JPH10183359A - Treatment of electroless plating bath - Google Patents

Treatment of electroless plating bath

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JPH10183359A
JPH10183359A JP30355497A JP30355497A JPH10183359A JP H10183359 A JPH10183359 A JP H10183359A JP 30355497 A JP30355497 A JP 30355497A JP 30355497 A JP30355497 A JP 30355497A JP H10183359 A JPH10183359 A JP H10183359A
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nickel
phosphite
plating bath
sulfate
electroless
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Fumio Hine
文男 日根
Fujio Matsui
冨士夫 松井
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C Uyemura and Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a treatment method for an electroless plating bath capable of easily, surely and inexpensively removing phosphorus acid ions from the aged electroless plating bath in which a large amt. of the phosphorus acid ions accumulate without introducing impurities therein, capable of easily recovering nickel sulfate from the formed and separated nickel phosphite and capable of effectively utilizing the plating bath components or the phosphorus acid ions as a reaction medium. SOLUTION: The operations to adding the nickel sulfate to the electroless plating bath which is prepd. by using a water-soluble nickel salt, its complexing agent and sodium hypophosphite as a reducing agent as essential components and in which the phosphite accumulates to form and settle the nickel phosphite, removing the nickel phosphite to regenerate the electroless plating bath and reusing the bath are repeated. Sulfuric acid or the sulfuric acid and sodium sulfate are added to the separated nickel phosphite to form the nickel sulfate and sodium phosphite or sodium hypophosphite from nickel phosphite and the resulted nickel sulfate is recovered.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、次亜りん酸又は次
亜りん酸ナトリウム等の次亜りん酸塩を還元剤とする無
電解ニッケルめっき浴等の無電解めっき浴を再生した場
合に生じる亜りん酸ニッケルを有効に処理することがで
き、無電解めっき浴の繰り返し使用を無駄なく行うこと
を可能にした無電解めっき浴の処理方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention occurs when an electroless plating bath such as an electroless nickel plating bath using hypophosphorous acid or hypophosphite such as sodium hypophosphite as a reducing agent is regenerated. The present invention relates to a method for treating an electroless plating bath, which can effectively treat nickel phosphite and enables the electroless plating bath to be used repeatedly without waste.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、次亜りん酸ナトリウムを還元剤とする無電解めっ
き、特に無電解ニッケルめっき(無電解Ni−Pめっ
き)は各種分野で広く用いられている。この種の無電解
めっきは、次亜りん酸イオンの還元作用で金属イオンが
還元されて被めっき物に析出していくことにより、めっ
きが行われる。
2. Description of the Related Art Electroless plating using sodium hypophosphite as a reducing agent, particularly electroless nickel plating (electroless Ni-P plating), has been widely used in various fields. ing. In this type of electroless plating, plating is performed by reducing metal ions by the reducing action of hypophosphite ions and precipitating them on the object to be plated.

【0003】従って、めっきの進行により、めっき浴中
の金属イオン及び次亜りん酸イオンが低下し、析出速度
が低下したり析出物の組成(例えば、Ni−Pめっき浴
であればNiとPの合金組成)が変化する。このため、
不足した金属イオン及び次亜りん酸イオンを適宜補給
し、これらのイオンの濃度を初期のレベルに戻し、めっ
きを継続していくことが行われている。
Accordingly, as the plating proceeds, the metal ions and hypophosphite ions in the plating bath decrease, and the deposition rate decreases and the composition of the precipitate (for example, Ni and P in a Ni-P plating bath). Alloy composition) changes. For this reason,
Insufficient metal ions and hypophosphite ions are appropriately replenished, the concentration of these ions is returned to the initial level, and plating is continued.

【0004】しかし、上記のように次亜りん酸イオンの
還元作用で金属イオンを還元する時、同時に次亜りん酸
イオンが酸化されて亜りん酸イオン(H2PO 3 -)が
生成し、これが漸次めっき浴中に蓄積されていく。
However, as described above, the hypophosphite ion
When reducing metal ions by reduction, hypophosphorous acid
The ions are oxidized to form phosphite ions (HTwoPO Three -)But
It forms and accumulates gradually in the plating bath.

【0005】この亜りん酸イオン(H2PO 3 -)は、
少量であればめっきに殆ど影響を与えないが、多量に蓄
積して例えば50〜100g/L以上、特に150g/
L以上になるとめっきに影響を与える場合が生じ、例え
ば被めっき物とめっき皮膜との密着性に問題を与えた
り、めっき皮膜中に共析してその均一性や耐食性に悪影
響を与え、はなはだしい場合はめっき浴を分解させる場
合がある。
This phosphite ion (HTwoPO Three -)
A small amount has little effect on plating, but a large amount
For example, 50 to 100 g / L or more, especially 150 g /
If it exceeds L, the plating may be affected.
Problems with the adhesion between the plating object and the plating film
Deposits in the plating film and adversely affects its uniformity and corrosion resistance.
To dissolve the plating bath,
There is a case.

【0006】このため、無電解Ni−Pめっきを行う場
合には、3〜10ターン(1ターンは最初の無電解Ni
−Pめっき浴中に含まれていたニッケルイオン全量が消
費乃至は析出した量で、例えば最初の無電解Ni−Pめ
っき浴中にニッケルイオンが6g/L存在していたとす
ると、6g/Lのニッケルイオンが消費乃至は析出した
場合を1ターンとする。従ってこの場合、3〜10ター
ンはニッケルイオンが18〜60g/L消費乃至は析出
したことを意味する。)使用した後は、無電解Ni−P
めっき浴を廃棄していたのが実情である。
Therefore, when performing electroless Ni-P plating, three to ten turns (one turn is the first electroless Ni-P plating)
The total amount of nickel ions contained in the -P plating bath was consumed or precipitated. For example, if 6 g / L of nickel ions were present in the first electroless Ni-P plating bath, 6 g / L The case where nickel ions are consumed or precipitated is defined as one turn. Therefore, in this case, 3 to 10 turns mean that the nickel ions have been consumed or precipitated at 18 to 60 g / L. ) After use, electroless Ni-P
The fact is that the plating bath was discarded.

【0007】従って、無電解Ni−Pめっき浴の寿命は
比較的短く、また無電解Ni−Pめっき浴の廃棄に伴う
廃液処理が産業上の問題となっているため、その対策と
して種々の無電解Ni−Pめっき浴の再生方法も提案さ
れているが、従来の再生方法は、処理方法が複雑であっ
たり、再生しためっき浴中にめっきに有害な不純物イオ
ンが混入したり、装置コストが高いなどの問題があるた
め、広く実施されるには至っていない。
[0007] Accordingly, the life of the electroless Ni-P plating bath is relatively short, and the waste liquid treatment accompanying the disposal of the electroless Ni-P plating bath has become an industrial problem. Although a method for regenerating an electrolytic Ni-P plating bath has been proposed, the conventional regenerating method requires a complicated treatment method, harmful impurity ions are mixed into the regenerated plating bath, and equipment cost is reduced. Due to problems such as high cost, it has not been widely implemented.

【0008】このような点から、本発明者らは、先に水
溶性ニッケル塩、錯化剤及び還元剤として次亜りん酸又
はその塩を含み、かつめっきにより次亜りん酸又はその
塩が酸化して生成した亜りん酸イオンを100g/L以
上含有する無電解ニッケルめっき浴の老化液に、水溶性
ニッケル塩を上記亜りん酸イオン1モルに対し、0.5
モル以上の割合で添加して亜りん酸ニッケルを生成、沈
殿させ、この沈殿物を除去することを特徴とする無電解
ニッケルめっき浴の再生方法を提案した(特開平5−2
47660号公報)。
[0008] From such a point, the present inventors have previously included hypophosphorous acid or a salt thereof as a water-soluble nickel salt, a complexing agent and a reducing agent, and reduced the concentration of hypophosphorous acid or a salt thereof by plating. The water-soluble nickel salt was added to the aging solution of the electroless nickel plating bath containing 100 g / L or more of the phosphite ion generated by oxidation in an amount of 0.5 to 1 mol of the phosphite ion.
A method for regenerating an electroless nickel plating bath, characterized in that nickel phosphite is formed and precipitated by adding it in a molar ratio of not less than 1, and this precipitate is removed (Japanese Patent Laid-Open No. 5-2 / 1993).
No. 47660).

【0009】しかしながら、このようにして分離された
亜りん酸ニッケルについては、これの有効利用は考えら
れておらず、特に無電解めっき浴の有効な再使用サイク
ルは提案されていないのが現状であった。
[0009] However, the nickel phosphite separated in this manner is not considered to be used effectively, and no effective reuse cycle of the electroless plating bath has been proposed at present. there were.

【0010】本発明の目的は、次亜りん酸又はその塩を
還元剤とする無電解めっき浴を再生した場合に生じる亜
りん酸ニッケルを有効に処理し、特に無電解ニッケルめ
っき浴を無駄なく繰り返し使用することができる無電解
めっき浴の処理方法を提供することにある。
[0010] An object of the present invention is to effectively treat nickel phosphite generated when an electroless plating bath using hypophosphorous acid or a salt thereof as a reducing agent is regenerated, and in particular to use the electroless nickel plating bath without waste. An object of the present invention is to provide a method for treating an electroless plating bath that can be used repeatedly.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明は、上記目的を達成するため、次亜りん酸又はその
塩を還元剤とし、亜りん酸イオンが蓄積された無電解め
っき浴に水溶性ニッケル塩を添加して亜りん酸ニッケル
を生成、沈殿させ、これをめっき浴から分離すると共
に、この分離された亜りん酸ニッケルに硫酸又は硫酸と
硫酸ナトリウムを加えて亜りん酸ニッケルを硫酸ニッケ
ルと亜りん酸又は亜りん酸1ナトリウムとにし、得られ
た硫酸ニッケルを回収することを特徴とする無電解めっ
き浴の処理方法を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides an electroless plating bath in which hypophosphorous acid or a salt thereof is used as a reducing agent and phosphite ions are accumulated. A nickel phosphite is formed by adding a water-soluble nickel salt to the mixture, and separated from the plating bath. Sulfuric acid or sulfuric acid and sodium sulfate are added to the separated nickel phosphite to form nickel phosphite. To a nickel sulfate and phosphorous acid or monosodium phosphite, and recovering the obtained nickel sulfate.

【0012】また、本発明は、特に無電解ニッケルめっ
き浴の処理方法として、水溶性ニッケル塩と、その錯化
剤と、還元剤として次亜りん酸ナトリウムとを主成分と
し、亜りん酸塩が蓄積された無電解ニッケルめっき浴に
硫酸ニッケルを添加して亜りん酸ニッケルを生成、沈殿
させ、この亜りん酸ニッケルを除去して上記無電解ニッ
ケルめっき浴を再生し、再使用することを繰り返すと共
に、上記分離された亜りん酸ニッケルに硫酸又は硫酸と
硫酸ナトリウムを加えて亜りん酸ニッケルを硫酸ニッケ
ルと亜りん酸又は亜りん酸1ナトリウムとにし、得られ
た硫酸ニッケルを回収することを特徴とする無電解ニッ
ケルめっき浴の処理方法を提供する。
The present invention also provides a method for treating an electroless nickel plating bath, which comprises, as main components, a water-soluble nickel salt, a complexing agent thereof, and sodium hypophosphite as a reducing agent. It is necessary to add nickel sulfate to the electroless nickel plating bath in which nickel has been accumulated to form and precipitate nickel phosphite, remove the nickel phosphite, regenerate the electroless nickel plating bath, and reuse it. At the same time, sulfuric acid or sulfuric acid and sodium sulfate are added to the separated nickel phosphite to convert the nickel phosphite into nickel sulfate and phosphorous acid or monosodium phosphite, and the obtained nickel sulfate is recovered. And a method for treating an electroless nickel plating bath.

【0013】この場合、上記亜りん酸ニッケルに硫酸又
は硫酸と硫酸ナトリウムを加えることにより回収された
硫酸ニッケルを、上記亜りん酸塩を亜りん酸ニッケルに
変えるためにめっき浴に添加する硫酸ニッケル原料とし
て使用することが有効である。また、上記亜りん酸ニッ
ケルが除去されためっき浴を室温より低温に冷却して、
このめっき浴から硫酸ナトリウムを析出、沈殿させ、こ
れを除去することが無電解ニッケルめっき浴の繰り返し
使用の点から推奨される。この硫酸ナトリウムは、亜り
ん酸ニッケルを亜りん酸1ナトリウムに変えるために加
える硫酸ナトリウム原料として使用することが好適であ
る。
[0013] In this case, nickel sulfate recovered by adding sulfuric acid or sulfuric acid and sodium sulfate to the nickel phosphite is added to a plating bath for converting the phosphite to nickel phosphite. It is effective to use it as a raw material. Further, cooling the plating bath from which the nickel phosphite has been removed to a temperature lower than room temperature,
It is recommended to deposit and precipitate sodium sulfate from this plating bath and remove it from the viewpoint of repeated use of the electroless nickel plating bath. This sodium sulfate is preferably used as a sodium sulfate raw material added to convert nickel phosphite to monosodium phosphite.

【0014】即ち、本発明者は、亜りん酸ニッケルに硫
酸又は硫酸と硫酸ナトリウムを添加することにより、亜
りん酸ニッケルが硫酸ニッケルと亜りん酸又は亜りん酸
1ナトリウムとなることを見出すと共に、得られた硫酸
ニッケルは無電解めっき浴を構成する水溶性ニッケル塩
として或いは亜りん酸ニッケルを沈殿させるための水溶
性ニッケル塩として再利用することができ、リサイクル
が可能になることを知見したものである。
That is, the present inventor has found that by adding sulfuric acid or sulfuric acid and sodium sulfate to nickel phosphite, nickel phosphite becomes nickel sulfate and phosphorous acid or monosodium phosphite. It has been found that the obtained nickel sulfate can be reused as a water-soluble nickel salt for forming an electroless plating bath or as a water-soluble nickel salt for precipitating nickel phosphite, and can be recycled. Things.

【0015】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の処理対象となる無電解めっき浴は、無電解析出
されるべき金属の水溶性塩、その錯化剤、及び還元剤と
して次亜りん酸又はその塩を主成分とし、好ましくは上
記金属の硫酸塩、次亜りん酸ナトリウム、及びpH調整
剤として水酸化ナトリウムを補給して連続使用するタイ
プのものであればいずれのものでもよく、例えば、無電
解ニッケル、コバルト、銅などの単一めっき浴、無電解
ニッケル−コバルト、ニッケル−銅、ニッケル−タング
ステン、コバルト−タングステン等の合金めっき浴が挙
げられるが、特に無電解ニッケル及びニッケル合金めっ
き浴に好適に適用される。これら無電解めっき浴は酸性
タイプ、中性タイプ、アルカリ性タイプのいずれでもよ
く、またその組成は公知のものとすることができるが、
特にpH3.5〜6.5の酸性浴に好ましく適用され
る。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The electroless plating bath to be treated according to the present invention contains, as a main component, a water-soluble salt of a metal to be electrolessly deposited, a complexing agent thereof, and a hypophosphorous acid or a salt thereof as a reducing agent. Sulfate, sodium hypophosphite, and any type may be used as long as it is a type that can be continuously used by replenishing sodium hydroxide as a pH adjuster. For example, a single plating of electroless nickel, cobalt, copper, etc. Baths include alloy plating baths such as electroless nickel-cobalt, nickel-copper, nickel-tungsten, and cobalt-tungsten, and are particularly suitably applied to electroless nickel and nickel alloy plating baths. These electroless plating baths may be any of an acidic type, a neutral type, and an alkaline type, and may have a known composition.
In particular, it is preferably applied to an acidic bath having a pH of 3.5 to 6.5.

【0016】この場合、無電解ニッケルめっき浴は、硫
酸ニッケル、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、酢酸、乳
酸などのカルボン酸やそれらの塩、その他公知のニッケ
ルの錯化剤、次亜りん酸ナトリウムを主成分としたもの
が用いられる。これらの成分の濃度は通常の範囲であ
り、例えば硫酸ニッケルは0.05〜0.3モル/L、
錯化剤は硫酸ニッケル1モルに対し1〜5モル/Lの範
囲、次亜りん酸ナトリウムは10〜90g/Lとするこ
とができる。なお、このめっき浴には安定剤、pH調整
剤などを添加し得、無電解ニッケルめっき浴のpHもア
ルカリ性、酸性とすることができるが、連続使用のため
のめっき液としてはpHが3.5〜6.5、特に4〜6
とすることが通常である。
In this case, the electroless nickel plating bath contains a carboxylic acid such as nickel sulfate, citric acid, succinic acid, malic acid, acetic acid, lactic acid and salts thereof, other known complexing agents for nickel, and hypophosphorous acid. Those containing sodium as a main component are used. The concentration of these components is in a normal range, for example, nickel sulfate is 0.05 to 0.3 mol / L,
The amount of the complexing agent can be in the range of 1 to 5 mol / L per mol of nickel sulfate, and the amount of sodium hypophosphite can be in the range of 10 to 90 g / L. In addition, a stabilizer, a pH adjuster and the like can be added to this plating bath, and the pH of the electroless nickel plating bath can be made alkaline or acidic. However, the plating solution for continuous use has a pH of 3. 5 to 6.5, especially 4 to 6
It is usual that

【0017】この無電解ニッケルめっき浴を用いためっ
き法も通常の方法を採用し得るが、めっき反応の進行と
共にめっき浴中のニッケルイオン、次亜りん酸イオンが
低下すると共に、pHが低下する。このため、連続的又
は間欠的にめっき浴に対し補給剤として硫酸ニッケル、
次亜りん酸ナトリウムを添加すると共に、水酸化ナトリ
ウム等のpH上昇剤を添加し、めっき浴中のニッケルイ
オン濃度、次亜りん酸イオン濃度及びpHを所定濃度に
維持する。これによって、長期間に亘り良好な無電解め
っきを行うことができるが、めっき浴中に次亜りん酸イ
オンの酸化によって生じる亜りん酸イオンが蓄積した場
合、その除去処理を施す。
The plating method using this electroless nickel plating bath can also adopt a usual method, but as the plating reaction progresses, the nickel ions and hypophosphite ions in the plating bath decrease and the pH decreases. . For this reason, nickel sulfate, as a supplement to the plating bath, continuously or intermittently,
While adding sodium hypophosphite, a pH increasing agent such as sodium hydroxide is added to maintain the nickel ion concentration, the hypophosphite ion concentration and the pH in the plating bath at predetermined concentrations. Thereby, good electroless plating can be performed for a long period of time. However, when phosphite ions generated by oxidation of hypophosphite ions accumulate in the plating bath, removal treatment is performed.

【0018】即ち、本発明の処理方法は、上記のような
めっき浴の使用により、次亜りん酸イオンH2PO 2 -
の消費(酸化)で亜りん酸塩(亜りん酸塩イオンH2
3 -)が蓄積しためっき浴(この場合、再生時期は適
宜選定され、限定されるものではないが、通常50g/
L以上であり、好ましくは100g/L以上、特に15
0g/L以上、場合によっては200g/L以上蓄積し
ためっき浴)に対し、上記無電解めっき浴から析出され
る無電解めっき皮膜の構成金属と同じ又はこの構成金属
が2種以上である場合は少なくともその1種と同じ金属
の硫酸塩、例えば無電解ニッケルめっき浴の場合は硫酸
ニッケルを上記めっき浴のめっき作業における金属イオ
ン濃度よりも高濃度になるように添加する。
That is, the processing method of the present invention has the following
By using a plating bath, hypophosphite ion HTwoPO Two -
Consumption (oxidation) of phosphite (phosphite ion HTwoP
O Three -) Accumulated plating bath (in this case, the regeneration time is
It is appropriately selected and is not limited, but usually 50 g /
L or more, preferably 100 g / L or more, especially 15 g / L or more.
0g / L or more, and sometimes 200g / L or more
Plating bath), and is deposited from the above electroless plating bath.
Or the same as the constituent metal of the electroless plating film
Is the same metal as at least one of them when two or more are
Sulfate, for example, sulfuric acid for electroless nickel plating bath
Nickel is converted to metal ions in the plating bath
Add so that the concentration is higher than the concentration.

【0019】この場合、この処置における添加量は、そ
のめっき浴の通常のめっき作業における金属イオン濃度
(通常のめっき管理金属イオン濃度)より高濃度であれ
ばよいが、好ましくは当該めっき管理金属イオン濃度の
1を超え10重量倍以下、好ましくは1.2〜10重量
倍、特に1.5〜6重量倍になるように添加すること
が、難溶性亜りん酸塩の生成、沈殿の点で好適である。
また、上記硫酸ニッケル等の添加剤の添加は、亜りん酸
イオン1モルに対して0.5モル以上、好ましくは1モ
ル以上となる割合とすることが好ましい。
In this case, the amount added in this treatment may be higher than the metal ion concentration (normal plating control metal ion concentration) in the normal plating operation of the plating bath, but is preferably the plating control metal ion. It is preferable to add so that the concentration is more than 1 and 10 times by weight or less, preferably 1.2 to 10 times by weight, particularly 1.5 to 6 times by weight, in terms of formation and precipitation of poorly soluble phosphite. It is suitable.
The addition of the above-mentioned additive such as nickel sulfate is preferably 0.5 mol or more, preferably 1 mol or more, per 1 mol of phosphite ions.

【0020】なお、上記添加剤の添加と共に、上記無電
解めっき浴をそのめっき作業温度(通常のめっき管理温
度)より高温度に上げる操作及び上記無電解めっき浴を
そのめっき作業におけるpH(通常のめっき管理pH)
より高pHに上げる操作のいずれか一方又は双方の処置
を行うことが、難溶性亜りん酸ニッケルの生成、沈殿を
更に効果的に行う点で好ましい。
In addition, an operation of raising the temperature of the electroless plating bath to a temperature higher than the plating operation temperature (normal plating control temperature) together with the addition of the additive, and changing the electroless plating bath to pH (normal Plating control pH)
It is preferable to perform one or both of the operations of raising the pH to a higher pH in order to more effectively generate and precipitate the hardly soluble nickel phosphite.

【0021】この場合、前者の操作は、通常のめっき管
理温度より5℃以上であることが好ましい。例えば、通
常の酸性タイプの無電解ニッケルめっき浴は90℃でめ
っきすることが多く、このようなめっき浴に対しては9
5℃以上、特に97℃以上、場合によっては沸点に上げ
る。また、後者の操作は、通常のめっき管理pHより
0.1以上、特に1以上pHを上げることが好ましく、
例えばpH4〜6の酸性タイプの無電解めっき浴の場
合、pH4.5〜12、好ましくはpH7〜10、特に
pH8〜9の範囲において上記のような高pHにするこ
とが好ましい。
In this case, it is preferable that the former operation is performed at 5 ° C. or higher than the normal plating control temperature. For example, a common acidic electroless nickel plating bath is often plated at 90 ° C.
The temperature is raised to 5 ° C. or higher, particularly 97 ° C. or higher, and in some cases, to the boiling point. In the latter operation, it is preferable to raise the pH by 0.1 or more, particularly 1 or more, from the normal plating management pH,
For example, in the case of an acidic electroless plating bath having a pH of 4 to 6, it is preferable to set the pH as high as described above in the range of pH 4.5 to 12, preferably pH 7 to 10, particularly pH 8 to 9.

【0022】なお、このpH調整は、難溶性の亜りん酸
ニッケルを効果的に生成、沈殿させる点から重要であ
る。即ち、無電解ニッケルめっきを行うと、下記のよう
に次亜りん酸イオンH PO 3 2-の酸化によって亜りん
酸イオンH2PO 3 -が生成するが、これは浴のpHに
よってH3PO 3或いはH PO 3 2-に変化する。この場
合、Ni2+と反応して難溶性の亜りん酸ニッケル塩を作
り、沈殿するのはHPO 3 2-であるため、上記のような
pH調整を行うものである。
In addition, this pH adjustment is performed by adjusting the poorly soluble phosphite
This is important because nickel is effectively produced and precipitated.
You. That is, when electroless nickel plating is performed,
Hypophosphite ion H PO Three 2-Phosphorous by oxidation of
Acid ion HTwoPO Three -Is formed, which is dependent on the pH of the bath.
Therefore HThreePO ThreeOr H PO Three 2-Changes to This place
If Ni2+To form poorly soluble nickel phosphite
Is precipitated by HPO Three 2-Because, as above
It adjusts the pH.

【0023】 H2PO 2 -+H2O=H2PO 3 -+2H++2e NaH2PO3+NaOH=Na2HPO3+H2O Na2HPO3+NiSO4=NiHPO3+Na2SO4 HTwoPO Two -+ HTwoO = HTwoPO Three -+ 2H++ 2e NaHTwoPOThree+ NaOH = NaTwoHPOThree+ HTwoO NaTwoHPOThree+ NiSOFour= NiHPOThree+ NaTwoSOFour

【0024】なお、めっき浴のpHを上げる方法として
は、水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリを添加する方
法が挙げられるほか、金属の水酸化物や炭酸化物を添加
する方法が挙げられる。なお、後者の場合、このpHを
上げるための処置においては、その添加によってpHが
上昇するため、上記の添加剤の添加の処置よりも金属イ
オンの添加量は少なくてもよい。
As a method for increasing the pH of the plating bath, a method of adding an alkali hydroxide such as sodium hydroxide and a method of adding a metal hydroxide and a carbonate can be used. In the latter case, in the treatment for increasing the pH, since the pH is increased by the addition, the amount of addition of the metal ion may be smaller than in the treatment for adding the above-mentioned additive.

【0025】このpHの上昇方法を実施する場合、めっ
き浴は室温でもよいが、40〜90℃、特に50〜70
℃に上げて放置することが好ましい。
When carrying out this method of raising the pH, the plating bath may be at room temperature, but at a temperature of 40 to 90 ° C., particularly 50 to 70 ° C.
It is preferred that the temperature be raised to 0 ° C. and left.

【0026】なお、上記の各処置は、必要により撹拌下
に放置して難溶性亜りん酸塩を生成、沈殿させるが、こ
の場合、放置時間は30分〜24時間、特に1〜5時間
とすることが好ましい。
In each of the above treatments, if necessary, the mixture is allowed to stand with stirring to form and precipitate a poorly soluble phosphite. In this case, the standing time is 30 minutes to 24 hours, particularly 1 to 5 hours. Is preferred.

【0027】生じた沈殿の分離、除去は濾過などの常法
に従って行うことができる。この場合、高温度下で濾別
することが好ましく、まためっき槽近くに別槽及び複数
の濾過装置を設置し、一方を休止中に沈殿生成、濾別を
行うことができ、めっき浴を取り出して別槽で濾過処理
してもよい。
Separation and removal of the formed precipitate can be carried out by a conventional method such as filtration. In this case, it is preferable to perform filtration at a high temperature, and a separate tank and a plurality of filtration devices are installed near the plating tank, and precipitation can be performed and filtration can be performed while one of the tanks is stopped. Alternatively, filtration may be performed in a separate tank.

【0028】この再生された無電解めっき浴は、金属イ
オン濃度、次亜りん酸イオン濃度、pHなどを調整した
後、再度同じようにめっきに使用でき、この無電解めっ
き浴中に再度亜りん酸イオンが蓄積されてきた場合は上
述したように再生処理を行うことにより、繰り返して使
用でき、従って無電解めっき浴の寿命を延長することが
できる。
The regenerated electroless plating bath can be used for plating again after adjusting the metal ion concentration, hypophosphite ion concentration, pH and the like. When acid ions are accumulated, by performing the regeneration treatment as described above, the acid ions can be used repeatedly, so that the life of the electroless plating bath can be extended.

【0029】一方、分離された亜りん酸ニッケルNiH
PO3は、これに硫酸又は硫酸と硫酸ナトリウムを添加
する。これによって亜りん酸ニッケルから下記の反応i
又はiiに従って硫酸ニッケルと亜りん酸又は亜りん酸
1ナトリウムが生成する。
On the other hand, the separated nickel phosphite NiH
For PO 3 , sulfuric acid or sulfuric acid and sodium sulfate are added thereto. This gives the following reaction i from nickel phosphite
Or, according to ii, nickel sulfate and phosphorous acid or monosodium phosphite are produced.

【0030】 NiHPO3+H2SO4=NiSO4+H3PO3 …i NiHPO3+1/2H2SO4+1/2Na2SO4 =NiSO4+NaH2PO3 …iiNiHPO 3 + H 2 SO 4 = NiSO 4 + H 3 PO 3 ... I NiHPO 3 + / H 2 SO 4 + 1 / 2Na 2 SO 4 = NiSO 4 + NaH 2 PO 3 ... Ii

【0031】この処理において、iの反応の場合の硫酸
の使用量は、亜りん酸ニッケル1モルに対し0.5〜
1.2モル、特に0.7〜1.0モルとすることが好ま
しい。硫酸量が少なすぎると亜りん酸ニッケルの溶解が
遅くなるという不利があり、多すぎると硫酸ニッケルと
亜りん酸とを分離した後、再使用する場合にpH調整剤
を多量に必要とする場合が生じる。
In this treatment, the amount of sulfuric acid used in the reaction of i is 0.5 to 0.5 mol per mol of nickel phosphite.
Preferably it is 1.2 mol, especially 0.7 to 1.0 mol. When the amount of sulfuric acid is too small, there is a disadvantage that dissolution of nickel phosphite is delayed.When the amount is too large, after separating nickel sulfate and phosphorous acid, a large amount of a pH adjuster is required when reused. Occurs.

【0032】なお、この処理に用いる硫酸としては、5
〜20重量%、特に10〜15重量%の希硫酸を用いる
ことが望ましい。
The sulfuric acid used in this treatment is 5
It is desirable to use 硫酸 20% by weight, especially 10-15% by weight of dilute sulfuric acid.

【0033】一方、iiの反応の場合においては、硫酸
と硫酸ナトリウムとは当量を使用し、その合計量が亜り
ん酸ニッケル1モルに対し0.5〜1.2モル、特に
0.7〜1.0モルとなるようにすることが好ましい。
また、硫酸ナトリウムは、2〜20重量%、特に5〜1
5重量%の希硫酸に溶解して用いることができる。
On the other hand, in the case of the reaction (ii), sulfuric acid and sodium sulfate are used in an equivalent amount, and the total amount thereof is 0.5 to 1.2 mol, particularly 0.7 to 1.0 mol per mol of nickel phosphite. It is preferable to make it 1.0 mol.
Sodium sulfate is 2 to 20% by weight, especially 5 to 1%.
It can be used by dissolving it in 5% by weight of dilute sulfuric acid.

【0034】亜りん酸ニッケルに硫酸又は硫酸と硫酸ナ
トリウムを加えて硫酸ニッケルと亜りん酸又は亜りん酸
1ナトリウムを生成させ、得られた硫酸ニッケルと亜り
ん酸又は亜りん酸1ナトリウムとを分離する具体的な方
法としては、硫酸ニッケルと亜りん酸又は亜りん酸1ナ
トリウムの水への溶解度の差を利用する通常の晶析処理
を行えばよい。
Sulfuric acid or sulfuric acid and sodium sulphate are added to nickel phosphite to produce nickel sulphate and phosphorous acid or monosodium phosphite, and the resulting nickel sulphate and phosphorous acid or monosodium phosphite are separated. As a specific method of separation, ordinary crystallization treatment utilizing the difference in solubility between nickel sulfate and phosphorous acid or monosodium phosphite in water may be performed.

【0035】以上のようにして分離された硫酸ニッケル
は、めっき浴の構成成分として使用することもできる
が、特に十分精製しないで用いる場合は、上記亜りん酸
ニッケルを沈殿、生成させる場合に用いる原料硫酸ニッ
ケルとして用いることが推奨される。また、亜りん酸又
は亜りん酸1ナトリウムは系外に排出される。
The nickel sulfate separated as described above can be used as a component of a plating bath. However, when used without particular purification, it is used to precipitate and form the above nickel phosphite. It is recommended to use as raw material nickel sulfate. Phosphorous acid or monosodium phosphite is discharged out of the system.

【0036】ここで、上記硫酸ニッケルを亜りん酸ニッ
ケルを沈殿、生成させる場合の原料硫酸ニッケルとして
用いる際は、上記iiの反応によって生成した硫酸ニッ
ケルを用いることが好ましい。即ち、反応iによって得
られる硫酸ニッケルには、強酸である亜りん酸が付着し
ているおそれがある。このような硫酸ニッケルを再使用
すると、亜りん酸ニッケルを生成させる反応において、
付着している亜りん酸を中和するために水酸化ナトリウ
ムの使用量が多くなるが、iiの反応によって得られた
硫酸ニッケルの場合には、同時に得られた亜りん酸1ナ
トリウムが付着していてもその中和の必要はなく、上述
した亜りん酸ニッケルを生成させる反応 NiSO4+NaH2PO3+Na OH=NiHPO3+N
2SO4+H2 において、必要とする量の水酸化ナトリウムを用いるだ
けでよい。
Here, the above nickel sulfate is converted to nickel phosphite.
As raw material nickel sulfate for precipitation and formation of kel
When using, the sulphate nit
Preferably, Kel is used. That is, the reaction i
Phosphorous acid, a strong acid, adheres to the nickel sulfate
May be present. Reuse such nickel sulfate
Then, in the reaction to produce nickel phosphite,
Sodium hydroxide to neutralize attached phosphorous acid
Although the amount of use of the system increases, it was obtained by the reaction of ii.
In the case of nickel sulfate, the phosphorous acid
It is not necessary to neutralize thorium even if it is attached.
For producing a modified nickel phosphite NiSOFour+ NaHTwoPOThree+ Na OH = NiHPOThree+ N
aTwoSOFour+ HTwoO  Use the required amount of sodium hydroxide
Just fine.

【0037】また、上記i、iiの反応に使用する硫酸
は、消費を伴い、ランニングにコストを要するが、ii
の反応に用いる硫酸ナトリウムは、後述するようにめっ
き浴の廃液処理による生成物(廃棄物)を利用できるた
め、消費しても実質的にコストがかからない。従って、
iiの反応による場合は、コストを伴う硫酸の使用量は
iの反応による場合の半分とすることができ、処理コス
トを削減できるばかりか、廃棄物の削減につながり、経
済効果、環境効果を上げることができる。
The sulfuric acid used in the above reactions i and ii consumes and requires a running cost.
As for the sodium sulfate used in the above reaction, a product (waste) obtained by treating the plating bath waste liquid can be used, as described later, so that there is substantially no cost even if consumed. Therefore,
In the case of the reaction (ii), the amount of sulfuric acid involved in the cost can be reduced to half of that in the case of the reaction (i), which not only can reduce the processing cost, but also leads to the reduction of wastes, and increases the economic and environmental effects. be able to.

【0038】一方、上述した亜りん酸ニッケルを分離し
た後のめっき浴は、上述したように、再生、再使用され
るが、このような再生、再使用めっき浴には次第に硫酸
ナトリウムが蓄積されていく。
On the other hand, the plating bath after the nickel phosphite is separated is regenerated and reused as described above. In such a regenerated and reused plating bath, sodium sulfate is gradually accumulated. To go.

【0039】即ち、無電解ニッケルめっき浴の場合、通
常、硫酸ニッケル、錯化剤、次亜りん酸ナトリウムを主
成分とするものが広く用いられ、これはめっきの進行に
よって低下するニッケルイオン、次亜りん酸イオン、p
Hを補給、調整するため、硫酸ニッケル、次亜りん酸ナ
トリウム、それにpH調整剤として水酸化ナトリウムを
補給しながら連続的に使用することが行われている。従
って、めっき浴中には、上述したように亜りん酸イオン
が蓄積していくと共に、ナトリウムイオン、硫酸イオン
も蓄積していく。この場合、硫酸ナトリウムは溶解度が
高いので、特にめっき皮膜に影響を与えることは少な
い。
That is, in the case of an electroless nickel plating bath, those containing nickel sulfate, a complexing agent, and sodium hypophosphite as main components are widely used. Phosphite ion, p
In order to replenish and adjust H, nickel sulfate, sodium hypophosphite, and sodium hydroxide as a pH adjuster are continuously used while being replenished. Therefore, as described above, phosphite ions accumulate in the plating bath, and sodium ions and sulfate ions also accumulate. In this case, since sodium sulfate has high solubility, it does not particularly affect the plating film.

【0040】しかし、上述した方法に従って蓄積した亜
りん酸イオンを硫酸ニッケルを添加して亜りん酸ニッケ
ルとして沈殿させ、これを除去して無電解ニッケルめっ
き浴を再生し、再使用を繰り返していくと、遂には硫酸
ナトリウムの溶解限度を超え、その結晶が析出して、め
っき皮膜の特性に悪影響を与える。
However, the phosphite ions accumulated according to the above-mentioned method are precipitated as nickel phosphite by adding nickel sulfate, and the precipitate is removed to regenerate the electroless nickel plating bath and to repeat reuse. Finally, the solubility exceeds the solubility limit of sodium sulfate, and its crystals precipitate, which adversely affects the properties of the plating film.

【0041】このため、上記のように亜りん酸ニッケル
を除去した後の無電解ニッケルめっき浴は、必要に応じ
てこれを室温より低温に冷却して硫酸ナトリウムを析
出、沈殿させ、これを除去することが推奨され、これに
より、めっき浴中に蓄積する亜りん酸イオンを効果的に
除去してめっき浴を再生し、再使用することができると
共に、このような使用の繰り返しによって大量に蓄積す
る硫酸ナトリウムを簡単かつ確実に、しかも不純物イオ
ンを混入することなく除去することができ、従ってめっ
き浴が更に長寿命化し、より長期間に亘って無電解めっ
き浴の繰り返し使用が可能となる。
Therefore, after the nickel phosphite is removed as described above, the electroless nickel plating bath is cooled, if necessary, to a temperature lower than room temperature to precipitate and precipitate sodium sulfate. It is recommended that the phosphite ions accumulate in the plating bath be effectively removed, so that the plating bath can be regenerated and reused, and a large amount can be accumulated by such repeated use. Sodium sulfate can be easily and reliably removed without introducing impurity ions, so that the plating bath has a longer life and the electroless plating bath can be used repeatedly for a longer period of time.

【0042】ここで、硫酸ナトリウムの蓄積量がどの程
度になったらかかる処置を施すかは適宜選定されるが、
200g/L以上、特に400g/L以上で、硫酸ナト
リウムの溶解限度に達する前である。また、冷却温度は
特に制限されないが、0〜15℃、特に0〜5℃であ
る。低すぎるとめっき浴全体が結晶化し、高すぎると一
度に除去できる量が少なくなる。更に、析出した硫酸ナ
トリウムの除去方法としては、通常の晶析法が使用でき
る。
Here, the amount of the accumulated sodium sulfate before the treatment is performed is appropriately selected.
At 200 g / L or more, especially at 400 g / L or more, before the solubility limit of sodium sulfate is reached. The cooling temperature is not particularly limited, but is 0 to 15 ° C, particularly 0 to 5 ° C. If it is too low, the entire plating bath will crystallize, and if it is too high, the amount that can be removed at one time will be small. Further, as a method for removing the precipitated sodium sulfate, an ordinary crystallization method can be used.

【0043】この場合、めっき浴から除去された硫酸ナ
トリウムは、上述した亜りん酸ニッケルから硫酸ニッケ
ルを得る場合のiiの反応に使用することができる。
In this case, the sodium sulfate removed from the plating bath can be used for the above-mentioned reaction ii when obtaining nickel sulfate from nickel phosphite.

【0044】このように硫酸ナトリウムが除去されため
っき浴は、上記と同様に浴組成を調整し、めっき浴を再
使用する。
In the plating bath from which sodium sulfate has been removed, the bath composition is adjusted in the same manner as described above, and the plating bath is reused.

【0045】次に、本発明方法に基づいた無電解ニッケ
ルめっき浴のリサイクルフローにつき図面を参照して説
明する。
Next, the recycling flow of the electroless nickel plating bath based on the method of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0046】図において、Aはめっき域、Bは再生域で
ある。また、図中1は無電解ニッケルめっき浴が収容さ
れた無電解ニッケルめっき槽であり、この無電解ニッケ
ルめっき浴は、硫酸ニッケル、その錯化剤、還元剤とし
て次亜りん酸ナトリウムが主成分として含有されてい
る。なお、そのpHは通常3.5〜6.5、特に4〜6
に調整される。
In the figure, A is a plating area, and B is a reproduction area. In the figure, reference numeral 1 denotes an electroless nickel plating bath containing an electroless nickel plating bath, which is mainly composed of nickel sulfate, a complexing agent thereof, and sodium hypophosphite as a reducing agent. It is contained as. The pH is usually 3.5 to 6.5, especially 4 to 6
It is adjusted to.

【0047】この無電解ニッケルめっき浴は、めっきの
進行につれ、ニッケルイオン、次亜りん酸イオン濃度が
低下し、pHが低下するので、このめっき浴は補給槽2
において硫酸ニッケル、次亜りん酸ナトリウムを添加
し、それらの濃度を所定濃度に調整すると共に、pH調
整剤(通常、水酸化ナトリウム)を添加し、pHを所定
値に調整し、これを上記めっき槽1に戻す。なお、この
補給は補給調整槽2において連続的に行っても、間欠的
に行ってもよく、更に場合によっては補給調整槽2を設
けず、めっき槽1で直接補給を行ってもよい。
In this electroless nickel plating bath, as the plating proceeds, the concentration of nickel ions and hypophosphite ions decreases, and the pH decreases.
In the above, nickel sulfate and sodium hypophosphite are added and their concentrations are adjusted to a predetermined concentration, and a pH adjuster (usually sodium hydroxide) is added to adjust the pH to a predetermined value. Return to tank 1. Note that this replenishment may be performed continuously or intermittently in the replenishment adjustment tank 2. In some cases, the replenishment may be directly performed in the plating tank 1 without providing the replenishment adjustment tank 2.

【0048】また、上記無電解ニッケルめっき浴は、上
述したように、上記補給を行い、連続的にめっきを行っ
ていくと、亜りん酸イオンが増加していく。このように
亜りん酸イオンが増加した浴は、再生域Bにて再生を行
う。
Further, as described above, when the above electroless nickel plating bath is replenished and plated continuously, the amount of phosphite ions increases. The bath in which the phosphite ion has been increased in this manner is regenerated in the regeneration zone B.

【0049】即ち、亜りん酸イオンが増大した無電解ニ
ッケルめっき浴を貯槽3に移し、これに水酸化ナトリウ
ムを添加し、めっき浴のpHを7〜10、特に8〜9に
調整し、H2PO 3 -をH PO 3 2-とする。
That is, an electroless dyne with increased phosphite ions
Transfer the nickel plating bath to storage tank 3 and add sodium hydroxide
To adjust the pH of the plating bath to 7 to 10, especially 8 to 9.
Adjust, HTwoPO Three -To H PO Three 2-And

【0050】次いで、以上のようにpH調整を行っため
っき浴を亜りん酸分離槽4に移し、ここで温度30〜1
00℃、特に70〜90℃において硫酸ニッケルを添加
し、亜りん酸イオンH PO 3 2-を亜りん酸ニッケルN
iHPO3として沈殿させ、これを分離する。亜りん酸
イオンを分離しためっき浴は、次いで貯槽5から更に硫
酸ナトリウム分離槽6に移し、過剰の硫酸ナトリウム
(なお、この硫酸ナトリウムは、主として補給剤の硫酸
ニッケル及びpH調整剤の水酸化ナトリウムに基づくも
のである)を除去する。ここで、硫酸ナトリウムの分離
は、めっき浴を室温より低温、好ましくは0〜5℃に冷
却し、硫酸ナトリウムを晶出させ、これを分離すること
によって行うことができる。なお、めっき浴中の硫酸ナ
トリウム量が少ない場合は、この操作を省略することが
できる。
Next, in order to adjust the pH as described above,
The bath was transferred to the phosphorous acid separation tank 4, where the temperature was 30-1.
Add nickel sulfate at 00 ° C, especially 70-90 ° C
And phosphite ion H PO Three 2-To nickel phosphite N
iHPOThreeAnd is separated. Phosphorous acid
The plating bath from which the ions have been separated is
Transfer to sodium silicate separation tank 6 and remove excess sodium sulfate
(Note that this sodium sulfate is mainly
Also based on nickel and sodium hydroxide sodium hydroxide
Is removed). Here, the separation of sodium sulfate
Is to cool the plating bath below room temperature, preferably to 0-5 ° C.
Crystallization of sodium sulfate and separation
Can be done by In addition, sodium sulfate in the plating bath
This operation can be omitted if the thorium content is low.
it can.

【0051】このように硫酸ナトリウムを分離しためっ
き浴は、再生調整補給槽7にて硫酸ニッケル、次亜りん
酸ナトリウム、更に必要により錯化剤を補給し、pHを
調整し、これを上記補給槽2に移し、必要によりめっき
浴の組成を再調整し、めっき槽1に戻す。
The plating bath from which sodium sulfate has been separated is supplied with nickel sulfate, sodium hypophosphite, and, if necessary, a complexing agent in the regeneration adjustment supply tank 7 to adjust the pH. It is transferred to the tank 2, the composition of the plating bath is readjusted if necessary, and then returned to the plating tank 1.

【0052】一方、上記亜りん酸分離槽4で分離された
亜りん酸ニッケルNiHPO3は、亜りん酸ニッケル処
理槽8に移し、これに硫酸又は硫酸と硫酸ナトリウムを
加え、亜りん酸ニッケルを硫酸に溶解し、これを硫酸ニ
ッケル分離槽9に移し、上述した方法で硫酸ニッケルと
亜りん酸又は亜りん酸1ナトリウムとに分離し、硫酸ニ
ッケルは硫酸ニッケル回収槽10から上記亜りん酸分離
槽4に送り、亜りん酸イオンを亜りん酸ニッケルとする
ための原料硫酸ニッケルとして使用し、亜りん酸又は亜
りん酸1ナトリウムは系外に排出する。この場合、亜り
ん酸ニッケルに硫酸と硫酸ナトリウムを加えて処理する
に際しては、硫酸ナトリウムは上記硫酸ナトリウム分離
槽6で分離、除去された硫酸ナトリウムを用いることが
できる。
On the other hand, the nickel phosphite NiHPO 3 separated in the phosphite separation tank 4 is transferred to a nickel phosphite treatment tank 8, to which sulfuric acid or sulfuric acid and sodium sulfate are added, and nickel phosphite is added. Dissolved in sulfuric acid, transferred to a nickel sulfate separation tank 9 and separated into nickel sulfate and phosphorous acid or monosodium phosphite by the above-described method. It is sent to a tank 4 and used as a raw material nickel sulfate for converting phosphite ions to nickel phosphite, and phosphite or monosodium phosphite is discharged out of the system. In this case, when sulfuric acid and sodium sulfate are added to nickel phosphite for treatment, sodium sulfate separated and removed in the sodium sulfate separation tank 6 can be used.

【0053】従って、以上の方法により、亜りん酸イオ
ンを除去する際に反応媒体として使用する硫酸ニッケル
及び場合によっては硫酸ナトリウムは再生使用できるた
め、無電解ニッケルめっきの操業コストが大幅に安価と
なり、しかも異種成分によるめっき浴の汚染がない。ま
た、上記フローによれば、多量な錯化剤を含む廃液処理
の面倒なめっき廃液が実質的になくなり、錯化剤の無駄
がない上、廃液処理コストも軽減し、環境保全対策とし
て有効である。
Therefore, the nickel sulfate used as a reaction medium and possibly sodium sulfate as a reaction medium when removing phosphite ions can be re-used by the above method, so that the operation cost of electroless nickel plating is significantly reduced. Moreover, there is no contamination of the plating bath by different components. Further, according to the above-mentioned flow, the troublesome plating waste solution of waste solution treatment containing a large amount of complexing agent is substantially eliminated, and there is no waste of complexing agent, waste solution treatment cost is reduced, and it is effective as an environmental conservation measure. is there.

【0054】[0054]

【実施例】以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
The present invention will be described below in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

【0055】下記組成の無電解ニッケルめっき浴を建浴
した。 硫酸ニッケル 5.0 g/L(N
2+として) NaH2PO2・H2O 25.0 g/L 酢酸ナトリウム 18.0 g/L リンゴ酸 40.0 g/L Pb2+ 0.3mg/L (NaH2PO3 0 g/L) pH 4.5
An electroless nickel plating bath having the following composition was prepared. Nickel sulfate 5.0 g / L (N
As i 2+) NaH 2 PO 2 · H 2 O 25.0 g / L sodium acetate 18.0 g / L malic acid 40.0 g / L Pb 2+ 0.3mg / L (NaH 2 PO 3 0 g / L) pH 4.5

【0056】上記無電解ニッケルめっき浴を用い、硫酸
ニッケル、NaH2PO2・H2O及びpH調整剤として
NaOH(又はH2SO4)を所定間隔で上記Ni2+
度、NaH2PO2・H2O濃度及びpH4.5になるよ
うに補給し、また必要に応じて酢酸ナトリウム、リンゴ
酸、Pb2+を適宜補給しながら90℃でめっきを行い、
更に亜りん酸イオンが所定値以上に増加した場合に後述
すると同様の硫酸ニッケル添加処理を施して亜りん酸イ
オン除去操作を施した後、上記と同様にしてめっきを行
い、その後めっき浴の分析を行った。その結果は下記の
通りである。
Using the above electroless nickel plating bath, nickel sulfate, NaH 2 PO 2 .H 2 O, and NaOH (or H 2 SO 4 ) as a pH adjuster were added at predetermined intervals to the above Ni 2+ concentration, NaH 2 PO 2・ Plating is performed at 90 ° C. while replenishing so that the H 2 O concentration and the pH become 4.5 and, if necessary, while replenishing sodium acetate, malic acid, and Pb 2+ appropriately.
Further, when the phosphite ion is increased to a predetermined value or more, after performing the same nickel sulfate addition treatment as described later and performing a phosphite ion removal operation, plating is performed in the same manner as above, and then the plating bath is analyzed. Was done. The results are as follows.

【0057】 Ni2+ 5.0 g/L NaH2PO2・H2O 25.0 g/L NaH2PO3 205 g/L Na2SO4・7H2O 430 g/L Pb2+ 0.3mg/L[0057] Ni 2+ 5.0 g / L NaH 2 PO 2 · H 2 O 25.0 g / L NaH 2 PO 3 205 g / L Na 2 SO 4 · 7H 2 O 430 g / L Pb 2+ 0 0.3mg / L

【0058】次に、このめっき浴を5℃に1時間放置
し、晶析した硫酸ナトリウムを濾過により除去した後、
得られためっき浴の分析を行い、下記の結果を得た。
Next, this plating bath was left at 5 ° C. for 1 hour, and the crystallized sodium sulfate was removed by filtration.
The obtained plating bath was analyzed and the following results were obtained.

【0059】 Ni2+ 5.0 g/L NaH2PO2・H2O 24.3 g/L NaH2PO3 203 g/L Na2SO4・7H2O 110 g/L Pb2+ 0.3mg/L[0059] Ni 2+ 5.0 g / L NaH 2 PO 2 · H 2 O 24.3 g / L NaH 2 PO 3 203 g / L Na 2 SO 4 · 7H 2 O 110 g / L Pb 2+ 0 0.3mg / L

【0060】更に、このめっき浴にpH4.5において
硫酸ニッケルを30g/Lになるように添加した後、9
5℃に1時間保ち、生じた沈殿を除去した。得られため
っき浴の分析結果は下記の通りである。
Further, nickel sulfate was added to this plating bath at pH 4.5 so as to have a concentration of 30 g / L.
The mixture was kept at 5 ° C. for 1 hour to remove the formed precipitate. The analysis results of the obtained plating bath are as follows.

【0061】 Ni2+ 9.0 g/L NaH2PO2・H2O 7.3 g/L NaH2PO3 99 g/L Na2SO4・7H2O 106 g/L Pb2+ 0.1mg/L[0061] Ni 2+ 9.0 g / L NaH 2 PO 2 · H 2 O 7.3 g / L NaH 2 PO 3 99 g / L Na 2 SO 4 · 7H 2 O 106 g / L Pb 2+ 0 .1 mg / L

【0062】上記めっき浴について、Ni2+5.0g/
L、NaH2PO2・H2O25.0g/L、pH4.5
に調整した後、90℃で30分間めっきを行った。被め
っき物としては5×10cmの軟鋼板を用い、まためっ
き浴量は1リットルとした。得られためっき皮膜の外観
を目視で観察した結果、良好な外観の無電解ニッケル−
りん合金めっき皮膜が得られ、表面にザラツキもなく、
水洗水中に60分放置しても鉄さびの発生は見られなか
った。
For the above plating bath, Ni 2+ 5.0 g /
L, NaH 2 PO 2 · H 2 O25.0g / L, pH4.5
Then, plating was performed at 90 ° C. for 30 minutes. A 5 × 10 cm mild steel plate was used as the object to be plated, and the plating bath volume was 1 liter. As a result of visually observing the appearance of the obtained plating film, a good appearance of electroless nickel-
Phosphorus alloy plating film is obtained, there is no roughness on the surface,
No iron rust was observed even after being left in the washing water for 60 minutes.

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明によれば、亜りん酸イオンが多量
に蓄積した老化した無電解めっき浴から亜りん酸イオン
を不純物を導入することなく簡単かつ確実にしかも安価
に除去することができると共に、生成、分離された亜り
ん酸ニッケルから硫酸ニッケルを簡単に回収でき、めっ
き浴成分又は亜りん酸イオンを除去する反応媒体として
有効利用することができる。
According to the present invention, phosphite ions can be easily, reliably and inexpensively removed from an aged electroless plating bath in which a large amount of phosphite ions have accumulated without introducing impurities. At the same time, nickel sulfate can be easily recovered from the formed and separated nickel phosphite, and can be effectively used as a plating bath component or a reaction medium for removing phosphite ions.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施方法を説明するフローシートで
ある。
FIG. 1 is a flow sheet illustrating an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A めっき域 B 再生域 1 めっき槽 2 補給調整槽 3 貯槽 4 亜りん酸分離槽 5 貯槽 6 硫酸ナトリウム分離槽 7 再生調整補給槽 8 亜りん酸ニッケル処理槽 9 硫酸ニッケル分離槽 10 硫酸ニッケル回収槽 A Plating area B Regeneration area 1 Plating tank 2 Replenishment adjustment tank 3 Storage tank 4 Phosphorous acid separation tank 5 Storage tank 6 Sodium sulfate separation tank 7 Regeneration adjustment supply tank 8 Nickel phosphite treatment tank 9 Nickel sulfate separation tank 10 Nickel sulfate recovery tank

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 次亜りん酸又はその塩を還元剤とし、亜
りん酸イオンが蓄積された無電解めっき浴に水溶性ニッ
ケル塩を添加して亜りん酸ニッケルを生成、沈殿させ、
これをめっき浴から分離すると共に、この分離された亜
りん酸ニッケルに硫酸又は硫酸と硫酸ナトリウムを加え
て亜りん酸ニッケルを硫酸ニッケルと亜りん酸又は亜り
ん酸1ナトリウムとにし、得られた硫酸ニッケルを回収
することを特徴とする無電解めっき浴の処理方法。
1. A method for producing and precipitating nickel phosphite by adding a water-soluble nickel salt to an electroless plating bath in which phosphite ions are accumulated, using hypophosphorous acid or a salt thereof as a reducing agent.
This was separated from the plating bath, and sulfuric acid or sulfuric acid and sodium sulfate were added to the separated nickel phosphite to convert the nickel phosphite into nickel sulfate and phosphorous acid or monosodium phosphite. A method for treating an electroless plating bath, comprising recovering nickel sulfate.
【請求項2】 水溶性ニッケル塩と、その錯化剤と、還
元剤として次亜りん酸ナトリウムとを主成分とし、亜り
ん酸塩が蓄積された無電解ニッケルめっき浴に硫酸ニッ
ケルを添加して亜りん酸ニッケルを生成、沈殿させ、こ
の亜りん酸ニッケルを除去して上記無電解ニッケルめっ
き浴を再生し、再使用することを繰り返すと共に、上記
分離された亜りん酸ニッケルに硫酸又は硫酸と硫酸ナト
リウムを加えて亜りん酸ニッケルを硫酸ニッケルと亜り
ん酸又は亜りん酸1ナトリウムとにし、得られた硫酸ニ
ッケルを回収することを特徴とする無電解ニッケルめっ
き浴の処理方法。
2. A method according to claim 1, wherein nickel sulfate is added to an electroless nickel plating bath containing a water-soluble nickel salt, a complexing agent thereof, and sodium hypophosphite as a reducing agent as main components and phosphite accumulated therein. Nickel phosphite is formed and precipitated, and the nickel phosphite is removed to regenerate the electroless nickel plating bath and reuse is repeated, and sulfuric acid or sulfuric acid is added to the separated nickel phosphite. A method for treating an electroless nickel plating bath, comprising adding nickel phosphite to nickel sulphate and phosphorous acid or monosodium phosphite by adding sodium phosphite and sodium sulfate.
【請求項3】 上記亜りん酸ニッケルに硫酸又は硫酸と
硫酸ナトリウムを加えることにより回収された硫酸ニッ
ケルを、上記亜りん酸塩を亜りん酸ニッケルに変えるた
めにめっき浴に添加する硫酸ニッケル原料として使用す
るようにした請求項2記載の処理方法。
3. A nickel sulfate raw material, wherein nickel sulfate recovered by adding sulfuric acid or sulfuric acid and sodium sulfate to the nickel phosphite is added to a plating bath to convert the phosphite into nickel phosphite. 3. The processing method according to claim 2, wherein the processing method is used as:
【請求項4】 上記亜りん酸ニッケルが除去されためっ
き浴を室温より低温に冷却して、このめっき浴から硫酸
ナトリウムを析出、沈殿させ、これを除去するようにし
た請求項2又は3記載の処理方法。
4. The plating bath from which the nickel phosphite has been removed is cooled to a temperature lower than room temperature to precipitate and precipitate sodium sulfate from the plating bath and remove it. Processing method.
【請求項5】 上記冷却により析出、沈殿し、除去され
た硫酸ニッケルを、亜りん酸ニッケルを亜りん酸1ナト
リウムに変えるために加える硫酸ナトリウム原料として
使用するようにした請求項4記載の処理方法。
5. The treatment according to claim 4, wherein the nickel sulfate precipitated, precipitated and removed by the cooling is used as a sodium sulfate raw material added to convert nickel phosphite to monosodium phosphite. Method.
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CN114873613A (en) * 2022-05-16 2022-08-09 湖北吉星化工集团有限责任公司 Method for refining and recycling sodium hypophosphite by-product sodium sulfate

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