JPH10170922A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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Publication number
JPH10170922A
JPH10170922A JP33598996A JP33598996A JPH10170922A JP H10170922 A JPH10170922 A JP H10170922A JP 33598996 A JP33598996 A JP 33598996A JP 33598996 A JP33598996 A JP 33598996A JP H10170922 A JPH10170922 A JP H10170922A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
display device
crystal display
injection port
alignment film
Prior art date
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Pending
Application number
JP33598996A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Kono
広明 河野
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP33598996A priority Critical patent/JPH10170922A/en
Publication of JPH10170922A publication Critical patent/JPH10170922A/en
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate the display defect, which occurs near the injection port of a liquid crystal display device. SOLUTION: This liquid crystal display device has a pair of oriented films 6 which exist in a display region 3 and are arranged to face each other via liquid crystals in order to orient the liquid crystals injected from the injection port 4. The plane shape of at least one oriented film 6 is so formed that ionic impurities may be captured at a projecting part by providing the film with a projecting part 12 made of polyimide projecting toward the injection port 4 from the display region 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、詳しくは、注入口の配向不良の改善に関するもので
ある。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to improvement of alignment failure of an injection port.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に液晶表示装置は、液晶を一定方向
に配向させるために、配向膜と呼ばれる高分子膜を用い
て液晶を挟持している。図10は従来の液晶表示装置の
要部を示す平面図である。図10に示すように、液晶表
示装置は、絶縁性の基板1の周囲に樹脂製のメインシー
ル2が表示領域3を取り囲むように形成されている。
2. Description of the Related Art In general, a liquid crystal display device sandwiches a liquid crystal by using a polymer film called an alignment film in order to align the liquid crystal in a certain direction. FIG. 10 is a plan view showing a main part of a conventional liquid crystal display device. As shown in FIG. 10, in the liquid crystal display device, a main seal 2 made of resin is formed around an insulating substrate 1 so as to surround a display area 3.

【0003】メインシール2の途切れたところに注入口
4があり、注入口からメインシール2の内周部まで液晶
を行き渡らせた後、樹脂製のエンドシール5により液晶
が外気に触れないように封をする。そして、配向膜6の
形状は、メインシールと呼ばれる2枚のガラス等の基板
を接着する樹脂(メインシール)の種類や形状に係ら
ず、表示領域3全体を覆うように正方形又は長方形をし
ている。
An injection port 4 is provided at a position where the main seal 2 is interrupted. After the liquid crystal is spread from the injection port to the inner peripheral portion of the main seal 2, an end seal 5 made of resin prevents the liquid crystal from contacting the outside air. Seal. The shape of the alignment film 6 is square or rectangular so as to cover the entire display area 3 irrespective of the type and shape of a resin (main seal) for bonding two substrates such as glass called a main seal. I have.

【0004】図11は従来の液晶表示装置の注入口から
表示領域までの部分の断面図である。図11に示すよう
に、基板1の端にエンドシール5が形成されており、一
方、表示領域に相当する、基板1の中央に外部電圧を表
示電極に伝える多結晶Si7が堆積されている。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a portion from a filling port to a display area of a conventional liquid crystal display device. As shown in FIG. 11, an end seal 5 is formed at an end of the substrate 1, while polycrystalline Si7 for transmitting an external voltage to a display electrode is deposited at the center of the substrate 1 corresponding to a display area.

【0005】多結晶Si7の表面は、走査線から多結晶
Si7に電界効果を生じさせるために酸化膜8で覆われ
ている。酸化膜8及び基板1上は、表示領域中の配線と
なる、走査線と信号線とを分離するため、BPSG製の
層間絶縁膜9で覆われている。また、酸化膜8及び層間
絶縁膜9を貫通する穴により、信号線となるAl10が
多結晶Si7に接続されている。
The surface of the polycrystalline Si 7 is covered with an oxide film 8 in order to generate an electric field effect on the polycrystalline Si 7 from a scanning line. The oxide film 8 and the substrate 1 are covered with an interlayer insulating film 9 made of BPSG to separate a scanning line and a signal line, which are wirings in a display area. In addition, Al 10 serving as a signal line is connected to polycrystalline Si 7 through a hole penetrating oxide film 8 and interlayer insulating film 9.

【0006】図11に示すようにAl10は比較的厚い
ため、SOG製の平坦化層11がAl10及び層間絶縁
膜9上にエンドシール5の下まで形成されている。さら
に、平坦化層11上にポリイミド製の配向膜6が、多結
晶Si7のある表示領域を少し越えたところまで形成さ
れている。
As shown in FIG. 11, since Al10 is relatively thick, a flattening layer 11 made of SOG is formed on the Al10 and the interlayer insulating film 9 up to below the end seal 5. Further, an alignment film 6 made of polyimide is formed on the flattening layer 11 to a position slightly beyond a display region where the polycrystalline Si 7 exists.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】このような液晶表示装
置の内、液晶を注入する注入口を有するものに関して
は、液晶注入中にイオン性不純物が注入口から液晶表示
装置内部へ侵入する問題がある。侵入したイオン性不純
物は、表面に出ている配向膜に順次捕獲されるため、特
に注入口近傍の配向膜上のイオン密度を増加させる。
Among such liquid crystal display devices having an injection port for injecting liquid crystal, there is a problem that ionic impurities enter the liquid crystal display device from the injection port during liquid crystal injection. is there. The infiltrated ionic impurities are sequentially captured by the alignment film exposed on the surface, so that the ion density particularly on the alignment film near the injection port is increased.

【0008】その結果、液晶の電圧保持率の低下が起こ
り、注入口近傍の画素において表示不良が発生するとい
う問題が生じていた。図12は、図10において、液晶
を注入してから820時間後での配向膜6で生じる電圧
保持率の降下の様子を示した電圧保持率の液晶表示装置
上での分布図である。
[0008] As a result, the voltage holding ratio of the liquid crystal is lowered, and there is a problem that a display failure occurs in a pixel near the injection port. FIG. 12 is a distribution diagram of the voltage holding ratio on the liquid crystal display device, showing a state of a drop in the voltage holding ratio occurring in the alignment film 6 after 820 hours from the injection of the liquid crystal in FIG.

【0009】電圧保持率は60Hz、即ち、1画面を書
き換える間の1/60=16.7msの間にどれだけ電
圧が低下するかを百分率で表示した数値である。電圧保
持率が低い、言い換えれば液晶の抵抗が低いと液晶表示
装置の鮮明さが失われることになる。また、部分的に電
圧保持率が低いと画面にまだら模様が生じて、表示が見
苦しくなる。
[0009] The voltage holding ratio is a numerical value indicating the percentage of the voltage drop at 60 Hz, that is, 1/60 = 16.7 ms while rewriting one screen, as a percentage. When the voltage holding ratio is low, in other words, when the resistance of the liquid crystal is low, the sharpness of the liquid crystal display device is lost. In addition, when the voltage holding ratio is partially low, a mottled pattern is generated on the screen, and the display becomes unsightly.

【0010】図12に示すように、注入口に近い3行1
列目、3行2列目、3行3列目の領域で電圧保持率が温
度30℃で88%と90%以下になっている。従来、そ
れらを回避する手段として、注入口から表示領域までの
SiO2製の配向膜を回廊状に延長して、液晶導入部の
拡大によりイオン性不純物を無機絶縁膜に吸着させる構
成があった(特開昭58−115417号公報)。
[0010] As shown in FIG.
The voltage holding ratio is 88% and 90% or less at the temperature of 30 ° C. in the region of the third row, the second column, and the third row, the third column. Conventionally, as means for avoiding these, there has been a configuration in which an SiO2 alignment film from the injection port to the display region is extended in a corridor shape, and ionic impurities are adsorbed on the inorganic insulating film by enlarging a liquid crystal introduction portion ( JP-A-58-115417).

【0011】しかし、この構成は、細長い回廊を通って
液晶が注入されるため、液晶表示装置の注入時間が長く
なる惧れがあった。また、同公報中に、メインシール樹
脂塗布時に、注入口近傍に点状塗布することにより、シ
ール樹脂製の凹凸構造(対極基板に届いた場合は柱状構
造)を形成する構成が記載されている。
However, in this configuration, since the liquid crystal is injected through a long and narrow corridor, there is a concern that the injection time of the liquid crystal display device becomes long. In addition, the publication discloses a configuration in which an irregular structure made of a seal resin (a columnar structure when it reaches the counter electrode substrate) is formed by applying a spot-like application near the injection port when applying the main seal resin. .

【0012】しかし、この構成では、注入口が塞がって
しまう不良が発生する上に、メインシール樹脂自身も汚
染源となり得るため、結果として表示領域により近いシ
ールから液晶中への不純物溶出による表示不良も発生す
る危惧がある。本発明は、このような問題を解決するた
めになされたものであり、画面全体に均一な表示を行う
ことができる液晶表示装置を提供することを目的とす
る。
However, in this configuration, a failure that the injection port is blocked occurs, and the main seal resin itself can also be a source of contamination. As a result, display failure due to elution of impurities from the seal closer to the display area into the liquid crystal occurs. There is a fear that it will occur. The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of performing a uniform display on the entire screen.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1の液晶表示装置
は、表示領域に位置する、注入口から注入された液晶を
配向させるために、液晶を介して対向して配置された一
対の配向膜を有する液晶表示装置において、少なくとも
一方の配向膜が、表示領域から注入口側へ突出する突出
部を有するものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a pair of liquid crystal display devices disposed in a display area, the liquid crystal display devices being arranged to face each other with a liquid crystal interposed therebetween so as to orient the liquid crystal injected from an injection port. In a liquid crystal display device having a film, at least one of the alignment films has a projecting portion projecting from the display region toward the injection port.

【0014】また、請求項2の液晶表示装置は、配向膜
が、表示領域と突出部とに分離しているものである。ま
た、請求項3の液晶表示装置は、突出部が、ポリイミド
からなるものである。また、請求項4の液晶表示装置
は、突出部の表面が、凹凸状に形成されているものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, in the liquid crystal display device, the alignment film is separated into a display region and a projection. According to a third aspect of the present invention, in the liquid crystal display device, the protrusion is made of polyimide. Further, in the liquid crystal display device according to the fourth aspect, the surface of the protruding portion is formed in an uneven shape.

【0015】また、請求項5の液晶表示装置は、突出部
の表面が、突出部の下層の形状によって凹凸状に形成さ
れ、前記突出部の下層が、表示領域の配線と同一の材料
で形成されているものである。すなわち、前述のように
従来の配向膜形状(正方形または長方形)に加えて、新
たに注入口に向かって突起状またはアイランド状に有機
高分子膜を形成する。
According to a fifth aspect of the present invention, in the liquid crystal display device, the surface of the protrusion is formed in an uneven shape by the shape of the lower layer of the protrusion, and the lower layer of the protrusion is formed of the same material as the wiring in the display area. Is what is being done. That is, as described above, in addition to the conventional alignment film shape (square or rectangular), an organic polymer film is newly formed in a projecting or island shape toward the injection port.

【0016】これらの形状としては、出来るだけ大きな
正方形、長方形または円状のものとし、特にメインシー
ルに掛からないようにすることが望ましい。こうするこ
とにより、侵入するイオン性不純物を表示領域に至るま
でに有機高分子製の突出部により捕獲することができ
る。また、単一あるいは連続した複数個の凹凸構造上に
配向膜を塗布すれば、注入口から表示領域までの表面積
がより大きくなることに加え、凸部がイオン性不純物の
拡散に対する障害物として作用する。
It is desirable that these shapes are square, rectangular, or circular as large as possible, and that they do not get caught on the main seal. In this way, the ionic impurities that enter can be captured by the organic polymer projecting portion before reaching the display region. In addition, if an alignment film is applied on a single or a plurality of concavo-convex structures, the surface area from the injection port to the display area becomes larger, and the protrusions act as obstacles for diffusion of ionic impurities. I do.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】ここで、あらかじめ、注入口近傍
の表示不良がどのような状態で発生するかを確認するた
め、全面にポリイミド製の配向膜を設けた3”液晶表示
装置で、注入口からの距離によって電圧保持率が経過時
間によってどのように変化するかを調べた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Here, in order to confirm in advance what kind of display failure occurs near the injection port, a 3 ″ liquid crystal display device having a polyimide alignment film on the entire surface is used. It was investigated how the voltage holding ratio changes with the elapsed time depending on the distance from the entrance.

【0018】図9は、3”液晶表示装置の角から液晶を
注入した場合に生じる注入口付近の表示不良の様子を示
した電圧保持率の分布図である。図9において、左下の
領域が注入口となっており、5行5列の行列の正方形の
各領域は各辺が3mmの長さ、また、各領域間が1mm
の間隔を有している。尚、加速試験のため、温度60
℃、湿度90%の環境条件に封口した液晶表示装置を置
いた。
FIG. 9 is a distribution diagram of the voltage holding ratio showing a state of display failure near the injection port when liquid crystal is injected from the corner of the 3 ″ liquid crystal display device. In FIG. Each area of the square of the matrix of 5 rows and 5 columns has a length of 3 mm on each side and a distance of 1 mm between the areas.
Have the following intervals. Note that the temperature was 60
A sealed liquid crystal display device was placed under environmental conditions of 90 ° C. and 90% humidity.

【0019】図9aに示すように、電圧保持率は、注入
後110時間(110H)ではほとんど低下しない。ま
た、図9bに示すように、490時間後、温度30℃で
の注入口近辺の電圧保持率は88%に低下している。さ
らに、図9cに示すように、820時間後、注入口近傍
となる左下の領域の温度30℃での電圧保持率は83%
まで低下する。
As shown in FIG. 9A, the voltage holding ratio hardly decreases 110 hours after the injection (110H). Also, as shown in FIG. 9b, after 490 hours, the voltage holding ratio near the injection port at a temperature of 30 ° C. has dropped to 88%. Further, as shown in FIG. 9c, after 820 hours, the voltage holding ratio at a temperature of 30 ° C. in the lower left area near the injection port is 83%.
Down to

【0020】しかし、図9dに示すように、980時間
後では、820時間後の温度30℃での電圧保持率の分
布と変わっていない。図9の結果から、平坦な液晶表示
装置内に侵入したイオン性不純物は温度60℃、湿度9
0%では注入口から限られた距離しか拡散しないことが
分かった。この現象は、イオン性不純物が配向膜上に捕
獲され、その後も上記条件では拡散せずに捕獲され続け
るためと推定される。
However, as shown in FIG. 9D, after 980 hours, the distribution of the voltage holding ratio at a temperature of 30 ° C. after 820 hours has not changed. From the results shown in FIG. 9, it is found that the ionic impurities penetrating into the flat liquid crystal display device have a temperature of 60.degree.
At 0%, it was found that diffusion was limited to a limited distance from the inlet. This phenomenon is presumed to be because the ionic impurities are captured on the alignment film, and thereafter are continuously captured without being diffused under the above conditions.

【0021】(第1実施形態)斯かる結果に鑑み、本発
明を具体化した第1の実施形態の液晶表示装置を図1に
従って説明する。図1は、配向膜が表示領域から注入口
側へ突出している第1実施形態の液晶表示装置の要部を
示す平面図である。
(First Embodiment) In view of these results, a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a plan view showing a main part of the liquid crystal display device of the first embodiment in which an alignment film protrudes from a display region toward an injection port.

【0022】絶縁性の透明なガラス等の基板1上に、主
剤と硬化剤とからなる2液性のエポキシ樹脂製のメイン
シール2が基板1の周囲を取り囲むように形成されてい
る。メインシール2の内側でかつ基板1の中央に位置す
る表示領域3は、外部からWSi2製の走査線とAl製
の信号線との2種類の配線によって信号を受けている。
On a substrate 1 made of insulating transparent glass or the like, a two-part epoxy resin main seal 2 composed of a main agent and a curing agent is formed so as to surround the substrate 1. The display area 3 located inside the main seal 2 and at the center of the substrate 1 receives signals from outside by two kinds of wirings, ie, scanning lines made of WSi2 and signal lines made of Al.

【0023】走査線上の走査信号により特定の位置の薄
膜トランジスタ(TFT)の導通または遮断が制御さ
れ、また、信号線の映像信号により表示電極の電圧値が
60Hzの周波数で書き換えられる。走査線と信号線と
の交差点付近に厚さ2000Å以下の多結晶Si製のT
FTが形成されている。
The conduction or cutoff of a thin film transistor (TFT) at a specific position is controlled by a scanning signal on a scanning line, and the voltage of a display electrode is rewritten at a frequency of 60 Hz by a video signal on a signal line. Near the intersection of the scanning line and the signal line, a polycrystalline Si T
FT is formed.

【0024】走査線及び信号線の端はメインシールの外
側で外部回路からの信号を受け取る。Al製の信号線は
数μmと厚いため、SOGにより平坦化した後、ITO
製の表示電極をTFTに接続している。図示していない
対向基板と基板との間の間隔は4μmから12μmであ
る。
The ends of the scanning lines and signal lines receive signals from external circuits outside the main seal. Since the signal line made of Al is as thick as several μm, it is flattened by SOG and then ITO
Is connected to the TFT. The distance between the opposing substrate (not shown) and the substrate is 4 μm to 12 μm.

【0025】このような液晶表示装置に、配向膜6が、
単に表示領域3を覆うだけでなく、矩形の表示領域3か
ら注入口4へ突出する突出部12も成す形状で形成され
ている。また、前述の図9で述べたように、表示不良の
原因となりうるイオン性不純物が存在する注入口からの
拡散距離は10mm以下であることから、メインシール
2及びエンドシール5との間に間隔を空けながら、注入
口方向への突出部12の長さを10mmに設計した。
In such a liquid crystal display device, the alignment film 6
It is formed in a shape that not only covers the display area 3 but also forms a protrusion 12 that projects from the rectangular display area 3 to the injection port 4. Further, as described with reference to FIG. 9 described above, the diffusion distance from the injection port in which ionic impurities that can cause display defects are present is 10 mm or less, so that the distance between the main seal 2 and the end seal 5 is small. , The length of the protruding portion 12 in the direction of the injection port was designed to be 10 mm.

【0026】配向膜6は、120℃〜180℃で製膜し
た低温硬化性のポリイミド膜であり、イミド基の存在す
る位置によって、主鎖型と側鎖型の2種類に分けられ
る。表示領域と注入口方向に延びた突出部とに同じポリ
イミドを用いると、異なる材料を用いた場合に両者の境
界発生する転移線が、表示領域に侵入して表示が分断さ
れることが無い。
The alignment film 6 is a low-temperature curable polyimide film formed at 120 ° C. to 180 ° C., and is classified into two types, a main chain type and a side chain type, depending on the position where the imide group exists. When the same polyimide is used for the display region and the protrusion extending in the direction of the injection port, when different materials are used, a transition line generated between the two does not enter the display region and the display is not divided.

【0027】ポリイミドは、粘度調整のための溶媒のN
MP(N−メチルピロリドン)や平滑化のための添加剤
のモノブチルエーテルなどを加えて、基板1上に印刷さ
れ、硬化後、ラビングされている。ラビング条件は、ラ
ビング布を基板1に対して0.2mmだけ押し込んだ状
態で400r.p.m.で回転させながら配向膜を擦る
こととした。
Polyimide is used as a solvent for adjusting the viscosity of N.
MP (N-methylpyrrolidone), monobutyl ether as an additive for smoothing, etc. are added, printed on the substrate 1, cured, and rubbed. The rubbing conditions were as follows: 400 r. p. m. The alignment film was rubbed while being rotated.

【0028】図1のポリイミド製の突出部12は、長方
形に形成され、かつメインシール2には至らないように
設計されている。これは、メインシール2の下層に配向
膜6が形成されると、エポキシ樹脂製のメインシール2
と配向膜6との接着力が弱くなり、信頼性に問題が生じ
るためである。
The protrusion 12 made of polyimide in FIG. 1 is formed in a rectangular shape and is designed so as not to reach the main seal 2. This is because when the alignment film 6 is formed below the main seal 2, the main seal 2 made of epoxy resin is formed.
This is because the adhesion between the film and the alignment film 6 becomes weak, and a problem occurs in reliability.

【0029】新たに10mmの突起部を基板間隔4μm
から12μmの液晶表示装置に設けることで注入口に近
い表示領域の電圧保持率が820時間の加速試験後でも
温度30℃で96%以上となった。ここで、電圧保持率
は通常、温度が高くなると低下するが、70℃であって
も、本実施形態の場合、94%の電圧保持率が得られ
る。
A new 10 mm projection is formed with a substrate spacing of 4 μm.
, The voltage holding ratio of the display area near the injection port became 96% or more at a temperature of 30 ° C. even after an acceleration test of 820 hours. Here, the voltage holding ratio usually decreases as the temperature increases, but even at 70 ° C., in the case of the present embodiment, a voltage holding ratio of 94% can be obtained.

【0030】突出部12は図1に示される長方形だけで
なく、多角形であっても良い。 (第2実施形態)例えば、図2は、配向膜に台形状の突
起部を設けた、第2実施形態の液晶表示装置の要部を示
す平面図である。図2に示すように、突起部12は注入
口4の側で図1と同じ幅で、矩形の表示領域3の側で図
1より幅が広くなるように設定されている。
The protrusion 12 may be not only the rectangle shown in FIG. 1, but also a polygon. (Second Embodiment) For example, FIG. 2 is a plan view showing a main part of a liquid crystal display device of a second embodiment in which a trapezoidal projection is provided on an alignment film. As shown in FIG. 2, the protrusion 12 is set to have the same width as that of FIG. 1 on the side of the injection port 4 and to be wider than that of FIG. 1 on the side of the rectangular display area 3.

【0031】この形態は、注入口が小さく、イオン性不
純物が横方向への拡散が心配な場合に役立つ。注入口の
幅が6mmの液晶表示装置に対して、注入口側を4m
m、表示領域側を12mm、また、奥行きを10mmに
設定した突起部12を設けることで注入口に近い表示領
域の温度30℃での電圧保持率が820時間後で96%
以上となる。
This embodiment is useful when the injection port is small and ionic impurities are concerned about diffusion in the lateral direction. For a liquid crystal display device with an inlet width of 6 mm, the inlet side is 4 m
m, the display area side is set to 12 mm, and the depth is set to 10 mm. By providing the projection 12, the voltage holding ratio at a temperature of 30 ° C. of the display area close to the injection port is 96% after 820 hours.
That is all.

【0032】第1及び第2実施形態は、表示領域と突出
部とが連結していたが、必ずしも両者は連結していなく
ても良い。 (第3実施形態)突出部が表示領域から分離している第
3実施形態の液晶表示装置を図3に基づいて説明する。
In the first and second embodiments, the display area and the protruding portion are connected, but they need not necessarily be connected. Third Embodiment A liquid crystal display device according to a third embodiment in which a protruding portion is separated from a display area will be described with reference to FIG.

【0033】図3は第3実施形態における液晶表示装置
の要部を示す平面図である。図3に示すように、基板1
上に表示領域3を少し越える程度の広さのポリイミド製
の配向膜6と、表示領域3から離れて注入口4へ延びる
アイランド(島)状のポリイミド製の突出部12とが印
刷により形成されている。配向膜を表示領域と突出部と
に離して形成すると、配向膜の下地の膜の疎水性が高
く、印刷後のポリイミド溶液が弾かれやすい場合でも、
表示領域と突出部とを合わせて形成した場合に比べて、
突出部が変形しにくく、パターン精度が向上する。
FIG. 3 is a plan view showing a main part of the liquid crystal display device according to the third embodiment. As shown in FIG.
An alignment film 6 made of polyimide having a width slightly exceeding the display region 3 and an island-shaped polyimide protrusion 12 extending from the display region 3 to the injection port 4 are formed by printing. ing. If the alignment film is formed apart from the display area and the protruding portion, the hydrophobicity of the film underlying the alignment film is high, and even when the polyimide solution after printing is easily repelled,
Compared to the case where the display area and the projection are formed together,
The protrusion is less likely to be deformed, and the pattern accuracy is improved.

【0034】例えば、有機シリコン化合物から形成され
るSOGが配向膜の下膜である場合、芳香族の成分が多
い出発原料であったり、Si−Oが有機物で終端されて
いる割合が多い場合でも、温度30℃での電圧保持率が
96%以上になるたけでなく、印刷後とラビング後との
配向膜の寸法変化が5%以内に収まり、イオン性不純物
を捕らえるに十分な突出部の面積が確保できる。
For example, when the SOG formed from the organic silicon compound is the lower layer of the alignment film, the SOG may be a starting material containing a large amount of aromatic components, or a case where the proportion of Si—O terminated with an organic substance is large. In addition to the fact that the voltage holding ratio at a temperature of 30 ° C. becomes 96% or more, the dimensional change of the alignment film after printing and after rubbing falls within 5%, and the area of the projection portion sufficient to capture ionic impurities is reduced. Can be secured.

【0035】ポリイミドの配向膜の表面は滑らかであ
り、ポリイミド製の突出部の表面も滑らかとなるが、突
出部の表面は必ずしも平坦である必要は無い。 (第4実施形態)凸凹状の突出部を持つ第4実施形態の
液晶表示装置を図4乃至図5に基づいて説明する。
Although the surface of the polyimide alignment film is smooth and the surface of the protrusion made of polyimide is also smooth, the surface of the protrusion is not necessarily required to be flat. (Fourth Embodiment) A liquid crystal display device according to a fourth embodiment having uneven projections will be described with reference to FIGS.

【0036】図4は第4実施形態における液晶表示装置
の要部を示す平面図である。図4に示すように、基板1
上の表示領域3を覆うポリイミド製の配向膜6は注入口
4側に突出したポリイミド製の突出部12を有してい
る。また、突出部12がと注入口4とを結ぶ方向と垂直
な方向に、Al10製の凹凸が設けられている。
FIG. 4 is a plan view showing a main part of a liquid crystal display device according to the fourth embodiment. As shown in FIG.
The polyimide alignment film 6 covering the upper display region 3 has a polyimide protrusion 12 protruding toward the injection port 4 side. In addition, irregularities made of Al10 are provided in a direction perpendicular to the direction in which the projecting portion 12 connects the injection port 4.

【0037】ポリイミド製の突出部12の下の層のAl
10は、表示領域3を貫通する信号線13と同時に同一
の材料でフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に
より形成されたものである。このように、信号線13と
同一の材料で形成すると、突出部の下層からポリイミド
製の突出部12へイオン性不純物が拡散することは無
い。
Al in the layer under the protrusion 12 made of polyimide
Reference numeral 10 is formed by the same material at the same time as the signal line 13 penetrating the display area 3 by photolithography and etching. As described above, when the signal line 13 is formed of the same material, the ionic impurities do not diffuse from the lower layer of the protrusion to the protrusion 12 made of polyimide.

【0038】また、凹凸が信号線と同時にフォトリソグ
ラフィーにより形成されると信号線の加工の際に突出部
の凹凸も形成することができ、工程数を増やすことなく
温度30℃での電圧保持率が96%以上になるので、配
向不良が解消される。図4では、Al10が、ポリイミ
ド製の突出部12より大きな横幅の長方形で3個形成さ
れている。
If the projections and depressions are formed by photolithography at the same time as the signal lines, the projections and depressions can be formed when the signal lines are processed, and the voltage holding ratio at a temperature of 30 ° C. can be increased without increasing the number of steps. Is 96% or more, so that poor alignment is eliminated. In FIG. 4, three pieces of Al 10 are formed in a rectangular shape having a larger width than the protrusion 12 made of polyimide.

【0039】尚、図4は先の図と同様に対向基板を省略
する以外に、説明のためにエンドシールも省いてある。
図4のV−V線上において液晶表示装置を切断した断面
図を図5に示す。図5で左側が表示領域側、右側が注入
口側である。図5に示すように、石英ガラス製の基板1
上に移動度120cm2/Vs以上の450℃で水素ア
ニール処理した多結晶Si7が厚さ1000Åで形成さ
れている。
FIG. 4 omits an opposing substrate as in the previous figures, and also omits an end seal for explanation.
FIG. 5 is a cross-sectional view of the liquid crystal display taken along the line VV in FIG. In FIG. 5, the left side is the display area side, and the right side is the injection port side. As shown in FIG. 5, a quartz glass substrate 1
Polycrystalline Si7 having a mobility of 120 cm 2 / Vs or more and subjected to hydrogen annealing at 450 ° C. is formed to a thickness of 1000 °.

【0040】多結晶Si7上に厚さ1000ÅのSiO
2製の酸化膜8がTFTのゲート酸化膜として形成され
ている。酸化膜8及び基板1上にBPSG(ホウ素、燐
シリケートガラス)を堆積後、加熱により流動させて形
成した厚さ5000Åの層間絶縁膜9が積層してある。
多結晶Si7上のAl10は、信号線として動作する
が、TFTに映像信号を伝達するために、酸化膜8及び
層間絶縁膜9に開けられたコンタクトホールを通じて、
多結晶Si7に電気接続されている。
A 1000.degree.-thick SiO.sub.2 on polycrystalline Si7
An oxide film 8 made of two is formed as a gate oxide film of the TFT. After depositing BPSG (boron, phosphorus silicate glass) on the oxide film 8 and the substrate 1, an interlayer insulating film 9 having a thickness of 5000 mm formed by flowing by heating is laminated.
The Al 10 on the polycrystalline Si 7 operates as a signal line, but through a contact hole formed in the oxide film 8 and the interlayer insulating film 9 to transmit a video signal to the TFT.
It is electrically connected to polycrystalline Si7.

【0041】また、膜厚2μmのAl10はスパッタリ
ングにより層間絶縁膜上に堆積され、その長さと幅はそ
れぞれ4mm、1mmである。左側の表示領域は厚いA
lの段差を解消するために、オルガノシロキサンオリゴ
マー液を塗布、硬化して得られるシリコン樹脂の一種で
あるSOG(Spin−On−Glass)製の平坦化
層11で覆われている。
Al2 having a thickness of 2 μm is deposited on the interlayer insulating film by sputtering, and its length and width are 4 mm and 1 mm, respectively. The left display area is thick A
In order to eliminate the step of 1, it is covered with a flattening layer 11 made of SOG (Spin-On-Glass), which is a kind of silicon resin obtained by applying and curing an organosiloxane oligomer liquid.

【0042】図5の左側から右側に行く途中の比誘電率
2.9の厚さ2μmの平坦化層は、信号線の端の露出の
際に同時に除去されている。平坦化層11の除去により
表面に現れた層間絶縁膜9上に、イオン性不純物をほと
んど含まない、短冊状の厚さ2μmのAl10が信号線
と同時に形成されている。
The 2 μm-thick planarizing layer having a relative dielectric constant of 2.9 on the way from the left side to the right side of FIG. 5 is removed at the same time as exposing the ends of the signal lines. On the interlayer insulating film 9 that has appeared on the surface due to the removal of the planarization layer 11, strip-shaped Al2 having a thickness of 2 μm and containing almost no ionic impurities is formed simultaneously with the signal lines.

【0043】ポリイミド製の配向膜6は、表示領域に相
当する左側の平坦化層11の上から、平坦化層の無い谷
間に点在する3個のAl10製の山を越えて、注入口の
に相当する右側の平坦化層11の上まで、500Åから
4000Å程度の少なくとも谷間のAl10より薄い厚
さで印刷により形成されている。このように下地の凸部
より薄い配向膜を形成することにより、配向膜は下地の
凹凸を忠実に反映して2μmの凹凸を生じ、イオン性不
純物を捕獲する表面積が増大する。
The polyimide alignment film 6 extends from the top of the flattening layer 11 on the left side corresponding to the display area, over the three Al10 peaks interspersed between the valleys without the flattening layer, and at the injection port. Is formed by printing with a thickness of at least about 500 ° to 4000 ° thinner than at least Al10 in the valley up to the upper surface of the flattening layer 11 on the right side. By forming an alignment film thinner than the underlying protrusions, the alignment film faithfully reflects the unevenness of the base to form 2 μm unevenness, thereby increasing the surface area for capturing ionic impurities.

【0044】このことにより、例えば突出部の長さを5
mmに短くしても配向不良が減ることになる。配向膜6
の無い基板1の右端の平坦化層11上にエンドシール5
が形成され、図示していない対向基板と基板1との接着
を担っている。あるいは、基板上の周辺回路やTFTの
コンタクトホールの形成時に、突出部の下の層に凹凸を
形成しても良い。
By this, for example, the length of the protruding portion is set to 5
Even if it is shortened to mm, poor alignment will be reduced. Alignment film 6
End seal 5 on flattening layer 11 at the right end of substrate 1
Are formed, and serve to bond the opposing substrate (not shown) to the substrate 1. Alternatively, when forming a peripheral circuit or a contact hole of a TFT on a substrate, unevenness may be formed in a layer below the protruding portion.

【0045】図5のように凸部が液晶側に突き出ていな
いと液晶の流れを塞き止めることが無いので、液晶の注
入にかかる時間が短くなる。図5は短冊状の凸部を図示
しているが、配向膜の下に位置する層は、ラビングによ
り形成される深さで1nm未満の凹凸より大きければ、
目に見える多角形であっても良いし、エッチングなどで
形成される表面の起伏であっても良い。
If the projection does not protrude toward the liquid crystal as shown in FIG. 5, the flow of the liquid crystal is not blocked, so that the time required for injecting the liquid crystal is shortened. FIG. 5 illustrates strip-shaped protrusions, but the layer located under the alignment film is larger than the unevenness of less than 1 nm at a depth formed by rubbing.
The polygon may be a visible polygon, or may be an uneven surface formed by etching or the like.

【0046】(第5実施形態)図6は凹凸を為す下層が
矢尻状の多角形に形成された液晶表示装置の平面図であ
る。図6に示すように、基板1の表示領域3を覆う配向
膜6が注入口4へ延びて突出部12を形成している。
(Fifth Embodiment) FIG. 6 is a plan view of a liquid crystal display device in which a lower layer having irregularities is formed in an arrowhead-shaped polygon. As shown in FIG. 6, an alignment film 6 covering the display area 3 of the substrate 1 extends to the injection port 4 to form a protrusion 12.

【0047】また、突出部12の下の層は、6辺からな
る矢尻状のMoW14である。MoW14はMoが70
原子%、Wが30原子%である、比抵抗15μm以下の
走査線15と同時に形成されたイオン性不純物をほとん
ど含まない、厚さ0.2μmの層である。高融点金属で
形成されているため、層間絶縁膜のリフローによっても
MoW14は変形することが無い。
The layer below the protrusion 12 is an arrowhead-shaped MoW 14 having six sides. MoW14 is Mo 70
This is a layer having a thickness of 0.2 μm and containing almost no ionic impurities formed at the same time as the scanning line 15 having a specific resistance of 15 μm or less, in which the atomic% and the W are 30 atomic%. Since it is formed of a high melting point metal, the MoW 14 does not deform even when the interlayer insulating film is reflowed.

【0048】MoW14は、BPSG製の層間絶縁膜、
SOG製の平坦化層を上層としているので、液晶に対し
て堰となっており、急激な液晶注入時に発生する、配向
の方向が液晶の流入方向に変化してしまう現象を抑制す
る。また、矢尻状のMoW14は、幅が中央で狭く、両
端で広くなっている。さらに、MoW14は、矢尻の形
から、通常注入口から左右に広がりやすい液晶の流れを
突起部の中央に集めてイオン性不純物が突起部12のポ
リイミドに捕らえられやすいようにしている。
MoW 14 is an interlayer insulating film made of BPSG,
Since the flattening layer made of SOG is used as the upper layer, it acts as a weir for the liquid crystal, and suppresses the phenomenon that occurs when the liquid crystal is rapidly injected and the direction of alignment changes in the inflow direction of the liquid crystal. The arrowhead-shaped MoW 14 has a narrow width at the center and wide at both ends. Further, the MoW 14 collects the flow of the liquid crystal, which tends to spread from the injection port to the left and right, at the center of the protrusion from the shape of the arrowhead, so that the ionic impurities are easily trapped by the polyimide of the protrusion 12.

【0049】あるいは、配向膜の下の層を走査線と信号
線との積層膜として、凸部の高さをより大きくし、液晶
の流動に対する堰としても良い。その結果、MoWの凸
部がイオン性不純物の拡散に対する障害物として作用し
て、温度30℃での電圧保持率が96%以上になる。図
6のように突起部に層間絶縁膜と平坦化層を重ねると少
し注入時間が長くなるが従来の回廊状の注入口構成に比
べると極めて短い。
Alternatively, the layer below the alignment film may be a laminated film of the scanning lines and the signal lines, and the height of the projections may be made larger to serve as a weir for the flow of the liquid crystal. As a result, the MoW protrusion acts as an obstacle to the diffusion of the ionic impurities, and the voltage holding ratio at a temperature of 30 ° C. becomes 96% or more. As shown in FIG. 6, when the interlayer insulating film and the flattening layer are overlapped on the protrusion, the injection time is slightly longer, but is extremely shorter than the conventional corridor-like injection port configuration.

【0050】図6の凸部は長手方向が配線と同じ方向に
あるので表示領域に走査信号を供給する走査線の配置に
一切制限は生じない。尚、図6において、注入口を左下
側、凸部を走査線と並ぶように配置したが、注入口を左
側、凸部を信号線と並ぶように配置しても同様な効果が
生じる。上述の図4または図6の構成は外部信号を表示
領域に供給する配線と同一の材料により、配向膜の表面
積を大きくするものであったが、電子ビームまたはアシ
ストエッチングにより、配向膜の下の層に凹凸を作製し
ても良い。
Since the longitudinal direction of the convex portion in FIG. 6 is in the same direction as the wiring, the arrangement of the scanning line for supplying the scanning signal to the display area is not restricted at all. In FIG. 6, the injection port is arranged on the lower left side and the convex portion is arranged so as to be aligned with the scanning line. However, the same effect can be obtained even if the injection port is arranged on the left side and the convex portion is arranged so as to be aligned with the signal line. 4 or 6, the surface area of the alignment film is increased by the same material as the wiring for supplying an external signal to the display region. Unevenness may be formed in the layer.

【0051】(第6実施形態)図7は配向膜を印刷する
以前のエッチングにより配向膜の下の層に凹凸を作製し
た液晶表示装置の平面図である。図7において、どこに
凹凸を形成するかを分かりやすくするため、メインシー
ル2が記入してある。
(Sixth Embodiment) FIG. 7 is a plan view of a liquid crystal display device in which unevenness is formed in a layer below an alignment film by etching before printing the alignment film. In FIG. 7, the main seal 2 is shown to make it easy to see where the irregularities are formed.

【0052】図7に示すように、表示領域3から注入口
4に至る10mm×10mmの領域にエッチングにより
粗面化された凹凸部16が形成されている。例えば、S
OG製の平坦化層はO2プラズマで容易にエッチングさ
れるので、高周波電力30W、プラズマ励起周波数10
0MHzで0.2μmの表面粗さの凹凸部16が形成さ
れる。
As shown in FIG. 7, an uneven portion 16 roughened by etching is formed in an area of 10 mm × 10 mm from the display area 3 to the injection port 4. For example, S
Since the planarization layer made of OG is easily etched by O2 plasma, the high frequency power is 30 W and the plasma excitation frequency is 10
An uneven portion 16 having a surface roughness of 0.2 μm at 0 MHz is formed.

【0053】真空中でプラズマ等で平坦化層をアシスト
エッチングすると、細かな起伏を残したまま、平坦化層
に吸着していた水やイオンが除去できるので好ましい。
また、O2中で注入口付近の平坦化層に電子ビームを加
速電圧100Vで照射すると0.3μmの表面粗さの凹
凸部16が選択的に形成される。電子ビームを用いてエ
ッチングした場合、ビームの走査により平坦化層に場所
を選んで任意の形状の溝を形成することが可能である。
It is preferable to assist-etch the flattening layer with plasma or the like in a vacuum, since water and ions adsorbed on the flattening layer can be removed while leaving fine undulations.
Further, when the flattening layer near the injection port is irradiated with an electron beam at an accelerating voltage of 100 V in O2, uneven portions 16 having a surface roughness of 0.3 μm are selectively formed. When etching is performed using an electron beam, it is possible to form a groove of an arbitrary shape by selecting a place in the planarization layer by scanning with the beam.

【0054】凹凸部の上に薄い突出部が形成されること
で、突出部の表面に凹凸が形作られる。図7の構成によ
れば、細かな起伏やベジェ曲線などの模様が配向膜の下
層に凹凸として形成される。図7に示すように、基板1
の下辺をX軸、注入口の左側でメインシール2の接線を
Y軸とし、表示領域3を3行9列の領域に分割する。
By forming a thin protrusion on the uneven portion, unevenness is formed on the surface of the protrusion. According to the configuration of FIG. 7, a pattern such as a fine undulation or a Bezier curve is formed as an unevenness under the alignment film. As shown in FIG.
The display area 3 is divided into 3 rows and 9 columns, with the lower side as the X axis and the tangent to the main seal 2 on the left side of the injection port as the Y axis.

【0055】図8は全実施形態において、分割された表
示領域と注入口との位置関係により電圧保持率がどのよ
うに分布しているかを示した液晶表示装置の平面図であ
る。図8に示すように、注入口に近い3行1列目、3行
2列目、3行3列目の領域の電圧保持率が加速試験下で
の820時間後でも、従来の88%に比べて本実施形態
では温度30℃で96%に向上している。
FIG. 8 is a plan view of a liquid crystal display device showing how the voltage holding ratio is distributed depending on the positional relationship between the divided display area and the injection port in all the embodiments. As shown in FIG. 8, the voltage holding ratio in the region of the third row, the first column, the third row, the second column, and the third row, the third column close to the injection port is 88% of the conventional value even after 820 hours under the accelerated test. In comparison, in the present embodiment, the temperature is increased to 96% at a temperature of 30 ° C.

【0056】それから、白抜きの部分の電圧保持率は、
温度30℃で97%となり、注入口近傍との電圧保持率
との差が1%程度しかないので、3原色の64階調で表
現される26万色(=64×64×64)の表現に必要
な1/64=1.56%以下の値となり、目で見た場
合、液晶表示装置が一様に見える。また、本発明によれ
ば温度20℃の電圧保持率は注入口に近い表示領域で
も、98%以上になる。
Then, the voltage holding ratio of the white portion is
It becomes 97% at a temperature of 30 ° C., and the difference from the voltage holding ratio with the vicinity of the injection port is only about 1%. Therefore, the expression of 260,000 colors (= 64 × 64 × 64) expressed by 64 gradations of three primary colors. 1/64 = 1.56% or less, which is necessary for the liquid crystal display device. Further, according to the present invention, the voltage holding ratio at a temperature of 20 ° C. is 98% or more even in the display region near the injection port.

【0057】以上のように、本発明の液晶表示装置にお
いては、注入口に近い表示領域の電圧保持率低下がほと
んど無く、局所的な表示不良が解消される。従って、液
晶を注入する液晶表示装置において、画面全体で均一な
表示が行われる。尚、これまでの実施形態はアクティブ
マトリクス型液晶表示装置であったが、単純マトリクス
型液晶表示装置でも容易に実施可能である。
As described above, in the liquid crystal display device of the present invention, there is almost no decrease in the voltage holding ratio in the display area near the injection port, and local display defects are eliminated. Therefore, in a liquid crystal display device in which liquid crystal is injected, uniform display is performed on the entire screen. In the above embodiments, the active matrix type liquid crystal display device has been described. However, a simple matrix type liquid crystal display device can be easily implemented.

【0058】例えば、配向膜の下の層に透明ガラスペー
ストを常温で印刷、150℃で15分間乾燥させた後、
580℃で15分焼成して1〜2μmの厚さの誘電体層
を形成した後、注入口近傍をアシストエッチングする。
また、配向膜として、ポリウレタンオリゴマーをγ−ブ
チロラクトンで4重量%に希釈したものを印刷後重合し
た、50nmの厚さのポリウレタン等の有機高分子を利
用しても良い。
For example, a transparent glass paste is printed on the layer below the alignment film at room temperature and dried at 150 ° C. for 15 minutes.
After baking at 580 ° C. for 15 minutes to form a dielectric layer having a thickness of 1 to 2 μm, assist etching is performed in the vicinity of the injection port.
Further, as the alignment film, an organic polymer such as polyurethane having a thickness of 50 nm, which is obtained by printing a polyurethane oligomer diluted to 4% by weight with γ-butyrolactone and then polymerizing it, may be used.

【0059】さらに、一方の基板上の配向膜の構成しか
述べなかったが、他方の基板上の配向膜に突起部を設け
ることも可能である。
Furthermore, although only the configuration of the alignment film on one substrate has been described, it is also possible to provide a projection on the alignment film on the other substrate.

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明にあっては、少なくとも一方の配
向膜の平面形状が、表示領域から注入口側へ突出してい
るから、イオン性不純物が注入口から表示領域に達する
までに突出部に吸着され、表示領域まで拡散しないから
全体的に鮮やかに表示できる。また、配向膜が、表示領
域と突出部とに分離しているから、突出部が表面張力に
よりはじかれることが少なく、イオン性不純物を吸着す
るに十分な面積を確保できる。
According to the present invention, since the planar shape of at least one of the alignment films protrudes from the display region toward the injection port, the ionic impurities are formed on the protruding portion before reaching the display region from the injection port. Since it is adsorbed and does not diffuse to the display area, it can be displayed vividly as a whole. Further, since the alignment film is separated into the display region and the protrusion, the protrusion is less likely to be repelled by surface tension, and a sufficient area for adsorbing ionic impurities can be secured.

【0061】また、表示領域も突出部もポリイミドで構
成されるから、転移線が発生することが無く、表示が均
一化できる。また、突出部の表面が、凹凸状に形成され
ているから、注入口から表示領域までの直線距離を大き
くすることなく、凹凸によって拡大した表面により、イ
オン性不純物が捕獲できる。
Further, since both the display area and the protruding portion are made of polyimide, no transition line is generated and the display can be made uniform. In addition, since the surface of the protrusion is formed in an uneven shape, ionic impurities can be captured by the surface enlarged by the unevenness without increasing the linear distance from the injection port to the display area.

【0062】また、突出部の表面が、突出部の下層の形
状によって凹凸状に形成され、突出部の下層が、表示領
域の走査線かあるいは信号線などの配線と同一の材料で
形成されているから、工程を増やす事無く、突出部の下
に凸凹を形成することができる。
Further, the surface of the projection is formed unevenly by the shape of the lower layer of the projection, and the lower layer of the projection is formed of the same material as the wiring such as the scanning line or the signal line in the display area. Therefore, the unevenness can be formed below the protruding portion without increasing the number of steps.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態の液晶表示装置の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device according to a first embodiment.

【図2】第2実施形態の液晶表示装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a liquid crystal display device according to a second embodiment.

【図3】第3実施形態の液晶表示装置の平面図である。FIG. 3 is a plan view of a liquid crystal display device according to a third embodiment.

【図4】第4実施形態の液晶表示装置の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment.

【図5】第4実施形態の液晶表示装置の断面図である。FIG. 5 is a sectional view of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment.

【図6】第5実施形態の液晶表示装置の平面図である。FIG. 6 is a plan view of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment.

【図7】第6実施形態の液晶表示装置の平面図である。FIG. 7 is a plan view of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment.

【図8】本実施形態における表示領域での電圧保持率の
分布図である。
FIG. 8 is a distribution diagram of a voltage holding ratio in a display area according to the embodiment.

【図9】表示領域での電圧保持率の経時変化図である。FIG. 9 is a graph showing a change over time in a voltage holding ratio in a display area.

【図10】従来例における液晶表示装置の平面図であ
る。
FIG. 10 is a plan view of a conventional liquid crystal display device.

【図11】従来例における液晶表示装置の断面図であ
る。
FIG. 11 is a sectional view of a conventional liquid crystal display device.

【図12】従来例における表示領域での電圧保持率の分
布図である。
FIG. 12 is a distribution diagram of a voltage holding ratio in a display region in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 メインシール 3 表示領域 4 注入口 5 エンドシール 6 配向膜 7 多結晶Si 8 酸化膜 9 層間絶縁膜 10 Al 11 平坦化層 12 突出部 13 信号線 14 MoW 15 走査線 16 凹凸部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Main seal 3 Display area 4 Injection port 5 End seal 6 Alignment film 7 Polycrystalline Si 8 Oxide film 9 Interlayer insulating film 10 Al 11 Flattening layer 12 Projecting part 13 Signal line 14 MoW 15 Scanning line 16 Uneven part

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表示領域に位置する、注入口から注入さ
れた液晶を配向させるために、液晶を介して対向して配
置された一対の配向膜を有する液晶表示装置において、 少なくとも一方の前記配向膜が、前記表示領域から前記
注入口側へ突出する突出部を有することを特徴とする液
晶表示装置。
1. A liquid crystal display device having a pair of alignment films disposed in a display region and opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween for aligning liquid crystal injected from an injection port. A liquid crystal display device, wherein the film has a protrusion protruding from the display area toward the injection port.
【請求項2】 突出部が、表示領域から分離しているこ
とを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the projection is separated from the display area.
【請求項3】 突出部が、ポリイミドからなることを特
徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the projection is made of polyimide.
【請求項4】 突出部の表面が、凹凸状に形成されてい
ることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the surface of the projection is formed in an uneven shape.
【請求項5】 突出部の表面が、突出部の下層の形状に
よって凹凸状に形成され、前記突出部の下層が、表示領
域の配線と同一の材料で形成されていることを特徴とす
る請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の液晶表示
装置。
5. The projection according to claim 1, wherein the surface of the projection is formed in an uneven shape by the shape of the lower layer of the projection, and the lower layer of the projection is formed of the same material as the wiring in the display area. The liquid crystal display device according to claim 1.
JP33598996A 1996-12-16 1996-12-16 Liquid crystal display device Pending JPH10170922A (en)

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JP33598996A JPH10170922A (en) 1996-12-16 1996-12-16 Liquid crystal display device

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