JPS62115151A - Silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material

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Publication number
JPS62115151A
JPS62115151A JP25454185A JP25454185A JPS62115151A JP S62115151 A JPS62115151 A JP S62115151A JP 25454185 A JP25454185 A JP 25454185A JP 25454185 A JP25454185 A JP 25454185A JP S62115151 A JPS62115151 A JP S62115151A
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JP
Japan
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group
latex
polymer
methacrylate
acrylate
Prior art date
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Pending
Application number
JP25454185A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noriiku Tachibana
範幾 立花
Eiichi Ueda
栄一 上田
Kosaku Masuda
功策 益田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPS62115151A publication Critical patent/JPS62115151A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings

Abstract

PURPOSE:To prevent the contamination of a developing soln. and a roller by incorporating latex having hydrophilic groups fixed on the surface and a nonionic surfactant into at least one of antistatic layers. CONSTITUTION:Latex having hydrophilic groups fixed on the surface and a nonionic surfactant are incorporated into at least one of antistatic layers. The latex is obtd. by converting latex into protective colloid with a polymer having hydrophilic groups or by allowing a compound having a hydrophilic group to take part in a latex forming reaction so that the compound is distributed on the surfaces of latex particles. The hydrophilic groups contribute toward stabilizing the latex. Any of synthetic and natural water soluble polymers may be used as the polymer having hydrophilic groups. Since the latex having hydrophilic groups fixed on the surface is used in combination with the nonionic surfactant, satisfactory antistatic properties are provided and the contamination of a roller is remarkably improved without exerting unfavorable influence on the photographic characteristics.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、良好な帯電
防止性を右りるハロゲン化銀写真感光材料に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly, to a silver halide photographic light-sensitive material that relies on good antistatic properties.

[発明の背m] ハロゲン化銀写真感光1ll(以下写真感光1.!l 
Eと呼ぶ。)は、一般に電気絶縁)1を右Jる支持体お
よび写真構成層1)11ら成っているので写真感光材料
の製造■稈中ならびに使用部に同種または巽種物質の表
面との間の接M;摩1寮または!III+ tJtをう
l:Jることによって静電電荷が蓄(tlされることが
多い、。
[Background of the invention m] Silver halide photographic exposure 1ll (hereinafter referred to as photographic exposure 1.!l)
Call it E. ) generally consists of an electrically insulating support (1) and a photographic constituent layer (1) 11, so there is no contact between the inside of the culm and the surface of the material used in the production of photographic light-sensitive materials. M; Mo 1 dormitory or! III+ By removing tJt, electrostatic charge is often stored (tl).

この蓄fi1された静雷電6jIは多くの障害を引起り
−が、最も重大な障害は現像処l1lj i;(に蓄積
された静電電荷が放電することに」:つて感光1り乳剤
層が感光し写真フィルムを現像処即しに際に点状スボッ
[・又は樹枝状や羽毛状の線斑を生ずることである。こ
れがいわゆるスタブ−ツクマークと呼ばれているもので
写真フィルムの商品1i1!i 1fffを著しく旧ね
る。例えば医療用又は工業相X−レイフィルム等に規わ
れた場合には非常に危険な判断につながってしまう。こ
の現象は現像して初めて明らかになるもので非常に厄介
な問題の一つで(6る。またこれらの蓄積された静電電
荷はフィルム表面への塵埃が付着したり、塗布が均一に
行なえないなどの第2次的な故障を誘起せしめる原因に
’b 4iる。
This accumulated electrostatic charge causes many problems, but the most serious problem is that the electrostatic charge accumulated in the developing process is discharged. When photographic film is exposed to light and subjected to processing, dot-like stub marks or dendritic or feather-like streaks occur. i 1fff becomes significantly obsolete.For example, if it is specified as a medical or industrial X-ray film, it will lead to a very dangerous judgment.This phenomenon becomes obvious only after development and is very troublesome. This is one of the major problems (6).In addition, these accumulated electrostatic charges can cause secondary failures such as dust adhesion to the film surface and uneven coating. b 4iru.

かかる静電電荷は前述したJ:うに写真感光材料の製造
および使用時にしばしば蓄積されるのであるが例えば製
造工程に於いては写真フィルムとローラーとの接触摩擦
あるいは写真フィルムの巻取リ、巻戻し工程中での支持
体面と乳剤面の分離等によって発生する。また仕上り製
品に於いては写真フィルムを巻取り切換えを行なった場
合のベース面と乳剤面との分離によって、またはX〜レ
イフィルムの自動撮影機中での機械部分あるいは蛍光増
感紙との間の接触分離等が原因となって発生覆る。その
他包装材料との接触などでも発生する。
Such electrostatic charges are often accumulated during the production and use of the above-mentioned photographic light-sensitive materials. This occurs due to separation of the support surface and emulsion surface during the process. In addition, in finished products, separation of the base surface and emulsion surface occurs when the photographic film is wound and changed, or between mechanical parts or fluorescent intensifying screens in automatic photographing machines for X-ray film. Occurs due to contact separation, etc. It can also occur due to contact with other packaging materials.

かかる静電電荷の蓄積によって誘起される写真感光材r
1のスタヂックマークは写真感光材料の感度の上背およ
び処理速度の増加によって顕著となる。
The photosensitive material r induced by the accumulation of such electrostatic charges
The static marks of No. 1 become more noticeable as the sensitivity of photographic materials increases and the processing speed increases.

特に最近においては、写真感光材料の高感度化および高
速塗布、高速撤影、高速自動現像処理化等の苛酷な取り
扱いを受ける機械が多くなったことによって−・層スタ
チックマークの発生が出易くなっている。
Particularly in recent years, as photographic materials have become more sensitive and more machines are subjected to harsh handling such as high-speed coating, high-speed removal, and high-speed automatic development processing, layer static marks are more likely to occur. It has become.

これらの静電気による障害をなくづためには写真感光材
オ′1に帯電防止剤を添加づ°ることが好ましい。しか
しながら、写真感光月利に利用できる帯電防止剤は、他
の分子Iで一般に用いられている帯電防止剤がそのまま
使用できる訳ではなく、写真感光材料に特有の種々の制
約を受()る。即らZj: T、’;j感光材料に利用
し1fする帯電防止剤には帯電防1ト性能が優れている
ことの111に、′5゛真感光祠i1の膜物性、耐接着
性に悪影71)を与えないこと、写真感光月利の処理液
の疲労を早めないこと、搬送ローラーを汚染しないこと
、写真感光材rN1の各構成層間の接着強度を低下させ
ないこと等々の性能が要求され、写真感光材料へ帯電防
止剤を適用づることは非常に多くの制約を受()る。
In order to eliminate these problems caused by static electricity, it is preferable to add an antistatic agent to the photographic photosensitive material O'1. However, the antistatic agents that can be used for photographic photosensitive materials cannot be the antistatic agents that are generally used in other molecules I, and are subject to various restrictions specific to photographic photosensitive materials. In other words, Zj: T, '; Performance requirements include not giving negative impressions (71), not accelerating the fatigue of the photographic photosensitive processing solution, not contaminating the conveyance roller, and not reducing the adhesive strength between the constituent layers of the photographic photosensitive material rN1. However, the application of antistatic agents to photographic materials is subject to numerous restrictions.

これらの静電気による障害をなくすための一つの方法は
、写真感光月利表面の電気伝導性を上げて、蓄積電荷が
放Ti1゛る前に静電電荷を短時間に逸散せしめるよう
にすることである。
One way to eliminate these problems caused by static electricity is to increase the electrical conductivity of the photosensitive surface so that the static charges can be dissipated in a short time before the accumulated charges are released. It is.

したがって、従来り日ら写真感光材r1の支持体や各種
塗布表面層の導電性を向1−さlる方法が考えられ種々
の吸湿性物質や水溶性ノ1((機端、ある種の界面活性
剤、ポリ7−等の利用が試みられてぎた。
Therefore, methods have been considered to improve the conductivity of the support and various coated surface layers of photographic photosensitive material R1, and various hygroscopic substances and water-soluble Attempts have been made to use surfactants such as poly7-.

この中で帯電防止能の」二で界面活性剤は小型であり例
えば、米国特許第3.(182,123号、同3,20
1,251号、同3.519.5(i1?i、同3. 
[i25.695号、西ドイツ特許第1,552,40
8号、同1,597,472号、特開昭49−8582
6号、同 53−129623号、同 54−1592
23号、同48−19213号、特公昭46−3931
2号、同49−11567号、同51−46755号、
同55−14417号等に記載されているアニオン、ベ
タインおよびカチオン界面活性剤、あるいは特開昭52
−80023号、西ドイツ特許第1,422.809号
、同1,422,818号、オーストラリア特V[第5
4.441号/1959等に記載のノニオン界面活性剤
が知られている。
Among these, surfactants with antistatic ability are small in size, and are described in US Patent No. 3, for example. (No. 182, 123, 3, 20
No. 1,251, 3.519.5 (i1?i, 3.519.5).
[i25.695, West German Patent No. 1,552,40
No. 8, No. 1,597,472, JP-A-49-8582
No. 6, No. 53-129623, No. 54-1592
No. 23, No. 48-19213, Special Publication No. 46-3931
No. 2, No. 49-11567, No. 51-46755,
Anionic, betaine and cationic surfactants described in JP-A No. 55-14417, etc., or JP-A-52
-80023, West German Patent No. 1,422.809, West German Patent No. 1,422,818, Australian Patent No.
Nonionic surfactants are known, such as those described in No. 4.441/1959.

しかしながらこれらの物質は、フィルム支持体の種類や
写真組成物の違いによって特異性を示しある特定のフィ
ルム支持体および写真乳剤やその他の写真構成要素には
良い結果を与えるが他の異なったフィルム支持体および
写真構成要素では帯電防止に全り1シに立たなかったり
、或いは、帯電防止性fQは優れていても、写真乳剤の
感度、カブリ、粒状性、シト−プネス等の写真特性に悪
影慴を及ぼしたり、現像処理液の汚染を生じたり、ロー
ラーヘイ1肴物を生じたりして、これらの物質を写真感
光月利に適用することは極めて困難であつた。
However, these materials exhibit specificity due to differences in film support type and photographic composition, giving good results for certain film supports and photographic emulsions and other photographic components, but not for other different film supports. The body and photographic constituent elements may not be at all good at preventing static electricity, or even if the antistatic property fQ is excellent, it may have a negative impact on photographic properties such as sensitivity, fog, graininess, and sitopness of the photographic emulsion. It has been extremely difficult to apply these materials to photographic photosensitive applications because they cause staining, contamination of the processing solution, and roller sludge.

又、ノニオン界面話vi剤を用いる帯電防1ト技術は、
併用される塗布剤とち密1徒に関係している。
In addition, antistatic technology using a nonionic interfacial talking agent is
It is closely related to the liniment used together.

しかしながら、それらは帯電防11−性能に於いては確
かに進歩は見られでいるが、現像処理液汚染性や搬送ロ
ーラーへの汚染は全く化1還されておらず、それが重大
なフィルム故障の原因どなっている。
However, although progress has certainly been made in terms of anti-static performance, the contamination of the developing processing solution and the contamination of the transport roller have not been reduced at all, which can lead to serious film failure. What is the cause?

例えば、特公昭5l−9G10号にホされているフェノ
ールホルマリン綜合物の酸化エヂレン付加重合体は種々
の塗布剤と(Jl用してムその帯電防Il:性11シに
優れている事が記載されている。しかしながら当該特許
の方法では、現像処理過程での汚染によるトラブルは解
決されない。
For example, the ethylene oxide addition polymer of phenol-formalin composite described in Japanese Patent Publication No. 51-9G10 has been described as having excellent anti-static properties when used with various coating agents. However, the method of the patent does not solve problems caused by contamination during the development process.

すなわち、搬送ローラー上の乾燥付着物が原因と考えら
れるローラー汚れは著しく悪く、フィルムの濃度ムラと
して問題である、。
In other words, the roller stains, which are thought to be caused by dry deposits on the transport rollers, are extremely bad and cause problems in terms of density unevenness in the film.

又、特開昭53−29715号、1Fil Go −7
G 741 YJには、特定のアニオン界面活性剤とポ
リオキシエチレン系ノニオン界面活性剤を含有する写真
感光材料が記載されているが、前)本の特許と同様に現
像処理液汚染や搬送ローラー汚染によるフィルム故障の
改良は得られない。
Also, JP-A-53-29715, 1Fil Go-7
G 741 YJ describes a photographic light-sensitive material containing a specific anionic surfactant and a polyoxyethylene nonionic surfactant, but as with the previous patent, there is a risk of contamination of the developing processing solution and contamination of the transport roller. No improvement in film failure can be obtained.

帯電防止性能を向」−させるもう一つの手段として含フ
ツ素界面活性剤を使用する事が知られている。この方法
は、フッ素基の負帯電性を利用してフィルムの発電性を
低減する事によりスタヂックマークの発生を減じる事に
ある。例えば英国特許第1.259.398号、米国特
許第Re −29,255号、同4.013,696号
、持分Uri48−43130号、特開l1u4B−5
2,223号、同50−16525号、同52−127
974号、同54−48520号、同55−25077
号等が挙げられる。
It is known that a fluorine-containing surfactant is used as another means of improving antistatic performance. This method utilizes the negative chargeability of fluorine groups to reduce the power generation performance of the film, thereby reducing the occurrence of static marks. For example, British Patent No. 1.259.398, U.S. Patent No. Re-29,255, U.S. Patent No. 4.013,696, Equity Uri No. 48-43130, and JP-A-11-4B-5.
No. 2,223, No. 50-16525, No. 52-127
No. 974, No. 54-48520, No. 55-25077
For example, the number etc.

又、特開昭60−76742号、同60−80849号
では含フツ素化合物とノニオン系界面活性剤を併用した
技術が開示されている。
Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-76742 and 60-80849 disclose techniques in which a fluorine-containing compound and a nonionic surfactant are used in combination.

しかし、これらの方法に従えばある場合には帯電性能の
向上は見られるが、そ処理過程で見られる諸問題、′?
lなわち処理液汚染によって生じる搬送ローラー汚染に
よる濃度ムラ、の解決はいまだ十分−Cない。
However, although improvements in charging performance can be seen in some cases by following these methods, there are various problems encountered in the processing process.
In other words, the problem of density unevenness caused by contamination of the transport roller caused by contamination of the processing solution has not yet been sufficiently resolved.

[発明の目的] 本発明の第1の目的(311、現!cQ処理液や、ロー
ラーの汚染等を起さず【こ]1好/I:帯電防止性を右
する写真感光材rlを提供りることにある。
[Object of the Invention] The first object of the present invention (311, current!) To provide a photographic photosensitive material RL that does not cause contamination of cQ processing liquids or rollers, etc., and has antistatic properties. It is in the fact that

本発明の第2のLf l+’v c、を減感等写す1特
竹に悪影ν5を与えることなく良’)「<1:帯雷防1
1−性を右Jる写真感光材料を提供J−ることにある。
The second Lf l+'v c of the present invention is good without giving any bad shadow ν5 to the special bamboo which desensitizes etc. '<1: Lightning protection 1
1- To provide photographic materials with excellent properties.

[発明の構成1 本発明の目的は支持体−Lに少なくとも一層の帯電防止
層を有する写真114成hηを設【)てイTるハロゲン
化銀写真感光月1′+1に、13いて、前記帯電防止層
の少なくとも一層には、親水性)1(が表面に固定され
ているラテックスおよびノニオン性界面活性剤が含有さ
れているハロゲン化銀17貞感光材料にJ:って達成さ
れた。
[Structure 1 of the Invention The object of the present invention is to provide a photographic film 114 having at least one antistatic layer on a support L, and to provide a silver halide photographic photosensitive layer 1'+1 with the above-mentioned At least one layer of the antistatic layer contains a latex and a nonionic surfactant on which hydrophilicity is fixed.

[発明の具体的構成] 本発明に於いて、親水性基がラテックスの表面以下余白 に固定δれるとは、ラテックスが親水性基を有するポリ
マーによって保護コロイド化されている状態、あるいは
、親水性基を有する化合物がラテックスの形成反応に関
与し、ラテックス粒子表面に配置されている状態をいい
、いずれもラテックスの安定化に寄与しているものであ
る。
[Specific Structure of the Invention] In the present invention, a hydrophilic group is fixed in the margin below the surface of latex, which means a state in which the latex is made into a protective colloid by a polymer having a hydrophilic group, or a hydrophilic group. This refers to a state in which a compound having a group participates in the latex formation reaction and is placed on the surface of the latex particle, and both contribute to the stabilization of the latex.

ラテックスが親水性基を有するポリマーによって保護コ
ロイド化されている状態とは、親水性基を有するポリマ
ーがラテックス表面に強く吸着し固定化されでいる状態
である。また、親水性基を有する化合物がラテックスの
形成反応に関与し、ラテックス粒子表面に配置されてい
る状態とは、親水性基を有する化合物(例えば、親水性
基を有するポリマー、分子構造中に親水性基及びエチレ
ン性二重結合の両方を有するポリマー、分子M4造中に
親水性基及びラジカルが連鎖移動し易い基を右づる化合
物等がある。)がラテックスの形成反応に関与し、該化
合物の一部がラテックスと共有結合して取り込れた状態
で固定されラテックス粒子表面に配置されている状態で
ある。
The state in which latex is converted into a protective colloid by a polymer having a hydrophilic group is a state in which the polymer having a hydrophilic group is strongly adsorbed and immobilized on the surface of the latex. In addition, the state in which a compound having a hydrophilic group participates in the latex formation reaction and is placed on the latex particle surface refers to a state in which a compound having a hydrophilic group (e.g., a polymer having a hydrophilic group, a hydrophilic compound in the molecular structure) There are polymers that have both ethylenic groups and ethylenic double bonds, and compounds that have hydrophilic groups and groups that are easily chain-transferred by radicals during the formation of molecules (M4), etc.) that participate in the latex formation reaction, and these compounds A part of the particles is covalently bonded to the latex and fixed on the surface of the latex particles.

親水基を有Jるポリマーに1.11合成水溶性ポリマー
と天然水溶性ポリマーどがあるが、本発明ではいずれも
好ましく用いることができる。このうち、合成水溶性ポ
リマーとしては、分子構造中に例えばノニオン性基を右
するもの、アニオン性基を有するもの並びにノニオン性
3′A及びアニオン性基を有するものが挙げ゛られる。
Polymers having hydrophilic groups include 1.11 synthetic water-soluble polymers and natural water-soluble polymers, both of which can be preferably used in the present invention. Among these, synthetic water-soluble polymers include those having, for example, nonionic groups, anionic groups, and nonionic 3'A and anionic groups in their molecular structures.

ノニオン性基としては、例えばエーテル基、エヂレンオ
キサイド基、ヒドロキシ基等があげられ、アニオン性基
としては、例えばスルボン酸基あるいはそのJR、カル
ボン酸基あるいはその塩、リンML1あるいはその塩、
等があげられる。また、天然水溶性ポリマーとしても分
子構造中に、例えばノニオン性基を有づるもの、アニオ
ン性基を有づるもの並びにノニオン性基及びアニオン性
基を右Jるものが挙げ′られる。
Examples of the nonionic group include an ether group, an ethylene oxide group, and a hydroxyl group, and examples of the anionic group include a sulfonic acid group or its JR, a carboxylic acid group or its salt, phosphorus ML1 or its salt,
etc. can be mentioned. Natural water-soluble polymers include those having, for example, nonionic groups, anionic groups, and nonionic and anionic groups in their molecular structures.

親水基を有するポリマーとしては、合成水溶性ポリマー
、天然水i8(!lポリマーのいずれの場合にも、アニ
オン性基を右ηるbの並びにノニオン性基及びアニオン
11基を右するbのが好ましく用いることができる。本
発明では、親水基を有するポリマーとは、20℃にお【
プろ水100gに対し0.05g以上溶解すればよく、
好ましくは0.1g以上のものである。
Polymers with hydrophilic groups include synthetic water-soluble polymers and natural water i8 (!l polymers), in which case b stands for the anionic group, and b stands for the nonionic group and the anion 11 group. It can be preferably used.In the present invention, a polymer having a hydrophilic group is defined as
It is sufficient to dissolve 0.05g or more in 100g of purified water.
Preferably it is 0.1 g or more.

合成水溶性ポリマーとしては、下記一般式[’]の繰り
返し単位をポリマー1分子中10〜100モル%含むも
のが挙げられる。
Examples of synthetic water-soluble polymers include those containing 10 to 100 mol% of repeating units represented by the following general formula ['] in one polymer molecule.

一般式[P] ■ 式中、R1は水素原子、アルキル基、好ましくは炭素原
子数1〜7!Iのアルキル基(置換基を有するものも含
まれる。例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基等)、ハロゲン原子(例えば塩素原子)または−C
82C00Mを表わし、I−は−CONH−1−N H
C0−1−COO−1−〇C0−1−CO−または一〇
−を表わし、Jはアルキレン基、好ましくは炭素原子数
1〜10のアルキレン基(置換基を右づるものも含まれ
る。
General formula [P] ■ In the formula, R1 is a hydrogen atom or an alkyl group, preferably having 1 to 7 carbon atoms! I's alkyl group (including those having substituents; for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), halogen atom (for example, chlorine atom) or -C
82C00M, I- is -CONH-1-NH
C0-1-COO-1-0C0-1-CO- or 10-, and J is an alkylene group, preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (including those with the right substituents).

例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメ
チレン基、ブヂレンL!、ヘキシレン基等)、アリーレ
ン基(買換基を右するしのも含まれる。
For example, methylene group, ethylene group, propylene group, trimethylene group, butylene L! , hexylene group, etc.), arylene group (also includes an exchangeable group).

例えばフェニレン基等)、または 一−CG  H2C,H20)Yローー−6CI−12
→7[=(mは0〜40の整数、nは0〜4の整数を表
わ一〇M、−NH2、−803M、−0−P−OM。
For example, phenylene group), or -CG H2C, H20) Y rho-6CI-12
→7[=(m is an integer from 0 to 40, n is an integer from 0 to 4, 10M, -NH2, -803M, -0-P-OM.

! 0M −CR2、水素原子またはR3を表ねずが、この0M 
    O ましく、−305Mが最も好ましい。Mは水素原子また
はカチオンを表わし、R2は炭素原子数1〜4のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等)を表わし、R3、R4、R5、R6、R7および
R8は炭素原子数1〜20のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デ
シル基、ヘキサデシル基等)を表わし、Xはアニオンを
表わし、またpおよびqはそれぞれOまたは1を表わす
! 0M -CR2, does not represent a hydrogen atom or R3, but this 0M
-305M is most preferred. M represents a hydrogen atom or a cation, R2 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), and R3, R4, R5, R6, R7 and R8 are represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, decyl group, hexadecyl group, etc.), X represents an anion, and p and q each represent O or Represents 1.

次に一般式[P]の合成水溶性ポリマーの具体例を挙げ
る。
Next, specific examples of the synthetic water-soluble polymer of general formula [P] will be given.

以下余白 SP−1数平均分子量Mn P−2 P−3 P−4 P−5 5P−6 SP−7 P−8 CH3 ■ P−10 CH3 ■ P−11 P−12 S P −14 P−15 !5 SP  17        CH。Margin below SP-1 number average molecular weight Mn P-2 P-3 P-4 P-5 5P-6 SP-7 P-8 CH3 ■ P-10 CH3 ■ P-11 P-12 SP-14 P-15 ! 5 SP 17 CH.

■ 5P−1,8 P−19 P−20 9,000 G S P −21 P−22 P−23 P−24 P−25 5P−26 SP−27 P−28 SP−29CH。■ 5P-1,8 P-19 P-20 9,000 G S P -21 P-22 P-23 P-24 P-25 5P-26 SP-27 P-28 SP-29CH.

「 P−30 P−31 o3Na 163.000 P−32 P−33 P−34 P−36 SP−37So   50   −fcH2−’CH÷
      7,3000OH CH’= 囃 5P−38,1060(CH2−CJ−2,,700■ OOH CI+。
"P-30 P-31 o3Na 163.000 P-32 P-33 P-34 P-36 SP-37So 50 -fcH2-'CH÷
7,3000OH CH'= Musical accompaniment 5P-38,1060 (CH2-CJ-2,,700■ OOH CI+.

5P−396040(CI(2−C→−4,800C0
0CHzCH2SO0Na CH。
5P-396040 (CI(2-C→-4,800C0
0CHZCH2SO0Na CH.

5P−47 本発明の合成水溶性ポリマーは、種々の溶液重合、塊状
重合、懸濁重合等の方法で容易に合成する事ができる。
5P-47 The synthetic water-soluble polymer of the present invention can be easily synthesized by various methods such as solution polymerization, bulk polymerization, and suspension polymerization.

例えば、溶液重合では一般に適当な溶剤(例えばエタノ
ール、メタノール、水等)中で適当な濃度のモノマーの
混合物(通常、溶剤に対して40重量%以下、好ましく
は10〜25重M%の混合物)を重合開始剤(例えば、
過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、過硫
酸アンモニウム等)の存在下で適当な温度(例えば40
〜120℃、好ましくは50〜100℃)に加熱する事
により共重合反応が行われる。その後、生成した水溶性
ポリマーを溶かさない媒質中に反応混合物を注ぎこみ、
生成物を沈降させ、ついで乾燥することにより未反応混
合物を分離除去する。本発明の水溶性ポリマーの分子量
は、i 、 ooo〜1.Goo、000゜好ましくは
、2,000〜200.000である。
For example, in solution polymerization, a mixture of monomers at an appropriate concentration (usually 40% by weight or less, preferably 10 to 25% by weight M% based on the solvent) in an appropriate solvent (e.g., ethanol, methanol, water, etc.) is generally used. a polymerization initiator (e.g.
benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, ammonium persulfate, etc.) at an appropriate temperature (e.g. 40°C).
The copolymerization reaction is carried out by heating to 120°C to 120°C, preferably 50 to 100°C. The reaction mixture is then poured into a medium that does not dissolve the water-soluble polymer produced.
The unreacted mixture is separated off by settling the product and then drying it. The molecular weight of the water-soluble polymer of the present invention is i, ooo to 1. Goo, 000° is preferably 2,000 to 200,000.

なお、本発明の水溶性ポリマーの分子量は、数平均分子
♀で表わし、測定は東洋曹達側製ゲルバーミエイション
クロマトグラフィ−HLC−802Aを用い標準ポリス
チレン換算でもとめた。
The molecular weight of the water-soluble polymer of the present invention is expressed in number average molecular weight (♀), and was measured in terms of standard polystyrene using Gel Vermeation Chromatography-HLC-802A manufactured by Toyo Soda.

合成例1(例示化合物5P−18) 3−スルホブ0ビルアクリレートカリウム塩50(] 
 (00,22モル、4./l’ −アゾビス(4−シ
アノバレインu)3.Oo、及び、脂気した水200、
Qを3つロフラスコに入れ、この混合液を80℃で8時
間反応さゼた。反応終了後、激しく撹拌しながら、多聞
のアセ1〜ン中に反応液を注ぎ込み、反応生成物を沈澱
さμだ。次いで、沈澱をろ過し、アセトンで洗浄、空気
中60℃で乾燥し、本発明のポリマー5P−18を得た
。収量は45g (理論収量の90%)、数平均分子市
は Mn冨 4,300であった。
Synthesis Example 1 (Exemplary Compound 5P-18) 3-Sulfobobyl acrylate potassium salt 50 (]
(00,22 mol, 4./l'-azobis(4-cyanovalein u) 3.00 and greasy water 200,
Three units of Q were placed in a flask, and the mixture was reacted at 80°C for 8 hours. After the reaction is completed, the reaction solution is poured into a large amount of acetic acid solution while stirring vigorously to precipitate the reaction product. Next, the precipitate was filtered, washed with acetone, and dried in air at 60°C to obtain polymer 5P-18 of the present invention. The yield was 45 g (90% of the theoretical yield), and the number average molecular weight was 4,300 Mn.

合成例2(例示化合物5P−21> スチレン52(+  (0,50モル)、アクリル酸3
6(1(0,50モル)、/1./I’−アゾビス(4
−シアツバレインM)5.0g、及び、脂気したエタノ
ール500戴を3つ目フラスコに入れ、この混合液を還
流下8時IFJ反応さUだ。反応終了後、激しく撹拌し
ながら、多足のアセトン中に注ぎ込み、後は、合成例1
と同様の処理をして、本発明のポリマー5P−21を得
た。収Sは80(+  (理論収量の91%)、数平均
分子量Mn = 2,600であった。
Synthesis Example 2 (Exemplary Compound 5P-21> Styrene 52 (+ (0.50 mol), Acrylic Acid 3
6 (1 (0,50 mol), /1./I'-azobis(4
- 5.0 g of Ciatsuvalein M) and 500 g of greasy ethanol were placed in a third flask, and the mixture was subjected to an IFJ reaction at 8 o'clock under reflux. After the reaction is complete, pour into a large amount of acetone while stirring vigorously, and proceed to Synthesis Example 1.
Polymer 5P-21 of the present invention was obtained by the same treatment as above. The yield S was 80 (+ (91% of the theoretical yield)), and the number average molecular weight Mn = 2,600.

合成例3(例示化合物5P−42) ヒドロキシエチルメタクリレート520(0,40モル
)、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン
酸ナトリウム137(](00,60モル、4.4’ 
−アゾビス(4−シアツバレインM)5.0g、及び、
脱気した水−エタノール−80/20Vχ溶液500−
を3つロフラスコに入れ、この混合液を80℃で10時
間反応させた。反応終了後、激しく撹拌しながら、多量
のアセトン中に反応液を注ぎ込み、反応生成物を沈澱さ
せた。
Synthesis Example 3 (Exemplary Compound 5P-42) Hydroxyethyl methacrylate 520 (0.40 mol), sodium 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonate 137 (] (00.60 mol, 4.4'
- 5.0 g of azobis (4-cyatubarein M), and
Degassed water-ethanol-80/20Vχ solution 500-
Three of these were placed in a flask, and the mixture was reacted at 80° C. for 10 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was poured into a large amount of acetone while stirring vigorously to precipitate the reaction product.

次いで沈澱をろ過し、アセトンで洗浄、空気中60℃で
乾燥し、本発明のポリマー5P−42を得た。収量は1
80g(理論収量の95%)で数平均分子量Mn = 
5,300であった。
Then, the precipitate was filtered, washed with acetone, and dried in air at 60°C to obtain polymer 5P-42 of the present invention. Yield is 1
Number average molecular weight Mn = 80g (95% of theoretical yield)
It was 5,300.

天然水溶性ポリマーとしては、水溶性高分子水分散型樹
脂の総合技術資料集(経営開発センター出版部)に詳し
く記載されているが、リグニン、澱粉、プルラン、セル
ロース、アルギン酸、デキストラン、デキストラン、グ
アーガム、アラビアゴム、グリコーゲン、ラミナラン、
リグニン、ニゲラン等、及びその誘導体がり7 :l 
L、い。
Natural water-soluble polymers are described in detail in the Comprehensive Technical Information Collection of Water-Soluble Polymer Water-Dispersible Resins (Management Development Center Publishing Department), but include lignin, starch, pullulan, cellulose, alginic acid, dextran, dextran, and guar gum. , gum arabic, glycogen, laminaran,
Lignin, nigeran, etc., and their derivatives 7:l
L, yes.

また、天然水溶性ポリマーの誘導体としては、特にスル
ホン化、カルボキシル化、リン酸化、スルホアルキレン
化、又はカルボ4ニジアル4:レン化、アルキルリン酸
化したもの、及びその3B、が好ましい。
Further, as derivatives of natural water-soluble polymers, sulfonated, carboxylated, phosphorylated, sulfoalkylenated, carbo4nidial4:renated, alkylphosphorylated derivatives, and 3B thereof are particularly preferable.

本発明において、天然水溶性ポリマーは2種以上併用し
て用いてもJ:い。
In the present invention, two or more natural water-soluble polymers may be used in combination.

また、天然水溶性ポリマーの中では、グルコース重合体
、及びその誘導体が1)Tましく、グルコース重合体、
及びその誘導体の中でも、Fl粉、グリコーゲン、セル
ロース、リグニン、デキストラン、ニゲラン等が好まし
く、特にデ:1−ス1〜ラン、及びその誘導体が好まし
い。
In addition, among natural water-soluble polymers, glucose polymers and their derivatives are 1) T-like, glucose polymers,
Among these, Fl powder, glycogen, cellulose, lignin, dextran, nigeran, etc. are preferable, and des:1-lan and its derivatives are particularly preferable.

デキストランは、α−1、6X’、”7合したD−グル
コースの重合体であり、一般に糖類の存在下で、デキス
トラン生産菌を培養することによって(qるが、Oイ]
ノストック、メゼンテロイデス等のデキストラン生産菌
の培養液より、分離したデキストランシュクラーゼを糖
類と作用させて得ることができる。また、これらのネイ
ティブデキストランを酸やアルカリ酵素による、部分分
解重合法によって、所望の分子量まで低下させ、極限粘
度が0.03〜2.5の範囲のものも得ることができる
Dextran is a polymer of α-1, 6X', and 7-conjugated D-glucose, and is generally produced by culturing dextran-producing bacteria in the presence of sugars.
Dextran sucrase isolated from the culture solution of dextran-producing bacteria such as Nostoc and Mesenteroides can be obtained by reacting with saccharides. In addition, these native dextran can be lowered to a desired molecular weight by a partial decomposition polymerization method using an acid or alkaline enzyme, and a product having an intrinsic viscosity in the range of 0.03 to 2.5 can be obtained.

また、デキストラン変性物とは、デキストラン分子中に
@酸基が、エステル結合で存在するデキストラン硫酸エ
ステル、及びその塩、デキストラン分子中にカルボキシ
アルキル基がエーテル結合で存在するカルボキシアルキ
ルデキストラン、デキストラン分子中に硫酸基がエステ
ル結合でカルボキシアルキル基がエーテル結合で存在す
るカルボキシアルキルデキストランhM ’Hエステル
、及びその塩、デキストラン分子中に燐酸基がエステル
結合して存在しているデキストラン燐酸エステル、及び
その塩、デキストラン分子中にハイドロオキシアルキル
基が尋人されたハイドロオキジアルキルデキストラン等
が挙げられる。
In addition, dextran modified products include dextran sulfate ester and its salts in which the @ acid group exists in the dextran molecule as an ester bond, carboxyalkyl dextran in which the carboxyalkyl group exists in the dextran molecule as an ether bond, and carboxyalkyldextran hM'H esters in which a sulfate group is present in an ester bond and a carboxyalkyl group in an ether bond, and salts thereof; dextran phosphate esters in which a phosphate group is present in a dextran molecule in an ester bond, and salts thereof. , hydroxyalkyldextran in which a hydroxyalkyl group is added to the dextran molecule.

ハロゲン化銀9頁感光14 IIに、これらのデキスト
ラン類を使用するのは特公昭35−11989号、米国
特許第3,762,924号、特公昭45−12820
号、同45−18418号、同45−40144)号、
同4(i−31192号に記載されているように公知で
あり、これらのデキストラン類をそのままハロゲン化銀
乳剤、またはゼラチン層に含有させて、現像された銀画
像の被覆力の改良や、最高濃度、コントラストを向上さ
せている。
The use of these dextrans in silver halide 9 page photosensitive 14 II is disclosed in Japanese Patent Publication No. 35-11989, U.S. Patent No. 3,762,924, and Japanese Patent Publication No. 12820-1973
No. 45-18418, No. 45-40144),
4 (I-31192), these dextrans are incorporated directly into a silver halide emulsion or a gelatin layer to improve the covering power of a developed silver image and to improve the coverage of the developed silver image. Improves density and contrast.

これらのデキストラン類とその誘導体の!iI造方法に
ついては、これらの特r目こ詳細に記載されている。
Of these dextrans and their derivatives! The II manufacturing method is described in detail in these special features.

これらデキストラン、及びその変性物の中で、特に好ま
しいのはラテックスの分散安定性の点で、アニオレ性j
が尋人された、デキストラン硫酸エステル、カルボキシ
アルキルデ4ニストラン硫酸エステル、デキストラン燐
酸エステルであり、中でもデキストラン硫酸エステルが
最も好ましい。
Among these dextrans and their modified products, particularly preferable are anioleic j
Among them, dextran sulfate, carboxyalkyl de-4-nistran sulfate, and dextran phosphate are the most preferred.

これらデキストラン生産菌の合成は、前述のデキストラ
ンを原料とし、ピリジンあるいはホルムアミドの如き塩
酸性有機溶媒の存在下において、クロルスルフォン酸な
どの硫酸化剤を反応させてデキストラン51エステルを
得ることができる。
These dextran-producing bacteria can be synthesized by using the aforementioned dextran as a raw material and reacting it with a sulfating agent such as chlorsulfonic acid in the presence of a hydrochloric acidic organic solvent such as pyridine or formamide to obtain dextran 51 ester.

さらに七ツク0)レカルボン酸等のカルボキシアルキル キストラン硫酸エステルが得られる。Furthermore, 0) carboxyalkyl such as lecarboxylic acid Quitran sulfate is obtained.

また、デキストランを原料として、アルカリ下でモノク
ロルカルボン酸等のカルボキシアルキル化剤と反応させ
て、カルボキシアルキルデキストランを得ることができ
る。さらに、これをピリジンあるいはホルムアミドの如
き塩基性溶媒の存在下で、クロルスルホン酸等の硫化剤
を反応させれば、やはりカルボキシアル1117128
921Mエステルを得ることができる。これに、ナトリ
ウム・カリウム等のアルカリ金属の酸化物、カルシウム
・マグネシウム等のアルカリ土金属の酸化物または水酸
化物、アンモニア等を反応さぜればそれぞれにデキスト
ラン硫酸エステル、カルボキシアルキル硫酸エステルの
塩が得られる。
Furthermore, carboxyalkyldextran can be obtained by using dextran as a raw material and reacting it with a carboxyalkylating agent such as monochlorocarboxylic acid in an alkaline environment. Furthermore, if this is reacted with a sulfurizing agent such as chlorosulfonic acid in the presence of a basic solvent such as pyridine or formamide, the carboxyl 1117128
921M ester can be obtained. If this is reacted with oxides of alkali metals such as sodium and potassium, oxides or hydroxides of alkaline earth metals such as calcium and magnesium, ammonia, etc., the resulting salts of dextran sulfate and carboxyalkyl sulfate, respectively. is obtained.

デキストランは無水グルコース単位当り置換される得る
水酸基が3個あるから、1![! H的には最大の置換
度が3までのIM !エステル基及びカルボキシアルキ
ル基を置換Jることかできるが、反応条件を選択するこ
とにJ:り置換度3以下の範囲において任意の置1g!
度のものを製造覆ることができる。
Dextran has three hydroxyl groups that can be substituted per anhydroglucose unit, so 1! [! In terms of H, the maximum degree of substitution is IM up to 3! The ester group and the carboxyalkyl group can be substituted, but the reaction conditions can be selected and any substitution can be made within the range of a degree of substitution of 3 or less.
It can be manufactured to a certain degree.

しかし、硫酸エステル基とカルボキシアルキル基の置換
度の和は3を越えることはできない。
However, the sum of the degrees of substitution of the sulfate ester group and the carboxyalkyl group cannot exceed 3.

このようにして製j告されるカルボキシアルキルデキス
トラン ボキシアルキルデキストラン硫酸エステルは、原料デキ
ストランの極限粘度及び(1−酸物の硫酸エステル置換
度とカルボ4−ジアルキル置換度の種々の組み合せによ
り多ITi類製造ツ゛ることができる。
The carboxyalkyldextran boxyalkyldextran sulfate ester produced in this manner can be produced by varying the intrinsic viscosity of the raw material dextran and by various combinations of the degree of substitution of the sulfate ester of the 1-acid and the degree of substitution of the carboxy-4-dialkyl ester. It is possible to manufacture similar products.

分子構造中に親水性基とエチレン性二重結合をもつポリ
マーどしては、例えば下記一般式[VI][Vt]また
は[■1で示される化合物を主成分とするポリマーであ
ることが望Jニジい。
As for polymers having a hydrophilic group and an ethylenic double bond in the molecular structure, it is desirable that the polymer has a compound represented by the following general formula [VI] [Vt] or [■1] as a main component. J Nijii.

ここで親水性基としては、親水性基を右するポリマーで
述べたものと同様のものが挙げられる。
Here, examples of the hydrophilic group include the same ones as those mentioned for the polymers that refer to the hydrophilic group.

一般式[Vi[] [式中、R1は21i!liの有機基、Ml は水素原
子または1価のカチオンを表わし、nlは30〜95モ
ル%、R2は70〜5モル%を表わす。コ一般式[W] C8 2 COOH3 M2 、Ms.M4およびM5はそれぞれ水素原子また
は1価のカブオンを表わし、R3は30〜95′Uニル
%、nlは70〜Oモル%、R5は70〜0モル%を表
わす。但し、nq+n5は70〜5モル%である。] 一般式[■] 彊 [式中、R’aは水素原子またはアルキル基、M6 、
My 、MsおよびM9はそれぞれ水素原子または1価
のカブオーンを表わし、R6は30〜70モル%、R7
は5〜50モル%、R8は70〜5モル%を表ねず。但
し、n7+n6は70〜30モル%である。1 次に、一般式[VI]、[■1および[■]について具
体的に説明すると、R1で表わされる2価の有機基とし
てはエヂレン、1へリメチレン、テトラメチレン、ヘキ
ナメヂレン、プロペニレン、3。
General formula [Vi[] [wherein R1 is 21i!] The organic group of li, Ml, represents a hydrogen atom or a monovalent cation, nl represents 30 to 95 mol%, and R2 represents 70 to 5 mol%. General formula [W] C8 2 COOH3 M2, Ms. M4 and M5 each represent a hydrogen atom or a monovalent cabone, R3 represents 30-95'U nyl%, nl represents 70-0 mol%, and R5 represents 70-0 mol%. However, nq+n5 is 70 to 5 mol%. ] General formula [■] R'a [wherein R'a is a hydrogen atom or an alkyl group, M6,
My, Ms and M9 each represent a hydrogen atom or a monovalent cabone, R6 is 30 to 70 mol%, R7
represents 5 to 50 mol%, and R8 represents 70 to 5 mol%. However, n7+n6 is 70 to 30 mol%. 1 Next, to specifically explain the general formulas [VI], [■1 and [■], the divalent organic group represented by R1 is ethylene, 1-herimethylene, tetramethylene, hequinamethylene, propenylene, and 3.

6−シオキサオクタンー1.8−ジイル、2.2−ジメ
チルトリメチレン、プロピレン、1.4−シクロヘキシ
レン等の脂肪族炭化水素の2価残基、又は1,2−ジク
ロ日エチレン、2−クロロトリメチレン、2−ブロムト
リメチレン、1−シアノメチルエチレン、1−クロロメ
チルエチレン、1−メトキシメチルエチレン、1−フェ
ノキシエチレンの様にハロゲン原子、シアノ基、アルキ
ルオキシ基、アリールオキシ基等で置換された脂肪族炭
化水素の2価残基、又は1.4−フェニレン、1.3−
t−リレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、2−シ
アノ−1,4−7エニレン、2−メトキシ−1,5−フ
ェニレン等の芳香族炭化水素の2価残基もしくはハロゲ
ン原子、シアノ基、アルキルオキシ基等で置換された芳
香族炭化水素の2価残基、又は、1.1’ −(1,4
−フェニレン)ジメチル、2.2’−(2−クロロ−1
,4−フェニレン)ジエチル、2.2’ −(2−シア
ノ−1,4−フェニレン)ジエチル等の脂肪族炭化水素
の2価残基もしくはハロゲン原子、シアノ基等で置換さ
れたアリール基と結合した脂肪族炭化水素の2価残基が
挙げられる。
Divalent residues of aliphatic hydrocarbons such as 6-thioxaoctane-1,8-diyl, 2,2-dimethyltrimethylene, propylene, 1,4-cyclohexylene, or 1,2-dichloroethylene, 2 -Halogen atoms, cyano groups, alkyloxy groups, aryloxy groups, etc., such as chlorotrimethylene, 2-bromotrimethylene, 1-cyanomethylethylene, 1-chloromethylethylene, 1-methoxymethylethylene, 1-phenoxyethylene, etc. or 1,4-phenylene, 1,3-
Divalent residues of aromatic hydrocarbons such as t-rylene, 2-chloro-1,4-phenylene, 2-cyano-1,4-7-enylene, 2-methoxy-1,5-phenylene or halogen atoms, cyano or 1.1'-(1,4
-phenylene) dimethyl, 2,2'-(2-chloro-1
, 4-phenylene) diethyl, 2,2'-(2-cyano-1,4-phenylene) diethyl, etc., or an aryl group substituted with a halogen atom, a cyano group, etc. Examples include divalent residues of aliphatic hydrocarbons.

Ml、M2 、M3.Mす、13よびM5は、水素原子
またはリチウム、ナI〜リウム、カリウムの様なアルカ
リ金属の1価のカチオン又はアンモニウムカヂオンを表
ねり。分子構造中に親水性基とエチレン性二重結合を右
J−るポリマーとしては一般式[VI]で表わされる化
合物がりTましい。
Ml, M2, M3. M, 13 and M5 represent a hydrogen atom, a monovalent cation of an alkali metal such as lithium, sodium to lithium, or potassium, or an ammonium cation. As a polymer having a hydrophilic group and an ethylenic double bond in its molecular structure, a compound represented by the general formula [VI] is preferable.

次に、本発明のポリマーの代表的具体例を以下に例示的
に列挙するがこれらに限定されるものではない。
Next, typical examples of the polymer of the present invention will be exemplified below, but the invention is not limited thereto.

」ズ下余白 (但し、nt : n2=50モル% : 50モル係
、数平均分子量(Mn)=約10.000)70モル%
、Mn=約6,000) 5モル係、Mn=約20,000) (但し、ro:n2=75モルチ:25モル係、Myt
−約20,000) (但し、ru:n2=50モルLl):50モル係、M
n−約25,000) D−7 (但し、旧:n2=30モル%ニア0モル係、My1=
約1=、000) M)−1=糺15,000) ■ CH2C0NHCH2CH25O3Na(但し、nl:
n2=:50モル%:50モル係、M+1−約2,00
0) Cl42CUONa CH2CONHC[2CI−T2 S 03 Na(但
し、nI : nl: )13==8Qモル%:10モ
ル%=10モル%、  Mれ=約6,000)CH2C
0NCH2C)(2sO3NaCH3 (但し、nl :nz=95モル%=5モルチ、Mh−
約3,000) :!、9 C011,lHCH2CH2S O3N a(但し、n
I : n2=50モyb% : 50モ、+L−%、
Mn=約10,000) CH3 (但し、nl: nl: ns =50モル% : 4
5モル% : 5モル%、R4n−約15,000) これらのポリマーの合成〃、IJ、特開昭55−502
40号に記載されている。
” lower margin (however, nt: n2 = 50 mol%: 50 mol coefficient, number average molecular weight (Mn) = approximately 10.000) 70 mol%
, Mn = approximately 6,000) 5 molar ratio, Mn = approximately 20,000) (However, ro: n2 = 75 molch: 25 molar ratio, Myt
- about 20,000) (ru: n2 = 50 moles Ll): 50 moles, M
n-about 25,000) D-7 (However, old: n2 = 30 mol% near 0 mol ratio, My1 =
Approximately 1=,000) M)-1=15,000) ■ CH2C0NHCH2CH25O3Na (however, nl:
n2=: 50 mol%: 50 mol ratio, M+1 - about 2,00
0) Cl42CUONa CH2CONHC[2CI-T2 S 03 Na (however, nI: nl: )13==8Q mol%: 10 mol%=10 mol%, Mre=about 6,000) CH2C
0NCH2C) (2sO3NaCH3 (however, nl:nz=95mol%=5molti, Mh-
Approximately 3,000) :! ,9 C011,lHCH2CH2S O3N a (however, n
I: n2=50 moyb%: 50 mo, +L-%,
Mn = approximately 10,000) CH3 (However, nl: nl: ns = 50 mol%: 4
5 mol%: 5 mol%, R4n-about 15,000) Synthesis of these polymersッ, IJ, JP-A-55-502
It is described in No. 40.

分子1i4造中に親水性基とラジカルが連鎖移動し易い
基を有する化合物の親水性基としては、親水性基を有す
るポリマーで′111べ/、: ’t、+のと同様なも
のが挙げられる。
Examples of the hydrophilic group of a compound having a group in which a hydrophilic group and a radical are easily chain-transferred in the structure of the molecule 1i4 include polymers having a hydrophilic group similar to those of '111be/, :'t, +'. It will be done.

また、ラジカルが連鎖移動し易い基とは、例えば重合性
不飽和化合物を重合する際に生じる重合開始剤ラジカル
、もしくは車合体成長鎖ラジカル等の活性点が移動し易
い基のことであり、好ましとができる。但し上記の基に
おいて、1では水素原子またはアルキル ニル基、R TLは水素原子またはアルキル基、カルボ
ニル基、Xは水素原子又はハロゲン原子である。
Furthermore, a group in which a radical is likely to undergo chain transfer refers to a group in which an active point is likely to transfer, such as a polymerization initiator radical generated during polymerization of a polymerizable unsaturated compound or a vehicle coalescence growing chain radical, and is preferable. I can do better. However, in the above groups, 1 is a hydrogen atom or an alkylnyl group, RTL is a hydrogen atom, an alkyl group, or a carbonyl group, and X is a hydrogen atom or a halogen atom.

これらの基が連鎖移動し易い基であることは、「共重合
−2−」高分子学会綿、1976年11月発行、381
頁に記載されている。そして、これらの基の中で一3H
1−NHR’ 、−10H2Brがさらに好ましく、−
8Hが最も好ましい。
The fact that these groups are easily chain-transferable is shown in "Copolymerization-2-", Polymer Science Society of Japan, Published November 1976, 381.
It is written on the page. And among these groups -3H
1-NHR', -10H2Br are more preferred, -
8H is most preferred.

連鎖移動し易い基は、親水性パラメーターπの値が負の
場合もある。この場合は、連鎖移動し易い基と親水性基
は同一でない方が好ましい。また、親水性基の数は1分
子中に少なくとも1個あればよく、1分子中に1〜4個
あるのが好ましく、1分子中に1〜2個あるのがさらに
好ましい。親水性基の数が1分子中に2個以上ある場合
は、親水性基は同一であっても、同一でなくてもよい。
Groups that are susceptible to chain transfer may have a negative value of the hydrophilic parameter π. In this case, it is preferable that the group that is susceptible to chain transfer and the hydrophilic group are not the same. Further, the number of hydrophilic groups may be at least 1 per molecule, preferably 1 to 4 per molecule, and more preferably 1 to 2 per molecule. When the number of hydrophilic groups is two or more in one molecule, the hydrophilic groups may or may not be the same.

また、1分子中に存在する連鎖移動し易い基の数は、少
なくとも1個あればよく、1〜3個が好ましく、1〜2
個が更に好ましい。
In addition, the number of groups that are easily chain-transferred in one molecule should be at least 1, preferably 1 to 3, and 1 to 2.
More preferably.

親水性基とラジカルが連鎖移動し易い基を1分子中に少
なくとも1個ずつ有する化合物は、一般式[T]で表わ
されるものが好ましい。
Preferably, the compound having at least one hydrophilic group and one group in each molecule that is susceptible to chain transfer of radicals is represented by the general formula [T].

一般式[T] (A−)、J→8)1 但し、一般式[王]中、Δは親水性基であり、詳細は前
述したとおりである。Bはラジカルが連鎖移動し易い基
であり、詳細は前)ボしたとおりである。mは1以上の
整数であり、好ましくは1〜4、さらに好ましくは1.
2である。口は1以上の整数であり、好ましくは1〜3
、さらに好ましくは1である。Jは八とB jfi J
を介して化学結合していれば何でもよいが、置換3.S
を右Jるものも含むアルキル基、買19!基を右するも
のも含むフェニレン基、置換基を右するものも含む複素
環基ならびにこれらが組み合4つされた基を挙げること
かできる。
General formula [T] (A-), J→8)1 However, in the general formula [K], Δ is a hydrophilic group, and the details are as described above. B is a group in which radicals are easily chain-transferred, and the details are as mentioned above. m is an integer of 1 or more, preferably 1 to 4, more preferably 1.
It is 2.口 is an integer of 1 or more, preferably 1 to 3
, more preferably 1. J is eight and B jfi J
Anything is acceptable as long as it is chemically bonded via substitution 3. S
Alkyl groups, including those with the right J, buy 19! Examples include a phenylene group including those having a substituent group, a heterocyclic group including a substituent group, and a group in which four of these are combined.

分子構造中に親水11基とラジカルが連鎖し易い基を有
する化合物の具体例としては、例えば以下の化合物T−
1〜化合物T−113を挙げることができる。
As a specific example of a compound having 11 hydrophilic groups and a group that is easily linked with a radical in its molecular structure, for example, the following compound T-
1 to Compound T-113.

以下余白 A、3 T−]、    ]HOOC!−CH:!−SE  T
−2HOOG−CH2−CH2−8HT−11HO−C
Hl 7,0H7GH2−NH−Co−0迅−19El
■ 0■ T−12HOOC−CHt −NI4−Co−OT]2
−8R”r−1<   (HOCzT(4)2N−b−
CIiz−3T4   T−15)%N−02H(−S
HT−20I(000−CH−CHz −8HH2SH 7−28       CH。
Below margins A, 3 T-], ]HOOC! -CH:! -S.E.T.
-2HOOG-CH2-CH2-8HT-11HO-C
Hl 7,0H7GH2-NH-Co-0xin-19El
■ 0■ T-12HOOC-CHt-NI4-Co-OT]2
-8R"r-1< (HOCzT(4)2N-b-
CIiz-3T4 T-15)%N-02H(-S
HT-20I (000-CH-CHz -8HH2SH 7-28 CH.

ツ T(OCIC−0−OH,−3H NH□ +−31C6H5T−22 HOOに−C−5H)1000−C,H4−502−C
JI、−C!H2−5HrBH5 ■−35烏03F−(Oi−12)、−5HT−36C
H3−〇−C1(、−5H丁−39Hooc−cI(!
−c■−su  T−4[I   N201S−(CH
ズ)、−8H6H5 T−41Na01S−(01%%−31−I T−42
Na03S−(CH2)4−8l(Ll(。
Tsu T (OCIC-0-OH, -3H NH□ +-31C6H5T-22 HOO -C-5H) 1000-C, H4-502-C
JI,-C! H2-5HrBH5 -35 Karasu03F-(Oi-12), -5HT-36C
H3-〇-C1(,-5H-d-39Hooc-cI(!
-c■-su T-4[I N201S-(CH
), -8H6H5 T-41Na01S- (01%% -31-I T-42
Na03S-(CH2)4-8l(Ll(.

7−4 g           C!−1,。7-4 g C! -1,.

HOoo−C)i、−C−37,1 CH3 0H。HOoo-C)i, -C-37,1 CH3 0H.

S OsN’Hz HC)0(’:       N?−i。S OsN’Hz HC) 0(': N?-i.

)100C T−74EOOC−(cat)4−CH−8HUS−C
H,−CH2 C,H,OH c、Hg                   I(
I C,H。
)100C T-74EOOC-(cat)4-CH-8HUS-C
H, -CH2 C,H,OH c,Hg I(
IC,H.

C□H3 T−97B rCHl C;!J2 C0OHT 98
   B r (OH2)30NT−99CH1rCH
2)tcHBrcOOHl −400’  Br(C;
H2)5C;0OHT”101  Br(C)(2人O
HT−102Br(GHz)tocclOHT−103
ct’cH,co冊、   T−104CI (CH2
)40HT−10507(CHz%0OOH丁−106
CICHt(GHz’)zooOHT−107c/rO
H,)、cooHT−1080,s、c*12NHcH
,CFI20H(、H−cH2 OOH v−nz  Hs +cEχCH,c喝SO宜H■−1
12   H8−CHxCHx ()−8on H丁−
,113C1(。
C□H3 T-97B rCHl C;! J2 C0OHT 98
B r (OH2)30NT-99CH1rCH
2) tcHBrcOOHl -400'Br(C;
H2)5C;0OHT”101 Br(C) (2 people O
HT-102Br(GHz)tocclOHT-103
ct'cH, co book, T-104CI (CH2
) 40HT-10507 (CHz%0OOH ding-106
CICHt (GHz') zooOHT-107c/rO
H, ), cooHT-1080,s, c*12NHcH
, CFI20H (, H-cH2 OOH v-nz Hs +cEχCH, c-exhaust SO-IH■-1
12 H8-CHxCHx ()-8on H-
, 113C1 (.

HOOC−C−CH,BH CH。HOOC-C-CH,BH CH.

以下余白 これらの化合物(1)〜(113)はいずれも公知化合
物であり、一部は特開昭54−133331号公報に記
載されているように暗着色および汚泥発生防止剤として
現像液に入れて使用されている。
The following margins These compounds (1) to (113) are all known compounds, and some of them are added to the developer as a dark coloring and sludge generation prevention agent as described in JP-A-54-133331. is used.

本発明において、ラテックスの表面に親水性基を有する
ポリマーを固定する方法としては、乳化重合でラテック
スを製造する際、重合の前に分散剤として重合系に添加
する方法、分散剤なしでラテックス製造後 添加する方
法がある。重合前に添加する方法では、添加した親水性
基を有するポリマーにグラフト重合が起こり、ラテック
ス粒子に取り込まれて固定され、親水性基を存するポリ
マーの末端がラテックス粒子の表面に出ている状態とな
る。又、重合後添加する方法では、親水性基を有するポ
リマーをラテックスに添加した際に加熱して60℃以上
で1時間部、F撹拌した後冷却して使用する。そうする
と単に混合されていたに過ぎなかった親水性基を有する
ポリマーがラテックス表面に強く吸着し固定化される。
In the present invention, methods for fixing a polymer having a hydrophilic group on the surface of latex include adding it to the polymerization system as a dispersant before polymerization when producing latex by emulsion polymerization, and producing latex without a dispersant. There is a way to add it afterwards. In the method of adding before polymerization, graft polymerization occurs on the added polymer having a hydrophilic group, which is incorporated into the latex particles and fixed, with the end of the polymer having a hydrophilic group exposed on the surface of the latex particle. Become. In addition, in the method of adding after polymerization, when the polymer having a hydrophilic group is added to the latex, it is heated and stirred at 60° C. or higher for 1 hour, followed by cooling and use. Then, the polymer having hydrophilic groups, which was merely mixed, is strongly adsorbed to the latex surface and becomes immobilized.

これは系の粘度左測定すると、加熱、冷却後は粘度が下
がるためM離の親水性基を有づ゛るポリマーの減少した
ことでわかる。本発明では重合前に添加するのがより好
ましい。
This can be seen from the fact that when the viscosity of the system is measured, the viscosity decreases after heating and cooling, resulting in a decrease in the amount of polymers having hydrophilic groups with M separation. In the present invention, it is more preferable to add it before polymerization.

本発明のラテックスは種々の方法で容易に製造すること
ができる。例えば、乳化■合法、あるいは溶液重合又は
椀状重合等で4びたポリマーを再分散する方法等がある
が、乳化重合法にJ:るものが好ましい。
The latex of the present invention can be easily produced by various methods. For example, there are the emulsion method, the method of redispersing the 4-dimensional polymer by solution polymerization, bowl polymerization, etc., but the emulsion polymerization method is preferred.

乳化重合法では、水を分散媒とし、水に対して10〜5
0重伍%のモノマーとモノマーに対して0.05〜5重
伍%の重合U1始剤、0.1〜20重岳%の水溶性ポリ
マーを用い、約30〜100℃、好ましくは60〜90
℃で3〜8時間撹拌下重合させることによって得られる
。七ツマ−の濃度、開始剤量、反応温度、時間等は幅広
くかつ容易に変更できる。
In the emulsion polymerization method, water is used as a dispersion medium, and the ratio of 10 to 5
Using 0% by weight of monomer, 0.05 to 5% by weight of polymerization U1 initiator to the monomer, and 0.1 to 20% by weight of a water-soluble polymer, the temperature is about 30 to 100°C, preferably 60 to 60°C. 90
It is obtained by polymerization under stirring at ℃ for 3 to 8 hours. The concentration of hexamer, the amount of initiator, the reaction temperature, time, etc. can be varied widely and easily.

本発明のラテックスに使用される親水性基を有するポリ
マーは、モノマーωに対し0.1〜20重B%使用され
るのが好ましいが、J:り好ましくは1〜15重伍%で
ある。
The polymer having a hydrophilic group used in the latex of the present invention is preferably used in an amount of 0.1 to 20% by weight, J: more preferably 1 to 15% by weight, based on the monomer ω.

本発明において、ラテックスの表面に分子構造中に親水
性基およびエチレン性二重結合を有するポリマーを固定
する方法としては、乳化重合でラテックスを製造する際
、重合の前に分散剤として重合系に添加する方法がある
In the present invention, as a method for fixing a polymer having a hydrophilic group and an ethylenic double bond in its molecular structure to the surface of latex, when producing latex by emulsion polymerization, it is added as a dispersant to the polymerization system before polymerization. There is a way to add it.

この場合、添加した分子構造中に親水性基およびエチレ
ン性二重結合を有するポリマーにグラフト重合が起こり
ラテックス粒子に取り込まれ、即ち、固定され分子構造
中に親水性基およびエチレン性二重結合を有する高分子
の末端がラテックス粒子の表面に出ているものと考えら
れる。
In this case, the added polymer having a hydrophilic group and an ethylenic double bond in its molecular structure undergoes graft polymerization and is incorporated into the latex particles. It is considered that the terminal end of the polymer having the above properties is exposed on the surface of the latex particle.

乳化重合法では、水を分散媒とし、水に対して10〜5
0重坦%のモノマーとモノマーに対して0.05〜5重
但%の重合開始剤、0.1〜20重量%の分子構造中に
親水性基およびエチレン性二重結合を有するポリマーを
用い、約30〜100’C1好ましくは60〜90’C
で3〜8R間撹拌下重合させることによって得られる。
In the emulsion polymerization method, water is used as a dispersion medium, and the ratio of 10 to 5
Using 0% by weight of monomer, 0.05 to 5% by weight of polymerization initiator, and 0.1 to 20% by weight of a polymer having a hydrophilic group and an ethylenic double bond in the molecular structure. , about 30-100'C1 preferably 60-90'C
It is obtained by polymerizing under stirring for 3 to 8R.

モノマーの濃度、開始剤量、反応温度、時間等は幅広く
かつ容易に変更できる。
Monomer concentration, initiator amount, reaction temperature, time, etc. can be varied widely and easily.

本発明のラテックスに使用される分子構造中に親水性基
およびエチレン性二用結合を有するポリマーは、モノマ
ー聞に対し0.1〜20重R%使用されるのが好ましい
が、J:り好ましくは1〜15重量%である。
The polymer having a hydrophilic group and an ethylenic divalent bond in its molecular structure used in the latex of the present invention is preferably used in an amount of 0.1 to 20% by weight relative to the monomers. is 1 to 15% by weight.

本発明において、ラテックスの表面に親水性基とラジカ
ルが連鎖移動し易い基を有する化合物を固定する方法と
しては、親水性基とラジカルが連鎖移動し易い基を有J
る化合物の存在下に重合性不飽和化合物を重合させる方
法がある。この方法により連鎖移動し易い基を介して重
合性不飽和化合物がこのラジカルと連鎖移動し易い基を
有する化合物に結合し分子中に親水性、基が導入された
重合体が得られる。
In the present invention, as a method for fixing a compound having a hydrophilic group and a group to which radicals can easily chain transfer to the surface of latex, J
There is a method of polymerizing a polymerizable unsaturated compound in the presence of a compound. By this method, a polymerizable unsaturated compound is bonded to the radical and a compound having a group that is easily chain-transferred via a group that is easily chain-transferred, thereby obtaining a polymer in which a hydrophilic group is introduced into the molecule.

そして親水性基おJ:びラジカルが連鎖移動し易い基を
一分子中に有する化合物は単独で用いるか二種類以上併
用し、配合mはラテックスを形成するビニル七ツマー1
00重債部に対してo、oooi〜0.5重量%が好ま
しく、J:り好ましくは0.001〜0.2重1%であ
る。
Compounds having a hydrophilic group, J: and a group to which radicals can easily undergo chain transfer in one molecule are used alone or in combination of two or more, and the blend m is the vinyl 7mer 1 that forms the latex.
o, oooi to 0.5% by weight is preferred, and J: more preferably 0.001 to 0.2% by weight based on the weight of 0.00 parts.

ラテックス製造の際には、通常分散剤として界面活性剤
が使用されるが、本発明においては使用しないのが好ま
しい。使用すると分散安定性を劣化させることが多い。
A surfactant is normally used as a dispersant during latex production, but it is preferable not to use it in the present invention. When used, dispersion stability often deteriorates.

開始剤としては、水溶性過酸化物(例えば過硫酸カリウ
ム、過硫酸アンモニウム等)、水溶性アゾ化合物(例え
ば2,2′−アゾビス−(2−アミジップOパン)−ハ
イドロクロライド等)°等を挙げることができる。
Examples of the initiator include water-soluble peroxides (e.g., potassium persulfate, ammonium persulfate, etc.), water-soluble azo compounds (e.g., 2,2'-azobis-(2-amizip-O-pan)-hydrochloride, etc.), etc. be able to.

本発明のラテックスを形成するエチレン性モノマー化合
物としては、例えばアクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類、ビニルエステル類、オレフィン類、スチ
レン類、クロトン酸エステル類、イタコン酸ジエステル
類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、
アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、
ビニルケトン類、どニル異部環化合物、グリシジルエス
テル類、不飽和ニトリル類、多官能上ツマー1各種不飽
和酸から選ばれる1F!または2梗以上を組合せた七ツ
マー化合物を挙げることができる。
Examples of the ethylenic monomer compounds forming the latex of the present invention include acrylic esters, methacrylic esters, vinyl esters, olefins, styrenes, crotonic esters, itaconic diesters, maleic diesters, fumaric acid diesters,
Acrylamides, allyl compounds, vinyl ethers,
1F selected from vinyl ketones, heterocyclic compounds, glycidyl esters, unsaturated nitriles, and polyfunctional upper 1 various unsaturated acids! Alternatively, a heptamer compound in which two or more strains are combined can be mentioned.

これらのモノマー化合物について更に具体的に示すと、
アクリル酸エステル類としては、メチルアクリレート、
■デルアクリレー1〜、n−プロピルアクリレート、イ
ソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレ−1〜、
イソブヂルアクリレート、5ec−ブチルアクリレ−1
〜、tart−ブチルアクリレート、アミルアクリレ−
h、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリ
レート、オクチルアクリレート、terL−Aクヂルア
クリレ−1〜、2−クロロエチルアクリレ−1・、2−
プロピルメタクリレート、4−クロ0ブチルアクリレー
ト、シアンエチルアクリレ−1−12−アセトキシエヂ
ルアクリレート、ジメチルアミノエヂルアクリレート、
ベンジルアクリレ−1−、メトキシベンジルアクリレ−
1〜、2−クロロシクロへキシルアクリレート、シクロ
へキシルアクリレート、フルフリルアクリレ−1〜、テ
トラヒドロフルフリルメクリレート、フェニルアクリレ
−1−12−ヒドロキシエチルアクリレ−1〜、5−ヒ
ドロキシベンプルアクリレ−1〜、2.2−ジメチルー
、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メトキシ
エチルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート
、2−エトキシエチルアクリレート、2−iso−プロ
ポキシアクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート
、2−(2−メトキシエトキシ)エチルアクリレート、
2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、ω
−メトキシポリエチレングリコールアクリレート(付加
モル数n=9)、1−ブロモ−2−メトキシエチルアク
リレート、1゜1−ジクロロ−2−エトキシエチルアク
リレート等が挙げられる。
More specifically, these monomer compounds are as follows:
Examples of acrylic esters include methyl acrylate,
■Dellacryl 1~, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate 1~,
Isobutyl acrylate, 5ec-butyl acrylate-1
~, tart-butyl acrylate, amyl acrylate
h, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, terL-A quartz acrylate-1-, 2-chloroethyl acrylate-1, 2-
Propyl methacrylate, 4-chlorobutyl acrylate, cyanethyl acrylate-1-12-acetoxyedyl acrylate, dimethylaminoedyl acrylate,
Benzyl acrylate 1-, methoxybenzyl acrylate
1-, 2-chlorocyclohexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, furfuryl acrylate-1-, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl acrylate-1-12-hydroxyethyl acrylate-1-, 5-hydroxybempuru Acryle-1-, 2.2-dimethyl-, 3-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-iso-propoxy acrylate, 2-butoxyethyl acrylate, 2 -(2-methoxyethoxy)ethyl acrylate,
2-(2-butoxyethoxy)ethyl acrylate, ω
Examples include -methoxypolyethylene glycol acrylate (additional mole number n=9), 1-bromo-2-methoxyethyl acrylate, 1°1-dichloro-2-ethoxyethyl acrylate, and the like.

メタクリル酸エステル類の例としては、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、n−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタ
クリレート、イソブチルメタクリレート、5ec−ブチ
ルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シク
ロへキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレ一
ト、スルホプロピルメタクリレート、N−エチル−N−
フェニルアミノエチルメタクリレート、2−(3−フェ
ニルプロピルオキシ)エチルメタクリレート、ジメチル
アミノフ1ツキジエチルメタクリレート、フルフリルメ
タクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート
、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、
ナフチルメタクリレート、2−ヒドロ4ニジエチルメタ
クリレート、4−ヒドロ4−シブデルメタクリレート、
トリエチレングリコールモノメタクリレ−1〜、ジプロ
ピレングリコールモノメタクリレ−i〜、2−メドキシ
エチルメタクリレ−1〜、3−メトキシブチルメタクリ
レート、2−アセ1〜キシエヂルメタクリレート、2−
アセトアセh 二l=シエヂルメタクリレート、2−工
1−キシニブルメタクリレート、2−1so−プロポ4
−シブデルメタクリレート、2−ブトキシエチ)Vメタ
クリ1ノーl−12−(2−メトキシエトキシ)エチル
メタクリレート、2−(2−エトキシエi〜4ニジ)エ
チルメタクリレート、2−(2−ブトキシエ1〜4−シ
)エチルメタクリレ−ト、ω−メトキシポリエチレング
リコールメタクリレート(付加モル数n=6)、アリル
メタクリレート、メタクリル酸ジメチルアミノエチルメ
チルクロライド塩などを挙げることができる。
Examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 5ec-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate,
amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate,
Chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, sulfopropyl methacrylate, N-ethyl-N-
Phenylaminoethyl methacrylate, 2-(3-phenylpropyloxy)ethyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, cresyl methacrylate,
Naphthyl methacrylate, 2-hydro 4-nidiethyl methacrylate, 4-hydro 4-sibdel methacrylate,
Triethylene glycol monomethacrylate-1~, dipropylene glycol monomethacrylate-i~, 2-medoxyethyl methacrylate-1~, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-acetyl methacrylate, 2-
Acetoacetyl=Siedyl methacrylate, 2-1-xynyl methacrylate, 2-1so-propo4
-Sibdel methacrylate, 2-butoxyethyl)V methacrylate 1-12-(2-methoxyethoxy)ethyl methacrylate, 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl methacrylate, 2-(2-butoxyethyl) 1-4- c) Ethyl methacrylate, ω-methoxypolyethylene glycol methacrylate (additional mole number n=6), allyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate methyl chloride salt, and the like.

ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビ
ニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブ
チレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテー
ト、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテ
ート、安息香酸ビニル、サリヂル酸ビニルなどが挙げら
れる。
Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxy acetate, vinyl phenylacetate, vinyl benzoate, vinyl salidylate, etc. can be mentioned.

またオレフィン類の例としては、ジシクロペンタジェン
、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロブレ
ン、ブタジェン、2.3−ジメチルブタジェン等を挙げ
ることができる。
Examples of olefins include dicyclopentadiene, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene,
Examples include vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chlorobrene, butadiene, 2,3-dimethylbutadiene, and the like.

スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレ
ン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルス
チレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン
、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチ
レン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、!ヘリフル
オロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルな
どが挙げられる。
Examples of styrenes include styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, chloromethylstyrene, methoxystyrene, acetoxystyrene, chlorstyrene, dichlorostyrene, bromstyrene, and more! Examples include helifluoromethylstyrene and vinylbenzoic acid methyl ester.

クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル
、クロ1〜ン酸ヘキシルなどが挙げられる。
Examples of crotonate esters include butyl crotonate, hexyl chlorate, and the like.

またイタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコ
ン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチ
ルなどが挙げられる。
Examples of itaconic diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, and dibutyl itaconate.

マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸
ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチルな
どが挙げられる。
Examples of maleic acid diesters include diethyl maleate, dimethyl maleate, dibutyl maleate, and the like.

フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジエ
チル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチルなどが挙げ
られる。
Examples of the fumaric acid diesters include diethyl fumarate, dimethyl fumarate, and dibutyl fumarate.

アクリルアミド類としては、アクリルアミド、メチルア
クリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリ
ルアミド、ブチルアクリルアミド、tert−ブチルア
クリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジ
ルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、
メ1〜キシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチ
ルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチル
アクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノ
エチルアクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエ
チル)アクリルアミドなど: メタクリルアミド類、例えば、メタクリルアミド、メチ
ルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピ
ルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ter
t−ブチルメタクリルアミド、シクロへキシルメタクリ
ルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチ
ルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド
、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメ
タクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチル
メタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド
、N−(2−アセトアセトキシエチル)メタクリルアミ
ドなど: アリル化合物、例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル
、ラウリン酸アリル、安息香酸アリルなど: ビニルエーテル類、例えば、メチルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキ
シエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニル
エーテルなど; ビニルケトン類、例えば、メチルビニルケトン、フェニ
ルビニルケ1−ン、メI〜キシエチルビニルケトンなど
: ビニル異部環化合物、例えば、ビニルピリジン、N−ビ
ニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビ
ニルトリアゾール、N−ビニルピロリドンなどニ グリシジルエステル類、例えば、グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレートなど;不飽和ニトリル類
、例えば、アクリロニトリル、メタクリレートリルなど
: 多官能性モノマー、例えば、ジビニルベンゼン、メチレ
ンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタクリ
レートなど。
Acrylamides include acrylamide, methylacrylamide, ethylacrylamide, propylacrylamide, butylacrylamide, tert-butylacrylamide, cyclohexylacrylamide, benzylacrylamide, hydroxymethylacrylamide,
Methyl-oxyethyl acrylamide, dimethylaminoethyl acrylamide, phenylacrylamide, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, β-cyanoethyl acrylamide, N-(2-acetoacetoxyethyl)acrylamide, etc.: Methacrylamides, e.g., methacrylamide, methylmethacrylamide , ethyl methacrylamide, propyl methacrylamide, butyl methacrylamide, ter
t-butylmethacrylamide, cyclohexylmethacrylamide, benzylmethacrylamide, hydroxymethylmethacrylamide, methoxyethylmethacrylamide, dimethylaminoethylmethacrylamide, phenylmethacrylamide, dimethylmethacrylamide, diethylmethacrylamide, β-cyanoethylmethacrylamide, N-(2-acetoacetoxyethyl) methacrylamide, etc. Allyl compounds, such as allyl acetate, allyl caproate, allyl laurate, allyl benzoate, etc. Vinyl ethers, such as methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl Vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, etc.; Vinyl ketones, such as methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, xyethyl vinyl ketone, etc.; Vinyl heterocyclic compounds, such as vinyl pyridine, N-vinylimidazole, N - Niglycidyl esters such as vinyloxazolidone, N-vinyltriazole, N-vinylpyrrolidone, etc., such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, etc.; Unsaturated nitriles, such as acrylonitrile, methacrylateryl, etc.; Polyfunctional monomers, such as divinylbenzene , methylene bisacrylamide, ethylene glycol dimethacrylate, etc.

更に、アクリル酸、メタクリル^り、イタコン酸、マレ
イン酸、イタコン酸モノアルキル、例えば、イタコン酸
モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モツプ
デルなど;マレイン酸モノアルキル、例えば、マレイン
酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノ
エチルなどニジトラコン酸、スチレンスルホン酸、ビニ
ルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイ
ルオキシアルキルスルホン酸、例えば、アクリ0イルオ
キシメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチルスル
ホン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン酸など:
メタクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えば、メ
タクリロイルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイル
オキシエチルスルボン酸、メタクリロイルオキシプロピ
ルスルホン酸など;アクリルアミドアルキルスルホン酸
、例えば、2−アクリルアミド−2−メチルエタンスル
ホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスル
ホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホ
ン酸など;メタクリルアミドアルキルスルホン酸、例え
ば、2−メタクリルアミド−2−メチルエタンスルホン
酸、2−メタクリルアミド−2−メチルプロパンスルホ
ン酸、2−メタクリルアミド−2−メチルブタンスルホ
ン酸などニアクリロイルオキシアルキルホスフェート、
例えば、アクリロイルオキシエチルボスフェート、3−
アクリロイルオキシプロピル−2−ホスフェートなど:
メタクリ日イルオキシアルキルホスフェート、例えば、
メタクリロイルオキシエチルホスフェート、3−メタク
リロイルオキシプロピル−2−ホスフェートなど:親水
基を2ケ有する3−7リロキシー2−ヒドロキシプロパ
ンスルホン酸ナトリウムなどが挙げられる。これらの酸
はアルカリ金属(例えば、Na 、になど)またはアン
モニウムイオンの塩であってもよい。さらにその他のモ
ノマー化合物としては、米1mI&許第3.459.7
90号、同第3,438,708号、同第3,554,
987号、同第4,215,195号、同第4,247
,673号、特U:1昭57−205735号公報明細
店等に記載されている架橋性モノマーを用いることがで
きる。このにうな架橋性モノマーの例として1;1、具
体的にはN−(2−アセトアセトキシエチル)アクリル
アミド、N−(2−(2−7セトアセトキシエトキシ)
エチル)アクリルアミド等を挙げることができる。
Furthermore, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, monoalkyl itaconates such as monomethyl itaconate, monoethyl itaconate, mozupdel itaconate, etc.; monoalkyl maleates such as monomethyl maleate, monoethyl maleate, etc. Niditoraconic acid such as monoethyl maleate, styrene sulfonic acid, vinylbenzyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, acryloyloxyalkylsulfonic acid, such as acryloyloxymethylsulfonic acid, acryloyloxyethylsulfonic acid, acryloyloxypropylsulfonic acid, etc.
Methacryloyloxyalkylsulfonic acids, such as methacryloyloxymethylsulfonic acid, methacryloyloxyethylsulfonic acid, methacryloyloxypropylsulfonic acid, etc.; acrylamide alkylsulfonic acids, such as 2-acrylamido-2-methylethanesulfonic acid, 2-acrylamido- 2-methylpropanesulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylbutanesulfonic acid, etc.; methacrylamide alkylsulfonic acid, such as 2-methacrylamido-2-methylethanesulfonic acid, 2-methacrylamido-2-methylpropanesulfonic acid , niacryloxyalkyl phosphates such as 2-methacrylamido-2-methylbutanesulfonic acid,
For example, acryloyloxyethyl bosphate, 3-
Acryloyloxypropyl-2-phosphate etc.:
Methacryloxyalkyl phosphates, e.g.
Methacryloyloxyethyl phosphate, 3-methacryloyloxypropyl-2-phosphate, etc.: Examples include sodium 3-7 lyloxy-2-hydroxypropanesulfonate having two hydrophilic groups. These acids may be salts of alkali metals (eg, Na, Ni, etc.) or ammonium ions. Furthermore, as other monomer compounds, rice 1 mI & permission No. 3.459.7
No. 90, No. 3,438,708, No. 3,554,
No. 987, No. 4,215,195, No. 4,247
, No. 673, Japanese Patent Application Publication No. 57-205735, and the like can be used. Examples of such crosslinking monomers include 1;1, specifically N-(2-acetoacetoxyethyl)acrylamide, N-(2-(2-7cetoacetoxyethoxy)
(ethyl) acrylamide, etc.

これらのモノマー化合物のうち、アクリル酸エステル類
、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、スチレ
ン類、オレフィン類が好ましく用いられる。
Among these monomer compounds, acrylic esters, methacrylic esters, vinyl esters, styrenes, and olefins are preferably used.

次に本発明のラテックスの合成例を挙げる。Next, an example of synthesis of the latex of the present invention will be given.

以王体白 合成例1 11のコルベンにN2ガスで脱気した蒸留水360i1
2と合成水溶性ポリ’?  (Sl〕−8)  4.5
gを入れ80℃にまで昇温する。これに蒸溜水5戴に溶
解した過硫酸アン[ニウム0.271Jを寸ばやく添加
し、そこにエチルアクリレ−1−90(lの混合物を約
1時間で滴下し滴下終了後ざらに4時間撹拌し反応する
。反応終了後、1時間水蒸気蒸留して未反応モノマーを
回収し、室温まで冷却、目的とするラテックスL−(1
)を10だ。粒径0.2μで数平均分子ffiMrl 
= 850,000であった。
Iohtai White Synthesis Example 1 Distilled water 360i1 degassed with N2 gas in 11 Kolben
2 and synthetic water-soluble poly'? (Sl]-8) 4.5
g and raise the temperature to 80°C. Immediately add 0.271 J of am[ium persulfate] dissolved in 5 volumes of distilled water, and dropwise add a mixture of 1-90 ethyl acrylate (l) over about 1 hour. After the addition is complete, stir roughly for 4 hours. After the reaction, the unreacted monomers are recovered by steam distillation for 1 hour, cooled to room temperature, and the desired latex L-(1
) is 10. Number average molecule ffiMrl with particle size 0.2μ
= 850,000.

合成例2 11のコルベンにN2ガスで脱気した蒸留水3601f
iと合成水溶性ポリマー(1)−1)  4.5(]を
入れ80℃にまで昇温する。これに蒸溜水5−に溶解し
た過硫酸アンモニウム0.27(lをすばやく添加し、
そこにエチルアクリレ−1〜90gを約1時間で滴下し
滴下終了後さらに4時間撹拌し反応する。反応終了後、
1時間水蒸気蒸留して未反応上ツマ−を回収し、室温ま
で冷却、目的とするラテックスL−(2)を得た。粒径
0.1μで数平均分子fftMn == 700,00
0であった。
Synthesis Example 2 Distilled water 3601f degassed with N2 gas in 11 Kolben
Add i and synthetic water-soluble polymer (1)-1) 4.5 () and raise the temperature to 80°C. To this, quickly add 0.27 (l) of ammonium persulfate dissolved in distilled water,
Thereto, 1 to 90 g of ethyl acrylate was added dropwise over about 1 hour, and after the dropwise addition was completed, the mixture was stirred for an additional 4 hours to react. After the reaction is complete,
Steam distillation was carried out for 1 hour to collect unreacted upper sludge, and the mixture was cooled to room temperature to obtain the desired latex L-(2). Particle size 0.1 μ and number average molecule fftMn == 700,00
It was 0.

合成例3 1fのコルベンにN2ガスで脱気した蒸留水36(h1
2とデキストランサルフエイト2.30を入れ80℃に
まで4瀉づる。これに蒸溜水5−に溶解した過硫酸アン
モニウム0.27Qをすばやく添加し、そこにブチルア
クリレート41スグレン49gアクリル酸0.9(Jの
混合物を約1時間かけて滴下し滴下終了後さらに4時間
撹拌し反応する。反応終了後、1時間水蒸気蒸留して未
反応モノマーを回収し、室温まで冷却、目的とするラテ
ックスL−(8)を得る。粒径0.25μで数平均分子
量1yln =  660,000であった。
Synthesis Example 3 Distilled water 36 (h1
Add 2.30% of dextran sulfate and 2.30% of dextran sulfate and heat to 80℃. To this, 0.27 Q of ammonium persulfate dissolved in distilled water was quickly added, and a mixture of 41 sugrene, 49 g of butyl acrylate, and 0.9 (J) of acrylic acid was added dropwise thereto over about 1 hour, and the mixture was further stirred for 4 hours. After the reaction is completed, steam distillation is performed for 1 hour to recover unreacted monomers, and the mixture is cooled to room temperature to obtain the desired latex L-(8). Particle size is 0.25μ, number average molecular weight is 1yln = 660, It was 000.

合成例4 1りのコルベンにN2ガスで脱気した蒸留水360 d
を入れ80℃まで昇温する。これに蒸溜水5’ vQに
溶解した過硫酸アンモニウム0.27(lをすばやく添
加し、そこにブヂルアクリレ−1−400スヂレン50
(Iの混合物を約1時間かけて滴下し、滴下終了後4時
間撹拌し反応づ−る。反応終了後、1時間水蒸気蒸留し
て未反応t−ツマ−を回収する。
Synthesis Example 4 360 d of distilled water degassed with N2 gas in one kolben
and raise the temperature to 80℃. To this, 0.27 (l) of ammonium persulfate dissolved in 5'vQ of distilled water was quickly added, and 50% of butyl acrylate-1-400 and styrene were added thereto.
(The mixture of I was added dropwise over about 1 hour, and after the completion of the addition, the mixture was stirred for 4 hours to allow the reaction to proceed. After the completion of the reaction, steam distillation was performed for 1 hour to recover unreacted t-sumer.

80℃に保ったまま、そこに合成水溶す![ポリマー(
D−1)5gを入れ2時間1鴛1’l’ した後、室温
まで冷却し目的のラテックス1−(15)を得た。
Dissolve the synthetic water there while keeping it at 80℃! [polymer(
After adding 5 g of D-1) and stirring for 2 hours, the mixture was cooled to room temperature to obtain the desired latex 1-(15).

粒径0,3μで数平均分子間Mn = 600,000
であった。
Number average intermolecular Mn = 600,000 with particle size 0.3μ
Met.

なお、数平均分子間は東汀曹達社製、ゲルパーミェーシ
ョンクロア1−グラフィl−I L C−802Aを用
い標準ポリスチレン換算でもとめ、粒径はコールタ−社
製コールタ−N4を用いて測定した。
In addition, the number average molecular weight was determined using Gel Permeation Chlor 1-Graph I L C-802A manufactured by Toyo Soda Co., Ltd. in terms of standard polystyrene, and the particle size was determined using Coulter N4 manufactured by Coulter Co., Ltd. It was measured.

合成例5 合成例1と同様に、合成水溶性ポリマーの替わりに親水
性基とラジカルが連鎖移動し易い基をもつ化合物下−3
9を0.03(l加えラテックス−(12)と合成した
。数平均分子間Mn =80,000、平均粒径は0.
2μmであった。
Synthesis Example 5 In the same manner as Synthesis Example 1, instead of the synthetic water-soluble polymer, a compound lower-3 having a hydrophilic group and a group to which radicals can easily undergo chain transfer was used.
9 was synthesized with latex (12) by adding 0.03 (l). Number average intermolecular Mn = 80,000, average particle size was 0.
It was 2 μm.

本発明者等は種々検討の結果上記本発明に係る親水性基
が表面に固定されているラテックスどノニオン性界面活
性剤を(Jl用することにより、良好な帯電防止性を有
しかつ写真特性に悪影響を与えることなく、しかもロー
ラー汚染が著しく改良されることを見い出した。
As a result of various studies, the present inventors have found that by using a latex nonionic surfactant (Jl) having a hydrophilic group fixed to the surface according to the present invention, it has good antistatic properties and photographic properties. It has been found that roller contamination is significantly improved without having any adverse effect on the product.

次に上記した本発明に係る親水性基が表面に固定されて
いるラテックスと併用されるノニオン性界面活性剤につ
いて説明する。
Next, the nonionic surfactant used in combination with the latex according to the present invention having a hydrophilic group fixed to its surface will be explained.

本発明に好ましく用いられるノニオン性界面活性剤とし
ては、下記一般式[N−I]、[N−n]および[N−
II]で表わされる化合物を挙げることができる。
Nonionic surfactants preferably used in the present invention include the following general formulas [N-I], [N-n] and [N-
II].

以下余白 一般式〔リーエ〕 3L、 −A + Cll2CJI、O→oJl一般式
〔西■〕 一般式〔g−工〕 つA 式中、R1は水素原子または炭素数1〜30のアルキル
基、アルケニル基またはアリール基を表わし、これらの
基はそれぞれ置換基を有するものも含まれる。R1は好
ましくは炭素数4〜24のアルキル基、アルケニル基、
アリール基であり、特に好ましくはヘキシル基、ドデシ
ル基、イソステアリル基、オレイル基、t−ブチルフェ
ニル基、2.4−ジ−t−ブチルフェニル基、2,4−
ジ−t−ペンデルフェニル基、p−ドデシルフェニル基
、m−ペンタデカフェニル基、t−オクチルフェニル1
.2.4−ジノニルフェニル基、オクヂルナノヂル基等
である。
The following is a blank general formula [Rie] 3L, -A + Cll2CJI, O→oJl General formula [West ■] General formula [g-] A In the formula, R1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, alkenyl represents a group or an aryl group, and each of these groups includes those having a substituent. R1 is preferably an alkyl group or alkenyl group having 4 to 24 carbon atoms,
Aryl group, particularly preferably hexyl group, dodecyl group, isostearyl group, oleyl group, t-butylphenyl group, 2,4-di-t-butylphenyl group, 2,4-
Di-t-pendelphenyl group, p-dodecylphenyl group, m-pentadecaffenyl group, t-octylphenyl 1
.. 2.4-dinonylphenyl group, ocdylnanodyl group, etc.

Aは一〇−1−S−1−COO−1−OCO−1−N−
Rlol−CO−N−Rloまたは換基を右するものも
含むアルキル基を示す。)を表わす。R2、R3、R7
およびR9は水素原子、アルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基
、アミド基、スルホンアミド基、カルバモイル ァモイル基を表わし、これらの);t IlそれぞれI
t置換基有するムのも含よれる。R l−、 、l’5
よびRotまアルキル基、アリール1、(、アル−1:
1シ阜、アリールオキシ基、ハロゲンII;(了、アシ
ル基、アミド基、スルホンアミド基、カルバ[イル11
(またはスルファモイル基を表わし、これらの基はそれ
ぞれ置換基を有するものも含まれる。
A is 10-1-S-1-COO-1-OCO-1-N-
Rlol-CO-N-Rlo or an alkyl group including a substituent. ). R2, R3, R7
and R9 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an acyl group, an amide group, a sulfonamide group, or a carbamoyllamoyl group;
Also included are those having a t substituent. R l-, , l'5
and Rotma alkyl group, aryl 1, (, al-1:
1, aryloxy group, halogen II;
(or represents a sulfamoyl group, and each of these groups includes those having a substituent.

R6およびR8は好ましくは炭素数1〜20のアルキル
基、フェニル基、p−クロロフェニル基等の7リール基
、−OR+5(ここで1テ15は炭素数1〜20のアル
キル基=1、たはアリール基を示し、これらの基は置換
基を右ザるものら含まれる。以下同様である。)で表わ
されるアルコキシ基およびアリールオキシ基、塩素原子
、臭素原子等のハロゲン原子、− C O R 15で
表わされるアシル基、− N R 16C O R +
5 (ここでR 16は水素原子または炭素数1〜20
のアルキル基を示ザ。以下同様である。)で表わされる
アミド基、 一NR+sSO2[+sで表わされるスルホンアミド基
である。これらのうち、R6およびR8はさらに好まし
くはアルキル基またはハロゲン原子であり、最も好まし
くはt−ブヂル基、t−アミル基、し−オークデル基等
の3級アルキル基である。
R6 and R8 are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a 7-aryl group such as p-chlorophenyl group, -OR+5 (where 1te15 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms=1, or represents an aryl group, and these groups include those containing substituents (the same shall apply hereinafter), halogen atoms such as chlorine atoms and bromine atoms, -C O R Acyl group represented by 15, -N R 16C O R +
5 (here, R 16 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 20
The alkyl group is shown below. The same applies below. ), and a sulfonamide group represented by -NR+sSO2[+s. Among these, R6 and R8 are more preferably an alkyl group or a halogen atom, and most preferably a tertiary alkyl group such as a t-butyl group, a t-amyl group, or a thi-Oucdel group.

R2 、Ra 、R7およびR9は好ましくは水素原子
または上記のR6およびR8の好ましいものとして挙げ
た基である。これらのうち、R7およびR9は特に水素
原子が好ましい。
R2, Ra, R7 and R9 are preferably hydrogen atoms or the groups listed above as preferred R6 and R8. Among these, R7 and R9 are particularly preferably hydrogen atoms.

R4およびR5は水素原子、アルキル基またはアリール
基を表わし、これらの基は置換基を有するものも含まれ
るllR4およびR5として特に好ましくは水素原子、
炭素数1〜8のアルキル基、7■ニルJ4、フリル基等
である。
R4 and R5 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and these groups include those having substituents. Particularly preferred as R4 and R5 are hydrogen atoms,
These include alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, 7-nyl J4, furyl groups, and the like.

R4どR5、R6どR7およびR8とR9は互いに連結
して環、例えばシフ[]ヘキシル環を形成してもよい。
R4, R5, R6, R7, and R8 and R9 may be linked to each other to form a ring, for example, a Schif[]hexyl ring.

また、一般式[ N−II Jで)1ニル環の置換基は
左右非対称でムJ、い。
Furthermore, in the general formula [N-II J], the substituent on the 1-nyl ring is left-right asymmetrical.

nl、R2、R3おにびnlはエチレンオキリ“イドの
平均付加モル故でイちつて2〜50の数であり、特に好
ましくは5〜3017)数である。R3と04は同じで
も異なってもJこい。
nl, R2, R3 nl is a number from 2 to 50, particularly preferably from 5 to 3017), because of the average added mole of ethylene oxylide.R3 and 04 may be the same or different. J Koi.

mは2〜50の整数である。m is an integer from 2 to 50.

これらの化合物は例えば米国特許第2,982,651
号、同3, 428. 45(i号、同3, 457,
 07C号、同3, 454、625号、同3, 55
2, 972号、同3, 655, 387号、特公昭
51−9610号、特開昭53−29715号同54−
89626号、特願昭57−85764号、特願昭57
−9o9o9q、堀口博著「新界面活性剤」 (三共出
版1915年)等に記載されている。
These compounds are described, for example, in U.S. Pat. No. 2,982,651.
No. 3, 428. 45 (No. i, 3, 457,
No. 07C, No. 3, 454, 625, No. 3, 55
No. 2,972, No. 3,655, 387, Japanese Patent Publication No. 51-9610, Japanese Patent Publication No. 53-29715 No. 54-
No. 89626, Patent Application No. 85764, Patent Application No. 1983
-9o9o9q, "New Surfactant" by Hiroshi Horiguchi (Sankyo Publishing, 1915), etc.

次に本発明に好ましく用いられるノニオン界面活性剤の
具体例を示す。
Next, specific examples of nonionic surfactants preferably used in the present invention will be shown.

化合物例 以下余白 N−1 HO+CH2CF20+2H HO+CH2CH2O+1oH CI7H33C00+CHz CH20+t5HC8H
170+CH2CH2O+7H C12H250+CH2CH2O+1oHC16H33
0+CH2CH2O+12Ha +1)=  15 a + b = 20 C12H25S)+CH2CH20+H6HC+2H2
sO+CHCHzO+3(CH2CH20+15HCH
3 CH2CH20+ CH2CH20+1□HN −25
C,J−T9 0+CI71.2 Cl−120サー、 、 HN−2
8 N−29 −3O CI2H25Cl2H25 CsH+7−t   CsH+7−t −4O N−44 C6H11−t     Ustlll−L本発明にお
いては前記本発明に係る親水性基が表面に固定されてい
るラテックスはノニオン性界面活性剤と共にハロゲン化
銀写真感光材料の帯電防止層に含有さUるものであるが
、本発明の帯電防止層としてはハ[1ゲン化銀乳剤層と
同じ側の下塗り層、中間層、表面保護層、オーバーコー
トしハロゲン化銀乳剤層と反対側のバック層等が挙げら
れ、この内特に表面保護層、オーバーコート層及びバッ
ク層等の表面層が好ましい。
Compound example below margin N-1 HO+CH2CF20+2H HO+CH2CH2O+1oH CI7H33C00+CHz CH20+t5HC8H
170+CH2CH2O+7H C12H250+CH2CH2O+1oHC16H33
0+CH2CH2O+12Ha +1) = 15 a + b = 20 C12H25S)+CH2CH20+H6HC+2H2
sO+CHCHzO+3(CH2CH20+15HCH
3 CH2CH20+ CH2CH20+1□HN -25
C, J-T9 0+CI71.2 Cl-120 sir, , HN-2
8 N-29 -3O CI2H25Cl2H25 CsH+7-t CsH+7-t -4O N-44 C6H11-t Ustllll-L In the present invention, the latex according to the present invention on which the hydrophilic group is fixed on the surface is a nonionic surfactant. The antistatic layer of the present invention includes a subbing layer, an intermediate layer, and a surface protective layer on the same side as the silver halide emulsion layer. , an overcoat back layer on the side opposite to the silver halide emulsion layer, etc. Among these, surface layers such as a surface protective layer, an overcoat layer, and a back layer are particularly preferred.

本発明のノニオン性界面活性剤の使用量は、使用する写
真感光材料の形態、種類又は塗布方式等によって異なる
が、一般には写真感光材料112当り0.1〜1,00
0mgでJ:り特に0.5〜200mgが好ましい。
The amount of nonionic surfactant used in the present invention varies depending on the form, type, coating method, etc. of the photographic material used, but is generally 0.1 to 1,000 per 112 parts of the photographic material.
J: 0 mg, particularly preferably 0.5 to 200 mg.

本発明のノニオンf1.界面活性剤を含有する層あるい
は他の層に別の帯電防止剤を併用することもでき、こう
することにJ:ってさらに好ましい帯電防止効果を得る
ことができる。
Nonion f1 of the present invention. It is also possible to use another antistatic agent in the surfactant-containing layer or other layers, and by doing so, a more preferable antistatic effect can be obtained.

本発明に係る親水性基が表面に固定されているラテック
スは、そのままもしくは水に分散させて帯電防止層に添
加することができる。該ラテックスの添加量は添加され
る帯電防止層のバインダー100重量部に対して10〜
60重量部添加するのがよい。
The latex according to the present invention on which a hydrophilic group is fixed can be added to the antistatic layer as it is or after being dispersed in water. The amount of the latex added is 10 to 100 parts by weight of the binder of the antistatic layer added.
It is preferable to add 60 parts by weight.

帯電防止層のバインダーとしては本発明に係る親水性基
が表面に固定されているラテックスにゼラチン、ゼラチ
ン誘導体を併用してもさしつかえない。
As a binder for the antistatic layer, gelatin or a gelatin derivative may be used in combination with the latex according to the present invention on which a hydrophilic group is fixed on the surface.

ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、プリテン・
オブ・ザ・ソサエティ・オブ・サイエンティフィック・
フォトグラフィー・オブ・ジャパン(Bull 、5o
c1Sci、 Phot 、 Japan、)No、1
6.30頁(1966)に記載されたような酸素処理ゼ
ラチンを用いてもよく、又ゼラチンの加水分解物や酵素
分解物も用いることができる。ゼラチン誘導体としては
、ゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イソシアナ
ート類、ブロモ酢酸、アルカンサルトン類、ビニルスル
ホンアミド類、マレインイミド化合物類、ポリアルキレ
オンキシド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を反応
させて得られるものが用いられる。その具体例は米国特
許第2,614,928に3、同3.132.945号
、同3.186、846号、同3,312,553号、
英国特許861,414号、同1.033.189号、
同1 、005 、784号、持分N7112−268
45号などに記載されている。
In addition to lime-treated gelatin, gelatin
of the society of science
Photography of Japan (Bull, 5o
c1Sci, Phot, Japan,) No. 1
Oxygen-treated gelatin such as that described on page 6.30 (1966) may be used, and gelatin hydrolysates and enzymatically decomposed products may also be used. Examples of gelatin derivatives include gelatin and various compounds such as acid halides, acid anhydrides, isocyanates, bromoacetic acids, alkanesultones, vinyl sulfonamides, maleimide compounds, polyalkyleonoxides, and epoxy compounds. The product obtained by reacting is used. Specific examples thereof include U.S. Patent No. 2,614,928, No. 3, U.S. Pat.
British Patent No. 861,414, British Patent No. 1.033.189,
1, 005, No. 784, Equity N7112-268
It is described in No. 45 etc.

本発明のハロゲン化銀乳剤には、ハロゲン化銀として臭
化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、および塩化銀等
の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用
いる事ができる。
The silver halide emulsion of the present invention includes any silver halide used in conventional silver halide emulsions, such as silver bromide, silver iodobromide, silver iodochloride, silver chlorobromide, and silver chloride. can be used.

また、ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロ
ゲン化銀組成分布を右するものでも、粒子の内部と表面
層とでハロゲン化銀組成が異なるコア/シェル粒子であ
ってもJ:り、また、潜像が主として表面に形成される
ような粒子であってもよく、また主として粒子内部に形
成されるような粒子でもよい。
Furthermore, silver halide grains may have a uniform silver halide composition distribution within the grain, or may be core/shell grains in which the silver halide composition differs between the inside and the surface layer of the grain. Further, the particles may be particles in which the latent image is mainly formed on the surface, or may be particles in which the latent image is mainly formed inside the particle.

本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、立方体、八面体、十四面体のような規則的な結晶
形を持つものでもJ:いし、球状や板状のような変則的
な結晶形を持つものでもよい。
The silver halide grains used in the silver halide emulsion of the present invention may have regular crystal shapes such as cubes, octahedrons, and tetradecahedrons, or irregular crystal shapes such as spherical or plate shapes. It may also have a crystalline form.

これらの粒子において、(100)面と(111)面の
比率は任意のものが使用できる。又、これら結晶形の複
合形を持つものでもよく、様々な結晶形の粒子が混合さ
れてもよい。
In these particles, any ratio of the (100) plane to the (111) plane can be used. Further, the particles may have a composite form of these crystal forms, or particles of various crystal forms may be mixed.

ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズ(粒子サイズは投影
面積と等しい面積の円の直径を表す)は、5μ−以下が
好ましいが、特に好ましいのは3μm以下である。
The average grain size of the silver halide grains (grain size represents the diameter of a circle with an area equal to the projected area) is preferably 5 μm or less, particularly preferably 3 μm or less.

本発明のハロゲン化銀乳剤は、いかなる粒子サイズ分布
を持つものを用いても構わない。粒子サイズ分布の広い
乳剤(多分散乳剤と称する)を用いてもよいし、粒子サ
イズ分布の狭い乳剤(単分散乳剤と称する。ここでいう
単分散乳剤とは、粒径の分布の標準偏差を平均粒径で割
ったときに、その値が0.20以下のものをいう。ここ
で粒径は球状のハロゲン化銀の場合はその直径を、球状
以外の形状の粒子の場合は、その投影像を同面積の円像
に換算したときの直径を示す。)を単独又は数種類混合
してもよい。又、多分散乳剤と単分散乳剤を混合して用
いてもよい。
The silver halide emulsion of the present invention may have any grain size distribution. An emulsion with a wide grain size distribution (referred to as a polydisperse emulsion) may be used, or an emulsion with a narrow grain size distribution (referred to as a monodisperse emulsion). A particle with a value of 0.20 or less when divided by the average grain size.The grain size is the diameter in the case of spherical silver halide, and the projection of the grain in the case of grains with a shape other than spherical. This indicates the diameter when the image is converted into a circular image with the same area.) may be used alone or in combination. Further, a mixture of a polydisperse emulsion and a monodisperse emulsion may be used.

本発明のハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した2種以上
のハ1]グン化3[(乳剤を85合して用いてらよい。
The silver halide emulsion of the present invention may be a combination of two or more separately formed silver halide emulsions.

本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感する
ことができる。叩I5、硫黄増感法、セレン増感法、還
元増感法、金その他の負金属化合物を用いる貴金属増感
法などを単独で又は組み合わせて用いることができる。
The silver halide emulsion of the present invention can be chemically sensitized by conventional methods. I5, sulfur sensitization, selenium sensitization, reduction sensitization, noble metal sensitization using gold or other negative metal compounds, etc. can be used alone or in combination.

また、ハロゲン化銀乳剤層には色素形成カプラーを含有
させてカラー感光材料どしてもよい。
Further, a color light-sensitive material may be prepared by containing a dye-forming coupler in the silver halide emulsion layer.

[発明の実施例1 以下、本発明を実施例により更に説明するが、本発明は
この実施例に限定されるものではない。
[Example 1 of the Invention The present invention will be further explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例1 (1)試料の調整 下塗りを施した厚さ 180μのポリエブレンテレフタ
レートフィルム支持体上に、下記組成のハロゲン化銀乳
剤層を塗布し、更にその上に下記組成の保護層を塗布し
、乾燥して白黒ハロゲン化銀感光材料を調整した。保護
層には本発明のノニオン性界面活性剤とラテックスは又
は比較用ラテックスを添加した。
Example 1 (1) Preparation of sample A silver halide emulsion layer having the following composition was coated on an undercoated polyethylene terephthalate film support having a thickness of 180 μm, and a protective layer having the following composition was further coated on top of it. and dried to prepare a black and white silver halide photosensitive material. The nonionic surfactant and latex of the present invention or a comparative latex were added to the protective layer.

(乳剤層) 厚さ:5μ 組成 ゼラチン        2.5g/m2沃臭化
銀(沃化銀1.5モル%)     5(1/TI’1
−フェニル−5−メルカプト テトラゾール          25m(1/12(
保護層) 厚さ:約1μ 組成及び塗布量 ゼラチン           Q、9(1/1112
2.6−ジクロル−6− ヒドロキシ−1,3,5− トリアジンナトリウム塩     10mo/n2本発
明のラテックス又は 比較用ラテックス       o、ggフイノニオン
性界面活性剤      40mg/m2表面固定化合
物は、七ツマー量に対する重量%で示した。
(Emulsion layer) Thickness: 5μ Composition Gelatin 2.5g/m2 Silver iodobromide (silver iodide 1.5 mol%) 5 (1/TI'1
-Phenyl-5-mercaptotetrazole 25m (1/12(
Protective layer) Thickness: Approximately 1μ Composition and coating amount Gelatin Q, 9 (1/1112
2.6-Dichloro-6-hydroxy-1,3,5-triazine sodium salt 10 mo/n2 Latex of the present invention or latex for comparison o, gg Finonionic surfactant 40 mg/m2 Expressed in weight%.

(2)帯電防止能の判定法: 帯電防止能は表面抵抗率及びスタチックマーク発生の測
定によってきめた。0表面抵抗率は試料の試験片を電極
間隔0.14 cm、長さ10cma′)i鍮製電極(
試験片と接する部分はステンレス使用)に挟み、武田狸
研製絶縁計TR8651型で1分値を測定する。■スタ
チックマーク発生試験は、ゴムシート上に未露光感光材
料のノニオン性界面活性剤を含む表面を下向きにして、
lからゴムローラーで圧着後、剥離することによりスタ
チックマークを発生させる方法にJ:っだ。
(2) Method for determining antistatic ability: Antistatic ability was determined by measuring surface resistivity and static mark generation. 0 surface resistivity is measured using a brass electrode (with electrode spacing of 0.14 cm and length of 10 cm).
The part in contact with the test piece is made of stainless steel), and the 1-minute value is measured using a insulation meter TR8651 manufactured by Takeda Tanukiken. ■Static mark generation test is performed by placing an unexposed photosensitive material on a rubber sheet with the nonionic surfactant-containing surface facing downward.
J: It's a method to generate static marks by pressing with a rubber roller and then peeling off.

表面抵抗率は、25℃、25%R1−1で測定し、スタ
チックマーク発生試験は、25°C125%RHで行な
った。なお、試r1の試験片の調湿は前記条件で24時
間行なった。
The surface resistivity was measured at 25° C. and 25% R1-1, and the static mark generation test was conducted at 25° C. and 25% RH. Note that the humidity of the test piece of sample r1 was controlled under the above conditions for 24 hours.

スタチックマークの発生の程度を評価するために、各サ
ンプルを次の組成の現像液を用いて20℃で5分間現像
した。
In order to evaluate the degree of static mark generation, each sample was developed at 20° C. for 5 minutes using a developer having the following composition.

現像液組成 N−メチル−〇−アミノ フコ−ノール1iA酸m            40
無水亜硫酸ソーダ          60 pハイド
ロキノン            10 Q炭酸ソーダ
(1水塩)53g 臭化カリ               25 (]水
を加えて11とする。
Developer composition N-methyl-〇-aminofuconol 1iA acid m 40
Anhydrous sodium sulfite 60 p Hydroquinone 10 Q Sodium carbonate (monohydrate) 53 g Potassium bromide 25 (] Add water to make 11.

スタチックマークの評価は次の5段階の基準に従った。The evaluation of static marks was based on the following 5-level criteria.

A:スタチックマークの発生が認められない。A: No static marks were observed.

Bニスタデツクマークが少し発生する。A small number of B star deck marks appear.

Cニスタブツクマークが相当発生する。C. Many block marks occur.

Dニスタデツクマークが著しく発生する。D. Star deck marks occur significantly.

E:スタチックマークが全面に発生する。E: Static marks appear on the entire surface.

(3)写真感度試験法: 前記試料をタングステンランプ光で露光したのち、下記
組成の現像液で現像(35℃、30秒)し、定着、水洗
処理をして写真特性を調べた。
(3) Photographic sensitivity test method: The sample was exposed to tungsten lamp light, developed with a developer having the following composition (35° C., 30 seconds), fixed, and washed with water to examine its photographic properties.

現像液組成 渇水                g o o 、
pテトラポリリン酸すi〜リウム     2.0g無
水亜硫酸ナトリウム        509ハイドロキ
ノン            10g炭酸ナトリウム(
1水J!!2)       40Q1−フェニル−3
−ピラゾリドン  0.39臭化カリウム      
      2.0(]水を加えて全体を      
   1000顧(4)ローラー汚染麻の測定 乳剤層および表面保護層を塗布した試料を30.5Cm
X 17.1cm角に裁断した。現像処理後の光学濃度
が1.0になるように均一露光したのち、自動現像処理
m<シリコーン製搬送ローラーを有し、現像浴 、定着
浴、水洗浴の3浴にすなっている。)で連続的に50枚
現像処刊1した。水洗スクイズローラーを十分に乾燥さ
l! /= 摂、51枚目のサンプルの先端部に発生ず
るスジ状の濃度ムラの出具合を調べた。
Developer composition drying up,
Sodium p-tetrapolyphosphate 2.0g Anhydrous sodium sulfite 509 Hydroquinone 10g Sodium carbonate (
1 water J! ! 2) 40Q1-phenyl-3
-Pyrazolidone 0.39 Potassium Bromide
2.0 () Add water and mix
1000 cm
It was cut into 17.1cm x 17.1cm square pieces. After uniform exposure so that the optical density after development becomes 1.0, automatic development processing is carried out using a silicone conveyance roller and three baths: a developing bath, a fixing bath, and a washing bath. ), 50 sheets were continuously developed and published. Wash the squeeze roller thoroughly and dry it! /= The appearance of streak-like density unevenness at the tip of the 51st sample was examined.

ローラー汚染度の評価は次の4段階の基準に従った。The degree of roller contamination was evaluated according to the following four-level criteria.

A:濃度ムラの発生が認められない。A: No density unevenness was observed.

B:1IIIliムラが少し発生する。B: Slight unevenness occurs.

C:濃度ムラが相当発生する。C: Considerable density unevenness occurs.

D=漢度ムラが著しく発生する。D= Significant unevenness in Han score occurs.

結果は表1、表2に示す。The results are shown in Tables 1 and 2.

以下余白 G 試!31No、12のラテックスはラテックスL−(1
2)に同じ。
Try the margin G below! 31 No. 12 latex is latex L-(1
Same as 2).

試料N0.15のラテックスはラテックスL−(15)
に同じ。
The latex of sample No. 15 is latex L-(15)
Same as .

比較ラテックスΔ 特公昭45−5331号記載 EA:エチルアクリ1ノー1へ BAニブデルアクリレート St:スチレン AAニアクリル酸 VAc  :酢酸ビニル vclce:ビニルウ1]ライド 表−1および表−2から明lうかな如く、本発明のノニ
オン性界面活性剤おJ:び比較のラテックスを含有する
比較の試料NO19、10,20J3よび21は感度が
著しく劣る11!!帯電防止能が劣りかつローラー汚染
が大きく、ノニオン性界面活性剤を含有せず本発明のラ
テックスを含有する比較の試料NO,11および22は
41シ市防由能が著しく劣りかつローラー汚染が大きい
のに対し、本発明のノニオン界面活性剤および本発明の
ラテックスの両者を含有する本発明の試料は感度に悪影
響を与えることなく表面比抵抗を下げスタヂックマーク
を少なくする帯電防止能を向上させかつローラー汚染を
改善することができることがわかる。
Comparative latex Δ Described in Japanese Patent Publication No. 45-5331 EA: Ethyl acrylic 1 no 1 BA nibdel acrylate St: Styrene AA Niacrylic acid VAc: Vinyl acetate VClce: Vinyl 1] As is clear from Ride Table 1 and Table 2. Comparative samples Nos. 19, 10, 20J3 and 21 containing the nonionic surfactant of the present invention and the comparative latex had significantly inferior sensitivity 11! ! Comparative samples Nos. 11 and 22, which contained the latex of the present invention but did not contain a nonionic surfactant, had significantly poor antistatic ability and large roller stains. In contrast, the sample of the present invention containing both the nonionic surfactant of the present invention and the latex of the present invention lowers the surface resistivity without adversely affecting the sensitivity, improves the antistatic ability to reduce static marks, and improves the antistatic ability of the roller. It can be seen that contamination can be improved.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 支持体上に少なくとも一層の帯電防止層を有する写真構
成層を設けてなるハロゲン化銀写真感光材料において、
前記帯電防止層の少なくとも一層には、親水性基が表面
に固定されているラテックスおよびノニオン性界面活性
剤が含有されていることを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料。
A silver halide photographic light-sensitive material comprising a photographic constituent layer having at least one antistatic layer provided on a support,
A silver halide photographic material, wherein at least one layer of the antistatic layer contains a latex having a hydrophilic group fixed to the surface and a nonionic surfactant.
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