JPH10195633A - Film forming device - Google Patents

Film forming device

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Publication number
JPH10195633A
JPH10195633A JP35071696A JP35071696A JPH10195633A JP H10195633 A JPH10195633 A JP H10195633A JP 35071696 A JP35071696 A JP 35071696A JP 35071696 A JP35071696 A JP 35071696A JP H10195633 A JPH10195633 A JP H10195633A
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JP
Japan
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film
mask
tube
vacuum chamber
film forming
Prior art date
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Application number
JP35071696A
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Japanese (ja)
Inventor
Masashi Toda
真史 遠田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH10195633A publication Critical patent/JPH10195633A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film forming device capable of efficiently forming a preventive means for creeping discharge generating on the inner circumferential face of the neck around the electron gun of a picture tube. SOLUTION: On a hole 4a provided in the center of the lid 4 of a vacuum chamber 3, a cylindrical mask 11 is installed having internally a slider 16 that is fitted to the hole and slidable. An orifice 13 is provided in this mask 11, with a taper 11b formed on the outer circumferential edge at the tip end of the mask 11, while an O-ring 17 which seals by elastically deforming at the time of a reduced pressure is provided between the jaw 16a of the slider 16 and the taper 11b. As a result, the area only is evacuated in which the gap is specified against the neck 18 to be externally fitted to the mask 11, so that a film can be formed only in this area.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は成膜装置(例えば、
テレビジョン受像管等の陰極線管のネック部等の管体の
内周面の限定した部分に沿面放電防止用の金属薄膜を成
膜する装置)に関するものである。
The present invention relates to a film forming apparatus (for example,
The present invention relates to a device for forming a metal thin film for preventing creeping discharge on a limited portion of an inner peripheral surface of a tube body such as a neck portion of a cathode ray tube such as a television picture tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、テレビジョンの受像管35は、図
7の概略断面図で示すように構成されている。受像管3
5のネック部18は円筒状に形成され、図示の如く、電
極引出し用の端子部37側に電子銃38が内設されてい
る。電子銃38の形式には3電子銃のデルタ配列又はラ
イン配列や単電子銃3電子ビーム方式等があるが、図7
は単電子銃3電子ビーム方式の場合を示す。
2. Description of the Related Art Conventionally, a picture tube 35 of a television is constructed as shown in a schematic sectional view of FIG. Picture tube 3
The neck portion 18 of 5 is formed in a cylindrical shape, and an electron gun 38 is provided inside the terminal portion 37 for extracting an electrode as shown in the figure. As the type of the electron gun 38, there are a delta arrangement or a line arrangement of three electron guns, a single electron gun three electron beam system, and the like.
Shows the case of the single electron gun 3 electron beam system.

【0003】この電子銃38は赤(R)、緑(G)、青
(B)の電子ビーム用の各カソードから電子ビームを放
出するものであって、これらの電子ビームはアノードに
よって集束及び加速され、コンバーゼンスコイルで走査
され、フェースプレート内面に配されたR、G、Bそれ
ぞれの蛍光体に衝突して所定色を発光させる。
The electron gun 38 emits electron beams from respective cathodes for red (R), green (G), and blue (B) electron beams, and these electron beams are focused and accelerated by an anode. Then, it is scanned by the convergence coil, and collides with each of the R, G, B phosphors disposed on the inner surface of the face plate to emit a predetermined color.

【0004】しかし、上記のように、電子ビームを放出
する電子銃38の周辺若しくはその近傍では、漏れビー
ムの影響でネック部36の内周面に沿面放電が発生する
ことがある。この沿面放電は受像管35の動作に支障を
与えるが、従来、この沿面放電を防止するための有効な
対策はなかった。
However, as described above, a creeping discharge may be generated on the inner peripheral surface of the neck portion 36 at or near the electron gun 38 that emits an electron beam due to the influence of the leakage beam. Although the creeping discharge hinders the operation of the picture tube 35, there has been no effective countermeasure for preventing the creeping discharge.

【0005】真空中での放電の一種である陰極線管のネ
ック部の沿面放電発生のメカニズムについては、電子銃
の陰極接合部からの電子放出に引き続いて、2次電子な
だれ機構によるネック部の帯電現象、及び、それに伴っ
て形成される放出気体中での気体放電により説明されて
いる(電気学会技術報告第586号「真空中での放電の
利用とその抑制」)。
[0005] Regarding the mechanism of generation of creeping discharge at the neck of a cathode ray tube, which is a kind of discharge in a vacuum, the discharge of electrons from the cathode junction of an electron gun is followed by charging of the neck by a secondary electron avalanche mechanism. This phenomenon is explained by the gas discharge in the released gas formed along with the phenomenon (IEEE Technical Report No. 586, "Utilization and suppression of discharge in vacuum").

【0006】このような沿面放電は、低電位側のストレ
ー源から電子が放出され続ければ、繰り返し発生し、放
電と共に放電音が発生し、画面が揺れることになる。ま
た、安全回路が動作し、電源が落ちることもあり、場合
によっては、受像管に組み込まれたICを破壊すること
もある。
[0006] Such creeping discharge is repeatedly generated as long as electrons are continuously emitted from the low potential side stray source. Discharge noise is generated along with the discharge, and the screen is shaken. Further, the safety circuit operates, the power may be turned off, and in some cases, the IC incorporated in the picture tube may be destroyed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な事情に鑑みてなされたものであって、2次電子なだれ
を伴い、音の発生、画面の揺れ、電源の切れ、IC破壊
等の支障の原因となる沿面放電を効果的に防止すること
が可能である成膜装置を提供することを目的とするもの
である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and involves secondary avalanche, sound generation, screen shaking, power off, IC destruction, etc. It is an object of the present invention to provide a film forming apparatus capable of effectively preventing creeping discharge which causes troubles.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を解決するため鋭意検討を重ねた結果、減圧機構を用い
た成膜手段に着目し、その効果的な適用方法を見出し、
本発明に到達したものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor focused on film forming means using a pressure reducing mechanism, and found an effective application method.
The present invention has been reached.

【0009】即ち、本発明の装置は、減圧下で成膜材料
を飛翔させるための成膜材料飛翔部と、この成膜材料飛
翔部に連通した成膜領域を規定するマスクと、このマス
クに配設され、前記減圧下において前記成膜領域側に偏
位してこの成膜領域をシールするシール材とを有する成
膜装置に係るものである。
That is, the apparatus of the present invention comprises a film-forming material flying section for flying a film-forming material under reduced pressure, a mask defining a film-forming region connected to the film-forming material flying section, And a sealing material that is disposed and deviates toward the film formation region under the reduced pressure to seal the film formation region.

【0010】この成膜装置によれば、成膜領域がマスク
とシール材により所望の場所に規定されて導電材料が成
膜されるので、その規定場所において生じがちであった
沿面放電の如き異常状態が十二分に防止され、画面の乱
れや回路の誤動作等の如く製品の性能に支障となること
が排除され、しかも沿面放電等の異常状態防止用の成膜
領域を規定された場所に形成するために、減圧下の成膜
時に偏位する上記のシール材によって上記の成膜場所を
自動的に規定できるため、目的とする成膜を短時間にか
つ作業性良く行うことができる。
According to this film forming apparatus, since the film forming region is defined at a desired place by the mask and the sealing material and the conductive material is formed, abnormalities such as creeping discharge which tend to occur at the defined place are obtained. The state is prevented more than enough, and it is possible to eliminate the hindrance to the performance of the product such as screen disturbance and malfunction of the circuit. In order to form the film, the above-mentioned film-forming place can be automatically defined by the above-mentioned sealing material which is deviated at the time of film-forming under reduced pressure.

【0011】これに反し、上記の如き管体の内壁面に金
属材料を付着させて薄膜を形成する場合、従来一般的に
は蒸着により成膜されることが考えられるが、上記の如
く管体内壁の領域を限定して成膜することが必要な場合
には、成膜領域以外を単にマスクして行わざるを得ず、
これでは、マスクの取付けを含めて極めて作業が煩わし
く、また成膜自体も困難である。
On the other hand, when a thin film is formed by depositing a metal material on the inner wall surface of the tube as described above, it is generally considered that the thin film is formed by vapor deposition. When it is necessary to form a film by limiting the area of the wall, it is necessary to simply mask the area other than the film formation area,
In this case, the work including the mounting of the mask is extremely troublesome, and the film formation itself is difficult.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明による上記の装置は、前記
シール材の偏位が、前記減圧時の圧力差により生じるこ
とが望ましい。
In the above apparatus according to the present invention, it is preferable that the displacement of the sealing material is caused by the pressure difference at the time of the pressure reduction.

【0013】そして、上記の装置は、真空を保持して、
管体内壁に前記成膜材料を飛翔させて付着させる成膜装
置であって、前記圧力差によって前記マスクと前記シー
ル材とが自動的に偏位し、これにより前記成膜材料の付
着領域である前記成膜領域のみを真空にし、この真空領
域において前記管体内壁に前記成膜材料を選択的に付着
させることが望ましい。
[0013] Then, the above-mentioned apparatus holds a vacuum,
A film deposition apparatus for flying and depositing the film-forming material on the inner wall of a pipe, wherein the mask and the sealing material are automatically displaced by the pressure difference, and thereby, in a region where the film-forming material is adhered. It is preferable that only a certain film forming region is evacuated, and the film forming material is selectively adhered to the inner wall of the tube in this vacuum region.

【0014】また、上記の装置は前記管体が電子銃を容
した陰極管のネック部であり、このネック部の内壁に導
体材料を成膜され、前記成膜材料飛翔部が真空蒸着装置
として構成されていることが望ましい。
In the above apparatus, the tube is a neck portion of a cathode tube containing an electron gun, and a conductive material is formed on the inner wall of the neck portion. It is desirable to be configured.

【0015】そして、上記の装置は、前記減圧の解除時
に前記シール材が復元してそのシール状態が解除され、
前記減圧を大気圧に解放したときに、前記シール材が自
動的に復元することが望ましい。
In the above apparatus, when the pressure is released, the sealing material is restored and the sealing state is released,
It is desirable that the seal material be automatically restored when the reduced pressure is released to the atmospheric pressure.

【0016】この場合、前記マスクがスライド部を有
し、このスライド部に連動してゴム製の前記シール材が
偏位及び復帰することが望ましい。
In this case, it is preferable that the mask has a slide portion, and the rubber sealing material is deviated and returned in conjunction with the slide portion.

【0017】更に、上記の装置は、真空吸引手段を有す
る真空室と、この真空室に配された成膜材料の飛翔源と
によって前記成膜材料飛翔部が構成され、前記真空室上
に配され、先端外周縁に傾斜面が形成され、前記管体に
係合され、前記管体との間に成膜領域を形成する筒状係
合部と、この係合部の内周面にスライド可能に内設さ
れ、前記係合部の先端部分の内周面において前記スライ
ドの方向の両端にそれぞれ当接する各ストッパ部を有す
る圧接手段とによって前記マスクが構成され、前記傾斜
面と前記ストッパ部との間と前記管体とで囲まれた空間
に前記シール材が配され、前記管体の端部開口から前記
係合部が嵌入され、前記端部開口にて互いに接合して係
合され、前記真空室の真空吸引により前記圧接手段が吸
引されて前記管体の端部開口側へスライドし、前記圧接
手段の先端側ストッパ部が、前記シール材を介して前記
傾斜面と、この傾斜面に近接する前記管体内壁との間を
密封し、この密封部と前記管体の端部開口との間の限定
された領域において、前記管体内壁と前記係合部と前記
シール材とで形成される空隙を前記成膜領域として限定
して真空にされることが望ましい。
Further, in the above apparatus, the film forming material flying section is constituted by a vacuum chamber having vacuum suction means and a flying source of the film forming material provided in the vacuum chamber, and is arranged on the vacuum chamber. A cylindrical engaging portion that is formed on the outer peripheral edge of the distal end and that is engaged with the tubular body to form a film formation region between the tubular body and the tubular engaging portion; The mask is constituted by pressurizing means which is provided internally and has respective stopper portions abutting on both ends in the sliding direction on the inner peripheral surface of the distal end portion of the engaging portion, and the inclined surface and the stopper portion are formed. And the sealing material is disposed in a space surrounded by the pipe body, the engaging portion is fitted from an end opening of the pipe body, and is joined and engaged with each other at the end opening. The pressure contact means is sucked by the vacuum suction of the vacuum chamber, and the The pressing portion slides toward the opening, and the distal end side stopper portion of the press-contacting means seals between the inclined surface and the inner wall of the pipe adjacent to the inclined surface via the sealing material. In a limited region between the end opening of the tube and a vacuum formed by defining a gap formed by the inner wall of the tube, the engaging portion, and the sealant as the film forming region, desirable.

【0018】そして、上記の装置は、前記成膜領域と前
記真空室とを連通させる貫通孔が前記係合部に設けら
れ、この貫通孔を通して前記真空室から飛翔する前記成
膜材料が前記成膜領域に流入し、前記成膜領域の前記管
体の内壁に付着されることが望ましい。
In the above apparatus, a through-hole for communicating the film-forming region with the vacuum chamber is provided in the engaging portion, and the film-forming material flying from the vacuum chamber through the through-hole is formed of the material. It is preferable that the gas flows into the film region and is attached to the inner wall of the tube in the film formation region.

【0019】[0019]

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
が以下の実施例に限定されるものでないことは勿論であ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below, but it goes without saying that the present invention is not limited to the following embodiments.

【0020】図1は、本実施例の成膜装置を示す断面図
(図3及び図4のI−I線断面図)である。この成膜装
置(以下、単に装置と称する。)30は、床面上で移動
可能な台座上1上に位置決め誤差修正機能を有するRC
Cデバイス(商品名、バンドー化学株式会社製)2が固
定され、この上に真空チャンバー3がボルト5により固
定されている。
FIG. 1 is a cross-sectional view (a cross-sectional view taken along line II of FIGS. 3 and 4) showing a film forming apparatus of this embodiment. This film forming apparatus (hereinafter, simply referred to as an apparatus) 30 includes an RC having a positioning error correcting function on a pedestal 1 movable on a floor surface.
A C device (trade name, manufactured by Bando Chemical Co., Ltd.) 2 is fixed, and a vacuum chamber 3 is fixed thereon with bolts 5.

【0021】真空チャンバー3の中には、例えばアルミ
ナからなる坩堝6が真空チャンバー3との間に絶縁材2
6を設けて配され、坩堝押さえ10により固定されてい
る。そして坩堝6は、図示省略したヒータにより成膜材
料7を加熱するようになっている。また、坩堝押さえ1
0は銅製の部分とアルミナ製の部分で構成され、真空チ
ャンバー3とは絶縁材26により絶縁されている。
In the vacuum chamber 3, a crucible 6 made of, for example, alumina is provided between the vacuum chamber 3 and the insulating material 2.
6 and is fixed by a crucible retainer 10. The crucible 6 heats the film forming material 7 by a heater (not shown). In addition, crucible holder 1
Numeral 0 denotes a portion made of copper and a portion made of alumina, and is insulated from the vacuum chamber 3 by an insulating material 26.

【0022】更に、この真空チャンバー3には後述する
排気管や導電端子等と共に吸引管21が接続され、真空
チャンバー3の上には蓋4が設けられ、Oリング9を挟
んで真空チャンバー3のフランジ3aにボルト8によっ
て結合されている。そして、この蓋4上には冷却水管2
0が配設されている。Oリングは、例えばベースゴムに
水素化ニトルゴムを材料としているが、これと同等の滑
り性の良いゴムを用いてもよい。
Further, a suction tube 21 is connected to the vacuum chamber 3 together with an exhaust pipe, conductive terminals, and the like, which will be described later. A lid 4 is provided on the vacuum chamber 3, and the vacuum chamber 3 is sandwiched between O-rings 9. It is connected to the flange 3a by a bolt 8. The cooling water pipe 2 is placed on the lid 4.
0 is provided. For the O-ring, for example, a hydrogenated nitrile rubber is used as a base rubber, but a rubber having the same sliding property as this may be used.

【0023】また、上記蓋4の中央部には孔4aが設け
られ、この孔4aに符合してマスク11がOリング12
を挟んでそのフランジ部11aを蓋4にボルト15によ
り結合され、真空チャンバー3と連通している。マスク
11は円筒状を呈し、先端が内側方向に肉厚に形成さ
れ、その肉厚部の下端にストッパー11aを形成し、他
端の外周縁にテーパー11bを形成している。また、こ
のマスク11の上下の中央部にはマスク11の壁を貫通
する流出孔13が設けられ、矢印で示すように飛翔材料
7Aがこの流出孔13から流出するようになっている。
A hole 4a is provided in the center of the lid 4, and the mask 11 corresponds to the hole 4a.
The flange 11 a is connected to the lid 4 by bolts 15 with the nip therebetween, and communicates with the vacuum chamber 3. The mask 11 has a cylindrical shape, and its tip is formed to be thicker in the inward direction. A stopper 11a is formed at the lower end of the thick part, and a taper 11b is formed at the outer peripheral edge at the other end. Outflow holes 13 penetrating through the walls of the mask 11 are provided in the upper and lower central portions of the mask 11, so that the flying material 7A flows out of the outflow holes 13 as indicated by arrows.

【0024】上記マスク11には、図1に示すように、
マスク11の肉厚部の内側に係合したスライダー16が
設けられ、減圧時にはこのスライダー16が真空チャン
バー3側へスライドするようになっている。そして、マ
スク11内側のスライダー16の端部にはフランジ16
bが形成され、上記したマスク11のストッパー11a
に当接するようになっている。また、このスライダー1
6の他端にはマスク11の外径より小径の顎部16aが
形成され、この顎部16aと上記したマスク11のテー
パー11bとの間にOリング17が配され、スライダー
16のスライドに伴ってこの顎部16aがOリング17
を押圧又は解放するようになっている。なお、このスラ
イダー16は例えば90度回転させることによりマスク
11に着脱可能である。
As shown in FIG. 1, the mask 11 has
A slider 16 engaged with the inside of the thick portion of the mask 11 is provided, and this slider 16 slides toward the vacuum chamber 3 when the pressure is reduced. A flange 16 is provided at the end of the slider 16 inside the mask 11.
b is formed, and the stopper 11a of the mask 11 described above is formed.
To come into contact with. Also, this slider 1
A jaw 16a having a diameter smaller than the outer diameter of the mask 11 is formed at the other end of the mask 6, and an O-ring 17 is arranged between the jaw 16a and the taper 11b of the mask 11 described above. Lever jaw 16a is O-ring 17
Is pressed or released. The slider 16 can be attached to and detached from the mask 11 by rotating, for example, 90 degrees.

【0025】本実施例の装置30は上記のように構成さ
れ、図1に示す如く、受像管のネック部18の開口部が
スライダー16の顎部16a及びマスク11に外嵌して
結合される。ネック部18の開口部端が当接する位置に
は、マスク11のフランジ11cの上面の溝に例えばシ
リコンゴム製のパッキン14が配設されている。
The apparatus 30 of the present embodiment is constructed as described above. As shown in FIG. 1, the opening of the neck 18 of the picture tube is fitted to the jaw 16a of the slider 16 and the mask 11 so as to be fitted together. . At a position where the opening end of the neck portion 18 contacts, a packing 14 made of, for example, silicone rubber is disposed in a groove on the upper surface of the flange 11 c of the mask 11.

【0026】ネック部18の結合に際しては、例えば装
置30を固定しておいて受像管のネック部18をマスク
11に外嵌させてもよく、又は、例えば受像管及びネッ
ク部18を固定しておき、装置30を動かしてマスク1
1をネック部18に挿入してもよい。そして、結合後は
受像管を支持材により支持することが望ましい。いずれ
の場合もこの結合に際しては、RCCデバイス2によっ
て調節しながら、ネック部18の開口端とパッキン14
との当たり具合や、ネック部内壁18aとマスク11と
の間隙を均等化させて結合することが好ましい。
When connecting the neck 18, for example, the device 30 may be fixed and the neck 18 of the picture tube may be fitted onto the mask 11, or, for example, the picture tube and the neck 18 may be fixed. And move the device 30 to move the mask 1
1 may be inserted into the neck portion 18. After the connection, the picture tube is desirably supported by a supporting material. In either case, this connection is adjusted by the RCC device 2 while the opening end of the neck portion 18 and the packing 14 are adjusted.
It is preferable to equalize the gap between the inner wall 18a of the neck portion and the mask 11 and join them together.

【0027】上記の如く、ネック部18をマスク11に
結合後に、真空チャンバー3を真空引きすることによ
り、自動的にスライダー16がスライドしてスライダー
16の顎部16aがOリング17を押圧し、マスク11
のテーパー11bと近接するネック部内壁18aとの間
を密封する。
As described above, after the neck portion 18 is connected to the mask 11, the vacuum chamber 3 is evacuated to automatically slide the slider 16 so that the jaw 16a of the slider 16 presses the O-ring 17, Mask 11
Between the taper 11b and the adjacent inner wall 18a of the neck.

【0028】図2は、このスライダー16の作動前後の
状態を示すものであり、(a)はスライダー16の作動
前の上昇位置における状態、(b)はスライダー16が
作動した下降位置における状態を示している。
FIGS. 2A and 2B show a state before and after the operation of the slider 16, wherein FIG. 2A shows a state at a raised position before the operation of the slider 16, and FIG. 2B shows a state at a lowered position where the slider 16 is operated. Is shown.

【0029】スライダー16の作動前は(a)図に示す
如く、スライダー16は顎部16aがOリング17の弾
性によって押し上げられ、スライダー16のフランジ1
6bがマスク11のストッパー11aに当接している。
しかし、作動後は(b)に示す如く、スライダー16の
顎部16aがOリング17を押圧している。このため、
Oリングはこの顎部16a、マスク11のテーパー11
b及びネック部内壁18aに挟まれて変形し、マスク1
1と内壁18aとの間の空隙19をその他の内壁内空間
から遮断する。
Before the operation of the slider 16, the jaw 16a of the slider 16 is pushed up by the elasticity of the O-ring 17 as shown in FIG.
6b is in contact with the stopper 11a of the mask 11.
However, after the operation, the jaw 16a of the slider 16 presses the O-ring 17 as shown in FIG. For this reason,
The O-ring is the jaw 16a, the taper 11 of the mask 11
b and the neck portion inner wall 18a, the mask 1
The space 19 between the inner wall 1 and the inner wall 18a is shielded from the other inner wall space.

【0030】これにより、このOリング17とネック1
8の開口部との間の領域の空隙19が、真空チャンバー
3の真空引きと共に減圧されて真空になり、ネック18
の開口部とパッキン14との当たりが増し、この領域内
の空隙19(図1参照)は完全に真空を保持することが
できる。
Thus, the O-ring 17 and the neck 1
The gap 19 in the region between the opening 18 and the opening 8 is decompressed and evacuated with the evacuation of the vacuum chamber 3, and the neck 18
The contact between the opening and the packing 14 increases, and the gap 19 (see FIG. 1) in this region can completely maintain the vacuum.

【0031】そして、上記の如く、空隙19が真空時に
坩堝6から成膜材料7が加熱されて飛翔し、この飛翔材
料7Aがマスク11の流出孔13から上記の空隙19に
流出して内壁18面に蒸着して成膜される。
As described above, when the gap 19 is in a vacuum, the film forming material 7 is heated from the crucible 6 and flies, and the flying material 7A flows out of the outflow hole 13 of the mask 11 into the above-described gap 19 to flow into the inner wall 18. A film is formed by vapor deposition on the surface.

【0032】従って、成膜後にネック部18をマスク1
1から離脱させる際に成膜面が傷つくことがないだけの
十分な空隙Cが必要であり、この空隙Cは例えば0.5
mm〜1.0mmが好ましい。また、マスク11の材料
としては例えばSUS304が望ましく、スライダー1
6の材料としてはC1020(無酸素銅)が望ましい。
そして、上記の領域は電子銃を十分に包含する範囲とな
っている。
Therefore, after film formation, the neck 18 is
In order to prevent the film formation surface from being damaged when the film is separated from 1, the gap C is required to be, for example, 0.5
mm to 1.0 mm is preferred. The material of the mask 11 is preferably SUS304, for example, and the slider 1
As the material No. 6, C1020 (oxygen-free copper) is desirable.
The above-described region is a range that sufficiently includes the electron gun.

【0033】図3は、図1の平面図であるが、図1にお
ける蓋4から上のみを表しその他は図示省略してある。
図示の如く、蓋4の上には冷却水管20が設けられ、図
示省略したポンプに連結され、装置30の作動中は真空
チャンバー3を冷やし、成膜材料7の加熱に伴う真空チ
ャンバー3の温度上昇を抑制している。
FIG. 3 is a plan view of FIG. 1, but shows only the upper part from the lid 4 in FIG. 1 and does not show other parts.
As shown in the figure, a cooling water pipe 20 is provided on the lid 4 and connected to a pump (not shown). The apparatus cools the vacuum chamber 3 during operation of the apparatus 30, and cools the vacuum chamber 3 with the heating of the film forming material 7. The rise has been suppressed.

【0034】図4は、図1のIV−IV線断面図であり、真
空チャンバー3の内部等の配置を示している。図示の如
く、真空チャンバー3の外部には導電端子23が対向配
設され、それぞれの先端部が真空チャンバー3の内部に
位置し、リード線24により坩堝6に接続されている。
このように、例えば抵抗加熱型ヒーターによって成膜材
料7を加熱している。
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV of FIG. 1 and shows an arrangement inside the vacuum chamber 3 and the like. As shown in the drawing, conductive terminals 23 are provided outside the vacuum chamber 3 so as to face each other, and their respective tips are located inside the vacuum chamber 3 and are connected to the crucible 6 by lead wires 24.
In this manner, the film-forming material 7 is heated by, for example, a resistance heater.

【0035】同様に、真空チャンバー3の外部には、図
1において図示した吸引管21のほかに排気管22が設
けられ、それぞれの管21、22の先端は真空チャンバ
ー3の内部に連通している。そして、吸引管21の他端
は図示省略した吸引ポンプに連結され、排気管22は図
示省略したバルブを介して真空になった真空チャンバー
3を大気圧に戻す作用をする。
Similarly, outside the vacuum chamber 3, an exhaust pipe 22 is provided in addition to the suction pipe 21 shown in FIG. 1, and the tips of the respective pipes 21 and 22 communicate with the inside of the vacuum chamber 3. I have. The other end of the suction pipe 21 is connected to a suction pump (not shown), and the exhaust pipe 22 has a function of returning the evacuated vacuum chamber 3 to atmospheric pressure via a valve (not shown).

【0036】以上、各部の機能を説明したが、次に成膜
のプロセスを順次説明する。
The function of each part has been described above. Next, the process of film formation will be sequentially described.

【0037】成膜に際しては、まず、スライダー16を
90度回転させてマスク11から取り外し、スライダー
16を内設していたマスク11の穴から坩堝6に、成膜
材料として例えばアルミニウム粒7を充填する。その後
に、取り外したスライダー16をマスク11に挿入し、
90度回転させて固定する。
At the time of film formation, first, the slider 16 is rotated by 90 degrees and removed from the mask 11, and the crucible 6 is filled with, for example, aluminum particles 7 as a film forming material from the hole of the mask 11 in which the slider 16 is provided. I do. After that, insert the removed slider 16 into the mask 11,
Rotate 90 degrees and fix.

【0038】次に、図5に示すように、ネック部18を
マスク11に対して矢印方向に外嵌させ、ネック部18
の開口部をパッキン14に当接させる。この時のマスク
11に対するネック部18の位置ずれや角度等はRCC
デバイス2により調節する。これにより図1の如く、ネ
ック部18は装置30に結合される。
Next, as shown in FIG. 5, the neck portion 18 is fitted outside the mask 11 in the direction of the arrow, and
Is brought into contact with the packing 14. At this time, the displacement and angle of the neck portion 18 with respect to the mask 11 are determined by RCC.
It is adjusted by the device 2. This couples the neck 18 to the device 30, as shown in FIG.

【0039】次に、真空ポンプを作動させ吸引管21を
介して真空引きすることにより、真空チャンバー3内が
減圧されると同時に、スライダー16が真空チャンバー
3の方向に引っ張られ、ネック部18の開口部とパッキ
ン14との当たりも増してこの部分を密封する。従っ
て、このスライダー16の動作に伴い、スライダー16
の顎部16aがOリング17を押圧し、Oリング17に
よりマスク11のテーパー11bと近接するネック部1
8の内壁18aとの間を密封する。
Next, the vacuum pump 3 is operated to evacuate the interior of the vacuum chamber 3 through the suction pipe 21 so that the inside of the vacuum chamber 3 is depressurized. The contact between the opening and the packing 14 is also increased to seal this portion. Therefore, with the operation of the slider 16, the slider 16
Jaw 16a presses the O-ring 17, and the O-ring 17 causes the neck portion 1 to approach the taper 11b of the mask 11.
8 between the inner wall 18a and the inner wall 18a.

【0040】従って、マスク11の流出孔13を経て更
に空隙19が真空引きされ、Oリング17による密封部
とネック部18の開口部との間の空隙19のみが真空と
なり、この領域を蒸着開始可能な真空圧力にする。
Therefore, the space 19 is further evacuated through the outflow hole 13 of the mask 11, and only the space 19 between the sealing portion formed by the O-ring 17 and the opening of the neck portion 18 is evacuated. Bring to a possible vacuum pressure.

【0041】次に、それぞれの導電端子23に通電し、
電流を所定値に制御しながら坩堝6を加熱する一方、ポ
ンプにより冷却水管20に冷却水を循環させる。これに
より坩堝6の成膜材料7が加熱されて飛翔する。そして
飛翔した飛翔材料7Aはマスク11の流出孔13を経て
上記した密封領域の空隙19へ流出し、ネック部18の
限定された密封領域に位置する内壁18aに蒸着する。
Next, each conductive terminal 23 is energized,
While controlling the current to a predetermined value, the crucible 6 is heated, while cooling water is circulated through the cooling water pipe 20 by a pump. Thereby, the film forming material 7 in the crucible 6 is heated and flies. Then, the flying material 7A that has flowed out flows through the outflow holes 13 of the mask 11 into the above-described space 19 in the sealed area, and is deposited on the inner wall 18a located in the limited sealed area of the neck portion 18.

【0042】蒸着終了後は、導電端子23への通電及び
真空ポンプの作動を止め、続いて、排気管22のバルブ
を開き真空チャンバー3内を大気圧に戻す。これにより
スライダー16がOリング17の弾性により押し戻され
て原位置に復帰する。そして、次は上記したプロセスを
繰り返しながら別のネック部18の蒸着を行う。
After the deposition is completed, the energization of the conductive terminal 23 and the operation of the vacuum pump are stopped, and then the valve of the exhaust pipe 22 is opened to return the inside of the vacuum chamber 3 to the atmospheric pressure. As a result, the slider 16 is pushed back by the elasticity of the O-ring 17 and returns to the original position. Then, another neck portion 18 is deposited while repeating the above-described process.

【0043】図6は、上記したプロセスによって成膜さ
れたネック部18を示し、(a)は要部を示す縦断面
図、(b)は横断面図である。図示の如く、ネック部1
8の内壁18aに膜25を限定された領域にのみ形成す
ることができる。
FIGS. 6A and 6B show the neck portion 18 formed by the above-described process. FIG. 6A is a longitudinal sectional view showing a main part, and FIG. 6B is a transverse sectional view. As shown, the neck 1
The film 25 can be formed only on a limited area on the inner wall 18a of the substrate 8.

【0044】本実施例によれば、真空チャンバー3内を
真空引きすることにより、スライダー16が真空チャン
バー3側へ自動的にスライドしてOリング17を押圧
し、これと近接するネック部内壁18aとマスク11の
テーパー11bとの間を密封する。同時に、この真空引
きにより、マスク11と内壁18aとの間の空隙19が
流出孔13を経由して減圧され、ネック部18の開口部
とパッキン14との当たりも増してこの部分を密封す
る。
According to the present embodiment, by evacuating the vacuum chamber 3, the slider 16 automatically slides toward the vacuum chamber 3 and presses the O-ring 17, and the neck inner wall 18a adjacent to the O-ring 17 is pressed. And the taper 11b of the mask 11 are sealed. At the same time, due to this evacuation, the space 19 between the mask 11 and the inner wall 18a is depressurized through the outflow hole 13, and the contact between the opening of the neck portion 18 and the packing 14 increases, thereby sealing this portion.

【0045】従って、両密封部間の領域の空隙19のみ
を真空にすることができるため、真空引きの時間が短縮
されると共に、この領域のみのネック部18の内壁18
aに成膜することができる。また、成膜後は真空チャン
バー3内を大気圧に戻すことによりスライダー16が自
動的に原位置に復帰する。
Therefore, only the gap 19 in the region between the two sealing portions can be evacuated, so that the time for evacuation can be shortened and the inner wall 18 of the neck portion 18 only in this region can be evacuated.
a can be formed. Further, after the film formation, the slider 16 is automatically returned to the original position by returning the inside of the vacuum chamber 3 to the atmospheric pressure.

【0046】以上、本発明の実施例を説明したが、上述
した実施例は本発明の技術的思想に基づいて種々に変形
が可能である。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the above-described embodiments can be variously modified based on the technical idea of the present invention.

【0047】例えば、マスク11及びスライダー16の
形状やネック部内壁18aとの密封方式は、上述した実
施例以外の形状や方式にすることができる。例えば、ス
ライダー16を機械的に作動させることも可能であり、
電磁式に作動させることも可能である。
For example, the shapes of the mask 11 and the slider 16 and the method of sealing the mask 11 and the inner wall 18a of the neck portion can be any shape and method other than the above-described embodiment. For example, it is also possible to operate the slider 16 mechanically,
It is also possible to operate electromagnetically.

【0048】また、例えば上述の成膜領域以外にも、本
発明に基づく蒸着方式を応用して、例えばネック部18
の外壁に成膜することも可能である。
Further, for example, in addition to the above-described film formation region, the evaporation method according to the present invention is applied to, for example, the neck portion 18.
It is also possible to form a film on the outer wall of the.

【0049】また、例えば、装置30の下部に油圧シリ
ンダを設け、油圧により装置30の全体又は一部を上下
動させてマスク11とネック部18との結合を行うこと
もでき、この上下動機構としては油圧以外のねじ式や空
気圧等により行うことも可能である。
Also, for example, a hydraulic cylinder may be provided at the lower part of the device 30 to move the whole or a part of the device 30 up and down by hydraulic pressure to connect the mask 11 and the neck portion 18. It is also possible to use a screw type other than hydraulic pressure, air pressure, or the like.

【0050】また、この装置を用いて電子銃のグリッド
を構成する電極膜を形成することも可能であり、上述し
た実施例以外に減圧CVDにも応用することが可能であ
る。
Further, it is possible to form an electrode film constituting a grid of an electron gun by using this apparatus, and it is also possible to apply the present invention to low pressure CVD in addition to the above-described embodiment.

【0051】[0051]

【発明の作用効果】本発明は上述した如く、減圧下で成
膜材料を飛翔させるための成膜材料飛翔部と、この成膜
材料飛翔部に連通した成膜領域を規定するマスクと、こ
のマスクに配され、前記減圧下において前記成膜領域側
に偏位してこの成膜領域をシールするシール材とを有し
ているので、限定した成膜領域のみを真空にし、この領
域のみに成膜することができる。更に、マスク及びシー
ル材が減圧に伴って偏位し、これにより自動的に規定さ
れた領域にのみ成膜を行えるので、成膜作業を単時間か
つ効率良く行うことができる。
As described above, the present invention provides a film-forming material flying section for flying a film-forming material under reduced pressure, a mask for defining a film-forming region communicating with the film-forming material flying section, A sealing material that is disposed on the mask and is deflected to the film formation region side under the reduced pressure to seal the film formation region, so that only the limited film formation region is evacuated, and only this region is evacuated. A film can be formed. Further, since the mask and the sealing material are displaced with the decompression, and the film can be formed only in the automatically defined region, the film forming operation can be efficiently performed in a single time.

【0052】従って、例えばこの装置により受像管の電
子銃が設けられているネック部内壁に成膜すれば、沿面
放電が防止され、2次電子なだれ、放電音の発生、画面
の揺れ、電源の切れ及びICの破壊等のトラブルを防止
することができる。
Therefore, for example, by forming a film on the inner wall of the neck portion of the picture tube provided with the electron gun by this apparatus, creeping discharge is prevented, secondary electron avalanches, discharge noise, screen shaking, power supply Troubles such as disconnection and destruction of IC can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例による成膜装置の概略断面図で
ある。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a film forming apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】同、成膜装置の一部を示す拡大断面図であり、
(a)は作動前、(b)は作動状態を示す図である。
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a part of the film forming apparatus.
(A) is a figure before operation | movement, (b) is a figure which shows an operation state.

【図3】同、成膜装置の概略平面図であるるFIG. 3 is a schematic plan view of the same film forming apparatus.

【図4】図1のIV−IV線断面図であるるFIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV of FIG. 1;

【図5】同、成膜装置と被成膜物とを分離した状態を示
す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state where a film forming apparatus and a film formation object are separated from each other.

【図6】同、成膜装置による成膜部を示し、(a)は縦
断面図、(b)は横断面図である。
6A and 6B show a film forming unit of the film forming apparatus, wherein FIG. 6A is a longitudinal sectional view and FIG. 6B is a transverse sectional view.

【図7】受像管の概略断面図である。FIG. 7 is a schematic sectional view of a picture tube.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…台座、2…RCCデバイス、3…真空チャンバー、
3a、11c、16b…フランジ、4…蓋、4a…孔、
5、8、15…ボルト、6…坩堝、7…成膜材料、7A
…飛翔材料、9、12、17…Oリング、10…坩堝押
さえ、11…マスク、11a…ストッパー、11b…テ
ーパー、13…流出孔、14…パッキン、16…スライ
ダー、16a…顎部、18…ネック部、18a…内壁、
19…空隙、20…冷却水管、21…吸引管、22…排
気管、23…導電端子、24…リード線、25…膜、2
6…絶縁材、30…成膜装置、35…受像管、37…端
子部、38…電子銃、C…空隙
1 ... pedestal, 2 ... RCC device, 3 ... vacuum chamber,
3a, 11c, 16b ... flange, 4 ... lid, 4a ... hole,
5, 8, 15 ... bolt, 6 ... crucible, 7 ... film forming material, 7A
... Flying material, 9, 12, 17 ... O-ring, 10 ... Crucible holder, 11 ... Mask, 11a ... Stopper, 11b ... Taper, 13 ... Outflow hole, 14 ... Packing, 16 ... Slider, 16a ... Jaw, 18 ... Neck, 18a ... inner wall,
19 ... air gap, 20 ... cooling water pipe, 21 ... suction pipe, 22 ... exhaust pipe, 23 ... conductive terminal, 24 ... lead wire, 25 ... membrane, 2
Reference numeral 6: insulating material, 30: film forming device, 35: picture tube, 37: terminal portion, 38: electron gun, C: gap

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 減圧下で成膜材料を飛翔させるための成
膜材料飛翔部と、 この成膜材料飛翔部に連通した成膜領域を規定するマス
クと、 このマスクに配設され、前記減圧下において前記成膜領
域側に偏位してこの成膜領域をシールするシール材とを
有する成膜装置。
1. A film-forming material flying section for flying a film-forming material under reduced pressure, a mask defining a film-forming region communicating with the film-forming material flying section, A film forming apparatus having a sealing material that is deviated to the film forming region side to seal the film forming region below.
【請求項2】 前記シール材の偏位が、前記減圧時の圧
力差により生じる、請求項1に記載した装置。
2. The apparatus according to claim 1, wherein the displacement of the sealing material is caused by the pressure difference at the time of the pressure reduction.
【請求項3】 真空を保持して、管体内壁に前記成膜材
料を飛翔させて付着させる成膜装置であって、前記圧力
差によって前記マスクと前記シール材とが自動的に偏位
し、これにより前記成膜材料の付着領域である前記成膜
領域のみを真空にし、この真空領域において前記管体内
壁に前記成膜材料を選択的に付着させる、請求項2に記
載した装置。
3. A film forming apparatus for holding the vacuum and causing the film forming material to fly and adhere to the inner wall of the tube, wherein the mask and the sealing material are automatically displaced by the pressure difference. 3. The apparatus according to claim 2, wherein only the film forming region that is the region where the film forming material is attached is evacuated, and the film forming material is selectively adhered to the inner wall of the tube in the vacuum region.
【請求項4】 前記管体が電子銃を容した陰極管のネッ
ク部であり、このネック部の内壁に導体材料が成膜され
る、請求項1に記載した装置。
4. The apparatus according to claim 1, wherein the tube is a neck portion of a cathode tube containing an electron gun, and a conductive material is formed on an inner wall of the neck portion.
【請求項5】 前記成膜材料飛翔部が真空蒸着装置とし
て構成されている、請求項1に記載した装置。
5. The apparatus according to claim 1, wherein the film-forming material flying section is configured as a vacuum evaporation apparatus.
【請求項6】 前記減圧の解除時に前記シール材が復元
してそのシール状態が解除される、請求項1に記載した
装置。
6. The apparatus according to claim 1, wherein the sealing material is restored when the pressure reduction is released, and the sealing state is released.
【請求項7】 前記減圧を大気圧に解放したときに、前
記シール材が自動的に復元する、請求項6に記載した装
置。
7. The apparatus according to claim 6, wherein said seal material automatically restores when said reduced pressure is released to atmospheric pressure.
【請求項8】 前記マスクがスライド部を有し、このス
ライド部に連動してゴム製の前記シール材が偏位及び復
帰する、請求項1に記載した装置。
8. The apparatus according to claim 1, wherein the mask has a slide portion, and the rubber seal material shifts and returns in conjunction with the slide portion.
【請求項9】 真空吸引手段を有する真空室と、この真
空室に配された成膜材料の飛翔源とによって前記成膜材
料飛翔部が構成され、前記真空室上に配され、先端外周
縁に傾斜面が形成され、前記管体に係合され、前記管体
との間に成膜領域を形成する筒状係合部と、この係合部
の内周面にスライド可能に内設され、前記係合部の先端
部分の内周面において前記スライドの方向の両端にそれ
ぞれ当接する各ストッパ部を有する圧接手段とによって
前記マスクが構成され、前記傾斜面と前記ストッパ部と
の間と前記管体とで囲まれた空間に前記シール材が配さ
れ、前記管体の端部開口から前記係合部が嵌入され、前
記端部開口にて互いに接合して係合され、前記真空室の
真空吸引により前記圧接手段が吸引されて前記管体の端
部開口側へスライドし、前記圧接手段の先端側ストッパ
部が、前記シール材を介して前記傾斜面と、この傾斜面
に近接する前記管体内壁との間を密封し、この密封部と
前記管体の端部開口との間の限定された領域において、
前記管体内壁と前記係合部と前記シール材とで形成され
る空隙を前記成膜領域として限定して真空にされる、請
求項3に記載した装置。
9. A vacuum chamber having vacuum suction means, and a film material flying section constituted by a film material flying source disposed in the vacuum chamber, and disposed on the vacuum chamber, and a tip outer peripheral edge is provided. An inclined surface is formed on the tubular body, the tubular engaging portion is engaged with the tubular body, and forms a film-forming region with the tubular body, and is slidably provided on an inner peripheral surface of the engaging portion. The mask is constituted by press-contact means having respective stopper portions respectively contacting both ends in the slide direction on the inner peripheral surface of the distal end portion of the engaging portion, and the mask is formed between the inclined surface and the stopper portion. The sealing material is disposed in a space surrounded by the tube body, the engagement portion is fitted from an end opening of the tube body, joined and engaged with each other at the end opening, and The pressure contact means is sucked by vacuum suction and slides toward the end opening side of the tube. The distal end side stopper portion of the press-contact means seals between the inclined surface and the inner wall of the pipe adjacent to the inclined surface via the sealing material. In a limited area between the opening and
4. The apparatus according to claim 3, wherein a vacuum defined by the inner wall of the tube, the engagement portion, and the seal material is defined as the film formation region, and the device is evacuated. 5.
【請求項10】 前記成膜領域と前記真空室とを連通さ
せる貫通孔が前記係合部に設けられ、この貫通孔を通し
て前記真空室から飛翔する前記成膜材料が前記成膜領域
に流入し、前記成膜領域の前記管体の内壁に付着され
る、請求項9に記載した装置。
10. A through hole is provided in the engaging portion for communicating the film formation region with the vacuum chamber, and the film material flying from the vacuum chamber flows into the film formation region through the through hole. The apparatus according to claim 9, wherein the apparatus is attached to an inner wall of the tube in the film formation region.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1388592A1 (en) * 2002-07-31 2004-02-11 METAPLAS IONON Oberflächenveredelungstechnik GmbH Process and apparatus for isolating a surface area of a workpiece

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