JPH10202594A - Fine hole forming device - Google Patents

Fine hole forming device

Info

Publication number
JPH10202594A
JPH10202594A JP9019875A JP1987597A JPH10202594A JP H10202594 A JPH10202594 A JP H10202594A JP 9019875 A JP9019875 A JP 9019875A JP 1987597 A JP1987597 A JP 1987597A JP H10202594 A JPH10202594 A JP H10202594A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
minute
roller
fine
forming apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9019875A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinji Tezuka
伸治 手塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP9019875A priority Critical patent/JPH10202594A/en
Publication of JPH10202594A publication Critical patent/JPH10202594A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fine hole forming device punching a fine hole in a film by passing the film between rollers having very small projecting parts formed with highly accurate sizes and arrangements. SOLUTION: A projecting roller impregnates a conductive cylindrical body 11 in resist, pulls up the cylindrical body 11 at constant speed and forms a resist film 12 of uniform film thickness which is thicker than the height of a very small projecting part 5. A post-bake is performed for this resist film 12, the resist film 12 is fixed to the surface of the cylindrical body 11, a laser abrasion elimination is performed via a mask and a fine hole 16 is formed in the resist film 12. The cylindrical body 11 coated with this resist film 12 is impregnated in an electrocast tank, an electrodepostion is performed, metal 17 to be the very small projecting part 5 is made to grow in only a part in which the fine hole 16 is formed on the surface of the cylindrical body 11 and the very small projecting part 5 is formed. The resist film 12 is peeled from the cylindrical body 11 and a projecting roller on the surface of which the very small projecting part 5 is formed. By passing a resin film between this projecting roller and a smoothing roller, the fine hole is formed in the resin film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、微細孔形成装置に
関し、詳細には、フィルムを微小凸部を有するローラ間
を通過させることによりローラ上に設けられた凸部でフ
ィルムに微細孔を穿設する微細孔形成装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fine hole forming apparatus, and more particularly, to a method of forming a fine hole in a film by passing a film between rollers having minute protrusions by using a protrusion provided on the roller. The present invention relates to a micropore forming apparatus to be provided.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、フィルムに微細孔を形成する微細
孔形成装置としては、例えば、特開平4−2499号公
報に記載された樹脂フィルムの穿孔装置及び穿孔方法が
ある。この穿孔装置及び穿孔方法は、一対の狭圧ローラ
を有し、一方の狭圧ローラの表面に微細な凹凸を形成
し、これら一対の狭圧ローラ間に樹脂フィルムを通過さ
せ、上記一方の狭圧ローラに形成した凹凸面の凸部で上
記樹脂フィルムを突き破ることによりこの樹脂フィルム
に微細な孔を形成している。そして、この従来の穿孔装
置及び穿孔方法は、具体的には、樹脂フィルムの送り経
路途中に、一対の狭圧ローラを設け、押圧側の狭圧ロー
ラは、スチールの中空のローラ本体の表面に人工ダイヤ
モンドの粒子を付着させることにより、凹凸を形成して
いる。一対の狭圧ローラ間で強圧された樹脂フィルム
は、人工ダイヤモンド粒子により突き破られて、微細な
穴が開けられる。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a micropore forming apparatus for forming micropores in a film, for example, there is a resin film punching apparatus and a punching method described in JP-A-4-2499. The punching device and the punching method have a pair of narrow pressure rollers, form fine irregularities on the surface of one narrow pressure roller, pass a resin film between the pair of narrow pressure rollers, and A fine hole is formed in the resin film by piercing the resin film with the convex portion of the uneven surface formed on the pressure roller. In the conventional punching device and the conventional punching method, specifically, a pair of narrow pressure rollers are provided in the middle of the resin film feeding path, and the pressing side narrow pressure roller is provided on the surface of the hollow steel roller body. The irregularities are formed by attaching artificial diamond particles. The resin film strongly pressed between the pair of narrow pressure rollers is pierced by artificial diamond particles to form fine holes.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の微細孔形成装置にあっては、ローラ表面に人
工ダイヤモンド粒子を固着して、この人工ダイヤモンド
粒子により樹脂フィルムを突き破って微細な孔を開けて
いたため、樹脂フィルムに形成される微細孔の大きさや
形状及び微細孔形成位置にバラツキが発生するという問
題があった。
However, in such a conventional fine hole forming apparatus, artificial diamond particles are fixed on the roller surface, and the artificial diamond particles break through the resin film to form fine holes. Due to the opening, there is a problem that the size and shape of the fine holes formed in the resin film and the positions where the fine holes are formed vary.

【0004】すなわち、従来の微細孔形成装置にあって
は、ローラ表面に固着される人工ダイヤモンド粒子の大
きさにバラツキがあり、また、ローラ表面への人工ダイ
ヤモンド粒子の固着により形成されるローラ表面の凹凸
の高さや大きさが不規則で、かつ、密度も不均一なもの
となっている。したがって、この人工ダイヤモンド粒子
の固着されたローラ間に樹脂フィルムを通過させて樹脂
フィルムに微細孔を形成すると、樹脂フィルムに形成さ
れる微細孔は、最大の大きさのダイヤモンド粒子と同程
度の大きさから制御不可能な程度の微細な大きさまでの
様々な大きさに形成され、さらに、ローラ表面の人工ダ
イヤモンド粒子が互いに接している場合には、さらに大
きな孔が形成される。その結果、樹脂フィルムに形成さ
れる微細孔は、その大きさが、数十ミクロンのバラツキ
を有し、不均一となるとともに、その形状も不定形とな
るという問題があった。
That is, in the conventional micropore forming apparatus, the size of the artificial diamond particles fixed on the roller surface varies, and the roller surface formed by the fixing of the artificial diamond particles on the roller surface is varied. The height and size of the irregularities are irregular, and the density is also uneven. Therefore, when the resin film is passed through the roller to which the artificial diamond particles are fixed to form fine holes in the resin film, the fine holes formed in the resin film are as large as the largest diamond particles. Therefore, when the artificial diamond particles on the surface of the roller are in contact with each other, a larger hole is formed. As a result, there has been a problem that the fine holes formed in the resin film have a variation of several tens of microns in size, become non-uniform, and have an irregular shape.

【0005】そこで、請求項1記載の発明は、複数の微
小凸部の形成された一対のローラ間にフィルムを通過さ
せて微細な孔を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形
成されたローラを、導電性を有する円筒状ローラ上に樹
脂等の非導電性皮膜を微小凸部の高さより厚く形成し、
微小凸部に相当する部分の皮膜をレーザーアブレーショ
ン加工により分解除去することにより微細孔を形成し、
電鋳法により金属を当該微細孔内に成長させてローラ表
面に直接微小凸部を形成して、形成することにより、任
意の位置に任意の径の微小凸部を、工程数を削減しつ
つ、正確に、かつ、意図する密度で形成して、フィルム
に意図する大きさで意図する位置に高精度に微細孔を形
成することのできる安価な微細孔形成装置を提供するこ
とを目的としている。
In view of the above, according to the first aspect of the present invention, the minute projections are formed in a minute hole forming apparatus for passing a film between a pair of rollers on which a plurality of minute projections are formed to form minute holes. Roller, a non-conductive film such as resin is formed on a conductive cylindrical roller thicker than the height of the minute projections,
By forming a fine hole by decomposing and removing the film of the part corresponding to the minute convex part by laser ablation processing,
By growing a metal in the micropores by electroforming and forming microprojections directly on the roller surface, forming microprojections of any diameter at arbitrary positions, reducing the number of processes It is an object of the present invention to provide an inexpensive micro-hole forming apparatus capable of accurately and forming a micro-hole at an intended position with an intended size by forming the film at an intended size with high precision. .

【0006】請求項2記載の発明は、複数の微小凸部の
形成された一対のローラ間にフィルムを通過させて微細
な孔を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形成された
ローラを、導電性を有する平板基板上に樹脂フィルム等
の非導電性皮膜を微小凸部の高さよりも厚く形成し、微
小凸部の形成位置に相当する部分の非導電性皮膜をレー
ザーアブレーション加工により分解除去することにより
微細孔を形成し、電鋳法により金属を当該微細孔内の平
板基板上に成長させて微小凸部を形成し、当該微小凸部
の形成された平板基板を微小凸部の形成された面を表面
にして円筒状に巻き付けて、形成することにより、任意
の位置に任意の径の微小凸部を、より一層正確に、か
つ、意図する密度で形成して、フィルムに意図する大き
さで意図する位置により一層高精度に微細孔を形成する
ことのできる微細孔形成装置を提供することを目的とし
ている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine protrusions. A non-conductive film such as a resin film is formed thicker than the height of the minute protrusions on a conductive flat substrate, and the non-conductive film corresponding to the position where the minute protrusions are formed is formed by laser ablation processing. A fine hole is formed by decomposition and removal, and a metal is grown on the flat substrate in the fine hole by electroforming to form a minute convex portion. By forming the surface with the surface formed as a surface and winding it into a cylindrical shape, by forming, a micro convex portion of any diameter at any position, more accurately, and at the intended density, to form a film, At the intended position with the intended size And its object is to provide a micropore forming apparatus capable of forming micropores in more accurate Ri.

【0007】請求項3記載の発明は、複数の微小凸部の
形成された一対のローラ間にフィルムを通過させて微細
な孔を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形成された
ローラを、導電性を有する平板基板上にフォトレジスト
による非導電性皮膜を微小凸部の高さよりも厚く形成
し、微小凸部の形成位置に相当する部分の非導電性皮膜
をフォトリソグラフィーにより除去することにより微細
孔を形成し、電鋳法により金属を当該微細孔内の平板基
板上に成長させて微小凸部を形成し、当該微小凸部の形
成された平板基板を当該微小凸部の形成された面を表面
にして円筒状に巻き付けて、形成することにより、任意
の位置に任意の径の微小凸部を、より一層正確に、か
つ、意図する密度で形成して、フィルムに意図する大き
さで意図する位置により一層高精度に微細孔を形成する
ことのできる微細孔形成装置を提供することを目的とし
ている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a roller having fine projections formed in a fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine projections. A non-conductive film made of a photoresist is formed thicker than the height of the minute protrusions on a flat plate substrate having conductivity, and the portion of the non-conductive film corresponding to the formation position of the minute protrusions is removed by photolithography. The minute holes are formed by this, and a metal is grown on the flat substrate in the minute holes by electroforming to form minute projections. The flat substrate on which the minute projections are formed is formed with the minute projections. By winding the formed surface into a cylindrical shape and forming it, a microprojection with an arbitrary diameter at an arbitrary position can be formed more accurately and at an intended density, and intended for a film. Depends on size and intended position And its object is to provide a micropore forming apparatus capable of forming micropores in even higher accuracy.

【0008】請求項4記載の発明は、複数の微小凸部の
形成された一対のローラ間にフィルムを通過させて微細
な孔を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形成された
ローラを、ガラス基板上に感光性ポリイミド層を微小凸
部の高さよりも厚く形成し、微小凸部の形成位置に相当
する部分の感光性ポリイミド層をフォトリソグラフィー
によりパターニング除去することにより微細孔を形成
し、当該微細孔の形成された感光性ポリイミド層をガラ
ス基板から剥離し、ポストキュアによりポリイミドフィ
ルムとして円筒状ローラの表面に固定し、電鋳法により
金属を微細孔内のローラの表面に成長させて微小凸部を
形成して、形成することにより、任意の位置に任意の径
の微小凸部を、より一層正確に、かつ、意図する密度で
形成するとともに、微小凸部を根元よりも先端側を細く
形成して、フィルムに意図する大きさで意図する位置に
より一層高精度に、かつ、より一層微細な微細孔を形成
することのできる微細孔形成装置を提供することを目的
としている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a roller having fine projections formed in a fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine projections. Is formed on a glass substrate by forming a photosensitive polyimide layer thicker than the height of the minute protrusions, and forming a fine hole by patterning and removing the photosensitive polyimide layer corresponding to the position where the minute protrusions are formed by photolithography. Then, the photosensitive polyimide layer in which the micropores are formed is peeled from the glass substrate, fixed as a polyimide film on the surface of the cylindrical roller by post cure, and metal is grown on the roller surface in the micropores by electroforming. By forming a small convex portion by forming, by forming a small convex portion of any diameter at any position, more accurately, and, at the intended density, A fine hole forming apparatus that can form a small convex portion on the tip side narrower than the root and more precisely at the intended position in the film at the intended position, and can form finer fine holes. It is intended to provide.

【0009】請求項5記載の発明は、複数の微小凸部の
形成された一対のローラ間にフィルムを通過させて微細
な孔を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形成された
ローラを、ガラス基板上に感光性ポリイミド層を微小凸
部の高さよりも厚く形成し、ガラス転移温度以下で乾燥
させた後、微小凸部の形成位置に相当する部分の感光性
ポリイミド層をレーザーアブレーション加工で除去する
ことにより微細孔を形成し、当該微細孔の形成された感
光性ポリイミド層をガラス基板から剥離して、ポストキ
ュアによりポリイミドフィルムとし、当該ポリイミドフ
ィルムを円筒状ローラの表面に当該ポリイミドフィルム
のレーザーの照射面を当該ローラの表面に合わせて固定
して、電鋳法により金属を微細孔内のローラの表面に成
長させて微小凸部を形成して、形成することにより、任
意の位置に任意の径の微小凸部を、より一層正確に、か
つ、意図する密度で形成するとともに、微小凸部を根元
よりも先端側を細く形成して、フィルムに意図する大き
さで意図する位置により一層高精度に、かつ、より一層
微細な微細孔を形成することのできる微細孔形成装置を
提供することを目的としている。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a roller having fine projections formed in a fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine projections formed therein. After forming a photosensitive polyimide layer thicker than the height of the minute protrusions on the glass substrate and drying it below the glass transition temperature, laser ablation the photosensitive polyimide layer in the portion corresponding to the formation position of the minute protrusions Micropores are formed by removing by processing, the photosensitive polyimide layer in which the micropores are formed is peeled off from the glass substrate, a polyimide film is formed by post cure, and the polyimide film is formed on the surface of a cylindrical roller by the polyimide. The laser irradiation surface of the film is fixed according to the surface of the roller, and metal is grown on the roller surface in the micropores by electroforming to produce minute projections. By forming and forming, a minute convex portion of an arbitrary diameter at an arbitrary position is formed more precisely and at an intended density, and the minute convex portion is formed narrower at the tip side than at the base. It is another object of the present invention to provide a fine hole forming apparatus capable of forming finer fine holes with higher precision at a desired position in a film at a desired size.

【0010】請求項6記載の発明は、非導電性皮膜を、
液状感光性ポリイミド中にローラまたは平板基板を浸漬
した後、一定の速度で引き上げ、ベークを施して固体状
の感光性ポリイミド皮膜を形成して、形成することによ
り、液状感光性ポリイミドの粘度と引き上げ速度により
正確に非導電性皮膜の膜厚を調整し、安価に、かつ、精
度良く微小凸部を形成して、フィルムに意図する大きさ
で意図する位置に高精度に微細孔を形成することのでき
るより一層安価な微細孔形成装置を提供することを目的
としている。
[0010] According to a sixth aspect of the present invention, a non-conductive film is provided.
After immersing the roller or flat substrate in the liquid photosensitive polyimide, pull it up at a constant speed, bake it to form a solid photosensitive polyimide film, and by forming, raise the viscosity of the liquid photosensitive polyimide and raise it To precisely adjust the thickness of the non-conductive film by the speed, form minute projections inexpensively and accurately, and form fine holes in the film in the intended size and at the intended position with high precision. It is an object of the present invention to provide an even more inexpensive micropore forming apparatus.

【0011】請求項7記載の発明は、非導電性皮膜を、
厚膜用レジストの液体中にローラまたは平板基板を浸漬
した後、一定の速度で引き上げ、ベークを施して固化さ
せて、形成することにより、液体の圧膜用レジストの粘
度と引き上げ速度により正確に非導電性皮膜の膜厚を調
整し、安価に、かつ、精度良く微小凸部を形成して、フ
ィルムに意図する大きさで意図する位置に高精度に微細
孔を形成することのできるより一層安価な微細孔形成装
置を提供することを目的としている。
According to a seventh aspect of the present invention, the non-conductive film is
After immersing the roller or flat substrate in the liquid for thick-film resist, pull it up at a constant speed, bake it to solidify it, and form it.Accurately with the viscosity and pull-up speed of the liquid pressure resist, By adjusting the film thickness of the non-conductive film, inexpensively, and precisely forming the minute projections, it is possible to form the fine holes in the film at the intended position with the intended size with high precision. It is intended to provide an inexpensive micropore forming apparatus.

【0012】請求項8記載の発明は、感光性ポリイミド
層を、ガラス基板に下地処理を施すことなく、当該ガラ
ス基板上にポジ型感光性ポリイミドを塗布して、形成す
ることにより、フッ酸等を用いたエッチング工程を行う
ことなく、ガラス基板から容易に皮膜を剥離することが
でき、安定性良く、かつ、効率的に微小凸部の形成され
たローラを形成し、フィルムに意図する大きさで意図す
る位置に高精度に微細孔を形成することのできるより一
層安価な微細孔形成装置を提供することを目的としてい
る。
[0012] The invention according to claim 8 is to provide a photosensitive polyimide layer by applying a positive photosensitive polyimide on a glass substrate without subjecting the glass substrate to a base treatment, thereby forming a hydrofluoric acid or the like. The film can be easily peeled off from the glass substrate without performing an etching process using a film, with good stability, and efficiently forming a roller with fine projections formed thereon, and the intended size of the film It is an object of the present invention to provide an even more inexpensive micropore forming apparatus capable of forming micropores at desired positions with high precision.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明の微
細孔形成装置は、少なくとも一方の円筒状のローラの表
面に複数の微小凸部の形成された一対のローラ間にフィ
ルムを通過させて、前記ローラの前記微小凸部により前
記フィルムに微細な孔を穿設する微細孔形成装置であっ
て、前記微小凸部の形成された前記ローラは、導電性を
有する円筒状ローラの表面上に樹脂フィルム等の非導電
性皮膜を前記微小凸部の高さよりも厚く形成し、前記微
小凸部の形成位置に相当する部分の前記非導電性皮膜を
レーザーアブレーション加工により分解除去することに
より微細孔を形成して、前記ローラの表面を露出させ、
電鋳法により金属を前記微細孔内の前記ローラ表面に所
定高さまで成長させて前記微小凸部を形成することによ
り、形成されていることにより、上記目的を達成してい
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a fine hole forming apparatus for passing a film between a pair of rollers having a plurality of minute projections formed on at least one cylindrical roller. A fine hole forming apparatus for forming a fine hole in the film by the minute convex portion of the roller, wherein the roller having the minute convex portion is formed on a surface of a conductive cylindrical roller. A non-conductive film such as a resin film is formed thicker than the height of the minute protrusions, and the non-conductive film in a portion corresponding to the position where the minute protrusions are formed is decomposed and removed by laser ablation processing. Forming a hole to expose the surface of the roller,
The above-mentioned object is achieved by forming the minute projections by growing a metal to a predetermined height on the roller surface in the minute holes by electroforming.

【0014】上記構成によれば、複数の微小凸部の形成
された一対のローラ間にフィルムを通過させて微細な孔
を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形成されたロー
ラを、導電性を有する円筒状ローラ上に樹脂等の非導電
性皮膜を微小凸部の高さより厚く形成し、微小凸部に相
当する部分の皮膜をレーザーアブレーション加工により
分解除去することにより微細孔を形成し、電鋳法により
金属を当該微細孔内に成長させてローラ表面に直接微小
凸部を形成して、形成しているので、任意の位置に任意
の径の微小凸部を、工程数を削減しつつ、正確に、か
つ、意図する密度で形成することができ、フィルムに意
図する大きさで意図する位置に高精度に微細孔を形成す
ることができるとともに、微細孔形成装置を安価なもの
とすることができる。
[0014] According to the above configuration, the roller having the fine projections formed therein is formed by a fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine projections formed therein. Form a non-conductive film of resin or the like thicker than the height of the minute protrusions on a conductive cylindrical roller, and form fine holes by decomposing and removing the film corresponding to the minute protrusions by laser ablation processing. Then, a metal is grown in the micropores by electroforming and the microprojections are formed directly on the roller surface. While reducing, it can be formed accurately and at the intended density, and it is possible to form the fine holes at the intended position with the intended size in the film with high precision, and to use a low cost micropore forming apparatus. Can be

【0015】請求項2記載の発明の微細孔形成装置は、
少なくとも一方のローラの表面に複数の微小凸部の形成
された一対のローラ間にフィルムを通過させて、前記ロ
ーラの前記微小凸部により前記フィルムに微細な孔を穿
設する微細孔形成装置であって、前記微小凸部の形成さ
れた前記ローラは、導電性を有する平板基板上に樹脂フ
ィルム等の非導電性皮膜を前記微小凸部の高さよりも厚
く形成し、前記微小凸部の形成位置に相当する部分の前
記非導電性皮膜をレーザーアブレーション加工により分
解除去することにより微細孔を形成して、前記平板基板
の表面を露出させ、電鋳法により金属を前記微細孔内の
前記平板基板上に所定高さまで成長させて前記微小凸部
を形成し、当該微小凸部の形成された前記平板基板を当
該微小凸部の形成された面を表面にして円筒状に巻き付
けることにより、形成されていることにより、上記目的
を達成している。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a micropore forming apparatus comprising:
A fine hole forming apparatus that allows a film to pass between a pair of rollers having a plurality of fine protrusions formed on the surface of at least one of the rollers, and drills fine holes in the film by the fine protrusions of the rollers. The roller on which the minute protrusions are formed is formed by forming a non-conductive film such as a resin film thicker than the height of the minute protrusions on a conductive flat substrate, and forming the minute protrusions. The non-conductive film in a portion corresponding to the position is decomposed and removed by laser ablation processing to form fine holes, exposing the surface of the flat plate substrate, and forming a metal by electroforming on the flat plate in the fine holes. By growing to a predetermined height on the substrate to form the minute convex portion, by winding the flat substrate formed with the minute convex portion in a cylindrical shape with the surface on which the minute convex portion is formed as a surface, By being made, we have achieved the above objects.

【0016】上記構成によれば、複数の微小凸部の形成
された一対のローラ間にフィルムを通過させて微細な孔
を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形成されたロー
ラを、導電性を有する平板基板上に樹脂フィルム等の非
導電性皮膜を微小凸部の高さよりも厚く形成し、微小凸
部の形成位置に相当する部分の非導電性皮膜をレーザー
アブレーション加工により分解除去することにより微細
孔を形成し、電鋳法により金属を当該微細孔内の平板基
板上に成長させて微小凸部を形成し、当該微小凸部の形
成された平板基板を微小凸部の形成された面を表面にし
て円筒状に巻き付けて、形成しているので、任意の位置
に任意の径の微小凸部を、より一層正確に、かつ、意図
する密度で形成することができ、フィルムに意図する大
きさで意図する位置により一層高精度に微細孔を形成す
ることができる。
According to the above arrangement, the roller having the fine convex portions formed by the fine hole forming device of the fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine convex portions formed thereon is used. A non-conductive film, such as a resin film, is formed thicker than the height of the minute protrusions on a conductive flat substrate, and the non-conductive film corresponding to the position where the minute protrusions are formed is decomposed and removed by laser ablation processing. Forming fine holes by electroforming a metal on the flat substrate in the fine holes to form minute projections, and forming the flat substrate on which the minute projections are formed into minute projections. Since the formed surface is wound in a cylindrical shape and formed, a microprojection with an arbitrary diameter at an arbitrary position can be formed more accurately and at the intended density, and the film can be formed. The intended size in the intended size It is possible to form micropores in even higher accuracy.

【0017】請求項3記載の発明の微細孔形成装置は、
少なくとも一方のローラの表面に複数の微小凸部の形成
された一対のローラ間にフィルムを通過させて、前記ロ
ーラの前記微小凸部により前記フィルムに微細な孔を穿
設する微細孔形成装置であって、前記微小凸部の形成さ
れた前記ローラは、導電性を有する平板基板上にフォト
レジストによる非導電性皮膜を前記微小凸部の高さより
も厚く形成し、前記微小凸部の形成位置に相当する部分
の前記非導電性皮膜をフォトリソグラフィーにより除去
することにより微細孔を形成して、前記平板基板の表面
を露出させ、電鋳法により金属を前記微細孔内の前記平
板基板上に所定高さまで成長させて前記微小凸部を形成
し、当該微小凸部の形成された前記平板基板を当該微小
凸部の形成された面を表面にして円筒状に巻き付けるこ
とにより、形成されていることにより、上記目的を達成
している。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a micropore forming apparatus comprising:
A fine hole forming apparatus that allows a film to pass between a pair of rollers having a plurality of fine protrusions formed on the surface of at least one of the rollers, and drills fine holes in the film by the fine protrusions of the rollers. The roller on which the fine protrusions are formed is formed by forming a non-conductive film made of a photoresist thicker than the height of the fine protrusions on a conductive flat substrate, and forming the fine protrusions at a position where the fine protrusions are formed. By forming a fine hole by removing the non-conductive film of the portion corresponding to the by photolithography, to expose the surface of the flat substrate, a metal is formed by electroforming on the flat substrate in the fine hole. The micro-projections are formed by growing the micro-projections to a predetermined height, and the flat substrate on which the micro-projections are formed is wound in a cylindrical shape with the surface on which the micro-projections are formed as a surface. By and have achieved the above objects.

【0018】上記構成によれば、複数の微小凸部の形成
された一対のローラ間にフィルムを通過させて微細な孔
を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形成されたロー
ラを、導電性を有する平板基板上にフォトレジストによ
る非導電性皮膜を微小凸部の高さよりも厚く形成し、微
小凸部の形成位置に相当する部分の非導電性皮膜をフォ
トリソグラフィーにより除去することにより微細孔を形
成し、電鋳法により金属を当該微細孔内の平板基板上に
成長させて微小凸部を形成し、当該微小凸部の形成され
た平板基板を当該微小凸部の形成された面を表面にして
円筒状に巻き付けて、形成しているので、任意の位置に
任意の径の微小凸部を、より一層正確に、かつ、意図す
る密度で形成することができ、フィルムに意図する大き
さで意図する位置により一層高精度に微細孔を形成する
ことができる。
According to the above configuration, the roller having the fine projections formed therein is formed by a fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine projections formed therein. A non-conductive film made of photoresist is formed thicker than the height of the minute protrusions on a flat plate substrate having conductivity, and the non-conductive film corresponding to the formation position of the minute protrusions is removed by photolithography. A micro hole was formed, a metal was grown by electroforming on a flat substrate in the micro hole to form a minute projection, and the flat substrate on which the minute projection was formed was formed with the minute projection. Since it is wound and formed into a cylindrical shape with the surface as the surface, it is possible to form a microprojection with an arbitrary diameter at an arbitrary position more accurately and at the intended density, and The intended position at the size It is possible to form a finer pores even more high precision.

【0019】請求項4記載の発明の微細孔形成装置は、
少なくとも一方のローラの表面に複数の微小凸部の形成
された一対のローラ間にフィルムを通過させて、前記ロ
ーラの前記微小凸部により前記フィルムに微細な孔を穿
設する微細孔形成装置であって、前記微小凸部の形成さ
れた前記ローラは、ガラス基板上に感光性ポリイミド層
を前記微小凸部の高さよりも厚く形成し、前記微小凸部
の形成位置に相当する部分の前記感光性ポリイミド層を
フォトリソグラフィーによりパターニング除去すること
により微細孔を形成し、当該微細孔の形成された前記感
光性ポリイミド層を前記ガラス基板から剥離し、ポスト
キュアによりポリイミドフィルムとして円筒状ローラの
表面に固定し、電鋳法により金属を前記微細孔内の前記
ローラの表面に所定高さまで成長させて前記微小凸部を
形成することにより、形成されていることにより、上記
目的を達成している。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a micropore forming apparatus comprising:
A fine hole forming apparatus that allows a film to pass between a pair of rollers having a plurality of fine protrusions formed on the surface of at least one of the rollers, and drills fine holes in the film by the fine protrusions of the rollers. The roller on which the minute protrusions are formed is formed by forming a photosensitive polyimide layer on a glass substrate thicker than the height of the minute protrusions, and forming a photosensitive polyimide layer on a portion corresponding to a formation position of the minute protrusions. Micropores are formed by patterning and removing the conductive polyimide layer by photolithography, the photosensitive polyimide layer with the micropores formed is peeled from the glass substrate, and a polyimide film is formed on the surface of the cylindrical roller by post-curing. Fixed, and a metal is grown to a predetermined height on the surface of the roller in the micropores by electroforming to form the microprojections. By being formed, it has achieved the above objects.

【0020】上記構成によれば、複数の微小凸部の形成
された一対のローラ間にフィルムを通過させて微細な孔
を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形成されたロー
ラを、ガラス基板上に感光性ポリイミド層を微小凸部の
高さよりも厚く形成し、微小凸部の形成位置に相当する
部分の感光性ポリイミド層をフォトリソグラフィーによ
りパターニング除去することにより微細孔を形成し、当
該微細孔の形成された感光性ポリイミド層をガラス基板
から剥離し、ポストキュアによりポリイミドフィルムと
して円筒状ローラの表面に固定し、電鋳法により金属を
微細孔内のローラの表面に成長させて微小凸部を形成し
て、形成しているので、任意の位置に任意の径の微小凸
部を、より一層正確に、かつ、意図する密度で形成する
ことができるとともに、微小凸部を根元よりも先端側を
細く形成することができ、フィルムに意図する大きさで
意図する位置により一層高精度に、かつ、より一層微細
な微細孔を形成することができる。
According to the above configuration, the roller having the fine projections formed by the fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine projections formed thereon is used. The photosensitive polyimide layer is formed thicker than the height of the minute protrusions on the glass substrate, and the photosensitive polyimide layer in a portion corresponding to the formation position of the minute protrusions is patterned and removed by photolithography to form fine holes, The photosensitive polyimide layer in which the micropores were formed was peeled off from the glass substrate, fixed on the surface of the cylindrical roller as a polyimide film by post cure, and a metal was grown on the surface of the roller in the micropores by electroforming. Since the minute projections are formed and formed, the minute projections having an arbitrary diameter at an arbitrary position can be formed more accurately and at an intended density. In, than the root of the minute projections can be formed thin a leading end side, the more accurate the position intended in the size intended to film, and it is possible to form a finer micropores.

【0021】請求項5記載の発明の微細孔形成装置は、
少なくとも一方のローラの表面に複数の微小凸部の形成
された一対のローラ間にフィルムを通過させて、前記ロ
ーラの前記微小凸部により前記フィルムに微細な孔を穿
設する微細孔形成装置であって、前記微小凸部の形成さ
れた前記ローラは、ガラス基板上に感光性ポリイミド層
を前記微小凸部の高さよりも厚く形成し、ガラス転移温
度以下で乾燥させた後、前記微小凸部の形成位置に相当
する部分の前記感光性ポリイミド層をレーザーアブレー
ション加工で除去することにより微細孔を形成し、当該
微細孔の形成された前記感光性ポリイミド層を前記ガラ
ス基板から剥離して、ポストキュアによりポリイミドフ
ィルムとし、当該ポリイミドフィルムを円筒状ローラの
表面に当該ポリイミドフィルムの前記レーザーの照射面
を当該ローラの表面に合わせて固定して、電鋳法により
金属を前記微細孔内の前記ローラの表面に所定高さまで
成長させて前記微小凸部を形成することにより、形成さ
れていることにより、上記目的を達成している。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a micropore forming apparatus comprising:
A fine hole forming apparatus that allows a film to pass between a pair of rollers having a plurality of fine protrusions formed on the surface of at least one of the rollers, and drills fine holes in the film by the fine protrusions of the rollers. The roller on which the fine protrusions are formed is formed on a glass substrate by forming a photosensitive polyimide layer thicker than the height of the fine protrusions, and dried at a glass transition temperature or lower. The photosensitive polyimide layer of the portion corresponding to the formation position of the photosensitive polyimide layer is removed by laser ablation processing to form fine holes, the photosensitive polyimide layer in which the fine holes are formed is peeled from the glass substrate, and a post is formed. The polyimide film is cured by curing, and the polyimide film is irradiated on the surface of the cylindrical roller by the laser irradiation surface of the polyimide film. The above-described object is achieved by forming the micro-convex portion by forming a metal to a predetermined height on the surface of the roller in the micro-hole by electroforming to fix the metal to the predetermined height. doing.

【0022】上記構成によれば、複数の微小凸部の形成
された一対のローラ間にフィルムを通過させて微細な孔
を穿設する微細孔形成装置の微小凸部の形成されたロー
ラを、ガラス基板上に感光性ポリイミド層を微小凸部の
高さよりも厚く形成し、ガラス転移温度以下で乾燥させ
た後、微小凸部の形成位置に相当する部分の感光性ポリ
イミド層をレーザーアブレーション加工で除去すること
により微細孔を形成し、当該微細孔の形成された感光性
ポリイミド層をガラス基板から剥離して、ポストキュア
によりポリイミドフィルムとし、当該ポリイミドフィル
ムを円筒状ローラの表面に当該ポリイミドフィルムのレ
ーザーの照射面を当該ローラの表面に合わせて固定し
て、電鋳法により金属を微細孔内のローラの表面に成長
させて微小凸部を形成して、形成しているので、任意の
位置に任意の径の微小凸部を、より一層正確に、かつ、
意図する密度で形成することができるとともに、微小凸
部を根元よりも先端側を細く形成することができ、フィ
ルムに意図する大きさで意図する位置により一層高精度
に、かつ、より一層微細な微細孔を形成することができ
る。
According to the above configuration, the roller having the fine projections formed by the fine hole forming apparatus, in which the film is passed between a pair of rollers having the plurality of fine projections formed therein to form fine holes, After forming a photosensitive polyimide layer thicker than the height of the minute protrusions on the glass substrate and drying it at the glass transition temperature or lower, the photosensitive polyimide layer corresponding to the formation position of the minute protrusions is subjected to laser ablation processing. The fine holes are formed by removing, the photosensitive polyimide layer in which the fine holes are formed is peeled off from the glass substrate, and a polyimide film is formed by post cure, and the polyimide film is formed on the surface of the cylindrical roller by the polyimide film. The laser irradiation surface is fixed to the surface of the roller, and metal is grown on the roller surface in the micropores by electroforming to form minute projections. And, since the form, the minute projections of any size at any position, more accurately, and,
Along with being formed at the intended density, the fine protrusions can be formed to be thinner at the tip side than at the root, and more precisely at the intended position at the intended size on the film, and more finer Micropores can be formed.

【0023】上記請求項1または請求項2の場合、例え
ば、請求項6に記載するように、前記非導電性皮膜は、
液状感光性ポリイミド中に前記ローラまたは前記平板基
板を浸漬した後、一定の速度で引き上げ、規定のベーク
を施して固体状の感光性ポリイミド皮膜を形成すること
により、形成されていてもよい。
In the case of claim 1 or claim 2, for example, as described in claim 6, the non-conductive film is
The roller or the flat substrate may be formed by immersing the roller or the flat substrate in a liquid photosensitive polyimide, pulling it up at a constant speed, and performing a prescribed baking to form a solid photosensitive polyimide film.

【0024】上記構成によれば、非導電性皮膜を、液状
感光性ポリイミド中にローラまたは平板基板を浸漬した
後、一定の速度で引き上げ、ベークを施して固体状の感
光性ポリイミド皮膜を形成して、形成しているので、液
状感光性ポリイミドの粘度と引き上げ速度により正確に
非導電性皮膜の膜厚を調整することができ、安価に、か
つ、精度良く微小凸部を形成することができる。したが
って、フィルムに意図する大きさで意図する位置に高精
度に微細孔を形成することができるとともに、微細孔形
成装置をより一層安価なものとすることができる。
According to the above construction, the non-conductive film is immersed in a roller or a flat substrate in a liquid photosensitive polyimide, then pulled up at a constant speed and baked to form a solid photosensitive polyimide film. Since it is formed, the thickness of the non-conductive film can be accurately adjusted by the viscosity and the pulling speed of the liquid photosensitive polyimide, and the minute projections can be formed at low cost and with high accuracy. . Therefore, the micropores can be formed with high precision at the intended position in the film at the intended size, and the micropore forming apparatus can be made more inexpensive.

【0025】また、上記請求項1または請求項2の場
合、例えば、請求項7に記載するように、前記非導電性
皮膜は、厚膜用レジストの液体中に前記ローラまたは前
記平板基板を浸漬した後、一定の速度で引き上げ、規定
のベークを施して固化させることにより、形成されてい
てもよい。
In the case of claim 1 or claim 2, for example, the non-conductive film is formed by immersing the roller or the flat substrate in a liquid of a thick film resist. Then, it may be formed by pulling up at a constant speed, subjecting it to a prescribed bake and solidifying.

【0026】上記構成によれば、非導電性皮膜を、厚膜
用レジストの液体中にローラまたは平板基板を浸漬した
後、一定の速度で引き上げ、ベークを施して固化させ
て、形成しているので、液体の圧膜用レジストの粘度と
引き上げ速度により正確に非導電性皮膜の膜厚を調整す
ることかでき、安価に、かつ、精度良く微小凸部を形成
することができる。したがって、フィルムに意図する大
きさで意図する位置に高精度に微細孔を形成することが
できるとともに、微細孔形成装置をより一層安価なもの
とすることができる。
According to the above arrangement, the non-conductive film is formed by dipping the roller or the flat substrate in the liquid for the thick film resist, then pulling up at a constant speed, baking and solidifying. Therefore, the thickness of the non-conductive film can be accurately adjusted by the viscosity and the pulling speed of the liquid resist for pressure film, and the minute projections can be formed inexpensively and accurately. Therefore, the micropores can be formed with high precision at the intended position in the film at the intended size, and the micropore forming apparatus can be made more inexpensive.

【0027】さらに、上記請求項4または請求項5の場
合、例えば、請求項8に記載するように、前記感光性ポ
リイミド層は、前記ガラス基板に下地処理を施すことな
く、当該ガラス基板上にポジ型感光性ポリイミドを塗布
することにより、形成されていてもよい。
Further, in the case of claim 4 or claim 5, for example, as described in claim 8, the photosensitive polyimide layer is formed on the glass substrate without subjecting the glass substrate to a base treatment. It may be formed by applying a positive photosensitive polyimide.

【0028】上記構成によれば、感光性ポリイミド層
を、ガラス基板に下地処理を施すことなく、当該ガラス
基板上にポジ型感光性ポリイミドを塗布して、形成して
いるので、フッ酸等を用いたエッチング工程を行うこと
なく、ガラス基板から容易に皮膜を剥離することがで
き、安定性良く、かつ、効率的に微小凸部の形成された
ローラを形成することができる。したがって、フィルム
に意図する大きさで意図する位置に高精度に微細孔を形
成することができるとともに、微細孔形成装置をより一
層安価なものとすることができる。
According to the above structure, the photosensitive polyimide layer is formed by applying a positive photosensitive polyimide on the glass substrate without subjecting the glass substrate to a base treatment. It is possible to easily peel off the film from the glass substrate without performing the used etching step, and to form the roller with the fine projections with good stability and efficiency. Therefore, the micropores can be formed with high precision at the intended position in the film at the intended size, and the micropore forming apparatus can be made more inexpensive.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本
発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもので
はない。
Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. It should be noted that the embodiments described below are preferred embodiments of the present invention, and therefore, various technically preferable limitations are added. However, the scope of the present invention is not limited to the following description. The embodiments are not limited to these embodiments unless otherwise specified.

【0030】図1〜図4は、本発明の装置の一実施の形
態を示す図であり、図1は、本発明の微細孔形成装置の
一実施の形態を適用した微細孔形成装置1の要部斜視図
である。
FIGS. 1 to 4 are views showing an embodiment of the apparatus of the present invention. FIG. 1 is a view of a micropore forming apparatus 1 to which an embodiment of the micropore forming apparatus of the present invention is applied. It is a principal part perspective view.

【0031】図1において、微細孔形成装置1は、平滑
ローラ2と凸ローラ3を備えており、この平滑ローラ2
と凸ローラ3の間に樹脂フィルム4が通過される。
In FIG. 1, the fine hole forming apparatus 1 includes a smooth roller 2 and a convex roller 3.
The resin film 4 passes between the and the convex roller 3.

【0032】平滑ローラ2は、円筒状に形成され、その
表面が平滑面に形成されている。凸ローラ3は、円筒状
に形成され、その表面に複数の微小凸部5が形成されて
いる。微細孔形成装置1は、図2に示すように、回転駆
動される凸ローラ3と平滑ローラ2の間に樹脂フィルム
4が通過され、凸ローラ3の微小凸部5が樹脂フィルム
4を突き破って樹脂フィルム4に微小凸部5の寸法に応
じた微細孔6を形成する。
The smooth roller 2 is formed in a cylindrical shape, and has a smooth surface. The convex roller 3 is formed in a cylindrical shape, and a plurality of minute convex portions 5 are formed on a surface thereof. As shown in FIG. 2, in the micropore forming apparatus 1, the resin film 4 is passed between the rotating roller 3 and the smooth roller 2, and the minute protrusions 5 of the convex roller 3 break through the resin film 4. Fine holes 6 are formed in the resin film 4 according to the size of the minute protrusions 5.

【0033】上記微細孔形成装置1の凸ローラ3は、以
下に説明するようにして形成されている。すなわち、凸
ローラ3は、まず、図3(a)に示すように、表面が導
電性を有する円筒体11を所定のレジスト中に浸漬し
て、一定速度で円筒体11を引き上げ、円筒体11の表
面にレジスト皮膜12を均等な膜厚で、かつ、均一に形
成させる。このとき、円筒体11をレジスト中から引き
上げる速度及びレジストの粘度を、レジスト皮膜12が
微小凸部5の高さよりも厚い厚さとなるように、適宜調
整する。また、必要に応じて円筒体11をレジスト中に
浸漬させては、引き上げることを繰り返し行うことによ
り、レジスト皮膜12の膜厚が微小凸部5の高さよりも
厚くなる厚さに形成する。このようにして形成したレジ
スト皮膜12にポストベークを施し、レジスト皮膜12
を円筒体11の表面に固定する。
The convex roller 3 of the micropore forming apparatus 1 is formed as described below. That is, as shown in FIG. 3 (a), the convex roller 3 first immerses the cylindrical body 11 having a conductive surface in a predetermined resist, and pulls up the cylindrical body 11 at a constant speed. The resist film 12 is formed in a uniform thickness on the surface of the substrate. At this time, the speed at which the cylindrical body 11 is pulled out of the resist and the viscosity of the resist are appropriately adjusted so that the resist film 12 has a thickness greater than the height of the minute projections 5. If necessary, the cylindrical body 11 is immersed in the resist, and is repeatedly pulled up, so that the thickness of the resist film 12 is formed to be thicker than the height of the minute projections 5. Post-baking is performed on the resist film 12 thus formed, and the resist film 12
Is fixed to the surface of the cylindrical body 11.

【0034】このようにして、導電性を有する円筒体1
1の表面に、微小凸部5の高さよりも厚いレジスト皮膜
12を形成・固定すると、図4に示すように、レジスト
皮膜12の表面に、微小凸部5を形成する位置が開口と
なったパターンのマスク13及びレンズ14を介して、
一定エネルギー以上のレーザー光15、例えば、波長2
48nmのKrFエキシマレーザー光15を照射し、微
小凸部5を形成すべき位置のレジスト皮膜12をアブレ
ーション除去して、レジスト皮膜12の微小凸部5を形
成すべき位置に微細孔16を形成する。上記レーザー光
15の照射を、円筒体11を高さ方向及び周方向に順次
送って行うことにより、円筒体11表面のレジスト皮膜
12全面に行って、レジスト皮膜12の全面に微細孔1
6を形成する。このようにレジスト皮膜12の全面に微
細孔16が形成されると、図3(b)に示すように、レ
ジスト皮膜12は、その微小凸部5を形成すべき部分に
微細孔16が形成されて、この微細孔16の形成された
部分は、円筒体11の導電性を有する表面が露出した状
態となる。
In this manner, the conductive cylindrical body 1
When a resist film 12 thicker than the height of the minute projections 5 was formed and fixed on the surface of No. 1, the position where the minute projections 5 were formed became an opening on the surface of the resist film 12 as shown in FIG. Through the mask 13 and the lens 14 of the pattern,
Laser light 15 having a certain energy or more, for example, wavelength 2
A 48 nm KrF excimer laser beam 15 is irradiated to ablate and remove the resist film 12 at the position where the minute protrusion 5 is to be formed, thereby forming the fine hole 16 at the position where the minute protrusion 5 of the resist film 12 is to be formed. . The irradiation of the laser beam 15 is performed by sequentially sending the cylindrical body 11 in the height direction and the circumferential direction, thereby performing the entire surface of the resist film 12 on the surface of the cylindrical body 11, and forming the fine holes 1 on the entire surface of the resist film 12.
6 is formed. When the fine holes 16 are formed on the entire surface of the resist film 12 in this manner, as shown in FIG. 3B, the resist film 12 has the fine holes 16 formed in the portions where the fine convex portions 5 are to be formed. Thus, the portion where the fine holes 16 are formed has a state in which the conductive surface of the cylindrical body 11 is exposed.

【0035】次に、この微細孔16の形成されたレジス
ト皮膜12で覆われた円筒体11を電鋳槽に浸漬して、
円筒体11を陰極として電析を行うと、図3(c)に示
すように、円筒体11の導電性の表面が露出している微
細孔16の形成されている部分にのみ微小凸部5となる
金属17が成長し、形成すべき微小凸部5の高さまで、
この金属17を成長させた時点で電析を停止する。電析
においては、通常、金属が等方的に成長するが、円筒体
11の導電性の表面が微細孔16の形成されたレジスト
皮膜12で覆われており、レジスト皮膜12が形成する
微小凸部5の高さよりも厚く形成されているので、微小
凸部5となる金属17は、このレジスト皮膜12の微細
孔16の周囲のレジスト皮膜12により成長方向が制限
されて、レジスト皮膜12の微細孔16を埋めるように
成長する。したがって、微小凸部5となる金属17が微
細孔16の形状に応じて形成され、その成長高さを電析
の終了タイミングで調整することにより、必要とする高
さの微小凸部5となる金属17を成長させることができ
る。
Next, the cylindrical body 11 covered with the resist film 12 having the fine holes 16 is immersed in an electroforming tank.
When electrodeposition is performed using the cylindrical body 11 as a cathode, as shown in FIG. 3 (c), the minute projections 5 are formed only at the portions where the fine holes 16 where the conductive surface of the cylindrical body 11 is exposed are formed. Metal 17 grows up to the height of the minute protrusion 5 to be formed,
Electrodeposition is stopped when the metal 17 is grown. In the electrodeposition, usually, the metal grows isotropically, but the conductive surface of the cylindrical body 11 is covered with the resist film 12 in which the fine holes 16 are formed, and the minute protrusions formed by the resist film 12 are formed. Since the metal 17 to be the minute projections 5 is formed to be thicker than the height of the portion 5, the growth direction is limited by the resist film 12 around the fine holes 16 of the resist film 12, and the fineness of the resist film 12 is reduced. It grows so as to fill the hole 16. Therefore, the metal 17 to be the minute convex portion 5 is formed according to the shape of the minute hole 16, and the height of the metal 17 is adjusted at the end timing of the electrodeposition, whereby the minute convex portion 5 having a required height is obtained. Metal 17 can be grown.

【0036】次に、レジスト皮膜12を熱分解あるいは
溶剤処理等により円筒体11から剥離すると、図3
(d)に示すように、円筒体11の表面に微小凸部5の
形成された凸ローラ3を形成することができる。
Next, when the resist film 12 is peeled off from the cylindrical body 11 by thermal decomposition or solvent treatment, etc.
As shown in (d), the convex roller 3 having the fine convex portions 5 formed on the surface of the cylindrical body 11 can be formed.

【0037】したがって、凸ローラ3は、その微小凸部
5が意図する大きさと高さで、かつ、均一な大きさと高
さを有し、均一に配置されたものとなり、図1に示した
ように、この凸ローラ3と平滑ローラ2の間に樹脂フィ
ルム4を通過させて、樹脂フィルム4に微細孔6を形成
すると、樹脂フィルム4には、意図する大きさと分布
で、かつ、均一な微細孔6が形成される。また、円筒体
11の表面に直接微小凸部5を形成して、凸ローラ3を
形成することができ、凸ローラ3を形成するための工数
を削減して、微細孔形成装置1を安価なものとすること
ができる。
Therefore, the convex roller 3 has a size and a height intended by the minute convex portion 5, and has a uniform size and a height, and is arranged uniformly, as shown in FIG. Then, when the resin film 4 is passed between the convex roller 3 and the smooth roller 2 to form the fine holes 6 in the resin film 4, the resin film 4 has a uniform size, distribution and uniform fineness. A hole 6 is formed. Further, the minute convex portion 5 can be formed directly on the surface of the cylindrical body 11 to form the convex roller 3, and the man-hour for forming the convex roller 3 can be reduced, and the micropore forming apparatus 1 can be manufactured at low cost. Things.

【0038】なお、上記実施の形態においては、円筒体
11の表面に直接微小凸部5を形成して凸ローラ3を形
成しているが、凸ローラ3の形成方法は、上記の方法に
限るものではなく、例えば、凸ローラ3の円周表面に相
当する形状あるいはそれ以上の大きさの導電性薄板平板
基板に、接着剤を介して樹脂フィルムを接合して、この
樹脂フィルムに微細孔を形成し、平板基板に微小凸部5
を形成して、微小凸部5の形成された平板基板を円筒形
に形成して凸ローラ3としてもよい。
In the above embodiment, the convex roller 3 is formed by forming the minute convex portion 5 directly on the surface of the cylindrical body 11, but the method of forming the convex roller 3 is limited to the above method. Instead, for example, a resin film is bonded to a conductive thin plate substrate having a shape corresponding to the circumferential surface of the convex roller 3 or a larger size via an adhesive, and fine holes are formed in the resin film. Formed on the flat substrate,
And the flat substrate on which the minute projections 5 are formed may be formed into a cylindrical shape to form the projection rollers 3.

【0039】すなわち、まず、導電性を有する薄板で形
成された平板基板の表面に、接着剤により樹脂フィルム
等の非導電性皮膜(図3(a)のレジスト皮膜12に対
応する。)を接合する。このとき、樹脂フィルムとして
は、接着剤と樹脂フィルムを合わせた厚さが微小凸部5
の高さよりも厚くなる厚さの樹脂フィルムを使用する。
この樹脂フィルムの表面に、微小凸部5を形成する位置
が開口となったパターンのマスクを介してエキシマレー
ザー光を照射して、微小凸部5を形成すべき位置の樹脂
フィルムをレーザーアブレーション加工により分解除去
して、微細孔(図3(b)の微細孔16に対応する。)
を樹脂フィルムに形成する。そして、この微細孔の形成
された樹脂フィルムの接合された平板基板を電析により
微小凸部5の高さの金属(図3(c)の金属17に対応
する。)を成長させた後、樹脂フィルムを除去し、微小
凸部5の形成された平板基板を形成する。このようにし
て形成した微小凸部5の形成された平板基板を円筒状の
ローラの表面に、当該微小凸部5が表面側となるように
巻き付けて接着あるいはハンダ溶接等により接合し、表
面に微小凸部5を有する凸ローラ3を形成する。
That is, first, a non-conductive film (corresponding to the resist film 12 of FIG. 3A) such as a resin film is bonded to the surface of a flat substrate formed of a conductive thin plate by an adhesive. I do. At this time, the thickness of the resin film as a sum of the adhesive and the resin film is the minute protrusion 5.
Use a resin film with a thickness greater than the height of the resin film.
The surface of the resin film is irradiated with an excimer laser beam through a mask having a pattern in which the positions where the minute protrusions 5 are formed are open, and the resin film at the positions where the minute protrusions 5 are to be formed is subjected to laser ablation processing. To remove the fine holes (corresponding to the fine holes 16 in FIG. 3B).
Is formed on a resin film. Then, a metal (corresponding to the metal 17 in FIG. 3 (c)) having the height of the minute projections 5 is grown on the flat substrate to which the resin film having the fine holes formed is bonded by electrodeposition. The resin film is removed to form a flat substrate on which the minute projections 5 are formed. The flat substrate on which the minute projections 5 are formed is wound around the surface of a cylindrical roller so that the minute projections 5 are on the front side, and bonded or bonded by soldering or the like. The convex roller 3 having the minute convex portions 5 is formed.

【0040】この場合にも、凸ローラ3を、その微小凸
部5が均一で意図する大きさと高さを有し、意図する密
度で均一に配置されたものとすることができるととも
に、平板基板という平面上で微細孔を形成しているの
で、より一層精度良く微細孔を形成することができ、よ
り一層意図均一で意図する大きさと高さの微小凸部5を
形成することができる。その結果、図1に示したよう
に、この凸ローラ3と平滑ローラ2の間に樹脂フィルム
4を通過させて、樹脂フィルム4に微細孔6を形成する
と、樹脂フィルム4には、より一層均一で意図する大き
さで、かつ、均一に分布した微細孔6が形成される。
In this case as well, the convex roller 3 can be configured such that the minute convex portions 5 thereof are uniform and have the intended size and height and are uniformly arranged at the intended density. Since the micropores are formed on the plane, the micropores can be formed with higher precision, and the microprojections 5 having a more uniform and intended size and height can be formed. As a result, as shown in FIG. 1, when the resin film 4 is passed between the convex roller 3 and the smooth roller 2 to form the fine holes 6 in the resin film 4, the resin film 4 becomes even more uniform. Thus, the fine holes 6 having the intended size and uniformly distributed are formed.

【0041】また、上記平板基板を使用して、凸ローラ
3を形成する場合、平板基板上に形成する皮膜として
は、例えば、圧膜用レジストによる非導電性皮膜を用い
ると、フォトリソグラフィーにより直径30μm、深さ
30μm程度の微細孔を形成することができ、より微細
な微小凸部5を精度良く形成することができる。
In the case where the convex roller 3 is formed using the above-mentioned flat substrate, as the film formed on the flat substrate, for example, if a non-conductive film made of a resist for pressure film is used, the diameter can be increased by photolithography. Micropores of about 30 μm and a depth of about 30 μm can be formed, and finer microprojections 5 can be accurately formed.

【0042】さらに、平板基板として、ガラス基板を使
用し、このガラス基板に微細孔を形成する皮膜として、
感光性ポリイミドを使用してもよく、この場合、フォト
リソグラフィーにより微小凸部5を形成すべき位置の感
光性ポリイミドをパターニング除去して、感光性ポリイ
ミド皮膜に微細孔を形成する。このようにして微細孔を
形成した感光性ポリイミド皮膜をガラス転移温度以上で
ポストキュアする前に、ガラス基板から剥離する。この
際、フッ酸や硝フッ酸中に浸漬することにより、感光性
ポリイミド皮膜を剥離する。すなわち、キュア以前の感
光性ポリイミド皮膜は、その構造が粗であり、分子間の
隙間からフッ酸等が浸透してガラス基板の表面をエッチ
ングするので、感光性ポリイミド皮膜を回収することが
できる。このようにして得られた感光性ポリイミド皮膜
を円筒状ローラの表面に固定して電鋳を行うと、微小凸
部5を形成することができる。
Further, a glass substrate was used as a flat substrate, and a film for forming fine holes in the glass substrate was
A photosensitive polyimide may be used. In this case, the photosensitive polyimide at a position where the minute convex portion 5 is to be formed is removed by patterning by photolithography to form a fine hole in the photosensitive polyimide film. Before the photosensitive polyimide film in which the micropores are formed is post-cured at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature, the photosensitive polyimide film is separated from the glass substrate. At this time, the photosensitive polyimide film is peeled off by immersion in hydrofluoric acid or nitric hydrofluoric acid. In other words, the photosensitive polyimide film before curing has a rough structure, and hydrofluoric acid or the like penetrates through intermolecular gaps to etch the surface of the glass substrate, so that the photosensitive polyimide film can be collected. When the photosensitive polyimide film thus obtained is fixed on the surface of the cylindrical roller and electroformed, the minute projections 5 can be formed.

【0043】したがって、任意の位置に任意の径の微小
凸部5を、より一層正確に、かつ、意図する密度で形成
することができ、樹脂フィルム4に意図する大きさで意
図する位置により一層高精度に、かつ、より一層微細な
微細孔6を形成することができる。
Accordingly, the minute projections 5 having an arbitrary diameter can be formed more precisely and at an intended density at an arbitrary position, and can be formed in the resin film 4 at an intended size and an intended position. The fine holes 6 can be formed with high precision and further finely.

【0044】また、ガラス基板を使用し、微細孔を形成
する皮膜として感光性ポリイミド皮膜を使用した場合、
エキシマレーザー加工により感光性ポリイミド皮膜に微
細孔を形成してもよい。この場合、ガラス基板上に感光
性ポリイミド層を形成すると、まず、ガラス転移温度以
下で乾燥させ、その後、エキシマレーザーアブレーショ
ン加工により感光性ポリイミド層に微細孔を形成する。
このレーザーアブレーション加工により感光性ポリイミ
ド皮膜に形成される微細孔は、そのレーザー光の照射側
の開口径が非照射側の開口径に比較して、大きく形成さ
れ、表面側から底方向に向かってその開口径が狭くなる
テーパー形状に形成される。このようにして微細孔の形
成された感光性ポリイミド皮膜を、円筒状ローラの表面
と感光性ポリイミド皮膜の開口径の大きい方の面とを合
わせるようにして固定し、感光性ポリイミド皮膜を固定
した円筒状ローラを電鋳処理することにより、微小凸部
5を円筒状ローラの表面に形成して、凸ローラ3を形成
する。したがって、凸ローラ3の表面には、根元部から
先端部に向かってその断面径が小さい台形形状の微小凸
部5が形成される。その結果、凸ローラ3と平滑ローラ
2の間に樹脂フィルム4を通過させると、凸ローラ3の
微小凸部5の先端部に高い圧力が生じ、樹脂フィルム4
に容易に微細孔6を穿孔することができる。
Further, when a glass substrate is used and a photosensitive polyimide film is used as a film for forming micropores,
Fine holes may be formed in the photosensitive polyimide film by excimer laser processing. In this case, when the photosensitive polyimide layer is formed on the glass substrate, first, the photosensitive polyimide layer is dried at a temperature equal to or lower than the glass transition temperature, and then fine holes are formed in the photosensitive polyimide layer by excimer laser ablation.
The micropores formed in the photosensitive polyimide film by this laser ablation processing are formed such that the opening diameter on the side irradiated with the laser light is larger than the opening diameter on the non-irradiated side, and from the surface side toward the bottom. It is formed in a tapered shape whose opening diameter becomes narrow. The photosensitive polyimide film on which the micropores were formed in this manner was fixed such that the surface of the cylindrical roller and the surface with the larger opening diameter of the photosensitive polyimide film were aligned, and the photosensitive polyimide film was fixed. The minute roller 5 is formed on the surface of the cylindrical roller by electroforming the cylindrical roller to form the convex roller 3. Therefore, on the surface of the convex roller 3, a trapezoidal minute convex portion 5 having a smaller cross-sectional diameter from the root to the tip is formed. As a result, when the resin film 4 is passed between the convex roller 3 and the smooth roller 2, a high pressure is generated at the tip of the minute convex portion 5 of the convex roller 3, and the resin film 4
The micro holes 6 can be easily formed.

【0045】したがって、任意の位置に任意の径の微小
凸部5を、より一層正確に、かつ、意図する密度で形成
することができるとともに、微小凸部5を根元よりも先
端側を細く形成することができ、樹脂フィルム4に意図
する大きさで意図する位置により一層高精度に、かつ、
より一層微細な微細孔6を形成することができる。
Therefore, it is possible to form the minute projections 5 having an arbitrary diameter at an arbitrary position more accurately and at an intended density, and to form the minute projections 5 on the tip side narrower than the root. The size of the resin film 4 in the intended size and at the intended position with higher accuracy, and
Even finer micropores 6 can be formed.

【0046】さらに、上記感光性ポリイミド皮膜を使用
する場合、感光性ポリイミド皮膜を塗布する際に、下地
処理を行わずに、基板上に感光性ポリイミド皮膜を塗布
してもよい。すなわち、感光性ポリイミドのうち、ポジ
型のものは、ポジ型のフォトレジストと同様に、ガラス
面への密着力が弱く、通常は、基板面への密着増強剤塗
布等の下地処理を施した後に、感光性ポリイミドの塗布
を行うが、凸ローラ3の微小凸部5を形成するのに使用
する感光性ポリイミド皮膜を基板に形成する場合には、
密着増強剤の塗布等の下地処理を施すことなく、感光性
ポリイミド皮膜を基板上に形成する。このようにする
と、感光性ポリイミド皮膜に微小凸部5を形成するため
の微細孔を形成した後に、感光性ポリイミド皮膜を基板
から剥離する際、酸による基板エッチングを行うことな
く、感光性ポリイミド皮膜を基板から容易に剥離するこ
とができる。
Further, when the above-mentioned photosensitive polyimide film is used, the photosensitive polyimide film may be coated on the substrate without performing the base treatment when the photosensitive polyimide film is applied. That is, among the photosensitive polyimides, the positive type, like the positive type photoresist, has a weak adhesion to the glass surface, and is usually subjected to a base treatment such as application of an adhesion enhancer to the substrate surface. Later, a photosensitive polyimide is applied. When a photosensitive polyimide film used to form the minute convex portions 5 of the convex roller 3 is formed on the substrate,
A photosensitive polyimide film is formed on a substrate without performing a base treatment such as application of an adhesion enhancer. In this way, when the photosensitive polyimide film is peeled off from the substrate after forming the fine holes for forming the minute projections 5 in the photosensitive polyimide film, the photosensitive polyimide film is not etched without acid etching the substrate. Can be easily separated from the substrate.

【0047】以上、本発明者によってなされた発明を好
適な実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
上記のものに限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the preferred embodiments, the invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. It goes without saying that it is possible.

【0048】[0048]

【発明の効果】請求項1記載の発明の微細孔形成装置に
よれば、複数の微小凸部の形成された一対のローラ間に
フィルムを通過させて微細な孔を穿設する微細孔形成装
置の微小凸部の形成されたローラを、導電性を有する円
筒状ローラ上に樹脂等の非導電性皮膜を微小凸部の高さ
より厚く形成し、微小凸部に相当する部分の皮膜をレー
ザーアブレーション加工により分解除去することにより
微細孔を形成し、電鋳法により金属を当該微細孔内に成
長させてローラ表面に直接微小凸部を形成して、形成し
ているので、任意の位置に任意の径の微小凸部を、工程
数を削減しつつ、正確に、かつ、意図する密度で形成す
ることができ、フィルムに意図する大きさで意図する位
置に高精度に微細孔を形成することができるとともに、
微細孔形成装置を安価なものとすることができる。
According to the fine hole forming apparatus of the present invention, a fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine convex portions formed thereon. A non-conductive film such as resin is formed thicker than the height of the micro-projections on the conductive cylindrical roller, and the film corresponding to the micro-projections is laser ablated. Micropores are formed by decomposition and removal by processing, and metal is grown in the micropores by electroforming to form minute protrusions directly on the roller surface. It is possible to accurately form small convex portions with a diameter of less than the number of steps and at the intended density, and to form fine holes with high precision at the intended positions in the film at the intended size. Can be done,
The micropore forming apparatus can be inexpensive.

【0049】請求項2記載の発明の微細孔形成装置によ
れば、複数の微小凸部の形成された一対のローラ間にフ
ィルムを通過させて微細な孔を穿設する微細孔形成装置
の微小凸部の形成されたローラを、導電性を有する平板
基板上に樹脂フィルム等の非導電性皮膜を微小凸部の高
さよりも厚く形成し、微小凸部の形成位置に相当する部
分の非導電性皮膜をレーザーアブレーション加工により
分解除去することにより微細孔を形成し、電鋳法により
金属を当該微細孔内の平板基板上に成長させて微小凸部
を形成し、当該微小凸部の形成された平板基板を微小凸
部の形成された面を表面にして円筒状に巻き付けて、形
成しているので、任意の位置に任意の径の微小凸部を、
より一層正確に、かつ、意図する密度で形成することが
でき、フィルムに意図する大きさで意図する位置により
一層高精度に微細孔を形成することができる。
According to the second aspect of the present invention, there is provided a fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of fine projections. A non-conductive film such as a resin film is formed on a conductive flat plate substrate thicker than the height of the minute protrusions, and the non-conductive portion of the roller corresponding to the formation position of the minute protrusions is formed on the roller having the protrusions formed thereon. The conductive film is decomposed and removed by laser ablation processing to form micropores, and metal is grown on the flat substrate in the micropores by electroforming to form microprojections, and the microprojections are formed. Since the flat substrate is wound and formed into a cylindrical shape with the surface on which the fine protrusions are formed as a surface, the fine protrusions of any diameter are formed at any positions.
The film can be formed more accurately and at the intended density, and the fine holes can be formed at the intended position in the film at the intended size with higher precision.

【0050】請求項3記載の発明の微細孔形成装置によ
れば、複数の微小凸部の形成された一対のローラ間にフ
ィルムを通過させて微細な孔を穿設する微細孔形成装置
の微小凸部の形成されたローラを、導電性を有する平板
基板上にフォトレジストによる非導電性皮膜を微小凸部
の高さよりも厚く形成し、微小凸部の形成位置に相当す
る部分の非導電性皮膜をフォトリソグラフィーにより除
去することにより微細孔を形成し、電鋳法により金属を
当該微細孔内の平板基板上に成長させて微小凸部を形成
し、当該微小凸部の形成された平板基板を当該微小凸部
の形成された面を表面にして円筒状に巻き付けて、形成
しているので、任意の位置に任意の径の微小凸部を、よ
り一層正確に、かつ、意図する密度で形成することがで
き、フィルムに意図する大きさで意図する位置により一
層高精度に微細孔を形成することができる。
According to the fine hole forming apparatus of the third aspect of the present invention, the fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of minute projections is formed. A non-conductive film of photoresist is formed thicker than the height of the minute protrusions on a flat plate substrate with conductivity, and the non-conductive portion of the roller corresponding to the position where the minute protrusions are formed is formed on the flat plate substrate having conductivity. A fine hole is formed by removing the film by photolithography, and a metal is grown on the flat substrate in the fine hole by electroforming to form a minute protrusion, and the plate substrate on which the minute protrusion is formed. Is wound in a cylindrical shape with the surface on which the microprojections are formed as a surface, so that the microprojections of any diameter at any position can be more accurately and at the intended density. Can be formed, It is possible to form a fine hole even more high precision by a position intended by the size of.

【0051】請求項4記載の発明の微細孔形成装置によ
れば、複数の微小凸部の形成された一対のローラ間にフ
ィルムを通過させて微細な孔を穿設する微細孔形成装置
の微小凸部の形成されたローラを、ガラス基板上に感光
性ポリイミド層を微小凸部の高さよりも厚く形成し、微
小凸部の形成位置に相当する部分の感光性ポリイミド層
をフォトリソグラフィーによりパターニング除去するこ
とにより微細孔を形成し、当該微細孔の形成された感光
性ポリイミド層をガラス基板から剥離し、ポストキュア
によりポリイミドフィルムとして円筒状ローラの表面に
固定し、電鋳法により金属を微細孔内のローラの表面に
成長させて微小凸部を形成して、形成しているので、任
意の位置に任意の径の微小凸部を、より一層正確に、か
つ、意図する密度で形成することができるとともに、微
小凸部を根元よりも先端側を細く形成することができ、
フィルムに意図する大きさで意図する位置により一層高
精度に、かつ、より一層微細な微細孔を形成することが
できる。
According to the fine hole forming apparatus of the fourth aspect of the present invention, a fine hole forming apparatus for forming a fine hole by passing a film between a pair of rollers having a plurality of minute projections is formed. On the roller on which the convex portions are formed, a photosensitive polyimide layer is formed thicker than the height of the minute convex portions on the glass substrate, and the photosensitive polyimide layer corresponding to the position where the minute convex portions are formed is patterned and removed by photolithography. The photosensitive polyimide layer in which the fine holes are formed is peeled off from the glass substrate, fixed as a polyimide film on the surface of the cylindrical roller by post-curing, and the fine holes are formed in the metal by electroforming. Since the micro-projections are formed by growing on the surface of the inner roller, the micro-projections of any diameter can be formed at any position more accurately and at the intended density. It is possible to form, can also be formed thin tip side of the base of the fine convex portion,
Finer pores can be formed with higher precision and at a desired position in a film at a desired size and at a desired position.

【0052】請求項5記載の発明の微細孔形成装置によ
れば、複数の微小凸部の形成された一対のローラ間にフ
ィルムを通過させて微細な孔を穿設する微細孔形成装置
の微小凸部の形成されたローラを、ガラス基板上に感光
性ポリイミド層を微小凸部の高さよりも厚く形成し、ガ
ラス転移温度以下で乾燥させた後、微小凸部の形成位置
に相当する部分の感光性ポリイミド層をレーザーアブレ
ーション加工で除去することにより微細孔を形成し、当
該微細孔の形成された感光性ポリイミド層をガラス基板
から剥離して、ポストキュアによりポリイミドフィルム
とし、当該ポリイミドフィルムを円筒状ローラの表面に
当該ポリイミドフィルムのレーザーの照射面を当該ロー
ラの表面に合わせて固定して、電鋳法により金属を微細
孔内のローラの表面に成長させて微小凸部を形成して、
形成しているので、任意の位置に任意の径の微小凸部
を、より一層正確に、かつ、意図する密度で形成するこ
とができるとともに、微小凸部を根元よりも先端側を細
く形成することができ、フィルムに意図する大きさで意
図する位置により一層高精度に、かつ、より一層微細な
微細孔を形成することができる。
According to the fine hole forming apparatus of the present invention, the film is passed between a pair of rollers having a plurality of minute projections, and the fine hole is formed by the fine hole forming apparatus. The roller on which the convex portions are formed, a photosensitive polyimide layer is formed on the glass substrate thicker than the height of the fine convex portions, and after drying at a glass transition temperature or lower, the portion corresponding to the position where the fine convex portions are formed is formed. Micropores are formed by removing the photosensitive polyimide layer by laser ablation processing, the photosensitive polyimide layer in which the micropores are formed is peeled from the glass substrate, a polyimide film is formed by post cure, and the polyimide film is cylindrical. The laser irradiation surface of the polyimide film is fixed to the surface of the roller in accordance with the surface of the roller, and metal is formed by electroforming on the surface of the roller in the fine hole. To form a minute projection sections are grown,
Since it is formed, it is possible to form a minute convex portion with an arbitrary diameter at an arbitrary position more accurately and at an intended density, and to form the minute convex portion on the tip side narrower than the root. This makes it possible to form finer pores with higher precision and at a desired position in a film at a desired size and at a desired position.

【0053】請求項6記載の発明の微細孔形成装置によ
れば、非導電性皮膜を、液状感光性ポリイミド中にロー
ラまたは平板基板を浸漬した後、一定の速度で引き上
げ、ベークを施して固体状の感光性ポリイミド皮膜を形
成して、形成しているので、液状感光性ポリイミドの粘
度と引き上げ速度により正確に非導電性皮膜の膜厚を調
整することができ、安価に、かつ、精度良く微小凸部を
形成することができる。したがって、フィルムに意図す
る大きさで意図する位置に高精度に微細孔を形成するこ
とができるとともに、微細孔形成装置をより一層安価な
ものとすることができる。
According to the micropore forming apparatus of the present invention, the roller or the flat substrate is immersed in the liquid photosensitive polyimide, then pulled up at a constant speed and baked to obtain a solid. -Like photosensitive polyimide film is formed and formed, so that the thickness of the non-conductive film can be accurately adjusted by the viscosity and the pulling speed of the liquid photosensitive polyimide, inexpensively, and accurately. A minute projection can be formed. Therefore, the micropores can be formed with high precision at the intended position in the film at the intended size, and the micropore forming apparatus can be made more inexpensive.

【0054】請求項7記載の発明の微細孔形成装置によ
れば、非導電性皮膜を、厚膜用レジストの液体中にロー
ラまたは平板基板を浸漬した後、一定の速度で引き上
げ、ベークを施して固化させて、形成しているので、液
体の圧膜用レジストの粘度と引き上げ速度により正確に
非導電性皮膜の膜厚を調整することかでき、安価に、か
つ、精度良く微小凸部を形成することができる。したが
って、フィルムに意図する大きさで意図する位置に高精
度に微細孔を形成することができるとともに、微細孔形
成装置をより一層安価なものとすることができる。
According to the micropore forming apparatus of the present invention, the roller or the flat substrate is dipped in the liquid of the resist for the thick film, then pulled up at a constant speed and baked. The thickness of the non-conductive film can be accurately adjusted by adjusting the viscosity of the resist for liquid pressure film and the pulling speed. Can be formed. Therefore, the micropores can be formed with high precision at the intended position in the film at the intended size, and the micropore forming apparatus can be made more inexpensive.

【0055】請求項8記載の発明の微細孔形成装置によ
れば、感光性ポリイミド層を、ガラス基板に下地処理を
施すことなく、当該ガラス基板上にポジ型感光性ポリイ
ミドを塗布して、形成しているので、フッ酸等を用いた
エッチング工程を行うことなく、ガラス基板から容易に
皮膜を剥離することができ、安定性良く、かつ、効率的
に微小凸部の形成されたローラを形成することができ
る。したがって、フィルムに意図する大きさで意図する
位置に高精度に微細孔を形成することができるととも
に、微細孔形成装置をより一層安価なものとすることが
できる。
According to the micropore forming apparatus of the present invention, the photosensitive polyimide layer is formed by applying a positive photosensitive polyimide on the glass substrate without subjecting the glass substrate to a base treatment. The film can be easily peeled off from the glass substrate without performing an etching process using hydrofluoric acid, etc., forming a roller with fine projections with good stability and efficiency. can do. Therefore, the micropores can be formed with high precision at the intended position in the film at the intended size, and the micropore forming apparatus can be made more inexpensive.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の微細孔形成装置の一実施の形態を適用
した微細孔形成装置の要部斜視図。
FIG. 1 is a perspective view of a main part of a micropore forming apparatus to which an embodiment of a micropore forming apparatus according to the present invention is applied.

【図2】図1の凸ローラと平滑ローラの当接部の拡大正
面図。
FIG. 2 is an enlarged front view of a contact portion between a convex roller and a smooth roller in FIG. 1;

【図3】図1の凸ローラの製造工程を示す図。FIG. 3 is a view showing a manufacturing process of the convex roller of FIG. 1;

【図4】図3の(a)の円筒体表面に形成されたレジス
ト皮膜をマスクを介してレーザーアブレーションを行っ
ている状態を示す正面図。
FIG. 4 is a front view showing a state in which laser ablation is performed on the resist film formed on the surface of the cylindrical body in FIG. 3A via a mask.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 微細孔形成装置 2 平滑ローラ 3 凸ローラ 4 樹脂フィルム 5 微小凸部 6 微細孔 11 円筒体 12 レジスト皮膜 13 マスク 14 レンズ 15 レーザー光 16 微細孔 17 金属 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Micropore forming apparatus 2 Smooth roller 3 Convex roller 4 Resin film 5 Microprotrusion 6 Micropore 11 Cylindrical body 12 Resist film 13 Mask 14 Lens 15 Laser beam 16 Micropore 17 Metal

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも一方の円筒状のローラの表面に
複数の微小凸部の形成された一対のローラ間にフィルム
を通過させて、前記ローラの前記微小凸部により前記フ
ィルムに微細な孔を穿設する微細孔形成装置であって、
前記微小凸部の形成された前記ローラは、導電性を有す
る円筒状ローラの表面上に樹脂フィルム等の非導電性皮
膜を前記微小凸部の高さよりも厚く形成し、前記微小凸
部の形成位置に相当する部分の前記非導電性皮膜をレー
ザーアブレーション加工により分解除去することにより
微細孔を形成して、前記ローラの表面を露出させ、電鋳
法により金属を前記微細孔内の前記ローラ表面に所定高
さまで成長させて前記微小凸部を形成することにより、
形成されていることを特徴とする微細孔形成装置。
1. A film is passed between a pair of rollers having a plurality of minute convex portions formed on at least one cylindrical roller, and minute holes are formed in the film by the minute convex portions of the roller. A device for forming a fine hole,
The roller in which the minute protrusions are formed is formed by forming a non-conductive film such as a resin film thicker than the height of the minute protrusions on the surface of a cylindrical roller having conductivity, and forming the minute protrusions. A portion of the non-conductive film corresponding to a position is decomposed and removed by laser ablation processing to form a fine hole to expose the surface of the roller, and a metal is formed by electroforming on the surface of the roller in the fine hole. By growing to a predetermined height to form the small convex portion,
A micropore forming apparatus characterized by being formed.
【請求項2】少なくとも一方のローラの表面に複数の微
小凸部の形成された一対のローラ間にフィルムを通過さ
せて、前記ローラの前記微小凸部により前記フィルムに
微細な孔を穿設する微細孔形成装置であって、前記微小
凸部の形成された前記ローラは、導電性を有する平板基
板上に樹脂フィルム等の非導電性皮膜を前記微小凸部の
高さよりも厚く形成し、前記微小凸部の形成位置に相当
する部分の前記非導電性皮膜をレーザーアブレーション
加工により分解除去することにより微細孔を形成して、
前記平板基板の表面を露出させ、電鋳法により金属を前
記微細孔内の前記平板基板上に所定高さまで成長させて
前記微小凸部を形成し、当該微小凸部の形成された前記
平板基板を当該微小凸部の形成された面を表面にして円
筒状に巻き付けることにより、形成されていることを特
徴とする微細孔形成装置。
2. A film is passed between a pair of rollers having a plurality of minute projections formed on the surface of at least one roller, and minute holes are formed in the film by the minute projections of the rollers. In the fine hole forming apparatus, the roller in which the fine convex portion is formed, a non-conductive film such as a resin film is formed on a conductive flat plate substrate thicker than the height of the fine convex portion, By forming a fine hole by decomposing and removing the non-conductive film of the portion corresponding to the formation position of the minute projections by laser ablation processing,
The surface of the flat substrate is exposed, and a metal is grown to a predetermined height on the flat substrate in the fine hole by electroforming to form the minute convex portion. The flat substrate on which the minute convex portion is formed Characterized by being wound in a cylindrical shape with the surface on which the minute projections are formed as a surface.
【請求項3】少なくとも一方のローラの表面に複数の微
小凸部の形成された一対のローラ間にフィルムを通過さ
せて、前記ローラの前記微小凸部により前記フィルムに
微細な孔を穿設する微細孔形成装置であって、前記微小
凸部の形成された前記ローラは、導電性を有する平板基
板上にフォトレジストによる非導電性皮膜を前記微小凸
部の高さよりも厚く形成し、前記微小凸部の形成位置に
相当する部分の前記非導電性皮膜をフォトリソグラフィ
ーにより除去することにより微細孔を形成して、前記平
板基板の表面を露出させ、電鋳法により金属を前記微細
孔内の前記平板基板上に所定高さまで成長させて前記微
小凸部を形成し、当該微小凸部の形成された前記平板基
板を当該微小凸部の形成された面を表面にして円筒状に
巻き付けることにより、形成されていることを特徴とす
る微細孔形成装置。
3. A film is passed between a pair of rollers having a plurality of minute projections formed on the surface of at least one roller, and minute holes are formed in the film by the minute projections of the rollers. The micro-hole forming apparatus, wherein the roller on which the minute protrusions are formed, forms a non-conductive film of photoresist thicker than a height of the minute protrusions on a conductive flat substrate, and By forming the fine holes by removing the non-conductive film of the portion corresponding to the position where the convex portion is formed by photolithography, the surface of the flat substrate is exposed, and the metal in the fine holes is formed by electroforming. Forming the minute projections on the flat substrate by growing to a predetermined height, and winding the flat substrate on which the minute projections are formed into a cylindrical shape with the surface on which the minute projections are formed as a surface. Ri, micropore forming device, characterized in that it is formed.
【請求項4】少なくとも一方のローラの表面に複数の微
小凸部の形成された一対のローラ間にフィルムを通過さ
せて、前記ローラの前記微小凸部により前記フィルムに
微細な孔を穿設する微細孔形成装置であって、前記微小
凸部の形成された前記ローラは、ガラス基板上に感光性
ポリイミド層を前記微小凸部の高さよりも厚く形成し、
前記微小凸部の形成位置に相当する部分の前記感光性ポ
リイミド層をフォトリソグラフィーによりパターニング
除去することにより微細孔を形成し、当該微細孔の形成
された前記感光性ポリイミド層を前記ガラス基板から剥
離し、ポストキュアによりポリイミドフィルムとして円
筒状ローラの表面に固定し、電鋳法により金属を前記微
細孔内の前記ローラの表面に所定高さまで成長させて前
記微小凸部を形成することにより、形成されていること
を特徴とする微細孔形成装置。
4. A film is passed between a pair of rollers having a plurality of minute projections formed on the surface of at least one roller, and minute holes are formed in the film by the minute projections of the rollers. In the fine hole forming apparatus, the roller formed with the minute convex portion, a photosensitive polyimide layer is formed on a glass substrate thicker than the height of the minute convex portion,
A fine hole is formed by patterning and removing a portion of the photosensitive polyimide layer corresponding to the formation position of the minute convex portion by photolithography, and the photosensitive polyimide layer in which the minute hole is formed is separated from the glass substrate. Then, the polyimide film is fixed to the surface of the cylindrical roller as a polyimide film by post-curing, and the metal is grown to a predetermined height on the surface of the roller in the micropores by electroforming to form the micro convex portion, thereby forming the micro convex portion. A micropore forming apparatus characterized in that it is made.
【請求項5】少なくとも一方のローラの表面に複数の微
小凸部の形成された一対のローラ間にフィルムを通過さ
せて、前記ローラの前記微小凸部により前記フィルムに
微細な孔を穿設する微細孔形成装置であって、前記微小
凸部の形成された前記ローラは、ガラス基板上に感光性
ポリイミド層を前記微小凸部の高さよりも厚く形成し、
ガラス転移温度以下で乾燥させた後、前記微小凸部の形
成位置に相当する部分の前記感光性ポリイミド層をレー
ザーアブレーション加工で除去することにより微細孔を
形成し、当該微細孔の形成された前記感光性ポリイミド
層を前記ガラス基板から剥離して、ポストキュアにより
ポリイミドフィルムとし、当該ポリイミドフィルムを円
筒状ローラの表面に当該ポリイミドフィルムの前記レー
ザーの照射面を当該ローラの表面に合わせて固定して、
電鋳法により金属を前記微細孔内の前記ローラの表面に
所定高さまで成長させて前記微小凸部を形成することに
より、形成されていることを特徴とする微細孔形成装
置。
5. A film is passed between a pair of rollers having a plurality of minute projections formed on the surface of at least one roller, and minute holes are formed in the film by the minute projections of the rollers. In the fine hole forming apparatus, the roller formed with the minute convex portion, a photosensitive polyimide layer is formed on a glass substrate thicker than the height of the minute convex portion,
After drying at a glass transition temperature or lower, a micropore is formed by removing the photosensitive polyimide layer in a portion corresponding to the formation position of the microprojection by laser ablation processing, and the micropore is formed. The photosensitive polyimide layer is peeled off from the glass substrate, a polyimide film is formed by post-curing, and the polyimide film is fixed to the surface of the cylindrical roller by aligning the laser irradiation surface of the polyimide film with the surface of the roller. ,
A micro-hole forming apparatus formed by growing a metal to a predetermined height on a surface of the roller in the micro-holes by electroforming to form the micro-projections.
【請求項6】前記非導電性皮膜は、液状感光性ポリイミ
ド中に前記ローラまたは前記平板基板を浸漬した後、一
定の速度で引き上げ、規定のベークを施して固体状の感
光性ポリイミド皮膜を形成することにより、形成されて
いることを特徴とする請求項1または請求項2記載の微
細孔形成装置。
6. The non-conductive film is formed by immersing the roller or the flat substrate in a liquid photosensitive polyimide, pulling it up at a constant speed, and performing a prescribed baking to form a solid photosensitive polyimide film. The micropore forming apparatus according to claim 1, wherein the micropore forming apparatus is formed by performing the process.
【請求項7】前記非導電性皮膜は、厚膜用レジストの液
体中に前記ローラまたは前記平板基板を浸漬した後、一
定の速度で引き上げ、規定のベークを施して固化させる
ことにより、形成されていることを特徴とする請求項1
または請求項2記載の微細孔形成装置。
7. The non-conductive film is formed by immersing the roller or the flat substrate in a liquid for a thick film resist, pulling it up at a constant speed, subjecting it to a prescribed baking, and solidifying it. 2. The method according to claim 1, wherein
Or the micropore forming apparatus according to claim 2.
【請求項8】前記感光性ポリイミド層は、前記ガラス基
板に下地処理を施すことなく、当該ガラス基板上にポジ
型感光性ポリイミドを塗布することにより、形成されて
いることを特徴とする請求項4または請求項5記載の微
細孔形成装置。
8. The photosensitive polyimide layer is formed by applying a positive photosensitive polyimide on the glass substrate without subjecting the glass substrate to a base treatment. The micropore forming apparatus according to claim 4 or 5.
JP9019875A 1997-01-17 1997-01-17 Fine hole forming device Pending JPH10202594A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9019875A JPH10202594A (en) 1997-01-17 1997-01-17 Fine hole forming device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9019875A JPH10202594A (en) 1997-01-17 1997-01-17 Fine hole forming device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10202594A true JPH10202594A (en) 1998-08-04

Family

ID=12011393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9019875A Pending JPH10202594A (en) 1997-01-17 1997-01-17 Fine hole forming device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10202594A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007211323A (en) * 2006-02-13 2007-08-23 Tecnisco Ltd Method for producing pin-shaped member and tool for machining provided with pin-shaped member
KR101094381B1 (en) 2009-11-17 2011-12-15 한국기계연구원 Method for patterning printing roll by using a roller with a thin-coated layers
US20230268312A1 (en) * 2022-02-18 2023-08-24 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. Soft touch eutectic solder pressure pad

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007211323A (en) * 2006-02-13 2007-08-23 Tecnisco Ltd Method for producing pin-shaped member and tool for machining provided with pin-shaped member
KR101094381B1 (en) 2009-11-17 2011-12-15 한국기계연구원 Method for patterning printing roll by using a roller with a thin-coated layers
US20230268312A1 (en) * 2022-02-18 2023-08-24 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. Soft touch eutectic solder pressure pad

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4246076A (en) Method for producing nozzles for ink jet printers
EP0273552A2 (en) Method of making mandrels for use in a deposition process
JP3848303B2 (en) Structure, functional structure, and method of manufacturing magnetic recording medium
JP2005268797A (en) Method of manufacturing tape wiring substrate
US20080138581A1 (en) Masking high-aspect aspect ratio structures
US7314834B2 (en) Semiconductor device fabrication method
JP5531463B2 (en) Master plate used for manufacturing micro contact print stamps and manufacturing method thereof, micro contact printing stamp and manufacturing method thereof, and pattern forming method using micro contact printing stamp
US6601297B1 (en) Method for producing micro-openings
JP2016221866A (en) Production method of liquid discharge head
US5462648A (en) Method for fabricating a metal member having a plurality of fine holes
JPH10202594A (en) Fine hole forming device
US20040063334A1 (en) Method for forming a mask pattern
JP5034506B2 (en) Metal mask and manufacturing method thereof
JP6193073B2 (en) Metal mask manufacturing method
JPH0758165A (en) Circuit inspecting element with probe, and manufacture thereof
JPS604221A (en) Manufacture of semiconductor device
JP4430755B2 (en) Mask for printing and manufacturing method thereof
JPH10193299A (en) Manufacture of fine hole forming mold and fine hole forming device
JP2001018399A (en) Nozzle plate for ink jet head and its manufacture
JP2004330636A (en) Method of manufacturing nozzle plate of inkjet head
JPH08132625A (en) Production of nozzle plate and matrix structure therefor
JPH1016236A (en) Ink jet printer head and its manufacturing method
TWI607861B (en) Exposure method, exposure equipment and 3-d structure
JP2001115293A (en) Method for manufacturing fine-shape party
JPH01124296A (en) Manufacture of printed-circuit board