JPH10189292A - Icp分析装置 - Google Patents
Icp分析装置Info
- Publication number
- JPH10189292A JPH10189292A JP8345354A JP34535496A JPH10189292A JP H10189292 A JPH10189292 A JP H10189292A JP 8345354 A JP8345354 A JP 8345354A JP 34535496 A JP34535496 A JP 34535496A JP H10189292 A JPH10189292 A JP H10189292A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- abnormality
- plasma torch
- plasma
- turned
- cause
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマトーチが消灯しても、分析が長く中
断される機会をできるだけ少なくして、装置の稼働率を
高める。 【解決手段】 プラズマトーチ1に関連する各部分の異
常を検出する手段aと、消灯検出手段bとを備えるとと
もに、消灯の原因となる異常を重度、軽度に区別して記
憶手段cに記憶しておいて、消灯に伴い異常判断手段d
で原因異常が重度か否かを判断し、重度の異常に対して
は即時停止手段eにより運転を停止し、軽度の異常につ
いては解消判断手段fで異常が解消されているか否かを
判断し、非解消であれば第2の停止手段gにより運転を
停止するが、解消されていれば再点灯指令手段hにより
再点灯を指令し、それで点灯されない場合は第3の停止
手段iにより運転を停止するようにした。
断される機会をできるだけ少なくして、装置の稼働率を
高める。 【解決手段】 プラズマトーチ1に関連する各部分の異
常を検出する手段aと、消灯検出手段bとを備えるとと
もに、消灯の原因となる異常を重度、軽度に区別して記
憶手段cに記憶しておいて、消灯に伴い異常判断手段d
で原因異常が重度か否かを判断し、重度の異常に対して
は即時停止手段eにより運転を停止し、軽度の異常につ
いては解消判断手段fで異常が解消されているか否かを
判断し、非解消であれば第2の停止手段gにより運転を
停止するが、解消されていれば再点灯指令手段hにより
再点灯を指令し、それで点灯されない場合は第3の停止
手段iにより運転を停止するようにした。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高周波誘導結合プ
ラズマ(ICP)発光分光分析装置やICP質量分析装
置のように、試料をプラズマ化して分析するICP分析
装置に係り、詳しくは、プラズマトーチの点灯を制御す
る部分の構成に関する。
ラズマ(ICP)発光分光分析装置やICP質量分析装
置のように、試料をプラズマ化して分析するICP分析
装置に係り、詳しくは、プラズマトーチの点灯を制御す
る部分の構成に関する。
【0002】
【従来の技術】生産ラインの中には、オンラインでその
最終生産物や中間生成物、原材料等の成分元素のチェッ
クを行う分析システムを備えたものがある。このような
分析システムには、同時多元素ICP発光分光分析装置
が用いられることが多い。
最終生産物や中間生成物、原材料等の成分元素のチェッ
クを行う分析システムを備えたものがある。このような
分析システムには、同時多元素ICP発光分光分析装置
が用いられることが多い。
【0003】ICP発光分光分析装置は、図5に示すよ
うな構成を有するもので、プラズマトーチ1で試料をプ
ラズマ化して発光させ、この試料の放射光を分光部2で
各波長のスペクトル光に分光し、そのうち特定の波長の
スペクトル光を測光部3で測光し、これによって、試料
に含まれる元素の定量分析を行う。
うな構成を有するもので、プラズマトーチ1で試料をプ
ラズマ化して発光させ、この試料の放射光を分光部2で
各波長のスペクトル光に分光し、そのうち特定の波長の
スペクトル光を測光部3で測光し、これによって、試料
に含まれる元素の定量分析を行う。
【0004】プラズマトーチ1はプラズマスタンド4内
に設置されていて、このスタンド4内には高周波電源5
と、ガス流量制御部6と、上位の中央コントローラ7の
制御のもとでこれらスタンド各部分の動作を制御するス
タンドコントローラ8とが設けられている。プラズマト
ーチ1を点灯する際、プラズマトーチ1の誘導コイルに
は高周波電源5から高周波電力が供給され、プラズマト
ーチ1の本体内には、ガス流量制御部6からのガスによ
り霧化された試料とクーラントガス、プラズマガスが供
給される。
に設置されていて、このスタンド4内には高周波電源5
と、ガス流量制御部6と、上位の中央コントローラ7の
制御のもとでこれらスタンド各部分の動作を制御するス
タンドコントローラ8とが設けられている。プラズマト
ーチ1を点灯する際、プラズマトーチ1の誘導コイルに
は高周波電源5から高周波電力が供給され、プラズマト
ーチ1の本体内には、ガス流量制御部6からのガスによ
り霧化された試料とクーラントガス、プラズマガスが供
給される。
【0005】なお、符号30は、分光部2と測光部3と
を収容する分光分析ボックス、31はデータ処理部であ
る。データ処理部31に前記の中央コントローラ7が含
まれている。
を収容する分光分析ボックス、31はデータ処理部であ
る。データ処理部31に前記の中央コントローラ7が含
まれている。
【0006】図6は、上記装置の外観を示す正面図であ
る。同図に示すように、プラズマスタンド4と分光分析
ボックス30とは、隣接した形で一体に設けられてい
る。プラズマスタンド4の頂部には排気ダクト32があ
り、上部の前面には、プラズマ炎を視認しうるよう、窓
付きのドア33が設けられている。
る。同図に示すように、プラズマスタンド4と分光分析
ボックス30とは、隣接した形で一体に設けられてい
る。プラズマスタンド4の頂部には排気ダクト32があ
り、上部の前面には、プラズマ炎を視認しうるよう、窓
付きのドア33が設けられている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な分析装置では、何らかの原因でプラズマトーチ1が消
灯することがある。その原因には、装置自体の故障のよ
うな内部の原因と、供給電源の瞬停、Arガスの純度低
下のような外部の原因とがあり、その異常、故障の程度
も様々である。
な分析装置では、何らかの原因でプラズマトーチ1が消
灯することがある。その原因には、装置自体の故障のよ
うな内部の原因と、供給電源の瞬停、Arガスの純度低
下のような外部の原因とがあり、その異常、故障の程度
も様々である。
【0008】従来の装置では、このプラズマトーチ消灯
の場合、原因が何であれ、一旦、装置全体の運転を停止
するようになっている。これは、消灯の原因によって
は、装置の破損事故を招きかねないからである。原因が
装置の故障である場合に不用意にプラズマトーチを再点
灯すると、前記の故障が進行し、破損が拡大するおそれ
がある。
の場合、原因が何であれ、一旦、装置全体の運転を停止
するようになっている。これは、消灯の原因によって
は、装置の破損事故を招きかねないからである。原因が
装置の故障である場合に不用意にプラズマトーチを再点
灯すると、前記の故障が進行し、破損が拡大するおそれ
がある。
【0009】そして、運転を停止したのちは、オペレー
タが点検して消灯の原因を調べ、復帰が可能であれば、
直ちにプラズマトーチ1を再点灯して運転を再開する
が、重大な故障があれば、修理など所要の処置を施すこ
とになる。
タが点検して消灯の原因を調べ、復帰が可能であれば、
直ちにプラズマトーチ1を再点灯して運転を再開する
が、重大な故障があれば、修理など所要の処置を施すこ
とになる。
【0010】いずれにしても、従来はプラズマトーチ1
が消灯すれば、必ず運転を停止するようにしており、そ
の間、分析が中断される。これでは、装置の稼働率が低
下し、オンラインの分析システムとしては好ましくな
い。
が消灯すれば、必ず運転を停止するようにしており、そ
の間、分析が中断される。これでは、装置の稼働率が低
下し、オンラインの分析システムとしては好ましくな
い。
【0011】このような問題は、プラズマトーチを有す
る他の分析装置、すなわち、試料をプラズマによりイオ
ン化しそのイオンを質量分離して分析するICP質量分
析装置においても、同じように生じることである。
る他の分析装置、すなわち、試料をプラズマによりイオ
ン化しそのイオンを質量分離して分析するICP質量分
析装置においても、同じように生じることである。
【0012】本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなさ
れたものであって、プラズマトーチが消灯した場合、そ
の原因が装置の破損を引き起こすような重大な異常であ
るか、軽度の異常であるかにより、異なる対応をとり、
自動的に解消するような軽度の異常ではプラズマトーチ
を再点灯して運転を再開することで、分析が長く中断さ
れる機会をできるだけ少なくし、装置の稼働率を高める
ことを課題とする。
れたものであって、プラズマトーチが消灯した場合、そ
の原因が装置の破損を引き起こすような重大な異常であ
るか、軽度の異常であるかにより、異なる対応をとり、
自動的に解消するような軽度の異常ではプラズマトーチ
を再点灯して運転を再開することで、分析が長く中断さ
れる機会をできるだけ少なくし、装置の稼働率を高める
ことを課題とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を達
成するため、図1の特許請求の範囲対応図に示すよう
に、プラズマトーチ1と、その高周波電源5と、ガスと
ともに試料をプラズマトーチに供給するガス流量制御部
6とを備えたICP分析装置において、プラズマ点灯に
関連する各部分の異常を検出する異常検出手段aと、プ
ラズマトーチ1の消灯を検出する消灯検出手段bと、プ
ラズマトーチ1の消灯の原因となる異常を重度のものと
その他軽度のものとに区別して記憶する記憶手段cと、
プラズマトーチ1の消灯に伴いその原因となる異常が重
度か否かを判断する異常判断手段dと、原因異常が重度
である場合に運転を即時に停止する即時停止手段eと、
原因異常が軽度である場合にその後その異常が解消され
ているか否かを判断する解消判断手段fと、軽度の異常
が解消されていない場合に運転を停止する第2の停止手
段gと、軽度の異常が解消されている場合にプラズマト
ーチ1の再点灯を指令する再点灯指令手段hと、数回の
再点灯後のプラズマトーチ1が消灯した場合に運転を停
止する第3の停止手段iとを有する構成とした。
成するため、図1の特許請求の範囲対応図に示すよう
に、プラズマトーチ1と、その高周波電源5と、ガスと
ともに試料をプラズマトーチに供給するガス流量制御部
6とを備えたICP分析装置において、プラズマ点灯に
関連する各部分の異常を検出する異常検出手段aと、プ
ラズマトーチ1の消灯を検出する消灯検出手段bと、プ
ラズマトーチ1の消灯の原因となる異常を重度のものと
その他軽度のものとに区別して記憶する記憶手段cと、
プラズマトーチ1の消灯に伴いその原因となる異常が重
度か否かを判断する異常判断手段dと、原因異常が重度
である場合に運転を即時に停止する即時停止手段eと、
原因異常が軽度である場合にその後その異常が解消され
ているか否かを判断する解消判断手段fと、軽度の異常
が解消されていない場合に運転を停止する第2の停止手
段gと、軽度の異常が解消されている場合にプラズマト
ーチ1の再点灯を指令する再点灯指令手段hと、数回の
再点灯後のプラズマトーチ1が消灯した場合に運転を停
止する第3の停止手段iとを有する構成とした。
【0014】
【発明の実施の形態】図2ないし図4に基づいて本発明
の実施例を説明する。
の実施例を説明する。
【0015】図2は、本発明の実施形態に係るICP発
光分光分析装置のプラズマスタンド部分の構成図、図3
は、その一部である高周波電源およびそれに接続する安
全機構の構成図、図4は、前記プラズマスタンド部分の
消灯時の制御動作を示すフローチャートである。
光分光分析装置のプラズマスタンド部分の構成図、図3
は、その一部である高周波電源およびそれに接続する安
全機構の構成図、図4は、前記プラズマスタンド部分の
消灯時の制御動作を示すフローチャートである。
【0016】この実施形態のICP発光分光分析装置
は、図2に示すように、試料をプラズマ化して発光させ
るプラズマトーチ1と、このプラズマトーチ1での発光
を導入して各波長のスペクトル光に分光する分光部2
と、各波長のスペクトル光のうち特定の波長のスペクト
ル光を受光して測光する測光部3とを有している。
は、図2に示すように、試料をプラズマ化して発光させ
るプラズマトーチ1と、このプラズマトーチ1での発光
を導入して各波長のスペクトル光に分光する分光部2
と、各波長のスペクトル光のうち特定の波長のスペクト
ル光を受光して測光する測光部3とを有している。
【0017】前記のプラズマトーチ1はプラズマスタン
ド4内に設置されていて、このスタンド4内には、プラ
ズマトーチ1の誘導コイルに高周波電力を供給する高周
波電源5と、プラズマトーチ1の本体内に霧化した試料
とクーラントガス、プラズマガスを供給するガス流量制
御部6と、中央コントローラ7の制御のもとでこれらプ
ラズマスタンド4各部分の動作を制御するスタンドコン
トローラ8とが設けられている。
ド4内に設置されていて、このスタンド4内には、プラ
ズマトーチ1の誘導コイルに高周波電力を供給する高周
波電源5と、プラズマトーチ1の本体内に霧化した試料
とクーラントガス、プラズマガスを供給するガス流量制
御部6と、中央コントローラ7の制御のもとでこれらプ
ラズマスタンド4各部分の動作を制御するスタンドコン
トローラ8とが設けられている。
【0018】プラズマスタンド4内には、また、プラズ
マトーチ1の近傍にその消灯、点灯を検出する手段とし
て光電スイッチ9が配設されており、上部にはプラズマ
スタンド4内部の温度異常を検出するスタンド温度スイ
ッチ10が、ドアの開閉個所にはドアスイッチ11がそ
れぞれ取り付けられている。
マトーチ1の近傍にその消灯、点灯を検出する手段とし
て光電スイッチ9が配設されており、上部にはプラズマ
スタンド4内部の温度異常を検出するスタンド温度スイ
ッチ10が、ドアの開閉個所にはドアスイッチ11がそ
れぞれ取り付けられている。
【0019】前記の高周波電源5は、電源本体12と、
進行波、反射波を検出するディテクタ13と、インピー
ダンスの整合部14と、電源コントローラ15とからな
り、電源本体12から出力される高周波電力は、ディテ
クタ13および整合部14を介してプラズマトーチ1の
誘導コイルに与えられる。この高周波電源5には、その
温度異常を検出する手段として電源温度スイッチ16が
設けられている。また、電源コントローラ15は、高周
波電源5の電気的異常を検出する手段でもあって、ディ
テクタ13の検出信号を取り込むことで、進行波、反射
波が許容値を外れたこと、又、電源本体12からの信号
により最終段パワーアンプへの供給電圧、供給電流が許
容値を外れたことを検出する。
進行波、反射波を検出するディテクタ13と、インピー
ダンスの整合部14と、電源コントローラ15とからな
り、電源本体12から出力される高周波電力は、ディテ
クタ13および整合部14を介してプラズマトーチ1の
誘導コイルに与えられる。この高周波電源5には、その
温度異常を検出する手段として電源温度スイッチ16が
設けられている。また、電源コントローラ15は、高周
波電源5の電気的異常を検出する手段でもあって、ディ
テクタ13の検出信号を取り込むことで、進行波、反射
波が許容値を外れたこと、又、電源本体12からの信号
により最終段パワーアンプへの供給電圧、供給電流が許
容値を外れたことを検出する。
【0020】ガス流量制御部6は、ガスボンベ17から
のアルゴンガスをクーラントガス、プラズマガスとして
プラズマトーチ1に送るとともに、一部をネブライザ1
8に送り、このネブライザ18で試料を霧化してプラズ
マトーチ1に供給するようになっており、ガスボンベ1
7からのガス通路にはガス圧スイッチ19が設けられて
いる。
のアルゴンガスをクーラントガス、プラズマガスとして
プラズマトーチ1に送るとともに、一部をネブライザ1
8に送り、このネブライザ18で試料を霧化してプラズ
マトーチ1に供給するようになっており、ガスボンベ1
7からのガス通路にはガス圧スイッチ19が設けられて
いる。
【0021】さらに、誘導コイルは水冷管で作製されて
おり、この水冷管には、プラズマスタンド4外の冷却水
タンク20の冷却水が水ポンプ21により送水されるよ
うになっている。冷却水の通路途中には水圧スイッチ2
2が設けられている。
おり、この水冷管には、プラズマスタンド4外の冷却水
タンク20の冷却水が水ポンプ21により送水されるよ
うになっている。冷却水の通路途中には水圧スイッチ2
2が設けられている。
【0022】なお、図3に示すように、前記したスタン
ド温度スイッチ10や電源温度スイッチ16等の異常検
出手段は、高周波電源5に対して一組の安全機構23を
構成している。すなわち、スタンド温度スイッチ10、
スタンドドアスイッチ11、電源温度スイッチ16、ガ
ス圧スイッチ19および冷却水の水圧スイッチ22は、
高周波電源5に対して互いに直列に接続されており、い
ずれかが開となると、高周波電源5の出力を遮断するよ
うになっている。
ド温度スイッチ10や電源温度スイッチ16等の異常検
出手段は、高周波電源5に対して一組の安全機構23を
構成している。すなわち、スタンド温度スイッチ10、
スタンドドアスイッチ11、電源温度スイッチ16、ガ
ス圧スイッチ19および冷却水の水圧スイッチ22は、
高周波電源5に対して互いに直列に接続されており、い
ずれかが開となると、高周波電源5の出力を遮断するよ
うになっている。
【0023】次に、図4のフローチャートに基づいて、
プラズマトーチ消灯時におけるスタンドコントローラ8
の制御動作を説明する。
プラズマトーチ消灯時におけるスタンドコントローラ8
の制御動作を説明する。
【0024】スタンドコントローラ8は、この制御動作
をすることで、特許請求の範囲にいう記憶手段c、異常
判断手段d、即時停止手段e、解消判断手段f、第2の
停止手段g、再点灯指令手段hおよび第3の停止手段i
として機能する。
をすることで、特許請求の範囲にいう記憶手段c、異常
判断手段d、即時停止手段e、解消判断手段f、第2の
停止手段g、再点灯指令手段hおよび第3の停止手段i
として機能する。
【0025】スタンドコントローラ8は、ガス流量制御
部6からプラズマトーチ1に霧化した試料およびクーラ
ントガス、プラズマガスを供給するとともに、高周波電
源5からプラズマトーチ1の誘導コイルに所定の高周波
電力を与えることで、プラズマトーチ1を点灯させる。
そして、常時、光電スイッチ9を介してこの点灯状態を
監視しており(ステップS1)、点灯が継続している間
はメインルーチンに沿って点灯に対応した制御を行って
いるが、何らかの原因でプラズマトーチ1が消灯する
と、ステップS1から分岐して消灯時のルーチンに入
る。
部6からプラズマトーチ1に霧化した試料およびクーラ
ントガス、プラズマガスを供給するとともに、高周波電
源5からプラズマトーチ1の誘導コイルに所定の高周波
電力を与えることで、プラズマトーチ1を点灯させる。
そして、常時、光電スイッチ9を介してこの点灯状態を
監視しており(ステップS1)、点灯が継続している間
はメインルーチンに沿って点灯に対応した制御を行って
いるが、何らかの原因でプラズマトーチ1が消灯する
と、ステップS1から分岐して消灯時のルーチンに入
る。
【0026】ところで、プラズマトーチ消灯の原因とな
る異常は多数あるが、本発明では、その原因異常を、装
置の破損を引き起こすような重度の異常と、そうでない
軽度の異常とに区分けし、その軽重により異なる対応を
とるようにしている。原因異常の主なものについてその
重度、軽度の別を述べると、次の通りである。
る異常は多数あるが、本発明では、その原因異常を、装
置の破損を引き起こすような重度の異常と、そうでない
軽度の異常とに区分けし、その軽重により異なる対応を
とるようにしている。原因異常の主なものについてその
重度、軽度の別を述べると、次の通りである。
【0027】(イ)安全機構23により検出される異常 具体的には、プラズマスタンド4内の高温(スタンド
温度スイッチ10で検出)、高周波電源5の高温(電
源温度スイッチ16で検出)、アルゴンガスの圧力低
下(ガス圧スイッチ19で検出)、プラズマスタンド
4のドア開放(スタンドドアスイッチ11で検出)、
プラズマトーチ1の誘導コイル冷却水の流通停止(水圧
スイッチ22で検出)。
温度スイッチ10で検出)、高周波電源5の高温(電
源温度スイッチ16で検出)、アルゴンガスの圧力低
下(ガス圧スイッチ19で検出)、プラズマスタンド
4のドア開放(スタンドドアスイッチ11で検出)、
プラズマトーチ1の誘導コイル冷却水の流通停止(水圧
スイッチ22で検出)。
【0028】これらの異常の中には、重大な故障、破損
を引き起こす可能性を有するものもあるが、若干の時間
が経過した後、自動的に解消されて正常に戻っているよ
うな場合は軽度の異常とする。
を引き起こす可能性を有するものもあるが、若干の時間
が経過した後、自動的に解消されて正常に戻っているよ
うな場合は軽度の異常とする。
【0029】(ロ)高周波電源5での電気的異常 高周波電源5の電源本体12内の最終段パワーアップ回
路への供給電圧、供給電流、およびディテクタ13にて
検出された進行波、反射波が初期に設定された許容値を
越えることがある。その原因は、高周波電源5自体の故
障で生じる場合と、高周波電源5以外の回路での故障に
より発生するものとがあり、いずれの場合も放置すれば
高周波電源5の破損を引き起こすおそれがあり、重度の
異常とする。
路への供給電圧、供給電流、およびディテクタ13にて
検出された進行波、反射波が初期に設定された許容値を
越えることがある。その原因は、高周波電源5自体の故
障で生じる場合と、高周波電源5以外の回路での故障に
より発生するものとがあり、いずれの場合も放置すれば
高周波電源5の破損を引き起こすおそれがあり、重度の
異常とする。
【0030】(ハ)アルゴンガスの配管系にエアが混入
した場合 ガス圧スイッチ22では検出できない異常である。エア
混入が一時的なものであれば、自動的に解消され再点灯
が可能である。したがって軽度の異常とする。
した場合 ガス圧スイッチ22では検出できない異常である。エア
混入が一時的なものであれば、自動的に解消され再点灯
が可能である。したがって軽度の異常とする。
【0031】(ニ)装置への供給電源の瞬間停電、電圧
降下 これらの異常は、一時的なものであれば再点灯が可能
で、また、再点灯を試みても特に支障は生じない。した
がって、軽度の異常とする。
降下 これらの異常は、一時的なものであれば再点灯が可能
で、また、再点灯を試みても特に支障は生じない。した
がって、軽度の異常とする。
【0032】このように、プラズマトーチ消灯の原因と
なる異常には、それぞれ重度、軽度の評価が付けられ
て、スタンドコントローラ8に予め記憶されている。
なる異常には、それぞれ重度、軽度の評価が付けられ
て、スタンドコントローラ8に予め記憶されている。
【0033】ステップS1でプラズマトーチ消灯と判断
されると、点灯時のメインルーチンから分岐して、ステ
ップS2以下の消灯時のルーチンに入り、ステップS2
では、その原因がどのような異常か、すなわち前記
(イ)安全機構23により検出される異常か、(ロ)高
周波電源5での電気的異常か等々を識別できるように、
プラズマが消灯する直前の各センサやスイッチ10,1
1,13,16,…の出力をラッチする。
されると、点灯時のメインルーチンから分岐して、ステ
ップS2以下の消灯時のルーチンに入り、ステップS2
では、その原因がどのような異常か、すなわち前記
(イ)安全機構23により検出される異常か、(ロ)高
周波電源5での電気的異常か等々を識別できるように、
プラズマが消灯する直前の各センサやスイッチ10,1
1,13,16,…の出力をラッチする。
【0034】次のステップS3では、その原因異常が前
記(ロ)の重度の異常か否かを判断し、重度の異常であ
れば、危険な結果を招く可能性が大であるから、ステッ
プS4に移って、即時に装置全体の運転を停止する。
記(ロ)の重度の異常か否かを判断し、重度の異常であ
れば、危険な結果を招く可能性が大であるから、ステッ
プS4に移って、即時に装置全体の運転を停止する。
【0035】ステップS3で、原因異常が前記(ロ)以
外の軽度の異常であると判断されると、ステップS5以
下のルーチンに移って、軽度の異常の態様を調べるとと
もに、その態様に応じた動作を決定するのである。
外の軽度の異常であると判断されると、ステップS5以
下のルーチンに移って、軽度の異常の態様を調べるとと
もに、その態様に応じた動作を決定するのである。
【0036】まず、ステップS5では、プラズマトーチ
1の再点灯の回数が所定回以下か否かを判断する。再点
灯は以後のステップで指令されることで、消灯を検出し
た直後では、まだ再点灯は試みられておらず、再点灯の
回数は所定回以下である。再点灯の回数が所定回を越え
れば、異常解消の見込みがないものと判断して、ステッ
プS6に移って運転を停止するが、所定回以下では、ス
テップS7に移る。
1の再点灯の回数が所定回以下か否かを判断する。再点
灯は以後のステップで指令されることで、消灯を検出し
た直後では、まだ再点灯は試みられておらず、再点灯の
回数は所定回以下である。再点灯の回数が所定回を越え
れば、異常解消の見込みがないものと判断して、ステッ
プS6に移って運転を停止するが、所定回以下では、ス
テップS7に移る。
【0037】ステップS7では時間待ちをする。これ
は、異常がコイル冷却水の配管系にエアが混入し、水圧
スイッチが動作したような一時的なもので、自動的に正
常に復帰する可能性がある場合に、その自動復帰を待つ
ためのステップである。そして、この待ち時間が経過す
ると、ステップS8に進む。
は、異常がコイル冷却水の配管系にエアが混入し、水圧
スイッチが動作したような一時的なもので、自動的に正
常に復帰する可能性がある場合に、その自動復帰を待つ
ためのステップである。そして、この待ち時間が経過す
ると、ステップS8に進む。
【0038】このステップS8では、安全機構23で検
出された異常が解消されたか否か、すなわち安全機構2
3に含まれるスイッチのいずれかが開のままか否かを判
断する。ここで、安全機構23が異常を検出している状
態にあれば、当初原因異常として検出された異常は解消
されておらず、正常に復帰していないから、その状態で
再点灯を試みることはできない。そこで、その場合はス
テップS9に進み、装置全体の運転を停止する。
出された異常が解消されたか否か、すなわち安全機構2
3に含まれるスイッチのいずれかが開のままか否かを判
断する。ここで、安全機構23が異常を検出している状
態にあれば、当初原因異常として検出された異常は解消
されておらず、正常に復帰していないから、その状態で
再点灯を試みることはできない。そこで、その場合はス
テップS9に進み、装置全体の運転を停止する。
【0039】一方、ステップS8において、安全機構2
3はもはや異常を検出していないと判断されると、安全
機構23により検出された異常は解消されて正常に復帰
していると見ることができる。その場合はステップS8
からステップS10に移り、そのステップでプラズマト
ーチ1の再点灯の指令を出す。そして、次のステップS
11で、再点灯の回数に「1」を加算して、ステップS
1に戻る。
3はもはや異常を検出していないと判断されると、安全
機構23により検出された異常は解消されて正常に復帰
していると見ることができる。その場合はステップS8
からステップS10に移り、そのステップでプラズマト
ーチ1の再点灯の指令を出す。そして、次のステップS
11で、再点灯の回数に「1」を加算して、ステップS
1に戻る。
【0040】このように再点灯を試みて、プラズマトー
チ1が直ちに点灯されれば、ステップS1の判断が変わ
り、点灯時のメインルーチンに戻り、分光分析が再開さ
れることになる。再点灯後、再びプラズマトーチ1が消
灯した場合、ステップS1から再点灯指示のステップS
11に至るルーチンを繰り返すことになり、その度毎に
再点灯の回数がカウントアップされる。
チ1が直ちに点灯されれば、ステップS1の判断が変わ
り、点灯時のメインルーチンに戻り、分光分析が再開さ
れることになる。再点灯後、再びプラズマトーチ1が消
灯した場合、ステップS1から再点灯指示のステップS
11に至るルーチンを繰り返すことになり、その度毎に
再点灯の回数がカウントアップされる。
【0041】そして、その再点灯の回数が所定回を越え
ると、ステップS5での判断が変わる。これは、再点灯
を所定回試みてもプラズマトーチ1が消灯したことを示
すもので、それ以上再点灯を試みても原因が解消される
可能性は少なく、また、危険でもある。その場合は、ス
テップS5からステップS6に移り、装置全体の運転を
停止する。
ると、ステップS5での判断が変わる。これは、再点灯
を所定回試みてもプラズマトーチ1が消灯したことを示
すもので、それ以上再点灯を試みても原因が解消される
可能性は少なく、また、危険でもある。その場合は、ス
テップS5からステップS6に移り、装置全体の運転を
停止する。
【0042】以上のように、プラズマトーチ消灯の原因
である異常が、高周波電源5の電気的変動のような重度
の異常である場合は、即時に運転が停止される。
である異常が、高周波電源5の電気的変動のような重度
の異常である場合は、即時に運転が停止される。
【0043】原因異常が軽度の異常で、安全機構23に
より検出されるものである場合は、その後の様子を観察
した上で、異常が自動的に解消されていなければ、その
時点で運転が停止される。安全機構23により検出され
ている原因異常が、自動的に解消され正常に復帰してい
る場合は、再点灯が試みられる。そして、この再点灯に
よりプラズマトーチ1が点灯されれば、点灯時のメイン
ルーチンに戻ることになるが、再点灯を所定回試みて
も、プラズマトーチ1が消灯する場合は、点検、修理を
必要とする異常が存在しているわけで、装置の運転が停
止される。当然のことながら、各回での消灯原因は、中
央コントローラに記憶され、点検後修理のための情報と
して役立てられるなお、上記の実施例では、ICP発光
分光分析装置のプラズマスタンド4についてプラズマト
ーチ1の消灯に対応する構成、制御動作を説明したが、
このような構成、制御動作は、ICP質量分析装置のプ
ラズマトーチについても適用することができる。
より検出されるものである場合は、その後の様子を観察
した上で、異常が自動的に解消されていなければ、その
時点で運転が停止される。安全機構23により検出され
ている原因異常が、自動的に解消され正常に復帰してい
る場合は、再点灯が試みられる。そして、この再点灯に
よりプラズマトーチ1が点灯されれば、点灯時のメイン
ルーチンに戻ることになるが、再点灯を所定回試みて
も、プラズマトーチ1が消灯する場合は、点検、修理を
必要とする異常が存在しているわけで、装置の運転が停
止される。当然のことながら、各回での消灯原因は、中
央コントローラに記憶され、点検後修理のための情報と
して役立てられるなお、上記の実施例では、ICP発光
分光分析装置のプラズマスタンド4についてプラズマト
ーチ1の消灯に対応する構成、制御動作を説明したが、
このような構成、制御動作は、ICP質量分析装置のプ
ラズマトーチについても適用することができる。
【0044】
【発明の効果】本発明は、プラズマトーチ消灯の原因と
なる異常を重度のものと軽度のものとに区分けして、そ
の異常の軽重により異なる対応をとるようにしたもの
で、軽度で自動的に正常に復帰するような異常に対して
は、プラズマトーチの再点灯を試みるようにしているか
ら、プラズマトーチ消灯による分析の中断をできるだけ
少なくすることができ、装置の稼働率が高まる。
なる異常を重度のものと軽度のものとに区分けして、そ
の異常の軽重により異なる対応をとるようにしたもの
で、軽度で自動的に正常に復帰するような異常に対して
は、プラズマトーチの再点灯を試みるようにしているか
ら、プラズマトーチ消灯による分析の中断をできるだけ
少なくすることができ、装置の稼働率が高まる。
【図1】本発明の特許請求の範囲対応図である。
【図2】本発明の実施形態に係るICP発光分光分析装
置のプラズマスタンド部分の構成図である。
置のプラズマスタンド部分の構成図である。
【図3】上記プラズマスタンド部分の一部である高周波
電源およびそれに接続する安全機構の構成図である。
電源およびそれに接続する安全機構の構成図である。
【図4】上記プラズマスタンド部分の消灯時の制御動作
を示すフローチャートである。
を示すフローチャートである。
【図5】従来のICP発光分光分析装置の概略構成図で
ある。
ある。
【図6】上記従来装置の外観を示す正面図である。
1…プラズマトーチ、 5…高周波電源、 6…トーチ
導入部、8…スタンドコントローラ。
導入部、8…スタンドコントローラ。
Claims (2)
- 【請求項1】 プラズマトーチと、その高周波電源と、
ガスとともに試料をプラズマ点灯トーチに供給するガス
流量制御部とを備えたICP分析装置において、 プラズマ点灯に関連する各部分の異常を検出する異常検
出手段と、 プラズマトーチの消灯を検出する消灯検出手段と、 プラズマトーチの消灯の原因となる異常を重度のものと
その他軽度のものとに区別して記憶する記憶手段と、 プラズマトーチの消灯に伴いその原因となる異常が重度
か否かを判断する異常判断手段と、 原因異常が重度である場合に運転を即時に停止する即時
停止手段と、 原因異常が軽度である場合にその後その異常が解消され
ているか否かを判断する解消判断手段と、 軽度の異常が解消されていない場合に運転を停止する第
2の停止手段と、 軽度の異常が解消されている場合にプラズマトーチの再
点灯を指令する再点灯指令手段と、 数回の再点灯の後、プラズマトーチが消灯した場合に運
転を停止する第3の停止手段と、 を有することを特徴とするICP分析装置。 - 【請求項2】 プラズマトーチの消灯の原因となる重度
の異常は、プラズマ消灯直前で高周波電源内部の最終段
パワーアンプへの供給電圧、供給電流、および高周波電
源内部のディテクタにより検出された進行波、反射波が
初期に設定された許容値を外れた状態になったことによ
り判断するものである、請求項1に記載のICP分析装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8345354A JPH10189292A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | Icp分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8345354A JPH10189292A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | Icp分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10189292A true JPH10189292A (ja) | 1998-07-21 |
Family
ID=18376037
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8345354A Pending JPH10189292A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | Icp分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10189292A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004039313A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Toshiba Microelectronics Corp | Icp質量分析装置及びその分析方法 |
JP2007093578A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
JP2007205898A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
JP2007205899A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
JP2007220501A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Noritsu Koki Co Ltd | プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 |
JP2007227071A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Noritsu Koki Co Ltd | プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 |
JP2007305580A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-22 | New Power Plasma Co Ltd | プラズマ処理システム及びその制御方法 |
JP2007316039A (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Shimadzu Corp | Icp発光分光分析装置 |
JP2008152552A (ja) * | 2006-12-18 | 2008-07-03 | Hitachi Ltd | 計算機システム及び障害情報管理方法 |
US7976672B2 (en) | 2006-02-17 | 2011-07-12 | Saian Corporation | Plasma generation apparatus and work processing apparatus |
JP2016189295A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 |
JP2020159949A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 高周波供給装置及び高周波電力の供給方法 |
CN114096815A (zh) * | 2019-07-31 | 2022-02-25 | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 | 用于icp炬箱的滑动门组合件 |
-
1996
- 1996-12-25 JP JP8345354A patent/JPH10189292A/ja active Pending
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004039313A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Toshiba Microelectronics Corp | Icp質量分析装置及びその分析方法 |
JP2007093578A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
JP2007205898A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
JP2007205899A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
US7976672B2 (en) | 2006-02-17 | 2011-07-12 | Saian Corporation | Plasma generation apparatus and work processing apparatus |
JP2007220501A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Noritsu Koki Co Ltd | プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 |
JP2007227071A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Noritsu Koki Co Ltd | プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 |
JP2007305580A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-22 | New Power Plasma Co Ltd | プラズマ処理システム及びその制御方法 |
JP2007316039A (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Shimadzu Corp | Icp発光分光分析装置 |
JP2008152552A (ja) * | 2006-12-18 | 2008-07-03 | Hitachi Ltd | 計算機システム及び障害情報管理方法 |
JP2016189295A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 |
JP2020159949A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 高周波供給装置及び高周波電力の供給方法 |
CN111756338A (zh) * | 2019-03-27 | 2020-10-09 | 东京毅力科创株式会社 | 高频供给装置和高频电功率的供给方法 |
CN111756338B (zh) * | 2019-03-27 | 2025-02-14 | 东京毅力科创株式会社 | 高频供给装置和高频电功率的供给方法 |
CN114096815A (zh) * | 2019-07-31 | 2022-02-25 | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 | 用于icp炬箱的滑动门组合件 |
JP2022542066A (ja) * | 2019-07-31 | 2022-09-29 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック (ブレーメン) ゲーエムベーハー | Icpトーチボックス用のスライディングドア組立体 |
US12146791B2 (en) | 2019-07-31 | 2024-11-19 | Thermo Fisher Scientific (Bremen) Gmbh | Sliding door assembly for an ICP torch box |
CN114096815B (zh) * | 2019-07-31 | 2025-01-28 | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 | 用于icp炬箱的滑动门组合件 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH10189292A (ja) | Icp分析装置 | |
US7586969B2 (en) | Method for discriminating anomaly in gas composition and discharge excitation type gas laser oscillator | |
JPH1014082A (ja) | 遮断器の操作回路 | |
US3965920A (en) | Installations for monitoring oil content | |
EP3467474B1 (en) | Detector protection in an optical emission spectrometer | |
JP4595875B2 (ja) | Icp分析装置 | |
US4906582A (en) | Emission analysis method with inductively-coupled radio frequency plasma and apparatus for use in such method | |
EP0182258A2 (en) | Method and apparatus for shutting down the burner of a flame atomic absorption spectrophotometer | |
EP3654739A1 (en) | Plasma generating device, light emission analysis device and mass analysis device comprising said plasma generating device, and device status evaluation method | |
US5579104A (en) | Apparatus applied to spectroscopy | |
JP4023046B2 (ja) | フレーム原子吸光分析装置 | |
US6795180B2 (en) | Spectrophotometer | |
JP2005221397A (ja) | 原子吸光光度計 | |
US8541948B2 (en) | Operating device and method for operating at least one Hg low pressure discharge lamp | |
KR100798023B1 (ko) | 다단 공기 공급 연소 시스템의 제어 장치 | |
JPH0781952B2 (ja) | 発光分析装置 | |
JPH11166722A (ja) | 不完全燃焼防止装置 | |
JPH10106483A (ja) | Icp分析装置 | |
EP4202412B1 (en) | Atomic absorption spectrophotometer and control method for atomic absorption spectrophotometer | |
KR0121093B1 (ko) | 플라즈마 아크 전원제어장치 | |
JPH07282771A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ分析計のプラズマ点火方法 | |
JPH0627083A (ja) | 誘導結合プラズマ質量分析装置 | |
JPH10162993A (ja) | 誘導結合プラズマ装置 | |
JP2007205899A (ja) | Icp分析装置 | |
KR100703868B1 (ko) | 다단 공기 공급 연소 시스템의 제어 방법 |