JPH10186597A - Method for processing silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Method for processing silver halide photographic sensitive material

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JPH10186597A
JPH10186597A JP34570496A JP34570496A JPH10186597A JP H10186597 A JPH10186597 A JP H10186597A JP 34570496 A JP34570496 A JP 34570496A JP 34570496 A JP34570496 A JP 34570496A JP H10186597 A JPH10186597 A JP H10186597A
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JP
Japan
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group
shell
silver halide
core
hydrazine
Prior art date
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Application number
JP34570496A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Hirabayashi
和彦 平林
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the method for processing the silver halide sensitive material capable of maintaining high contrast even in ultrahigh speed processing and not hindering film hardening and reducing residual dye stains. SOLUTION: The silver halide photographic sensitive material containing a hydrazine derived uncleator having a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond with an anionic group or an H atom of the hydrazine near the hydrazine group and a polymer latex is processed in an automatic developing machine in the total processing time of 20-60sec, and at that time, the total gelatin among (G) is <=2.5g/m<2> and a weight ratio of the total gelatin amount (G) to the total polymer latex (PL) PL/G of 0.1-0.33.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料の処理方法に関し、詳しくは硬調な銀画像を形
成し、かつ迅速処理に優れたハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for processing a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to a method for processing a silver halide photographic light-sensitive material which forms a high-contrast silver image and is excellent in rapid processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】印刷製版の分野における写真製版の工程
のうち、特に集版、返しの作業工程に用いられるハロゲ
ン化銀写真感光材料(以下、感光材料という)は、線
画、網点画像の再生を良好ならしめるために、画像部と
非画像部が明瞭に区別された高い黒化濃度をもつ、いわ
ゆる超硬調な写真特性を有するものが求められており、
さらに製版、特に明室集版工程では感光材料の処理量が
非常に多いため、超迅速処理が強くのぞまれている。
2. Description of the Related Art Among photographic plate making processes in the field of printing plate making, silver halide photographic light-sensitive materials (hereinafter referred to as "light-sensitive materials") which are used particularly for plate-collecting and turning-back work are used for reproducing line drawings and halftone images. In order to make good, the image part and the non-image part have a high blackening density that is clearly distinguished, and what is called a super-hard photographic characteristic is required,
Further, in the plate making process, particularly in the bright room plate collecting process, since the amount of processing of the photosensitive material is very large, ultra-rapid processing is strongly desired.

【0003】超硬調な写真特性を感光材料に付与する方
法としては、ヒドラジン誘導体を感光材料中に含有させ
る方法などが知られており、超硬調な写真特性が得られ
る画像システムとして、特開昭60−140338号、
同61−238049号などで開示されている。しかし
ながら、従来のヒドラジン誘導体は硬膜阻害を起こし、
このため感光材料構成層の膜がゆるみ、含水量が多くな
り、乾燥が遅れ超迅速処理が困難となるという問題があ
った。さらに、処理中にヒドラジン誘導体等の感光材料
中の添加剤が処理液中に溶出し、処理のランニング安定
性を劣化させ、これを防ぐためポリマーラテックスを添
加し、トラップさせて溶出を防いでいた。しかしなが
ら、ポリマーラテックスは、乾燥性を劣化させるために
超迅速処理を行う上での障害になっていた。
As a method for imparting ultra-high contrast photographic characteristics to a light-sensitive material, a method of incorporating a hydrazine derivative into a light-sensitive material and the like have been known. No. 60-140338,
No. 61-238049. However, conventional hydrazine derivatives cause dura inhibition,
For this reason, there has been a problem that the film of the light-sensitive material constituting layer is loosened, the water content is increased, and drying is delayed, so that ultra-rapid processing becomes difficult. Furthermore, during processing, additives in the photosensitive material such as hydrazine derivatives elute into the processing solution, deteriorating the running stability of the processing. To prevent this, polymer latex was added and trapped to prevent elution. . However, the polymer latex has been an obstacle to performing ultra-rapid processing to deteriorate the drying property.

【0004】一方、支持体上に設けられた帯電防止層は
作業上静電気による問題を防ぐために必要であるが、ゼ
ラチンなどの親水性バインダーに水溶性ポリマーや金属
酸化物を分散させて塗布してあるために乾燥性が悪くな
り、超迅速処理の面では好ましくない。
On the other hand, an antistatic layer provided on a support is necessary to prevent problems due to static electricity in operation. However, a water-soluble polymer or metal oxide is dispersed and applied to a hydrophilic binder such as gelatin. For this reason, the drying property deteriorates, which is not preferable in terms of ultra-rapid processing.

【0005】さらにまた、超迅速処理においては染料残
りが多くなるが、ポリマーラテックスはこの面でも好ま
しくない。
[0005] Furthermore, in the case of ultra-rapid processing, a large amount of dye remains, but polymer latex is not preferred in this respect.

【0006】硬調化剤としてヒドラジン誘導体を使用す
る場合、現像液のpHは11以上であるが、pH11以
上の現像液は空気酸化され易く不安定であるため、pH
を下げる努力がなされており、アスコルビン酸系の現像
主薬による処理が検討されているが、従来のヒドラジン
誘導体との組み合わせでは硬調化や超迅速処理適性が十
分とはいえない状況にある。
When a hydrazine derivative is used as a high contrast agent, the pH of the developer is 11 or more. However, since the developer having a pH of 11 or more is easily oxidized by air and is unstable, the pH of the developer is high.
Efforts have been made to reduce the processing, and processing with an ascorbic acid-based developing agent has been studied, but in combination with a conventional hydrazine derivative, high contrast and ultra-rapid processing suitability cannot be said to be sufficient.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
して、本発明の課題は、超迅速処理においても硬調化を
維持し、硬膜阻害を起こさず、かつ残色が少ないハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned problems, an object of the present invention is to provide a silver halide which maintains high contrast even in ultra-rapid processing, does not cause hardening inhibition, and has little residual color. An object of the present invention is to provide a method for processing a photographic material.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は下記
手段により達成される。
The above object of the present invention is achieved by the following means.

【0009】 ヒドラジン基の近傍にアニオン性基又
はヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成するノ
ニオン性基を有するヒドラジン系造核剤及びポリマーラ
テックスを含有するハロゲン化銀写真感光材料を、自動
現像機で全処理時間が20〜60秒で処理するにあた
り、ハロゲン化銀乳剤層を有する側の総ゼラチン量
(G)が2.5g/m2以下であり、該総ゼラチン量
(G)とポリマーラテックス(PL)の重量比が0.1
≦PL/G≦0.33であることを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。
A silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine-based nucleating agent having an anionic group or a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine near a hydrazine group and a polymer latex is automatically developed. The total amount of gelatin (G) on the side having the silver halide emulsion layer is 2.5 g / m 2 or less, and the total amount of gelatin (G) is Latex (PL) weight ratio of 0.1
≦ PL / G ≦ 0.33, a method for processing a silver halide photographic material.

【0010】 実質的にp−ジヒドロキシベンゼン系
化合物を含有しない、下記一般式〔A〕で表される化合
物を現像主薬とする現像液で処理することを特徴とする
上記項記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
The silver halide photograph as described in the above item, which is processed with a developing solution containing a compound represented by the following general formula [A] and containing substantially no p-dihydroxybenzene compound. Processing method of photosensitive material.

【0011】[0011]

【化2】 Embedded image

【0012】〔式中、R1、R2は各々独立して置換又は
未置換のアルキル基、置換又は未置換のアミノ基、置換
又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアルキル
チオ基を表し、又R1とR2が互いに結合して環を形成し
てもよい。
[In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group. And R 1 and R 2 may combine with each other to form a ring.

【0013】kは0または1を表し、k=1のときXは
−CO−または−CS−を表す。M1、M2は各々水素原
子またはアルカリ金属を表す。〕 ハロゲン化銀写真感光材料が帯電防止層を有するこ
とを特徴とする上記項又は項記載のハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法。
K represents 0 or 1, and when k = 1, X represents -CO- or -CS-. M 1 and M 2 each represent a hydrogen atom or an alkali metal. The method for processing a silver halide photographic light-sensitive material as described in the above item or item, wherein the silver halide photographic light-sensitive material has an antistatic layer.

【0014】以下、本発明について具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be described specifically.

【0015】本発明に係るヒドラジン系造核剤について
説明する。本発明に係るヒドラジン系造核剤はヒドラジ
ン基の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子
と分子内水素結合を形成するノニオン性基を有すること
を特徴とするヒドラジン系造核剤である。
The hydrazine nucleating agent according to the present invention will be described. The hydrazine-based nucleating agent according to the present invention is a hydrazine-based nucleating agent characterized by having an anionic group or a nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine near a hydrazine group.

【0016】更に具体的には、上記アニオン性基として
はカルボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホ
スホン酸およびそれらの塩が挙げられる。ここでヒドラ
ジン基の近傍とは、ヒドラジンのアニオン性基に近い窒
素原子とアニオン性基の間に、炭素原子、窒素原子、酸
素原子又は硫黄原子から選ばれる原子2〜5個で形成さ
れる結合鎖が介在することを意味する。中でも好ましく
は炭素原子と窒素原子の中から選ばれる原子2〜5個で
形成される結合鎖が介在する場合であり、更に好ましく
は炭素原子2〜3個で形成される結合鎖が介在する場合
である。
More specifically, examples of the anionic group include carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid, phosphonic acid and salts thereof. Here, the vicinity of the hydrazine group means a bond formed by 2 to 5 atoms selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom between a nitrogen atom close to the anionic group of hydrazine and the anionic group. It means that the chain is interposed. Among them, a case where a bond chain formed of 2 to 5 atoms selected from a carbon atom and a nitrogen atom is preferred, and a case where a bond chain formed of 2 to 3 carbon atoms is more preferred It is.

【0017】ヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を
形成するノニオン性基としては孤立電子対が5ないし7
員環でヒドラジンの水素原子と水素結合を形成する基で
あり、酸素原子、窒素水素、硫黄原子またはリン原子の
少なくとも一つを有する基である。ノニオン性基として
はアルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、カルボニ
ル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、ウレ
タン基、ウレイド基、アシルオキシ基、アシルアミノ基
が挙げられる。これらのうちアニオン性基が好ましく、
更にアニオン性基としてはカルボン酸およびその塩が最
も好ましい。
The nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond with the hydrogen atom of hydrazine has a lone electron pair of 5 to 7
It is a group that forms a hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine in a member ring and has at least one of an oxygen atom, nitrogen hydrogen, sulfur atom, and phosphorus atom. Examples of the nonionic group include an alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, a carbonyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, a urethane group, a ureido group, an acyloxy group, and an acylamino group. Of these, anionic groups are preferred,
Further, as the anionic group, carboxylic acids and salts thereof are most preferred.

【0018】本発明に係るヒドラジン系造核剤として好
ましいものは以下に一般式(1)ないし(3)で示され
るものである。
Preferred hydrazine-based nucleating agents according to the present invention are those represented by the following formulas (1) to (3).

【0019】一般式(1)General formula (1)

【0020】[0020]

【化3】 Embedded image

【0021】〔式中、R1はアルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表し、L1は電子吸引性基を有する2
価の連結基を表し、Y1はアニオン性基またはヒドラジ
ンの水素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基
を表す。〕 一般式(2)
[In the formula, R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and L 1 represents 2 having an electron-withdrawing group.
Y 1 represents an anionic group or a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine. General formula (2)

【0022】[0022]

【化4】 Embedded image

【0023】〔式中、R2はアルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表し、L2は2価の連結基を表し、Y2
はアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分子内水
素結合を形成するノニオン性基を表す。〕 一般式(3)
[0023] wherein, R 2 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, L 2 represents a divalent linking group, Y 2
Represents an anionic group or a nonionic group which forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine. General formula (3)

【0024】[0024]

【化5】 Embedded image

【0025】〔式中、X3はベンゼン環に置換可能な基
を表し、R3はアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基またはアミ
ノ基を表し、Y3はアニオン性基またはヒドラジンの水
素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を表
す。m3は0〜4の整数であり、n3は1または2であ
る。n3が1のときR3は電子吸引性基を有する。〕 一般式(1)ないし(3)に関し更に詳細に説明する。
[0025] represents wherein, X 3 is a group substitutable on the benzene ring, R 3 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group or an amino group, Y 3 is It represents an anionic group or a nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine. m 3 is an integer of 0 to 4, and n 3 is 1 or 2. When n 3 is 1, R 3 has an electron-withdrawing group. The general formulas (1) to (3) will be described in more detail.

【0026】R1、R2のアルキル基としては炭素数1〜
16、好ましくは炭素数1〜12の直鎖、分岐鎖または
環状のアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、t−ブチル、アリル、プロパル
ギル、2−ブテニル、2−ヒドロキシエチル、ベンジ
ル、ベンズヒドリル、トリチル、4−メチルベンジル、
2−メトキシエチル、シクロペンチル、2−アセトアミ
ドエチルである。
The alkyl group of R 1 and R 2 has 1 to 1 carbon atoms.
16, preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, t-butyl, allyl, propargyl, 2-butenyl, 2-hydroxyethyl, Benzyl, benzhydryl, trityl, 4-methylbenzyl,
2-methoxyethyl, cyclopentyl and 2-acetamidoethyl.

【0027】アリール基としては炭素数6〜24、好ま
しくは炭素数6〜12のアリール基で例えば、フェニ
ル、ナフチル、p−アルコキシフェニル、p−スルホン
アミドフェニル、p−ウレイドフェニル、p−アミドフ
ェニルである。
The aryl group is an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, preferably 6 to 12 carbon atoms, for example, phenyl, naphthyl, p-alkoxyphenyl, p-sulfonamidophenyl, p-ureidophenyl, p-amidophenyl It is.

【0028】ヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素原
子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員ま
たは6員の飽和または不飽和のヘテロ環であって環を構
成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つでも複数で
あっても良く、例えば、2−フリル、2−チエニル、4
−ピリジルである。
The heterocyclic group is a 5- or 6-membered saturated or unsaturated heterocyclic ring having at least one oxygen atom, nitrogen atom or sulfur atom having 1 to 5 carbon atoms, which is a heteroatom constituting the ring. May be one or more in number, for example, 2-furyl, 2-thienyl,
-Pyridyl.

【0029】R1、R2として好ましくはアリール基、芳
香族ヘテロ環基またはアリール置換メチル基であり、更
に好ましくはアリール基(例えば、フェニル、ナフチ
ル)である。
R 1 and R 2 are preferably an aryl group, an aromatic heterocyclic group or an aryl-substituted methyl group, and more preferably an aryl group (eg, phenyl, naphthyl).

【0030】R1、R2は置換基で置換されていてもよ
く、置換基としては例えば、アルキル基、アラルキル
基、アルコキシ基、アルキルまたはアリール置換アミノ
基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタ
ン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモ
イル、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、リン酸
アミド基である。
R 1 and R 2 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkyl or aryl substituted amino group, an amide group, a sulfonamide group and a ureido group. , Urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl, aryl group, alkylthio group, arylthio group,
A sulfonyl group, a sulfinyl group, a hydroxy group, a halogen atom, a cyano group, a sulfo group, a carboxyl group, and a phosphoric acid amide group.

【0031】これらの基は更に置換されていてもよい。
これらのうちスルホンアミド基、ウレイド基、アミド
基、アルコキシ基、ウレタン基が好ましく、スルホンア
ミド基、ウレイド基が更に好ましい。これらの基は可能
なときは互いに連結して環を形成してもよい。
These groups may be further substituted.
Of these, a sulfonamide group, a ureido group, an amide group, an alkoxy group, and a urethane group are preferred, and a sulfonamide group and a ureido group are more preferred. When possible, these groups may be linked to each other to form a ring.

【0032】R3のアルキル基、アリール基、ヘテロ環
基はR1で述べたものが挙げられる。アルケニル基とし
ては炭素数2〜18、好ましくは2〜10のもので、例
えば、ビニル、2−スチリルである。アルキニル基とし
ては炭素数2〜18、好ましくは2〜10のもので、例
えば、エチニル、フェニルエチニルである。アルコキシ
基としては炭素数1ないし16、好ましくは炭素数1な
いし10の直鎖、分岐鎖または環状のアルコキシ基であ
り、例えば、メトキシ、イソプロポキシ、ベンジルオキ
シである。アミノ基としては炭素数0〜16、好ましく
は炭素数1〜10のもので、エチルアミノ、ベンジルア
ミノ、フェニルアミノである。n3=1のときR3として
はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基が好まし
い。n3=2のときR3としてはアミノ基、アルコキシ基
が好ましい。
The alkyl group of R 3, aryl group, heterocyclic group include those described in R 1. The alkenyl group has 2 to 18 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, such as vinyl and 2-styryl. The alkynyl group has 2 to 18 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, such as ethynyl and phenylethynyl. The alkoxy group is a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 16, preferably 1 to 10 carbon atoms, such as methoxy, isopropoxy and benzyloxy. The amino group has 0 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, and includes ethylamino, benzylamino and phenylamino. When n 3 = 1, R 3 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. When n 3 = 2, R 3 is preferably an amino group or an alkoxy group.

【0033】R3の有する電子吸引性基としては、ハメ
ットのσmの値が0.2以上のもの、好ましくは0.3
以上のもので、例えば、ハロゲン原子(フッ素、塩素、
臭素)、シアノ基、スルホニル基(メタンスルホニル、
ベンゼンスルホニル)、スルフィニル基(メタンスルフ
ィニル)、アシル基(アセチル、ベンゾイル)、オキシ
カルボニル基(メトキシカルボニル)、カルバモイル基
(N−メチルカルバモイル)、スルファモイル基(メチ
ルスルファモイル)、ハロゲン置換アルキル基(トリフ
ルオロメチル)、ヘテロ環基(2−ベンズオキサゾリ
ル、ピロロ)、4級オニウム基(トリフェニルホスホニ
ウム、トリアルキルアンモニウム、ピリジニウム)が挙
げられる。電子吸引性基を有するR3としては、例え
ば、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、ペンタフ
ルオロエチル、シアノメチル、メタンスルホニルメチ
ル、アセチルエチル、トリフルオロメチルエチニル、エ
トキシカルボニルメチルが挙げられる。
The electron-withdrawing group possessed by R 3 has a Hammett's σ m of 0.2 or more, preferably 0.3
In the above, for example, a halogen atom (fluorine, chlorine,
Bromine), cyano group, sulfonyl group (methanesulfonyl,
Benzenesulfonyl), sulfinyl group (methanesulfinyl), acyl group (acetyl, benzoyl), oxycarbonyl group (methoxycarbonyl), carbamoyl group (N-methylcarbamoyl), sulfamoyl group (methylsulfamoyl), halogen-substituted alkyl group ( Trifluoromethyl), a heterocyclic group (2-benzoxazolyl, pyrrolo) and a quaternary onium group (triphenylphosphonium, trialkylammonium, pyridinium). Examples of R 3 having an electron-withdrawing group include trifluoromethyl, difluoromethyl, pentafluoroethyl, cyanomethyl, methanesulfonylmethyl, acetylethyl, trifluoromethylethynyl, and ethoxycarbonylmethyl.

【0034】L1、L2は2価の連結基を表し、アルキレ
ン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、二価のヘテロ環基およびそれらを−O−、−S−、
−NH−、−CO−、−SO2−等の単独または組み合
わせからなる基で連結したものである。L1、L2はR1
の置換基として述べた基で置換されていてもよい。アル
キレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、プロピレン、2−ブテン−1,4−イル、2
−ブチン−1,4−イルである。アルケニレン基として
は、例えば、ビニレンである。アルキニレン基としては
エチニレンである。アリーレン基としては、例えはフェ
ニレンである。二価のヘテロ環基としては、例えば、フ
ラン−1,4−ジイルである。L1としてはアルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基が
好ましく、アルキレン基がより好ましい。更に鎖長が炭
素数2〜3のアルキレン基が最も好ましい。L2として
はアルキレン基、アリーレン基、−NH−アルキレン
−、−O−アルキレン−、−NH−アリーレン−が好ま
しく、−NH−アルキレン−、−O−アルキレン−がよ
り好ましい。
L 1 and L 2 each represent a divalent linking group, and include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, and those represented by —O—, —S—,
-NH -, - CO -, - it is the concatenation in made from one or a combination of such groups - SO 2. L 1 and L 2 are R 1
May be substituted with the groups described as the substituents. Examples of the alkylene group include methylene, ethylene, trimethylene, propylene, 2-buten-1,4-yl,
-Butin-1,4-yl. The alkenylene group is, for example, vinylene. The alkynylene group is ethynylene. The arylene group is, for example, phenylene. The divalent heterocyclic group is, for example, furan-1,4-diyl. L 1 is preferably an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, or an arylene group, and more preferably an alkylene group. Further, an alkylene group having a chain length of 2 to 3 carbon atoms is most preferable. L The 2 alkylene group, an arylene group, -NH- alkylene -, - O-alkylene -, - NH- arylene - are preferred, -NH- alkylene -, - O-alkylene - is more preferable.

【0035】L1の有する電子吸引性基としては、R3
有する電子吸引性基として述べたものが挙げられる。L
1として例えば、テトラフルオロエチレン、フルオロメ
チレン、ヘキサフルオロトリメチレン、パーフルオロフ
ェニレン、ジフルオロビニレン、シアノメチレン、メタ
ンスルホニルエチレンが挙げられる。
Examples of the electron-withdrawing group of L 1 include those described as the electron-withdrawing group of R 3 . L
Examples of 1 include tetrafluoroethylene, fluoromethylene, hexafluorotrimethylene, perfluorophenylene, difluorovinylene, cyanomethylene, and methanesulfonylethylene.

【0036】Y1ないしY3としてはすでに述べたもので
あり、アニオン性基または孤立電子対が5ないし7員環
でヒドラジン水素と水素結合を形成するノニオン性基で
ある。更に具体的には、アニオン性基としてはカルボン
酸、スルホン酸、フルフィン酸、リン酸、ホスホン酸お
よびそれらの塩が挙げられる。塩としてはアルカリ金属
イオン(ナトリウム、カリウム)、アルカリ土類金属イ
オン(カルシウム、マグネシウム)、アンモニウム(ア
ンモニウム、トリエチルアンモニウム、テトラブチルア
ンモニウム、ピリジウム)、ホスホニウム(テトラフェ
ニルホスホニウム)が挙げられる。ノニオン性基として
は酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはリン原子の少な
くとも一つを有する基で、アルコキシ基、アミノ基、ア
ルキルチオ基、カルボニル基、カルバモイル基、アルコ
キシカルボニル基、ウレタン基、ウレイド基、アシルオ
キシ基、アシルアミノ基が挙げられる。Y1ないしY3
してはアニオン性基が好ましく、カルボン酸およびその
塩が更に好ましい。
Y 1 to Y 3 are as described above, and are anionic groups or nonionic groups in which a lone electron pair forms a hydrogen bond with hydrazine hydrogen in a 5- to 7-membered ring. More specifically, examples of the anionic group include carboxylic acid, sulfonic acid, fulphinic acid, phosphoric acid, phosphonic acid, and salts thereof. Examples of the salt include alkali metal ions (sodium and potassium), alkaline earth metal ions (calcium and magnesium), ammonium (ammonium, triethylammonium, tetrabutylammonium, pyridium) and phosphonium (tetraphenylphosphonium). As the nonionic group, an oxygen atom, a nitrogen atom, a group having at least one of a sulfur atom and a phosphorus atom, an alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, a carbonyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, a urethane group, a ureido group, An acyloxy group and an acylamino group are exemplified. Y 1 to Y 3 are preferably anionic groups, and more preferably carboxylic acids and salts thereof.

【0037】X3のベンゼン環に置換可能な基およびそ
の好ましいものは、一般式(1)のR1が有する置換基
として述べたものが挙げられる。m3が2以上の時それ
ぞれは同じでも異なっていてもよい。
Examples of the group capable of substituting on the benzene ring of X 3 and preferable ones include those described as the substituent of R 1 in the general formula (1). When m 3 is 2 or more, they may be the same or different.

【0038】R1ないしR3、またはX3は写真用カプラ
ーで用いられる耐拡散基を有してもよいし、ハロゲン化
銀への吸着促進基を有してもよい。耐拡散基としては炭
素数8以上30以下のもので、炭素数12以上25以下
のものが好ましい。ハロゲン化銀への吸着促進基として
は、好ましくはチオアミド類(例えば、チオウレタン、
チオウレイド、チオアミド)、メルカプト類(例えば、
5−メルカプトテトラゾール、3−メルカプト−1,
2,4−トリアゾール、2−メルカプト−1,3,4−
チアジアゾール、2−メルカプト−1,3,4−オキサ
ジアゾール等のヘテロ環メルカプト、アルキルメルカプ
ト、アリールメルカプト)およびイミノ銀を生成する5
ないし6員の含窒素ヘテロ環(例えば、ベンゾトリアゾ
ール)である。ハロゲン化銀吸着促進基を有するものと
しては、吸着基が保護されており現像処理時に保護基が
除去されてハロゲン化銀への吸着性が高まる構造のもの
も含まれる。
R 1 to R 3 or X 3 may have a diffusion-resistant group used in photographic couplers or may have a group promoting adsorption to silver halide. The diffusion-resistant group has 8 to 30 carbon atoms, and preferably has 12 to 25 carbon atoms. As the adsorption-promoting group for silver halide, thioamides (for example, thiourethane,
Thioureido, thioamide), mercaptos (for example,
5-mercaptotetrazole, 3-mercapto-1,
2,4-triazole, 2-mercapto-1,3,4-
Heterocyclic mercapto such as thiadiazole, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole, alkyl mercapto, aryl mercapto) and imino silver 5
And a 6-membered nitrogen-containing heterocycle (eg, benzotriazole). Examples of those having a silver halide adsorption promoting group include those having a structure in which the adsorptive group is protected and the protective group is removed at the time of development to increase the adsorptivity to silver halide.

【0039】一般式(1)ないし(3)において、それ
ぞれ二つの化合物の水素原子が除去されたラジカルどう
しが結合してビス型を形成してもよい。一般式(1)な
いし(3)において、一般式(1)および(2)が好ま
しく、一般式(1)がより好ましい。更に一般式(1)
ないし(3)において以下に示す一般式(4)ないし
(6)がより好ましく、一般式(4)が最も好ましい。
In the general formulas (1) to (3), the radicals of each of the two compounds from which the hydrogen atoms have been removed may combine to form a bis-type. In the general formulas (1) to (3), the general formulas (1) and (2) are preferable, and the general formula (1) is more preferable. Furthermore, general formula (1)
In formulas (3) to (3), the following general formulas (4) to (6) are more preferable, and general formula (4) is most preferable.

【0040】一般式(4)General formula (4)

【0041】[0041]

【化6】 Embedded image

【0042】〔式中、R4、X4、m4はそれぞれ一般式
(3)のR3、X3、m3と同義であり、L4、Y4は一般
式(1)のL1、Y1と同義である。〕 一般式(5)
[Wherein, R 4 , X 4 and m 4 have the same meanings as R 3 , X 3 and m 3 in the general formula (3), respectively, and L 4 and Y 4 represent L 1 in the general formula (1). , Y 1 . General formula (5)

【0043】[0043]

【化7】 Embedded image

【0044】〔式中、R5、X5、m5はそれぞれ一般式
(3)のR3、X3、m3と同義であり、L5、Y5は一般
式(2)のL2、Y2と同義である。〕 一般式(6)
[Wherein, R 5 , X 5 and m 5 have the same meanings as R 3 , X 3 and m 3 in the general formula (3), respectively, and L 5 and Y 5 are L 2 in the general formula (2). , Y 2 . General formula (6)

【0045】[0045]

【化8】 Embedded image

【0046】〔式中、R61、R62、X6、m6、n6、Y
は一般式(3)のR3、X3、m3、n3、Y3と同義であ
る。〕 以下に本発明に係るヒドラジン系造核剤の具体例を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
[Wherein R 61 , R 62 , X 6 , m 6 , n 6 , Y
Has the same meaning as R 3 , X 3 , m 3 , n 3 , and Y 3 in formula (3). Hereinafter, specific examples of the hydrazine-based nucleating agent according to the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0047】[0047]

【化9】 Embedded image

【0048】[0048]

【化10】 Embedded image

【0049】[0049]

【化11】 Embedded image

【0050】[0050]

【化12】 Embedded image

【0051】[0051]

【化13】 Embedded image

【0052】[0052]

【化14】 Embedded image

【0053】本発明に係るヒドラジン系造核剤は、適当
な水混和性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノー
ル、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ルソルブなどに溶解して用いることができる。また、既
によく知られている乳化分散法によって、ジブチルフタ
レート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリ
アセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、
酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて
溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いることがで
きる。あるいは固体分散法として知られている方法によ
って、ヒドラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、
コロイドミル、あるいは超音波によって分散し用いるこ
とができる。
The hydrazine-based nucleating agent according to the present invention may be any suitable water-miscible organic solvent, for example, alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl It can be used by dissolving it in sulfoxide, methylcellosolve and the like. Also, by the well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate,
It can be dissolved using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone to mechanically prepare and use an emulsified dispersion. Alternatively, by a method known as a solid dispersion method, hydrazine derivative powder is ball milled in water,
It can be dispersed and used by a colloid mill or an ultrasonic wave.

【0054】本発明に係るヒドラジン系造核剤は、支持
体に対してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤
層あるいは他の親水性コロイド層のどの層に添加しても
よいが、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する
親水性コロイド層に添加することが好ましい。本発明の
造核剤添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6
1×10-2モルが好ましく、1×10-5〜5×10-3
ルがより好ましく、5×10-5〜1×10-3モルが最も
好ましい。
The hydrazine nucleating agent according to the present invention may be added to any layer of the silver halide emulsion layer or another hydrophilic colloid layer on the side of the silver halide emulsion layer with respect to the support. It is preferable to add to the silver halide emulsion layer or the hydrophilic colloid layer adjacent thereto. The addition amount of the nucleating agent of the present invention is 1 × 10 −6 to 1 mol of silver halide.
1 × 10 −2 mol is preferable, 1 × 10 −5 to 5 × 10 −3 mol is more preferable, and 5 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol is most preferable.

【0055】本発明ではアミン誘導体、オニウム塩、ジ
スルフィド誘導体、又はヒドロキシメチル誘導体は造核
促進剤として使用することができる。アミン誘導体とし
ては、例えば、特開昭60−140340号、同62−
50829号、同62−222241号、同62−25
0439号、同62−280733号、同63−124
045号、同63−133145号、同63−2868
40号等に記載の化合物を挙げることができる。アミン
誘導体としてより好ましくは、特開昭63−12404
5号、同63−133145号、同63−386840
号等に記載されているハロゲン化銀に吸着する基を有す
る化合物、又は特開昭62−222241号等に記載さ
れている炭素数の和が20個以上の化合物である。
In the present invention, an amine derivative, an onium salt, a disulfide derivative or a hydroxymethyl derivative can be used as a nucleation promoting agent. Examples of the amine derivative include, for example, JP-A-60-140340,
No. 50829, No. 62-222241, No. 62-25
No. 0439, No. 62-280733, No. 63-124
Nos. 045, 63-133145, 63-2868
No. 40 and the like. More preferably, the amine derivative is disclosed in JP-A-63-12404.
No. 5, 63-133145, 63-386840
Or a compound having a group that adsorbs to silver halide described in JP-A-62-222 or a compound having a total of 20 or more carbon atoms described in JP-A-62-222241.

【0056】オニウム塩としては、アンモニウム塩また
はホスホニウム塩が好ましい。好ましいアンモニウム塩
またはホスホニウム塩が好ましい。好ましいアンモニウ
ム塩の例としては、特願平5−97866号、特開昭6
2−250439号、同62−280733号等に記載
されている化合物を挙げることができる。また、好まし
いホスホニウム塩の例としては特開昭61−16793
9号、同62−280733号等に記載されている化合
物を挙げることができる。ジスルフィド誘導体として
は、例えば、特開昭61−198147号記載の化合物
を挙げることができる。ヒドロキシメチル誘導体として
は、例えば、米国特許第4,693,956号、同4,
777,118号、EP231,850号、特開昭62
−50829号等記載の化合物を挙げることができ、よ
り好ましくはジアリールメタノール誘導体である。
As the onium salt, an ammonium salt or a phosphonium salt is preferable. Preferred ammonium or phosphonium salts are preferred. Examples of preferred ammonium salts are described in Japanese Patent Application No. 5-97866,
Compounds described in 2-250439, 62-280733 and the like can be mentioned. Examples of preferred phosphonium salts are described in JP-A-61-16793.
9 and 62-280733. Examples of the disulfide derivative include compounds described in JP-A-61-198147. Examples of the hydroxymethyl derivative include, for example, U.S. Pat.
777,118, EP231,850, JP-A-62
Compounds described in -50829 and the like can be mentioned, and a diarylmethanol derivative is more preferable.

【0057】次に造核促進剤の具体例を示す。但し本発
明は以下の化合物に限定されるものではない。
Next, specific examples of the nucleation accelerator will be shown. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0058】[0058]

【化15】 Embedded image

【0059】本発明に用いられるポリマーラテックスに
ついて説明する。本発明に用いられるポリマーラテック
スは、少量でヒドラジン系造核剤をトラップするという
観点から活性メチレン基を有することが好ましい。
The polymer latex used in the present invention will be described. The polymer latex used in the present invention preferably has an active methylene group from the viewpoint of trapping the hydrazine-based nucleating agent in a small amount.

【0060】活性メチレン基を有するとは、活性メチレ
ン基を有するエチレン性不飽和モノマーより誘導される
繰り返し単位を持つことを示す。以下に、活性メチレン
基を含有するエチレン性不飽和モノマーを詳細に説明す
る。
Having an active methylene group means having a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated monomer having an active methylene group. Hereinafter, the ethylenically unsaturated monomer containing an active methylene group will be described in detail.

【0061】本発明に用いられる活性メチレン基を含有
するエチレン性不飽和モノマーは、下記一般式(IV)で
表される。
The ethylenically unsaturated monomer containing an active methylene group used in the present invention is represented by the following general formula (IV).

【0062】[0062]

【化16】 Embedded image

【0063】〔式中、R1は水素原子、炭素数1〜4
(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチ
ル)またはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原
子)を表し、好ましくは水素原子、メチル基、塩素原子
を表す。Lは単結合もしくは二価の連結を表し、具体的
には下式で表される。
Wherein R 1 is a hydrogen atom and has 1 to 4 carbon atoms.
(Eg, methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl) or a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom), preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a chlorine atom. L represents a single bond or a divalent linkage, and is specifically represented by the following formula.

【0064】[0064]

【化17】 Embedded image

【0065】L1は−CON(R2)−(R2は水素原
子、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数1〜6の
置換アルキル基を表す)、−COO−、−NHCO−、
−OCO−、
L 1 is —CON (R 2 ) — (R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), —COO—, and —NHCO—. ,
-OCO-,

【0066】[0066]

【化18】 Embedded image

【0067】(R2、R4はそれぞれ独立に、水素、ヒド
ロキシル、ハロゲン原子または置換もしくは無置換のア
ルキル、アルコキシ、アシルオキシもしくはアリールオ
キシを表す)を表し、L2はL1とXを結ぶ連結基を表
し、mは0または1を表し、nは0または1を表す。L
2で表される連結基は具体的には、下記の一般式で表さ
れる。
(R 2 and R 4 each independently represent hydrogen, hydroxyl, halogen atom or substituted or unsubstituted alkyl, alkoxy, acyloxy or aryloxy), and L 2 is a link connecting L 1 and X. Represents a group, m represents 0 or 1, and n represents 0 or 1. L
The linking group represented by 2 is specifically represented by the following general formula.

【0068】[0068]

【化19】 Embedded image

【0069】J1、J2、J3は同じでも異なっていても
よく、−CO−、−SO2−、−CON(R5)−(R5
水素原子、アルキル基(炭素数1〜6)、置換アルキル
基(炭素数1〜6)、−SO2N(R5)−(R5は上記
と同義)、−N(R5)−R6−(R5は上記と同義、R6
は炭素数1〜約4のアルキレン基)、−N(R5)−R6
−N(R7)−(R5、R6は上記と同義、R7は水素原
子、アルキル基(炭素数1〜6)、置換アルキル基(炭
素数1〜6)を表す。)、−O−、−S−、−N
(R5)−CO−N(R7)−(R5、R7は上記と同
義)、−N(R5)−SO2−N(R7)−(R5、R7
上記と同義)、−COO−、−OCO−、−N(R5
−CO2−(R5は上記と同義)、−N(R5)CO−
(R5は上記と同義)等を挙げることができる。
J 1 , J 2 , and J 3 may be the same or different, and include —CO—, —SO 2 —, and —CON (R 5 ) — (R 5
Hydrogen atom, an alkyl group (1-6 carbon atoms), a substituted alkyl group (having 1 to 6 carbon atoms), - SO 2 N (R 5) - (R 5 is as defined above), - N (R 5) -R 6 - (R 5 is as defined above, R 6
Alkylene group) 1 to about 4 carbon atoms, - N (R 5) -R 6
—N (R 7 ) — (R 5 and R 6 are as defined above, and R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group (1 to 6 carbon atoms), a substituted alkyl group (1 to 6 carbon atoms)), or —. O-, -S-, -N
(R 5 ) —CO—N (R 7 ) — (R 5 and R 7 are as defined above), —N (R 5 ) —SO 2 —N (R 7 ) — (R 5 and R 7 are as defined above. synonymous), - COO -, - OCO -, - N (R 5)
—CO 2 — (R 5 is as defined above), —N (R 5 ) CO—
(R 5 is as defined above).

【0070】p、q、r、は0または1を表す。X1
2、X3は互いに同じでも異なっていてもよく、炭素数
1〜10個の無置換もしくは置換のアルキレン基、アラ
ルキレン基、またはフェニレン基を表し、アルキレン基
は直鎖でも分岐でもよい。アルキレン基としては例え
ば、メチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、ジ
メチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチ
レン、ヘキサメチレン、デシルメチレン、アラルキレン
基としては例えば、ベンジリデン、フェニレン基として
は例えば、p−フェニレン、m−フェニレン、メチルフ
ェニレンなどがある。
P, q, r represent 0 or 1. X 1 ,
X 2 and X 3 may be the same or different from each other and represent an unsubstituted or substituted alkylene group, aralkylene group or phenylene group having 1 to 10 carbon atoms, and the alkylene group may be linear or branched. Examples of the alkylene group include methylene, methylmethylene, dimethylmethylene, dimethylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, decylmethylene, aralkylene groups such as benzylidene, and phenylene groups such as p-phenylene and m- Examples include phenylene and methylphenylene.

【0071】Xは、活性メチレン基を含む一価の基を表
し、好ましい具体例としては、R8−CO−CH2−CO
O−、R8−NHCO−CH2−COO−、R8−CO−
CH2−CO−、R8−CO−CH2−CON(R5)−等
を挙げることができる。R8は炭素数1〜12個の置換
または無置換のアルキル基(例えば、メチル、エチル、
n−プロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−ノニル、
2−メトキシエチル、4−フェノキシブチル、ベンジ
ル、2−メタンスルホンアミドエチル等)、置換または
無置換のアリール基(例えば、フェニル、p−メチルフ
ェニル、p−メトキシフェニル、o−クロロフェニル
等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、メ
トキシエトキシ、n−ブトキシ等)、シクロアルキルオ
キシ基(例えば、シクロヘキシルオキシ)、アリロキシ
(例えば、フェノキシ、p−メチルフェノキシ、o−ク
ロロフェノキシ、p−シアノフェノキシ等)、アミノ
基、置換アミノ基(例えば、メチルアミノ、エチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ等)を表す。
X represents a monovalent group containing an active methylene group, and preferred examples thereof include R 8 —CO—CH 2 —CO
O-, R 8 -NHCO-CH 2 -COO-, R 8 -CO-
CH 2 —CO—, R 8 —CO—CH 2 —CON (R 5 ) — and the like can be mentioned. R 8 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl, ethyl,
n-propyl, n-butyl, t-butyl, n-nonyl,
2-methoxyethyl, 4-phenoxybutyl, benzyl, 2-methanesulfonamidoethyl and the like, substituted or unsubstituted aryl groups (for example, phenyl, p-methylphenyl, p-methoxyphenyl, o-chlorophenyl and the like), alkoxy Groups (eg, methoxy, ethoxy, methoxyethoxy, n-butoxy, etc.), cycloalkyloxy groups (eg, cyclohexyloxy), allyloxy (eg, phenoxy, p-methylphenoxy, o-chlorophenoxy, p-cyanophenoxy, etc.) , An amino group, or a substituted amino group (eg, methylamino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, etc.).

【0072】以下に、本発明に用いられる一般式(IV)
で表されるモノマーにおいて、活性メチレン基を有する
エチレン性不飽和モノマーを例示するがこれらに限定さ
れるものではない。
Hereinafter, the general formula (IV) used in the present invention will be described.
Examples of the monomer represented by are, but are not limited to, ethylenically unsaturated monomers having an active methylene group.

【0073】M−1 2−アセトアセトキシエチルメタ
クリレート M−2 2−アセトアセトキシエチルアクリレート M−3 2−アセトアセトキシプロピルメタクリレート M−4 2−アセトアセトキシプロピルアクリレート M−5 2−アセトアセトキシアミドエチルメタクリレ
ート M−6 2−アセトアセトキシアミドエチルアクリレー
ト M−7 2−シアノアセトキシエチルメタクリレート M−8 2−シアノアセトキシエチルアクリレート M−9 N−(2−シアノアセトキシエチル)アクリル
アミド M−10 2−プロピオニルアセトキシエチルアクリレ
ート M−11 N−(2−プロピオニルアセトキシエチル)
メタクリルアミド M−12 N−4−(アセトアセトキシベンジル)フェ
ニルアクリルアミド M−13 エチルアクリロイルアセテート M−14 アクリロイルメチルアセテート M−15 N−メタクリロイルオキシメチルアセトアセ
トキシアミド M−16 エチルメタクリロイルアセトアセテート M−17 N−アリルシアノアセトアミド M−18 メチルアクリロイルアセトアセテート M−19 N−(2−メタクリロイルオキシメチル)シ
アノアセトアミド M−20 p−(2−アセトアセチル)エチルスチレン M−21 4−アセトアセチル−1−メタクリロイルピ
ペラジン M−22 エチル−α−アセトアセトキシメタクリレー
ト M−23 N−ブチル−N−アクリロイルオキシエチル
アセトアセトキシアミド M−24 p−(2−アセトアセトキシ)エチルスチレ
ン 本発明に用いられるポリマーラテックス中には上記の活
性メチレン基を含有するエチレン性不飽和モノマー以外
のエチレン性不飽和モノマーが共重合されていても良
い。このようなモノマーとしては、アクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、アク
リルアミド類、メタクリルアミド類、オレフィン類、ス
チレン類、ビニルエーテル類他、前記のコア粒子を構成
するモノマーを具体例として挙げる事ができ、このう
ち、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、
ビニルエステル類、スチレン類が特に好ましい。
M-1 2-acetoacetoxyethyl methacrylate M-2 2-acetoacetoxyethyl acrylate M-3 2-acetoacetoxypropyl methacrylate M-4 2-acetoacetoxypropyl acrylate M-5 2-acetoacetoxyamidoethyl methacrylate M -6 2-acetoacetoxyamidoethyl acrylate M-7 2-cyanoacetoxyethyl methacrylate M-8 2-cyanoacetoxyethyl acrylate M-9 N- (2-cyanoacetoxyethyl) acrylamide M-10 2-propionylacetoxyethyl acrylate M -11 N- (2-propionylacetoxyethyl)
Methacrylamide M-12 N-4- (acetoacetoxybenzyl) phenylacrylamide M-13 ethyl acryloyl acetate M-14 acryloylmethyl acetate M-15 N-methacryloyloxymethyl acetoacetoxyamide M-16 ethyl methacryloyl acetoacetate M-17 N -Allyl cyanoacetamide M-18 Methyl acryloylacetoacetate M-19 N- (2-methacryloyloxymethyl) cyanoacetamide M-20 p- (2-acetoacetyl) ethylstyrene M-21 4-acetoacetyl-1-methacryloylpiperazine M-22 Ethyl-α-acetoacetoxymethacrylate M-23 N-butyl-N-acryloyloxyethylacetoacetoxyamide M-24 p- (2-acetoacetate (Ethoxy) ethylstyrene An ethylenically unsaturated monomer other than the above-mentioned ethylenically unsaturated monomer containing an active methylene group may be copolymerized in the polymer latex used in the present invention. Examples of such a monomer include acrylic acid esters, methacrylic acid esters, vinyl esters, acrylamides, methacrylamides, olefins, styrenes, vinyl ethers, and the monomers constituting the core particles as specific examples. Among them, acrylic esters, methacrylic esters,
Vinyl esters and styrenes are particularly preferred.

【0074】本発明に用いられるポリマーラテックスの
好ましい化合物について以下に示す。
Preferred compounds of the polymer latex used in the present invention are shown below.

【0075】カッコ内は、共重合体における各成分の重
量百分率を表す。ただし、本発明はこれらに限定される
ものではない。
The values in parentheses indicate the weight percentage of each component in the copolymer. However, the present invention is not limited to these.

【0076】Po−1 エチルアクリレート/M−1/
アクリル酸共重合体(85/10/5) Po−2 n−ブチルアクリレート/M−1/2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ共重
合体(85/10/5) Po−3 n−ブチルアクリレート/M−1/メタクリ
ル酸共重合体(85/5/10) Po−4 2−エチルヘキシルアクリレート/M−2/
2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソ
ーダ共重合体(75/20/5) Po−5〜9 n−ブチルアクリレート/M−1/アク
リル酸共重合体(x/y/z) Po−5 x/y/z=95/2/3 Po−6 x/y/z=92/5/3 Po−7 x/y/z=89/8/3 Po−8 x/y/z=81/16/3 Po−9 x/y/z=72/25/3 Po−10 n−ブチルアクリレート/スチレン/M−
1/メタクリル酸共重合体(65/20/5/10) Po−11 メチルアクリレート/M−4/メタクリル
酸共重合体(80/15/5) Po−12 n−ブチルアクリレート/M−5/アクリ
ル酸共重合体(85/10/5) Po−13 n−ブチルアクリレート/M−7/メタク
リル酸共重合体(85/10/5) Po−14 2−エチルヘキシルアクリレート/M−9
共重合体(75/25) Po−15 n−ブチルアクリレート/M−13/スチ
レンスルホン酸ソーダ共重合体(85/10/5) Po−16 n−ブチルアクリレート/M−14/スチ
レンスルフィン酸カリウム共重合体(75/20/5) Po−17 n−ヘキシルアクリレート/メトキシエチ
ルアクリレート/M−2共重合体(70/20/10) Po−18 2−エチルヘキシルアクリレート/M−1
5/メタクリル酸共重合体(90/5/5) Po−19 n−ブチルアクリレート/M−1/M−1
7/アクリル酸共重合体(75/5/15/5) Po−20 オクチルメタクリレート/M−20/スチ
レンスルホン酸ソーダ共重合体(80/15/5) 更に、コア部とシェル部に組成が分かれており、シェル
部に活性メチレン基を含有するエチレン性不飽和モノマ
ーを含有するポリマーラテックスも好ましく用いられ
る。
Po-1 ethyl acrylate / M-1 /
Acrylic acid copolymer (85/10/5) Po-2 n-butyl acrylate / M-1 / 2-acrylamide-2-methylpropane sodium sulfonic acid copolymer (85/10/5) Po-3 n- Butyl acrylate / M-1 / methacrylic acid copolymer (85/5/10) Po-4 2-ethylhexyl acrylate / M-2 /
2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid sodium copolymer (75/20/5) Po-5-9 n-butyl acrylate / M-1 / acrylic acid copolymer (x / y / z) Po-5 x / y / z = 95/2/3 Po-6 x / y / z = 92/5/3 Po-7 x / y / z = 89/8/3 Po-8 x / y / z = 81 / 16/3 Po-9 x / y / z = 72/25/3 Po-10 n-butyl acrylate / styrene / M-
1 / methacrylic acid copolymer (65/20/5/10) Po-11 methyl acrylate / M-4 / methacrylic acid copolymer (80/15/5) Po-12 n-butyl acrylate / M-5 / Acrylic acid copolymer (85/10/5) Po-13 n-butyl acrylate / M-7 / methacrylic acid copolymer (85/10/5) Po-14 2-ethylhexyl acrylate / M-9
Copolymer (75/25) Po-15 n-butyl acrylate / M-13 / sodium styrene sulfonate copolymer (85/10/5) Po-16 n-butyl acrylate / M-14 / potassium styrene sulfinate Copolymer (75/20/5) Po-17 n-hexyl acrylate / methoxyethyl acrylate / M-2 copolymer (70/20/10) Po-18 2-ethylhexyl acrylate / M-1
5 / methacrylic acid copolymer (90/5/5) Po-19 n-butyl acrylate / M-1 / M-1
7 / acrylic acid copolymer (75/5/15/5) Po-20 octyl methacrylate / M-20 / sodium styrene sulfonate copolymer (80/15/5) A polymer latex which is separated and contains an ethylenically unsaturated monomer having an active methylene group in a shell portion is also preferably used.

【0077】以下に本発明に用いられるコア/シェルラ
テックスの好ましい化合物例を示すが、本発明がこれら
に限定されるものではない。下記の各ラテックス化合物
の構造は、コアポリマー構造、シェルポリマーの構造お
よびコア/シェルの比率の順に記載し、各ポリマーにお
ける共重合組成比およびコア/シェル比についてはいず
れも重量百分率で表した。
Preferred examples of the core / shell latex used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. The structure of each of the following latex compounds is described in the order of the core polymer structure, the structure of the shell polymer, and the core / shell ratio, and the copolymer composition ratio and the core / shell ratio in each polymer are all expressed by weight percentage.

【0078】P−1〜12 コア:スチレン/ブタジエ
ン共重合体(37/63) P−1 シェル=スチレン/M−1(98/2) コア
/シェル=50/50 P−2 シェル=スチレン/M−1(96/4) コア
/シェル=50/50 P−3 シェル=スチレン/M−1(92/8) コア
/シェル=50/50 P−4 シェル=スチレン/M−1(84/16) コ
ア/シェル=50/50 P−5 シェル=スチレン/M−1(68/32) コ
ア/シェル=50/50 P−6 シェル=スチレン/M−1(84/16) コ
ア/シェル=67/33 P−7 シェル=スチレン/M−1(84/16) コ
ア/シェル=85/15 P−8 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1(9
6/4)コア/シェル=50/50 P−9 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1(9
2/8)コア/シェル=50/50 P−10 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1
(84/16)コア/シェル=50/50 P−11 シェル=メチルアクリレート/M−7(84
/16)コア/シェル=50/50 P−12 シェル=スチレン/メチルアクリート/M−
3(21/63/16)コア/シェル=50/50 P−13、14 コア:スチレン/ブタジエン共重合体
(22/78) P−13 シェル=スチレン/M−2(84/16)コ
ア/シェル=50/50 P−14 シェル=n−ブチルアクリレート/M−8
(84/16)コア/シェル=50/50 P−15〜20 コア:ポリブタジエン単独重合体(1
00) P−15 シェル=スチレン/M−1(84/16)コ
ア/シェル=50/50 P−16 シェル=エチルアクリレート/M−7/メタ
クリル酸(65/15/20) コア/シェル=75/
25 P−17 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1
(84/16)コア/シェル=50/50 P−18 シェル=n−ブチルアクリレート/M−2
(84/16)コア/シェル=50/50 P−19 シェル=2−エチルヘキシルアクリレート/
M−2(84/16)コア/シェル=50/50 P−20 シェル=n−ブチルアクリレート/M−18
(84/16)コア/シェル=50/50 P−21〜23 コア:ポリイソプレン単独重合体(1
00) P−21 シェル=スチレン/アクリロニトリル/M−
1(63/21/16)コア/シェル=90/10 P−22 シェル=メチルメタクリレート/エチルアク
リレート/M−2/2−アクリルアミド−2−メチルプ
ロパンスルホン酸ソーダ(15/65/15/5) コ
ア/シェル=75/25 P−23 シェル=スチレン/M−1(84/16)コ
ア/シェル=20/80 P−24〜26 コア:スチレン/ブタジエン共重合体
(49/51) P−24 シェル=スチレン/ブチルアクリレート/M
−1(25/60/15)コア/シェル=50/50 P−25 シェル=M−1(100) コア/シェル=
90/10 P−26 シェル=ラウリルメタクリレート/ブチルア
クリレート/M−7(30/55/15) コア/シェ
ル=40/60 P−27 コア:アクリロニトリル/スチレン/ブタジ
エン共重合体(25/25/50) シェル:ブチルアクリレート/M−1(92/8) コ
ア/シェル=50/50 P−28 コア:アクリル酸エチル/ブダジエン共重合
体(50/50) シェル:スチレン/ジビニルベンゼン/M−1(79/
5/16)コア/シェル=50/50 P−29〜33 コア:ポリ(n−ドデシルメタクリレ
ート)単独重合体 P−29 シェル=スチレン/M−1(95/8) コ
ア/シェル=50/50 P−30 シェル=スチレン/M−1(84/16)コ
ア/シェル=50/50 P−31 シェル=エチルアクリレート/M−1(96
/4)コア/シェル=50/50 P−32 シェル=エチルアクリレート/M−1(92
/8)コア/シェル=50/50 P−33 シェル=スチレン/メチルアクリレート/M
−3(21/63/16)コア/シェル=50/50 P−34 コア:ポリ(n−ブチルアクリレート)単独
重合体 シェル:スチレン/M−2(84/16)コア/シェル
=50/50 P−35、36 コア:ポリ(エチレングリコールジメ
タクリレート/n−ブチルアクリレート)共重合体(1
0/90) P−35 シェル=スチレン/M−1(84/16)コ
ア/シェル=50/50 P−36 シェル=メチルアクリレート/M−7/メタ
クリル酸(65/15/20) コア/シェル=75/
25 P−37〜40 コア:ポリ(エチレングリコールジメ
タクリレート/n−ブチルアクリレート)共重合体(2
0/80) P−37 シェル=スチレン/M−1(84/16)コ
ア/シェル=50/50 P−38 シェル=スチレン/M−1(84/16)コ
ア/シェル=75/25 P−39 シェル=メチルアクリレート/M−8/2−
アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ
(80/15/5)コア/シェル=75/25 P−40 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1
(84/16)コア/シェル=50/50 P−41〜43 コア:ポリ酢酸ビニル単独重合体(1
00) P−41 シェル=スチレン/M−1(84/16)コ
ア/シェル=50/50 P−42 シェル=スチレン/ジビニルベンゼン/M−
24(79/5/16)コア/シェル=50/50 P−43 シェル=n−ドデシルメタクリレート/ブチ
ルアクリレート/M−7(30/55/15) コア/
シェル=40/60 P−44〜46 コア:ポリ(ジビニルベンゼン/2−
エチルヘキシルアクリレート)共重合体(10/90) P−44 シェル=メチルアクリレート/M−1(84
/16)コア/シェル=50/50 P−45 シェル=メチルアクリレート/スチレン/M
−1(74/10/16)コア/シェル=50/50 P−46 シェル=M−1(100) コア/シェル=
90/10 P−47〜49 コア:ポリ(ジビニルベンゼン/スチ
レン/2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体(1
0/23/67) P−47 シェル=メチルアクリレート/M−1(84
/16)コア/シェル=50/50 P−48 シェル=メチルアクリレート/スチレン/M
−1(74/10/16)コア/シェル=50/50 P−49 シェル=エチルアクリレート/2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート/M−5(65/15/20)
コア/シェル=85/15 P−50 コア:ポリ(エチレングリコールジメタクリ
レート/パルミチン酸ビニル/n−ブチルアクリレー
ト)共重合体(20/20/60) シェル:エチレングリコールジメタクリレート/スチレ
ン/n−ブチルメタクリレート/M−1(5/40/4
0/15)コア/シェル=50/50 P−51 コア:ポリ(トリビニルシクロヘキサン/n
−ブチルアクリレート/スチレン)共重合体(10/5
5/35) シェル:メチルアクリレート/M−1/2−アクリルア
ミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ(88/7
/5)コア/シェル=70/30 P−52、53 コア:ポリ(ジビニルベンゼン/スチ
レン/メチルメタクリレート)共重合体(10/45/
45) P−52 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1
(84/16)コア/シェル=50/50 P−53 シェル=n−ドデシルアクリレート/エチル
アクリレート/M−21(60/30/10) コア/
シェル=50/50 P−54、55 コア:ポリ(p−ビニルトルエン/n
−ドデシルメタクリレート)共重合体(70/30) P−54 シェル=メチルメタクリレート/n−ブチル
メタクリレート/M−2/アクリル酸(30/55/1
0/5) コア/シェル=50/50 P−55 シェル=n−ブチルアクリレート/M−19
(84/16)コア/シェル=70/30 本発明に用いられるポリマーラテックスは、特開平7−
152112号の記載の方法で合成できる。
P-1 to 12 Core: Styrene / butadiene copolymer (37/63) P-1 shell = styrene / M-1 (98/2) Core / shell = 50/50 P-2 Shell = styrene / M-1 (96/4) core / shell = 50/50 P-3 shell = styrene / M-1 (92/8) core / shell = 50/50 P-4 shell = styrene / M-1 (84 / 16) Core / Shell = 50/50 P-5 Shell = Styrene / M-1 (68/32) Core / Shell = 50/50 P-6 Shell = Styrene / M-1 (84/16) Core / Shell = 67/33 P-7 shell = styrene / M-1 (84/16) core / shell = 85/15 P-8 shell = n-butyl acrylate / M-1 (9
6/4) core / shell = 50/50 P-9 shell = n-butyl acrylate / M-1 (9
2/8) core / shell = 50/50 P-10 shell = n-butyl acrylate / M-1
(84/16) core / shell = 50/50 P-11 shell = methyl acrylate / M-7 (84
/ 16) core / shell = 50/50 P-12 shell = styrene / methyl acrylate / M-
3 (21/63/16) core / shell = 50/50 P-13, 14 core: styrene / butadiene copolymer (22/78) P-13 shell = styrene / M-2 (84/16) core / Shell = 50/50 P-14 Shell = n-butyl acrylate / M-8
(84/16) core / shell = 50/50 P-15-20 core: polybutadiene homopolymer (1
00) P-15 shell = styrene / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-16 shell = ethyl acrylate / M-7 / methacrylic acid (65/15/20) core / shell = 75 /
25 P-17 shell = n-butyl acrylate / M-1
(84/16) core / shell = 50/50 P-18 shell = n-butyl acrylate / M-2
(84/16) core / shell = 50/50 P-19 shell = 2-ethylhexyl acrylate /
M-2 (84/16) core / shell = 50/50 P-20 shell = n-butyl acrylate / M-18
(84/16) core / shell = 50/50 P-21-23 core: polyisoprene homopolymer (1
00) P-21 shell = styrene / acrylonitrile / M-
1 (63/21/16) core / shell = 90/10 P-22 shell = methyl methacrylate / ethyl acrylate / M-2 / 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid sodium (15/65/15/5) Core / shell = 75/25 P-23 Shell = styrene / M-1 (84/16) Core / shell = 20/80 P-24-26 Core: Styrene / butadiene copolymer (49/51) P-24 Shell = styrene / butyl acrylate / M
-1 (25/60/15) core / shell = 50/50 P-25 shell = M-1 (100) core / shell =
90/10 P-26 shell = lauryl methacrylate / butyl acrylate / M-7 (30/55/15) core / shell = 40/60 P-27 core: acrylonitrile / styrene / butadiene copolymer (25/25/50) Shell: butyl acrylate / M-1 (92/8) Core / shell = 50/50 P-28 Core: ethyl acrylate / butadiene copolymer (50/50) Shell: styrene / divinylbenzene / M-1 ( 79 /
5/16) core / shell = 50/50 P-29 to 33 Core: poly (n-dodecyl methacrylate) homopolymer P-29 shell = styrene / M-1 (95/8) core / shell = 50/50 P-30 shell = styrene / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-31 shell = ethyl acrylate / M-1 (96
/ 4) core / shell = 50/50 P-32 shell = ethyl acrylate / M-1 (92
/ 8) core / shell = 50/50 P-33 shell = styrene / methyl acrylate / M
-3 (21/63/16) core / shell = 50/50 P-34 core: poly (n-butyl acrylate) homopolymer Shell: styrene / M-2 (84/16) core / shell = 50/50 P-35, 36 core: poly (ethylene glycol dimethacrylate / n-butyl acrylate) copolymer (1
0/90) P-35 shell = styrene / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-36 shell = methyl acrylate / M-7 / methacrylic acid (65/15/20) core / shell = 75 /
25 P-37-40 core: poly (ethylene glycol dimethacrylate / n-butyl acrylate) copolymer (2
0/80) P-37 Shell = Styrene / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-38 Shell = Styrene / M-1 (84/16) Core / shell = 75/25 P- 39 shell = methyl acrylate / M-8 / 2-
Acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium (80/15/5) core / shell = 75/25 P-40 shell = n-butyl acrylate / M-1
(84/16) core / shell = 50/50 P-41 to 43 core: polyvinyl acetate homopolymer (1
00) P-41 shell = styrene / M-1 (84/16) core / shell = 50/50 P-42 shell = styrene / divinylbenzene / M-
24 (79/5/16) core / shell = 50/50 P-43 shell = n-dodecyl methacrylate / butyl acrylate / M-7 (30/55/15) core /
Shell = 40/60 P-44-46 Core: Poly (divinylbenzene / 2-
Ethylhexyl acrylate) copolymer (10/90) P-44 shell = methyl acrylate / M-1 (84
/ 16) core / shell = 50/50 P-45 shell = methyl acrylate / styrene / M
-1 (74/10/16) core / shell = 50/50 P-46 shell = M-1 (100) core / shell =
90/10 P-47-49 Core: Poly (divinylbenzene / styrene / 2-ethylhexyl acrylate) copolymer (1
0/23/67) P-47 shell = methyl acrylate / M-1 (84
/ 16) core / shell = 50/50 P-48 shell = methyl acrylate / styrene / M
-1 (74/10/16) core / shell = 50/50 P-49 shell = ethyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / M-5 (65/15/20)
Core / shell = 85/15 P-50 core: poly (ethylene glycol dimethacrylate / vinyl palmitate / n-butyl acrylate) copolymer (20/20/60) shell: ethylene glycol dimethacrylate / styrene / n-butyl Methacrylate / M-1 (5/40/4
0/15) core / shell = 50/50 P-51 core: poly (trivinylcyclohexane / n)
-Butyl acrylate / styrene) copolymer (10/5
5/35) Shell: methyl acrylate / M-1 / 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium (88/7
/ 5) core / shell = 70/30 P-52, 53 core: poly (divinylbenzene / styrene / methyl methacrylate) copolymer (10/45 /
45) P-52 shell = n-butyl acrylate / M-1
(84/16) core / shell = 50/50 P-53 shell = n-dodecyl acrylate / ethyl acrylate / M-21 (60/30/10) core /
Shell = 50/50 P-54, 55 Core: Poly (p-vinyltoluene / n
-Dodecyl methacrylate) copolymer (70/30) P-54 shell = methyl methacrylate / n-butyl methacrylate / M-2 / acrylic acid (30/55/1)
0/5) core / shell = 50/50 P-55 shell = n-butyl acrylate / M-19
(84/16) core / shell = 70/30 The polymer latex used in the present invention is disclosed in
No. 152112.

【0079】本発明に係るハロゲン化銀乳剤の結合剤又
は保護コロイドとしては、親水性コロイドが用いられる
が、その中でもゼラチンが好ましく用いられる。ゼラチ
ンとしては石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンが好まし
く用いられ、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵素分解物
も用いることができる。
As a binder or a protective colloid of the silver halide emulsion according to the present invention, a hydrophilic colloid is used, and among them, gelatin is preferably used. As gelatin, lime-processed gelatin and acid-processed gelatin are preferably used, and gelatin hydrolyzate and gelatin enzyme hydrolyzate can also be used.

【0080】本発明の好ましい実施態様の一つとして
は、ハロゲン化銀写真感光材料の構成層中に含有される
ゼラチンの総量が該ハロゲン化銀写真感光材料1m2
たり1g以上7g以下、更に好ましくは1g以上6g以
下であることがあげられる。
In one preferred embodiment of the present invention, the total amount of gelatin contained in the constituent layers of the silver halide photographic material is 1 g or more and 7 g or less per 1 m 2 of the silver halide photographic material. Is 1 g or more and 6 g or less.

【0081】本発明において、構成層とは、支持体上に
塗設された層の何れの層をも指し、具体的には、感光性
ハロゲン化銀乳剤層、非感光性乳剤層、乳剤保護層、中
間層、バッキング層及びバッキング保護層などが挙げら
れる。ゼラチンは、上記構成層の何れの層に添加されて
も良く、ハロゲン化銀乳剤層を有する側の総ゼラチン量
は2.5g/m2以下である。
In the present invention, the constituent layer refers to any of the layers coated on the support, and specifically includes a light-sensitive silver halide emulsion layer, a non-light-sensitive emulsion layer, and an emulsion protection layer. Layers, intermediate layers, backing layers and backing protective layers. Gelatin may be added to any of the above constituent layers, and the total amount of gelatin on the side having the silver halide emulsion layer is 2.5 g / m 2 or less.

【0082】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料中
のハロゲン化銀乳剤は、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃
臭化銀、塩沃臭化銀の何れであってもよいが、塩化銀6
0モル%以上を含むハロゲン化銀乳剤であることが好ま
しい。具体的には、塩化銀、60モル%以上の塩化銀を
含む塩臭化銀又は60モル%以上の塩化銀を含む塩沃臭
化銀の組成からなるハロゲン化銀乳剤を含む乳剤である
ことが好ましい。
The silver halide emulsion in the silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention may be any of silver chloride, silver bromide, silver chlorobromide, silver iodobromide and silver chloroiodobromide. But silver chloride 6
A silver halide emulsion containing 0 mol% or more is preferred. Specifically, an emulsion containing a silver halide emulsion having a composition of silver chloride, silver chlorobromide containing 60 mol% or more of silver chloride, or silver chloroiodobromide containing 60 mol% or more of silver chloride. Is preferred.

【0083】ハロゲン化銀の平均粒子サイズは1.2μ
m以下であることが好ましく、特に0.5〜0.1μm
が好ましい。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家に
は常用されており、容易に理解される用語である。粒径
とは、粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒
子直径を意味する。粒子が立方体である場合には球に換
算し、その球の直径を粒径とする。平均粒径を求める方
法の詳細については、ミース、ジェームス:ザ・セオリ
ー・オブ・ザ・フォトグラフィックプロセス(C.E.
Mees&T.H.James著:The theor
y of the photographic pro
cess)、第3版、36〜43頁(1966年(マク
ミラン「Mcmillan」社刊))を参照すればよ
い。
The average grain size of silver halide is 1.2 μm.
m, particularly 0.5 to 0.1 μm
Is preferred. The average particle size is a term that is commonly used by experts in the field of photographic science and is easily understood. The particle size means a particle diameter when the particles are spherical or spherical particles. If the particles are cubic, they are converted into spheres, and the diameter of the sphere is defined as the particle size. For details of the method for determining the average particle size, see Mies, James: The Theory of the Photographic Process (CE.
Mees & T. H. By James: The theor
y of the photographic pro
ses), Third Edition, pp. 36-43 (1966, published by McMillan "Mcmillan").

【0084】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他何れの形状でもよい。又、粒子サイズ分布は狭い方が
好ましく、特に平均粒子サイズの±40%の粒子サイズ
域内に全粒子数の90%、望ましくは95%が入るよう
な、いわゆる単分散乳剤が好ましい。
The shape of the silver halide grains is not limited.
The shape may be flat, spherical, cubic, tetrahedral, octahedral, or any other shape. Further, it is preferable that the particle size distribution is narrower, and in particular, a so-called monodisperse emulsion in which 90%, preferably 95% of the total number of particles falls within a particle size range of ± 40% of the average particle size is preferable.

【0085】物理熟成時や化学熟成時に亜鉛、鉛、タリ
ウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、オスミウ
ム、パラジウム、プラチナ等の金属塩等を共存させるこ
とができる。高照度特性を得るためにイリジウムをハロ
ゲン化銀1モルあたり10-9モルから10-3モルの範囲
で添加させることは、ハロゲン化銀乳剤においてしばし
ば常用される。本発明においては、印刷製版用感光材料
として最適な硬調乳剤を得るためにはロジウム、ルテニ
ウム、オスミウム及び/又はレニウムをハロゲン化銀乳
剤中にハロゲン化銀1モルあたり10-8モルから10-2
モルの範囲で添加することが好ましい。添加位置として
は粒子中に均一に分布させる方法、コア・シェル構造に
してコア部に或いはシェル部に多く局在させる方法があ
る。
At the time of physical ripening or chemical ripening, metal salts such as zinc, lead, thallium, iridium, rhodium, ruthenium, osmium, palladium and platinum can coexist. It is frequently used in silver halide emulsions to add iridium in the range of 10 -9 mol to 10 -3 mol per mol of silver halide to obtain high illuminance characteristics. In the present invention, rhodium, ruthenium, osmium and / or rhenium are contained in the silver halide emulsion in an amount of 10 -8 mol to 10 -2 per mol of silver halide in order to obtain an optimum high contrast emulsion as a photographic material for printing plate making.
It is preferable to add in a molar range. As the addition position, there is a method of distributing uniformly in the particles, a method of forming a core-shell structure, and a method of localizing a large amount in the core portion or the shell portion.

【0086】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3、22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
For details of the silver halide emulsion and its preparation method, see Research Disclosure (Res)
(Earth Disclosure) 176 No. 1764
3, pages 22 to 23 (December, 1978).

【0087】本発明に係るハロゲン化銀乳剤は化学増感
されてもよく、化学増感されていなくてもよい。
The silver halide emulsion according to the present invention may or may not be chemically sensitized.

【0088】化学増感剤としては、硫黄増感剤(例えば
チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィ
ド化合物等)、セレン増感剤、テルル増感剤、貴金属増
感剤(例えば金、パラジウム、白金、イリジウム等)、
還元増感剤(例えば亜硝酸ナトリウム、ヒドラジン類、
ポリアミン、アミンボラン等)を用いることができる。
Examples of the chemical sensitizer include sulfur sensitizers (eg, thiosulfates, thioureas, rhodanines, polysulfide compounds, etc.), selenium sensitizers, tellurium sensitizers, and noble metal sensitizers (eg, gold, Palladium, platinum, iridium, etc.),
Reduction sensitizers (eg, sodium nitrite, hydrazines,
Polyamine, amine borane, etc.) can be used.

【0089】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に
は、ハロゲン化銀写真感光材料の製造工程、保存中或い
は写真処理中のカブリを防止し、或いは写真性能を安定
化させる目的で、種々の化合物を含有させることができ
る。
The silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention may contain various silver halide photographic light-sensitive materials in order to prevent fog during the production process, storage or photographic processing, or to stabilize photographic performance. Compounds can be included.

【0090】本発明に係るハロゲン化銀乳剤の結合剤又
は保護コロイドとしては少なくともゼラチンが用いられ
るのが好ましいが、それ以外の親水性コロイド、いわゆ
る親水性ポリマーも用いることができる。例えばゼラチ
ン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマ
ー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロー
ス硫酸エステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン
酸ナトリウム、澱粉、葡萄糖、デキストリン、デキスト
ラン、シクロデキストリン、蔗糖、麦芽糖、キサンタン
ガム、カラギーナンなどの糖誘導体、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N
−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル
酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポ
リビニルピラゾール等の単一或いは共重合体の如き多種
の合成親水性高分子物質を用いることができる。
As the binder or protective colloid of the silver halide emulsion according to the present invention, at least gelatin is preferably used, but other hydrophilic colloids, so-called hydrophilic polymers, can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other macromolecules, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose and cellulose sulfates, sodium alginate, starch, glucose, dextrin, dextran, cyclodextrin Sugar derivatives such as dextrin, sucrose, maltose, xanthan gum, carrageenan, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N
-Various kinds of synthetic hydrophilic high-molecular substances such as homo- or copolymers such as vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole and polyvinylpyrazole can be used.

【0091】本発明の効果を更に顕著に発現させるため
には、ハロゲン化銀乳剤層の反対側に少なくとも一層の
親水性コロイド層を有し、その外側に少なくとも一層の
疎水性ポリマー層を有することが好ましい。ここでは、
ハロゲン化銀乳剤層の反対側の親水性コロイド層とは、
いわゆるバック層を含む。
In order to make the effect of the present invention more remarkable, it is necessary to have at least one hydrophilic colloid layer on the opposite side of the silver halide emulsion layer and at least one hydrophobic polymer layer on the outside thereof. Is preferred. here,
The hydrophilic colloid layer on the opposite side of the silver halide emulsion layer
Including a so-called back layer.

【0092】本発明においては、バック層の外側に少な
くとも一層の疎水性ポリマー層を有する構成が好まし
い。
In the present invention, a configuration having at least one hydrophobic polymer layer outside the back layer is preferable.

【0093】本発明においては、下記に記載された化合
物をハロゲン化銀写真感光材料の構成層中に含有させる
ことが好ましい。
In the present invention, the compounds described below are preferably contained in the constituent layers of the silver halide photographic light-sensitive material.

【0094】(1)染料の固体分散微粒子体 特開平7−5629号公報(3)頁[0017]〜(1
6)頁[0042]記載の化合物 (2)酸基を有する化合物 特開昭62−237445号公報292(8)頁左下欄
11行目〜309(25)頁右下欄3行目記載の化合物 (3)酸性ポリマー 特開平6−186659号公報(10)頁[0036]
〜(17)頁[0062]記載の化合物 (4)増感色素 特開平5−224330号公報(3)頁[0017]〜
(13)頁[0040]記載の化合物 特開平6−194771号公報(11)頁[0042]
〜(22)頁[0094]記載の化合物 特開平6−242533号公報(2)頁[0015]〜
(8)頁[0034]記載の化合物 特開平6−337492号公報(3)頁[0012]〜
(34)頁[0056]記載の化合物 特開平6−337494号公報(4)頁[0013]〜
(14)頁[0039]記載の化合物 (5)強色増感剤 特開平6−347938号公報(3)頁[0011]〜
(16)頁[0066]記載の化合物 なお、前述の添加剤及びその他の公知の添加剤について
は、例えばリサーチ・ディスクロージャーNo.176
43(1978年12月)、同No.18716(19
79年11月)及び同No.308119(1989年
12月)に記載された化合物が挙げられる。これら三つ
のリサーチ・ディスクロージャーに示されている化合物
種類と記載箇所を下記に記載した。
(1) Solid-dispersed fine particles of a dye JP-A-7-5629, page (3) [0017] to (1)
6) Compound described on page [0042] (2) Compound having an acid group Compound described in JP-A-62-237445, page 292 (8), lower left column, line 11 to page 309 (25), lower right column, line 3 (3) Acidic polymer JP-A-6-186659, page (10) [0036]
(4) Sensitizing dye JP-A-5-224330, page (3) [0017] to (17)
(13) Compound described on page [0040] JP-A-6-194777 (page 11) [0042]
Compound described in [0094] to page (22) [0015] to page (2) in JP-A-6-242533
(8) Compound described on page [0034] JP-A-6-337492 (3) page [0012]-
(34) Compound described on page [0056] JP-A-6-337494 (4) page [0013]-
(14) Compound described on page [0039] (5) Supersensitizer JP-A-6-347938 (3) page [0011] to
(16) Compound described on page [0066] The above-mentioned additives and other known additives are described in, for example, Research Disclosure No. 176
No. 43 (December 1978), ibid. 18716 (19
No. 1979) and the same No. 308119 (December 1989). The compound types and locations described in these three research disclosures are described below.

【0095】 添加剤 RD−17643 RD−18716 RD−308119 頁 分類 頁 分類 頁 分類 化学増感剤 23 III 648右上 996 III 増感色素 23 IV 648〜649 996〜8 IVA 減感色素 23 IV 998 IVB 染料 25〜26 VIII 649〜650 1003 VIII 現像促進剤 29 XXI 648右上 カブリ抑制剤・安定剤 24 IV 649右上 1006〜7 VI 増白剤 24 V 998 V 硬膜剤 26 X 651左 1004〜5 X 界面活性剤 26〜7 XI 650右 1005〜6 XI 可塑剤 27 XII 650右 1006 XII スベリ剤 27 XII マット剤 28 XVI 650右 1008〜9 XVI バインダー 26 XXII 1003〜4 IX 支持体 28 XVII 1009 XVII 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像処理にお
いて用いられる現像液の現像主薬は公知の化合物を用い
ることができる。好ましい実施態様としては、本発明の
ハロゲン化銀写真感光材料を、アスコルビン酸及びその
誘導体を現像主薬とする現像液で処理するものが挙げら
れる。
Additives RD-17643 RD-18716 RD-308119 page classification page classification page classification chemical sensitizer 23 III 648 upper right 996 III sensitizing dye 23 IV 648-649 996-8 IVA desensitizing dye 23 IV 998 IVB dye 25-26 VIII 649-650 1003 VIII Development accelerator 29 XXI 648 Upper right antifoggant / stabilizer 24 IV 649 Upper right 1006-7 VI Brightener 24 V 998 V Hardener 26 X 651 Left 1004-5 X Surface activity Agents 26-7 XI 650 right 1005-6 XI plasticizer 27 XII 650 right 1006 XII sliding agent 27 XII matting agent 28 XVI 650 right 1008-9 XVI binder 26 XXII 1003-4 IX support 28 XVII 1009 XVII The developing agent of the developer used in the development processing of the silver halide photographic material is Known compounds can be used. In a preferred embodiment, the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is processed with a developing solution containing ascorbic acid and its derivative as a developing agent.

【0096】アスコルビン酸及びその誘導体は、現像主
薬としては公知であり、例えば、米国特許2,688,
548号、同2,688,549号、同3,022,1
68号、同3,512,981号、同4,975,35
4号、同5,326,816号等に記載のものを使用す
ることができる。その中でも、前記一般式〔A〕で表さ
れる化合物を好ましく用いることができる。
Ascorbic acid and its derivatives are known as developing agents and are described, for example, in US Pat.
No. 548, No. 2,688,549, No. 3,022,1
Nos. 68, 3,512,981, 4,975,35
No. 4, No. 5,326,816 and the like can be used. Among them, the compound represented by the general formula [A] can be preferably used.

【0097】一般式〔A〕で示される化合物において、
1とR2が互いに結合して環を形成した下記一般式〔A
−a〕で示される化合物が好ましい。
In the compound represented by the general formula [A],
The following general formula [A] wherein R 1 and R 2 are bonded to each other to form a ring
-A] is preferred.

【0098】[0098]

【化20】 Embedded image

【0099】式中、R3は水素原子、置換又は未置換の
アルキル基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未
置換のアミノ基、置換又は未置換のアルコキシル基、ス
ルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基
を表し、Y1はO又はSを表し、Y2はO、S又はNR4
を表す。R4は置換又は無置換のアルキル基、置換又は
無置換のアリール基を表す。M1,M2は各々水素原子又
はアルカリ金属を表す。
In the formula, R 3 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a sulfo group, a carboxyl group, Represents an amide group or a sulfonamide group, Y 1 represents O or S, and Y 2 represents O, S or NR 4
Represents R 4 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. M 1 and M 2 each represent a hydrogen atom or an alkali metal.

【0100】前記一般式〔A〕又は一般式〔A−a〕に
おけるアルキル基としては、低級アルキル基が好まし
く、たとえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ
基としては無置換のアミノ基或いは低級アルキル基で置
換されたアミノ基が好ましく、アルコキシル基としては
低級アルコキシ基が好ましく、アリール基としては好ま
しくはフェニル基或いはナフチル基等であり、これらの
基は置換基を有していてもよく、置換しうる基として
は、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルコキシル基、
スルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド
基等が好ましい置換基として挙げられる。
The alkyl group in the formula [A] or [Aa] is preferably a lower alkyl group, for example, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and the amino group is an unsubstituted amino group. Alternatively, an amino group substituted with a lower alkyl group is preferable, an alkoxyl group is preferably a lower alkoxy group, and an aryl group is preferably a phenyl group or a naphthyl group, and these groups may have a substituent. Well, as a group which can be substituted, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkoxyl group,
Preferred substituents include a sulfo group, a carboxyl group, an amide group and a sulfonamide group.

【0101】本発明に用いられる前記一般式〔A〕又は
一般式〔A−a〕で表される具体的化合物例を以下に示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (A) or (Aa) used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0102】[0102]

【化21】 Embedded image

【0103】[0103]

【化22】 Embedded image

【0104】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸或いはエリソルビン酸又はそれらから誘導される誘
導体であり、市販品として入手できるか或いは容易に公
知の合成法により合成することができる。
These compounds are typically ascorbic acid or erythorbic acid or derivatives derived therefrom, and are commercially available or can be easily synthesized by a known synthesis method.

【0105】本発明においては、本発明に用いられる前
記一般式〔A〕の現像主薬と3−ピラゾリドン類(例え
ば1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4
−メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−
ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチ
ル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3
−ピラゾリドン等)やアミノフェノール類(例えばo−
アミノフェノール、p−アミノフェノール、N−メチル
−o−アミノフェノール、N−メチル−p−アミノフェ
ノール、2,4−ジアミノフェノール等)やジヒドロキ
シベンゼン類(例えばハイドロキノン、ハイドロキノン
モノスルホネート等)の現像主薬を組み合わせて使用す
ることが出来る。組み合わせて使用する場合、3−ピラ
ゾリドン類やアミノフェノール類やジヒドロキシベンゼ
ン類の現像主薬は、通常現像液1リットルあたり0.0
1〜1.4モルの量で用いられるのが好ましい。
In the present invention, the developing agent represented by the general formula [A] used in the present invention and 3-pyrazolidones (for example, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4
-Methyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-
Dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-ethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-methyl-3
-Pyrazolidone, etc.) and aminophenols (for example, o-
Developing agents such as aminophenol, p-aminophenol, N-methyl-o-aminophenol, N-methyl-p-aminophenol, 2,4-diaminophenol, and dihydroxybenzenes (eg, hydroquinone, hydroquinone monosulfonate) Can be used in combination. When used in combination, the developing agents such as 3-pyrazolidones, aminophenols and dihydroxybenzenes are usually used in an amount of 0.0
It is preferably used in an amount of 1 to 1.4 mol.

【0106】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料
は、露光後、現像、定着、水洗(又は安定化浴)及び乾
燥の少なくとも4プロセスを持つ自動現像機で写真処理
されることが好ましい。
The silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is preferably subjected to photographic processing by an automatic developing machine having at least four processes of exposure, development, fixing, washing (or stabilizing bath) and drying.

【0107】本発明においては、現像液には、アルカリ
剤(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)及びpH緩
衝剤(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸
櫞酸、アルカノールアミン等)が添加されることが好ま
しい。pH緩衝剤としては、炭酸塩が好ましく、その添
加量は1リットル当たり0.5モル以上2.5モル以下
が好ましく、更に好ましくは、0.75モル以上1.5
モル以下の範囲である。また、必要により溶解助剤(例
えばポリエチレングリコール類、それらのエステル、ア
ルカノールアミン等)、増感剤、界面活性剤、消泡剤、
カブリ防止剤(例えば臭化カリウム、臭化ナトリウムの
如きハロゲン化物、ニトロベンズインダゾール、ニトロ
ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチア
ゾール、テトラゾール類、チアゾール類等)、キレート
化剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又はそのアルカリ
金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進
剤(例えば米国特許2,304,025号、特公昭47
−45541号に記載の化合物等)、硬膜剤(例えばグ
ルタルアルデヒド又は、その重亜硫酸塩付加物等)、な
どを添加することができる。
In the present invention, the developing solution contains an alkaline agent (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) and a pH buffer (eg, carbonate, phosphate, borate, boric acid, acetic acid, citric acid, alkanolamine). And the like are preferably added. The pH buffer is preferably a carbonate, and the amount of the carbonate added is preferably 0.5 mol or more and 2.5 mol or less per liter, more preferably 0.75 mol or more and 1.5 mol or less.
Molar range. If necessary, dissolution aids (eg, polyethylene glycols, esters thereof, alkanolamines, etc.), sensitizers, surfactants, defoamers,
Antifoggants (for example, halides such as potassium bromide and sodium bromide, nitrobenzindazole, nitrobenzimidazole, benzotriazole, benzothiazole, tetrazoles, thiazoles, etc.), chelating agents (for example, ethylenediaminetetraacetic acid or its alkali) Metal salts, nitrilotriacetates, polyphosphates, etc.), development accelerators (for example, US Pat. No. 2,304,025, JP-B-47)
-Hardening agent (for example, glutaraldehyde or a bisulfite adduct thereof), and the like.

【0108】本発明において保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
The sulfite and metabisulfite used as a preservative in the present invention include sodium sulfite, potassium sulfite, ammonium sulfite and sodium metabisulfite. The sulfite is preferably at least 0.25 mol / l. Particularly preferably, it is at least 0.4 mol / liter.

【0109】本発明に用いられる現像液のpHは8以上
11未満に調整されることが好ましい。更に好ましく
は、pH8.5以上10.5未満である。
The pH of the developer used in the present invention is preferably adjusted to 8 or more and less than 11. More preferably, the pH is at least 8.5 and less than 10.5.

【0110】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に通常pHは3
〜8である。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チ
オ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸
塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、
チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可
溶性安定銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤と
して知られているものを用いることができる。
As the fixing solution, those having a commonly used composition can be used. Fixers generally have a pH of 3
88. As a fixing agent, sodium thiosulfate, potassium thiosulfate, thiosulfates such as ammonium thiosulfate, sodium thiocyanate, potassium thiocyanate,
In addition to thiocyanates such as ammonium thiocyanate, organic sulfur compounds capable of forming a soluble stable silver complex salt and known as a fixing agent can be used.

【0111】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬、アルデヒド化合物(例えば、グルタ
ルアルデヒドやグルタルアルデヒドの亜硫酸付加物等)
などを加えることができる。
The fixing solution contains a water-soluble aluminum salt acting as a hardening agent, for example, aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium alum, an aldehyde compound (for example, glutaraldehyde or a glutaraldehyde sulfite adduct).
Etc. can be added.

【0112】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸、ク
エン酸、酒石酸、りんご酸、こはく酸等及びその塩及び
これらの光学異性体)、pH調整剤(例えば硫酸等及び
その塩)、硬水軟化能のあるキレート剤等の化合物を含
むことができる。
The fixing solution may contain, if desired, a preservative (eg, a sulfite or a bisulfite), a pH buffer (eg, acetic acid, citric acid, tartaric acid, malic acid, succinic acid, etc., and salts thereof, and optical salts thereof. Compounds such as isomers), pH adjusters (for example, sulfuric acid and the like and salts thereof), and chelating agents capable of softening water.

【0113】定着処理後、水洗及び/又は安定化浴で処
理されることが好ましい。安定化浴としては、画像を安
定化させる目的で、膜pHを調整(処理後の膜面pHを
3〜8に)するための無機及び有機の酸及びその塩、又
はアルカリ剤及びその塩(例えばほう酸塩、メタほう酸
塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジカル
ボン酸、ポリカルボン酸、くえん酸、蓚酸、リンゴ酸、
酢酸等を組み合わせて使用)、アルデヒド類(例えばホ
ルマリン、グリオキザール、グルタルアルデヒド等)、
キレート剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又はそのア
ルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、防
バイ剤(例えばフェノール、4−クロロフェノール、ク
レゾール、o−フェニルフェノール、クロロフェン、ジ
クロロフェン、ホルムアルデヒド、p−ヒドロキシ安息
香酸エステル、2−(4−チアゾリン)−ベンゾイミダ
ゾール、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ドデシル−
ベンジル−メチルアンモニウム−クロライド、N−(フ
ルオロジクロロメチルチオ)フタルイミド、2,4,
4′−トリクロロ−2′−ハイドロオキシジフェニルエ
ーテル等)、色調調整剤及び/又は残色改良剤(例えば
メルカプト基を置換基として有する含窒素ヘテロ環化合
物;具体的には2−メルカプト−5−スルホン酸ナトリ
ウム−ベンズイミダゾール、1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾール、2−メルカプトベンズチアゾール、
2−メルカプト−5−プロピル−1,3,4−トリアゾ
ール、2−メルカプトヒポキサンチン等)を含有させ
る。その中でも安定化浴中には防バイ剤が含まれること
が好ましい。これらは、液状でも固体状で補充されても
よい。
After the fixing treatment, it is preferable to carry out the treatment with a washing and / or stabilizing bath. As a stabilizing bath, for the purpose of stabilizing an image, inorganic and organic acids and salts thereof, or alkali agents and salts thereof for adjusting the film pH (to adjust the film surface pH after treatment to 3 to 8) ( For example, borate, metaborate, borax, phosphate, carbonate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, aqueous ammonia, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, polycarboxylic acid, citric acid, oxalic acid, malic acid,
Acetic acid, etc.), aldehydes (eg, formalin, glyoxal, glutaraldehyde, etc.),
Chelating agents (e.g., ethylenediaminetetraacetic acid or its alkali metal salt, nitrilotriacetic acid salt, polyphosphate, etc.), and anti-bacterial agents (e.g., phenol, 4-chlorophenol, cresol, o-phenylphenol, chlorophen, dichlorophen, formaldehyde) , P-hydroxybenzoic acid ester, 2- (4-thiazoline) -benzimidazole, benzoisothiazolin-3-one, dodecyl-
Benzyl-methylammonium chloride, N- (fluorodichloromethylthio) phthalimide, 2,4
4'-trichloro-2'-hydroxydiphenyl ether, etc., a color tone adjuster and / or a residual color improver (for example, a nitrogen-containing heterocyclic compound having a mercapto group as a substituent; specifically, 2-mercapto-5-sulfone) Sodium benzimidazole, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 2-mercaptobenzthiazole,
2-mercapto-5-propyl-1,3,4-triazole, 2-mercaptohypoxanthine, etc.). Among them, it is preferable that the stabilizing bath contains an anti-binder. These may be replenished in liquid or solid form.

【0114】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)は20秒〜60秒である。こ
こでいう全処理時間とは、黒白感光材料を処理するのに
必要な全工程時間を含み、具体的には処理に必要な、例
えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処理、乾燥等の工
程の時間を全て含んだ時間、つまりDry to Dr
yの時間である。全処理時間が10秒未満では減感、軟
調化等で満足な写真性能が得られない。更に好ましくは
全処理時間(Dry to Dry)が15〜60秒で
ある。また、100m2以上の大量の感光材料を安定に
ランニング処理するためには、現像時間は35秒以下2
秒以上であることが好ましい。
In the present invention, the total processing time (Dry to Dry) from the insertion of the leading end of the film to the automatic developing machine until it comes out of the drying zone when processing using the automatic developing machine is 20 in order to reduce the developing time. Seconds to 60 seconds. The term "total processing time" as used herein includes the total process time required for processing the black-and-white photosensitive material, and specifically includes processing, such as development, fixing, bleaching, washing, stabilization, and drying. Time including all process times, that is, Dry to Dr
It is the time of y. If the total processing time is less than 10 seconds, satisfactory photographic performance cannot be obtained due to desensitization and softening. More preferably, the total processing time (Dry to Dry) is 15 to 60 seconds. In order to stably process a large amount of photosensitive material of 100 m 2 or more, the developing time is 35 seconds or less.
It is preferably at least seconds.

【0115】また、本発明には下記に記載された方法及
び機構を有する自動現像機を好ましく用いることができ
る。
In the present invention, an automatic developing machine having a method and a mechanism described below can be preferably used.

【0116】(1)脱臭装置:特開昭64−37560
号544(2)頁左上欄〜545(3)頁左上欄 (2)水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−2503
52号(3)頁「0011」〜(8)頁「0058」 (3)廃液処理方法:特開平2−64638号388
(2)頁左下欄〜391(5)頁左下欄 (4)現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31
3749号(18)頁「0054」〜(21)頁「00
65」 (5)水補充方法:特開平1−281446号250
(2)頁左下欄〜右下欄 (6)外気温度湿度検出して自動現像機の乾燥風を制御
する方法:特開平1−315745号496(2)頁右
下欄〜501(7)頁右下欄及び特開平2−10805
1号588(2)頁左下欄〜589(3)頁左下欄 (7)定着廃液の銀回収方法:特開平6−27623号
(4)頁「0012」〜(7)頁「0071」。
(1) Deodorizing device: JP-A-64-37560
No. 544 (2), upper left column to page 545 (3), upper left column (2) Washing water regeneration purifying agent and apparatus: JP-A-6-2503
No. 52, page 3 (0011) to (8), page 0058 (3) Waste liquid treatment method: JP-A-2-64638 388
(2) Lower left column of page 391 (5) Lower left column of page (4) Rinse bath between developing bath and fixing bath: JP-A-4-31
No. 3749, page 18 [0054] to page (21) [00]
65 "(5) Water replenishment method: JP-A-1-281446 250
(2) Lower left column to lower right column of page (6) Method of detecting outside air temperature and humidity to control drying air of automatic developing machine: JP-A-1-315745, page 496 (2) Lower right column to page 501 (7) Lower right column and JP-A-2-10805
No. 1, page 588 (2), lower left column to page 589 (3), lower left column (7) Method for recovering silver of fixing waste liquid: JP-A-6-27623, page (4), "0012" to page (7), "0071".

【0117】次に帯電防止層について説明する。本発明
に用いられる帯電防止層としては特に制限はないが、水
溶性ポリマー、疎水性ポリマー粒子及び、硬化剤の反応
物あるいは金属酸化物からなることが好ましい。
Next, the antistatic layer will be described. The antistatic layer used in the present invention is not particularly limited, but is preferably composed of a water-soluble polymer, hydrophobic polymer particles, a reactant of a curing agent, or a metal oxide.

【0118】水溶性ポリマーについては、スルホン酸
基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級アンモ
ニウム塩、カルボキシル基から選ばれる少なくとも1つ
の導電性基を有するポリマーが挙げられる。導電性基は
ポリマー1分子当たり5重量%以上を必要とする。水溶
性ポリマー中には、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ
基、アジリジン基、活性メチレン基、スルフィン酸基、
アルデヒド基、ビニルスルホン基を含んでいてもよい。
Examples of the water-soluble polymer include polymers having at least one conductive group selected from sulfonic acid groups, sulfate groups, quaternary ammonium salts, tertiary ammonium salts, and carboxyl groups. The conductive groups require at least 5% by weight per polymer molecule. In the water-soluble polymer, hydroxy group, amino group, epoxy group, aziridine group, active methylene group, sulfinic acid group,
It may contain an aldehyde group and a vinyl sulfone group.

【0119】ポリマーの数平均分子量は、3000〜1
00000であり、好ましくは3500〜50000で
ある。
The number average molecular weight of the polymer is 3000 to 1
00000, preferably 3500 to 50,000.

【0120】水溶性ポリマーの化合物としては、特開平
4−39651号第6頁〜第11頁記載のA−1〜A−
21が挙げられ、以下にその代表例を挙げるがこれに限
定されるものではない。
The compounds of the water-soluble polymer include A-1 to A-A described in JP-A-4-39651, pp. 6-11.
The following are typical examples, but the present invention is not limited thereto.

【0121】[0121]

【化23】 Embedded image

【0122】[0122]

【化24】 Embedded image

【0123】[0123]

【化25】 Embedded image

【0124】尚、上記P−1〜P−10において、Mn
は平均分子量(本明細書中、平均分子量とは数平均分子
量を示す。)を表し、ポリエチレングリコール換算で表
したGPCによる測定値によるものである。
In the above P-1 to P-10, Mn
Represents an average molecular weight (in the present specification, the average molecular weight indicates a number average molecular weight), and is a value measured by GPC in terms of polyethylene glycol.

【0125】また、帯電防止層中に含有させる疎水性ポ
リマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテックス
で構成されている。この疎水性ポリマーは、スチレン、
スチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメタ
クリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン誘
導体、ビニルエステル誘導体、アクリルニトリル等の中
から任意の組み合わせで選ばれるモノマーを重合して得
られる。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレート、
アルキルメタクリレートが少なくとも30モル%含有さ
れているのが好ましい。特に50モル%以上が好まし
い。
The hydrophobic polymer particles contained in the antistatic layer are composed of a so-called latex which is substantially insoluble in water. The hydrophobic polymer is styrene,
It can be obtained by polymerizing a monomer selected in any combination from styrene derivatives, alkyl acrylates, alkyl methacrylates, olefin derivatives, halogenated ethylene derivatives, vinyl ester derivatives, acrylonitrile and the like. Especially styrene derivatives, alkyl acrylates,
It is preferable that the content of the alkyl methacrylate is at least 30 mol%. In particular, 50 mol% or more is preferable.

【0126】これらの疎水性ラテックスの具体例として
は特開平4−39651号第13頁〜第19頁記載のL
−1〜L−26が挙げられるが、以下にこの代表例を挙
げる。
Specific examples of these hydrophobic latexes are described in JP-A-4-39651, pp. 13-19.
-1 to L-26, and representative examples thereof will be given below.

【0127】[0127]

【化26】 Embedded image

【0128】[0128]

【化27】 Embedded image

【0129】[0129]

【化28】 Embedded image

【0130】次に帯電防止層が金属酸化物より成る場合
における金属酸化物は、酸化インジウム、酸化スズ或は
アンチモン原子をドープした金属酸化物のいづれか又は
これらの組み合わせを用いることができる。
Next, as the metal oxide when the antistatic layer is made of a metal oxide, any of indium oxide, tin oxide, metal oxide doped with antimony atoms, or a combination thereof can be used.

【0131】酸化インジウムとしては、酸化第1インジ
ウム、(In2O)と酸化第2インジウム(In23
とが知られているが、本発明では、酸化第2インジウム
を用いるのが好ましい。
As the indium oxide, first indium oxide (In 2 O) and second indium oxide (In 2 O 3 )
However, in the present invention, it is preferable to use indium oxide.

【0132】又、酸化スズとしては、酸化第1スズ(S
nO)と酸化第2スズ(SnO2)が知られているが、
本発明で好ましく用いられるのは酸化第2スズである。
Further, as tin oxide, stannous oxide (S
nO) and stannic oxide (SnO 2 ) are known,
Stannous oxide is preferably used in the present invention.

【0133】アンチモン原子をドープした金属酸化物と
しては具体的には、酸化スズ及び酸化イリジウムを挙げ
ることができる。前記金属酸化物にアンチモンをドーピ
ングするには、スズやインジウムのハロゲン化物、アル
コキシ化物あるいは硝酸塩化合物とアンチモンのハロゲ
ン化物あるいは硝酸塩化合物とアンチモンのハロゲン化
物、アルコキシ化物あるいは硝酸塩化物と混合して酸化
焼成して得ることができる。これらの金属化合物は、例
えば、日本イットリウム株式会社など金属化合物のメー
カーから容易に入手することができる。またアンチモン
をドープする際の好ましい含有率は、スズやインジウム
に対して0.5〜10%の重量%が好ましい。これらの
無機化合物の添加方法は、ゼラチンなどの親水性コロイ
ドに分散、あるいはアクリル酸やマレイン酸などの高分
子化合物に分散して添加することが好ましい。バインダ
ー当たりの担持の割合は1〜100重量%が好ましい。
Examples of the metal oxide doped with an antimony atom include tin oxide and iridium oxide. To dope the metal oxide with antimony, a tin or indium halide, an alkoxylate or a nitrate compound and an antimony halide or a nitrate compound and an antimony halide, an alkoxylate or a nitrate chloride are mixed and oxidized and calcined. Can be obtained. These metal compounds can be easily obtained from metal compound manufacturers such as Japan Yttrium Corporation. Further, the preferable content when antimony is doped is preferably 0.5 to 10% by weight with respect to tin or indium. It is preferable to add these inorganic compounds by dispersing them in a hydrophilic colloid such as gelatin or dispersing them in a polymer compound such as acrylic acid or maleic acid. The loading ratio per binder is preferably 1 to 100% by weight.

【0134】本発明に用いられる帯電防止層の膜面pH
としては、8.0以下が好ましいが、低すぎても膜の安
定性から好ましくない。特に好ましくは3.0〜7.5
である。
Film pH of antistatic layer used in the present invention
Is preferably 8.0 or less, but too low is not preferred because of the stability of the film. Particularly preferably, 3.0 to 7.5.
It is.

【0135】本発明に用いられる帯電防止層は感光性層
より支持体側にあってもよいし、感光層に対し支持体の
反対側、いわゆる背面にあってもよい。
The antistatic layer used in the present invention may be provided on the support side of the photosensitive layer, or may be provided on the opposite side of the support with respect to the photosensitive layer, that is, on the back side.

【0136】[0136]

【実施例】以下、実施例により本発明の効果を例証す
る。
EXAMPLES The effects of the present invention will now be illustrated by examples.

【0137】実施例1 〈乳剤の調製〉 (乳剤A)40℃に保った塩化ナトリウム及び銀1モル
当たり3×10-5モルのベンゼンチオスルフォン酸ナト
リウムを含むpH=2.0の1.5%ゼラチン水溶液中
に硝酸銀水溶液と銀1モル当たり3.5×10-5モルの
(NH42Ru(NO)Cl5を含む塩化ナトリウム水
溶液をダブルジェット法により電位95mVにおいて3
分30秒間で最終粒子の銀量の半分を同時添加し、芯部
の粒子0.12μmを調製した。その後、硝酸銀水溶液
を銀1モル当たり10.5×10-5モルの(NH42
uCl5を含む塩化ナトリウム水溶液をダブルジェット
法により7分間で添加し平均粒子サイズ0.15μmの
塩化銀立方体粒子を調製した。
Example 1 <Preparation of Emulsion> (Emulsion A) 1.5% of pH = 2.0 containing sodium chloride kept at 40 ° C. and 3 × 10 -5 mol of sodium benzenethiosulfonate per mol of silver. % Gelatin aqueous solution and an aqueous sodium chloride solution containing 3.5 × 10 −5 mol of (NH 4 ) 2 Ru (NO) Cl 5 per mol of silver at a potential of 95 mV by a double jet method.
In 30 minutes, half of the silver content of the final particles was simultaneously added to prepare 0.12 μm of core particles. Thereafter, an aqueous silver nitrate solution was added to 10.5 × 10 −5 mol of (NH 4 ) 2 R per mol of silver.
A sodium chloride aqueous solution containing uCl 5 was added by a double jet method over 7 minutes to prepare cubic silver chloride particles having an average particle size of 0.15 μm.

【0138】この後、当業界でよく知られたフロキュレ
ーション法により水洗し、可溶性塩を除去したのちゼラ
チンを加え、pH=5.7、pAg=7.5に調整し、
さらに銀1モル当たり2×10-5モルのチオ硫酸ナトリ
ウムおよび4×10-5モルの塩化金酸を加え、60℃で
60分間加熱し、化学増感をほどこした後、防腐剤とし
て化合物−Aとフェノキシエタノールを銀1モル当たり
各々50mg、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当
たり3×10-3モル添加した。
Thereafter, the resultant was washed with water by a flocculation method well known in the art to remove soluble salts, and then gelatin was added to adjust the pH to 5.7 and the pAg to 7.5.
Further, 2 × 10 −5 mol of sodium thiosulfate and 4 × 10 −5 mol of chloroauric acid were added per mol of silver, and the mixture was heated at 60 ° C. for 60 minutes to perform chemical sensitization. A and phenoxyethanol were added in an amount of 50 mg / mol of silver, and 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene as a stabilizer was added in an amount of 3 × 10 −3 mol / mol of silver.

【0139】(乳剤B)乳剤Aと同様に調製したが、但
し(NH42Ru(NO)Cl5の量を1.0×10-5
molにした。
(Emulsion B) Prepared in the same manner as Emulsion A, except that the amount of (NH 4 ) 2 Ru (NO) Cl 5 was 1.0 × 10 −5.
mol.

【0140】〈乳剤下層塗布液の調製〉乳剤Bに下記化
合物を添加し、下塗層を含む支持体上に表1に示す乳剤
層のゼラチン塗布量と使用乳剤を用いてハロゲン化銀乳
剤層を塗布した。
<Preparation of Emulsion Underlayer Coating Solution> The following compounds were added to Emulsion B, and a silver halide emulsion layer was prepared on a support containing an undercoat layer by using the gelatin coating amount of the emulsion layer shown in Table 1 and the emulsion to be used. Was applied.

【0141】 4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン 5mg/m2 N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩 17mg/m2 化合物−B 5mg/m 化合物−C 10mg/m2 ポリマーラテックス 表1、2に示す 化合物−D(硬膜剤) 5mg/m2 ヒドラジン化合物 表1に示す 造核促進剤(Z) 10mg/m2 〈乳剤上層の調製〉乳剤Aを用いて乳剤下層と同様に調
製した。
4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene 5 mg / m 2 N-oleyl-N-methyltaurine sodium salt 17 mg / m 2 Compound-B 5 mg / m 2 Compound-C 10 mg / m 2 polymer latex Compound-D (hardener) shown in Tables 1 and 5 5 mg / m 2 hydrazine compound Nucleation accelerator (Z) shown in Table 1 10 mg / m 2 <Preparation of emulsion upper layer> Emulsion A The emulsion was prepared in the same manner as in the lower layer of the emulsion.

【0142】塗布銀量は、上層下層併せて2.5g/m
2となるようにし、ゼラチン量とポリマーラテックス量
は上層と下層は同じ量とし、表1には乳剤上層、下層、
乳剤保護膜上層及び下層の合計を示した。
The amount of silver applied was 2.5 g / m 2 including the upper and lower layers.
The amount of gelatin and the amount of polymer latex were the same for the upper layer and the lower layer.
The total of the upper layer and the lower layer of the emulsion protective film was shown.

【0143】〈乳剤保護下層塗布液の調製〉ゼラチン水
溶液に下記化合物を添加した。
<Preparation of Emulsion Protection Lower Layer Coating Solution> The following compounds were added to an aqueous gelatin solution.

【0144】 ゼラチン(Ca++含有量 2700ppm) 表1に示す p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 化合物−A 5mg/m2 化合物−E 10mg/m2 化合物−F 20mg/m2 〈乳剤保護上層塗布液の調製〉ゼラチン水溶液に下記化
合物を添加した。
Gelatin (Ca ++ content 2700 ppm) Sodium p-dodecylbenzenesulfonate shown in Table 1 15 mg / m 2 Compound-A 5 mg / m 2 Compound-E 10 mg / m 2 Compound-F 20 mg / m 2 <Emulsion Preparation of Coating Solution for Protective Upper Layer> The following compounds were added to an aqueous gelatin solution.

【0145】 ゼラチン(Ca++含有量 2700ppm) 表1に示す 不定形シリカマット剤 40mg/m2 (平均粒径3.5μ、細孔直径25Å、表面積700m2/g) 不定形シリカマット剤 10mg/m2 (平均粒径2.5μ、細孔直径170Å、表面積300m2/g) N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリシンポタシウム 5mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 30mg/m2 化合物−A 5mg/m2 固体分散染料−G1 100mg/m2 固体分散染料−G2 50mg/m2 尚、保護層を1層とする場合は、上記保護上、下層の添
加剤を1層に添加し、ゼラチン量は表1に示す量を添加
し、後記する下塗層を有する支持体上に塗布した。つい
で、支持体に対しハロゲン化銀乳剤層の反対側の面に、
下記に示す導電層及びバック層を同時塗布した。
Gelatin (Ca ++ content 2700 ppm) Amorphous silica matting agent shown in Table 1 40 mg / m 2 (average particle size 3.5 μ, pore diameter 25 °, surface area 700 m 2 / g) Amorphous silica matting agent 10 mg / M 2 (average particle size 2.5 μ, pore diameter 170 °, surface area 300 m 2 / g) N-perfluorooctanesulfonyl-N-propylglycinepotassium 5 mg / m 2 Sodium dodecylbenzenesulfonate 30 mg / m 2 Compound-A 5 mg / m 2 solid disperse dye-G 1 100 mg / m 2 solid disperse dye-G 2 50 mg / m 2 When the protective layer is formed as one layer, the above-mentioned protective lower additive is added to one layer. The amount of gelatin was as shown in Table 1 and applied onto a support having an undercoat layer described below. Then, on the opposite side of the silver halide emulsion layer with respect to the support,
The following conductive layer and back layer were simultaneously coated.

【0146】〈帯電防止層の塗布〉 (1) ポリマー帯電防止層(Po) 10W/(m2・min)の強度でコロナ放電した後、
塩化ビニリデン下引処理したポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に再び10W/(m2・min)の強度でコロ
ナ放電した後、下記組成の帯電防止層を塗布した。
<Application of Antistatic Layer> (1) Polymer Antistatic Layer (Po) After corona discharge at an intensity of 10 W / (m 2 · min),
After a corona discharge at a strength of 10 W / (m 2 · min) again on the polyethylene terephthalate support treated with vinylidene chloride undercoat, an antistatic layer having the following composition was applied.

【0147】 水溶性導電性ポリマー (P−3) 0.7g/m2 疎水性ポリマーラテックス(L−3) 0.2g/m2 硫酸アンモニウム 20mg/m2 硬化剤(E−6) 0.1g/m2 ポリエチレングリコール(分子量600) 5mg/m2 (2)金属酸化物帯電防止層(M) ポリマー帯電防止層と同様にして下記組成の金属酸化物
帯電防止層を塗布した。
Water-soluble conductive polymer (P-3) 0.7 g / m 2 Hydrophobic polymer latex (L-3) 0.2 g / m 2 Ammonium sulfate 20 mg / m 2 Curing agent (E-6) 0.1 g / m 2 polyethylene glycol (molecular weight: 600) 5 mg / m 2 (2) Metal oxide antistatic layer (M) A metal oxide antistatic layer having the following composition was applied in the same manner as the polymer antistatic layer.

【0148】 ゼラチン 0.2g/m2 スチレンーマレイン酸共重合体 50mg/m2 ポリエチレングリコール 2mg/m2 金属酸化物(酸化スズ−アンチモンドープ) 0.1g/m 硬化剤(E−2) 50mg/m2 〈バック層塗布液の調製とその塗布〉ゼラチン水溶液に
下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が2.50g/m
2となるように塗布した。
Gelatin 0.2 g / m 2 Styrene-maleic acid copolymer 50 mg / m 2 Polyethylene glycol 2 mg / m 2 Metal oxide (tin oxide-antimony doped) 0.1 g / m 2 Hardener (E-2) 50 mg / m 2 <Preparation of back layer coating solution and its coating> The following compound was added to an aqueous gelatin solution to give a gelatin coating amount of 2.50 g / m 2.
2 was applied.

【0149】 ゼラチン(Ca++含有量 30ppm) 2.50g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ) 54mg/m2 化合物−H 140mg/m2 化合物−I 140mg/m2 化合物−J 40mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 75mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20mg/m2 化合物−K 5mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリシンポタシウム 5mg/m2 硫酸ナトリウム 50mg/m2 酢酸ナトリウム 85mg/m2 (支持体、下塗層)二軸延伸したポリエチレンテレフタ
レート支持体(厚み100μm)の両面に下記組成の下
塗層第1層及び第2層を塗布した。
Gelatin (Ca ++ content 30 ppm) 2.50 g / m 2 Polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 3.4 μ) 54 mg / m 2 compound-H 140 mg / m 2 compound-I 140 mg / m 2 compound- J 40 mg / m 2 Sodium dodecylbenzenesulfonate 75 mg / m 2 Sodium dihexyl-α-sulfosuccinate 20 mg / m 2 Compound-K 5 mg / m 2 N-Perfluorooctanesulfonyl-N-propylglycine potassium 5 mg / m 2 Sulfate Sodium 50 mg / m 2 Sodium acetate 85 mg / m 2 (Support, undercoat layer) On both sides of a biaxially stretched polyethylene terephthalate support (thickness: 100 μm), the first and second undercoat layers having the following composition were applied. .

【0150】〈下塗層1層〉 コア−シェル型塩化ビニリデン共重合体 15g 2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g 化合物−L 0.20g コロイダルシリカ(スノーテックスZL;粒径70〜100μm 日産化学(株)製) 0.12g 水を加えて 100g さらに、10重量%のKOHを加え、pH=6に調整し
た塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.
9μになる様に塗布した。
<One layer of undercoat layer> Core-shell type vinylidene chloride copolymer 15 g 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 0.25 g Polystyrene fine particles (average particle size 3 μm) 0.05 g Compound-L 0.20 g Colloidal silica (Snowtex ZL; particle size 70-100 μm, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 0.12 g 100 g with water added Further, 10 wt% KOH was added, and the coating solution adjusted to pH = 6 was dried. At a temperature of 180 ° C. for 2 minutes, a dry film thickness of 0.
It was applied to 9 μm.

【0151】〈下塗層第2層〉 ゼラチン 1g メチルセルロース 0.05g 化合物−M 0.02g C1225O(CH2CH2O)10H 0.03g 化合物−A 3.5×10-3g 酢酸 0.2g 水を加えて 100g この塗布液を乾燥温度170℃2分間で、乾燥膜厚が
0.1μmになる様に塗布した。
<Second Layer of Undercoat Layer> Gelatin 1 g Methylcellulose 0.05 g Compound-M 0.02 g C 12 H 25 O (CH 2 CH 2 O) 10 H 0.03 g Compound-A 3.5 × 10 -3 g Acetic acid 0.2 g Water was added and 100 g This coating solution was applied at a drying temperature of 170 ° C. for 2 minutes so that the dry film thickness became 0.1 μm.

【0152】[0152]

【化29】 Embedded image

【0153】[0153]

【化30】 Embedded image

【0154】[0154]

【化31】 Embedded image

【0155】このようにして得た表1に示す試料を用い
て下記の評価を行った。
The following evaluation was performed using the samples shown in Table 1 thus obtained.

【0156】〈評価方法〉 [写真特性]この様にして得られた試料を光学クサビを
通して大日本スクリーン社製P−627FMプリンター
で露光し、GX680(コニカ(株)製)を用い後記処
理液により現像温度35℃で表1に示す現像時間で処理
し、以下の項目を評価した。
<Evaluation method> [Photo characteristics] The thus obtained sample was exposed through an optical wedge with a P-627FM printer manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd., and treated with a processing solution described below using GX680 (manufactured by Konica Corporation). Processing was performed at a developing temperature of 35 ° C. for a developing time shown in Table 1, and the following items were evaluated.

【0157】γ:(濃度1.5−0.1)/{log
(濃度1.5を与える露光量)−log(濃度0.1を
与える露光量)}により算出した。
Γ: (concentration 1.5-0.1) / {log
(Exposure amount giving a density of 1.5) -log (exposure amount giving a density of 0.1)}.

【0158】感度:試料No.1を100とした相対評
価 (ランニング評価) 感度、γ: 各試料508mm×610mmのサイズで
100枚を連続処理した。補充量は50ml/m2で行
った。さらにランニング処理後2日間放置(空気酸化)
させた後、感度及びγを評価した。
Sensitivity: Sample No. Relative evaluation with 1 as 100 (Running evaluation) Sensitivity, γ: 100 samples of each sample having a size of 508 mm × 610 mm were continuously processed. The replenishment rate was 50 ml / m 2 . Furthermore, it is left for 2 days after running treatment (air oxidation)
After that, the sensitivity and γ were evaluated.

【0159】残色:未露光試料を新液で処理し、試料N
o.1を7枚重ねてこれを基準とし、それと同レベルに
なる枚数を表2に示した。枚数が多い程残色は良好であ
る。
Residual color: The unexposed sample was treated with a new solution, and the sample N
o. Table 1 shows the number of sheets having the same level as that obtained by stacking seven 1s. The larger the number, the better the residual color.

【0160】乾燥性:自動現像機を30℃、80%の環
境下におき、乾燥温度を45℃とした時、508mm×
610mmを5cm間隔で乳剤面下向きで連続10枚処
理した。乾燥部からでてきた時の乳剤面側を触感評価
し、乾いてでてきた枚数を表2に示した。
Drying property: When the automatic developing machine is placed in an environment of 30 ° C. and 80% and the drying temperature is 45 ° C., the drying property is 508 mm ×
10 sheets of 610 mm were continuously processed at 5 cm intervals with the emulsion surface facing downward. The emulsion surface side when it came out of the drying section was evaluated for its tactile sensation.

【0161】 〈現像液1(p−ヒドロキシベンゼン使用)〉 ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g メタ重亜硫酸ナトリウム 40.0g ハイドロキノン 25,0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル−3−ピラゾリドン 0.45g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ−4 −(1H)−キナザリノン 0.04g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム 0.15g エルソルビン酸ナトリウム 3.0g 水酸化カリウム/水酸化ナトリウムと炭酸カリウム/炭
酸ナトリウムで表1〜4のようなカリウムイオン量にな
るようにし、かつpHが10.3になるように1リット
ルに仕上げた。
<Developer 1 (using p-hydroxybenzene)> Diethylenetriamine-pentaacetic acid 2.0 g Sodium metabisulfite 40.0 g Hydroquinone 25.0 g 5-methylbenzotriazole 0.08 g 4-hydroxymethyl-4-methyl- 1-phenyl-3-pyrazolidone 0.45 g 2,3,5,6,7,8-hexahydro-2-thioxo-4- (1H) -quinazolinone 0.04 g 2-mercaptobenzimidazole-5-sulfonic acid sodium 0 .15 g sodium sorbate 3.0 g potassium hydroxide / sodium hydroxide and potassium carbonate / sodium carbonate to adjust the amount of potassium ions as shown in Tables 1-4, and to 1 liter so that the pH becomes 10.3 Finished.

【0162】 〈定着液〉 チオ硫酸アンモニウム 359.1g エチレンジアミン四酢酸 2Na 2水塩 2.26g チオ硫酸ナトリウム 5水塩 32.8g 亜硫酸ナトリウム 64.8g NaOH 37.2g 氷酢酸 87.3g 酒石酸 8.76g グルコン酸ナトリウム 6.6g 硫酸アルミニウム 25.3g pH(硫酸又は水酸化ナトリウムで調整) 4.85g 水を加えて 1リットル 上記定着液1リットルに対して水を2リットルを加えて
使用した。
<Fixing solution> Ammonium thiosulfate 359.1 g Ethylenediaminetetraacetic acid 2Na dihydrate 2.26 g Sodium thiosulfate pentahydrate 32.8 g Sodium sulfite 64.8 g NaOH 37.2 g Glacial acetic acid 87.3 g Tartaric acid 8.76 g Glucone Sodium acid 6.6 g Aluminum sulfate 25.3 g pH (adjusted with sulfuric acid or sodium hydroxide) 4.85 g 1 liter with water 2 liters of water was added to 1 liter of the above fixing solution.

【0163】〈処理条件〉自動現像機はGX680(コ
ニカ(株)製)を処理時間を変えられるように改造して
使用し、現像液/定着液ともに35℃で処理した。
<Processing Conditions> The automatic developing machine used was GX680 (manufactured by Konica Corporation) modified so that the processing time could be changed, and both the developing solution and the fixing solution were processed at 35 ° C.

【0164】 処理時間 挿 入 現 像 2秒 4秒 定 着 15秒 30秒 水 洗 6秒 12秒 乾 燥 11秒 22秒 合 計 45秒 90秒 上記評価の結果を表1,2に示す。Processing time Insertion Current image 2 seconds 4 seconds Fix 15 seconds 30 seconds Rinse 6 seconds 12 seconds Dry 11 seconds 22 seconds Total 45 seconds 90 seconds The results of the above evaluation are shown in Tables 1 and 2.

【0165】[0165]

【表1】 [Table 1]

【0166】[0166]

【表2】 [Table 2]

【0167】表1,2の結果から、本発明の試料は超迅
速処理において、写真性能、ランニング性能、残色及び
乾燥性に優れていることがわかる。
From the results shown in Tables 1 and 2, it can be seen that the sample of the present invention was excellent in photographic performance, running performance, residual color and drying property in ultra-rapid processing.

【0168】実施例2 下記現像液2を使用して実施例1の試料を用いて同様な
実験を行った。
Example 2 A similar experiment was conducted using the sample of Example 1 using the following developer 2.

【0169】 〈現像液2(一般式〔A〕使用)〉 ジエチレントリアミン−五酢酸 4.0g 亜硫酸ナトリウム 15.76g KBr 2.5g 炭酸カリウム 40g/l 炭酸水素カリウム 25g/l 8−メルカプトアデニン 0.06g ジエチレングリコール 50g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.5g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g ジメゾンS 2.7g 一般式〔A〕の化合物A−17 60g 上記処方に従い1リットルに仕上げた。使用液のpHは
9.80であった。
<Developer 2 (using general formula [A])> Diethylenetriamine-pentaacetic acid 4.0 g Sodium sulfite 15.76 g KBr 2.5 g Potassium carbonate 40 g / l Potassium hydrogen carbonate 25 g / l 8-mercaptoadenine 0.06 g Diethylene glycol 50 g 5-Methylbenzotriazole 0.5 g 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole 0.02 g Dimezone S 2.7 g Compound A-17 of the general formula [A] 60 g Finished to 1 liter according to the above formula. The pH of the working solution was 9.80.

【0170】[0170]

【表3】 [Table 3]

【0171】[0171]

【表4】 [Table 4]

【0172】表3,4の結果から明らかなように本発明
の場合、p−ヒドロキシベンゼンを実質的に含まない現
像液においても超迅速処理における写真性能、ランニン
グ性能、残色及び乾燥性に優れていることがわかる。
As is clear from the results shown in Tables 3 and 4, in the case of the present invention, even in a developer containing substantially no p-hydroxybenzene, excellent photographic performance, running performance, residual color and drying property in ultra-rapid processing were obtained. You can see that it is.

【0173】[0173]

【発明の効果】本発明により、超迅速処理においても硬
調化を維持し、硬膜阻害を起こさず、かつ残色が少ない
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供することが
できた。
According to the present invention, it is possible to provide a method for processing a silver halide photographic light-sensitive material which maintains high contrast even in ultra-rapid processing, does not cause hardening inhibition, and has little residual color.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03C 5/26 G03C 5/26 5/30 5/30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03C 5/26 G03C 5/26 5/30 5/30

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ヒドラジン基の近傍にアニオン性基又は
ヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成するノニ
オン性基を有するヒドラジン系造核剤及びポリマーラテ
ックスを含有するハロゲン化銀写真感光材料を、自動現
像機で全処理時間が20〜60秒で処理するにあたり、
ハロゲン化銀乳剤層を有する側の総ゼラチン量(G)が
2.5g/m2以下であり、該総ゼラチン量(G)とポ
リマーラテックス(PL)の重量比が0.1≦PL/G
≦0.33であることを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。
1. A silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine-based nucleating agent having an anionic group or a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine in the vicinity of a hydrazine group, and a polymer latex, In the processing time of 20 to 60 seconds in the automatic processor,
The total gelatin amount (G) on the side having the silver halide emulsion layer is 2.5 g / m 2 or less, and the weight ratio of the total gelatin amount (G) to the polymer latex (PL) is 0.1 ≦ PL / G
≦ 0.33, a method for processing a silver halide photographic light-sensitive material.
【請求項2】 実質的にp−ジヒドロキシベンゼン系化
合物を含有しない、下記一般式〔A〕で表される化合物
を現像主薬とする現像液で処理することを特徴とする請
求項1記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 【化1】 〔式中、R1、R2は各々独立して置換又は未置換のアル
キル基、置換又は未置換のアミノ基、置換又は未置換の
アルコキシ基、置換又は未置換のアルキルチオ基を表
し、又R1とR2が互いに結合して環を形成してもよい。
kは0または1を表し、k=1のときXは−CO−また
は−CS−を表す。M1、M2は各々水素原子またはアル
カリ金属を表す。〕
2. The halogen according to claim 1, wherein the halogen is treated with a developing solution containing a compound represented by the following general formula [A] and containing substantially no p-dihydroxybenzene compound. Processing method of silver halide photographic light-sensitive material. Embedded image [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group; 1 and R 2 may combine with each other to form a ring.
k represents 0 or 1, and when k = 1, X represents -CO- or -CS-. M 1 and M 2 each represent a hydrogen atom or an alkali metal. ]
【請求項3】 ハロゲン化銀写真感光材料が帯電防止層
を有することを特徴とする請求項1又は2記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法。
3. The method for processing a silver halide photographic material according to claim 1, wherein the silver halide photographic material has an antistatic layer.
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