at the step (4), in accordance with necessity.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、粉体塗料による絶
縁塗膜層形成を用いた多層プリント基板の製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed circuit board using an insulating coating layer formed by a powder coating.

【0002】[0002]

【従来の技術及びその課題】従来、多層プリント基板
は、導電回路を形成した基板上に、樹脂溶液を塗装、乾
燥した絶縁樹脂層又は絶縁フィルムを圧着した絶縁樹脂
層を形成し、レーザー加工、写真法などによって穴あけ
加工した後、絶縁層表面を粗化した後、銅メッキし、さ
らに銅メッキ層に回路を形成し、上記した工程を必要に
応じて繰り返し行うことによって製造されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a multilayer printed circuit board is formed by applying a resin solution on a substrate on which a conductive circuit is formed, forming a dried insulating resin layer or an insulating resin layer obtained by press-bonding an insulating film, and performing laser processing. It is manufactured by drilling holes by a photographic method or the like, roughening the surface of the insulating layer, copper plating, forming a circuit on the copper plating layer, and repeating the above steps as necessary.

【0003】しかしながら、樹脂溶液を塗装、乾燥して
絶縁樹脂層を形成する場合には、乾燥時に樹脂溶液層か
ら溶剤が蒸発し、形成される絶縁樹脂層表面の平滑性が
損なわれ銅メッキ層の形成に悪影響を及ぼし、また溶剤
の揮散による大気汚染を引き起こすといった問題があっ
た。
[0003] However, when an insulating resin layer is formed by coating and drying a resin solution, the solvent evaporates from the resin solution layer during drying and the smoothness of the surface of the formed insulating resin layer is impaired, and the copper plating layer is formed. There is a problem that it adversely affects the formation of water and causes air pollution due to evaporation of the solvent.

【0004】また、絶縁フィルムを圧着して絶縁樹脂層
を形成する場合には、基板への追従性が悪いため密着性
に劣るといった問題があった。
In the case where an insulating resin layer is formed by pressing an insulating film by pressure, there is a problem that adhesion to the substrate is poor due to poor followability to the substrate.

【0005】本発明は、基板及び銅メッキ層との密着性
が良好で、かつ表面の平滑性が良好な絶縁樹脂層を、溶
剤の揮散なしに形成でき、これによって優れた性能を有
する多層プリント基板を得ることを目的とするものであ
る。
According to the present invention, an insulating resin layer having good adhesion to a substrate and a copper plating layer and having good surface smoothness can be formed without volatilization of a solvent, thereby providing a multilayer print having excellent performance. The purpose is to obtain a substrate.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、鋭
意研究を行った結果、粉体塗料を塗装、焼付けて絶縁樹
脂層とすることによって上記目的を達成できることを見
出し本発明を完成するに至った。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies and have found that the above object can be achieved by coating and baking a powder coating to form an insulating resin layer, thereby completing the present invention. Reached.

【0007】すなわち本発明は、導電回路を形成した基
板表面に、(1)粉体塗料を塗装、焼付けして絶縁塗膜
層を形成する工程、(2)該絶縁塗膜層にレーザーによ
り絶縁塗膜層下の回路表面に達する穴あけ加工を行う工
程、(3)該穴あけ加工を施した基板表面を粗化後、銅
メッキを行い、絶縁塗膜層上に銅メッキ層を形成すると
ともに、該銅メッキ層と絶縁塗膜層下の回路とを、穴あ
け部に形成された銅メッキを通じて導通可能とする工程
及び(4)絶縁塗膜層上の銅メッキ層を加工して導電回
路を形成する工程、を行い、必要に応じて上記工程
(4)により形成した絶縁塗膜層上に導電回路を形成し
た基板表面に、(1)、(2)、(3)及び(4)の工
程を繰り返し行うことを特徴とする多層プリント基板の
製造方法を提供するものである。
That is, according to the present invention, there is provided (1) a step of coating and baking a powder coating on a substrate surface on which a conductive circuit is formed to form an insulating coating layer, and (2) insulating the insulating coating layer by laser. A step of performing a drilling process to reach a circuit surface under the coating layer, (3) copper plating is performed after roughening the surface of the substrate subjected to the drilling, and a copper plating layer is formed on the insulating coating layer; Making the copper plating layer and the circuit under the insulating coating layer conductive through the copper plating formed in the drilled portion; and (4) forming a conductive circuit by processing the copper plating layer on the insulating coating layer. Is performed, and if necessary, the steps (1), (2), (3) and (4) are performed on the surface of the substrate on which the conductive circuit is formed on the insulating coating layer formed in the step (4). Providing a method of manufacturing a multilayer printed circuit board characterized by repeatedly performing It is.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明における導電回路を形成し
た基板としては、例えば、表面に導電性皮膜を形成して
なる基板の導電性皮膜を加工して導電性回路を形成して
なる基板などを挙げることができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As a substrate on which a conductive circuit is formed in the present invention, for example, a substrate on which a conductive film is formed by processing a conductive film of a substrate having a conductive film formed thereon, and the like Can be mentioned.

【0009】上記表面に導電性皮膜を形成してなる基板
としては、例えば電気絶縁性のガラス−エポキシ板など
のプラスチック板やプラスチックフィルム等の表面に、
銅、アルミニウムなどの金属箔を接着する方法、あるい
は銅などの金属をメッキする方法などによって得られる
導電性皮膜積層基板;該導電性皮膜積層基板に、スルー
ホールを設けスルーホールの内面に、例えば銅メッキな
どによってメッキ層を形成する方法などによってスルー
ホール内面を導電性としてなる基板などを挙げることが
できる。
As the substrate having a conductive film formed on the surface, for example, a plastic plate such as an electrically insulating glass-epoxy plate or a plastic film or the like may be used.
Copper, a conductive film laminated substrate obtained by a method of bonding a metal foil such as aluminum, or a method of plating a metal such as copper; the conductive film laminated substrate, a through hole is provided on the inner surface of the through hole, for example, Examples of the substrate include a substrate in which the inner surface of the through hole is made conductive by a method of forming a plating layer by copper plating or the like.

【0010】上記表面に導電性皮膜を形成してなる基板
を加工して導電性回路を形成する方法としては、例え
ば、表面に導電性皮膜を形成してなる基板に感光性エッ
チングレジストを形成し、パターン状に露光、現像を行
い、ついで導電性皮膜をエッチングし、残存レジストを
除去する、それ自体既知のリソグラフ法を用いた方法な
どによって行うことができる。
As a method of forming a conductive circuit by processing a substrate having a conductive film formed on the surface, for example, a photosensitive etching resist is formed on a substrate having a conductive film formed on the surface. Exposure and development are performed in a pattern, then the conductive film is etched, and the remaining resist is removed, for example, by a known lithographic method.

【0011】本発明方法においては、上記導電回路を形
成した基板表面に、工程(1)として、粉体塗料を塗
装、焼付けして絶縁塗膜層を形成する。導電回路を形成
した基板表面は、予め銅表面を酸化させて黒化する黒化
処理を施して銅などの導電性皮膜表面を粗化したもので
あってもよい。黒化処理は、苛性ソーダなどのアルカリ
処理剤を用いて行うことができる。
In the method of the present invention, a powder coating is applied and baked on the surface of the substrate on which the conductive circuit is formed, as a step (1), to form an insulating coating layer. The surface of the substrate on which the conductive circuit has been formed may be one in which the surface of a conductive film such as copper is roughened by previously performing a blackening treatment for oxidizing and blackening the copper surface. The blackening treatment can be performed using an alkali treating agent such as caustic soda.

【0012】工程(1)において塗装される粉体塗料と
しては、形成される絶縁塗膜層として、電気絶縁性、寸
法安定性、塗膜の機械的強度、表面平滑性、基板表面へ
の密着性などの絶縁塗膜層が必要とする性能に優れたも
のであれば特に制限なく使用することができ、アクリル
樹脂系、エポキシ樹脂系、ポリエステル樹脂系、ポリア
ミド樹脂系、ウレタン樹脂系などを挙げることができ、
なかでもエポキシ樹脂系が好適である。
In the powder coating applied in the step (1), as an insulating coating layer to be formed, electrical insulation, dimensional stability, mechanical strength of the coating, surface smoothness, adhesion to the substrate surface It can be used without any particular limitation as long as it is excellent in performance required by an insulating coating layer such as properties, and examples thereof include an acrylic resin type, an epoxy resin type, a polyester resin type, a polyamide resin type, and a urethane resin type. It is possible,
Among them, epoxy resin is preferred.

【0013】上記エポキシ樹脂系粉体塗料としては、数
平均分子量400〜6000、好ましくは1000〜4
000を有する芳香族エポキシ樹脂を基体樹脂とするも
のが好ましい。上記芳香族エポキシ樹脂の市販品として
は、例えば、エピコート1001、同1002、同10
04、同1007、同1009、同1010(以上、い
ずれも油化シェルエポキシ社製)などのビスフェノール
型エポキシ樹脂;エピコート154(油化シェルエポキ
シ社製)などのフェノールノボラック型エポキシ樹脂、
エピコート190S80(油化シェルエポキシ社製)などのク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂を挙げることができ
る。エポキシ樹脂系粉体塗料は、基体樹脂のみからなっ
ていてもよいが、必要に応じて、硬化剤、硬化触媒、顔
料、有機樹脂微粒子、難燃性付与剤、塗面調整剤などの
塗料添加剤を含有することができる。
The epoxy resin-based powder coating material has a number average molecular weight of 400 to 6000, preferably 1,000 to 4,000.
Preferably, the base resin is an aromatic epoxy resin having 000. Commercially available aromatic epoxy resins include, for example, Epicoat 1001, 1002, and 10
Bisphenol-type epoxy resins such as 04, 1007, 1009, and 1010 (all of which are manufactured by Yuka Shell Epoxy); phenol novolak-type epoxy resins such as Epicoat 154 (manufactured by Yuka Shell Epoxy);
Cresol novolak type epoxy resin such as Epicoat 190S80 (manufactured by Yuka Shell Epoxy) can be used. The epoxy resin-based powder coating may be composed of only a base resin, but if necessary, a coating such as a curing agent, a curing catalyst, a pigment, organic resin fine particles, a flame retardant, a coating surface adjusting agent, etc. may be added. Agents can be included.

【0014】上記硬化剤としては、エチレンジアミン、
ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、アミ
ノエチルピペラジン、イミダゾール、m−フェニレンジ
アミン、4,4´−ジアミノジフェニルメタン、メタキ
シリレンジアミン、ベンジルジメチルアミンなどのポリ
アミン化合物;ポリカルボン酸とジアミンとの反応生成
物、ジシアンジアミドなどのポリアミド化合物やアミノ
基含有アミド化合物;無水フタル酸、ヘキサヒドロフタ
ル酸無水物、無水ピロメリット酸、無水クロレンド酸な
どのポリカルボン酸化合物;イソホロンジイソシアネー
ト、メタフェニレンジイソシアネート、トリレンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、これらのイソシアネート化合物のビュレット体もし
くはイソシアヌル環付加物、又はこれらのイソシアネー
ト化合物と多価アルコール、低分子ポリエステル樹脂も
しくは水との付加物などの、複数のイソシアネート基を
有する化合物を、オキシム、フェノール、アルコールな
どのブロック化剤でブロック化してなるブロック化ポリ
イソシアネート化合物;メチロール基が炭素数1〜6の
モノアルコールでエーテル化されていてもよい、メチロ
ール化尿素樹脂、メチロール化メラミン樹脂、メチロー
ル化ベンゾグアナミン樹脂などのアミノ樹脂などを挙げ
ることができる。
As the curing agent, ethylenediamine,
Polyamine compounds such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, aminoethylpiperazine, imidazole, m-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, metaxylylenediamine, benzyldimethylamine; reaction products of polycarboxylic acid and diamine, dicyandiamide Polyamide compounds such as phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, and chlorendic anhydride; isophorone diisocyanate, metaphenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, and xylylene diamine. Isocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, burette or isocyanurate of these isocyanate compounds Compounds having a plurality of isocyanate groups, such as adducts or adducts of these isocyanate compounds with polyhydric alcohols, low molecular weight polyester resins or water, are blocked with a blocking agent such as oxime, phenol or alcohol. Blocked polyisocyanate compounds; and amino resins such as methylolated urea resins, methylolated melamine resins, and methylolated benzoguanamine resins, in which the methylol group may be etherified with a monoalcohol having 1 to 6 carbon atoms. .

【0015】上記硬化触媒としては、エポキシ樹脂と硬
化剤との反応を促進するために使用されるものであり、
硬化剤の種類などに応じて適宜選定して使用すればよ
い。例えば、硬化剤がブロック化ポリイソシアネート化
合物である場合には、ジブチル錫オキサイド、ジオクチ
ル錫オキサイド、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫
ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクチル
錫ジラウレート、ジブチル錫ビス(アセチルアセトネー
ト)、ジベンジル錫ジ(2−エチルヘキシレート)、2
−エチルヘキサン酸鉛、硝酸ビスマス、ナフテン酸ジル
コニウムなどを挙げることができる。また、硬化剤がア
ミノ樹脂である場合には、p−トルエンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホ
ン酸、これらのスルホン酸のアミン化合物などの塩基性
化合物による中和物、燐酸などを挙げることができる。
The curing catalyst is used for accelerating a reaction between an epoxy resin and a curing agent.
What is necessary is just to select and use suitably according to the kind of hardener, etc. For example, when the curing agent is a blocked polyisocyanate compound, dibutyltin oxide, dioctyltin oxide, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, dioctyltin dioctate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin bis (acetylacetonate), dibenzyl Tin di (2-ethylhexylate), 2
-Lead ethylhexanoate, bismuth nitrate, zirconium naphthenate and the like. When the curing agent is an amino resin, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, neutralized products of basic compounds such as amine compounds of these sulfonic acids, phosphoric acid, etc. Can be mentioned.

【0016】上記顔料としては、着色顔料、体質顔料な
どを挙げることができる。顔料としてタルク、炭酸カル
シウム、シリカ、アルミナなどを使用することによっ
て、形成される絶縁塗膜層表面を粗化処理してその上に
形成される次の絶縁塗膜層との密着性を向上させようと
する際に、粗化処理を円滑に行うことができる。
Examples of the above-mentioned pigments include coloring pigments and extender pigments. By using talc, calcium carbonate, silica, alumina, etc. as a pigment, the surface of the formed insulating coating layer is roughened to improve the adhesion with the next insulating coating layer formed thereon. In this case, the roughening process can be performed smoothly.

【0017】上記有機樹脂微粒子としては、ゴム微粒子
を挙げることができ、このものを使用することにより、
上記したと同様に絶縁塗膜層表面の粗化処理を円滑に行
うことができる。
Examples of the organic resin fine particles include rubber fine particles.
As described above, the surface roughening treatment of the insulating coating layer can be smoothly performed.

【0018】上記難燃性付与剤は、絶縁塗膜層に難燃性
を付与するために用いられるものであり、三酸化アンチ
モン、臭素化エポキシ樹脂及び赤燐などを挙げることが
できる。
The flame retardant is used for imparting flame retardancy to the insulating coating layer, and examples thereof include antimony trioxide, a brominated epoxy resin, and red phosphorus.

【0019】粉体塗料を基板表面に塗装する方法として
は、スプレー塗装法、流動浸漬法などを挙げることがで
き、塗装膜厚としては電気絶縁性を発揮できる膜厚であ
ればよく、通常、10〜100μmの範囲の膜厚の絶縁
塗膜層が形成される塗装膜厚とすることが好ましい。塗
装された粉体塗料層の焼付け条件は、粉体塗料種などに
応じて適宜設定すればよいが、通常、120〜220℃
で30〜180分間の範囲とすることが好ましい。
Examples of the method of applying the powder coating on the substrate surface include a spray coating method and a fluid immersion method. The coating film thickness may be any film thickness capable of exhibiting electrical insulation. The coating thickness is preferably such that an insulating coating layer having a thickness in the range of 10 to 100 μm is formed. The baking conditions for the coated powder coating layer may be set as appropriate according to the type of powder coating or the like.
Is preferably in the range of 30 to 180 minutes.

【0020】上記工程(1)によって絶縁塗膜層を形成
した後、工程(2)により、この絶縁塗膜層にレーザー
により絶縁塗膜層下の回路表面に達する穴あけ加工が行
われる。穴あけ加工に使用されるレーザーとしては、エ
キシマレーザー、炭酸ガスレーザーなどを挙げることが
できる。
After the insulating coating layer is formed in the above step (1), in the step (2), a hole is formed in the insulating coating layer by a laser to reach a circuit surface below the insulating coating layer by a laser. Excimer lasers, carbon dioxide lasers, and the like can be given as lasers used for drilling.

【0021】工程(2)の後、工程(3)において、絶
縁塗膜層表面に銅メッキを行うが、銅メッキを行う前
に、形成される銅メッキ層の密着性を向上させるため、
粗化処理によって絶縁塗膜層の表面(スルーホール部表
面も含む)を細かく粗すことが必要である。この粗化処
理は、例えば、過マンガン酸/水酸化ナリウム系処理剤
などの酸化剤含有アルカリ性処理剤を用いて行うことが
できる。
After the step (2), in the step (3), copper plating is performed on the surface of the insulating coating layer. Before the copper plating, the adhesion of the copper plating layer to be formed is improved.
It is necessary to finely roughen the surface of the insulating coating layer (including the surface of the through hole) by the roughening treatment. This roughening treatment can be performed using an oxidizing agent-containing alkaline treating agent such as a permanganic acid / narium hydroxide-based treating agent.

【0022】上記粗化処理を行なった後、穴あけ加工を
施した絶縁塗膜層を有する基板表面に銅メッキを行う。
これによって絶縁塗膜層上及び穴あけ部に銅メッキ層が
形成される。穴あけ部に銅メッキ層が形成されることに
よって、絶縁塗膜層上の銅メッキ層と絶縁塗膜層下の回
路とが連結し導通可能となる。銅メッキは、無電解メッ
キ、電解メッキなどによって行うことができる。
After performing the above roughening treatment, copper plating is performed on the surface of the substrate having the perforated insulating coating layer.
As a result, a copper plating layer is formed on the insulating coating layer and on the perforated portion. By forming the copper plating layer in the drilled portion, the copper plating layer on the insulating coating layer and the circuit under the insulating coating layer are connected to each other and can be conducted. Copper plating can be performed by electroless plating, electrolytic plating, or the like.

【0023】さらに、工程(3)の後、工程(4)によ
って、基板の絶縁塗膜層上の銅メッキ層を加工して導電
回路を形成する。導電回路を形成するための銅メッキ層
の加工は、銅メッキ層上に感光性エッチングレジストを
形成し、このレジストにリソグラフ法によりパターン露
光、現像を行い、ついで銅メッキ層のエッチング、残存
レジストの除去を行う方法など、それ自体既知の方法に
よって行うことができる。
Further, after step (3), in step (4), the copper plating layer on the insulating coating layer of the substrate is processed to form a conductive circuit. Processing of the copper plating layer for forming the conductive circuit is performed by forming a photosensitive etching resist on the copper plating layer, performing pattern exposure and development on the resist by a lithographic method, and then etching the copper plating layer and removing the remaining resist. The removal can be performed by a method known per se, such as a method of performing removal.

【0024】上記感光性エッチングレジストは、プリン
ト基板形成に使用できるエッチングレジストであればよ
く、液状レジスト、ドライフィルムレジストのいずれも
使用可能であり、また、ネガ型フォトレジスト、ポジ型
フォトレジストのいずれも使用することができる。
The photosensitive etching resist may be any etching resist that can be used for forming a printed circuit board, and may be any of a liquid resist and a dry film resist, and may be any of a negative photoresist and a positive photoresist. Can also be used.

【0025】本発明において、上記工程(1)〜(4)
を有する処理を1サイクル行うことによって絶縁塗膜層
および回路を各々1層増加させることができる。本発明
において、絶縁塗膜層および回路の層数は特に限定され
るものではなく、必要とする層数に応じて工程(1)〜
(4)を有する処理を必要サイクル数繰り返すことがで
きる。多層プリント基板の層数を増加させることによっ
て回路の高密度化と微小化を両立させることができる。
In the present invention, the above steps (1) to (4)
By performing one cycle of the processing having the above, the insulating coating layer and the circuit can each be increased by one layer. In the present invention, the number of insulating coating layers and the number of circuit layers are not particularly limited, and the number of steps (1) to (1) is determined according to the required number of layers.
The processing having (4) can be repeated the required number of cycles. By increasing the number of layers of the multilayer printed board, it is possible to achieve both high density and miniaturization of the circuit.

【0026】[0026]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

【0027】実施例1 340×510mmの大きさのガラス−エポキシ基板上
に厚さ18μmの銅回路が形成されてなる回路基板に、
「エバクラッドNo.3800」(関西ペイント(株)
製、エポキシ樹脂系粉体塗料、体質顔料入)を乾燥膜厚
50μmを目標に静電塗装し180℃で60分間焼付け
を行って絶縁塗膜層を形成した。この絶縁塗膜層の乾燥
膜厚分布は50±5μmであった。
Example 1 A circuit board in which a copper circuit having a thickness of 18 μm was formed on a glass-epoxy board having a size of 340 × 510 mm,
"Evaclad No. 3800" (Kansai Paint Co., Ltd.)
And an epoxy resin-based powder coating and an extender pigment) were electrostatically coated with a target of a dry film thickness of 50 μm and baked at 180 ° C. for 60 minutes to form an insulating coating layer. The dry thickness distribution of this insulating coating layer was 50 ± 5 μm.

【0028】ついで炭酸ガスレーザー「GS500H」
(住友重機械工業(株)製)を使用して絶縁塗膜層にレ
ーザーによる穴あけ加工を行い、絶縁塗膜層下の銅回路
表面に達する直径0.15mmφの円柱状の穴を300
0個開けた。次に、過マンガン酸/水酸化ナトリウム系
処理液を使用した既知の方法にて絶縁塗膜層表面を粗化
した後、硫酸ヒドラジン系処理液で絶縁塗膜層表面を中
和した。ついで、パラジウム触媒を絶縁塗膜層表面に付
着させた後、無電解銅メッキを行い、さらに電解銅メッ
キを行って、穴あけ加工した穴あけ部を含む絶縁塗膜層
表面に銅メッキ層を形成した。絶縁塗膜層表面の銅メッ
キ層の厚さは25μmであった。絶縁塗膜層表面の銅メ
ッキ層と回路基板の銅回路とは穴あけ部に形成した銅メ
ッキ層を通じて電気的に導通している。
Next, a carbon dioxide laser "GS500H"
Laser drilling is performed on the insulating coating layer using (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.), and a columnar hole having a diameter of 0.15 mmφ reaching the copper circuit surface under the insulating coating layer is formed by 300 holes.
I opened 0 pieces. Next, after the surface of the insulating coating layer was roughened by a known method using a permanganic acid / sodium hydroxide-based processing solution, the surface of the insulating coating layer was neutralized with a hydrazine sulfate-based processing solution. Then, after attaching a palladium catalyst to the surface of the insulating coating layer, electroless copper plating was performed, and further electrolytic copper plating was performed to form a copper plating layer on the surface of the insulating coating layer including the perforated portion. . The thickness of the copper plating layer on the surface of the insulating coating layer was 25 μm. The copper plating layer on the surface of the insulating coating layer and the copper circuit on the circuit board are electrically connected through the copper plating layer formed in the drilled portion.

【0029】さらに上記のようにして得た絶縁塗膜層面
の銅メッキ層に、ネガ型感光性レジストを塗布、乾燥
し、その表面にネガ型フォトマスクを通じて露光、現像
し、さらに銅メッキ層のエッチングを行い、ついで残存
レジストを剥離するリソグラフ法によって絶縁塗膜層面
上にスペース幅318μmの櫛型銅回路を形成して2層
の銅回路を有する多層プリント基板を得た。
Further, a negative photosensitive resist is applied to the copper plating layer on the insulating coating layer surface obtained as described above, dried, and the surface is exposed and developed through a negative photomask. Etching was performed, and then a comb-type copper circuit having a space width of 318 μm was formed on the surface of the insulating coating layer by a lithographic method of removing the remaining resist, thereby obtaining a multilayer printed board having two layers of copper circuits.

【0030】実施例2 実施例1において、340×510mmの大きさのガラ
ス−エポキシ基板上に厚さ18μmの銅回路が形成され
てなる回路基板のかわりに、実施例1において得られた
2層の銅回路を有する多層プリント基板を使用する以外
同様に行い、3層の銅回路を有する多層プリント基板を
得た。
Example 2 In Example 1, instead of a circuit board having a copper circuit having a thickness of 18 μm formed on a glass-epoxy substrate having a size of 340 × 510 mm, the two layers obtained in Example 1 were used. Was performed in the same manner except that a multilayer printed circuit board having a copper circuit was used to obtain a multilayer printed circuit board having a three-layer copper circuit.

【0031】実施例3 340×510mmの大きさのガラス−エポキシ基板上
に厚さ35μmの銅回路が形成されてなる回路基板に、
「エバクラッドNo.9000」(関西ペイント(株)
製、エポキシ樹脂系粉体塗料)を乾燥膜厚80μmを目
標に静電塗装し180℃で60分間焼付けを行って絶縁
塗膜層を形成した。この絶縁塗膜層の乾燥膜厚分布は8
0±9μmであった。
Example 3 A circuit board formed by forming a copper circuit having a thickness of 35 μm on a glass-epoxy board having a size of 340 × 510 mm,
"Evaclad No. 9000" (Kansai Paint Co., Ltd.)
And an epoxy resin-based powder coating) was electrostatically coated with a target of a dry film thickness of 80 μm and baked at 180 ° C. for 60 minutes to form an insulating coating layer. The dry thickness distribution of this insulating coating layer was 8
It was 0 ± 9 μm.

【0032】ついで実施例1と同様にして、レーザーに
よる穴あけ加工、銅メッキ層形成、リソグラフ法による
絶縁塗膜層面上の銅回路形成を行い、2層の銅回路を有
する多層プリント基板を得た。ここで、絶縁塗膜層上に
形成する銅メッキ層の膜厚は25μmとした。
Then, in the same manner as in Example 1, a hole was formed by laser, a copper plating layer was formed, and a copper circuit was formed on the surface of the insulating coating layer by a lithographic method to obtain a multilayer printed circuit board having two copper circuits. . Here, the thickness of the copper plating layer formed on the insulating coating layer was 25 μm.

【0033】実施例4 340×510mmの大きさのガラス−エポキシ基板上
に厚さ18μmの銅回路が形成されてなる回路基板に、
「エバクラッドNo.3850」(関西ペイント(株)
製、エポキシ−ポリエステル樹脂系粉体塗料、体質顔料
入り)を乾燥膜厚60μmを目標に静電塗装し160℃
で90分間焼付けを行って絶縁塗膜層を形成した。この
絶縁塗膜層の乾燥膜厚分布は60±7μmであった。
Example 4 A circuit board in which a copper circuit having a thickness of 18 μm was formed on a glass-epoxy board having a size of 340 × 510 mm was prepared as follows.
"Evaclad No. 3850" (Kansai Paint Co., Ltd.)
Epoxy-polyester resin-based powder coating, containing an extender pigment), and electrostatically coating with a target of a dry film thickness of 60 μm.
For 90 minutes to form an insulating coating layer. The dry thickness distribution of this insulating coating layer was 60 ± 7 μm.

【0034】ついで実施例1と同様にして、レーザーに
よる穴あけ加工、銅メッキ層形成、リソグラフ法による
絶縁塗膜層面上の銅回路形成を行い、2層の銅回路を有
する多層プリント基板を得た。ここで、絶縁塗膜層上に
形成する銅メッキ層の膜厚は30μmとした。
Then, in the same manner as in Example 1, drilling with a laser, formation of a copper plating layer, and formation of a copper circuit on the surface of the insulating coating layer by a lithographic method were performed to obtain a multilayer printed circuit board having two copper circuits. . Here, the thickness of the copper plating layer formed on the insulating coating layer was 30 μm.

【0035】実施例5 実施例3において、粉体塗料として、「エバクラッドN
o.9000」のかわりに、「エバクラッドNo.90
00」100重量部に「PNR−1H」(日本合成ゴム
(株)製、カルボン酸変性NBR樹脂微粒子)20重量
部を均一に混合した粉体塗料を使用する以外は実施例2
と同様に行い、2層の銅回路を有する多層プリント基板
を得た。
Example 5 In Example 3, "Evaclad N" was used as the powder coating material.
o. 9000 instead of “Evaclad No. 90”
Example 2 except that a powder coating in which 20 parts by weight of “PNR-1H” (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., carboxylic acid-modified NBR resin fine particles) was uniformly mixed with 100 parts by weight of “00” was used.
Was performed in the same manner as in the above, to obtain a multilayer printed circuit board having a two-layer copper circuit.

【0036】実施例1〜5で得られた多層プリント基板
は、絶縁塗膜層上に形成される銅メッキ層は、膜厚均一
性及び絶縁塗膜層との密着性に優れていた。これらの多
層プリント基板について、下記の温度サイクル試験及び
プレッシャークッカー試験を行ったところ、実施例1〜
5のいずれの多層プリント基板においても、温度サイク
ル試験でワレの発生がなく良好であり、プレッシャーク
ッカー試験で試験前に比べ試験後の抵抗値の変化は実質
的に認められず良好であった。
In the multilayer printed circuit boards obtained in Examples 1 to 5, the copper plating layer formed on the insulating coating layer was excellent in uniformity of film thickness and adhesion to the insulating coating layer. When the following temperature cycle test and pressure cooker test were performed on these multilayer printed circuit boards, Examples 1 to
In any of the multilayer printed circuit boards of No. 5, no cracks were generated in the temperature cycle test, and the results were good. In the pressure cooker test, no change in the resistance value after the test was substantially recognized compared to before the test, and the results were good.

【0037】試験方法 温度サイクル試験:(−40℃→125℃→−40℃)
の温度変化を30分間かけて行う工程を1サイクルとし
て、多層プリント基板に上記温度変化を1000サイク
ル行う。試験後の多層プリント基板の外観を目視にて評
価する。
Test method Temperature cycle test: (−40 ° C. → 125 ° C. → −40 ° C.)
The step of performing the above temperature change over 30 minutes is defined as one cycle, and the above-mentioned temperature change is performed 1000 times on the multilayer printed board. The appearance of the multilayer printed circuit board after the test is visually evaluated.

【0038】プレッシャークッカー試験:温度110
℃、湿度85%の加圧釜内にて多層プリント基板を30
0時間静置する試験を行った後、取り出してスペース幅
318μmの櫛型銅回路における、スペース幅318μ
mの銅層間の抵抗値を、JISZ−3197 2型によ
り測定し、試験前の多層プリント基板の抵抗値と比較し
て評価する。
Pressure cooker test: temperature 110
A multilayer printed circuit board is placed in a pressure oven at 85 ° C and 85% humidity for 30 minutes.
After performing a test of standing for 0 hour, take out and take out a space width of 318 μm in a comb-shaped copper circuit having a space width of 318 μm.
The resistance value between the copper layers of m is measured according to JISZ-3197 type 2 and is compared with the resistance value of the multilayer printed circuit board before the test.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明において形成される絶縁塗膜層は
粉体塗料から形成されるため、絶縁塗膜層形成時に有機
溶剤の揮散がなく、作業環境上及び地球環境保全上にお
いて有利である。また、この絶縁塗膜層は基板及び銅メ
ッキ層との密着性が良好であり、また表面の平滑性が優
れているので均一性の良好な銅メッキの形成を容易に行
うことができる。したがって本発明方法は作業環境上及
び地球環境保全上において有利であり、かつ本発明方法
によって、優れた性能を有する多層プリント基板を得る
ことができる。
According to the present invention, since the insulating coating layer formed in the present invention is formed of a powder coating, there is no volatilization of the organic solvent at the time of forming the insulating coating layer, which is advantageous in working environment and global environment conservation. . The insulating coating layer has good adhesion to the substrate and the copper plating layer, and has excellent surface smoothness, so that copper plating with good uniformity can be easily formed. Therefore, the method of the present invention is advantageous in working environment and global environment preservation, and a multilayer printed board having excellent performance can be obtained by the method of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木暮 英雄 神奈川県平塚市東八幡4丁目17番1号 関 西ペイント株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Hideo Kogure 4-17-1, Higashi-Hachiman, Hiratsuka-shi, Kanagawa Prefecture Kansai Paint Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電回路を形成した基板表面に、(1)
粉体塗料を塗装、焼付けして絶縁塗膜層を形成する工
程、(2)該絶縁塗膜層にレーザーにより絶縁塗膜層下
の回路表面に達する穴あけ加工を行う工程、(3)該穴
あけ加工を施した基板表面を粗化後、銅メッキを行い、
絶縁塗膜層上に銅メッキ層を形成するとともに、該銅メ
ッキ層と絶縁塗膜層下の回路とを、穴あけ部に形成され
た銅メッキを通じて導通可能とする工程及び(4)絶縁
塗膜層上の銅メッキ層を加工して導電回路を形成する工
程、を行い、必要に応じて上記工程(4)により形成し
た絶縁塗膜層上に導電回路を形成した基板表面に、
(1)、(2)、(3)及び(4)の工程を繰り返し行
うことを特徴とする多層プリント基板の製造方法。
1. The method according to claim 1, further comprising the step of:
A step of coating and baking a powder coating to form an insulating coating layer; (2) a step of drilling the insulating coating layer by a laser to reach a circuit surface below the insulating coating layer; (3) a step of drilling After roughening the processed substrate surface, copper plating is performed,
Forming a copper plating layer on the insulating coating layer, and enabling conduction between the copper plating layer and a circuit under the insulating coating layer through copper plating formed in the drilled portion; and (4) an insulating coating film Processing the copper plating layer on the layer to form a conductive circuit, and, if necessary, on the surface of the substrate on which the conductive circuit has been formed on the insulating coating layer formed in the step (4).
A method for manufacturing a multilayer printed circuit board, wherein the steps (1), (2), (3) and (4) are repeated.
【請求項2】 工程(1)を行う際に、導電回路を形成
した基板表面に予め粗化処理を施してなることを特徴と
する請求項1記載の多層プリント基板の製造方法。
2. The method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to claim 1, wherein in performing the step (1), the surface of the substrate on which the conductive circuit is formed is subjected to a roughening treatment in advance.
【請求項3】 工程(1)で使用する粉体塗料が、エポ
キシ樹脂を基体樹脂とするものである請求項1又は2記
載の多層プリント基板の製造方法。
3. The method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to claim 1, wherein the powder coating used in the step (1) uses an epoxy resin as a base resin.
【請求項4】 工程(1)で使用する粉体塗料が、加熱
温度で溶融しない有機樹脂微粒子及び体質顔料から選ば
れる少なくとも1種の微粒子を含有するものであること
を特徴とする請求項2又は3記載の多層プリント基板の
製造方法。
4. The powder coating used in the step (1) contains at least one kind of fine particles selected from organic resin fine particles and an extender which are not melted at a heating temperature. Or a method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to item 3.
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