JPH02210686A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH02210686A
JPH02210686A JP1031574A JP3157489A JPH02210686A JP H02210686 A JPH02210686 A JP H02210686A JP 1031574 A JP1031574 A JP 1031574A JP 3157489 A JP3157489 A JP 3157489A JP H02210686 A JPH02210686 A JP H02210686A
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JP
Japan
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cell array
defective
address
redundant
row
Prior art date
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Pending
Application number
JP1031574A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Takemae
義博 竹前
Nobuo Ikuta
生田 信雄
Yutaka Fukutani
福谷 豊
Masakazu Kimura
木村 雅一
Koji Shishido
宍戸 浩司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP1031574A priority Critical patent/JPH02210686A/en
Publication of JPH02210686A publication Critical patent/JPH02210686A/en
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Abstract

PURPOSE:To improve redundancy efficiency by providing a shared spare line substitutable a defective word line or bit line on an ordinary cell array selectively in a redundant cell array. CONSTITUTION:It is assumed that either the word lines WL in the ordinary cell array 3 is defective. The row address data RA and the inverse of RA of a defective cell are compared with row defective cell address data RRA and the inverse of RRA from a row defective cell address memory 7x at a row address comparator 8x. When both data coincide, the comparator 8x outputs a coincidence signal RRS. In the signal RRS, command information to perform redundancy and information to instruct which spare line of spare lines RWL0-7 in the redundant cell array 16 should be used are included. A row decoder 2 becomes inactive by the signal. The coincidence signal is inputted to a row selection circuit 14, and since no column selection signal CRS from the comparator 8x exists at that time, the circuit 14 outputs a signal representing a content corresponding to the coincidence signal to a redundant X decoder 15x, an address switching circuit 17, and an input/output buffer 15. The decoder 15x decodes the coincidence signal, and selects the spare line RWL0-7 in the array 16.

Description

【発明の詳細な説明】 (II!E要〕 本発明は半導体メモリ装置に関し、 冗長メモリの機能を最大限に発揮して、冗長効率の向上
を図りうる半導体メモリ装置を提供することを目的とし
、 通常セルアレイと、該通常セルアレイ中の不良部分と置
換可能な冗長セルアレイとを具備した半導体メモリ装置
であって、前記冗長セルアレイは、前記通常セルアレイ
中の不良ワード線または不良ビット線を選択的に置換可
能な共用スペア線を有して構成する。
[Detailed Description of the Invention] (II!E required) The present invention relates to a semiconductor memory device, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can maximize the function of redundant memory and improve redundancy efficiency. , a semiconductor memory device comprising a normal cell array and a redundant cell array capable of replacing a defective portion in the normal cell array, wherein the redundant cell array selectively replaces a defective word line or a defective bit line in the normal cell array. Constructed with a replaceable shared spare line.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は半導体メモリ装置に関する。 The present invention relates to semiconductor memory devices.

半導体メモリの微細化、大容量化に伴なって半導体メモ
リの製造工程における不良セルも増加する。かかる欠陥
の存在により多くの良品部品が存在するにもかかわらず
、チップ全体が不良品とされることは歩留りの低下を招
来する。そこで、このような欠陥からチップを救済する
ために、半導体メモリには冗長回路が設けられている。
As semiconductor memories become smaller and have larger capacities, the number of defective cells in the semiconductor memory manufacturing process also increases. Due to the existence of such defects, even though there are many non-defective parts, the entire chip is judged to be defective, resulting in a decrease in yield. Therefore, in order to save chips from such defects, semiconductor memories are provided with redundant circuits.

冗長回路は半導体メモリ(以下、通常セルアレイという
。)のメモリセルのうち、ウェーハプロービング試験時
に検出された不良セルのアドレスを不良セルアドレスメ
モリにプログラミングしておき、不良セルがアクセスさ
れた場合に、不良セルアドレスメモリのプログラミング
データに基づいて、当該不良セルを冗長メモリ(以下、
冗長セルアレイという。)に置き換えることによりアク
セス可能としてチップを救済するものである。
The redundant circuit programs the address of a defective cell detected during a wafer probing test among the memory cells of a semiconductor memory (hereinafter referred to as a normal cell array) into a defective cell address memory, and when the defective cell is accessed, Based on the programming data of the defective cell address memory, the defective cell is stored in the redundant memory (hereinafter referred to as
This is called a redundant cell array. ) to make the chip accessible and save the chip.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第8図に従来のSRAMの冗長回路の概要を示す。 FIG. 8 shows an outline of a conventional SRAM redundancy circuit.

まず、通常時の通常セルアレイ3に対するアクセス動作
を説明する。外部アドレスデータADDは行アドレスバ
ッファ1および列アドレスバッファ4にそれぞれ与えら
れる。
First, the access operation to the normal cell array 3 during normal operation will be explained. External address data ADD is applied to row address buffer 1 and column address buffer 4, respectively.

行アドレスバッファ1および列アドレスバッファ4にお
いては、それぞれにおいて外部アドレスデータADDを
TTLレベルからMOSレベルに増幅し、正相および逆
相のアドレス信号A、Aを生成して行デコーダ2および
列デコーダ5に送る。
Row address buffer 1 and column address buffer 4 each amplify external address data ADD from TTL level to MOS level, generate address signals A, A of positive phase and reverse phase, and send them to row decoder 2 and column decoder 5. send to

行デコーダ2および列デコーダ5においては、各アドレ
ス信号A、Aを解読し、指定されるワード線WLおよび
ビット線BLを選択する。このようにして、選択された
ワード線WLとビット線BLとの交点のメモリセルMC
が特定されて読み出し動作が実行される。なお、書込み
動作は基本的には上記同様であるが、書込みデータがI
loから人出カバッファ12、データ切換回路9、列デ
コーダ5、センスアンプ6の経路で流れる。
Row decoder 2 and column decoder 5 decode each address signal A, A and select the designated word line WL and bit line BL. In this way, the memory cell MC at the intersection of the selected word line WL and bit line BL
is specified and a read operation is performed. Note that the write operation is basically the same as above, but the write data
The signal flows from lo to the turnout buffer 12, the data switching circuit 9, the column decoder 5, and the sense amplifier 6.

次に、通常セルアレイ3内にビット線不良による不良セ
ルが存在する場合、その不良セルのアドレスはウェーハ
ブロービング試験時に判明しているので、予め不良セル
アドレスメモリ7に記憶される(詳細は後述の第9図、
第10図参照)。外部アドレスデータADDが不良セル
に対するものであった場合、不良セルアドレスメモリ7
からの不良アドレス信号F、Fとアドレス信号A、Aが
アドレス比較回路8により比較され;一致信号ACCが
データ切換回路9に出力される。一致信号ACCが出力
されたことは外部アドレスデータADDによりアクセス
されたメモリセルMCが不良セルであることを意味する
ので、データ切換回路9は列デコーダ5からのデータで
はなく冗長用センスアンプ10を介して冗長セルアレイ
11の冗長セルRMCからのデータに切換える。
Next, if there is a defective cell due to a bit line defect in the normal cell array 3, the address of the defective cell is known at the time of the wafer probing test, so it is stored in advance in the defective cell address memory 7 (details will be described later). Figure 9 of
(See Figure 10). If the external address data ADD is for a defective cell, the defective cell address memory 7
The address comparison circuit 8 compares the defective address signals F, F and the address signals A, A from the address comparison circuit 8; a match signal ACC is output to the data switching circuit 9. The output of the match signal ACC means that the memory cell MC accessed by the external address data ADD is a defective cell, so the data switching circuit 9 selects the redundant sense amplifier 10 instead of the data from the column decoder 5. The data is switched to the data from the redundant cell RMC of the redundant cell array 11 through the redundant cell array 11.

このようにして、不良セルのデータは冗長セルRMC側
のデータに置き換えられ、通常セルアレイ3内に不良セ
ルがあっても当該チップとしては外観上良品として動作
することができる。書込みの場合も上記同様であり、先
に示したデータの流れとなる。以上の構成において破線
で囲った部分が冗長回路である。
In this way, the data of the defective cell is replaced with the data of the redundant cell RMC, and even if there is a defective cell in the normal cell array 3, the chip can operate as a good product in appearance. The case of writing is the same as above, and the data flow is as shown above. In the above configuration, the portion surrounded by a broken line is a redundant circuit.

ビット線かワード線のいずれかの欠陥が当該冗長セルア
レイに許容される本数は越えた場合、他に健全な線が残
っていたとしても、そのチップを良品とすることができ
ない。例えば、スペアワード線が1本でスペアビット線
が1本の冗長セルアレイを想定した場合、ワード線のみ
が2本不良となったとすると、もはや当該チップを救済
することができず、残ったスペアビット線は無駄になる
If the number of defects in either bit lines or word lines exceeds the allowable number for the redundant cell array, the chip cannot be considered as a good product even if other healthy lines remain. For example, assuming a redundant cell array with one spare word line and one spare bit line, if only two word lines become defective, it is no longer possible to salvage the chip, and the remaining spare bit line becomes defective. The line is wasted.

そこで、本発明は冗長セルアレイの機能を最大限に発揮
して、冗長効率、したがって歩留りの向上を図りうる半
導体メモリ装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can maximize the function of a redundant cell array and improve redundancy efficiency and therefore yield.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来の冗長回路の問題点は、救済する場合に当該冗
長セルアレイに設定された態様でしか行うことができず
、自由度に欠けるという点にある。
The problem with the above-mentioned conventional redundant circuit is that it can only be repaired in a manner set in the redundant cell array, and lacks a degree of freedom.

すなわち、不良セルの発生原因としであるアドレスに対
応するビット線、ワード線のいずれか若しくはその両者
に欠陥がある場合が挙げられる。
That is, a defective cell may be caused by a defect in either or both of the bit line and word line corresponding to a certain address.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記課題を解決するために、本発明は、通常セルアレイ
(3)と、該通常セルアレイ(3)中の不良部分と置換
可能な冗長セルアレイ(16)とを具備した半導体メモ
リ装置であって、前記冗長セルアレイ(16)は、前記
通常セルアレイ(3)中の不良ワード線(WL)または
不良ビット線(B L)を選択的に置換可能な共用スペ
ア線を有して構成する。
In order to solve the above problems, the present invention provides a semiconductor memory device comprising a normal cell array (3) and a redundant cell array (16) capable of replacing a defective portion in the normal cell array (3), The redundant cell array (16) includes a shared spare line that can selectively replace a defective word line (WL) or defective bit line (BL) in the normal cell array (3).

〔作用〕[Effect]

本発明によれば、冗長メモリ(16)が共用になってい
るため、ワード線(WL)またはビット線(BL)のい
ずれかがより多く不良となっても、残りのスペア線によ
り代替して救済することが可能であり、目的を達成する
ことができる。
According to the present invention, since the redundant memory (16) is shared, even if more word lines (WL) or bit lines (BL) become defective, they can be replaced by the remaining spare lines. It is possible to salvage and achieve the purpose.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described based on the drawings.

第1実施例 第1図に本発明の第1実施例を示す。なお、この実施例
において、第3図と重複する部分には同一の符号を附し
てその説明を省略する。
First Embodiment FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. In this embodiment, parts that overlap with those in FIG. 3 are given the same reference numerals, and their explanations will be omitted.

第1図と第3図との比較において、両者の異なる点は、
行不良セルアドレスメモリ7 、列不良セルアドレスメ
モリ7 、行アドレス比較回路8X1列アドレス比較回
路81、行冗長スペア線メモリ13 、列冗長スペア、
線メモリ13 、行Y 列選択回路14、冗長Xデコーダ15 、冗長Yデコー
ダ15 、行列共用冗長セルアレイ(以下、単に冗長セ
ルアレイという。)16、アドレス切換回路17を備え
た点である。
In comparing Figures 1 and 3, the differences between the two are:
Row defective cell address memory 7, column defective cell address memory 7, row address comparison circuit 8X1 column address comparison circuit 81, row redundant spare line memory 13, column redundant spare,
It is equipped with a line memory 13, a row Y column selection circuit 14, a redundant X decoder 15, a redundant Y decoder 15, a row and column common redundant cell array (hereinafter simply referred to as redundant cell array) 16, and an address switching circuit 17.

行不良セルアドレスメモリ7xは通常セルアレイ3の不
良ワード線のアドレスを記憶し、列不良セルアドレスメ
モリ7Yは通常セルアレイ3の不良ビット線のアドレス
を記憶する。メモリセルとしては電流溶断形ポリシリコ
ンヒユーズ、レーザによる溶断形ポリシリコンヒユーズ
等を用いる。
The row defective cell address memory 7x stores the address of a defective word line in the normal cell array 3, and the column defective cell address memory 7Y stores the address of a defective bit line in the normal cell array 3. As the memory cell, a current-blown polysilicon fuse, a laser-blown polysilicon fuse, or the like is used.

行冗長スペア線メモリー3xは冗長セルアレイ16のう
ち、不良ワード線をどのスペア線RWL  −RWL7
で置換するかを指定するメモりで、予めそのスペア線ア
ドレスを記憶する。列冗長スペア線メモリー3Yも同様
に、冗長セルアレイ16のうち、不良ビット線をどのス
ペア線RWL  −RWL、で置換するかを指定するメ
モりである。メモリセルとしては同様にポリシリコンヒ
ユーズ等を用いることができる。
The row redundant spare line memory 3
The spare line address is stored in advance in the memory that specifies whether to replace the line. Similarly, the column redundant spare line memory 3Y is a memory for specifying which spare line RWL to RWL in the redundant cell array 16 should replace a defective bit line. Similarly, a polysilicon fuse or the like can be used as the memory cell.

行列選択回路14は二本の冗長スペア線の選択を同時に
行うことはできないので行と列の冗長が同時に必要にな
ったとき、いずれかを優先させるためのもので、その優
先度の設定は任意である。
The matrix selection circuit 14 cannot select two redundant spare lines at the same time, so when row and column redundancy are required at the same time, the matrix selection circuit 14 is used to prioritize one of them, and the priority can be set arbitrarily. It is.

冗長Xデコーダ15xは冗長セルアレイ16のスペア線
RWL  −RWL7を行列選択回路14からのデータ
を解読していずれか選択するためのデータである。冗長
Yデコーダ15.はアドレス切換回路17からのデータ
を解読してビット線BLを選択するためのデコーダであ
る。
The redundant X decoder 15x decodes the data from the column selection circuit 14 to select one of the spare lines RWL-RWL7 of the redundant cell array 16. Redundant Y decoder 15. is a decoder for decoding data from the address switching circuit 17 and selecting the bit line BL.

冗長セルアレイ16はスペア線RWL、〜RWL7とビ
ット線BLとでマトリクス配置されたセルアレイであり
、ワード線、ビット線のいずれかの救済にも使用可能で
ある。通常セルアレイ3が例えば4K(行)x4K (
列)−16Mと、2トのメモリであるとすると、冗長セ
ルアレイ16は例えば8(行)x4K (列)ビットの
メモリを使用する。
The redundant cell array 16 is a cell array in which spare lines RWL, to RWL7 and bit lines BL are arranged in a matrix, and can be used to repair either word lines or bit lines. Normally, the cell array 3 is, for example, 4K (rows) x 4K (
Assuming that the redundant cell array 16 is a memory of 8 (rows) x 4K (columns) bits, for example, the redundant cell array 16 uses a memory of 8 (rows) x 4K (columns) bits.

行アドレス比較回路8xは行不良セルアドレスメモリ7
xからの行不良セルアドレスデータRRA、RRAと行
アドレスバッファ1からの行アドレスデータRA、RA
と行冗長スペア線メモリ13Xからのスペア線指定デー
タDRRとを比較し、行列選択回路14に対して行選択
信号RR5を出力する。列アドレス比較回路8.は列不
良セルアドレスメモリ7Yからの列不良セルアドレスデ
ータCCA、CCAと列アドレスバッファ4からの列ア
ドレスデータCA、CAとスペア線指定データDCRと
を比較し、行列選択回路14に対して列選択信号CR8
を出力する。
The row address comparison circuit 8x is connected to the row defective cell address memory 7.
Row defective cell address data RRA, RRA from x and row address data RA, RA from row address buffer 1
and spare line designation data DRR from the row redundant spare line memory 13X, and outputs a row selection signal RR5 to the matrix selection circuit 14. Column address comparison circuit 8. compares the column defective cell address data CCA, CCA from the column defective cell address memory 7Y, column address data CA, CA from the column address buffer 4, and spare line designation data DCR, and selects a column for the matrix selection circuit 14. Signal CR8
Output.

次に動作を説明する。Next, the operation will be explained.

いま、通常セルアレイ3のワード線WLのいずれかに不
良があるものとする。その不良セルの行アドレスデータ
RA、RAと行不良セルアドレスメモリ7xからの行不
良セルアドレスデータRRA、RRAとが行アドレス比
較回路8Xに入力され、両データが比較される。
Now, it is assumed that one of the word lines WL of the normal cell array 3 is defective. The row address data RA, RA of the defective cell and the row defective cell address data RRA, RRA from the row defective cell address memory 7x are input to the row address comparison circuit 8X, and both data are compared.

両データが一致すると、行アドレス比較回路8xは一致
信号RR3を出力する。この一致信号RR5には冗長を
行う指令情報と冗長セルアレイ16のどのスペア線RW
L  −RWL7を使用するかの情報が含まれている。
When both data match, the row address comparison circuit 8x outputs a match signal RR3. This coincidence signal RR5 includes command information for redundancy and which spare line RW of the redundant cell array 16.
Contains information on whether to use L-RWL7.

この一致信号RR3により行デコーダ2は非活性となる
。一致信号RR3は行列選択回路14に入力され、この
とき行アドレス比較回路8Xからの列選択信号CRSは
ないので、行列選択回路14は一致信号RR3に対応す
る内容の信号を冗長Xデコーダ15x1アドレス切換回
路17、入・出力バッファ12に出力する。
Row decoder 2 is inactivated by this match signal RR3. The coincidence signal RR3 is input to the matrix selection circuit 14, and since there is no column selection signal CRS from the row address comparison circuit 8X at this time, the matrix selection circuit 14 switches the signal corresponding to the coincidence signal RR3 to the redundant X decoder 15x1 address. It outputs to the circuit 17 and the input/output buffer 12.

冗長Xデコーダ15xは一致信号RR9を解読して冗長
セルアレイ16のスペア線RWLo〜RWL7のいずれ
かを選択する。
Redundant X decoder 15x decodes match signal RR9 and selects one of spare lines RWLo to RWL7 of redundant cell array 16.

このようにして通常セルアレイ3のワード線WLに不良
があった場合、その不良ワード線WLは冗長セルアレイ
16のスペア線RWLo〜RWL7のいずれかに置き換
えられるので、当該チップを救済することができる。
In this way, if there is a defect in the word line WL of the normal cell array 3, the defective word line WL is replaced with one of the spare lines RWLo to RWL7 of the redundant cell array 16, so that the chip can be saved.

一方、通常セルアレイ3のビット線BLのいずれかに不
良があった場合、上記同様の動作により列不良セルアド
レスメモリ7 、列冗長スペア線メモリ13 、列アド
レス比較回路8 、行列選Y 折回路14、アドレス切換回路17の系統で処理され、
不良ビット線BLは冗長Xデコーダ15Xを介して冗長
セルアレイ16のいずれかのビット線BLに置き換えら
れる。
On the other hand, if any of the bit lines BL of the normal cell array 3 is defective, the same operations as described above are performed such as the column defective cell address memory 7, the column redundant spare line memory 13, the column address comparison circuit 8, and the matrix selection Y folding circuit 14. , processed by the address switching circuit 17 system,
The defective bit line BL is replaced with any bit line BL of the redundant cell array 16 via the redundant X decoder 15X.

いま、仮に、通常セルアレイ3において7本のワード線
WLが不良であり、1本の、ビット線BLが不良であっ
たとする。この場合、冗長セルアレイ16において、ス
ペア線RWL  −RWL6が通常セルアレイ3の不良
ワード線WLにとって代り、スペア線RWL7が通常セ
ルアレイ3の不良ビット線BLを救済する。このとき、
スペア線RWL7とビット線BLとは直交関係にあり、
90″の配置換えをしなければならないが、それは、冗
長Xデコーダ15xへの情報をアドレス切換回路17を
介して冗長Yデコーダ15.に転送することにより行う
Now, suppose that seven word lines WL in the normal cell array 3 are defective and one bit line BL is defective. In this case, in the redundant cell array 16, the spare line RWL-RWL6 replaces the defective word line WL of the normal cell array 3, and the spare line RWL7 relieves the defective bit line BL of the normal cell array 3. At this time,
Spare line RWL7 and bit line BL are orthogonal to each other,
90'' must be rearranged, but this is done by transferring information to the redundant X decoder 15x via the address switching circuit 17 to the redundant Y decoder 15.

また、一致信号RR3と列選択信号CR3とが同時に発
生して競合した場合、行列選択回路14がいずれか(例
えば、一致信号RR8)を優先して処理したのち、他方
(例えば、列選択信号CR8)を処理する。
Further, when the coincidence signal RR3 and the column selection signal CR3 are generated simultaneously and compete with each other, the matrix selection circuit 14 processes one of them (for example, the coincidence signal RR8) with priority, and then processes the other (for example, the column selection signal CR8). ).

かくして、本実施例によれば、ワード線WL。Thus, according to this embodiment, the word line WL.

ビット線BLそれぞれ専用の冗長セルアレイを設けるこ
となく、1つの冗長セルアレイ16で両方の不良を救済
することができ、スペア線の無駄を省くとともに、従来
より救済効率が上昇し、したがってチップの歩留りを向
上させることができる。
It is possible to repair both defects with one redundant cell array 16 without providing a dedicated redundant cell array for each bit line BL, which eliminates the waste of spare lines and improves repair efficiency compared to the conventional method, thereby improving chip yield. can be improved.

第2実施例 次に第2図に本発明の第2実施例を示す。Second example Next, FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention.

この第2実施例は、冗長セルアレイ16を8(行)X4
K (列)ビットのアレイから16(行)x2K (列
)ビットのアレイとしたものである。
This second embodiment has a redundant cell array 16 of 8 (rows)×4
An array of K (columns) bits is made into an array of 16 (rows) by 2K (columns) bits.

すなわち、冗長セルアレイ16は必ずしも通常セルアレ
イ3と同じ行数をもつことができるとは限らない。これ
は、冗長セルアレイ16の構造上、通常セルアレイ3よ
りも大きな面積を必要とすることからくる制約である。
That is, the redundant cell array 16 does not necessarily have the same number of rows as the normal cell array 3. This is a restriction due to the fact that the structure of the redundant cell array 16 requires a larger area than the normal cell array 3.

例えば冗長セルアレイ16のセルをポリシリコン−層の
フローティングゲート型EPROMで構成した場合、ポ
リシリコン−層でフローティングゲートを形成するため
の面積が必要となる。
For example, if the cells of the redundant cell array 16 are constructed of polysilicon layer floating gate type EPROMs, an area is required to form the floating gates with the polysilicon layer.

そこで、本実施例では、占有面積の制約の少ないワード
線WLの配列方向の面積を2倍とすべくスペア線RWL
  −RWL7.の16(行)とし、その分ビット線B
Lの配列方向を172の2K(列)とし容量としては同
じく32にビットとしたものである。
Therefore, in this embodiment, in order to double the area in the arrangement direction of the word lines WL, which has less restrictions on the occupied area, the spare line RWL
-RWL7. 16 (rows) of bit line B
The arrangement direction of L is 172 2K (columns), and the capacity is also 32 bits.

このようにして、−ワード線WLの本数が2倍になった
ので、これに対応して冗長Xデコーダ15xに識別ビッ
トエリア15xaを形成し、理論′0“  al”で振
り分けるようにする。
In this way, since the number of - word lines WL has doubled, an identification bit area 15xa is formed in the redundant X decoder 15x in correspondence with this, and the identification bit area 15xa is logically distributed by '0'al'.

以上のように、冗長セルアレイ16のセル配列を構成す
ることにより、チップ上のレイアウトを合理的にするこ
とができる。
By configuring the cell arrangement of the redundant cell array 16 as described above, the layout on the chip can be made rational.

第3実施例 本実施例は、通常セルアレイ3をマスクROMとした場
合の例である。
Third Embodiment This embodiment is an example in which the normal cell array 3 is a mask ROM.

マスクROMは、通常、ポリシリコン−層で形成される
、したがって、冗長セルアレイ16を通常セルアレイ3
の製造プロセスを大幅に変更することなく形成するため
には通常セルアレイ3と同様にポリシコン−層で形成す
る必要があり、がっ、不良セルに対応する冗長セルのプ
ログラミングを事後的に行うには書込み可能なメモリで
ある必要がある。
The mask ROM is usually formed of a polysilicon layer, so the redundant cell array 16 is replaced by the normal cell array 3.
In order to form the cell array without significantly changing the manufacturing process, it is necessary to form it with a polysilicon layer in the same way as the normal cell array 3. Must be writable memory.

そこで、本実施例のように冗長セルアレイ16をEFR
OMとし、かつ、そ(7)EPROMをポリシリコン−
層で形成するようにしたものである。
Therefore, as in this embodiment, the redundant cell array 16 is
OM, and (7) EPROM is made of polysilicon.
It is formed of layers.

第3図(a)に本実施例における冗長セルアレイ16の
冗長の平面図、第3図(b)にその断面図、第3図(c
)に通常のEFROMと本発明のEFROMとの対応関
係の説明図を示す。
FIG. 3(a) is a plan view of the redundant cell array 16 in this embodiment, FIG. 3(b) is a sectional view thereof, and FIG.
) shows an explanatory diagram of the correspondence between a normal EFROM and an EFROM of the present invention.

第3図(a)、(b)に示すように、P型基板28上に
はフィールド酸化膜(S i 02 ) 27が形成さ
れ、その上にはポリシリコー層のブローティングゲート
FGが形成されている。フローティングゲートFG上に
は層間絶縁膜(S iO2)26が形成され、この層間
絶縁膜26を介してワード線WLが形成されている。2
9はスペアビット線BLを形成する拡散層(N)であり
、30は冗長セルRMCとなるトランジスタ領域である
As shown in FIGS. 3(a) and 3(b), a field oxide film (S i 02 ) 27 is formed on the P-type substrate 28, and a bloating gate FG made of a polysilicon layer is formed on it. There is. An interlayer insulating film (SiO2) 26 is formed on the floating gate FG, and a word line WL is formed via this interlayer insulating film 26. 2
9 is a diffusion layer (N) forming a spare bit line BL, and 30 is a transistor region serving as a redundant cell RMC.

以上の構造は第3図(C)に示すEPROMと電気的に
等価である。すなわち、ワード線WLは層間絶縁膜26
を介してフローティングゲートFGと対面する配置とさ
れているからコントロールゲートCGと等価であり、フ
ローティングゲートFGはフィールド酸化膜27を介し
てトランジスタ領域30上に形成されているからフロー
ティングゲートである。第3図(b)と(c)との対応
をとれば、トランジスタ領域30上のフローティングゲ
ートFGとフィールド酸化膜27との界面がA点であり
、拡散層29上のフローティングゲートFGとフィール
ド酸化膜27との界面がB点に相当する。
The above structure is electrically equivalent to the EPROM shown in FIG. 3(C). That is, the word line WL is connected to the interlayer insulating film 26.
Since it is arranged to face the floating gate FG through the field oxide film 27, it is equivalent to the control gate CG, and because the floating gate FG is formed on the transistor region 30 through the field oxide film 27, it is a floating gate. 3(b) and (c), the interface between the floating gate FG on the transistor region 30 and the field oxide film 27 is point A, and the interface between the floating gate FG on the diffusion layer 29 and the field oxide film 27 is the point A. The interface with the film 27 corresponds to point B.

このように形成された冗長セルはワード線WLとスペア
ビット線BLとの間に印加される電圧により、フローテ
ィングゲートFG内に電荷を蓄積して不良セルに対する
データを通常セルアレイ3に代えて記憶することになる
The redundant cell formed in this way stores charge in the floating gate FG by the voltage applied between the word line WL and the spare bit line BL, and stores data for the defective cell instead of the normal cell array 3. It turns out.

かくして、第3実施例によれば、マスクROMに適用す
る場合のポリシリコン−層で形成可能な点、および書込
みが可能である点という要請を満足する冗長セルを形成
することができ、所期の目的を達成する。
Thus, according to the third embodiment, it is possible to form a redundant cell that satisfies the requirements of being able to be formed using a polysilicon layer when applied to a mask ROM, and that it is writable. achieve the purpose of

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の通り、本発明によれば冗長セルアレイがワード線
、ビット線に対して共用可能であるため、ワード線、ビ
ット線の不良発生本数が異なっていても、不良発生本数
の多い方に規制されることなく、救済効率を向上させる
ことができる。その結果、半導体メモリチップの歩留り
を向上させうる。
As described above, according to the present invention, the redundant cell array can be shared by word lines and bit lines, so even if the number of defective word lines and bit lines is different, it is restricted to the one with the greater number of defective lines. Relief efficiency can be improved without As a result, the yield of semiconductor memory chips can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の第1実施例のブロック図、第2図は本
発明の第2実施例のブロック図、第3図は本発明の第3
実施例のブロック図、第4図は従来のSRAMの冗長回
路のブロック図である。 1・・・行アドレスバッファ 2・・・行デコーダ 3・・・通常セルアレイ 4・・・列アドレスバッファ 5・・・列デコーダ 7x・・・行不良セルアドレスメモリ 7Y・・・列不良セルアドレスメモリ 8X・・・行アドレス比較回路 8、・・・列アドレス比較回路 13x・・・行冗長スペア線メモリ 13、・・・列冗長スペア線メモリ 14・・・行列選択回路 15x・・・冗長Xデコーダ 15、・・・冗長Yデコーダ WL・・・ワード線 BL・・・ビット線 MC・・・メモリセル RMC・・・冗長セル 第  2  図
FIG. 1 is a block diagram of a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of a second embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a block diagram of a third embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a block diagram of a conventional SRAM redundant circuit. 1... Row address buffer 2... Row decoder 3... Normal cell array 4... Column address buffer 5... Column decoder 7x... Row defective cell address memory 7Y... Column defective cell address memory 8X... Row address comparison circuit 8,... Column address comparison circuit 13x... Row redundant spare line memory 13,... Column redundant spare line memory 14... Matrix selection circuit 15x... Redundant X decoder 15,...Redundant Y decoder WL...Word line BL...Bit line MC...Memory cell RMC...Redundant cell Fig. 2

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.通常セルアレイ(3)と、該通常セルアレイ(3)
中の不良部分と置換可能な冗長セルアレイ(16)とを
具備した半導体メモリ装置であって、 前記冗長セルアレイ(16)は、前記通常セルアレイ(
3)中の不良ワード線(WL)または不良ビット線(B
L)を選択的に置換可能な共用スペア線を有することを
特徴とする半導体メモリ装置。
1. Normal cell array (3) and the normal cell array (3)
A semiconductor memory device comprising a redundant cell array (16) capable of replacing a defective portion therein, the redundant cell array (16) being a part of the normal cell array (16).
3) A defective word line (WL) or defective bit line (B
1. A semiconductor memory device comprising a shared spare line that can selectively replace L).
2.請求項1記載の半導体メモリ装置において、行アド
レスまたは列アドレスのいずれか選択し、選択されたア
ドレスを冗長セルアレイのデコーダに送るためのアドレ
ス切換回路(17)を備えたことを特徴とする半導体メ
モリ装置。 レイ(3)中の不良部分と置換可能な冗長セルアレイ(
16)とを具備した半導体メモリ装置であって、
2. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising an address switching circuit (17) for selecting either a row address or a column address and sending the selected address to a decoder of a redundant cell array. Device. Redundant cell array (
16) A semiconductor memory device comprising:
3.通常セルアレイ(3)と、該セルア レイ(3)中の不良部分と置換可能な冗長セルアレイ(
16)とを具備した半導体メモリ装置であって、 前記冗長セルアレイ(16)は、前記通常セルアレイ(
3)の中の不良ワード線(WL)および不良ビット線(
BL)を個々に選択的に置換可能な複数の共用スペア線
を有することを特徴とする半導体メモリ装置。
3. A normal cell array (3) and a redundant cell array (3) that can replace defective parts in the cell array (3).
16), wherein the redundant cell array (16) includes the normal cell array (16).
The defective word line (WL) and defective bit line (WL) in 3)
1. A semiconductor memory device comprising a plurality of shared spare lines that can be individually and selectively replaced.
4.請求項3記載の半導体メモリ装置において、冗長セ
ルアレイのスペア線はワード線によって形成されたこと
を特徴とする半導体メモリ装置。
4. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the spare line of the redundant cell array is formed by a word line.
5.請求項3記載の半導体メモリ装置において、冗長セ
ルアレイのスペア線はビット線によって形成されたこと
を特徴とする半導体メモリ装置。
5. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the spare line of the redundant cell array is formed by a bit line.
6.請求項3記載の半導体メモリ装置において、行アド
レスまたは列アドレスのいずれかを選択し、選択された
アドレスを冗長セルアレイのデコーダに送るためのアド
レス切換回路(17)を備えたことを特徴とする半導体
メモリ装置。 7、請求項3記載の半導体メモリ装置において、不良ワ
ード線および不良ビット線の不良アドレスを記憶すると
ともに、複数あるスペア線のいずれかのスペア線に切換
えるかの情報を記憶する回路(13X、13Y)を持つ
ことを特徴とする半導体メモリ装置。 8、請求項3記載の半導体メモリ装置において、外部ア
ドレスが、行不良アドレスメモリに記憶されたアドレス
と列不良アドレスメモリに記憶されたアドレスに同時に
一致した場合、行または列のいずれかを選択し冗長する
ための行列選択回路(14)を備えたことを特徴とする
半導体メモリ装置。
6. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, further comprising an address switching circuit (17) for selecting either a row address or a column address and sending the selected address to a decoder of a redundant cell array. memory device. 7. In the semiconductor memory device according to claim 3, a circuit (13X, 13Y) stores the defective address of the defective word line and the defective bit line, and also stores information on whether to switch to one of the plurality of spare lines. ) A semiconductor memory device characterized by having: 8. In the semiconductor memory device according to claim 3, if the external address coincides with an address stored in the row defective address memory and an address stored in the column defective address memory at the same time, either the row or the column is selected. A semiconductor memory device characterized by comprising a matrix selection circuit (14) for redundancy.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5875194A (en) * 1992-05-28 1999-02-23 Texas Instruments Incorporated Repairing efficiency by gray code
US5898627A (en) * 1998-05-08 1999-04-27 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor memory having redundant memory cell array
US6011735A (en) * 1998-05-27 2000-01-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Synchronous semiconductor memory device with redundancy determination unit that can set replacement of redundant memory array provided in row and column directions

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