JPH1020475A - Silver halide photographic sensitive material having glass support - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material having glass support

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JPH1020475A
JPH1020475A JP17622796A JP17622796A JPH1020475A JP H1020475 A JPH1020475 A JP H1020475A JP 17622796 A JP17622796 A JP 17622796A JP 17622796 A JP17622796 A JP 17622796A JP H1020475 A JPH1020475 A JP H1020475A
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JP
Japan
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shell
core
acrylate
silver halide
methacrylate
Prior art date
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Pending
Application number
JP17622796A
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Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Oka
裕 岡
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce occurrence of pressure fog and to improve adhesion between the glass support and a silver halide emulsion layer by incorporating a polymer latex having active methylene groups in the silver halide emulsion layer or another hydrophilic colloidal layer and to provide a dry glass plate for a photomask. SOLUTION: The silver halide emulsion layer is formed on the glass support and this layer or another hydrophilic colloidal layer contains the polymer latex having the active methylene groups and this polymer is represented by the formula in which C is one of repeating units derived form an ethylenically unsaturated monomer; A is one of repeating units derived from another ethylenically unsaturated monomer having a glass transition point of its homopolymer <=35 deg.C; and each of x, y, z is a weight percentage of each component; x is 0.5-40, y is 60-99.5, and z is 0-50, and x+y+z=100.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はガラス支持体上にハ
ロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料に関し、更に詳
しくは、圧着カブリの発生が少なく、かつガラス支持体
と乳剤層との接着性が改良されたハロゲン化銀写真感光
材料に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photographic material having a silver halide emulsion layer on a glass support. More specifically, the present invention relates to a photographic light-sensitive material which has a low fog and a low adhesion between the glass support and the emulsion layer. The present invention relates to an improved silver halide photographic light-sensitive material.

【0002】[0002]

【従来の技術】ガラス支持体上にハロゲン化銀写真乳剤
層を有するガラス乾板は寸法安定性に優れるため、精密
度が要求されるIC用のフォトマスクやCRTのシャド
ウマスク、リードフレーム、各種ディスプレイ関係のフ
ォトマスクとして用いられている。かかるガラス乾板は
微細なパターンを焼き付けて原画パターンを形成し、そ
れとマスクとして別のガラス乾板に密着露光してパター
ンを複製することや、あるいはフォトレジスト層を有す
る基板に密着露光して原画パターンを転写して多数枚の
フォトレジストパターンを得るために使用される。
2. Description of the Related Art A glass dry plate having a silver halide photographic emulsion layer on a glass support is excellent in dimensional stability, and therefore, a photomask for ICs, a shadow mask of a CRT, a lead frame, various displays which require high precision are required. It is used as a related photomask. Such a glass dry plate is used to bake a fine pattern to form an original pattern, and then use it as a mask to contact and expose another glass dry plate to reproduce the pattern, or to contact and expose a substrate having a photoresist layer to expose the original pattern. It is used to transfer and obtain a large number of photoresist patterns.

【0003】ところが、従来技術にあっては密着露光し
て原画パターンを転写する際に、原画パターンを有する
マスターマスク上にオペークまたはスミ等による修正箇
所があると、バキュームプリンターで密着したときに修
正箇所のわずかな突起にバキューム圧力が集中し、複製
しようとするとする感光材料に圧力によるカブリを生じ
させることがあった。このようなカブリ(圧着カブリ)
が発生すると、その部分は重大な欠陥となる。マスター
マスクと複製しようとする感光材料の間に微小な異物が
ある場合も同様な圧着カブリが生じる。このようなガラ
ス支持体を有するハロゲン化銀写真感光材料に特有な圧
着カブリの発生は、高精細なフォトマスクを作成する上
で大きな障害となっている。また、かかるハロゲン化銀
写真感光材料は十分に洗浄されたガラス支持体上にハロ
ゲン化銀乳剤層を塗布して形成されるが、支持体と乳剤
層との接着が不十分であると現像処理中または乾燥後に
乳剤層が支持体から剥がれてしまう。
However, according to the prior art, when an original image pattern is transferred by contact exposure, if there is a correction portion such as an opaque or a smear on a master mask having the original pattern, the correction is made when the original mask is brought into close contact with a vacuum printer. Vacuum pressure concentrates on a slight protrusion at a location, and fog due to pressure may occur in a photosensitive material to be copied. Such fog (crimp fog)
When this occurs, that part becomes a serious defect. Similar press fog also occurs when there is minute foreign matter between the master mask and the photosensitive material to be copied. The occurrence of pressure fog peculiar to the silver halide photographic light-sensitive material having such a glass support is a major obstacle in producing a high-definition photomask. Such a silver halide photographic light-sensitive material is formed by coating a silver halide emulsion layer on a sufficiently washed glass support. However, if the adhesion between the support and the emulsion layer is insufficient, development processing is performed. The emulsion layer peels off the support during or after drying.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、圧着
カブリの発生が少なく、かつガラス支持体と乳剤層との
接着性が改良されたフォトマスク用ガラス乾板を提供す
ることである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a glass dry plate for a photomask in which the generation of pressure fog is reduced and the adhesion between the glass support and the emulsion layer is improved.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、ガラス
支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有
し、該乳剤層またはその他の親水性コロイド層中に活性
メチレン基を有するポリマーラテックスを含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成さ
れた。
An object of the present invention is to provide a polymer having at least one silver halide emulsion layer on a glass support and having an active methylene group in the emulsion layer or another hydrophilic colloid layer. This was achieved by a silver halide photographic material characterized by containing latex.

【0006】本発明に用いるガラス支持体は、ガラス組
成において特に制限はないが、ソーダ石灰ガラスやソー
ダ石灰アルミガラス等が好ましい。該支持体は、親水性
コロイド層用塗布液の塗布の前に予め表面が脱グリース
され、親水性を改善する前処理がなされていることが好
ましい。また、支持体の端面は研磨されたものが取扱い
上好ましい。
[0006] The glass support used in the present invention is not particularly limited in the glass composition, but is preferably soda-lime glass, soda-lime aluminum glass, or the like. It is preferable that the surface of the support is degreased in advance before the application of the coating liquid for a hydrophilic colloid layer, and is subjected to a pretreatment for improving hydrophilicity. The end face of the support is preferably polished for handling.

【0007】本発明の感光材料はガラス支持体に少なく
とも一層のハロゲン化銀乳剤層を有し、他に必要に応じ
て乳剤層の上に保護層、乳剤層の下に下引層を設けるこ
とができる。また、乳剤層と下引層の間にハレーション
防止層を設けることもできる。
The light-sensitive material of the present invention has at least one silver halide emulsion layer on a glass support, and if necessary, a protective layer above the emulsion layer and an undercoat layer below the emulsion layer. Can be. Further, an antihalation layer can be provided between the emulsion layer and the undercoat layer.

【0008】本発明における活性メチレン基を有するポ
リマーラテックスは下記一般式(I)で表されるポリマ
ーである。 一般式(I)
The polymer latex having an active methylene group in the present invention is a polymer represented by the following general formula (I). General formula (I)

【0009】[0009]

【化1】 Embedded image

【0010】式中、Cは活性メチレン基を含有するエチ
レン性不飽和モノマーより誘導される繰返し単位を表
し、AはC以外でかつ、その単独重合体のガラス転移温
度が、35℃以下である様なエチレン性不飽和モノマー
より誘導される繰返し単位を表し、BはC、A以外のエ
チレン性不飽和モノマーより誘導される繰返し単位を表
す。
In the formula, C represents a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated monomer containing an active methylene group, and A is other than C and the homopolymer has a glass transition temperature of 35 ° C. or lower. Represents a repeating unit derived from such an ethylenically unsaturated monomer, and B represents a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated monomer other than C and A.

【0011】x、y、zは、各成分の重量百分率比を表
し、xは0.5ないし40、yは60ないし99.5、
zは0ないし50の値をとる。ここでx+y+z=10
0を表す。
X, y, and z each represent a weight percentage ratio of each component, x is 0.5 to 40, y is 60 to 99.5,
z takes a value of 0 to 50. Where x + y + z = 10
Represents 0.

【0012】さらに詳細に説明すると、Cで表される活
性メチレン基を含有するエチレン性不飽和モノマーは下
記一般式で表される。
More specifically, the ethylenically unsaturated monomer containing an active methylene group represented by C is represented by the following general formula.

【0013】[0013]

【化2】 Embedded image

【0014】式中、R1 は水素原子、炭素数1〜4(例
えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル)ま
たはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)を表
し、好ましくは水素原子、メチル基、塩素原子を表す。
Lは単結合もしくは二価の連結基を表し、具体的には下
式で表される。
In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a carbon atom having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl) or a halogen atom (for example, chlorine atom or bromine atom); Represents an atom, a methyl group, or a chlorine atom.
L represents a single bond or a divalent linking group, and is specifically represented by the following formula.

【0015】[0015]

【化3】 Embedded image

【0016】L1 は-CON(R2)-(R2 は水素原子、炭素数
1〜4のアルキル基、または炭素数1〜6の置換アルキ
ル基を表わす)、-COO- 、-NHCO-、-OCO- 、
L 1 is -CON (R 2 )-(R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), -COO-, -NHCO- , -OCO-,

【0017】[0017]

【化4】 Embedded image

【0018】(R3 、R4 はそれぞれ独立に、水素、ヒ
ドロキシル、ハロゲン原子または置換もしくは無置換の
アルキル、アルコキシ、アシルオキシもしくはアリール
オキシを表わす)を表わし、L2 はL1 とXを結ぶ連結
基を表わし、mは0または1を表わしnは0または1を
表わす。L2 で表される連結基は具体的には、下記の一
般式で表される。
(R 3 and R 4 each independently represent hydrogen, hydroxyl, halogen atom or substituted or unsubstituted alkyl, alkoxy, acyloxy or aryloxy), and L 2 is a link connecting L 1 and X. M represents 0 or 1 and n represents 0 or 1. The linking group represented by L 2 is specifically represented by the following general formula.

【0019】[0019]

【化5】 Embedded image

【0020】J1 、J2 、J3 は同じでも異なっていて
もよく、-CO-、-SO2- 、-CON(R5)-(R5 は水素原子、ア
ルキル基(炭素数1〜6)、置換アルキル基(炭素数1
〜6)、-SO2N(R5)-(R5 は上記と同義)、-N(R5)-R6-
(R5 は上記と同義、R6 は炭素数1〜約4のアルキレ
ン基)、-N(R5)-R6-N(R7)-(R5 、R6 は上記と同義、
7 は水素原子、アルキル基(炭素数1〜6)、置換ア
ルキル基(炭素数1〜6)を表わす。)、-O- 、-S- 、
-N(R5)-CO-N(R7)-(R5 、R7 は上記と同義)、-N(R5)
-SO2N(R7)-(R5 、R7 は上記と同義)、-COO- 、-OCO
- 、-N(R5)CO2-(R5 は上記と同義)、-N(R5)CO-(R5
は上記と同義)等を挙げることができる。
J 1 , J 2 and J 3 may be the same or different, and —CO—, —SO 2 −, and —CON (R 5 ) — (R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group (having 1 to 1 carbon atoms) 6), a substituted alkyl group (1 carbon atom)
~6), - SO 2 N ( R 5) - (R 5 is as defined above), - N (R 5) -R 6 -
(R 5 is as defined above, R 6 is an alkylene group having 1 to about 4 carbon atoms), -N (R 5 ) -R 6 -N (R 7 )-(R 5 and R 6 are as defined above,
R 7 is a hydrogen atom, an alkyl group (1-6 carbon atoms), a substituted alkyl group (1-6 carbon atoms). ), -O-, -S-,
-N (R 5 ) -CO-N (R 7 )-(R 5 and R 7 are as defined above), -N (R 5 )
-SO 2 N (R 7 )-(R 5 and R 7 are as defined above), -COO-, -OCO
-, -N (R 5 ) CO 2- (R 5 is as defined above), -N (R 5 ) CO- (R 5
Is the same as defined above).

【0021】p、q、r、sは0または1を表す。
1 、X2 、X3 は互いに同じでも異なっていてもよ
く、炭素数1〜10個の無置換もくしは置換のアルキレ
ン基、アラルキレン基、またはフェニレン基を表わし、
アルキレン基は直鎖でも分岐でもよい。アルキレン基と
しては例えばメチレン、メチルメチレン、ジメチルメチ
レン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペ
ンタメチレン、ヘキサメチレン、デシルメチレン、アラ
ルキレン基としては例えばベンジリデン、フェニレン基
としては例えばp−フェニレン、m−フェニレン、メチ
ルフェニレンなどがある。
P, q, r, and s represent 0 or 1.
X 1 , X 2 and X 3 may be the same or different from each other, and represent an unsubstituted or substituted alkylene group, aralkylene group or phenylene group having 1 to 10 carbon atoms;
The alkylene group may be linear or branched. Examples of the alkylene group include methylene, methylmethylene, dimethylmethylene, dimethylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, decylmethylene, aralkylene groups such as benzylidene, and phenylene groups such as p-phenylene, m-phenylene, and methyl. There is phenylene.

【0022】Xは、活性メチレン基を含む一価の基を表
し、好ましい具体例としては、R8-CO-CH2-COO-、N-C-CH
2-COO-、R8-CO-CH2-CO- 、R8-CO-CH2-CON(R5)-等を挙げ
ることができる。ここでR5 は前記に同じであり、R8
は炭素数1〜12個の置換または無置換のアルキル基
(例えばメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、
t−ブチル、n−ノニル、2−メトキシエチル、4−フ
ェノキシブチル、ベンジル、2−メタンスルホンアミド
エチル等)、置換または無置換のアリール基(例えばフ
ェニル、p−メチルフェニル、p−メトキシフェニル、
o−クロロフェニル等)、アルコキシ基(例えば、メト
キシ、エトキシ、メトキシエトキシ、n−ブトキシ
等)、
X represents a monovalent group containing an active methylene group, and preferred examples thereof include R 8 —CO—CH 2 —COO— and NC—CH
2 -COO-, R 8 -CO-CH 2 -CO-, R 8 -CO-CH 2 -CON (R 5) - , and the like. Here, R 5 is the same as above, and R 8
Is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl,
t-butyl, n-nonyl, 2-methoxyethyl, 4-phenoxybutyl, benzyl, 2-methanesulfonamidoethyl and the like, and substituted or unsubstituted aryl groups (for example, phenyl, p-methylphenyl, p-methoxyphenyl,
o-chlorophenyl and the like), alkoxy groups (for example, methoxy, ethoxy, methoxyethoxy, n-butoxy and the like),

【0023】シクロアルキルオキシ基(例えばシクロヘ
キシルオキシ)、アリロキシ(例えばフェノキシ、p−
メチルフェノキシ、o−クロロフェノキシ、p−シアノ
フェノキシ等)、アミノ基、置換アミノ基(例えばメチ
ルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミ
ノ等)を表わす。
Cycloalkyloxy groups (eg, cyclohexyloxy), allyloxy (eg, phenoxy, p-
Methylphenoxy, o-chlorophenoxy, p-cyanophenoxy, etc.), an amino group, and a substituted amino group (eg, methylamino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, etc.).

【0024】以下に、本発明の一般式(I)で表される
ポリマーにおいて、Cで表される活性メチレン基を有す
るエチレン性不飽和モノマーを例示するがこれらに限定
されるものではない。
Hereinafter, in the polymer represented by the general formula (I) of the present invention, an ethylenically unsaturated monomer having an active methylene group represented by C will be exemplified, but the invention is not limited thereto.

【0025】M−1 2−アセトアセトキシエチルメタ
クリレート M−2 2−アセトアセトキシエチルアクリレート M−3 2−アセトアセトキシプロピルメタクリレート M−4 2−アセトアセトキシプロピルアクリレート M−5 2−アセトアセトアミドエチルメタクリレート M−6 2−アセトアセトアミドエチルアクリレート
M-1 2-acetoacetoxyethyl methacrylate M-2 2-acetoacetoxyethyl acrylate M-3 2-acetoacetoxypropyl methacrylate M-4 2-acetoacetoxypropyl acrylate M-5 2-acetoacetamidoethyl methacrylate M- 6 2-acetoacetamidoethyl acrylate

【0026】M−7 2−シアノアセトキシエチルメタ
クリレート M−8 2−シアノアセトキシエチルアクリレート M−9 N−(2−シアノアセトキシエチル)アクリル
アミド M−10 2−プロピオニルアセトキシエチルアクリレー
ト M−11 N−(2−プロピオニルアセトキシエチル)メ
タクリルアミド M−12 N−4−(アセトアセトキシベンジル)フェニ
ルアクリルアミド
M-7 2-cyanoacetoxyethyl methacrylate M-8 2-cyanoacetoxyethyl acrylate M-9 N- (2-cyanoacetoxyethyl) acrylamide M-10 2-propionylacetoxyethyl acrylate M-11 N- (2 -Propionylacetoxyethyl) methacrylamide M-12 N-4- (acetoacetoxybenzyl) phenylacrylamide

【0027】M−13 エチルアクリロイルアセテート M−14 アクリロイルイルメチルアセテート M−15 N−メタクリロイルオキシメチルアセトアセト
アミド M−16 エチルメタクリロイルアセトアセテート M−17 N−アリルシアノアセトアミド M−18 メチルアクリロイルアセトアセテート
M-13 Ethyl acryloyl acetate M-14 Acryloyl methyl acetate M-15 N-Methacryloyloxymethyl acetoacetamide M-16 Ethyl methacryloylacetoacetate M-17 N-Allyl cyanoacetamide M-18 Methyl acryloylacetoacetate

【0028】M−19 N−(2−メタクリロイルオキシ
メチル)シアノアセトアミド M−20 p−(2−アセトアセチル)エチルスチレン M−21 4−アセトアセチル−1−メタクリロイルピペ
ラジン M−22 エチル−α−アセトアセトキシメタクリレート M−23 N−ブチル−N−アクリロイルオキシエチルア
セトアセトアミド M−24 p−(2−アセトアセトキシ)エチルスチレン
M-19 N- (2-methacryloyloxymethyl) cyanoacetamide M-20 p- (2-acetoacetyl) ethylstyrene M-21 4-acetoacetyl-1-methacryloylpiperazine M-22 ethyl-α-acetate Acetoxy methacrylate M-23 N-butyl-N-acryloyloxyethyl acetoacetamide M-24 p- (2-acetoacetoxy) ethylstyrene

【0029】Aで表される繰返し単位を与えるエチレン
性不飽和モノマーは、その単独重合体のガラス転移温度
が35℃以下となる様なモノマーであり、具体的には、
アルキルアクリレート(例えば、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ヘ
キシルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−エチ
ルヘキシルアクリレート、n−ドデシルアクリレートな
ど)、アルキルメタクリレート(例えば、n−ブチルメ
タクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2−エチ
ルヘキシルメタクリレート、n−ドデシルメタクリレー
トなど)、ジエン酸(例えばブタジエン、イソプレン
等)、ビニルエステル類(例えば酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル等)などを挙げることができる。
The ethylenically unsaturated monomer giving a repeating unit represented by A is a monomer whose homopolymer has a glass transition temperature of 35 ° C. or lower.
Alkyl acrylates (eg, methyl acrylate,
Ethyl acrylate, n-butyl acrylate, n-hexyl acrylate, benzyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-dodecyl acrylate, etc., alkyl methacrylate (for example, n-butyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n- Examples thereof include dodecyl methacrylate), dienoic acid (eg, butadiene, isoprene, etc.), and vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate, etc.).

【0030】更に好ましいモノマーとしては単独重合体
のガラス転移温度が10℃以下のモノマーであり、この
様なモノマーとしては炭素数2以上のアルキル側鎖を有
するアルキルアクリレート(例えば、エチルアクリレー
ト、n−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート等)、炭素数6以上のアルキル側鎖を有するア
ルキルメタクリレート(例えば、n−ヘキシルメタクリ
レート、2−エチルヘキシルメタクリレート等)、ジエ
ン類(例えばブタジエン、イソプレン)を特に好ましい
例として挙げることができる。
More preferred monomers are those having a homopolymer having a glass transition temperature of 10 ° C. or lower. Examples of such monomers include alkyl acrylates having an alkyl side chain having 2 or more carbon atoms (eg, ethyl acrylate, n- Particularly preferred examples include butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, etc., alkyl methacrylates having an alkyl side chain having 6 or more carbon atoms (eg, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, etc.), and dienes (eg, butadiene, isoprene). Can be mentioned.

【0031】上記のポリマーのガラス転移温度の値につ
いては、J. Brandrup. E.H. Immergut共編「Polymer Ha
ndbook」第3版(John Wily & Sons, 1989 年)VI/209 〜
VI/277頁に記載されている。
Regarding the value of the glass transition temperature of the above polymer, see “Polymer Ha,” edited by J. Brandrup. EH Immergut.
ndbook "3rd edition (John Wily & Sons, 1989) VI / 209 ~
It is described on page VI / 277.

【0032】Bで表される繰返し単位は、A以外の繰返
し単位、すなわちその単独重合体のガラス転移温度が3
5℃を超える様なモノマーより誘導される繰返し単位を
表す。
The repeating unit represented by B is a repeating unit other than A, that is, the homopolymer has a glass transition temperature of 3
It represents a repeating unit derived from a monomer having a temperature exceeding 5 ° C.

【0033】具体的には、アクリル酸エステル類(例え
ば、t−ブチルアクリレート、フェニルアクリレート、
2−ナフチルアクリレート等)、メタクリル酸エステル
類(例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレー
ト、4−クロロベンジルメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート等)、
Specifically, acrylates (for example, t-butyl acrylate, phenyl acrylate,
2-naphthyl acrylate, etc.), methacrylic esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, 4-chlorobenzyl methacrylate, ethylene glycol) Dimethacrylate),

【0034】ビニルエステル類(例えば、安息香酸ビニ
ル、ピバロイルオキシエチレン等)、アクリルアミド類
(例えば、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エ
チルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチル
アクリルアミド、tert−ブチルアクリルアミド、シクロ
ヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒ
ドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリ
ルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェ
ニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチ
ルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、
ジアセトンアクリルアミドなど)、
Vinyl esters (eg, vinyl benzoate, pivaloyloxyethylene, etc.), acrylamides (eg, acrylamide, methylacrylamide, ethylacrylamide, propylacrylamide, butylacrylamide, tert-butylacrylamide, cyclohexylacrylamide, benzylacrylamide) , Hydroxymethylacrylamide, methoxyethylacrylamide, dimethylaminoethylacrylamide, phenylacrylamide, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, β-cyanoethylacrylamide,
Diacetone acrylamide),

【0035】メタクリルアミド類(例えば、メタクリル
アミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルア
ミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルア
ミド、tert−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシル
メタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロ
キシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリ
ルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フ
ェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、
ジエチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリ
ルアミドなど)、
Methacrylamides (for example, methacrylamide, methyl methacrylamide, ethyl methacrylamide, propyl methacrylamide, butyl methacrylamide, tert-butyl methacrylamide, cyclohexyl methacrylamide, benzyl methacrylamide, hydroxymethyl methacrylamide, methoxyethyl methacrylamide Amide, dimethylaminoethyl methacrylamide, phenyl methacrylamide, dimethyl methacrylamide,
Diethyl methacrylamide, β-cyanoethyl methacrylamide, etc.),

【0036】スチレン類(例えば、スチレン、メチルス
チレン、ジメチルスチレン、トリメチレンスチレン、エ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロスチレ
ン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルス
チレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安
息香酸メチルエステルなど)、ジビニルベンゼン、
Styrenes (for example, styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylenestyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, chlorostyrene, methoxystyrene, acetoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, methyl vinyl benzoate) Etc.), divinylbenzene,

【0037】アクリルニトリル、メタアクリロニトリ
ル、N−ビニルピロリドン、N−ビニルオキサゾリド
ン、塩化ビニリデン、フェニルビニルケトン等を挙げる
ことができる。
Acrylic nitrile, methacrylonitrile, N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl oxazolidone, vinylidene chloride, phenyl vinyl ketone and the like can be mentioned.

【0038】また、本発明の一般式(I)で表されるポ
リマーにおいては、特公昭60−15935号、同45
−3822号、同53−28086号、米国特許第3,
700,456号等に記載されている様なアニオン性官
能基(例えば、カルボキシル基、スルホン酸基)を有す
るモノマーをラテックスの安定性を向上させる等の目的
で共重合してもよい。
Further, in the polymer represented by the general formula (I) of the present invention, Japanese Patent Publication Nos.
No.-3822, No.53-28086, U.S. Pat.
A monomer having an anionic functional group (for example, a carboxyl group or a sulfonic acid group) as described in Japanese Patent No. 700,456 or the like may be copolymerized for the purpose of improving the stability of the latex.

【0039】このようなモノマーとしては、以下の化合
物を挙げることができる。アクリル酸;メタクリル酸;
イタコン酸、マレイン酸;イタコン酸モノアルキル、例
えば、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチルな
ど;マレイン酸モノアルキル、例えば、マレイン酸モノ
メチル、マレイン酸モノエチルなど;シトラコン酸;ス
チレンスルホン酸;ビニルベンジルスルホン酸;ビニル
スルホン酸;アクリロイルオキシアルキルスルホン酸、
例えば、アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アクリ
ロイルオキシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシプ
ロピルスルホン酸など;メタクリロイルオキシアルキル
スルホン酸、例えば、メタクリロイルオキシメチルスル
ホン酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メタ
クリロイルオキシプロピルスルホン酸など;アクリルア
ミドアルキルスルホン酸、例えば、2−アクリルアミド
−2−メチルエタンスルホン酸、2−アクリルアミド−
2−メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミド−
2−メチルブタンスルホン酸など;メタクリルアミドア
ルキルスルホン酸、例えば、2−メタクリルアミド−2
−メチルエタンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2
−メチルプロパンスルホン酸、2−メタクリルアミド−
2−メチルブタンスルホン酸など;これらの酸はアルカ
リ金属(例えば、Na、Kなど)またはアンモニウムイ
オンの塩であってもよい。
The following compounds can be mentioned as such monomers. Acrylic acid; methacrylic acid;
Monoalkyl itaconate, for example, monomethyl itaconate, monoethyl itaconate; monoalkyl maleate, for example, monomethyl maleate, monoethyl maleate; citraconic acid; styrene sulfonic acid; vinylbenzyl sulfonic acid; Vinylsulfonic acid; acryloyloxyalkylsulfonic acid,
For example, acryloyloxymethylsulfonic acid, acryloyloxyethylsulfonic acid, acryloyloxypropylsulfonic acid, etc .; methacryloyloxyalkylsulfonic acid, for example, methacryloyloxymethylsulfonic acid, methacryloyloxyethylsulfonic acid, methacryloyloxypropylsulfonic acid, etc .; acrylamidoalkyl Sulfonic acid, for example, 2-acrylamido-2-methylethanesulfonic acid, 2-acrylamido-
2-methylpropanesulfonic acid, 2-acrylamide-
2-methylbutanesulfonic acid and the like; methacrylamide alkylsulfonic acid, for example, 2-methacrylamide-2
-Methylethanesulfonic acid, 2-methacrylamide-2
-Methylpropanesulfonic acid, 2-methacrylamide-
Such acids may be salts of alkali metals (eg, Na, K, etc.) or ammonium ions.

【0040】x、y、zは重合体中の各モノマー成分の
重量百分率比を表し、xは0.5 ないし40、好ましくは0.
5 ないし30、特に好ましくは1ないし20であり、yは60
ないし99.5、好ましくは70ないし99.5、特に好ましくは
75ないし99であり,zは0ないし50、好ましくは
0ないし35、特に好ましくは0ないし25である。
X, y, and z each represent a percentage by weight of each monomer component in the polymer, and x is 0.5 to 40, preferably 0.1 to 0.4.
5 to 30, particularly preferably 1 to 20, and y is 60
To 99.5, preferably 70 to 99.5, particularly preferably 75 to 99, and z is 0 to 50, preferably 0 to 35, particularly preferably 0 to 25.

【0041】また、上記のアニオン性官能基を有する単
量体は、その単独重合体のガラス転移温度の大小に依ら
ず、ラテックスの安定付与等の必要に応じて用いること
が可能であり、用いた場合の好ましい量は、ポリマーの
全重量に対し、0.5ないし20重量%、特に好ましく
は1ないし10重量%である。
The above-mentioned monomer having an anionic functional group can be used as required, for example, for imparting stability to a latex, irrespective of the glass transition temperature of the homopolymer. Preferred amounts are 0.5 to 20% by weight, particularly preferably 1 to 10% by weight, based on the total weight of the polymer.

【0042】本発明の一般式(I)のポリマーラテック
スの好ましい化合物について以下に例示する。括弧内は
共重合体における各成分の重量百分率を表す。
Preferred compounds of the polymer latex of the general formula (I) of the present invention are exemplified below. The values in parentheses indicate the weight percentage of each component in the copolymer.

【0043】I−1 エチルアクリレート/M−1/ア
クリル酸共重合体(85/10/5) I−2 n−ブチルアクリレート/M−1/メタクリル
酸共重合体(85/5/10) I−3〜7 n−ブチルアクリレート/M−1/アクリ
ル酸共重合体(x/y/z) I−3 x/y/z =95/2/3 I−4 x/y/z =92/5/3 I−5 x/y/z =89/8/3 I−6 x/y/z =81/16/3 I−7 x/y/z =72/25/3
I-1 Ethyl acrylate / M-1 / acrylic acid copolymer (85/10/5) I-2 n-butyl acrylate / M-1 / methacrylic acid copolymer (85/5/10) -3 to 7 n-butyl acrylate / M-1 / acrylic acid copolymer (x / y / z) I-3 x / y / z = 95/2/3 I-4 x / y / z = 92 / 5/3 I-5 x / y / z = 89/8/3 I-6 x / y / z = 81/16/3 I-7 x / y / z = 72/25/3

【0044】I−8 n−ブチルアクリレート/スチレ
ン/M−1/メタクリル酸共重合体(65/20/5/10) I−9 メチルアクリレート/M−4/メタクリル酸共
重合体(80/15/5) I−10 n−ブチルアクリレート/M−5/アクリル酸
共重合体(85/10/5) I−11 n−ブチルアクリレート/M−7/メタクリル
酸共重合体(85/10/5) I−12 2−エチルヘキシルアクリレート/M−9共重
合体(75/25)
I-8 n-butyl acrylate / styrene / M-1 / methacrylic acid copolymer (65/20/5/10) I-9 methyl acrylate / M-4 / methacrylic acid copolymer (80/15 / 5) I-10 n-butyl acrylate / M-5 / acrylic acid copolymer (85/10/5) I-11 n-butyl acrylate / M-7 / methacrylic acid copolymer (85/10/5) ) I-12 2-ethylhexyl acrylate / M-9 copolymer (75/25)

【0045】I−13 n−ブチルアクリレート/M−14
/スチレンスルフィン酸カリウム共重合体(75/20/5) I−14 n−ヘキシルアクリレート/メトキシエチルア
クリレート/M−2共重合体(70/20/10) I−15 2−エチルヘキシルアクリレート/M−15/メ
タクリル酸共重合体(90/5/5) I−16 n−ブチルアクリレート/M−1/M−17/ア
クリル酸共重合体(75/5/15/5)
I-13 n-butyl acrylate / M-14
/ Polystyrene styrene sulfinate copolymer (75/20/5) I-14 n-hexyl acrylate / methoxyethyl acrylate / M-2 copolymer (70/20/10) I-15 2-ethylhexyl acrylate / M- 15 / methacrylic acid copolymer (90/5/5) I-16 n-butyl acrylate / M-1 / M-17 / acrylic acid copolymer (75/5/15/5)

【0046】本発明のポリマーラテックスは一般によく
知られている乳化重合法によって調製され、その粒子径
の好ましい範囲は0.01ないし1.0μmである。乳
化重合法は好ましくは少くとも一種の乳化剤を用いて水
あるいは水と水に混和しうる有機溶媒(たとえばメタノ
ール、エタノール、アセトン等)の混和溶媒中でモノマ
ーを乳化させラジカル重合開始剤を用いて一般に30℃
ないし約100℃、好ましくは40℃ないし約90℃の
温度で行なわれる。水に混和しうる有機溶媒の量は水に
対して体積比で0〜100%、好ましくは0〜50%で
ある。
The polymer latex of the present invention is prepared by a generally well-known emulsion polymerization method, and the preferred range of the particle size is 0.01 to 1.0 μm. The emulsion polymerization method is preferably carried out by emulsifying a monomer in water or a mixed solvent of water and an organic solvent miscible with water (eg, methanol, ethanol, acetone, etc.) using at least one emulsifier, and using a radical polymerization initiator. Generally 30 ° C
It is carried out at a temperature of from about 100 ° C to about 100 ° C, preferably from 40 ° C to about 90 ° C. The amount of the organic solvent miscible with water is from 0 to 100%, preferably from 0 to 50%, by volume relative to water.

【0047】重合反応は、通常重合すべき単量体に対し
0.05〜5重量%のラジカル重量開始剤と必要に応じ
て0.1〜10重量%の乳化剤を用いて行なわれる。重
合開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド、
ハイドロパーオキサイド、レドックス溶媒など、たとえ
ば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、tert−ブチル
パーオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプ
ロピル−カーボネイト、2,4−ジクロロベンジルパー
オキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、クメ
ンハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、
2,2′−アゾビスイソブチレート、2,2′−アゾビ
ス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロライドなどが
ある。
The polymerization reaction is usually carried out using 0.05 to 5% by weight of a radical weight initiator and optionally 0.1 to 10% by weight of an emulsifier with respect to the monomer to be polymerized. As the polymerization initiator, azobis compounds, peroxides,
Hydroperoxides, redox solvents and the like, for example, potassium persulfate, ammonium persulfate, tert-butyl peroctoate, benzoyl peroxide, isopropyl-carbonate, 2,4-dichlorobenzyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, cumene hydroperoxide, dik Mil peroxide,
Examples include 2,2'-azobisisobutyrate and 2,2'-azobis (2-amidinopropane) hydrochloride.

【0048】乳化剤としてはアニオン性、カチオン性、
両性、ノニオン性の界面活性剤の他、水溶性ポリマーな
どがある。たとえばラウリン酸ソーダ、ドデシル硫酸ナ
トリウム、1−オクトキシカルボニルメチル−1−オク
トキシカルボニルメタンスルホサン酸ナトリウム、ラウ
リルナフタリンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、
セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルト
リメチレンアンモニウムクロライド、N−2−エチルヘ
キシルピリジニウムクロライド、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン
ラウリンエステル、ポリビニルアルコール、特公昭53
−6190号に記載の乳化剤、水溶性ポリマーなどがあ
る。
As the emulsifier, anionic, cationic,
In addition to amphoteric and nonionic surfactants, there are water-soluble polymers and the like. For example, sodium laurate, sodium dodecyl sulfate, sodium 1-octoxycarbonylmethyl-1-octoxycarbonylmethanesulfosanoate, sodium lauryl naphthalene sulfonate, sodium lauryl benzene sulfonate, sodium lauryl phosphate,
Cetyltrimethylammonium chloride, dodecyltrimethyleneammonium chloride, N-2-ethylhexylpyridinium chloride, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene sorbitan laurate ester, polyvinyl alcohol, JP-B-53
And emulsifiers and water-soluble polymers described in US Pat.

【0049】乳化重合においては、その目的に応じて、
重合開始剤、濃度、重合温度、反応時間などを幅広く、
かつ、容易に変更できることはいうまでもない。また、
乳化重合反応は、モノマー界面活性剤、媒体を予め容器
に全量入れておき、開始剤を投入して行ってもよいし、
必要に応じて各成分の一部あるいは全量を滴下しながら
重合を行ってもよい。
In the emulsion polymerization, depending on the purpose,
Wide range of polymerization initiator, concentration, polymerization temperature, reaction time, etc.
Needless to say, it can be easily changed. Also,
The emulsion polymerization reaction may be carried out by putting the entire amount of the monomer surfactant and the medium in a container in advance, and adding an initiator,
The polymerization may be carried out while dropping part or all of each component as necessary.

【0050】本発明の一般式(I)で表されるポリマー
における、Cで表される活性メチレン基を有するモノマ
ーやポリマーラテックスの種類やその合成法については
上記の他米国特許第3,459,790号、同3,61
9,195号、同3,929,482号、同3,70
0,456号、西独特許2,442,165号、欧州特
許13,147号、特開昭50−73625号、同50
−146331号等の記載を参考に行うことができる。
In the polymer represented by the general formula (I) of the present invention, the type of the monomer having an active methylene group represented by C and the polymer latex and the method of synthesizing the same are described in US Pat. 790, 3,61
9,195, 3,929,482, 3,70
No. 0,456, West German Patent No. 2,442,165, European Patent No. 13,147, JP-A-50-73625, and JP-A-50-73625.
It can be performed with reference to the description of 146331 or the like.

【0051】さらに、活性メチレン基を有するポリマー
ラテックスは、コア/シェル構造を有するポリマーラテ
ックスが好ましい。本発明のコア/シェルポリマーラテ
ックスのコア部は、具体的には種々の重合可能なエチレ
ン性不飽和モノマーの1種もしくは2種以上の繰返し単
位からなるポリマーである。
Further, the polymer latex having an active methylene group is preferably a polymer latex having a core / shell structure. The core of the core / shell polymer latex of the present invention is specifically a polymer comprising one or more kinds of repeating units of various polymerizable ethylenically unsaturated monomers.

【0052】このようなモノマーとしては、アクリル酸
エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル
類、オレフィン類、ジエン類、アクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、ビニルエーテル類、他種々のエチレン
性不飽和モノマーを用いる事ができ、また、二個以上の
エチレン性不飽和基を有するモノマーも好ましく用いる
事ができる。
As such monomers, acrylic esters, methacrylic esters, vinyl esters, olefins, dienes, acrylamides, methacrylamides, vinyl ethers, and various other ethylenically unsaturated monomers are used. In addition, a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups can be preferably used.

【0053】さらに具体的な例を挙げると、アクリル酸
エステル類としては、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルア
クリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアク
リレート、sec −ブチルアクリレート、tert−ブチルア
クリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリ
レート、tert−オクチルアクリレート、2−クロロエチ
ルアクリレート、2−ブロモエチルアクリレート、4−
クロロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレー
ト、2−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミ
ノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキ
シベンジルアクリレート、2−クロロシクロヘキシルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
フェニルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリ
レート、2,2−ジメチル3−ヒドロキシプロピルアク
リレート、2−メトキシエチルアクリレート、3−メト
キシブチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレ
ート、2−iso −プロポキシアクリレート、2−ブトキ
シエチルアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)
エチルアクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エ
チルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコー
ルアクリレート(付加モル数n=9)、1−ブロモ−2
−メトキシエチルアクリレート、1,1−ジクロロ−2
−エトキシエチルアクリレート等が挙げられる。
More specifically, examples of acrylates include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, sec-butyl acrylate and tert-butyl acrylate. , Amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-bromoethyl acrylate, 4-
Chlorobutyl acrylate, cyanoethyl acrylate, 2-acetoxyethyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, 2-chlorocyclohexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate,
Phenyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 2,2-dimethyl 3-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-iso-propoxy acrylate, 2-butoxyethyl acrylate , 2- (2-methoxyethoxy)
Ethyl acrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acrylate, ω-methoxy polyethylene glycol acrylate (additional mole number n = 9), 1-bromo-2
-Methoxyethyl acrylate, 1,1-dichloro-2
-Ethoxyethyl acrylate and the like.

【0054】メクタリル酸エステル類の例としては、メ
チルメタクリレート、エチルメタクレート、n−プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−
ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、se
c −ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレー
ト、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、
シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリ
レート、ステアリルメタクリレート、N−エチル−N−
フェニルアミノエチルメタクリレート、2−(3−フェ
ニルプロピルオキシ)エチルメタクリレート、ジメチル
アミノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメ
タクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレー
ト、ナフチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、
トリエチレングリコールモノメタクリレート、ジプロピ
レングリコールモノメタクリレート、2−メトキシエチ
ルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレー
ト、2−アセトキシエチルメタクリレート、2−エトキ
シエチルメタクリレート、2−iso −プロポキシエチル
メタクリレート、2−ブトキシエチルメタクリレート、
2−(2−メトキシエトキシ)エチルメタクリレート、
2−(2−ブトキシエトキシ)エチルメクタリレート、
アリルメタクリレートなどを挙げることができる。
Examples of methallylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, and n-methacrylate.
Butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, se
c-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate,
Cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, stearyl methacrylate, N-ethyl-N-
Phenylaminoethyl methacrylate, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl methacrylate, dimethylaminophenoxyethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4- Hydroxybutyl methacrylate,
Triethylene glycol monomethacrylate, dipropylene glycol monomethacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-acetoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, 2-iso-propoxyethyl methacrylate, 2-butoxyethyl methacrylate,
2- (2-methoxyethoxy) ethyl methacrylate,
2- (2-butoxyethoxy) ethyl methacrylate,
Allyl methacrylate and the like can be mentioned.

【0055】ビニルエステル類の例としては、ビニルア
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、
ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフ
ェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル
などを挙げることができる。共役ジエンモノマーとして
は、1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタ
ジエン、2−エチル−1,3−ブタジエン、2−n−プ
ロピル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,
3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ペンタジエン、
1−フェニル−1,3−ブタジエン、1−α−ナフチル
−1,3−ブタジエン、1−β−ナフチル−1,3−ブ
タジエン、2−クロル−1,3−ブタジエン、1−ブロ
ム−1,3−ブタジエン、1−クロルブタジエン、2−
フルオロ−1,3−ブタジエン、2,3−ジクロル−
1,3−ブタジエン、1,1,2−トリクロル−1,3
−ブタジエン及び2−シアノ−1,3−ブタジエンを挙
げることができる。
Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate,
Examples thereof include vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl benzoate, and vinyl salicylate. Examples of the conjugated diene monomer include 1,3-butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, 2-ethyl-1,3-butadiene, 2-n-propyl-1,3-butadiene, 2,3-dimethyl-1,
3-butadiene, 2-methyl-1,3-pentadiene,
1-phenyl-1,3-butadiene, 1-α-naphthyl-1,3-butadiene, 1-β-naphthyl-1,3-butadiene, 2-chloro-1,3-butadiene, 1-bromo-1, 3-butadiene, 1-chlorobutadiene, 2-
Fluoro-1,3-butadiene, 2,3-dichloro-
1,3-butadiene, 1,1,2-trichloro-1,3
-Butadiene and 2-cyano-1,3-butadiene.

【0056】また、上記のモノマー以外にアクリルアミ
ド類:例えば、アクリルアミド、エチルアクリルアミ
ド、tert−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアク
リルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチ
ルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチル
アクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジアセトン
アクリルアミドなど; メタクリルアミド類:例えば、メタクリルアミド、エチ
ルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリルアミド、
ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリ
ルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタク
リルアミドなど;
In addition to the above monomers, acrylamides such as acrylamide, ethyl acrylamide, tert-butyl acrylamide, cyclohexyl acrylamide, benzyl acrylamide, hydroxymethyl acrylamide, phenyl acrylamide, dimethyl acrylamide, diethyl acrylamide and diacetone acrylamide; Amides: for example, methacrylamide, ethyl methacrylamide, tert-butyl methacrylamide,
Benzyl methacrylamide, hydroxymethyl methacrylamide, phenyl methacrylamide, dimethyl methacrylamide and the like;

【0057】オレフィン類:例えば、エチレン、プロピ
レン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビ
ニリレン等;スチレン類例えば、スチレン、メチルスチ
レン、エチルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキ
シスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジ
クロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチ
ルエステルなど; ビニルエーテル類:例えば、メチルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキ
シビニルエーテルなど;
Olefins: for example, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, vinyl chloride, vinylylene chloride and the like; styrenes such as styrene, methyl styrene, ethyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro Styrene, dichlorostyrene, bromostyrene, vinyl benzoic acid methyl ester and the like; vinyl ethers: for example, methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxy vinyl ether and the like;

【0058】その他として、クロトン酸ブチル、クロト
ン酸ヘキシル、イタコン酸ジメチル、マレイン酸ジメチ
ル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸
ジメチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン、メトキシビニルケトン、N−ビニルピロリドン、ア
クリロニトリル、メタアクリロニトリル、メチレンマロ
ンニトリル、塩化ビニリデン、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、ビニル
スルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸、スチレンスルホン酸、等を挙げることがで
きる。
Others include butyl crotonate, hexyl crotonate, dimethyl itaconate, dimethyl maleate, dibutyl maleate, diethyl fumarate, dimethyl fumarate, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, methoxy vinyl ketone, N-vinyl pyrrolidone , Acrylonitrile, methacrylonitrile, methylenemalononitrile, vinylidene chloride, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, vinylsulfonic acid, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, styrenesulfonic acid, and the like. Can be mentioned.

【0059】また本発明のラテックスのコアには、少な
くとも2個の共重合可能なエチレン性不飽和基を有する
モノマーを用いる事もできる。このようなモノマーの例
としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
トリビニルシクロヘキサン、トリメチロールプロパント
リアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスルトールメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ペンタエリスルトールテトラメ
タクリレート、などが挙げられる。
In the core of the latex of the present invention, a monomer having at least two copolymerizable ethylenically unsaturated groups can be used. Examples of such monomers include divinylbenzene, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate,
Examples thereof include trivinylcyclohexane, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol methacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and pentaerythritol tetramethacrylate.

【0060】以上、列挙したモノマーは1種のみを用い
ても良いし2種以上のモノマーを共重合してもよい。ま
た重合の行いやすさ、コア/シェル構造形成のしやすさ
の点から、上記のモノマー群のうち、好ましく用いられ
るのはアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、共役ジエン類、スチレン類、2
個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーである。
以上述べたコアポリマーのうち、特に好ましい態様とし
ては、コアポリマーが乳化重合により製造され、かつ水
性媒体中に微粒子分散物(ラテックス)の形で存在して
いる事である。
As described above, only one kind of the monomers may be used, or two or more kinds of monomers may be copolymerized. From the viewpoint of easiness of polymerization and easiness of forming a core / shell structure, among the above-mentioned monomer groups, acrylates, methacrylates, vinyl esters, conjugated dienes, Styrenes, 2
It is a monomer having at least two ethylenically unsaturated groups.
Among the core polymers described above, a particularly preferred embodiment is that the core polymer is produced by emulsion polymerization and exists in the form of a fine particle dispersion (latex) in an aqueous medium.

【0061】このような分散物においては、コポリマー
は微粒子の形で存在している。このポリマーの粒子径
は、ゼラチンと混合したフィルムの膜物理性や、それ自
体の水分散安定性、被膜形成性に影響を及ぼし、大きす
ぎると好ましくない。以上の点より、コアポリマーの数
平均粒子径は1.0μm以下、好ましくは0.7μm以
下、特に好ましくは0.5μm以下である。そして下限
は0.00001μm以上が好ましい。
In such a dispersion, the copolymer is present in the form of fine particles. The particle size of the polymer affects the physical properties of the film mixed with gelatin, the stability of dispersion in water itself, and the ability to form a film. From the above points, the number average particle diameter of the core polymer is 1.0 μm or less, preferably 0.7 μm or less, particularly preferably 0.5 μm or less. And the lower limit is preferably 0.00001 μm or more.

【0062】本発明のコア/シェルラテックスのシェル
部について以下に説明する。本発明のシェル部は少なく
とも1種の前記一般式(I)の(C)で表される活性メ
チレン基を有するエチレン性不飽和モノマーより誘導さ
れる繰返し単位を有するポリマーである。
The shell part of the core / shell latex of the present invention will be described below. The shell part of the present invention is a polymer having a repeating unit derived from at least one ethylenically unsaturated monomer having an active methylene group represented by (C) in the general formula (I).

【0063】本発明のシェル部を構成するポリマー中に
は、上記の活性メチレン基を含むエチレン性不飽和モノ
マー以外のエチレン性不飽和モノマーが共重合されてい
てもよい。このようなモノマーとしては、アクリル酸エ
ステル類、メククリル酸エステル類、ビニルエステル
類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、オレフィ
ン類、スチレン類、ビニルエーテル類、他前記のコア粒
子を構成するモノマーを具体例として挙げる事ができ、
このうちアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、スチレン類が特に好ましい。
In the polymer constituting the shell part of the present invention, an ethylenically unsaturated monomer other than the above-mentioned ethylenically unsaturated monomer containing an active methylene group may be copolymerized. Specific examples of such a monomer include acrylic acid esters, methacrylic acid esters, vinyl esters, acrylamides, methacrylamides, olefins, styrenes, vinyl ethers, and other monomers constituting the core particles. Can be listed,
Of these, acrylic esters, methacrylic esters, vinyl esters, and styrenes are particularly preferred.

【0064】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
において、シェルポリマーにおける活性メチレン基を有
するモノマーユニットの割合は、性能上の必要により任
意に変える事ができ、0.1ないし100重量%の範囲
で用いる事ができる。但し、活性メチレン基を有するモ
ノマーユニットの共重合量を増やすと前記の種々効果は
増大するが、ある量以上ではその効果が飽和してしまう
場合もあり、事実上好ましくは0.1ないし60重量
%、特に好ましくは1ないし40重量%である。
In the core / shell polymer latex of the present invention, the proportion of the monomer unit having an active methylene group in the shell polymer can be arbitrarily changed according to performance requirements, and is used in the range of 0.1 to 100% by weight. Can do things. However, when the copolymerization amount of the monomer unit having an active methylene group is increased, the above-mentioned various effects are increased. However, when the amount exceeds a certain amount, the effect may be saturated. %, Particularly preferably 1 to 40% by weight.

【0065】本発明のコア/ジェルポリマーラテックス
におけるコア部ポリマーとシェル部ポリマーの量比は任
意に変える事ができるが、コア/シェル重量比で10/
90ないし95/5、好ましくは20/80ないし95
/5、特に好ましくは30/70ないし90/10であ
る。この事はコアが少なすぎると活性メチレンモノマー
のシェル部への集中効果が目減りし、シェルが少なすぎ
ると、明確なコア/シェル構造形成が難しくなる事を意
味する。またコア/シェルポリマーラテックスの粒子径
は、前記コポリマー粒子と同様1.0μm以下、好まし
くは0.7μm以下、特に好ましくは0.5μm以下で
ある。そして、下限は0.00001μm以上が好まし
い。
The ratio of the core polymer to the shell polymer in the core / gel polymer latex of the present invention can be arbitrarily changed.
90-95 / 5, preferably 20 / 80-95
/ 5, particularly preferably 30/70 to 90/10. This means that if the core is too small, the effect of concentrating the active methylene monomer on the shell decreases, and if the shell is too small, it becomes difficult to form a clear core / shell structure. The particle diameter of the core / shell polymer latex is 1.0 μm or less, preferably 0.7 μm or less, particularly preferably 0.5 μm or less, as in the case of the copolymer particles. And the lower limit is preferably 0.00001 μm or more.

【0066】乳化重合におけるコア/シェルラテックス
形成技術の分野ではよく知られている様に、コアポリマ
ーとシェルポリマーの極性が近く、相溶化してしまうよ
うな組合せでは、目的とするコア/シェル構造を十分に
形成し得ない場合もあり得る。より効果的なコア/シェ
ル構造を形成するためには、シェルを構成するポリマー
とコアを形成するポリマーが相溶しにくいものを選択す
る事が好ましい。
As is well known in the field of core / shell latex formation technology in emulsion polymerization, a combination in which the core polymer and the shell polymer have close polarities and are compatible with each other may have a desired core / shell structure. May not be formed sufficiently. In order to form a more effective core / shell structure, it is preferable to select a polymer in which the polymer forming the shell and the polymer forming the core are hardly compatible.

【0067】この点で極めて有用な態様の1つはコアと
して共役ジエンモノマー成分を有するポリマーを用いる
事である。共役ジエンモノマーを一定量以上用いるとコ
ア粒子は極めて低極性となるため前記したシェル部に用
いるモノマーの大部分と有効なコア/シェル構造の形成
が可能となる。このような性能のコアを形成させるため
の目安は共役ジエンモノマーが重量比で25%以上含ま
れる事であり、好ましい例としては、スチレン−ブタジ
エン共重合体(一般SBRと呼ばれ、溶液重合SBRと
乳化重合SBRがある。溶液重合SBRとしては、ラン
ダム重合体の他に前記のブロック共重合体(例えば、ブ
タジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタ
ジエン−スチレンブロック共重合体)がある)、ブタジ
エン単独重合体(例えばシス−1,4−ブタジエン、ト
ランス−1,2−ブタジエン、あるいは、これらとトラ
ンス−1,4−ブタジエン構造の混在したゴム)、イソ
プレン単独重合体(立体構造の例は、ブタジエン重合体
に同じ)、スチレン−イソプレン共重合体(ランダム共
重合体、ブロック共重合体)、エチレン−プロピレン−
ジエン共重合体(ジエン単量体としては、1,4−ヘキ
サジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボル
ネン等を挙げることができる)、アクリロニトリル−ブ
タジエン共重合体、クロロプレン共重合体、イソブチレ
ン−イソプレン共重合体、ブタジエン−アクリル酸エス
テル共重合体(アクリル酸エステルとしては、アクリル
酸エチル、アクリル酸ブチル等)及びブタジエン−アク
リル酸エステル−アクリロニトリル共重合体(アクリル
酸エステルとしては前記に同じ)を挙げることができ
る。
One of the very useful aspects in this regard is to use a polymer having a conjugated diene monomer component as a core. When the conjugated diene monomer is used in a certain amount or more, the core particles have extremely low polarity, so that it is possible to form an effective core / shell structure with most of the monomers used for the shell portion. The standard for forming a core having such performance is that the conjugated diene monomer is contained in an amount of 25% or more by weight, and a preferred example is a styrene-butadiene copolymer (commonly referred to as SBR, and solution-polymerized SBR). The solution-polymerized SBR includes the above-mentioned block copolymers (eg, butadiene-styrene block copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer) in addition to the random polymer. Butadiene homopolymer (for example, cis-1,4-butadiene, trans-1,2-butadiene, or a rubber in which these are mixed with trans-1,4-butadiene structure), isoprene homopolymer (an example of the steric structure is: , Butadiene polymer), styrene-isoprene copolymer (random copolymer, block copolymer), d Ren - propylene -
Diene copolymers (diene monomers include 1,4-hexadiene, dicyclopentadiene, ethylidene norbornene, etc.), acrylonitrile-butadiene copolymer, chloroprene copolymer, isobutylene-isoprene copolymer Butadiene-acrylate copolymer (eg, ethyl acrylate, butyl acrylate, etc. as acrylate) and butadiene-acrylate-acrylonitrile copolymer (the same as acrylate). it can.

【0068】また、コアとシェルを構成するポリマーの
極性差が大きい者を選択する事によっても有効なコア/
シェル構造形成が可能であり、例えばポリ(n−ドデシ
ルメタクリレート)コア/ポリ(メチルアクリレート−
コ−2−アセトアセトキシエチルメタクリレート)シェ
ルや、ポリ(エチルアクリレート)コア/ポリ(スチレ
ン−コ−2−アセトアセトキシエチルアクリレート)シ
ェル等が挙げられる。但しこれらは、本発明のコア/シ
ェルポリマーラテックスにおける効果の大小の点で選択
できる事を示すものであって、たとえ、極性の近いポリ
マー同士の組合せにおいても、非コア/シェル型のポリ
マーラテックスに対しては、本発明のコア/シェルラテ
ックスの方がより優れた皮膜強度特性を示す。
Also, by selecting a polymer having a large polarity difference between the polymer constituting the core and the shell, the effective core /
A shell structure can be formed, for example, poly (n-dodecyl methacrylate) core / poly (methyl acrylate-
Co-2-acetoacetoxyethyl methacrylate) shell, poly (ethyl acrylate) core / poly (styrene-co-2-acetoacetoxyethyl acrylate) shell, and the like. However, these indicate that the effect of the core / shell polymer latex of the present invention can be selected depending on the magnitude of the effect. Even in the case of a combination of polymers having similar polarities, the non-core / shell type polymer latex can be selected. In contrast, the core / shell latex of the present invention shows better film strength properties.

【0069】また、極性の近いモノマーをコア及びシェ
ルに用いた場合でも、コアを前記架橋モノマー(分子内
に二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマー)を
用いて三次元架橋化する事により、極めて効果的なコア
/シェルポリマーラテックスとする事ができる。以上に
より、本発明においては、用いるモノマーの種類によら
ず有用なコア/シェルポリマーラテックス構造の形成が
可能である。
Further, even when a monomer having close polarity is used for the core and the shell, the core must be three-dimensionally cross-linked using the cross-linking monomer (a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule). Thereby, an extremely effective core / shell polymer latex can be obtained. As described above, in the present invention, it is possible to form a useful core / shell polymer latex structure irrespective of the type of monomer used.

【0070】本発明のコア/シェルラテックスは、皮膜
強度特性とは別にゼラチンフィルムに添加した時の脆性
改良効果の点でコア部またはシェル部、あるいはコア
部、シェル部の両方のガラス転移温度(Tg) が50℃以
下であるのが適当であり、剪断安定性向上の点で好まし
くはコア部のTgがシェル部のTgより低く、更に好ま
しくはコア部のTgが0℃未満(下限は−110℃)、
シェル部のTgが0℃以上(上限は150℃)が好まし
い。
The core / shell latex of the present invention has a glass transition temperature of the core or shell portion, or both of the core portion and the shell portion, in terms of the brittleness improving effect when added to a gelatin film separately from the film strength characteristics. Tg) is suitably 50 ° C. or less, and preferably Tg of the core portion is lower than Tg of the shell portion, and more preferably Tg of the core portion is lower than 0 ° C. (the lower limit is −10 ° C.) from the viewpoint of improving shear stability. 110 ° C),
The Tg of the shell portion is preferably 0 ° C. or higher (the upper limit is 150 ° C.).

【0071】ポリマーのTgは例えば「J.Brandrup, E.
H. Immergut 共著、Polymer Hondbook,2nd Edition, II
I-139 〜III-192(1975) 」に詳細に記載されており、ま
た、共重合体の場合には下式により求める事ができる。
The Tg of the polymer is described, for example, in J. Brandrup, E.
H. Immergut, Polymer Hondbook, 2nd Edition, II
I-139 to III-192 (1975) ". In the case of a copolymer, it can be determined by the following formula.

【0072】[0072]

【数1】 (Equation 1)

【0073】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
において、コアポリマー、またはシェルポリマー、ある
いは両者ともに、架橋されていてもよい。この場合、得
られるポリマーの分子量は無限大である。未架橋の場合
に於ける本発明のポリマーの分子量は、モノマーの種類
や合成条件により異なるが、5000ないし200万の
範囲内であり、また、目的によって、連鎖移動剤等によ
り分子量を調節する事も可能である。
In the core / shell polymer latex of the present invention, the core polymer, the shell polymer, or both may be crosslinked. In this case, the molecular weight of the resulting polymer is infinite. The molecular weight of the polymer of the present invention in the case of non-crosslinking depends on the kind of the monomer and the synthesis conditions, but is in the range of 5,000 to 2,000,000, and the molecular weight may be adjusted by a chain transfer agent or the like depending on the purpose. Is also possible.

【0074】以下に本発明のコア/シェルラテックスの
好ましい化合物例を示すが本発明がこれらに限定される
ものではない。下記の各ラテックス化合物の構造は、コ
アポリマー構造、シェルポリマーの構造およびコア/シ
ェルの比率の順に記載し、各ポリマーにおける共重合組
成比およびコア/シェル比についてはいずれも重量百分
率比で表した。
Preferred examples of the core / shell latex of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. The structure of each of the following latex compounds is described in the order of the core polymer structure, the structure of the shell polymer and the ratio of the core / shell, and the copolymer composition ratio and the core / shell ratio in each polymer are all expressed by weight percentage. .

【0075】 P−1〜12 コア:スチレン/ブタジエン共重合体(37/63) P−1 シェル=スチレン/M─1(98/2) コア/シェル=50/50 P−2 シェル=スチレン/M─1(96/4) コア/シェル=50/50 P−3 シェル=スチレン/M─1(92/8) コア/シェル=50/50 P−4 シェル=スチレン/M─1(84/16) コア/シェル=50/50 P−5 シェル=スチレン/M─1(68/32) コア/シェル=50/50 P−6 シェル=スチレン/M─1(84/16) コア/シェル=67/33 P−7 シェル=スチレン/M─1(84/16) コア/シェル=85/15 P−8 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1(96/4) コア/シェル=50/50 P−9 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1(92/8) コア/シェル=50/50 P−10 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 P−11 シェル=メチルアクリレート/M−7(84/16) コア/シェル=50/50 P−12 シェル=スチレン/メチルアクリレート/M−3(21/63/16) コア/シェル=50/50 P-1 to 12 core: styrene / butadiene copolymer (37/63) P-1 shell = styrene / M─1 (98/2) core / shell = 50/50 P-2 shell = styrene / M─1 (96/4) core / shell = 50/50 P-3 shell = styrene / M─1 (92/8) core / shell = 50/50 P-4 shell = styrene / M─1 (84 / 16) Core / Shell = 50/50 P-5 Shell = Styrene / M─1 (68/32) Core / Shell = 50/50 P-6 Shell = Styrene / M─1 (84/16) Core / Shell = 67/33 P-7 shell = Styrene / M─1 (84/16) core / shell = 85/15 P-8 shell = n-butyl acrylate / M-1 (96/4) core / shell = 50/50 P-9 shell = n-butyl acrylate / M-1 (92/8) core / shell = 50/50 P-10 shell = n-butyl acrylate / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-11 Shell = methyla Relate / M-7 (84/16) core / shell = 50/50 P-12 shell = styrene / methyl acrylate / M-3 (21/63/16) Core / shell = 50/50

【0076】 P−13,14 コア:スチレン/ブタジエン共重合体(22/78) P−13 シェル=スチレン/M─2(84/16) コア/シェル=50/50 P−14 シェル=n−ブチルアクリレート/M−8(84/16) コア/シェル=50/50 P-13,14 core: styrene / butadiene copolymer (22/78) P-13 shell = styrene / M─2 (84/16) core / shell = 50/50 P-14 shell = n- Butyl acrylate / M-8 (84/16) core / shell = 50/50

【0077】 P−15〜20 コア:ポリブタジエン単独重合体(100) P−15 シェル=スチレン/M─1(84/16) コア/シェル=50/50 P−16 シェル=エチルアクリレート/M−7/メタクリル酸(65/15/20) コア/シェル=75/25 P−17 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 P−18 シェル=n−ブチルアクリレート/M−2(84/16) コア/シェル=50/50 P−19 シェル=2−エチルヘキシルアクリレート/M−24(84/16) コア/シェル=50/50 P−20 シェル=n−ブチルアクリレート/M−18(84/16) コア/シェル=50/50 P-15-20 core: polybutadiene homopolymer (100) P-15 shell = styrene / M─1 (84/16) core / shell = 50/50 P-16 shell = ethyl acrylate / M-7 / Methacrylic acid (65/15/20) core / shell = 75/25 P-17 shell = n-butyl acrylate / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-18 shell = n-butyl Acrylate / M-2 (84/16) core / shell = 50/50 P-19 shell = 2-ethylhexyl acrylate / M-24 (84/16) core / shell = 50/50 P-20 shell = n-butyl Acrylate / M-18 (84/16) core / shell = 50/50

【0078】 P−21〜23 コア:ポリイソプレン単独重合体(100) P−21 シェル=スチレン/アクリロニトリル/M−1(63/21/16) コア/シェル=90/10 P−22 シェル=メチルメタクリレート/エチルアクリレート/M─2/2− アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ(15/65/15/5) コア/シェル=75/25 P−23 シェル=スチレン/M−1(84/16) コア/シェル=20/80 P-21 to 23 Core: Polyisoprene homopolymer (100) P-21 shell = styrene / acrylonitrile / M-1 (63/21/16) Core / shell = 90/10 P-22 shell = methyl Methacrylate / ethyl acrylate / M / 2 / 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonate sodium (15/65/15/5) Core / shell = 75/25 P-23 Shell = styrene / M-1 (84/16 ) Core / shell = 20/80

【0079】 P−24〜26 コア:スチレン/ブタジエン共重合体(49/51) P−24 シェル=スチレン/ブチルアクリレート/M−1(26/60/15) コア/シェル=50/50 P−25 シェル=M−1(100) コア/シェル=90/10 P−26 シェル=ラウリルメタクリレート/ブチルアクリレート/M−7(30/ 55/15) コア/シェル=40/60 P−27 コア:アクリロニトリル/スチレン/ブタジエン共重合体(25/25/50) シェル:ブチルアクリレート/M−1(92/8) コア/シェル=50/50 P−28 コア;アクリル酸エチル/ブタジエン共重合体(50/50) シェル:スチレン/ ジビニルベンゼン/M−1(79/5/16) コア/シェル=50/50 P-24 to 26 core: styrene / butadiene copolymer (49/51) P-24 shell = styrene / butyl acrylate / M-1 (26/60/15) core / shell = 50/50 P− 25 shell = M-1 (100) core / shell = 90/10 P-26 shell = lauryl methacrylate / butyl acrylate / M-7 (30/55/15) core / shell = 40/60 P-27 core: acrylonitrile / Styrene / butadiene copolymer (25/25/50) Shell: butyl acrylate / M-1 (92/8) core / shell = 50/50 P-28 core; ethyl acrylate / butadiene copolymer (50/25 50) Shell: Styrene / divinylbenzene / M-1 (79/5/16) Core / shell = 50/50

【0080】 P−29〜33 コア:ポリ(n−ドデシルメタクリレート)単独重合体 P−29 シェル=スチレン/M−1(92/8) コア/シェル=50/50 P−30 シェル=スチレン/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 P−31 シェル=エチルアクリレート/M−1(96/4) コア/シェル=50/50 P−32 シェル=エチルアクリレート/M−1(92/8) コア/シェル=50/50 P−33 シェル=スチレン/メチルアクリレート/M−3(21/63/16) コア/シェル=50/50 P-29 to 33 Core: Poly (n-dodecyl methacrylate) homopolymer P-29 Shell = Styrene / M-1 (92/8) Core / Shell = 50/50 P-30 Shell = Styrene / M -1 (84/16) core / shell = 50/50 P-31 shell = ethyl acrylate / M-1 (96/4) core / shell = 50/50 P-32 shell = ethyl acrylate / M-1 (92 / 8) core / shell = 50/50 P-33 shell = styrene / methyl acrylate / M-3 (21/63/16) core / shell = 50/50

【0081】 P−34 コア:ポリ(n−ブチルアクリレート)単独重合体 シェル:スチレン/M−2(84/16) コア/シェル=50/50 P−35,36 コア:ポリ(エチレングリコールジメタクリレート/n−ブチルアクリレート )共重合体(10/90) P−35 シェル=スチレン/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 P−36 シェル=メチルアクリレート/M−7/メタクリル酸(65/15/20) コア/シェル=75/25 P-34 Core: Poly (n-butyl acrylate) homopolymer Shell: Styrene / M-2 (84/16) Core / Shell = 50/50 P-35,36 Core: Poly (ethylene glycol dimethacrylate) / N-butyl acrylate) copolymer (10/90) P-35 shell = styrene / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-36 shell = methyl acrylate / M-7 / methacrylic acid (65/15/20) Core / shell = 75/25

【0082】 P−37〜40 コア:ポリ(エチレングリコールジメタクリレート/n−ブチルアクリレート )共重合体(20/80) P−37 シェル=スチレン/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 P−38 シェル=スチレン/M−1(84/16) コア/シェル=75/25 P−39 シェル=メチルアクリレート/M−8/2−アクリルアミド−2−メ チルプロパンスルホン酸ソーダ(80/15/5) コア/シェル=75/25 P−40 シェル=n−ブチルアクリレート/M─1(84/16) コア/シェル=50/50 P-37-40 core: poly (ethylene glycol dimethacrylate / n-butyl acrylate) copolymer (20/80) P-37 shell = styrene / M-1 (84/16) core / shell = 50 / 50 P-38 shell = styrene / M-1 (84/16) core / shell = 75/25 P-39 shell = methyl acrylate / M-8 / 2-acrylamido-2-methyl sodium propane sulfonate (80 / 15/5) core / shell = 75/25 P-40 shell = n-butyl acrylate / M─1 (84/16) core / shell = 50/50

【0083】 P−41〜43 コア:ポリ酢酸ビニル単独重合体(100) P−41 シェル=スチレン/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 P−42 シェル=スチレン/ジビニルベンゼン/M−24(79/5/16) コア/シェル=50/50 P−43 シェル=n−ドデシルメタクリレート/ブチルアクリレート/M−7 (30/55/15) コア/シェル=40/60 P-41 to 43 core: polyvinyl acetate homopolymer (100) P-41 shell = styrene / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-42 shell = styrene / divinylbenzene / M-24 (79/5/16) core / shell = 50/50 P-43 shell = n-dodecyl methacrylate / butyl acrylate / M-7 (30/55/15) core / shell = 40/60

【0084】 P−44〜46 コア:ポリ(ジビニルベンゼン/2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体 (10/90) P−44 シェル=メチルアクリレート/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 P−45 シェル=メチルアクリレート/スチレン/M−1(74/10/16) コア/シェル=50/50 P−46 シェル=M−1(100) コア/シェル=90/10 P−47〜49 コア:ポリ(ジビニルベンゼン/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート )共重合体(10/23/67) P−47 シェル=メチルアクリレート/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 P−48 シェル=メチルアクリレート/スチレン/M−1(74/10/16) コア/シェル=50/50 P−49 シェル=エチルアクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート /M−5(65/15/20) コア/シェル=85/15 P-44 to 46 core: poly (divinylbenzene / 2-ethylhexyl acrylate) copolymer (10/90) P-44 shell = methyl acrylate / M-1 (84/16) core / shell = 50 / 50 P-45 shell = methyl acrylate / styrene / M-1 (74/10/16) core / shell = 50/50 P-46 shell = M-1 (100) core / shell = 90/10 P-47 ~ 49 core: poly (divinylbenzene / styrene / 2-ethylhexyl acrylate) copolymer (10/23/67) P-47 shell = methyl acrylate / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P- 48 shell = methyl acrylate / styrene / M-1 (74/10/16) core / shell = 50/50 P-49 shell = ethyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / M-5 (65/15/20) core / Shell = 85/15

【0085】 P−50 コア:ポリ(エチレングリコールジメタクリレート/パルミチン酸ビニル/n −ブチルアクリレート)共重合体(20/20/60) シェル:エチレングリコールジメタクリレート/スチレン/n−ブチルメタク リレート/M−1(5/40/40/15) コア/シェル=50/50 P−51 コア:ポリ(トリビニルシクロヘキサン/n−ブチルアクリレート/スチレン )共重合体(10/55/35) シェル:メチルアクリレート/M−1/2−アクリルアミド−2−メチルプロ パンスルホン酸ソーダ(88/7/5) コア/シェル=70/30 P−52,53 コア:ポリ(ジビニルベンゼン/スチレン/メチルメタクリレート)共重合体 (10/45/45) P−52 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 P−53 シェル=n−ドデシルアクリレート/エチルエクリレート/M−21(6 0/30/10) コア/シェル=50/50 P-50 Core: Poly (ethylene glycol dimethacrylate / vinyl palmitate / n-butyl acrylate) copolymer (20/20/60) Shell: Ethylene glycol dimethacrylate / styrene / n-butyl methacrylate / M- 1 (5/40/40/15) core / shell = 50/50 P-51 core: poly (trivinylcyclohexane / n-butyl acrylate / styrene) copolymer (10/55/35) shell: methyl acrylate / M-1 / 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid sodium (88/7/5) Core / shell = 70/30 P-52,53 Core: Poly (divinylbenzene / styrene / methyl methacrylate) copolymer ( 10/45/45) P-52 shell = n-butyl acrylate / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-53 shell = n-dodecyl acrylate / ethyl Acrylate / M-21 (6 0/30/10) Core / shell = 50/50

【0086】 P−54,55 コア:ポリ(p−ビニルトルエン/n−ドデシルメタクリレート)共重合体(7 0/30) P−54 シェル=メチルアクリレート/n−ブチルメタクリレート/M−2/ アクリル酸(30/55/10/5) コア/シェル=50/50 P−55 シェル=n−ブチルアクリレート/M−19(84/16) コア/シェル=70/30 P-54,55 core: poly (p-vinyltoluene / n-dodecyl methacrylate) copolymer (70/30) P-54 shell = methyl acrylate / n-butyl methacrylate / M-2 / acrylic acid (30/55/10/5) core / shell = 50/50 P-55 shell = n-butyl acrylate / M-19 (84/16) core / shell = 70/30

【0087】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
は、コアラテックスポリマーを乳化重合して得られる水
分散物に対し、シェルを形成するモノマーを一括投入ま
たは滴下しながらさらに乳化重合する事により、容易に
得る事ができる。乳化重合法は好ましくは少くとも一種
の乳化剤を用いて水あるいは水と水に混和しうる有機溶
媒(たとえばメタノール、エタノール、アセトン等)の
混合溶媒中でモノマーを乳化させラジカル重合開始剤を
用いて一般に30℃ないし約100℃、好ましくは40
℃ないし約90℃の温度で行なわれる。水に混和しうる
有機溶媒の量は水に対して体積比で0〜100%、好ま
しくは0〜50%である。
The core / shell polymer latex of the present invention can be easily prepared by subjecting an aqueous dispersion obtained by emulsion polymerization of a core latex polymer to emulsion polymerization while simultaneously adding or dripping monomers forming a shell. You can get it. The emulsion polymerization method is preferably carried out by emulsifying a monomer in water or a mixed solvent of water and an organic solvent miscible with water (for example, methanol, ethanol, acetone, etc.) using at least one emulsifier, and using a radical polymerization initiator. Generally from 30 ° C. to about 100 ° C., preferably 40 ° C.
C. to a temperature of about 90.degree. The amount of the organic solvent miscible with water is from 0 to 100%, preferably from 0 to 50%, by volume relative to water.

【0088】重合反応は、通常重合すべき単量体に対し
0.05〜5重量%のラジカル重合開始剤と必要に応じ
て0.1〜10重量%の乳化剤を用いて行なわれる。重
合開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド、
ハイドロパーオキサイド、レドックス溶媒など、たとえ
ば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、tert−ブチル
パーオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプ
ロピルカーボネート、2,4−ジクロロベンジルパーオ
キサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、クメン
ハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、
2,2′−アゾビスイソブチレート、2,2′−アゾビ
ス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロライド、過硫
酸カリウムと亜硫酸水素ナトリウムの組合せなどがあ
る。
The polymerization reaction is usually carried out using 0.05 to 5% by weight of a radical polymerization initiator and optionally 0.1 to 10% by weight of an emulsifier with respect to the monomer to be polymerized. As the polymerization initiator, azobis compounds, peroxides,
Hydroperoxides, redox solvents and the like, for example, potassium persulfate, ammonium persulfate, tert-butyl peroctoate, benzoyl peroxide, isopropyl carbonate, 2,4-dichlorobenzyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, cumene hydroperoxide, dicumyl Peroxide,
Examples include 2,2'-azobisisobutyrate, 2,2'-azobis (2-amidinopropane) hydrochloride, and a combination of potassium persulfate and sodium bisulfite.

【0089】乳化剤としてはアニオン性、カチオン性、
両性、ノニオン性の界面活性剤の他、水溶性ポリマーな
どがある。たとえばラウリン酸ソーダ、ドデシル硫酸ナ
トリウム、1−オクトキシカルボニルメチル−1−オク
トキシカルボニルメタンスルホン酸ナトリウム、ラウリ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、セ
チルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリ
メチレンアンモニウムクロライド、N−2−エチルヘキ
シルピリジニウムクロライド、ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンラ
ウリルエステル、ドデシル−ジフェニルエーテルジスル
ホン酸ナトリウム、2−テトラデセン−1−スルホン酸
ナトリウム、3−ヒドロキシテトラデカン−1−スルホ
ン酸ナトリウム、ゼラチン、PVA、その他特公昭53
−6190号に記載の乳化剤、水溶性ポリマーなどがあ
り、このうちアニオン性もしくはノニオン性の界面活性
剤、水溶性ポリマーが特に好ましい。
As the emulsifier, anionic, cationic and
In addition to amphoteric and nonionic surfactants, there are water-soluble polymers and the like. For example, sodium laurate, sodium dodecyl sulfate, sodium 1-octoxycarbonylmethyl-1-octoxycarbonylmethanesulfonate, sodium laurylnaphthalenesulfonate, sodium laurylbenzenesulfonate, sodium laurylphosphate, cetyltrimethylammonium chloride, dodecyltrisodium Methylene ammonium chloride, N-2-ethylhexylpyridinium chloride, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene sorbitan lauryl ester, sodium dodecyl-diphenylether disulfonate, sodium 2-tetradecene-1-sulfonate, 3-hydroxytetradecane-1- Sodium sulfonate, gelatin, PVA, etc.
No.-6190, for example, an emulsifier and a water-soluble polymer. Among them, an anionic or nonionic surfactant and a water-soluble polymer are particularly preferable.

【0090】乳化重合に於けるモノマーの添加は、重合
に伴う発熱の回避や、より明確なコア/シェル構造の形
成の観点から滴下しながら添加する方が好ましい。ま
た、上記の開始剤、乳化剤の存在下に乳化重合により、
コアラテックス粒子を形成した後、シェルモノマーを重
合する際には乳化剤をさらに添加してもよいし、添加せ
ずに重合を行ってもよい。乳化剤の追添は生成ポリマー
ラテックスの安定性の観点から必要とする場合も多いが
逆に過剰の乳化剤が存在すると目的以外のシェルポリマ
ーのみからなる粒子が副生してしまう事がある。従っ
て、コアポリマー形成後に追添する乳化剤の量はコア粒
子に対し、0.001ないし2重量%程度に抑えるか、
もしくは全く添加しない方が好ましい。
In the emulsion polymerization, the monomer is preferably added dropwise while avoiding heat generation accompanying the polymerization and forming a clearer core / shell structure. Also, by the above initiator, emulsion polymerization in the presence of an emulsifier,
After the core latex particles are formed, when the shell monomer is polymerized, an emulsifier may be further added, or the polymerization may be performed without the emulsifier. In many cases, the addition of an emulsifier is necessary from the viewpoint of the stability of the produced polymer latex. However, if an excess emulsifier is present, particles composed only of the intended shell polymer may be formed as by-products. Therefore, the amount of the emulsifier added after the formation of the core polymer is suppressed to about 0.001 to 2% by weight based on the core particles,
Alternatively, it is preferable not to add them at all.

【0091】有効なコア/シェル構造を有するラテック
スを形成するためには、シェル形成モノマー添加時にお
けるコア粒子の重合はできるだけ完結している事が好ま
しく、重合率は90%以上、好ましくは95%以上、特
に好ましくは実質的に100%である。
In order to form a latex having an effective core / shell structure, the polymerization of the core particles at the time of addition of the shell-forming monomer is preferably as complete as possible, and the polymerization rate is 90% or more, preferably 95%. As described above, the content is particularly preferably substantially 100%.

【0092】前記のポリマーラテックス/ゼラチン複合
膜における膜強度改良や塗料、接着剤ラテックスにおけ
る種々特性改良で、活性メチレン単位は、反応性基とし
て機能する。従って、ラテックス表面に存在する活性メ
チレン単位の量が性能上重要な要素である。本発明のコ
ア/シェルラテックスは基本的に活性メチレン単位を必
要な部位であるラテックス表面に集中化させる事ができ
る点で有用である。また、コア部に他の必要とされる機
能、例えばラテックス全体のTgをコントロールする事
により、被膜形成能や、得られるフィルムやゼラチン等
との複合膜の物理性(例えば脆性)をシェル部とは独立
に盛り込む事ができる点でも極めて有用である。
The active methylene unit functions as a reactive group by improving the film strength of the polymer latex / gelatin composite film and improving various properties of the paint and adhesive latex. Therefore, the amount of active methylene units present on the latex surface is an important factor in performance. The core / shell latex of the present invention is useful in that basically active methylene units can be concentrated on the required latex surface. Further, by controlling other required functions in the core, for example, Tg of the whole latex, the ability to form a film and the physical properties (eg, brittleness) of the resulting film or a composite film with gelatin or the like can be controlled by the shell. Is also very useful in that it can be included independently.

【0093】本発明のコア/シェルラテックス粒子は、
上記の乳化重合法によって水分散物の形で得る事ができ
るが、コア/シェル構造を維持したままで、微粒子粉体
とする事もできる。このような粉体化の方法としては、
凍結乾燥法や強酸または塩を用いた凝集、濾過法、ある
いはラテックス液の凍結−解凍のくり返しによる凝集、
濾過法等の公知の手法を用いる事ができる。
The core / shell latex particles of the present invention include:
Although it can be obtained in the form of an aqueous dispersion by the emulsion polymerization method described above, it can be formed into fine powder while maintaining the core / shell structure. As a method of such powdering,
Lyophilization, aggregation using strong acids or salts, filtration, or aggregation by repeated freeze-thaw of latex solution,
A known method such as a filtration method can be used.

【0094】本発明の活性メチレン基を有するポリマー
ラテックスの使用量は任意であるが、好ましくは10mg
/m2〜10g/m2、特に100mg/m2〜1.5g/m2
ある。、添加層におけるゼラチンに対する含有率は5〜
400重量%、特に10〜200重量%が好ましい。
The amount of the polymer latex having an active methylene group of the present invention is optional, but is preferably 10 mg.
/ M 2 to 10 g / m 2 , especially 100 mg / m 2 to 1.5 g / m 2 . The content of gelatin in the additive layer is 5 to 5.
400% by weight, especially 10-200% by weight is preferred.

【0095】本発明に用いる保護層のバインダーとして
はゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。たとえばゼラチン誘
導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、ア
ルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸
エステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソー
ダ、澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−
ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル
酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポ
リビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多
種の合成親水性高分子物質を用いることができる。ゼラ
チンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラチン
を用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酸素分
解物も用いることができる。
It is advantageous to use gelatin as a binder for the protective layer used in the present invention, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose and cellulose sulfates; sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives; polyvinyl alcohol , Polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-
Various kinds of synthetic hydrophilic polymer substances such as a single or copolymer such as vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole, and polyvinylpyrazole can be used. As gelatin, in addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used, and gelatin hydrolyzate and gelatin oxygen-decomposed product can also be used.

【0096】本発明に用いる保護層にはバインダー以外
に、シリカ、酸化マグネシウム、ポリメチルメタクリレ
ート等のマット剤を含んでも良い。帯電防止のために特
開昭60−80849号などに記載された含フッ素界面
活性剤を含有させることもできる。表面のマサツ係数を
下げるために、スベリ剤を含有させることもできる。
The protective layer used in the present invention may contain, in addition to the binder, a matting agent such as silica, magnesium oxide and polymethyl methacrylate. For preventing static charge, a fluorine-containing surfactant described in JP-A-60-80849 or the like can be contained. In order to lower the surface Masatsu's coefficient, a slipping agent may be contained.

【0097】本発明に用いられる滑り剤の代表的なもの
としては例えば米国特許第3,042,522号、英国
特許第955,061号、米国特許第3,080,31
7号、同4,004,927号、同4,047,958
号、同3,489,567号、英国特許第1,143,
118号等に記載のシリコーン系滑り剤、米国特許第
2,454,043号、同2,732,305号、同
2,976,148号、同3,206,311号、独国
特許第1,284,295号、同1,284,294号
等に記載の高級脂肪酸系、アルコール系、酸アミド系滑
り剤、英国特許第1,263,722号、米国特許第
3,933,516号等に記載の金属石けん、米国特許
第2,588,765号、同3,121,060号、英
国特許第1,198,387号等に記載のエステル系、
エーテル系滑り剤、米国特許第3,502,473号、
同3,042,222号に記載のタウリン系滑り剤等が
ある。これらのスベリ剤の中で特に好ましいものは特開
昭60−188945号に記載されているアルキルポリ
シロキサンおよび流動パラフィンである。
Representative examples of the slip agent used in the present invention include, for example, US Pat. No. 3,042,522, British Patent No. 955,061, and US Pat. No. 3,080,31.
No. 7, 4,004,927 and 4,047,958
No. 3,489,567 and British Patent No. 1,143.
No. 118, etc., US Pat. Nos. 2,454,043, 2,732,305, 2,976,148, 3,206,311 and German Patent No. 1 Fatty acid-based, alcohol-based, acid amide-based slip agents described in, for example, U.S. Patent Nos. 1,263,722 and 3,933,516. Metal soaps described in U.S. Pat. Nos. 2,588,765 and 3,121,060; and esters described in British Patent No. 1,198,387,
Ether slip agents, U.S. Pat. No. 3,502,473,
And a taurine-based slip agent described in JP-A-3,042,222. Of these sliding agents, particularly preferred are alkylpolysiloxanes and liquid paraffin described in JP-A-60-188945.

【0098】ブラックスポット防止の目的でEDTA、
5−クロロ−8−ヒドロキシキノリン、1,5−ジヒド
ロキシ−2−ベンズアルドキシムなどのキレート剤を含
有しても良い。さらにカブリ防止剤、イラジェーション
防止染料、界面活性剤、硬膜剤、難溶性合成ポリマー等
の一部又は全部を保護層に含有せしめても良い。
EDTA for the purpose of preventing black spots
A chelating agent such as 5-chloro-8-hydroxyquinoline and 1,5-dihydroxy-2-benzaldoxime may be contained. Further, a part or all of an antifoggant, an anti-irradiation dye, a surfactant, a hardener, a poorly soluble synthetic polymer and the like may be contained in the protective layer.

【0099】本発明に用いる保護層の厚みは好ましくは
0.05〜5μmであり、さらに好ましくは0.2〜2
μmである。本発明に用いる保護層は2層以上の多層構
成であっても良い。
The thickness of the protective layer used in the present invention is preferably from 0.05 to 5 μm, more preferably from 0.2 to 2 μm.
μm. The protective layer used in the present invention may have a multilayer structure of two or more layers.

【0100】本発明に用いるシランカップリング剤は好
ましくは下記一般式で表される化合物である。 一般式〔S〕
The silane coupling agent used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula. General formula [S]

【0101】[0101]

【化6】 Embedded image

【0102】式中、Xは酸素原子または−O-CO−を表わ
す。R11、R12、R13およびR14は各々、ハロゲン原子
または炭化水素基を表し、R11〜R14の少なくとも1つ
は二重結合、ハロゲン原子、エポキシ基、酸無水物残
基、アルコキシカルボニル基またはアミノ基を含む。
n、n′およびn″は各々0または1を表し、n+n′
+n″は少なくとも1である。上記一般式〔S〕におい
て、R11〜R14で表されるハロゲン原子としては例えば
弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げら
れ、炭化水素基は、それぞれ飽和、不飽和の鎖状および
環状を含み、例えばアルキル基(例えばメチル、エチ
ル、プロピル等)、アルケニル基(例えばビニル、アリ
ル等)、アリール基(例えばフェニル、トリル等)等が
挙げられる。R11〜R14の少なくとも1つが有する二重
結合はC=C結合で、例えばアルケニル基、アクリロイ
ル基、メタクリロイド基、ビニルカルボニルアミノ基、
イソプロペニルカルボニルアミノ基等として導入され、
酸無水物残基としては例えばメチルカルボニルオキシカ
ルボニルエチル基のような基が挙げられ、ハロゲン原子
は例えばハロアシルアミノ基のような形で導入されても
よい。以下に一般式〔S〕で表される化合物の好ましい
具体例を示すが、これらに限定できるものではない。
In the formula, X represents an oxygen atom or —O—CO—. R 11 , R 12 , R 13 and R 14 each represent a halogen atom or a hydrocarbon group, and at least one of R 11 to R 14 is a double bond, a halogen atom, an epoxy group, an acid anhydride residue, an alkoxy group. Contains carbonyl or amino groups.
n, n 'and n "each represent 0 or 1, and n + n'
+ N ″ is at least 1. In the general formula [S], examples of the halogen atom represented by R 11 to R 14 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Each of which includes a saturated or unsaturated chain or ring, and includes, for example, an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl, etc.), an alkenyl group (eg, vinyl, allyl, etc.), an aryl group (eg, phenyl, tolyl, etc.) The double bond of at least one of R 11 to R 14 is a C = C bond, for example, an alkenyl group, an acryloyl group, a methacryloid group, a vinylcarbonylamino group,
Introduced as an isopropenylcarbonylamino group and the like,
Examples of the acid anhydride residue include a group such as a methylcarbonyloxycarbonylethyl group, and a halogen atom may be introduced in a form such as a haloacylamino group. Preferred specific examples of the compound represented by the general formula [S] are shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0103】[0103]

【化7】 Embedded image

【0104】一般式〔S〕で表される化合物は特公昭4
8−3565号に記載されている方法で合成することが
でき、また東レシリコン(株)やチッソ(株)から市販
品として入手することもできる。シラカカップリング剤
は、ハロゲン化銀乳剤層、下引層、保護層等のいずれの
親水性コロイド層に添加してもよい。好ましいのはシラ
ンカップリング剤をハロゲン化銀乳剤に含有させて塗布
するか、シランカップリング剤を下引層に含有させて塗
布する態様であり、より好ましいのはシランカップリン
グ剤を下引層に含有させて塗布する態様である。該化合
物をハロゲン化銀乳剤層等の親水性コロイド層へ添加す
る場合は、水、低級アルコール、アセトン等に溶解して
添加することが好ましい。該化合物の塗布量は1〜50
0mg/m2の範囲が好ましく、10〜100mg/m2の範囲
がさらに好ましい。
The compound represented by the general formula [S] is described in
It can be synthesized by the method described in JP-A-8-3565, and can also be obtained as a commercial product from Toray Silicon Co., Ltd. or Chisso Corporation. The shiraka coupling agent may be added to any hydrophilic colloid layer such as a silver halide emulsion layer, an undercoat layer and a protective layer. Preferred is a mode in which a silane coupling agent is contained in a silver halide emulsion and coated, or a silane coupling agent is contained in an undercoat layer and applied, and more preferably, the silane coupling agent is contained in the undercoat layer. This is a mode in which it is contained and applied. When the compound is added to a hydrophilic colloid layer such as a silver halide emulsion layer, it is preferable to add the compound by dissolving it in water, lower alcohol, acetone or the like. The coating amount of the compound is 1 to 50
Ranges preferably 0 mg / m 2, more preferably in the range of 10-100 mg / m 2.

【0105】本発明に用いるコロイダルシリカは平均粒
子径が30mμ以下であり、好ましくは5〜20mμで
ある。これらのコロイダルシリカは例えば日産化学
(株)から市販品として容易に入手することができる。
コロイダルシリカは、ハロゲン化銀乳剤層、保護層のい
ずれの親水性コロイド層に添加してもよい。より好まし
いのは保護層とハロゲン化銀乳剤層の両方に含有させて
塗布する態様である。
The colloidal silica used in the present invention has an average particle diameter of 30 μm or less, preferably 5 to 20 μm. These colloidal silicas can be easily obtained as commercial products from, for example, Nissan Chemical Industries, Ltd.
Colloidal silica may be added to any of the hydrophilic colloid layers of the silver halide emulsion layer and the protective layer. A more preferred embodiment is one in which both the protective layer and the silver halide emulsion layer are contained and coated.

【0106】保護層に含有させる場合は、保護層の親水
性コロイドとしてはゼラチンが好ましく、ゼラチンとコ
ロイダルシリカの重量比が50:1〜5:1の範囲であ
ることが好ましい。コロイダルシリカの塗布量は5〜5
00mg/m2、好ましくは30〜300mg/m2である。ま
た保護層の膜厚は0.1〜5mμの範囲が好ましく、
0.5〜2mμの範囲がさらに好ましい。ハロゲン化銀
乳剤層に含有させる場合は、ハロゲン化銀乳剤層の親水
性コロイドとしてはゼラチンが好ましく、ゼラチンとコ
ロイダルシリカの重量比が50:1〜5:1の範囲であ
ることが好ましい。コロイダルシリカの塗布量は3〜3
000mg/m2、好ましくは100〜1000mg/m2であ
る。またハロゲン化銀乳剤層の膜厚は1〜20mμの範
囲が好ましく、4〜10mμの範囲がさらに好ましい。
When the protective layer is contained in the protective layer, the hydrophilic colloid of the protective layer is preferably gelatin, and the weight ratio of gelatin to colloidal silica is preferably in the range of 50: 1 to 5: 1. The coating amount of colloidal silica is 5 to 5
00 mg / m 2 , preferably 30-300 mg / m 2 . The thickness of the protective layer is preferably in the range of 0.1 to 5 μm,
The range of 0.5 to 2 mμ is more preferable. When it is contained in the silver halide emulsion layer, gelatin is preferable as the hydrophilic colloid of the silver halide emulsion layer, and the weight ratio of gelatin to colloidal silica is preferably in the range of 50: 1 to 5: 1. Coating amount of colloidal silica is 3 ~ 3
000mg / m 2, preferably 100-1000 mg / m 2. The thickness of the silver halide emulsion layer is preferably in the range of 1 to 20 μm, more preferably 4 to 10 μm.

【0107】本発明のハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化
銀乳剤には、ハロゲン化銀として臭化銀、沃臭化銀、沃
塩化銀、塩臭化銀、および塩化銀等の通常のハロゲン化
銀乳剤に使用される任意のものを用いることができ、ま
た、ハロゲン化銀粒子の粒径および粒径分布に制限はな
く、ハロゲン化銀組成が塩化銀50モル%以上、沃化銀
10モル%以下の塩臭化銀または塩沃臭化銀で、粒径が
0.1〜1.0μmの乳剤、および沃化銀が8モル%以
下の沃臭化銀で粒径が0.1μm以下の乳剤も用いるこ
とができる。本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられる
ハロゲン化銀粒子は、粒子を形成する過程及び/又は成
長させる過程で、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウ
ム塩、イリジウム塩(錯塩を含む)、ロジウム塩(錯塩
を含む)、ルテニウム塩(錯塩を含む)及び鉄塩(錯塩
を含む)から選ばれる少なくとも1種を用いて金属イオ
ンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子表面にこれらの
金属元素を含有させることができ、また適当な還元的雰
囲気におくことにより、粒子内部及び/又は粒子表面に
還元増感核を付与できる。
In the silver halide emulsion of the silver halide emulsion layer of the present invention, a conventional silver halide such as silver bromide, silver iodobromide, silver iodochloride, silver chlorobromide or silver chloride is used. Any of those used for silver emulsions can be used, and there is no limitation on the grain size and grain size distribution of the silver halide grains. The silver halide composition is 50 mol% or more of silver chloride and 10 mol of silver iodide. % Of silver chlorobromide or silver chloroiodobromide having a grain size of 0.1 to 1.0 μm, and silver iodobromide having a silver iodide content of 8 mol% or less having a grain size of 0.1 μm or less. Emulsions can also be used. The silver halide grains used in the silver halide emulsion layer of the present invention may be cadmium salts, zinc salts, lead salts, thallium salts, iridium salts (including complex salts), A metal ion is added using at least one selected from a rhodium salt (including a complex salt), a ruthenium salt (including a complex salt), and an iron salt (including a complex salt), and the metal ion is added to the inside and / or the surface of the particle. An element can be contained, and a reduction sensitizing nucleus can be imparted to the inside and / or the surface of the grain by placing the element in an appropriate reducing atmosphere.

【0108】本発明のハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化
銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長の終了後に不要な可
溶性塩類を除去してもよいし、あるいは含有させたまま
でもよい。本発明のハロゲン化銀乳剤は、硫黄増感法、
セレン増感法、還元増感法、金その他の貴金属化合物を
用いる貴金属増感法などを単独で又は組み合わせて用い
ることができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、分光増
感することができる。増感色素は単独で用いてもよい
が、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明のハ
ロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、保存中、あ
るいは写真処理中のカブリの防止、又は写真性能を安定
に保つ事を目的として化学熟成中、化学熟成の終了時、
及び/又は化学熟成の終了後、ハロゲン化銀乳剤を塗布
するまでに、写真業界においてカブリ防止剤又は安定剤
として知られている化合物を加えることができる。
In the silver halide emulsion of the silver halide emulsion layer of the present invention, unnecessary soluble salts may be removed after the growth of the silver halide grains is completed, or may be kept contained. The silver halide emulsion of the present invention is a sulfur sensitization method,
A selenium sensitization method, a reduction sensitization method, a noble metal sensitization method using gold or another noble metal compound, or the like can be used alone or in combination. The silver halide emulsion of the present invention can be spectrally sensitized. The sensitizing dye may be used alone or in combination of two or more. In the silver halide emulsion of the present invention, during the production process of the light-sensitive material, during chemical ripening for the purpose of preventing fog during storage or photographic processing, or to maintain stable photographic performance, at the end of chemical ripening,
And / or after the completion of chemical ripening and before the silver halide emulsion is coated, compounds known in the photographic art as antifoggants or stabilizers can be added.

【0109】本発明の感光材料のハロゲン化銀乳剤層及
び/又は他の親水性コロイド層には柔軟性を高める目的
で可塑剤を添加できる。本発明の感光材料の写真乳剤層
その他の親水性コロイド層には寸度安定性の改良などを
目的として、水不溶性又は難溶性合成ポリマーの分散物
(ラテックス)を含有させることができる。本発明の感
光材料の写真乳剤層は、感度上昇、コントラスト上昇、
又は現像促進の目的でポリアルキレンオキシド又はその
エーテル、エステル、アミン等の誘導体、チオエーテル
化合物、チオモルホリン類、4級アンモニウム化合物、
ウレタン誘導体、尿素誘導体、イミダゾール誘導体等を
含んでもよい。本発明の感光材料のハロゲン化銀乳剤層
及び/又はその他の親水性コロイド層に粒径0.5〜1
0μmのシリカ又はポリメチルメタクリレート粒子の如
きマット剤を用いることができる。本発明の感光材料
に、帯電防止を目的とした帯電防止剤を添加できる。帯
電防止剤は支持体の乳剤を積層していない側の帯電防止
層に用いてもよく、乳剤層及び/又は支持体に対して乳
剤層が積層されている側の乳剤層以外の保護コロイド層
に用いられてもよい。
A plasticizer can be added to the silver halide emulsion layer and / or another hydrophilic colloid layer of the light-sensitive material of the present invention for the purpose of increasing flexibility. The photographic emulsion layer and other hydrophilic colloid layers of the light-sensitive material of the present invention may contain a dispersion (latex) of a water-insoluble or hardly soluble synthetic polymer for the purpose of improving dimensional stability and the like. The photographic emulsion layer of the light-sensitive material of the present invention has increased sensitivity, increased contrast,
Or a polyalkylene oxide or a derivative thereof such as an ether, ester, or amine, a thioether compound, a thiomorpholine, a quaternary ammonium compound for the purpose of accelerating development,
It may contain urethane derivatives, urea derivatives, imidazole derivatives and the like. The silver halide emulsion layer and / or other hydrophilic colloid layer of the light-sensitive material of the present invention has a particle size of 0.5 to 1
Matting agents such as 0 μm silica or polymethyl methacrylate particles can be used. An antistatic agent for the purpose of preventing static charge can be added to the light-sensitive material of the present invention. The antistatic agent may be used in the antistatic layer on the side of the support on which the emulsion is not laminated, and may be used for the protective layer other than the emulsion layer and / or the emulsion layer on the side of the support on which the emulsion layer is laminated. May be used.

【0110】本発明の感材に用いられるバッキング層の
バインダーとしては酸または中性水溶液には不溶で、ア
ルカリ溶液、好ましくはpH9以上のアルカリ溶液に可
溶性のあるポリマーが好ましい。このようなアルカリ可
溶性のポリマーの中で特に好ましいのは分子中にカルボ
キシル基を含有する共重合体であり、例えば、メチルメ
タクリレート/メタクリル酸共重合体、エチルメタクリ
レート/メタクリル酸共重合体、およびメチルメタクリ
レート/エチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体
等である。本発明に用いるバッキング層の染料として
は、水に対する溶解度が低く、アルカリまたは亜硫酸ナ
トリウムで脱色しバインダーと相溶するものであればど
のようなものでもよい。
The binder for the backing layer used in the light-sensitive material of the present invention is preferably a polymer that is insoluble in an acid or neutral aqueous solution and soluble in an alkaline solution, preferably an alkaline solution having a pH of 9 or more. Particularly preferred among such alkali-soluble polymers are copolymers containing a carboxyl group in the molecule, such as methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, ethyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, and methyl Methacrylate / ethyl methacrylate / methacrylic acid copolymer; As the dye for the backing layer used in the present invention, any dye may be used as long as it has low solubility in water, is decolorized with alkali or sodium sulfite, and is compatible with the binder.

【0111】本発明において用いられる現像液など処理
液としては公知のものが用いられる。具体的には、PQ
現像液、MQ現像液または写真製版用に用いられる段階
の硬い画像を形成する現像処理液である。写真製版用に
用いられる階調の硬い画像を形成する方法としてしられ
ている次のどのシステムにも応用できる。そのシステム
の一つはいわゆるリス現像システムと称されるもので、
比較的低濃度の亜硫酸塩を含むハイドロキノン単液の現
像液による処理により超硬調な画像を得る方法であっ
て、これは例えば、 T.H.James the Theory of the Pho
tographic Process (Fourth Edition)1977、Macmii
an Publishing Co.,Inc のp420〜p426に示され
ている。
Known processing solutions such as a developing solution used in the present invention are used. Specifically, PQ
This is a developing solution, an MQ developing solution, or a developing solution for forming a hard image at a stage used for photolithography. The present invention can be applied to any of the following systems which are used as a method of forming a hard gradation image used for photolithography. One such system is the so-called squirrel developing system,
A method of obtaining an ultra-high contrast image by processing a single solution of hydroquinone containing a relatively low concentration of sulfite with a developer, for example, THJames the Theory of the Pho
tographic Process (Fourth Edition) 1977, Macmii
an Publishing Co., Inc., pp. 420-426.

【0112】またリス型ハロゲン化銀感材をハイドロキ
ノン現像液として亜硫酸イオン濃度をかなり高い(0.
2モル/リットル以上)が高pH(10.5以上)か
つ、ニトロインダゾール系化合物を含む現像液を用いる
ことで、硬調な画像が得られるシステム(特開昭58−
190943号に開示)も知られている。もう一つのシ
ステムは、テトラゾリウム化合物を含有する感光材料を
比較的高濃度の亜硫酸塩を含むPQ型あるいはMQ型の
現像液による処理により高いコントラストを得る方法で
あって、これは例えば特開昭52−18317号、同5
3−17719号および同53−17720号に開示さ
れている。さらにもう一つのシステムはヒドラジン誘導
体(例えば米国特許4,166,742号、同4,16
7,977号、同4,221,857号、同4,22
4,401号、同4,243,739号、同4,27
2,606号、同4,311,781号にみられるよう
に、特定のアシルヒドラジン化合物)を添加した表面潜
像型ハロゲン化銀写真感光材料を、pH11.0〜1
2.3で亜硫酸塩を0.15モル/リットル以上含む現
像液で処理することにより超硬調な画像を得る方法であ
る。
The squirrel-type silver halide light-sensitive material was used as a hydroquinone developer to have a considerably high sulfite ion concentration (0.
(2 mol / l or more) High pH (10.5 or more) Using a developer containing a nitroindazole compound, a system capable of obtaining a high-contrast image
No. 190943) is also known. Another system is a method of obtaining a high contrast by processing a light-sensitive material containing a tetrazolium compound with a PQ type or MQ type developer containing a relatively high concentration of sulfite. -18317, 5
Nos. 3,177,719 and 53-17720. Yet another system is a hydrazine derivative (eg, US Pat. Nos. 4,166,742;
7,977, 4,221,857, 4,22
4,401, 4,243,739, 4,27
As described in JP-A Nos. 2,606 and 4,311,781, a surface latent image type silver halide photographic light-sensitive material to which a specific acylhydrazine compound is added can be used at pH 11.0 to 1
This is a method of obtaining a super-high contrast image by processing with a developer containing 0.15 mol / l or more of sulfite in 2.3.

【0113】本発明の感光材料は実質的に明室で取扱え
る明室感材とすることもできる。感光材料を実質的に明
室で取扱える明室感材とするためには、ハロゲン化銀乳
剤の感度を極度に低下させる例えばロジウム塩、イリジ
ウム塩、塩化第2銅等の無機減感剤を添加して粒子形成
する方法、ピナクリプトール・イエロー、フェノサフラ
ニン等の有機減感剤を乳剤に添加する方法及び実質的に
明室と感じるようなセーフライト光の波長領域に対し
て、感度を持たないように、ハロゲン化銀の長波端をそ
の領域に吸収を有する染料(セーフライト染料)を感材
中に含有せしめる方法などがある。
The light-sensitive material of the present invention may be a light-sensitive material which can be handled substantially in a light room. In order to make the light-sensitive material substantially light-light-sensitive material that can be handled in a light room, an inorganic desensitizer such as a rhodium salt, an iridium salt, or cupric chloride that extremely lowers the sensitivity of the silver halide emulsion is used. Addition of grains to the emulsion, addition of organic desensitizers such as pinacryptol yellow and phenosafranine to the emulsion, and insensitivity to the wavelength region of safelight light that can be felt as a substantially bright room. As described above, there is a method in which a dye (safelight dye) having a long-wave end of silver halide in its region is absorbed in a light-sensitive material.

【0114】これらの無機減感剤は、10-6モル/モル
−Ag以上含有させることが好ましい。特に10-6〜1
-3モル/モル−Agが好ましい。また、有機減感剤
は、10-5モル/モル−Ag以上含有させることが好ま
しい。特に10-5〜10-2モル/モル−Agが好まし
い。これら減感剤を用いて明室化する方法については、
詳しくは特開昭58−190943号公報、同59−1
57630号公報、などに記載されている。また、染料
を用いて明室化する方法としては、400〜550nmに
吸収極大を有する染料を感光材料中に含有させることに
よって行なうことができる。この方法については特開昭
62−67554号に詳しく記載されている。
These inorganic desensitizers are preferably contained in an amount of 10 -6 mol / mol-Ag or more. Especially 10 -6 to 1
0 -3 mol / mol -Ag are preferred. It is preferable that the organic desensitizer is contained in an amount of 10 -5 mol / mol-Ag or more. Particularly, 10 -5 to 10 -2 mol / mol-Ag is preferable. About the method of lightening using these desensitizers,
For details, see JP-A-58-190943 and JP-A-59-1.
No. 57630, and the like. In addition, a method for making a room bright by using a dye can be carried out by incorporating a dye having an absorption maximum at 400 to 550 nm into a photosensitive material. This method is described in detail in JP-A-62-67554.

【0115】以下本発明の実施例について説明する。但
し当然のことではあるが、本発明は以下に述べる実施例
により限定されるものではない。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. However, needless to say, the present invention is not limited to the embodiments described below.

【0116】[0116]

【実施例】【Example】

実施例1 塗布液および処理液の調製 (乳剤Aの調製)沃化銀2モル%、臭化銀98モル%か
ら成る平均粒径0.06μmのリップマン型ハロゲン化
銀乳剤を常法に従って物理熟成、脱塩し、チオ硫酸ナト
リウムおよび塩化金〔III 〕酸を添加して化学熟成し
た。増感色素として下記化合物A−1、イラジェーショ
ン防止剤として下記化合物A−2、A−3、A−4、A
−5、硬膜剤として1,2−ビス(ビニルスルホニルア
セトアミド)エタン、安定剤として4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン、カブ
リ防止剤として1−フェニル−5−メルカブトテトラゾ
ール、界面活性剤として下記化合物A−6を増粘剤とし
て下記化合物A−7を加えて乳剤Aを調製した。
Example 1 Preparation of Coating Solution and Processing Solution (Preparation of Emulsion A) A Lippmann type silver halide emulsion composed of 2 mol% of silver iodide and 98 mol% of silver bromide and having an average grain size of 0.06 μm was physically ripened according to a conventional method. After desalting, sodium thiosulfate and chloroauric [III] acid were added for chemical ripening. The following compounds A-1 as sensitizing dyes, and the following compounds A-2, A-3, A-4 and A as irradiation inhibitors
-5, 1,2-bis (vinylsulfonylacetamido) ethane as a hardener, and 4-hydroxy-6 as a stabilizer
-Methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole as an antifoggant, the following compound A-6 as a surfactant and the following compound A-7 as a thickener were added. Thus, emulsion A was prepared.

【0117】[0117]

【化8】 Embedded image

【0118】[0118]

【化9】 Embedded image

【0119】(乳剤Bの調製)ダブルジェット法により
臭化銀30モル%、塩化銀70モル%から成り、1モル
銀当り2×10-6gのヘキサブロモロジウム酸カリウム
塩および3×10-5gのヘキサクロロイリジウム酸カリ
ウム塩を含む平均粒径0.25μmの単分散立方晶ハロ
ゲン化銀乳剤を常法に従って物理熟成、脱塩し、チオ硫
酸ナトリウムおよび塩化金〔III 〕酸を添加して化学熟
成した。増感色素として下記化合物B−1、イラジェー
ション防止剤として前記化合物A−3、硬膜剤として
1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール、安定
剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,
7−テトラザインデン、およびハイドロキノン、カブリ
防止剤として1−フェニル−5−メルカプトテトラゾー
ルを添加して乳剤Bを調製した。
(Preparation of Emulsion B) A double jet method comprising 30 mol% of silver bromide and 70 mol% of silver chloride, 2 × 10 −6 g of potassium hexabromorhodate per mol silver and 3 × 10 A monodispersed cubic silver halide emulsion containing 5 g of potassium hexachloroiridate and having an average particle size of 0.25 μm was physically ripened and desalted according to a conventional method, and sodium thiosulfate and chloroauric [III] acid were added. Chemically aged. The following compound B-1 is used as a sensitizing dye, the compound A-3 is used as an irradiation inhibitor, 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol is used as a hardening agent, and 4-hydroxy-6-methyl-1 is used as a stabilizer. 3,3a,
Emulsion B was prepared by adding 7-tetrazaindene, hydroquinone, and 1-phenyl-5-mercaptotetrazole as an antifoggant.

【0120】[0120]

【化10】 Embedded image

【0121】 (乳剤Cの調製) 1液 水 1リットル ゼラチン 20g 塩化ナトリウム 2.0g 1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20mg ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 8mg 2液 水 400ml 硝酸銀 100g 3液 水 400ml 塩化ナトリウム 27.1g 臭化カリウム 21.0g ヘキサクロロイリジウム(III) アンモニウム(0.001% 水溶液) 20ml ヘキサクロロジウム(III) 酸カリウム(0.001% 水溶液) 7ml(Preparation of Emulsion C) 1 liquid 1 liter water 20 g gelatin 20 g sodium chloride 2.0 g 1,3-dimethylimidazolidin-2-thione 20 mg sodium benzenethiosulfonate 8 mg 2 liquid water 400 ml silver nitrate 100 g 3 liquid water 400 ml chloride Sodium 27.1 g Potassium bromide 21.0 g Ammonium hexachloroiridium (III) (0.001% aqueous solution) 20 ml Potassium hexachlorodium (III) (0.001% aqueous solution) 7 ml

【0122】40℃、pH4.5に保たれた1液に2液
と3液を攪拌しながら同時に15分間にわたって加え、
核粒子を形成した。続いて下記4液、5液を15分間に
わたって加えた。さらにヨウ化カリウム0.15gを加
え粒子形成を終了した。 4液 水 400ml 硝酸銀 100g 5液 水 400ml 塩化ナトリウム 27.1g 臭化カリウム 21.0g
Solution 1 and Solution 3 were added simultaneously to Solution 1 maintained at 40 ° C. and pH 4.5 over 15 minutes while stirring.
Core particles formed. Subsequently, the following liquids 4 and 5 were added over 15 minutes. Further, 0.15 g of potassium iodide was added to terminate the particle formation. 4th liquid 400ml Silver nitrate 100g 5th liquid 400ml Sodium chloride 27.1g Potassium bromide 21.0g

【0123】その後常法にしたがってフロキュレーショ
ン法によって水洗し、ゼラチン40gを加えた。pH
5.7、pAgを7.5に調整し、チオ硫酸ナトリウム
1.0mgと塩化金酸4.0mg、トリフェニルホスフィン
セレニド1.5mg、ベンゼンチオスルフォン酸ソーダ8
mg、ベンゼンスルフィン酸ソーダ2mgを加え、55℃で
最適感度になるように化学増感した。さらに安定剤とし
て、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデン100mg、防腐剤として、フェノキシ
エタノールを加え、最終的に塩化銀を70モル%含む、
平均粒子径0.23μmの塩沃臭化銀立方体粒子を得
た。さらに増感色素2.0×10-4モル/モルAg、
増感色素7.0×10-4モル/モルAgを加えて分光
増感を施した。さらにKbr3.4×10-4モル/モル
Ag、化合物5.0×10-4モル/モルAg、化合物
8.0×10-4モル/モルAg、ハイドロキノン1.
2×10-2モル/モルAg、化合物を1.8×10-4
モル/モルAg、化合物を3.5×10-4モル/モル
Ag、ゼラチンに対して4wt%の化合物を添加して乳
剤Cを調製した。
Thereafter, the resultant was washed with water by a flocculation method according to a conventional method, and 40 g of gelatin was added. pH
5.7, pAg was adjusted to 7.5, sodium thiosulfate 1.0 mg, chloroauric acid 4.0 mg, triphenylphosphine selenide 1.5 mg, sodium benzenethiosulfonate 8
mg and 2 mg of sodium benzenesulfinate were added and chemically sensitized at 55 ° C. so as to obtain the optimum sensitivity. Further, as a stabilizer, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-
100 mg of tetrazaindene, phenoxyethanol as a preservative, and finally containing 70 mol% of silver chloride,
Silver chloroiodobromide cubic grains having an average grain size of 0.23 μm were obtained. Further, sensitizing dye 2.0 × 10 −4 mol / mol Ag,
Spectral sensitization was performed by adding 7.0 × 10 −4 mol / mol Ag of the sensitizing dye. Furthermore, 3.4 × 10 −4 mol / mol Ag of Kbr, 5.0 × 10 −4 mol / mol Ag of compound, 8.0 × 10 −4 mol / mol Ag of compound, and hydroquinone 1.
2 × 10 −2 mol / mol Ag, compound was 1.8 × 10 −4
Emulsion C was prepared by adding 3.5 × 10 -4 mol / mol Ag of the compound and 4 wt% of the compound to gelatin.

【0124】[0124]

【化11】 Embedded image

【0125】(下塗液の調製)下記組成の下塗液を調製
した。 ゼラチン 4.5g リチウムシリケート(30%水分散物) 45g メタノール 300ml 水 650ml (バッキング液の調製) バインダー(下記化合物C−1) 30g 染料(下記化合物C−2) 5g ( 〃 C−3) 5g ( 〃 C−4) 6g ( 〃 C−5) 1.2g エタノール 420ml メタノール 550ml
(Preparation of Undercoating Solution) An undercoating solution having the following composition was prepared. Gelatin 4.5 g Lithium silicate (30% aqueous dispersion) 45 g Methanol 300 ml Water 650 ml (Preparation of backing solution) Binder (compound C-1 below) 30 g Dye (compound C-2 below) 5 g (〃C-3) 5 g ( 〃 C-4) 6 g (〃 C-5) 1.2 g ethanol 420 ml methanol 550 ml

【0126】[0126]

【化12】 Embedded image

【0127】[0127]

【化13】 Embedded image

【0128】(保護層液の調製)下記組成の保護層用の
液を調製した。 ゼラチン 65g ポリメチルメタクリレート微粒子 3g 界面活性剤(前記化合物A−6) 3g 増粘剤 ( 〃 A−7) 0.5g スポット防止剤(下記化合物D−1) 1.2g カブリ防止剤 (下記化合物D−2) 0.6g 〃 (下記化合物D−3) 0.8g 水 900ml
(Preparation of Protective Layer Liquid) A liquid for a protective layer having the following composition was prepared. Gelatin 65 g Polymethyl methacrylate fine particles 3 g Surfactant (compound A-6) 3 g Thickener (〃A-7) 0.5 g Spot inhibitor (compound D-1 below) 1.2 g Antifoggant (compound D below) -2) 0.6 g (Compound D-3 below) 0.8 g Water 900 ml

【0129】[0129]

【化14】 Embedded image

【0130】感光材料の作製 (バッキング層の塗布)ガラス支持体上にバッキング液
を塗布量15cc/m2になるようにバーコーターで塗布
し、バッキング層を設けた。 (下塗液の塗布)バッキング層を設けたガラス支持体の
バッキング層の反対面に塗布量が10cc/m2となるよう
にナプキンコーターで下塗液を塗布し、一部試料には下
塗層を設けた。
Preparation of Photosensitive Material (Application of Backing Layer) A backing solution was applied on a glass support with a bar coater so as to have an application amount of 15 cc / m 2 to provide a backing layer. (Application of Undercoating Solution) An undercoating solution was applied to the opposite side of the backing layer of the glass support provided with the backing layer with a napkin coater so that the application amount was 10 cc / m 2. Provided.

【0131】(乳剤層および保護層の塗布)乳剤A、
B、Cにゼラチンを加え、塗布銀量5.1g/m2、ゼラ
チン量4.9g/m2になるように塗布した。一部試料に
は活性メチレン基を有するポリマーラテックスP−4を
180mg/m2、平均粒子径20mμのコロイダルシリカ
またはシランカップリング剤S−3を、それぞれ80mg
/m2、280mg/m2になるように添加した。また一部試
料には乳剤層の上にさらに保護層を設けた。各試料の層
構成、ポリマーラテックス、コロイダルシリカ、シラン
カップリング剤の有無を表1にまとめて示した。
(Coating of Emulsion Layer and Protective Layer) Emulsion A
Gelatin was added to B and C, and coated so that the coated silver amount was 5.1 g / m 2 and the gelatin amount was 4.9 g / m 2 . In some samples, 180 mg / m 2 of polymer latex P-4 having an active methylene group and 80 mg of colloidal silica or silane coupling agent S-3 having an average particle diameter of 20 μm, respectively.
/ M 2 , 280 mg / m 2 . Some samples were further provided with a protective layer on the emulsion layer. Table 1 summarizes the layer structure of each sample, the presence or absence of polymer latex, colloidal silica, and silane coupling agent.

【0132】[0132]

【表1】 [Table 1]

【0133】感光材料の評価 (圧着カブリの評価)感光材料1〜15を50ケ所のオ
ペーク修正をほどこしたマスターマスクに密着させガラ
ス乾板用バキュームプリンター(倉並製作所ハニカムプ
リンターPH)で2分30秒間バキューム引きを行っ
た。その後露光を与えずに感光材料1〜5は現像液−1
で、感光材料6〜10は現像液−2、感光材料11〜1
5は現像液−3で現像、定着、水洗処理を行った。得ら
れた感光材料A〜Lをライトテーブルで観察し、マスタ
ーマスクのオペーク修正個所に発生する圧着カブリの個
数を調べた。現像液、定着液の処方を下記に示す。
Evaluation of photosensitive material (Evaluation of compression fog) The photosensitive materials 1 to 15 were brought into close contact with 50 opaque-corrected master masks, and vacuumed for 2 minutes and 30 seconds with a vacuum printer for dry glass plates (Kuranami Manufacturing Honeycomb Printer PH). I did a pull. Thereafter, the photosensitive materials 1 to 5 were exposed to the developing solution-1 without exposure.
The photosensitive materials 6 to 10 are developer 2 and photosensitive materials 11 to 1
No. 5 was developed, fixed, and washed with a developing solution-3. The obtained photosensitive materials A to L were observed on a light table, and the number of pressure fog generated at the opaque correction portion of the master mask was examined. The formulas of the developer and the fixer are shown below.

【0134】 <現像液−1> ハイドロキノン 5g N−メチル−p−アミノフェノール1/2硫酸塩 1g 無水亜硫酸ナトリウム 50g 水酸化カリウム 20g 臭化カリウム 0.5g 水で1000mlとした。 <現像液−2> ハイドロキノン 20g 亜硫酸カリウム 5g エチレンジアミン四酢酸ナトリウム 1g 炭酸カリウム 35g 炭酸ナトリウム 15g 臭化カリウム 3g 5−ニトロインダゾール 4mg トリエチレングリコール 30g ジエタノールアミン 20g ホルマリン重亜硫酸ナトリウム付加物 50g ポリエチレングリコール(平均分子量1500) 0.2g 水で1リットルとし、pHを水酸化ナトリウムで10.
2に調整した。 <現像液−3> 水酸化カリウム 35.0g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g メタ重硫酸ナトリウム 40.0g 炭酸カリウム 40.0g 臭化カリウム 3.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ −4−(1H)−キナゾリノン 0.04g 2−メルカプトベンツイミダゾール −5−スルホン酸ナトリウム 0.15g ハイドロキノン 25.0g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 0.45g エリソルビン酸ナトリウム 3.0g ジエチレングリコール 20.0g 水酸化カリウムを加え、水を加えて1リットルとし、p
Hを10.45に合わせる。
<Developer-1> Hydroquinone 5 g N-methyl-p-aminophenol 1/2 sulfate 1 g Anhydrous sodium sulfite 50 g Potassium hydroxide 20 g Potassium bromide 0.5 g Water was made up to 1000 ml with water. <Developer-2> Hydroquinone 20 g Potassium sulfite 5 g Sodium ethylenediaminetetraacetate 1 g Potassium carbonate 35 g Sodium carbonate 15 g Potassium bromide 3 g 5-Nitroindazole 4 mg Triethylene glycol 30 g Diethanolamine 20 g Sodium bisulfite adduct 50 g Polyethylene glycol (average molecular weight 1500 9.) 0.2 g to 1 liter with water and pH adjusted with sodium hydroxide to 10.
Adjusted to 2. <Developer-3> Potassium hydroxide 35.0 g Diethylenetriamine-pentaacetic acid 2.0 g Sodium metabisulfate 40.0 g Potassium carbonate 40.0 g Potassium bromide 3.0 g 5-Methylbenzotriazole 0.08 g 2,3,5 , 6,7,8-Hexahydro-2-thioxo-4- (1H) -quinazolinone 0.04 g 2-mercaptobenzimidazole-5-sodium sulfonate 0.15 g Hydroquinone 25.0 g 4-hydroxymethyl-4-methyl- 1-phenyl-3-pyrazolidone 0.45 g sodium erythorbate 3.0 g diethylene glycol 20.0 g potassium hydroxide was added, and water was added to make up to 1 liter.
Adjust H to 10.45.

【0135】 <定着液処方> チオ硫酸アンモニウム 359.1g エチレンジアミン四酢酸 2Na 2水塩 0.09g チオ硫酸ナトリウム 5水塩 32.8g 亜硫酸ナトリウム 64.8g NaOH 37.2g 氷酢酸 87.3g 酒石酸 8.76g グルコン酸ナトリウム 6.6g 硫酸アルミニウム 25.3g pH(硫酸または水酸化ナトリウムで調整) 4.85 水を加えて 3リットル<Fixing Solution Formulation> Ammonium thiosulfate 359.1 g Ethylenediaminetetraacetic acid 2Na dihydrate 0.09 g Sodium thiosulfate pentahydrate 32.8 g Sodium sulfite 64.8 g NaOH 37.2 g Glacial acetic acid 87.3 g Tartaric acid 8.76 g Sodium gluconate 6.6 g Aluminum sulfate 25.3 g pH (adjusted with sulfuric acid or sodium hydroxide) 4.85 3 L with water

【0136】(接着性の評価)感光材料1〜15を50
℃、相対湿度60%中で6時間シーズニングした後、感
光材料1〜5は現像液−1で20℃、5分間、感光材料
6〜10は現像液−2で20℃、3分間、感光材料11
〜15は現像液−3で20℃3分間浸漬し、乳剤膜が現
像液で濡れた状態でピンセットの先端で乳剤膜を引っ掻
いた後、指で表面を摩擦し、ガラスとの接着性を評価し
た。その結果を表−1にまとめて示す。
(Evaluation of Adhesion Property)
After the seasoning for 6 hours at 60 ° C. and a relative humidity of 60%, photosensitive materials 1 to 5 are at 20 ° C. for 5 minutes with developer-1, and photosensitive materials 6 to 10 are at 20 ° C. for 3 minutes with developer 2 for 3 minutes. 11
Nos. 15 to 15 were immersed in developer-3 at 20 ° C. for 3 minutes, and the emulsion film was wet with the developer, the emulsion film was scratched with the tip of tweezers, and the surface was rubbed with a finger to evaluate the adhesion to glass. did. The results are summarized in Table 1.

【0137】表1の結果から明らかなように、活性メチ
レン基を有するポリマーラテックスを含有する試料は圧
着カブリの個数が少なく、乳剤層の接着も良好である。
また、コロイダルシリカを含有する試料および保護層を
有する試料は圧着カブリの個数がさらに少なく、シラン
カップリング剤を含有する試料は乳剤層の接着がさらに
良好である。
As is clear from the results shown in Table 1, the sample containing the polymer latex having an active methylene group has a small number of pressure fog and good adhesion of the emulsion layer.
Further, the sample containing colloidal silica and the sample having a protective layer have a smaller number of press fogs, and the sample containing a silane coupling agent has better adhesion of the emulsion layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 1/76 501 G03C 1/76 501 5/00 5/00 B ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location G03C 1/76 501 G03C 1/76 501 5/00 5/00 B

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス支持体上に少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層またはその他の親水性
コロイド層中に活性メチレン基を有するポリマーラテッ
クスを含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料。
1. A halogen having at least one silver halide emulsion layer on a glass support and containing a polymer latex having an active methylene group in the emulsion layer or another hydrophilic colloid layer. Silver halide photographic material.
【請求項2】 該乳剤層の上側に少なくとも一層の非感
光性保護層を有することを特徴とする請求項1のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
2. The silver halide photographic material according to claim 1, further comprising at least one non-photosensitive protective layer on the emulsion layer.
【請求項3】 該乳剤層またはその他の親水性コロイド
層中に、シランカップリグ剤を含有することを特徴とす
る請求項1または2のハロゲン化銀写真感光材料。
3. The silver halide photographic material according to claim 1, wherein the emulsion layer or the other hydrophilic colloid layer contains a silane coupling agent.
【請求項4】 該乳剤層またはその他の親水性コロイド
層中に、平均粒子径が30mμ以下のコロイダルシリカ
を含有することを特徴とする請求項1または2のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
4. The silver halide photographic material according to claim 1, wherein said emulsion layer or another hydrophilic colloid layer contains colloidal silica having an average particle diameter of 30 mμ or less.
JP17622796A 1996-07-05 1996-07-05 Silver halide photographic sensitive material having glass support Pending JPH1020475A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001029615A1 (en) * 1999-10-20 2001-04-26 Sineisha Co., Ltd. Photomask original form having layer for protecting film surface and method for preparing the same, and protective layer-forming liquid for photomask original form
JP2003096409A (en) * 2001-09-20 2003-04-03 Kimoto & Co Ltd Surface protecting film
JP2007212705A (en) * 2006-02-09 2007-08-23 Hoya Corp Mask blank and photomask

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001029615A1 (en) * 1999-10-20 2001-04-26 Sineisha Co., Ltd. Photomask original form having layer for protecting film surface and method for preparing the same, and protective layer-forming liquid for photomask original form
JP2003096409A (en) * 2001-09-20 2003-04-03 Kimoto & Co Ltd Surface protecting film
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