JPH10175167A - Honing processing method and manufacture of electronic photosentitizer - Google Patents

Honing processing method and manufacture of electronic photosentitizer

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JPH10175167A
JPH10175167A JP33375396A JP33375396A JPH10175167A JP H10175167 A JPH10175167 A JP H10175167A JP 33375396 A JP33375396 A JP 33375396A JP 33375396 A JP33375396 A JP 33375396A JP H10175167 A JPH10175167 A JP H10175167A
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JP
Japan
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honing
antifoaming agent
resin
substrate
abrasive
Prior art date
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Pending
Application number
JP33375396A
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Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Takegawa
一郎 竹川
Hidemi Nukada
秀美 額田
Hiroshi Nakamura
博史 中村
Hiroshi Yamamoto
浩史 山本
Toru Asahi
徹 朝日
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP33375396A priority Critical patent/JPH10175167A/en
Publication of JPH10175167A publication Critical patent/JPH10175167A/en
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a honing processing method and a method to manufacture an electronic photosentitizer by utilizing the honing processing method. SOLUTION: A honing processing liquid including a polishing material is discharged from a gun 3 to the surface of a conductive base body 1 by a wet type honing processing, so as to make the surface of the conductive base body 1 in a coarse surface. The honing processing liquid is circulated through a pump 2. To the honing processing liquid, an antifoaming agent is added, and as an antifoaming agent, a fatty acid esters antifoaming agent, an alcohols antifoaming agent, and a silicone-based antifoaming agent are suitable in particular. Those antifoaming agents exercise a high antifoaming effect, when polymer particles with a low density, and a low affinity with the water, such as a PMMA resin, for example, is used as the polishing material in the honing processing liquid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は基材面に湿式ホーニ
ングを行って基材表面を粗面化するホーニング処理方法
およびこのホーニング処理方法を用いて電子写真感光体
を製造する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a honing method for roughening the surface of a substrate by performing wet honing on the surface of the substrate, and a method for producing an electrophotographic photosensitive member using the honing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真装置は、高速でかつ高印字品質
が得られ、複写機及びレーザービームプリンター等の分
野において利用されている。電子写真装置に用いられる
感光体として、有機の光導電材料を用いた有機感光体
(OPC)の開発が進められ普及してきている。また感
光体の構成も電荷移動型錯体構造や電荷発生材料を結着
樹脂中に分散した単層型の感光体から、電荷発生層と電
荷輸送層とを分離した機能分離型の感光体構成へと変遷
し、性能が向上してきた。この機能分離型感光体構成に
おいて現在では、アルミニウム基材の上に、下引き層を
形成しその後電荷発生層、電荷輸送層を形成する構成が
主流となっている。
2. Description of the Related Art An electrophotographic apparatus has high speed and high printing quality, and is used in fields such as a copying machine and a laser beam printer. As a photoconductor used in an electrophotographic apparatus, an organic photoconductor (OPC) using an organic photoconductive material has been developed and spread. In addition, the structure of the photoconductor is changed from a single-layer photoconductor in which a charge transfer complex structure or charge generation material is dispersed in a binder resin to a function separation type photoconductor in which the charge generation layer and charge transport layer are separated The performance has improved. At present, the mainstream structure of the function-separated type photoreceptor is such that an undercoat layer is formed on an aluminum base material, and then a charge generation layer and a charge transport layer are formed.

【0003】また、電子写真装置の進歩に伴い、感光体
の性能においてより高品位な画質が要求されるようにな
ってきた。感光体の繰り返し安定性や環境安定性の改善
に対しては、電荷発生層および電荷輸送層および下引き
層のいずれの層も感度・画質や繰り返し安定性など電子
写真特性それぞれ重要な影響を与えている。さらに基材
はコスト低減や画質欠陥の改善などを目的として、押し
出し管やED管、EI管など各種のものが用いられるよ
うになってきた。
Further, with the progress of the electrophotographic apparatus, a higher quality image has been required in the performance of the photosensitive member. For improvement of photoreceptor repetition stability and environmental stability, the charge generation layer, charge transport layer, and undercoat layer all have important effects on electrophotographic properties such as sensitivity, image quality, and repetition stability. ing. Furthermore, various types of substrates such as extrusion tubes, ED tubes, and EI tubes have been used for the purpose of cost reduction and improvement of image quality defects.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】レーザープリンターや
デジタル複写機のようにレーザー光源のような可干渉性
光を用いる露光方式では感光体の内部で反射した入射光
が反射によって感光体の内部で干渉を生じるため、プリ
ント上に干渉模様に対応した木目状の濃淡が生じてしま
う。この干渉縞低減のために、基材の表面を粗面化処理
する方法も検討が行われてきている。
In an exposure system using a coherent light such as a laser light source such as a laser printer or a digital copier, incident light reflected inside the photoconductor interferes inside the photoconductor by reflection. , A grain of light and shade corresponding to the interference pattern occurs on the print. In order to reduce the interference fringes, a method of roughening the surface of the substrate has been studied.

【0005】従来、感光体の基材表面を粗面化する方法
には例えば、以下に例示する処理法が検討されてきてい
る。特開昭63−264764号公報では高圧の水のみ
をノズルから噴出させて基材を粗面化する方法が示さ
れ、特開平2−37358号公報、特開平2−8715
4号公報、特開平2−191963号公報,特開平3−
64762号公報,特開平5−216261号公報では
粗面化処理にホーニングを用いる方法が示されている。
特開平6−67441号公報には2台以上のガンを用い
て無切削アルミニウムの粗面化を行う方法が記載されて
いる。
Hitherto, for example, the following treatment methods have been studied as methods for roughening the surface of a photoreceptor substrate. Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 63-264760 discloses a method for roughening a substrate by jetting only high-pressure water from a nozzle.
No. 4, JP-A-2-191963, JP-A-3-19963.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 64762 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-216261 disclose a method of using honing for the surface roughening treatment.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-67441 discloses a method for roughening non-cut aluminum using two or more guns.

【0006】湿式ホーニング法は短時間の加工で容易に
安定した粗面を得ることができること、所望の粗さを正
確に得ることができること、および塗膜欠陥の原因とな
る異常な凹凸が極めて少ない粗さをもつ粗面が得られる
ことなどの生産上の観点から優れている。また、湿式ホ
ーニング法は、感光体における黒班点や干渉縞模様に対
する画質安定性の点から、陽極酸化法やバフ研磨法に比
べて優れている。
In the wet honing method, a stable rough surface can be easily obtained with a short processing time, a desired roughness can be accurately obtained, and abnormal irregularities which cause coating film defects are extremely small. It is excellent from the viewpoint of production such as obtaining a rough surface having roughness. Further, the wet honing method is superior to the anodic oxidation method and the buff polishing method in terms of image quality stability against black spots and interference fringe patterns on the photoreceptor.

【0007】しかしながら、この研磨材の種類によって
は、水との懸濁液を撹拌した場合に発泡が生じ、泡のた
めホーニング処理が困難になる場合があった。それらの
研磨材を用いてホーニングされた基材は優れた表面性を
有しているにもかかわらず発泡が発生すると、使用当初
からあるいは連続使用において極めて短時間でホーニン
グガンの送液系に泡が混入して、ホーニング研磨液が吐
出できなくなってしまうことがあった。この様な発泡現
象の原因として、ホーニングが研磨材の合成時に残留し
た界面活性剤の影響が大きいこと、あるいは研磨材の比
較的比重が小さいため液中で研磨材が上昇しやすくさら
に水との親和性が乏しい研磨材微粒子は液体表層に凝集
しやすく気相との界面で泡となって残留しやすくなる傾
向も考えられる。あるいは、研磨材用有機微粒子の製造
時に用いられる界面活性剤の残存分が水中で撹拌され泡
を発生することも考えられる。
However, depending on the type of the abrasive, foaming may occur when the suspension with water is stirred, and the honing treatment may be difficult due to the foam. When foaming occurs despite the excellent surface properties of the base material honed using such abrasives, the foaming can occur in the liquid supply system of the honing gun in a very short time from the beginning of use or in continuous use. Was mixed, so that the honing polishing liquid could not be discharged. The cause of such a foaming phenomenon is that the honing is largely affected by the surfactant remaining during the synthesis of the abrasive, or the abrasive is easily raised in a liquid because the specific gravity of the abrasive is relatively small, and furthermore, the water is mixed with water. It is also conceivable that the abrasive fine particles having poor affinity tend to be easily aggregated in the liquid surface layer and tend to remain as bubbles at the interface with the gas phase. Alternatively, it is conceivable that the remaining amount of the surfactant used in the production of the organic fine particles for an abrasive is stirred in water to generate bubbles.

【0008】通常、ホーニング面の粗度は吹きつけ圧力
でコントロールするのが一般的であるが、このように泡
を一旦巻き込んでしまうとホーニングガンの吹きつけ圧
力を上げても圧力を気泡の弾性力に奪われてしまい、研
磨液の吐出を満足に行うことができなくなる。
Normally, the roughness of the honing surface is generally controlled by the blowing pressure. However, once the bubbles are entrapped as described above, even if the blowing pressure of the honing gun is increased, the pressure is controlled by the elasticity of the bubbles. The power is lost and the polishing liquid cannot be discharged satisfactorily.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者はこれらの状況
に鑑みあらゆる研磨材に対して発泡の生じない研磨液を
見出した。すなわち、この処理液によってソフトで比重
の軽く、親水性に乏しい研磨材を用いても発泡がなく安
定したホーニング処理に到達するに至った。すなわち、
本発明のホーニング処理方法は、基材表面にホーニング
処理液を吹き付けて基材表面を粗面化するホーニング処
理方法において、該ホーニング処理液が研磨材を含むと
共に消泡剤を含有することを特徴とする。また、本発明
の電子写真感光体の製造方法は、導電性基材にホーニン
グ処理液を吹き付けて導電性基材表面を粗面化し、粗面
化された導電性基材上に感光層を形成する電子写真感光
体の製造方法において、該ホーニング処理液が研磨材を
含むと共に消泡剤を含有することを特徴とする。本発明
のホーニング処理方法によれば、その研磨材が有する優
れた研磨効果を維持したままで発泡のない研磨液を得る
ことができ、さらに異常な凹凸のない制御された光散乱
面を形成することができるようになる。また、本発明の
電子写真感光体の製造方法によれば、導電性基材表面を
異常な凹凸のない制御された光散乱面とすることがで
き、干渉縞のない優れた画像を形成することができる。
In view of these circumstances, the present inventor has found a polishing liquid that does not cause foaming for any abrasive. In other words, the treatment liquid resulted in stable honing without foaming even when using a soft, light specific gravity, and poorly hydrophilic abrasive. That is,
The honing treatment method of the present invention is a honing treatment method in which a honing treatment liquid is sprayed onto a substrate surface to roughen the substrate surface, wherein the honing treatment liquid contains an abrasive and contains an antifoaming agent. And Further, in the method for producing an electrophotographic photoreceptor of the present invention, a honing treatment liquid is sprayed on a conductive substrate to roughen the surface of the conductive substrate, and a photosensitive layer is formed on the roughened conductive substrate. Wherein the honing solution contains an abrasive and an antifoaming agent. According to the honing treatment method of the present invention, it is possible to obtain a polishing liquid without foaming while maintaining the excellent polishing effect of the abrasive, and to form a controlled light scattering surface without abnormal irregularities. Will be able to do it. Further, according to the method of manufacturing an electrophotographic photoreceptor of the present invention, the surface of the conductive substrate can be a controlled light scattering surface without abnormal irregularities, and an excellent image without interference fringes can be formed. Can be.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】湿式ホーニング処理法は、研磨材
を水中に懸濁させ、高速度で記載に吹き付ける基材表面
の処理法である。湿式ホーニング処理法における研磨材
としては、粒径が10〜100μm、硬度がヌープ硬さ
で800〜5000kg/mm2 、比重が0.5〜10
の範囲にある微粉末が用いられ、形状は特に制限がない
が球状のものが好ましく用いられる。研磨材の材質とし
ては、鉄、ガラス、アルミナ、フェライト、ジルコニ
ア、酸化クロム、炭化珪素、炭化ほう素、窒化ほう素等
の無機微粉末、エポキシ樹脂、PMMA樹脂、ポリフッ
化ビニリデン、ポリウレタン系粒子、メラミン樹脂粒子
等の有機微粉末が挙げられる。これらの研磨材の中で、
特に球形の有機微粉末を用いると、無機微粉末の場合に
比べてソフトに基材に衝突し、かつ研磨材の異常突起形
状がないため、基材の異常な凹凸のない安定した粗面を
得ることができ、ホーニング処理装置の配管摩耗による
装置の劣化を防止できる利点がある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The wet honing method is a method of treating a substrate surface in which an abrasive is suspended in water and sprayed at a high speed as described above. The abrasive used in the wet honing method has a particle size of 10 to 100 μm, a hardness of 800 to 5000 kg / mm 2 in Knoop hardness, and a specific gravity of 0.5 to 10
And the shape is not particularly limited, but a spherical powder is preferably used. As the material of the abrasive, iron, glass, alumina, ferrite, zirconia, chromium oxide, silicon carbide, boron carbide, inorganic fine powder such as boron nitride, epoxy resin, PMMA resin, polyvinylidene fluoride, polyurethane particles, Organic fine powder such as melamine resin particles may be used. Among these abrasives,
In particular, when a spherical organic fine powder is used, it collides with the substrate softer than the case of the inorganic fine powder, and since there is no abnormal projection shape of the abrasive, a stable rough surface without abnormal irregularities of the substrate is obtained. Therefore, there is an advantage that deterioration of the honing apparatus due to abrasion of the piping can be prevented.

【0011】研磨材による発泡現象は、研磨材として特
に低密度でかつ水との親和性が少ない等の特性を有する
ポリマー粒子を用いた場合に出やすい。特にエポキシ樹
脂、PMMA樹脂、ポリフッ化ビニリデン、ポリウレタ
ン系粒子、メラミン樹脂粒子等を用いた場合には、本発
明に示す消泡剤を添加した効果が極めて大きい。
[0011] The foaming phenomenon due to the abrasive is likely to occur particularly when polymer particles having characteristics such as low density and low affinity with water are used as the abrasive. In particular, when epoxy resin, PMMA resin, polyvinylidene fluoride, polyurethane particles, melamine resin particles and the like are used, the effect of adding the defoaming agent shown in the present invention is extremely large.

【0012】ここで本発明のホーニング処理液に用いる
ことができる消泡剤としては、ヒマシ油、ゴマ油、アマ
ニ油、動植物油などの油脂系消泡剤;ステアリン酸、オ
レイン酸、パルミチン酸などの脂肪酸系消泡剤;ステア
リン酸イソアミル、こはく酸ジステアリル、エチレング
リコールジステアレート、ソルビタンモノラウリン酸エ
ステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリン酸
エステル、ステアリン酸ブチル、天然ワックス、モノグ
リセドなどの脂肪酸エステル系消泡剤;ポリオキシアル
キレングリコールとその誘導体、ポリオキシアルキレン
モノハイドリックアルコール、ジ−t−アミルフェノキ
シエタノール、3−ヘプタノール、2−エチルヘキサノ
ールなどのアルコール系消泡剤;ジ−t−アミノフェノ
キシエタノール3−ヘプチルセルソルブ3−ヘプチルセ
ロソルブ3−ヘプチルカルビトールなどのエーテル系消
泡剤;トリブチルフォスフェート、Naオクチルフォス
フェート、トリス(ブトキシエチル)フォスフェートな
どの燐酸エステル系消泡剤;ジアミルアミンなどのアミ
ン系消泡剤;ポリアルキルアミド、アシレートポリアミ
ン、ジオクタデカノイルピペラジンなどのアミド系消泡
剤;ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウ
ム、オレイン酸カリウム、羊毛オレイン酸のカルシウム
塩などの金属せっけん系消泡剤;ラウリル硫酸エステル
ナトリウムなどの硫酸エステル系消泡剤;ジメチルポリ
シロキサン、シリコーンペースト、シリコーンエマルシ
ョン、シリコーン処理粉末、有機変性ポリシロキサン、
フッ素シリコーンなどのシリコーン系消泡剤;その他
硫酸第二鉄、ボーキサイト、三塩化三フッ化プロパンな
どが挙げられる。
The antifoaming agents which can be used in the honing solution of the present invention include oil-based antifoaming agents such as castor oil, sesame oil, linseed oil, and animal and vegetable oils; stearic acid, oleic acid, palmitic acid, etc. Fatty acid-based defoaming agents; fatty acid ester-based defoaming agents such as isoamyl stearate, distearyl succinate, ethylene glycol distearate, sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, butyl stearate, natural wax, and monoglyceride Polyoxyalkylene glycols and derivatives thereof, polyoxyalkylene monohydric alcohols, alcohol antifoaming agents such as di-t-amylphenoxyethanol, 3-heptanol and 2-ethylhexanol; di-t-aminophenoxyethanol 3 Ether-based antifoaming agents such as heptylcellosolve 3-heptylcellosolve 3-heptylcarbitol; phosphate-based antifoaming agents such as tributyl phosphate, Na-octyl phosphate and tris (butoxyethyl) phosphate; amine-based anti-foaming agents such as diamylamine Antifoaming agents; amide antifoaming agents such as polyalkylamide, acylate polyamine, dioctadecanoylpiperazine; metal soap antifoaming agents such as aluminum stearate, calcium stearate, potassium oleate, and calcium salt of wool oleic acid A sulfate ester antifoaming agent such as sodium lauryl sulfate; dimethylpolysiloxane, silicone paste, silicone emulsion, silicone-treated powder, organically modified polysiloxane,
Silicone defoamers such as fluorosilicone; other
Ferric sulfate, bauxite, propane trichloride, and the like.

【0013】これらの消泡剤の中でも、特に消泡効果の
点から、脂肪酸エステル系消泡剤、アルコール系消泡
剤、シリコーン系消泡剤が好適である。消泡剤と研磨材
との組み合わせとしては、特に脂肪酸エステル系消泡
剤、アルコール系消泡剤、シリコーン系消泡剤と、発泡
現象を生じやすいエポキシ樹脂、PMMA樹脂、ポリフ
ッ化ビニリデン、ポリウレタン系粒子、メラミン樹脂粒
子等の樹脂微粒子、特にPMMA樹脂との組み合わせが
好ましい。
Among these antifoaming agents, fatty acid ester-based antifoaming agents, alcohol-based antifoaming agents, and silicone-based antifoaming agents are particularly preferable from the viewpoint of the defoaming effect. As a combination of an antifoaming agent and an abrasive, in particular, a fatty acid ester-based antifoaming agent, an alcohol-based antifoaming agent, a silicone-based antifoaming agent, an epoxy resin, a PMMA resin, a polyvinylidene fluoride, and a polyurethane-based, which easily cause a foaming phenomenon. Particles and resin fine particles such as melamine resin particles, in particular, a combination with PMMA resin is preferred.

【0014】上記の消泡剤は研磨材を含む懸濁液に対し
て1〜10000ppmの添加で効果を得ることができ
るが、特に100〜1000ppmが好ましい。消泡剤
の添加量が1ppmでは、消泡効果が不十分であり、1
0000ppmを越えると、基体の洗浄が不十分であっ
た場合、残留成分が電子写真感光体の電気特性に影響を
及ぼす可能性が懸念される。
The above-mentioned antifoaming agent can obtain the effect by adding 1 to 10000 ppm to the suspension containing the abrasive, and particularly preferably 100 to 1000 ppm. When the added amount of the defoaming agent is 1 ppm, the defoaming effect is insufficient and
If it exceeds 0000 ppm, there is a concern that residual components may affect the electrical characteristics of the electrophotographic photoreceptor if the cleaning of the substrate is insufficient.

【0015】また、消泡剤によっては水に溶解しにくい
ものもあるが、この場合は水もしくは研磨材を含む懸濁
液を加熱してその中に消泡剤を滴下撹拌することにより
溶解させることが可能となる。あるいは水溶性の溶剤に
一旦消泡剤を溶解したのち、水で希釈する方法も可能で
ある。
Some antifoaming agents are difficult to dissolve in water. In this case, the suspension containing water or the abrasive is heated, and the defoaming agent is dissolved therein by dropping and stirring. It becomes possible. Alternatively, a method in which the antifoaming agent is once dissolved in a water-soluble solvent and then diluted with water is also possible.

【0016】本発明のホーニング処理液により得られる
導電性基材として電子写真感光体の干渉性抑制効果と画
質欠陥の防止から導電性基材の表面は、中心線平均粗さ
Raで0.1〜0.5μmの範囲に処理することが好ま
しい。ホーニング処理による基材の粗度は、研磨材の形
状、大きさ、硬さ、比重、吹きつけ圧力、吹きつけ移動
速度、吹きつけ量、懸濁液濃度等により適宜制御するこ
とができる。ホーニング処理された基材は通常水洗によ
り、基材に付着した研磨材や切削粉などを除去したの
ち、水切り処理を行って、感光層が形成される。
As the conductive substrate obtained by the honing solution of the present invention, the surface of the conductive substrate has a center line average roughness Ra of 0.1 from the viewpoint of suppressing the coherence of the electrophotographic photosensitive member and preventing image quality defects. It is preferable to process to a range of 0.5 μm. The roughness of the substrate by the honing treatment can be appropriately controlled by the shape, size, hardness, specific gravity, spray pressure, spray moving speed, spray amount, suspension concentration, etc. of the abrasive. The honing-treated substrate is usually washed with water to remove abrasives, cutting powder, and the like adhering to the substrate, and then subjected to a draining process to form a photosensitive layer.

【0017】以下に本発明によるホーニング処理を行っ
た基材によって形成される感光体の構成について例を示
す。本発明のホーニング処理法により形成された導電性
基材の上に、必要に応じ下引き層が形成され更に感光層
が形成される。感光層はどのような感光体構成において
も有効であるが、電荷輸送層を表面層とする積層型感光
体が繰り返し安定性や環境変動などの性能面で優れてお
り、以下、電荷輸送層を表面層とする積層型感光体の構
成を主として取り上げて説明する。
An example of the structure of a photoreceptor formed of a substrate subjected to the honing treatment according to the present invention will be described below. On the conductive substrate formed by the honing method of the present invention, an undercoat layer is formed if necessary, and further a photosensitive layer is formed. Although the photosensitive layer is effective in any photoreceptor configuration, a laminated photoreceptor having a charge transport layer as a surface layer is excellent in performance such as repeated stability and environmental fluctuation. The configuration of the laminated photoreceptor serving as the surface layer will be mainly described.

【0018】導電性基材として、銅,アルミニウム,ニ
ッケル,鉄等の金属基材が有効である。基材表面は素管
のままであっても、事前に鏡面切削、エッチング、陽極
酸化、粗切削、センタレス研削などの処理が行われてい
ても構わない。その後、基材は洗浄・ホーニング処理に
よる粗面化が行われる。また、必要に応じて基材の上に
導電層を形成することができる。この導電層は樹脂中に
酸化スズ、酸化アンチモン、酸化チタン等の金属酸化物
や、金、鉄、アルミニウム、銅などの金属微粉末などの
導電性物質を分散した膜を形成することにより得られ
る。
As the conductive substrate, a metal substrate such as copper, aluminum, nickel, and iron is effective. The surface of the base material may be left as it is, or may be subjected to processing such as mirror cutting, etching, anodic oxidation, rough cutting, centerless grinding, etc. in advance. Thereafter, the substrate is roughened by washing and honing. In addition, a conductive layer can be formed on the base material as needed. This conductive layer is obtained by forming a film in which a conductive material such as a metal oxide such as tin oxide, antimony oxide, and titanium oxide, or a fine metal powder such as gold, iron, aluminum, and copper is dispersed in a resin. .

【0019】下引き層はポリビニルブチラールなどのア
セタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、
ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレ
タン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シ
リコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子
樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アル
ミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有機
金属化合物などがある。これらの化合物は単独にあるい
は複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いる
ことができる。これらの化合物の中でも、ジルコニウム
もしくはチタニウルを含有する有機金属化合物やシラン
化合物を含有する場合、残留電位が低く環境による電位
変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少
ないなど性能上優れている。
The undercoat layer is made of an acetal resin such as polyvinyl butyral, a polyvinyl alcohol resin, casein,
Polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol- In addition to high molecular weight resin compounds such as formaldehyde resins and melamine resins, there are organometallic compounds containing zirconium, titanium, aluminum, manganese, silicon atoms and the like. These compounds can be used alone or as a mixture or a polycondensate of a plurality of compounds. Among these compounds, when an organometallic compound containing zirconium or titanyl or a silane compound is contained, the residual potential is low, the potential change due to the environment is small, and the potential change due to repeated use is small.

【0020】シラン化合物の例としては、例えば、ビニ
ルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル
−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−
アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス
(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン
などである。これらのなかでも特に好ましく用いられる
シリコン化合物はビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リス(2−メトキシエトキシシラン)、3−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−2−
(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N−2−(アミノエチル)3−アミノプロピルメチ
ルジメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、3−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシラ
ンカップリング剤が上げられる。
Examples of the silane compound include, for example, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,
4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl)- γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-
Aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane and the like. Among these, particularly preferred silicon compounds are vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxysilane), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4 -Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-2-
(Aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3- Silane coupling agents such as mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.

【0021】有機ジルコニウム化合物の例としては、ジ
ルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチ
ル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセ
トネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジ
ルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジル
コニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジル
コニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフ
テン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステア
リン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、
メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレート
ジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウ
ムブトキシドなどが挙げられる。
Examples of the organic zirconium compound include zirconium butoxide, ethyl zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl zirconium butoxide acetoacetate, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, octane Zirconium phosphate, zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate,
Examples include methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide, and the like.

【0022】有機チタン化合物の例としては、テトライ
ソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネー
ト、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘ
キシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポ
リチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリ
コレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラ
クテート、チタンラクテートエチルエステル、チタント
リエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステア
レートなどが挙げられる。
Examples of the organic titanium compound include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium Lactate ammonium salt, titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanol aminate, polyhydroxytitanium stearate and the like.

【0023】有機アルミニウム化合物の例としては、ア
ルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウ
ムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエ
チルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレー
ト、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)な
どが挙げられる。
Examples of the organic aluminum compound include aluminum isopropylate, monobutoxyaluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, and aluminum tris (ethyl acetoacetate).

【0024】下引き層中には電気特性の向上や光散乱性
の向上などの目的により、各種の有機もしくは無機微粉
末を混合することができる。とくに、酸化チタン、酸化
亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料
やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔
料としての無機顔料やテフロン樹脂粒子、ベンゾグアナ
ミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子などが有効である。添
加される微粉末の粒径は0.01〜2μmのものが用い
られる。微粉末は必要に応じて添加されるが、添加され
る場合には下引き層の固形分に対して、重量比で10〜
80重量%より好ましくは30〜70重量%添加され
る。また、下引き層は0.1〜10μmの範囲が望まし
い。
Various organic or inorganic fine powders can be mixed in the undercoat layer for the purpose of improving electric characteristics and light scattering. In particular, white pigments such as titanium oxide, zinc oxide, zinc white, zinc sulfide, lead white, and lithopone; inorganic pigments such as alumina, calcium carbonate, and barium sulfate; and Teflon resin particles, benzoguanamine resin particles, and styrene resin particles Etc. are effective. The fine powder to be added has a particle size of 0.01 to 2 μm. The fine powder is added as necessary, but if added, the weight ratio is 10 to the solid content of the undercoat layer.
80% by weight or more preferably 30 to 70% by weight is added. Further, the thickness of the undercoat layer is preferably in the range of 0.1 to 10 μm.

【0025】下引き層塗布液の形成において、微粉末を
混入させる場合には樹脂成分を溶解した溶液中に微粉末
を添加して分散処理が行われる。微粉末を樹脂中に分散
させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボ
ールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、
ペイントシェーカーなどの方法を用いることができる。
When the fine powder is mixed in the formation of the undercoat layer coating liquid, the fine powder is added to a solution in which the resin component is dissolved, and a dispersion treatment is performed. As a method of dispersing the fine powder in the resin, a roll mill, a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill,
A method such as a paint shaker can be used.

【0026】この下引き層上に形成される感光層は、基
本的には単層構造であっても、電荷発生層と電荷輸送層
とに機能分離された積層構造であってもよい。積層構造
の場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序はいずれが
上層であっても良い。また、必要に応じて表面保護層を
形成することも可能である。
The photosensitive layer formed on the undercoat layer may have a basically single-layer structure or a laminated structure in which a charge generation layer and a charge transport layer are functionally separated. In the case of a laminated structure, the order of lamination of the charge generation layer and the charge transport layer may be any of the upper layers. Further, a surface protective layer can be formed as necessary.

【0027】電荷発生層は電荷発生物質を真空蒸着によ
り形成するか、有機溶剤及び結着樹脂とともに分散し塗
布することにより形成される。電荷発生物質としては、
非晶質セレン・結晶性セレン・セレンーテルル合金・セ
レンーヒ素合金・その他のセレン化合物及びセレン合
金、酸化亜鉛・酸化チタン 等の無機系光導電体、無金
属フタロシアニン・チタニルフタロシアニン・銅フタロ
シアニン・錫フタロシアニン・塩化ガリウムフタロシア
ニン・ヒドロキシガリウムフタロシアニン,塩化インジ
ウムフタロシアニンなどの各種フタロシアニン顔料、ス
クエアリウム系、アントアントロン系、ペリレン系、ア
ゾ系、アントラキノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チ
アピリリウム塩等の各種有機顔料及び染料が用いられ
る。また、これらの有機顔料は一般に数種の結晶型を有
しており、特にフタロシアニン顔料ではα、βなどをは
じめとして各種の結晶型が知られているが、目的にあっ
た感度が得られる顔料であるならば、これらのいずれの
結晶型でも用いることができる。
The charge generation layer is formed by forming a charge generation substance by vacuum evaporation or by dispersing and applying the charge generation substance together with an organic solvent and a binder resin. As the charge generating substance,
Amorphous selenium, crystalline selenium, selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, other selenium compounds and alloys, inorganic photoconductors such as zinc oxide and titanium oxide, metal-free phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, copper phthalocyanine, tin phthalocyanine, Various organic pigments and dyes such as gallium chloride phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, various phthalocyanine pigments such as indium phthalocyanine, squarium, anthantrone, perylene, azo, anthraquinone, pyrene, pyrylium salts, and thiapyrylium salts. Used. In addition, these organic pigments generally have several types of crystal forms, and in particular, phthalocyanine pigments are known to have various crystal types such as α, β, etc. , Any of these crystal forms can be used.

【0028】電荷発生層における結着樹脂としては、以
下のものを例示することができる。すなわち、ビスフェ
ノールAタイプあるいはビスフェノールZタイプなどの
ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル
樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジ
エン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル
共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸樹脂、シリコン樹脂、シリコン−アルキド樹脂、フェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド
樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾールなど、もしくはこ
れ等の共重合体を用いることができる。これらの結着樹
脂は、単独あるいは2種以上混合して用いることが可能
である。
The following can be exemplified as the binder resin in the charge generation layer. That is, polycarbonate resin such as bisphenol A type or bisphenol Z type, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer resin, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer Use of a coalescing resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicon resin, silicon-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly-N-vinylcarbazole, or a copolymer thereof. Can be. These binder resins can be used alone or in combination of two or more.

【0029】電荷発生材料と結着樹脂との配合比(重量
比)は、10:1〜1:10の範囲が望ましい。また、
電荷発生層の厚みは、一般には0.01〜5μm、好ま
しくは0.05〜2.0μmの範囲に設定される。電荷
発生材料を樹脂中に分散させる方法としては、ロールミ
ル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、ダイ
ノーミル、サンドミル、コロイドミルなどの方法を用い
ることができる。
The compounding ratio (weight ratio) of the charge generating material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10. Also,
The thickness of the charge generation layer is generally set in the range of 0.01 to 5 μm, preferably 0.05 to 2.0 μm. As a method for dispersing the charge generating material in the resin, a method such as a roll mill, a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a dyno mill, a sand mill, and a colloid mill can be used.

【0030】電荷輸送層に用いられる電荷輸送物質とし
ては、下記に示すものが例示できる。2,5−ビス(p
−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジア
ゾールなどのオキサジアゾール誘導体;1,3,5−ト
リフェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−
3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエ
チルアミノスチリル)ピラゾリンなどのピラゾリン誘導
体;トリフェニルアミン、トリ(P−メチル)フェニル
アミン、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビ
フェニル−4−アミン、ジベンジルアニリンなどの芳香
族第3級アミノ化合物;N,N‘−ジフェニル−N,N
‘−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1−ビフェニ
ル]−4,4‘−ジアミンなどの芳香族第3級ジアミノ
化合物;3−(4‘ジメチルアミノフェニル)−5,6
−ジ−(4‘−メトキシフェニル)−1,2,4−トリ
アジンなどの1,2,4−トリアジン誘導体;4−ジエ
チルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒド
ラゾンなどのヒドラゾン誘導体;2−フェニル−4−ス
チリル−キナゾリンなどのキナゾリン誘導体、6−ヒド
ロキシ−2,3−ジ(p−メトキシフェニル)−ベンゾ
フランなどのベンゾフラン誘導体、p−(2,2−ジフ
ェニルビニル)−N,N−ジフェニルアニリンなどのα
−スチルベン誘導体;エナミン誘導体;N−エチルカル
バゾールなどのカルバゾール誘導体;ポリ−N−ビニル
カルバゾールおよびその誘導体などの正孔輸送物質。ク
ロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系
化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,
7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラ
ニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物;キ
サントン系化合物;チオフェン化合物;ジフェノキノン
化合物などの電子輸送物質。あるいは以上に示した化合
物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などがあげ
られる。これらの電荷輸送材料は、1種又は2種以上を
組み合せて使用できる。
Examples of the charge transporting material used in the charge transporting layer include the following. 2,5-bis (p
Oxadiazole derivatives such as -diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole; 1,3,5-triphenyl-pyrazoline, 1- [pyridyl- (2)]-
Pyrazoline derivatives such as 3- (p-diethylaminostyryl) -5- (p-diethylaminostyryl) pyrazoline; triphenylamine, tri (P-methyl) phenylamine, N, N-bis (3,4-dimethylphenyl) biphenyl Aromatic tertiary amino compounds such as -4-amine and dibenzylaniline; N, N'-diphenyl-N, N
Aromatic tertiary diamino compounds such as' -bis (3-methylphenyl)-[1,1-biphenyl] -4,4'-diamine; 3- (4'dimethylaminophenyl) -5,6
1,2-, 4-triazine derivatives such as -di- (4'-methoxyphenyl) -1,2,4-triazine; hydrazone derivatives such as 4-diethylaminobenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone; 2-phenyl-4 Quinazoline derivatives such as -styryl-quinazoline, benzofuran derivatives such as 6-hydroxy-2,3-di (p-methoxyphenyl) -benzofuran, p- (2,2-diphenylvinyl) -N, N-diphenylaniline and the like α
-Stilbene derivatives; enamine derivatives; carbazole derivatives such as N-ethylcarbazole; hole transport substances such as poly-N-vinylcarbazole and derivatives thereof. Quinone compounds such as chloranil, bromoanil and anthraquinone; tetracyanoquinodimethane compounds;
Fluorenone compounds such as 7-trinitrofluorenone and 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone; xanthone compounds; thiophene compounds; and electron transport materials such as diphenoquinone compounds. Alternatively, a polymer having a group consisting of the compounds shown above in a main chain or a side chain may be used. These charge transport materials can be used alone or in combination of two or more.

【0031】電荷輸送層に用いられる結着樹脂の例とし
ては、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリエステル樹
脂、ビスフェノールAタイプあるいはビスフェノールZ
タイプ、ビスフェノールCタイプ,ビスフェノールAP
タイプなどの各種ポリカーボネート樹脂、ポリスチレ
ン、アクリロニトリル−スチレンコポリマー、アクリロ
ニトリル−ブタジエンコポリマー、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポリアクリ
ルアミド、ポリアミド、塩素化ゴム等の絶縁性樹脂ある
いはポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセ
ン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー、ある
いはこれ等の共重合体等が挙げられる。
Examples of the binder resin used for the charge transport layer include acrylic resin, polyarylate, polyester resin, bisphenol A type and bisphenol Z.
Type, bisphenol C type, bisphenol AP
Insulating resin such as various polycarbonate resins such as types, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polysulfone, polyacrylamide, polyamide, chlorinated rubber or polyvinyl carbazole, polyvinyl anthracene, polyvinyl pyrene, etc. Organic photoconductive polymers or copolymers thereof.

【0032】電荷輸送層は、上に示した電荷輸送物質及
び結着樹脂とを適当な溶媒に溶解させた溶液を塗布し乾
燥することによって形成することができる。電荷輸送層
の形成に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、
トルエン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系、アセ
トン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロ
ロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコ
ール、ジエチルエーテル等の環状あるいは直鎖状エーテ
ル、あるいはこれらの混合溶剤などを用いることができ
る。電荷輸送材料と上記結着樹脂との配合比は10:1
〜1:5が好ましい。また電荷輸送層の膜厚は一般に5
〜50μm、好ましくは10〜40μmの範囲に設定さ
れる。
The charge transport layer can be formed by applying a solution obtained by dissolving the above-described charge transport material and binder resin in a suitable solvent, followed by drying. As the solvent used for forming the charge transport layer, for example, benzene,
Aromatic hydrocarbons such as toluene and chlorobenzene, ketones such as acetone and 2-butanone, halogenated aliphatic hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol, diethyl ether and the like A cyclic or linear ether, a mixed solvent thereof, or the like can be used. The compounding ratio of the charge transport material and the binder resin is 10: 1.
1 : 1: 5 is preferred. The thickness of the charge transport layer is generally 5
5050 μm, preferably 10-40 μm.

【0033】電子写真装置中で発生するオゾンや酸化性
ガス、あるいは光・熱による感光体の劣化を防止する目
的で、感光層中に酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤など
の添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤
としてはヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パ
ラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキ
ノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの
誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられ
る。
In order to prevent the deterioration of the photoreceptor due to ozone or oxidizing gas generated in the electrophotographic apparatus, or light or heat, additives such as antioxidants, light stabilizers and heat stabilizers are added to the photosensitive layer. Can be added. For example, examples of the antioxidant include hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, arylalkane, hydroquinone, spirochroman, spiroidanone and derivatives thereof, organic sulfur compounds, organic phosphorus compounds and the like.

【0034】光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、
ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチ
ルピペリジンなどの誘導体が挙げられる。
Examples of light stabilizers include benzophenone,
Derivatives such as benzotriazole, dithiocarbamate, and tetramethylpiperidine are included.

【0035】また、感度の向上、残留電位の低減、繰り
返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも1種の
電子受容性物質を含有せしめることができる。本発明の
感光体に使用可能な電子受容性物質としては、例えば無
水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシア
ノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロ
ベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニト
ロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン
酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル
酸などをあげる事ができる。これらのうち、フルオレノ
ン系、キノン系や、Cl,CN,NO2等の電子吸引性
置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。
Further, at least one kind of electron accepting substance can be contained for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential, and reducing fatigue when repeatedly used. Examples of the electron-accepting substance that can be used in the photoreceptor of the present invention include, for example, succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride,
Phthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, chloranil, dinitroanthraquinone, trinitrofluorenone, picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitro Benzoic acid and phthalic acid can be mentioned. Of these, fluorenone-based, quinone-based, and benzene derivatives having an electron-withdrawing substituent such as Cl, CN, and NO 2 are particularly preferable.

【0036】塗工は、浸漬塗布法、スプレー塗布法、ビ
ード塗布法、ブレード塗布法、ローラー塗布法などの塗
布法を用いて行うことができる。乾燥は本発明に記載の
加湿処理方法を用いない場合には、室温での指触乾燥の
後に加熱乾燥するのが好ましい。加熱乾燥は、30°C
〜200°Cの温度で5分〜2時間の範囲の時間で行う
ことが望ましい。
The coating can be performed by a coating method such as a dip coating method, a spray coating method, a bead coating method, a blade coating method, and a roller coating method. In the case where the humidification treatment method described in the present invention is not used, drying is preferably performed by touch drying at room temperature and then heating and drying. Heat drying at 30 ° C
It is desirable to carry out at a temperature of from about 200 ° C. to a time of from 5 minutes to 2 hours.

【0037】感光層の上には必要に応じ表面保護層を形
成することができる。表面保護層としては、絶縁性樹脂
保護層、あるいは絶縁性樹脂の中に抵抗調整剤を添加し
た低抵抗保護層がある。低抵抗保護層の場合には、例え
ば絶縁性樹脂中に導電性微粒子を分散した層があげられ
る。導電性微粒子として電気抵抗が109 Ω・cm以下
で白色、灰色もしくは青白色を呈する平均粒径が0.3
μm以下、好ましくは0.1μm以下の微粒子が適当で
あり、例えば、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸
化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化インジウム、
酸化錫とアンチモンあるいは酸化アンチモンとの固溶体
の担体またはこれらの混合物、あるいは単一粒子中にこ
れらの金属酸化物を混合したもの、あるいは被覆したも
のがあげられる。中でも、酸化錫、酸化錫とアンチモン
あるいは酸化アンチモンとの固溶体は電気抵抗を適切に
調節することが可能で、かつ、保護層を実質的に透明に
することが可能であるので、好ましく用いられる。(特
開昭57−30847号公報、特開昭57−12834
4号公報参照)
A surface protective layer can be formed on the photosensitive layer if necessary. As the surface protective layer, there is an insulating resin protective layer or a low resistance protective layer in which a resistance adjuster is added to the insulating resin. In the case of a low resistance protective layer, for example, a layer in which conductive fine particles are dispersed in an insulating resin can be used. The average particle diameter of white, gray or bluish white with an electric resistance of 10 9 Ω · cm or less as conductive fine particles is 0.3.
μm or less, preferably 0.1 μm or less fine particles are suitable, for example, molybdenum oxide, tungsten oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, indium oxide,
A solid solution carrier of tin oxide and antimony or antimony oxide or a mixture thereof, or a mixture of these metal oxides in a single particle or a coating thereof is given. Above all, tin oxide or a solid solution of tin oxide and antimony or antimony oxide is preferably used because it can appropriately adjust electric resistance and can make the protective layer substantially transparent. (JP-A-57-30847, JP-A-57-12834)
No. 4)

【0038】絶縁性樹脂としては、ポリアミド、ポリウ
レタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポ
リカーボネート等の縮合樹脂や、ポリビニルケトン、ポ
リスチレン、ポリアクリルアミドのようなビニル重合体
等が上げられる。
Examples of the insulating resin include condensation resins such as polyamide, polyurethane, polyester, epoxy resin, polyketone and polycarbonate, and vinyl polymers such as polyvinyl ketone, polystyrene and polyacrylamide.

【0039】本発明の方法により得られた基材を有する
感光体はライトレンズ系複写機、近赤外光もしくは可視
光に発行するレーザービームプリンター、デイジタル複
写機、LEDプリンター、レーザーファクシミリなどの
電子写真装置に用いることができる。また、本感光体は
一成分系、二成分系の正規現像剤あるいは反転現像剤と
も合わせて用いることができる。また本発明の方法によ
り得られた基材を有する感光体は帯電ローラーや帯電ブ
ラシを用いた接触帯電方式においても電流リークの発生
が少ない良好な特性が得られる。
The photoreceptor having a substrate obtained by the method of the present invention can be used as a light lens type copier, a laser beam printer for emitting near-infrared light or visible light, a digital copier, an LED printer, a laser facsimile, etc. It can be used for photographic devices. The photoreceptor can be used in combination with a one-component or two-component regular developer or a reversal developer. Further, the photoreceptor having a substrate obtained by the method of the present invention can obtain good characteristics with less occurrence of current leak even in a contact charging system using a charging roller or a charging brush.

【0040】[0040]

【実施例】以下本発明を実施例によって具体的に説明す
るが、本発明がこれらの実施例によって限定されるもの
ではない。 比較例 1 図1で示されるホーニング装置に粗面化処理用研磨材懸
濁液を投入した。図1において、1は基材、2はポン
プ、3はガン、4は空気導入管、5は処理容器である。
ホーニング処理用懸濁液として、イオン交換水30リッ
トルを処理容器5に投入し、その後研磨材としてPMM
A(ポリメチルメタアクリレート)球形微粒子(綜研化
学社製、MR−60G d50=60μm)3.4kg
を投入した。水とPMMA微粒子からなる研磨材を混合
するために処理容器5中の水を攪拌器6を介して撹拌し
たところ、泡が発生し、泡の高さは水面上20cmの位
置まで上昇した。泡を採取し観察したところ泡中に研磨
材のPMMA微粒子が大量に含まれていた。
EXAMPLES The present invention will now be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Comparative Example 1 An abrasive suspension for surface roughening treatment was charged into the honing apparatus shown in FIG. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is a pump, 3 is a gun, 4 is an air introduction pipe, and 5 is a processing vessel.
30 liters of ion-exchanged water is charged into the processing vessel 5 as a honing suspension, and then PMM is used as an abrasive.
3.4 kg of A (polymethyl methacrylate) spherical fine particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., MR-60G d50 = 60 μm)
Was introduced. When the water in the processing vessel 5 was stirred through the stirrer 6 to mix the water and the abrasive composed of PMMA fine particles, bubbles were generated, and the height of the bubbles rose to a position of 20 cm above the water surface. When the foam was collected and observed, a large amount of PMMA fine particles of the abrasive was contained in the foam.

【0041】ホーニング処理をすべく、基材としての8
4mmφのA1050素材鏡面切削アルミパイプ1を装
着し、ポンプ2でホーニング処理用懸濁液を6リットル
/分の流量でガン3に送液しながら、1.9kgf/c
2 の圧縮空気を研磨材含有の懸濁液とともにガン3か
ら吹き付け、アルミニウムパイプを回転させながらアル
ミパイプの軸方向にガン3を500mm/分で移動させ
た。この基材を取り出しイオン交換水でブラシ洗浄して
感光体作製用の基材を得た。この基材の中心線平均粗さ
(Ra)は0.19μmであった。ここで得られた基材
を比較処理基材1−1とする。
In order to perform a honing treatment, 8
A4mmφ A1050 material mirror-cut aluminum pipe 1 is attached, and while pumping the suspension for honing treatment to the gun 3 at a flow rate of 6 liter / min, 1.9 kgf / c
Compressed air of m 2 was sprayed from the gun 3 together with the abrasive-containing suspension, and the gun 3 was moved at 500 mm / min in the axial direction of the aluminum pipe while rotating the aluminum pipe. The substrate was taken out and washed with ion-exchanged water to obtain a substrate for photoconductor production. The center line average roughness (Ra) of this substrate was 0.19 μm. The substrate obtained here is referred to as a comparative treated substrate 1-1.

【0042】この処理を繰り返し連続して50本の基材
の粗面化処理を行ったが、ガン3中に気泡を巻き込み5
0本目ではRa 0.08μmに基材の粗度が低下して
しまった。ここで得られた基材を比較処理基材1−2と
する。このようにして得られたホーニング処理基材に感
光層を形成した。4重量部のポリビニルブチラール樹脂
(積水化学製エスレックBM−S)を溶解したn−ブチ
ルアルコール170重量部、有機ジルコニウム化合物
(アセチルアセトンジルコニウムブチレート)20重量
部および有機シラン化合物の混合物(γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン)10重量部を追加混合撹拌し下
引き層の塗布液を得た。
This process was repeated and the surface roughening treatment of 50 base materials was performed.
In the 0-th line, the roughness of the substrate was reduced to Ra 0.08 μm. The substrate obtained here is referred to as a comparative treated substrate 1-2. A photosensitive layer was formed on the honing-treated base material thus obtained. Mixture of 170 parts by weight of n-butyl alcohol in which 4 parts by weight of polyvinyl butyral resin (Slec BM-S manufactured by Sekisui Chemical) is dissolved, 20 parts by weight of an organic zirconium compound (acetylacetone zirconium butyrate) and an organic silane compound (γ-aminopropyl) Trimethoxysilane) (10 parts by weight) was additionally mixed and stirred to obtain an undercoat layer coating solution.

【0043】この塗布液を用いてホーニング処理された
基材の上に、塗布を行い室温で5分間の風乾をおこなっ
た後に50°C、10分間の基材の昇温後50°C、8
5%RHの恒温恒湿槽中に入れ20分間加湿硬化促進処
理を行ったのち150°Cで10分間の熱風乾燥機に入
れた。
On the substrate honed by using this coating solution, the substrate was coated and air-dried at room temperature for 5 minutes, then heated at 50 ° C. for 10 minutes and then heated to 50 ° C. for 8 minutes.
It was placed in a 5% RH constant temperature / humidity bath, subjected to a humidification and curing acceleration treatment for 20 minutes, and then placed in a hot air dryer at 150 ° C. for 10 minutes.

【0044】電荷発生材料として塩化ガリウムフタロシ
アニン15重量部、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂
(日本ユニカーVMCH)10重量部、n−ブチルアル
コール300重量部からなる混合物をサンドミルにて4
時間分散した。この液を上記下引き層上に浸漬塗布・乾
燥して、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
A mixture comprising 15 parts by weight of gallium chloride phthalocyanine as a charge generating material, 10 parts by weight of vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin (Nippon Unicar VMCH), and 300 parts by weight of n-butyl alcohol was mixed with a sand mill.
Time dispersed. This liquid was applied onto the undercoat layer by dip coating and dried to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.

【0045】次に、N,N’−ジフェニル−N,N’−
ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニ
ル]−4,4’−ジアミン4重量部とビスフェノールZ
ポリカーボネート樹脂(分子量4万)6重量部とをクロ
ルベンゼン80重量部を加えて溶解した。この液を浸漬
塗布装置を用いて塗布乾燥することにより膜厚25μm
の電荷輸送層を形成し110°C,40分の乾燥処理を
行い、三層からなる電子写真感光体を作製した。
Next, N, N'-diphenyl-N, N'-
Bis (3-methylphenyl)-[1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine 4 parts by weight and bisphenol Z
6 parts by weight of a polycarbonate resin (molecular weight: 40,000) and 80 parts by weight of chlorobenzene were added and dissolved. This liquid was applied and dried using a dip coating apparatus to obtain a film thickness of 25 μm.
Was formed and dried at 110 ° C. for 40 minutes to produce an electrophotographic photosensitive member having three layers.

【0046】得られた電子写真感光体を、富士ゼロック
ス社製カラー複写機A−color635に装着してプ
リント操作を行ない画質の確認を行った。結果を表1に
示す。繰り返し作製した後の基材では、基材の粗度が低
くプリントに干渉縞の発生が見られた。
The obtained electrophotographic photosensitive member was mounted on a color copier A-color 635 manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd., and a print operation was performed to check the image quality. Table 1 shows the results. In the substrate after the repeated production, the roughness of the substrate was low, and the occurrence of interference fringes in the print was observed.

【0047】実施例 1 イオン交換水10リットル中を入れた容器に投げ込みヒ
ーターを投入し60°Cまで水温を上昇させた。この温
水に消泡剤として旭電化社製プルロニックTR−701
(エチレンジアミンのポリオキシアルキレン縮合物)
3.34gを投入し撹拌溶解させた。この溶液をホーニ
ング処理容器5に投入し、さらにイオン交換水20リッ
トルを追加し撹拌混合させた。この水溶液にPMMA球
形微粒子(綜研化学社製、MR−60G,d50=60
μm)3.4kgを投入し、水を撹拌したところ、泡の
発生は極めて少なく、泡の高さは水面上1cmの位置で
停止した。比較例1と同様にこの懸濁液を用いて、ホー
ニング処理をすべく、84mmφのA1050素材鏡面
切削アルミパイプ1を装着し、ポンプ2で6リットル/
分の流量でガン3に送液しながら、1.9kgf/cm
2の圧縮空気を研磨材含有の懸濁液とともにガン3から
吹き付け、アルミニウムパイプを回転させながらアルミ
パイプの軸方向にガン3を500mm/分で移動させ
た。この基材をイオン交換水でブラシ洗浄して感光体作
製用の基材を得た。この基材の中心線平均粗さ(Ra)
は0.17μmであった。ここで得られた基材を実施処
理基材1−1とする。
Example 1 A heater was thrown into a container containing 10 liters of ion-exchanged water, and the water temperature was raised to 60 ° C. As a defoamer in this warm water, Pluronic TR-701 manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.
(Polyoxyalkylene condensate of ethylenediamine)
3.34 g was charged and dissolved by stirring. This solution was put into the honing vessel 5, and 20 liters of ion-exchanged water was further added, followed by stirring and mixing. PMMA spherical microparticles (MR-60G, Soken Chemical Co., d50 = 60) were added to this aqueous solution.
(μm), 3.4 kg was charged, and the water was stirred. As a result, generation of bubbles was extremely small, and the height of the bubbles was stopped at a position of 1 cm above the water surface. In the same manner as in Comparative Example 1, using this suspension, an A1050 material mirror-cut aluminum pipe 1 having a diameter of 84 mm was attached to perform honing treatment, and the pump 2 was used for 6 liters / hour.
1.9 kgf / cm
The compressed air of No. 2 was sprayed from the gun 3 together with the abrasive-containing suspension, and the gun 3 was moved at 500 mm / min in the axial direction of the aluminum pipe while rotating the aluminum pipe. This substrate was brush-washed with ion-exchanged water to obtain a substrate for producing a photoreceptor. Center line average roughness of this substrate (Ra)
Was 0.17 μm. The base material obtained here is referred to as a practically processed base material 1-1.

【0048】この処理を繰り返し連続して50本の基材
の粗面化処理を行ったが、ガン3中への気泡を巻き込み
は見られず50本目でもRa 0.19μmの粗度の基
材が得られた。実施処理基材1−2とする。このように
して得られたホーニング基材に比較例1と同じ条件で感
光層を形成した。得られた電子写真感光体を、富士ゼロ
ックス社製カラー複写機A−color635に装着し
て比較例1と同様にプリント操作を行った。結果を表1
に示す。本実施例1で作製した基材を用いた感光体は連
続作製後の基材でも、画質欠陥のない極めて鮮明な画像
を得るこができた。
This process was repeated and the surface roughening treatment of 50 base materials was performed. However, no air bubbles were caught in the gun 3 and the 50th base material had a roughness of 0.19 μm Ra. was gotten. This is referred to as an execution substrate 1-2. A photosensitive layer was formed on the honing substrate thus obtained under the same conditions as in Comparative Example 1. The obtained electrophotographic photosensitive member was mounted on a color copying machine A-color 635 manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd., and a printing operation was performed in the same manner as in Comparative Example 1. Table 1 shows the results
Shown in The photoreceptor using the base material manufactured in Example 1 was able to obtain an extremely clear image without image quality defects even with the base material after continuous manufacture.

【0049】実施例2 実施例1に対して、消泡剤として旭電化社製プルロニッ
クL−61(ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレ
ン縮合物)とし、その添加量を5.1gに変更した以外
は実施例1と同じ処方で処理基材を作製して、実施処理
基材2−1および実施処理基材2−2を得た。この時処
理中に発生した泡の高さは水面上1cmの位置で停止し
た。この結果を表1に示す。
Example 2 Example 1 was different from Example 1 in that Pluronic L-61 (polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate) manufactured by Asahi Denka Co., Ltd. was used as an antifoaming agent, and the amount of addition was changed to 5.1 g. A treated substrate was produced with the same formulation as in Example 1 to obtain a treated substrate 2-1 and a treated substrate 2-2. At this time, the height of bubbles generated during the treatment was stopped at a position 1 cm above the water surface. Table 1 shows the results.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】実施例3 イオン交換水10リットル中を入れた容器に投げ込みヒ
ーターを投入し60°Cまで水温を上昇させた。この温
水に消泡剤として旭電化社製プルロニックTR−701
(エチレンジアミンのポリオキシアルキレン縮合物)
3.34gを投入し撹拌溶解させた。この溶液をホーニ
ング処理容器5に投入し、さらにイオン交換水20リッ
トルを追加し撹拌混合させた。この水溶液にPMMA球
形微粒子(綜研化学社製、MR−60G,d50=60
μm)1.7kgおよびPMMA球形微粒子(綜研化学
社製、MR−30G,d50=30μm)1.7kgの
混合物を投入し、水を撹拌したところ、泡が発生は極め
て少なく、泡の高さは水面上1cmの位置で停止した。
この懸濁液を用いて第1図に示すホーニング処理装置に
おいて30mmφのA6063素材鏡面切削アルミパイ
プ1を装着し、ポンプ2で6リットル/分の流量でガン
3に送液しながら、2.6kgf/cm2 の圧縮空気を
空気導入管4を介して研磨材含有の懸濁液とともにガン
3から吹き付け、アルミニウムパイプを回転させながら
アルミパイプの軸方向にガン3を700mm/分で移動
させた。この基材をイオン交換水でブラシ洗浄して感光
体作製用の基材を得た。この基材の中心線平均粗さ(R
a)は0.18μmであった。ここで得られた基材を実
施処理基材3−1とする。
Example 3 A container containing 10 liters of ion-exchanged water was thrown into the container, and a heater was charged to raise the water temperature to 60 ° C. As a defoamer in this warm water, Pluronic TR-701 manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.
(Polyoxyalkylene condensate of ethylenediamine)
3.34 g was charged and dissolved by stirring. This solution was put into the honing vessel 5, and 20 liters of ion-exchanged water was further added, followed by stirring and mixing. PMMA spherical microparticles (MR-60G, Soken Chemical Co., d50 = 60) were added to this aqueous solution.
A mixture of 1.7 kg of 1.7 μm) and 1.7 kg of PMMA spherical microparticles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., MR-30G, d50 = 30 μm) was added, and the water was stirred. It stopped at a position 1 cm above the water surface.
Using the suspension, a honing treatment apparatus shown in FIG. 1 was fitted with a mirror-cut aluminum pipe 1 of A6063 material having a diameter of 30 mm, and 2.6 kgf while being pumped at a flow rate of 6 liters / minute to a gun 3. / Cm 2 of compressed air was sprayed from the gun 3 together with the abrasive-containing suspension through the air introduction pipe 4, and the gun 3 was moved at 700 mm / min in the axial direction of the aluminum pipe while rotating the aluminum pipe. This substrate was brush-washed with ion-exchanged water to obtain a substrate for producing a photoreceptor. The center line average roughness (R
a) was 0.18 μm. The base material obtained here is referred to as a practically processed base material 3-1.

【0052】この処理を繰り返し連続して50本の基材
の粗面化処理を行ったが、ガン中への気泡を巻き込みは
見られず50本目でもRa 0.18μmの粗度の基材
が得られた。これを実施処理基材3−2とする。このよ
うにして得られたホーニング基材に比較例1と同じ感光
層を形成した。このようにして得られた電子写真感光体
を、接触帯電方式を有する電子写真プリンター(PC−
PR1000/4R日本電気社製)に装着して、プリン
ト操作を行った。結果を表2に示す。実施処理基材3−
1,3−2とも干渉縞の発生がなく、また接触帯電装置
からの電流リークもなく、画質欠陥のない極めて鮮明な
画像を得ることができた。
This treatment was repeated and the surface roughening treatment of 50 base materials was performed. However, air bubbles were not entrapped in the gun, and the base material having a Ra 0.18 μm roughness was found even in the 50th base material. Obtained. This will be referred to as an execution processing base material 3-2. The same photosensitive layer as in Comparative Example 1 was formed on the honing substrate thus obtained. The electrophotographic photoreceptor thus obtained is used as an electrophotographic printer (PC-
PR1000 / 4R (manufactured by NEC Corporation) to perform a printing operation. Table 2 shows the results. Working treatment base material 3-
In each of Examples 1 and 3-2, no interference fringes were generated, no current leaked from the contact charging device, and an extremely clear image without image quality defects was obtained.

【0053】比較例2 図1で示されるホーニング装置に粗面化処理用研磨材懸
濁液を投入した。ホーニング処理用懸濁液として、イオ
ン交換水30リットルを処理容器5に投入し、さらにP
MMA球形微粒子(綜研化学社製、MR−60G,d5
0=60μm)1.7kgおよびPMMA球形微粒子
(綜研化学社製、MR−30G,d50=30μm)
1.7kgの混合物を投入した。水とPMMA研磨材を
混合するために処理容器5中の水を撹拌したところ、泡
が発生し、泡の高さは水面上約30cmの位置まで上昇
した。泡の成分は研磨材PMMA粒子であった。ホーニ
ング処理をすべく、30mmφのA6063素材鏡面切
削アルミパイプ1を装着し、ポンプ2で6リットル/分
の流量でガン3に送液しながら、2.6kgf/cm2
の圧縮空気を研磨材含有の懸濁液とともにガン3から吹
き付けたが、気泡の巻き込みがあり空気圧を気泡に奪わ
れ、基材を粗面化することができなかった。この時得ら
れた1本めの基材を比較処理基材2−1とする。比較処
理基材2−1の上に、比較例1と同じ感光層を形成し
て、実施例3に示すプリンターに装着しプリント操作を
行ったところ、プリント上に干渉縞模様の画質欠陥が発
生した。
Comparative Example 2 An abrasive suspension for surface roughening treatment was introduced into the honing apparatus shown in FIG. As a suspension for honing treatment, 30 liters of ion-exchanged water is charged into the treatment vessel 5, and P
MMA spherical fine particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., MR-60G, d5
0 = 60 μm) 1.7 kg and PMMA spherical fine particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., MR-30G, d50 = 30 μm)
1.7 kg of the mixture were charged. When the water in the processing container 5 was stirred to mix the water and the PMMA abrasive, bubbles were generated, and the height of the bubbles rose to a position of about 30 cm above the water surface. The foam component was abrasive PMMA particles. In order to perform the honing process, a mirror-cut aluminum pipe 1 of A6063 material of 30 mmφ is mounted and 2.6 kgf / cm 2 while pumping liquid to the gun 3 at a flow rate of 6 liter / min.
The compressed air was sprayed from the gun 3 together with the abrasive-containing suspension, but air bubbles were entrapped and the air pressure was deprived of the air bubbles, and the substrate could not be roughened. The first substrate obtained at this time is referred to as a comparative substrate 2-1. The same photosensitive layer as that of Comparative Example 1 was formed on the comparative base material 2-1. The same photosensitive layer was attached to the printer shown in Example 3 and a printing operation was performed. did.

【0054】実施例4〜8 実施例3において、消泡剤とその添加量を表2に示す化
合物に変えた以外は実施例3と全く同じ方法で基材処理
を行い、感光体を形成しプリント画質を調べた。その結
果を表2に示す。
Examples 4 to 8 Substrate treatment was carried out in the same manner as in Example 3 except that the defoaming agent and the amount added were changed to the compounds shown in Table 2, thereby forming a photoreceptor. The print quality was checked. Table 2 shows the results.

【表2】 [Table 2]

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明のホーニング処理方法では、発泡
が生じやすい研磨材を用いる場合でも、発泡を抑制しホ
ーニング処理可能にすることができる。このことにより
研磨材の選択肢が広がり、より優れた研磨性能を有する
研磨材を用いることができる。また、本発明の電子写真
感光体の製造方法で得られた電子写真感光体は、干渉縞
等のない優れた画像を得ることができる。
According to the honing treatment method of the present invention, even when an abrasive which easily causes foaming is used, foaming can be suppressed and honing can be performed. As a result, the choice of abrasives is expanded, and an abrasive having more excellent polishing performance can be used. Further, the electrophotographic photoreceptor obtained by the method for producing an electrophotographic photoreceptor of the present invention can obtain an excellent image without interference fringes or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に適用される湿式ホーニング装置の概
略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a wet honing apparatus applied to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基材(アルミニウム管) 2 ポンプ 3 ガン 4 空気導入管 5 処理容器 6 撹拌器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate (aluminum tube) 2 Pump 3 Gun 4 Air introduction pipe 5 Processing container 6 Stirrer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 浩史 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 朝日 徹 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing from the front page (72) Inventor Hiroshi Yamamoto 1600 Takematsu, Minamiashigara-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fuji Xerox Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材表面にホーニング処理液を吹き付け
て基材表面を粗面化するホーニング処理方法において、
該ホーニング処理液が研磨材を含むと共に消泡剤を含有
することを特徴とするホーニング処理方法。
A honing treatment method for spraying a honing treatment liquid onto a substrate surface to roughen the substrate surface.
A honing treatment method, wherein the honing treatment liquid contains an abrasive and an antifoaming agent.
【請求項2】 前記消泡剤が、脂肪酸エステル系消泡
剤、アルコール系消泡剤またはシリコーン系消泡剤から
選ばれることを特徴とする請求項1に記載のホーニング
処理方法。
2. The honing treatment method according to claim 1, wherein the antifoaming agent is selected from a fatty acid ester-based antifoaming agent, an alcohol-based antifoaming agent, and a silicone-based antifoaming agent.
【請求項3】 前記研磨材が、有機微粉末からなること
を特徴とする請求項1に記載のホーニング処理方法。
3. The honing method according to claim 1, wherein the abrasive comprises an organic fine powder.
【請求項4】 前記有機微粉末が、樹脂微粒子からなる
ことを特徴とする請求項3に記載のホーニング処理方
法。
4. The honing method according to claim 3, wherein the organic fine powder comprises resin fine particles.
【請求項5】 導電性基材にホーニング処理液を吹き付
けて導電性基材表面を粗面化し、粗面化された導電性基
材上に感光層を形成する電子写真感光体の製造方法にお
いて、該ホーニング処理液が研磨材を含むと共に消泡剤
を含有することを特徴とする電子写真感光体の製造方
法。
5. A method for producing an electrophotographic photoreceptor in which a honing treatment liquid is sprayed on a conductive substrate to roughen the surface of the conductive substrate and form a photosensitive layer on the roughened conductive substrate. And a method for producing an electrophotographic photoreceptor, wherein the honing treatment solution contains an abrasive and an antifoaming agent.
【請求項6】 前記消泡剤が、脂肪酸エステル系消泡
剤、アルコール系消泡剤またはシリコーン系消泡剤から
選ばれることを特徴とする請求項5に記載の電子写真感
光体の製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein the defoaming agent is selected from a fatty acid ester-based defoaming agent, an alcohol-based defoaming agent, and a silicone-based defoaming agent. .
【請求項7】 前記研磨材が、有機微粉末からなること
を特徴とする請求項5に記載の電子写真感光体の製造方
法。
7. The method according to claim 5, wherein the abrasive is made of an organic fine powder.
【請求項8】 前記有機微粉末が、樹脂微粒子からなる
ことを特徴とする請求項7に記載の電子写真感光体の製
造方法。
8. The method according to claim 7, wherein the organic fine powder comprises resin fine particles.
【請求項9】 ホーニング処理液の吹き付け速度が10
〜150m/sec、ホーニング処理液の吹き付け圧力
が0.1〜10kg/cm2 である請求項5乃至請求項
8に記載の電子写真感光体の製造方法。
9. The spraying speed of the honing treatment liquid is 10
~150m / sec, the production method of the electrophotographic photosensitive member according to claims 5 to 8 spraying pressure is 0.1 to 10 / cm 2 of the honing processing liquid.
JP33375396A 1996-12-13 1996-12-13 Honing processing method and manufacture of electronic photosentitizer Pending JPH10175167A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001051437A (en) * 1998-11-27 2001-02-23 Canon Inc Manufacture of electrophotographic photoreceptor
JP2017504736A (en) * 2013-11-20 2017-02-09 エレメント、シックス、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングElement Six Gmbh Strike structure, pick comprising the strike structure, and method for forming a strike structure

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