JPH10189913A - Semiconductor wafer, semiconductor memory device and method for separating the semiconductor memory device from the semiconductor wafer - Google Patents

Semiconductor wafer, semiconductor memory device and method for separating the semiconductor memory device from the semiconductor wafer

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JPH10189913A
JPH10189913A JP9311350A JP31135097A JPH10189913A JP H10189913 A JPH10189913 A JP H10189913A JP 9311350 A JP9311350 A JP 9311350A JP 31135097 A JP31135097 A JP 31135097A JP H10189913 A JPH10189913 A JP H10189913A
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Japan
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line
memory cell
redundant
semiconductor memory
semiconductor
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JP9311350A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Egawa
雄一 江川
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Nippon Steel Corp
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Nippon Steel Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the sizes of a chip and efficiently replace a function failure line by redundant memory cell array. SOLUTION: A plurality of semiconductor memory parts 2 are arranged in a matrix form on a semiconductor wafer 1. Redundant memory parts 3 and 4 which have redundant memory cells for saving a function failure normal memory cell are arranged between semiconductor memory parts 2 which adjoin in the row and column directions. Cutting lines are provided between the redundant memory parts 3, 4 and semiconductor memory parts 2, for separation from the semiconductor wafer 1 as a semiconductor memory device (chip) at a later step, under the condition that the redundant memory parts 3 and 4 be connected to the memory part 2, as needed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、正規の半導体メモ
リ部と機能不良の正規のメモリセルを救済するための冗
長メモリ部が半導体基板上にマトリクス状に配列された
半導体ウエハに係り、より詳細には、半導体メモリ部に
必要な数の冗長メモリ部を備えた半導体メモリデバイ
ス、及び半導体メモリデバイスを半導体ウエハから分離
する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor wafer in which a regular semiconductor memory section and a redundant memory section for relieving a regular memory cell having a malfunction are arranged in a matrix on a semiconductor substrate. The present invention relates to a semiconductor memory device having a necessary number of redundant memory units in a semiconductor memory unit, and a method for separating a semiconductor memory device from a semiconductor wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ダイナミック・ランダム・アク
セス・メモリ(DRAM)等の半導体メモリデバイスで
は、その正規のメモリセルアレイに近接して冗長メモリ
セルアレイ及び冗長を制御するためのヒューズ回路が設
けられている。かかるDRAM等のデバイスにおいて、
正規のメモリセルアレイ内に機能不良のメモリセルが生
じた場合、このメモリセルが接続されているライン(つ
まり、ワード線の方向に沿ったロウライン又はビット線
の方向に沿ったコラムライン)を、ヒューズ回路を用い
て冗長メモリセルアレイ内の対応するラインで置換する
ことにより、その機能不良の正規のメモリセルを救済す
ることが行われている。
2. Description of the Related Art Generally, a semiconductor memory device such as a dynamic random access memory (DRAM) is provided with a redundant memory cell array and a fuse circuit for controlling redundancy in the vicinity of a regular memory cell array. . In such devices as DRAM,
When a malfunctioning memory cell occurs in the normal memory cell array, the line to which the memory cell is connected (that is, the row line along the word line direction or the column line along the bit line direction) is fused. By using a circuit to replace a corresponding line in a redundant memory cell array, a normal memory cell having the malfunction is remedied.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】他方、最近では更なる
半導体メモリデバイス(チップ)のサイズの縮小化が進
められている。しかし、この縮小化が進むにつれて、チ
ップ内の冗長メモリセルアレイ及びヒューズ回路が占め
る面積の割合が相対的に大きくなり、チップサイズの縮
小化及びそのための高集積化を妨げる主な要因の一つと
なっている。
On the other hand, recently, the size of semiconductor memory devices (chips) has been further reduced. However, as the miniaturization progresses, the ratio of the area occupied by the redundant memory cell array and the fuse circuit in the chip becomes relatively large, and this is one of the main factors that hinder the miniaturization of the chip and the high integration thereof. ing.

【0004】これに対処するため、従来知られている技
術の一例として、例えば特開平6−325589号公報
には、ウエハのスクライブ線上にレーザ切断用ヒューズ
を配置し、またチップ内に冗長メモリセルアレイと共に
溶断用ヒューズを配置する技術が開示されている。この
技術では、レーザ切断用ヒューズを切断することで溶断
用ヒューズのデータを作成し、スクライブ線に設けたパ
ッドから所定の電圧を印加することで溶断用ヒューズの
トリミングを行っている。つまり、レーザ切断用ヒュー
ズをチップ外に配置することで、チップ面積の縮小化を
図っている。しかし、この技術においても、チップ内に
冗長メモリセルアレイが存在するために、チップサイズ
の縮小化に限界がある。
To cope with this, as an example of a conventionally known technique, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 6-325589 discloses a technique in which a laser cutting fuse is arranged on a scribe line of a wafer and a redundant memory cell array is provided in a chip. In addition, a technique for arranging a fusing fuse is disclosed. In this technique, data of a fuse for blowing is created by cutting a fuse for laser cutting, and trimming of the fuse for blowing is performed by applying a predetermined voltage from a pad provided on a scribe line. In other words, the chip area is reduced by disposing the laser cutting fuse outside the chip. However, even in this technique, there is a limit in reducing the chip size due to the presence of the redundant memory cell array in the chip.

【0005】また、他の技術の一例として、特開平5−
54695号公報には、冗長メモリセルを2つのメモリ
セルアレイ領域で共有するように配置する技術が開示さ
れている。この技術では、スイッチング素子を用いてい
ずれかのメモリセルアレイ領域を選択し、選択されたメ
モリセルアレイ領域中の不良メモリセルを冗長メモリセ
ルで置換することで、不良品の救済率を向上させてい
る。しかし、この技術は、チップサイズを縮小させるこ
とを考慮していない。つまり、この技術においても、冗
長メモリセルは半導体メモリデバイス(チップ)内に設
けられているため、チップサイズの縮小化という点で問
題がある。
[0005] Another example of the technology is disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No.
Japanese Patent No. 54695 discloses a technique in which redundant memory cells are arranged so as to be shared by two memory cell array regions. In this technique, a memory cell array region is selected using a switching element, and a defective memory cell in the selected memory cell array region is replaced with a redundant memory cell, thereby improving a defective product remedy rate. . However, this technique does not consider reducing the chip size. That is, also in this technique, since the redundant memory cell is provided in the semiconductor memory device (chip), there is a problem in that the chip size is reduced.

【0006】さらに、他の技術の一例として、特公平7
−28012号公報には、冗長メモリセル群を正規のメ
モリセル群の4辺に配置し、正規のメモリセル群におけ
る各メモリセルの形状の均一化を図った半導体メモリが
開示されている。この技術では、正規メモリセル群を形
状的に均一することで、チップサイズの縮小化を図って
いる。しかし、この技術においても、冗長メモリセル群
は半導体メモリ内(つまりチップ内)に設けられている
ため、チップサイズの縮小化に限界がある。
Further, as another example of the technology, Japanese Patent Publication No.
Japanese Patent Publication No. 28012 discloses a semiconductor memory in which redundant memory cell groups are arranged on four sides of a normal memory cell group, and the shape of each memory cell in the normal memory cell group is made uniform. In this technique, the chip size is reduced by making the regular memory cell group uniform in shape. However, also in this technique, since the redundant memory cell group is provided in the semiconductor memory (that is, in the chip), there is a limit in reducing the chip size.

【0007】さらに、他の技術の一例として、特開平6
−5098号公報には、ウエハ検査での検査情報を記録
するための不揮発性の冗長メモリセル部をチップ上に備
えた半導体メモリデバイスが開示されている。この技術
では、組み立て完了後に、冗長メモリセル部の検査情報
に基づいて詳細な電気的特性の検査及び選別を行うこと
で、データを書き込むことなく上記検査及び選別を容易
に行えるようにしている。しかし、この技術で用いられ
ている冗長メモリセル部は、機能不良の正規のメモリセ
ルを救済するためではなく、検査情報を記録するための
ものである。また、この技術は、チップサイズを縮小さ
せることを考慮していない。
Further, as another example of the technology, Japanese Patent Laid-Open No.
Japanese Patent Laid-Open No. -5098 discloses a semiconductor memory device having a nonvolatile redundant memory cell section for recording inspection information in wafer inspection on a chip. According to this technique, after the assembly is completed, detailed inspection and selection of electrical characteristics are performed based on inspection information of a redundant memory cell portion, so that the inspection and selection can be easily performed without writing data. However, the redundant memory cell section used in this technique is not for relieving a normal memory cell having a malfunction, but for recording inspection information. Also, this technique does not consider reducing the chip size.

【0008】本発明の主な目的は、チップサイズの更な
る縮小化を図ると共に、冗長メモリ部による機能不良メ
モリセルの効率の良い救済を可能とする半導体ウエハ及
び半導体メモリデバイスを提供することにある。
A main object of the present invention is to provide a semiconductor wafer and a semiconductor memory device capable of further reducing the chip size and efficiently relieving a malfunctioning memory cell by a redundant memory portion. is there.

【0009】また、本発明の他の目的は、チップサイズ
の更なる縮小化を図ると共に、冗長メモリ部による機能
不良メモリセルの効率の良い救済を可能とし、ひいては
半導体ウエハから得られる良品(半導体メモリデバイ
ス)の個数の大幅な増大に寄与することができる半導体
メモリデバイスの分離方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to further reduce the chip size and to enable efficient repair of a malfunctioning memory cell by using a redundant memory portion, and consequently a non-defective product (semiconductor) obtained from a semiconductor wafer. It is an object of the present invention to provide a method for separating a semiconductor memory device, which can contribute to a large increase in the number of memory devices.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリデ
バイスは、半導体基板上にマトリクス状に配列され、正
規メモリセルアレイをそれぞれ備えた複数の半導体メモ
リ部と、前記正規メモリセルアレイに機能不良のメモリ
セルが存在する場合に当該メモリセルを救済するための
冗長メモリセルアレイをそれぞれ備えた複数の冗長メモ
リ部とを具備し、前記複数の冗長メモリ部は、2つの隣
合う半導体メモリ部に挟まれるように配設され且つ当該
2つの半導体メモリ部と結線されている冗長メモリ部を
有しており、前記各半導体メモリ部と隣合う各冗長メモ
リ部と当該半導体メモリ部との間に、後の段階で各半導
体メモリ部に必要に応じて冗長メモリ部を結線した状態
で前記半導体ウエハから切り離すための切断ラインがそ
れぞれ設定されている。
A semiconductor memory device according to the present invention comprises a plurality of semiconductor memory sections arranged in a matrix on a semiconductor substrate and each including a normal memory cell array, and a memory having a malfunction in the normal memory cell array. A plurality of redundant memory units each provided with a redundant memory cell array for relieving the memory cell when a cell is present, wherein the plurality of redundant memory units are sandwiched between two adjacent semiconductor memory units. And a redundant memory unit connected to the two semiconductor memory units and connected between each of the redundant memory units adjacent to each of the semiconductor memory units and the semiconductor memory unit. In each of the semiconductor memory units, a cutting line for separating the semiconductor memory unit from the semiconductor wafer in a state where the redundant memory unit is connected as necessary is set. That.

【0011】本発明の半導体メモリデバイスの一態様例
においては、前記正規メモリセルアレイは、各ラインが
正規メモリセルにつながっている第1のライン群をそれ
ぞれ有する複数のブロックから構成されており、前記冗
長メモリセルアレイは、各ラインが前記複数のブロック
の各々に対応し且つ冗長メモリセルにつながっている第
2のライン群を有しており、前記第1のライン群の中に
機能不良のラインが存在する場合に、該機能不良のライ
ンに代わって冗長されるべき前記第2のライン群の中の
対応するラインが活性化されている。
In one embodiment of the semiconductor memory device of the present invention, the normal memory cell array includes a plurality of blocks each having a first line group in which each line is connected to a normal memory cell. The redundant memory cell array has a second line group in which each line corresponds to each of the plurality of blocks and is connected to a redundant memory cell, and a malfunctioning line is included in the first line group. If present, the corresponding line in the second group of lines to be redundant is activated in place of the malfunctioning line.

【0012】本発明の半導体メモリデバイスの一態様例
においては、前記正規メモリセルアレイを構成する複数
のブロックの各々における前記第1のライン群の各ライ
ン毎に第1のヒューズが設けられ、前記冗長メモリセル
アレイに含まれる前記第2のライン群の各ライン毎に第
2のヒューズが設けられ、前記第1のライン群の中に機
能不良のラインが存在する場合に、該機能不良のライン
に対応する前記第1のヒューズが切断されていると共
に、該機能不良のラインに代わって冗長されるべき前記
第2のライン群の中の対応するラインが活性化されるよ
うに前記第2のヒューズが切断されている。
In one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, a first fuse is provided for each line of the first line group in each of a plurality of blocks constituting the normal memory cell array, and the redundancy is provided. A second fuse is provided for each line of the second line group included in the memory cell array, and when a malfunction line exists in the first line group, the second fuse corresponds to the malfunction line. And the second fuse is cut such that the corresponding line in the second line group to be redundantly activated in place of the malfunctioning line is activated. You are disconnected.

【0013】本発明の半導体メモリデバイスの一態様例
においては、1つの半導体メモリ部の互いに反対側の辺
にそれぞれ隣合って第1及び第2の冗長メモリ部が配設
されている部分において、前記1つの半導体メモリ部の
正規メモリセルアレイを構成する複数のブロックの各々
における前記第1のライン群の中に機能不良のラインが
1本存在する場合には、前記第1及び第2の冗長メモリ
部のいずれか一方の冗長メモリセルアレイに含まれる前
記第2のライン群の中の対応する1本のラインが活性化
されており、前記第1のライン群の中に機能不良のライ
ンが2本存在する場合には、前記第1及び第2の冗長メ
モリ部の双方の冗長メモリセルアレイに含まれる前記第
2のライン群の中の対応する1本のラインがそれぞれ活
性化されている。
[0013] In one embodiment of the semiconductor memory device of the present invention, in a portion where the first and second redundant memory portions are respectively disposed adjacent to opposite sides of one semiconductor memory portion, In the case where one malfunctioning line exists in the first line group in each of a plurality of blocks forming a normal memory cell array of the one semiconductor memory unit, the first and second redundant memories are provided. One corresponding line in the second line group included in any one of the redundant memory cell arrays is activated, and two malfunctioning lines are included in the first line group. If there is, one corresponding line in the second line group included in the redundant memory cell arrays of both the first and second redundant memory units is activated.

【0014】本発明の半導体メモリデバイスの一態様例
においては、前記第1のライン群は、前記正規メモリセ
ルアレイにおけるビット線の方向に沿ったコラムライン
で構成され、前記第2のライン群は、前記冗長メモリセ
ルアレイにおける対応する冗長コラムラインで構成され
ている。
In one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, the first line group is constituted by column lines along a direction of a bit line in the normal memory cell array, and the second line group is constituted by: The redundant memory cell array includes corresponding redundant column lines.

【0015】本発明の半導体メモリデバイスの一態様例
においては、前記第1のライン群は、前記正規メモリセ
ルアレイにおけるワード線の方向に沿ったロウラインで
構成され、前記第2のライン群は、前記冗長メモリセル
アレイにおける対応する冗長ロウラインで構成されてい
る。
In one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, the first line group is constituted by row lines along a word line direction in the normal memory cell array, and the second line group is constituted by the second line group. It is composed of corresponding redundant row lines in the redundant memory cell array.

【0016】本発明の半導体メモリデバイスの一態様例
においては、前記複数の冗長メモリ部は、1つの半導体
メモリ部の1辺にのみ隣合って配設され且つ当該1つの
半導体メモリ部と結線されている冗長メモリ部を更に有
している。
In one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, the plurality of redundant memory units are disposed adjacent to only one side of one semiconductor memory unit and connected to the one semiconductor memory unit. And a redundant memory unit.

【0017】本発明の半導体メモリデバイスの分離方法
は、半導体ウエハから半導体メモリデバイスを分離する
方法であって、前記半導体ウエハは、半導体基板上にマ
トリクス状に配列され且つ正規メモリセルアレイをそれ
ぞれ備えた複数の半導体メモリ部と、前記正規メモリセ
ルアレイに機能不良のメモリセルが存在する場合に当該
メモリセルを救済するための冗長メモリセルアレイをそ
れぞれ備えた複数の冗長メモリ部とを備え、該複数の冗
長メモリ部は、2つの隣合う半導体メモリ部の間に挟ま
れるように配設され且つ当該2つの半導体メモリ部と結
線されている冗長メモリ部を有し、前記各半導体メモリ
部と隣合う各冗長メモリ部と当該半導体メモリ部との間
に切断ラインがそれぞれ設定されているものであり、前
記半導体ウエハからそれぞれ1つの半導体メモリ部を含
む複数の半導体メモリデバイスを分離する際に、各冗長
メモリ部を当該冗長メモリ部に隣合う2つの半導体メモ
リ部のいずれか一方に結線された状態で残すように、当
該冗長メモリ部の両側に設定された切断ラインのうちの
一方を選択して切断する。
A method of separating a semiconductor memory device according to the present invention is a method of separating a semiconductor memory device from a semiconductor wafer, wherein the semiconductor wafer is arranged in a matrix on a semiconductor substrate and includes a regular memory cell array. A plurality of semiconductor memory units; and a plurality of redundant memory units each including a redundant memory cell array for relieving the memory cells when a malfunctioning memory cell is present in the normal memory cell array. The memory unit includes a redundant memory unit disposed between two adjacent semiconductor memory units and connected to the two semiconductor memory units, and each of the redundant memory units adjacent to the respective semiconductor memory units. A cutting line is set between the memory unit and the semiconductor memory unit, and the cutting line is set for the semiconductor wafer. When separating a plurality of semiconductor memory devices each including one semiconductor memory unit, each redundant memory unit is left connected to one of two semiconductor memory units adjacent to the redundant memory unit. One of the cutting lines set on both sides of the redundant memory unit is selected and cut.

【0018】本発明の半導体メモリデバイスの分離方法
の一態様例においては、前記正規メモリセルアレイは、
各ラインが正規メモリセルにつながっている第1のライ
ン群をそれぞれ有する複数のブロックから構成され、前
記冗長メモリセルアレイは、各ラインが前記複数のブロ
ックの各々に対応し且つ冗長メモリセルにつながってい
る第2のライン群を有しており、前記正規メモリセルア
レイを構成する複数のブロックの各々における前記第1
のライン群の各ライン毎に第1のヒューズが設けられ、
前記冗長メモリセルアレイに含まれる前記第2のライン
群の各ライン毎に第2のヒューズが設けられており、前
記半導体ウエハから複数の半導体メモリデバイスを分離
する際に、前記第1のライン群の中に機能不良のライン
が存在する場合に、該機能不良のラインに対応する前記
第1のヒューズを切断すると共に、該機能不良のライン
に代わって冗長されるべき前記第2のライン群の中の対
応するラインが活性化されるように前記第2のヒューズ
を切断する。
In one embodiment of the method for separating a semiconductor memory device according to the present invention, the normal memory cell array includes:
The redundant memory cell array includes a plurality of blocks each having a first line group in which each line is connected to a normal memory cell, and the redundant memory cell array is configured such that each line corresponds to each of the plurality of blocks and is connected to a redundant memory cell. And a first line group in each of a plurality of blocks constituting the normal memory cell array.
A first fuse is provided for each line of the line group of
A second fuse is provided for each line of the second line group included in the redundant memory cell array, and when separating a plurality of semiconductor memory devices from the semiconductor wafer, the second fuse of the first line group is provided. If a malfunctioning line is present, the first fuse corresponding to the malfunctioning line is blown and the second line group to be redundantly replaced in place of the malfunctioning line. The second fuse is blown so that the corresponding line is activated.

【0019】本発明の半導体メモリデバイスの分離方法
の一態様例においては、前記半導体ウエハを検査して前
記複数の半導体メモリ部に存在する機能不良のメモリセ
ルを特定し、この特定された結果に基づいて該複数の半
導体メモリ部のうち救済できる半導体メモリ部の数が最
大となるように、前記各冗長メモリ部の両側に設定され
た切断ラインのうちの一方を選択して切断する。
In one embodiment of the method for separating a semiconductor memory device according to the present invention, the semiconductor wafer is inspected to identify defective memory cells present in the plurality of semiconductor memory sections, and the identified result is Then, one of the cutting lines set on both sides of each of the redundant memory units is selected and cut so that the number of rescuable semiconductor memory units among the plurality of semiconductor memory units is maximized.

【0020】本発明の半導体メモリデバイスの分離方法
は、半導体ウエハから半導体メモリデバイスを分離する
方法であって、前記半導体ウエハは、半導体基板上にマ
トリクス状に配列され且つ正規メモリセルアレイをそれ
ぞれ備えた複数の半導体メモリ部と、前記正規メモリセ
ルアレイに機能不良のメモリセルが存在する場合に当該
メモリセルを救済するための冗長メモリセルアレイをそ
れぞれ備えた複数の冗長メモリ部とを備え、該複数の冗
長メモリ部は、2つの隣合う半導体メモリ部の間に挟ま
れるように配設され且つ当該2つの半導体メモリ部と結
線されている冗長メモリ部を有し、前記各半導体メモリ
部と隣合う各冗長メモリ部と当該半導体メモリ部との間
に切断ラインがそれぞれ設定されているものであり、前
記半導体ウエハからそれぞれ1つの半導体メモリ部を含
む複数の半導体メモリデバイスを分離する際に、各半導
体メモリ部の正規メモリセルアレイに機能不良のメモリ
セルが存在する場合に、当該メモリセルに代わって機能
する冗長メモリセルを有する冗長メモリセルアレイを備
えた冗長メモリ部を当該冗長メモリ部に隣合う半導体メ
モリ部に結線された状態で残すように、前記切断ライン
を適宜選択して切断する。
A method for separating a semiconductor memory device according to the present invention is a method for separating a semiconductor memory device from a semiconductor wafer, wherein the semiconductor wafer is arranged in a matrix on a semiconductor substrate and includes a regular memory cell array. A plurality of semiconductor memory units; and a plurality of redundant memory units each including a redundant memory cell array for relieving the memory cells when a malfunctioning memory cell is present in the normal memory cell array. The memory unit includes a redundant memory unit disposed between two adjacent semiconductor memory units and connected to the two semiconductor memory units, and each of the redundant memory units adjacent to the respective semiconductor memory units. A cutting line is set between the memory unit and the semiconductor memory unit, and the cutting line is set for the semiconductor wafer. When separating a plurality of semiconductor memory devices each including one semiconductor memory unit, if there is a malfunctioning memory cell in a regular memory cell array of each semiconductor memory unit, a redundant memory cell functioning instead of the memory cell The cutting line is appropriately selected and cut so as to leave a redundant memory section having a redundant memory cell array having a state connected to a semiconductor memory section adjacent to the redundant memory section.

【0021】本発明の半導体メモリデバイスの分離方法
の一態様例においては、前記正規メモリセルアレイは、
各ラインが正規メモリセルにつながっている第1のライ
ン群をそれぞれ有する複数のブロックから構成され、前
記冗長メモリセルアレイは、各ラインが前記複数のブロ
ックの各々に対応し且つ冗長メモリセルにつながってい
る第2のライン群を有しており、前記半導体ウエハから
複数の半導体メモリデバイスを分離する際に、各半導体
メモリ部の正規メモリセルアレイを構成する複数のブロ
ックの各々における前記第1のライン群の中に機能不良
のラインが存在する場合に、当該ラインに代わって冗長
されるべき前記第2のライン群の中の対応するラインを
有する冗長メモリセルアレイを備えた冗長メモリ部を当
該冗長メモリ部に隣合う半導体メモリ部に結線された状
態で残すように、前記切断ラインを適宜選択して切断す
る。
In one embodiment of the method for separating a semiconductor memory device according to the present invention, the normal memory cell array comprises:
The redundant memory cell array includes a plurality of blocks each having a first line group in which each line is connected to a normal memory cell, and the redundant memory cell array is configured such that each line corresponds to each of the plurality of blocks and is connected to a redundant memory cell. The first line group in each of a plurality of blocks constituting a normal memory cell array of each semiconductor memory unit when separating a plurality of semiconductor memory devices from the semiconductor wafer. A redundant memory unit having a redundant memory cell array having a corresponding line in the second line group to be replaced in place of the line when a malfunction line exists in the redundant memory unit. The cutting line is appropriately selected and cut so as to remain connected to the semiconductor memory unit adjacent to the above.

【0022】本発明の半導体メモリデバイスの分離方法
の一態様例においては、前記正規メモリセルアレイを構
成する複数のブロックの各々における前記第1のライン
群の各ライン毎に第1のヒューズが設けられ、前記冗長
メモリセルアレイに含まれる前記第2のライン群の各ラ
イン毎に第2のヒューズが設けられており、前記半導体
ウエハから複数の半導体メモリデバイスを分離する際
に、前記第1のライン群の中に機能不良のラインが存在
する場合に、該機能不良のラインに対応する前記第1の
ヒューズを切断すると共に、該機能不良のラインに代わ
って冗長されるべき前記第2のライン群の中の対応する
ラインが活性化されるように前記第2のヒューズを切断
する。
In one embodiment of the method for separating a semiconductor memory device according to the present invention, a first fuse is provided for each line of the first line group in each of a plurality of blocks constituting the normal memory cell array. A second fuse is provided for each line of the second line group included in the redundant memory cell array, and when separating a plurality of semiconductor memory devices from the semiconductor wafer, the first line group is provided. In the case where there is a malfunctioning line, the first fuse corresponding to the malfunctioning line is blown, and the second line group to be redundantly replaced in place of the malfunctioning line. The second fuse is cut such that the corresponding line therein is activated.

【0023】本発明の半導体メモリデバイスは、正規メ
モリセルアレイを備えた多角形の半導体メモリ部と、前
記正規メモリセルアレイに機能不良のメモリセルが存在
する場合に当該メモリセルを救済するための冗長メモリ
セルアレイと、前記半導体メモリ部の前記多角形の各々
の辺には、前記冗長メモリアレイと結線する結線群とを
備え、前記半導体メモリ部の前記多角形の少なくとも1
つの第1の辺に隣合って前記結線群を介して当該半導体
メモリ部と結線されている前記冗長メモリアレイと、前
記半導体メモリ部の前記多角形の少なくとも1つの前記
第1の辺以外の他辺である第2の辺に形成された前記結
線群は、前記冗長メモリアレイとは結線されない結線群
として備える。
A semiconductor memory device according to the present invention is a polygonal semiconductor memory section having a normal memory cell array, and a redundant memory for relieving a memory cell having a malfunction in the normal memory cell array. A cell array; and a connection group connected to the redundant memory array on each side of the polygon of the semiconductor memory unit, wherein at least one of the polygons of the semiconductor memory unit is provided.
The redundant memory array adjacent to one of the first sides and connected to the semiconductor memory unit via the connection group; and the other of the semiconductor memory unit other than at least one of the first sides of the polygon. The connection group formed on the second side, which is a side, is provided as a connection group that is not connected to the redundant memory array.

【0024】本発明の半導体メモリデバイスは、正規メ
モリセルアレイを備えた半導体メモリ部と、前記正規メ
モリセルアレイに機能不良のメモリセルが存在する場合
に当該メモリセルを救済するための冗長メモリセルアレ
イと、前記半導体メモリ部の周辺領域には、前記冗長メ
モリアレイと結線する結線群を備え、前記半導体メモリ
部の少なくとも一部の前記周辺領域に隣合って前記結線
群を介して当該半導体メモリ部と結線されている前記冗
長メモリアレイと、前記半導体メモリ部の少なくとも一
部の他の前記周辺領域に形成された前記結線群は、前記
冗長メモリアレイと結線されない結線群として備える。
A semiconductor memory device according to the present invention comprises: a semiconductor memory section having a normal memory cell array; a redundant memory cell array for relieving a memory cell having a malfunction in the normal memory cell array; The peripheral region of the semiconductor memory unit includes a connection group connected to the redundant memory array, and is connected to the semiconductor memory unit via the connection group adjacent to at least a part of the peripheral region of the semiconductor memory unit. The connection group formed in the redundant memory array and the other peripheral region of at least a part of the semiconductor memory unit is provided as a connection group not connected to the redundant memory array.

【0025】本発明の半導体メモリデバイスは、正規メ
モリセルアレイを備えた多角形の半導体メモリ部と、前
記正規メモリセルアレイに機能不良のメモリセルが存在
する場合に当該メモリセルを救済するための冗長メモリ
セルアレイと、前記半導体メモリ部の前記多角形の各々
の辺には、前記冗長メモリアレイと結線する結線群を備
え、前記半導体メモリ部の前記多角形の少なくとも1辺
に隣合って前記結線群を介して当該半導体メモリ部と結
線されている前記冗長メモリアレイと、前記半導体メモ
リ部と隣合う前記冗長メモリアレイとの間隔は、略80
μm〜120μmの範囲で選定される。
A semiconductor memory device according to the present invention is a polygonal semiconductor memory section having a normal memory cell array, and a redundant memory for relieving a memory cell having a malfunction in the normal memory cell array. A cell array and, on each side of the polygon of the semiconductor memory unit, a connection group connected to the redundant memory array, and the connection group adjacent to at least one side of the polygon of the semiconductor memory unit. The distance between the redundant memory array connected to the semiconductor memory unit via the semiconductor memory unit and the redundant memory array adjacent to the semiconductor memory unit is approximately 80.
It is selected in the range of μm to 120 μm.

【0026】本発明の半導体メモリデバイスは、正規メ
モリセルアレイを備えた半導体メモリ部と、前記正規メ
モリセルアレイに機能不良のメモリセルが存在する場合
に当該メモリセルを救済するための冗長メモリセルアレ
イと、前記半導体メモリ部の周辺領域には、前記冗長メ
モリアレイと結線する結線群を備え、前記半導体メモリ
部の少なくとも一部の前記周辺領域に隣合って前記結線
群を介して当該半導体メモリ部と結線されている前記冗
長メモリアレイと、前記半導体メモリ部と隣合う前記冗
長メモリアレイとの間隔は、略80μm〜120μmの
範囲で選定される。
A semiconductor memory device according to the present invention comprises: a semiconductor memory unit having a normal memory cell array; a redundant memory cell array for relieving a memory cell having a malfunction in the normal memory cell array; The peripheral region of the semiconductor memory unit includes a connection group connected to the redundant memory array, and is connected to the semiconductor memory unit via the connection group adjacent to at least a part of the peripheral region of the semiconductor memory unit. The interval between the redundant memory array and the redundant memory array adjacent to the semiconductor memory unit is selected in a range of approximately 80 μm to 120 μm.

【0027】本発明の半導体メモリデバイスは、正規メ
モリセルアレイを備えた半導体メモリ部と、前記半導体
メモリ部の前記周辺領域に形成された冗長メモリアレイ
と結線するための結線群を備え、少なくとも一部の前記
結線群は、冗長メモリアレイと結線されない結線群とし
て備える。
A semiconductor memory device according to the present invention includes a semiconductor memory unit having a regular memory cell array, and a connection group for connecting to a redundant memory array formed in the peripheral region of the semiconductor memory unit, and at least a part thereof. Are provided as connection groups that are not connected to the redundant memory array.

【0028】本発明の半導体メモリデバイスは、正規メ
モリセルアレイを備えた多角形の半導体メモリ部と、前
記半導体メモリ部の前記多角形の各々の辺には、冗長メ
モリアレイと結線するための結線群を備え、前記半導体
メモリ部の前記多角形の少なくとも1つの辺に形成され
た前記結線群は、冗長メモリアレイとは結線されない結
線群として備える。
A semiconductor memory device according to the present invention includes a polygonal semiconductor memory section having a regular memory cell array, and a connection group for connecting to a redundant memory array on each side of the polygon of the semiconductor memory section. And the connection group formed on at least one side of the polygon of the semiconductor memory unit is provided as a connection group that is not connected to a redundant memory array.

【0029】本発明の半導体メモリデバイスの一態様例
においては、前記正規メモリセルアレイは、各ラインが
正規メモリセルにつながっている第1のライン群をそれ
ぞれ有する複数のブロックから構成され、前記冗長メモ
リセルアレイは、各ラインが前記複数のブロックの各々
に対応し且つ冗長メモリセルにつながっている第2のラ
イン群を有しており、前記第1のライン群の中で機能不
良のラインについては非活性化されており、且つ、該機
能不良のラインが含まれるブロックに対応する前記第2
のライン群の中のラインは活性化されている。
In one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, the normal memory cell array is composed of a plurality of blocks each having a first line group in which each line is connected to a normal memory cell, and The cell array has a second line group in which each line corresponds to each of the plurality of blocks and is connected to a redundant memory cell, and non-functional lines in the first line group are non-functional. The second block corresponding to a block that is activated and includes the malfunctioning line.
Are activated.

【0030】本発明の半導体メモリデバイスの一態様例
においては、前記正規メモリセルアレイを構成する複数
のブロックの各々における前記第1のライン群の各ライ
ン毎に第1のヒューズが設けられ、前記冗長メモリセル
アレイに含まれる前記第2のライン群の各ライン毎に第
2のヒューズが設けられ、前記第1のライン群の中に機
能不良のラインが存在する場合に、該機能不良のライン
に対応する前記第1のヒューズが切断されていると共
に、該機能不良のラインに代わって冗長されるべき前記
第2のライン群の中の対応するラインが活性化されるよ
うに前記第2のヒューズが切断されている。
In one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, a first fuse is provided for each line of the first line group in each of the plurality of blocks constituting the normal memory cell array, and the redundancy is provided. A second fuse is provided for each line of the second line group included in the memory cell array, and when a malfunction line exists in the first line group, the second fuse corresponds to the malfunction line. And the second fuse is cut such that the corresponding line in the second line group to be redundantly activated in place of the malfunctioning line is activated. You are disconnected.

【0031】本発明の半導体メモリデバイスの一態様例
においては、前記半導体メモリ部の互いに反対側にそれ
ぞれ隣合って第1及び第2の冗長メモリ部が結線されて
おり、前記半導体メモリ部の正規メモリセルアレイを構
成する複数のブロックの各々における前記第1のライン
群の中に機能不良のラインが1本存在する場合には、前
記第1及び第2の冗長メモリ部のいずれか一方の冗長メ
モリセルアレイに含まれる前記第2のライン群の中の対
応する1本のラインが活性化されており、前記第1のラ
イン群の中に機能不良のラインが2本存在する場合に
は、前記第1及び第2の冗長メモリ部の双方の冗長メモ
リセルアレイに含まれる前記第2のライン群の中の対応
する1本のラインがそれぞれ活性化されている。
In one embodiment of the semiconductor memory device of the present invention, first and second redundant memory sections are connected adjacent to each other on opposite sides of the semiconductor memory section, respectively. In the case where one malfunctioning line is present in the first line group in each of the plurality of blocks constituting the memory cell array, one of the first and second redundant memory units When one corresponding line in the second line group included in the cell array is activated and two malfunctioning lines exist in the first line group, the second line group is activated. One corresponding line in the second line group included in the redundant memory cell arrays of both the first and second redundant memory units is activated.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明の好適な実施形態について説明する。図1は本発明の
一実施形態に係る半導体ウエハの平面的な構成を模式的
に示したものである。図中、1は半導体ウエハを示し、
この半導体ウエハ1上には、それぞれ所定の機能を実現
するよう設計された複数の矩形状の半導体メモリ部2が
マトリクス状に配列されている。半導体メモリ部2は、
入出力インターフェース回路、デコーダ回路、I/O制
御回路等の周辺回路を含む。また、矩形状の各半導体メ
モリ部2の各辺にそれぞれ隣合って冗長メモリ部3又は
4が配置されており、各冗長メモリ部3及び4は、それ
ぞれ隣合う半導体メモリ部2と結線されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 schematically shows a planar configuration of a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1 indicates a semiconductor wafer,
On the semiconductor wafer 1, a plurality of rectangular semiconductor memory units 2 each designed to realize a predetermined function are arranged in a matrix. The semiconductor memory unit 2
It includes peripheral circuits such as an input / output interface circuit, a decoder circuit, and an I / O control circuit. Further, a redundant memory unit 3 or 4 is arranged adjacent to each side of each rectangular semiconductor memory unit 2, and each of the redundant memory units 3 and 4 is connected to the adjacent semiconductor memory unit 2. I have.

【0033】すなわち、各半導体メモリ部2におけるコ
ラム方向の機能不良のメモリセルを救済するための冗長
メモリ部3が、上下方向(つまりコラム方向)で隣合う
2つの半導体メモリ部2の間に設けられると共に、半導
体ウエハ1上で最も上側に配列された半導体メモリ部2
の上側に設けられている。同様に、各半導体メモリ部2
におけるロウ方向の機能不良のメモリセルを救済するた
めの冗長メモリ部4が、左右方向(つまりロウ方向)で
隣合う2つの半導体メモリ部2の間に設けられると共
に、半導体ウエハ1上で最も右側に配列された半導体メ
モリ部2の右側と、半導体ウエハ1上で最も左側に配列
された半導体メモリ部2の左側にそれぞれ設けられてい
る。
That is, a redundant memory unit 3 for relieving a memory cell having a malfunction in the column direction in each semiconductor memory unit 2 is provided between two adjacent semiconductor memory units 2 in the vertical direction (that is, the column direction). And the uppermost semiconductor memory unit 2 on the semiconductor wafer 1
Is provided on the upper side. Similarly, each semiconductor memory unit 2
Is provided between two adjacent semiconductor memory units 2 in the left-right direction (that is, the row direction) to relieve a memory cell having a malfunction in the row direction in FIG. , And on the left side of the semiconductor memory unit 2 arranged on the leftmost side on the semiconductor wafer 1.

【0034】また、図1において破線で示すように、各
半導体メモリ部2と各冗長メモリ部3,4との間には、
必要に応じてその部分で半導体ウエハ1を切断するため
の切断ラインが設定されている。図示の例では、コラム
方向において各冗長メモリ部4の両側に切断ラインX1
〜X16がそれぞれ設定されており、ロウ方向において各
冗長メモリ部3の両側に切断ラインY1 〜Y11がそれぞ
れ設定されている。
As shown by broken lines in FIG. 1, between each semiconductor memory unit 2 and each of the redundant memory units 3 and 4,
If necessary, a cutting line for cutting the semiconductor wafer 1 is set at that portion. In the illustrated example, cutting lines X 1 are provided on both sides of each redundant memory unit 4 in the column direction.
To X 16 are set respectively, cutting lines Y 1 to Y 11 on either side of each redundant memory section 3 is set respectively in the row direction.

【0035】本実施形態では、本発明が属する技術の現
状に鑑みて、矩形状の各半導体メモリ部2とこれに隣合
う各冗長メモリ部3,4との間隔dは、ほぼ80μm〜
120μmの範囲で選定されている。また、この間隔d
内で設定されるべき各切断ラインX1 〜X16及びY1
11の太さは、ほぼ30μm〜50μmの範囲で選定さ
れている。好ましくは、間隔dは100μm程度に設定
され、各切断ラインの太さは40μm程度に設定され
る。
In the present embodiment, in consideration of the current state of the art to which the present invention belongs, the distance d between each rectangular semiconductor memory unit 2 and each of the redundant memory units 3 and 4 adjacent thereto is approximately 80 μm.
It is selected in the range of 120 μm. Also, this interval d
Each cutting line X 1 to X 16 and Y 1 to
The thickness of Y 11 is selected in a range of approximately 30 μm to 50 μm. Preferably, the interval d is set to about 100 μm, and the thickness of each cutting line is set to about 40 μm.

【0036】また、各半導体メモリ部2は、後の段階
で、「チップ」として半導体ウエハ1から分離される。
この分離は、各半導体メモリ部2に必要な数の冗長メモ
リ部3,4を結線した状態で、或いは半導体メモリ部2
に機能不良のメモリセルが存在しない場合には隣合う冗
長メモリ部3,4との結線を絶った状態で、それぞれ対
応する切断ラインを切断することにより行われる。
Each semiconductor memory unit 2 is separated from the semiconductor wafer 1 as a "chip" at a later stage.
This separation is performed in a state where the necessary number of redundant memory units 3 and 4 are connected to each semiconductor memory unit 2 or the semiconductor memory unit 2
In the case where there is no malfunctioning memory cell, the cutting is performed by cutting the corresponding cutting line in a state where the connection with the adjacent redundant memory units 3 and 4 is disconnected.

【0037】図2には半導体メモリ部及び冗長メモリ部
の各メモリセルアレイに含まれる各ラインの配列形態の
一例が模式的に示される。図中、11は半導体メモリ部
2に含まれる正規メモリセルアレイ、12a及び12b
はそれぞれ当該半導体メモリ部2に隣合う冗長メモリ部
4a及び4bに含まれる冗長メモリセルアレイを模式的
に示したものである。図2に示すように、正規メモリセ
ルアレイ11は、各ラインが正規メモリセル(図示せ
ず)につながっている第1のライン群L0〜L7をそれ
ぞれ有する複数のブロックB0〜B7から構成されてい
る。一方、各冗長メモリセルアレイ12a,12bは、
各ラインが複数のブロックB0〜B7の各々に対応し且
つ冗長メモリセル(図示せず)につながっている第2の
ライン群R0〜R7を有している。
FIG. 2 schematically shows an example of an arrangement form of each line included in each memory cell array of the semiconductor memory section and the redundant memory section. In the figure, reference numeral 11 denotes a normal memory cell array included in the semiconductor memory unit 2, 12a and 12b
1 schematically shows redundant memory cell arrays included in redundant memory units 4a and 4b adjacent to the semiconductor memory unit 2, respectively. As shown in FIG. 2, the normal memory cell array 11 is composed of a plurality of blocks B0 to B7 each having a first line group L0 to L7 in which each line is connected to a normal memory cell (not shown). . On the other hand, each of the redundant memory cell arrays 12a and 12b
Each line has a second line group R0 to R7 corresponding to each of the plurality of blocks B0 to B7 and connected to a redundant memory cell (not shown).

【0038】この構成に基づいて、半導体メモリ部2の
各ブロックB0〜B7に含まれる第1のライン群L0〜
L7のうち、機能的に正常なラインについては活性化さ
れ、且つ、当該ラインを含むブロックに対応する冗長メ
モリセルアレイ12a,12b内の第2のライン群R0
〜R7の中のラインは非活性化される。また、機能不良
のラインについては非活性化され、且つ、当該ラインを
含むブロックに対応する冗長メモリセルアレイ12a,
12b内の第2のライン群R0〜R7の中のラインは活
性化される。
Based on this configuration, the first line groups L0 to L0 included in each of the blocks B0 to B7 of the semiconductor memory unit 2
Of the L7, the functionally normal line is activated, and the second line group R0 in the redundant memory cell arrays 12a and 12b corresponding to the block including the line.
Lines in .about.R7 are deactivated. The defective line is inactivated, and the redundant memory cell array 12a, 12b,
Lines in the second line group R0 to R7 in 12b are activated.

【0039】すなわち、正規メモリセルアレイ11を構
成する各ブロックB0〜B7の第1のライン群L0〜L
7に機能不良のラインが存在する場合に、冗長メモリセ
ルアレイ12a,12b内の第2のライン群R0〜R7
の中の対応するラインで置換されるようになっている。
図2に示す配列形態では、半導体メモリ部2の両側にそ
れぞれ冗長メモリ部4a,4bが配置されているので、
半導体メモリ部2内の同じブロック(例えばB0)にお
いて2本のライン(例えばL0とL7)に機能不良が生
じても、一方のラインL0は左側の冗長メモリ部4aに
おける対応するラインR0により、他方のラインL7は
右側の冗長メモリ部4bにおける対応するラインR7に
よりそれぞれ救済することが可能となる。
That is, the first line group L0 to L7 of each of the blocks B0 to B7 forming the normal memory cell array 11
7 has a malfunctioning line, the second line groups R0 to R7 in the redundant memory cell arrays 12a and 12b
Is replaced by the corresponding line in.
In the arrangement shown in FIG. 2, the redundant memory units 4a and 4b are arranged on both sides of the semiconductor memory unit 2, respectively.
Even if two lines (for example, L0 and L7) malfunction in the same block (for example, B0) in the semiconductor memory unit 2, one line L0 is connected to the other line by the corresponding line R0 in the left redundant memory unit 4a. Can be repaired by the corresponding line R7 in the redundant memory section 4b on the right side.

【0040】以下、図3を参照しながら、機能不良のラ
イン(メモリセル)が生じている半導体メモリ部の救済
方法について説明する。ここでは、冗長メモリ部を用い
たロウ方向について、半導体メモリ部におけるメモリセ
ルアレイ内の特定のブロックにおける1本のワード線を
冗長メモリ部における対応する1本のワード線で置換す
る場合について例示する。
Hereinafter, a method for relieving a semiconductor memory portion having a malfunctioning line (memory cell) will be described with reference to FIG. Here, in the row direction using the redundant memory unit, a case where one word line in a specific block in the memory cell array in the semiconductor memory unit is replaced with a corresponding one word line in the redundant memory unit will be exemplified.

【0041】図示のように、冗長メモリ部4に隣合う半
導体メモリ部2a及び2bは、それぞれディジタルのア
ドレス信号(図示の例ではAi及びAjの2ビット)を
デコードする正規デコーダD1及びD2を有し、各正規
デコーダD1,D2にはそれぞれワード線WL1,WL
2を介して正規メモリセルアレイ11a,11bが接続
されている。同様に、冗長メモリ部4は、ディジタルの
アドレス信号(図示の例ではAi及びAjの2ビットと
その論理反転されたAXi及びAXjの2ビット)をデ
コードする冗長デコーダD3を有し、該冗長デコーダD
3にはワード線WL3を介して冗長メモリセルアレイ1
2が接続されている。図示のように、正規デコーダD1
(D2)は、MOSトランジスタQ10〜Q14(Q2
0〜Q24)を用いて構成されており、一方、冗長デコ
ーダD3は、MOSトランジスタQ0〜Q6を用いて構
成されている。
As shown, the semiconductor memory units 2a and 2b adjacent to the redundant memory unit 4 have normal decoders D1 and D2 for decoding digital address signals (two bits of Ai and Aj in the example shown). Each of the normal decoders D1, D2 has a word line WL1, WL
2, normal memory cell arrays 11a and 11b are connected. Similarly, the redundant memory unit 4 includes a redundant decoder D3 for decoding a digital address signal (2 bits of Ai and Aj and 2 bits of AXi and AXj whose logic is inverted in the illustrated example). D
3 has a redundant memory cell array 1 via a word line WL3.
2 are connected. As shown, the regular decoder D1
(D2) includes MOS transistors Q10 to Q14 (Q2
0 to Q24), while the redundancy decoder D3 is configured using MOS transistors Q0 to Q6.

【0042】また、冗長デコーダD3には、両側に隣合
う半導体メモリ部2a及び2bと冗長メモリセルアレイ
12における冗長メモリセルにつながるライン(ワード
線WL3)との接続部位にこれらの接続を切断するため
のヒューズH1及びH2が設けられている。さらに、冗
長デコーダD3には、アドレス信号Ai,Aj及びAX
i,AXjのいずれかを切断するためのヒューズH2,
H3及びH4,H5が設けられている。一方、各正規デ
コーダD1,D2には、それぞれ対応するメモリセルア
レイ11a,11bとの間にこれらの接続を切断するた
めのヒューズH7,H8がそれぞれ設けられている。本
実施形態では、各ヒューズH1〜H8としてレーザ溶断
式のヒューズを用いている。なお、VDDは電源電圧、
PRはプリチャージ電圧、PXはパルス電圧信号をそれ
ぞれ示す。
The redundant decoder D3 cuts off the connection between the semiconductor memory sections 2a and 2b adjacent on both sides and the line (word line WL3) connected to the redundant memory cell in the redundant memory cell array 12. Fuses H1 and H2 are provided. Further, address signals Ai, Aj and AX are provided to redundant decoder D3.
i, AXj for cutting fuse H2,
H3, H4, and H5 are provided. On the other hand, each of the normal decoders D1 and D2 is provided with fuses H7 and H8 for disconnecting these connections between the corresponding memory cell arrays 11a and 11b, respectively. In this embodiment, laser fuses are used as the fuses H1 to H8. Note that VDD is a power supply voltage,
PR indicates a precharge voltage, and PX indicates a pulse voltage signal.

【0043】例えば、半導体メモリ部2aにおけるワー
ド線WL1を救済する場合には、以下に示すようにして
正規デコーダD1を冗長デコーダD3に置き換える。す
なわち、ヒューズH7を切断することにより正規デコー
ダD1を非活性状態とし、ヒューズH1及びH2とH3
〜H6のいずれか1本を切断することにより冗長デコー
ダD3を活性状態とする。この作業により、冗長デコー
ダD3の論理を正規デコーダD1と一致させることがで
きる。この場合、冗長メモリ部4と両側の半導体メモリ
部2a及び2bとの間に設定された切断ラインXi 及び
i+1 のうち、半導体メモリ部2a側の切断ラインXi
が選択されて切断される。
For example, when repairing the word line WL1 in the semiconductor memory section 2a, the normal decoder D1 is replaced with a redundant decoder D3 as described below. That is, the normal decoder D1 is deactivated by cutting the fuse H7, and the fuses H1, H2 and H3 are turned off.
H6 is turned off to activate the redundant decoder D3. With this operation, the logic of the redundant decoder D3 can be made to match the normal decoder D1. In this case, of the redundant memory section 4 and the cutting line is set between the both sides of the semiconductor memory unit 2a and 2b X i and X i + 1, the cutting line X i of the semiconductor memory portion 2a side
Is selected and disconnected.

【0044】以上、ロウ方向についての救済の場合につ
いて説明したが、コラム方向についても同様に救済を行
うことができる。
As described above, the case of relief in the row direction has been described, but the same can be achieved in the column direction.

【0045】次に、図4を参照しながら、ロウ方向及び
コラム方向において機能不良のメモリセルが生じている
半導体メモリ部の具体的な救済方法について説明する。
ここでは、半導体メモリ部2が4つのブロックに分割さ
れている場合について例示する。
Next, with reference to FIG. 4, a description will be given of a specific method of relieving a semiconductor memory section in which a malfunctioning memory cell occurs in the row direction and the column direction.
Here, a case where the semiconductor memory unit 2 is divided into four blocks will be exemplified.

【0046】図示のように、各ブロックは、メモリセル
アレイ21a(21b〜21d)とその周辺回路である
ロウデコーダ24a(24b〜24d)及びコラムデコ
ーダ23a(23b〜23d)を有しており、また各2
つのブロックに共有される形でそれぞれデータバッファ
22a及び22bが設けられている。また、これら4つ
のブロックからなる半導体メモリ部2の各辺に隣合って
4つの冗長メモリ部が配置されている。半導体メモリ部
2の上側に隣合う冗長メモリ部は、各メモリセルアレイ
21a,21bに対応して設けられた冗長ロウ26a,
26b及び冗長ロウデコーダ28a,28bを有してお
り、左側に隣合う冗長メモリ部は、各メモリセルアレイ
21a,21cに対応して設けられた冗長コラム25
a,25c及び冗長コラムデコーダ27a,27cを有
しており、右側に隣合う冗長メモリ部は、各メモリセル
アレイ21b,21dに対応して設けられた冗長コラム
25b,25d及び冗長コラムデコーダ27b,27d
を有しており、下側に隣合う冗長メモリ部は、各メモリ
セルアレイ21c,21dに対応して設けられた冗長ロ
ウ26c,26d及び冗長ロウデコーダ28c,28d
を有している。
As shown in the figure, each block has a memory cell array 21a (21b to 21d) and row decoders 24a (24b to 24d) and column decoders 23a (23b to 23d) as its peripheral circuits. Each 2
Data buffers 22a and 22b are provided so as to be shared by one block. Also, four redundant memory units are arranged adjacent to each side of the semiconductor memory unit 2 composed of these four blocks. The redundant memory section adjacent to the upper side of the semiconductor memory section 2 includes redundant rows 26a, 26b provided for the respective memory cell arrays 21a, 21b.
26b and redundant row decoders 28a and 28b, and the redundant memory section adjacent to the left side is a redundant column 25 provided corresponding to each of the memory cell arrays 21a and 21c.
a, 25c and redundant column decoders 27a, 27c, and redundant memory units adjacent on the right side are redundant columns 25b, 25d and redundant column decoders 27b, 27d provided corresponding to the respective memory cell arrays 21b, 21d.
The redundant memory section adjacent to the lower side includes redundant rows 26c and 26d and redundant row decoders 28c and 28d provided corresponding to the respective memory cell arrays 21c and 21d.
have.

【0047】かかる構成において、メモリセルアレイ2
1aに不良コラムが存在する場合には、冗長コラムデコ
ーダ27a中に設けられているヒューズ(図示せず)を
切断し、コラムデコーダ23a中の一部と置換すること
で冗長を行う。この際、不良コラムの数が少ない場合は
冗長コラムデコーダ27a及び冗長コラム25aを使用
し、多い場合には冗長コラムデコーダ27c及び冗長コ
ラム25cも使用する。
In such a configuration, the memory cell array 2
If a defective column exists in 1a, redundancy is performed by cutting a fuse (not shown) provided in redundant column decoder 27a and replacing it with a part of column decoder 23a. At this time, when the number of defective columns is small, the redundant column decoder 27a and the redundant column 25a are used. When the number of defective columns is large, the redundant column decoder 27c and the redundant column 25c are also used.

【0048】同様に、メモリセルアレイ21cに不良コ
ラムが存在する場合には、冗長コラムデコーダ27c及
び冗長コラム25cを使用し、不良コラムの数が多い場
合には冗長コラムデコーダ27a及び冗長コラム25a
も使用する。同様に、メモリセルアレイ21bに不良コ
ラムが存在する場合には、冗長コラムデコーダ27b及
び冗長コラム25bを使用し、不良コラムの数が多い場
合には冗長コラムデコーダ27d及び冗長コラム25d
も使用する。同様に、メモリセルアレイ21dに不良コ
ラムが存在する場合には、冗長コラムデコーダ27d及
び冗長コラム25dを使用し、不良コラムの数が多い場
合には冗長コラムデコーダ27b及び冗長コラム25b
も使用する。
Similarly, when a defective column exists in memory cell array 21c, redundant column decoder 27c and redundant column 25c are used, and when the number of defective columns is large, redundant column decoder 27a and redundant column 25a are used.
Also use Similarly, when a defective column exists in the memory cell array 21b, the redundant column decoder 27b and the redundant column 25b are used. When the number of defective columns is large, the redundant column decoder 27d and the redundant column 25d are used.
Also use Similarly, when a defective column exists in the memory cell array 21d, the redundant column decoder 27d and the redundant column 25d are used. When the number of defective columns is large, the redundant column decoder 27b and the redundant column 25b are used.
Also use

【0049】以上、コラム方向についての救済の場合に
ついて説明したが、ロウ方向についても同様に救済を行
うことができる。
As described above, the case of relief in the column direction has been described, but relief can be similarly performed in the row direction.

【0050】次に、半導体ウエハ1から各半導体メモリ
デバイスを分離する方法について説明する。
Next, a method for separating each semiconductor memory device from the semiconductor wafer 1 will be described.

【0051】先ず、所定の検査により、全ての半導体メ
モリ部2に存在する機能不良のメモリセルを特定する。
そして、この特定された結果と、機能不良のメモリセル
の個数及びその位置、及び、隣合う冗長メモリ部3,4
との関係から、救済できる半導体メモリ部2の数が最大
となるように、各冗長メモリ部3,4の両側に設定され
た切断ラインのうちの一方を選択して切断する。
First, a malfunctioning memory cell existing in all the semiconductor memory units 2 is specified by a predetermined inspection.
Then, the specified result, the number and position of the malfunctioning memory cells, and the adjacent redundant memory units 3 and 4
Therefore, one of the cutting lines set on both sides of each of the redundant memory units 3 and 4 is selected and cut so that the number of the rescuable semiconductor memory units 2 is maximized.

【0052】このようにして半導体ウエハ1から分離さ
れ得る半導体メモリデバイス(つまりチップ)は、各切
断ラインX1 〜X16及びY1 〜Y11(図1参照)の切断
の仕方に応じて、図5(a)〜図5(p)に模式的に示
されるように、合計16通り考えられる。
The semiconductor memory devices (that is, chips) that can be separated from the semiconductor wafer 1 in this manner can be separated according to the cutting method of each of the cutting lines X 1 to X 16 and Y 1 to Y 11 (see FIG. 1). As schematically shown in FIGS. 5A to 5P, there are a total of 16 cases.

【0053】以上説明したように、本実施形態において
は、各冗長メモリ部3,4は半導体メモリ部2内ではな
く各半導体メモリ部2間に設けられており、この半導体
ウエハ1から、半導体メモリ部2に必要に応じて冗長メ
モリ部3,4が結線された状態で半導体メモリデバイス
として分離されることになる。従って、分離された後の
半導体メモリデバイス(チップ)の面積は、各半導体メ
モリ部2の面積に必要最小限の冗長メモリ部3,4の面
積を加えたものとなり、極めて効率良く半導体メモリデ
バイスの面積の縮小化が実現される。
As described above, in the present embodiment, the redundant memory units 3 and 4 are provided not between the semiconductor memory units 2 but between the semiconductor memory units 2. The redundant memory units 3 and 4 are separated as semiconductor memory devices in a state where they are connected to the unit 2 as necessary. Therefore, the area of the semiconductor memory device (chip) after separation becomes the sum of the area of each semiconductor memory unit 2 and the minimum necessary area of the redundant memory units 3 and 4, and the semiconductor memory device is extremely efficiently manufactured. The area can be reduced.

【0054】また、各半導体メモリデバイスは、救済で
きる半導体メモリ部2の個数が最大となるように半導体
ウエハ1から分離されるため、1枚の半導体ウエハ1か
ら得られる良品の半導体メモリデバイス(チップ)の個
数を大幅に増大させることが可能となる。
Each semiconductor memory device is separated from the semiconductor wafer 1 so that the number of the rescuable semiconductor memory units 2 is maximized, so that a good semiconductor memory device (chip) obtained from one semiconductor wafer 1 is obtained. ) Can be greatly increased.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明の半導体ウエハによれば、マトリ
クス状に配列された複数の矩形状の半導体メモリ部のう
ち2つの隣合う半導体メモリ部の対向する辺の間に挟ま
れるように各冗長メモリ部が配設されると共に、各冗長
メモリ部は当該2つの半導体メモリ部と結線されてお
り、また、各半導体メモリ部と隣合う各冗長メモリ部と
当該半導体メモリ部との間に切断ラインがそれぞれ設定
されている。すなわち、冗長メモリ部は半導体メモリ部
内ではなく各半導体メモリ部間に設けられており、この
半導体ウエハから、各半導体メモリ部に必要に応じて冗
長メモリ部が結線された状態で半導体メモリデバイスと
して分離されることになる。従って、半導体メモリデバ
イス(チップ)の面積は、半導体メモリ部の面積に必要
最小限の冗長メモリ部の面積を加えたものとなり、極め
て効率良くチップサイズの縮小化を実現することができ
る。
According to the semiconductor wafer of the present invention, each of the plurality of rectangular semiconductor memory sections arranged in a matrix is arranged so that each redundant semiconductor memory section is sandwiched between opposing sides of two adjacent semiconductor memory sections. A memory section is provided, each redundant memory section is connected to the two semiconductor memory sections, and a cutting line is provided between each redundant memory section adjacent to each semiconductor memory section and the semiconductor memory section. Are set respectively. That is, the redundant memory section is provided not between the semiconductor memory sections but between the semiconductor memory sections, and is separated from the semiconductor wafer as a semiconductor memory device in a state where the redundant memory sections are connected to each semiconductor memory section as necessary. Will be done. Therefore, the area of the semiconductor memory device (chip) is equal to the area of the semiconductor memory unit plus the minimum required area of the redundant memory unit, and the chip size can be extremely efficiently reduced.

【0056】また、本発明の半導体メモリデバイスによ
れば、矩形状の半導体メモリ部の4辺の少なくとも一辺
に隣合って冗長メモリ部が設けられている。この場合、
半導体メモリ部の正規メモリセルアレイに機能不良のメ
モリセルが存在する場合に限り当該メモリセルに代わっ
て機能する冗長メモリセルアレイを備えた冗長メモリ部
のみが当該半導体メモリ部に結線されているため、半導
体メモリデバイス(チップ)の面積は、半導体メモリ部
の面積に必要最小限の冗長メモリ部の面積を加えたもの
となる。従って、チップサイズの縮小化を極めて効率良
く実現することができる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, the redundant memory section is provided adjacent to at least one of the four sides of the rectangular semiconductor memory section. in this case,
Only when a defective memory cell exists in the normal memory cell array of the semiconductor memory unit, only the redundant memory unit including the redundant memory cell array functioning in place of the memory cell is connected to the semiconductor memory unit. The area of the memory device (chip) is equal to the area of the semiconductor memory unit plus the minimum necessary area of the redundant memory unit. Therefore, the chip size can be extremely efficiently reduced.

【0057】また、本発明の半導体メモリデバイスの分
離方法によれば、半導体メモリ部の正規メモリセルアレ
イに機能不良のメモリセルが存在する場合に、当該メモ
リセルに代わって機能する冗長メモリセルを有する冗長
メモリセルアレイを備えた冗長メモリ部を当該半導体メ
モリ部に結線された状態で残すように、切断ラインを適
宜選択して切断するようにしている。従って、各半導体
メモリ部に必要に応じて冗長メモリ部が結線された状態
で半導体ウエハから半導体メモリデバイスとして分離さ
れることになる。このため、分離された各半導体メモリ
デバイス(チップ)の面積は、それぞれ半導体メモリ部
の面積に必要最小限の冗長メモリ部の面積を加えたもの
となり、極めて効率良く最小限のサイズのチップを分離
することができる。
Further, according to the method for separating a semiconductor memory device of the present invention, when a defective memory cell is present in a regular memory cell array of a semiconductor memory portion, the semiconductor memory section has a redundant memory cell that functions instead of the memory cell. A cutting line is appropriately selected and cut so as to leave a redundant memory unit including a redundant memory cell array connected to the semiconductor memory unit. Therefore, the semiconductor memory device is separated from the semiconductor wafer as a semiconductor memory device with the redundant memory portion connected to each semiconductor memory portion as necessary. Therefore, the area of each of the separated semiconductor memory devices (chips) is the sum of the area of the semiconductor memory section and the minimum required area of the redundant memory section. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る半導体ウエハの構成
を模式的に示した平面図である。
FIG. 1 is a plan view schematically showing a configuration of a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention.

【図2】半導体メモリ部及び冗長メモリ部の各メモリセ
ルアレイに含まれる各ラインの配列形態の一例を示す模
式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of an arrangement form of each line included in each memory cell array of a semiconductor memory unit and a redundant memory unit.

【図3】機能不良のラインの救済に係る冗長メモリ部及
び半導体メモリ部の内部構成を概略的に示した回路図で
ある。
FIG. 3 is a circuit diagram schematically showing an internal configuration of a redundant memory unit and a semiconductor memory unit for repairing a malfunctioning line;

【図4】冗長メモリ部と隣合う半導体メモリ部の具体的
な一構成例を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram illustrating a specific configuration example of a semiconductor memory unit adjacent to a redundant memory unit;

【図5】本発明の分離方法によって作成され得る半導体
メモリデバイスの各種形態を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing various forms of a semiconductor memory device that can be created by the separation method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体ウエハ 2,2a,2b 半導メモリ部 3,4,4a,4b 冗長メモリ部 11,11a,11b 正規メモリセルアレイ 12a,12b 冗長メモリセルアレイ L0〜L7 第1のライン群 R0〜R7 第2のライン群 B0〜B7 ブロック D1〜D3 正規デコーダ WL1〜WL3 ワード線 H1〜H8 ヒューズ 21a〜21d メモリセルアレイ 22a,22b データバッファ 23a〜23d コラムデコーダ 24a〜24d ロウデコーダ 25a〜25d 冗長コラム 26a〜26d 冗長ロウ 27a〜27d 冗長コラムデコーダ 28a〜28d 冗長ロウデコーダ X1 〜X16,Y1 〜Y11 切断ラインDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor wafer 2, 2a, 2b Semiconductor memory part 3, 4, 4a, 4b Redundant memory part 11, 11a, 11b Normal memory cell array 12a, 12b Redundant memory cell array L0-L7 First line group R0-R7 Second Line group B0 to B7 Block D1 to D3 Regular decoder WL1 to WL3 Word line H1 to H8 Fuse 21a to 21d Memory cell array 22a, 22b Data buffer 23a to 23d Column decoder 24a to 24d Row decoder 25a to 25d Redundant column 26a to 26d Redundant row 27a~27d redundant column decoder 28a~28d redundant row decoder X 1 ~X 16, Y 1 ~Y 11 cutting line

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 27/10 471 H01L 21/82 R Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 27/10 471 H01L 21/82 R

Claims (22)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板上にマトリクス状に配列さ
れ、正規メモリセルアレイをそれぞれ備えた複数の半導
体メモリ部と、 前記正規メモリセルアレイに機能不良のメモリセルが存
在する場合に当該メモリセルを救済するための冗長メモ
リセルアレイをそれぞれ備えた複数の冗長メモリ部とを
具備し、 前記複数の冗長メモリ部は、2つの隣合う半導体メモリ
部に挟まれるように配設され且つ当該2つの半導体メモ
リ部と結線されている冗長メモリ部を有しており、 前記各半導体メモリ部と隣合う各冗長メモリ部と当該半
導体メモリ部との間に、後の段階で各半導体メモリ部に
必要に応じて冗長メモリ部を結線した状態で前記半導体
ウエハから切り離すための切断ラインがそれぞれ設定さ
れていることを特徴とする半導体ウエハ。
1. A plurality of semiconductor memory units arranged in a matrix on a semiconductor substrate and each provided with a normal memory cell array, and rescuing the memory cells when a malfunctioning memory cell exists in the normal memory cell array. And a plurality of redundant memory units each including a redundant memory cell array for storing the plurality of redundant memory units, wherein the plurality of redundant memory units are disposed so as to be sandwiched between two adjacent semiconductor memory units, and A redundant memory section connected to each of the semiconductor memory sections, and between each of the redundant memory sections adjacent to the semiconductor memory section and the corresponding one of the semiconductor memory sections, a redundant memory is provided for each of the semiconductor memory sections at a later stage as necessary. A semiconductor wafer, wherein cutting lines for separating the semiconductor wafer from the semiconductor wafer in a state where the parts are connected are respectively set.
【請求項2】 前記正規メモリセルアレイは、各ライン
が正規メモリセルにつながっている第1のライン群をそ
れぞれ有する複数のブロックから構成されており、 前記冗長メモリセルアレイは、各ラインが前記複数のブ
ロックの各々に対応し且つ冗長メモリセルにつながって
いる第2のライン群を有しており、 前記第1のライン群の中に機能不良のラインが存在する
場合に、該機能不良のラインに代わって冗長されるべき
前記第2のライン群の中の対応するラインが活性化され
ていることを特徴とする請求項1に記載の半導体ウエ
ハ。
2. The normal memory cell array is composed of a plurality of blocks each having a first line group in which each line is connected to a normal memory cell. A second line group corresponding to each of the blocks and connected to the redundant memory cell; and when a malfunction line exists in the first line group, the malfunction line 2. The semiconductor wafer according to claim 1, wherein a corresponding line in the second line group to be redundantly activated is activated instead.
【請求項3】 前記正規メモリセルアレイを構成する複
数のブロックの各々における前記第1のライン群の各ラ
イン毎に第1のヒューズが設けられ、 前記冗長メモリセルアレイに含まれる前記第2のライン
群の各ライン毎に第2のヒューズが設けられ、 前記第1のライン群の中に機能不良のラインが存在する
場合に、該機能不良のラインに対応する前記第1のヒュ
ーズが切断されていると共に、該機能不良のラインに代
わって冗長されるべき前記第2のライン群の中の対応す
るラインが活性化されるように前記第2のヒューズが切
断されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体
ウエハ。
3. A first fuse is provided for each line of the first line group in each of a plurality of blocks constituting the normal memory cell array, and the second line group included in the redundant memory cell array is provided. A second fuse is provided for each line, and when a malfunction line exists in the first line group, the first fuse corresponding to the malfunction line is blown. And the second fuse is blown so that a corresponding line in the second line group to be redundantly replaced with the malfunctioning line is activated. 3. The semiconductor wafer according to 2.
【請求項4】 1つの半導体メモリ部の互いに反対側の
辺にそれぞれ隣合って第1及び第2の冗長メモリ部が配
設されている部分において、 前記1つの半導体メモリ部の正規メモリセルアレイを構
成する複数のブロックの各々における前記第1のライン
群の中に機能不良のラインが1本存在する場合には、前
記第1及び第2の冗長メモリ部のいずれか一方の冗長メ
モリセルアレイに含まれる前記第2のライン群の中の対
応する1本のラインが活性化されており、前記第1のラ
イン群の中に機能不良のラインが2本存在する場合に
は、前記第1及び第2の冗長メモリ部の双方の冗長メモ
リセルアレイに含まれる前記第2のライン群の中の対応
する1本のラインがそれぞれ活性化されていることを特
徴とする請求項2に記載の半導体ウエハ。
4. In a portion where the first and second redundant memory portions are respectively disposed adjacent to opposite sides of one semiconductor memory portion, the normal memory cell array of the one semiconductor memory portion is When there is one malfunctioning line in the first line group in each of the plurality of constituent blocks, the malfunctioning line is included in one of the first and second redundant memory units in the redundant memory cell array. If one corresponding line in the second line group is activated and two malfunctioning lines exist in the first line group, the first and second lines are activated. 3. The semiconductor wafer according to claim 2, wherein one corresponding line in the second line group included in both redundant memory cell arrays of the two redundant memory units is activated.
【請求項5】 前記第1のライン群は、前記正規メモリ
セルアレイにおけるビット線の方向に沿ったコラムライ
ンで構成され、前記第2のライン群は、前記冗長メモリ
セルアレイにおける対応する冗長コラムラインで構成さ
れていることを特徴とする請求項2に記載の半導体ウエ
ハ。
5. The first line group is composed of column lines along the direction of a bit line in the normal memory cell array, and the second line group is a corresponding redundant column line in the redundant memory cell array. The semiconductor wafer according to claim 2, wherein the semiconductor wafer is configured.
【請求項6】 前記第1のライン群は、前記正規メモリ
セルアレイにおけるワード線の方向に沿ったロウライン
で構成され、前記第2のライン群は、前記冗長メモリセ
ルアレイにおける対応する冗長ロウラインで構成されて
いることを特徴とする請求項2に記載の半導体ウエハ。
6. The first line group is constituted by row lines along a word line direction in the normal memory cell array, and the second line group is constituted by corresponding redundant row lines in the redundant memory cell array. 3. The semiconductor wafer according to claim 2, wherein:
【請求項7】 前記複数の冗長メモリ部は、1つの半導
体メモリ部の1辺にのみ隣合って配設され且つ当該1つ
の半導体メモリ部と結線されている冗長メモリ部を更に
有していることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1
項に記載の半導体ウエハ。
7. The redundant memory unit further includes a redundant memory unit disposed adjacent to only one side of one semiconductor memory unit and connected to the one semiconductor memory unit. 7. A method according to claim 1, wherein:
The semiconductor wafer according to item.
【請求項8】 半導体ウエハから半導体メモリデバイス
を分離する方法であって、 前記半導体ウエハは、半導体基板上にマトリクス状に配
列され且つ正規メモリセルアレイをそれぞれ備えた複数
の半導体メモリ部と、前記正規メモリセルアレイに機能
不良のメモリセルが存在する場合に当該メモリセルを救
済するための冗長メモリセルアレイをそれぞれ備えた複
数の冗長メモリ部とを備え、該複数の冗長メモリ部は、
2つの隣合う半導体メモリ部の間に挟まれるように配設
され且つ当該2つの半導体メモリ部と結線されている冗
長メモリ部を有し、前記各半導体メモリ部と隣合う各冗
長メモリ部と当該半導体メモリ部との間に切断ラインが
それぞれ設定されているものであり、 前記半導体ウエハからそれぞれ1つの半導体メモリ部を
含む複数の半導体メモリデバイスを分離する際に、各冗
長メモリ部を当該冗長メモリ部に隣合う2つの半導体メ
モリ部のいずれか一方に結線された状態で残すように、
当該冗長メモリ部の両側に設定された切断ラインのうち
の一方を選択して切断することを特徴とする半導体メモ
リデバイスの分離方法。
8. A method for separating a semiconductor memory device from a semiconductor wafer, wherein the semiconductor wafer is arranged in a matrix on a semiconductor substrate and includes a plurality of semiconductor memory units each including a normal memory cell array; A plurality of redundant memory units each provided with a redundant memory cell array for relieving the memory cell when a malfunctioning memory cell is present in the memory cell array;
A redundant memory unit disposed between the two adjacent semiconductor memory units and connected to the two semiconductor memory units, and each of the redundant memory units adjacent to each of the semiconductor memory units; A cutting line is set between the semiconductor memory unit and each of the redundant memory units when separating a plurality of semiconductor memory devices including one semiconductor memory unit from the semiconductor wafer. So that it remains connected to one of the two semiconductor memory sections adjacent to the section.
A method for separating a semiconductor memory device, comprising selecting and cutting one of the cutting lines set on both sides of the redundant memory unit.
【請求項9】 前記正規メモリセルアレイは、各ライン
が正規メモリセルにつながっている第1のライン群をそ
れぞれ有する複数のブロックから構成され、前記冗長メ
モリセルアレイは、各ラインが前記複数のブロックの各
々に対応し且つ冗長メモリセルにつながっている第2の
ライン群を有しており、前記正規メモリセルアレイを構
成する複数のブロックの各々における前記第1のライン
群の各ライン毎に第1のヒューズが設けられ、前記冗長
メモリセルアレイに含まれる前記第2のライン群の各ラ
イン毎に第2のヒューズが設けられており、 前記半導体ウエハから複数の半導体メモリデバイスを分
離する際に、前記第1のライン群の中に機能不良のライ
ンが存在する場合に、該機能不良のラインに対応する前
記第1のヒューズを切断すると共に、該機能不良のライ
ンに代わって冗長されるべき前記第2のライン群の中の
対応するラインが活性化されるように前記第2のヒュー
ズを切断することを特徴とする請求項8に記載の半導体
メモリデバイスの分離方法。
9. The normal memory cell array is composed of a plurality of blocks each having a first line group in which each line is connected to a normal memory cell, and the redundant memory cell array is configured such that each line corresponds to the plurality of blocks. A second line group corresponding to each of the plurality of blocks, the second line group being connected to a redundant memory cell; and a first line group in each of the plurality of blocks constituting the normal memory cell array. A fuse is provided, and a second fuse is provided for each line of the second line group included in the redundant memory cell array. When separating a plurality of semiconductor memory devices from the semiconductor wafer, the second fuse is provided. When a malfunctioning line exists in one line group, the first fuse corresponding to the malfunctioning line is blown. 9. The method according to claim 8, wherein the second fuse is cut so that a corresponding line in the second line group to be redundantly activated in place of the malfunctioning line is activated. The method for separating a semiconductor memory device according to the above.
【請求項10】 前記半導体ウエハを検査して前記複数
の半導体メモリ部に存在する機能不良のメモリセルを特
定し、この特定された結果に基づいて該複数の半導体メ
モリ部のうち救済できる半導体メモリ部の数が最大とな
るように、前記各冗長メモリ部の両側に設定された切断
ラインのうちの一方を選択して切断することを特徴とす
る請求項9に記載の半導体メモリデバイスの分離方法。
10. A semiconductor memory capable of inspecting the semiconductor wafer to identify a malfunctioning memory cell existing in the plurality of semiconductor memory units and relieving the plurality of semiconductor memory units based on the identified result. 10. The method according to claim 9, wherein one of the cutting lines set on both sides of each of the redundant memory sections is selected and cut so that the number of sections is maximized. .
【請求項11】 半導体ウエハから半導体メモリデバイ
スを分離する方法であって、 前記半導体ウエハは、半導体基板上にマトリクス状に配
列され且つ正規メモリセルアレイをそれぞれ備えた複数
の半導体メモリ部と、前記正規メモリセルアレイに機能
不良のメモリセルが存在する場合に当該メモリセルを救
済するための冗長メモリセルアレイをそれぞれ備えた複
数の冗長メモリ部とを備え、該複数の冗長メモリ部は、
2つの隣合う半導体メモリ部の間に挟まれるように配設
され且つ当該2つの半導体メモリ部と結線されている冗
長メモリ部を有し、前記各半導体メモリ部と隣合う各冗
長メモリ部と当該半導体メモリ部との間に切断ラインが
それぞれ設定されているものであり、 前記半導体ウエハからそれぞれ1つの半導体メモリ部を
含む複数の半導体メモリデバイスを分離する際に、各半
導体メモリ部の正規メモリセルアレイに機能不良のメモ
リセルが存在する場合に、当該メモリセルに代わって機
能する冗長メモリセルを有する冗長メモリセルアレイを
備えた冗長メモリ部を当該冗長メモリ部に隣合う半導体
メモリ部に結線された状態で残すように、前記切断ライ
ンを適宜選択して切断することを特徴とする半導体メモ
リデバイスの分離方法。
11. A method for separating a semiconductor memory device from a semiconductor wafer, wherein the semiconductor wafer is arranged in a matrix on a semiconductor substrate and includes a plurality of semiconductor memory units each including a normal memory cell array; A plurality of redundant memory units each provided with a redundant memory cell array for relieving the memory cell when a malfunctioning memory cell is present in the memory cell array;
A redundant memory unit disposed between the two adjacent semiconductor memory units and connected to the two semiconductor memory units, and each of the redundant memory units adjacent to each of the semiconductor memory units; A cutting line is set between the semiconductor memory unit and a normal memory cell array of each semiconductor memory unit when separating a plurality of semiconductor memory devices each including one semiconductor memory unit from the semiconductor wafer; State in which a redundant memory unit having a redundant memory cell array having a redundant memory cell functioning in place of the memory cell is connected to a semiconductor memory unit adjacent to the redundant memory unit when there is a malfunctioning memory cell A method for separating a semiconductor memory device, wherein the cutting line is appropriately selected and cut so as to be left.
【請求項12】 前記正規メモリセルアレイは、各ライ
ンが正規メモリセルにつながっている第1のライン群を
それぞれ有する複数のブロックから構成され、前記冗長
メモリセルアレイは、各ラインが前記複数のブロックの
各々に対応し且つ冗長メモリセルにつながっている第2
のライン群を有しており、 前記半導体ウエハから複数の半導体メモリデバイスを分
離する際に、各半導体メモリ部の正規メモリセルアレイ
を構成する複数のブロックの各々における前記第1のラ
イン群の中に機能不良のラインが存在する場合に、当該
ラインに代わって冗長されるべき前記第2のライン群の
中の対応するラインを有する冗長メモリセルアレイを備
えた冗長メモリ部を当該冗長メモリ部に隣合う半導体メ
モリ部に結線された状態で残すように、前記切断ライン
を適宜選択して切断することを特徴とする請求項11に
記載の半導体メモリデバイスの分離方法。
12. The normal memory cell array is composed of a plurality of blocks each having a first line group in which each line is connected to a normal memory cell, and the redundant memory cell array is configured such that each line is a line of the plurality of blocks. A second one corresponding to each and connected to the redundant memory cell
When separating a plurality of semiconductor memory devices from the semiconductor wafer, the first line group in each of a plurality of blocks constituting a normal memory cell array of each semiconductor memory unit When a malfunctioning line is present, a redundant memory unit including a redundant memory cell array having a corresponding line in the second line group to be replaced in place of the line is adjacent to the redundant memory unit 12. The method according to claim 11, wherein the cutting line is appropriately selected and cut so as to remain connected to the semiconductor memory unit.
【請求項13】 前記正規メモリセルアレイを構成する
複数のブロックの各々における前記第1のライン群の各
ライン毎に第1のヒューズが設けられ、前記冗長メモリ
セルアレイに含まれる前記第2のライン群の各ライン毎
に第2のヒューズが設けられており、 前記半導体ウエハから複数の半導体メモリデバイスを分
離する際に、前記第1のライン群の中に機能不良のライ
ンが存在する場合に、該機能不良のラインに対応する前
記第1のヒューズを切断すると共に、該機能不良のライ
ンに代わって冗長されるべき前記第2のライン群の中の
対応するラインが活性化されるように前記第2のヒュー
ズを切断することを特徴とする請求項12に記載の半導
体メモリデバイスの分離方法。
13. The second line group included in the redundant memory cell array, wherein a first fuse is provided for each line of the first line group in each of a plurality of blocks forming the normal memory cell array. A second fuse is provided for each of the lines, and when a plurality of semiconductor memory devices are separated from the semiconductor wafer, if a malfunctioning line exists in the first line group, Cutting the first fuse corresponding to the malfunctioning line and activating the corresponding line in the second line group to be redundant in place of the malfunctioning line; 13. The method according to claim 12, wherein the second fuse is cut.
【請求項14】 正規メモリセルアレイを備えた多角形
の半導体メモリ部と、 前記正規メモリセルアレイに機能不良のメモリセルが存
在する場合に当該メモリセルを救済するための冗長メモ
リセルアレイと、 前記半導体メモリ部の前記多角形の各々の辺には、前記
冗長メモリアレイと結線する結線群とを備え、 前記半導体メモリ部の前記多角形の少なくとも1つの第
1の辺に隣合って前記結線群を介して当該半導体メモリ
部と結線されている前記冗長メモリアレイと、 前記半導体メモリ部の前記多角形の少なくとも1つの前
記第1の辺以外の他辺である第2の辺に形成された前記
結線群は、前記冗長メモリアレイとは結線されない結線
群として備えることを特徴とする半導体メモリデバイ
ス。
14. A polygonal semiconductor memory unit having a normal memory cell array, a redundant memory cell array for relieving a memory cell having a malfunction in the normal memory cell array, and the semiconductor memory. A connection group connected to the redundant memory array on each side of the polygon of the semiconductor memory unit; and a connection group adjacent to at least one first side of the polygon of the semiconductor memory unit via the connection group. The redundant memory array connected to the semiconductor memory unit, and the connection group formed on a second side other than the at least one first side of the polygon of the semiconductor memory unit. Are provided as a connection group not connected to the redundant memory array.
【請求項15】 正規メモリセルアレイを備えた半導体
メモリ部と、 前記正規メモリセルアレイに機能不良のメモリセルが存
在する場合に当該メモリセルを救済するための冗長メモ
リセルアレイと、 前記半導体メモリ部の周辺領域には、前記冗長メモリア
レイと結線する結線群を備え、 前記半導体メモリ部の少なくとも一部の前記周辺領域に
隣合って前記結線群を介して当該半導体メモリ部と結線
されている前記冗長メモリアレイと、 前記半導体メモリ部の少なくとも一部の他の前記周辺領
域に形成された前記結線群は、前記冗長メモリアレイと
結線されない結線群として備えることを特徴とする半導
体メモリデバイス。
15. A semiconductor memory unit having a normal memory cell array, a redundant memory cell array for relieving a memory cell having a malfunction in the normal memory cell array, and a periphery of the semiconductor memory unit The region includes a connection group connected to the redundant memory array, and the redundant memory connected to the semiconductor memory unit via the connection group adjacent to at least a part of the peripheral region of the semiconductor memory unit A semiconductor memory device comprising: an array; and the connection group formed in at least a part of the other peripheral region of the semiconductor memory unit, as a connection group not connected to the redundant memory array.
【請求項16】 正規メモリセルアレイを備えた多角形
の半導体メモリ部と、 前記正規メモリセルアレイに機能不良のメモリセルが存
在する場合に当該メモリセルを救済するための冗長メモ
リセルアレイと、 前記半導体メモリ部の前記多角形の各々の辺には、前記
冗長メモリアレイと結線する結線群を備え、 前記半導体メモリ部の前記多角形の少なくとも1辺に隣
合って前記結線群を介して当該半導体メモリ部と結線さ
れている前記冗長メモリアレイと、 前記半導体メモリ部と隣合う前記冗長メモリアレイとの
間隔は、略80μm〜120μmの範囲で選定されるこ
とを特徴とする半導体メモリデバイス。
16. A polygonal semiconductor memory unit having a normal memory cell array, a redundant memory cell array for relieving a memory cell having a malfunction in the normal memory cell array, and the semiconductor memory. A connection group connected to the redundant memory array on each side of the polygon of the unit; and the semiconductor memory unit adjacent to at least one side of the polygon of the semiconductor memory unit via the connection group. A semiconductor memory device, wherein an interval between the redundant memory array connected to the semiconductor memory unit and the redundant memory array adjacent to the semiconductor memory unit is selected in a range of approximately 80 μm to 120 μm.
【請求項17】 正規メモリセルアレイを備えた半導体
メモリ部と、 前記正規メモリセルアレイに機能不良のメモリセルが存
在する場合に当該メモリセルを救済するための冗長メモ
リセルアレイと、 前記半導体メモリ部の周辺領域には、前記冗長メモリア
レイと結線する結線群を備え、 前記半導体メモリ部の少なくとも一部の前記周辺領域に
隣合って前記結線群を介して当該半導体メモリ部と結線
されている前記冗長メモリアレイと、 前記半導体メモリ部と隣合う前記冗長メモリアレイとの
間隔は、略80μm〜120μmの範囲で選定されるこ
とを特徴とする半導体メモリデバイス。
17. A semiconductor memory unit having a normal memory cell array, a redundant memory cell array for relieving a memory cell having a malfunction in the normal memory cell array, and a periphery of the semiconductor memory unit The region includes a connection group connected to the redundant memory array, and the redundant memory connected to the semiconductor memory unit via the connection group adjacent to at least a part of the peripheral region of the semiconductor memory unit A semiconductor memory device, wherein an interval between the array and the redundant memory array adjacent to the semiconductor memory unit is selected in a range of approximately 80 μm to 120 μm.
【請求項18】 正規メモリセルアレイを備えた半導体
メモリ部と、 前記半導体メモリ部の前記周辺領域に形成された冗長メ
モリアレイと結線するための結線群を備え、 少なくとも一部の前記結線群は、冗長メモリアレイと結
線されない結線群として備えることを特徴とする半導体
メモリデバイス。
18. A semiconductor memory unit including a regular memory cell array, and a connection group for connecting to a redundant memory array formed in the peripheral region of the semiconductor memory unit, wherein at least a part of the connection group includes: A semiconductor memory device comprising a connection group not connected to a redundant memory array.
【請求項19】 正規メモリセルアレイを備えた多角形
の半導体メモリ部と、 前記半導体メモリ部の前記多角形の各々の辺には、冗長
メモリアレイと結線するための結線群を備え、 前記半導体メモリ部の前記多角形の少なくとも1つの辺
に形成された前記結線群は、冗長メモリアレイとは結線
されない結線群として備えることを特徴とする半導体メ
モリデバイス。
19. A polygonal semiconductor memory section having a regular memory cell array, and a connection group for connecting to a redundant memory array on each side of the polygon of the semiconductor memory section; Wherein the connection group formed on at least one side of the polygon of the portion is provided as a connection group not connected to a redundant memory array.
【請求項20】 前記正規メモリセルアレイは、各ライ
ンが正規メモリセルにつながっている第1のライン群を
それぞれ有する複数のブロックから構成され、 前記冗長メモリセルアレイは、各ラインが前記複数のブ
ロックの各々に対応し且つ冗長メモリセルにつながって
いる第2のライン群を有しており、 前記第1のライン群の中で機能不良のラインについては
非活性化されており、且つ、該機能不良のラインが含ま
れるブロックに対応する前記第2のライン群の中のライ
ンは活性化されていることを特徴とする請求項14〜1
7のいずれか1項に記載の半導体メモリデバイス。
20. The normal memory cell array is composed of a plurality of blocks each having a first line group in which each line is connected to a normal memory cell, and the redundant memory cell array is configured such that each line corresponds to the plurality of blocks. A second line group corresponding to each of them and connected to a redundant memory cell, wherein a malfunctioning line in the first line group is inactivated; 2. A line in the second line group corresponding to a block including the line is activated.
8. The semiconductor memory device according to claim 7.
【請求項21】 前記正規メモリセルアレイを構成する
複数のブロックの各々における前記第1のライン群の各
ライン毎に第1のヒューズが設けられ、 前記冗長メモリセルアレイに含まれる前記第2のライン
群の各ライン毎に第2のヒューズが設けられ、 前記第1のライン群の中に機能不良のラインが存在する
場合に、該機能不良のラインに対応する前記第1のヒュ
ーズが切断されていると共に、該機能不良のラインに代
わって冗長されるべき前記第2のライン群の中の対応す
るラインが活性化されるように前記第2のヒューズが切
断されていることを特徴とする請求項20に記載の半導
体メモリデバイス。
21. A first fuse is provided for each line of the first line group in each of a plurality of blocks constituting the normal memory cell array, and the second line group included in the redundant memory cell array is provided. A second fuse is provided for each line, and when a malfunction line exists in the first line group, the first fuse corresponding to the malfunction line is blown. And the second fuse is blown so that a corresponding line in the second line group to be redundantly replaced with the malfunctioning line is activated. 21. The semiconductor memory device according to 20.
【請求項22】 前記半導体メモリ部の互いに反対側に
それぞれ隣合って第1及び第2の冗長メモリ部が結線さ
れており、 前記半導体メモリ部の正規メモリセルアレイを構成する
複数のブロックの各々における前記第1のライン群の中
に機能不良のラインが1本存在する場合には、前記第1
及び第2の冗長メモリ部のいずれか一方の冗長メモリセ
ルアレイに含まれる前記第2のライン群の中の対応する
1本のラインが活性化されており、前記第1のライン群
の中に機能不良のラインが2本存在する場合には、前記
第1及び第2の冗長メモリ部の双方の冗長メモリセルア
レイに含まれる前記第2のライン群の中の対応する1本
のラインがそれぞれ活性化されていることを特徴とする
請求項20に記載の半導体メモリデバイス。
22. First and second redundant memory sections are connected adjacent to each other on the opposite side of the semiconductor memory section, respectively, in each of a plurality of blocks constituting a normal memory cell array of the semiconductor memory section. If there is one malfunctioning line in the first line group, the first line group
And a corresponding one line in the second line group included in one of the redundant memory cell arrays of the second redundant memory unit is activated, and a function is included in the first line group. When there are two defective lines, one corresponding line in the second line group included in the redundant memory cell arrays of both the first and second redundant memory units is activated. 21. The semiconductor memory device according to claim 20, wherein
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