JPH1039498A - Laser direct waterless photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Laser direct waterless photosensitive lithographic printing plate

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JPH1039498A
JPH1039498A JP9092126A JP9212697A JPH1039498A JP H1039498 A JPH1039498 A JP H1039498A JP 9092126 A JP9092126 A JP 9092126A JP 9212697 A JP9212697 A JP 9212697A JP H1039498 A JPH1039498 A JP H1039498A
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JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
silicone rubber
printing plate
rubber layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP9092126A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyoshi Urano
年由 浦野
Etsuko Hino
悦子 檜野
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP9092126A priority Critical patent/JPH1039498A/en
Publication of JPH1039498A publication Critical patent/JPH1039498A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Landscapes

  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the direct waterless lithographic printing plate superior in sensitivity and image reproduction performance and ink receptivity by incorporating a linear organopolysiloxane and a reactive silane compound in a silicone rubber layer, and titanium monooxide and the like as a near infrared absorber in a photosensitive layer. SOLUTION: The laser direct waterless photosensitive lithographic printing plate has on a substrate at least the photosensitive layer the silicone rubber layer in this order. This silicon rubber layer contains the linear polysiloxane having hydroxyl groups on both ends and the reactive silane compound, and the photosensitive layer contains as the near infrared absorber, the titanium monooxide or at least one of (thio)pyriliumpoly-methinecyanine dyes, and this near infrared absorber is liable to cause abrasion due to heat occurring absorption of the laser beams.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はデジタル画像データ
から近赤外半導体レーザーを用い、直接、印刷版を形成
し得るレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版
に関する。更に詳しくは、基板上に感光層、シリコーン
ゴム層をこの順に塗設して成るレーザーダイレクト湿し
水不要感光性平版印刷版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser direct dampening solution-free photosensitive lithographic printing plate capable of forming a printing plate directly from digital image data using a near-infrared semiconductor laser. More specifically, the present invention relates to a laser direct dampening solution-free photosensitive lithographic printing plate comprising a substrate and a photosensitive layer and a silicone rubber layer applied in this order.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、近赤外半導体レーザー及びコンピ
ュータを用いるデジタル画像処理技術の進歩に伴い、コ
ンピュータ上で形成されたデジタル画像データから印刷
版用銀塩フィルムを用いることなしに直接感光性平版印
刷版上に近赤外半導体レーザーで走査露光を行い、露光
部分を不溶化した後水溶液現像処理(湿式現像処理)に
より画像を形成し製版する、あるいは露光部分を劣化さ
せ、又は昇華、溶融させ除去する(乾式現像処理)こと
により画像を形成し製版する、レーザーダイレクト製版
技術が注目されている。特に、水と印刷インクのバラン
スを考える必要が無く、印刷操作が容易で、印刷初期の
損紙が少なく、印刷時間の短い、湿し水不要デジタル印
刷システムは、デジタル画像データから短時間で容易に
印刷物を作製することが出来るため、新しい印刷システ
ムとして期待されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the progress of digital image processing technology using a near-infrared semiconductor laser and a computer, a photosensitive lithographic plate has been directly used from digital image data formed on a computer without using a silver halide film for a printing plate. The printing plate is subjected to scanning exposure with a near-infrared semiconductor laser to insolubilize the exposed portion, and then an image is formed by an aqueous solution development process (wet development process) to make a plate, or the exposed portion is deteriorated, sublimated, melted and removed. Laser direct plate making technology, in which an image is formed by performing a dry development process to make a plate, has attracted attention. In particular, there is no need to consider the balance between water and printing ink, the printing operation is easy, there is little wasted paper at the beginning of printing, and the printing time is short. It is expected as a new printing system because it can produce printed matter.

【0003】該湿し水不要デジタル印刷システムに使用
される、レーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷
版に関しては、種々の試みがなされているが、例えば、
(イ)支持体上に感光性層、シリコーンゴム層をこの順
に塗設し、感光性層の露光部のアブレーションにより生
ずる熱に応答して、シリコーンゴム層を、同時に溶融、
揮発あるいは燃焼等により除去するもの(特開平7−1
64773、同6−186750、同6−19906
4、同7−309001)、(ロ)感光性層の露光部の
アブレーションにより生ずる熱に応答して、シリコーン
ゴム層を劣化させ、支持体との接着性を低下させた後擦
り取るもの(特開平6−55723、同6−5586
9、同6−92050)、(ハ)シリコーンゴム層を設
けた支持体上に、インク着肉性のトナー画像を電子写真
法により形成させるもの(特開昭51−66008)等
が知られている。これらのうち(イ)の方式が、画像形
成処理が最も簡便であり、また通常画質もより優れたも
のが得られ易いのでより好適と考えられている。
[0003] Various attempts have been made with respect to a laser-direct fountain-free photosensitive lithographic printing plate used in the fountain-free digital printing system.
(A) A photosensitive layer and a silicone rubber layer are applied in this order on a support, and the silicone rubber layer is simultaneously melted in response to heat generated by ablation of an exposed portion of the photosensitive layer.
Removed by volatilization or combustion (Japanese Patent Laid-Open No. 7-1
64773, 6-186750, 6-19906
(B) 7-309001), (b) those in which the silicone rubber layer is degraded in response to the heat generated by ablation of the exposed portion of the photosensitive layer, the adhesiveness to the support is reduced, and then the silicone rubber layer is scraped off. Kaihei 6-55723, 6-5586
9, 6-92050) and (c) a method of forming an ink-adhesive toner image on a support provided with a silicone rubber layer by an electrophotographic method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-66008). I have. Among these methods, the method (a) is considered to be more preferable because the image forming process is the simplest and the image with the normal image quality is easily obtained.

【0004】しかしながら、上記のアブレーションを利
用するレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版
は、実用的には感度が不十分なため、大出力の半導体レ
ーザーを多数必要とし、また、レーザー露光部の印刷イ
ンク着肉性が低く、あるいは耐印刷性が低く、印刷適性
が未だ十分とは言えない。
However, a photosensitive lithographic printing plate that does not require a laser direct dampening solution using the above-described ablation requires a large number of high-power semiconductor lasers because of insufficient sensitivity in practice. Of the printing ink is low, or the printing resistance is low, and the printing suitability is not yet sufficient.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、感度が高
く、耐印刷性が高く、さらに印刷インク着肉性に優れた
レーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版を提供
しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate having high sensitivity, high printing resistance, and excellent laser ink directing properties, which is excellent in printing ink deposition. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、前記課
題を解決した、基板上に、該基板から少なくとも近赤外
吸収剤を含有する感光性層及びシリコーンゴム層をこの
順に有するレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印
刷版において、該シリコーンゴム層が、両端に水酸基を
有する線状オルガノポリシロキサンと、反応性シラン化
合物を含有し、且つ該感光性層が近赤外吸収剤として、
一酸化チタン又は(チオ)ピリリウムポリメチンシアニ
ン色素の少なくとも1種を含有することを特徴とするレ
ーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版に存す
る。
The gist of the present invention is to solve the above-mentioned problems by providing a laser direct having a photosensitive layer containing at least a near-infrared absorbing agent and a silicone rubber layer on a substrate in this order. In a fountain solution unnecessary photosensitive lithographic printing plate, the silicone rubber layer contains a linear organopolysiloxane having a hydroxyl group at both ends and a reactive silane compound, and the photosensitive layer serves as a near-infrared absorber,
A laser direct dampening water-free photosensitive lithographic printing plate comprising at least one of titanium monoxide and (thio) pyrylium polymethine cyanine dye.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下本発明を更に詳細に説明す
る。本発明に用いられる基板は、通常の平板印刷機にセ
ットできるたわみ性を有し、印刷時にかかる荷重に耐え
うるという従来の基板としての機能に加え、感光性層に
吸収されたレーザー光のエネルギーにより発生した熱が
基板を伝わり拡散することを防ぎ、感光性層及びシリコ
ーンゴム層のアブレーションの効果を高める機能を有
し、基板の構成の中心要素となる基材(以下、単に基材
と称す)自体で使用することもできるが、種々の機能を
付加する目的で、該基材とその感光性層側表面(以下、
単に表面という)に設けられたインク着肉性層及び/又
は裏面に設けられた補強層とから成るもの(以下、複合
基板と称す)が好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. The substrate used in the present invention has the flexibility that can be set in a normal lithographic printing machine, and in addition to the function as a conventional substrate that can withstand the load applied during printing, the energy of the laser light absorbed by the photosensitive layer. Has the function of preventing the heat generated by the heat from being transmitted to the substrate and diffusing it, and enhancing the effect of ablation of the photosensitive layer and the silicone rubber layer, and serving as a central element of the configuration of the substrate (hereinafter simply referred to as the substrate). ) Can be used by itself, but for the purpose of adding various functions, the substrate and its photosensitive layer side surface (hereinafter, referred to as
It is preferable that the substrate (hereinafter, simply referred to as a composite substrate) be composed of an ink deposition layer provided on the front surface and / or a reinforcing layer provided on the back surface.

【0008】前記アブレーションの効果を高める機能を
発現させる目的においては、基材は熱伝導度が低いもの
であるほど断熱性に優れ即ち熱の拡散を防ぐため好まし
い。本発明に用いられる基材としては、300K(27
℃)における熱伝導度が通常0.1W/mK以上、0.
2W/mK以下のものであり、さらに熱拡散の防止効果
を高めるために、0.1W/mK以上0.15W/mK
以下のものが好ましい。また、熱伝導度を低く抑え、断
熱効果を高めるために、基材の材料中に空気等の気体を
含有したもの、即ち密度の低いものが好ましく用いられ
る。前記断熱効果を高めるために、基材の密度0.5g
/cm3 以上2.0g/cm3 以下が好ましく、0.5
g/cm3 以上1.5g/cm3 以下が更に好ましい。
熱伝導度、密度が、上記範囲より著しく大きいと熱拡散
作用が弱くアブレーション効果を高めることが困難とな
り、また、著しく小さいと、基材の物理的強度が低下
し、印刷時に変形する場合がある。
For the purpose of exhibiting the function of enhancing the effect of the ablation, it is preferable that the base material has a lower thermal conductivity because it has better heat insulating properties, that is, prevents the diffusion of heat. As the substrate used in the present invention, 300K (27
° C) is usually 0.1 W / mK or more.
2 W / mK or less, and 0.1 W / mK or more and 0.15 W / mK in order to further enhance the effect of preventing thermal diffusion.
The following are preferred. In addition, in order to suppress the thermal conductivity and increase the heat insulating effect, a material containing a gas such as air in the material of the base material, that is, a material having a low density is preferably used. In order to enhance the heat insulating effect, the density of the substrate is 0.5 g.
/ Cm 3 or more and 2.0 g / cm 3 or less, preferably 0.5
g / cm 3 or more and 1.5 g / cm 3 or less are more preferable.
When the thermal conductivity and density are significantly larger than the above range, the heat diffusion effect is weak and it is difficult to enhance the ablation effect, and when it is extremely small, the physical strength of the base material is reduced and it may be deformed during printing. .

【0009】該基材の具体例としては、上質紙、樹脂加
工紙、コート紙等の紙類;木板;合成紙;発泡ポリエチ
レンテレフタレートシート、発泡ポリプロピレンシー
ト、発泡ポリエチレンシート、発泡ポリスチレンシート
等の発泡プラスチックシートを挙げることができるが、
基板の寸法安定性、インクに含まれる溶剤等に対する耐
薬品性等の観点から、コート紙、合成紙、アート紙、写
真印画紙原紙、発泡ポリエチレンテレフタレートシー
ト、発泡ポリプロピレンシート、発泡ポリエチレンシー
トが好ましい。また、印刷時に水を含有する洗浄剤によ
り印刷版を洗浄する工程がある場合には、耐水性のある
材料、即ち発泡プラスチック、または耐水処理された紙
が好ましい。
Specific examples of the substrate include papers such as high-quality paper, resin-treated paper, and coated paper; wood board; synthetic paper; foamed polyethylene terephthalate sheet, expanded polypropylene sheet, expanded polyethylene sheet, expanded polystyrene sheet, and the like. Plastic sheets can be mentioned,
Coated paper, synthetic paper, art paper, photographic printing paper base paper, foamed polyethylene terephthalate sheet, foamed polypropylene sheet, foamed polyethylene sheet are preferred from the viewpoints of dimensional stability of the substrate, chemical resistance to solvents and the like contained in the ink, and the like. When there is a step of cleaning the printing plate with a cleaning agent containing water at the time of printing, a water-resistant material, that is, a foamed plastic or a water-resistant paper is preferable.

【0010】該基材の厚さは10μm〜3mm、好まし
くは20μm〜1mm、更に好ましくは50μm〜50
0μmである。本発明に用いられる基材の表面には、感
光性平版印刷版の画像部のインク着肉性を高めるため
に、適当なクッション性を有し、インクローラーとの密
着性が高く、インク転写性を高める効果のあるインク着
肉性層を設け、複合基板を作製することができる。
The thickness of the substrate is 10 μm to 3 mm, preferably 20 μm to 1 mm, more preferably 50 μm to 50 mm.
0 μm. The surface of the base material used in the present invention has an appropriate cushioning property to enhance the ink adhesion of the image portion of the photosensitive lithographic printing plate, has a high adhesion to the ink roller, and has a high ink transfer property. The composite substrate can be manufactured by providing an ink-filling layer that has the effect of increasing the

【0011】該インク着肉性層の具体例としては、例え
ばポリエチレンテレフタレートシート、発泡ポリエチレ
ンテレフタレートシート、ポリプロピレンシート、発泡
ポリプロピレンシート、ポリエチレンシート、発泡ポリ
エチレンシート等が挙げられ、これらを例えばラミネー
ション等により基材表面に接合して用いることができ
る。これらの内、インク着肉性と共に、断熱効果を高め
る目的で、密度が0.1g/cm3 以上1.5g/cm
3 以下の発泡ポリエチレンテレフタレートシート、発泡
ポリプロピレンシート、発泡ポリエチレンシートが好ま
しい。また、インク着肉性層を設けることにより印刷版
の耐久性も向上する。
Specific examples of the ink inking layer include a polyethylene terephthalate sheet, a foamed polyethylene terephthalate sheet, a polypropylene sheet, a foamed polypropylene sheet, a polyethylene sheet, a foamed polyethylene sheet, and the like. It can be used by bonding to the material surface. Among them, the density is 0.1 g / cm 3 or more and 1.5 g / cm 3 for the purpose of enhancing the heat insulating effect together with the ink inking property.
A foamed polyethylene terephthalate sheet, a foamed polypropylene sheet, and a foamed polyethylene sheet of 3 or less are preferred. In addition, the durability of the printing plate is also improved by providing the ink deposition layer.

【0012】該インク着肉性層の厚さは1μm〜1m
m、好ましくは3μm〜100μm、更に好ましくは5
μm〜75μmである。また、本発明に用いられる基材
の裏面には、印刷版の耐久性を高める目的で補強層を設
け、複合基板を作製することができる。該補強層を設け
るために使用される補強用シートとしては、前記基材に
使用されるもの;前記インク着肉性層に使用されるも
の;アルミ板、銅板、鉄板等の金属板;アルミ箔等の金
属箔等から適宜選択して用いることができる。これらの
うち、ポリエチレンテレフタレートシート、発泡ポリエ
チレンテレフタレートシート、アルミ板が好ましい。該
補強層の厚さは10μm〜3mm、好ましくは20μm
〜1mm、更に好ましくは50μm〜500μmであ
る。さらに、本発明においては基材の表面にインク着肉
性層を設け、且つ裏面に補強層を設けた複合基板を作製
することもできる。
The thickness of the ink depositable layer is 1 μm to 1 m.
m, preferably 3 μm to 100 μm, more preferably 5 μm
μm to 75 μm. Further, a reinforcing layer is provided on the back surface of the base material used in the present invention for the purpose of enhancing the durability of the printing plate, and a composite substrate can be manufactured. Examples of the reinforcing sheet used for providing the reinforcing layer include: a sheet used for the base material; a sheet used for the ink deposition layer; a metal plate such as an aluminum plate, a copper plate, and an iron plate; an aluminum foil And the like can be appropriately selected from metal foils and the like. Among these, a polyethylene terephthalate sheet, a foamed polyethylene terephthalate sheet, and an aluminum plate are preferred. The thickness of the reinforcing layer is 10 μm to 3 mm, preferably 20 μm
11 mm, more preferably 50 μm to 500 μm. Further, in the present invention, it is also possible to produce a composite substrate in which an ink deposition layer is provided on the surface of the substrate and a reinforcing layer is provided on the back surface.

【0013】これら基材、インク着肉性層、及び補強層
は前述の如く、それぞれ断熱効果、インク着肉性、耐久
性を主たる目的としているので、感光性印刷版としての
性能を向上させるために、それぞれの特徴を生かし、互
いの不足を補うように適宜多層化することが好ましい。
このため、ある材料の基材に同種の材料をインク着肉性
層及び/又は補強層として接合する場合もあるが、その
場合は、断熱効果、インク着肉性、耐久性のそれぞれを
満足するため、目的に見合ったグレードの材料を適宜選
択すればよい。また、複合基板の場合には、複合基板全
体の熱伝導度が低いことが重要であることは言うまでも
ないが、少なくとも断熱領域を確保するために、基材自
体が断熱性であることが必須であり、表面に設けたイン
ク着肉性層も断熱性であることが好ましい。
As described above, the base material, the ink-adhesive layer, and the reinforcing layer are each mainly intended to have a heat insulating effect, ink-adhesiveness, and durability, and are therefore intended to improve the performance as a photosensitive printing plate. In addition, it is preferable to appropriately form a multilayer so as to make up for each other's shortage by making use of each characteristic.
For this reason, the same kind of material may be joined to a base material of a certain material as an ink-filling layer and / or a reinforcing layer, but in this case, each of the heat insulating effect, the ink-filling property, and the durability is satisfied. Therefore, a material of a grade suitable for the purpose may be appropriately selected. In the case of a composite substrate, it is of course important that the thermal conductivity of the entire composite substrate is low, but it is essential that the substrate itself be heat-insulating in order to at least secure a heat-insulating region. Therefore, it is preferable that the ink deposition layer provided on the surface is also heat-insulating.

【0014】本発明に用いられる好ましい複合基板の具
体例としては、例えば50μm〜500μmのアート
紙、上質紙、樹脂加工紙あるいはコート紙の表面に、イ
ンク着肉性層として20μm〜75μmのポリエチレン
テレフタレートシート、発泡ポリエチレンテレフタレー
トシート、ポリプロピレンシート、発泡ポリプロピレン
シート、ポリエチレンシート、あるいは発泡ポリエチレ
ンシートをラミネートしたものが挙げられる。更に、こ
の複合基板の裏面に、補強層として、前記インク着肉性
シートと同種のものあるいは、100μm〜500μm
のアルミ板をラミネートした3層のものが挙げられる。
As a specific example of a preferred composite substrate used in the present invention, for example, a 20 μm to 75 μm polyethylene terephthalate as an ink-adhesive layer is formed on the surface of art paper, high quality paper, resin processed paper or coated paper of 50 μm to 500 μm. Examples include a sheet, a foamed polyethylene terephthalate sheet, a polypropylene sheet, a foamed polypropylene sheet, a polyethylene sheet, and a laminated sheet of a foamed polyethylene sheet. Further, on the back surface of this composite substrate, as a reinforcing layer, the same type as the ink-injectable sheet or 100 μm to 500 μm
And three layers obtained by laminating an aluminum plate.

【0015】前記の断熱性基材にインク着肉性シートあ
るいは補強用シートをラミネートする際には、ラミネー
トする2つのシート面のどちらか、あるいは両方に例え
ば特開平2−225087号公報に記載のウレタン樹脂
等の接着剤を0.1〜10μmの厚さに塗布した後、7
0〜150℃、0.1〜50kg/cm2 、0.1〜5
0m/sの条件にてラミネートし、断熱性基材にインク
着肉性層あるいは補強層を形成する。
When laminating an ink-insulating sheet or a reinforcing sheet on the heat-insulating substrate, one or both of the two sheet surfaces to be laminated may be laminated, for example, as described in JP-A-2-25087. After applying an adhesive such as urethane resin to a thickness of 0.1 to 10 μm,
0 to 150 ° C, 0.1 to 50 kg / cm 2 , 0.1 to 5
Lamination is performed under the condition of 0 m / s, and an ink-insulating layer or a reinforcing layer is formed on the heat-insulating substrate.

【0016】以上詳述した通り、本発明において基材は
その物性値と層厚により基板構成において断熱機能の主
体となるべき層を意味するが、この断熱機能が有効に発
現される限り基板の層構成と基材との関係は当業者が想
到し得る程度の変形が可能である。例えば断熱機能を基
材とインク着肉性層とでほぼ均等に負担せしめたり、基
材自身を複合化して、統合的に本発明で特定する断熱機
能を発現せしめたり、その他必要に応じて他の層を介在
せしめることもありえよう。本発明において用いられる
感光性層は、近赤外レーザー光を効率よく吸収、熱に変
換し感光性層のアブレーションを起こし感光性層を除去
すると同時に、それによって生ずる熱に応答してシリコ
ーンゴム層のアブレーションを誘引し、溶融、揮発ある
いは燃焼させ、及び/または、感光性層のアブレーショ
ンの際の圧力により、これを除去せしめる機能を有する
近赤外吸収剤を含有する。
As described in detail above, in the present invention, the substrate means a layer that should be the main heat-insulating function in the substrate structure depending on its physical property value and layer thickness. The relationship between the layer configuration and the substrate can be modified to a degree that can be conceived by those skilled in the art. For example, the heat insulating function is almost equally borne between the base material and the ink depositing layer, or the base material itself is compounded to express the heat insulating function specified in the present invention in an integrated manner. It may be possible to intervene layers. The photosensitive layer used in the present invention efficiently absorbs near-infrared laser light, converts it into heat, causes ablation of the photosensitive layer and removes the photosensitive layer, and at the same time, responds to the heat generated by the silicone rubber layer. Contains a near-infrared absorbing agent having a function of inducing ablation, melting, volatilizing or burning, and / or removing the photosensitive layer by pressure during ablation.

【0017】本発明に用いられる近赤外吸収剤として
は、レーザー光の吸収で発生した熱により容易にアブレ
ーションを起こす性質を有するものである。具体的に
は、油性あるいは水性の一酸化チタン(TiO)、及び
/又は(チオ)ピリリウムポリメチンシアニン色素から
選ばれる。該(チオ)ピリリウムポリメチンシアニン色
素において好ましいものは、下記一般式(I)〜(III)
で表わされる化合物であり、
The near-infrared absorbing agent used in the present invention has a property of easily causing ablation by heat generated by absorption of laser light. Specifically, it is selected from oily or aqueous titanium monoxide (TiO) and / or (thio) pyrylium polymethine cyanine dye. Preferred among the (thio) pyrylium polymethine cyanine dyes are the following general formulas (I) to (III):
A compound represented by

【0018】[0018]

【化4】 Embedded image

【0019】〔式中、n及びmはそれぞれ0又は1を示
し、kは0、1又は2を示し、Y- は無機又は有機のア
ニオンを示し、R1 〜R6 はそれぞれ水素原子、炭素数
1〜15のアルキル基、置換されていても良い炭素数6
〜20の芳香族炭化水素基、置換されていても良い炭素
数4〜20の芳香族複素環基(置換されていても良い芳
香族炭化水素基及び置換されていても良い芳香族複素環
基上の置換基は、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数
1〜10のアルコキシ基、炭素数2〜10のアシル基、
炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基、塩素原子、
臭素原子の中から選ばれる。)、炭素数1〜15のアル
コキシ基、炭素数2〜15のアシル基、炭素数2〜10
のアルコキシカルボニル基、塩素原子、又は臭素原子を
示し、X1及びX2 はそれぞれ酸素原子又は硫黄原子を
示す。R7 〜R11はそれぞれ置換されていても良い炭素
数1〜15のアルキル基を示し、またR7 〜R11はそれ
ぞれ互いに結合し環状構造を形成していても良い。〕更
にこれらの内、n及びmはそれぞれ0又は1を示し、k
は0、1又は2を示し、Y-
[In the formula, n and m each represent 0 or 1, k represents 0, 1 or 2, Y represents an inorganic or organic anion, and R 1 to R 6 represent a hydrogen atom, a carbon atom, respectively. An alkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may be substituted
To 20 aromatic hydrocarbon groups, optionally substituted aromatic heterocyclic groups having 4 to 20 carbon atoms (optionally substituted aromatic hydrocarbon groups and optionally substituted aromatic heterocyclic groups The above substituent is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 10 carbon atoms,
An alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, a chlorine atom,
Selected from bromine atoms. ), An alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, an acyl group having 2 to 15 carbon atoms, and 2 to 10 carbon atoms
Represents an alkoxycarbonyl group, a chlorine atom or a bromine atom, and X 1 and X 2 each represent an oxygen atom or a sulfur atom. R 7 to R 11 each represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and R 7 to R 11 may be bonded to each other to form a cyclic structure. And n and m each represent 0 or 1;
Represents 0, 1 or 2, and Y - represents

【0020】[0020]

【化5】 Embedded image

【0021】I- 、Br- 、Cl- 、ClO4 - 、PF
6 - 又はBF4 - を示し、R1 、R2、R3 及びR4
フェニル基を示し、R5 及びR6 は各々水素原子又は炭
素数1〜5のアルキル基を示す化合物が好ましい。ま
た、R7 〜R11は水素原子または炭素数1〜10のアル
キル基が好ましく、水素原子又は炭素数1〜5のアルキ
ル基がさらに好ましい。また、R7 〜R11はそれぞれ互
いに結合し、環状構造をとっていてもよいが、該環状構
造として好ましいものは、
[0021] I -, Br -, Cl - , ClO 4 -, PF
6 - or BF 4 - shows a, R 1, R 2, R 3 and R 4 represents a phenyl group, compounds each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms R 5 and R 6 are preferred. R 7 to R 11 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. In addition, R 7 to R 11 may be bonded to each other to form a cyclic structure.

【0022】[0022]

【化6】 Embedded image

【0023】である。また、この時、置換基Rの好まし
いものは、水素原子、ハロゲン原子、フェニル基、ジフ
ェニルアミノ基、ジアルキルアミノ基または
## EQU1 ## At this time, preferred substituents R are a hydrogen atom, a halogen atom, a phenyl group, a diphenylamino group, a dialkylamino group or

【0024】[0024]

【化7】 Embedded image

【0025】である。本発明で用いられる近赤外吸収剤
の内、好ましいものの具体例を第1表に挙げるが、これ
らの例に限定されるものではない。第1表中、S−4
S−5は一酸化チタンの例であり、S−6S−29
(チオ)ピリリウムポリメチンシアニン色素の例であ
る。
## EQU1 ## Specific examples of preferred near-infrared absorbers used in the present invention are shown in Table 1, but are not limited to these examples. In Table 1, S-4
S-5 is an example of titanium monoxide, and S-6 to S-29 are examples of a (thio) pyrylium polymethine cyanine dye.

【0026】[0026]

【表1】第1表 S−4 三菱マテリアル社製 チタンブラック 13
M,S−5 三菱マテリアル社製 チタンブラック 12S
[Table 1] Table 1 S-4 manufactured by Mitsubishi Materials Corporation titanium black 13
M, S-5 Titanium Black 12S manufactured by Mitsubishi Materials Corporation

【0027】[0027]

【表2】 [Table 2]

【0028】[0028]

【表3】 [Table 3]

【0029】[0029]

【表4】 [Table 4]

【0030】[0030]

【表5】 [Table 5]

【0031】[0031]

【表6】 [Table 6]

【0032】[0032]

【表7】 [Table 7]

【0033】[0033]

【表8】 [Table 8]

【0034】[0034]

【表9】 [Table 9]

【0035】[0035]

【表10】 [Table 10]

【0036】これら近赤外吸収剤は、単独あるいは複数
混合し、感光性層塗布溶液中に溶解又は、分散させて配
合し、用いることができる。
These near-infrared absorbers can be used alone or as a mixture of two or more, dissolved or dispersed in a photosensitive layer coating solution, and blended for use.

【0037】該近赤外吸収剤を配合する場合、感光性層
中での配合率は、全感光性層固形分の5〜100重量
%、好ましくは10〜98重量%、更に好ましくは20
〜95重量%である。近赤外吸収剤の配合率が著しく低
いと、レーザー光を十分吸収できず、アブレーションの
効果が低下しやすい。この場合、感光性層の膜厚は、
0.05〜100μm、好ましくは0.1〜30μm、
さらに好ましくは0.3〜10μmである。また、該近
赤外吸収剤を蒸着あるいはスパッタリングにより、直接
基板上に近赤外吸収剤から成る感光性層を設けることも
できる。この場合は、膜厚として0.01〜0.5μ
m、好ましくは0.02〜0.4μmである。本発明で
用いられる感光性層中には、上記近赤外吸収剤の他に、
塗膜性、近赤外吸収剤との相溶性、感光性層中の膜強
度、及びアブレーションの効果を高める目的で、有機高
分子物質を添加することができる。
When the near-infrared absorbing agent is compounded, the compounding ratio in the photosensitive layer is 5 to 100% by weight, preferably 10 to 98% by weight, more preferably 20 to 100% by weight of the total solids in the photosensitive layer.
~ 95% by weight. If the compounding ratio of the near-infrared absorber is extremely low, the laser light cannot be sufficiently absorbed, and the ablation effect tends to be reduced. In this case, the thickness of the photosensitive layer is
0.05-100 μm, preferably 0.1-30 μm,
More preferably, it is 0.3 to 10 μm. Alternatively, a photosensitive layer comprising a near-infrared absorbing agent can be provided directly on the substrate by vapor deposition or sputtering of the near-infrared absorbing agent. In this case, the film thickness is 0.01 to 0.5 μm.
m, preferably 0.02 to 0.4 μm. In the photosensitive layer used in the present invention, in addition to the near infrared absorber,
An organic polymer substance can be added for the purpose of enhancing the coating properties, compatibility with the near-infrared absorbing agent, film strength in the photosensitive layer, and ablation effect.

【0038】該有機高分子物質としては、例えば、(メ
タ)アクリル酸やイタコン酸等の不飽和酸と、(メタ)
アクリル酸アルキル、(メタ)アクリル酸フェニル、
(メタ)アクリル酸ベンジル、スチレン、α−メチルス
チレン等との共重合体;ポリメチルメタクリレートに代
表されるメタクリル酸アルキルやアクリル酸アルキルの
重合体;(メタ)アクリル酸アルキルとアクリロニトリ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重
合体;アクリロニトリルと塩化ビニルや塩化ビニリデン
との共重合体;側鎖にカルボキシル基を有するセルロー
ス変性物;ポリエチレンオキシド;ポリビニルピロリド
ン;フェノール、o−、m−、p−クレゾール、及び/
又はキシレゾールとアルデヒド、アセトン等との縮合反
応で得られるノボラック樹脂;エピクロロヒドリンとビ
スフェノールAとのポリエーテル;可溶性ナイロン;ポ
リ塩化ビニリデン;塩素化ポリオレフィン;塩化ビニル
と酢酸ビニルとの共重合体;酢酸ビニルの重合体;アク
リロニトリルとスチレンとの共重合体;アクリロニトリ
ルとブタジエン及びスチレンとの共重合体;ポリビニル
アルキルエーテル;ポリビニルアルキルケトン;ポリス
チレン;ポリウレタン;ポリエチレンテレフタレートイ
ソフタレート;アセチルセルロース;アセチルプロピオ
キシセルロース;アセチルブトキシセルロース;セルロ
イド;ポリビニルブチラール等が用いられる。該有機高
分子物質の感光性層中における配合率は、全感光性層固
形分の0〜95重量%、好ましくは2〜90重量%、さ
らに好ましくは5〜80重量%である。
Examples of the organic polymer include unsaturated acids such as (meth) acrylic acid and itaconic acid;
Alkyl acrylate, phenyl (meth) acrylate,
Copolymers of benzyl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene and the like; alkyl methacrylate and alkyl acrylate polymers represented by polymethyl methacrylate; alkyl (meth) acrylate and acrylonitrile, vinyl chloride, Copolymers of vinylidene chloride, styrene, etc .; Copolymers of acrylonitrile with vinyl chloride or vinylidene chloride; Modified cellulose having a carboxyl group in the side chain; Polyethylene oxide; Polyvinylpyrrolidone; Phenol, o-, m-, p -Cresol, and / or
Or a novolak resin obtained by the condensation reaction of xylesol with aldehyde, acetone, etc .; polyether of epichlorohydrin with bisphenol A; soluble nylon; polyvinylidene chloride; chlorinated polyolefin; copolymer of vinyl chloride and vinyl acetate Vinyl acetate polymer; copolymer of acrylonitrile and styrene; copolymer of acrylonitrile, butadiene and styrene; polyvinyl alkyl ether; polyvinyl alkyl ketone; polystyrene; polyurethane; polyethylene terephthalate isophthalate; acetyl cellulose; Cellulose; acetylbutoxycellulose; celluloid; polyvinyl butyral and the like are used. The compounding ratio of the organic polymer substance in the photosensitive layer is from 0 to 95% by weight, preferably from 2 to 90% by weight, and more preferably from 5 to 80% by weight of the total solids of the photosensitive layer.

【0039】本発明においては、アブレーション効果を
高める化合物の内、感光性層中に以下に説明するニトロ
セルロースが好ましく用いられる。本発明に用いられる
ニトロセルロースは、近赤外レーザー光を近赤外吸収剤
が吸収し発生した熱により分解し、効率よく低分子のガ
スを発生することにより、感光性層上に設けられたシリ
コーンゴム層のうち、レーザー露光部の除去を促進する
機能を有する。
In the present invention, among the compounds that enhance the ablation effect, nitrocellulose described below is preferably used in the photosensitive layer. The nitrocellulose used in the present invention is provided on the photosensitive layer by decomposing by the heat generated by the absorption of the near-infrared laser light by the near-infrared absorber and efficiently generating a low-molecular gas. It has a function of accelerating the removal of the laser exposed portion of the silicone rubber layer.

【0040】該ニトロセルロースは、通常の方法により
精製した天然のセルロースを混酸で硝酸エステル化し、
セルロースの構成単位であるグルコピラノース環に存在
する3個の水酸基の部分にニトロ基を一部又は全部導入
することによって得られるものである。本発明に用いら
れるニトロセルロースの硝化度は2〜13であり、好ま
しくは10〜12.5であり、更に好ましくは11〜1
2.5である。ここで、硝化度とは、ニトロセルロース
中の窒素原子の重量%を表す。硝化度が著しく高いと、
アブレーションの促進効果は高められるものの、室温安
定性が低下する傾向にあり、また、ニトロセルロースが
爆発性となり、印刷版を作製する際のニトロセルロース
の取り扱いに危険が伴う。硝化度が著しく低いと、アブ
レーションの促進効果が充分得られない。
The nitrocellulose is obtained by nitrating natural cellulose purified by a conventional method with a mixed acid.
It is obtained by introducing a part or all of a nitro group into three hydroxyl groups present in a glucopyranose ring which is a constitutional unit of cellulose. The nitrification degree of the nitrocellulose used in the present invention is 2 to 13, preferably 10 to 12.5, and more preferably 11 to 1.
2.5. Here, the degree of nitrification indicates the weight% of nitrogen atoms in nitrocellulose. If the degree of nitrification is extremely high,
Although the effect of accelerating ablation is enhanced, the stability at room temperature tends to decrease, and the nitrocellulose becomes explosive, which poses a danger in handling the nitrocellulose when producing a printing plate. If the nitrification degree is extremely low, the effect of accelerating ablation cannot be sufficiently obtained.

【0041】また、該ニトロセルロースの重合度は20
〜200であり、好ましくは25〜150である。重合
度が著しく高いと、シリコーンゴム層の除去が不完全に
なり、レーザー露光部分(画像部分)のインク着肉性が
不良になる傾向にある。重合度が著しく低いと、感光性
層の塗膜性が不良になるとともに、シリコーンゴム層の
剥離が生じやすくなる傾向にある。該ニトロセルロース
の感光性層中での配合率は、感光性層全固形成分に対し
て5〜80重量%、好ましくは10〜70重量%、さら
に好ましくは30〜70重量%である。
The nitrocellulose has a degree of polymerization of 20.
200200, preferably 25-150. If the degree of polymerization is extremely high, the removal of the silicone rubber layer will be incomplete, and the ink adhesion of the laser-exposed portion (image portion) tends to be poor. If the degree of polymerization is extremely low, the coating properties of the photosensitive layer become poor and the silicone rubber layer tends to peel off. The compounding ratio of the nitrocellulose in the photosensitive layer is 5 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, more preferably 30 to 70% by weight, based on the total solid components of the photosensitive layer.

【0042】また、本発明の感光性層には、アブレーシ
ョンの効率を高める目的で炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、酸化ジルコニウム、カオリン等の熱電伝性の低
い5μm以下の微粒子を含有させたり、感光性層の膜強
度を高める為に、上記の微粒子の他に、酸化ケイ素、酸
化チタン等の微粒子を願させることが出来る。該微粒子
の配合率は、感光性層の全固形分の0〜50重量%、好
ましくは0〜25重量%である。
The photosensitive layer of the present invention may contain fine particles having a low thermal conductivity of 5 μm or less, such as calcium carbonate, magnesium carbonate, zirconium oxide, and kaolin, for the purpose of increasing the efficiency of ablation. In order to increase the film strength, fine particles of silicon oxide, titanium oxide, etc. can be applied in addition to the above fine particles. The compounding ratio of the fine particles is 0 to 50% by weight, preferably 0 to 25% by weight of the total solids of the photosensitive layer.

【0043】本発明に用いられるシリコーンゴム層とし
ては、以下に説明する縮合反応によりシリコーンゴム層
組成物を硬化させる縮合架橋タイプのものが用いられ
る。本発明に用いられる縮合反応型のシリコーンゴム層
は、付加反応型のものに比べ、空気中あるいは塗布溶媒
中に存在している微量のリン化合物、アミン化合物、エ
ポキシ化合物等との硬化反応による失活が少ないため、
シリコーンゴム層の安定性産性に優れている。
As the silicone rubber layer used in the present invention, a condensation-crosslinking type of curing the silicone rubber layer composition by a condensation reaction described below is used. The condensation-reaction type silicone rubber layer used in the present invention, compared with the addition-reaction type, has a loss due to a curing reaction with a trace amount of a phosphorus compound, an amine compound, an epoxy compound or the like existing in the air or in a coating solvent. Because there is little activity,
Excellent stability and productivity of silicone rubber layer.

【0044】本発明において用いられる縮合架橋タイプ
のシリコーンゴム層は、両末端に水酸基を有する線状オ
ルガノポリシロキサンと該オルガノポリシロキサンと架
橋しシリコーンゴム層を形成させる反応性シラン化合物
を必須成分として含むものである。両末端に水酸基を有
する線状オルガノポリシロキサンの含有量は、シリコー
ンゴム層の全固型分中80重量%以上98重量%未満で
あることが好ましい。また反応性シラン化合物の含有量
はシリコーンゴム層の全固型分中2重量%以上、80重
量%未満であることが好ましい。本発明で用いられる両
末端に水酸基を有する線状オルガポリシロキサンとして
は、下記一般式(IV)の線状オルガノポリシロキサンが
挙げられる。
The condensation-crosslinking type silicone rubber layer used in the present invention comprises, as essential components, a linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends and a reactive silane compound capable of crosslinking with the organopolysiloxane to form a silicone rubber layer. Including. The content of the linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends is preferably at least 80% by weight and less than 98% by weight based on the total solid content of the silicone rubber layer. Further, the content of the reactive silane compound is preferably 2% by weight or more and less than 80% by weight based on the total solid content of the silicone rubber layer. Examples of the linear organopolysiloxane having a hydroxyl group at both terminals used in the present invention include a linear organopolysiloxane represented by the following general formula (IV).

【0045】[0045]

【化8】 Embedded image

【0046】(式中、2つのR12は各々独立して、水素
原子、メチル基、フェニル基、ビニル基を示し、yは1
以上の整数を示す。) 上記一般式(IV)で表される化合物のうちR12がメチル
基であるものが好ましい。該オルガノポリシロキサンの
重量平均分子量(以下、Mwと略す)は5,000〜
1,000,000であり、好ましくは10,000〜
1,000,000である。Mwが著しく低いとシリコ
ーンゴム層の膜強度が低下し、耐印刷性が低くなり、ま
たMwが著しく高いとアブレーションによるシリコーン
ゴム層の除去効果が低下し、感度低下、画像再現性の低
下を起こしやすい。
(Wherein, two R 12 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, a phenyl group, or a vinyl group, and y is 1
The following integers are shown. Of the compounds represented by formula (IV), those in which R 12 is a methyl group are preferred. The weight average molecular weight (hereinafter, abbreviated as Mw) of the organopolysiloxane is from 5,000 to
1,000,000, preferably 10,000 to
1,000,000. If the Mw is extremely low, the film strength of the silicone rubber layer will be reduced, and the printing resistance will be reduced. If the Mw is extremely high, the effect of removing the silicone rubber layer by ablation will be reduced, resulting in reduced sensitivity and reduced image reproducibility. Cheap.

【0047】また、本発明に用いられる反応性シラン化
合物は、前記両末端に水酸基を有する線状オルガノポリ
シロキサンの水酸基と反応し、脱酢酸型、脱オキシム
型、脱アルコール型、脱アミノ型あるいは脱水型等の縮
合を起こし架橋することができる官能基を、少なくとも
2つ以上有する分子量2,000以下の反応性シラン化
合物が挙げられる。該官能基としては、具体的には例え
ば、下記各式で表される官能基が挙げられる。
The reactive silane compound used in the present invention reacts with the hydroxyl group of the linear organopolysiloxane having a hydroxyl group at both terminals to form a deacetic acid type, a deoxime type, a dealcohol type, a deamino type or A reactive silane compound having a molecular weight of 2,000 or less and having at least two or more functional groups capable of causing condensation and crosslinking, such as a dehydration type, is exemplified. Specific examples of the functional group include functional groups represented by the following formulas.

【0048】[0048]

【化9】 Embedded image

【0049】(式中、R13は炭素数1〜5のアルキル基
を示すが同一原子団に2個のR13がある場合、それぞれ
は同一でも異なっていても良い。) これらのうち、官能基がアシルオキシ基(−OCO
13)で官能基数が3以上のもの、あるいは官能基がア
ルコキシ基(−OR13)で官能基数が3以上のものは、
塗布後の乾燥処理後において短時間にシリコーンゴム層
を形成するため好ましい。更に好ましくは、官能基がア
セトキシ基で官能基数が3以上のもの、あるいは官能基
がアルコキシ基で官能基数が6以上のものである。
(In the formula, R 13 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. When two R 13 are present in the same atomic group, they may be the same or different.) Group is an acyloxy group (—OCO
R 13 ) having three or more functional groups or an alkoxy group (—OR 13 ) having three or more functional groups,
It is preferable to form a silicone rubber layer in a short time after the drying treatment after the application. More preferably, the functional group is an acetoxy group and the number of functional groups is 3 or more, or the functional group is an alkoxy group and the number of functional groups is 6 or more.

【0050】該反応性シラン化合物としては例えば下記
一般式(V)〜(VIII)で表される化合物を挙げること
ができる。式中Qは前記した両末端に水酸基を有する線
状オルガノポリシロキサンの水酸基と反応する官能基か
ら選ばれたものを表し、Qは1分子中に少なくとも2個
有するものとする。
Examples of the reactive silane compound include compounds represented by the following formulas (V) to (VIII). In the formula, Q represents a group selected from the functional groups which react with the hydroxyl groups of the above-mentioned linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends, and Q has at least two in one molecule.

【0051】[0051]

【化10】 Embedded image

【0052】(式中、Xは炭素数1〜5のアルキル基、
フェニル基、ビニル基、H2 N−(CH2h −、CH
2 =C(CH3 )CO−、CH2 =CHCO−、
(Wherein X is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms;
Phenyl group, vinyl group, H 2 N- (CH 2) h -, CH
2 CC (CH 3 ) CO—, CH 2 CHCHCO—,

【0053】[0053]

【化11】 Embedded image

【0054】を示し、R13は前記と同様に炭素数1〜5
のアルキル基を示し、R14はアリル基又は−(CH2
q −SiR13 3-p p を示し、R15は水素原子、炭素数
1〜5のアルキル基、又はフェニル基を示すが、R13
14、R15のそれぞれが同一分子内に複数存在する場
合、その複数個のそれぞれは同一でも異なっていても良
く、h、j及びqは各々1〜5の整数を示し、p及びr
は各々1〜3の整数を示し、sは2〜4の整数を示し、
t及びuは各々0〜5の整数を示す。) 下記一般式(IX)、(X)で表される化合物はアルコキ
シ基を6個以上、(XI)で表される化合物はアシルオキ
シ基を3個以上有しており、本発明に用いられる反応性
シラン化合物として特に有利である。
Wherein R 13 has 1 to 5 carbon atoms as described above.
R 14 represents an allyl group or — (CH 2 )
q -SiR 13 shows a 3-p Q p, R 15 is a hydrogen atom or an alkyl group, or a phenyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 13,
When a plurality of R 14 and R 15 are present in the same molecule, each of the plurality may be the same or different, and h, j and q each represent an integer of 1 to 5, and p and r
Each represents an integer of 1 to 3, s represents an integer of 2 to 4,
t and u each represent an integer of 0-5. The compounds represented by the following general formulas (IX) and (X) have 6 or more alkoxy groups, and the compounds represented by (XI) have 3 or more acyloxy groups. It is particularly advantageous as a reactive silane compound.

【0055】[0055]

【化12】 Embedded image

【0056】(一般式(IX)中、qは1〜10の整数を
示し、R16は炭素数1〜5のアルキル基を示す。)
(In the general formula (IX), q represents an integer of 1 to 10, and R 16 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)

【0057】[0057]

【化13】 Embedded image

【0058】(一般式(X)中、qは1〜10の整数を
示し、R16は炭素数1〜5のアルキル基を示す。)
(In the general formula (X), q represents an integer of 1 to 10, and R 16 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)

【0059】[0059]

【化14】 Embedded image

【0060】(一般式(XI)中、Tは炭素数1〜5のア
ルキル基、フェニル基、又はビニル基を示し、qは1〜
10の整数を示し、R16は炭素数1〜5のアルキル基を
示し、sは3又は4を示す。) 本発明に用いられる反応性シラン化合物について第2表
にさらに具体的な例を挙げるが、これら例示されるもの
に限定されるものではない。
(In the general formula (XI), T represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a vinyl group, and q represents 1 to 5)
An integer of 10, R 16 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and s represents 3 or 4. Table 2 shows more specific examples of the reactive silane compound used in the present invention, but the present invention is not limited to these examples.

【0061】[0061]

【表11】 [Table 11]

【0062】[0062]

【表12】 [Table 12]

【0063】[0063]

【表13】 [Table 13]

【0064】本発明に使用される縮合架橋タイプのシリ
コーンゴム層は、上記の両末端に水酸基を有するオルガ
ノポリシロキサンと反応性シラン化合物の縮合架橋反応
の反応効率を高めるため、有機カルボン酸、チタン酸エ
ステル、錫酸エステル、アルミ有機エーテル、白金系触
媒等の縮合触媒を適宜混合させ縮合反応を行い硬化させ
る。
The condensation-crosslinking type silicone rubber layer used in the present invention is composed of an organic carboxylic acid, a titanium compound, and a silane compound in order to increase the reaction efficiency of the condensation crosslinking reaction between the organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends and the reactive silane compound. A condensation catalyst such as an acid ester, a stannate, an aluminum organic ether, and a platinum-based catalyst is appropriately mixed, and a condensation reaction is performed to cure the mixture.

【0065】本発明において用いられる両末端に水酸基
を有するオルガノポリシロキサン、反応性シラン化合物
及び縮合触媒のシリコーンゴム層中での配合率は、全シ
リコーンゴム層の固形分に対し、両末端水酸基を有する
オルガノポリシロキサンが80〜98重量%、好ましく
は85〜98重量%、反応性シラン化合物が、通常2〜
20重量%、好ましくは2〜15重量%、さらに好まし
くは2〜7重量%、縮合触媒が0.05〜5重量%、好
ましくは0.1〜3重量%、さらに好ましくは0.1〜
1重量%である。
The compounding ratio of the organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends used in the present invention, the reactive silane compound and the condensation catalyst in the silicone rubber layer is such that the hydroxyl groups at both ends are based on the solid content of the entire silicone rubber layer. The organopolysiloxane has 80 to 98% by weight, preferably 85 to 98% by weight, and the reactive silane compound usually has
20% by weight, preferably 2 to 15% by weight, more preferably 2 to 7% by weight, and the condensation catalyst is 0.05 to 5% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight, more preferably 0.1 to 3% by weight.
1% by weight.

【0066】反応性シラン化合物、或いは、縮合触媒の
割合が著しく高いとインク反撥性が低下し、また、アブ
レーション時のシリコーンゴム層の除去が困難になり、
感度及び画像再現性が低下する。また、反対に著しく低
いとシリコーンゴム層の膜強度が低下し、印刷耐久性が
低下する。
If the ratio of the reactive silane compound or the condensation catalyst is extremely high, the ink repellency decreases, and it becomes difficult to remove the silicone rubber layer during ablation.
Sensitivity and image reproducibility decrease. On the other hand, when it is extremely low, the film strength of the silicone rubber layer is reduced, and the printing durability is reduced.

【0067】本発明に使用される縮合架橋タイプのシリ
コーンゴム層には、シリコーンゴム層のインク反撥性を
高めるために、上記の両端に水酸基を有するポリオルガ
ノシロキサン以外のポリシロキサンをシリコーンゴム層
全固形分に対し、2〜15重量%、好ましくは3〜12
重量%含有させることが出来る。該ポリシロキサンとし
ては例えば、両末端がトリメチルシリル化されたMw1
0,000〜1,000,000のポリジメチルシロキ
サン等が挙げられる。
In order to increase the ink repellency of the silicone rubber layer, a polysiloxane other than the above-mentioned polyorganosiloxane having a hydroxyl group at both ends is used for the silicone rubber layer. 2 to 15% by weight, preferably 3 to 12% by weight based on the solid content
% By weight. As the polysiloxane, for example, Mw1 in which both terminals are trimethylsilylated
And a polydimethylsiloxane of 000 to 1,000,000.

【0068】これらのシリコーンゴム層は印刷インク反
撥性、耐印刷性に優れ、さらにアブレーションにより容
易に除去され、高感度で、高い画像再現性を与える機能
を有する。該シリコーンゴム層の引掻傷強度は10〜1
00gであることが好ましい。但し、引掻傷強度とは、
0.2mmのサファイア針を印刷版上に加重を加えなが
ら、10cm/分のスピードで移動させた際、引掻傷が
発生するために必要な加重(g)を表す。引掻傷強度が
上記範囲であれば、印刷インク反撥性、耐印刷性、感
度、画像再現性等の印刷適性が良好となる。本発明にお
いて用いられるシリコーンゴム層の膜厚は0.1〜10
μm、好ましくは0.2〜5μm、さらに好ましくは
0.3〜2μmである。
These silicone rubber layers have excellent printing ink repellency and printing resistance, are easily removed by ablation, and have a function of providing high sensitivity and high image reproducibility. The silicone rubber layer has a scratch strength of 10 to 1
It is preferably 00 g. However, the scratch strength is
When a 0.2 mm sapphire needle is moved at a speed of 10 cm / min while applying a load on the printing plate, it represents the load (g) required to cause scratches. When the scratch strength is in the above range, printability such as repellency, printing resistance, sensitivity, and image reproducibility of the printing ink becomes good. The thickness of the silicone rubber layer used in the present invention is 0.1 to 10
μm, preferably 0.2 to 5 μm, more preferably 0.3 to 2 μm.

【0069】以上に記載した感光性層組成物、シリコー
ンゴム層組成物は、適当な溶剤に溶解して溶液となし、
これを支持体にワイヤーバー、スピナー、ロールコータ
ー等の各種の塗布装置により前記基板上に塗布した後、
乾燥して、それぞれ感光性層、シリコーンゴム層を形成
することができる。感光性層の塗布溶剤としては、例え
ばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル等の
エステル類、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼ
ン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、トリクロロエタ
ン等の炭化水素やハロゲン化炭化水素類、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン等のエー
テル類、さらにはプロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、ベントキソン、ジメチルホルムアミド
など常用のものを用いることが出来、シリコーンゴム層
の塗布溶剤としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、
石油エーテル、脂肪族炭化水素系溶剤エクソン化学
(株)製:アイソパーE、H、G及びこれらの溶剤と上
記の感光性層塗布溶剤との混合溶媒等を用いることが出
来る。
The above-described photosensitive layer composition and silicone rubber layer composition are dissolved in a suitable solvent to form a solution,
After applying this on the substrate by various coating devices such as a wire bar, a spinner and a roll coater on the support,
After drying, a photosensitive layer and a silicone rubber layer can be respectively formed. Examples of the coating solvent for the photosensitive layer include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; esters such as butyl acetate, amyl acetate and ethyl propionate; and hydrocarbons such as toluene, xylene, monochlorobenzene, carbon tetrachloride, trichloroethylene, and trichloroethane. And halogenated hydrocarbons, methylcellosolve, ethylcellosolve, ethers such as tetrahydrofuran, and further, propylene glycol monomethyl ether acetate, bentoxone, dimethylformamide and the like can be used in common use.As a coating solvent for the silicone rubber layer, n-hexane, cyclohexane,
Petroleum ether, aliphatic hydrocarbon solvent Exxon Chemical Co., Ltd .: Isopar E, H, G, and a mixed solvent of these solvents and the above-mentioned photosensitive layer coating solvent can be used.

【0070】また、必要に応じて、該塗布試料はシリコ
ーンゴム層を保護する目的で、ポリプロピレンシート、
ポリエチレンシート、離型処理ポリエチレンテレフタレ
ート等の各種離型性プラスチックシート、離型処理紙、
アルミ、鉄、銅等の金属シート等をシリコーンゴム層上
にラミネートし設けることができる。上記の感光性層及
びシリコーンゴム層を基板上に設けた感光性試料は、通
常680〜1200nmの近赤外光を発振する半導体レ
ーザー光を5〜30μm径に集光したビームスポットに
より走査露光を行い、露光部分をアブレーションさせた
後、後処理なしに印刷版として使用されるが、該露光済
み試料上に付着したアブレーションで発生した感光性層
或いはシリコーンゴム層の微粒子を除去する目的で、シ
リコーンゴム層表面を必要に応じてエタノール等の水溶
性の有機溶剤を含んだ水溶液又は有機溶剤を供給しなが
らブラシ、パッド、超音波、スプレー等の物理刺激を与
える後処理を行ってもよい。
Further, if necessary, the coated sample may be coated with a polypropylene sheet to protect the silicone rubber layer.
Various release plastic sheets such as polyethylene sheet, release treated polyethylene terephthalate, release treated paper,
A metal sheet of aluminum, iron, copper or the like can be laminated on the silicone rubber layer. The photosensitive sample provided with the photosensitive layer and the silicone rubber layer on the substrate is usually subjected to scanning exposure with a beam spot obtained by condensing a semiconductor laser light oscillating near infrared light of 680 to 1200 nm to a diameter of 5 to 30 μm. After the exposed portion is ablated, the exposed portion is used as a printing plate without post-processing.In order to remove fine particles of the photosensitive layer or silicone rubber layer generated by ablation attached to the exposed sample, silicone is used. A post-treatment of applying a physical stimulus such as a brush, a pad, an ultrasonic wave, or a spray may be performed while supplying an aqueous solution or an organic solvent containing a water-soluble organic solvent such as ethanol to the surface of the rubber layer as necessary.

【0071】また、該アブレーションで発生した微粒子
を除去する他の方法としては、該微粒子に対してシリコ
ーンゴム層より接着性の高い表面を有するカバーシート
を本発明で用いられる感光性試料のシリコーンゴム層上
に、露光前にシリコーンゴム表面と接着性のカバーシー
ト表面が合わさるようにラミネートし、露光後、該カバ
ーシートを剥離、シリコーンゴム層上の微粒子を除く方
法、或いは、露光済み試料のシリコーンゴム層に前記と
同様にカバーシートをラミネートした後剥離する方法が
挙げられる。該カバーシートとしては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、紙
等の基版上に、シリコーンゴム、アイオノマー、酢酸ビ
ニル等の粘着層を必要に応じて設けたものが挙げられ
る。
As another method for removing fine particles generated by the ablation, a cover sheet having a surface having a higher adhesiveness to the fine particles than the silicone rubber layer may be used as the silicone rubber of the photosensitive sample used in the present invention. On the layer, before exposure, the silicone rubber surface and the adhesive cover sheet surface are laminated so that they match, and after exposure, the cover sheet is peeled off, a method of removing fine particles on the silicone rubber layer, or the exposed sample silicone. A method of laminating a cover sheet on a rubber layer in the same manner as described above and then peeling off the cover sheet is exemplified. Examples of the cover sheet include a base plate made of polyethylene terephthalate, polypropylene, polycarbonate, paper, and the like, on which an adhesive layer made of silicone rubber, ionomer, vinyl acetate, or the like is provided as necessary.

【0072】[0072]

【実施例】本発明を実施例によりさらに具体的に説明す
るが本発明は以下の実施例に限定されるものではない。実施例1〜3、比較例1〜3 第3表に示す基板上に、下記の感光性組成物を塗布し
た。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 The following photosensitive compositions were applied on the substrates shown in Table 3.

【0073】 〔感光性層組成物〕 近赤外吸収剤:第3表に記載の化合物 第3表に記載の配合量 有機高分子物質:フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド社製、PKH−J) 20重量部 塗布溶媒:シクロヘキサノン 600重量部 ジクロロエタン 100重量部 エタノール 100重量部 塗布後、85℃で3分間乾燥し、乾燥膜厚1μmの感光
性層を設けた。続いて該感光性層上に下記組成のシリコ
ーンゴム層を塗布した。
[Photosensitive layer composition] Near-infrared absorbing agent: Compound shown in Table 3 Compounding amount shown in Table 3 Organic polymer substance: Phenoxy resin (PKH-J, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) 20 weight Part Coating solvent: cyclohexanone 600 parts by weight Dichloroethane 100 parts by weight Ethanol 100 parts by weight After coating, the coating was dried at 85 ° C. for 3 minutes to provide a photosensitive layer having a dry film thickness of 1 μm. Subsequently, a silicone rubber layer having the following composition was applied on the photosensitive layer.

【0074】〔シリコーンゴム層組成物〕両末端に水酸
基を有する線状オルガノポリシロキサン:下式の化合物
(yは1以上の整数を示す)
[Silicone rubber layer composition] Linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends: Compound of the following formula (y represents an integer of 1 or more)

【0075】[0075]

【化15】 Embedded image

【0076】 反応性シラン化合物:第3表に記載の化合物 第3表に記載の配合量 縮合触媒:ジブチル錫ジラウレート 0.8重量部 塗布溶媒:アイソパーE(エクソン化学社製) 900重量部 塗布後、100℃で4分間乾燥し、乾燥膜厚1μmのシ
リコーンゴム層を設け感光性試料を作製した。
Reactive silane compound: Compound shown in Table 3 Compounding amount shown in Table 3 Condensation catalyst: 0.8 parts by weight of dibutyltin dilaurate Coating solvent: 900 parts by weight of Isopar E (manufactured by Exxon Chemical Co.) After coating After drying at 100 ° C. for 4 minutes, a silicone rubber layer having a dry film thickness of 1 μm was provided to prepare a photosensitive sample.

【0077】該感光性試料を、円周20cmの回転ドラ
ムに、シリコーンゴム層が外側になるように固定し、ド
ラムを回転させた。次に回転している試料上に、830
nm、30mWの半導体レーザー光(日立製作所社製、
HL8325G)を、ビーム径15μmに集光させ、走
査露光を行った。続いて以下の項目について評価を行っ
た。その結果を第3表に示す。
The photosensitive sample was fixed on a rotating drum having a circumference of 20 cm so that the silicone rubber layer was on the outside, and the drum was rotated. Next, 830 is placed on the rotating sample.
nm, 30mW semiconductor laser light (Hitachi, Ltd.,
HL8325G) was condensed to a beam diameter of 15 μm, and scanning exposure was performed. Subsequently, the following items were evaluated. Table 3 shows the results.

【0078】〔感 度〕各種回転数で回転ドラムを回転
させながら、試料を走査露光させた後、該試料を400
倍の顕微鏡で観測し、レーザー露光部分のシリコーンゴ
ム層が、除去される最高走査速度(cm/秒)により、
感度の評価を行った。走査速度が高いほど高感度である
ことを表す。
[Sensitivity] The sample was scanned and exposed while rotating the rotating drum at various rotation speeds.
Observed with a microscope at × magnification, the maximum scanning speed (cm / sec) at which the silicone rubber layer at the laser-exposed area is removed,
The sensitivity was evaluated. The higher the scanning speed, the higher the sensitivity.

【0079】〔インク着肉性〕レーザー光による最低走
査速度の走査露光で幅15μmの細線画像を形成させた
試料に、湿し水不要平版印刷版用印刷インキ(東洋イン
キ社製アクワレスエコー紅)を7cm径のゴムローラー
で練った後、インクが付着したローラーを試料のシリコ
ーンゴム層に接触させた状態で試料上を往復移動させて
インク盛りを行い、インク盛り初期に試料シリコーンゴ
ム非画線部上に一時的に付着したインクが、ローラーの
往復により徐々に除去され、完全にインクが除去された
時の試料を用い、該試料の上に三菱特菱アート紙(三菱
製紙社製)を試料のシリコーンゴム層と該アート紙のコ
ート面とが重なるように2kg/cm2 、60cm/分
でラミネートした後、該アート紙を剥離し、アート紙上
に形成された細線インク画像より、インク着肉性の評価
を行った。
[Ink Ink Adhesion] A printing ink for a lithographic printing plate requiring no dampening solution (Aqualess Echo Red manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) ) Is kneaded with a rubber roller having a diameter of 7 cm, and then the ink-adhered roller is reciprocated on the sample in a state of being in contact with the silicone rubber layer of the sample to perform ink replenishment. The ink temporarily attached to the line portion is gradually removed by the reciprocation of the roller, and a sample from which the ink has been completely removed is used. A Mitsubishi Tokishi Art Paper (manufactured by Mitsubishi Paper Mills) is placed on the sample. the was laminated with 2kg / cm 2, 60cm / min to overlap and the coated surface of the silicone rubber layer and the art paper samples were peeled off the art paper, which is formed on art paper thin line Than link image, we were evaluated for ink receptivity.

【0080】 A:95%以上の連続した細線画像がアート紙上に再現
される B:5%を越え、20%以下の細線画像部分がアート紙
上に転写されず、とぎれとぎれの細線画像が再現され
た。 C:20%を越え、40%以下の細線画像部分がアート
紙上に転写されず、とぎれとぎれの細線画像が再現され
た。 D:40%を越える細線画像部分がアート紙上に転写さ
れず、とぎれとぎれの細線画像が再現された。
A: A continuous fine line image of 95% or more is reproduced on art paper. B: A fine line image portion exceeding 5% and not more than 20% is not transferred onto the art paper, and a fine line image that is discontinuous is reproduced. . C: Fine line image portions exceeding 20% and 40% or less were not transferred onto the art paper, and intermittent fine line images were reproduced. D: Fine line image portions exceeding 40% were not transferred onto the art paper, and intermittent fine line images were reproduced.

【0081】[0081]

【表14】 *1:( )内はシリコーンゴム層の全固形分に対する重量%を表す。 *2:( )内は感光性層の全固形分に対する重量%を表す。[Table 14] * 1: The values in parentheses indicate the percentage by weight based on the total solid content of the silicone rubber layer. * 2: The values in parentheses indicate the percentage by weight based on the total solid content of the photosensitive layer.

【0082】第3表中基板の欄の略号(K−1K−
)は以下の基板を表す。K−1 75μmのポリエチレンテレフタレートK−2 100μmのコート紙の両面に35μm、密度
1.2の発泡ポリエチレンテレフタレートシートをラミ
ネートした複合基板。第3表中、反応性シラン化合物の
欄の略号(Si1Si21、)はそれぞれ第2表に挙
げた化合物を表す。第3表中、近赤外吸収剤の欄の略号
S−6S−11)は、それぞれ第1表に挙げた化合
物を表す。また、略号(CS−1CS−2CS−
)は、下記の化合物を表す。
The abbreviations ( K-1 and K-
2 ) represents the following substrate. K-1 75 μm polyethylene terephthalate K-2 A composite substrate obtained by laminating 35 μm foamed polyethylene terephthalate sheet having a density of 1.2 on both sides of 100 μm coated paper. In Table 3, the abbreviations ( Si1 , Si21 ) in the column of the reactive silane compound represent the compounds listed in Table 2, respectively. In Table 3, the abbreviations ( S-6 , S-11 ) in the column of the near-infrared absorber represent the compounds listed in Table 1, respectively. Abbreviations ( CS-1 , CS-2 , CS-
3 ) represents the following compound.

【0083】[0083]

【化16】 Embedded image

【0084】実施例4 実施例3において、感光性層組成物を下記のものに変更
する以外、他は同様にして感光性試料を作製し、同様に
評価を行った。その結果、感度(58m/s)、インク
着肉性(A)を得た。
Example 4 A photosensitive sample was prepared in the same manner as in Example 3 except that the photosensitive layer composition was changed to the following, and the evaluation was performed in the same manner. As a result, the sensitivity (58 m / s) and the ink inking property (A) were obtained.

【0085】 〔感光性層組成物〕 近赤外吸収剤: 一酸化チタン(三菱マテリアル社製、チタンブラック13M) 70重量部 有機高分子物質: スチレン−アクリル酸共重合体 30重量部 (ジョンソンポリマー社製、ジョングリオJ−555) 塗布溶媒: シクロヘキサノン 800重量部[Photosensitive layer composition] Near infrared absorber: 70 parts by weight of titanium monoxide (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, titanium black 13M) Organic polymer substance: 30 parts by weight of styrene-acrylic acid copolymer (Johnson polymer Co., Ltd., John Griot J-555) Coating solvent: Cyclohexanone 800 parts by weight

【0086】実施例5〜19、比較例4〜17 第4表に示す基板上に、下記の感光性層組成物をワイヤ
ーバーを用いて塗布した。 〔感光性層組成物〕 近赤外吸収剤:第4表に記載の化合物 50重量部 ニトロセルロース:硝化度12、平均重合度40のもの 50重量部 塗布溶媒:シクロヘキサノン 300重量部 N−メチルピロリドン 600重量部 塗布後、85℃で3分間乾燥し、乾燥膜厚1μmの感光
性層を設けた。続いて該感光性層上に下記組成のシリコ
ーンゴム層組成物を塗布した。 〔シリコーンゴム層組成物〕両末端に水酸基を有する線
状オルゴノポリシロキサン:下記の化合物(yは1以上
の整数を示す)
Examples 5 to 19 and Comparative Examples 4 to 17 The following photosensitive layer compositions were applied to the substrates shown in Table 4 using a wire bar. [Photosensitive layer composition] Near-infrared absorber: 50 parts by weight of compounds shown in Table 4 Nitrocellulose: 50 parts by weight having a nitrification degree of 12 and an average degree of polymerization of 40 Coating solvent: 300 parts by weight of cyclohexanone N-methylpyrrolidone After coating at 600 parts by weight, the coating was dried at 85 ° C. for 3 minutes to provide a photosensitive layer having a dry film thickness of 1 μm. Subsequently, a silicone rubber layer composition having the following composition was applied onto the photosensitive layer. [Silicone rubber layer composition] Linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends: The following compound (y represents an integer of 1 or more)

【0087】[0087]

【化17】 Embedded image

【0088】 反応性シラン化合物:第4表に記載の化合物 7重量部 縮合触媒:ジブチル錫ジラウレート 0.8重量部 塗布溶媒:アイソパーE(エクソン化学社製) 900重量部 塗布後、100℃で4分間乾燥し、第4表に記載の乾燥
膜厚となるようにシリコーンゴム層を設け、感光性平版
印刷版を作製した。該感光性平版印刷版を、円周20c
mの回転ドラムに、シリコーン層が外側になるように固
定し、ドラムを回転させた。次に回転している印刷版上
に、830nm、30mWの半導体レーザー(日立製作
所社製、HL8325G)を、ビーム径15μmに集光
させ、走査露光を行った。続いて以下の項目について評
価を行った。その結果を第4表に示す。
Reactive silane compound: 7 parts by weight of compounds described in Table 4 Condensation catalyst: 0.8 part by weight of dibutyltin dilaurate Coating solvent: 900 parts by weight of Isopar E (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) After drying for a minute, a silicone rubber layer was provided so as to have a dry film thickness shown in Table 4 to prepare a photosensitive lithographic printing plate. The photosensitive lithographic printing plate is placed on a circumference 20c.
m and the silicone layer was fixed to the outside of the rotating drum, and the drum was rotated. Next, a 830 nm, 30 mW semiconductor laser (HL8325G, manufactured by Hitachi, Ltd.) was condensed to a beam diameter of 15 μm on the rotating printing plate, and scanning exposure was performed. Subsequently, the following items were evaluated. Table 4 shows the results.

【0089】〔実用感度〕露光済み感光性平版印刷版を
印刷機(DAIYA IF−2)に装着し、該印刷版表
面を東レ社製プレートクリーナー(PC−1)を用いて
洗浄した後、以下の条件で印刷を行った。 ・印刷速度:6000枚/h ・インキ:ニューALPO−G藍L(T&K東華社製) ・印刷紙:OK特アート(王子製紙社製) ・印圧時のニップ幅:版−ブランケット間 7.8〜8.8mm 版−インキ付けローラ間 4.6〜5.5mm ・温度:K1ロール 35℃ 室温 25℃ ・印刷枚数:10000枚 得られた印刷物のインク画像を100倍の顕微鏡で観測
し、レーザー露光部分に相当するインク画像が得られた
ときの該レーザーの最高走査速度(cm/s)により感
度の評価を行った。走査速度が高いほど高感度であるこ
とを表す。
[Practical sensitivity] The exposed photosensitive lithographic printing plate was mounted on a printing machine (DAIYA IF-2), and the surface of the printing plate was washed using a plate cleaner (PC-1) manufactured by Toray Industries, Inc. Printing was performed under the following conditions.・ Printing speed: 6000 sheets / h ・ Ink: New ALPO-G indigo L (manufactured by T & K Toka) ・ Printing paper: OK special art (manufactured by Oji Paper) ・ Nip width during printing: between plate and blanket 8 to 8.8 mm Between plate and inking roller 4.6 to 5.5 mm ・ Temperature: K1 roll 35 ° C. Room temperature 25 ° C. ・ Number of prints: 10,000 sheets The ink image of the obtained printed matter is observed with a microscope of 100 ×, The sensitivity was evaluated based on the maximum scanning speed (cm / s) of the laser when an ink image corresponding to the laser-exposed portion was obtained. The higher the scanning speed, the higher the sensitivity.

【0090】〔地汚れ〕該印刷物の非画線部のインク付
着量(地汚れ)をマスベス濃度計(TR927SPIフ
ィルター シアン用)を用いて測定し評価を行った。 A:非画線部の光学密度が0.01未満であった。 B:非画線部の光学密度が0.01以上0.04未満で
あった。 C:非画線部の光学密度が0.04以上0.1未満であ
った。 D:非画線部の光学密度が0.1以上0.3未満であっ
た。 E:非画線部の光学密度が0.3以上であった。 F:印刷画像の形成が不十分であり評価不可能であっ
た。
[Background Smear] The amount of ink adhering to the non-image area of the printed matter (background smear) was measured using a MABETH densitometer (TR927 SPI filter for cyan) and evaluated. A: The optical density of the non-image area was less than 0.01. B: The optical density of the non-image area was 0.01 or more and less than 0.04. C: The optical density of the non-image area was 0.04 or more and less than 0.1. D: The optical density of the non-image area was 0.1 or more and less than 0.3. E: The optical density of the non-image area was 0.3 or more. F: The formation of the printed image was insufficient and evaluation was not possible.

【0091】〔シリコーン剥離〕印刷後の印刷版の非画
線部のシリコーンゴム層を目視で観測し、シリコーンゴ
ム層の感光性層からの剥離の程度を評価した。 A:シリコーンゴム層の剥離は全く見られなかった。 B:非画線部のシリコーンゴム層のうち10%未満が剥
離した。 C:非画線部のシリコーンゴム層のうち10%以上20
未満が剥離した。 D:非画線部のシリコーンゴム層のうち20%以上が剥
離した。
[Silicone Peeling] The silicone rubber layer in the non-image area of the printing plate after printing was visually observed, and the degree of peeling of the silicone rubber layer from the photosensitive layer was evaluated. A: No peeling of the silicone rubber layer was observed. B: Less than 10% of the silicone rubber layer in the non-image area was peeled off. C: 10% or more and 20 of the silicone rubber layer in the non-image area
Less than peeled. D: 20% or more of the silicone rubber layer in the non-image area was peeled off.

【0092】[0092]

【表15】 [Table 15]

【0093】[0093]

【表16】 [Table 16]

【0094】第4表中、基板の欄の略号(K−1K−
K−3K−4K−5)は前記と同じものを表
す。第4表中、反応性シラン化合物の欄の略号(Si
1、Si4、Si9、Si11、Si21、Si22、
Si23)はそれぞれ第2表に記載の化合物を表す。第
4表中、近赤外吸収剤の欄の略号(S−4、S−5、S
−6、S−14、S−18、S−19、S−37)はそ
れぞれ第1表に記載の化合物を表す。また、略号(CS
−1、CS−2)は前記と同じものを表し、略号(CS
−3、CS−4、CS−5、CS−6、CS−7、CS
−8)は以下のものを表す。
In Table 4, abbreviations ( K-1 , K-
2 , K-3 , K-4 , K-5 ) represent the same as described above. In Table 4, abbreviations (Si
1, Si4, Si9, Si11, Si21, Si22,
Si23) represents the compounds described in Table 2. In Table 4, the abbreviations (S-4, S-5, S
-6, S-14, S-18, S-19 and S-37) represent the compounds described in Table 1, respectively. The abbreviation (CS
-1, CS-2) represent the same as described above, and the abbreviation (CS
-3, CS-4, CS-5, CS-6, CS-7, CS
-8) represents the following.

【0095】[0095]

【化18】 Embedded image

【0096】[0096]

【化19】 Embedded image

【0097】実施例20 実施例5において、感光性組成物中にニトロセルロース
を配合せず、有機高分子物質としてフェノキシ樹脂50
重量部(ユニオンカーバイド社製、PKH−J)を配合
した以外は実施例5と同様にして、感光性平版印刷版を
作製し、評価を行った。その結果、実用感度(40cm
/s)、地汚れ(A)、シリコーン剥離(A)が得られ
た。
Example 20 In Example 5, nitrocellulose was not added to the photosensitive composition, and phenoxy resin 50 was used as an organic polymer substance.
A light-sensitive lithographic printing plate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 5 except that a weight part (PKH-J, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) was blended. As a result, the practical sensitivity (40 cm
/ S), background stain (A), and silicone peeling (A) were obtained.

【0098】実施例21 実施例5において、近赤外吸収剤としてS−19を用
い、レーザー光として1060nmの半導体レーザー
(Santa FeLaser Co.製、モデルMy
LS−500)からの50mWのレーザー光を用いた以
外は、実施例5と同様にして、感光性平版印刷版を作製
し、評価を行った。その結果、実用感度(60cm/
s)、地汚れ(A)、シリコーン剥離(A)が得られ
た。
Example 21 In Example 5, a semiconductor laser (manufactured by Santa Fe Laser Co., model My) having a wavelength of 1060 nm was used as a laser beam, using S-19 as a near-infrared absorber.
A photosensitive lithographic printing plate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 5, except that a laser beam of 50 mW from LS-500) was used. As a result, the practical sensitivity (60 cm /
s), background stain (A), and silicone release (A) were obtained.

【0099】実施例22 実施例5において、感光性層上に、東レ・ダウコーニン
グ・シリコーン社製:プライマーDを乾燥膜厚0.5μ
mとなるように塗布し、80℃で1分間乾燥した。その
上に、反応性シラン化合物をSi21に代えた以外は、
同様にして、シリコーンゴム層を設け、感光性平版印刷
版を作製し、評価した。その結果、実用感度(75cm
/s)、地汚れ(A)、シリコーン剥離(A)が得られ
た。
Example 22 In Example 5, a primer D (manufactured by Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) having a dry film thickness of 0.5 μm was formed on the photosensitive layer.
m and dried at 80 ° C. for 1 minute. On top of that, except that the reactive silane compound was changed to Si21 ,
Similarly, a silicone rubber layer was provided, and a photosensitive lithographic printing plate was prepared and evaluated. As a result, the practical sensitivity (75 cm
/ S), background stain (A), and silicone peeling (A) were obtained.

【0100】参考例1 実施例5において、シリコーンゴム層を信越シリコーン
社製付加架橋型シリコーンゴム:KS3600(100
重量部)を用いた以外は、実施例5と同様にして感光性
平版印刷版を作製し、評価した。その結果、印刷画像の
形成が不十分であり実用感度と地汚れについては評価不
可能であった。また、シリコーン剥離は(D)であっ
た。
Reference Example 1 In Example 5, the silicone rubber layer was replaced with an addition-crosslinkable silicone rubber: KS3600 (100
(Parts by weight), and a photosensitive lithographic printing plate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 5. As a result, formation of a printed image was insufficient, and practical sensitivity and background contamination could not be evaluated. The silicone release was (D).

【0101】比較例12 実施例5において、シリコーンゴム層を設けなかったこ
と以外は、実施例5と同様にして感光性平版印刷版を作
製し、評価した。その結果、印刷画像の形成が不十分で
あり実用感度と地汚れについては評価不可能であった。
また、シリコーン剥離は(D)であった。
Comparative Example 12 A photosensitive lithographic printing plate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 5, except that the silicone rubber layer was not provided. As a result, formation of a printed image was insufficient, and practical sensitivity and background contamination could not be evaluated.
The silicone release was (D).

【0102】[0102]

【発明の効果】本発明により感度、画像再現性、インク
着肉性に優れたレーザーダイレクト湿し水不要感光性平
版印刷版を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive lithographic printing plate which is excellent in sensitivity, image reproducibility and ink depositing property, and does not require a fountain solution.

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成9年8月20日[Submission date] August 20, 1997

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0094[Correction target item name]

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0094】第4表中基板の欄の略号(K−1、K−
2)は前記と同じものを示す。また、略号(K−3、K
−4、K−5)は以下の基板を示す。 K−3:厚さ0.3mmのアルミシートの上にユニオン
カーバイド社製フェノキシ樹脂(PKH−J)のシクロ
ヘキサノン20%溶液をワイヤーバーにより乾燥膜厚1
0μmとなるように塗布、100℃にて4分乾燥させて
得られたフェノキシ樹脂塗設アルミシート基板。 K−4:厚さ140μmの発泡ポリプロピレンシート
(王子油化合成紙社製GWG)を厚さ0.2mmのアル
ミシート上にラミネートした複合基板。 K−5:厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートシ
ート。 第4表中、反応性シラン化合物の欄の略号(Si1、S
i4、Si9、Si21、Si22、Si23)はそれ
ぞれ第2表に記載の化合物を表す。第4表中、近赤外吸
収剤の欄の略号(S−4、S−5、S−6、S−14、
S−18、S−19)はそれぞれ第1表に記載の化合物
を表す。また、略号(CS−1、CS−2)は前記と同
じものを表し、略号(CS−4、CS−5、CS−6、
CS−7、CS−8)は以下のものを表す。
The abbreviations (K-1, K-
2) shows the same as above. The abbreviations (K-3, K
-4, K-5) indicate the following substrates. K-3: A 20% solution of cyclohexanone of phenoxy resin (PKH-J) manufactured by Union Carbide Co., Ltd. on an aluminum sheet having a thickness of 0.3 mm was dried with a wire bar using a wire bar.
A phenoxy resin-coated aluminum sheet substrate obtained by coating to a thickness of 0 μm and drying at 100 ° C. for 4 minutes. K-4: A composite substrate obtained by laminating a foamed polypropylene sheet (GWG manufactured by Oji Yuka Synthetic Paper) having a thickness of 140 μm on an aluminum sheet having a thickness of 0.2 mm. K-5: 75 μm thick polyethylene terephthalate sheet. In Table 4, abbreviations (Si1, S
i4, Si9, Si21, Si22, and Si23) represent the compounds described in Table 2, respectively. In Table 4, abbreviations (S-4, S-5, S-6, S-14,
S-18 and S-19) represent the compounds described in Table 1, respectively. The abbreviations (CS-1, CS-2) represent the same as described above, and the abbreviations (CS-4, CS-5, CS-6,
CS-7, CS-8) represent the following.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/075 501 G03F 7/075 501 521 521 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Agency reference number FI Technical display location G03F 7/075 501 G03F 7/075 501 521 521

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、該基板から少なくとも近赤外
吸収剤を含有する感光性層及びシリコーンゴム層をこの
順に有するレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印
刷版において、該シリコーンゴム層が、両端に水酸基を
有する線状オルガノポリシロキサンと、反応性シラン化
合物を含有し、且つ該感光性層が近赤外吸収剤として、
一酸化チタン又は(チオ)ピリリウムポリメチンシアニ
ン色素の少なくとも1種を含有することを特徴とするレ
ーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版。
1. A laser-direct fountain-free photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing at least a near-infrared absorber and a silicone rubber layer in this order on the substrate, wherein the silicone rubber layer is A linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends and a reactive silane compound, and wherein the photosensitive layer is a near-infrared absorber;
A photosensitive lithographic printing plate requiring no laser direct dampening solution, comprising at least one of titanium monoxide and (thio) pyrylium polymethine cyanine dye.
【請求項2】 前記シリコーンゴム層が、シリコーンゴ
ム層の全固形分に対し80重量%以上98重量%未満
の、両端に水酸基を有する線状オルガノポリシロキサン
と、シリコーンゴム層の全固形分に対し2重量%以上2
0重量%未満の、反応性シラン化合物を含有することを
特徴とする請求項1に記載のレーザーダイレクト湿し水
不要感光性平版印刷版。
2. The method according to claim 1, wherein the silicone rubber layer comprises a linear organopolysiloxane having a hydroxyl group at both ends of not less than 80% by weight and less than 98% by weight based on the total solid content of the silicone rubber layer. 2% by weight or more 2
2. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, further comprising less than 0% by weight of a reactive silane compound.
【請求項3】 前記近赤外吸収剤が下記一般式(I)乃
至(III)で表される(チオ)ピリリウムポリメチンシア
ニン色素の少なくとも1種である請求項1または2に記
載のレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版。 【化1】 〔式中、n及びmはそれぞれ0又は1を示し、kは0、
1又は2を示し、Y- は無機又は有機のアニオンを示
し、R1 〜R6 はそれぞれ水素原子、炭素数1〜15の
アルキル基、置換されていても良い炭素数6〜20の芳
香族炭化水素基、置換されていても良い炭素数4〜20
の芳香族複素環基(置換されていても良い芳香族炭化水
素基及び置換されていても良い芳香族複素環基上の置換
基は、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10の
アルコキシ基、炭素数2〜10のアシル基、炭素数2〜
10のアルコキシカルボニル基、塩素原子、臭素原子の
中から選ばれる。)、炭素数1〜15のアルコキシ基、
炭素数2〜15のアシル基、炭素数2〜10のアルコキ
シカルボニル基、塩素原子、又は臭素原子を示し、X1
及びX2 はそれぞれ酸素原子又は硫黄原子を示す。R7
〜R11はそれぞれ置換されていても良い炭素数1〜15
のアルキル基を示し、またR7 〜R11はそれぞれ互いに
結合し環状構造を形成していても良い。〕
3. The laser direct according to claim 1, wherein the near-infrared absorbing agent is at least one kind of a (thio) pyrylium polymethine cyanine dye represented by the following general formulas (I) to (III). A photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water. Embedded image [Wherein, n and m each represent 0 or 1, k is 0,
1 or indicates 2, Y - represents an anion of an inorganic or organic, R 1 to R 6 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, optionally substituted aromatic having from 6 to 20 carbon atoms Hydrocarbon group, optionally substituted carbon number 4-20
An aromatic heterocyclic group (optionally substituted aromatic hydrocarbon group and a substituent on the optionally substituted aromatic heterocyclic group may be an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, An alkoxy group, an acyl group having 2 to 10 carbon atoms,
It is selected from 10 alkoxycarbonyl groups, chlorine atoms and bromine atoms. ), An alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms,
X 1 represents an acyl group having 2 to 15 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, a chlorine atom or a bromine atom;
And X 2 each represent an oxygen atom or a sulfur atom. R 7
To R 11 each have 1 to 15 carbon atoms which may be substituted;
And R 7 to R 11 may be bonded to each other to form a cyclic structure. ]
【請求項4】 前記近赤外吸収剤が、一般式(I)乃至
(III)で表わされる(チオ)ピリリウムポリメチンシア
ニン色素の少なくとも1種であって、該式中Y- は 【化2】 - 、Br- 、Cl- 、ClO4 - 、PF6 - 又はBF
4 - であり、R1 、R2、R3 及びR4 はフェニル基で
あり、R5 及びR6 は各々水素原子又は炭素数1〜5の
アルキル基である請求項3に記載のレーザーダイレクト
湿し水不要感光性平版印刷版。
4. The near-infrared absorbing agent is at least one of the (thio) pyrylium polymethine cyanine dyes represented by the general formulas (I) to (III), wherein Y is ] I -, Br -, Cl - , ClO 4 -, PF 6 - or BF
4 - and, R 1, R 2, R 3 and R 4 is phenyl, laser according to R 5 and R 6 according to claim 3 are each hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms directly A photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water.
【請求項5】 前記反応性シラン化合物が、1分子中に
3個以上のアシルオキシ基、又は6個以上のアルコキシ
基を有するものである請求項1乃至4に記載のレーザー
ダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版。
5. The method of claim 1, wherein the reactive silane compound has three or more acyloxy groups or six or more alkoxy groups in one molecule. Sexographic printing plate.
【請求項6】 前記反応性シラン化合物が、下記一般式
(IX)乃至(XI)で表される化合物から選ばれたもので
ある請求項5に記載のレーザーダイレクト湿し水不要感
光性平版印刷版。 【化3】 (式中、R16は炭素数1〜5のアルキル基を示し、qは
1〜10の整数を示す。また、sは3又は4を示し、T
は炭素数1〜5のアルキル基、フェニル基、又はビニル
基を示す。)
6. The photosensitive lithographic printing method according to claim 5, wherein the reactive silane compound is selected from compounds represented by the following general formulas (IX) to (XI). Edition. Embedded image (Wherein, R 16 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, q represents an integer of 1 to 10. Further, s represents 3 or 4, and T represents
Represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group, or a vinyl group. )
【請求項7】 前記感光性層中にニトロセルロースを含
有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記
載のレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版。
7. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, further comprising nitrocellulose in the photosensitive layer.
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