JPH10202645A - Device for continuously manufacturing ceramic plate - Google Patents
Device for continuously manufacturing ceramic plateInfo
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- JPH10202645A JPH10202645A JP1095797A JP1095797A JPH10202645A JP H10202645 A JPH10202645 A JP H10202645A JP 1095797 A JP1095797 A JP 1095797A JP 1095797 A JP1095797 A JP 1095797A JP H10202645 A JPH10202645 A JP H10202645A
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- drying
- kneading
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- Press-Shaping Or Shaping Using Conveyers (AREA)
- Preparation Of Clay, And Manufacture Of Mixtures Containing Clay Or Cement (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は原料調整・押出・乾燥・
焼成等の工程を経て製造される陶板の連続製造装置に関
するものである。The present invention relates to raw material preparation, extrusion, drying,
The present invention relates to an apparatus for continuously manufacturing a porcelain plate manufactured through a process such as firing.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、粘土を使ったセラミック系の陶板
を製造するには、押出成形(平板、中空押出板等)−乾
燥−定尺切断−焼成という工程で連続的に製造する装置
が知られている。2. Description of the Related Art Heretofore, in order to manufacture a ceramic ceramic plate using clay, there is known an apparatus which continuously manufactures by a process of extrusion molding (flat plate, hollow extruded plate, etc.), drying, cutting to a fixed size and firing. Have been.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
中空押出板の場合、口金から出た中空押出板は乾燥機に
入るまでの期間は内部からの乾燥に留まり、例え乾燥機
内で遠赤外線、バーナー、電気、電子等で外部加熱して
も、内部からのエアによる乾燥速度と外部からの乾燥速
度が異なるために、内外の乾燥バランスのズレによる割
れ、捻れ等による製品歩留まりの悪化、寸法精度が悪
い、等の不具合を招いていた。また、この種装置により
製造した陶板は、乾燥−焼成時に押出時に比べて体積が
10%程度収縮するため、特に板体内部に連続状の中空
部を有する中空押出板を製造した場合、変形が化粧面ま
で達し、化粧面が波状、凹凸状になり、釉薬を施しても
この変形は防止出来ず、意匠性を大幅に低下させるもの
であった。さらに、原料を原料加工業者から購入した場
合には、その原料をそのまま使用して練り土を製造する
と原料粒度が自動的に制限され、所望の練り土を得るこ
とが出来なかった。また、幅広で厚板の陶板を精度良
く、安定して製造できる装置は存在しなかった。However, in the case of the above-mentioned hollow extruded plate, the hollow extruded plate coming out of the die is only dried from the inside until it enters the dryer. Even when externally heated by electricity, electronics, etc., the drying speed by air from inside and the drying speed from outside are different, so the product balance is deteriorated due to cracks and twists in the drying balance between inside and outside, and the dimensional accuracy is low. Bad, etc., had been caused. Moreover, since the volume of the porcelain plate manufactured by this kind of device shrinks by about 10% compared to the volume at the time of extrusion during drying and baking, deformation is particularly caused when a hollow extruded plate having a continuous hollow portion inside the plate body is manufactured. It reached the decorative surface, the decorative surface became wavy and uneven, and even if glaze was applied, this deformation could not be prevented, and the design was greatly reduced. Furthermore, when the raw material is purchased from a raw material processor, if the raw material is used as it is to produce a kneaded soil, the particle size of the raw material is automatically limited, and a desired kneaded soil cannot be obtained. Further, there has been no apparatus capable of producing a wide and thick porcelain plate accurately and stably.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明はこのような欠点
を除去するため、原料調合−ミル擦り−脱水−土練り−
粗砕−乾燥−水分調整−混練により形成した粘土と、粘
土原料を連続して押し出す押出成形機と、押し出された
連続成形帯を乾燥する乾燥機と、乾燥した乾燥板を連続
的に予熱−焼成−徐冷を行う焼成炉と、乾燥機と焼成炉
間あるいは焼成炉後に形成した切断機とからなる陶板の
連続製造装置を提供するものである。According to the present invention, in order to eliminate such a drawback, a raw material preparation-mill rubbing-dewatering-doughing-
Crushing-drying-moisture adjustment-clay formed by kneading, an extruder for continuously extruding clay raw materials, a dryer for drying the extruded continuous forming band, and a continuous preheating of the dried drying plate- An object of the present invention is to provide an apparatus for continuously manufacturing a porcelain plate, comprising a firing furnace for performing firing and slow cooling, and a cutting machine formed between a dryer and a firing furnace or after the firing furnace.
【0005】[0005]
【実施例】以下に、図面を用いて本発明に係る陶板の連
続製造装置の一実施例について詳細に説明する。図1と
図2は上記装置の代表的な一例を示す説明図である。図
1は上記装置の概略構成を示すものであり、原料調整部
A−押出成形機3−乾燥機9−切断機10−焼成炉12
からなる構成である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a continuous production apparatus for a porcelain plate according to the present invention. FIGS. 1 and 2 are explanatory views showing a typical example of the above apparatus. FIG. 1 shows a schematic configuration of the above-described apparatus, in which a raw material adjusting section A-an extruder 3 -a dryer 9 -a cutter 10 -a baking furnace 12.
It is the structure which consists of.
【0006】原料調整部Aは原料調合部a−ミル擦り部
b−脱水部c−土練り部d−粗砕部e−乾燥部f−水分
調整部g−混練部h−ネカシ部i−真空土練部jよりな
り、押出成形機3により押し出す粘土1(練り土)を製
造するためのものである。The raw material adjusting section A is composed of a raw material mixing section a, a mill rubbing section b, a dewatering section c, a kneading section d, a crushing section e, a drying section f, a moisture adjusting section g, a kneading section h, a nekashi section i, and a vacuum. It is made up of a clay kneading part j and is for manufacturing clay 1 (kneaded soil) extruded by an extrusion molding machine 3.
【0007】原料調合部aは粗粒の(10mm以下程
度)各原料及び/又は微粒の原料を混合する部分であ
る。なお、原料は天然物であり、各産地により成分が異
なるものであり、これらの特徴、弱点を相互に相殺させ
て所定の混合原料を得るものである。その原料の一例と
しては、木節粘土、蛙目粘土、信楽粘土、等の粘性材
料、陶石、珪石、長石、カオリナイト、ハロイサイト、
メタハロイサイト、等の鉱物材料よりなるものである。The raw material preparation section a is a part for mixing coarse raw materials (about 10 mm or less) and / or fine raw materials. In addition, the raw material is a natural product, the components of which differ depending on each locality of production. These characteristics and weak points are mutually offset to obtain a predetermined mixed raw material. Examples of the raw materials include viscous materials such as Kibushi clay, Frogme clay, Shigaraki clay, pottery stone, quartzite, feldspar, kaolinite, halloysite,
It is made of a mineral material such as metahaloysite.
【0008】ミル擦り部bは原料調合部aで調合された
原料をピンミル、レイモンドミル、トロンメルミル、等
により湿式粉砕しながら混合を行う部分である。The mill rubbing portion b is a portion for mixing the raw materials prepared in the raw material preparation portion a while performing wet pulverization by a pin mill, a Raymond mill, a trommel mill, or the like.
【0009】脱水部cはミル擦り部bで混合された原料
(泥奬)をフィルタープレスまたはドラム脱水機で脱水
する部分である。この場合には、被脱水物は水分が押出
成形時の水分より大きいために、別途乾燥が必要であ
る。The dewatering section c is a section for dewatering the raw material (sludge) mixed in the mill rubbing section b by a filter press or a drum dewatering machine. In this case, since the water to be dehydrated has a higher water content than that at the time of extrusion molding, it needs to be separately dried.
【0010】土練り部dは脱水部cにより脱水された原
料を練り上げ、水分を均一化することにより最終的な混
練前の水分調整をやり易くするためのものである。The soil kneading section d is for kneading the raw material dehydrated by the dehydrating section c and making the water uniform, thereby facilitating final water adjustment before kneading.
【0011】粗砕部eは脱水部cによりある程度脱水さ
れた原料を適当な大きさにホグしてやる部分である。こ
れは、脱水部cで脱水された原料は水分がバラついてい
るために、塊を適当な大きさにホグしてやる必要がある
ためであり、次工程の乾燥部fでの乾燥の安定化、水分
の均一化のためのものである。The crushing section e is a section where the raw material dehydrated to some extent by the dehydrating section c is hog to an appropriate size. This is because the raw material dehydrated in the dehydrating section c has a variable water content, and it is necessary to hog the lump to an appropriate size. This is for the purpose of uniformity.
【0012】乾燥部fは粗砕部eで粉砕された原料を乾
燥する部分である。The drying section f is a section for drying the raw material crushed in the crushing section e.
【0013】水分調整部gは乾式粉砕混合部bにより混
合された被粉砕物に水を添加する部分である。The moisture adjusting section g is a section for adding water to the material to be pulverized mixed by the dry pulverizing and mixing section b.
【0014】混練部hは水分調整部gにより水分を調整
された原料を混練する部分である。The kneading section h is a section for kneading the raw material whose water content has been adjusted by the water adjusting section g.
【0015】ネカシ部iは混練部hで混練された原料を
ストックすることにより、原料の粒度の均一化、全体的
な密度の均一化、水分の均一化、可塑性、等を向上し、
後記する押出−乾燥−焼成等の工程での加工精度を向上
するためのものである。そのストック時間は原料の産地
・配合等により異なるが、数日から数カ月である。勿
論、混練部hで原料の均一化が図られれば、ネカシ部i
を設けなくとも良い場合もある。The stocking part i is made by stocking the raw material kneaded in the kneading part h to improve the uniformity of the particle size of the raw material, the uniformity of the overall density, the uniformity of moisture, the plasticity, etc.
This is for improving the processing accuracy in the following steps such as extrusion-drying-firing. The stocking time varies from several days to several months, although it varies depending on the place of origin and composition of the raw materials. Of course, if the raw material is made uniform in the kneading section h,
There is a case where it is not necessary to provide the.
【0016】真空土練部jはネカシ部iにより形成され
た原料を後記する押出成形機3により押し出せる性状に
するためのものであり、密度の均一化、水分の均一化、
可塑性の向上のためのものである。The vacuum kneading part j is for making the raw material formed by the necessity part i extrudable by an extruder 3 to be described later.
This is for improving plasticity.
【0017】図2において、1は粘土で原料調整部Aに
より調整された原料であり、ベルトコンベア2を介して
真空押出成形機、あるいは真空土練押出成形機の1種か
らなる押出成形機3に供給されるものである。In FIG. 2, reference numeral 1 denotes a raw material adjusted by a raw material adjusting unit A made of clay. The extruder 3 is one of a vacuum extruder or a vacuum clay extruder via a belt conveyor 2. It is supplied to.
【0018】押出成形機3は図5に示すように、口金
4、中子5を介して例えば図3(a)〜(d)、図4
(a)〜(d)に示すような形状で連続して粘土1を押
し出し、化粧面α、中空部βを有する形状の連続成形帯
Bを成形するものである。なお、粘土1は原料調整部A
で所望の原料、粒度、水分、可塑性に形成された混合粘
土である。As shown in FIG. 5, the extruder 3 is connected to the extruder 3 via a base 4 and a core 5, for example, as shown in FIGS.
The clay 1 is continuously extruded in a shape as shown in (a) to (d) to form a continuous band B having a decorative surface α and a hollow portion β. In addition, the clay 1 is a raw material adjustment unit A
Is a mixed clay formed to have the desired raw material, particle size, moisture, and plasticity.
【0019】さらに、口金4は粘土1の押し出し力によ
って変形するものでなく、かつ、中子5を装着したもの
である。さらに説明すると中子5は、連続成形帯Bの形
状を図3(a)〜(d)、図4(a)〜(d)のような
各種形状とする場合、押出成形機3内において抵抗とな
り、連続成形帯Bの密度分布のムラを除去し、乾燥、焼
成時のワレ、変形を防止するのに役立つものである。Further, the base 4 is not deformed by the pushing force of the clay 1, but is equipped with a core 5. More specifically, when the core 5 has various shapes as shown in FIGS. 3 (a) to 3 (d) and FIGS. 4 (a) to 4 (d), the core 5 has a resistance within the extruder 3. This is useful for removing unevenness in the density distribution of the continuous molded band B and preventing cracking and deformation during drying and firing.
【0020】3aは調整バーであり、図6(a)に示す
ように、調整ボルト3bの頭部を回転させることにより
上下に移動し、粘土1が流れる経路の断面積を自在に拡
縮出来るものである。また、この短尺状の調整バー3a
を複数並列に配置することで、粘土1が流れる経路の断
面積を幅方向の任意位置部分で、別々に調整出来るの
で、口金4に一定圧力で、均一な粘土1を供給すること
が出来、真っ直ぐで平行に押し出され、製品に悪影響が
なく生産性を向上した連続成形帯Bを製造することが出
来るものである。An adjusting bar 3a moves up and down by rotating the head of the adjusting bolt 3b as shown in FIG. 6 (a), and can freely expand and contract the cross-sectional area of the path through which the clay 1 flows. It is. The short adjustment bar 3a
By arranging a plurality of in parallel, the cross-sectional area of the path through which the clay 1 flows can be adjusted separately at any position in the width direction, so that a uniform pressure of the clay 1 can be supplied to the base 4 at a constant pressure. It is possible to manufacture a continuously formed belt B that is extruded straight and parallel and has no adverse effect on the product and has improved productivity.
【0021】また中子5は図6(b)に示すように、連
続成形帯Bに中空部βを形成するための格子5aを複数
有すると共に、中空部βにエア、熱風、冷風、乾燥風、
蒸気を強制的に送給、あるいは排出するために格子5a
をパイプ状とし、かつ、エア等を外部より吸、排気する
ためのポンプ7と、吸、排気管6に接続している。これ
は、押出成形機3によって成形された連続成形帯Bの中
空部βにエア、熱風、冷風、乾燥風を強制的に送給、あ
るいは排出することによって中空部βのエアサイクルを
強制的に行い、連続成形帯B内部の乾燥時間を大幅に短
縮するのに有効なものである。As shown in FIG. 6 (b), the core 5 has a plurality of grids 5a for forming a hollow part β in the continuous molding band B, and air, hot air, cold air, and dry air in the hollow part β. ,
Grating 5a for forcibly sending or discharging steam
In the form of a pipe, and is connected to a pump 7 for sucking and discharging air and the like from the outside and a suction and exhaust pipe 6. This is to force the air cycle of the hollow part β by forcibly sending or discharging air, hot air, cold air, or dry air to or from the hollow part β of the continuous forming band B formed by the extruder 3. This is effective for greatly shortening the drying time inside the continuous forming band B.
【0022】8は駆動用搬送機でフリーローラ、チェー
ン、駆動ローラ、ベルト、メッシュベルト等の1種以上
から構成されるものであり、押出成形機3から押し出さ
れた連続成形帯Bのスピードと同じ速さ、あるいは少々
早いスピードで駆動をかけたものである。また、少々速
いスピードで引っぱり出すようなテンションをかけた場
合には、押出成形帯Bの曲がりが無くスムーズな押し出
しが可能となるものである。Numeral 8 denotes a driving conveyor, which comprises at least one of a free roller, a chain, a driving roller, a belt, a mesh belt, etc., and controls the speed of the continuous forming band B extruded from the extruder 3. Driven at the same speed, or a little faster. In addition, when tension is applied to pull out the belt at a slightly higher speed, the extruded band B can be smoothly extruded without bending.
【0023】9は乾燥機で、駆動用搬送機8の一部、あ
るいは図示しないが全部を包囲し、赤外線ヒータ、遠赤
外線ヒータ、オイルヒータ、熱風ヒータ、マイクロ波、
加熱機、後述する焼成炉12の廃熱等の一種以上を用
い、その熱源9aによって連続成形帯Bを上記中空部β
のエアサイクルとの相乗効果によって短時間で乾燥する
のに有効なものであり、粘土1の水分を例えば18〜2
0%のものを0〜5%位までに低減し、保形性を強化す
るのと、その後の切断、焼成可能な性状にするためのも
のである。なお、乾燥機9は赤外線ヒータ、マイクロ波
のみ、あるいは交互に、もしくは前段と後段のゾーンに
分けて配設し、加熱温度を200〜500℃位、マイク
ロ波は5〜100W・h/kg位に生地がクラックや変
形を生じないようなある加熱曲線に対応して加熱するも
のである。Reference numeral 9 denotes a dryer, which surrounds a part of the driving transfer device 8 or the entirety thereof (not shown), and includes an infrared heater, a far infrared heater, an oil heater, a hot air heater, a microwave,
Using a heating machine, at least one of waste heat of a firing furnace 12 described later, and the like, the continuous forming zone B is formed by the heat source 9a into the hollow portion β.
Is effective for drying in a short time by a synergistic effect with the air cycle of
The purpose is to reduce the 0% value to about 0 to 5% to enhance the shape retention and to make the shape capable of being cut and fired thereafter. The dryer 9 is provided with an infrared heater, a microwave only, or alternately, or divided into a former stage and a latter stage, with a heating temperature of about 200 to 500 ° C. and a microwave of about 5 to 100 W · h / kg. The heating is performed in accordance with a certain heating curve such that the dough does not crack or deform.
【0024】また、乾燥機9では亀裂、割れ、爆裂の限
界の水分域(8%位)まで加熱を行い、変形限界まで加
熱し続けた場合には、高精度で大型の陶板Eの連続製造
を可能とすることもできるものである。この場合には、
陶板Eを製造するに当たり変形する3〜10%位の収縮
を乾燥時に殆ど終了してしまうことにより、次工程の焼
成時の変形を非常に小さくでき、焼成時の亀裂、割れ、
爆裂の防止に有効である。なお、8%位までの水分域が
収縮の大きな変形域であるために、この水分域まで乾燥
させるものである。勿論、粘土1の成分により、限界の
水分域が異なるものであり、その粘土1の素材に合わせ
て、乾燥機9の加熱を行うものである。In the dryer 9, heating is performed up to the moisture area (about 8%) at the limit of cracks, cracks, and explosions. When heating is continued up to the deformation limit, continuous production of a large-sized ceramic plate E with high precision is performed. Can be made possible. In this case,
Since the shrinkage of about 3 to 10%, which is deformed when manufacturing the porcelain plate E, is almost finished during drying, the deformation during firing in the next step can be made very small, and cracks, cracks,
Effective for preventing explosion. Since the water region up to about 8% is a deformation region in which the shrinkage is large, drying is performed up to this water region. Of course, the limit of the moisture range differs depending on the components of the clay 1, and the dryer 9 is heated according to the material of the clay 1.
【0025】10は切断機で、乾燥された連続成形帯B
を定尺に回転刃(ダイヤモンドソー、チップソー、切断
砥石等)、レーザー、水圧(ウォータージェット)、等
により、押出成形機3により押し出された連続成形帯B
のスピードに同調して移動・切断し、定尺の乾燥板Cと
するものである。また、長さは600mm以上の長尺と
するものである。Numeral 10 denotes a cutting machine, which is a dried continuous band B.
The continuous forming band B extruded by the extruder 3 with a rotary blade (diamond saw, tip saw, cutting whetstone, etc.), laser, water pressure (water jet), etc.
Is moved and cut in synchronization with the speed of the drying plate C. The length is 600 mm or more.
【0026】11は移送機で、切断機10で定尺に切断
された乾燥板Cを駆動用搬送機8より速い速度で焼成炉
12まで搬送するものであり、連続成形帯Bと乾燥板C
との衝突を防止するものである。Numeral 11 denotes a transfer machine which conveys the drying plate C cut to a fixed size by the cutting machine 10 to the firing furnace 12 at a speed higher than that of the driving conveyor 8.
And to prevent collision.
【0027】12は焼成炉でローラハースキルン、トン
ネル型焼成炉の1種からなり、その構成は入口12aか
ら出口12bに亘って、常温−高温(1300℃位)−
常温というように、山状の温度分布となり、予熱領域1
3、焼成領域14、冷却領域15の順に一応区分して構
成し、予熱領域13の温度は30〜700℃、焼成領域
14は300〜1300℃、冷却領域15は600〜3
0℃位までとしたものである。Reference numeral 12 denotes a baking furnace, which is a kind of a roller hearth kiln or a tunnel type baking furnace, and has a configuration ranging from an inlet 12a to an outlet 12b, at normal temperature and high temperature (about 1300 ° C.).
As a normal temperature, the temperature distribution becomes mountain-like, and the preheating region 1
3, the sintering region 14 and the cooling region 15 are arranged in this order. The temperature of the preheating region 13 is 30 to 700 ° C, the sintering region 14 is 300 to 1300 ° C, and the cooling region 15 is 600 to 3 ° C.
The temperature was set to about 0 ° C.
【0028】勿論、粘土1の種類、組成によっては各領
域間の温度設定が異なるものであり、かつ、各領域間の
温度も明確に区分するものではなく連続焼成の中での一
応の区分である。さらに焼成炉12について詳細に説明
すると、焼成炉12は可燃ガス、例えばLPGガスを燃
焼させて乾燥板Cを焼成するものであり、そのためのバ
ーナ(図示せず)の配列は前記各領域に対応して設ける
ものである。Of course, depending on the type and composition of the clay 1, the temperature setting between the respective regions is different, and the temperature between the respective regions is not clearly divided, but is a tentative division in the continuous firing. is there. The firing furnace 12 will be described in more detail. The firing furnace 12 burns a combustible gas, for example, an LPG gas, and fires the drying plate C. The arrangement of burners (not shown) corresponds to each of the above regions. It is provided.
【0029】また、焼成炉12内の乾燥板Cの搬送手段
としてはメッシュベルト、金属ローラ、セラミックロー
ラ、アルミナローラ、ムライトローラ等を使用するが、
特に焼成領域14の範囲は1300℃位まで温度が上昇
するので、例えば図7(a)、(b)に示すように金属
主軸16、17間にアルミナローラ18を載置して熱が
駆動源に伝達しないようにして搬送するものである。勿
論、金属主軸16、17は、焼成領域14が1300℃
位まで温度が上昇するために、焼成領域14の外部に形
成するものである。なお、焼成炉12の焼成領域14は
耐火レンガ等で炉を形成し、その中を直線的に連続して
通過させるものであり、各機器、領域間には排気ダンパ
ー(図示せず)、等を配設しておくものである。As a means for transporting the drying plate C in the firing furnace 12, a mesh belt, a metal roller, a ceramic roller, an alumina roller, a mullite roller, or the like is used.
In particular, since the temperature in the range of the sintering region 14 rises to about 1300 ° C., for example, as shown in FIGS. Is conveyed without being transmitted to the Of course, the metal spindles 16 and 17 have a firing area 14 of 1300 ° C.
Since the temperature rises to the order of magnitude, it is formed outside the firing region 14. The sintering area 14 of the sintering furnace 12 is made of a refractory brick or the like, and is made to pass straight through the furnace. Exhaust dampers (not shown), etc. are provided between each device and the area. Is provided.
【0030】19は搬送機で、焼成炉12の出口12b
から出てきた30℃位に温度が低下した焼成板Dを、次
工程の梱包工程等の次工程に搬送し、陶板Eとするもの
である。Reference numeral 19 denotes a transfer device, which is an outlet 12b of the firing furnace 12.
The calcined plate D having a temperature lowered to about 30 ° C. is transported to the next step such as a packing step of the next step, and is made into a ceramic plate E.
【0031】次に動作について説明する。そこで、原料
調整部Aにより原料調合−ミル擦り−脱水−土練り−粗
砕−乾燥−水分調整−混練−ネカシ−真空土練りを行
い、粘土1の原料を製造する。Next, the operation will be described. Therefore, the raw material preparation unit A performs raw material preparation, mill rubbing, dehydration, kneading, crushing, drying, moisture adjustment, kneading, nekashi, and vacuum kneading to produce a raw material for the clay 1.
【0032】また、押出成形機3は押し出し能力50k
g/cm2 の押出圧力を持つものを使用し、図3(a)
に示すような断面の連続成形帯Bを押し出すものであ
る。ポンプ7は5HPで排気するように設定し、乾燥機
9としてはマイクロ波加熱機、遠赤外線加熱機を用い、
連続成形帯Bの水分を対流による表面蒸発と吸、排気管
6から30℃位の温風排気による内部拡散とによって水
分を0〜5%位までに約20〜40分間で減水して、変
形なく乾燥させるものである。The extruder 3 has an extrusion capacity of 50 k.
g / cm 2 with an extrusion pressure of FIG.
A continuous molded strip B having a cross section as shown in FIG. The pump 7 was set to exhaust at 5HP, and a microwave heater and a far-infrared heater were used as the dryer 9,
Water is reduced to 0 to 5% in about 20 to 40 minutes by surface evaporation and absorption by convection of the water in the continuous forming zone B by convection, and internal diffusion by hot air exhaustion at about 30 ° C. from the exhaust pipe 6 for deformation. Without drying.
【0033】次に乾燥された連続成形帯Bは切断機10
によって3m+アルファ(焼成後の長さの縮みを考慮)
に切断され、乾燥板Cとなって移送機11によって連続
的に焼成炉12に送給される。この焼成炉12はローラ
ハースキルン構造に形成されており、このローラに対し
乾燥板Cを入口12aから出口12bまで順次送給する
と共に搬送し、予熱−焼成−徐冷して焼成板Dとして送
出する。Next, the dried continuous forming band B is
3m + alpha (considering shrinkage of length after firing)
Then, it is cut into a drying plate C and is continuously fed to the firing furnace 12 by the transfer device 11. The firing furnace 12 is formed in a roller hearth kiln structure. The drying plate C is sequentially fed from the inlet 12a to the outlet 12b and transported to the rollers, and is preheated, fired, gradually cooled, and sent out as the fired plate D. I do.
【0034】その後、次工程の搬送機19によって図示
しないが梱包工程等の次工程に陶板Eを搬送するもので
ある。Thereafter, although not shown, the porcelain plate E is transported to the next process such as a packing process by a transport device 19 in the next process.
【0035】以上説明したのは、本発明に係る陶板の連
続製造装置の一実施例にすぎず、図8(a)、(b)〜
図14(a)〜(c)示すように構成することが出来
る。What has been described above is merely one embodiment of the continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention, and is described with reference to FIGS.
14 (a) to 14 (c).
【0036】図8(a)、(b)において、(a)、
(b)図はポンプ7を除去した場合の装置、あるいは中
空部βを形成しない場合の装置を示すものであり、特に
(a)図は焼成炉12の後に切断機10を形成した装置
である。In FIGS. 8A and 8B, FIGS.
(B) shows an apparatus in which the pump 7 is removed or an apparatus in which the hollow part β is not formed. In particular, (a) shows an apparatus in which the cutting machine 10 is formed after the firing furnace 12. .
【0037】図9(a)〜(c)〜図13(a)は焼成
炉12の後に、加工部20、研磨部21、施釉部24、
焼成機25からなる製品加工部Jを形成したものであ
る。9 (a) to 9 (c) to 13 (a) show a processing section 20, a polishing section 21, a glazing section 24 after the firing furnace 12.
A product processing part J composed of a baking machine 25 is formed.
【0038】加工部20は化粧面αに任意模様の加工、
端部の成形、等を施し、化粧面αの意匠性を向上した加
工板Fとするものである。その方法としては、焼成板D
を加工可能な強度のある工作機械を使用するものであ
り、例えば先端に回転刃を形成したNC制御の工作機
械、あるいはダイヤモンドソー、ウォータージェット、
レーザー等よりなるものである。なお、加工部20では
焼成板Dを搬送途中で加工したり、停止して加工したり
出来るものである。さらに、加工部20は入れ替え可能
に設置するものである。The processing unit 20 processes an arbitrary pattern on the decorative surface α.
The end plate is formed, and the like, and a processed plate F having an improved design of the decorative surface α is obtained. As the method, a fired plate D
A machine tool having a strength capable of processing is used. For example, an NC-controlled machine tool having a rotary blade at a tip, a diamond saw, a water jet,
It is made of a laser or the like. In the processing section 20, the fired plate D can be processed during the transportation, or can be stopped and processed. Further, the processing unit 20 is installed so as to be interchangeable.
【0039】なお、加工部20では、焼成板Dを停止さ
せて加工する場合は、搬送機19より送出される焼成板
Dと加工中の焼成板Dとが衝突しないように、ある程度
の時間差、所謂連続成形帯Bのスピードと加工部20に
おける加工時間を考慮して搬送機19のスピード、スト
ック時間を調整するものである。In the processing section 20, when the firing plate D is stopped and processed, the firing plate D sent from the transporter 19 and the firing plate D being processed do not collide with each other. The speed and stock time of the conveyor 19 are adjusted in consideration of the speed of the so-called continuous forming band B and the processing time in the processing section 20.
【0040】研磨部21は焼成炉12により焼成されて
焼き締まった焼成板Dの化粧面αを先端にダイヤモンド
研磨ホイル23を装着した前後、左右、上下と立体的に
移動可能なポリッシングマシン22により研磨し、化粧
面αを平坦化して研磨板Gとするものである。また、研
磨部21は入れ替え可能に設置するものである。The polishing section 21 is provided by a polishing machine 22 which can be moved three-dimensionally in front, back, left, right, up and down, with a diamond polishing foil 23 attached to the end of the decorative surface α of the fired plate D fired and baked by the firing furnace 12. The polishing surface G is polished to flatten the decorative surface α. The polishing section 21 is installed so as to be interchangeable.
【0041】なお、研磨部21では、焼成板Dを停止さ
せて研磨したり、搬送中に研磨することが可能であり、
焼成板Dを停止させて加工する場合は、搬送機19より
送出される焼成板Dと研磨中の焼成板Dとが衝突しない
ように、ある程度の時間差、所謂連続成形帯Bのスピー
ドと研磨部21における研磨加工時間を考慮して搬送機
19のスピード、ストック時間を調整するものである。In the polishing section 21, the baking plate D can be stopped and polished, or polished during transportation.
When the processing is performed by stopping the firing plate D, the firing plate D sent from the transporter 19 and the firing plate D being polished do not collide with each other. The speed and stock time of the transporter 19 are adjusted in consideration of the polishing time in 21.
【0042】施釉部24は焼成炉12により焼成されて
焼き締まった焼成板Dの化粧面αに釉薬を塗布するもの
であり、スプレーガン、フローコータ、デスクスプレー
ヤー等の一種、または多種よりなる施釉機24aにより
一定厚さで塗布し、施釉板Hとするものである。釉薬
は、例えば、鉛釉、無鉛釉、錫釉、磁器釉、マジョリカ
釉、炉器釉、ブリストル釉、ロッキンガム釉、ゼーゲル
磁器釉、生釉、土釉、フリット釉、揮発釉、光沢釉、マ
ット釉、アベンチュリン釉、結晶釉、ラスター釉、透明
釉、不透明釉等よりなり、化粧面α上に施釉するもので
あり、化粧面αの保護(コーティング)材、化粧材、耐
水材、耐久材等として機能するものである。The glaze section 24 is for applying glaze to the decorative surface α of the fired plate D fired and baked by the firing furnace 12, and is made of one or more of a spray gun, a flow coater, a desk sprayer and the like. It is applied with a constant thickness by a glaze machine 24a to form a glaze plate H. Glazes include, for example, lead glaze, lead-free glaze, tin glaze, porcelain glaze, majolica glaze, furnace glaze, Bristol glaze, rockingham glaze, Zegel porcelain glaze, raw glaze, clay glaze, frit glaze, volatile glaze, gloss glaze, It consists of mat glaze, aventurine glaze, crystal glaze, raster glaze, transparent glaze, opaque glaze, etc., which is glazed on the cosmetic surface α, protective (coating) material for the cosmetic surface α, cosmetic material, waterproof material, durable material, etc. It functions as.
【0043】焼成機25は施釉部24により焼成板Dの
化粧面αに塗布された釉薬をガラス状に硬化させるもの
であり、ガス、電気、石油等、あるいは赤外線ヒータ、
遠赤外線ヒータ、マイクロ波加熱機、オイルヒータ、熱
風ヒータ、前記した乾燥機9、焼成炉12、焼成炉12
の廃熱等の一種以上を用い、例えば、前記焼成領域14
の最高加熱温度よりも低い温度、例えば950〜110
0℃位の温度で焼成し硬化させ、施釉焼成板Iを形成す
るものである。また、施釉部24、焼成機25は入れ替
え可能に設置するものである。勿論、施釉部24と焼成
機25は一緒に移動するものである。また、温度設定は
特に限定されるものでなく、焼成領域14の最高加熱温
度よりも高くても、同じでも、低くても良いものであ
る。The sintering machine 25 hardens the glaze applied to the decorative surface α of the sintering plate D by the glazing unit 24 into a glass state.
Far-infrared heater, microwave heater, oil heater, hot air heater, dryer 9 described above, firing furnace 12, firing furnace 12
Using one or more kinds of waste heat, for example,
Lower than the maximum heating temperature, for example, 950 to 110
It is fired and cured at a temperature of about 0 ° C. to form a glazed fired plate I. The glazing unit 24 and the baking machine 25 are installed so as to be interchangeable. Of course, the glaze unit 24 and the baking machine 25 move together. Further, the temperature setting is not particularly limited, and may be higher than, the same as, or lower than the maximum heating temperature of the firing region 14.
【0044】26は搬送兼ストックヤードであり、陶板
Eを図示しない梱包工程等の次工程に送るためのもので
ある。Reference numeral 26 denotes a transport / stock yard for sending the porcelain plate E to the next step such as a packing step (not shown).
【0045】さらに詳説すると、図9(a)〜(c)に
おいて、(a)図は焼成炉12の後に陶板Eとした装
置、(b)図は加工部20後に陶板Eとした装置、
(c)図は研磨部21の後に陶板Eとした装置である。More specifically, in FIGS. 9A to 9C, FIG. 9A shows an apparatus in which a ceramic plate E is provided after the firing furnace 12, FIG.
(C) shows an apparatus in which a porcelain plate E is provided after the polishing section 21.
【0046】図10(a)〜(c)において、(a)図
は施釉部24−焼成機25の後に陶板Eとした装置、
(b)図は加工部20−研磨部21の後に陶板Eとした
装置、(c)図は加工部20−施釉部24−焼成機25
の後に陶板Eとした装置である。10 (a) to 10 (c), FIG. 10 (a) shows an apparatus in which a glazing unit 24 and a sintering machine 25 followed by a porcelain plate E,
(B) The figure is a device which made the ceramic plate E after the processing part 20-polishing part 21, (c) The figure is the processing part 20-glazing part 24-firing machine 25.
After that, it is a device made of a ceramic plate E.
【0047】図11(a)〜(c)において、(a)図
は研磨部21−施釉部24−焼成機25の後に陶板Eと
した装置、(b)図は加工部20−研磨部21−施釉部
24−焼成機25の後に陶板Eとした装置である。勿
論、図9(a)〜(c)〜図11(a)は、図11
(b)の変形例であり、基本は図11(b)の構成であ
る。また、11(c)は焼成炉12、加工部20、研磨
部21の後に搬送兼ストックヤード26を形成し、搬送
兼ストックヤード26部分で焼成板D、加工板F、研磨
板G、施釉焼成板Iを取り出すことが出来るようにし、
一連の流れ作業の中で、焼成板D、加工板F、研磨板
G、施釉焼成板Iの4種類の陶板Eを製造出来るように
した装置である。勿論、図11(c)図の場合には図9
(a)〜(c)〜図11(b)に示すような加工部20
以降の各構成を組み合わせて製造することが出来るもの
である。11 (a) to 11 (c), FIG. 11 (a) shows an apparatus in which a polishing section 21-glazing section 24-baking machine 25 has been replaced with a ceramic plate E, and FIG. 11 (b) shows a processing section 20-polishing section 21. -Glazing unit 24-This is a device in which a ceramic plate E is provided after the baking machine 25. Of course, FIGS. 9 (a) to 9 (c) to 11 (a)
This is a modification example of FIG. 11B, which is basically the configuration of FIG. 11B. 11 (c), a transfer / stock yard 26 is formed after the baking furnace 12, the processing unit 20, and the polishing unit 21, and a baked plate D, a processed plate F, a polished plate G, and glazed firing are formed at the transfer / stock yard 26. To be able to take out the board I,
This is an apparatus that can manufacture four types of porcelain plates E including a fired plate D, a processed plate F, a polished plate G, and a glazed fired plate I in a series of flow operations. Of course, in the case of FIG.
(A)-(c) -Processing part 20 as shown in FIG.
It can be manufactured by combining the following components.
【0048】図12(a)〜(c)において、(a)〜
(c)図はポンプ7を除去した場合の装置、あるいは中
空部βを形成しない場合の装置を示すものであり、特に
(c)図は焼成炉12、加工部20、研磨部21の後に
搬送兼ストックヤード26を形成し、搬送兼ストックヤ
ード26部分で焼成板D、加工板F、研磨板G、施釉焼
成板Iを取り出すことが出来るようにし、一連の流れ作
業の中で、焼成板D、加工板F、研磨板G、施釉焼成板
Iの4種類の陶板Eを製造出来るようにした装置であ
る。勿論、図12(c)図の場合には図9(a)〜
(c)〜図11(b)に示すような、加工部20以降の
各構成を組み合わせて製造することが出来るものであ
る。Referring to FIGS. 12A to 12C, FIGS.
(C) shows an apparatus in which the pump 7 is removed or an apparatus in which the hollow part β is not formed. In particular, (c) shows the apparatus after the baking furnace 12, the processing section 20, and the polishing section 21. A stock yard 26 is formed so that the fired plate D, the processed plate F, the polished plate G, and the glazed fired plate I can be taken out at the portion of the transfer and stock yard 26. , A processed plate F, a polished plate G, and a glazed fired plate I. Of course, in the case of FIG.
As shown in (c) to FIG. 11 (b), it can be manufactured by combining the respective components after the processing part 20.
【0049】図13(a)は加工部20と研磨部21を
逆に設置した装置の構成を示すものである。なお、図9
〜図11において点線で示した部分は稼働していない部
分、あるいは稼働していても加工はしていない部分であ
り、どんな種類の陶板Eを製造するかによって稼働部分
が決定されるものである。FIG. 13A shows the configuration of an apparatus in which the processing section 20 and the polishing section 21 are installed in reverse. Note that FIG.
In FIG. 11, the portion indicated by the dotted line is a non-operating portion or a portion that is operating but not processed, and the operating portion is determined by what kind of ceramic plate E is manufactured. .
【0050】図13(b)は原料調整部Aの水分調整部
gの後に長繊維原料添加部kを形成した装置である。こ
れは、粘土1が20%位水分を含んでいるために、連続
成形帯Aは乾燥時に5%程度収縮するものであるが、長
繊維はこの収縮に対して乾燥板Cに亀裂、ワレが発生し
ないようにする亀裂・ワレ防止材として有効なものであ
る。勿論、亀裂や変形が生じないような乾燥を行えば、
必要のないものである。FIG. 13 (b) shows an apparatus in which a long fiber material addition section k is formed after the moisture adjustment section g of the material adjustment section A. This is because the continuous forming zone A shrinks by about 5% during drying because the clay 1 contains about 20% moisture, but the long fiber cracks and cracks on the drying plate C due to the shrinkage. It is effective as a material for preventing cracks and cracks from occurring. Of course, if you dry so that cracks and deformation do not occur,
It is unnecessary.
【0051】また、長繊維としては、無機繊維、鉱物繊
維、有機繊維等よりなり、例えばガラス繊維、岩石繊
維、金属繊維、スラッグ繊維、ワラストナイト、アスベ
スト、ロックウール、セラミックファイバー、パルプ、
化学繊維、等である。The long fibers are made of inorganic fibers, mineral fibers, organic fibers, etc., such as glass fibers, rock fibers, metal fibers, slug fibers, wollastonite, asbestos, rock wool, ceramic fibers, pulp, and the like.
Chemical fiber, etc.
【0052】図14(a)〜(c)は押出成形機3、あ
るいは乾燥機9の後に加工部20を形成した装置を示す
ものである。FIGS. 14A to 14C show an apparatus in which a processing section 20 is formed after the extruder 3 or the dryer 9.
【0053】なお、番号を付さない部分は図1、図11
(b)等に準ずるものである。勿論、各構成を各々組み
合わせて本発明に係る装置を形成することが出来るもの
である。The parts without numbers are shown in FIGS.
(B) and so on. Of course, it is possible to form the device according to the present invention by combining the respective components.
【0054】[0054]
【発明の効果】上述したように、本発明に係る陶板の連
続製造装置によれば、原料の粒度、原料の配合をコント
ロールすることにより、寸法精度の高い陶板を製造出
来る。生産性、歩留まり良い陶板を製造することが出
来る。品質の向上、安定化が図られる。陶板の割
れ、捻れ、化粧面の波状化、凹凸状化が防止できる。
練り土製造時の水分調整が楽である。等の特徴、効果が
ある。As described above, according to the continuous production apparatus for a porcelain plate according to the present invention, a porcelain plate with high dimensional accuracy can be produced by controlling the particle size of the raw materials and the blending of the raw materials. Ceramic plates with good productivity and good yield can be manufactured. The quality is improved and stabilized. It can prevent cracking, twisting, corrugation and unevenness of the decorative surface of the ceramic plate.
It is easy to adjust the moisture during the production of kneaded soil. There are features and effects such as.
【図1】本発明に係る陶板の連続製造装置の代表的な一
例を示す概略説明図である。FIG. 1 is a schematic explanatory view showing a typical example of a continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図2】本発明に係る陶板の連続製造装置の代表的な構
成を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a typical configuration of a continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図3】連続成形帯の一例を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory view showing an example of a continuously formed band.
【図4】連続成形帯の一例を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing an example of a continuously formed band.
【図5】押出成形機を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory view showing an extruder.
【図6】押出成形機の先端部分と中子を示す説明図であ
る。FIG. 6 is an explanatory view showing a tip portion and a core of the extruder.
【図7】焼成炉の一例を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory view showing an example of a firing furnace.
【図8】本発明に係る陶板の連続製造装置のその他の実
施例を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory view showing another embodiment of the continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図9】本発明に係る陶板の連続製造装置のその他の実
施例を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory view showing another embodiment of the continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図10】本発明に係る陶板の連続製造装置のその他の
実施例を示す説明図である。FIG. 10 is an explanatory view showing another embodiment of the continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図11】本発明に係る陶板の連続製造装置のその他の
実施例を示す説明図である。FIG. 11 is an explanatory view showing another embodiment of the continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図12】本発明に係る陶板の連続製造装置のその他の
実施例を示す説明図である。FIG. 12 is an explanatory view showing another embodiment of the continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図13】本発明に係る陶板の連続製造装置のその他の
実施例を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory view showing another embodiment of the continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図14】本発明に係る陶板の連続製造装置のその他の
実施例を示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory view showing another embodiment of the continuous ceramic plate manufacturing apparatus according to the present invention.
α 化粧面 β 中空部 a 原料調合部 b ミル擦り部 c 脱水部 d 土練り部 e 粗砕部 f 乾燥部 g 水分調整部 h 混練部 i ネカシ部 j 真空土練部 k 長繊維原料添加部 A 原料調整部 B 連続成形帯 C 乾燥板 D 焼成板 E 陶板 F 加工板 G 研磨板 H 施釉板 I 施釉焼成板 J 製品加工部 1 粘土 2 ベルトコンベア 3 押出成形機 3a 調整バー 3b 調整ボルト 4 口金 5 中子 5a 格子 6 吸、排気管 7 ポンプ 8 駆動用搬送機 9 乾燥機 9a 熱源 10 切断機 11 移送機 12 焼成炉 12a 入口 12b 出口 13 予熱領域 14 焼成領域 15 冷却領域 16 金属主軸 17 金属主軸 18 アルミナローラ 19 搬送機 20 加工部 21 研磨部 22 ポリッシングマシン 23 ダイヤモンド研磨ホイル 24 施釉部 24a 施釉機 25 焼成機 26 搬送兼ストックヤード α Coated surface β Hollow part a Raw material preparation part b Mill rubbing part c Dehydration part d Moulding part e Crushing part f Drying part g Moisture adjustment part h Kneading part i Nekashi part j Vacuum soil kneading part k Long fiber material addition part A Raw material adjusting section B Continuous forming strip C Drying board D Burning board E Ceramic board F Working board G Polishing board H Glazing board I Glazing firing board J Product processing section 1 Clay 2 Belt conveyor 3 Extruder 3a Adjusting bar 3b Adjusting bolt 4 Cap 5 Core 5a Lattice 6 Suction and exhaust pipe 7 Pump 8 Driving transfer machine 9 Dryer 9a Heat source 10 Cutting machine 11 Transfer machine 12 Firing furnace 12a Inlet 12b Outlet 13 Preheating area 14 Firing area 15 Cooling area 16 Metal spindle 17 Metal spindle 18 Alumina roller 19 Conveyor 20 Processing part 21 Polishing part 22 Polishing machine 23 Diamond polishing foil 24 Glazing part 24a Glazing machine 25 Firing 26 transport and stock yard
Claims (1)
砕−乾燥−水分調整−混練により形成した粘土と、該粘
土原料を連続して押し出す押出成形機と、該押し出され
た連続成形帯を乾燥する乾燥機と、乾燥した乾燥板を連
続的に予熱−焼成−徐冷を行う焼成炉と、乾燥機と焼成
炉間あるいは焼成炉後に形成した切断機とからなること
を特徴とする陶板の連続製造装置。1. An extruder for continuously extruding clay formed by mixing raw materials, milling, dewatering, dewatering, kneading, crushing, drying, adjusting water content, and kneading, and extruding continuous molding. It is characterized by comprising a dryer for drying the belt, a baking furnace for continuously preheating, baking, and gradually cooling the dried drying plate, and a cutting machine formed between the drier and the baking furnace or after the baking furnace. Continuous ceramic plate manufacturing equipment.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1095797A JPH10202645A (en) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | Device for continuously manufacturing ceramic plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1095797A JPH10202645A (en) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | Device for continuously manufacturing ceramic plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10202645A true JPH10202645A (en) | 1998-08-04 |
Family
ID=11764675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1095797A Pending JPH10202645A (en) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | Device for continuously manufacturing ceramic plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10202645A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001072490A1 (en) * | 2000-03-29 | 2001-10-04 | Venkatesha Rudrapatnakeshavamu | Process and system for vitrified extruded ceramic tiles and profiles |
ES2180388A1 (en) * | 2000-08-24 | 2003-02-01 | Santamaria Fernando Basco | Fabrication of gunshot competition and training clay targets used in ceramics industry consists of hammer milling and wetting of clay, for extrusion, pressing and baking |
JP2016130671A (en) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | 清水建設株式会社 | Method for drying bentonite molding |
-
1997
- 1997-01-24 JP JP1095797A patent/JPH10202645A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001072490A1 (en) * | 2000-03-29 | 2001-10-04 | Venkatesha Rudrapatnakeshavamu | Process and system for vitrified extruded ceramic tiles and profiles |
ES2180388A1 (en) * | 2000-08-24 | 2003-02-01 | Santamaria Fernando Basco | Fabrication of gunshot competition and training clay targets used in ceramics industry consists of hammer milling and wetting of clay, for extrusion, pressing and baking |
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A02 | Decision of refusal |
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