JPH10186636A - Laser-direct waterless photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Laser-direct waterless photosensitive lithographic printing plate

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Publication number
JPH10186636A
JPH10186636A JP8345214A JP34521496A JPH10186636A JP H10186636 A JPH10186636 A JP H10186636A JP 8345214 A JP8345214 A JP 8345214A JP 34521496 A JP34521496 A JP 34521496A JP H10186636 A JPH10186636 A JP H10186636A
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JP
Japan
Prior art keywords
silicone rubber
rubber layer
lithographic printing
printing plate
weight
Prior art date
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Pending
Application number
JP8345214A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyoshi Urano
年由 浦野
Etsuko Hino
悦子 檜野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP8345214A priority Critical patent/JPH10186636A/en
Publication of JPH10186636A publication Critical patent/JPH10186636A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser-direct waterless photosensitive lithographic printing plate having excellent ink repelling property and reproducibility of images under high printing pressure and high temp. printing conditions or under printing conditions for lots of sheets. SOLUTION: This laser-direct waterless photosensitive lithographic printing plate consists of a substrate and a photosensitive layer containing at least an absorbent for near IR rays and a silicone rubber layer formed on the substrate in this order. The silicone rubber layer contains (a) linear organopolysiloxane having hydroxyl groups on both molecular ends by not less than 60wt.% nor more than 98wt.% of the whole solid content of the silicone rubber layer, (b) reactive silane compd. by not less than 1wt.% nor more than 20wt.% of the whole solid content of the silicone rubber layer and (c) organopolysiloxane having at least two Si-H bonds in one molecule by not less than 0.1wt.% nor more than 20wt.% of the whole solid content of the silicone rubber layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はデジタル画像データ
から近赤外半導体レーザーを用い、直接、印刷版を形成
し得るレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版
に関する。更に詳しくは、基板上に感光層、シリコーン
ゴム層をこの順に塗設して成るレーザーダイレクト湿し
水不要感光性平版印刷版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser direct dampening solution-free photosensitive lithographic printing plate capable of forming a printing plate directly from digital image data using a near-infrared semiconductor laser. More specifically, the present invention relates to a laser direct dampening solution-free photosensitive lithographic printing plate comprising a substrate and a photosensitive layer and a silicone rubber layer applied in this order.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、近赤外半導体レーザー及びコンピ
ュータを用いるデジタル画像処理技術の進歩に伴い、コ
ンピュータ上で形成されたデジタル画像データから印刷
版用銀塩フィルムを用いることなしに直接感光性平版印
刷版上に近赤外半導体レーザーで走査露光を行い、露光
部分を不溶化した後水溶液現像処理(湿式現像処理)に
より画像を形成し製版する、あるいは露光部分を劣化さ
せ、または昇華、溶融させ除去する(乾式現像処理)こ
とにより画像を形成し製版する、レーザーダイレクト製
版技術が注目されている。特に、水と印刷インクのバラ
ンスを考える必要が無く、印刷操作が容易で、印刷初期
の損紙が少なく、印刷時間の短い、湿し水不要デジタル
印刷システムは、デジタル画像データから短時間で容易
に印刷物を作製することが出来るため、新しい印刷シス
テムとして期待されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the progress of digital image processing technology using a near-infrared semiconductor laser and a computer, a photosensitive lithographic plate has been directly used from digital image data formed on a computer without using a silver halide film for a printing plate. The printing plate is subjected to scanning exposure with a near-infrared semiconductor laser to insolubilize the exposed portion and then form an image by aqueous solution development (wet development) to form a plate, or to deteriorate, sublimate, melt, and remove the exposed portion. Laser direct plate making technology, in which an image is formed by performing a dry development process to make a plate, has attracted attention. In particular, there is no need to consider the balance between water and printing ink, the printing operation is easy, there is little wasted paper at the beginning of printing, and the printing time is short. It is expected as a new printing system because it can produce printed matter.

【0003】該湿し水不要デジタル印刷システムに使用
される、レーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷
版に関しては、種々の試みがなされているが、例えば、
(イ)支持体上に感光性層、シリコーンゴム層をこの順
に塗設し、感光性層の露光部のアブレーションにより生
ずる熱に応答して、シリコーンゴム層を、同時に溶融、
揮発あるいは燃焼等により除去するもの(特開平7−1
64773、同6−186750、同6−19906
4、同7−309001)、(ロ)感光性層の露光部の
アブレーションにより生ずる熱に応答して、シリコーン
ゴム層を劣化させ、支持体との接着性を低下させた後擦
り取るもの(特開平6−55723、同6−5586
9、同6−92050)、(ハ)シリコーンゴム層を設
けた支持体上に、インク着肉性のトナー画像を電子写真
法により形成させるもの(特開昭51−66008)等
が知られている。これらのうち(イ)の方式が、画像形
成処理が最も簡便であり、また通常画質もより優れたも
のが得られ易いのでより好適と考えられている。
[0003] Various attempts have been made with respect to a laser-direct fountain-free photosensitive lithographic printing plate used in the fountain-free digital printing system.
(A) A photosensitive layer and a silicone rubber layer are applied in this order on a support, and the silicone rubber layer is simultaneously melted in response to heat generated by ablation of an exposed portion of the photosensitive layer.
Removed by volatilization or combustion (Japanese Patent Laid-Open No. 7-1
64773, 6-186750, 6-19906
(B) 7-309001), (b) those in which the silicone rubber layer is degraded in response to the heat generated by ablation of the exposed portion of the photosensitive layer, the adhesiveness to the support is reduced, and then the silicone rubber layer is scraped off. Kaihei 6-55723, 6-5586
9, 6-92050) and (c) a method of forming an ink-adhesive toner image on a support provided with a silicone rubber layer by an electrophotographic method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-66008). I have. Among these methods, the method (a) is considered to be more preferable because the image forming process is the simplest and the image with the normal image quality is easily obtained.

【0004】しかしながら、上記(イ)の方式のアブレ
ーションを利用するレーザーダイレクト湿し水不要感光
性平版印刷版は、シリコーンゴム層の印刷インク反撥性
と耐刷性(耐久性)を良好に維持しつつ、同時にアブレ
ーションの際のシリコーンゴム層除去性が必要とされ
る。そこで、耐印刷性を向上させる目的で、シリコーン
ゴム層の膜厚を上げ、シリコーンゴム層膜強度の向上を
図ると感度、画像再現性等の印刷適性の低下する傾向に
あり問題であった。
However, a photosensitive lithographic printing plate which does not require laser dampening water using the ablation method of the above-mentioned method (a) maintains good printing ink repellency and printing durability (durability) of the silicone rubber layer. At the same time, the silicone rubber layer must be removable at the time of ablation. Therefore, if the thickness of the silicone rubber layer is increased to improve the print resistance and the strength of the silicone rubber layer is improved, the printability such as sensitivity and image reproducibility tends to decrease, which is a problem.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は感度、画像再
現性が高く、シリコーンゴム層の印刷インク反撥性及び
耐印刷性に優れたレーザーダイレクト湿し水不要感光性
平版印刷版を提供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention aims to provide a laser direct dampening solution-free photosensitive lithographic printing plate having high sensitivity, high image reproducibility, and excellent printing ink repellency and printing resistance of a silicone rubber layer. Is what you do.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明の要旨は、
基板上に、該基板から少なくとも近赤外吸収剤を含有す
る感光性層、及びシリコーンゴム層をこの順に有するレ
ーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版におい
て、前記シリコーンゴム層が、(a)シリコーンゴム層
の全固形分に対し60重量%以上98重量%未満の、両
末端に水酸基を有する線状オルガノポリシロキサン、
(b)シリコーンゴム層の全固形分に対し1重量%以上
20重量%未満の、反応性シラン化合物、及び(c)シ
リコーンゴム層の全固形分に対し0.1重量%以上20
重量%未満の、1分子中にSi−H結合を少なくとも2
個有するオルガノポリシロキサンを含有することを特徴
とするレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版
に存する。
That is, the gist of the present invention is as follows.
In a laser-direct fountain-free photosensitive lithographic printing plate having, in this order, a photosensitive layer containing at least a near-infrared absorber from the substrate and a silicone rubber layer on the substrate, the silicone rubber layer comprises (a) 60% by weight or more and less than 98% by weight, based on the total solid content of the silicone rubber layer, of a linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends,
(B) 1% by weight or more and less than 20% by weight of the reactive silane compound based on the total solid content of the silicone rubber layer, and (c) 0.1% by weight or more and 20% or more based on the total solid content of the silicone rubber layer.
At least 2% by weight of Si—H bonds in one molecule.
The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate requiring no laser dampening solution, which comprises an organopolysiloxane having a plurality of organopolysiloxanes.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下本発明を更に詳細に説明す
る。本発明において用いられる基板としては、通常の平
板印刷機にセットできるたわみ性を有し、印刷時にかか
る荷重に耐えうるものであればいかなるものも用いるこ
とができ、層構成も含めて特に限定されない。例えば、
コート紙(樹脂加工紙、合成紙)などの紙類、アルミニ
ウム板などの金属板、あるいは、ポリエチレンテレフタ
レートなどのプラスチックフィルムを例として挙げるこ
とができる。これらのうち、好ましい基板の具体例とし
ては、例えば50μm〜500μmの合成紙、樹脂加工
紙、ポリエチレンテレフタレートシート、アルミ板、あ
るいは前記基板に、20〜100μmのポリエチレンテ
レフタレートシート、発泡ポリエチレンテレフタレート
シート、ポリプロピレンシート、発泡ポリプロピレンシ
ート、ポリエチレンシートあるいは発泡ポリエチレンシ
ートをラミネートした複合基板が挙げられる。更に、こ
の複合基板の裏面に、補強層として、100μm〜50
0μmのアルミ板をラミネートしたものが挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. As the substrate used in the present invention, any substrate can be used as long as it has flexibility that can be set in a normal lithographic printing machine and can withstand the load applied during printing, and is not particularly limited, including the layer configuration. . For example,
Examples include papers such as coated paper (resin-processed paper and synthetic paper), metal plates such as aluminum plates, and plastic films such as polyethylene terephthalate. Among these, specific examples of preferable substrates include, for example, synthetic paper, resin-treated paper, polyethylene terephthalate sheet, aluminum plate of 50 μm to 500 μm, or 20 to 100 μm polyethylene terephthalate sheet, foamed polyethylene terephthalate sheet, polypropylene Examples include a sheet, a foamed polypropylene sheet, a polyethylene sheet, or a composite substrate obtained by laminating a foamed polyethylene sheet. Further, on the back surface of the composite substrate, as a reinforcing layer,
What laminated | stacked the aluminum plate of 0 micrometer is mentioned.

【0008】該基板の板厚は通常10μm〜1mm、好
ましくは20μm〜0.5mmである。本発明において
用いられる感光性層は、近赤外レーザー光を効率よく吸
収、熱に変換し感光性層のアブレーションを起こし感光
性層を除去すると同時に、それによって生ずる熱に応答
してシリコーンゴム層のアブレーションを誘引し、溶
融、揮発あるいは燃焼させ、及び/または、感光性層の
アブレーションの際の圧力により、これを除去せしめる
機能を有する近赤外吸収剤を含有する。
The thickness of the substrate is usually 10 μm to 1 mm, preferably 20 μm to 0.5 mm. The photosensitive layer used in the present invention efficiently absorbs near-infrared laser light, converts it into heat, causes ablation of the photosensitive layer and removes the photosensitive layer, and at the same time, responds to the heat generated by the silicone rubber layer. Contains a near-infrared absorbing agent having a function of inducing ablation, melting, volatilizing or burning, and / or removing the photosensitive layer by pressure during ablation.

【0009】該近赤外吸収剤は近赤外光を吸収し、光エ
ネルギーを熱エネルギーに変換する機能を有するもので
あれば特に限定することなく用いることが出来るが、具
体的には、有機、無機の顔料、有機の色素、金属等を挙
げることが出来る。さらに具体的には、例えばカーボン
ブラック(三菱化学社の製品であるMA−7、MA−1
00、MA−220、#5、#10、デグッサ社の製品
であるカラーブラックFW2、FW20、プリンテック
スVなど);黒鉛;チタン、クロム等の金属;酸化チタ
ン(三菱マテリアル社製、チタンブラック13M等)、
酸化スズ、酸化亜鉛、酸化バナジウム、酸化タングステ
ン等の金属酸化物;チタンカーバイト等の金属炭化物;
金属ホウ化物;特開平4−322219号公報に記載さ
れている無機黒色顔料、アゾ系のブラック顔料、リオノ
ールグリーン2YS、緑色顔料7などの黒、緑などの有
機顔料が用いられる。また、「特殊機能色素」(池森・
住谷編集、1986年(株)シーエムシー発行)、「機
能性色素の化学」(檜垣編集、1981年(株)シーエ
ムシー発行)、「色素ハンドブック」(大河、平嶋、松
岡、北尾編集、講談社発行)、(株)日本感光色素研究
所が1995年に発行したカタログ及びExciton
Inc.が1989年に発行したレーザー色素カタロ
グ等に記載されている近赤外領域に吸収を有する色素も
用いられる。更には特開平3−97590、同9759
1、同63185、同26593、同97589、特開
平2−2074、同2075、同2076等に記載され
ている近赤外領域に吸収を有する有機色素、日本化薬社
製IR820B等の近赤外領域に吸収を有する色素も用
いられる。このような近赤外領域に吸収を有する色素の
いくつかを下記の第1表に例示する。
The near-infrared absorbing agent can be used without any particular limitation as long as it has a function of absorbing near-infrared light and converting light energy into heat energy. And inorganic pigments, organic pigments, metals and the like. More specifically, for example, carbon black (MA-7, MA-1 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
00, MA-220, # 5, # 10, color black FW2, FW20, Printex V, etc., products of Degussa; graphite; metals such as titanium and chromium; titanium oxide (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, titanium black 13M) etc),
Metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, vanadium oxide, and tungsten oxide; metal carbides such as titanium carbide;
Metal borides: Organic pigments such as black and green such as inorganic black pigments, azo black pigments, lionol green 2YS, and green pigments 7 described in JP-A-4-322219 are used. In addition, "special functional dyes" (Ikemori
Edited by Sumitani, published by CMC in 1986), "Chemicals of Functional Dyes" (edited by Higaki, published by CMC in 1981), "Dye Handbook" (edited by Okawa, Hirashima, Matsuoka, Kitao, published by Kodansha ), Catalog published by Japan Photographic Dye Laboratories, Inc. in 1995 and Exciton
Inc. And dyes having absorption in the near-infrared region described in Laser Dye Catalog published in 1989. Further, JP-A-3-97590 and JP-A-9759
Organic dyes having absorption in the near-infrared region described in JP-A-2-2074, JP-A-2075, JP-A-2076 and the like, and near-infrared rays such as IR820B manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Dyes having absorption in the region are also used. Some of such dyes having absorption in the near infrared region are exemplified in Table 1 below.

【0010】[0010]

【表1】 [Table 1]

【0011】[0011]

【表2】 [Table 2]

【0012】[0012]

【表3】 [Table 3]

【0013】[0013]

【表4】 [Table 4]

【0014】[0014]

【表5】 [Table 5]

【0015】[0015]

【表6】 [Table 6]

【0016】[0016]

【表7】 [Table 7]

【0017】[0017]

【表8】 [Table 8]

【0018】[0018]

【表9】 [Table 9]

【0019】[0019]

【表10】S−34 ポリメチン色素;IR−820B(日本火薬社
製)S−35 ニグロシン色素;Colour Index Solvent Black
5S−36 ニグロシン色素;Colour Index Solvent Black
7S−37 ニグロシン色素;Colour Index Acid Black 2S−38 カーボンブラック;MA−100 (三菱化学社
製)S−39 一酸化チタン;チタンブラック13M(三菱マ
テリアル社製)S−40 一酸化チタン;チタンブラック13B(三菱マ
テリアル社製)
Table 10 S-34 polymethine dye; IR-820B (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) S-35 nigrosine dye; Color Index Solvent Black
5 S-36 Nigrosine dye; Color Index Solvent Black
7 S-37 nigrosine dye; Color Index Acid Black 2 S-38 carbon black; MA-100 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) S-39 titanium monoxide; titanium black 13M (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation) S-40 titanium monoxide; Titanium black 13B (Mitsubishi Materials Corporation)

【0020】[0020]

【表11】 [Table 11]

【0021】[0021]

【表12】 [Table 12]

【0022】これら光吸収剤は、単独あるいは複数混合
し、感光性層塗布溶液中に溶解又は、分散させて配合
し、用いることができる。該近赤外吸収剤を配合する場
合、感光性層中での配合率は、全感光性層固形分の5〜
100重量%、好ましくは10〜98重量%、更に好ま
しくは20〜95重量%である。また、該近赤外吸収剤
を直接基板上に蒸着等を行い、近赤外吸収剤から成る感
光性層を設けることもできる。この場合は、膜厚として
0.01〜0.5μm、好ましくは0.02〜0.4μ
mである。本発明で用いられる感光性層中には、上記近
赤外吸収剤の他に、塗膜性、近赤外吸収剤との相溶性、
感光性層中の膜強度、及びアブレーションの効果を高め
る目的で、有機高分子物質を添加することができる。
These light absorbers can be used alone or as a mixture of two or more, dissolved or dispersed in a photosensitive layer coating solution, and used. When compounding the near-infrared absorber, the compounding ratio in the photosensitive layer is 5 to 5% of the solid content of the entire photosensitive layer.
It is 100% by weight, preferably 10 to 98% by weight, more preferably 20 to 95% by weight. Alternatively, the near infrared absorbing agent may be directly deposited on a substrate by vapor deposition or the like to provide a photosensitive layer composed of the near infrared absorbing agent. In this case, the film thickness is 0.01 to 0.5 μm, preferably 0.02 to 0.4 μm.
m. In the photosensitive layer used in the present invention, in addition to the near-infrared absorber, coating properties, compatibility with the near-infrared absorber,
An organic polymer substance can be added for the purpose of increasing the strength of the film in the photosensitive layer and the effect of ablation.

【0023】該有機高分子物質としては、例えば、(メ
タ)アクリル酸やイタコン酸等の不飽和酸と、(メタ)
アクリル酸アルキル、(メタ)アクリル酸フェニル、
(メタ)アクリル酸ベンジル等の(メタ)アクリル酸エ
ステル、スチレン、α−メチルスチレン等との共重合体
が用いられる。また、側鎖にカルボキシル基を有するセ
ルロース変性物;ポリエチレンオキシド;ポリビニルピ
ロリドン;フェノール、o−、m−、p−クレゾール、
キシレゾールとアルデヒド、アセトン等との縮合反応で
得られるノボラック樹脂;エピクロロヒドリンとビスフ
ェノールAとのポリエーテル;可溶性ナイロン;ポリメ
チルメタクリレートに代表されるメタクリル酸アルキル
やアクリル酸アルキルの重合体;メタクリル酸アルキル
とアクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重合体;ア
クリロニトリルと塩化ビニルや塩化ビニリデンとの共重
合体;ポリ塩化ビニリデン;塩素化ポリオレフィン;塩
化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体;酢酸ビニルの重合
体;アクリロニトリルとスチレンとの共重合体;アクリ
ロニトリルとブタジエン及びスチレンとの共重合体;ポ
リビニルアルキルエーテル;ポリビニルアルキルケト
ン;ポリスチレン;ポリウレタン;ポリエチレンテレフ
タレートイソフタレート;アセチルセルロース;アセチ
ルプロピオキシセルロース;アセチルブトキシセルロー
ス;ニトロセルロース;セルロイド;ポリビニルブチラ
ール等が用いられる。該有機高分子物質の感光性層中に
おける配合率は、全感光性層固形分の0〜95重量%、
好ましくは2〜90重量%、さらに好ましくは5〜80
重量%である。
Examples of the organic polymer include unsaturated acids such as (meth) acrylic acid and itaconic acid;
Alkyl acrylate, phenyl (meth) acrylate,
Copolymers with (meth) acrylates such as benzyl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene and the like are used. A modified cellulose having a carboxyl group in the side chain; polyethylene oxide; polyvinylpyrrolidone; phenol, o-, m-, p-cresol;
Novolak resin obtained by condensation reaction of xylesol with aldehyde, acetone, etc .; polyether of epichlorohydrin with bisphenol A; soluble nylon; alkyl methacrylate or alkyl acrylate polymer represented by polymethyl methacrylate; methacryl Copolymer of alkyl acrylate and acrylonitrile, acrylic acid, methacrylic acid, vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene, etc .; copolymer of acrylonitrile with vinyl chloride or vinylidene chloride; polyvinylidene chloride; chlorinated polyolefin; vinyl chloride and acetic acid Copolymer of vinyl; polymer of vinyl acetate; copolymer of acrylonitrile and styrene; copolymer of acrylonitrile with butadiene and styrene; polyvinyl alkyl ether; polyvinyl alkyl ketone; Polyurethane, polyethylene terephthalate isophthalate; acetylcellulose; acetyl prop oxy cellulose; acetyl butoxy cellulose; nitrocellulose; celluloid, polyvinyl butyral or the like is used. The compounding ratio of the organic polymer substance in the photosensitive layer is from 0 to 95% by weight of the total solid content of the photosensitive layer,
It is preferably 2-90% by weight, more preferably 5-80% by weight.
% By weight.

【0024】また上記感光性層中には、印刷インク着肉
性を高める目的で疎水性基を有する各種添加剤、例えば
p−オクチルフェノール・ホルマリンノボラック樹脂、
p−ブチルフェノール・ホルマリンノボラック樹脂、p
−t−ブチルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジ
ン変性ノボラック樹脂等の変性ノボラック樹脂、また、
更にこれら変性ノボラック樹脂のo−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステル、フッ素系の界面活性剤を添加
したり、アブレーシヨンの効果を高める目的で、自己酸
化性のニトロセルロース等のニトロ化合物、硝酸ナトリ
ウム、硝酸アンモニウム等の硝酸塩、過酸化ベンゾイ
ル、過安息香酸エステル等の過酸化物、或いは発泡性の
アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル等
のアゾ化合物、N,N′−ジニトロペンタメチレンテト
ラミン等のニトロソ化合物、p−トルエンスルホニルヒ
ドラジン、p,p′−オキシビス(ベンゼンスルホヒド
ラジン)等のスルホニルヒドラジド化合物等を感光性層
の全固形分に対し0.1〜50重量%、好ましくは0.
2〜20重量%、さらに好ましくは0.5〜10重量%
添加して用いることが出来る。また、本発明で用いられ
る感光性層の膜厚は0.05〜10μm、好ましくは
0.1〜5μm、さらに好ましくは0.3〜2μmであ
る。
In the photosensitive layer, various additives having a hydrophobic group, for example, p-octylphenol / formalin novolak resin, for the purpose of enhancing the adhesion of printing ink,
p-butylphenol / formalin novolak resin, p
-T-butylphenol-benzaldehyde resin, modified novolak resin such as rosin-modified novolak resin,
Further, o-naphthoquinonediazide sulfonic acid ester of these modified novolak resins, a fluorine-based surfactant is added, and for the purpose of enhancing the effect of abrasion, nitro compounds such as nitrocellulose having self-oxidation properties, sodium nitrate, ammonium nitrate, etc. Peroxides such as nitrates, benzoyl peroxide and perbenzoic acid esters, or azo compounds such as foamable azodicarbonamide and azobisisobutyronitrile; nitroso compounds such as N, N'-dinitropentamethylenetetramine; A sulfonyl hydrazide compound such as -toluenesulfonylhydrazine, p, p'-oxybis (benzenesulfohydrazine) or the like is used in an amount of 0.1 to 50% by weight, preferably 0.1 to 50% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer.
2 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight
It can be added and used. The thickness of the photosensitive layer used in the present invention is 0.05 to 10 μm, preferably 0.1 to 5 μm, and more preferably 0.3 to 2 μm.

【0025】次に本発明において用いられるシリコーン
ゴム層は、両端末に水酸基を有する線状オルガノポリシ
ロキサン、該オルガノポリシロキサンと架橋しシリコー
ンゴム層を形成させる反応性シラン化合物及び1分子中
にSi−H結合を少なくとも2個有するオルガノポリシ
ロキサンを必須成分として含むものであり、該シリコー
ンゴム層は印刷インク反撥性、耐印刷性に優れ、さらに
アブレーションにより容易に除去され、高感度で、高い
画像再現性を与える機能を有する。本発明で用いられる
両末端に水酸基を有する線状オルガポリシロキサンとし
ては、下記一般式(IV)の線状オルガノポリシロキサン
が挙げられる。
Next, the silicone rubber layer used in the present invention comprises a linear organopolysiloxane having a hydroxyl group at both terminals, a reactive silane compound which forms a silicone rubber layer by crosslinking with the organopolysiloxane, and Si in one molecule. And an organopolysiloxane having at least two -H bonds as an essential component. The silicone rubber layer has excellent printing ink repellency and printing resistance, is easily removed by ablation, and has high sensitivity and high image quality. Has the function of giving reproducibility. Examples of the linear organopolysiloxane having a hydroxyl group at both terminals used in the present invention include a linear organopolysiloxane represented by the following general formula (IV).

【0026】[0026]

【化2】 Embedded image

【0027】(式中、R1 及びR2 は各々、水素原子、
メチル基、フェニル基、ビニル基を示し、yは1以上の
整数を示す。) 上記一般式(IV)で表わされる化合物のうちR1 、R2
がメチル基であるものが好ましい。該オルガノポリシロ
キサンの重量平均分子量(以下、Mwと略す)は500
0〜3000000であり、好ましくは50000〜2
000000、さらに好ましくは500000〜200
0000である。Mwが著しく低いとシリコーンゴム層
の膜強度が低下し、耐印刷性が低くなり、またMwが著
しく高いとアブレーションによるシリコーンゴム層の除
去効果が低下し、感度低下、画像再現性の低下を起こし
やすい。
(Wherein R 1 and R 2 are each a hydrogen atom,
It represents a methyl group, a phenyl group, or a vinyl group, and y represents an integer of 1 or more. R 1 and R 2 of the compounds represented by the above general formula (IV)
Is preferably a methyl group. The weight average molecular weight (hereinafter abbreviated as Mw) of the organopolysiloxane is 500
0 to 3,000,000, preferably 50,000 to 2
000000, more preferably 500,000 to 200
0000. If the Mw is extremely low, the film strength of the silicone rubber layer will be reduced, and the printing resistance will be reduced. If the Mw is extremely high, the effect of removing the silicone rubber layer by ablation will be reduced, resulting in reduced sensitivity and reduced image reproducibility. Cheap.

【0028】また、本発明に用いられる反応性シラン化
合物は、前記両末端に水酸基を有する線状オルガノポリ
シロキサンの水酸基と反応し、脱酢酸型、脱オキシム
型、脱アルコール型、脱アミノ型あるいは脱水型等の縮
合を起こし架橋することができる官能基を、少なくとも
2つ以上有する分子量2000以下の反応性シラン化合
物である。該官能基としては、具体的には例えば、下記
各式で表される官能基が挙げられる。
The reactive silane compound used in the present invention reacts with the hydroxyl group of the linear organopolysiloxane having a hydroxyl group at both ends to form a deacetic acid type, a deoxime type, a dealcohol type, a deamino type or It is a reactive silane compound having a molecular weight of 2000 or less and having at least two functional groups capable of causing cross-linking by condensation such as dehydration type. Specific examples of the functional group include functional groups represented by the following formulas.

【0029】[0029]

【化3】 Embedded image

【0030】(式中、R3 〜R10はそれぞれ水素原子ま
たはアルキル基を示す。また、該アルキル基の炭素数は
通常1〜5である。) これらのうち、官能基がアシルオキシ基(−OCO
3 )で官能基数が3以上のもの、あるいは官能基がア
ルコキシ基(−OR8 )で官能基数が3以上のものは、
塗布後の乾燥処理後において短時間にシリコーンゴム層
を形成するため好ましい。更に好ましくは、官能基がア
セトキシ基で官能基数が3以上のもの、あるいは官能基
がアルコキシ基で官能基数が6以上のものである。該反
応性シラン化合物としては、具体的には例えば一般式
(V)〜(VIII) で表される化合物があげられる。
(Wherein, R 3 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group usually has 1 to 5 carbon atoms.) Of these, the functional group is an acyloxy group (- OCO
R 3 ) having three or more functional groups, or a functional group having an alkoxy group (—OR 8 ) having three or more functional groups,
It is preferable to form a silicone rubber layer in a short time after the drying treatment after the application. More preferably, the functional group is an acetoxy group and the number of functional groups is 3 or more, or the functional group is an alkoxy group and the number of functional groups is 6 or more. Specific examples of the reactive silane compound include compounds represented by general formulas (V) to (VIII).

【0031】[0031]

【化4】 Embedded image

【0032】(式(V)中、R11は −(CH2)n −S
iR14 3-m m を示し、R12およびR 13はそれぞれR11
と同じであるかまたは−CH2 CH=CH2 を示す。ま
た、mは1〜3の整数を示し、nは1〜5の整数を示
し、R14は炭素数1〜5のアルキル基またはフェニル基
を示し、Xは
(In the formula (V), R11Is-(CHTwo)n-S
iR14 3-mXmAnd R12And R 13Is R11
Is the same as or -CHTwoCH = CHTwoIs shown. Ma
M represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer of 1 to 5.
Then R14Is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a phenyl group
And X is

【0033】[0033]

【化5】 Embedded image

【0034】を示す。(ただしR3 〜R10はそれぞれ前
記と同じものを示す。)) 式(V)で表される化合物のうち、Xがアセトキシ基、
メトキシ基またはエトキシ基であるものが好ましく、特
にmが2または3であり、R11、R12およびR 13が−C
2 CH2 CH2 Si(OCH3 3 または−CH2
2 CH2 Si(OC2 5 3 であるものが更に好ま
しい。
Is shown. (However, RThree~ RTenIs before each
Indicates the same as above. )) In the compound represented by the formula (V), X represents an acetoxy group,
A methoxy group or an ethoxy group is preferred, and
M is 2 or 3;11, R12And R 13Is -C
HTwoCHTwoCHTwoSi (OCHThree)ThreeOr -CHTwoC
HTwoCHTwoSi (OCTwoHFive)ThreeIs more preferred
New

【0035】[0035]

【化6】 Embedded image

【0036】を示し、k及びjはそれぞれ1〜5の整数
を示す。また、pは1〜3の整数を示し、R14、X、m
及びnはそれぞれ前記一般式(V)の場合と同じものを
示す。) 式(VI)で表される化合物のうち、Xがアセトキシ基、
メトキシ基またはエトキシ基であるものが好ましく、特
にmおよびnが2または3であり、Xがメトキシ基また
はエトキシ基であるものが更に好ましい。
And k and j each represent an integer of 1 to 5. P represents an integer of 1 to 3, and R 14 , X, m
And n each represent the same as in the case of the general formula (V). In the compound represented by the formula (VI), X is an acetoxy group,
Those which are methoxy or ethoxy groups are preferred, and those in which m and n are 2 or 3 and X is a methoxy or ethoxy group are more preferred.

【0037】[0037]

【化7】Z4-q −Si−Xq (VII)Embedded image Z 4-q —Si—X q (VII)

【0038】(式(VII)中、Zは炭素数1〜5のアルキ
ル基、フェニル基、ビニル基、または
(In the formula (VII), Z is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group, a vinyl group, or

【0039】[0039]

【化8】 Embedded image

【0040】を示し、qは1〜4の整数を示す。また、
n及びXはそれぞれ前記一般式(V)の場合と同じもの
を示す。) 式(VII)で表される化合物のうち、Xがアセトキシ基、
メトキシ基、またはエトキシ基であるものが好ましく、
特にqが2、3または4であるものが更に好ましい。
And q represents an integer of 1 to 4. Also,
n and X each represent the same as in the case of the general formula (V). In the compound represented by the formula (VII), X is an acetoxy group,
A methoxy group or an ethoxy group is preferable,
Particularly, those in which q is 2, 3 or 4 are more preferable.

【0041】[0041]

【化9】 Embedded image

【0042】(式(VIII)中、t及びuはそれぞれ0〜
5の整数を示し、Wは酸素原子、硫黄原子、−SSSS
−、炭素数1〜10のアルキレン基、または
(In the formula (VIII), t and u are each 0 to
5 represents an integer of 5, W is an oxygen atom, a sulfur atom, -SSSS
-, An alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or

【0043】[0043]

【化10】 Embedded image

【0044】を示す。n、X及びR14はそれぞれ前記一
般式(V)の場合と同じものを示す。また、R15及びR
16は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基またはフェ
ニル基を示す。) 式(VIII)で表される化合物のうち、Xがアセトキシ
基、メトキシ基またはエトキシ基であるものが好まし
く、特にmが2または3であり、t及びuがそれぞれ
0、1、2または3であり、Wがアルキレン基を表すと
きは炭素数が2〜6であるものが更に好ましい。本発明
において用いられる反応性シラン化合物について第2表
にさらに具体的な例を挙げるが、これら例示されるもの
に限定されるものではない。
Is shown. n, X and R 14 are the same as those in the above formula (V). In addition, R 15 and R
16 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a phenyl group. Among the compounds represented by the formula (VIII), those in which X is an acetoxy group, a methoxy group or an ethoxy group are preferable, in particular, m is 2 or 3, and t and u are each 0, 1, 2 or 3 When W represents an alkylene group, those having 2 to 6 carbon atoms are more preferred. Table 2 shows more specific examples of the reactive silane compound used in the present invention, but it is not limited to these.

【0045】[0045]

【表13】 [Table 13]

【0046】[0046]

【表14】 [Table 14]

【0047】[0047]

【表15】 [Table 15]

【0048】本発明に用いられる1分子中にSi−H結
合を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(以
下、オルガノポリヒドロシロキサンと略す。)は、オル
ガノポリシロキサンあるいは反応性シラン化合物と反
応、架橋し、膜強度を上げ比較的薄い膜厚のシリコーン
ゴム層においても高印圧印刷条件、高温印刷条件或いは
多数枚印刷条件下での印刷版の印刷インク反発性、画像
再現性を向上させる機能を有する。
The organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule (hereinafter abbreviated as “organopolyhydrosiloxane”) used in the present invention reacts with the organopolysiloxane or the reactive silane compound to form a crosslink. It has the function of increasing the film strength and improving the printing ink repellency and image reproducibility of the printing plate under high printing pressure conditions, high temperature printing conditions or multi-sheet printing conditions even in a relatively thin film thickness silicone rubber layer. .

【0049】該オルガノポリシロキサンは、その構造が
線状、環状、分岐状のいずれでもよいが、線状または分
岐状が好ましい。Si−H結合は、シロキサン骨格の末
端あるいは中間のいずれにあっても良く、置換基の総数
に対する水素原子の占める割合は通常1%以上60%未
満であるが、架橋性を良好とするために、好ましくは2
0%以上50%未満であり、さらに好ましくは30%以
上50%未満である。また、水素原子以外の残余の置換
基は良好な印刷インク反発性を得るためにメチル基が好
ましい。1分子中にSi−H結合を少なくとも2個有す
るオルガノポリヒドロシロキサンのMwは通常300〜
300000であり、好ましくは500〜300000
である。好ましいオルガノポリヒドロシロキサンの具体
例としては、下記一般式(I)〜(III)で表される化合
物が挙げられる。
The structure of the organopolysiloxane may be linear, cyclic or branched, but is preferably linear or branched. The Si—H bond may be at the terminal or in the middle of the siloxane skeleton, and the ratio of hydrogen atoms to the total number of the substituents is usually 1% or more and less than 60%. , Preferably 2
It is 0% or more and less than 50%, and more preferably 30% or more and less than 50%. The remaining substituents other than hydrogen atoms are preferably methyl groups in order to obtain good printing ink resilience. Mw of the organopolyhydrosiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule is usually 300 to
300,000, preferably 500 to 300,000
It is. Specific examples of preferred organopolyhydrosiloxane include compounds represented by the following general formulas (I) to (III).

【0050】[0050]

【化11】 Embedded image

【0051】これらの内、一般式(I)及び(III)で表
される線状オルガノポリヒドロシロキサンが、合成の容
易さから好ましく、中でも一般式(I)で表される線状
オルガノポリヒドロシロキサンが、高い耐刷性を示し、
さらに好ましい。
Of these, the linear organopolyhydrosiloxanes represented by the general formulas (I) and (III) are preferred because of their ease of synthesis, and among them, the linear organopolyhydrosiloxanes represented by the general formula (I) are preferred. Siloxane shows high printing durability,
More preferred.

【0052】本発明に使用されるシリコーンゴム層は、
上記の両末端に水酸基を有するオルガノポリシロキサン
と反応性シラン化合物の縮合架橋反応の反応効率を高め
るため、有機のカルボン酸、チタン酸エステル、錫酸エ
ステル、アルミ有機エーテル、白金系触媒等の縮合触媒
を適宜混合させ縮合反応を行ない硬化させる。本発明に
おいて用いられる両末端に水酸基を有するオルガノポリ
シロキサン、反応性シラン化合物及び縮合触媒のシリコ
ーンゴム層中での配合率は、全シリコーンゴム層の固形
分に対し、両末端に水酸基を有するオルガノポリシロキ
サンが60〜98重量%、好ましくは70〜95重量
%、反応性シラン化合物が、通常1〜20重量%、好ま
しくは2〜20重量%、さらに好ましくは2〜15重量
%、オルガノポリヒドロキサンが0.1〜20重量%、
好ましくは0.5〜15、さらに好ましくは1〜15重
量%、縮合触媒が0.05〜5重量%、好ましくは0.
1〜3重量%、さらに好ましくは0.1〜1重量%であ
る。
The silicone rubber layer used in the present invention comprises:
In order to increase the reaction efficiency of the condensation crosslinking reaction between the organopolysiloxane having a hydroxyl group at both ends and the reactive silane compound, the condensation of organic carboxylic acid, titanate ester, stannate ester, aluminum organic ether, platinum-based catalyst, etc. A catalyst is appropriately mixed and a condensation reaction is carried out to cure. The mixing ratio of the organopolysiloxane having a hydroxyl group at each end used in the present invention, the reactive silane compound, and the condensation catalyst in the silicone rubber layer is determined based on the solid content of the entire silicone rubber layer. Polysiloxane is 60 to 98% by weight, preferably 70 to 95% by weight, and the reactive silane compound is usually 1 to 20% by weight, preferably 2 to 20% by weight, more preferably 2 to 15% by weight. 0.1-20% by weight of sun,
It is preferably 0.5 to 15, more preferably 1 to 15% by weight, and the condensation catalyst is 0.05 to 5% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight.
It is 1 to 3% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight.

【0053】反応性シラン化合物、或いは、縮合触媒の
割合が著しく高いと印刷インク反撥性が低下し、また、
アブレーション時のシリコーンゴム層の除去が困難にな
り、感度及び画像再現性が低下する。反対に著しく低い
とシリコーンゴム層の膜強度が低下し、耐印刷性が低下
する。
When the ratio of the reactive silane compound or the condensation catalyst is extremely high, the repellency of the printing ink is reduced, and
Removal of the silicone rubber layer during ablation becomes difficult, and sensitivity and image reproducibility decrease. On the other hand, when it is extremely low, the film strength of the silicone rubber layer is reduced, and the printing resistance is reduced.

【0054】又、オルガノポリヒドロシロキサンの割合
が著しく高いと、シリコーンゴム層の膜強度が低下し、
シリコーンゴム層の基板からの剥離が発生し、反対に著
しく低いと、高印圧、高温あるいは多数枚印刷条件下で
の印刷インク反発性、画像再現性が低下する。本発明に
使用されるシリコーンゴム層の膜厚は0.1〜10μ
m、好ましくは0.2〜5μm、さらに好ましくは0.
3〜2μmである。
When the proportion of the organopolyhydrosiloxane is extremely high, the film strength of the silicone rubber layer decreases,
If the silicone rubber layer peels off from the substrate and is extremely low, on the other hand, the printing ink resilience and image reproducibility under high printing pressure, high temperature or conditions for printing a large number of sheets are reduced. The thickness of the silicone rubber layer used in the present invention is 0.1 to 10 μm.
m, preferably 0.2 to 5 μm, more preferably 0.1 μm.
3 to 2 μm.

【0055】以上に記載した感光性層組成物、シリコー
ンゴム層組成物は、適当な溶剤に溶解して溶液となし、
これを支持体にワイヤーバー、スピナー、ロールコータ
ー等の各種の塗布装置により前記基板上に塗布した後、
乾燥して、それぞれ感光性層、シリコーンゴム層を形成
することができる。感光性層の塗布溶剤としては、例え
ばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル等の
エステル類、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼ
ン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、トリクロロエタ
ン等の炭化水素やハロゲン化炭化水素類、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン等のエー
テル類、さらにはプロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、ベントキソン、ジメチルホルムアミド
など常用のものを用いることが出来、シリコーンゴム層
の塗布溶剤としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、
石油エーテル、脂肪族炭化水素系溶剤エクソン化学
(株)製:アイソパーE、H、G及びこれらの溶剤と上
記の感光性層塗布溶剤との混合溶媒等を用いることが出
来る。
The above-described photosensitive layer composition and silicone rubber layer composition are dissolved in a suitable solvent to form a solution,
After applying this on the substrate by various coating devices such as a wire bar, a spinner and a roll coater on the support,
After drying, a photosensitive layer and a silicone rubber layer can be respectively formed. Examples of the coating solvent for the photosensitive layer include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; esters such as butyl acetate, amyl acetate and ethyl propionate; and hydrocarbons such as toluene, xylene, monochlorobenzene, carbon tetrachloride, trichloroethylene, and trichloroethane. And halogenated hydrocarbons, methylcellosolve, ethylcellosolve, ethers such as tetrahydrofuran, and further, propylene glycol monomethyl ether acetate, bentoxone, dimethylformamide and the like can be used in common use.As a coating solvent for the silicone rubber layer, n-hexane, cyclohexane,
Petroleum ether, aliphatic hydrocarbon solvent Exxon Chemical Co., Ltd .: Isopar E, H, G, and a mixed solvent of these solvents and the above-mentioned photosensitive layer coating solvent can be used.

【0056】また、必要に応じて、該塗布試料はシリコ
ーンゴム層を保護する目的で、ポリプロピレンシート、
ポリエチレンシート、離型処理ポリエチレンテレフタレ
ート等の各種離型性プラスチックシート、離型処理紙、
アルミ、鉄、銅等の金属シート等をシリコーンゴム層上
にラミネートし設けることができる。上記の感光性層及
びシリコーンゴム層を基板上に設けた感光性試料は、通
常680〜1100nmの近赤外光を発振する半導体レ
ーザー光を5〜30μm径に集光したビームスポットに
より走査露光を行い、露光部分をアブレーションさせた
後、後処理なしに印刷版として使用されるが、該露光済
み試料上に付着したアブレーションで発生した感光性層
或いはシリコーンゴム層の微粒子を除去する目的で、シ
リコーンゴム層表面を必要に応じて水溶液または有機溶
剤を供給しながらブラシ、パッド、超音波、スプレー等
の物理刺激を与える後処理を行ってもよい。
Further, if necessary, the coated sample may be coated with a polypropylene sheet to protect the silicone rubber layer.
Various release plastic sheets such as polyethylene sheet, release treated polyethylene terephthalate, release treated paper,
A metal sheet of aluminum, iron, copper or the like can be laminated on the silicone rubber layer. The photosensitive sample provided with the above-mentioned photosensitive layer and silicone rubber layer on a substrate is subjected to scanning exposure with a beam spot in which a semiconductor laser beam oscillating near-infrared light of 680 to 1100 nm is focused to a diameter of 5 to 30 μm. After the exposed portion is ablated, the exposed portion is used as a printing plate without post-processing.In order to remove fine particles of the photosensitive layer or silicone rubber layer generated by ablation attached to the exposed sample, silicone is used. A post-treatment for applying a physical stimulus such as a brush, a pad, an ultrasonic wave, or a spray may be performed while supplying an aqueous solution or an organic solvent to the surface of the rubber layer as necessary.

【0057】また、該アブレーションで発生した微粒子
を除去する他の方法としては、該微粒子に対してシリコ
ーンゴム層より接着性の高い表面を有するカバーシート
を本発明で用いられる感光性試料のシリコーンゴム層上
に、露光前にシリコーンゴム表面と接着性のカバーシー
ト表面が合わさるようにラミネートし、露光後、該カバ
ーシートを剥離、シリコーンゴム層上の微粒子を除く方
法、或いは、露光済み試料のシリコーンゴム層に前記と
同様にカバーシートをラミネートした後剥離する方法が
挙げられる。該カバーシートとしては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、紙
等の基版上に、シリコーンゴム、アイオノマー、酢酸ビ
ニル等の粘着層を必要に応じて設けたものが挙げられ
る。
As another method for removing the fine particles generated by the ablation, a cover sheet having a surface having a higher adhesiveness to the fine particles than the silicone rubber layer may be used as the silicone rubber of the photosensitive sample used in the present invention. On the layer, before exposure, the silicone rubber surface and the adhesive cover sheet surface are laminated so that they match, and after exposure, the cover sheet is peeled off, a method of removing fine particles on the silicone rubber layer, or the exposed sample silicone. A method of laminating a cover sheet on a rubber layer in the same manner as described above and then peeling off the cover sheet may be used. Examples of the cover sheet include a base plate made of polyethylene terephthalate, polypropylene, polycarbonate, paper, and the like, on which an adhesive layer made of silicone rubber, ionomer, vinyl acetate, or the like is provided as necessary.

【0058】[0058]

【実施例】本発明を実施例により更に具体的に説明する
が、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。実施例1 基板上に下記の組成の感光性層組成物を塗布した基板は
発泡ポリプロピレンフィルム(王子油化社製 GWG)
を用いた。 (感光性層組成物) 近赤外吸収剤:NK3027 (日本感光色素社製) 50 重量部 有機高分子物質:ニトロセルロース(ダイセル社製RSI/16) 50 重量部 塗布溶媒:N−メチル−2−ピロリドン 1175 重量部 シクロヘキサノン 390 重量部 界面活性剤:L7002 (日本ユニカー社製) 0.8重量部 塗布後、100℃で2分間乾燥し、乾燥膜厚1μmの感
光性層を設けた。続いて該感光層上に下記組成のシリコ
ーンゴム層組成物を塗布した。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Example 1 A substrate obtained by coating a photosensitive layer composition having the following composition on a substrate was a foamed polypropylene film (GWG manufactured by Oji Yuka Co., Ltd.).
Was used. (Photosensitive layer composition) Near-infrared absorbing agent: NK3027 (manufactured by Nippon Kogaku Co., Ltd.) 50 parts by weight Organic polymer substance: nitrocellulose (RSI / 16 manufactured by Daicel) 50 parts by weight Coating solvent: N-methyl-2 -Pyrrolidone 1175 parts by weight Cyclohexanone 390 parts by weight Surfactant: L7002 (manufactured by Nippon Unicar) 0.8 part by weight After application, the coating was dried at 100 ° C for 2 minutes to provide a photosensitive layer having a dry film thickness of 1 µm. Subsequently, a silicone rubber layer composition having the following composition was applied onto the photosensitive layer.

【0059】 (シリコーンゴム層組成物) 両末端に水酸基を有する線状オルガノポリシロキサン: 第3表に記載の化合物、第3表に記載の配合量 反応性シラン化合物:第3表に記載の化合物、第3表に記載の配合量 添加剤(上記以外の置換ポリシロキサン): 第3表に記載の化合物、第3表に記載の配合量 縮合触媒:ジブチル錫ジラウレート 0.8重量部 塗布溶媒:アイソパーE(エクソン化学社製) 1700 重量部(Silicone Rubber Layer Composition) Linear Organopolysiloxane Having Hydroxyl Groups at Both Terminals: Compounds in Table 3, Compounding Amounts in Table 3 Reactive Silane Compounds: Compounds in Table 3 Additives listed in Table 3 Additives (substituted polysiloxanes other than those listed above): Compounds listed in Table 3, Compounded amounts listed in Table 3 Condensation catalyst: 0.8 parts by weight of dibutyltin dilaurate Coating solvent: Isopar E (manufactured by Exxon Chemical) 1700 parts by weight

【0060】塗布後、100℃で4分間乾燥し、第3表
に記載の乾燥膜厚のシリコーンゴム層を設け感光性試料
を作成した。該感光性平版印刷版を、円周21cmの回
転ドラムにシリコーンゴム層が外側になるよう固定し、
ドラムを回転させた。次に回転している印刷版上に、8
30nm、30mWの半導体レーザー(日立製作所社
製、HL8325G)を、ビーム径22μmに集光さ
せ、走査露光を行った。続いて以下の項目について評価
を行った。その結果を第3表に示す。
After the coating, the coating was dried at 100 ° C. for 4 minutes, and a silicone rubber layer having a dry film thickness shown in Table 3 was provided to prepare a photosensitive sample. The photosensitive lithographic printing plate is fixed on a rotating drum having a circumference of 21 cm so that the silicone rubber layer is on the outside,
The drum was rotated. Next, on the rotating printing plate,
A 30 nm, 30 mW semiconductor laser (HL8325G, manufactured by Hitachi, Ltd.) was condensed to a beam diameter of 22 μm, and scanning exposure was performed. Subsequently, the following items were evaluated. Table 3 shows the results.

【0061】(感度)露光済み感光性平版印刷版を用い
て、以下の条件で印刷を行った。 〔印刷条件〕 ・印刷機:DAIYA IF−2 ・印刷速度:6000枚/H ・インキ:ニューALPO−G藍L(T&K東華社製) ・印刷紙:OK特アート(王子製紙社製) ・印圧:標準より60μm高い高印圧条件 標準印圧時のニップ幅 版−ブランケット間 7.8〜8.8mm 版−インキ付けローラー間 4.6〜5.5mm ・印刷枚数:20000枚 得られた印刷物のインク画像を100倍の顕微鏡で観測
し、レーザー露光部分に相当するインク画像が得られた
ときの該レーザーの最高走査速度(cm/s)により感
度の評価を行った。走査速度が高いほど高感度であるこ
とを表す。第3表中感度の欄の略号Fは印刷画像が形成
されなかったことを示している。
(Sensitivity) Printing was performed using the exposed photosensitive lithographic printing plate under the following conditions. [Printing conditions]-Printing machine: DAIYA IF-2-Printing speed: 6000 sheets / H-Ink: New ALPO-G indigo L (manufactured by T & K Toka)-Printing paper: OK special art (manufactured by Oji Paper)-Seal Pressure: High printing pressure condition 60 μm higher than standard Nip width at standard printing pressure 7.8 to 8.8 mm between plate and blanket 4.6 to 5.5 mm between plate and inking roller ・ Number of prints: 20000 sheets obtained The ink image of the printed matter was observed with a microscope of 100 times, and the sensitivity was evaluated based on the maximum scanning speed (cm / s) of the laser when an ink image corresponding to the laser-exposed portion was obtained. The higher the scanning speed, the higher the sensitivity. The abbreviation F in the column of sensitivity in Table 3 indicates that a printed image was not formed.

【0062】(地汚れ)該印刷物の非画線部のインク付
着量(地汚れ)をマクベス濃度計(TR927、SPI
フィルター シアン用)を用いて測定し評価を行った。 A:非画線部の光学密度が0.01未満であった。 B:非画線部の光学密度が0.01以上0.02未満で
あった。 C:非画線部の光学密度が0.02以上0.04未満で
あった。 D:非画線部の光学密度が0.04以上0.10未満で
あった。 E:非画線部の光学密度が0.10以上0.30未満で
あった。 F:非画線部の光学密度が0.30以上であった。
(Background Smear) The amount of ink adhering to the non-image area of the printed matter (background smear) was measured using a Macbeth densitometer (TR927, SPI
The measurement and evaluation were performed using a filter (for cyan). A: The optical density of the non-image area was less than 0.01. B: The optical density of the non-image area was 0.01 or more and less than 0.02. C: The optical density of the non-image area was 0.02 or more and less than 0.04. D: The optical density of the non-image area was 0.04 or more and less than 0.10. E: The optical density of the non-image area was 0.10 or more and less than 0.30. F: The optical density of the non-image area was 0.30 or more.

【0063】[0063]

【表16】 [Table 16]

【0064】[0064]

【表17】 [Table 17]

【0065】第3表中、両末端に水酸基を有する線状オ
ルガノポリシロキサンの欄の略号は、それぞれ以下のポ
リシロキサンを表す。 商品名 Y1:YF3897 (東芝シリコーン社製 Mw=800000) Y2:YF3802 (東芝シリコーン社製 Mw=80000) Y3:YF3807 (東芝シリコーン社製 Mw=20000) 第3表中、反応性シラン化合物の欄の略号(Si1、S
i2、Si3、Si4、Si19、Si21、Si2
3、Si25、Si26、Si31、Si32)は、そ
れぞれ第2表に記載した化合物を表す。第3表中、添加
剤の略号はそれぞれ以下のポリシロキサンを表す。
In Table 3, the abbreviations in the column of the linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both terminals represent the following polysiloxanes. Trade name Y1: YF3897 (Mw = 800000, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) Y2: YF3802 (Mw = 80000, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) Y3: YF3807 (Mw = 20000, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) Abbreviations (Si1, S
i2, Si3, Si4, Si19, Si21, Si2
3, Si25, Si26, Si31, and Si32) represent the compounds described in Table 2, respectively. In Table 3, abbreviations of additives represent the following polysiloxanes, respectively.

【0066】[0066]

【化12】 Embedded image

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明により、高印圧、高温印刷条件あ
るいは多数枚印刷条件下での印刷版のインク反発性、画
像再現性等の印刷適性に優れたレーザーダイレクト湿し
水不要感光性平版印刷版を提供することができる。
According to the present invention, a laser direct dampening solution-free photosensitive lithographic plate excellent in printing suitability such as ink repulsion and image reproducibility of a printing plate under high printing pressure, high-temperature printing conditions or multi-sheet printing conditions. Printing plate can be provided.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、該基板から少なくとも近赤外
吸収剤を含有する感光性層、及びシリコーンゴム層をこ
の順に有するレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版
印刷版において、前記シリコーンゴム層が、(a)シリ
コーンゴム層の全固形分に対し60重量%以上98重量
%未満の、両末端に水酸基を有する線状オルガノポリシ
ロキサン、(b)シリコーンゴム層の全固形分に対し1
重量%以上20重量%未満の、反応性シラン化合物、及
び(c)シリコーンゴム層の全固形分に対し0.1重量
%以上20重量%未満の、1分子中にSi−H結合を少
なくとも2個有するオルガノポリシロキサンを含有する
ことを特徴とするレーザーダイレクト湿し水不要感光性
平版印刷版。
1. A laser-direct fountain-free photosensitive lithographic printing plate having, on a substrate, a photosensitive layer containing at least a near-infrared absorber from the substrate, and a silicone rubber layer in this order. (A) a linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends of 60% by weight or more and less than 98% by weight based on the total solid content of the silicone rubber layer, and (b) 1% based on the total solid content of the silicone rubber layer.
(C) at least 0.1% by weight and less than 20% by weight based on the total solid content of the silicone rubber layer, and at least two Si-H bonds in one molecule. A photosensitive lithographic printing plate which does not require a laser direct dampening solution, comprising an organopolysiloxane having the same.
【請求項2】 前記反応性シラン化合物が、アルコキシ
基を6個以上有するものである請求項1に記載のレーザ
ーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版。
2. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the reactive silane compound has six or more alkoxy groups.
【請求項3】 前記1分子中にSi−H結合を少なくと
も2個有するオルガノポリシロキサンの重量平均分子量
が300〜300000である請求項1又は2に記載の
レーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版。
3. The photosensitive lithographic printing method according to claim 1, wherein the weight average molecular weight of the organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule is 300 to 300,000. Edition.
【請求項4】 前記1分子中にSi−H結合を少なくと
も2個有するオルガノポリシロキサンのケイ素原子につ
いた置換基のうち、水素原子の割合が20%以上50%
未満である請求項1乃至3に記載のレーザーダイレクト
湿し水不要感光性平版印刷版。
4. The method according to claim 1, wherein the proportion of hydrogen atoms in the substituents on the silicon atoms of the organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule is from 20% to 50%.
The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the lithographic printing plate does not require a laser direct dampening solution.
【請求項5】 前記1分子中にSi−H結合を少なくと
も2個有するオルガノポリシロキサンが、下記一般式
(I)で表される線状オルガノポリシロキサンである請
求項1乃至4に記載のレーザーダイレクト湿し水不要感
光性平版印刷版。 【化1】 (一般式(I)中、x1 は2以上の整数を示す。)
5. The laser according to claim 1, wherein the organopolysiloxane having at least two Si—H bonds in one molecule is a linear organopolysiloxane represented by the following general formula (I). A photosensitive lithographic printing plate that does not require direct dampening water. Embedded image (In the general formula (I), x 1 represents an integer of 2 or more.)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011002517A (en) * 2009-06-16 2011-01-06 Jsr Corp Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film, and forming method of the same

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